WO2023042559A1 - におい測定装置、脱離処理装置及びにおい測定方法 - Google Patents

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WO2023042559A1
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processing chamber
sensor
measuring device
gas
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順二 尾下
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太陽誘電株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an odor measuring device, a desorption processing device, and an odor measuring method for measuring odor.
  • Some odor measuring devices using odor sensors use QCM (quartz crystal microbalance) or the like.
  • QCM quartz crystal microbalance
  • Patent Document 1 For example, in Patent Document 1, a predetermined amount of a gas sample is passed through an odor component collector, and a dry inert gas is fed to the odor component collector at high speed, thereby removing the gas sample from the odor component collector. A detachable odor measurement method is disclosed. Further, in Patent Document 2, a sampling gas is passed through an adsorption/desorption part to adsorb an odor component, and then an odorless gas is passed through the adsorption/desorption part to sense the odorless gas with the odor component adsorbed thereon. A detection method is disclosed.
  • Patent Document 3 a concentration distribution measuring device comprising a measurement chamber containing a gas sensor, an intake port connected to the measurement chamber, and an information acquisition unit for acquiring information including the position and direction of the intake port is used, An odor measurement method is disclosed that detects the direction of gas arrival based on the direction of the air intake. Furthermore, in Patent Document 4, an odor identification system is provided between a sample storage chamber and an odor measurement chamber and includes an odor selection element that selects odors using a molecular size filter or a polar filter to select and detect odors. A method for odor identification is disclosed.
  • Patent Documents 1 to 4 when the odor to be measured is of low concentration, detection is not easy due to insufficient sensitivity and the influence of disturbance.
  • concentration for detecting low concentrations but do not describe means for stably measuring low concentrations.
  • an object of the present invention is to provide an odor measuring device, a desorption treatment device, and an odor measuring method suitable for measuring low-concentration odors.
  • an odor measuring device includes a sensor chamber, a processing chamber, a first channel, a second channel, a supply section, and a measurement section.
  • the sensor chamber houses a sensor that detects an odorant, and has a first inlet and a first outlet.
  • the processing chamber accommodates the object to be measured, and has a second inlet and a second outlet.
  • the first flow path connects the first discharge port and the second suction port.
  • the second flow path connects the second outlet and the first inlet.
  • the supply section circulates gas between the sensor chamber and the processing chamber via the first flow path and the second flow path.
  • the measurement unit acquires a detection value from the sensor and measures the odor based on the detection value.
  • an odor measuring device includes a sensor chamber, a processing chamber, a channel, a supply section, and a measurement section.
  • the sensor chamber houses a sensor that detects an odorant, and has a first inlet and a first outlet.
  • the processing chamber includes a desorption processing chamber provided with a second discharge port and accommodating the measurement object, and a gas processing chamber provided with a second suction port and communicating with the desorption processing chamber through an opening.
  • the desorption processing chamber has a lower surface provided with the opening and an upper surface facing the lower surface, protrudes from the upper surface toward the lower surface, and supports the measurement object together with the lower surface.
  • a presser foot is provided.
  • the flow path connects the second outlet and the first inlet.
  • the supply unit supplies the gas in the processing chamber to the sensor chamber through the flow path.
  • the measurement unit acquires a detection value from the sensor and measures the odor based on the detection value.
  • an odor measuring device includes a sensor chamber, a processing chamber, a flow path, a supply section, a measurement section, and a heating element.
  • the sensor chamber houses a sensor that detects an odorant, and has a first inlet and a first outlet.
  • the processing chamber accommodates the object to be measured, and has a second inlet and a second outlet.
  • the flow path connects the second outlet and the first inlet.
  • the supply unit supplies the gas in the processing chamber to the sensor chamber through the flow path.
  • the measurement unit acquires a detection value from the sensor and measures the odor based on the detection value.
  • the heating body heats the object to be measured.
  • an odor measuring method includes a sensor chamber containing a sensor for detecting an odorant and having a first inlet and a first outlet; and a second inlet.
  • a processing chamber having a second outlet; a first flow path connecting the first outlet and the second inlet; and a second flow path connecting the second outlet and the first inlet.
  • a sensor module comprising a supply unit for circulating gas between the sensor chamber and the processing chamber via the first flow path and the second flow path, wherein the processing chamber contains an object to be measured; part, circulates gas between the sensor chamber and the processing chamber, and measures the odor based on the detected value obtained from the sensor.
  • a desorption treatment apparatus includes a desorption treatment chamber, a plurality of openings, a plurality of wall-shaped bodies, and a discharge port.
  • the desorption processing chamber has a space formed by the upper surface, the lower surface, and the side surface connecting the upper surface and the lower surface, and a sheet-like body such as cloth can be placed on the lower surface.
  • the plurality of openings are provided on the lower surface of the desorption processing chamber and covered with the sheet-like body.
  • the plurality of wall-shaped bodies are provided from the upper surface to the lower surface and press the sheet-shaped body.
  • the discharge port transports the gas that has passed through the opening and the sheet-like body to the outside.
  • a desorption treatment apparatus includes a desorption treatment chamber, an opening, a plurality of wall-like bodies, and a discharge port.
  • the desorption processing chamber has a space formed by the upper surface, the lower surface, and the side surface connecting the upper surface and the lower surface, and a sheet-like body such as cloth can be placed on the lower surface.
  • the opening is provided on the lower surface of the desorption processing chamber and has a slit shape extending in parallel with a plurality of openings covered with the sheet-like body.
  • the plurality of wall-shaped bodies are provided from the upper surface to the lower surface, hold down the sheet-shaped body, and intersect with the opening.
  • the discharge port transports the gas that has passed through the opening and the sheet-like body to the outside.
  • a desorption treatment apparatus includes a desorption treatment chamber, an opening, a plurality of wall-like bodies, a heating body, and a discharge port.
  • the desorption processing chamber has a space formed by the upper surface, the lower surface, and the side surface connecting the upper surface and the lower surface, and a sheet-like body such as cloth can be placed on the lower surface.
  • the opening is provided on the lower surface of the desorption processing chamber and has a slit shape extending in parallel with a plurality of openings covered with the sheet-like body.
  • the plurality of wall-shaped bodies are provided from the upper surface to the lower surface, hold down the sheet-shaped body, and intersect with the opening.
  • the heating element is in the form of a sheet provided on the back side of the opening or on the front side of the opening.
  • the discharge port transports the gas that has passed through the opening and the sheet-like body to the outside.
  • an odor measuring device As described above, according to the present invention, it is possible to provide an odor measuring device, a desorption processing device, and an odor measuring method suitable for measuring low-concentration odors.
  • FIG. 1 is a perspective view of an odor measuring device according to an embodiment of the present invention
  • FIG. Fig. 3 is a perspective view showing a state in which the lid of the odor measuring device is opened
  • Fig. 2 is a perspective view showing the internal structure of the odor measuring device
  • It is a schematic diagram which shows the structure of the said odor measuring apparatus.
  • It is a schematic diagram of the processing chamber with which the said odor measuring apparatus is equipped.
  • FIG. 2 is a schematic diagram of an open state of a processing chamber included in the odor measuring device
  • 4 is a timing chart showing the operating state of the odor measuring device
  • It is a schematic diagram which shows the measurement flow of the said odor measuring apparatus.
  • It is a schematic diagram which shows the cleaning flow of the said odor measuring apparatus.
  • FIG. 4 is a graph showing detection values of an odor sensor included in the odor measuring device.
  • 4 is a graph showing detected values of an odor sensor included in the odor measuring device and an odor sensor included in an odor measuring device according to a comparative example.
  • 1 is a perspective view of an odor measuring device provided with a pressing section according to an embodiment of the present invention;
  • FIG. 2 is a plan view of a processing chamber included in the odor measuring device;
  • 1 is a perspective view of an odor measuring device provided with a pressing portion and a side wall portion according to an embodiment of the present invention;
  • FIG. 2 is a plan view of a processing chamber included in the odor measuring device; 1 is a schematic diagram of a processing chamber of an odor measuring device equipped with a heating body according to an embodiment of the present invention; FIG. FIG. 5 is a schematic diagram showing another arrangement of heating elements in the processing chamber of the odor measuring device.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing another arrangement of heating elements in the processing chamber of the odor measuring device.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing another arrangement of heating elements in the processing chamber of the odor measuring device.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing another arrangement of heating elements in the processing chamber of the odor measuring device.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a processing chamber containing a liquid measurement object of the odor measuring device according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of an odor measuring device according to a modification of the present invention
  • FIG. 4 is a schematic diagram of an odor measuring device according to a modification of the present invention
  • FIG. 10 is a schematic diagram of a processing chamber included in an odor measuring device according to a modification of the present invention
  • odor refers to an aggregate of multiple types of odorous substances.
  • examples of odorants include molecules such as acetone and toluene. Since the adsorption film of each odor sensor, which will be described later, has selectivity for the odor substances to be adsorbed, different types of odors are adsorbed on the adsorption film of each odor sensor. In other words, the adsorption film of each odor sensor differs in the composition and amount of the multiple types of odor substances that it adsorbs.
  • the type of odor which is an aggregate of each odor substance, is determined.
  • the types of odors include fruit odors, body odors, burnt odors caused by broken power cords, and addictive drug odors prohibited by law. The details will be described below.
  • FIGS. 1 and 2 are perspective views of an odor measuring device 100 according to the present embodiment
  • FIG. 3 is a perspective view of a partial configuration of the odor measuring device 100.
  • the odor measuring device 100 includes a housing 101 and a lid 102.
  • the housing 101 is constructed by joining an upper housing 103 and a lower housing 104 .
  • the lid 102 is configured to be openable and closable with respect to the housing 101 as shown in FIG. Lid 102 is connected to upper housing 103 .
  • the upper housing 103 has a rectangular upper surface, four side surfaces extending downward from four sides of the upper surface, and a rectangular lower surface connected to the four side surfaces at positions facing the upper surface.
  • the shape of the upper housing 103 is not limited to such a cubic shape, and may be any shape that can accommodate an object to be measured, which will be described later.
  • An opening is provided on the upper surface for taking in and out the object to be measured, and a lid 102 is arranged so as to cover this opening.
  • one side of the lid 102 is attached around the opening so that it can be opened and closed, but the lid 102 may be a cap and may be removable.
  • the upper housing 103 itself may be removable. Then, the lid 102 is opened, and the object to be measured is placed in the lower housing 104 side.
  • FIG. 3 is a perspective view of the lower housing 104 with the illustration of the upper housing 103 and lid 102 omitted.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing the configuration of the odor measuring device 100.
  • the odor measuring device 100 includes a sensor chamber 111, a sensor module 112 installed in the sensor chamber 111, a processing chamber 113, a first channel 114, a second channel 115, a filter 116, a second It has three channels 117 , a fourth channel 118 , a first supply section 119 , a second supply section 120 , a control section 121 and a measurement section 122 .
  • the sensor chamber 111 is a processing chamber in which a sensor module 112 is housed and a gaseous fluid containing an odor is supplied from the processing chamber 113 to detect the odor.
  • the sensor chamber 111 has a first inlet 111a, a third inlet 111b and a first outlet 111c.
  • the sensor module 112 has an odor sensor 123 and a humidity sensor 124 .
  • Sensor module 112 may further include a temperature sensor.
  • the number of odor sensors 123 provided in the sensor module 112 is preferably plural, and 12 odor sensors 123 are provided in this embodiment.
  • the odor sensor 123 outputs a detection value corresponding to the amount of odor substances adsorbed.
  • the odor sensor 123 is, for example, a QCM (Quartz Crystal Microbalance) sensor, and includes a vibrator and an adsorption film covering the surface of the vibrator.
  • a vibrator vibrates at a constant resonance frequency when a voltage is applied. This resonance frequency is, for example, 9 MHz.
  • the adsorption film is provided on the vibrator and adsorbs a specific odor substance. When the vibrator is vibrated at a constant resonance frequency, if an odorous substance is adsorbed on the adsorption film, the weight of the adsorption film increases and the resonance frequency of the vibrator decreases.
  • the odor sensor 123 outputs the fluctuation amount of this resonance frequency to the measuring section as a detection value.
  • the odor sensor is a polymer or ceramic resistive sensor, a capacitive sensor in which the dielectric is sandwiched between two electrodes, the dielectric constant of which is changed by adsorption, and the QCM of this embodiment.
  • a vibration type sensor such as FBAR (Film Bulk Acoustic Resonator) or SAW (Surface Acoustic Wave) may be used.
  • the adsorption film is made of a different material for each odor sensor 123 .
  • the odor contained in the gas to be measured contains one or more odorous substances.
  • the material used for the adsorption film is appropriately selected according to the type of odor to be measured.
  • the adsorption film includes cellulose, fluorine-based polymer, lecithin, phthalocyanine compound, porphyrin compound, polyimide, polypyrrole, polystyrene, acrylic polymer, sphingomyelin, polybutadiene, polyisoprene, polyvinyl alcohol polymer, UiO-66, Metal-organic frameworks (MOFs) such as MIL-125, ZIF-8 can be used.
  • the adsorption film may have any one of these materials, or may have a combination of two or more materials.
  • Humidity sensor 124 detects the relative humidity of the gas within sensor chamber 111 .
  • a known humidity sensor such as a capacitance type whose capacitance changes in response to moisture or a resistance change type whose electrical resistance changes in response to moisture can be used.
  • the humidity sensor 124 may be one of the odor sensors 123 formed with a hydrophilic adsorption film.
  • Humidity sensor 124 outputs the detected relative humidity to the measurement unit.
  • a known temperature sensor such as a thermistor can be used as the temperature sensor.
  • the processing chamber 113 accommodates an object to be measured, and has a second inlet 113a and a second outlet 113b as shown in FIG.
  • FIG. 5 is a schematic diagram showing the processing chamber 113.
  • the processing chamber 113 is composed of two chambers, a desorption processing chamber 131 and a gas processing chamber 132 .
  • the lower surface 131a of the desorption processing chamber 131 is shared with the upper surface 132a of the gas processing chamber 132, and the two are integrated, and the shared plate is provided with an opening 113c.
  • the desorption processing chamber 131 is configured to be openable and closable.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing opening and closing of the desorption processing chamber 131. As shown in FIG. As shown in FIGS. 6 and 2, the desorption processing chamber 131 can be opened and closed by a lid 102 and can accommodate the object to be measured. In FIG. 4, the measurement object accommodated in the processing chamber 113 is indicated as the measurement object P. As shown in FIG.
  • the object P to be measured is not particularly limited, but is, for example, a sheet-like body such as a mask or cloth. The area around the mouth and the surface of the bag to which the odorant adheres are wiped off with a cloth, and the cloth is put into the desorption processing chamber 131 .
  • the object P to be measured may have an odorous substance attached to it, or may be a source of odorous substances, such as food such as fruits and vegetables.
  • the object P to be measured is not limited to a solid object, and may be a liquid drink such as juice containing fruit components. In the case of a liquid object, it is desirable to use a dish 161 shown in FIG. 23 or store the liquid object in a container with a hole in the lid so that volatile gas can be emitted.
  • the desorption processing chamber 131 has the second discharge port 113b. Further, as shown in FIG. 5, the desorption processing chamber 131 has a lower surface 131a, an upper surface 131b and a side surface 131c.
  • the lower surface 131a is a surface on which the measurement object P is placed, and the upper surface 131b is a surface facing the lower surface 131a.
  • the side surface 131c connects the lower surface 131a and the upper surface 131b, and the upper surface 131b, the lower surface 131a, and the side surface 131c form a space.
  • the desorption processing chamber and various components provided in the desorption processing chamber are collectively referred to as a "desorption processing apparatus".
  • the gas processing chamber 132 is a chamber adjacent to the desorption processing chamber 131 .
  • the gas processing chamber 132 has the second inlet 113a.
  • the desorption processing chamber 131 has an upper surface 132a, a lower surface 132b and a side surface 132c.
  • the upper surface 132a is the back surface of the lower surface 131a of the desorption processing chamber 131, and the lower surface 132b is the surface facing the upper surface 132a.
  • the side surface 132c connects the lower surface 132b and the upper surface 132a, and the upper surface 132a, the lower surface 132b, and the side surface 132c form a space.
  • An opening 113 c is provided between the lower surface 131 a of the desorption processing chamber 131 and the upper surface 132 a of the gas processing chamber 132 .
  • the desorption processing chamber 131 and the gas processing chamber 132 communicate with each other through this opening 113c.
  • the opening 113c is, for example, a plurality of slit-like openings 113c extending in parallel as shown in FIG.
  • the number of openings 113c is not particularly limited.
  • the first flow path 114 connects the first outlet 111c of the sensor chamber 111 and the second inlet 113a of the processing chamber 113, as shown in FIG.
  • the second flow path 115 connects the second outlet 113b of the processing chamber 113 and the first inlet 111a of the sensor chamber 111, as shown in FIG.
  • the first flow path 114 may be connected to the third flow path 117 as shown in FIG. 4, or may be an independent flow path that is not connected to the third flow path 117 .
  • the filter 116 removes odor substances and moisture (such as water vapor) from the gas in the sensor chamber 111 by passing through the filter 116 .
  • the third flow path 117 connects the first outlet 111c of the sensor chamber 111 and the filter 116, as shown in FIG.
  • the fourth flow path 118 connects the filter 116 and the third suction port 11b of the sensor chamber 111, as shown in FIG.
  • the first supply unit 119 circulates the gas between the sensor chamber 111 and the processing chamber 113 via the first channel 114 and the second channel 115 .
  • the first supply unit 119 is a mechanism capable of sending gas using a pump, fan, or the like, and is arranged in the sensor chamber 111 near the first suction port 111a. Also, the first supply unit 119 may be provided in the middle of the second flow path 115 .
  • the second supply unit 120 circulates the gas between the sensor chamber 111 and the filter 116 via the third channel 117 and the fourth channel 118 .
  • the second supply unit 120 is a mechanism capable of sending gas using a pump, fan, or the like, and is arranged in the sensor chamber 111 near the third suction port 111b. Also, the second supply section 120 may be provided in the middle of the fourth flow path 118 .
  • the control unit 121 is connected to the sensor module 112, the first supply unit 119 and the second supply unit 120 and controls them.
  • a heater 151 shown in FIGS. 19 and 20 can also be controlled.
  • the heating element 151 may be a Peltier element.
  • the control unit 121 causes the oscillator of each odor sensor 123 to vibrate at a predetermined resonance frequency, and acquires the amount of change in the resonance frequency from each odor sensor 123 as a detection value.
  • the control unit 121 transmits the acquired detection value of each odor sensor 123 to the measurement unit 122 .
  • the control section 121 controls the first supply section 119 and the second supply section 120 to switch the operating state of the odor measuring device 100 . This operating state will be described later.
  • the measurement unit 122 acquires the detection value of each odor sensor 123, and when the change in the detection value falls within a predetermined amount in a predetermined time, for example, when the detection value stabilizes, the measurement unit 122 determines the odor based on the detection value. .
  • the measurement unit 122 can measure each odor substance from the detection value of each odor sensor 123 and specify the amount of each odor substance desorbed from the measurement object P. In addition, the measurement unit 122 can determine the type and strength of the odor released from the measurement object P using the amount of each identified odorant and the databased reference information.
  • FIG. 7 is a timing chart showing the operating state of the odor measuring device 100
  • FIGS. 8 and 9 are schematic diagrams showing the operation of the odor measuring device 100.
  • the odor measurement device 110 is in two states, a "measurement state” and a "cleaning state.”
  • the control section 121 drives the first supply section 119 and stops driving the second supply section 120 .
  • gas flows from the sensor chamber 111 into the first channel 114 via the first discharge port 111c, and flows from the first channel 114 into the second suction port 113a, as indicated by arrows in FIG. flows into the gas treatment chamber 132 via the .
  • the gas flows into the desorption processing chamber 131 through the opening 113c and passes through the object P to be measured.
  • the gas flows from the desorption processing chamber 131 into the second channel 115 through the second outlet 113b.
  • the gas flows into the sensor chamber 111 from the second flow path 115 through the first suction port 111a.
  • the gas again flows from the sensor chamber 111 into the first channel 114 via the first outlet 111c, and thereafter repeats the flow described above. That is, gas circulates between the sensor chamber 111 and the processing chamber 113 via the first channel 114 and the second channel 115 in the measurement state.
  • this gas flow will be referred to as "measurement flow”.
  • the measurement object P is a sheet-like body such as cloth, mask, handkerchief, or absorbent cotton, and covers the lower surface 131a including the opening 113c. Therefore, the gas is forced to pass through the object P to be measured.
  • the odor component contained in the object P to be measured is a very small amount, the number of times of circulation in FIG. and less.
  • the control section 121 stops driving the first supply section 119 and drives the second supply section 120 .
  • the gas flows from the sensor chamber 111 through the first discharge port 111c into the third channel 117 and then into the filter 116 from the third channel 117, as indicated by arrows in FIG. .
  • the gas passes through the filter 116, flows into the fourth channel 118, and flows into the sensor chamber 111 through the third suction port 111b.
  • the gas again flows from the sensor chamber 111 into the third channel 117 via the first outlet 111c, and thereafter repeats the flow described above. That is, in the cleaning state, gas circulates between the sensor chamber 111 and the filter 116 via the third channel 117 and the fourth channel 118 .
  • this gas flow will be referred to as "cleaning flow”.
  • FIG. 10 is a schematic diagram showing an odor measurement process by the odor measurement device 100.
  • the odor measurement process includes a cleaning step St101, a measurement step St102 and a cleaning step St103.
  • the odor measuring apparatus 100 is placed in the cleaning state described above, and a cleaning flow as indicated by arrows in FIG. 9 is generated.
  • the odor substances and moisture adhering to the adsorption film of the odor sensor 123 desorb into the gas, are adsorbed (trapped) by the filter 116, and are removed.
  • S1 is, for example, 20 minutes. The higher the number of times this flow circulates, the higher the degree of cleaning. Note that the arrow in FIG. 9, that is, the direction of circulation may be reversed.
  • the odor measurement apparatus 100 is brought into the measurement state described above, and the measurement flow is generated. Odor substances adhering to the measurement object P are desorbed by the measurement flow passing through the measurement object P and transported to the sensor chamber 111 . The odorant transported to the sensor chamber 111 is adsorbed on the adsorption film of the odor sensor 123 . Odor sensor 123 outputs the detected value to measuring section 122 .
  • S2 is the period after the time T3, which will be described later. In other words, the measurement is made after T3 when the change has settled down.
  • the odor measuring device 100 is placed in the cleaning state described above, and the cleaning flow indicated by the arrow in FIG. 9 is generated.
  • the odor substances and moisture adhering to the adsorption film or the like of the odor sensor 123 desorb into the gas and are adsorbed by the filter 116, and the odor of the odor sensor 123 is removed.
  • S3 is, for example, 20 minutes.
  • the lid 102 is opened and the object P to be measured is taken out.
  • the next object P to be measured can be placed in the desorption processing chamber 131 and the odor can be measured in the same manner.
  • the odor measurement process by the odor measurement device 100 is performed as described above. Note that the desorption processing chamber 131 is detachable, and can be detached and cleaned after the measurement of the object P to be measured. Also, the above measurement process may be executed by the user using the odor measuring device 100 or by the control section 121 .
  • the measurement unit 122 acquires the detected value output from each odor sensor 123 as described above.
  • FIG. 11 is a graph showing the variation of the resonance frequency, which is the detection value output from one odor sensor 123.
  • the detected value increases from the start time T1 of the measurement step St102 and gradually stabilizes.
  • the measurement unit 122 specifies the time when the detected value is stabilized as the time T3. Specifically, the measurement unit 122 specifies the time when the change in the detected value is within a predetermined amount for a predetermined period of time as the time T3.
  • the predetermined time is, for example, 60 seconds, and the predetermined amount is, for example, 18 Hz.
  • the measurement unit 122 may specify the time when the change in the detected value per second is within a predetermined amount as time T3, for example, the time when the change in the detected value is within ⁇ 0.3 Hz/sec. can be identified as time T3.
  • time T3 the time when the change in the detected value is within ⁇ 0.3 Hz/sec.
  • Measurement unit 122 measures the odor based on the detected value at time T3.
  • the measurement unit 122 can specify the amount of the odor substance adsorbed to the adsorption film of the odor sensor 123 from the detection value of each odor sensor 123 at time T3. At this time, the measurement unit 122 may use a detected value corrected by humidity or temperature. In addition, the measurement unit 122 can determine the type and strength of the odor desorbed from the measurement object P by comparing the amount of each identified odorant with the information stored in the database.
  • the measurement unit 122 After specifying the time T3, the measurement unit 122 notifies the control unit 121 of the time T3.
  • the control unit 121 ends the measurement step St102 shown in FIG. 10 by setting the time after the time T3 to the time T2.
  • the control unit 121 may set the time T2 after a certain period of time has elapsed from the time T3, or may set the same time as the time T3 as the time T2.
  • the control unit 121 may set the time after a certain period of time from the time T1 as the time T2 regardless of the time T3.
  • the measuring unit 122 can also specify the time T3 after the end of the measurement St102 and measure the odor based on the detected value at the time T3.
  • the measurement unit 122 specifies the time T3 as the time when the change in the detected value is within a predetermined amount for a predetermined period of time, and also determines when the change in the detected value occurs when the measurement flow indicated by the arrows in FIG.
  • the time when the amount is within the fixed amount may be specified as time T3.
  • FIG. 12 is a graph showing the amount of resonance frequency variation, which is the detected value of the odor sensor 123 provided in the odor measurement apparatus 100, and the amount of resonance frequency variation of the odor sensor provided in the odor measurement apparatus according to the comparative example.
  • the amount of resonance frequency variation detected by the odor sensor 123 provided in the odor measuring device 100 is indicated as "Invention”
  • the amount of resonance frequency variation of the odor sensor provided in the odor measuring device according to the comparative example is indicated as "Comparative example”.
  • the odor measuring device has a structure in which outside air flows into a processing chamber containing an object to be measured, gas flows from the processing chamber into a sensor chamber containing an odor sensor, and is discharged from the sensor chamber to the outside. , it does not have a structure in which gas circulates between the processing chamber containing the object to be measured and the sensor chamber.
  • the resonance frequency fluctuation amount is large immediately after the start of measurement, and the resonance frequency fluctuation amount gradually decreases as the measurement time elapses. This is because the odorant transported to the odor sensor decreases as the detachment of the odorant from the object to be measured progresses, and the odorant adsorbed to the odorant sensor gradually desorbs. In this case, it is difficult to determine at what point in time the resonance frequency variation amount should be used to specify the amount of the odorant.
  • the maximum value of the resonance frequency fluctuation amount immediately after the start of measurement may also change due to the influence of temperature and the like. As described above, in the case of the odor measuring apparatus according to the comparative example, accurate odor measurement may not be possible. becomes difficult.
  • the amount of resonance frequency fluctuation increases as the measurement time elapses and then gradually stabilizes. This is because the gas circulates between the sensor chamber 111 and the processing chamber 113 in the measurement flow indicated by the arrows in FIG. 8 and is not discharged to the outside. This is because the concentration of the odorant in the circulation route becomes uniform. Therefore, the detection value of the odor sensor 123 is stabilized, and the odor identification accuracy is improved. In particular, even when the amount of odorant adhering to the object to be measured is small and the concentration of the odorant is low, the odorant is not emitted to the outside, so odor can be measured with high accuracy.
  • the present invention has a plurality of odor sensors 123, and compares the pattern of detection values of the plurality of odor sensors 123 with a trained model of machine learning in which the pattern of detection values and the type of odor correspond to each other.
  • This is suitable for determining the type and intensity of odor. This is because when determining the type and intensity of the odor, the type and intensity of the odor can be determined with high accuracy by matching with the learned model after the concentration of the odor contained in the gas has stabilized.
  • the use of the odor measuring device 100 is not particularly limited. can be measured. That is, it can be used as an intake type odor measuring device. As described above, the odor measuring device 100 is also suitable for low-concentration odor measurement, and can be suitably used for such applications. For example, when detecting a prohibited drug, even if it is present in an extremely small amount on a dishcloth, it can be detected by the odor sensor 123 if the circulation shown in FIG. 8 takes time. For prohibited substances, the presence or absence of this drug is more important than measuring the magnitude of the concentration. In the circulation shown in FIG. 8, the drug-containing gas passes through the sensitive membrane of the odor sensor 123 many times, so the detection capability of the odor sensor 123 is improved.
  • the odor measuring device 100 may have a pressing structure that presses the object P to be measured.
  • FIG. 13 is a perspective view of the odor measuring device 100 having the pressing structure
  • FIG. 14 is a schematic diagram of the processing chamber 113 of the odor measuring device 100 having the pressing structure.
  • the desorption processing chamber 131 may include a pressing portion 141 projecting from the upper surface 131b toward the lower surface 131a.
  • the holding portion 141 holds the measurement object P together with the lower surface 131a as shown in FIG.
  • the lower surface 131a is provided with the opening 113c as described above, and in the measurement flow indicated by the arrow in FIG.
  • the object P to be measured bends or floats, the air resistance in this space is small, so the gas does not pass through the object P to be measured and is discharged from the desorption processing chamber 131, causing an odor. It may become difficult for the substance to detach from the object P to be measured.
  • the measurement object P against the lower surface 131a with the pressing part 141 bending and floating of the measurement object P can be eliminated, and the odorant can be reliably desorbed from the measurement object P.
  • FIG. 15 is a plan view showing the shape of the holding portion 141.
  • the pressing portion 141 is a wall-like body (plate-like body) extending downward from the upper surface 131b, and extends in the X direction perpendicular to the extending direction of the opening 113c, which is the Y direction. It can have a shape extending in the direction. Due to this shape, the opening 113c and the pressing portion 141 are arranged in a grid pattern, and the object P to be measured can be reliably pressed. This is because if the extending direction of the opening 113c and the extending direction of the wall-like body match, the wall-like body or the measurement object may block the opening.
  • the desorption processing chamber 131 may further include side walls.
  • FIG. 16 is a perspective view of the odor measuring device 100 having the holding portion 141 and the side wall portion 142
  • FIG. FIG. 18 is a plan view showing the shapes of the pressing portion 141 and the side wall portion 142.
  • the side wall portion 142 has a wall shape that protrudes from the upper surface 131b toward the lower surface 131a and surrounds the pressing portion 141 on three sides. Due to this shape, the side wall portion 142 sandwiches the peripheral edge portion of the measurement object P together with the lower surface 131a, so that the entire measurement object P can be reliably held down.
  • the desorption processing chamber 131 may be provided with only the side wall portion 142 without the pressing portion 141 .
  • the odor measuring device 100 may be equipped with a heating body for heating the object to be measured.
  • FIG. 19 is a schematic diagram of the processing chamber 113 in which the heating element 151 is provided. As shown in the figure, the heater 151 is provided outside the gas processing chamber 132 on the rear surface of the lower surface 132b. By causing the heating element 151 to generate heat during the measurement flow shown in FIG. 8, the gas in the gas processing chamber 132 is heated. The separation can be accelerated, and the odorous substance adhering to the channel and the inner wall of the processing chamber 113 can be desorbed.
  • thermoelectric element 151 By arranging the heating element 151 below the object P to be measured, it is possible to generate an updraft indicated by the arrows in the drawing, and to apply the gas to the object P to be measured efficiently.
  • a sheet-like Peltier element may be employed as the heating element.
  • the arrangement of the heating element 151 is not limited to that described above.
  • 20 to 22 are schematic diagrams showing other arrangements of the heating element 151.
  • the heating element 151 may be arranged on the lower surface 132b inside the gas processing chamber 132.
  • the heating body 151 may be arranged on the lower surface 131a of the desorption processing chamber 131 around the opening 113c. In this configuration, the heating body 151 and the object P to be measured are close to each other, so the object P to be measured can be efficiently heated.
  • the heating element 151 may be arranged on the upper surface 132a of the gas processing chamber 132 around the opening 113c. If the heater is a sheet, a slit may be provided in the sheet and the slit and the opening 113c may be aligned.
  • the heating body 151 may be arranged on the entire inner wall of the desorption processing chamber 131 . With this configuration, it is possible to suppress adhesion of the odorant to the inner wall of the desorption processing chamber 131, which is particularly effective when the concentration of the odorant is low.
  • the heating element 151 can be arranged outside the desorption processing chamber 131 and the gas processing chamber 132 or in at least one of the chambers. It is also possible to arrange them respectively.
  • the odor measuring device 100 may be provided with the holding portion 141 and the side wall portion 142 as well as the heating body 151 .
  • the odor measuring device 100 can also measure the odor of a liquid object to be measured.
  • 23A and 23B are schematic diagrams showing a method for measuring a liquid measurement object P.
  • the liquid object P to be measured is placed in a dish 161 and placed in a case 162 .
  • the case 162 has an opening 162a that communicates with the opening 113c, and has a curved shape as indicated by the arrow in the figure for guiding the gas that flows in from the opening 162a to the object P to be measured.
  • the gas flowing from the opening 162a efficiently hits the measurement object P, and the vaporization of the measurement object P can be promoted.
  • FIG. 24 to 26 are schematic diagrams showing modifications of the odor measuring device 100.
  • the odor measuring device 100 may not have the filter 116, the third channel 117 and the fourth channel 118.
  • FIG. instead, the odor measuring device 100 has an opening for introducing the cleaning gas and an outlet for discharging the cleaning gas.
  • the cleaning gas an odorless gas may be introduced, or gas may be taken in from outside air and odor substances removed by a filter.
  • part or all of the holding portion 141, the side wall portion 142, and the heating body 151 can be provided.
  • the odor measuring device 100 may not have the first channel 114.
  • FIG. 8 the circulating measurement flow shown in FIG. 8 does not occur. , and is discharged from the first discharge port 111c.
  • the odor substance desorbed from the measurement object P is supplied to the odor sensor 123 by this measurement flow and measured.
  • part or all of the holding portion 141, the side wall portion 142, and the heating body 151 can be provided.
  • FIG. 16 is a schematic diagram showing the processing chamber 113 of the odor measuring device 100 according to the modification.
  • the processing chamber 113 may have only the desorption processing chamber 131 .
  • the gas does not pass through the object P to be measured, so the desorption speed of the odorant from the object P is low. This makes it possible to measure odor substances.
  • the heating element 151 can be provided inside or outside the desorption processing chamber 131 .

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Abstract

【課題】本発明の目的は、低濃度のにおいの測定に適したにおい測定装置、取り込み型におい測定装置及びにおい測定方法を提供すること。【解決手段】本発明に係るにおい測定装置は、センサ室と、処理室と、第1流路と、第2流路と、供給部と、測定部とを具備する。センサ室は、におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有する。処理室は、測定対象物を収容し、第2吸入口と第2排 出口を有する。第1流路は、第1排出口と第2吸入口を接続する。第2流路は、第2排出口と第1吸入口を接続する。供給部は、第1流路及び第2流路を介して、センサ室と処理室の間で気体を循環させる。測定部は、センサから検出値を取得し、検出値に基づいてにおいを測定する。

Description

におい測定装置、脱離処理装置及びにおい測定方法
本発明は、においを測定するにおい測定装置、脱離処理装置及びにおい測定方法に関する。
においセンサを用いたにおい測定装置では、QCM(quartz crystal microbalance)等を利用したものがある。このにおいセンサの感応部ににおい物質が吸着することによって、においセンサの電気的特性が変化し、においが測定される。 
例えば特許文献1には、におい成分捕集材に所定量の気体試料を通過させ、乾燥不活性ガスを高速でにおい成分捕集材に送給することにより、気体試料をにおい成分捕集材から離脱させて測定するにおい測定方法が開示されている。 また、特許文献2には吸脱着部にサンプリングガスを通過させて吸脱着部ににおい成分を吸着させた後、吸脱着部に無臭ガスを通過させ、におい成分が吸着した無臭ガスをセンシングするにおい検知方法が開示されている。 
さらに、特許文献3には、ガスセンサを収容する測定室と、測定室に接続された吸気口と、吸気口の位置及び方向を含む情報を取得する情報取得部を備える濃度分布計測装置を用い、吸気口の方向に基づいてガスが到来する方向を検知するにおい測定方法が開示されている。 さらに、特許文献4には、サンプル収容室とにおい測定室の間に設けられ、分子サイズフィルタや極性フィルタによりにおいを選別するにおい選別素子部を備えるにおい識別システムを用いてにおいを選別して検知するにおい識別方法が開示されている。
特開2002-350299号公報 特開平10-19862号公報 特開2020-12732号公報 特開2016-186426号公報
しかしながら、特許文献1~4に記載の方法では、測定対象のにおいが低濃度の場合、感度の不足や外乱の影響もあり、検知が容易ではない。これらの特許文献では低濃度の検知のための濃縮については記載されているが、安定的に低濃度の測定を行う手段は記載されていない。 
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、低濃度のにおいの測定に適したにおい測定装置、脱離処理装置及びにおい測定方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るにおい測定装置は、センサ室と、処理室と、第1流路と、第2流路と、供給部と、測定部とを具備する。 上記センサ室は、におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有する。 上記処理室は、測定対象物を収容し、第2吸入口と第2排出口とを有する。 上記第1流路は、上記第1排出口と上記第2吸入口を接続する。 上記第2流路は、上記第2排出口と上記第1吸入口を接続する。 上記供給部は、上記第1流路及び上記第2流路を介して、上記センサ室と上記処理室の間で気体を循環させる。 上記測定部は、上記センサから検出値を取得し、上記検出値に基づいてにおいを測定する。 
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るにおい測定装置は、センサ室と、処理室と、流路と、供給部と、測定部とを具備する。 上記センサ室は、におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有する。 上記処理室は、第2排出口が設けられ、上記測定対象物を収容する脱離処理室と、第2吸入口が設けられ、開口部を介して上記脱離処理室と連通する気体処理室とを備え、上記脱離処理室は、上記開口部が設けられた下面と、上記下面と対向する上面とを有し、上記上面から上記下面に向かって突出し、上記下面と共に上記測定対象物を押える押え部を備える。 上記流路は、上記第2排出口と上記第1吸入口を接続する。 上記供給部は、上記流路を介して上記処理室内の気体を上記センサ室に送出する。 上記測定部は、上記センサから検出値を取得し、上記検出値に基づいてにおいを測定する。 
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るにおい測定装置は、センサ室と、処理室と、流路と、供給部と、測定部と、加熱体とを具備する。 上記センサ室は、におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有する。 上記処理室は、測定対象物を収容し、第2吸入口と第2排出口とを有する。 上記流路は、上記第2排出口と上記第1吸入口を接続する。 上記供給部は、上記流路を介して上記処理室内の気体を上記センサ室に送出する。 上記測定部は、上記センサから検出値を取得し、上記検出値に基づいてにおいを測定する。 上記加熱体は、上記測定対象物を加熱する。 
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るにおい測定方法は、におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有するセンサ室と、第2吸入口と第2排出口とを有する処理室と、上記第1排出口と上記第2吸入口を接続する第1流路と、上記第2排出口と上記第1吸入口を接続する第2流路と、上記第1流路及び上記第2流路を介して上記センサ室と上記処理室の間で気体を循環させる供給部とを備えるセンサモジュールにおいて上記処理室に測定対象物を収容し、 上記供給部に、上記センサ室と上記処理室の間で気体を循環させ、 上記センサから取得した検出値に基づいてにおいを測定する。 
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る脱離処理装置は、脱離処理室と、複数の開口部と、複数枚の壁状体と、排出口とを具備する。 前記脱離処理室は上面、下面および上面と下面をつなぐ側面で空間を構成し、布などのシート状体を前記下面に配置できる。 上記複数の開口部は前記脱離処理室の下面に設けられ、前記シート状体で覆われる。 上記複数枚の壁状体は、前記上面から下面に向かって設けられ、前記シート状体を押える。 上記排出口は、前記開口部および前記シート状体を通過したガスを外部へ輸送する。 
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る脱離処理装置は、脱離処理室と、開口部と、複数枚の壁状体と、排出口とを具備する。 前記脱離処理室は上面、下面および上面と下面をつなぐ側面で空間を構成し、布などのシート状体を前記下面に配置できる。 上記開口部は、前記脱離処理室の下面に設けられ、前記シート状体で覆われる複数本平行に延在されたスリット状である。 上記複数枚の壁状体は、前記上面から下面に向かって設けられ、前記シート状体を押え、上記開口部と交差する。 上記排出口は、前記開口部および前記シート状体を通過したガスを外部へ輸送する。 
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る脱離処理装置は、脱離処理室と、開口部と、複数枚の壁状体と、加熱体と、排出口とを具備する。 前記脱離処理室は上面、下面および上面と下面をつなぐ側面で空間を構成し、布などのシート状体を前記下面に配置できる。 上記開口部は、前記脱離処理室の下面に設けられ、前記シート状体で覆われる複数本平行に延在されたスリット状である。 上記複数枚の壁状体は、前記上面から下面に向かって設けられ、前記シート状体を押え、上記開口部と交差する。 上記加熱体は、開口部の裏側または開口部の表側に設けられたシート状である。 上記排出口は、前記開口部および前記シート状体を通過したガスを外部へ輸送する。
以上のように本発明によれば、低濃度のにおいの測定に適したにおい測定装置、脱離処理装置及びにおい測定方法を提供することが可能である。
本発明の実施形態に係るにおい測定装置の斜視図である。 上記におい測定装置の蓋を開放した状態を示す斜視図である。 上記におい測定装置の内部構造を示す斜視図である。 上記におい測定装置の構成を示す模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の開放状態の模式図である。 上記におい測定装置の動作状態を示すタイミングチャートである。 上記におい測定装置の測定フローを示す模式図である。 上記におい測定装置のクリーニングフローを示す模式図である。 上記におい測定装置によるにおい測定プロセスを示す模式図である。 上記におい測定装置が備えるにおいセンサの検出値を示すグラフである。 上記におい測定装置が備えるにおいセンサと、比較例に係るにおい測定装置が備えるにおいセンサの検出値を示すグラフである。 本発明の実施形態に係る、押え部を備えるにおい測定装置の斜視図である。 上記におい測定装置が備える処理室の模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の平面図である。 本発明の実施形態に係る、押え部及び側壁部を備えるにおい測定装置の斜視図である。 上記におい測定装置が備える処理室の模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の平面図である。 本発明の実施形態に係る、加熱体を備えるにおい測定装置の処理室の模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の、加熱体の他の配置を示す模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の、加熱体の他の配置を示す模式図である。 上記におい測定装置が備える処理室の、加熱体の他の配置を示す模式図である。 本発明の実施形態に係るにおい測定装置の、液状の測定対象物を収容した処理室を示す模式図である。 本発明の変形例に係るにおい測定装置の模式図である。 本発明の変形例に係るにおい測定装置の模式図である。 本発明の変形例に係るにおい測定装置が備える処理室の模式図である。
以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係るにおい測定装置について説明する。なお、以下の説明において、においとは、複数種のにおい物質の集合体をいう。におい物質の例として、アセトン、トルエンなどの分子が挙げられる。後述する各においセンサの吸着膜は、吸着するにおい物質の選択性を有するため、各においセンサの吸着膜には、異なる種類のにおいが吸着する。言い換えると、各においセンサの吸着膜は、それぞれ吸着する複数種のにおい物質の組成と量が異なる。本実施形態では、各においセンサで測定された各におい物質の量を総合的に判断することで、各におい物質の集合体であるにおいの種類を判定する。においの種類とは、果物のにおい、体臭、電源コードの断線によって生じる焦げのにおい、法律で禁止されている中毒性の薬物のにおいといったものが含まれる。以下、その詳細について説明する。 
[におい測定装置の構成] 図1及び図2は本実施形態に係るにおい測定装置100の斜視図であり、図3はにおい測定装置100の一部構成の斜視図である。図1及び図2に示すようににおい測定装置100は筐体101及び蓋102を備える。筐体101は上部筐体103と下部筐体104が接合されて構成されている。蓋102は図2に示すように筐体101に対して開閉可能に構成されている。蓋102は、上部筐体103に接続される。上部筐体103は、矩形の上面、上面の4つの側辺から下方へ向かう4つの側面、上面に対向する位置で、4つの側面とつながる、矩形の下面を有する。上部筐体103の形状は、このような立方体形状に限定されず、後述する測定対象物を収容できるものであればよい。測定対象物の出し入れのため、上面には開口部が設けられ、この開口部を覆うように蓋102が配置されている。図2では、蓋102の一側辺が開口部の周囲に取り付けられ、開閉が可能になっているが、蓋102がキャップであり、取り外し可能であってもよい。また上部筐体103自身が取り外し可能であってもよい。そして蓋102を開け、下部筐体104側に測定対象物が入れられる。 
 図3は、上部筐体103及び蓋102の図示を省略した、下部筐体104の斜視図である。図4はにおい測定装置100の構成を示す模式図である。 これらの図に示すように、におい測定装置100は、センサ室111、このセンサ室111に設置されるセンサモジュール112、処理室113、第1流路114、第2流路115、フィルタ116、第3流路117、第4流路118、第1供給部119、第2供給部120、制御部121及び測定部122を備える。 
センサ室111はセンサモジュール112を収容し、においを含むガス状流体が処理室113から供給されて、におい検出が行われる処理室である。センサ室111は図4に示すように、第1吸入口111a、第3吸入口111b及び第1排出口111cを有する。センサモジュール112は、においセンサ123、及び湿度センサ124を備える。センサモジュール112は、温度センサをさらに備えていてもよい。センサモジュール112が備えるにおいセンサ123の数は、複数が好ましく、本実施形態では12個のにおいセンサ123を設けている。 
においセンサ123は、におい物質の吸着量に応じた検出値を出力する。においセンサ123は、例えばQCM(Quartz Crystal Microbalance)センサであり、振動子及びこの振動子表面を被覆した吸着膜を備える。振動子は、電圧を印加すると一定の共振周波数で振動する。この共振周波数は例えば9MHzである。吸着膜は振動子上に設けられ、特定のにおい物質が吸着する。振動子を一定の共振周波数で振動させている時に、吸着膜ににおい物質が吸着すると、吸着膜の重量が増加し、振動子の共振周波数が減少する。また、吸着膜に吸着しているにおい物質が脱離すると、吸着膜の重量が減少し、振動子の共振周波数が増加する。においセンサ123はこの共振周波数の変動量を検出値として測定部に出力する。 なお、においセンサは、高分子またはセラミック系の抵抗型センサ、吸着して誘電体の誘電率が変化する、二枚の電極にこの誘電体が挟まれた容量型のセンサ、本実施例のQCMのほか、FBAR(Film Bulk Acoustic Resonator)またはSAW(Surface Acoustic Wave)などの振動型のセンサでもよい。 
吸着膜は、においセンサ123毎に異なる材料で構成される。測定対象の気体に含まれるにおいは、1以上のにおい物質を含んでいる。においセンサ123毎に異なる吸着膜が用いられることで、複数種のにおい物質が検出可能となる。吸着膜に用いる材料は、測定対象であるにおいの種類に応じて適宜選択される。 具体的には吸着膜として、セルロース、フッ素系ポリマー、レシチン、フタロシアニン化合物、ポルフィリン化合物、ポリイミド、ポリピロール、ポリスチレン、アクリルポリマー、スフィンゴミエリン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリビニルアルコール系ポリマーのほか、UiO-66、MIL-125、ZIF-8等の有機金属構造体(MOF)を用いることができる。また、吸着膜は、これらの材料のうちいずれか1つの材料を有してしてもよく、2つ以上の材料の組み合わせを有していてもよい。 
湿度センサ124は、センサ室111内の気体の相対湿度を検出する。湿度センサ124には、水分に反応して静電容量が変化する静電容量式や、水分に反応して電気抵抗が変化する抵抗変化式など、既知の湿度センサを用いることができる。湿度センサ124は、においセンサ123のうちの1つに親水性の吸着膜を形成したものであってもよい。湿度センサ124は検出した相対湿度を測定部に出力する。温度センサには、サーミスタなど既知の温度センサを用いることができる。 
処理室113は、測定対象物を収容し、図4に示すように第2吸入口113a及び第2排出口113bを有する。図5は処理室113を示す模式図である。図5に示すように、処理室113は、脱離処理室131及び気体処理室132の2つの室から構成されている。 ここで脱離処理室131の下面131aは、気体処理室132の上面132aと共用されて、両者が一体となり、この共用した板には、開口部113cが設けられている。 
脱離処理室131は開閉可能に構成されている。図6は脱離処理室131の開閉を示す模式図である。図6及び図2に示すように、脱離処理室131は蓋102によって開閉され、測定対象物を収容可能である。図4において、処理室113に収容された測定対象物を測定対象物Pとして示す。測定対象物Pは特に限定されないが、例えばマスクや布巾の様なシート状体である。におい物質が付着した口の周りや鞄の表面を布巾でふき取り、脱離処理室131に布巾が入れられるようになっている。 測定対象物Pは、におい物質が付着しているか、果物や野菜などの食品のように、におい物質の発生源となるものでもよい。測定対象物Pは固体状の物体に限られず、果実成分を含むジュースなどの液体状の飲み物でもよい。液体状の物体の場合は、揮発ガスが出るように、図23に示す皿161を用いたり、蓋に穴が開いた容器に液状体の物体を収容することが望ましい。 脱離処理室131は、上記第2排出口113bを有する。また、図5に示すように脱離処理室131は、下面131a、上面131b及び側面131cを有する。下面131aは測定対象物Pが載置される面であり、上面131bは下面131aと対向する面である。側面131cは下面131aと上面131bをつなぎ、上面131b、下面131a及び側面131cで空間を構成する。なお、脱離処理室と脱離処理室に設けられた各種構成を併せて「脱離処理装置」とする。 
気体処理室132は脱離処理室131に隣接する室である。気体処理室132は上記第2吸入口113aを有する。また、図5に示すように脱離処理室131は、上面132a、下面132b及び側面132cを有する。上面132aは脱離処理室131の下面131aの裏側の面であり、下面132bは上面132aと対向する面である。側面132cは下面132bと上面132aをつなぎ、上面132a、下面132b及び側面132cで空間を構成する。 
脱離処理室131の下面131aと気体処理室132の上面132aの間には開口部113cが設けられている。脱離処理室131と気体処理室132はこの開口部113cを介して連通する。開口部113cは、例えば、図2に示すような、複数本平行に延在されたスリット状の開口部113cである。開口部113cの数は特に限定されない。 
第1流路114は、図4に示すように、センサ室111の第1排出口111cと処理室113の第2吸入口113aを接続する。第2流路115は図4に示すように、処理室113の第2排出口113bとセンサ室111の第1吸入口111aを接続する。なお、第1流路114は図4に示すように第3流路117と接続されていてもよく、第3流路117と接続されず、独立した流路であってもよい。 
フィルタ116は、フィルタ116を通過することで、センサ室111の気体からにおい物質及び水分(水蒸気等)を除去する。フィルタ116には、例えば活性炭、シリカゲル、ゼオライト、アロフェン等を用いることができる。第3流路117は図4に示すように、センサ室111の第1排出口111cとフィルタ116を接続する。第4流路118は図4に示すように、フィルタ116とセンサ室111の第3吸入口11bを接続する。 
第1供給部119は第1流路114及び第2流路115を介して、センサ室111と処理室113の間で気体を循環させる。第1供給部119はポンプ又はファン等を用いて気体の送出が可能な機構であり、センサ室111内の第1吸入口111a近傍に配置されている。また、第1供給部119は第2流路115の途中に設けられてもよい。 
第2供給部120は第3流路117及び第4流路118を介して、センサ室111とフィルタ116の間で気体を循環させる。第2供給部120はポンプ又はファン等を用いて気体の送出が可能な機構であり、センサ室111内の第3吸入口111b近傍に配置されている。また、第2供給部120は第4流路118の途中に設けられてもよい。 
制御部121は、センサモジュール112、第1供給部119及び第2供給部120に接続され、これらを制御する。また図19、20に示す加熱体151も制御できる。加熱体151は、ペルチェ素子であってもよい。 具体的には制御部121は、各においセンサ123の振動子を所定の共振周波数で振動させると共に、各においセンサ123から検出値として共振周波数の変動量を取得する。制御部121は取得した各においセンサ123の検出値を測定部122に送信する。また、制御部121は第1供給部119及び第2供給部120を制御してにおい測定装置100の動作状態を切り替える。この動作状態については後述する。 
測定部122は、各においセンサ123の検出値を取得し、検出値の変化が所定時間で所定量内となったとき、例えば検出値が安定したとき、その検出値に基づいてにおいを判断する。 測定部122は各においセンサ123の検出値から各におい物質を測定し、測定対象物Pから脱離した各におい物質の量を特定することができる。また、測定部122は、特定した各におい物質の量とデータベース化された参照情報を利用して測定対象物Pから脱離したにおいの種類と強さを判定することができる。 
[におい測定装置の動作状態について] 図7はにおい測定装置100の動作状態を示すタイミングチャートであり、図8及び図9はにおい測定装置100の動作を示す模式図である。図7に示すように、におい測定装置110は「測定状態」と「クリーニング状態」の2つの状態をとる。 
測定状態では、図7に示すように、制御部121が第1供給部119を駆動させ、第2供給部120の駆動を停止させる。これにより、図8で気体の流れを矢印で示すように、気体がセンサ室111から第1排出口111cを介して第1流路114に流入し、第1流路114から第2吸入口113aを介して気体処理室132に流入する。気体は開口部113cを介して脱離処理室131に流入し、測定対象物Pを通過する。さらに、気体は脱離処理室131から第2排出口113bを介して第2流路115に流入する。さらに、気体は第2流路115から第1吸入口111aを介してセンサ室111に流入する。気体は再度、センサ室111から第1排出口111cを介して第1流路114に流入し、以降、上述した流れを繰り返す。即ち、測定状態では気体が第1流路114と第2流路115を介してセンサ室111と処理室113の間で循環する。以下、この気体の流れを「測定フロー」とする。 測定対象物Pは、布、マスク、ハンカチまたは脱脂綿などのシート状体で、開口部113cを含む下面131aを覆う。よって気体は強制的に測定対象物Pを通過する。この測定対象物Pに含まれるにおい成分が微量の場合、図8の循環の回数が、においセンサ123の感応膜にたどり着く回数となり、循環によりにおいセンサ123の感度の低下が、循環しない場合に比較して少なくなる。 
クリーニング状態では、図7に示すように、制御部121が第1供給部119の駆動を停止させ、第2供給部120を駆動させる。これにより、図9で気体の流れを矢印で示すように、気体がセンサ室111から第1排出口111cを介して第3流路117に流入し、第3流路117からフィルタ116に流入する。気体はフィルタ116を通過して第4流路118に流入し、第3吸入口111bを介してセンサ室111に流入する。気体は再度、センサ室111から第1排出口111cを介して第3流路117に流入し、以降、上述した流れを繰り返す。即ち、クリーニング状態では気体が第3流路117と第4流路118を介してセンサ室111とフィルタ116の間で循環する。以下、この気体の流れを「クリーニングフロー」とする。 このフローを繰り返すことで、センサ123の感応膜、湿度センサの感応膜は、クリーニングされてリセットされ
る。 
[におい測定装置による測定プロセスについて] におい測定装置100によるにおいの測定プロセスについて説明する。まず、図2または図6に示すように蓋102を開け、図4に示すように脱離処理室131に測定対象物Pを載置する。次に蓋102を閉め、脱離処理室131を閉塞する。 続いて、におい測定装置100によるにおい測定プロセスを実行する。図10は、におい測定装置100によるにおい測定プロセスを示す模式図ある。同図に示すようににおい測定プロセスは、クリーニングステップSt101、測定ステップSt102及びクリーニングステップSt103を含む。 
クリーニングステップSt101では、におい測定装置100を上述のクリーニング状態とし、図9の矢印で示す様なクリーニングフローを発生させる。 これによりにおいセンサ123の吸着膜等に付着していたにおい物質と水分が気体中に脱離し、フィルタ116によって吸着(トラップ)され、除去される。クリーニングステップSt101のクリーニング期間をS1とすると、S1は例えば20分間である。 このフローの循環回数が多ければ、クリーニング度が増す。なお、図9の矢印、つまり循環の方向は逆でも良い。 
測定ステップSt102では、図8の矢印で示す様に、におい測定装置100を上述の測定状態とし、測定フローを発生させる。測定対象物Pを通過する測定フローによって測定対象物Pに付着していたにおい物質が脱離し、センサ室111に輸送される。センサ室111に輸送されたにおい物質は、においセンサ123の吸着膜に吸着する。においセンサ123は、検出値を測定部122に出力する。 図11で見ると、測定ステップSt102の開始時刻を時刻T1、終了時刻を時刻T2、測定ステップSt102の測定期間をS2とすると、S2は後述する時刻T3の経過後の期間である。つまり変化が落ち着いたT3の後で測定している。 
クリーニングステップSt103では、におい測定装置100を上述のクリーニング状態とし、図9の矢印で示すクリーニングフローを発生させる。これにより、においセンサ123の吸着膜等に付着していたにおい物質と水分が気体中に脱離し、フィルタ116によって吸着され、においセンサ123のにおいは除去される。クリーニングステップSt103のクリーニング期間をS3とすると、S3は例えば20分間である。 
クリーニングステップSt103の終了後、蓋102を開け、測定対象物Pを取り出す。次の測定対象物Pを脱離処理室131に載置し、同様ににおいの測定を行うことができる。におい測定装置100によるにおいの測定プロセスは以上のようにして行われる。なお、脱離処理室131は着脱可能であり、測定対象物Pの測定後に着脱してクリーニングを行うことが可能である。また、上記測定プロセスは、におい測定装置100を用いてユーザが実行してもよく、制御部121が実行してもよい。 
[測定部によるにおい測定について] 測定部122は上述のように各においセンサ123から出力された検出値を取得する。図11は1つのにおいセンサ123から出力された検出値である共振周波数の変動量を示すグラフである。同図に示すように検出値は、測定ステップSt102の開始時刻T1から増加し、次第に安定する。測定部122は検出値が安定した時刻を時刻T3として特定する。具体的には測定部122は、検出値の変化が、所定時間で所定量内となった時刻を時刻T3として特定する。所定時間は例えば60秒間であり、所定量は例えば18Hzである。また、測定部122は、1秒間当たりの検出値の変化が所定量内となった時刻を時刻T3として特定してもよく、例えば検出値の変化が±0.3Hz/秒以内となった時刻を時刻T3として特定することができる。このように、「検出値の変化が所定時間で所定量内」とは検出値の揺れ動きが収まることを意味し、時刻T1からの検出値の変化量を意味しない。 
測定部122は時刻T3における検出値に基づいてにおいを測定する。測定部122は時刻T3における各においセンサ123の検出値から、当該においセンサ123の吸着膜に吸着するにおい物質の量を特定することができる。この際、測定部122は、湿度又は温度で補正された検出値を用いてもよい。また、測定部122は、特定した各におい物質の量とデータベースに格納された情報を比較して、測定対象物Pから脱離したにおいの種類と強さを判定することができる。 
測定部122は、時刻T3を特定した後、時刻T3を制御部121に通知する。制御部121は時刻T3の経過後の時刻を時刻T2として図10に示す測定ステップSt102を終了する。なお、制御部121は時刻T3から一定時間経過後の時刻を時刻T2としてもよく、時刻T3と同時刻を時刻T2としてもよい。また、制御部121は時刻T3関わらず、時刻T1から一定時間経過後の時刻を時刻T2としてもよい。測定部122は測定St102の終了後に時刻T3を特定し、時刻T3の検出値に基づいてにおいを測定することもできる。なお、測定部122は、検出値の変化が所定時間で所定量内となった時刻を時刻T3として特定する他、図8の矢印で示す測定フローが複数回循環した時に検出値の変化が所定量内となった時刻を時刻T3として特定してもよい。 
[におい測定装置による効果] におい測定装置100による効果を、比較例に係るにおい測定装置との比較の上で説明する。図12は、におい測定装置100が備えるにおいセンサ123の検出値である共振周波数変動量と比較例に係るにおい測定装置が備えるにおいセンサの共振周波数変動量を示すグラフである。図中、におい測定装置100が備えるにおいセンサ123の検出値である共振周波数変動量を「本発明」として示し、比較例に係るにおい測定装置が備えるにおいセンサの共振周波数変動量を「比較例」として示す。比較例に係るにおい測定装置は、測定対象物を収容する処理室に外気が流入し、処理室からにおいセンサを収容するセンサ室に気体が流れ、センサ室から外部に排出される構造を有し、測定対象物を収容する処理室とセンサ室の間で気体が循環する構造を有しない。 
図12に示すように、比較例に係るにおい測定装置の場合、測定開始直後に共振周波数変動量が大きく、測定時間の経過と共に次第に共振周波数変動量が減少する。これは測定対象物からのにおい物質の脱離が進むにつれて、においセンサに輸送されるにおい物質が減少し、においセンサに吸着していたにおい物質が次第に脱離していくためである。この場合、どの時点での共振周波数変動量を用いてにおい物質の量を特定すればよいか判断が困難である。測定開始直後の共振周波数変動量の最大値についても、温度等の影響により変化するおそれがある。このように比較例に係るにおい測定装置の場合、正確なにおい測定ができない場合があり、特に測定対象物に付着しているにおい物質の量が少なく、におい物質が低濃度の場合ににおい測定が困難となる。 
これに対し、本発明に係るにおい測定装置100の場合、図12に示すように測定時間の経過と共に共振周波数変動量が大きくなり、次第に安定する。これは、図8の矢印で示す測定フローにおいてセンサ室111と処理室113の間で気体が循環し、外部に排出されないため、測定対象物Pから脱離したにおい物質は気体中に蓄積され、循環経路のにおい物質の濃度が均一となるためである。このため、においセンサ123の検出値が安定し、においの識別精度が向上する。特に測定対象物に付着しているにおい物質の量が少なく、におい物質が低濃度の場合であっても、におい物質が外部に排出されないため、高精度ににおい測定が可能である。 なお、本発明は、においセンサ123を複数有し、複数のにおいセンサ123の検出値のパターンを、検出値のパターンとにおいの種類とが対応した機械学習の学習済みモデルと照合することで、においの種類と強度を判定する場合に好適である。においの種類と強度を判定する際に、気体に含まれるにおいの濃度が安定してから、学習済みモデルと照合することで、精度よくにおいの種類と強度を判定できるためである。 
[におい測定装置の用途] におい測定装置100の用途は特に限定されないが、例えば空港や港湾等の保安検査において渡航者の着用したマスクや荷物を拭った布巾等を用いて、においをその場で測定することができる。つまり取り込み型におい測定装置として利用可能である。上記のようににおい測定装置100は低濃度のにおい測定にも適しているためこのような用途にも好適に利用可能である。 例えば、禁止薬物を検出する場合、布巾に極めて微量で存在していても、図8に示す循環で時間を掛ければ、においセンサ123により、検出可能である。禁止薬物は濃度の大小を測定すると言うよりは、この薬物の存在の有無が重要である。図8に示す循環では、薬物を含んだ気体が、においセンサ123の感応膜を何度も通過する事になるため、においセンサ123での検知能力がUPするものである。 
[押え構造について] におい測定装置100は測定対象物Pを押える押え構造を有するものであってもよい。図13は押え構造を有するにおい測定装置100の斜視図、図14は押え構造を有するにおい測定装置100の処理室113の模式図である。これらの図に示すように、脱離処理室131は、上面131bから下面131aに向かって突出する押え部141を備えるものであってもよい。押え部141は、蓋102によって脱離処理室131が閉じられると、図14に示すように下面131aと共に測定対象物Pを押える。下面131aには上記のように開口部113cが設けられており、図8の矢印で示す測定フローでは気体が気体処理室132から開口部113cを介して測定対象物Pを通過する。 
この際、測定対象物Pに折れ曲がりや浮き上がりが生じていると、ここの空間の空気抵抗が小さいため、気体が測定対象物Pを通過せずに脱離処理室131から排出されてしまい、におい物質が測定対象物Pから脱離しにくくなるおそれがある。ここで押え部141によって測定対象物Pを下面131aに押し付けることにより、測定対象物Pの折れ曲がりや浮き上がりを解消し、測定対象物Pからにおい物質を確実に脱離させることが可能となる。 
押え部141の形状は特に限定されないが、以下のような形状が好適である。図15は押え部141の形状を示す平面図である。図13及び図15に示すように押え部141は、上面131bから下方へ延びる壁状体(板状体)であり、Y方向である開口部113cの延伸方向に対して直交する方向であるX方向に延伸する形状とすることができる。この形状により、開口部113cと押え部141が格子状に配置され、測定対象物Pを確実に押えることができる。 開口部113cの延在方向と壁状体の延在方向が一致していると、壁状体または測定対象物がこの開口部を塞いでしまう事があるからである。 
脱離処理室131は、さらに側壁部を備えるものであってもよい。図16は押え部141及び側壁部142を備えるにおい測定装置100の斜視図、図17は押え部141及び側壁部142を備えるにおい測定装置100の処理室113の模式図である。図18は押え部141及び側壁部142の形状を示す平面図である。これらの図に示すように側壁部142は、上面131bから下面131aに向かって突出し、押え部141の三方を囲む壁状である。この形状により、側壁部142は測定対象物Pの周縁部を下面131aと共に挟み、測定対象物Pの全体を確実に押えることができる。こうして、測定対象物Pの折れ曲がりや浮き上がりをさらに抑制し、測定対象物Pからにおい物質を脱離させやすくできる。また、気体が測定対象物Pに直接当たらずに、横に逃げてしまうことを防ぐので、さらに測定対象物Pからにおい物質を脱離させやすくできる。なお、脱離処理室131は、押さえ部141を備えず、側壁部142のみを備えるものであってもよい。 
[加熱
体について] におい測定装置100は測定対象物を加熱する加熱体を備えるものであってもよい。図19は加熱体151が設けられた処理室113の模式図である。同図に示すように加熱体151は、気体処理室132の室外において下面132bの裏面上に設けられている。図8に示す測定フロー中に加熱体151を発熱させることにより、気体処理室132内の気体が加熱され、その結果、測定対象物Pを昇温させ、測定対象物Pからのにおい物質の脱離を促進させることができると共に、流路や処理室113の内壁に付着したにおい物質を脱離させることができる。また、加熱体151を測定対象物Pの下方に配置することにより、図中矢印で示す上昇気流を生じさせ、測定対象物Pに効率よく気体を当てることが可能となる。加熱体としては、シート状のペルチェ素子を採用してもよい。 
なお、加熱体151の配置は上述のものに限られない。図20乃至図22は、加熱体151の他の配置を示す模式図である。図20に示すように加熱体151は、気体処理室132の室内である下面132b上に配置されてもよい。また、図21に示すように加熱体151は、脱離処理室131の下面131a上において開口部113cの周囲に配置されてもよい。この構成では加熱体151と測定対象物Pが近接するため、効率よく測定対象物Pを加熱することができる。また、加熱体151は、気体処理室132の上面132a上において開口部113cの周囲に配置されてもよい。加熱体がシートであれば、シートにスリットを設け、スリットと開口部113cを一致させればよい。 
さらに、図22に示すように加熱体151は、脱離処理室131の内壁全面に配置されてもよい。この構成では、脱離処理室131の内壁に対するにおい物質の付着を抑制することが可能であり、におい物質が低濃度である場合に特に有効である。この他にも加熱体151は、脱離処理室131と気体処理室132の室外や少なくとも一方の室内に配置することが可能であり、脱離処理室131と気体処理室132の両方の室内にそれぞれ配置することも可能である。また、におい測定装置100は加熱体151と共に、上述した押え部141や側壁部142を備えるものであってもよい。 
[液状の測定対象物について] におい測定装置100は、液状の測定対象物のにおい測定も可能である。図23は液状の測定対象物Pの測定方法を示す模式図である。同図に示すように液状の測定対象物Pは皿161に入れた上でケース162内に載置する。ケース162は開口部113cに連通する開口部162aを有すると共に、図中矢印で示す、開口部162aから流入する気体を測定対象物Pに導くための湾曲形状を有する。これにより、開口部162aから流入する気体が効率的に測定対象物Pに当たり、測定対象物Pの気化を促進することができる。 
[変形例] におい測定装置100の変形例について説明する。図24乃至図26はにおい測定装置100の変形例を示す模式図である。図24に示すようににおい測定装置100はフィルタ116、第3流路117及び第4流路118を有しないものであってもよい。代わりに、におい測定装置100は、クリーニングガスを流入させる開口と、クリーニングガスを排出する排出口を備える。この構成においては開口からセンサ室111にクリーニングガスを流入させ、においセンサ123をクリーニングしてから排出口から排出させることにより、クリーニングを行うことが可能である。なお、クリーニングガスは、無臭ガスを流入させてもよく、外気から気体を取り込み、フィルタでにおい物質を除去したものを流入させてもよい。この構成においても押え部141、側壁部142及び加熱体151の一部又は全部を設けることが可能である。 
さらに、図25に示すようににおい測定装置100は第1流路114を有しないものとすることも可能である。この構成では図8に示す循環する測定フローは生じないが、第1供給部119の駆動により外気が第2吸入口113aから処理室113に流入し、第2流路115を介してセンサ室111に流入し、第1排出口111cから排出される測定フローが形成される。測定対象物Pから脱離したにおい物質はこの測定フローによりにおいセンサ123に供給され、測定される。この構成においても押え部141、側壁部142及び加熱体151の一部又は全部を設けることが可能である。 
また、上記説明において処理室113は脱離処理室131と気体処理室132の2つの室を有するものしたが、これに限られない。図16は変形例に係るにおい測定装置100の処理室113を示す模式図である。同図に示すように処理室113は脱離処理室131のみを有するものであってもよい。この構成では気体が測定対象物Pを通過しないため、測定対象物Pからのにおい物質の脱離速度は小さいが、におい測定装置100では測定中ににおい物質が排出されないため、一定時間測定を行うことによりにおい物質の測定が可能となる。この構成においても脱離処理室131の室内又は室外に加熱体151を設けることが可能である。
100…におい測定装置 101…筐体 102…蓋 110…測定装置 111…センサ室 111a…第1吸入口 111b…第3吸入口 111c…第1排出口 112…センサモジュール 113…処理室 113a…第2吸入口 113b…第2排出口 113c…開口部 114…第1流路 115…第2流路 116…フィルタ 117…第3流路 118…第4流路 119…第1供給部 120…第2供給部 121…制御部 122…測定部 123…においセンサ 124…湿度センサ 131…脱離処理室 132…気体処理室 141…押え部 142…側壁部 151…加熱体 161…皿 162…ケース

Claims (16)

  1. におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有するセンサ室と、 測定対象物を収容し、第2吸入口と第2排出口とを有する処理室と、 前記第1排出口と前記第2吸入口とを接続する第1流路と、 前記第2排出口と前記第1吸入口とを接続する第2流路と、 前記第1流路及び前記第2流路を介して、前記センサ室と前記処理室との間で気体を循環させる供給部と、 前記センサから検出値を取得し、前記検出値に基づいてにおいを測定する測定部と を具備するにおい測定装置。
  2. 請求項1に記載のにおい測定装置であって、 前記処理室は、前記第2排出口が設けられ、前記測定対象物を収容する脱離処理室と、前記第2吸入口が設けられ、開口部を介して前記脱離処理室と連通する気体処理室とを備える におい測定装置。
  3. 請求項2に記載のにおい測定装置であって、 前記脱離処理室は、前記開口部が設けられた下面と、前記下面と対向する上面とを有し、前記上面から前記下面に向かって突出し、前記下面と共に前記測定対象物を押える押え部を備える におい測定装置。
  4. 請求項3に記載のにおい測定装置であって、 前記脱離処理室はさらに、前記上面から前記下面に向かって突出し、前記下面と共に前記測定対象物の周縁部を押える側壁部を備える におい測定装置。
  5. 請求項2から4のうちいずれか1項に記載のにおい測定装置であって、 前記測定対象物を加熱する加熱体 をさらに具備するにおい測定装置。
  6. 請求項5に記載のにおい測定装置であって、 前記加熱体は、前記開口部の周囲に配置されている におい測定装置。
  7. 請求項5に記載のにおい測定装置であって、 前記加熱体は、前記気体処理室内に配置されている におい測定装置。
  8. 請求項5に記載のにおい測定装置であって、 前記加熱体は、前記脱離処理室内に配置されている におい測定装置。
  9. 請求項1から8のいずれか1項に記載のにおい測定装置であって、 前記センサは、におい物質に応じて異なる検出感度を有する複数のにおいセンサを含み、 前記測定部は、前記複数のにおいセンサの前記検出値に基づいてにおいを判定する におい測定装置。
  10. におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有するセンサ室と、 第2排出口が設けられ、前記測定対象物を収容する脱離処理室と、第2吸入口が設けられ、開口部を介して前記脱離処理室と連通する気体処理室とを備え、前記脱離処理室は、前記開口部が設けられた下面と、前記下面と対向する上面とを有し、前記上面から前記下面に向かって突出し、前記下面と共に前記測定対象物を押える押え部を備える処理室と、 前記第2排出口と前記第1吸入口を接続する流路と、 前記流路を介して前記処理室内の気体を前記センサ室に送出する供給部と、 前記センサから検出値を取得し、前記検出値に基づいてにおいを測定する測定部と を具備するにおい測定装置。
  11. におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有するセンサ室と、 測定対象物を収容し、第2吸入口と第2排出口とを有する処理室と、 前記第2排出口と前記第1吸入口を接続する流路と、 前記流路を介して前記処理室内の気体を前記センサ室に送出する供給部と、 前記センサから検出値を取得し、前記検出値に基づいてにおいを測定する測定部と、 前記測定対象物を加熱する加熱体と を具備するにおい測定装置。
  12. におい物質を検出するセンサを収容し、第1吸入口と第1排出口とを有するセンサ室と、第2吸入口と第2排出口とを有する処理室と、前記第1排出口と前記第2吸入口を接続する第1流路と、前記第2排出口と前記第1吸入口を接続する第2流路と、前記第1流路及び前記第2流路を介して前記センサ室と前記処理室の間で気体を循環させる供給部とを備えるセンサモジュールにおいて前記処理室に測定対象物を収容し、 前記供給部に、前記センサ室と前記処理室の間で気体を循環させ、 前記センサから取得した検出値に基づいてにおいを測定する におい測定方法。
  13. 上面、下面および上面と下面をつなぐ側面で空間を構成し、布などのシート状体を前記下面に配置できる脱離処理室と、 前記脱離処理室の下面に設けられ、前記シート状体で覆われる複数の開口部と、 前記上面から下面に向かって設けられ、前記シート状体を押える複数枚の壁状体と、 前記開口部および前記シート状体を通過したガスを外部へ輸送する排出口と を具備する脱離処理装置。
  14. 上面、下面および上面と下面をつなぐ側面で空間を構成し、布などのシート状体を前記下面に配置できる脱離処理室と、 前記脱離処理室の下面に設けられ、前記シート状体で覆われる複数本平行に延在されたスリット状の開口部と、 前記上面から下面に向かって設けられ、前記シート状体を押え、前記開口部と交差する複数枚の壁状体と、 前記開口部および前記シート状体を通過したガスを外部へ輸送する排出口と を具備する脱離処理装置。
  15. 上面、下面および上面と下面をつなぐ側面で空間を構成し、布などのシート状体を前記下面に配置できる脱離処理室と、 前記脱離処理室の下面に設けられ、前記シート状体で覆われる複数本平行に延在されたスリット状の開口部と、 前記上面から下面に向かって設けられ、前記シート状体を押え、前記開口部と交差する複数枚の壁状体と、 前記開口部の裏側または前記開口部の表側に設けられたシート状の加熱体と、 前記開口部および前記シート状体を通過したガスを外部へ輸送する排出口と を具備する脱離処理装置。
  16. 請求項15に記載の脱離処理装置であって、 前記加熱体はペルチェ素子からなる 脱離処理装置。
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