WO2023136018A1 - フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤、フレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 - Google Patents
フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤、フレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2023136018A1 WO2023136018A1 PCT/JP2022/045722 JP2022045722W WO2023136018A1 WO 2023136018 A1 WO2023136018 A1 WO 2023136018A1 JP 2022045722 W JP2022045722 W JP 2022045722W WO 2023136018 A1 WO2023136018 A1 WO 2023136018A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- adhesive
- film
- flexible
- mass
- flexible device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
- G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
- G09F9/301—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements flexible foldable or roll-able electronic displays, e.g. thin LCD, OLED
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/02—Details
- H05B33/04—Sealing arrangements, e.g. against humidity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K59/873—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K77/00—Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
- H10K77/10—Substrates, e.g. flexible substrates
- H10K77/111—Flexible substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
- H10W74/10—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their shape or disposition
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
- H10W74/40—Encapsulations, e.g. protective coatings characterised by their materials
Definitions
- a numerical range represented using “ ⁇ ” means a range including the numerical values described before and after " ⁇ " as lower and upper limits.
- the storage modulus E' is determined as follows.
- a film adhesive is laminated at 70° C. using a laminator to a thickness of 0.5 mm, and cured under conditions (i) or (ii) described below.
- the obtained cured product sample is cut into a width of 5 mm to obtain a measurement sample.
- a measurement sample is measured using a dynamic viscoelasticity measuring device RSAIII (manufactured by TA Instruments) under tension conditions with a chuck distance of 20 mm and a frequency of 10 Hz, a measurement temperature range of -40 ° C. to 250 ° C., and a heating rate of 5 ° C./
- the temperature is raised under the condition of min, and the storage elastic modulus at 23°C is determined.
- the term "storage elastic modulus” simply refers to the storage elastic modulus at room temperature (23°C).
- the curing agent is preferably a photocationic polymerization initiator or a latent curing agent.
- the film-like adhesive is energy ray-curable.
- Energy rays include light rays such as ultraviolet rays, or ionizing radiation such as electron beams.
- latent curing agents include dicyandiamide compounds, imidazole compounds, curing catalyst complex polyhydric phenol compounds, hydrazide compounds, boron trifluoride-amine complexes, amine imide compounds, polyamine salts, modified products thereof, and microcapsule-type products. can be mentioned. These may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type. It is more preferable to use an imidazole compound from the viewpoint of having better latent potential (property of exhibiting curability by heating and having excellent stability at room temperature) and faster curing speed.
- the film adhesive of the present invention may contain an inorganic filler.
- inorganic fillers include silica, clay, gypsum, calcium carbonate, barium sulfate, alumina (aluminum oxide), beryllium oxide, magnesium oxide, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, ceramics such as boron nitride, aluminum, copper , silver, gold, nickel, chromium, lead, tin, zinc, palladium, solder and other metals or alloys, carbon nanotubes, graphene and other carbons, and various inorganic powders.
- Silane coupling agents include, for example, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane.
- the film adhesive of the present invention is used at a temperature of 10° C. or less before use (before the curing reaction). preferably stored. Moreover, when the film-like adhesive of the present invention is of the energy ray-curable type, it is preferably stored in the dark before use. There is no particular limitation on the temperature conditions during the light-shielded storage, and it may be room temperature or refrigeration.
- the thickness of the flexible base material is usually 1 to 1000 ⁇ m, preferably 5 to 800 ⁇ m, more preferably 5 to 400 ⁇ m, more preferably 5 to 200 ⁇ m, and more preferably 10 to 100 ⁇ m.
- the thickness can be measured by a contact/linear gauge method (tabletop contact thickness measuring device).
- the adhesive sheet of the present invention is produced by preparing a composition (varnish) by mixing each constituent component of the film-like adhesive of the present invention, and coating this composition on a flexible substrate. , can be dried and formed as desired.
- room temperature means 23° C.
- MEK is methyl ethyl ketone
- PET is polyethylene terephthalate
- UV ultraviolet light.
- % and “parts” are based on mass unless otherwise specified.
- Example 1 In a 1000 ml separable flask, 50 parts by mass of ST-3000 (trade name, hydrogenated bisphenol A liquid epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.) as a compound having a cyclic ether group, and YP-50 as a polymer component. (trade name, phenoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.) 50 parts by mass and 30 parts by mass of MEK were heated and stirred at a temperature of 110° C. for 2 hours to obtain a resin varnish.
- ST-3000 hydrogenated bisphenol A liquid epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.
- YP-50 a polymer component
- Example 3 A film adhesive with a release film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the amount of the compound having a cyclic ether group was 35 parts by mass and the amount of the polymer component was 65 parts by mass.
- Example 6 A film-like adhesive with a release film was obtained in the same manner as in Example 1, except that 2 parts by mass of 2E4MZ (trade name, imidazole-based thermosetting agent, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was used as the curing agent.
- 2E4MZ trade name, imidazole-based thermosetting agent, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.
- Example 11 25 parts by mass of ST-3000 (trade name, hydrogenated bisphenol A liquid epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.) and EPPN-501H (trade name, triphenylmethane type epoxy resin) as compounds having a cyclic ether group. , manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was 25 parts by mass, and a film-like adhesive with a release film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the adhesive layer was 10 ⁇ m.
- ST-3000 trade name, hydrogenated bisphenol A liquid epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd.
- EPPN-501H trade name, triphenylmethane type epoxy resin
- Example 16 A film-like adhesive with a release film was obtained in the same manner as in Example 1, except that 50 parts by mass of BMI-5000 (trade name, bismaleimide resin, manufactured by Designer Molecules, Inc.) was used as the polymer component.
- BMI-5000 trade name, bismaleimide resin, manufactured by Designer Molecules, Inc.
- the polymer component is YX7200B35 (mixed solution of phenoxy resin and solvent, 143 parts by mass manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (50 parts by mass as phenoxy resin), and the curing agent is SI-B3 (trade name, thermal cationic polymerization initiator, Sanshin Chemical Kogyo Co., Ltd.) was 2 parts by mass, and a film-like adhesive with a release film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the adhesive layer was 15 ⁇ m.
- Tg was defined as the temperature at which the maximum value of tan ⁇ was obtained, and when there were two or more maximum values, the temperature at which the maximum value was obtained on the lowest temperature side was taken as Tg. Table 1 shows the measurement results.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
本発明は、厳しい折り曲げの繰り返しにも耐える高度な耐屈曲性を示すフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤を提供することを課題とする。また、本発明は、前記フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤を用いたフレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法を提供することを課題とする。
〔1〕
フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤であって、前記フィルム状接着剤の厚みT(μm)と、前記フィルム状接着剤の硬化物の貯蔵弾性率E’(GPa)とが、T×E’≦75を満たす、フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔2〕
前記貯蔵弾性率E’が5GPa以下である、〔1〕に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔3〕
前記厚みT(μm)が1~100μmである、〔1〕又は〔2〕に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔4〕
前記フィルム状接着剤の硬化物のガラス転移温度が30℃以上である、〔1〕~〔3〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔5〕
環状エーテル基を有する化合物と、該化合物の硬化剤と、ポリマー成分とを少なくとも含む、〔1〕~〔4〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔6〕
前記環状エーテル基を有する化合物がエポキシ樹脂を含む、〔5〕に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔7〕
前記エポキシ樹脂が脂環構造を有するエポキシ樹脂を含む、〔6〕に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔8〕
前記ポリマー成分のガラス転移温度が140℃以下である、〔5〕~〔7〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔9〕
シランカップリング剤を含む、〔1〕~〔8〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔10〕
エネルギー線硬化型である、〔1〕~〔9〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
〔11〕
フレキシブル基材と、〔1〕~〔10〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤とを積層してなる構造を有する、フレキシブルデバイス用接着シート。
〔12〕
〔1〕~〔10〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤又は〔11〕に記載のフレキシブルデバイス用接着シートを、フレキシブルデバイスを構成する層間の接着に用いることを含む、フレキシブルデバイスの製造方法。
〔13〕
〔1〕~〔10〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤を、フレキシブルデバイスの構成材料の封止に用いることを含む、フレキシブルデバイスの製造方法。
〔14〕
フレキシブルデバイスの支持基材を、〔11〕に記載のフレキシブルデバイス用接着シートにより形成することを含む、フレキシブルデバイスの製造方法。
〔15〕
前記フレキシブルデバイスがフレキシブルディスプレイである、〔12〕~〔14〕のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
本発明のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤(以下、単に「フィルム状接着剤」とも称す。)は、フレキシブルデバイスを構成する層間の接着用途に好適な接着剤である。本発明のフィルム状接着剤は硬化反応により硬化して、被着体との接着力を発現する。したがって、本発明のフィルム状接着剤は、硬化性組成物からなるフィルムである。本発明のフィルム状接着剤は、フィルム状接着剤の厚みT(μm)と、フィルム状接着剤の硬化物の貯蔵弾性率E’(GPa)とが、T×E’≦75を満たす。この関係を満たすことにより、所望の高度な耐屈曲性を実現することが可能となる。
フィルム状接着剤を、ラミネーターを用いて70℃で厚さ0.5mmとなるまで積層し、後述の(i)又は(ii)の条件で硬化反応させる。得られた硬化物サンプルを5mm幅に切り出し、測定サンプルとする。測定サンプルを、動的粘弾性測定装置RSAIII(TAインスツルメント製)を用いて、チャック間距離20mm、周波数10Hzの引張条件で、測定温度範囲-40℃~250℃、昇温速度5℃/minの条件で昇温し、23℃における貯蔵弾性率を決定する。
本発明において単に「貯蔵弾性率」という場合、常温(23℃)における貯蔵弾性率である。
水銀ランプを用いて、23℃で1000mJ/cm2の照射条件で紫外線照射する条件。
(ii)熱硬化型(典型的には潜在性硬化剤又は熱カチオン重合開始剤を含む形態)の場合:
150℃で1時間の熱処理条件。
上記Tは、1~100μmが好ましく、2~100μmがより好ましく、4~100μmがさらに好ましく、6~100μmがさらに好ましく、8~100μmがさらに好ましい。Tは、10~90μmとすることもでき、15~80μmとすることもでき、20~70μmとすることもでき、20~50μmとすることもできる。
上記E’は、0.2~10GPaが好ましく、0.4~8GPaがより好ましく、0.6~6GPaがさらに好ましい。上記E’はより好ましくは5GPa以下であり、0.6~5GPaがさらに好ましい。上記E’は1.6~4GPaとすることもでき、1.4~3.5GPaとすることもできる。
また、本発明のフィルム状接着剤を硬化してなる硬化物(硬化層)の好ましい厚みは、上記Tの好ましい範囲と同じである。
フィルム状接着剤を、ラミネーターを用いて70℃で厚さ0.5mmとなるまで積層し、上記(i)又は(ii)の条件で硬化反応させる。得られた硬化物サンプルを5mm幅に切り出し、測定サンプルとする。測定サンプルを、上述の通り、動的粘弾性測定装置RSAIII(TAインスツルメント製)を用いて、チャック間距離20mm、測定温度範囲-40℃~250℃、昇温速度5℃/min、及び周波数10Hzの条件下で測定する。得られたtanδピークトップ温度(tanδが極大を示す温度)を、フィルム状接着剤の硬化物のTgとする。
ここで、本発明のフィルム状接着剤の硬化物のTgがX℃であるとは、硬化物のTgが2つ以上の場合には、最も低温側のTgがX℃であることを意味する。したがって、本発明のフィルム状接着剤の硬化物のTgが30℃以上とは、硬化物のTgが2つ以上の場合には、最も低温側のTgが30℃以上であることを意味する。
本発明のフィルム状接着剤の硬化物のTgは、5~150℃が好ましく、30~150℃がより好ましく、40~140℃がさらに好ましく、60~130℃がさらに好ましく、70~120℃がさらに好ましく、90~115℃がさらに好ましく、100~115℃がさらに好ましい。Tgは、60℃以上、好ましくは80℃以上、さらに好ましくは100℃以上とすることもできる。
上記の環状エーテル基を有する化合物は、分子内に少なくとも1個(好ましくは2~20個、より好ましくは2~10個)の環状エーテル基を有する化合物である。なお、本発明では、環状エーテル基を有する化合物がポリマーであっても、上記ポリマー成分には分類せず、環状エーテル基を有する化合物に分類するものとする。したがって、一般的なエポキシ樹脂は、環状エーテル基を有する化合物として分類される。ただし、後述するフェノキシ樹脂については、環状エーテル基を有する化合物には含まれないものとする。すなわち、後述するフェノキシ樹脂はポリマー成分である。
環状エーテル基を有する化合物は、分子量が100~3000が好ましく、200~1500がより好ましい。
環状エーテル基を有する化合物は、環状エーテル当量が、好ましくは100~3000g/eqであり、120~1500g/eqがより好ましく、130~1000g/eqがさらに好ましく、135~800g/eqがさらに好ましい。
環状エーテル基を有する化合物が脂環構造を有しない場合には、環状エーテル当量はより大きいことが好ましい。例えば500g/eq以上とすることが好ましく、600~1000g/eqがより好ましく、650~900g/eqがさらに好ましい。
逆に、環状エーテル基を有する化合物が脂環構造を有する場合は、環状エーテル当量はより小さくすることができる。例えば500g/eq未満とすることが好ましく、100~400g/eqがより好ましく、120~350g/eqがさらに好ましく、130~300g/eqがさらに好ましい。
「環状エーテル当量」とは、1グラム当量の環状エーテル基を含む化合物のグラム数(g/eq)をいう。
エポキシ樹脂の骨格としては、フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、クレゾールノボラック型、ジシクロペンタジエン型、ビフェニル型、フルオレンビスフェノール型、トリアジン型、ナフトール型、ナフタレンジオール型、トリフェニルメタン型、テトラフェニル型、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールAD型、ビスフェノールS型、トリメチロールメタン型等が挙げられる。このうち、樹脂の結晶性が低く、良好な外観を有するフィルム状接着剤を得られるという観点から、トリフェニルメタン型、ビスフェノールA型、クレゾールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型が好ましい。
なかでも上記エポキシ樹脂は、脂環構造を有するエポキシ樹脂であることが好ましく、水添(水素化)ビスフェノール型エポキシ樹脂がさらに好ましく、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂がさらに好ましい。脂環構造を有するエポキシ樹脂を用いることにより、硬化物のTgや貯蔵弾性率が同程度であっても、より優れた耐屈曲性を達成することができる。
上記環状エーテル基を有する化合物の硬化剤としては、アミン類、酸無水物類、多価フェノール類、カチオン重合開始剤(好ましくは光カチオン重合開始剤)等の、環状エーテル基を有する化合物(エポキシ樹脂等)の硬化剤として一般的に用いられている硬化剤を広く用いることができる。フレキシブルデバイスとして有機ELデバイスを想定したとき、本発明のフィルム状接着剤に貼り合わせる被着体は熱に弱いため、硬化剤として熱カチオン重合開始剤を使用するのは適さない場合がある。また、熱カチオン重合開始剤は得られる硬化層の弾性率を高め過ぎる傾向があり、この観点でも硬化剤として熱カチオン重合開始剤を使用するのは適さない。したがって、上記硬化剤は、光カチオン重合開始剤、又は潜在性硬化剤が好ましい。上記硬化剤として光カチオン重合開始剤を用いる場合、フィルム状接着剤はエネルギー線硬化型である。エネルギー線としては、紫外線のような光線、または電子線のような電離性放射線が挙げられる。
潜在性硬化剤としては、ジシアンジアミド化合物、イミダゾール化合物、硬化触媒複合系多価フェノール化合物、ヒドラジド化合物、三弗化ホウ素-アミン錯体、アミンイミド化合物、ポリアミン塩、およびこれらの変性物やマイクロカプセル型のものを挙げることができる。これらは1種を単独で用いても、もしくは2種以上を組み合わせて用いてもよい。より優れた潜在性(室温での安定性に優れ、かつ、加熱により硬化性を発揮する性質)を有し、硬化速度がより速い観点から、イミダゾール化合物を用いることがより好ましい。
上記ポリマー成分としては、常温(23℃)でのフィルムタック性(少しの温度変化でもフィルム状態が変化しやすい性質)を抑制し、十分な接着性および造膜性(フィルム形成性)を付与する成分であればよく、この種の接着剤に適用可能なポリマーを広く用いることができる。ポリマー成分として、例えば、天然ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン-(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、6-ナイロンや6,6-ナイロン等のポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、フッ素樹脂、ビスマレイミド樹脂(ポリビスマレイミド)等が挙げられる。これらのポリマー成分は単独で用いてもよく、また2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(メタ)アクリル樹脂の構成成分として、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートなどに由来する成分が挙げられる。また、(メタ)アクリル樹脂は構成成分として環状骨格を有する(メタ)アクリル酸エステル(例えば、(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジルエステル、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート及びジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート)成分を有してもよい。また、イミド(メタ)アクリレート成分、アルキル基の炭素数が1~18である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル及び(メタ)アクリル酸ブチル等)成分を有することもできる。また酢酸ビニル、(メタ)アクリロニトリル、スチレン等との共重合体でもよい。(メタ)アクリル樹脂が水酸基を有していると、環状エーテル基を有する化合物との相溶性の観点で好ましい。
上記ポリマー成分の重量平均分子量は、GPC〔ゲル浸透クロマトグラフィー(Gel Permeation Chromatography)〕によるポリスチレン換算で求めた値である。
上記ポリマー成分のTgは、動的粘弾性測定におけるtanδのピークトップ温度である。具体的には、次のようにTgを決定することができる。
-Tgの決定方法-
ポリマー成分を溶解してなる溶液を離型フィルム上に塗布し、加熱乾燥し、離型フィルム上にポリマー成分からなる膜(ポリマー膜)を形成する。このポリマー膜から離型フィルムを剥がして取り除き、このポリマー膜を、動的粘弾性測定装置(商品名:Rheogel-E4000F、ユービーエム社製)を用いて、測定温度範囲20~300℃、昇温速度5℃/min、及び周波数1Hzの条件下で測定する。得られたtanδピークトップ温度(tanδが極大を示す温度)をTgとする。
本発明のフィルム状接着剤は無機充填材を含んでもよい。無機充填材として、例えば、シリカ、クレー、石膏、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ(酸化アルミニウム)、酸化ベリリウム、酸化マグネシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素等のセラミック類、アルミニウム、銅、銀、金、ニッケル、クロム、鉛、錫、亜鉛、パラジウム、半田等の金属、又は合金類、カーボンナノチューブ、グラフェン等のカーボン類等の種々の無機粉末が挙げられる。
無機充填材は、表面処理や表面改質されていてもよく、このような表面処理や表面改質としては、シランカップリング剤やリン酸もしくはリン酸化合物、界面活性剤が挙げられる。
無機充填材の形状は、フレーク状、針状、フィラメント状、球状、鱗片状のものが挙げられるが、高充填化及び流動性の観点から球状粒子が好ましい。
シランカップリング剤は、例えば、2-(3,4-エポキシシクロへキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロイルオキプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロイルオキプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
塗工方法としては、公知の方法を適宜採用することができ、例えば、ロールナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、リバースコーター等を用いた方法が挙げられる。
乾燥は、硬化反応を実質的に生じずに有機溶媒を除去してフィルム状接着剤を形成できればよく、例えば、80~150℃の温度で1~20分保持することにより行うことができる。
本発明のフレキシブルデバイス用接着シート(以下、単に「本発明の接着シート」とも称す。)は、フレキシブル基材(フレキシブルフィルム)と本発明のフィルム状接着剤とを積層してなる構造を有する。
本発明の接着シートを構成するフレキシブル基材は、可撓性を有し、フレキシブルデバイスの支持基材として用いることができれば、材質、厚み等は特に制限されない。すなわち、フレキシブルデバイスに用いられているフレキシブル基材を広く適用することができる。
フレキシブル基材は、貯蔵弾性率が10GPa以下であることが好ましく、7GPa以下がより好ましく、5GPa以下がさらに好ましい。上記貯蔵弾性率は、通常は0.01GPa以上であり、0.05GPa以上であることも好ましく、0.1GPa以上であることも好ましい。フレキシブル基材の貯蔵弾性率は、フレキシブル基材を5mm幅に切り出し、動的粘弾性測定装置RSAIII(TAインスツルメント製)を用いて、チャック間距離20mm、周波数10Hzの引張条件で、-20℃から150℃まで、昇温速度5℃/minの条件で昇温したときの、23℃における貯蔵弾性率である。
本発明のフレキシブルデバイスの製造方法は、本発明のフィルム状接着剤、又は本発明の接着シートの何れかを用いてフレキシブルデバイスを製造する方法であれば、特に限定されない。
本発明のフィルム状接着剤を適用する、フレキシブルデバイスを構成する層間としては特に制限されず、例えば、機能性素子を含む積層体(機能性素子と、その片面又は両面に配された種々の機能層との積層体)同士の間、フレキシブル基材と機能性素子を含む積層体との間、第一のフレキシブル基材と第二のフレキシブル基材との間(第一および、第二フレキシブル基材のどちらか、または両方のフレキシブル基材の、接着剤層とは反対側には機能性素子を含む積層体がさらに形成されていてもよい)、などが挙げられる。したがって、本発明のフレキシブルデバイスの製造方法の一実施形態では、フレキシブルデバイスを構成する1つの層の表面に、本発明のフィルム状接着剤を配し、当該フィルム状接着剤を挟んでフレキシブルデバイスを構成する別の層を配し、当該フィルム状接着剤を硬化反応させる工程を含む。
本発明のフィルム状接着剤を適用する、フレキシブルデバイスの構成材料としては特に制限されず、例えば、機能性素子(有機エレクトロルミネッセンス素子、半導体素子、液晶素子、マイクロLED等)等が挙げられる。具体的には、本発明のフィルム状接着剤は、機能性素子等の目的物の表面などに適用され、当該目的物を封止する。したがって、本発明のフレキシブルデバイスの製造方法の一実施形態では、フレキシブルデバイスの構成材料の表面に、本発明のフィルム状接着剤を配し、当該フィルム状接着剤を硬化反応させる工程を含む。
1000mlのセパラブルフラスコ中において、環状エーテル基を有する化合物としてST-3000(商品名、水添ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)50質量部、ポリマー成分としてYP-50(商品名、フェノキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)50質量部及びMEK30質量部を、温度110℃で2時間加熱攪拌し、樹脂ワニスを得た。さらに、この樹脂ワニスを800mlのプラネタリーミキサーに移し、硬化剤としてWPI-113(商品名、UVカチオン重合開始剤、富士フイルム和光純薬株式会社製)2質量部を加えて、室温において1時間攪拌混合後、真空脱泡して混合ワニスを得た。次いで、得られた混合ワニスを厚み38μmの表面離型処理済みPETフィルム(離型フィルム)上に塗布して、130℃で10分間加熱乾燥し、縦300mm、横200mm、接着剤層の厚み20μmの、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を828(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)35質量部とし、ポリマー成分の配合量を65質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物の配合量を35質量部とし、ポリマー成分の配合量を65質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を828(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)50質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を1003(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製)50質量部とし、接着剤層の厚みを40μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
硬化剤を2E4MZ(商品名、イミダゾール系熱硬化剤、四国化成工業社製)2質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
混合ワニス中にKBM-402(商品名、シランカップリング剤、信越化学工業社製)1質量部を加え、接着剤層の厚みを40μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
ポリマー成分を、YP-50(フェノキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)10質量部とYX7180(商品名、フェノキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製)40質量部とし、接着剤層の厚みを90μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物の配合量を20質量部とし、ポリマー成分の配合量を80質量部とし、接着剤層の厚みを10μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
混合ワニス中にSIRMEK50WT%-M01(商品名、シリカスラリーフィラー、CIKナノテック社製)60質量部(シリカとして30質量部)を加え、接着剤層の厚みを7μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を、ST-3000(商品名、水添ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)25質量部とEPPN-501H(商品名、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製)25質量部とし、接着剤層の厚みを10μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
ポリマー成分をSG-708-6(商品名、アクリル樹脂、ナガセケムテックス株式会社製)50質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を828(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)30質量部とし、ポリマー成分をSG-708-6(商品名、アクリル樹脂、ナガセケムテックス株式会社製)70質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
ポリマー成分をダイナレオVA-9320M(商品名、ウレタン樹脂、トーヨーケム株式会社製)167質量部(ウレタン樹脂として50質量部)としたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を828(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)40質量部とし、ポリマー成分をダイナレオVA-9320M(商品名、ウレタン樹脂、トーヨーケム株式会社製)200質量部(ウレタン樹脂として60質量部)としたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
ポリマー成分をBMI-5000(商品名、ビスマレイミド樹脂、Designer Molecules, Inc.社製)50質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を828(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)35質量部とし、ポリマー成分をBMI-5000(商品名、ビスマレイミド樹脂、Designer Molecules, Inc.社製)65質量部としたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
混合ワニス中にSIRMEK50WT%-M01(商品名、シリカスラリーフィラー、CIKナノテック社製)600質量部(シリカとして300質量部)を加え、接着剤層の厚みを7μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物をEPPN-501H(商品名、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製)50質量部に代えた以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
実施例1において、環状エーテル基を有する化合物をEPPN-501H(商品名、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製)50質量部とし、ポリマー成分をYX7200B35(フェノキシ樹脂と溶剤の混合溶液、三菱ケミカル株式会社製)143質量部(フェノキシ樹脂として50質量部)とし、硬化剤をSI-B3(商品名、熱カチオン重合開始剤、三新化学工業株式会社製)2質量部とし、接着剤層の厚みを15μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
ポリマー成分をYX7200B35(フェノキシ樹脂と溶剤の混合溶液、三菱ケミカル株式会社製143質量部(フェノキシ樹脂として50質量部)とし、硬化剤をSI-B3(商品名、熱カチオン重合開始剤、三新化学工業株式会社製)2質量部とし、接着剤層の厚みを15μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
環状エーテル基を有する化合物を1003(商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製)25質量部とST-3000(商品名、水添ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)25質量部とし、ポリマー成分をYP-50(商品名、フェノキシ樹脂、日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製)35質量部とYX7180(商品名、フェノキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社製)15質量部とし、混合ワニス中にSIRMEK50WT%-M01(商品名、シリカスラリーフィラー、CIKナノテック社製)200質量部(シリカとして100質量部)を加え、接着剤層の厚みを15μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして離型フィルム付きフィルム状接着剤を得た。
表1に記載の「フィルム状接着剤」の厚みは、上記各実施例及び比較例で得られた、硬化前のフィルム状接着剤の厚みである。
各実施例及び比較例において得られたフィルム状接着剤を、ラミネーターを用いて70℃で、離型フィルムを剥離した状態で厚さ0.5mmとなるまで積層した。この積層体を、上記硬化条件(i)又は(ii)にて硬化させて得られた接着剤硬化物の積層体を5mm幅に切り出し、測定サンプルとした。動的粘弾性測定装置RSAIII(TAインスツルメント製)を用いて、チャック間距離20mm、周波数10Hzの引張条件で、-40℃より250℃まで昇温速度5℃/minの条件で昇温した際の接着剤硬化物の粘弾性挙動を測定し、23℃における貯蔵弾性率と、Tgを求めた。Tgは、tanδ極大値を示す温度とし、極大値が2点以上ある場合は、最も低温側の極大値を示す温度をTgとした。測定結果を表1に示す。
実施例又は比較例で得た離型フィルム付きフィルム状接着剤を、厚み20μmのPETフィルム(フレキシブル基材、23℃の貯蔵弾性率5GPa)に貼り合わせ、離型フィルムを剥離して、フレキシブル基材とフィルム状接着剤とを積層してなる構造を有する接着シートを得た。この接着シートを幅25mm、長さ10cmに切り出し、上述の(i)又は(ii)の硬化条件で硬化させ、試験片とした。試験片の長手方向の中間地点を基準に、試験片を、接着剤層をマンドレルとは逆側にセットし、180°折り曲げる操作を1000回繰り返した。接着剤層の破断、接着剤層の折り痕、又は接着剤層とフレキシブル基材との剥離が生じたマンドレルの径(mm)を下記評価基準に当てはめ、耐屈曲性を評価した。評価C以上を合格とした。結果を表1に示す。
(評価基準)
A:4mm以下
B:5mm以上14mm以下
C:15mm以上29mm以下
D:30mm以上、もしくは折り曲げできず
上記表に示されるように、フィルム状接着剤の硬化物のT×E’が本発明で規定するよりも高い場合には、繰り返しの屈曲に対して接着剤層の破断、接着剤層の折り痕、ないしは接着剤層とフレキシブル基材との間の剥離を生じやすく、耐屈曲性に劣っていた(比較例1~5)。
これに対し、本発明の規定を満たす実施例1~17のフィルム状接着剤の硬化物はいずれも優れた耐屈曲性を示した。本発明のフィルム状接着剤、又はこのフィルム状接着剤を備える接着シートを、フレキシブルデバイスの製造に用いることにより、フレキシブルデバイスの信頼性を高めることができることがわかる。
また、環状エーテル基を有する化合物として脂環構造を有するエポキシ樹脂を含むフィルム状接着剤を用いると、硬化物の貯蔵弾性率やTgは同じでも耐屈曲性をより高いレベルで実現できることがわかる(実施例1と2、実施例3と4の比較)。
2 フレキシブル基材(支持基材)
Claims (15)
- フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤であって、前記フィルム状接着剤の厚みT(μm)と、前記フィルム状接着剤の硬化物の貯蔵弾性率E’(GPa)とが、T×E’≦75を満たす、フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 前記貯蔵弾性率E’が5GPa以下である、請求項1に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 前記厚みT(μm)が1~100μmである、請求項1又は2に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 前記フィルム状接着剤の硬化物のガラス転移温度が30℃以上である、請求項1~3のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 環状エーテル基を有する化合物と、該化合物の硬化剤と、ポリマー成分とを少なくとも含む、請求項1~4のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 前記環状エーテル基を有する化合物がエポキシ樹脂を含む、請求項5に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 前記エポキシ樹脂が脂環構造を有するエポキシ樹脂を含む、請求項6に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- 前記ポリマー成分のガラス転移温度が140℃以下である、請求項5~7のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- シランカップリング剤を含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- エネルギー線硬化型である請求項1~9のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤。
- フレキシブル基材と、請求項1~10のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤とを積層してなる構造を有する、フレキシブルデバイス用接着シート。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤又は請求項11に記載のフレキシブルデバイス用接着シートを、フレキシブルデバイスを構成する層間の接着に用いることを含む、フレキシブルデバイスの製造方法。
- 請求項1~10のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイス用フィルム状接着剤を、フレキシブルデバイスの構成材料の封止に用いることを含む、フレキシブルデバイスの製造方法。
- フレキシブルデバイスの支持基材を、請求項11に記載のフレキシブルデバイス用接着シートにより形成することを含む、フレキシブルデバイスの製造方法。
- 前記フレキシブルデバイスがフレキシブルディスプレイである、請求項12~14のいずれか1項に記載のフレキシブルデバイスの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2023516606A JP7445086B2 (ja) | 2022-01-13 | 2022-12-12 | フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤、フレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 |
| KR1020247014080A KR102846920B1 (ko) | 2022-01-13 | 2022-12-12 | 플렉시블 디바이스용 필름형 접착제, 플렉시블 디바이스용 접착 시트 및 플렉시블 디바이스의 제조 방법 |
| CN202280071136.4A CN118139939A (zh) | 2022-01-13 | 2022-12-12 | 柔性器件用膜状粘接剂、柔性器件用粘接片以及柔性器件的制造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-003640 | 2022-01-13 | ||
| JP2022003640 | 2022-01-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2023136018A1 true WO2023136018A1 (ja) | 2023-07-20 |
Family
ID=87278885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2022/045722 Ceased WO2023136018A1 (ja) | 2022-01-13 | 2022-12-12 | フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤、フレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7445086B2 (ja) |
| KR (1) | KR102846920B1 (ja) |
| CN (1) | CN118139939A (ja) |
| TW (1) | TWI859665B (ja) |
| WO (1) | WO2023136018A1 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11265960A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 金属製補強材付き半導体装置 |
| JP2002226796A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-14 | Hitachi Chem Co Ltd | ウェハ貼着用粘着シート及び半導体装置 |
| JP2017110128A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | Dic株式会社 | 熱硬化性接着シート、物品及び物品の製造方法 |
| JP2018188540A (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-29 | 古河電気工業株式会社 | 接着フィルム、半導体ウェハ加工用テープ、半導体パッケージおよびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101183317B1 (ko) * | 2007-10-18 | 2012-09-14 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 접착제 조성물 및 이것을 이용한 회로 접속 재료, 및 회로 부재의 접속 방법 및 회로 접속체 |
| WO2020251030A1 (ja) | 2019-06-14 | 2020-12-17 | リンテック株式会社 | デバイス封止用接着シート |
-
2022
- 2022-12-12 JP JP2023516606A patent/JP7445086B2/ja active Active
- 2022-12-12 KR KR1020247014080A patent/KR102846920B1/ko active Active
- 2022-12-12 CN CN202280071136.4A patent/CN118139939A/zh active Pending
- 2022-12-12 WO PCT/JP2022/045722 patent/WO2023136018A1/ja not_active Ceased
- 2022-12-14 TW TW111148003A patent/TWI859665B/zh active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11265960A (ja) * | 1998-03-18 | 1999-09-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 金属製補強材付き半導体装置 |
| JP2002226796A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-14 | Hitachi Chem Co Ltd | ウェハ貼着用粘着シート及び半導体装置 |
| JP2017110128A (ja) * | 2015-12-17 | 2017-06-22 | Dic株式会社 | 熱硬化性接着シート、物品及び物品の製造方法 |
| JP2018188540A (ja) * | 2017-05-01 | 2018-11-29 | 古河電気工業株式会社 | 接着フィルム、半導体ウェハ加工用テープ、半導体パッケージおよびその製造方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| YOKOYAMA NAOKI, OSAMU AMESAWA, KATSUYUKI AIDA, ,YUKIKO OGURA, KOJI NITTA,,SHINYA TAKAHASHI, TOMOYUKI KASEMURA: "Morphologies and Properties of Cured Epoxy/Phenoxy/Cycrophenoxyphosphazen (CPP) Blends as Adhesives for Flexible Printed Circuits (FPCs)", JOURNAL OF THE ADHESION SOCIETY OF JAPAN, vol. 45, no. 9, 1 January 2009 (2009-01-01), pages 330 - 337, XP093078793 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20240121211A (ko) | 2024-08-08 |
| TWI859665B (zh) | 2024-10-21 |
| JPWO2023136018A1 (ja) | 2023-07-20 |
| CN118139939A (zh) | 2024-06-04 |
| TW202328386A (zh) | 2023-07-16 |
| JP7445086B2 (ja) | 2024-03-06 |
| KR102846920B1 (ko) | 2025-08-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101625422B1 (ko) | 경화성 방열 조성물 | |
| CN101578344A (zh) | 光波导用粘接剂组合物、使用其的光波导用粘接薄膜和光波导用粘附粘接片、以及使用它们的光学装置 | |
| US20220367234A1 (en) | Dicing die attach film and method of producing the same, and semiconductor package and method of producing the same | |
| WO2019182001A1 (ja) | フィルム状接着剤及び半導体加工用シート | |
| TWI770371B (zh) | 晶粒接合薄膜、切割晶粒接合片及半導體晶片的製造方法 | |
| US20240279517A1 (en) | Adhesive composition and film adhesive, and semiconductor package using film adhesive and producing method thereof | |
| TW202128915A (zh) | 黏接劑組成物 | |
| WO2021117604A1 (ja) | 接着剤組成物、接着フィルム及び接続構造体 | |
| CN113462335B (zh) | 膜状粘合剂 | |
| JP7445086B2 (ja) | フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤、フレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 | |
| TWI841538B (zh) | 含硬化性接合材的積層體的製造方法 | |
| JP7450116B2 (ja) | フレキシブルデバイス用樹脂組成物、フレキシブルデバイス用フィルム状接着剤、フレキシブルデバイス用接着シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 | |
| JP7470863B2 (ja) | フレキシブルデバイス用基材・接着剤層一体型シート、及びフレキシブルデバイスの製造方法 | |
| JP7470885B1 (ja) | エネルギー線硬化型フィルム状透明接着剤、これを含むデバイス及び該デバイスの製造方法 | |
| CN114270494B (zh) | 带电磁波屏蔽膜的半导体装置的制造方法及端子保护用胶带 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 2023516606 Country of ref document: JP |
|
| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 22920536 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
| WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 202280071136.4 Country of ref document: CN |
|
| NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 22920536 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |

