WO2023153482A1 - 金属パターニング用材料、複素環化合物、金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子機器、および金属パターンの形成方法 - Google Patents

金属パターニング用材料、複素環化合物、金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子機器、および金属パターンの形成方法 Download PDF

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WO2023153482A1
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川島弘之
小池健仁
松本直樹
野村真太朗
太田恵理子
服部一希
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東ソー株式会社
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    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D251/30—Only oxygen atoms
    • C07D251/34—Cyanuric or isocyanuric esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07D401/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing two hetero rings
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    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00—Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/20—Metallic electrodes, e.g. using a stack of layers

Definitions

  • the present disclosure relates to a metal patterning material, a heterocyclic compound, a metal patterning thin film, an organic electroluminescent element, an electronic device, a method for forming a metal pattern, and a heterocyclic compound.
  • organic electronic devices such as organic electroluminescence (EL) elements, organic thin-film solar cells, organic transistors, and organic sensors have been widely developed.
  • An organic electronic device uses a metal thin film as an electrode, and the metal thin film needs to be patterned into a desired shape.
  • a method for patterning metal electrodes As a method for patterning metal electrodes, a method is known in which a patterned film is formed as a base layer using a metal patterning material to which adhesion of metal is suppressed, and a metal is vapor-deposited on this base layer. In this method, a metal film is selectively formed on portions where the metal patterning material is not formed, so that a metal electrode patterned into a desired shape can be formed.
  • Patent Document 1 discloses a technique of patterning magnesium metal using an anthracene derivative as a metal patterning material.
  • one aspect of the present disclosure is a metal patterning material that can highly suppress the formation of various metal thin films on a film surface, a metal patterning thin film using the same, an organic electroluminescence element, a method for forming a metal pattern, and an electronic device. It is directed to provide heterocyclic compounds.
  • the inventors have found a metal patterning material represented by formula (A1) or (B1), and have completed the present invention.
  • each A independently represents N or CR, at least one being N and at least one being CR;
  • B each independently represents N, S, O or CR, at least one being N, S or O and at least one being CR;
  • each R independently represents formula (A01) or formula (A02), at least one of which is formula (A01);
  • L 1 and L 2 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR2 ;
  • Rf is each independently represents a monovalent to divalent substituent having 1 or more carbon atoms and containing 3 or more fluorine atoms;
  • R 1 and R 2 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic
  • Each q independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each u independently represents an integer from 0 to 12.
  • Rf 001 is each independently represents a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and containing 3 or more fluorine atoms;
  • L 001 are each independently O, S, or a linear, branched or cyclic divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, or represents a vinylene group which may be substituted with fluorine and which may form a ring;
  • a001 each independently represents an integer from 0 to 4; each a002 independently represents an integer of 1 to 4;
  • the metal patterning material according to [1] represented by any one of formulas (101) to (105). :
  • X 101 , X 102 , X 103 , X 104 and X 105 are each independently represented by formula (111).
  • R 101 , R 102 , R 103 , R 104 and R 105 are each independently represented by formula (121).
  • L 111 and L 121 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR 111 ;
  • Rf 111 each independently represents a structure represented by formula (001);
  • R 111 and R 121 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear
  • Each s101 independently represents an integer of 1 to 4, and each s'101 independently represents an integer of 0 to 3. However, (s101+s'101) is an integer of 4 or less.
  • t101 each independently represents an integer of 1 to 3, and t'101 represents an integer of 0 to 2. However, (t101+t'101) is an integer of 3 or less.
  • Each u111 independently represents an integer from 0 to 12.
  • Each v111 independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each p121 independently represents an integer from 0 to 12.
  • Each q121 independently represents an integer of 1 to 6.
  • u111 is each independently 0.
  • L 111 and L 121 are a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a substituted heteroaliphatic hydrocarbon group
  • these groups are each independently do, a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a cyano group, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (001),
  • the metal patterning material according to [4] which is substituted with one or more groups selected from the group consisting
  • R 1 and R 2 are a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a substituted heteroaliphatic hydrocarbon group
  • these groups are each independently hand, a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, hydrogen atom, fluorine atom, deuterium atom, structure represented by formula (001),
  • the metal patterning material according to [1] which is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a combination of these groups.
  • L 121 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, or NR 111 ;
  • L 131 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atom
  • q131 each independently represents an integer of 1 to 6; [9] [8], wherein the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 121 and L 131 is phenyl or a structure in which a plurality of benzene rings are linked or condensed; of metal patterning materials. [10] In the monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group represented by L 121 and L 131 , the heteroatom is N, O or S, a 5-membered ring, a 6-membered ring, or The metal patterning material according to [8], which has a condensed structure.
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 121 and L 131 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene and 9,9-dimethylfluorene.
  • a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, benzodioxin, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, dibenzodioxin , or benzothiazole, the cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, or cyclohexane; A cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group is morpholine, piperaz
  • the substituents of L 121 and L 131 are each independently methyl group, ethyl group, methoxy group, ethoxy group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, perfluoroalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, perfluoroalkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom , a fluorine atom, a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, a pyridyl group, a carbazolyl group, a dibenzothienyl group, a dibenzofuranyl group, a structure represented by the formula (001),
  • the metal patterning material according to [8] which is one or more groups selected from the group consisting of groups in which these groups are combined.
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 111 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9, 9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, or dibenzochrysene;
  • a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, benzodioxin, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, dibenzodioxi
  • the substituents of L 111 are each independently methyl group, ethyl group, methoxy group, ethoxy group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, perfluoroalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, perfluoroalkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom , a fluorine atom, a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, a pyridyl group, a carbazolyl group, a dibenzothienyl group, a dibenzofuranyl group, a structure represented by the formula (001),
  • the metal patterning material according to [3] which is one or more groups selected from the group consisting of groups in which these groups are combined.
  • the monocyclic, connected or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group represented by R 111 and R 121 is a phenyl group or a structure in which a plurality of benzene rings are connected or condensed; Materials for metal patterning.
  • the monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group represented by R 111 and R 121 has a heteroatom of N, O or S, and has a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a fused ring thereof.
  • the monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group represented by R 111 and R 121 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9 ,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, or dibenzochrysene;
  • a monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, benzodioxin, dibenzofuran, dibenzothiophene, dibenzodioxin, thiazole, or is a
  • R 111 and R 121 are each independently methyl group, ethyl group, methoxy group, ethoxy group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, perfluoroalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, perfluoroalkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom , a fluorine atom, a phenyl group, a biphenylyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, a pyridyl group, a carbazolyl group, a dibenzothienyl group, a dibenzofuranyl group, a structure represented by the formula (001), Alternatively, the metal patterning material according to [4], which is one or more groups selected from the group consisting of groups in which these groups are combined. [21] Heterocyclic compound represented by formula (301) or (302):
  • L 301 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, or NR 301 ;
  • L 303 are each independently a linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with fluorine; represents O or S;
  • Rf 301 is each independently represents a site with 2 or more carbon atoms containing 3 or more fluorine atoms;
  • R 301 are each independently an optionally substituted monocycl
  • Each hh independently represents an integer from 0 to 12.
  • ii each independently represent an integer from 1 to 6;
  • Each jj independently represents an integer from 0 to 6.
  • Each kk independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each mm independently represents an integer from 1 to 6.
  • nn independently represents an integer from 1 to 6.
  • L 301 is NR 301 and R 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, Each is independently substituted with a fluorine atom or a site having 1 or more carbon atoms containing 3 or more fluorine atoms.
  • X 301 is a paraphenylene group and nn is 1, the paraphenylene group is substituted with a fluorine atom or a monovalent substituent having 1 or more carbon atoms which may contain 3 or more fluorine atoms.
  • X 301 does not contain cyano groups, linear vinylene groups, ketone groups, thioketone groups, and selenium atoms.
  • Rf 301 is represented by the following formula (311):
  • Rf 311 are each independently represents a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom;
  • L 311 are each independently O, S, or a linear, branched or cyclic divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, or represents a vinylene group which may form a ring;
  • each a311 independently represents an integer from 0 to 4;
  • each a312 independently represents an integer of 1 to 4;
  • a thin film for metal patterning comprising the metal patterning material according to any one of [1] to [20], which has a water contact angle of 90° or more.
  • An organic electroluminescence device comprising a cathode,
  • the cathode is containing at least one selected from the group consisting of ytterbium, magnesium, silver, aluminum, and an alloy of magnesium and silver; patterned with a metal patterning material,
  • the metal patterning material is represented by formula (A1) or (B1) described in [1], or formula (101), (102), (103), (104), or (105) described in [4].
  • an organic electroluminescence device comprising a compound of [26] forming an organic material pattern containing the metal patterning material according to any one of [1] to [20];
  • a method of forming a metal pattern comprising applying a metal material to the formation region of the organic material pattern and the non-formation region of the organic material pattern to form a metal pattern in the non-formation region.
  • An electronic device comprising the metal patterning material according to any one of [1] to [20].
  • a metal patterning material that suppresses the formation of a metal thin film on a film surface, a metal patterning thin film using the same, an organic electroluminescence element, a method for forming a metal pattern, an electronic device, and a complex A ring compound can be provided.
  • a metal patterning material according to one aspect of the present disclosure is the following material containing a compound represented by Formula (A1) or (B1).
  • each A independently represents N or CR, at least one being N and at least one being CR;
  • B each independently represents N, S, O or CR, at least one being N, S or O and at least one being CR;
  • each R independently represents formula (A01) or formula (A02), at least one of which is formula (A01);
  • L 1 and L 2 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR2 ;
  • Rf is each independently represents a site with 1 or more carbon atoms containing 3 or more fluorine atoms;
  • R 1 and R 2 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon
  • Each q independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each u independently represents an integer from 0 to 12.
  • Each v independently represents an integer from 1 to 6.
  • L 1 and L 2 are substituted divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon groups, substituted divalent to tetravalent heteroaromatic groups, substituted divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon groups, or substituted divalent to
  • these groups are each independently a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, cyano group, fluorine atom, deuterium atom, a structure represented by formula (001),
  • these groups are preferably substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups;
  • R 1 and R 2 are a substituted monovalent aromatic hydrocarbon group, a substituted monovalent heteroaromatic group, a substituted monovalent aliphatic hydrocarbon groups, or substituted divalent to
  • these groups
  • A each independently represents N or CR, at least one being N and at least one being CR;
  • formula (A1) for example pyridine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, triazine can be formed.
  • B each independently represents N, NR, O, S or CR, at least one being N, NR, O or S and at least one being CR;
  • formula (B1) for example pyrrole, furan, thiophene, imidazole, oxazole, thiazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole, oxadiazole, thiadiazole, triazole, tetrazole can be formed.
  • R's bonded to formula (B1) are bonded to each other to form a ring, for example, benzofuran, benzothiophene, benzimidazole, benzothiazole, benzoxazole, dibenzofuran, dibenzothiophene, etc. can be formed.
  • Rf is a fluoroalkyl group, fluoroalkoxy group, fluoroalkenyl group, or It represents a group containing at least one fluoroalkenyloxy group structure as a partial structure.
  • Rf contains 3 or more fluorine atoms and 1 or more carbon atoms. Further, it is preferable that the ratio of the number of carbon atoms directly bonded to fluorine atoms to the carbon atoms forming Rf is 30% or more. The ratio is more preferably 40% or more, still more preferably 50% or more, even more preferably 60% or more, and particularly preferably 70% or more.
  • the molecular structure represented by Rf is not particularly limited, and may be linear, branched, or cyclic.
  • Examples of the molecular structure that gives Rf include linear, branched, or cyclic alkyl groups, or linear, branched, or cyclic alkenyl groups.
  • Cyclic alkyl groups or cyclic alkenyl groups include those in which a hydrogen atom bonded to a ring carbon atom is substituted with an alkyl group or alkenyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group or alkenyl group bonded to the ring carbon atoms is preferably 1 or more and 6 or less.
  • the cyclic alkyl group or cyclic alkenyl group may be a monovalent group formed when one hydrogen atom is removed from a ring carbon atom, and the above alkyl group or alkenyl group bonded to the ring carbon atom It may be a monovalent group (ie, a cycloalkylalkyl group, cycloalkylalkenyl group, cycloalkenylalkyl group, or cycloalkenylalkenyl group) formed when one hydrogen atom is removed from the group.
  • alkyl group giving the fluoroalkyl group examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and Examples include alkyl groups having structural isomerism with these alkyl groups, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 1-methylcyclopentyl, cyclopentylmethyl, cyclohexyl, and adamantyl groups.
  • alkoxy group giving the above fluoroalkoxy group examples include an alkoxy group in which the alkyl group giving the above-mentioned fluoroalkyl group is bonded to an oxygen atom.
  • alkoxy groups methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, and these alkyl groups and structurally isomeric groups are preferred in terms of excellent metal patterning performance.
  • Alkoxy groups in which the relevant alkyl group is attached to an oxygen atom are preferred.
  • alkenyl groups that give the above fluoroalkenyl groups include vinyl groups, 1-propenyl groups, 1-butenyl groups, 1-pentynyl groups, 1-hexenyl groups, and alkenyl groups having structural isomerism with these alkenyl groups. , 1-cyclopropenyl group, 1-cyclobutenyl group, 1-cyclopentynyl group, 1-cyclohexyl group, and cycloalkenyl groups having structural isomerism with these cycloalkenyl groups.
  • alkenyloxy giving the above fluoroalkenyloxy group examples include alkenyloxy groups in which the above-mentioned alkenyl group giving the fluoroalkenyl group is bonded to an oxygen atom.
  • alkenyloxy groups vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentynyl group, 1-hexenyl group, and the relationship of structural isomerism with these alkenyl groups in terms of excellent metal patterning performance
  • alkenyl groups, as well as 1-cyclopentynyl and 1-cyclohexyl groups, alkenyloxy groups attached to an oxygen atom are preferred.
  • the above Rf preferably has a structure represented by the following formula (001).
  • Rf 001 is each independently represents a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and containing 3 or more fluorine atoms;
  • L 001 are each independently O, S, or a linear, branched or cyclic divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, or represents a vinylene group which may be substituted with fluorine and which may form a ring;
  • a001 each independently represents an integer from 0 to 4; each a002 independently represents an integer of 1 to 4;
  • Each of Rf 001 independently has a ratio of carbon atoms directly bonded to fluorine atoms of 30% or more, preferably 40% or more, among the carbon atoms forming the structure. More preferably, it is 50% or more, even more preferably 60% or more, and particularly preferably 70% or more.
  • each Rf 001 independently contains 3 or more fluorine atoms; Methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and alkyl groups having structural isomerism with these alkyl groups , and cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 1-methylcyclopentyl, cyclopentylmethyl, cyclohexyl, and adamantyl groups are more preferred.
  • L 001 can suppress the formation of a metal film on the film surface, each independently O, S, or optionally substituted with a fluorine atom, Methylene group, ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-pentylene group, n-hexylene group, n-heptylene group, n-octylene group, and alkylene having structural isomerism with these alkylene groups and cyclopropylene, cyclobutylene, cyclopentylene, 1-methylpentylene, cyclopentylmethyl, cyclohexylene, and adamantanediyl groups, or A vinylene group which may form a ring is more preferred.
  • Each a001 is independently preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2.
  • Each a002 is independently preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the number of carbon atoms in the structure represented by formula (001) is preferably 1 to 36, more preferably 1 to 30, even more preferably 1 to 24, and 1 to 20. It is even more preferably 1 or more, and particularly preferably 1 or more and 16 or less. It is particularly more preferable to be 2 or more and 16 or less.
  • Rf can have, for example, the structures shown in (AAA1) to (AAA126) below.
  • L1 , L2 ) L 1 and L 2 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, O, S, Si, or NR2 ;
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms represented by L 1 and L 2 has benzene or a structure in which multiple benzene rings are linked or condensed. preferable.
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 26 carbon atoms represented by L 1 and L 2 are benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these radicals benzene, More preferably, one or more members selected from the group consisting of naphthalene and phenanthrene are condensed.
  • the monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic groups having 3 to 26 carbon atoms represented by L 1 and L 2 have N, O and S as heteroatoms, and a 5-membered ring, 6
  • a membered ring or a structure in which these or a plurality of benzene rings are condensed is preferable.
  • the monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic groups having 3 to 26 carbon atoms represented by L 1 and L 2 are pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, Benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, thiadiazole, thiantrene, acridine, dihydroacridine, phenoxazine, phenothiazine, dibenzo-1,4-dioxin, 5,6,7,8-tetrahydroquinoxaline, 2,3,4,5 - tetrahydro-1H-1,4-benzodiazepine, 2,3,4,5-tetrahydro-1H-1,5-benzodiazepine, and benzothiazole, and in these groups selected from the group consisting of benzene, naphthalene, and phenanthrene; It is more
  • L 1 and L 2 Compounds giving linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms represented by L 1 and L 2 are methane, ethane, propane, butane, adamantane, diamantane and norbornene. , or cyclohexane.
  • the heteroatom is N, O, or S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or A structure in which they are condensed is more preferable.
  • Compounds giving a cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms represented by L 1 and L 2 include morpholine, piperazine, homopiperazine, hexahydro-1,3,5-triazine, 1 ,4-dioxin, 1,4-dithiane, 4,4′-bipiperidine, diazabicyclo[2,2,2]octane, octahydro-1H-pyrrolo[3,4-b]pyridine, and 1,4,7,10 - is more preferably tetraazacyclododecane.
  • R 1 and R 2 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic monovalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, H, D (deuterium atom), or F (fluorine atom);
  • the monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms represented by R 1 and R 2 is preferably benzene or a structure in which multiple benzene rings are linked or condensed.
  • R 1 and R 2 Compounds giving monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 26 carbon atoms represented by R 1 and R 2 are benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, and spirobifluorene. , 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and benzene in these groups. , naphthalene, and phenanthrene are more preferably condensed.
  • the heteroatom is N, O or S, and a 5- or 6-membered A ring or a structure in which these or a plurality of benzene rings are condensed is preferred.
  • Compounds giving a monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, and benzofuran.
  • benzothiophene dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, thiadiazole, thiantrene, acridine, dihydroacridine, phenoxazine, phenothiazine, dibenzo-1,4-dioxin, 5,6,7,8-tetrahydroquinoxaline, 2,3,4, from the group consisting of 5-tetrahydro-1H-1,4-benzodiazepine, 2,3,4,5-tetrahydro-1H-1,5-benzodiazepine, and benzothiazole, and in these groups benzene, naphthalene, and phenanthrene; More preferably, one or more of the selected groups are condensed.
  • Compounds giving linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups represented by R 1 and R 2 include methane, ethane, propane, butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, adamantane, diamantane, More preferred are norbornene or cyclohexane, and these groups substituted or cyclized with one or more selected from the group consisting of ethane, propane, butane, and pentane.
  • the heteroatom is N, O, or S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof is preferred.
  • Compounds giving a cyclic monovalent heteroaliphatic hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 include morpholine, piperazine, homopiperazine, hexahydro-1,3,5-triazine, 1,4-dioxin, 1,4 - dithiane, 4,4'-bipiperidine, diazabicyclo[2,2,2]octane, octahydro-1H-pyrrolo[3,4-b]pyridine, and 1,4,7,10-tetraazacyclododecane is more preferred.
  • R 1 and R 2 are a substituted monovalent aromatic hydrocarbon group, a substituted monovalent heteroaromatic group, or a substituted monovalent aliphatic hydrocarbon group
  • these groups are each independently a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, cyano group, fluorine atom, deuterium atom, a structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • At least one of Rf is preferably directly bonded to formula (A1). That is, in formula (A1), it is preferable that u in at least one formula (A01) is 0.
  • At least one of Rf is preferably directly bonded to formula (B1). That is, in formula (B1), u in at least one formula (A01) is preferably 0.
  • X 101 , X 102 , X 103 , X 104 and X 105 are each independently represented by formula (111).
  • R 101 , R 102 , R 103 , R 104 and R 105 are each independently represented by formula (121).
  • L 111 and L 121 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR 111 ;
  • Rf 111 each independently represents a structure represented by formula (001);
  • R 111 and R 121 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear
  • Each s101 independently represents an integer of 1 to 4, and each s'101 independently represents an integer of 0 to 3. However, (s101+s'101) is an integer of 4 or less.
  • t101 each independently represents an integer of 1 to 3, and t'101 represents an integer of 0 to 2. However, (t101+t'101) is an integer of 3 or less.
  • Each u111 independently represents an integer from 0 to 12.
  • Each v111 independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each p121 independently represents an integer from 0 to 12.
  • Each q121 independently represents an integer of 1 to 6.
  • At least one X101 , at least one X102 , at least one X103 , at least one X104 , and at least one X105 , u111 is each independently 0.
  • R 101 , R 102 , R 103 , R 104 and R 105 can be bonded to carbon atoms to which X 101 , X 102 , X 103 , X 104 and X 105 are not bonded.
  • X 101 , X 102 , X 103 , X 104 , X 105 , R 101 , R 102 , R 103 , R 104 and R 105 are bonded, X One of 101 , X 102 , X 103 , X 104 , X 105 , R 101 , R 102 , R 103 , R 104 , and R 105 is bound and not two or more.
  • r 101 represents an integer from 1 to 5
  • r' 101 represents an integer from 0 to 4.
  • (r 101 +r' 101 ) is an integer of 5 or less.
  • r 101 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • r' 101 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • Each s 101 independently represents an integer of 1 to 4, and each s′ 101 independently represents an integer of 0 to 3. However, (s 101 +s' 101 ) is an integer of 4 or less.
  • s 101 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2.
  • s' 101 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2.
  • Each t 101 independently represents an integer of 1 to 3, and t′ 101 represents an integer of 0 to 2. However, (t 101 +t' 101 ) is an integer of 3 or less.
  • t 101 is preferably 2 or 3, more preferably 2.
  • t'101 is preferably 1 or 2, more preferably 1.
  • t 101 is preferably 1 or 2, more preferably 1.
  • t'101 is preferably 1 or 2, more preferably 2.
  • X 101 to X 105 are represented by formula (111).
  • Rf 111 each independently represents a structure represented by formula (001);
  • L 111 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR 111 ;
  • u111 each independently represents an integer of 0 to 12;
  • Each v111 independently represents an integer from 1 to 6.
  • the formula (111) is not particularly limited, but can have, for example, the structures shown in (AA1) to (AA21) below.
  • Rf 111 represents a structure represented by formula (001).
  • Each v111 independently represents an integer of 1 to 6.
  • v111 is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, even more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • L 111 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched, or linear, branched, or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR 111 ;
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 111 is preferably an integer
  • the cyclic 2- to 4-valent heteroaliphatic hydrocarbon groups represented by L1 and L2 have N, O, and S as heteroatoms, and preferably have a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof.
  • the compound represented by L 111 that provides a monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms is benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these radicals benzene, More preferably, one or more selected from the group consisting of naphthalene and phenanthrene are condensed.
  • Compounds that provide monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic groups include pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, thiadiazole, Thiantrene, acridine, dihydroacridine, phenoxazine, phenothiazine, dibenzo-1,4-dioxin, 5,6,7,8-tetrahydroquinoxaline, 2,3,4,5-tetrahydro-1H-1,4-benzodiazepine, 2 , 3,4,5-tetrahydro-1H-1,5-benzodiazepine and benzothiazole, and one or more selected from the group consisting of benzene, naphthalene and phenanthrene fused to these groups. is more preferred.
  • the compound that gives a linear, branched, or cyclic 2- to 4-valent aliphatic hydrocarbon group is more preferably adamantane, diamantane, cyclohexane, or methane.
  • Compounds that provide a cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group include morpholine, piperazine, homopiperazine, hexahydro-1,3,5-triazine, 1,4-dioxin, 1,4-dithiane, 4,4' -bipiperidine, diazabicyclo[2,2,2]octane, octahydro-1H-pyrrolo[3,4-b]pyridine, and 1,4,7,10-tetraazacyclododecane.
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 111 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9 - diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene or triptycene,
  • a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, phenothiazine, dibenzo-1 ,4-dioxin or benzothiazole, Linear, branched or cyclic 2-
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 111 is phenyl, biphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, phenanthrene or triptycene;
  • a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, phenothiazine, dibenzo-1 ,4-dioxin or benzothiazole,
  • Linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon groups are adamantane, diamantane, or cyclohexane, and compounds that give cyclic divalent to tetravalent heteroali
  • L 111 are each independently a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group, monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic groups, a linear, branched, or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group, It is preferably a cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group O or S, L 111 are each independently monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic groups, a linear, branched, or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group, A cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group O or S is more preferred.
  • L 111 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a substituted cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group
  • each of these groups is independently hand, a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a cyano group, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 111 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 111 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 111 are each independently (i) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, a thiazolyl group, (ii) the group represented by (i) above is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (iii) a fluorine atom, the structure represented by
  • the substituents of L 111 are each independently (i') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, (ii') the group represented by (i') is at least one group selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; (iii') a fluorine atom, or a structure represented by formula (001) is even more preferred.
  • the substituents of L 111 are each independently A trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorines, an alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorines, the formula ( 001) or a fluorine atom.
  • Each u111 independently represents an integer from 0 to 12.
  • u111 is preferably an integer of 0 to 10, more preferably an integer of 0 to 8, even more preferably an integer of 0 to 6, and even more preferably an integer of 0 to 4.
  • L 111 is each independently 0.
  • L 111 can have, for example, the structures shown in (AAB1) to (AAB803) below. The mark "*" used in the structures below represents the binding site.
  • F is a fluorine atom
  • v is an integer of 0 to 5
  • w is an integer of 0 to 4
  • x is an integer of 0 to 3
  • y is an integer of 0 to 2
  • z is an integer of 0 to 1.
  • R 111 is each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms an optionally substituted cyclic monovalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, represents H, D (deuterium atom), or F (fluorine atom);
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 111 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • a monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group represented by R 111 has a heteroatom of N, O, or S, a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a fused benzene ring Structure is preferred.
  • the heteroatoms of the cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group represented by R 111 are N, O and S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof is preferred.
  • Compounds giving a monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group represented by R 111 are benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9 ,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these groups from the group consisting of benzene, naphthalene, and phenanthrene; one or more selected is a fused ring,
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 111 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, or triptycene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole;
  • the linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, cyclohexane or methane;
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 111 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, or triptycene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole;
  • the linear, branched, or cyclic aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, or cyclohexane;
  • R 111 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a substituted heteroaliphatic hydrocarbon group
  • these groups are each independently a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, hydrogen atom, fluorine atom, deuterium atom, structure represented by formula (001),
  • it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 111 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 111 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 111 are each independently (vii) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (viii) the group represented by (vii) is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (ix) a fluorine atom, or a structure represented by formula
  • the substituents of R 111 are each independently (vii') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (viii') the group represented by (vii') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (ix') a fluorine atom, or a structure represented by formula (001) is even more preferred.
  • R 111 are each independently trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorine atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorine atoms, fluorine atom , or a structure represented by formula (001).
  • R 111 can have, for example, the structures shown in (AAA1) to (AAA126) above and the structures shown in (AAC1) to (AAC450) below.
  • the mark "*" used in the structures below represents the binding site.
  • F is a fluorine atom
  • v is an integer of 0 to 5
  • w is an integer of 0 to 4
  • x is an integer of 0 to 3
  • y is an integer of 0 to 2
  • z is an integer of 0 to 1.
  • R 101 to R 105 are represented by formula (121).
  • L 121 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, Si, or NR 111 ;
  • R 111 and R 121 each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18
  • Each q121 independently represents an integer of 1 to 6.
  • Each p121 independently represents an integer from 0 to 12.
  • p121 is preferably an integer of 1 to 12, more preferably an integer of 1 to 11, even more preferably an integer of 1 to 10, and even more preferably an integer of 2 to 10.
  • Each q121 independently represents an integer of 1 to 6.
  • p121 is preferably an integer of 2 to 6, more preferably an integer of 3 to 6, and even more preferably an integer of 3 to 5.
  • R 101 to R 105 are not particularly limited, they can have structures shown in (AB1) to (AB31) below, for example.
  • R 101 , R 102 , R 103 , R 104 and R 105 each independently preferably have a structure represented by formula (131).
  • L 121 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, or NR 111 ;
  • L 131 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atom
  • L 121 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, or NR 111 ;
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by L 121 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • heteroatoms of the cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group represented by L 121 are N, O, and S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof is preferred.
  • Compounds giving a monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent aromatic hydrocarbon group represented by L 121 are benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene and 9,9-dimethylfluorene. , 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these groups benzene, naphthalene, and phenanthrene.
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, thiadiazole, Thiantrene, acridine, dihydroacridine, phenoxazine, phenothiazine, dibenzo-1,4-dioxin, 5,6,7,8-tetrahydroquinoxaline, 2,3,4,5-tetrahydro-1H-1,4-benzodiazepine, 2 , 3,4,5-tetrahydro-1H-1,5-benzodiazepine and benzothiazole, and one or more selected from the group consisting of benzene, naphthalene and phenanthren
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 121 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9 - diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene or triptycene,
  • a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, phenothiazine, dibenzo-1 ,4-dioxin or benzothiazole, Compounds in which the cyclic divalent
  • the monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group represented by L 121 is phenyl, biphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, phenanthrene or triptycene;
  • a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, phenothiazine, dibenzo-1 ,4-dioxin or benzothiazole, Compounds in which the cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, or cyclohexane and which gives a cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydro
  • L 121 are each independently a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group, monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic groups, a linear, branched, or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group, A cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group O or S is preferred.
  • each of these groups is independently a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a cyano group, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 121 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 121 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 121 are each independently (iv) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v) the group represented by (iv) above is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (vi) a fluorine atom, or a structure
  • the substituents of L 121 are each independently (iv') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v') the group represented by (iv') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (vi') a fluorine atom, or a structure represented by formula (001) is even more preferable.
  • Each of the substituents of L 121 is independently a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and having 3 or more fluorine atoms, and 3 groups having 2 to 10 carbon atoms and More preferably, it is an alkoxy group substituted with fluorine or a fluorine atom as described above.
  • L 121 can have, for example, the structures shown in (AAB1) to (AAB803) above.
  • L 131 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, O, representing S;
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by L 131 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • heteroatoms of the cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group represented by L 131 are N, O, and S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof is preferred.
  • Compounds giving a monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent aromatic hydrocarbon group represented by L 131 are benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene and 9,9-dimethylfluorene. , 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these groups benzene, naphthalene, and phenanthrene.
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, thiadiazole, Thiantrene, acridine, dihydroacridine, phenoxazine, phenothiazine, dibenzo-1,4-dioxin, 5,6,7,8-tetrahydroquinoxaline, 2,3,4,5-tetrahydro-1H-1,4-benzodiazepine, 2 , 3,4,5-tetrahydro-1H-1,5-benzodiazepine and benzothiazole, and one or more selected from the group consisting of benzene, naphthalene and phenanthren
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by L 131 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene.
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole;
  • Linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon groups are adamantane, diamantane, or cyclohexane, and compounds that give cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon groups are morpholine, piperazine, homopiperazine, hexahydro-1, with 3,5-triazin
  • L 131 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group
  • each of these groups is independently , a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a cyano group, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 131 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 131 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 131 are each independently (iv) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v) the group represented by (iv) above is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (vi) a fluorine atom, or a structure
  • the substituents of L 131 are each independently (iv') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v') the group represented by (iv') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (vi') a fluorine atom, or a structure represented by formula (001) is even more preferable.
  • L 131 are each independently a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and having 3 or more fluorine atoms, and 3 groups having 2 to 10 carbon atoms and More preferably, it is an alkoxy group substituted with fluorine, a fluorine atom, or a structure represented by formula (001).
  • L 131 can have, for example, the structures shown in (AAB1) to (AAB802) above.
  • R 121 is each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted linear, branched or cyclic monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic monovalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents H, D (deuterium atom), or F (fluorine atom);
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 121 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • a monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group represented by R 121 has a heteroatom of N, O, or S, a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a fused benzene ring Structure is preferred.
  • the heteroatoms of the cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group represented by R 121 are N, O, and S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof is preferred.
  • Compounds giving a monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group represented by R 121 are benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9 ,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these groups from the group consisting of benzene, naphthalene, and phenanthrene; one or more selected is a fused ring,
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 121 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, or triptycene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole;
  • the linear, branched, or cyclic aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, cyclohexane, or methane;
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 121 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, or triptycene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole;
  • the linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, or cyclohexane, and the compound that provides the cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group is
  • R 121 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a substituted heteroaliphatic hydrocarbon group
  • these groups are each independently a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a cyano group, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 121 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 121 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (001), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 121 are each independently (vii) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (viii) the group represented by (vii) is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (ix) a fluorine atom, or a structure represented by formula
  • the substituents of R 121 are each independently (vii') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (viii') the group represented by (vii') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (ix') a fluorine atom, or a structure represented by formula (001).
  • R 121 are each independently trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorine atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorine atoms, fluorine atom , or a structure represented by formula (001).
  • R 111 or R 121 is a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and having 3 or more fluorine atoms, or 3 or more having 2 to 10 carbon atoms; is preferably a group substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkoxy group substituted with fluorine, a fluorine atom, and a structure represented by formula (001).
  • R121 can have, for example, the structures shown in (AAA1) to (AAA126) and (AAC1) to (AAC450) above.
  • the metal patterning material preferably has at least one structure represented by formula (001) in its molecule. More preferably, the metal patterning material has in its molecule two or more independent structures represented by formula (001), and three or more independent structures represented by formula (001). More preferably, it is even more preferable to have four or more independent structures represented by formula (001).
  • the metal patterning material is represented by formula (A1) or formula (B1), a group selected from the group consisting of a heteroaromatic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group, or a heteroaliphatic hydrocarbon group, It is preferable to have at least two or more in the molecule. Having three or more is more preferable, and having four or more is even more preferable.
  • a structure in which the metal patterning material is represented by formula (A1) is preferred.
  • the metal patterning material is preferably a structure represented by formula (101), (102), (103), (104), or (105). Structures represented by formula (101), (102), (103), or (104) are more preferred, structures represented by formula (101), (102), or (104) are more preferred, and formula ( 101) or the structure represented by formula (104) is even more preferred, and the structure represented by formula (104) is particularly preferred.
  • the metal patterning material has a structure represented by formula (101), formula (102), formula (103), formula (104) or formula (105), a heteroaromatic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group, Alternatively, it preferably has at least two groups selected from the group consisting of heteroaliphatic hydrocarbon groups in the molecule. Having three or more is more preferable, and having four or more is even more preferable.
  • a heterocyclic compound according to one aspect of the present disclosure is represented by formula (301) or (302).
  • L 301 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, represents O, S, or NR 301 ;
  • L 303 are each independently a linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with fluorine; O, or represents S;
  • Rf 301 is each independently represents a site with 2 or more carbon atoms containing 3 or more fluorine atoms;
  • R 301 are each independently an optionally substituted mono
  • Each hh independently represents an integer from 0 to 12.
  • ii each independently represent an integer from 1 to 6;
  • Each jj independently represents an integer from 0 to 6.
  • Each kk independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each mm independently represents an integer from 1 to 6.
  • nn independently represents an integer from 1 to 6.
  • L 301 is NR 301 and R 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, Each is independently substituted with a fluorine atom or a site having 1 or more carbon atoms containing 3 or more fluorine atoms.
  • Each Rf 301 independently represents a moiety having 2 or more carbon atoms and containing 3 or more fluorine atoms.
  • the ratio of the number of fluorine atoms to the number of carbon atoms is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, further preferably 70% or more, and 80% or more. Even more preferred.
  • Rf 301 is not particularly limited, and may be linear, branched, or cyclic.
  • ii each independently represent an integer from 1 to 6; ii is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, even more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2.
  • Rf 301 preferably has a structure represented by the following formula (311).
  • Rf 311 are each independently represents a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom;
  • L 311 are each independently O, S, or a linear, branched or cyclic divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, or represents a vinylene group which may form a ring;
  • each a311 independently represents an integer from 0 to 4;
  • each a312 independently represents an integer of 1 to 4;
  • Rf 311 is each independently, among the carbon atoms forming the structure, the ratio of the number of carbon atoms directly bonded to fluorine atoms is preferably 30% or more, preferably 40% or more. More preferably, it is 50% or more, even more preferably 60% or more, and particularly preferably 70% or more.
  • Rf 311 are each independently optionally substituted; Methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and alkyl groups having structural isomerism with these alkyl groups , and cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 1-methylcyclopentyl, cyclopentylmethyl, cyclohexyl, and adamantyl groups are more preferred.
  • L 311 can suppress the formation of a metal film on the film surface, each independently O, S, or optionally substituted with a fluorine atom, Methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and alkyl groups having structural isomerism with these alkyl groups , and cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 1-methylcyclopentyl, cyclopentylmethyl, cyclohexyl, and adamantyl groups, or A vinylene group which may form a ring is more preferred.
  • Each a311 is independently preferably 0 to 3, more preferably 0 to 2.
  • Each a312 is independently preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the number of carbon atoms in the moiety represented by formula (311) is preferably 1 or more and 36 or less, more preferably 1 or more and 30 or less, further preferably 1 or more and 24 or less, and 1 or more and 20 or less. is even more preferable, and 1 or more and 16 or less is particularly preferable.
  • the carbon number of Rf 301 is 2 or more.
  • the number of carbon atoms in Rf 301 is preferably 2 or more and 36 or less, more preferably 2 or more and 30 or less, further preferably 2 or more and 24 or less, and even more preferably 2 or more and 20 or less. , 2 or more and 16 or less.
  • Rf 301 can have, for example, the structures shown in (AAA1) to (AAA126) below.
  • L 303 are each independently a linear, branched or cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted with fluorine; represents O or S.
  • L 303 can suppress the formation of a metal film on the film surface, each independently O, S, or optionally substituted with a fluorine atom, Methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, and alkyl groups having structural isomerism with these alkyl groups , and cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, 1-methylcyclopentyl, cyclopentylmethyl, cyclohexyl, and adamantyl groups are more preferred.
  • L 301 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, Represents O, S, or NR301 .
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by L 301 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • the cyclic 2- to 4-valent heteroaliphatic hydrocarbon group represented by L 301 has N, O and S as heteroatoms, and preferably has a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof.
  • a compound giving a monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by L 301 is benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9 - selected from the group consisting of diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene and colanulene and in these groups benzene, naphthalene and phenanthrene one or more of which is a fused ring,
  • a compound giving a monocyclic, linked or condensed heteroaromatic group represented by L 301 is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan,
  • L 301 can be, the compound giving a linear, branched, or cyclic aliphatic hydrocarbon group represented by L 301 is methane, ethane, propane, butane, adamantane, diamantane, norbornene, or cyclohexane;
  • Compounds giving a cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group represented by L 301 include morpholine, piperazine, homopiperazine, hexahydro-1,3,5-triazine, 1,4-dioxin, 1,4-dithiane, 4, More preferred are 4′-bipiperidine, diazabicyclo[2,2,2]octane, octahydro-1H-pyrrolo[3,4-b]pyridine, and 1,4,7,10-tetraazacyclododecane.
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by L 301 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene; , benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, or colanulene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole; the linear, branched
  • L 301 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted aliphatic hydrocarbon group, or a cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group
  • each of these groups is independently , a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (311), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 301 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (311), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 301 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (311), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of L 301 are each independently (iv) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v) the group represented by (iv) above is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (vi) a fluorine atom, or a structure
  • the substituents of L 301 are each independently (iv') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v') the group represented by (iv') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (vi') a fluorine atom, or a structure represented by formula (311) is even more preferable.
  • L 301 are each independently a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and having 3 or more fluorine atoms, and 3 having 2 to 10 carbon atoms and An alkoxy group substituted with fluorine as described above, a structure represented by formula (311), or a fluorine atom is more preferable.
  • L 301 can have, for example, the structures shown in (AAB1) to (AAB803) above.
  • R 301 are each independently an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic monovalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, Alternatively, it represents a fluoroalkyl structure having 1 or more carbon atoms and containing 3 or more fluorine atoms.
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 301 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • a monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group represented by R 301 has a heteroatom of N, O, or S, a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a fused benzene ring Structure is preferred.
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group represented by R 301 is benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9 ,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these groups from the group consisting of benzene, naphthalene, and phenanthrene; one or more selected is a fused ring,
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed monovalent heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 301 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, or triptycene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole; More preferably, the cyclic aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, or cyclohexane.
  • the monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by R 301 is phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, or triptycene;
  • the monocyclic, linked, or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, or benzothiazole; More preferably, the cyclic aliphatic hydrocarbon group is adamantane, diamantane, or cyclohexane.
  • the fluoroalkyl structure having 1 or more carbon atoms and containing 3 or more fluorine atoms, represented by R 301 is preferably a structure represented by formula (311).
  • the number of carbon atoms in the fluoroalkyl structure having 1 or more carbon atoms and 3 or more fluorine atoms represented by R 301 is preferably 1 or more and 36 or less, more preferably 1 or more and 30 or less, and 1 or more. It is more preferably 24 or less, even more preferably 1 or more and 20 or less, and particularly preferably 1 or more and 16 or less.
  • R 301 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, or a substituted aliphatic hydrocarbon group
  • these groups are each independently a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, hydrogen atom, fluorine atom, deuterium atom, structure represented by formula (311),
  • it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 301 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (311), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 301 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (311), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • R 301 are each independently (vii) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (viii) the group represented by (vii) is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (ix) a fluorine atom, or a structure represented by formula
  • the substituents of R 301 are each independently (vii') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (viii') the group represented by (vii') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (ix') a fluorine atom, or a structure represented by formula (311).
  • R 301 are each independently trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorine atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms and substituted with 3 or more fluorine atoms, fluorine atom , or a structure represented by formula (311).
  • R 301 can have, for example, the structures shown in (AAA1) to (AAA126) and (AAC1) to (AAC450) above.
  • X 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, Or represents O.
  • a monocyclic, linked, or condensed aromatic hydrocarbon group represented by X 301 preferably has a structure in which a phenyl group or a plurality of benzene rings are linked or condensed.
  • the heteroatoms of the cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group represented by X 301 are N, O, and S, and a 5-membered ring, a 6-membered ring, or a condensed structure thereof is preferred.
  • a compound giving a monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by X 301 is benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9, 9-diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene, and colanulene, and in these groups selected from the group consisting of benzene, naphthalene, and phenanthrene; one or more of the Compounds that provide monocyclic, linked or condensed heteroaromatic groups include pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran,
  • a compound giving a monocyclic, linked or condensed aromatic hydrocarbon group represented by X 301 is benzene, biphenyl, terphenyl, naphthalene, fluorene, spirobifluorene, 9,9-dimethylfluorene, 9,9 - diphenylfluorene, benzofluorene, phenanthrene, fluoranthene, triphenylene, anthracene, pyrene, chrysene, perylene, benzochrysene, dibenzochrysene, triptycene or colanulene,
  • a compound that provides a monocyclic, linked or condensed heteroaromatic group is pyridine, pyrimidine, pyrazine, triazine, carbazole, furan, thiophene, benzofuran, benzothiophene, dibenzofuran, dibenzothiophene, thiazole, 5,6,7, 8-
  • X 301 is a substituted aromatic hydrocarbon group, a substituted heteroaromatic group, a substituted cyclic aliphatic hydrocarbon group, or a substituted cyclic heteroaliphatic hydrocarbon group
  • each of these groups independently do, a linear, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heteroaromatic group having 3 to 20 carbon atoms, a fluorine atom, a deuterium atom, a structure represented by formula (311),
  • it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of X 301 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyano group, deuterium atom, fluorine atom, phenyl group, biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, indolyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, benzothiazolyl group, structure represented by formula (311), Alternatively, it is preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of X 301 are each independently methyl group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, fluorine atom, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, benzofuranyl group, dibenzofuranyl group, thiazolyl group, structure represented by formula (311), Alternatively, it is more preferred that these groups are substituted with one or more groups selected from the group consisting of combined groups.
  • the substituents of X 301 are each independently (iv) methyl group, methoxy group, alkyl group having 2 to 10 carbon atoms, alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, phenanthryl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group , a carbazolyl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, a benzofuranyl group, a dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v) the group represented by (iv) above is substituted with one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; or (vi) a fluorine atom, or a
  • the substituents of X 301 are each independently (iv') methyl group, ethyl group, butyl group, methoxy group, ethoxy group, butoxy group, phenyl group, naphthyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazyl group, triazyl group, carbazolyl group, dibenzothienyl group, dibenzofuranyl group, or a thiazolyl group, (v') the group represented by (iv') is one or more groups selected from the group consisting of a fluorine atom, a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and a perfluoroalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; or (vi') a fluorine atom, or a structure represented by formula (311) is even more preferable.
  • the substituents of X 301 are each independently a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms and having 3 or more fluorine atoms, and 3 having 2 to 10 carbon atoms and An alkoxy group substituted with fluorine as described above, a structure represented by formula (311), or a fluorine atom is more preferable.
  • X 301 is a phenylene group and nn is 1, the phenylene group is substituted with a fluorine atom or a monovalent substituent having 1 or more carbon atoms which may contain 3 or more fluorine atoms.
  • X 301 is a naphthylene group and nn is 1, the phenylene group is substituted with a fluorine atom or a monovalent substituent having 1 or more carbon atoms which may contain 3 or more fluorine atoms.
  • X 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent aromatic hydrocarbon group having 3 to 26 carbon atoms and nn is 1, a fluorine atom or 3 fluorine atoms It is substituted with one or more carbon atoms containing one or more moieties.
  • each of the substituents of X 301 is independently a fluorine atom and a structure represented by formula (311).
  • X 301 contains one or more optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent aromatic hydrocarbon groups having 3 to 26 carbon atoms
  • at least one or more X 301 are each independently and is preferably substituted with a fluorine atom and a structure represented by formula (311).
  • X 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed divalent to tetravalent aromatic hydrocarbon group having 3 to 26 carbon atoms, each independently represents a fluorine atom
  • formula (311) is preferably substituted by a structure represented by
  • X 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed 2- to 4-valent heteroaromatic group having 3 to 26 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an optionally substituted cyclic divalent to tetravalent heteroaliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or O is preferred.
  • X 301 can have, for example, the structures shown in (AAB1) to (AAB803) above.
  • Each gg independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each gg independently is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, and even more preferably an integer of 1 to 3.
  • Each hh independently represents an integer from 0 to 6.
  • Each hh independently is preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, even more preferably an integer of 0 to 3, and even more preferably an integer of 0 to 2.
  • Each jj independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each jj is independently an integer of preferably 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, even more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably an integer of 1 to 2.
  • Each kk independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each kk independently is preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, even more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably an integer of 1 to 2.
  • Each mm independently represents an integer from 1 to 6.
  • Each mm is independently an integer of 1 to 5, preferably an integer of 1 to 4, and even more preferably an integer of 1 to 3.
  • Each nn independently represents an integer of 1 to 6.
  • Each nn is independently an integer of preferably 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, even more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably an integer of 1 to 2.
  • R 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, Each is independently substituted with a fluorine atom or a site having 1 or more carbon atoms containing 3 or more fluorine atoms.
  • R 301 when R 301 is an optionally substituted monocyclic, linked or condensed monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 26 carbon atoms, a fluorine atom or 3 or more fluorine atoms It is preferably substituted with a site containing 1 or more carbon atoms.
  • metal patterning materials and heterocyclic compounds Regarding the metal patterning material according to one embodiment of the present disclosure and the heterocyclic compound according to one embodiment of the present disclosure, compounds (Z1) to (Z563) are exemplified below, but the present disclosure is limited to these compounds. not something.
  • a metal patterning thin film is a metal patterning thin film that includes a metal patterning material and can pattern a metal film or a metal laminate film,
  • the metal patterning material is including compounds of the formulas (A1), (B1), (101), (102), (103), (104), or (105);
  • the metal film or metal laminated film contains at least one selected from the group consisting of ytterbium, magnesium, silver, aluminum, and alloys of magnesium and silver.
  • the metal patterning material contained in the metal patterning thin film is the same as the metal patterning material described above, including the compound described above.
  • the water contact angle of the thin film for metal patterning is, in order, 90° or more, 91° or more, 92° or more, 93° or more, 94° or more, 95° or more, 96° or more, 97° or more, 98° or more, 99°. More preferably, the angle is 100° or more.
  • An organic electroluminescence element is an organic electroluminescence element comprising a cathode,
  • the cathode is containing at least one selected from the group consisting of ytterbium, magnesium, silver, aluminum, and an alloy of magnesium and silver; patterned with a metal patterning material,
  • the metal patterning material is Including compounds of formula (A1), (B1), (101), (102), (103), (104), or (105) above.
  • a method for forming a metal pattern according to an aspect of the present disclosure includes: forming an organic material pattern comprising the metal patterning material described above; applying a metal material to the organic material pattern formation region and the organic material pattern non-formation region to form a metal pattern in the non-formation region.
  • the metal patterning material is used by forming a film where it is desired to suppress the adhesion of metal.
  • the portion where adhesion of the metal material is desired to be suppressed corresponds to the formation region of the organic material pattern. Areas other than the areas where adhesion of the metal material is to be suppressed correspond to non-formation areas of the organic material pattern.
  • the non-formation region of the organic material pattern is a region where adhesion of the metal material is promoted, and is a portion where the metal pattern is desired to be formed.
  • the method for forming the organic material pattern is not particularly limited, and may be vacuum deposition, spin coating, casting, dip coating, die coating, bar code, offset, spray coating, ink jet, A known method such as a screen method, an offset method, a flexo method, a gravure method, or a microcontact method can be applied. Also, after film formation, the film may be annealed under a temperature environment higher than room temperature.
  • the film thickness of the organic material pattern is also not particularly limited.
  • organic molecular materials, polymers, and the like may be arbitrarily added to the metal patterning material as long as the formation of a metal film on the film surface can be suppressed.
  • the base on which the organic material pattern is formed may be either metal or non-metal, and examples thereof include organic films, metal films, oxide films, inorganic films, etc., and are not particularly limited. Also, the material of the substrate is not particularly limited, and any material such as glass, plastic, metal, ceramic, etc. can be used.
  • the base for forming the organic material pattern is an organic film
  • tris(8-quinolinolato)aluminum derivatives imidazole derivatives, benzimidazole derivatives, triazine derivatives, pyrimidine derivatives, pyridine derivatives, pyrazine derivatives, quinoline derivatives, quinoxaline derivatives, Oxadiazole derivatives, phosphor derivatives, silole derivatives, phosphine oxide derivatives and the like
  • the type of metal material for forming a metal pattern using a metal patterning material is not particularly limited, but alkali metals, alkaline earth metals, transition metals, group 13 metals of the periodic table, and the like are preferable.
  • sodium, potassium, rubidium, cesium beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, gold, silver, platinum, copper, iron , palladium, molybdenum, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, tin, and chromium, and alloys comprising one or more of these metals.
  • alloys include magnesium-silver alloys, magnesium-indium alloys, magnesium-aluminum alloys, indium-silver alloys, lithium-aluminum alloys, lithium-magnesium alloys, lithium-indium alloys, calcium-aluminum alloys, and the like. be done.
  • the method of forming the metal pattern includes dry processes such as vacuum deposition and sputtering; and inkjet methods using metal nano-ink. Also, the film thickness of the metal pattern is not particularly limited.
  • the organic material pattern formation region By applying a metal material to the organic material pattern formation region and the organic material pattern non-formation region, a film containing the metal material is instantaneously formed in both regions, but the organic material pattern formation region is metal. Since the adhesion is suppressed, the metal pattern is naturally formed only in the region where the organic material pattern is not formed.
  • More specific methods for forming the metal pattern include, for example, the following methods 1) and 2). 1) Using a metal mask or the like, the metal patterning material described above is vapor-deposited into a desired pattern. 2) Then, by vapor-depositing a metal, electrodes are formed only on the portions where the metal patterning material is not deposited. That is, a negative metal electrode is formed with respect to the film pattern of the metal patterning material.
  • the area and line width of the patterned metal electrode can be arbitrarily adjusted by the patterning shape of the metal patterning material.
  • a protective film may be provided on the patterned film in which metal is patterned.
  • the protective film include an organic film, an oxide film, an inorganic film, and the like, and are not particularly limited.
  • the protective film is an organic film, for example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene Derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, conductive polymer oligomers (especially thiophene oligomers), porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, carbazole compounds, styrylamine compounds, triazines Derivatives, pyrimidine derivatives and the like can be used.
  • the protective film is an inorganic film, for example, silicon nitride, silicon oxide, etc. can be used.
  • metal patterning material and the method for forming a metal pattern according to one aspect of the present disclosure, solar cells, optical sensors, image sensors, organic electroluminescence (EL) elements, organic solar cells, organic sensors, organic transistors, etc. Patterning of metal electrodes and metal wiring on a circuit board can be formed.
  • EL organic electroluminescence
  • a metal patterning material according to one aspect of the present disclosure is also applicable to vapor deposition processes.
  • An electronic device includes the metal patterning material described above. As described above, when forming a metal pattern, an organic material pattern containing a metal patterning material is formed, so the organic material pattern is formed together with the metal pattern. Accordingly, an electronic device according to an aspect of the present disclosure includes a metal pattern and an organic material pattern containing a metal patterning material.
  • Examples of electronic devices include solar cells, optical sensors, image sensors, organic EL elements, organic solar cells, organic sensors, and organic transistors. These electronic devices are provided with patterning of metal electrodes, metal wiring on a circuit board, or the like. In other words, if the electronic device is provided with patterning of metal electrodes or metal wiring on a circuit board, the electronic device according to this aspect can be obtained by using the method of forming the metal pattern described above. Such electronic devices have highly precise metal patterns. [Example] EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples, but the present invention should not be construed as being limited to these examples.
  • Example 1' Evaluation of metal adhesion of compound (Z1)
  • the glass substrate was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 4 Pa or less by a vacuum pump.
  • a film of compound (Z1) was deposited to a thickness of 100 nm at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec on a glass substrate provided with a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z1) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Suspension 2-2 was added dropwise to Suspension 2-1 at 0°C over 20 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was returned to room temperature and stirred for 2 hours. Water (20 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was separated using pure water and chloroform, and the organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate and purified by silica gel column chromatography to obtain a white target compound (Z174) (yield: 3.5 g, yield: 25%).
  • ytterbium was deposited to a thickness of 1 nm at a deposition rate of 0.01 nm/sec, and then silver and magnesium (1/9) were deposited to a thickness of 15 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. No film of silver or magnesium was formed on the portion where the compound (Z177) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm ⁇ 1 mm was formed.
  • ytterbium and lithium fluoride (1/1) are deposited to a thickness of 1 nm at a deposition rate of 0.01 nm/sec, and then silver and magnesium (1/9) are deposited to a thickness of 12 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. evaporated. Silver, magnesium, ytterbium, and lithium fluoride were not deposited on the portion where the compound (Z180) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm ⁇ 1 mm was formed.
  • lithium fluoride was deposited to a thickness of 1 nm at a deposition rate of 0.01 nm/sec, and then silver and magnesium (1/9) were deposited to a thickness of 12 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. Lithium fluoride, silver, and magnesium were not deposited on the portion where the compound (Z185) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm ⁇ 1 mm was formed.
  • magnesium fluoride was deposited to a thickness of 1 nm at a deposition rate of 0.01 nm/sec, and then silver and magnesium (1/9) were deposited to a thickness of 12 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. No film of magnesium fluoride, silver, or magnesium was formed on the portion where the compound (Z189) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm ⁇ 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver and magnesium (1/9) were deposited to a thickness of 12 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. Silver and magnesium were not deposited on the portion where the compound (Z190) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • ytterbium and magnesium fluoride (1/1) were deposited to a thickness of 2 nm at a deposition rate of 0.01 nm/sec, and then silver and magnesium (1/9) were deposited to a thickness of 15 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. evaporated. Ytterbium, lithium fluoride, silver, and magnesium were not deposited on the portion where the compound (Z204) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm ⁇ 1 mm was formed.
  • ytterbium and magnesium fluoride (1/1) are deposited to a thickness of 2 nm at a deposition rate of 0.01 nm/sec, and then silver and magnesium (1/1) are deposited to a thickness of 15 nm at a deposition rate of 0.1 nm/sec. evaporated. Ytterbium, lithium fluoride, silver, and magnesium were not deposited on the portion where the compound (Z206) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm ⁇ 1 mm was formed.
  • Example 20' Compound (Z214) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z214) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z214) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z217) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Example 25' Compound (Z219) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z219) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate provided with a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z219) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z220) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z222) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Example 30' Compound (Z224) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 -4 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z224) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a 20 nm thick film of compound (Z224) on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z224) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z226) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z229) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Example 38' Compound (Z232) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z232) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z232) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z233) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z234) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • FDMS 1304
  • Example 4 Evaluation of Metal Adhesion of 1' Compound (Z235) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z235) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z235) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z236) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z237) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z238) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z239) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z240) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z241) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z242) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • 1,2-dibromoethane 1 drop was added to a solution of magnesium (22.0 mmol) suspended in tetrahydrofuran (20 ml) under a nitrogen atmosphere, and 2,8-dibromodibenzofuran dissolved in tetrahydrofuran (20 ml). (10.0 mmol) was added dropwise over 20 minutes. After completion of dropping, the mixture was stirred at 60°C for 3 hours. Next, the temperature was returned to room temperature, and cyanuric chloride (22.0 mmol) dissolved in tetrahydrofuran (30 ml) was added dropwise over 20 minutes. After completion of dropping, the mixture was stirred at 60°C for 3 hours.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z243) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Example 50 1334 Evaluation of Metal Adhesion of Example 50' Compound (Z244)
  • a glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z244) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z244) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z246) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z247) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z248) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z251) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z252) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z253) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z254) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z254) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z255) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z255) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z256) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z256) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z257) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z257) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z258) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a 20 nm thick film of compound (Z258) on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z258) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z259) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z259) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z260) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z260) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z261) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z261) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z262) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z262) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the glass substrate After boiling cleaning the glass substrate (boiling cleaning with isopropyl alcohol) and ultraviolet ozone cleaning, it was placed in a vacuum deposition apparatus and evacuated with a vacuum pump until the pressure became 1.0 x 10-4 Pa or less.
  • a compound (Z263) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/second to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z263) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z264) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z265) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z266) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z267) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z268) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z269) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z271) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z272) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z273) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Example 80' Compound (Z274) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z274) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/second to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was placed. After that, the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z274) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z275) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z277) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z280) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z281) was vapor-deposited, and a transparent region of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z282) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • Example 89' Compound (Z283) A glass substrate was boiled and washed (boiling and washed with isopropyl alcohol), further washed with ultraviolet rays and ozone, placed in a vacuum deposition apparatus, and heated to 1.0 ⁇ 10 Pa or less. It was evacuated with a vacuum pump until A compound (Z283) was deposited at a vapor deposition rate of 0.2 nm/sec to form a film of 20 nm on a glass substrate on which a metal mask having an opening of 2 mm ⁇ 1 mm was arranged.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z283) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z286) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z287) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.
  • the metal mask was removed, and silver was deposited to a thickness of 10 nm at a deposition rate of 0.2 nm/sec. No silver film was formed on the portion where the compound (Z289) was vapor-deposited, and a transparent area of 2 mm x 1 mm was formed.

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Abstract

膜表面への金属薄膜の形成を高度に抑制できる金属パターニング用材料、複素環化合物、これらを用いた金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、金属パターンの形成方法および電子機器を提供すること。　式（Ａ１）または（Ｂ１）で表される、金属パターニング用材料：式中、　Ａは、各々独立して、ＮもしくはＣＲを表し、少なくとも１つはＮであり、少なくとも一つはＣＲである；　Ｂは，Ｎ、ＮＲ、Ｓ、ОもしくはＣＲを表し、少なくとも１つはＮ、Ｓ、もしくはОであり、少なくとも一つはＣＲである；

Description

金属パターニング用材料、複素環化合物、金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子機器、および金属パターンの形成方法
　本開示は、金属パターニング用材料、複素環化合物、金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子機器、金属パターンの形成方法、および複素環化合物に関する。
　近年、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子、有機薄膜太陽電池、有機トランジスタ、有機センサーといった有機電子デバイスが広く開発されている。有機電子デバイスでは、金属薄膜を電極として用いるが、金属薄膜を所望の形状にパターニングする必要がある。
　金属電極のパターニング方法としては、金属の付着が抑制された金属パターニング用材料を下地層としてパターニング成膜し、この下地層の上から金属を蒸着する方法が知られている。この方法では、金属パターニング用材料が成膜されていない部分に選択的に金属膜が形成されるため、所望の形状にパターニングされた金属電極を形成することができる。
　特許文献１には、金属パターニング用材料として、アントラセン誘導体を用いてマグネシウム金属をパターニングする技術が開示されている。
国際公開第２０２０／２２５７７８号
　しかしながら、特許文献１にかかる方法では、所望の箇所以外への金属の付着を高度に抑制してパターニングを形成することは困難であった。さらに、マグネシウム以外の金属のパターニングは引用文献１に記載の化合物では困難である。
　そこで本開示の一態様は、膜表面への種々金属薄膜の形成を高度に抑制できる金属パターニング用材料、これらを用いた金属パターニング用薄膜，有機エレクトロルミネッセンス素子、金属パターンの形成方法電子機器、および複素環化合物の提供に向けられている。
　本開示の一態様によれば、式（Ａ１）または（Ｂ１）で表される、金属パターニング用材料を見出し、本発明を完成させるに至った。
　すなわち、本発明は以下の［１］乃至［２７］に存する。
［１］
　式（Ａ１）または（Ｂ１）で表される、金属パターニング用材料：
　式中、
　　Ａは、各々独立して、ＮまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮであり、少なくとも１つはＣＲである；
　　Ｂは、各々独立して、Ｎ、Ｓ、ОまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮ、Ｓ、またはОであり、少なくとも一つはＣＲである；
　　Ｒは、各々独立して、式（Ａ０１）または式（Ａ０２）を表し、少なくとも１つは式（Ａ０１）である；
　Ｌ１、Ｌ２は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ２を表す；
　Ｒｆは、各々独立して、
　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の１から２価の置換基を表す；
　Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１から２価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｐは各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｑは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｕは各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｖは各々独立して、１から６の整数を表す。
［２］
　前記Ｒｆが下記式（００１）で表される、［１］に記載の金属パターニング用材料：
式中、
　Ｒｆ００１は、各々独立して、
　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数１～１８の直鎖、分岐、または環状の脂肪族炭化水素基を表す；
　Ｌ００１は、各々独立して、
　　О、Ｓ、または、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２価脂肪族炭化水素基、または、
　　フッ素で置換されていてもよく、また環を形成していてもよいビニレン基を表す；
　ａ００１は、各々独立して、０から４の整数を表す；
　ａ００２は、各々独立して、１から４の整数を表す；
［３］
式（Ａ１）において、少なくとも１つの式（Ａ０１）のｕが０であり、式（Ｂ１）において、少なくとも一つの式（Ａ０１）のｕが０である、［１］に記載の金属パターニング用材料。
［４］
　式（１０１）から（１０５）のいずれか一つで表される、［１］に記載の金属パターニング材料。：
　式中、
　　Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、およびＸ１０５は、各々独立して、式（１１１）で表される。
　式中、
　　Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５は、各々独立して、式（１２１）で表される。
　Ｌ１１１、Ｌ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ１１１を表す；
　Ｒｆ１１１は、各々独立して、式（００１）で表される構造を表す；
　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｒ１０１は、１から５の整数を表し、ｒ’１０１は、０から４の整数を表す。ただし、（ｒ１０１＋ｒ’１０１）は５以下の整数である。
　ｓ１０１は各々独立して、１から４の整数を表し、ｓ’１０１は各々独立して、０から３の整数を表す。ただし、（ｓ１０１＋ｓ’１０１）は４以下の整数である。
　ｔ１０１は各々独立して、１から３の整数を表し、ｔ’ １０１は、０から２の整数を表す。ただし、（ｔ１０１＋ｔ’１０１）は３以下の整数である。
　ｕ１１１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｖ１１１は各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｐ１２１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｑ１２１は各々独立して、１から６の整数を表す。
　ただし、少なくとも一つのＸ１０１、少なくとも一つのＸ１０２、少なくとも一つのＸ１０３、少なくとも一つのＸ１０４、および少なくとも一つのＸ１０５において、ｕ１１１は各々独立して、０である。
［５］
　Ｌ１１１、Ｌ１２１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
　　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されている［４］に記載の金属パターニング材料。
［６］
　Ｒ１、Ｒ２が置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　水素原子、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
　　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されている［１］に記載の金属パターニング材料。
［７］
　少なくとも１つのＲｆ１１１において、炭素原子数に対するフッ素原子数の割合が５０％以上である［４］に記載の金属パターニング材料。
［８］
　Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５は、各々独立して、式（１３１）で表される［４］に記載の金属パターニング材料。
　Ｌ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、またはＮＲ１１１を表す；
　Ｌ１３１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓを表す；
　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｐ１３１は各々独立して、０から１１の整数を表す。
　ｑ１３１は各々独立して、１から６の整数を表す。
［９］
　Ｌ１２１、Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造である［８］に記載の金属パターニング用材料。
［１０］
　Ｌ１２１、Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基において、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、もしくはそれらが縮合した構造である［８］に記載の金属パターニング用材料。
［１１］
　Ｌ１２１、Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、またはジベンゾクリセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾジオキシン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、ジベンゾジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
　環状の２から４価脂肪族炭化水素基が、アダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
　環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンである［８］に記載の金属パターニング用材料。
［１２］
　Ｌ１２１、Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、
メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数２～１０のパーフルオロアルコキシ基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、式（００１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基である［８］に記載の金属パターニング用材料。
［１３］
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造である［３］に記載の金属パターニング用材料。
［１４］
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基において、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、もしくはそれらが縮合した構造である［３］に記載の金属パターニング用材料。
［１５］ 
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、またはジベンゾクリセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾジオキシン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、ジベンゾジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
　環状の２から４価脂肪族炭化水素基が、アダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
　環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンである［３］に記載の金属パターニング用材料。
［１６］
　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数２～１０のパーフルオロアルコキシ基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、式（００１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基である［３］に記載の金属パターニング用材料。
［１７］
　Ｒ１１１、Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造である［８］に記載の金属パターニング用材料。
［１８］
　Ｒ１１１、Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、もしくはそれらが縮合した構造である［４］に記載の金属パターニング用材料。
［１９］ 
　Ｒ１１１、Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、またはジベンゾクリセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾジオキシン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾジオキシン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基が、アダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、またはメタンであり、
　環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシンである［４］に記載の金属パターニング用材料。
［２０］
　Ｒ１１１、Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数２～１０のパーフルオロアルコキシ基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、式（００１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基である［４］に記載の金属パターニング用材料。
［２１］
　式（３０１）、または（３０２）で表される複素環化合物：
　Ｌ３０１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、またはＮＲ３０１を表す；
　Ｌ３０３は、各々独立して、
　　フッ素で置換されていても良い炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　ОまたはＳを表す；
　Ｒｆ３０１は、各々独立して、
　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数２以上の部位を表す；
　Ｒ３０１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　または、フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上のフルオロアルキル構造を表す；
　Ｘ３０１は、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、またはOを表す；
　ｇｇは各々独立して、０から６の整数を表す。
　ｈｈは各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｉｉは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｊｊは各々独立して、０から６の整数を表す。
　ｋｋは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｍｍは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｎｎは各々独立して、１から６の整数を表す。
　　式（３０１）において、Ｌ３０１がＮＲ３０１であり、前記Ｒ３０１が置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基である時、各々独立して、フッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位によって置換されている。
　　Ｘ３０１がパラフェニレン基かつｎｎが１である時、パラフェニレン基はフッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含んでよい炭素数１以上の１価の置換基によって置換される。
　　Ｘ３０１は、シアノ基、直鎖ビニレン基、ケトン基、チオケトン基、およびセレン原子を含まない。
［２２］
　前記Ｒｆ３０１が下記式（３１１）で表される、［２１］に記載の複素環化合物：
式中、
　Ｒｆ３１１は、各々独立して、
　　フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、または環状の脂肪族炭化水素基を表す；
　Ｌ３１１は、各々独立して、
　　О、Ｓ、もしくは、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２価脂肪族炭化水素基、または、
　　環を形成していてもよいビニレン基を表す；
　ａ３１１は、各々独立して、０から４の整数を表す；
　ａ３１２は、各々独立して、１から４の整数を表す；
［２３］
　金属パターニング用材料を含み、金属膜または金属積層膜をパターニングすることができる金属パターニング用薄膜であって、
　前記金属パターニング用材料は、［１］に記載の式（Ａ１）、もしくは（Ｂ１）、または［４］に記載の式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）である化合物を含み、
　前記金属膜または金属積層膜は、イッテルビウム、マグネシウム、銀、アルミニウム、および、マグネシウムと銀との合金からなる群より選択される少なくとも１つを含有する、金属パターニング用薄膜。
［２４］
　水接触角が９０°以上である、［１］から［２０］のいずれか１項に記載の金属パターニング用材料を含む金属パターニング用薄膜。
［２５］
　陰極を備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
　前記陰極は、
　　イッテルビウム、マグネシウム、銀、アルミニウム、および、マグネシウムと銀との合金からなる群より選択される少なくとも１つを含有し、かつ、
　　金属パターニング用材料でパターニングされてなり、
　　該金属パターニング用材料は、［１］に記載の式（Ａ１）、もしくは（Ｂ１）、または［４］に記載の式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）、である化合物を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。
［２６］
　［１］から［２０］のいずれか１項に記載の金属パターニング用材料を含む有機材料パターンを形成することと、
　前記有機材料パターンの形成領域および前記有機材料パターンの未形成領域に金属材料を付与して、該未形成領域に金属パターンを形成することと、を含む、金属パターンの形成方法。
［２７］
　［１］から［２０］のいずれか１項に記載の金属パターニング用材料を含む、電子機器。
　本開示の一態様によれば、膜表面への金属薄膜の形成が抑制される金属パターニング用材料、これらを用いた金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、金属パターンの形成方法電子機器、および複素環化合物が提供できる。
化合物Ｚ１の金属蒸着前の透過率 化合物Ｚ１の金属蒸着後の透過率 化合物Ｚ１９０の金属蒸着前の透過率 化合物Ｚ１９０の金属蒸着後の透過率 化合物Ｘ１の金属蒸着前の透過率 化合物Ｘ１の金属蒸着後の透過率 化合物Ｘ６の金属蒸着前の透過率 化合物Ｘ６の金属蒸着後の透過率
　以下、本開示の一態様にかかる金属パターニング用材料、電子機器、および複素環化合物、ならびに、これらを用いた金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、金属パターンの形成方法について詳細に説明する。
［第一の態様：金属パターニング用材料］
　本開示の一態様にかかる金属パターニング用材料は、式（Ａ１）または（Ｂ１）で表される化合物を含む以下の材料である。
　式（Ａ１）または（Ｂ１）で表される、金属パターニング用材料：
　式中、
　　Ａは、各々独立して、ＮまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮであり、少なくとも１つはＣＲである；
　　Ｂは、各々独立して、Ｎ、Ｓ、ОまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮ、Ｓ、またはОであり、少なくとも一つはＣＲである；
　　Ｒは、各々独立して、式（Ａ０１）または式（Ａ０２）を表し、少なくとも１つは式（Ａ０１）である；
　Ｌ１、Ｌ２は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ２を表す；
　Ｒｆは、各々独立して、
　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位を表す；
　Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｐは各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｑは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｕは各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｖは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ここで、Ｌ１、Ｌ２が、置換の２～４価芳香族炭化水素基、置換の２～４価ヘテロ芳香族基、置換の２～４価脂肪族炭化水素基、または置換の２～４価ヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、
　　式（００１）で表される構造、
　　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましく；
Ｒ１、Ｒ２が、置換の１価芳香族炭化水素基、置換の１価ヘテロ芳香族基、置換の１価脂肪族炭化水素基、または置換の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、
　　式（００１）で表される構造、
　　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
（式（Ａ１）、式（Ｂ１）について）
　Ａは、各々独立して、ＮまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮであり、少なくとも一つはＣＲである；
　式（Ａ１）として、例えばピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジンを形成することができる。
　Ｂは、各々独立して、Ｎ、ＮＲ、О、ＳまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮ、ＮＲ、О、またはＳであり、少なくとも一つはＣＲである；
　式（Ｂ１）として、例えばピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、トリアゾール、テトラゾールを形成することができる。
　また、式（Ａ１）または式（Ｂ１）に結合するＲが、互いに結合して環を形成しても良い。
　式（Ａ１）に結合するＲが互いに結合して環を形成するとき、例えばキノリン、イソキノリン、キナゾリン、キノキサリン、フェナントリジン、アクリジン、フェナントロリン、アザトリフェニレン、アザインドールなどを形成することができる。
　式（Ｂ１）に結合するＲが互いに結合して環を形成するとき、例えばベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾオキサゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェンなどを形成することができる。
　式（Ａ１）としては、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジンが好ましく、式（Ｂ１）としてはチアゾールが好ましい。
　式（Ａ０１）において、Ｒｆは、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、またはアルケニルオキシ基が有する水素原子の１つ以上がフッ素原子により置換されたフルオロアルキル基、フルオロアルコキシ基、フルオロアルケニル基、またはフルオロアルケニルオキシ基の構造を部分構造として少なくとも１つ以上含む基を表す。
　Ｒｆは、フッ素原子を３つ以上含み、かつ炭素数を１以上含む。
また、Ｒｆを形成している炭素原子のうち、フッ素原子と直接結合している炭素原子数の割合は３０％以上であることが好ましい。該割合は、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることがさらにより好ましく、７０％以上であることが特に好ましい。
　Ｒｆで表される分子構造は特に限定されず、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。
　上記Ｒｆを与える分子構造としては、直鎖、分岐、もしくは環状アルキル基、または、直鎖、分岐、もしくは環状アルケニル基が挙げられる。環状アルキル基、または環状アルケニル基としては、環炭素原子に結合する水素原子がアルキル基、またはアルケニル基で置換されたものも含まれる。該環炭素原子に結合する上記アルキル基、またはアルケニル基の炭素数は、１以上６以下であることが好ましい。
　環状アルキル基、または環状アルケニル基としては、環炭素原子から１個の水素原子を除いたときに生成する１価の基であってもよく、該環炭素原子に結合する上記アルキル基、またはアルケニル基から１個の水素原子を除いたときに生成する１価の基（すなわち、シクロアルキルアルキル基、シクロアルキルアルケニル基、シクロアルケニルアルキル基、またはシクロアルケニルアルケニル基）であってもよい。
　上記フルオロアルキル基を与えるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基、ならびにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１－メチルシクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、およびシクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。これらの基のうち、金属パターニング性能が優れる点で、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基、ならびにシクロヘキシル基が好ましい。
　上記フルオロアルコキシ基を与えるアルコキシ基としては、前述のフルオロアルキル基を与えるアルキル基が酸素原子に結合したアルコキシ基が挙げられる。これらのアルコキシ基のうち、金属パターニング性能が優れる点で、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基が、酸素原子に結合したアルコキシ基が好ましい。
　上記フルオロアルケニル基を与えるアルケニル基としては、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、１－ブテニル基、１－ペンチニル基、１－ヘキセニル基、およびこれらのアルケニル基と構造異性の関係にあるアルケニル基、ならびに１－シクロプロペニル基、１－シクロブテニル基、１－シクロペンチニル基、１－シクロヘキシル基、およびこれらのシクロアルケニル基と構造異性の関係にあるシクロアルケニル基等が挙げられる。これらの基のうち、金属パターニング性能が優れる点で、ビニル基、１－プロペニル基、１－ブテニル基、１－ペンチニル基、１－ヘキセニル基、およびこれらのアルケニル基と構造異性の関係にあるアルケニル基、ならびに１－シクロペンチニル基、および１－シクロヘキシル基が好ましい。
　上記フルオロアルケニルオキシ基を与えるアルケニルオキシとしては、前述のフルオロアルケニル基を与えるアルケニル基が酸素原子に結合したアルケニルオキシ基が挙げられる。これらのアルケニルオキシ基のうち、金属パターニング性能が優れる点で、ビニル基、１－プロペニル基、１－ブテニル基、１－ペンチニル基、１－ヘキセニル基、およびこれらのアルケニル基と構造異性の関係にあるアルケニル基、ならびに１－シクロペンチニル基、および１－シクロヘキシル基が、酸素原子に結合したアルケニルオキシ基が好ましい。
　上記Ｒｆは下記の式（００１）で表される構造が好ましい。
式中、
　Ｒｆ００１は、各々独立して、
　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数１～１８の直鎖、分岐、または環状の脂肪族炭化水素基を表す；
　Ｌ００１は、各々独立して、
　　О、Ｓ、もしくは、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２価脂肪族炭化水素基、または、
　　フッ素で置換されていてもよく、また環を形成していてもよいビニレン基を表す；
　ａ００１は、各々独立して、０から４の整数を表す；
　ａ００２は、各々独立して、１から４の整数を表す；
　Ｒｆ００１は、各々独立して、構造を形成している炭素原子のうち、フッ素原子と直接結合している炭素原子数の割合が３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることがさらにより好ましく、７０％以上であることが特に好ましい。
　Ｒｆ００１は、各々独立して、フッ素原子を３つ以上含む、
メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基、ならびにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１－メチルシクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、およびアダマンチル基であることがより好ましい。
　Ｌ００１は、膜表面での金属膜の形成を抑制できることから、各々独立して、
　О、Ｓ、または、
　フッ素原子で置換されていてもよい、
　メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ペンチレン基、ｎ－へキシレン基、ｎ－ヘプチレン基、ｎ－オクチレン基、およびこれらのアルキレン基と構造異性の関係にあるアルキレン基、ならびにシクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、１－メチルペンチレン基、シクロペンチルメチル基、シクロへキシレン基、およびアダマンタンジイル基、または、
　環を形成していてもよいビニレン基であることがより好ましい。
　　ａ００１は各々独立して、０から３が好ましく、０から２がより好ましい。
　　ａ００２は各々独立して、１から３が好ましく、１から２がより好ましい。
　式（００１）で表される構造の炭素数としては、１以上３６以下であることが好ましく、１以上３０以下であることがより好ましく、１以上２４以下であることがさらに好ましく、１以上２０以下であることがさらにより好ましく、１以上１６以下であることが特に好ましい。２以上１６以下であることが特により好ましい。
（Ｒｆの具体的な例示）
　Ｒｆについて、例えば下記（ＡＡＡ１）～（ＡＡＡ１２６）に示す構造をとることができる。
　なお、下記の構造に使用しているマーク「＊」は結合部位を表す。
（Ｌ１、Ｌ２）
　Ｌ１、Ｌ２は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ２である；
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基は、ベンゼン、または複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基は、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものがより好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基は、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基は、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものがより好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基を与える化合物は、メタン、エタン、プロパン、ブタン、アダマンタン、ジアマンタン、ノルボルネン、またはシクロヘキサンであることがより好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基は、ヘテロ原子はＮ、О、またはＳであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造がより好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物は、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
（Ｒ１、Ｒ２）
　Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)である；
　Ｒ１、Ｒ２で表される炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基は、ベンゼン、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２で表される炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基を与える化合物は、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものがより好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２で表される炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基は、ヘテロ原子はＮ、О、またはＳであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２で表される炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基を与える化合物は、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものがより好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２で表される直鎖、分岐、環状の脂肪族炭化水素基を与える化合物は、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、アダマンタン、ジアマンタン、ノルボルネン、またはシクロヘキサン、ならびに、これらの基にエタン、プロパン、ブタン、およびペンタンからなる群より選ばれる１つ以上が置換、もしくは環化したものがより好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２で表される環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基は、ヘテロ原子はＮ、О、またはＳであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２で表される環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物は、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｒ１、Ｒ２が、置換の１価芳香族炭化水素基、置換の１価ヘテロ芳香族基、または置換の１価脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、
　　式（００１）で表される構造、
　　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒｆの少なくとも一つは、式（Ａ１）に直接結合することが好ましい。つまり、式（Ａ１）において、少なくとも１つの式（Ａ０１）のｕが０であることが好ましい。
　Ｒｆの少なくとも一つは、式（Ｂ１）に直接結合することが好ましい。つまり、式（Ｂ１）において、少なくとも１つの式（Ａ０１）のｕが０であることが好ましい。
　式（Ａ１）としては、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジンが好ましく、式（Ｂ１）としてはチアゾールが好ましい。
（好ましい態様１）
　式（Ａ１）または式（Ｂ１）のより好ましい形態としては、式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、（１０５）で表される。
　式中、
　　Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、およびＸ１０５は、各々独立して、式（１１１）で表される。
　式中、
　　Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５は、各々独立して、式（１２１）で表される。
　Ｌ１１１、Ｌ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ１１１を表す；
　Ｒｆ１１１は、各々独立して、式（００１）で表される構造を表す；
　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｒ１０１は、１から５の整数を表し、ｒ’１０１は、０から４の整数を表す。ただし、（ｒ１０１＋ｒ’１０１）は５以下の整数である。
　ｓ１０１は各々独立して、１から４の整数を表し、ｓ’１０１は各々独立して、０から３の整数を表す。ただし、（ｓ１０１＋ｓ’１０１）は４以下の整数である。
　ｔ１０１は各々独立して、１から３の整数を表し、ｔ’ １０１は、０から２の整数を表す。ただし、（ｔ１０１＋ｔ’１０１）は３以下の整数である。
　ｕ１１１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｖ１１１は各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｐ１２１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｑ１２１は各々独立して、１から６の整数を表す。
　ただし、少なくとも一つのＸ１０１、少なくとも一つのＸ１０２、少なくとも一つのＸ１０３、少なくとも一つのＸ１０４、および少なくとも一つのＸ１０５において、ｕ１１１は各々独立して、０である。
　以下、式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、（１０５）、（１１１）、（１２１）で表される化合物について詳細に説明する。［Ｘ１０１～Ｘ１０５、Ｒ１０１～Ｒ１０５について］
　式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、（１０５）において、Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、およびＸ１０５は環を形成する窒素原子、および硫黄原子には結合しない。すなわち、Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、およびＸ１０５は環を形成する炭素原子に結合する。Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、およびＸ１０５が結合しない炭素原子にはＲ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５が結合することができる。なお、Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、Ｘ１０５、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５が結合する位置に関しては特に限定しないが、１つの炭素原子につき、Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、Ｘ１０５、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５のうち１つが結合し、２つ以上は結合しない。
　ｒ１０１は、１から５の整数を表し、ｒ’１０１は、０から４の整数を表す。ただし、（ｒ１０１＋ｒ’１０１）は５以下の整数である。
　ｒ１０１は１から４の整数が好ましく、１から３の整数がより好ましく、１もしくは２がさらに好ましい。
　ｒ’１０１は１から４の整数が好ましく、１から３の整数がより好ましく、１もしくは２がさらに好ましい。
　ｓ１０１は各々独立して、１から４の整数を表し、ｓ’１０１は各々独立して、０から３の整数を表す。ただし、（ｓ１０１＋ｓ’１０１）は４以下の整数である。
　ｓ１０１は１から３の整数が好ましく、１もしくは２がより好ましい。
　ｓ’１０１は１から３の整数が好ましく、１もしくは２がより好ましい。
　ｔ１０１は各々独立して、１から３の整数を表し、ｔ’１０１は、０から２の整数を表す。ただし、（ｔ１０１＋ｔ’１０１）は３以下の整数である。
　式（１０４）の場合、ｔ１０１は２または３が好ましく、２がより好ましい。
　式（１０４）の場合、ｔ’１０１は１または２が好ましく、１がより好ましい。
　式（１０５）の場合、ｔ１０１は１または２が好ましく、１がより好ましい。
　式（１０５）の場合、ｔ’１０１は１または２が好ましく、２がより好ましい。
［式（１１１）について］
　　Ｘ１０１～Ｘ１０５は式（１１１）で表される。
　Ｒｆ１１１は、各々独立して、式（００１）で表される構造を表す；
　Ｌ１１１、は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ１１１を表す；
　ｕ１１１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｖ１１１は各々独立して、１から６の整数を表す。
　式（１１１）について、特に限定しないが、例えば下記（ＡＡ１）～（ＡＡ２１）に示す構造をとることができる。
　なお、下記の構造に使用しているマーク「＊」は結合部位を表す。
［Ｒｆ１１１について］
　Ｒｆ１１１は、式（００１）で表される構造を表す。
　ｖ１１１は各々独立して、１から６の整数を表す。ｖ１１１は１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましく、１または２がさらにより好ましい。
［Ｌ１１１について］
　Ｌ１１１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは直鎖、分岐、環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ１１１を表す；
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基は、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｌ１、Ｌ２で表される環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１１１で表される炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであることがより好ましい。
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基を与える化合物は、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであることがより好ましい。
　直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基を与える化合物は、アダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、またはメタンであることがより好ましい。
　環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物は、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、またはメタンであり
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、または１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、フェナントレン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、または１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらにより好ましい。
　Ｌ１１１は、各々独立して、
単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基
О、またはＳであることが好ましく、
　Ｌ１１１は、各々独立して、
単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基
О、またはＳであることがより好ましい。
　Ｌ１１１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換の環状のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
　　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
　（ｉ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、
　（ｉｉ）前記（ｉ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
　（ｉｉｉ）フッ素原子、式（００１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
　（ｉ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、
　（ｉｉ’）前記（ｉ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
　（ｉｉｉ’）フッ素原子、式（００１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、式（００１）で表される構造、またはフッ素原子であることがさらに好ましい。
　ｕ１１１は各々独立して、０から１２の整数を表す。ｕ１１１は０から１０の整数が好ましく、０から８の整数がより好ましく、０から６の整数がさらに好ましく、０から４の整数がさらに好ましい。
　ただし、少なくとも一つのＸ１０１、少なくとも一つのＸ１０２、少なくとも一つのＸ１０３、少なくとも一つのＸ１０４、および少なくとも一つのＸ１０５において、ｕ１１１は各々独立して、０である。
［Ｌ１１１の具体的な例示］
　Ｌ１１１について、例えば下記（ＡＡＢ１）～（ＡＡＢ８０３）に示す構造をとることができる。なお、下記の構造に使用しているマーク「＊」は結合部位を表す。
　Ｆはフッ素原子、ｖは０から５の整数、ｗは０から４の整数、ｘは０から３の整数、ｙは０から２の整数、ｚは０から１の整数を表す。
［Ｒ１１１について］
　Ｒ１１１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基
置換されていてもよい炭素数１～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　Ｒ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｒ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｒ１１１で表される環状のヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｒ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基を与える化合物がアダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、メタンであり、
環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｒ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、メタンであり、
　環状のヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｒ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
環状のヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらにより好ましい。
　Ｒ１１１が置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
水素原子、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒ１１１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒ１１１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｒ１１１の置換基が、各々独立して、
（ｖｉｉ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖｉｉｉ）前記（ｖｉｉ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
（ｉｘ）フッ素原子、式（００１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｒ１１１の置換基が、各々独立して、
（ｖｉｉ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖｉｉｉ’）前記（ｖｉｉ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
（ｉｘ’）フッ素原子、式（００１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｒ１１１の置換基が、各々独立して、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、フッ素原子、または式（００１）で表される構造であることが好ましい。
［Ｒ１１１の具体的な例示］
　Ｒ１１１について、例えば、前記（ＡＡＡ１）～（AAA１２６）に示す構造、および下記（ＡＡＣ１）～（ＡＡＣ４５０）に示す構造をとることができる。なお、下記の構造に使用しているマーク「＊」は結合部位を表す。
　Ｆはフッ素原子、ｖは０から５の整数、ｗは０から４の整数、ｘは０から３の整数、ｙは０から２の整数、ｚは０から１の整数を表す。
［式（１２１）について］
　Ｒ１０１～Ｒ１０５は式（１２１）で表される。
　Ｌ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ１１１を表す；
　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基
置換されていてもよい炭素数１～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｐ１２１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｑ１２１は各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｐ１２１は各々独立して、０から１２の整数を表す。ｐ１２１は１から１２の整数が好ましく、１から１１の整数がより好ましく、１から１０の整数がさらに好ましく、２から１０の整数がさらにより好ましい。
　ｑ１２１は各々独立して、１から６の整数を表す。ｐ１２１は２から６の整数が好ましく、３から６の整数がより好ましく、３から５の整数がさらに好ましい。
　Ｒ１０１～Ｒ１０５は、特に限定しないが、例えば下記（ＡＢ１）～（ＡＢ３１）に示す構造をとることができる。
　なお、下記の構造に使用しているマーク「＊」は結合部位である。
［Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５の好ましい形態について］
　Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５は、各々独立して、式（１３１）で表される構造であることが好ましい。
　Ｌ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、またはＮＲ１１１を表す；
　Ｌ１３１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓを表す；
　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
置換されていてもよい炭素数１～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　ｐ１３１は各々独立して、０から１１の整数を表す。
　ｑ１３１は各々独立して、１から６の整数を表す。
［Ｌ１２１について］
　Ｌ１２１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、またはＮＲ１１１を表す。
　Ｌ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｌ１２１で表される環状のヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　環状の２から４価脂肪族炭化水素基を与える化合物がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｌ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
　環状の２から４価脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、または１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｌ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、フェナントレン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
　環状の２から４価脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、または１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらにより好ましい。
　Ｌ１２１は、各々独立して、
単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基
О、またはＳであることが好ましい。
　Ｌ１２１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ１２１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ１２１の置換基が、各々独立して、
メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｌ１２１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ）前記（ｉｖ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
（ｖｉ）フッ素原子、または式（００１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｌ１２１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ’）前記（ｉｖ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
（ｖｉ’）フッ素原子、または、式（００１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｌ１２１の置換基が、各々独立して、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、またはフッ素原子であることがさらに好ましい。
［Ｌ１２１の具体的な例示］
　Ｌ１２１は、例えば、前記（ＡＡＢ１）～（ＡＡＢ８０３）に示す構造をとることができる。
［Ｌ１３１について］
　Ｌ１３１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓを表す；
　Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｌ１３１で表される環状のヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　環状の２から４価脂肪族炭化水素基を与える化合物がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、またはコラニュレンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｌ１３１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または、環状のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、
メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ）前記（ｉｖ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
（ｖｉ）フッ素原子、または式（００１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ’）前記（ｉｖ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、または
（ｖｉ’）フッ素原子、または式（００１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、フッ素原子、または式（００１）で表される構造であることがさらに好ましい。
［Ｌ１３１の具体的な例示］
　Ｌ１３１は、例えば、前記（ＡＡＢ１）～（ＡＡＢ８０２）に示す構造をとることができる。
［Ｒ１２１について］
　Ｒ１２１は、は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
　Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｒ１２１で表される環状のヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基を与える化合物が、アダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、メタンであり、
環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、メタンであり、
　環状のヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり
　環状のヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらにより好ましい。
　Ｒ１２１が置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（００１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
（ｖｉｉ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖｉｉｉ）前記（ｖｉｉ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｉｘ）フッ素原子、式（００１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
（ｖｉｉ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖｉｉｉ’）前記（ｖｉｉ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｉｘ’）フッ素原子、式（００１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、フッ素原子、または式（００１）で表される構造であることが好ましい。
　少なくとも一つのＲ１１１、もしくはＲ１２１は、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、フッ素原子、式（００１）で表される構造からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換された基であることが好ましい。
［Ｒ１２１の具体的な例示］
　Ｒ１２１について、例えば前記（ＡＡＡ１）～（ＡＡＡ１２６）、（ＡＡＣ１）～（ＡＡＣ４５０）に示す構造をとることができる。
　金属パターニング材料は分子に少なくとも１つの式（００１）で表される構造を有することが好ましい。金属パターニング材料は分子に、各々独立した２つ以上の式（００１）で表される構造を有することがより好ましく、各々独立した３つ以上の式（００１）で表される構造を有することがさらに好ましく、各々独立した４つ以上の式（００１）で表される構造を有することがさらにより好ましい。
金属パターニング材料が、式（Ａ１）、もしくは式（B１）で表されるとき、ヘテロ芳香族基、環状の脂肪族炭化水素基、もしくはヘテロ脂肪族炭化水素基からなる群から選ばれる基を、分子内に少なくとも２つ以上有することが好ましい。３つ以上有することがより好ましく、４つ以上有することがさらに好ましい。
金属パターニング材料が、式（Ａ１）で表される構造が好ましい。
金属パターニング材料は、式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）で表される構造が好ましい。式（１０１）、（１０２）、（１０３）、もしくは（１０４）で表される構造がより好ましく、式（１０１）、（１０２）、もしくは（１０４）で表される構造がさらに好ましく、式（１０１）、もしくは式（１０４）で表される構造がさらにより好ましく、式（１０４）で表される構造が特に好ましい。
　金属パターニング材料が、式（１０１）、式（１０２）、式（１０３）、式（１０４）もしくは式（１０５）で表される構造のとき、ヘテロ芳香族基、環状の脂肪族炭化水素基、もしくはヘテロ脂肪族炭化水素基からなる群から選ばれる基を、分子内に少なくとも２つ以上有することが好ましい。３つ以上有することがより好ましく、４つ以上有することがさらに好ましい。
［複素環化合物］
　本開示の一態様に係る複素環化合物は、式（３０１）、または（３０２）で表される。
　Ｌ３０１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、またはＮＲ３０１を表す；
　Ｌ３０３は、各々独立して、
　　フッ素で置換されていても良い炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　О、またはＳを表す；
　Ｒｆ３０１は、各々独立して、
　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数２以上の部位を表す；
　Ｒ３０１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　または、フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上のフルオロアルキル構造を表す；
　Ｘ３０１は、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、またはOを表す；
　ｇｇは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｈｈは各々独立して、０から１２の整数を表す。
　ｉｉは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｊｊは各々独立して、０から６の整数を表す。
　ｋｋは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｍｍは各々独立して、１から６の整数を表す。
　ｎｎは各々独立して、１から６の整数を表す。
　　式（３０１）において、Ｌ３０１がＮＲ３０１であり、前記Ｒ３０１が置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基である時、各々独立して、フッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位によって置換されている。
　　Ｘ３０１がパラフェニレン基かつｎｎが１である時、パラフェニレン基はフッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含んでよい炭素数１以上の１価の置換基によって置換される。
［Ｒｆ３０１について］
　Ｒｆ３０１は、各々独立して、フッ素原子を３つ以上含む炭素数２以上の部位を表す。
　Ｒｆ３０１は、炭素原子数に対するフッ素原子数の割合が５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、７０％以上であることがさらに好ましく、８０％以上であることがさらにより好ましい。
　Ｒｆ３０１の分子構造は特に限定されず、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。
　ｉｉは各々独立して、１から６の整数を表す。ｉｉは１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましく、１もしくは２がさらにより好ましい。
　Ｒｆ３０１は下記の式（３１１）で表される構造が好ましい。
式中、
　Ｒｆ３１１は、各々独立して、
　　フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、または環状の脂肪族炭化水素基を表す；
　Ｌ３１１は、各々独立して、
　　О、Ｓ、もしくは、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２価脂肪族炭化水素基、または、
　　環を形成していてもよいビニレン基を表す；
　ａ３１１は、各々独立して、０から４の整数を表す；
　ａ３１２は、各々独立して、１から４の整数を表す；
　Ｒｆ３１１は、各々独立して、構造を形成している炭素原子のうち、フッ素原子と直接結合している炭素原子数の割合が３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましく、６０％以上であることがさらにより好ましく、７０％以上であることが特に好ましい。
　Ｒｆ３１１は、各々独立して、置換されていてもよい、
メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基、ならびにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１－メチルシクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、およびアダマンチル基であることがより好ましい。
　Ｌ３１１は、膜表面での金属膜の形成を抑制できることから、各々独立して、
　О、Ｓ、もしくは、
　フッ素原子で置換されていてもよい、
　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基、ならびにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１－メチルシクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、およびアダマンチル基、または、
　環を形成していてもよいビニレン基であることがより好ましい。
　　ａ３１１は各々独立して、０から３が好ましく、０から２がより好ましい。
　　ａ３１２は各々独立して、１から３が好ましく、１から２がより好ましい。
式（３１１）で表される部位の炭素数は、１以上３６以下であることが好ましく、１以上３０以下であることがより好ましく、１以上２４以下であることがさらに好ましく、１以上２０以下であることがさらにより好ましく、１以上１６以下であることが特に好ましい。
　Ｒｆ３０１の炭素数は、２以上である。Ｒｆ３０１の炭素数は、２以上３６以下であることが好ましく、２以上３０以下であることがより好ましく、２以上２４以下であることがさらに好ましく、２以上２０以下であることがさらにより好ましく、２以上１６以下であることが特に好ましい。
（Ｒｆ３０１の具体的な例示）
　Ｒｆ３０１について、例えば下記（ＡＡＡ１）～（AAA１２６）に示す構造をとることができる。
　なお、下記の構造に使用しているマーク「＊」は結合部位を表す。
［Ｌ３０３について］
　Ｌ３０３は、各々独立して、
　　フッ素で置換されていても良い炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　ОまたはＳを表す。
　Ｌ３０３は、膜表面での金属膜の形成を抑制できることから、各々独立して、
　О、Ｓ、もしくは、
　フッ素原子で置換されていてもよい、
　メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、およびこれらのアルキル基と構造異性の関係にあるアルキル基、ならびにシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１－メチルシクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシル基、およびアダマンチル基であることがより好ましい。
　ｈｈは各々独立して、０から１２の整数を表す。ｈｈは０から１０の整数、０から８の整数、０から６の整数、０から４の整数が好ましく、０から２の整数がより好ましい。
［Ｌ３０１について］
　Ｌ３０１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
　　О、Ｓ、またはＮＲ３０１を表す。
　Ｌ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｌ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｌ３０１で表される環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｌ３０１で表される単環、連結、または縮環の芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　Ｌ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　Ｌ３０１で表される直鎖、分岐、環状の脂肪族炭化水素基を与える化合物が、メタン、エタン、プロパン、ブタン、アダマンタン、ジアマンタン、ノルボルネン、またはシクロヘキサンであり、
　Ｌ３０１で表される環状のヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｌ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、またはコラニュレンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｌ３０１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または、環状のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
フッ素原子、重水素原子、式（３１１）で表される構造、
または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ３０１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（３１１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｌ３０１の置換基が、各々独立して、
メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（３１１）で表される構造、
　または、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｌ３０１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ）前記（ｉｖ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｖｉ）フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｌ３０１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ’）前記（ｉｖ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｖｉ’）フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｌ３０１の置換基が、各々独立して、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、式（３１１）で表される構造、またはフッ素原子であることがさらに好ましい。
［Ｌ３０１の具体的な例示］
　Ｌ３０１は、例えば、前記（ＡＡＢ１）～（ＡＡＢ８０３）に示す構造をとることができる。
［Ｒ３０１について］
　Ｒ３０１は、各々独立して、
　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価脂肪族炭化水素基、
　　または、フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上のフルオロアルキル構造を表す。
　Ｒ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｒ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｒ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　環状の１価脂肪族炭化水素基を与える化合物がアダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサンであることがより好ましい。
　Ｒ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサンであることがさらに好ましい。
　Ｒ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基がフェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、またはトリプチセンであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
　環状の脂肪族炭化水素基がアダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであることがさらに好ましい。
　Ｒ３０１で表される、フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上のフルオロアルキル構造としては、式（３１１）で表される構造であることが好ましい。
　Ｒ３０１で表される、フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上のフルオロアルキル構造の炭素数は、１以上３６以下であることが好ましく、１以上３０以下であることがより好ましく、１以上２４以下であることがさらに好ましく、１以上２０以下であることがさらにより好ましく、１以上１６以下であることが特に好ましい。
　Ｒ３０１が置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、または置換の脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
水素原子、フッ素原子、重水素原子、式（３１１）で表される構造、
もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒ３０１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（３１１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｒ３０１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（３１１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｒ３０１の置換基が、各々独立して、
（ｖｉｉ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖｉｉｉ）前記（ｖｉｉ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｉｘ）フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｒ３０１の置換基が、各々独立して、
（ｖｉｉ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖｉｉｉ’）前記（ｖｉｉ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｉｘ’）フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｒ３０１の置換基が、各々独立して、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、フッ素原子、または式（３１１）で表される構造であることが好ましい。
［Ｒ３０１の具体的な例示］
　Ｒ３０１について、例えば前記（ＡＡＡ１）～（AAA１２６）、（ＡＡＣ１）～（ＡＡＣ４５０）に示す構造をとることができる。
［Ｘ３０１について］
　Ｘ３０１は、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
またはOを表す。
Ｘ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造が好ましい。
　Ｘ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらや複数のベンゼン環が縮合した構造が好ましい。
　Ｘ３０１で表される環状のヘテロ脂肪族炭化水素基が、ヘテロ原子がＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、またはそれらが縮環した構造が好ましい。
　Ｘ３０１でで表される単環、連結、または縮環の芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、およびコラニュレン、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、チアジアゾール、チアントレン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾ－１,４－ジオキシン、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、およびベンゾチアゾール、ならびに、これらの基にベンゼン、ナフタレン、およびフェナントレンからなる群より選ばれる１つ以上が縮環したものであり、
　環状の脂肪族炭化水素基を与える化合物が、アダマンタン、ジアマンタン、ノルボルネン、またはシクロヘキサンであり、
　環状のヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがより好ましい。
　Ｘ３０１で表される単環、連結、もしくは縮環の芳香族炭化水素基を与える化合物が、ベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、ジベンゾクリセン、トリプチセン、またはコラニュレンであり、
単環、連結、もしくは縮環のヘテロ芳香族基を与える化合物が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン、２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，５－ベンゾジアゼピン、またはベンゾチアゾールであり、
環状の脂肪族炭化水素基を与える化合物が、アダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基を与える化合物が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンであることがさらに好ましい。
　Ｘ３０１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の環状脂肪族炭化水素基、または、置換の環状ヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
フッ素原子、重水素原子、式（３１１）で表される構造、
もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｘ３０１の置換基が、各々独立して、
　メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、インドリル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、式（３１１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることが好ましい。
　Ｘ３０１の置換基が、各々独立して、
メチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、フッ素原子、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、チアゾリル基、式（３１１）で表される構造、
　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されていることがより好ましい。
　Ｘ３０１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ）メチル基、メトキシ基、炭素数２～１０のアルキル基、炭素数２～１０のアルコキシ基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ベンゾフラニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ）前記（ｉｖ）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｖｉ）フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｘ３０１の置換基が、各々独立して、
（ｉｖ’）メチル基、エチル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ気、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、またはチアゾリル基、
（ｖ’）前記（ｉｖ’）で示される基が、フッ素原子、炭素数１～６のパーフルオロアルキル基、炭素数１～６のパーフルオロアルコキシ基からなる群より選ばれる１種以上の基で置換された基、もしくは
（ｖｉ’）フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらにより好ましい。
　Ｘ３０１の置換基が、各々独立して、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルキル基、炭素数２～１０であり３つ以上のフッ素で置換されたアルコキシ基、式（３１１）で表される構造、またはフッ素原子であることがさらに好ましい。
　　Ｘ３０１について好ましくは、Ｘ３０１がフェニレン基かつｎｎが１である時、フェニレン基はフッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含んでよい炭素数１以上の１価の置換基によって置換される。
　　Ｘ３０１についてより好ましくは、Ｘ３０１がナフチレン基かつｎｎが１である時、フェニレン基はフッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含んでよい炭素数１以上の１価の置換基によって置換される。
　　Ｘ３０１が、置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２価芳香族炭化水素基であり、かつｎｎが１である時、フッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位によって置換されている。この時、Ｘ３０１の置換基が、各々独立して、フッ素原子、式（３１１）で表される構造であることがさらに好ましい。
　Ｘ３０１が、置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２価芳香族炭化水素基を１つ以上含む時、少なくとも１つ以上のＸ３０１が、各々独立して、フッ素原子、式（３１１）で表される構造によって置換されていることが好ましい。
　Ｘ３０１が、置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２～４価芳香族炭化水素基である時、各々独立して、フッ素原子、式（３１１）で表される構造によって置換されていることが好ましい。
　Ｘ３０１は、　
置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
またはOであることが好ましい。
［Ｘ３０１の具体的な例示］
　Ｘ３０１は、例えば、前記（ＡＡＢ１）～（ＡＡＢ８０３）に示す構造をとることができる。
　ｇｇは各々独立して、１から６の整数を表す。ｇｇは各々独立して、１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましい。
　ｈｈは各々独立して、０から６の整数を表す。ｈｈは各々独立して、０から５の整数が好ましく、０から４の整数がより好ましく、０から３の整数がさらに好ましく、０から２の整数がさらにより好ましい。
　ｊｊは各々独立して、１から６の整数を表す。ｊｊは各々独立して、１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましく、１から２の整数がさらにより好ましい。
　ｋｋは各々独立して、１から６の整数を表す。ｋｋは各々独立して、１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましく、１から２の整数がさらにより好ましい。
　ｍｍは各々独立して、１から６の整数を表す。ｍｍは各々独立して、１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましい。
　ｎｎは各々独立して、１から６の整数を表す。ｎｎは各々独立して、１から５の整数が好ましく、１から４の整数がより好ましく、１から３の整数がさらに好ましく、１から２の整数がさらにより好ましい。
式（３０１）において、Ｌ３０１がＮＲ３０１であり、前記Ｒ３０１が置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基である時、各々独立して、フッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位によって置換されている。
式（３０１）において、Ｒ３０１が置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基である時、フッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位によって置換されていることが好ましい。

［金属パターニング用材料、複素環化合物の具体例］
　本開示の一態様にかかる金属パターニング用材料、および本開示の一態様にかかる複素環化合物について、以下に（Ｚ１）から（Ｚ５６３）の化合物を例示するが、本開示はこれらの化合物に限定されるものではない。
［金属パターニング用薄膜］
　本開示の一態様にかかる金属パターニング用薄膜は、金属パターニング用材料を含み、金属膜または金属積層膜をパターニングすることができる金属パターニング用薄膜であって、
　前記金属パターニング用材料は、
　　前記式（Ａ１）、（Ｂ１）、（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）である化合物を含み、
　前記金属膜または金属積層膜は、イッテルビウム、マグネシウム、銀、アルミニウム、および、マグネシウムと銀との合金からなる群より選択される少なくとも１つを含有する。
　金属パターニング用薄膜中に含まれる金属パターニング用材料は、前述の化合物を含む、前述の金属パターニング用材料と同じものが使用される。
　金属パターニング用薄膜の水接触角は、順に、９０°以上、９１°以上、９２°以上、９３°以上、９４°以上、９５°以上、９６°以上、９７°以上、９８°以上、９９°以上、１００°以上、であることがより一層好ましい。
［有機エレクトロルミネッセンス素子］
　本開示の一態様にかかる有機エレクトロルミネッセンス素子は、陰極を備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
　前記陰極は、
　　イッテルビウム、マグネシウム、銀、アルミニウム、および、マグネシウムと銀との合金からなる群より選択される少なくとも１つを含有し、かつ、
　　金属パターニング用材料でパターニングされてなり、
　　該金属パターニング用材料は、
　　前記式（Ａ１）、（Ｂ１）、（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）である化合物を含む。
　有機エレクトロルミネッセンス素子において、パターニングに用いられる金属パターニング用材料は、前述の化合物を含む、前述の金属パターニング用材料と同じものが使用される。
［金属パターンの形成方法］
　本開示の一態様にかかる金属パターンの形成方法は、
　上記した金属パターニング用材料を含む有機材料パターンを形成することと、
　前記有機材料パターンの形成領域および前記有機材料パターンの未形成領域に金属材料を付与して、該未形成領域に金属パターンを形成することと、を含む。
　金属パターニング用材料は、金属の付着を抑制したい箇所に成膜して使用する。ここで、金属材料の付着を抑制したい箇所が、有機材料パターンの形成領域に相当する。金属材料の付着を抑制したい箇所以外の箇所が、有機材料パターンの非形成領域に相当する。有機材料パターンの非形成領域が、金属材料の付着を促す領域であって、金属パターンを形成したい箇所である。
　有機材料パターンの形成方法（成膜方法）としては特に制限はなく、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ディップコート法、ダイコート法、バーコード法、オフセット法、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン法、オフセット法、フレキソ法、グラビア法、マイクロコンタクト法等の公知の方法を適用することができる。また、成膜後に室温よりも高い温度環境下で膜をアニールしてもよい。有機材料パターンの膜厚についても特に制限はない。
　また、金属パターニング用材料には、膜表面での金属膜の形成を抑制できる範囲で任意に他の有機分子材料や、ポリマーなどを加えてもよい。
　有機材料パターンを形成する下地は、金属であっても非金属であってもよく、例えば、有機膜、金属膜、酸化物膜、無機膜等が挙げられ、特に制限はない。また、基板の材質も特に制限はなく、ガラス、プラスチック、金属、セラミック、その他あらゆる材料を用いることができる。
　有機材料パターンを形成する下地が有機膜である時、例えば、トリス（８－キノリノラト）アルミニウム誘導体、イミダゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ホスホール誘導体、シロール誘導体、ホスフィンオキサイド誘導体等などを用いることができる。　
　金属パターニング用材料を用いて、金属パターンを形成する際の金属材料の種類としては、特に限定は無いが、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属または周期表第１３族金属等が好ましく、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウム、金、銀、白金、銅、鉄、パラジウム、モリブデン、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫、およびクロム、ならびに、これらの金属のうち１種以上を含む合金が挙げられる。合金の例としては、例えば、マグネシウム－銀合金、マグネシウム－インジウム合金、マグネシウム－アルミニウム合金、インジウム－銀合金、リチウム－アルミニウム合金、リチウム－マグネシウム合金、リチウム－インジウム合金、カルシウム－アルミニウム合金等が挙げられる。
　金属パターンの形成方法としては特に制限はなく、真空蒸着法、スパッタリング法等のドライプロセス；金属ナノインクを用いたインクジェット法等が挙げられる。また、金属パターンの膜厚についても特に制限はない。
　有機材料パターンの形成領域および有機材料パターンの未形成領域に金属材料を付与することで、瞬間的に双方の領域に金属材料を含む膜が形成されるが、有機材料パターンの形成領域は金属の付着が抑制されるため、自ずと有機材料パターンの未形成領域のみに金属パターンが形成される。
　金属パターンの形成方法のより具体的な方法としては、例えば、以下の１）～２）に示す方法が挙げられる。
１）上記した金属パターニング用材料をメタルマスク等を使用して、所望のパターンに蒸着成膜する。
２）その後、金属を蒸着することで、金属パターニング用材料が成膜されていない部分のみに電極が形成される。即ち、金属パターニング用材料の成膜パターンに対してネガ型の金属電極が形成される。
　なお、パターニングされた金属電極の面積や線幅は、金属パターニング用材料のパターニング形状で任意に調整することができる。
　金属をパターニングしたパターニング膜の上に保護膜を設けても良い。保護膜は、例えば、有機膜、酸化物膜、無機膜等が挙げられ、特に制限はない。
　保護膜が有機膜の時、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー（特にチオフェンオリゴマー）、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、カルバゾール化合物、スチリルアミン化合物、トリアジン誘導体、ピリミジン誘導体などを用いることができる。
保護膜が無機膜の時、例えば、窒化ケイ素、酸化ケイ素などを用いることができる。
　本開示の一態様にかかる金属パターニング用材料、および金属パターンの形成方法によれば、太陽電池、光センサー、イメージセンサー、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子、有機太陽電池、有機センサー、有機トランジスタ等の金属電極のパターニングや、回路基板上の金属配線を形成することができる。
　本開示の一態様にかかる金属パターニング用材料は、蒸着プロセスにも適用可能である。
　また、本開示の一態様にかかる金属パターニング用材料は、分子内に７つ以上のフッ素原子を有することで、膜表面への金属薄膜の形成が抑制される。
［電子機器］
　本開示の一態様にかかる電子機器は、上記した金属パターニング用材料を含む。上述したように、金属パターンを形成する際に、金属パターニング用材料を含む有機材料パターンが形成されるため、金属パターンと共に有機材料パターンが形成される。したがって、本開示の一態様にかかる電子機器は、金属パターンとともに、金属パターニング用材料を含む有機材料パターンを備える。
　電子機器としては、例えば、太陽電池、光センサー、イメージセンサー、有機ＥＬ素子、有機太陽電池、有機センサー、有機トランジスタ等が挙げられる。これらの電子機器は、金属電極のパターニング、または、回路基板上の金属配線等を備える。換言すると、金属電極のパターニング、または、回路基板上の金属配線を備える電子機器であれば、上述した金属パターンの形成方法を用いて、本態様にかかる電子機器を得ることができる。かかる電子機器は、高精度な金属パターンを有する。
［実施例］
　以下、本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されて解釈されるものではない。
　ＮＭＲ測定は以下の装置を用いて実施した。
［ＮＭＲ測定］
　　測定装置：ＪＥＯＬ社製　ＪＮＭ－ＥＣＺ４００Ｓ
　透過率測定は以下の装置を用いて実施した。
［透過率測定］
　　測定装置：日本分光社製　Ｖ－７５０
　　測定範囲：５５０～８００ｎｍ
実施例１　化合物（Ｚ１）の合成
　窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（３．３０ｇ）をテトラヒドロフラン（１２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－ヘプタノール（２５.０ｇ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。さらに、その懸濁液に塩化シアヌル（４．４ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（４０ｍｌ）を０℃で２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで冷却した後、反応液に水（２０ｍｌ）を加え析出した固体をろ取することで白色の目的物である化合物（Ｚ１）を得た（収量１４．４ｇ，収率５３．７％）。
１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＴＨＦ-ｄ８）；５．１７（ｔ，Ｊ＝１４．００，６Ｈ）
１９Ｆ－ＮＭＲ（３７６．４ＭＨｚ，ＴＨＦ-ｄ８）δ（ｐｐｍ）：－８０．３（ｍ，９Ｆ），－１１８．６（ｍ，６Ｆ），－１２１．２（ｍ，６Ｆ），－１２１．９（ｍ，６Ｆ），－１２２．２（ｍ，６Ｆ），－１２５．３（ｍ，６Ｆ）。
　実施例１’　（化合物（Ｚ１）の金属付着性評価）　
ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１００ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２　化合物（Ｚ１７４）の合成
　窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（０．７２ｇ）をテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に９Ｈ－カルバゾール（２.５ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（３０ｍｌ）を６０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。さらに、その懸濁液を塩化シアヌル（２．８ｇ）のテトラヒドロフラン溶液（４０ｍｌ）に０℃で２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した（懸濁液２－１）。
　窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（１．８ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－ヘプタノール（１３ｇ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した（懸濁液２－２）。
　懸濁液２-１に懸濁液２-２を０℃で２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。反応液に水（２０ｍｌ）を加え純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色の目的物である化合物（Ｚ１７４）を得た（収量３．５ｇ，収率２５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９４２
　実施例２’　（化合物（Ｚ１７４）の金属付着性評価）
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１７４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１７４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３　化合物（Ｚ１７７）の合成
　窒素雰囲気下、１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（１．００ｇ）とリン酸三カリウム（８．００ｇ）と１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２．９０ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ７０℃で２４時間攪拌した。室温まで冷却した後、反応液に水（１００ｍｌ）を加え析出した固体をろ取することで白色の目的物である化合物（Ｚ１７７）を得た（収量２．８７ｇ，収率８８．７％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２３６ 
　実施例３’　（化合物（Ｚ１７７）の金属付着性評価）
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１７７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、イッテルビウムを蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で１ｎｍ蒸着し、その後、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１５ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１７７）が蒸着されている部分に銀、およびマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４　化合物（Ｚ１８０）の合成
　窒素雰囲気下、１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（２．００ｇ）とリン酸三カリウム（８．００ｇ）と１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ-ヘキサデカフルオロ－１－ノナ―ル（４．４０ｇ）をテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）中に懸濁させ７０℃で４８時間攪拌した。室温まで冷却した後、反応液に水（１００ｍｌ）を加え析出した固体をろ取することで白色の目的物である化合物（Ｚ１８０）を得た（収量８．１５ｇ，収率７９．１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１９６４ 
　実施例４’　（化合物（Ｚ１８０）の金属付着性評価）
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１８０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、イッテルビウムとフッ化リチウム（１／１）を蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で１ｎｍ蒸着し、その後、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１２ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１８０）が蒸着されている部分に銀、マグネシウム、イッテルビウムおよびフッ化リチウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５　化合物（Ｚ１８５）の合成
　窒素雰囲気下、１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（１．００ｇ）とリン酸三カリウム（４．６０ｇ）と１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ヘキサノール（３．３０ｇ）をテトラヒドロフラン（６０ｍｌ）中に懸濁させ７０℃で９２時間攪拌した。室温まで冷却した後、反応液に水（１００ｍｌ）を加え析出した固体をろ取することで白色の目的物である化合物（Ｚ１８５）を得た（収量２．２４ｇ，収率６６．２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２９２ 
　実施例５’　（化合物（Ｚ１８５）の金属付着性評価）
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１８５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、フッ化リチウムを蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で１ｎｍ蒸着し、その後、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１２ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１８５）が蒸着されている部分にフッ化リチウム、銀、およびマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６　中間体（Ｓ１）の合成
　窒素雰囲気下、アダマンタンジアミン（１５．０ｍｍｏｌ）、１Ｈ,１Ｈ,２Ｈ,２Ｈ－ノナフルオロヘキシルヨージド（１２０．０ｍｍｏｌ）、リン酸三カリウム（６０．０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（５０ｍＬ）中に懸濁させ、８０℃で４８時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である中間体（Ｓ１）を得た（収率７５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：６５８
　実施例７　化合物（Ｚ１８９）の合成
　窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（７．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にＳ１（３．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。さらに、その懸濁液に塩化シアヌル（７．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２０ｍｌ）を０℃で２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にペンタフルオロプロパノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ１８９）を得た（収率３４％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１４０８
　実施例７’化合物（Ｚ１８９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１８９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、フッ化マグネシウムを蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で１ｎｍ蒸着し、その後、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１２ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１８９）が蒸着されている部分にフッ化マグネシウム、銀、およびマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８　化合物（Ｚ１９０）の合成
　窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（７．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にＮ, Ｎ’－ジメチル－１,３－アダマンタンジアミン（３．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。さらに、その懸濁液に塩化シアヌル（７．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２０ｍｌ）を０℃で２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ-ヘキサデカフルオロ－１－ノナ―ル（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ１９０）を得た（収率２８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１４０８
　実施例８’化合物（Ｚ１９０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ１９０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１２ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ１９０）が蒸着されている部分に銀、及びマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９　中間体（Ｓ２）の合成
　窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）とホモピペラジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。生成した白色固体をろ取し、水とアセトンで洗浄することで、白色固体の目的物である中間体（Ｓ２）を得た（収率８５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：３９４
　実施例１０　化合物（Ｚ２０４）の合成
窒素雰囲気下にて０℃に冷却した前記反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ2（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２０４）を得た（収率６０％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１９７８
　実施例１０’化合物（Ｚ２０４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２０４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、イッテルビウムとフッ化マグネシウム（１／１）を蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で２ｎｍ蒸着し、その後、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１５ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２０４）が蒸着されている部分にイッテルビウム、フッ化リチウム、銀、およびマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１１　化合物（Ｚ２０５）の合成
窒素雰囲気下にて０℃に冷却した前記反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ2（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２０５）を得た（収率７２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２５０
　実施例１１’化合物（Ｚ２０５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２０５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、銀とマグネシウム（１／９）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で２０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２０５）が蒸着されている部分に銀、およびマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１２　化合物（Ｚ２０６）の合成
窒素雰囲気下にて０℃に冷却した前記反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,７Ｈ－ドデカフルオロ－１－ヘプタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ2（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２０６）を得た（収率７８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１５７８
　実施例１２’化合物（Ｚ２０６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２０６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、イッテルビウムとフッ化マグネシウム（１／１）を蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で２ｎｍ蒸着し、その後、銀とマグネシウム（１／１）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１５ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２０６）が蒸着されている部分にイッテルビウム、フッ化リチウム、銀、およびマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１３　化合物（Ｚ２０７）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたジブロモアダマンタン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（３２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（３０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２０７）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２８６
　実施例１３’化合物（Ｚ２０７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２０７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銅を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で５ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２０７）が蒸着されている部分に銅は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１４　化合物（Ｚ２０８）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と５，６，７，８－テトラヒドロキノキサリン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ３を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ３（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２０８）を得た（収率６２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２８４
　実施例１４’化合物（Ｚ２０８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２０８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、金を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で７ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２０８）が蒸着されている部分に着んは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１５　化合物（Ｚ２０９）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と４，４’－ビピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ４を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ４（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２０９）を得た（収率６８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３１８
　実施例１５’化合物（Ｚ２０９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２０９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、アルミニウムを蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２０９）が蒸着されている部分にアルミニウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１６　化合物（Ｚ２１０）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２１．０ｍｍｏｌ）と２，４，６－トリメチルヘキサヒドロ－１，３，５－トリアジントリハイドレイト（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ５を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ５（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１０）を得た（収率１５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１８５４
　実施例１６’化合物（Ｚ２１０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１７　化合物（Ｚ２１１）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２８．０ｍｍｏｌ）と１，４，７，１０－テトラアザシクロドデカン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２８．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ６を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２６．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ６（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１１）を得た（収率１１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：３２７２
　実施例１７’化合物（Ｚ２１１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１８　化合物（Ｚ２１２）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２１．０ｍｍｏｌ）と１，５，９－トリアザシクロドデカン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ７を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ７（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１２）を得た（収率１５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１８９６
　実施例１８’化合物（Ｚ２１２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１９　化合物（Ｚ２１３）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２１．０ｍｍｏｌ）と３-ヒドロキシホモピペラジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ８を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（２０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ８（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１３）を得た（収率１３％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２９３３
　実施例１９’化合物（Ｚ２１３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２０　化合物（Ｚ２１４）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と３，３－ジフルオロ－ホモピペラジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ９を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ９（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１４）を得た（収率４２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２０１４
　実施例２０’化合物（Ｚ２１４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２１　化合物（Ｚ２１５）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－ピリドロ［３，４－ｂ］［１,４］ジアゼピン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１０を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１０（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１５）を得た（収率２６％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２０２７
　実施例２１’化合物（Ｚ２１５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、マグネシウムを蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１５）が蒸着されている部分にマグネシウムは成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２２　化合物（Ｚ２１６）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と２-トリフルオロメチル－ホモピペラジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１１を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１１（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１６）を得た（収率３５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２０４６
　実施例２２’化合物（Ｚ２１６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で３０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２３　化合物（Ｚ２１７）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と８－フルオロ－２，３，４，５－テトラヒドロ－１Ｈ－１，４－ベンゾジアゼピン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１２を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１２（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１７）を得た（収率５４％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２０４４
　実施例２３’化合物（Ｚ２１７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２４　化合物（Ｚ２１８）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２１．０ｍｍｏｌ）と１Ｈ－ピリド［２，３，ｅ］－１，４－ジアゼピン,２，３，４，５－テトラヒドロ－８－（トリフルオロメチル）－塩酸塩（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１３を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（２０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１３（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１８）を得た（収率９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：３０３６
　実施例２４’化合物（Ｚ２１８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２５ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２５　化合物（Ｚ２１９）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と２-［４-（トリフルオロメチル）フェニル］ピペラジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１４を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１４（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２１９）を得た（収率６７％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３８０
　実施例２５’化合物（Ｚ２１９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２１９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２１９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２６　化合物（Ｚ２２０）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と２，５－ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１５を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１５（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２０）を得た（収率７１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２６２
　実施例２６’化合物（Ｚ２２０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２７　化合物（Ｚ２２１）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と５，１０－ジヒドロ－フェナジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１６を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１６（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２１）を得た（収率１９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３３２
　実施例２７’化合物（Ｚ２２１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２８　化合物（Ｚ２２２）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２９．０ｍｍｏｌ）とデカヒドロピラジノ［２，３－ｂ］ピラジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２８．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１７を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２６．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１７（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２２）を得た（収率４％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２４４２
　実施例２８’化合物（Ｚ２２２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例２９　化合物（Ｚ２２３）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（２１．０ｍｍｏｌ）とアダマンタントリオール（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（２１．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１８を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１８（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２３）を得た（収率３１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１９０９
　実施例２９’化合物（Ｚ２２３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３０　化合物（Ｚ２２４）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）と１，２，３，５，６，７－ヘキサヒドロベンゾ［１，２－ｃ：４，５－ｃ’］ジピロール（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ１９を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ１９（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２４）を得た（収率４８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２０３８
　実施例３０’化合物（Ｚ２２４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３１　化合物（Ｚ２２５）の合成
窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）とオクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン（７．０ｍｍｏｌ）をＨ２Ｏ（５０ｍｌ）中で２５℃で１時間攪拌させ、塩化シアヌル（１４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に０℃で３０分かけて滴下した。滴下終了後、０℃のままで２時間攪拌した。室温に放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ２０を得た。続いて、窒素雰囲気下にて０℃に冷却した反応器の中に、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させたＳ２０（３．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で５時間攪拌した。純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２５）を得た（収率４９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２００４
　実施例３１’化合物（Ｚ２２５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３２　化合物（Ｚ２２６）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた１-ブロモアダマンタン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２６）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２０８
　実施例３２’化合物（Ｚ２２６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３３　化合物（Ｚ２２７）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた４-トリフルオロメチルブロモベンゼン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２７）を得た（収率３２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２２８
　実施例３３’化合物（Ｚ２２７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３４　化合物（Ｚ２２８）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた２-トリフルオロメチル－５－ブロモピリジン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２８）を得た（収率２７％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２４４
　実施例３４’化合物（Ｚ２２８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３５　化合物（Ｚ２２９）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた２-ブロモナフタレン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２２９）を得た（収率５７％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１１９２
　実施例３５’化合物（Ｚ２２９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２２９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２２９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３６　化合物（Ｚ２３０）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた４-ブロモビフェニル（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３０）を得た（収率３９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２４４
　実施例３６’化合物（Ｚ２３０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３７　化合物（Ｚ２３１）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた２-ブロモジベンゾフラン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３１）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２７２
　実施例３７’化合物（Ｚ２３１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３８　化合物（Ｚ２３２）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた３-ブロモ－９,９－ジメチル－９H－フルオレン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３２）を得た（収率１５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３２４
　実施例３８’化合物（Ｚ２３２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例３９　化合物（Ｚ２３３）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた１-ブロモ－３,４,５－トリフルオロフェニルベンゼン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３３）を得た（収率３８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２００
　実施例３９’化合物（Ｚ２３３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４０　化合物（Ｚ２３４）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた１-ブロモ－４-（９-フェナントリル）ベンゼン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ヘンエイコサフルオロ－１－ウンデカノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３４）を得た（収率４１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１８４４
　実施例４０’化合物（Ｚ２３４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４１　化合物（Ｚ２３５）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた２-ブロモジベンゾチオフェン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３５）を得た（収率３５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３０４
　実施例４１’化合物（Ｚ２３５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４２　化合物（Ｚ２３６）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた３-ブロモ－９,９－ジフェニル－９H－フルオレン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３６）を得た（収率２９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１５７２
　実施例４２’化合物（Ｚ２３６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４３　化合物（Ｚ２３７）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた３-ブロモ－９－（４-トリフルオロメチルフェニル）カルバゾール（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３７）を得た（収率２９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１５５８
　実施例４３’化合物（Ｚ２３７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４４　化合物（Ｚ２３８）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた４-ブロモジアマンタン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させたＳ２（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３８）を得た（収率５８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３２６
　実施例４４’化合物（Ｚ２３８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４５　化合物（Ｚ２３９）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた１-ブロモ－３,４,５－トリフルオロフェニルベンゼン（２１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（７．５ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２３９）を得た（収率１１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：８８２
　実施例４５’化合物（Ｚ２３９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２３９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２３９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４６　化合物（Ｚ２４０）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた１-ブロモ－３－フェニルアダマンタン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４０）を得た（収率４９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３６０
　実施例４６’化合物（Ｚ２４０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４７　化合物（Ｚ２４１）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１-（１Ｈ,１Ｈ,２Ｈ,２Ｈ-ノナフルオロヘキシル－１-アミノ）アダマンタン（１４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた１，４-ビス（４,６－ジクロロ－１,３,５－トリアジン－２－イル）ピペリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ヘプタフルオロ－１－ブタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４１）を得た（収率２５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１４３０
　実施例４７’化合物（Ｚ２４１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４８　化合物（Ｚ２４２）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた３，６-ジブロモ－９－（３，５-ジトリフルオロメチルフェニル）カルバゾール（１０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（５０．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４２）を得た（収率１８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１５２９
　実施例４８’化合物（Ｚ２４２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例４９　化合物（Ｚ２４３）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた２，８－ジブロモジベンゾフラン（１０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（５０．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４３）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３１８
　実施例４９’化合物（Ｚ２４３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５０　化合物（Ｚ２４４）の合成
窒素雰囲気下にて、マグネシウム（２２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させた溶液に、１,２ジブロモエタンを１滴加え、テトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解させた２，８－ジブロモジベンゾチオフェン（１０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に室温に戻して、テトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（５０．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４４）を得た（収率２５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３３４
　実施例５０’化合物（Ｚ２４４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５１　化合物（Ｚ２４５）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に３，５－ジ（４－ピペリジル）ピリジン（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（３２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に２，２，３，３，４，４，５，５，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１－ヘプタデカフルオロ－６－ウンデセン－１-オール（３０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４５）を得た（収率１８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２２９９
　実施例５１’化合物（Ｚ２４５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５２　化合物（Ｚ２４６）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（７．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に３－［９－（３，５－ジトリフルオロメチルフェニル）－４－ピレニル］－９Ｈ－カルバゾール（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（７．５ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ－ヘプタデカフルオロ－１－ノナノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４６）を得た（収率２１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１５５４
　実施例５２’化合物（Ｚ２４６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５３　化合物（Ｚ２４７）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（７．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に３－［９－（３，５－ジトリフルオロメチルフェニル）－４－ピレニル］－９Ｈ－カルバゾール（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（７．５ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４７）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２３２
　実施例５３’化合物（Ｚ２４７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５４　化合物（Ｚ２４８）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（７．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に２，７－ジ（４－トリフルオロメチルフェニル）－９Ｈ－カルバゾール（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（７．５ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４８）を得た（収率２３％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０３０
　実施例５４’化合物（Ｚ２４８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５５　化合物（Ｚ２４９）の合成
窒素雰囲気下、３，６－ジアミノ－９Ｈ－カルバゾール（１０．０ｍｍｏｌ）、パーフルオロトルエン（３０．０ｍｍｏｌ）、リン酸三カリウム（５０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、８０℃で６時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ２１を得た。続いて、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（２１．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にＳ２１（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（４８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２４９）を得た（収率２５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２３５４
　実施例５５’化合物（Ｚ２４９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２４９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２４９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５６　化合物（Ｚ２５０）の合成
窒素雰囲気下、３，６－ジアミノ－９Ｈ－カルバゾール（１０．０ｍｍｏｌ）、パーフルオロビフェニル（３０．０ｍｍｏｌ）、リン酸三カリウム（５０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、８０℃で６時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ２２を得た。続いて、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（２１．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にＳ２２（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（４８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２５０）を得た（収率２９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２５５０
　実施例５６’化合物（Ｚ２５０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５７　化合物（Ｚ２５１）の合成
窒素雰囲気下、３，６－ジアミノ－９Ｈ－カルバゾール（１０．０ｍｍｏｌ）、パーフルオロピリジン（３０．０ｍｍｏｌ）、リン酸三カリウム（５０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、８０℃で６時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ２３を得た。続いて、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（２１．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にＳ２３（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（４８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２５１）を得た（収率３５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２５５０
　実施例５７’化合物（Ｚ２５１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５８　化合物（Ｚ２５２）の合成
　窒素雰囲気下、３，６－ジブロモ－９Ｈ－カルバゾール（１０．０ｍｍｏｌ）、１－アミノアダマンタン（５０．０ｍｍｏｌ）、ナトリウムターシャリーブトキシド（３０．０ｍｍｏｌ）、４，５，－ビス（ジフェニルホスフィノ）－９，９－ジメチルキサンテン（０．２ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（０．１ｍｍｏｌ）及びо－キシレン（７０ｍｌ）を加え１４０℃で６時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、中間体Ｓ２４を得た。続いて、窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（２１．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液にＳ２４（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（２２ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（４８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２５２）を得た（収率３１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２１９０
　実施例５８’化合物（Ｚ２５２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例５９　化合物（Ｚ２５３）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（１５．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に２，２’－ジトリフルオロメチル－９Ｈ，９Ｈ’－３，３’－ジカルバゾール（７．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（１５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（３１．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（３０．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２５３）を得た（収率２８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：２０１８
　実施例５９’化合物（Ｚ２５３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６０’化合物（Ｚ２５４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６１’化合物（Ｚ２５５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６２’化合物（Ｚ２５６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６３’化合物（Ｚ２５７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６４’化合物（Ｚ２５８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６５’化合物（Ｚ２５９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２５９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２５９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６６’化合物（Ｚ２６０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６７’化合物（Ｚ２６１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６８’化合物（Ｚ２６２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例６９’化合物（Ｚ２６３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７０　化合物（Ｚ２６４）の合成
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（１６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１，３，５－シクロヘキサントリオール（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。次にテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解させた塩化シアヌル（１６．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で３時間攪拌した。次に、０℃に冷却した前記反応器の中に、窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（３３．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（３２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して２時間攪拌した反応溶液を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２６４）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１８５７
　実施例７０’化合物（Ｚ２６４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７１　化合物（Ｚ２６５）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ２６（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２６５）を得た（収率８１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１１６９
　実施例７１’化合物（Ｚ２６５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７２　化合物（Ｚ２６６）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ２７（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２６６）を得た（収率６９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７６８
　実施例７２’化合物（Ｚ２６６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７３　化合物（Ｚ２６７）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ２８（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２６７）を得た（収率７５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７３９
　実施例７３’化合物（Ｚ２６７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７４　化合物（Ｚ２６８）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ－ヘプタデカフルオロ－１－ノナノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ２９（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２６８）を得た（収率６９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７３９
　実施例７４’化合物（Ｚ２６８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７５　化合物（Ｚ２６９）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（２４．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３０（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２６９）を得た（収率４１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２３４
　実施例７５’化合物（Ｚ２６９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２６９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２６９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７６　化合物（Ｚ２７０）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３１（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７０）を得た（収率６８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９３０
　実施例７６’化合物（Ｚ２７０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７７　化合物（Ｚ２７１）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３２（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７１）を得た（収率８８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７７９
　実施例７７’化合物（Ｚ２７１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７８　化合物（Ｚ２７２）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（３６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（３３．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３３（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７２）を得た（収率３５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１８０３
　実施例７８’化合物（Ｚ２７２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例７９　化合物（Ｚ２７３）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３４（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７３）を得た（収率６９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０２９
　実施例７９’化合物（Ｚ２７３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８０　化合物（Ｚ２７４）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３５（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７４）を得た（収率７１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：８１１
　実施例８０’化合物（Ｚ２７４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８１　化合物（Ｚ２７５）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,７Ｈ－ドデカフルオロ－１－ヘプタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３６（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７５）を得た（収率８０％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９５１
　実施例８１’化合物（Ｚ２７５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８２　化合物（Ｚ２７６）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（２４．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３７（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７６）を得た（収率４９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１３２８
　実施例８２’化合物（Ｚ２７６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８３　化合物（Ｚ２７７）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（４８．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（４４．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３８（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７７）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：８１１
　実施例８３’化合物（Ｚ２７７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８４　化合物（Ｚ２７８）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-トリデカフルオロ－１－へプタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ３９（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７８）を得た（収率４８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０２９
　実施例８４’化合物（Ｚ２７８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８５　化合物（Ｚ２７９）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ－ヘプタデカフルオロ－１－ノナノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ４０（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２７９）を得た（収率４９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２３５
　実施例８５’化合物（Ｚ２７９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２７９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２７９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８６　化合物（Ｚ２８０）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ－ヘプタデカフルオロ－１－ノナノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ４１（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８０）を得た（収率６１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２０６
　実施例８６’化合物（Ｚ２８０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８７　化合物（Ｚ２８１）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,７Ｈ－ドデカフルオロ－１－ヘプタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ４２（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８１）を得た（収率５８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９８３
　実施例８７’化合物（Ｚ２８１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８８　化合物（Ｚ２８２）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（１２．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,７Ｈ－ドデカフルオロ－１－ヘプタノール（１１．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ４３（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８２）を得た（収率６９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０９４
　実施例８８’化合物（Ｚ２８２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例８９　化合物（Ｚ２８３）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（２４．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ-ノナフルオロ－１－ペンタノール（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ４４（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８３）を得た（収率４９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１２５９
　実施例８９’化合物（Ｚ２８３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９０　化合物（Ｚ２８４）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（６．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に２，２，３，３，４，４，５，５，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１－ヘプタデカフルオロ－６－ウンデセン－１-オール（５．５ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ４５（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８４）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９３９
　実施例９０’化合物（Ｚ２８４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９１　化合物（Ｚ２８５）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ４６（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（１２ｍｍｏｌ）、銅粉末（２０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８５）を得た（収率５１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：６２７
　実施例９１’化合物（Ｚ２８５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９２　化合物（Ｚ２８６）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ４７（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（１２ｍｍｏｌ）、銅粉末（２０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８６）を得た（収率６８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：６６６
　実施例９２’化合物（Ｚ２８６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９３　化合物（Ｚ２８７）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ４８（４．０ｍｍｏｌ）、ノナフルオロブチルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８７）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７２４
　実施例９３’化合物（Ｚ２８７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９４　化合物（Ｚ２８８）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ４９（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（１２ｍｍｏｌ）、銅粉末（２０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８８）を得た（収率６９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：６２９
　実施例９４’化合物（Ｚ２８８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９５　化合物（Ｚ２８９）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５０（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２８９）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９４４
　実施例９５’化合物（Ｚ２８９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２８９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２８９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９６　化合物（Ｚ２９０）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５１（４．０ｍｍｏｌ）、ヘプタデカフルオロオクチルヨージド（１２ｍｍｏｌ）、銅粉末（２０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９０）を得た（収率５９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７８６
　実施例９６’化合物（Ｚ２９０）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９０）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９０）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９７　化合物（Ｚ２９１）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５２（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（１２ｍｍｏｌ）、銅粉末（２０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９１）を得た（収率３１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：７８６
　実施例９７’化合物（Ｚ２９１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９８　化合物（Ｚ２９２）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５３（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９２）を得た（収率５９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９８６
　実施例９８’化合物（Ｚ２９２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例９９　化合物（Ｚ２９３）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５４（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（３６ｍｍｏｌ）、銅粉末（６０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９３）を得た（収率１５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１１７９
　実施例９９’化合物（Ｚ２９３）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９３）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９３）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１００　化合物（Ｚ２９４）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５５（４．０ｍｍｏｌ）、ヘプタデカフルオロオクチルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９４）を得た（収率６９％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０６８
　実施例１００’化合物（Ｚ２９４）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９４）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９４）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０１　化合物（Ｚ２９５）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５６（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（６０ｍｍｏｌ）、銅粉末（１２０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９５）を得た（収率１２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１８２２
　実施例１０１’化合物（Ｚ２９５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０２　化合物（Ｚ２９６）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５７（４．０ｍｍｏｌ）、ヘプタデカフルオロオクチルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９６）を得た（収率６８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０９１
　実施例１０２’化合物（Ｚ２９６）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９６）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９６）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０３　化合物（Ｚ２９７）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５８（４．０ｍｍｏｌ）、ヘンエキコサフルオロデシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９７）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１１９９
　実施例１０３’化合物（Ｚ２９７）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９７）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９７）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０４　化合物（Ｚ２９８）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ５９（４．０ｍｍｏｌ）、ヘプタデカフルオロオクチルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９８）を得た（収率２２％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１１９２
　実施例１０４’化合物（Ｚ２９８）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９８）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９８）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０５　化合物（Ｚ２９９）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ６０（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ２９９）を得た（収率４８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：８５９
　実施例１０５’化合物（Ｚ２９９）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ２９９）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ２９９）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０６　化合物（Ｚ３００）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ６１（４．０ｍｍｏｌ）、パーフルオロドデシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ３００）を得た（収率２０％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１４７６
　実施例１０６’化合物（Ｚ３００）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ３００）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ３００）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０７　化合物（Ｚ３０１）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ６２（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ３０１）を得た（収率４８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９８６
　実施例１０７’化合物（Ｚ３０１）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ３０１）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ３０１）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０８　化合物（Ｚ３０２）の合成
　窒素雰囲気下、Ｓ６３（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ３０２）を得た（収率５１％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：８６７
　実施例１０８’化合物（Ｚ３０２）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ３０２）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ３０２）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
　実施例１０９　化合物（Ｚ５５５）の合成
窒素雰囲気下にて水素化ナトリウム（２４．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）中に懸濁させ０℃で撹拌し、その懸濁液に１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ－ヘキサデカフルオロ－１－ノナノール（２２．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、滴下終了後に室温に戻して、テトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解させたＳ６４（５．０ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下した。滴下終了後、６０℃で５時間攪拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｚ５５５）を得た（収率５６％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１９８８
　実施例１０９’化合物（Ｚ５５５）の金属付着性評価
　ガラス基板を沸騰洗浄し（イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄）、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。開口部が２ｍｍ×１ｍｍのメタルマスクを配置したガラス基板上に化合物（Ｚ５５５）を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。その後、メタルマスクを取り除き、銀を蒸着速度０．２ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。化合物（Ｚ５５５）が蒸着されている部分に銀は成膜されず、２ｍｍ×１ｍｍの透明な領域が形成された。
比較例１’　（化合物（Ｘ１）の金属付着性評価）
　以下の化合物（Ｘ１）を金属パターニング用材料とし、金属付着性の評価を行った。
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ１）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ１）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
比較例２’　（化合物（Ｘ２）の金属付着性評価）
　以下の化合物（Ｘ２）を金属パターニング用材料とし、金属付着性の評価を行った。
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ２）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ２）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
　比較例３’　（化合物（Ｘ３）の金属付着性評価）
　以下の化合物（Ｘ３）を金属パターニング用材料とし、金属付着性の評価を行った。
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ３）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ３）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
　以下の化合物（Ｘ４）を金属パターニング用材料とし、金属付着性の評価を行った。
　比較例４’　（化合物（Ｘ４）の金属付着性評価）
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ４）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ４）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
　以下の化合物（Ｘ５）を金属パターニング用材料とし、金属付着性の評価を行った。
　比較例５’　（化合物（Ｘ５）の金属付着性評価）
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ５）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ５）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
　比較例６’　化合物（Ｘ６）の合成
　窒素雰囲気下、２，４－ビス（［１，１’－ビフェニル］－４－イル）－６－（３，５－ジブロモフェニル）－１，３，５－トリアジン（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｘ６）を得た（収率３５％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：１０９７
　比較例６’　（化合物（Ｘ６）の金属付着性評価）
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ６）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ６）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
　比較例７’　化合物（Ｘ７）の合成
　窒素雰囲気下、４－（３，５－ジブロモフェニル）－２，６－ジフェニルピリジン（４．０ｍｍｏｌ）、トリデカフルオロヘキシルヨージド（２４ｍｍｏｌ）、銅粉末（４０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（５０ｍＬ）中に懸濁させ、１４０℃で２４時間撹拌した。室温まで放冷後、純水とクロロホルムを用いて分液し、さらに有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層は無水硫酸マグネシウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体の目的物である化合物（Ｘ７）を得た（収率４８％）。
　化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。
　ＦＤＭＳ：９４３
　比較例７’　（化合物（Ｘ７）の金属付着性評価）
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ７）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ７）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
　比較例８’　（化合物（Ｘ８）の金属付着性評価）
　実施例１’と同様の方法で、化合物（Ｘ８）に対する金属の付着性を評価した。化合物（Ｘ８）の膜上にも銀が成膜され、透明な領域は形成されなかった。
≪透過率測定≫
　金属付着性は透過率測定によって評価が可能であり、金属が付着すると透過率は低下する。また、付着量が多くなるとそれに相関して透過率も低くなる。
実施例１”　化合物（Ｚ１）の透過率測定
　ガラス基板をイソプロピルアルコールによる沸騰洗浄を行い、さらに紫外線オゾン洗浄した後に、真空蒸着装置へ設置し、１．０×１０－４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。ガラス基板上に金属パターニング材料である化合物（Ｚ１）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で２０ｎｍ成膜した。透過率測定の結果を図１Ａに示す。さらに化合物（Ｚ１）の薄膜上に、銀を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で１０ｎｍ蒸着した。透過率測定の結果を図１Ｂに示す。図１Ｂにおいて、金属蒸着後の５５０～８００ｎｍの透過率は「≧８０％」であり、金属膜の形成が抑制されていた。
実施例８”　化合物（Ｚ１９０）の透過率測定
　実施例１”と同様の方法で、化合物（Ｚ１９０）の透過率を測定した。金属蒸着前および金属蒸着後の透過率測定の結果を、それぞれ図２Ａおよび図２Ｂに示す。
　図２Ｂにおいて、金属蒸着後の５５０～８００ｎｍの透過率は「≧５０％」であり、金属膜の形成が抑制されていた。
比較例１”　化合物（Ｘ１）の透過率測定
　実施例１”と同様の方法で、化合物（Ｘ１）の透過率を測定した。金属蒸着前および金属蒸着後の透過率測定の結果を、それぞれ図３Ａおよび図３Ｂに示す。
　図３Ｂにおいて、金属蒸着後の５５０～８００ｎｍの透過率は「≧３０％」であり、金属膜の形成を抑制できなかった。
比較例１－４”　化合物（X６）の透過率測定
　実施例１”と同様の方法で、化合物（Ｘ６）の透過率を測定した。金属蒸着前および金属蒸着後の透過率測定の結果を、それぞれ図４Ａおよび図４Ｂに示す。
　図４Ｂにおいて、金属蒸着後の５５０～８００ｎｍの透過率は「≧４０％」であり、金属膜の形成を抑制できなかった。
　実施例１”と同様の方法で、化合物Ｚ１７４、Ｚ１７７、Ｚ１８０、Ｚ１８９、Ｚ１９０、Ｚ２０４、Ｚ２０５、Ｚ２０６、Ｚ２０７、Ｚ２２８、Ｚ２４５、Ｚ２５６、Ｚ２７５、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、Ｘ７、Ｘ８の透過率測定を実施した。その結果を表１に示す。
　本発明を詳細に、また特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の本質と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　なお、２０２２年２月９日に出願された日本特許出願２０２２－０１８５０３号、２０２２年１１月３０日に出願された日本特許出願２０２２－１９２３７６号、２０２３年２月９日に出願された日本特許出願２０２３－０１８０５４号、の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (27)

  1. 　式（Ａ１）または（Ｂ１）で表される、金属パターニング用材料：
    　式中、
    　　Ａは、各々独立して、ＮまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮであり、少なくとも１つはＣＲである；
    　　Ｂは、各々独立して、Ｎ、Ｓ、ОまたはＣＲを表し、少なくとも１つはＮ、Ｓ、またはОであり、少なくとも一つはＣＲである；
    　　Ｒは、各々独立して、式（Ａ０１）または式（Ａ０２）を表し、少なくとも１つは式（Ａ０１）である；
    　Ｌ１、Ｌ２は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ２を表す；
    　Ｒｆは、各々独立して、
    　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の１から２価の置換基を表す；
    　Ｒ１、Ｒ２は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１から２価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
    　ｐは各々独立して、０から１２の整数を表す。
    　ｑは各々独立して、１から６の整数を表す。
    　ｕは各々独立して、０から１２の整数を表す。
    　ｖは各々独立して、１から６の整数を表す。
  2. 　前記Ｒｆが下記式（００１）で表される、請求項１に記載の金属パターニング用材料：
    式中、
    　Ｒｆ００１は、各々独立して、
    　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数１～１８の直鎖、分岐、または環状の脂肪族炭化水素基を表す；
    　Ｌ００１は、各々独立して、
    　　О、Ｓ、または、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２価脂肪族炭化水素基、または、
    　　フッ素で置換されていてもよく、また環を形成していてもよいビニレン基を表す；
    　ａ００１は、各々独立して、０から４の整数を表す；
    　ａ００２は、各々独立して、１から４の整数を表す；
  3. 式（Ａ１）において、少なくとも１つの式（Ａ０１）のｕが０であり、式（Ｂ１）において、少なくとも一つの式（Ａ０１）のｕが０である、請求項１に記載の金属パターニング用材料。
  4. 　式（１０１）から（１０５）のいずれか一つで表される、請求項１に記載の金属パターニング材料。：
    　式中、
    　　Ｘ１０１、Ｘ１０２、Ｘ１０３、Ｘ１０４、およびＸ１０５は、各々独立して、式（１１１）で表される。
    　式中、
    　　Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５は、各々独立して、式（１２１）で表される。
    　Ｌ１１１、Ｌ１２１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　О、Ｓ、Ｓｉ、またはＮＲ１１１を表す；
    　Ｒｆ１１１は、各々独立して、式（００１）で表される構造を表す；
    　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
    　ｒ１０１は、１から５の整数を表し、ｒ’１０１は、０から４の整数を表す。ただし、（ｒ１０１＋ｒ’１０１）は５以下の整数である。
    　ｓ１０１は各々独立して、１から４の整数を表し、ｓ’１０１は各々独立して、０から３の整数を表す。ただし、（ｓ１０１＋ｓ’１０１）は４以下の整数である。
    　ｔ１０１は各々独立して、１から３の整数を表し、ｔ’ １０１は、０から２の整数を表す。ただし、（ｔ１０１＋ｔ’１０１）は３以下の整数である。
    　ｕ１１１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
    　ｖ１１１は各々独立して、１から６の整数を表す。
    　ｐ１２１は各々独立して、０から１２の整数を表す。
    　ｑ１２１は各々独立して、１から６の整数を表す。
    　ただし、少なくとも一つのＸ１０１、少なくとも一つのＸ１０２、少なくとも一つのＸ１０３、少なくとも一つのＸ１０４、および少なくとも一つのＸ１０５において、ｕ１１１は各々独立して、０である。
  5. 　Ｌ１１１、Ｌ１２１が、置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
    　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
    　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
    　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
    　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
    　　シアノ基、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
    　　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されている請求項４に記載の金属パターニング材料。
  6. 　Ｒ１、Ｒ２が置換の芳香族炭化水素基、置換のヘテロ芳香族基、置換の脂肪族炭化水素基、または置換のヘテロ脂肪族炭化水素基である場合、これらの基は、各々独立して、
    　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の脂肪族炭化水素基、
    　　炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状アルコキシ基、
    　　炭素数６～２０の芳香族炭化水素基、
    　　炭素数３～２０のヘテロ芳香族基、
    　　水素原子、フッ素原子、重水素原子、式（００１）で表される構造、
    　　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基で置換されている請求項１に記載の金属パターニング材料。
  7. 　少なくとも１つのＲｆ１１１において、炭素原子数に対するフッ素原子数の割合が５０％以上である請求項４に記載の金属パターニング材料。
  8. 　Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０３、Ｒ１０４、およびＲ１０５は、各々独立して、式（１３１）で表される請求項４に記載の金属パターニング材料。
    　Ｌ１２１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　О、Ｓ、またはＮＲ１１１を表す；
    　Ｌ１３１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　О、Ｓを表す；
    　Ｒ１１１、Ｒ１２１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　Ｈ、Ｄ(重水素原子)、またはＦ(フッ素原子)を表す；
    　ｐ１３１は各々独立して、０から１１の整数を表す。
    　ｑ１３１は各々独立して、１から６の整数を表す。
  9. 　Ｌ１２１、Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造である請求項８に記載の金属パターニング用材料。
  10. 　Ｌ１２１、Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基において、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、もしくはそれらが縮合した構造である請求項８に記載の金属パターニング用材料。
  11. 　Ｌ１２１、Ｌ１３１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、またはジベンゾクリセンであり、
    　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾジオキシン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、ジベンゾジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
    　環状の２から４価脂肪族炭化水素基が、アダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
    　環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンである請求項８に記載の金属パターニング用材料。
  12. 　Ｌ１２１、Ｌ１３１の置換基が、各々独立して、
    メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数２～１０のパーフルオロアルコキシ基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、式（００１）で表される構造、
    　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基である請求項８に記載の金属パターニング用材料。
  13. 　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造である請求項３に記載の金属パターニング用材料。
  14. 　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基において、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、もしくはそれらが縮合した構造である請求項３に記載の金属パターニング用材料。
  15. 　Ｌ１１１で表される単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、またはジベンゾクリセンであり、
    　単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾジオキシン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、チアゾール、ジベンゾジオキシン、またはベンゾチアゾールであり、
    　環状の２から４価脂肪族炭化水素基が、アダマンタン、ジアマンタン、またはシクロヘキサンであり、
    　環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、モルホリン、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシン、１,４－ジチアン、４，４’－ビピペリジン、ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、オクタヒドロ－１Ｈ－ピロロ［３，４－ｂ］ピリジン、および１,４,７,１０－テトラアザシクロドデカンである請求項３に記載の金属パターニング用材料。
  16. 　Ｌ１１１の置換基が、各々独立して、
    　メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数２～１０のパーフルオロアルコキシ基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、式（００１）で表される構造、
    　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基である請求項３に記載の金属パターニング用材料。
  17. 　Ｒ１１１、Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基が、フェニル基、もしくは複数のベンゼン環を連結もしくは縮環した構造である請求項８に記載の金属パターニング用材料。
  18. 　Ｒ１１１、Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基が、ヘテロ原子はＮ、О、Ｓであり、５員環、６員環、もしくはそれらが縮合した構造である請求項４に記載の金属パターニング用材料。
  19. 　Ｒ１１１、Ｒ１２１で表される単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基が、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、ナフタレン、フルオレン、スピロビフルオレン、９,９－ジメチルフルオレン、９,９－ジフェニルフルオレン、ベンゾフルオレン、フェナントレン、フルオランテン、トリフェニレン、アントラセン、ピレン、クリセン、ぺリレン、ベンゾクリセン、またはジベンゾクリセンであり、
    　単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基が、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、カルバゾール、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾジオキシン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾジオキシン、チアゾール、またはベンゾチアゾールであり、
    　直鎖、分岐、もしくは環状の１価脂肪族炭化水素基が、アダマンタン、ジアマンタン、シクロヘキサン、またはメタンであり、
    　環状の１価ヘテロ脂肪族炭化水素基が、ピペラジン、ホモピペラジン、ヘキサヒドロ－１,３,５－トリアジン、１,４－ジオキシンである請求項４に記載の金属パターニング用材料。
  20. 　Ｒ１１１、Ｒ１２１の置換基が、各々独立して、
    メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、炭素数２～１０のパーフルオロアルキル基、炭素数２～１０のパーフルオロアルコキシ基、シアノ基、重水素原子、フッ素原子、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピリジル基、カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、式（００１）で表される構造、
    　もしくは、これらの基が組み合わされた基からなる群より選ばれる１つ以上の基である請求項４に記載の金属パターニング用材料。
  21. 　式（３０１）、または（３０２）で表される複素環化合物：
    　Ｌ３０１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、
    　　О、Ｓ、またはＮＲ３０１を表す；
    　Ｌ３０３は、各々独立して、
    　　フッ素で置換されていても良い炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　ОまたはＳを表す；
    　Ｒｆ３０１は、各々独立して、
    　　フッ素原子を３つ以上含む炭素数２以上の部位を表す；
    　Ｒ３０１は、各々独立して、
    　　置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の１価脂肪族炭化水素基、
    　　または、フッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上のフルオロアルキル構造を表す；
    　Ｘ３０１は、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価芳香族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～２６の単環、連結、もしくは縮環の２から４価ヘテロ芳香族基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価脂肪族炭化水素基、
    　　置換されていてもよい炭素数３～１８の環状の２から４価ヘテロ脂肪族炭化水素基、またはOを表す；
    　ｇｇは各々独立して、０から６の整数を表す。
    　ｈｈは各々独立して、０から１２の整数を表す。
    　ｉｉは各々独立して、１から６の整数を表す。
    　ｊｊは各々独立して、０から６の整数を表す。
    　ｋｋは各々独立して、１から６の整数を表す。
    　ｍｍは各々独立して、１から６の整数を表す。
    　ｎｎは各々独立して、１から６の整数を表す。
    　　式（３０１）において、Ｌ３０１がＮＲ３０１であり、前記Ｒ３０１が置換されていてもよい炭素数６～２６の単環、連結、もしくは縮環の１価芳香族炭化水素基である時、各々独立して、フッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含む炭素数１以上の部位によって置換されている。
    　　Ｘ３０１がパラフェニレン基かつｎｎが１である時、パラフェニレン基はフッ素原子またはフッ素原子を３つ以上含んでよい炭素数１以上の１価の置換基によって置換される。
    　　Ｘ３０１は、シアノ基、直鎖ビニレン基、ケトン基、チオケトン基、およびセレン原子を含まない。
  22. 　前記Ｒｆ３０１が下記式（３１１）で表される、請求項２１に記載の複素環化合物：
    式中、
    　Ｒｆ３１１は、各々独立して、
    　　フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、または環状の脂肪族炭化水素基を表す；
    　Ｌ３１１は、各々独立して、
    　　О、Ｓ、もしくは、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１～１８の直鎖、分岐、もしくは環状の２価脂肪族炭化水素基、または、
    　　環を形成していてもよいビニレン基を表す；
    　ａ３１１は、各々独立して、０から４の整数を表す；
    　ａ３１２は、各々独立して、１から４の整数を表す；
  23. 金属パターニング用材料を含み、金属膜または金属積層膜をパターニングすることができる金属パターニング用薄膜であって、
    　前記金属パターニング用材料は、請求項１に記載の式（Ａ１）、もしくは（Ｂ１）、または請求項４に記載の式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）である化合物を含み、
    　前記金属膜または金属積層膜は、イッテルビウム、マグネシウム、銀、アルミニウム、および、マグネシウムと銀との合金からなる群より選択される少なくとも１つを含有する、金属パターニング用薄膜。
  24. 　水接触角が９０°以上である、請求項１から２０のいずれか１項に記載の金属パターニング用材料を含む金属パターニング用薄膜。
  25. 　陰極を備える有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
    　前記陰極は、
    　　イッテルビウム、マグネシウム、銀、アルミニウム、および、マグネシウムと銀との合金からなる群より選択される少なくとも１つを含有し、かつ、
    　　金属パターニング用材料でパターニングされてなり、
    　　該金属パターニング用材料は、請求項１に記載の式（Ａ１）、もしくは（Ｂ１）、または請求項４に記載の式（１０１）、（１０２）、（１０３）、（１０４）、もしくは（１０５）、である化合物を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。
  26. 　請求項１から２０のいずれか１項に記載の金属パターニング用材料を含む有機材料パターンを形成することと、
    　前記有機材料パターンの形成領域および前記有機材料パターンの未形成領域に金属材料を付与して、該未形成領域に金属パターンを形成することと、を含む、金属パターンの形成方法。
  27. 　請求項１から２０のいずれか１項に記載の金属パターニング用材料を含む、電子機器。
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