WO2023037793A1 - 静電容量センサ、及び、測定器 - Google Patents

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WO2023037793A1
WO2023037793A1 PCT/JP2022/029528 JP2022029528W WO2023037793A1 WO 2023037793 A1 WO2023037793 A1 WO 2023037793A1 JP 2022029528 W JP2022029528 W JP 2022029528W WO 2023037793 A1 WO2023037793 A1 WO 2023037793A1
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capacitance
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sensor
capacitor
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美惠 倉持
純 ▲高▼木
智紀 高橋
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株式会社村田製作所
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
    • G01R27/26Measuring inductance or capacitance; Measuring quality factor, e.g. by using the resonance method; Measuring loss factor; Measuring dielectric constants ; Measuring impedance or related variables

Definitions

  • the present disclosure relates to capacitive sensors and measuring instruments.
  • Patent Document 1 discloses an intraoral moisture measuring device as a measuring device equipped with a capacitive sensor (capacitive sensor).
  • the intraoral moisture measuring device described in Patent Document 1 includes a swinging member that swings about a predetermined swinging center with respect to a main body, and a swinging member that is provided on the distal end side of the swinging member so as to reach the measurement site in the oral cavity. It comprises a water content detection part that is directly or indirectly abutted to detect the water content, and a biasing member that biases the rocking member in one of the rocking directions.
  • the moisture content detection unit includes a capacitive sensor.
  • the intraoral moisture measuring device is used while being held by a person's hand.
  • the measurement accuracy of the oral moisture measuring device may decrease due to the influence of floating capacitance generated between the human body and the oral moisture measuring device.
  • the present disclosure provides a capacitance sensor and measuring instrument that can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a capacitive sensor includes a sensor section having first and second electrodes that form a capacitor, and a capacitive detection circuit connected to the sensor section.
  • the capacitance detection circuit includes a charging/discharging circuit connected to the first electrode and the second electrode for charging/discharging the capacitor, a driving circuit driving the charging/discharging circuit so that the capacitor repeats charging/discharging, and a capacitor.
  • An auxiliary capacitance circuit having at least one of a first auxiliary capacitor connected in parallel to the first electrode and a second auxiliary capacitor connected to the second electrode in parallel with the capacitor.
  • a measuring instrument includes the above capacitance sensor and a handheld housing that houses the capacitance sensor.
  • aspects of the present disclosure can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • FIG. 1 Schematic diagram of a configuration example of a measuring instrument according to the first embodiment
  • a circuit diagram of a configuration example of the capacitance sensor of the measuring instrument in FIG. Schematic cross-sectional view of a configuration example of a sensor unit of the capacitive sensor of FIG.
  • Schematic plan view of the sensor part of FIG. Schematic bottom view of the sensor part of FIG. 3 is a timing diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit of the capacitance sensor of FIG. 2;
  • FIG. Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG. Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG.
  • Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG. Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG.
  • Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG. Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG.
  • Explanatory diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit in FIG. Timing diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit of the comparative example
  • Explanatory diagram of the capacitance generated when using the measuring instrument in Figure 1 4 is a timing chart of an example of the operation of the capacitance detection circuit according to one modification of the first embodiment
  • FIG. A circuit diagram of a configuration example of a capacitance sensor of a measuring device according to a second embodiment 17 is a timing diagram of an example of the operation of the capacitance detection circuit of the capacitance sensor of FIG. 16;
  • FIG. 11 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of a sensor portion of a capacitance sensor of a measuring device according to a fifth embodiment; Schematic plan view of the sensor part of FIG. 32 Schematic bottom view of the sensor part of FIG.
  • FIG. 11 is a schematic perspective view of a configuration example of a head portion of a measuring device according to a tenth embodiment; Schematic diagram of a configuration example of a measuring instrument according to an eleventh embodiment
  • connection includes not only direct connection with connection terminals and/or wiring conductors, but also electrical connection via other circuit components. Also, “connected between A and B” means connected to both A and B between A and B.
  • FIG. 1 is a schematic diagram of a configuration example of a measuring instrument 10 according to the first embodiment.
  • the measuring instrument 10 is a moisture measuring instrument for measuring the moisture content of a measurement object.
  • a measurement target is, for example, an organism.
  • the object to be measured is the oral cavity of an organism.
  • measuring device 10 is used to measure the water content of a specific part of the human oral cavity.
  • meter 10 is also referred to as an oral wetness meter.
  • the measuring instrument 10 in FIG. 1 is a capacitance moisture measuring instrument.
  • the measuring device 10 comprises a capacitive sensor 1 and a handheld housing 2 .
  • the handheld housing 2 houses the capacitive sensor 1.
  • the handheld housing 2 has a size and weight that a person can hold with one hand.
  • the handheld housing 2 has a waterproof structure and protects the capacitive sensor 1 inside the handheld housing 2 from moisture.
  • the handheld housing 2 of FIG. 1 is rod-shaped.
  • the handheld housing 2 includes a head section 21 , a grip section 22 and a probe section 23 .
  • the handheld housing 2 of FIG. 1 is shaped like a so-called toothbrush.
  • the head part 21 is a part of the handheld housing 2 that comes into contact with the object to be measured.
  • the head unit 21 is arranged at the first end (the left end in FIG. 1) of the handheld housing 2 . In this embodiment, the head portion 21 is placed in the mouth of a person during use.
  • the grip portion 22 is a portion of the handheld housing 2 that is held by the hand.
  • the grip part 22 is arranged at the second end of the handheld housing 2 (the right end in FIG. 1).
  • the grip portion 22 includes a conductive portion 221 .
  • the conductive portion 221 is exposed on the surface of the grip portion 22 .
  • the conductive portion 221 is preferably located at a position where a person's hand touches the grip portion 22 when the person grips the grip portion 22 .
  • the conductive portion 221 is connected to a reference potential Vg (see FIG. 2), which will be described later.
  • the probe portion 23 connects the head portion 21 and the grip portion 22 .
  • the length of the probe portion 23 may be set so that a person can easily grip the grip portion 22 and bring the head portion 21 into contact with the object to be measured.
  • FIG. 2 is a circuit diagram of a configuration example of the capacitance sensor 1.
  • the capacitance sensor 1 of FIG. 2 includes a sensor section 3 , a capacitance detection circuit 4 and a processing circuit 5 .
  • the sensor section 3 and the capacitance detection circuit 4 are located in the head section 21 of the handheld housing 2 .
  • the capacitance sensing circuit 4 may be located in the probe portion 23 of the handheld housing 2 .
  • the processing circuitry 5 is located in the grip portion 22 of the handheld housing 2 .
  • the capacitance sensor 1 obtains power necessary for operating the capacitance sensor 1 from a DC power supply 6 .
  • the DC power supply 6 may be a primary battery or a secondary battery.
  • the DC power supply 6 may be replaceable.
  • the sensor unit 3 in FIG. 2 includes a first electrode 31 and a second electrode 32.
  • the sensor unit 3 is configured such that the first and second electrodes 31 and 32 form a capacitor 30 together with a part of the object to be measured when the first and second electrodes 31 and 32 come into contact with the object to be measured.
  • the configuration of the sensor unit 3 will be described in more detail below with reference to FIGS. 3 to 5.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of the sensor section 3.
  • FIG. 4 is a schematic plan view of the sensor section 3.
  • FIG. FIG. 5 is a schematic bottom view of the sensor section 3.
  • the sensor section 3 of FIG. 3 includes a sensor substrate 33 and a protective layer 34 in addition to the first electrode 31 and the second electrode 32 .
  • the sensor substrate 33 has a rectangular plate shape.
  • the sensor substrate 33 has a first surface 33 a and a second surface 33 b in the thickness direction of the sensor substrate 33 .
  • a first electrode 31 , a second electrode 32 and a protective layer 34 are arranged on the sensor substrate 33 .
  • the first electrode 31 has an electrode portion 311 , a terminal portion 312 and a connection portion 313 .
  • the electrode part 311 is used for contact with the object to be measured.
  • the electrode section 311 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the electrode portion 311 has a comb structure.
  • the electrode portion 311 has a plurality of tooth portions 3111 arranged at predetermined intervals, and a connecting portion 3112 connecting one ends of the plurality of tooth portions 3111 to each other.
  • the electrode portion 311 includes multiple metal layers.
  • the multiple metal layers of the electrode portion 311 include a Ni layer 311a, a Pd layer 311b covering the Ni layer 311a, and an Au layer 311c covering the Pd layer 311b.
  • a plurality of metal layers of the electrode portion 311 may be formed by plating.
  • the terminal portion 312 is used for connection with the capacitance detection circuit 4 . As shown in FIG. 3 , the terminal portion 312 is arranged on the second surface 33 b of the sensor substrate 33 . As shown in FIG. 4, the terminal portion 312 has a rectangular plate shape. As shown in FIG. 3, the terminal portion 312 includes a plurality of metal layers (metal films).
  • the multiple metal layers of the terminal portion 312 include a Ni layer 312a, a Pd layer 312b covering the Ni layer 312a, and an Au layer 312c covering the Pd layer 312b.
  • a plurality of metal layers of the terminal portion 312 may be formed by plating.
  • the connection portion 313 connects the electrode portion 311 and the terminal portion 312 . As shown in FIG. 3 , the connecting portion 313 is a via penetrating the sensor substrate 33 .
  • the connecting portion 313 is made of Ag, for example.
  • the second electrode 32 has an electrode portion 321 , a terminal portion 322 and a connection portion 323 .
  • the electrode part 321 is used for contact with the object to be measured.
  • the electrode section 321 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the electrode portion 321 has a comb structure.
  • the electrode portion 321 has a plurality of tooth portions 3211 arranged at predetermined intervals and a connecting portion 3212 connecting one ends of the plurality of tooth portions 3211 to each other.
  • the electrode portion 321 includes multiple metal layers.
  • the multiple metal layers of the electrode portion 321 include a Ni layer 321a, a Pd layer 321b covering the Ni layer 321a, and an Au layer 321c covering the Pd layer 321b.
  • a plurality of metal layers of the electrode part 321 may be formed by plating.
  • the terminal portion 322 is used for connection with the capacitance detection circuit 4 . As shown in FIG. 3 , the terminal portion 322 is arranged on the second surface 33 b of the sensor substrate 33 . As shown in FIG. 4, the terminal portion 322 is in the shape of a rectangular plate. As shown in FIG. 3, the terminal portion 322 includes a plurality of metal layers (metal films).
  • the multiple metal layers of the terminal portion 322 include a Ni layer 322a, a Pd layer 322b covering the Ni layer 322a, and an Au layer 322c covering the Pd layer 322b.
  • a plurality of metal layers of the terminal portion 322 may be formed by plating.
  • the connection portion 323 connects the electrode portion 321 and the terminal portion 322 . As shown in FIG. 3 , the connection portion 323 is a via penetrating the sensor substrate 33 .
  • the connecting portion 323 is made of Ag, for example.
  • the protective layer 34 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the protective layer 34 covers the electrode portion 311 of the first electrode 31 and the electrode portion 321 of the second electrode 32 .
  • the protective layer 34 protects the first electrode 31 and the second electrode 32 .
  • the protective layer 34 has insulating properties, for example.
  • the protective layer 34 is made of, for example, an insulating material such as polyimide.
  • the capacitance detection circuit 4 in FIG. 2 detects the capacitance of the capacitor 30 based on the charging/discharging time of the capacitor 30 of the sensor section 3.
  • the capacitance detection circuit 4 includes a power supply terminal 41a connected to the power supply Iin, a reference potential terminal 41b connected to the reference potential Vg, a charge/discharge circuit 42, a control circuit 43, and an auxiliary capacity circuit 44. .
  • the charge/discharge circuit 42, the control circuit 43, and the auxiliary capacitor circuit 44 are arranged on a circuit board 4a different from the sensor board 33 (see FIG. 14).
  • a power supply Iin is arranged on the circuit board 4a.
  • the power supply Iin supplies electric power for charging the capacitor 30 to the capacitance detection circuit 4 .
  • a power source Iin in FIG. 2 is a constant current source that outputs a constant output current to the capacitance detection circuit 4 .
  • Current Iin is driven by power from DC power supply 6 . Since the power source Iin may have a conventionally known configuration, detailed description thereof will be omitted.
  • the charging/discharging circuit 42 of FIG. 2 is connected to the first and second electrodes 31 and 32 that constitute the capacitor 30 and is configured to charge/discharge the capacitor 30 of the sensor section 3 .
  • the charging/discharging circuit 42 of FIG. 2 is connected between the power supply terminal 41a and the reference potential terminal 41b.
  • the charge/discharge circuit 42 includes first to fourth switches S1 to S4.
  • the first switch S1 is connected between the first electrode 31 and the power terminal 41a.
  • the second switch S2 is connected between the second electrode 32 and the power terminal 41a.
  • the third switch S3 is connected between the first electrode 31 and the reference potential terminal 41b.
  • the fourth switch S4 is connected between the second electrode 32 and the reference potential terminal 41b.
  • the first switch S1 and the third switch S3 constitute a series circuit, and the series circuit of the first switch S1 and the third switch S3 is connected to the power supply terminal 41a and the reference potential terminal 41b.
  • the connection point between the first switch S1 and the third switch S3 is connected to the first electrode 31 .
  • the second switch S2 and the fourth switch S4 constitute a series circuit, and the series circuit of the second switch S2 and the fourth switch S4 connects the power supply terminal 41a and the reference potential terminal 41b.
  • a connection point between the second switch S2 and the fourth switch S4 is connected to the second electrode 32 .
  • each of the first to fourth switches S1 to S4 is a field effect transistor.
  • Each of the first through fourth switches S1 through S4 is, for example, a MOSFET.
  • the first and second switches S1 and S2 are enhancement-type P-channel MOSFETs
  • the third and fourth switches S3 and S4 are enhancement-type N-channel MOSFETs.
  • the charging/discharging circuit 42 is configured to be capable of complementary switching between the first state and the second state.
  • a first state is a state in which a constant current is supplied to the first electrode 31 of the sensor section 3 .
  • the first state is a state in which the output current from the power source Iin is supplied to the first electrode 31 .
  • the first and fourth switches S1 and S4 are on, and the second and third switches S2 and S3 are off. Therefore, the first and second electrodes 31 and 32 are connected to the power terminal 41a and the reference potential terminal 41b, respectively.
  • the capacitor 30 is charged such that the potential of the first electrode 31 is higher than the potential of the second electrode 32 .
  • a second state is a state in which a constant current is supplied to the second electrode 32 of the sensor section 3 .
  • the second state is a state in which the output current from the power source Iin is supplied to the second electrode 32 .
  • the first and fourth switches S1 and S4 are off and the second and third switches S2 and S3 are on. Therefore, the first and second electrodes 31 and 32 are connected to the reference potential terminal 41b and the power supply terminal 41a, respectively.
  • the capacitor 30 is charged such that the potential of the second electrode 32 is higher than the potential of the first electrode 31 . Since the charging/discharging circuit 42 supplies power to the first and second electrodes 31 and 32 so that the first electrode 31 and the second electrode 32 are alternately positive and negative, it can be said to be an oscillation circuit.
  • the auxiliary capacitance circuit 44 in FIG. 2 includes first and second auxiliary capacitors 44a and 44b.
  • First and second auxiliary capacitors 44a, 44b are provided to reduce the effect of stray capacitance on sensing the capacitance of capacitor 30.
  • a first end of the first auxiliary capacitor 44a is connected to the first electrode 31 and a second end of the first auxiliary capacitor 44a is connected to the reference potential terminal 41b so that the first auxiliary capacitor 44a is in parallel with the capacitor 30. be done.
  • the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the third switch S3. Thereby, the first auxiliary capacitor 44a is connected between the first electrode 31 and the reference potential terminal 41b.
  • a first end of the second auxiliary capacitor 44b is connected to the second electrode 32 and a second end of the second auxiliary capacitor 44b is connected to the reference potential terminal 41b so that the second auxiliary capacitor 44b is in parallel with the capacitor 30. be done.
  • the second auxiliary capacitor 44b is connected in parallel with the fourth switch S4. Thereby, the second auxiliary capacitor 44b is connected between the second electrode 32 and the reference potential terminal 41b.
  • the capacitance of the first and second auxiliary capacitors 44a and 44b may be set based on the measurable range of the capacitance of the capacitor 30, for example.
  • the measurable range of the capacitance of the capacitor 30 is appropriately set based on the object to be measured.
  • the capacitance of the first and second auxiliary capacitors 44a, 44b may be set to five times any value within the measurable range of the capacitance of the capacitor 30.
  • any value may be the upper limit.
  • the upper limit may be 9.4 pF and the capacitance of the first and second auxiliary capacitors 44a, 44b may be 47 pF.
  • the capacitances of the first and second auxiliary capacitors 44a and 44b are equal to each other.
  • the auxiliary capacitor circuit 44 is arranged between the sensor board 33 and the circuit board 5a of the sensor section 3 and at a position closer to the circuit board 5a than the sensor board 33.
  • the auxiliary capacitance circuit 44 is arranged on the circuit board 5a. Since the sensor section 3 is the contact portion of the capacitance sensor 1 that contacts the object to be measured, the effect of stray capacitance can be suppressed as the distance from the contact portion increases. Therefore, the influence of stray capacitance from the first electrode 31 and the second electrode 32 of the sensor section 3 can be reduced.
  • the control circuit 43 of FIG. 2 is configured to control the charging/discharging circuit 42 so that the capacitor 30 of the sensor unit 3 repeats charging/discharging.
  • the control circuit 43 controls the charging/discharging circuit 42 so that the charging/discharging circuit 42 alternately switches between the first state and the second state.
  • the control circuit 43 will be described in more detail below.
  • the control circuit 43 of FIG. 2 has a determination circuit 431 and a drive circuit 432 .
  • the determination circuit 431 is configured to determine the timing of switching charging and discharging of the capacitor 30 of the sensor section 3 .
  • the charging/discharging switching timing of the capacitor 30 is the switching timing of the charging/discharging circuit 42 between the first state and the second state.
  • the determination circuit 431 determines the switching timing of charge/discharge of the capacitor 30 of the sensor section 3 based on the potential of the first electrode 31 and the potential of the second electrode 32 .
  • the determination circuit 431 determines whether the potential of the first electrode 31 has reached the first threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the first state.
  • the determination circuit 431 determines whether the potential of the second electrode 32 has reached the second threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the second state.
  • the determination result of the determination circuit 431 is output to the drive circuit 432 .
  • the determination circuit 431 includes, for example, a first comparator that compares the potential of the first electrode 31 and a first threshold, a second comparator that compares the potential of the second electrode 32 and a second threshold, and first and second comparators. and an OR circuit to which the output signal from the comparator is input.
  • the drive circuit 432 is configured to drive the first to fourth switches S1 to S4 of the charge/discharge circuit 42 according to the determination result of the determination circuit 431.
  • the drive circuit 432 outputs a common first drive signal D1 to the first and third switches S1 and S3, and outputs a common second drive signal D2 to the second and fourth switches S2 and S4. Output.
  • the first and second switches S1, S2 are enhancement-mode P-channel MOSFETs
  • the third and fourth switches S3, S4 are enhancement-mode N-channel MOSFETs.
  • the high level and low level are determined from the characteristics of the enhancement type P-channel MOSFETs of the first and second switches S1 and S2 and the enhancement type N-channel MOSFETs of the third and fourth switches S3 and S4.
  • the first drive signal D1 is at high level
  • the first switch S1 is turned on and the third switch S3 is turned off.
  • the first switch S1 is turned off and the third switch S1 is turned off. It is set so that the switch S3 is turned on.
  • the second drive signal D2 is at high level, the second switch S2 is on and the fourth switch S4 is off.
  • the second drive signal D2 is at low level, the second switch S2 is off and the fourth switch S2 is off. It is set so that the switch S4 is turned on.
  • the first drive signal D1 and the second drive signal D2 are designed not to be high level or low level at the same time.
  • the drive circuit 432 When setting the charge/discharge circuit 42 to the first state, the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level. As a result, the first and fourth switches S1 and S4 are turned on, and the second and third switches S2 and S3 are turned off.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to low level and the voltage value of the second drive signal D2 to high level. As a result, the first and fourth switches S1 and S4 are turned off, and the second and third switches S2 and S3 are turned on.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to a high level and sets the voltage value of the second drive signal D2 to a low level. , the voltage value of the first drive signal D1 is set to low level, and the voltage value of the second drive signal D2 is set to high level. Thereby, the charging/discharging circuit 42 is switched from the first state to the second state.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to low level and sets the voltage value of the second drive signal D2 to high level. , the voltage value of the first drive signal D1 is set to high level, and the voltage value of the second drive signal D2 is set to low level. Thereby, the charging/discharging circuit 42 is switched from the second state to the first state.
  • the drive circuit 432 When switching the voltage values of the first and second drive signals D1 and D2 between the high level and the low level, the drive circuit 432 provides dead time by setting the third state as described above. For example, the drive circuit 432 switches the voltage value of the first drive signal D1 between high level and low level, and switches the voltage value of the second drive signal D2 between high level and low level.
  • the voltage value of the first drive signal D1 and the voltage value of the second drive signal D2 are set to intermediate voltages at which all of the first to fourth switches S1 to S4 are turned off as shown in FIG. This reduces the possibility that the power supply Iin and the reference potential Vg are short-circuited in the charging/discharging circuit 42 .
  • FIG. 6 An example of the operation of the capacitance detection circuit 4 will be described with reference to FIGS. 6 to 13.
  • FIG. 6 is a timing chart of an example of the operation of the capacitance detection circuit 4.
  • V1 indicates the potential of the first electrode 31 and V2 indicates the potential of the second electrode 32.
  • H corresponds to a state in which the voltage value of the second drive signal D2 is at high level
  • L indicates a state in which the voltage value of the second drive signal D2 is at low level.
  • 7 to 13 are explanatory diagrams of an example of the operation of the capacitance detection circuit 4.
  • FIG. 7 to 13 the control circuit 43 is omitted only for the sake of simplification of illustration.
  • the capacitor 30 is not charged.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4 when the charge/discharge circuit 42 is in the first state.
  • the first and fourth switches S1 and S4 are on, and the second and third switches S2 and S3 are off.
  • a constant output current I1 is supplied to the first electrode 31 from the power source Iin.
  • the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • the charging/discharging circuit 42 has the first auxiliary capacitor 44a connected in parallel with the first electrode 31, the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the capacitor 30 in the first state, and the first auxiliary capacitor 44a charge is also accumulated.
  • the determination circuit 431 determines whether the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the first state.
  • the first threshold is Vth.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth).
  • the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state.
  • the drive circuit 432 provides a dead time by setting the charge/discharge circuit 42 to the third state when switching the charge/discharge circuit 42 from the first state to the second state.
  • the drive circuit 432 changes the voltage value of the first drive signal D1 from high level to low level and sets the voltage value of the second drive signal D2 from low level to high level.
  • the voltage value and the voltage value of the second drive signal D2 are set to an intermediate voltage at which all of the first to fourth switches S1 to S4 are turned off as shown in FIG.
  • FIG. 8 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4 when the charge/discharge circuit 42 is in the third state.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to low level and the voltage value of the second drive signal D2 to high level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the second state.
  • FIG. 9 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4 immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state.
  • the first and fourth switches S1 and S4 are off, and the second and third switches S2 and S3 are on.
  • the first electrode 31 is connected to the reference potential terminal 41b
  • the second electrode 32 is connected to the power supply terminal 41a.
  • the potential V2 of the second electrode 32 becomes negative. Since the charging/discharging circuit 42 has a second auxiliary capacitor 44b connected in parallel with the second electrode 32, the second auxiliary capacitor 44b is connected in parallel with the capacitor 30 in the second state.
  • Vd is a negative value. Since Vd is determined by the charges stored in the capacitor 30 in the first state and the combined capacitance of the capacitor 30 and the second auxiliary capacitor 44b, the following equation (1) holds.
  • Equation (1) Ce is the capacitance of the capacitor 30, and Cg is the capacitance of the first auxiliary capacitor 44a and the second auxiliary capacitor 44b.
  • the capacitance (Cg) of the second auxiliary capacitor 44b and the first threshold value (Vth) are set so that
  • Vf is a negative value and the magnitude of Vf is equal to the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor used as the third switch S3.
  • the forward voltage of the body diode exceeds
  • the magnitude of Vf corresponds to the magnitude of the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor of the third switch S3, and switches the charging/discharging circuit 42 from the first state to the second state in the absence of the second auxiliary capacitor 44b. This is the lower limit value of the potential V2 of the second electrode 32 at this time.
  • FIG. 10 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4 after a period of time has passed since the charging/discharging circuit 42 was switched to the second state.
  • the potential V2 of the second electrode 32 is positive.
  • the determination circuit 431 determines whether the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the second state.
  • the second threshold is equal to the first threshold, Vth.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth).
  • the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • the drive circuit 432 provides a dead time by setting the charge/discharge circuit 42 to the third state when switching the charge/discharge circuit 42 from the second state to the first state.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4 when the charge/discharge circuit 42 is in the third state.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • FIG. 12 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4 immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state.
  • the first and fourth switches S1 and S4 are on, and the second and third switches S2 and S3 are off.
  • the first electrode 31 is connected to the power terminal 41a
  • the second electrode 32 is connected to the reference potential terminal 41b.
  • the potential V1 of the first electrode 31 becomes negative. Since the charging/discharging circuit 42 has the first auxiliary capacitor 44a connected in parallel with the first electrode 31, the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the capacitor 30 in the first state. This causes the charge in the capacitor 30 to move to the first auxiliary capacitor 44a.
  • the potential V1 of the first electrode 31 drops to Vd, as does the second electrode 32 .
  • the capacitance (Cg) of the first auxiliary capacitor 44a and the second threshold value (Vth) are set so that
  • Vf is a negative value and the magnitude of Vf is equal to the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor used as the fourth switch S4.
  • the forward voltage of the body diode exceeds
  • the magnitude of Vf corresponds to the magnitude of the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor of the fourth switch S4, and switches the charging/discharging circuit 42 from the second state to the first state in the absence of the first auxiliary capacitor 44a. This is the lower limit value of the potential V1 of the first electrode 31 at this time.
  • the first electrode 31 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 . Charge is also accumulated in the first auxiliary capacitor 44a. After a lapse of time since the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state, the potential V1 of the first electrode 31 becomes positive as shown in FIG.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold value (Vth), and the drive circuit 432 causes the charge/discharge circuit 42 to operate. Set to the second state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 .
  • the control circuit 43 switches the charging/discharging circuit 42 from the first state to the second state when the potential V1 of the first electrode 31 reaches the first threshold value (Vth) while the charging/discharging circuit 42 is in the first state.
  • switch to The control circuit 43 switches the charge/discharge circuit 42 from the second state to the first state when the potential V2 of the second electrode 32 reaches the second threshold (Vth) when the charge/discharge circuit 42 is in the second state. Therefore, in the capacitance detection circuit 4, the capacitor 30 is charged such that the potential of the first electrode 31 is higher than the potential of the second electrode 32, and the potential of the second electrode 32 of the capacitor 30 is higher than the potential of the first electrode. The state of being charged so as to be higher than the potential of 31 is repeated.
  • T indicates such a charge/discharge cycle of the capacitor 30 .
  • the period T is the sum of the first period T1 and the second period T2.
  • the first period T1 is the length of the period during which the charging/discharging circuit 42 is in the first state.
  • the length of the period in which the charging/discharging circuit 42 is in the first state is determined by the constant output current I1 supplied from the power supply Iin to the combined capacitor of the capacitor 30 and the first auxiliary capacitor 44a. It is the time required for the potential to change from Vd to Vth.
  • the second period T2 is the length of the period during which the charging/discharging circuit 42 is in the second state.
  • the length of the period in which the charging/discharging circuit 42 is in the second state is determined by supplying a constant output current I1 from the power supply Iin to the combined capacitor of the capacitor 30 and the second auxiliary capacitor 44b. It is the time required for the potential to change from Vd to Vth. Therefore, period T is given by the following equation (2).
  • i is the value (current value) of the output current I1.
  • the capacitance Ce is calculated from a formula including the period T, but the capacitance is not limited to this, and the capacitance may be measured by an existing method such as impedance measurement.
  • FIG. 13 is a timing chart of an example of the operation of the capacitance detection circuit of the comparative example.
  • the capacitance detection circuit of the comparative example differs from the capacitance detection circuit 4 in that it does not have the first and second auxiliary capacitors 44a and 44b.
  • the charging/discharging circuit 42 is set to the first state at time t20, and the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32.
  • the potential V1 reaches the first threshold Vth, and the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state.
  • the potential V2 reaches the second threshold Vth, and the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state.
  • the potential V1 reaches the first threshold Vth, and the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state.
  • the potential V2 reaches the second threshold Vth, and the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state.
  • the potential V1 reaches the first threshold Vth, and the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state.
  • the potential V1 of the first electrode 31 becomes Vf immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state (see times t22 and t24).
  • the potential V2 of the second electrode 32 becomes Vf. This is because
  • the first cycle T1 is the time required for the potential of the first electrode 31 to change from Vf to Vth when the capacitor 30 is supplied with a constant output current I1 from the power supply Iin.
  • the second period T2 is the time it takes for the potential of the second electrode 32 to change from Vf to Vth when the constant output current I1 is supplied to the capacitor 30 from the power source Iin. Therefore, in the comparative example, the period T is given by the following equation (4).
  • the capacitance detection circuit 4 of the present embodiment has a greater influence of changes in the capacitance Ce with respect to the period T than the capacitance detection circuit of the comparative example. You can see that it has doubled.
  • the capacitance detection circuit 4 can reduce the influence of stray capacitance on capacitance detection.
  • the processing circuit 5 in FIG. 2 includes an arithmetic circuit 51 and an input/output circuit 52 .
  • the arithmetic circuit 51 and the input/output circuit 52 are arranged on a circuit board 5a different from the sensor board 33 and the circuit board 4a (see FIG. 14).
  • a reference potential Vg is provided on the circuit board 5a.
  • a DC power supply 6 is arranged on the circuit board 5a.
  • the input/output circuit 52 functions as an input device for operating the capacitance sensor 1 and as an output device for outputting information from the capacitance sensor 1 .
  • Input/output circuit 52 comprises, for example, one or more human-machine interfaces. Examples of human-machine interfaces include input devices such as mechanical switches and touch pads, output devices such as displays and speakers, and input/output devices such as touch panels.
  • the arithmetic circuit 51 controls the operation of the capacitance sensor 1.
  • the arithmetic circuit 51 is connected to the input/output circuit 52 .
  • Arithmetic circuit 51 can be implemented by, for example, a computer system including one or more processors (microprocessors) and one or more memories.
  • processors microprocessors
  • One or more processors one or more memories, etc.
  • execute a program thereby realizing the functions of the arithmetic circuit 51 .
  • the arithmetic circuit 51 is connected to the input/output circuit 52 .
  • the arithmetic circuit 51 causes the capacitance detection circuit 4 to start the operation for detecting capacitance.
  • the arithmetic circuit 51 is configured to calculate the capacitance of the capacitor 30 based on the charging/discharging time of the capacitor 30 by the capacitance detection circuit 4 .
  • the charging and discharging time of the capacitor 30 by the capacitance detection circuit 4 is the period T. As shown in FIG.
  • the arithmetic circuit 51 can obtain the capacitance Ce of the capacitor 30 from the period T based on the above equation (3).
  • the arithmetic circuit 51 is configured to obtain the water content of the measurement target based on the capacitance Ce of the capacitor 30 .
  • Arithmetic circuit 51 displays the amount of moisture to be measured by the output device of input/output circuit 52 .
  • the measuring device 10 is used by a measurer to measure the intraoral moisture content of a measurement target.
  • a measurer is, for example, a medical worker such as a doctor or a nurse.
  • a subject to be measured is, for example, a patient.
  • the measurer holds the grip portion 22 of the handheld housing 2 of the measuring device 10 by hand, puts the head portion 21 of the handheld housing 2 of the measuring device 10 into the oral cavity of the measurement target, and It is brought into contact with the measurement site such as the mucous membrane, palatal mucosa, or labial mucosa.
  • the measuring device 10 itself is not grounded, when using the measuring device 10 as described above, the head portion 21 of the measuring device 10 is grounded through the object to be measured, and the grip portion 22 of the measuring device 10 is attached to the measuring person. grounded through Therefore, various stray capacitances may occur when the measuring device 10 is used.
  • FIG. 14 is an explanatory diagram of stray capacitance that occurs when the measuring device 10 of FIG. 1 is used.
  • M1 schematically indicates the body to be measured.
  • M11 schematically indicates the body surface water layer of the measurer.
  • M2 schematically indicates the body of the measurer.
  • the head portion 21 of the handheld housing 2 of the measuring device 10 is brought into contact with a specific intraoral site of the measurement target M1.
  • the first and second electrodes 31 and 32 of the sensor section 3 are in contact with the body surface water layer M11 of the measurement object M1 through the protective layer 34.
  • a stray capacitance C1 can be generated between the first electrode 31 and the measurement object M1.
  • a stray capacitance C2 may occur between the second electrode 32 and the measurement object M1.
  • the capacitance of the capacitor 30 formed by the first and second electrodes 31 and 32 changes under the influence of the stray capacitances C1 and C2.
  • stray capacitance unrelated to the capacitance to be measured occurs.
  • a stray capacitance ch1 can occur between the object M1 to be measured and the ground.
  • a stray capacitance Cp1 may occur between the terminal connected to the first electrode 31 and the reference potential Vg in the capacitance detection circuit 4 .
  • a stray capacitance Cp2 may occur between the terminal connected to the second electrode 32 and the reference potential Vg in the capacitance detection circuit 4 .
  • the grip portion 22 of the handheld housing 2 of the measuring instrument 10 is held by the measurer M2.
  • a stray capacitance Ch21 can occur between the operator M2 and the ground.
  • a stray capacitance Ch22 may occur between the user M2 and the reference potential Vg of the processing circuit 5 .
  • the sensor section 3 between the human body and the measuring instrument 10
  • the human body and the reference potential Vg are connected via the ground potential, and there is a possibility that the correct capacitance cannot be observed.
  • the capacitance to be measured is large, the effect of such stray capacitance is relatively small, so the effect on measurement accuracy is small.
  • the effect of stray capacitance can contribute to large errors.
  • the capacitance detection circuit 4 includes first and second auxiliary capacitors 44a and 44b.
  • sensitivity can be relatively increased. That is, it is less likely to be affected by stray capacitances (for example, Ch1, Ch21, and Ch22 in FIG. 14) that cause disturbances.
  • the influence of stray capacitance Cs can be reduced. That is, in this embodiment, the influence of the stray capacitance Cs can be reduced simply by arranging the first and second auxiliary capacitors 44a and 44b.
  • [1.1.3 Modification] 15 is a timing chart of an example of the operation of the capacitance detection circuit according to one modification of the first embodiment; FIG. This modification differs from the above configuration in that the capacitance of the first auxiliary capacitor 44a and the capacitance of the second auxiliary capacitor 44b are not the same, but different.
  • the capacitor 30 is not charged.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • the first electrode 31 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 . Since the charging/discharging circuit 42 has the first auxiliary capacitor 44a connected in parallel with the first electrode 31, the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the capacitor 30 in the first state, and the first auxiliary capacitor 44a charge is also accumulated in
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth). As a result, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state. Immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state, the potential V2 of the second electrode 32 becomes negative. Since the charging/discharging circuit 42 has a second auxiliary capacitor 44b connected in parallel with the second electrode 32, the second auxiliary capacitor 44b is connected in parallel with the capacitor 30 in the second state. This causes the charge in the capacitor 30 to move to the second auxiliary capacitor 44b. In FIG. 15, the potential V2 of the second electrode 32 drops to Vd2. Vd2 is a negative value. Since Vd2 is determined by the charges stored in the capacitor 30 in the first state and the combined capacitance of the capacitor 30 and the second auxiliary capacitor 44b, the following equation (6) holds.
  • Equation (6) Ce is the capacitance of the capacitor 30, and Cg2 is the capacitance of the second auxiliary capacitor 44b.
  • the magnitude of Vd2 is set so as not to exceed the magnitude of the threshold voltage of the body diode of the third switch S3. That is, the capacitance (Cg2) of the second auxiliary capacitor 44b and the first threshold value (Vth) are set such that
  • the second electrode 32 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 . Charge is also accumulated in the second auxiliary capacitor 44b.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state. Immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state, the potential V1 of the first electrode 31 becomes negative. Since the charging/discharging circuit 42 has the first auxiliary capacitor 44a connected in parallel with the first electrode 31, the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the capacitor 30 in the first state. This causes the charge in the capacitor 30 to move to the first auxiliary capacitor 44a. In FIG. 15, the potential V2 of the second electrode 32 drops to Vd1. Vd1 is a negative value. Since Vd1 is determined by the charges stored in the capacitor 30 in the second state and the combined capacitance of the capacitor 30 and the first auxiliary capacitor 44a, the following equation (7) holds.
  • Cg1 is the capacitance of the first auxiliary capacitor 44a.
  • the magnitude of Vd1 is set so as not to exceed the magnitude of the threshold voltage of the body diode of the fourth switch S4. That is, the capacitance (Cg1) of the first auxiliary capacitor 44a and the second threshold value (Vth) are set such that
  • the values of the first threshold and the second threshold are equal, Vth.
  • Vth is the value of the first threshold
  • Vth is the value of the second threshold.
  • the threshold voltage of the body diode of the third switch S3 and the threshold voltage of the body diode of the fourth switch S4 are equal.
  • Vf is the potential V2 of the second electrode 32 when the charge/discharge circuit 42 is switched from the first state to the second state without the second auxiliary capacitor 44b. , which corresponds to the threshold voltage of the body diode of the third switch S3.
  • Vf is the potential V1 of the first electrode 31 when the charge/discharge circuit 42 is switched from the second state to the first state without the first auxiliary capacitor 44a.
  • the capacitance of the first auxiliary capacitor 44a, the capacitance of the second auxiliary capacitor 44b, the first threshold, and the second threshold are set so as to satisfy the above expressions (8) and (9). and are set.
  • the first electrode 31 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 . Charge is also accumulated in the first auxiliary capacitor 44a.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • T indicates the charge/discharge cycle of the capacitor 30.
  • the period T is the sum of the first period T1 and the second period T2.
  • a constant output current I1 is supplied from the power supply Iin to the combined capacitor of the capacitor 30 and the first auxiliary capacitor 44a, and the potential of the first electrode 31 changes from Vd1 to the first threshold value (Vth). is the time it takes to become
  • the constant output current I1 is supplied from the power supply Iin to the combined capacitor of the capacitor 30 and the second auxiliary capacitor 44b, so that the potential of the second electrode 32 changes from Vd2 to the second threshold (Vth). is the time it takes to become Therefore, the period T is given by the following equation (10).
  • i is the value (current value) of the output current I1.
  • the capacitance sensor 1 includes the sensor section 3 having the first electrode 31 and the second electrode 32 forming the capacitor 30, and the capacitance detection circuit 4 connected to the sensor section 3. .
  • the capacitance detection circuit 4 is connected to the first electrode 31 and the second electrode 32, and controls the charging/discharging circuit 42 for charging/discharging the capacitor 30 and the charging/discharging circuit 42 so that the capacitor 30 repeats charging/discharging.
  • an auxiliary capacitance circuit 44 having This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • the capacitance of the first auxiliary capacitor 44a and the capacitance of the second auxiliary capacitor 44b are equal. This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • the capacitance of the first auxiliary capacitor 44a and the capacitance of the second auxiliary capacitor 44b are different. This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • the charging/discharging circuit 42 has a complementary first state in which a constant output current is supplied to the first electrode 31 and a second state in which a constant output current is supplied to the second electrode 32. configured to be switchable to
  • the control circuit 43 is configured to switch the charge/discharge circuit 42 from the first state to the second state when the potential of the first electrode 31 reaches the first threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the first state.
  • the control circuit 43 is configured to switch the charge/discharge circuit 42 from the second state to the first state when the potential of the second electrode 32 reaches the second threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the second state. This configuration can simplify the configuration of the capacitance detection circuit.
  • the first threshold and the second threshold are equal. This configuration can simplify the configuration of the capacitance detection circuit.
  • the charge/discharge circuit 42 is connected between a power supply terminal 41a connected to the power supply Iin and a reference potential terminal 41b connected to the reference potential Vg, and is connected to the first switch S1 and the second switch S2. , a third switch S3 and a fourth switch S4.
  • the first switch S1 and the third switch S3 form a series circuit.
  • a series circuit of the first switch S1 and the third switch S3 is connected between the power supply terminal 41a and the reference potential terminal 41b such that the first switch S1 is connected to the power supply terminal 41a and the third switch S3 is connected to the reference potential terminal 41b. It is in.
  • a connection point between the first switch S1 and the third switch S3 is connected to the first electrode 31 .
  • the second switch S2 and the fourth switch S4 form a series circuit.
  • the second switch S2 is connected to the power supply terminal 41a
  • the fourth switch S4 is connected to the reference potential terminal 41b
  • the first switch S1 and the third switch S3 are connected in series. It is between the power supply terminal 41a and the reference potential terminal 41b so as to be connected in parallel to the circuit.
  • a connection point between the second switch S2 and the fourth switch S4 is connected to the second electrode 32 .
  • the first and fourth switches S4 are on and the second and third switches S3 are off.
  • the first and fourth switches S4 are off and the second and third switches S3 are on. This configuration can simplify the configuration of the capacitance detection circuit.
  • the first end of the first auxiliary capacitor 44a is connected to the first electrode 31 so that the first auxiliary capacitor 44a is parallel to the third switch S3, and the first end of the first auxiliary capacitor 44a is connected to the first electrode 31.
  • a second end is connected to the reference potential terminal 41b.
  • a first end of the second auxiliary capacitor 44b is connected to the second electrode 32 so that the second auxiliary capacitor 44b is parallel to the fourth switch S4, and a second end of the second auxiliary capacitor 44b is connected to the reference potential terminal. 41b.
  • Vth1 is the first threshold.
  • Vth2 is the second threshold.
  • Vf1 is the lower limit of the potential of the first electrode 31 when the charging/discharging circuit 42 is switched from the second state to the first state without the first auxiliary capacitor 44a.
  • Vf2 is the lower limit of the potential of the second electrode 32 when the charge/discharge circuit 42 is switched from the first state to the second state without the second auxiliary capacitor 44b. This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • Vf1 ⁇ 0 and Vf2 ⁇ 0 are satisfied. This configuration can increase the amount of change in capacitance and improve the accuracy of capacitance detection.
  • each of the second switch S3 and the fourth switch S4 is a field effect transistor.
  • Vf1 is determined by the threshold voltage of the body diode of the second switch S3.
  • Vf2 is determined by the threshold voltage of the body diode of the fourth switch S4. This configuration can reduce the size of the capacitance detection circuit and speed up switching between the first state and the second state.
  • the capacitance sensor 1 further includes a processing circuit 5 that calculates the capacitance of the capacitor 30 based on the charging and discharging time of the capacitor 30 by the capacitance detection circuit 4 . This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • the sensor section 3 has a sensor substrate 33 on which the first electrode 31 and the second electrode 32 are arranged.
  • the charging/discharging circuit 42 is arranged on a circuit board 4 a different from the sensor board 33 .
  • the auxiliary capacitance circuit 44 is arranged between the sensor board 33 and the circuit board 4a and at a position closer to the circuit board 4a than the sensor board 33 is. This configuration can reduce the influence of stray capacitance from the first electrode 31 and the second electrode 32 of the sensor section 3 .
  • the measuring instrument 10 described above includes the capacitance sensor 1 and the handheld housing 2 that accommodates the capacitance sensor 1 . This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • the handheld housing 2 includes a head section 21 arranged at a first end of the handheld housing 2 and brought into contact with the object to be measured, and a head section 21 arranged at a second end of the handheld housing 2 and being operated by hand. It includes a grip portion 22 to be grasped and a probe portion 23 connecting the head portion 21 and the grip portion 22 .
  • the sensor section 3 is located on the head section 21 .
  • the capacitance detection circuit 4 is located in the head section 21 or the probe section 23 .
  • the processing circuitry 5 is located in the grip portion 22 . This configuration can reduce the influence of stray capacitance generated in the grip.
  • the grip portion 22 has a conductive portion 221 exposed on the surface of the grip portion 22 .
  • the conductive portion 221 is connected to the reference potential Vg of the processing circuit 5 . This configuration can reduce variations in the influence of stray capacitance on the person holding the measuring instrument.
  • the sensor unit 3 is arranged such that the first and second electrodes 31 and 32 form a capacitor 30 together with a part of the object to be measured when the first and second electrodes 31 and 32 come into contact with the object to be measured.
  • the processing circuitry 5 is configured to determine the amount of water to be measured based on the capacitance of the capacitor 30 . This arrangement allows measurement of the water content of the object to be measured.
  • the object to be measured is a living organism. This configuration allows measurement of the water content of the organism.
  • the object to be measured is the oral cavity of an organism. This configuration allows the measurement of the water content of the oral cavity of an organism.
  • FIG. 16 is a circuit diagram of a configuration example of the capacitance sensor 1A of the measuring device according to the second embodiment.
  • the capacitance sensor 1A is different from the capacitance sensor 1 in that it includes a capacitance detection circuit 4A different from the capacitance detection circuit 4 of the capacitance sensor 1 .
  • a capacitance detection circuit 4A of FIG. 16 differs from the capacitance detection circuit 4 in that it includes an auxiliary capacitance circuit 44A that is different from the auxiliary capacitance circuit 44 of the capacitance detection circuit 4 .
  • the auxiliary capacitance circuit 44A includes a first auxiliary capacitor 44a, but differs from the auxiliary capacitance circuit 44 in that it does not include a second auxiliary capacitor 44b.
  • FIG. 17 An example of the operation of the capacitance detection circuit 4A will be described with reference to FIGS. 17 to 23.
  • FIG. 17 is a timing chart of an example of the operation of the capacitance detection circuit 4A.
  • V1 indicates the potential of the first electrode 31 and V2 indicates the potential of the second electrode 32.
  • H corresponds to a state in which the voltage value of the second drive signal D2 is at a high level
  • L indicates a state in which the voltage value of the second drive signal D2 is at a low level.
  • 18 to 23 are explanatory diagrams of an example of the operation of the capacitance detection circuit 4A. 18 to 23, the control circuit 43 is omitted only for the sake of simplification of illustration.
  • the capacitor 30 is not charged.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • FIG. 18 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4A when the charge/discharge circuit 42 is in the first state.
  • the first and fourth switches S1 and S4 are on, and the second and third switches S2 and S3 are off.
  • a constant output current I1 is supplied to the first electrode 31 from the power source Iin.
  • the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • the charging/discharging circuit 42 has the first auxiliary capacitor 44a connected in parallel with the first electrode 31, the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the capacitor 30 in the first state, and the first auxiliary capacitor 44a charge is also accumulated.
  • the determination circuit 431 determines whether the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the first state.
  • the first threshold is Vth.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth).
  • the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state.
  • drive circuit 432 sets charge/discharge circuit 42 to the third state before setting charge/discharge circuit 42 to the second state.
  • FIG. 19 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4A when the charge/discharge circuit 42 is in the third state. Thereafter, the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to low level and the voltage value of the second drive signal D2 to high level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the second state.
  • FIG. 20 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4A immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state.
  • the first and fourth switches S1 and S4 are off, and the second and third switches S2 and S3 are on.
  • the first electrode 31 is connected to the reference potential terminal 41b
  • the second electrode 32 is connected to the power supply terminal 41a.
  • the potential V2 of the second electrode 32 becomes negative.
  • the charging/discharging circuit 42 does not have a second auxiliary capacitor 44b connected in parallel with the second electrode 32 .
  • the potential V2 of the second electrode 32 decreases to Vf1 in FIG. Vf1 is a negative value and the magnitude of Vf1 is equal to the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor used as the third switch S3.
  • FIG. 21 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4A after a period of time has passed since the charge/discharge circuit 42 was switched to the second state.
  • the potential V2 of the second electrode 32 is positive.
  • the determination circuit 431 determines whether the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold when the charge/discharge circuit 42 is in the second state.
  • the second threshold is equal to the first threshold, Vth.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth).
  • the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • drive circuit 432 sets charge/discharge circuit 42 to the third state before setting charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • FIG. 22 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4A when the charge/discharge circuit 42 is in the third state. Thereafter, the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • FIG. 23 is an explanatory diagram of the operation of the capacitance detection circuit 4A immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state.
  • the first and fourth switches S1 and S4 are on, and the second and third switches S2 and S3 are off.
  • the first electrode 31 is connected to the power terminal 41a
  • the second electrode 32 is connected to the reference potential terminal 41b.
  • the potential V1 of the first electrode 31 becomes negative. Since the charging/discharging circuit 42 has the first auxiliary capacitor 44a connected in parallel with the first electrode 31, the first auxiliary capacitor 44a is connected in parallel with the capacitor 30 in the first state.
  • Vd1 is a negative value. Since Vd1 is determined by the charge stored in the capacitor 30 in the second state and the combined capacitance of the capacitor 30 and the first auxiliary capacitor 44a, the above equation (7) holds.
  • the capacitance (Cg1) of the first auxiliary capacitor 44a and the second threshold value (Vth) are set so that
  • Vf2 is a negative value and the magnitude of Vf2 is equal to the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor used as the fourth switch S4. If
  • the first electrode 31 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 . Charge is also accumulated in the first auxiliary capacitor 44a. After a lapse of time since the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state, the potential V1 of the first electrode 31 becomes positive as shown in FIG.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • T indicates such a charge/discharge cycle of the capacitor 30 .
  • the period T is the sum of the first period T1 and the second period T2.
  • a constant output current I1 is supplied from the power supply Iin to the combined capacitor of the capacitor 30 and the first auxiliary capacitor 44a, and the potential of the first electrode 31 changes from Vd1 to the first threshold value (Vth).
  • Vth first threshold value
  • the second period T2 is the time it takes for the potential of the second electrode 32 to reach the second threshold (Vth) from Vf1 when the constant output current I1 is supplied to the capacitor 30 from the power source Iin. Therefore, period T is given by the following equation (12).
  • i is the value (current value) of the output current I1.
  • FIG. 24 is a timing chart of one example of the operation of the capacitance detection circuit according to one modification of the second embodiment. This modification differs from the capacitance detection circuit 4A in that the capacitance detection circuit includes the second auxiliary capacitor 44b but does not include the first auxiliary capacitor 44a.
  • the capacitor 30 is not charged.
  • the drive circuit 432 sets the voltage value of the first drive signal D1 to high level and the voltage value of the second drive signal D2 to low level, thereby setting the charge/discharge circuit 42 to the first state.
  • the first electrode 31 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth). As a result, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state. Immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the second state, the potential V2 of the second electrode 32 becomes negative. Since the charging/discharging circuit 42 has a second auxiliary capacitor 44b connected in parallel with the second electrode 32, the second auxiliary capacitor 44b is connected in parallel with the capacitor 30 in the second state. This causes the charge in the capacitor 30 to move to the second auxiliary capacitor 44b. In FIG. 24, the potential V2 of the second electrode 32 drops to Vd2. Vd2 is a negative value. Since Vd2 is determined by the charge stored in the capacitor 30 in the first state and the combined capacitance of the capacitor 30 and the second auxiliary capacitor 44b, the above equation (6) holds.
  • the capacitance (Cg2) of the second auxiliary capacitor 44b and the first threshold value (Vth) are set so that
  • Vf1 is a negative value and the magnitude of Vf1 is equal to the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor used as the third switch S3. If
  • the second electrode 32 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 . Charge is also accumulated in the second auxiliary capacitor 44b.
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state. Immediately after the charging/discharging circuit 42 is switched to the first state, the potential V1 of the first electrode 31 becomes negative. In FIG. 24, the potential V1 of the first electrode 31 drops to Vf2. Vf2 is a negative value. The magnitude of Vf2 is equal to the threshold voltage of the body diode of the field effect transistor used as the fourth switch S4.
  • the first electrode 31 is supplied with a constant output current I1 from the power source Iin. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V1 of the first electrode 31 has reached the first threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the second state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V2 of the second electrode 32 becomes higher than the potential V1 of the first electrode 31 .
  • the determination circuit 431 determines that the potential V2 of the second electrode 32 has reached the second threshold (Vth). Thereby, the drive circuit 432 sets the charge/discharge circuit 42 to the first state. Thereby, the capacitor 30 is charged so that the potential V1 of the first electrode 31 becomes higher than the potential V2 of the second electrode 32 .
  • T indicates the charge/discharge cycle of the capacitor 30 .
  • the period T is the sum of the first period T1 and the second period T2.
  • the first cycle T1 is the time it takes for the potential of the first electrode 31 to change from Vf2 to Vth when the constant output current I1 is supplied to the capacitor 30 from the power source Iin.
  • the second period T2 is a period in which the potential of the second electrode 32 changes from Vd2 to Vth by supplying a constant output current I1 from the power source Iin to the combined capacitor of the capacitor 30 and the second auxiliary capacitor 44b. It's time. Therefore, period T is given by the following equation (14). In the following equation (14), i is the value (current value) of the output current I1.
  • the capacitance sensor 1A includes the sensor section 3 having the first electrode 31 and the second electrode 32 forming the capacitor 30, and the capacitance detection circuit 4A connected to the sensor section 3. .
  • the capacitance detection circuit 4A is connected to the first electrode 31 and the second electrode 32, and controls the charging/discharging circuit 42 for charging/discharging the capacitor 30 and the charging/discharging circuit 42 so that the capacitor 30 repeats charging/discharging.
  • an auxiliary capacitance circuit 44A having one of This configuration can reduce the effect of stray capacitance on capacitive sensing.
  • FIG. 25 is a schematic diagram of a configuration example of the measuring device 10B according to the third embodiment.
  • the measuring instrument 10B is an occlusal force measuring instrument for measuring the occlusal force of the upper and lower teeth of a human.
  • a measuring device 10B in FIG. 25 is a capacitive bite force measuring device.
  • the measuring instrument 10B comprises a capacitive sensor 1B and a handheld housing 2B.
  • the handheld housing 2B houses the capacitance sensor 1B.
  • the handheld housing 2B has a size and weight that a person can hold with one hand.
  • the handheld housing 2B has a waterproof structure and protects the capacitance sensor 1B inside the handheld housing 2B from moisture.
  • the handheld housing 2B of FIG. 25 is rod-shaped.
  • the handheld housing 2B of FIG. 25 is shaped like a so-called toothbrush.
  • the handheld housing 2B includes a head portion 21B, a grip portion 22, and a probe portion 23 connecting the head portion 21B and the grip portion 22 together.
  • the handheld housing 2B of FIG. 25 differs from the handheld housing 2 of FIG. 1 in the structure of the head portion 21B.
  • the head part 21B is a part of the handheld housing 2B that comes into contact with the object to be measured.
  • the head section 21B is arranged at the first end (the left end in FIG. 25) of the handheld housing 2B.
  • the head portion 21B is put into the mouth of a person and sandwiched between the upper and lower jaw teeth during use.
  • the head portion 21B is made of a soft material so as to transmit the occlusion force of the upper and lower teeth to the capacitance sensor 1B.
  • FIG. 26 is a schematic perspective view of a configuration example of the head portion 21B.
  • the head portion 21B has a pair of resin layers 211B and 212B.
  • a sensor section 3B which will be described later, is arranged between the pair of resin layers 211B and 212B.
  • the resin layers 211B and 212B are rectangular plates, for example.
  • the resin layers 211B and 212B are made of flexible resin. Flexible resins include acrylic resins, urethane resins, silicone resins, styrene resins, and polyamide resins.
  • the capacitance sensor 1B obtains the occlusion force based on the capacitance.
  • the capacitance sensor 1B includes a sensor section 3B, a capacitance detection circuit 4, and a processing circuit 5B.
  • the sensor section 3B and the capacitance detection circuit 4 are located in the head section 21B of the handheld housing 2B.
  • processing circuitry 5B is located in grip portion 22B of handheld housing 2B.
  • the sensor section 3B includes first and second electrodes 31B and 32B and a deformation section 35B.
  • the deformable portion 35B deforms when pressure is applied. Pressure can be applied, for example, by a person biting with their upper and lower teeth.
  • the deformable portion 35B has, for example, a rectangular plate shape.
  • the deformable portion 35B is made of flexible resin. Flexible resins include acrylic resins, urethane resins, silicone resins, styrene resins, and polyamide resins. These resins exhibit a large change in physical properties with respect to load, making it possible to suppress the load on the user.
  • the first and second electrodes 31B and 32B are rectangular plates, for example.
  • the first and second electrodes 31B, 32B can be formed by sputtering, vapor deposition, or printing.
  • Materials for the first and second electrodes 31B and 32B include noble metals such as Au, Ag and Pd, and base metals such as Cu, Al and Ni.
  • the deformation section 35B is between the first and second electrodes 31B and 32B.
  • the sensor section 3B is configured such that the first and second electrodes 31B and 32B form a capacitor 30B together with the deformation section 35B.
  • the first and second electrodes 31B, 32B function as electrodes of the capacitor 30B.
  • the deformation portion 35B functions as a dielectric for the first and second electrodes 31B and 32B. That is, the displacement of the deformable portion 35B having flexibility changes the capacitance between the first and second electrodes 31B and 32B, that is, the capacitance of the capacitor 30B.
  • the processing circuit 5B differs from the processing circuit 5 in FIG. 2 in the operation of the arithmetic circuit 51.
  • the arithmetic circuit 51 of the processing circuit 5B of FIG. 25 causes the capacitance detection circuit 4 to detect the capacitance when the input device of the input/output circuit 52 is operated to start measuring the occlusal force. to initiate the action for
  • the arithmetic circuit 51 is configured to calculate the capacitance of the capacitor 30 based on the charging/discharging time of the capacitor 30 by the capacitance detection circuit 4 .
  • the arithmetic circuit 51 can obtain the capacitance Ce of the capacitor 30B from the period T, as in the first and second embodiments.
  • the arithmetic circuit 51 is configured to obtain the occlusion force of the upper and lower teeth based on the capacitance Ce of the capacitor 30B.
  • the arithmetic circuit 51 displays information indicating the occlusion force by the output device of the input/output circuit 52 .
  • the sensor section 3B includes a deformation section 35B that deforms when pressure is applied.
  • the sensor portion 3B is configured such that the first and second electrodes 31B, 32B form a capacitor 30B together with the deformation portion 35B.
  • Processing circuitry 5 is configured to determine the pressure based on the capacitance of capacitor 30B. This configuration allows pressure measurements. In particular, pressure may be applied to deformation 35B by a person biting with their upper and lower teeth. In this case, it is possible to measure the occlusal force of the mandibular and maxillary teeth.
  • FIG. 27 is a schematic perspective view of a configuration example of the head section 21C of the measuring device 10C according to the fourth embodiment.
  • the measuring device 10C like the measuring device 10, is a capacitive moisture measuring device.
  • the measuring instrument 10C comprises a capacitive sensor 1C and a handheld housing 2C.
  • the handheld housing 2C houses the capacitance sensor 1C.
  • the handheld housing 2C has a head portion 21C.
  • the handheld housing 2C includes a grip section 22 and a probe section 23, like the handheld housing 2 of FIG.
  • the capacitance sensor 1C obtains the moisture content of the measurement target based on the capacitance.
  • the capacitance sensor 1C includes a sensor section 3C.
  • the capacitive sensor 1C includes a capacitive detection circuit 4 and a processing circuit 5, like the capacitive sensor 1 of FIG.
  • At least the sensor section 3C is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3C is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor portion 3C and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor portion 3C in the head portion 21C constitute a contact area 100 that is brought into contact with the object to be measured.
  • the contact area 100 is an area that is expected to come into contact with the measurement target during measurement with the measuring device 10C.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C is positioned on a predetermined plane including the frame-shaped region 200 of the head portion 21C. That is, it can be said that the surface 300 of the sensor section 3C and the frame-shaped region 200 of the head section 21C are on the same plane.
  • FIG. 28 is an explanatory diagram of a configuration example of the sensor section 3C of the capacitance sensor 1C.
  • FIG. 29 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of the sensor section 3C of the capacitance sensor 1C.
  • FIG. 30 is a schematic plan view of the sensor section 3C.
  • FIG. 31 is a schematic bottom view of the sensor section 3C.
  • FIG. 29 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
  • a sensor unit 3C in FIGS. 28 and 29 includes a first electrode 31, a second electrode 32, a sensor substrate 33, and a protective layer 34C.
  • the sensor unit 3C is arranged such that the first and second electrodes 31 and 32 form a capacitor 30 (see FIG. 2) together with part of the object to be measured when the first and second electrodes 31 and 32 come into contact with the object to be measured. Configured.
  • the sensor substrate 33 has a rectangular plate shape. As shown in FIGS. 28 and 29, the sensor substrate 33 has a first surface 33a and a second surface 33b in the thickness direction of the sensor substrate 33. As shown in FIGS. As shown in FIGS. 28 and 29, the sensor substrate 33 is provided with the first electrode 31, the second electrode 32, and the protective layer 34C. In FIG. 30, illustration of the protective layer 34C is omitted.
  • the first electrode 31 has an electrode portion 311, a terminal portion 312, and a connection portion 313.
  • the electrode part 311 is used for contact with the object to be measured.
  • the electrode section 311 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the electrode portion 311 in FIG. 30 has a comb structure.
  • the electrode portion 311 has a plurality of tooth portions 3111 arranged at predetermined intervals, a connecting portion 3112 connecting ends of the plurality of tooth portions 3111 to each other, and a connecting portion 3113 connected to the terminal portion 312 .
  • the connecting portion 3113 extends from the end portion of the connecting portion 3112 so as to be aligned with the plurality of tooth portions 3111 .
  • the electrode section 311 includes, for example, multiple metal layers. The plurality of metal layers of the electrode portion 311 in FIG.
  • a plurality of metal layers of the electrode portion 311 may be formed by plating.
  • the terminal portion 312 is used for connection with the capacitance detection circuit 4 .
  • the terminal portion 312 is arranged on the second surface 33b of the sensor substrate 33.
  • the terminal portion 312 of FIG. 31 has a rectangular pad portion 3121 and a connection portion 3122 connected to the electrode portion 311 .
  • the connecting portion 3122 has a strip shape extending from the pad portion 3121 .
  • the terminal portion 312 includes, for example, multiple metal layers (metal films).
  • the multiple metal layers of the terminal portion 312 of FIG. 28 include, for example, a Ni layer 312a, a Pd layer 312b covering the Ni layer 312a, and an Au layer 312c covering the Pd layer 312b.
  • a plurality of metal layers of the terminal portion 312 may be formed by plating.
  • connection portion 313 connects the electrode portion 311 and the terminal portion 312 . More specifically, the connection portion 313 connects the end portion of the connection portion 3113 of the electrode portion 311 and the end portion of the connection portion 3122 of the terminal portion 312 . As shown in FIG. 29, the connecting portion 313 is a via penetrating the sensor substrate 33 .
  • the connecting portion 313 is made of Ag, for example.
  • the second electrode 32 has an electrode portion 321, a terminal portion 322, and a connection portion 323.
  • the electrode part 321 is used for contact with the object to be measured.
  • the electrode section 321 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the electrode portion 321 in FIG. 30 has a comb structure.
  • the electrode portion 321 has a plurality of teeth 3211 arranged at predetermined intervals, a connecting portion 3212 connecting ends of the teeth 3211 , and a connecting portion 3213 connected to the terminal portion 322 .
  • the connecting portion 3213 extends from the end of the connecting portion 3212 so as to be aligned with the plurality of teeth 3211 .
  • the electrode section 321 includes, for example, multiple metal layers. The plurality of metal layers of the electrode section 321 in FIG.
  • a plurality of metal layers of the electrode part 321 may be formed by plating.
  • the terminal portion 322 is used for connection with the capacitance detection circuit 4 .
  • the terminal portion 322 is arranged on the second surface 33b of the sensor substrate 33.
  • a terminal portion 322 in FIG. 31 has a rectangular pad portion 3221 and a connection portion 3222 connected to the electrode portion 321 .
  • the connecting portion 3222 has a strip shape extending from the pad portion 3221 .
  • the terminal section 322 includes, for example, a plurality of metal layers (metal films).
  • the multiple metal layers of the terminal portion 322 of FIG. 28 include, for example, a Ni layer 322a, a Pd layer 322b covering the Ni layer 322a, and an Au layer 322c covering the Pd layer 322b.
  • a plurality of metal layers of the terminal portion 322 may be formed by plating.
  • connection portion 323 connects the electrode portion 321 and the terminal portion 322 . More specifically, the connection portion 323 connects the end portion of the connection portion 3213 of the electrode portion 321 and the end portion of the connection portion 3222 of the terminal portion 322 .
  • the connecting portion 323 is a via penetrating the sensor substrate 33 .
  • the connecting portion 323 is made of Ag, for example.
  • the protective layer 34C is used to protect the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the protective layer 34C is used to protect the electrode portion 311 of the first electrode 31 and the electrode portion 321 of the second electrode 32 .
  • the protective layer 34C is arranged on the first surface 33a of the sensor substrate 33.
  • the protective layer 34C covers the electrode portion 311 of the first electrode 31 and the electrode portion 321 of the second electrode 32 .
  • 34 C of protective layers have insulation, for example.
  • the protective layer 34C is made of, for example, an insulating material such as polyimide.
  • a surface 340 of the protective layer 34C in FIG. 28 has an uneven shape.
  • surface 340 of protective layer 34C includes convex regions 341 and concave regions 342 .
  • the convex region 341 includes a region covering the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32
  • the concave region 342 covers the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32. does not include the area covering the That is, the surface 340 of the protective layer 34C in FIG. 28 reflects the uneven shape caused by forming the electrode portions 311 and 321 on the first surface 33a of the sensor substrate 33. As shown in FIG.
  • the thickness of the protective layer 34C is generally constant. That is, the thickness TH1 of the protective layer 34C in the convex region 341 and the thickness TH2 of the protective layer 34C in the concave region 342 are equal, substantially equal.
  • the thickness TH1 of the protective layer 34C in the protruding region 341 is the distance between the protruding region 341 and the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32 .
  • the thickness TH2 of the protective layer 34C in the recessed region 342 is the distance between the recessed region 342 and the first surface 33a.
  • the protective layer 34C in FIG. 28 can be formed, for example, by spin coating.
  • the thickness TH1 and the thickness TH2 do not necessarily have to be substantially equal.
  • the protective layer 34C is thicker in the concave region 342 than in the convex region 341 .
  • the surface 340 of the protective layer 34C defines the surface 300 exposed from the head section 21C in the sensor section 3C. As described above, the surface 340 of the protective layer 34C has an uneven shape, so that the surface 300 of the sensor section 3C has an uneven shape.
  • the specific surface area of the sensor portion 3C is larger than when the surface 300 of the sensor portion 3C is flat.
  • the capacitance of the capacitor 30 formed by the sensor section 3C and part of the object to be measured can increase. Therefore, it is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the distance between the object to be measured and the electrode section 311 or the electrode section 321 tends to be short in the recessed area 342, which may also partially increase the capacitance.
  • the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3C with respect to the object to be measured is greater than when the surface 300 of the sensor section 3C is flat. Become. This reduces the possibility that the positional relationship between the sensor unit 3C and the object to be measured fluctuates during measurement. That is, the gripping force of the sensor portion 3C is improved, and the sensor portion 3C is fixed by the object to be measured. As a result, the surface 300 of the sensor section 3C is easily pressed against the object to be measured, and the pressure applied to the surface 300 of the sensor section 3C by the object to be measured tends to increase.
  • the pressure applied to the surface 300 of the sensor section 3C increases depending on the object to be measured. As a result, the adhesion of the sensor section 3C to the object to be measured is improved, so that the measurement is stabilized and the accuracy of capacitance detection can be improved.
  • the sensor section 3C has a surface 300 exposed from the head section 21C.
  • a surface 300 of the sensor section 3C has an uneven shape.
  • this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3C and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3C with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the measuring device 10C described above has a contact area 100 that contacts the object to be measured.
  • the contact area 100 includes a surface 300 of the sensor portion 3C and a frame-like area 200 surrounding the surface 300 of the sensor portion 3C in the head portion 21C.
  • the contact area 100 has an uneven shape. This configuration can increase the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the contact area 100 as compared with the case where the contact area 100 is flat, thereby improving the accuracy of capacitance detection.
  • the surface 300 of the sensor section 3C has an uneven shape. Compared to the case where the surface 300 of the sensor section 3C is flat, this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3C and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3C with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • FIG. 32 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of the sensor section 3D of the capacitance sensor.
  • FIG. 33 is a schematic plan view of the sensor section 3D.
  • FIG. 34 is a schematic bottom view of the sensor section 3D.
  • FIG. 32 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG.
  • the sensor section 3D like the sensor section C, is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3D is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • the surface 300 of the sensor section 3D and the frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3D in the head section 21C form a contact area 100 that contacts the object to be measured.
  • a sensor unit 3D in FIG. 32 includes a first electrode 31, a second electrode 32, a sensor substrate 33, and a protective layer 34D.
  • the sensor unit 3D is arranged so that the first and second electrodes 31 and 32 form a capacitor 30 (see FIG. 2) together with a part of the object to be measured when the first and second electrodes 31 and 32 come into contact with the object to be measured. Configured.
  • the sensor substrate 33 has a rectangular plate shape. As shown in FIG. 32 , the sensor substrate 33 has a first surface 33 a and a second surface 33 b in the thickness direction of the sensor substrate 33 . As shown in FIG. 32, the sensor substrate 33 is provided with the first electrode 31, the second electrode 32, and the protective layer 34D. In FIG. 33, illustration of the protective layer 34D is omitted.
  • the first electrode 31 has an electrode portion 311, a terminal portion 312, and a connection portion 313.
  • the electrode part 311 is used for contact with the object to be measured. As shown in FIG. 33 , the electrode section 311 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the electrode portion 311 in FIG. 33 has a comb structure.
  • the electrode portion 311 has a plurality of tooth portions 3111 arranged at predetermined intervals, and a connecting portion 3112 connecting one ends of the plurality of tooth portions 3111 to each other.
  • the electrode section 311 includes, for example, multiple metal layers.
  • the multiple metal layers of the electrode section 311 include, for example, a Ni layer, a Pd layer covering the Ni layer, and an Au layer covering the Pd layer.
  • a plurality of metal layers of the electrode portion 311 may be formed by plating.
  • the terminal portion 312 is used for connection with the capacitance detection circuit 4 .
  • the terminal portion 312 is arranged on the second surface 33b of the sensor substrate 33.
  • a terminal portion 312 in FIG. 34 has a rectangular pad portion 3121 and a connection portion 3122 connected to the electrode portion 311 .
  • the connecting portion 3122 has a strip shape extending from the pad portion 3121 .
  • the terminal portion 312 includes, for example, a plurality of metal layers (metal films).
  • the multiple metal layers of the terminal portion 312 include, for example, a Ni layer, a Pd layer covering the Ni layer, and an Au layer covering the Pd layer.
  • a plurality of metal layers of the terminal portion 312 may be formed by plating.
  • connection portion 313 connects the electrode portion 311 and the terminal portion 312 . More specifically, the connection portion 313 connects one end of the plurality of tooth portions 3111 of the electrode portion 311 and the end of the connection portion 3122 of the terminal portion 312 .
  • the connecting portion 313 is a via penetrating the sensor substrate 33 .
  • the connecting portion 313 is made of Ag, for example.
  • the second electrode 32 has an electrode portion 321, a terminal portion 322, and a connection portion 323.
  • the electrode part 321 is used for contact with the object to be measured. As shown in FIG. 33 , the electrode section 321 is arranged on the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • the electrode portion 321 in FIG. 33 has a comb structure.
  • the electrode portion 321 has a plurality of tooth portions 3211 arranged at predetermined intervals and a connecting portion 3212 connecting one ends of the plurality of tooth portions 3211 to each other.
  • the electrode section 321 includes, for example, multiple metal layers.
  • the multiple metal layers of the electrode part 321 include, for example, a Ni layer, a Pd layer covering the Ni layer, and an Au layer covering the Pd layer.
  • a plurality of metal layers of the electrode part 321 may be formed by plating.
  • the terminal portion 322 is used for connection with the capacitance detection circuit 4 .
  • the terminal portion 322 is arranged on the second surface 33b of the sensor substrate 33.
  • a terminal portion 322 in FIG. 34 has a rectangular pad portion 3221 and a connection portion 3222 connected to the electrode portion 321 .
  • the connecting portion 3222 has a strip shape extending from the pad portion 3221 .
  • the terminal portion 322 includes, for example, multiple metal layers (metal films).
  • the multiple metal layers of the terminal portion 322 include, for example, a Ni layer, a Pd layer covering the Ni layer, and an Au layer covering the Pd layer.
  • a plurality of metal layers of the terminal portion 322 may be formed by plating.
  • connection portion 323 connects the electrode portion 321 and the terminal portion 322 . More specifically, the connecting portion 323 connects one end of the plurality of tooth portions 3211 of the electrode portion 321 and the end of the connecting portion 3222 of the terminal portion 322 . As shown in FIG. 32 , the connecting portion 323 is a via penetrating the sensor substrate 33 .
  • the connecting portion 323 is made of Ag, for example.
  • the protective layer 34D is used to protect the first electrode 31 and the second electrode 32.
  • the protective layer 34D is used to protect the electrode portion 311 of the first electrode 31 and the electrode portion 321 of the second electrode 32 .
  • the protective layer 34D is arranged on the first surface 33a of the sensor substrate 33.
  • the protective layer 34 ⁇ /b>D covers the electrode portion 311 of the first electrode 31 and the electrode portion 321 of the second electrode 32 .
  • the protective layer 34D has insulating properties, for example.
  • the protective layer 34D is made of, for example, an insulating material such as polyimide.
  • a surface 340 of the protective layer 34D in FIG. 32 has an uneven shape.
  • surface 340 of protective layer 34D includes convex regions 341 and concave regions 342 .
  • the distance from the first surface 33 a of the sensor substrate 33 in the concave region 342 is shorter than the distance from the first surface 33 a of the sensor substrate 33 in the convex region 341 .
  • the convex region 341 does not include a region covering the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32, and the concave region 342 does not include the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32. 321 covering area.
  • the surface 340 of the protective layer 34D defines the surface 300 exposed from the head section 21C in the sensor section 3D.
  • the surface 340 of the protective layer 34D has an uneven shape, so that the surface 300 of the sensor section 3D has an uneven shape.
  • the specific surface area of the sensor section 3D becomes larger than when the surface 300 of the sensor section 3D is flat.
  • the capacitance of the capacitor 30 formed by the sensor section 3D and part of the object to be measured can increase. Therefore, it is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the distance between the object to be measured and the electrode section 311 or the electrode section 321 tends to be short in the recessed area 342, which may also partially increase the capacitance.
  • the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3D with respect to the object to be measured is larger than when the surface 300 of the sensor section 3D is flat. Become. This reduces the possibility that the positional relationship between the sensor unit 3D and the object to be measured fluctuates during measurement. That is, the gripping force of the sensor section 3D is improved, and the sensor section 3D can be fixed by the object to be measured. This makes it easier to press the surface 300 of the sensor section 3D against the measurement target, and the pressure applied to the surface 300 of the sensor section 3D by the measurement target tends to increase. The pressure applied to the surface 300 of the sensor section 3D increases depending on the object to be measured. As a result, the adhesion of the sensor unit 3D to the object to be measured is improved, so that the measurement is stabilized and the accuracy of capacitance detection can be improved.
  • the sensor section 3D has a surface 300 exposed from the head section 21C.
  • a surface 300 of the sensor section 3D has an uneven shape.
  • this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3D and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3D with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the measuring instrument 10D described above has a contact area 100 that contacts the object to be measured.
  • the contact area 100 includes a surface 300 of the sensor section 3D and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3D in the head section 21C.
  • the contact area 100 has an uneven shape. This configuration can increase the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the contact area 100 as compared with the case where the contact area 100 is flat, thereby improving the accuracy of capacitance detection.
  • the surface 300 of the sensor section 3D has an uneven shape. Compared to the case where the surface 300 of the sensor section 3D is flat, this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3D and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3D with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • FIG. 35 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of the sensor section 3E of the capacitance sensor of the measuring device according to the sixth embodiment.
  • the sensor section 3E like the sensor section C, is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3E is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3E and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3E in the head section 21C constitute a contact area 100 that comes into contact with the object to be measured.
  • the sensor section 3E of FIG. 35 includes a first electrode 31, a second electrode 32, a sensor substrate 33, and a protective layer 34E.
  • the first electrode 31, the second electrode 32 and the sensor substrate 33 of the sensor section 3E are the same as the first electrode 31, the second electrode 32 and the sensor substrate 33 of the sensor section 3C.
  • a surface 340 of the protective layer 34E in FIG. 35 has an uneven shape, similar to the surface 340 of the protective layer 34C in FIGS. 35, surface 340 of protective layer 34E includes convex regions 341 and concave regions 342.
  • the distance from the first surface 33 a of the sensor substrate 33 in the concave region 342 is shorter than the distance from the first surface 33 a of the sensor substrate 33 in the convex region 341 .
  • the convex region 341 includes a region covering the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32, and the concave region 342 covers the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32. does not include the area covering the
  • the uneven surface is a rough surface having irregular unevenness. More specifically, the convex regions 341 and the concave regions 342 of the surface 340 of the protective layer 34E are rough surfaces having irregular unevenness.
  • a well-known technique such as an etching technique can be used to roughen the uneven surface 340 of the protective layer 34E.
  • the surface 340 of the protective layer 34E that is, the uneven surface of the surface 300 of the sensor section 3E has irregular unevenness, so that the specific surface area of the sensor section 3E is further increased.
  • the friction coefficient (mainly static friction coefficient) of the surface 300 of the sensor section 3E is further increased. This allows for a further improvement in the accuracy of capacitance sensing.
  • the sensor section 3E has the surface 300 exposed from the head section 21C.
  • a surface 300 of the sensor section 3E has an uneven shape.
  • this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3E and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3D with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the uneven surface of the surface 300 of the sensor portion 3E is a rough surface having irregular unevenness.
  • This configuration can further increase the specific surface area of the sensor section 3E and the coefficient of friction (mainly static friction coefficient) of the surface 300 of the sensor section 3E with respect to the object to be measured, making it possible to further improve the accuracy of capacitance detection. .
  • FIG. 36 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of the sensor section 3F of the capacitance sensor of the measuring device according to the seventh embodiment.
  • the sensor section 3F like the sensor section C, is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3F is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3F and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3F in the head section 21C constitute a contact area 100 that comes into contact with the object to be measured.
  • a sensor section 3F in FIG. 36 includes a first electrode 31, a second electrode 32, a sensor substrate 33, and a protective layer 34F.
  • the first electrode 31, the second electrode 32 and the sensor substrate 33 of the sensor section 3F are the same as the first electrode 31, the second electrode 32 and the sensor substrate 33 of the sensor section 3D.
  • a surface 340 of the protective layer 34F in FIG. 36 has an uneven shape like the surface 340 of the protective layer 34D in FIG. 36, the surface 340 of the protective layer 34F includes convex regions 341 and concave regions 342.
  • the distance from the first surface 33 a of the sensor substrate 33 in the concave region 342 is shorter than the distance from the first surface 33 a of the sensor substrate 33 in the convex region 341 .
  • the convex region 341 does not include a region covering the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32, and the concave region 342 does not include the electrode portion 311 of the first electrode 31 or the electrode portion 321 of the second electrode 32. 321 covering area.
  • the surface 340 of the protective layer 34F in FIG. 36 is a rough surface having irregular unevenness. More specifically, the convex regions 341 and the concave regions 342 of the surface 340 of the protective layer 34F are rough surfaces having irregular unevenness. A well-known technique such as an etching technique can be used to roughen the uneven surface 340 of the protective layer 34F.
  • the surface 340 of the protective layer 34F that is, the uneven surface of the surface 300 of the sensor section 3F has irregular unevenness, so that the specific surface area of the sensor section 3F is further increased.
  • the friction coefficient (mainly static friction coefficient) of the surface 300 of the sensor section 3F is further increased. This allows for a further improvement in the accuracy of capacitance sensing.
  • the sensor section 3F has the surface 300 exposed from the head section 21C.
  • a surface 300 of the sensor section 3F has an uneven shape.
  • this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3F and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3D with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the uneven surface of the surface 300 of the sensor section 3F is a rough surface having irregular unevenness.
  • This configuration can further increase the specific surface area of the sensor section 3F and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3F with respect to the object to be measured, making it possible to further improve the accuracy of capacitance detection. .
  • FIG. 37 is a schematic cross-sectional view of a configuration example of the sensor section 3G of the capacitance sensor of the measuring device according to the eighth embodiment.
  • the sensor section 3G like the sensor section C, is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3G is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3G and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3G in the head section 21C constitute a contact area 100 that comes into contact with the object to be measured.
  • a sensor section 3G in FIG. 37 includes a first electrode 31, a second electrode 32, a sensor substrate 33, and a protective layer 34G.
  • the first electrode 31, the second electrode 32 and the sensor substrate 33 of the sensor section 3G are the same as the first electrode 31, the second electrode 32 and the sensor substrate 33 of the sensor section 3C.
  • the electrode section 311 of the first electrode 31 and the electrode section 321 of the second electrode 32 are located on the first surface 33a of the sensor substrate 33, but the electrode section 311 of the first electrode 31 and the surface of the electrode portion 321 of the second electrode 32 are located on the same plane as the first surface 33 a of the sensor substrate 33 .
  • a surface 340 of the protective layer 34G in FIG. 37 does not have unevenness like the surface 340 of the protective layer 34C in FIGS. 28 and 29, but includes a rough surface having irregular unevenness.
  • a well-known technique such as an etching technique can be used for roughening the surface 340 of the protective layer 34G.
  • the surface 340 of the protective layer 34C in FIGS. 28 and 29 is a rough surface having irregular irregularities as a whole, but the entire surface 340 does not necessarily have to be a rough surface having irregular irregularities.
  • the surface 340 of the protective layer 34G that is, the surface 300 of the sensor section 3G is a rough surface having irregular unevenness.
  • the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the 3G surface 300 is increased. This makes it possible to improve the accuracy of capacitance sensing.
  • the sensor section 3G has the surface 300 exposed from the head section 21C.
  • a surface 300 of the sensor section 3G includes a rough surface.
  • this configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3G and the coefficient of friction (mainly the coefficient of static friction) of the surface 300 of the sensor section 3D with respect to the object to be measured. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the uneven surface of the surface 300 of the sensor section 3G is a rough surface.
  • This configuration can increase the specific surface area of the sensor section 3G and the friction coefficient (mainly the static friction coefficient) of the surface 300 of the sensor section 3G with respect to the object to be measured, thereby improving the accuracy of capacitance detection.
  • FIG. 38 is a schematic perspective view of a configuration example of the head section 21C of the measuring device 10H according to the ninth embodiment.
  • the measuring device 10H like the measuring device 10C, is a capacitive moisture measuring device.
  • the measuring device 10H includes a capacitive sensor 1C and a handheld housing 2C.
  • the handheld housing 2C houses the capacitance sensor 1C.
  • the handheld housing 2C has a head portion 21C.
  • the handheld housing 2C includes a grip section 22 and a probe section 23, like the handheld housing 2 of FIG.
  • the capacitance sensor 1C obtains the moisture content of the measurement target based on the capacitance.
  • the capacitance sensor 1C includes a sensor section 3C.
  • the capacitive sensor 1C includes a capacitive detection circuit 4 and a processing circuit 5, like the capacitive sensor 1 of FIG.
  • At least the sensor section 3C is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3C is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor portion 3C and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor portion 3C in the head portion 21C constitute a contact area 100 that is brought into contact with the object to be measured.
  • a surface 300 of the sensor portion 3C in FIG. 38 protrudes with respect to the frame-shaped region 200 of the head portion 21C.
  • the surface 300 of the sensor unit 3C is sufficiently easily brought into contact with the object to be measured, and variations in the measurement of the measuring device 10H are suppressed. It is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head portion 21C rather than the surface 300 of the sensor portion 3C recesses into the frame-shaped region 200 of the head portion 21C. 3C becomes easier to contact the object to be measured.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head portion 21C, even if the sensor portion 3C is charged in a state where static electricity is likely to occur, such as in a low humidity environment in winter, the sensor portion 3C is charged. static electricity can be effectively discharged. Therefore, variations in measurement results due to charging of the sensor section 3C are suppressed, and this makes it possible to improve the accuracy of capacitance detection. In this case, if the area of the surface 300 of the sensor section 3C is 1 mm 2 or more, static electricity can be discharged more effectively.
  • the entire surface 300 of the sensor section 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head section 21C. Therefore, the sensor section 3C is in full contact with the object to be measured while obtaining a gripping force. As a result, the signal (change in capacitance) detected by the sensor section 3C increases. This makes it possible to improve the accuracy of capacitance sensing. Since the entire surface 300 of the sensor portion 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head portion 21C, static electricity charged on the sensor portion 3C is more effectively discharged. As a result, variations in measurement results due to charging of the sensor section 3C are suppressed, thereby improving the accuracy of capacitance detection.
  • the sensor height H1 is 5 ⁇ m or more and 1 mm or less.
  • the sensor height H1 is 5 ⁇ m or more, variations in measurement by the measuring device 10H can be suppressed compared to when the sensor height H1 is less than 5 ⁇ m.
  • the sensor height H1 is 1 mm or less, it is possible to reduce the possibility of applying excessive pressure to the measurement target when the sensor unit 3C contacts the measurement target, compared to when the sensor height H1 is greater than 1 mm. If excessive pressure is applied to the object to be measured when the sensor unit 3C is in contact with the object to be measured, the person to be measured may feel pain.
  • the sensor height H1 in FIG. 38 is defined by the distance between the surface 300 of the sensor portion 3C and a predetermined plane including the frame-shaped region 200 of the head portion 21C.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C is uneven.
  • the thickness of the protective layer 34C is very thin. Therefore, the distance between the first surface 33a of the sensor substrate 33 of the sensor section 3C and the predetermined plane can be used as the distance between the surface 300 of the sensor section 3C and the predetermined plane, that is, the sensor height H1. . This makes it possible to set the sensor height H1 regardless of the shape of the surface 300 of the sensor portion 3C.
  • the sensor section 3C has a surface 300 exposed from the head section 21C.
  • the head section 21C has a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3C. At least part of the surface 300 of the sensor portion 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head portion 21C.
  • This configuration improves the adhesion of the sensor section 3C to the object to be measured compared to the case where at least a part of the surface 300 of the sensor section 3C does not protrude or recess into the frame-shaped region 200 of the head section 21C.
  • the measurement is stable and the accuracy of the capacitance detection can be improved.
  • This configuration effectively discharges the static electricity charged to the sensor section 3C, thereby suppressing variations in measurement results due to the charging of the sensor section 3C, thereby improving the accuracy of capacitance detection.
  • the entire surface 300 of the sensor section 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head section 21C.
  • This configuration further improves the adhesion of the sensor section 3C to the object to be measured, so that the measurement is stabilized and the accuracy of capacitance detection can be further improved.
  • the static electricity charged in the sensor section 3C is discharged more effectively, so that the variation in the measurement results due to the charging of the sensor section 3C is suppressed, thereby improving the accuracy of capacitance detection. become.
  • the distance (sensor height H1) between the surface 300 of the sensor section 3C and the predetermined plane including the frame-shaped area 200 of the head section 21C is 5 ⁇ m or more and 1 mm or less. This configuration makes it possible to improve the accuracy of capacitance detection while reducing the possibility that excessive pressure is applied to the measurement target when the sensor unit 3C contacts the measurement target.
  • FIG. 39 is a schematic perspective view of a configuration example of the head section 21C of the measuring instrument 10I according to the tenth embodiment.
  • the measuring device 10I like the measuring device 10C, is a capacitive moisture measuring device.
  • the measuring instrument 10I includes a capacitive sensor 1C and a handheld housing 2C.
  • the handheld housing 2C houses the capacitance sensor 1C.
  • the handheld housing 2C has a head portion 21C.
  • the handheld housing 2C includes a grip section 22 and a probe section 23, like the handheld housing 2 of FIG.
  • the capacitance sensor 1C obtains the moisture content of the measurement target based on the capacitance.
  • the capacitance sensor 1C includes a sensor section 3C.
  • the capacitive sensor 1C includes a capacitive detection circuit 4 and a processing circuit 5, like the capacitive sensor 1 of FIG.
  • At least the sensor section 3C is located in the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor section 3C is exposed to the outside from the head section 21C of the handheld housing 2C.
  • a surface 300 of the sensor portion 3C and a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor portion 3C in the head portion 21C constitute a contact area 100 that is brought into contact with the object to be measured.
  • the surface 300 of the sensor section 3C in FIG. 39 is recessed with respect to the frame-shaped region 200 of the head section 21C.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C is recessed with respect to the frame-shaped region 200 of the head portion 21C rather than the surface 300 of the sensor portion 3C protrudes from the frame-shaped region 200 of the head portion 21C. is improved, and the sensor section 3C can be easily fixed to the object to be measured.
  • the entire surface 300 of the sensor section 3C is recessed from the frame-shaped region 200 of the head section 21C. Therefore, it becomes easier for the sensor part 3C to come into contact with the object to be measured over the entire surface while obtaining a gripping force. As a result, the signal (change in capacitance) detected by the sensor section 3C increases. This makes it possible to improve the accuracy of capacitance sensing.
  • the sensor height I1 is 5 ⁇ m or more and 1 mm or less.
  • the sensor height I1 is 5 ⁇ m or more, variations in measurement by the measuring device 10I can be suppressed compared to when the sensor height I1 is less than 5 ⁇ m.
  • the sensor height I1 is 1 mm or less, it is possible to reduce the possibility of applying excessive pressure to the measurement target when the sensor unit 3C contacts the measurement target, compared to when the sensor height I1 is greater than 1 mm. If excessive pressure is applied to the object to be measured when the sensor unit 3C is in contact with the object to be measured, the person to be measured may feel pain.
  • the sensor section 3C has a surface 300 exposed from the head section 21C.
  • the head section 21C has a frame-shaped area 200 surrounding the surface 300 of the sensor section 3C. At least part of the surface 300 of the sensor section 3C is recessed with respect to the frame-shaped region 200 of the head section 21C.
  • This configuration improves the adhesion of the sensor section 3C to the object to be measured compared to the case where at least a part of the surface 300 of the sensor section 3C does not protrude or recess into the frame-shaped region 200 of the head section 21C. , the measurement is stable and the accuracy of the capacitance detection can be improved.
  • the entire surface 300 of the sensor section 3C is recessed from the frame-shaped region 200 of the head section 21C. This configuration further improves the adhesion of the sensor section 3C to the object to be measured, so that the measurement is stabilized and the accuracy of capacitance detection can be further improved.
  • the distance (sensor height I1) between the surface 300 of the sensor portion 3C and the predetermined plane including the frame-shaped region 200 of the head portion 21C is 5 ⁇ m or more and 1 mm or less. This configuration makes it possible to improve the accuracy of capacitance detection while reducing the possibility that excessive pressure is applied to the measurement target when the sensor unit 3C contacts the measurement target.
  • FIG. 40 is a schematic diagram of a configuration example of a measuring device 10J according to the eleventh embodiment.
  • a measuring device 10J in FIG. 40 is a capacitive moisture measuring device.
  • the measuring instrument 10J comprises a capacitive sensor 1J and a handheld housing 2. As shown in FIG.
  • the capacitance sensor 1J obtains the moisture content of the measurement target based on the capacitance.
  • the capacitance sensor 1J includes a sensor section 3, a capacitance detection circuit 4, a processing circuit 5J, and a load detection circuit 7.
  • the sensor section 3 , capacitance detection circuit 4 and load detection circuit 7 are located in the head section 21 of the handheld housing 2 .
  • the processing circuit 5J is located in the grip portion 22 of the handheld housing 2.
  • the load detection circuit 7 detects the load that the sensor section 3 receives from the object to be measured.
  • the load detection circuit 7 only needs to be able to detect the load itself received by the sensor unit 3 from the object to be measured or a physical quantity correlated with the load.
  • the load detection circuit 7 may contain, for example, a pressure sensor.
  • the processing circuit 5J includes an arithmetic circuit 51J and an input/output circuit 52.
  • the arithmetic circuit 51J is connected to the input/output circuit 52.
  • the arithmetic circuit 51J causes the capacitance detection circuit 4 to start the operation for detecting capacitance.
  • the arithmetic circuit 51J is configured to calculate the capacitance of the capacitor 30 based on the charging/discharging time of the capacitor 30 by the capacitance detection circuit 4 .
  • Arithmetic circuit 51J is configured to obtain the moisture content of the measurement target based on the capacitance of capacitor 30 .
  • the arithmetic circuit 51J displays the water content to be measured by the output device of the input/output circuit 52.
  • the reliability of the calculated capacitance of the capacitor 30 may be low. If the reliability of the capacitance of the capacitor 30 is low, the reliability of the calculation result (water content to be measured) based on the capacitance of the capacitor 30 is naturally low. From this point of view, in the present embodiment, whether or not the arithmetic circuit 51J outputs the result of calculation based on the capacitance of the capacitor (moisture content of the object to be measured) depending on the load that the sensor unit 3 receives from the object to be measured.
  • the arithmetic circuit 51J acquires the load that the sensor unit 3 receives from the object to be measured from the load detection circuit 7, it compares the load that the sensor unit 3 receives from the object to be measured with a predetermined value.
  • the arithmetic circuit 51J outputs the result of calculation based on the capacitance of the capacitor (moisture content of the object to be measured) while the load that the sensor unit 3 receives from the object to be measured is equal to or greater than a predetermined value.
  • the processing circuit 5J does not output the result of calculation based on the capacitance of the capacitor (moisture content of the object to be measured) while the load that the sensor unit 3 receives from the object to be measured is less than a predetermined value.
  • a predetermined value is, for example, 2.3 gf/mm 2 .
  • the processing circuit 5J outputs the result of calculation based on the capacitance of the capacitor (moisture content of the object to be measured) while the load received by the sensor portion 3 from the object to be measured is equal to or greater than a predetermined value, and the sensor portion 3 does not output the result of the calculation based on the capacitance of the capacitor (moisture content of the object to be measured) while the load received from the object to be measured is less than a predetermined value.
  • the calculation result can be output only when the capacitance of the capacitor 30 is reliable, so that the accuracy of capacitance detection can be improved.
  • the probe section 23 is configured such that the position of the head section 21 with respect to the grip section 22 changes according to the load that the sensor section 3 receives from the object to be measured.
  • the probe portion 23 is configured such that the head portion 21 is inclined forward with respect to the length direction of the grip portion 22 when the load that the sensor portion 3 receives from the object to be measured is 0 (at no load).
  • the probe portion 23 is configured such that the head portion 21 is parallel to the length direction of the grip portion 22 when the load that the sensor portion 3 receives from the object to be measured is a predetermined value.
  • the probe portion 23 may be made of a springy material.
  • the processing circuit 5J outputs the result of calculation based on the capacitance of the capacitor 30 while the load that the sensor unit 3 receives from the object to be measured is equal to or greater than a predetermined value, and the sensor unit 3 While the load received from the object to be measured is less than the predetermined value, the calculation result based on the capacitance of the capacitor 30 is not output.
  • This configuration can output the calculation result only when the capacitance of the capacitor 30 is reliable, so that it is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • Embodiments of the present disclosure are not limited to the above embodiments.
  • the above-described embodiment can be modified in various ways according to the design, etc., as long as the subject of the present disclosure can be achieved. Modifications of the above embodiment are listed below. Modifications described below can be applied in combination as appropriate.
  • the first to fourth switches S1 to S4 of the capacitance sensing circuit 4 may not necessarily be field effect transistors.
  • the first to fourth switches S1 to S4 may be semiconductor switches or mechanical switches. If the third switch S3 and the fourth switch S4 are not field effect transistors and do not have body diodes, then Vf2 in equation (8) is the charge/discharge circuit 42 in the absence of the second auxiliary capacitor 44b. This is the lower limit value of the potential V2 of the second electrode 32 when the state 1 is switched to the second state, and the magnitude of Vf2 is equal to the magnitude of the second threshold.
  • Vf9 in equation (9) is the lower limit value of the potential V1 of the first electrode 31 when the charge/discharge circuit 42 is switched from the second state to the first state in the absence of the first auxiliary capacitor 44a.
  • the height is equal to the magnitude of the first threshold.
  • the structure of the sensor units 3 and 3B is not particularly limited.
  • the sensor units 3 and 3B may have conventionally known structures.
  • the first and second electrodes 31 and 32 of the sensor unit 3 come into contact with the object to be measured so that the first and second electrodes 31 and 32 form a capacitor 30 together with part of the object to be measured.
  • the sensor unit 3B may include a deformable portion 35B that deforms when pressure is applied, and the first and second electrodes 31B and 32B may be configured to form a capacitor 30B together with the deformable portion 35B. .
  • the capacitance is calculated based on the period T, but it is not limited to this, and may be measured by impedance measurement or the like.
  • the capacitance is not limited to the total capacitance, and only the auxiliary capacitor may be measured and calculated.
  • the measurement may be started after performing an operation to discharge the charge of the capacitor before startup.
  • the measurement may be performed after the capacitor is fully charged. Variations in the charge stored in the capacitor at start-up can adversely affect measurement results. By setting the electric charge at startup to a constant condition, it is possible to reduce adverse effects and improve measurement accuracy.
  • the convex regions 341 and concave regions 342 on the surface 340 of the protective layer 34C may be arranged regardless of the electrode portions 311 and 321 on the first surface 33a of the sensor substrate 33.
  • the convex regions 341 and the concave regions 342 of the surface 340 of the protective layer 34D may be arranged regardless of the electrode portions 311 and 321 of the first surface 33a of the sensor substrate 33.
  • the frame-shaped region 200 of the head portion 21C may have a rough surface having an uneven shape or irregular unevenness.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C may be flat. That is, the contact area 100 may have an uneven shape, a rough surface having irregular unevenness, or both, and the surface 300 of the sensor section 3C may have an uneven shape, a rough surface having irregular unevenness, or both. It is not necessary to have
  • the head portion 21C may be covered with a protective resin film. It is desirable that the rough surface having unevenness or irregular unevenness has a size and shape to the extent that it can function even from above such a resin film.
  • either sensor section 3 or 3D-3G may be employed instead of sensor section 3C.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C may be curved (convex). Thereby, a part of the surface 300 of the sensor portion 3C may protrude from the frame-shaped region 200 of the head portion 21C.
  • the surface 300 of the sensor portion 3C may be curved (concave). As a result, not all of the surface 300 of the sensor section 3C but a part thereof may be recessed from the frame-shaped region 200 of the head section 21C.
  • the shape of the surface 300 of the sensor portion 3C can be appropriately set depending on how much the surface 300 of the sensor portion 3C is projected or recessed with respect to the frame-shaped region 200 of the head portion 21C.
  • any one of the sensor sections 3B to 3G may be employed.
  • a first aspect is a capacitance sensor (1; 1A; 1B to 1G; 1J), a sensor section ( 3; 3B) and a capacitance detection circuit (4; 4A) connected to the sensor section (3; 3B to 3G).
  • the capacitance detection circuit (4; 4A) is connected to the first electrode (31) and the second electrode (32), and a charging/discharging circuit (42) for charging/discharging the capacitor (30); a control circuit (43) for controlling the charging/discharging circuit (42) so that the capacitor (30) repeats charging and discharging; and a control circuit (43) connected to the first electrode (31) in parallel with the capacitor (30). and a second auxiliary capacitor (44b) connected to the second electrode (32) in parallel with the capacitor (30). 44; 44A).
  • This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • the second aspect is a capacitive sensor (1; 1B-1G; 1J) based on the first aspect.
  • the auxiliary capacitance circuit (44) has the first auxiliary capacitor (44a) and the second auxiliary capacitor (44b). This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a third aspect is a capacitive sensor (1; 1B to 1G; 1J) based on the second aspect.
  • the capacitance of the first auxiliary capacitor (44a) and the capacitance of the second auxiliary capacitor (44b) are equal. This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a fourth aspect is a capacitive sensor (1; 1B to 1G; 1J) based on the second aspect.
  • the capacitance of the first auxiliary capacitor (44a) and the capacitance of the second auxiliary capacitor (44b) are different. This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a fifth aspect is a capacitive sensor (1; 1A; 1B-1G; 1J) based on any one of the first to fourth aspects.
  • the charging/discharging circuit (42) supplies a constant output current to the first electrode (31) in a first state and a constant output current to the second electrode (32). and the second state are configured to be complementarily switchable.
  • the control circuit (43) controls the charge/discharge circuit (42) when the potential of the first electrode (31) reaches a first threshold value. It is configured to switch from state 1 to said second state.
  • the control circuit (43) controls the charging/discharging circuit (42) when the potential of the second electrode (32) reaches a second threshold when the charging/discharging circuit (42) is in the second state. It is configured to switch from two states to the first state. This aspect can simplify the configuration of the capacitance detection circuit.
  • a sixth aspect is a capacitive sensor (1; 1A; 1B-1G; 1J) based on the fifth aspect.
  • the first threshold and the second threshold are equal. This aspect can simplify the configuration of the capacitance detection circuit.
  • a seventh aspect is a capacitive sensor (1; 1A; 1B-1G; 1J) based on the fifth or sixth aspect.
  • the charging/discharging circuit (42) is connected between a power supply terminal (41a) connected to a power supply (Iin) and a reference potential terminal (41b) connected to a reference potential (Vg).
  • the first switch (S1) and the third switch (S3) form a series circuit.
  • the first switch (S1) is connected to the power supply terminal (41a), and the third switch (S3) is connected to the reference potential terminal (41b). is between the power supply terminal (41a) and the reference potential terminal (41b) so as to be connected to .
  • a connection point between the first switch (S1) and the third switch (S3) is connected to the first electrode (31).
  • the second switch (S2) and the fourth switch (S4) form a series circuit.
  • the second switch (S2) is connected to the power supply terminal (41a), and the fourth switch (S4) is connected to the reference potential terminal (41b).
  • the eighth aspect is a capacitive sensor (1; 1A; 1B-1G; 1J) based on the seventh aspect.
  • the first end of the first auxiliary capacitor (44a) is connected to the first electrode (31) such that the first auxiliary capacitor (44a) is parallel to the third switch (S3). and the second end of the first auxiliary capacitor (44a) is connected to the reference potential terminal (41b).
  • a first end of the second auxiliary capacitor (44b) is connected to the second electrode (32) such that the second auxiliary capacitor (44b) is parallel to the fourth switch (S4), and the A second end of a second auxiliary capacitor (44b) is connected to the reference potential terminal (41b).
  • This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a ninth aspect is a capacitive sensor (1; 1B to 1G; 1J) based on the eighth aspect.
  • the capacitance sensing circuit (4) satisfies the following equation.
  • Ce is the capacitance of the capacitor (30).
  • Cg1 is the capacitance of the first auxiliary capacitor (44a).
  • Cg2 is the capacitance of the second auxiliary capacitor (44b).
  • Vth1 is the first threshold.
  • Vth2 is the second threshold.
  • Vf1 is the lower limit of the potential of the first electrode (31) when the charge/discharge circuit (42) is switched from the second state to the first state in the absence of the first auxiliary capacitor (44a). be.
  • Vf2 is the lower limit of the potential of the second electrode (32) when the charging/discharging circuit (42) is switched from the first state to the second state in the absence of the second auxiliary capacitor (44b). be.
  • This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a tenth aspect is a capacitive sensor (1; 1B to 1G; 1J) based on the ninth aspect.
  • the eleventh aspect is the capacitive sensor (1; 1B-1G; 1J) based on the ninth or tenth aspect.
  • Vf1 ⁇ 0 and Vf2 ⁇ 0 are satisfied.
  • the amount of change in capacitance can be increased, and the accuracy of capacitance detection can be improved.
  • a twelfth aspect is a capacitive sensor (1; 1B to 1G; 1J) based on any one of the ninth to eleventh aspects.
  • each of said second switch (S3) and said fourth switch (S4) is a field effect transistor.
  • Vf1 is determined by the threshold voltage of the body diode of the second switch (S3).
  • Vf2 is determined by the threshold voltage of the body diode of the fourth switch (S4).
  • a thirteenth aspect is a capacitive sensor (1; 1A; 1B-1G; 1J) based on any one of the first to twelfth aspects.
  • the sensor section (3; 3B to 3G) has a sensor substrate (33) on which the first electrode (31) and the second electrode (32) are arranged.
  • the charging/discharging circuit (42) is arranged on a circuit board (4a) different from the sensor board (33).
  • the auxiliary capacitance circuit (44; 44A) is arranged between the sensor substrate (33) and the circuit substrate (4a) and at a position closer to the circuit substrate (4a) than the sensor substrate (33). be done. This aspect can reduce the influence of stray capacitance from the first electrode and the second electrode of the sensor section.
  • a fourteenth aspect is a capacitive sensor (1; 1A; 1B-1G; 1J) based on any one of the first to thirteenth aspects.
  • the capacitance sensor (1; 1A; 1B to 1G; 1J) is based on the charging and discharging time of the capacitor (30) by the capacitance detection circuit (4; 4A). It further comprises a processing circuit (5; 5B; 5J) for calculating the capacitance of the capacitor (30). This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a fifteenth aspect is a meter (10; 10B;-10J) comprising a capacitive sensor (1;1A:1B-1G;1J) according to any one of the first to thirteenth aspects; , and a handheld housing (2; 2B; 2C) housing the capacitance sensors (1; 1A; 1B-1G; 1J).
  • This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a sixteenth aspect is a measuring instrument (10; 10B-10J) based on the fifteenth aspect.
  • the capacitance sensor (1; 1A; 1B to 1G; 1J) is based on the charging and discharging time of the capacitor (30) by the capacitance detection circuit (4; 4A). It further comprises a processing circuit (5; 5B; 5J) for calculating the capacitance of the capacitor (30). This aspect can reduce the effect of stray capacitance on capacitance sensing.
  • a seventeenth aspect is a measuring instrument (10; 10B-10J) based on the sixteenth aspect.
  • the handheld housing (2; 2B; 2C) is arranged at a first end of the handheld housing (2; 2B; 2C) and a head section (21; 21B; 21C), a grip portion (22; 22B) disposed at a second end of said handheld housing (2; 2B; 2C) and held by hand, and said head portion (21; 21B; 21C). and a probe portion (23) coupled with the grip portion (22; 22B).
  • the sensor portions (3; 3B to 3G) are located in the head portion (21; 21B; 21C).
  • the capacitance sensing circuit (4) is located in the head section (21; 21B; 21C) or the probe section (23).
  • Said processing circuitry (5; 5B; 5J) is located in said grip portion (22; 22B). This aspect can reduce the influence of stray capacitance generated in the grip portion.
  • the eighteenth aspect is a measuring instrument (10; 10B-10J) based on the seventeenth aspect.
  • the grip portion (22; 22B) has a conductive portion (221; 221B) exposed on the surface of the grip portion (22; 22B).
  • the conductive portion (221; 221B) is connected to the reference potential (Vg) of the processing circuit (5; 5B; 5J). This aspect can reduce variations in the influence of stray capacitance on the person holding the measuring device.
  • a nineteenth aspect is a measuring device (10C) based on any one of the sixteenth to eighteenth aspects.
  • the sensor section (3C; 3D; 3E; 3F) has a surface (300) exposed from the head section (21C).
  • the surface (300) of the sensor section (3C; 3D; 3E; 3F) has an uneven shape.
  • the specific surface area of the sensor portion and the coefficient of friction (mainly the static friction coefficient) of the surface of the sensor portion with respect to the object to be measured can be increased compared to the case where the surface of the sensor portion is flat, and the capacitance can be detected. accuracy can be improved.
  • a twentieth aspect is a measuring device (10H; 10I) based on the seventeenth aspect.
  • the sensor section (3C) has a surface (300) exposed from the head section (21C).
  • the head section (21C) has a frame-shaped area (200) surrounding the surface (300) of the sensor section (3C). At least part of the surface (300) of the sensor section (3C) protrudes or recesses with respect to the frame-shaped region (200) of the head section (21C).
  • the adhesion of the sensor unit to the object to be measured is improved, so that the measurement is stable.
  • This configuration effectively discharges the static electricity charged to the sensor section 3C, thereby suppressing variations in measurement results due to the charging of the sensor section 3C, thereby improving the accuracy of capacitance detection. Become.
  • a twenty-first aspect is a measuring device (10H) based on the twentieth aspect.
  • the entire surface (300) of the sensor section (3C) protrudes from the frame-shaped region (200) of the head section (21C).
  • This aspect further improves the adhesion of the sensor unit to the object to be measured, so that the measurement is stabilized and the accuracy of capacitance detection can be further improved.
  • the static electricity charged in the sensor section 3C is discharged more effectively, so that the variation in the measurement results due to the charging of the sensor section 3C is suppressed, thereby improving the accuracy of capacitance detection. become.
  • a twenty-second aspect is a measuring instrument (10H; 10I) based on the twentieth aspect.
  • the distance between the surface (300) of the sensor section (3C) and the predetermined plane is 5 ⁇ m or more and 1 mm or less. This aspect makes it possible to improve the accuracy of capacitance detection while reducing the possibility that excessive pressure is applied to the measurement target when the sensor unit contacts the measurement target.
  • a twenty-third aspect is a measuring instrument (10J) based on the seventeenth aspect.
  • the processing circuit (5J) controls the calculation result based on the capacitance of the capacitor (30) while the load applied to the sensor section (3) from the object to be measured is equal to or greater than a predetermined value. is output, and the result of calculation based on the capacitance of the capacitor (30) is not output while the load received by the sensor section (3) from the object to be measured is less than a predetermined value.
  • the result of calculation can be output only when the capacitance of the capacitor is reliable, so it is possible to improve the accuracy of capacitance detection.
  • a twenty-fourth aspect is a measuring instrument (10; 10C-10J) based on any one of the sixteenth to twenty-third aspects.
  • the sensor section (3; 3C to 3G) is arranged such that the first and second electrodes (31, 32) are in contact with the object to be measured.
  • the processing circuitry (5; 5J) is configured to determine the water content of the measurement object based on the capacitance of the capacitor (30). This aspect enables measurement of the water content of the measurement object.
  • a twenty-fifth aspect is a measuring instrument (10; 10C-10J) based on the twenty-fourth aspect.
  • the object to be measured is a living organism. This aspect allows the determination of the water content of the organism.
  • a twenty-sixth aspect is a measuring instrument (10; 10C-10J) based on the twenty-fourth or twenty-fifth aspect.
  • the measurement target is an oral cavity of a living organism. This aspect allows the measurement of the water content of the oral cavity of an organism.
  • a twenty-seventh aspect is a measuring instrument (10B) based on the twenty-sixth aspect.
  • the sensor section (3B) includes a deformation section (35B) that deforms when pressure is applied.
  • the sensor portion (3B) is configured such that the first and second electrodes (31B, 32B) form the capacitor (30B) together with the deformation portion (35B).
  • the processing circuitry (5) is configured to determine the pressure based on the capacitance of the capacitor (30B). This aspect allows the measurement of pressure.
  • pressure may be applied to deformity (35B) by a person biting with the mandibular teeth. In this case, it is possible to measure the occlusal force of the mandibular and maxillary teeth.
  • the present disclosure is applicable to capacitance detection circuits, capacitance sensors, and measuring instruments. Specifically, a capacitance detection circuit for detecting capacitance based on charging and discharging of a capacitor, a capacitance sensor including the capacitance detection circuit, and a measuring instrument including the capacitance sensor, This disclosure is applicable.

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Abstract

静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる、静電容量センサ、及び測定器を提供する。静電容量センサ(1)は、コンデンサ(30)を構成する第1電極(31)及び第2電極(32)を有するセンサ部(3)と、センサ部(3)に接続される静電容量検知回路(4)とを備える。静電容量検知回路(4)は、第1電極(31)と第2電極(32)とに接続されコンデンサ(30)を充放電させるための充放電回路(42)と、コンデンサ(30)が充放電を繰り返すように充放電回路(42)を制御する制御回路(43)と、コンデンサ(30)と並列となるように第1電極(31)に接続される第1補助コンデンサ(44a)とコンデンサ(30)と並列となるように第2電極(32)に接続される第2補助コンデンサ(44b)との少なくとも一方を有する補助容量回路(44)とを備える。

Description

静電容量センサ、及び、測定器
 本開示は、静電容量センサ、及び、測定器に関する。
 特許文献1は、静電容量式のセンサ(静電容量センサ)を備える測定器として、口腔内水分測定器を開示する。特許文献1に記載の口腔内水分測定器は、本体に対して所定の揺動中心を中心に揺動する揺動部材と、前記揺動部材の先端側に設けられ、口腔内の測定部位に直接的又は間接的に当接されて水分量を検出する水分量検出部と、前記揺動部材を揺動方向の一方に付勢する付勢部材と、を備えている。水分量検出部は、静電容量式のセンサを備える。
国際公開第2015/125222号
 特許文献1では、口腔内水分測定器は、人が手で持った状態で使用される。そのため、口腔内水分測定器は、人体と口腔内水分測定器との間に発生する浮遊容量の影響を受けて、測定精度が低下する場合がある。
 本開示は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる、静電容量センサ、及び測定器を提供する。
 本開示の一態様にかかる静電容量センサは、コンデンサを構成する第1電極及び第2電極を有するセンサ部と、センサ部に接続される静電容量検知回路とを備える。静電容量検知回路は、第1電極と第2電極とに接続されコンデンサを充放電させるための充放電回路と、コンデンサが充放電を繰り返すように充放電回路を駆動する駆動回路と、コンデンサと並列になるように第1電極に接続される第1補助コンデンサと、コンデンサと並列になるように第2電極に接続される第2補助コンデンサとの少なくとも一方を有する補助容量回路とを備える。
 本開示の一態様にかかる測定器は、上記の静電容量センサと、静電容量センサを収容するハンドヘルド筐体とを備える。
 本開示の態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
実施の形態1にかかる測定器の構成例の概略図 図1の測定器の静電容量センサの構成例の回路図 図2の静電容量センサのセンサ部の構成例の概略断面図 図3のセンサ部の概略平面図 図3のセンサ部の概略底面図 図2の静電容量センサの静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図 図2の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図2の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図2の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図2の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図2の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図2の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 比較例の静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図 図1の測定器の使用時に生じる容量の説明図 実施の形態1の一変形例の静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図 実施の形態2にかかる測定器の静電容量センサの構成例の回路図 図16の静電容量センサの静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図 図16の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図16の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図16の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図16の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図16の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 図16の静電容量検知回路の動作の一例の説明図 実施の形態2の一変形例の静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図 実施の形態3にかかる測定器の構成例の概略図 図25の測定器のヘッド部の構成例の概略斜視図 実施の形態4にかかる測定器のヘッド部の構成例の概略斜視図 図27の測定器の静電容量センサのセンサ部の構成例の説明図 図27の測定器の静電容量センサのセンサ部の構成例の概略断面図 図29のセンサ部の概略平面図 図29のセンサ部の概略底面図 実施の形態5にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部の構成例の概略断面図 図32のセンサ部の概略平面図 図32のセンサ部の概略底面図 実施の形態6にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部の構成例の概略断面図 実施の形態7にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部の構成例の概略断面図 実施の形態8にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部の構成例の概略断面図 実施の形態9にかかる測定器のヘッド部の構成例の概略斜視図 実施の形態10にかかる測定器のヘッド部の構成例の概略斜視図 実施の形態11にかかる測定器の構成例の概略図
 [1.実施の形態]
 以下、適宜図面を参照しながら、実施の形態を詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。なお、発明者(ら)は、当業者が本開示を十分に理解するために添付図面および以下の説明を提供するのであって、これらによって特許請求の範囲に記載の主題を限定することを意図するものではない。
 上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。以下の実施の形態において説明する各図は、模式的な図であり、各図中の各構成要素の大きさ及び厚さそれぞれの比が、必ずしも実際の寸法比を反映しているとは限らない。また、各要素の寸法比率は図面に図示された比率に限られるものではない。
 以下の実施の形態において、「A及びBが、C及びDにそれぞれ接続される」及びこれに類する表現は、「AがCに接続され、BがDに接続される」ことを意味しており、「A及びBがCに接続され、A及びBがDに接続される」ことを意味しているわけではない。また、「複数のAが、複数のCにそれぞれ接続される」及びこれに類する表現は、「AとCとが一対一対応で接続される」ことを意味している。
 本開示の回路構成において、「接続される」とは、接続端子及び/又は配線導体で直接接続される場合だけでなく、他の回路部品を介して電気的に接続される場合も含む。また、「A及びBの間に接続される」とは、A及びBの間でA及びBの両方に接続されることを意味する。
 [1.1 実施の形態1]
 [1.1.1 構成]
 図1は、実施の形態1にかかる測定器10の構成例の概略図である。測定器10は、測定対象の水分量を測定するための水分測定器である。測定対象は、例えば、生物である。特に、測定対象は、生物の口腔である。本実施の形態では、測定器10は、人の口腔の特定部位の水分量の測定に利用される。ヘルスケア用途において、測定器10は、口腔湿潤計ともいわれる。
 図1の測定器10は、静電容量式の水分測定器である。測定器10は、静電容量センサ1と、ハンドヘルド筐体2とを備える。
 ハンドヘルド筐体2は、静電容量センサ1を収容する。ハンドヘルド筐体2は、人が片手で持てる大きさ及び重さである。ハンドヘルド筐体2は、防水構造を有し、ハンドヘルド筐体2内の静電容量センサ1を水分から保護する。図1のハンドヘルド筐体2は、棒状である。ハンドヘルド筐体2は、ヘッド部21と、グリップ部22と、プローブ部23とを備える。図1のハンドヘルド筐体2は、いわゆる歯ブラシのような形状である。ヘッド部21は、ハンドヘルド筐体2において測定対象に接触される部位である。ヘッド部21は、ハンドヘルド筐体2の第1端(図1における左端)に配置される。本実施の形態では、ヘッド部21は、使用時に人の口腔内に入れられる。グリップ部22は、ハンドヘルド筐体2において手で握られる部位である。グリップ部22は、ハンドヘルド筐体2の第2端に(図1における右端)配置される。グリップ部22は、導電部221を含む。導電部221は、グリップ部22の表面に露出する。導電部221は、人がグリップ部22を握った際に、人の手が当たる位置にあるとよい。導電部221は、後述する基準電位Vg(図2参照)に接続される。プローブ部23は、ヘッド部21とグリップ部22とを結合する。プローブ部23の長さは、人がグリップ部22を握ってヘッド部21を測定対象に接触させやすいように、設定されてよい。
 静電容量センサ1は、静電容量に基づいて測定対象の水分量を求める。図2は、静電容量センサ1の構成例の回路図である。図2の静電容量センサ1は、センサ部3と、静電容量検知回路4と、処理回路5とを備える。本実施の形態では、センサ部3及び静電容量検知回路4は、ハンドヘルド筐体2のヘッド部21に位置する。静電容量検知回路4は、ハンドヘルド筐体2のプローブ部23に位置してもよい。本実施の形態では、処理回路5は、ハンドヘルド筐体2のグリップ部22に位置する。図2に示すように、静電容量センサ1は、直流電源6から、静電容量センサ1の動作に必要な電力を得る。直流電源6は、一次電池又は二次電池であってよい。直流電源6は、交換可能であってよい。
 図2のセンサ部3は、第1電極31と第2電極32とを備える。センサ部3は、第1及び第2電極31,32が測定対象に接触することで第1及び第2電極31,32が測定対象の一部とともにコンデンサ30を形成するように構成される。以下、センサ部3の構成について図3~図5を参照して更に詳細に説明する。図3は、センサ部3の構成例の概略断面図である。図4は、センサ部3の概略平面図である。図5は、センサ部3の概略底面図である。
 図3のセンサ部3は、第1電極31と第2電極32とに加えて、センサ基板33と、保護層34とを備える。図3~図5に示すように、センサ基板33は矩形板状である。センサ基板33は、センサ基板33の厚み方向において第1面33a及び第2面33bを有する。センサ基板33には、第1電極31と第2電極32と保護層34とが配置される。
 第1電極31は、電極部311と、端子部312と、接続部313とを有する。電極部311は、測定対象との接触に用いられる。図3に示すように、電極部311は、センサ基板33の第1面33aに配置される。図4に示すように、電極部311は、櫛歯構造である。電極部311は、所定間隔で並ぶ複数の歯部3111と、複数の歯部3111の一端同士を連結する連結部3112とを有する。図3に示すように、電極部311は、複数の金属層を含む。電極部311の複数の金属層は、Ni層311aと、Ni層311aを覆うPd層311bと、Pd層311bを覆うAu層311cとを含む。電極部311の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。端子部312は、静電容量検知回路4との接続に用いられる。図3に示すように、端子部312は、センサ基板33の第2面33bに配置される。図4に示すように、端子部312は、矩形の板状である。図3に示すように、端子部312は、複数の金属層(金属膜)を含む。端子部312の複数の金属層は、Ni層312aと、Ni層312aを覆うPd層312bと、Pd層312bを覆うAu層312cとを含む。端子部312の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。接続部313は、電極部311と端子部312とを接続する。図3に示すように、接続部313は、センサ基板33を貫通するビアである。接続部313は、例えば、Ag製である。
 第2電極32は、電極部321と、端子部322と、接続部323とを有する。電極部321は、測定対象との接触に用いられる。図3に示すように、電極部321は、センサ基板33の第1面33aに配置される。図4に示すように、電極部321は、櫛歯構造である。電極部321は、所定間隔で並ぶ複数の歯部3211と、複数の歯部3211の一端同士を連結する連結部3212とを有する。図3に示すように、電極部321は、複数の金属層を含む。電極部321の複数の金属層は、Ni層321aと、Ni層321aを覆うPd層321bと、Pd層321bを覆うAu層321cとを含む。電極部321の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。端子部322は、静電容量検知回路4との接続に用いられる。図3に示すように、端子部322は、センサ基板33の第2面33bに配置される。図4に示すように、端子部322は、矩形の板状である。図3に示すように、端子部322は、複数の金属層(金属膜)を含む。端子部322の複数の金属層は、Ni層322aと、Ni層322aを覆うPd層322bと、Pd層322bを覆うAu層322cとを含む。端子部322の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。接続部323は、電極部321と端子部322とを接続する。図3に示すように、接続部323は、センサ基板33を貫通するビアである。接続部323は、例えば、Ag製である。
 図3に示すように、保護層34は、センサ基板33の第1面33aに配置される。保護層34は、第1電極31の電極部311と第2電極32の電極部321とを覆う。保護層34は、第1電極31と第2電極32とを保護する。保護層34は、例えば、絶縁性を有する。保護層34は、例えば、ポリイミド等の絶縁性を有する材料により形成される。
 図2の静電容量検知回路4は、センサ部3のコンデンサ30の充放電時間に基づいてコンデンサ30の静電容量を検知する。静電容量検知回路4は、電源Iinに接続される電源端子41aと、基準電位Vgに接続される基準電位端子41bと、充放電回路42と、制御回路43と、補助容量回路44とを備える。充放電回路42と、制御回路43と、補助容量回路44とは、センサ基板33とは別の回路基板4aに配置される(図14参照)。回路基板4aには、電源Iinが配置される。
 電源Iinは、静電容量検知回路4にコンデンサ30を充電するための電力を供給する。図2の電源Iinは、静電容量検知回路4に一定の出力電流を出力する定電流源である。電流Iinは、直流電源6からの電力により動作する。電源Iinは、従来周知の構成であってよいから詳細な説明は省略する。
 図2の充放電回路42は、コンデンサ30を構成する第1及び第2電極31,32に接続され、センサ部3のコンデンサ30を充放電させるように構成される。図2の充放電回路42は、電源端子41aと基準電位端子41bとの間に接続される。充放電回路42は、第1~第4スイッチS1~S4を備える。
 第1スイッチS1は、第1電極31と電源端子41aとの間に接続される。第2スイッチS2は、第2電極32と電源端子41aとの間に接続される。第3スイッチS3は、第1電極31と基準電位端子41bとの間に接続される。第4スイッチS4は、第2電極32と基準電位端子41bとの間に接続される。換言すれば、充放電回路42では、第1スイッチS1と第3スイッチS3とが直列回路を構成し、第1スイッチS1と第3スイッチS3との直列回路が電源端子41aと基準電位端子41bとの間に接続され、第1スイッチS1と第3スイッチS3との接続点が第1電極31に接続されている。換言すれば、充放電回路42では、第2スイッチS2と第4スイッチS4が直列回路を構成し、第2スイッチS2と第4スイッチS4との直列回路が電源端子41aと基準電位端子41bとの間に接続され、第2スイッチS2と第4スイッチS4との接続点が第2電極32に接続されている。
 本実施の形態において、第1~第4スイッチS1~S4の各々は、電界効果トランジスタである。第1~第4スイッチS1~S4の各々は、例えば、MOSFETである。ここで、第1及び第2スイッチS1,S2は、エンハンスメント型PチャネルMOSFETであり、第3及び第4スイッチS3,S4は、エンハンスメント型NチャネルMOSFETである。
 充放電回路42は、第1状態と第2状態とを相補的に切り替え可能に構成される。第1状態は、センサ部3の第1電極31に定電流を供給する状態である。図2では、第1状態は、電源Iinからの出力電流を第1電極31に供給する状態である。第1状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオン、第2及び第3スイッチS2,S3がオフとなる。そのため、第1及び第2電極31,32が電源端子41a及び基準電位端子41bにそれぞれ接続される。第1状態では、第1電極31の電位が第2電極32の電位より高くなるようにコンデンサ30が充電される。第2状態は、センサ部3の第2電極32に定電流を供給する状態である。図2では、第2状態は、電源Iinからの出力電流を第2電極32に供給する状態である。第2状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオフ、第2及び第3スイッチS2,S3がオンとなる。そのため、第1及び第2電極31,32が基準電位端子41b及び電源端子41aにそれぞれ接続される。第2状態では、第2電極32の電位が第1電極31の電位より高くなるようにコンデンサ30が充電される。充放電回路42は、第1電極31と第2電極32との正負が交互に入れ替わるように第1及び第2電極31,32に電力を供給するから、発振回路であるともいえる。
 充放電回路42は、第1状態と第2状態の切り替えの際には、直列接続された2つのスイッチ(第1及び第3スイッチS1,S3又は第2及び第4スイッチS2,S4)がショートすることによる過電流を防ぐため、第1スイッチS1~第4スイッチS4が全てオフとなる第3状態にすることで、デッドタイムを設ける。充放電回路42は、第1状態と第2状態との切り替え時には、第1状態→第3状態→第2状態、もしくは、第2状態→第3状態→第1状態となるよう第1~第4スイッチS1~S4の制御を行う。
 図2の補助容量回路44は、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bを備える。第1及び第2補助コンデンサ44a,44bは、コンデンサ30の静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減するために設けられる。第1補助コンデンサ44aはコンデンサ30と並列になるように、第1補助コンデンサ44aの第1端が第1電極31に接続されるとともに第1補助コンデンサ44aの第2端が基準電位端子41bに接続される。本実施の形態において、第1補助コンデンサ44aは、第3スイッチS3に並列に接続される。これにより、第1補助コンデンサ44aは、第1電極31と基準電位端子41bとの間に接続される。第2補助コンデンサ44bはコンデンサ30と並列になるように、第2補助コンデンサ44bの第1端が第2電極32に接続されるとともに第2補助コンデンサ44bの第2端が基準電位端子41bに接続される。本実施の形態において、第2補助コンデンサ44bは、第4スイッチS4に並列に接続される。これにより、第2補助コンデンサ44bは、第2電極32と基準電位端子41bとの間に接続される。
 第1及び第2補助コンデンサ44a,44bの静電容量は、例えば、コンデンサ30の静電容量の測定可能範囲に基づいて設定されてよい。コンデンサ30の静電容量の測定可能範囲は、測定対象に基づいて適宜設定される。一例として、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bの静電容量は、コンデンサ30の静電容量の測定可能範囲内の任意の値の5倍に設定されてよい。ここで、任意の値は、上限値であってよい。口腔内の水分量の測定の場合、一例として、上限値は、9.4pFであってよく、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bの静電容量は、47pFであってよい。本実施の形態では、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bの静電容量は互いに等しい。
 補助容量回路44は、センサ部3のセンサ基板33と回路基板5aとの間で、かつ、センサ基板33よりも回路基板5aに近い位置に配置される。本実施の形態において、補助容量回路44は、回路基板5aに配置される。センサ部3は静電容量センサ1において測定対象に接触される接触部分であるから、接触部分から遠いほど浮遊容量の影響を抑制することが可能となる。したがって、センサ部3の第1電極31及び第2電極32からの浮遊容量の影響を低減することができる。
 図2の制御回路43は、センサ部3のコンデンサ30が充放電を繰り返すように充放電回路42を制御するように構成される。本実施の形態において、制御回路43は、充放電回路42が第1状態と第2状態とに交互に切り替わるように充放電回路42を制御する。
 以下、制御回路43についてさらに詳細に説明する。図2の制御回路43は、判定回路431と、駆動回路432とを有する。
 判定回路431は、センサ部3のコンデンサ30の充放電の切り替えのタイミングを決定するように構成される。コンデンサ30の充放電の切り替えのタイミングは、充放電回路42の第1状態と第2状態との切り替えのタイミングである。判定回路431は、第1電極31の電位及び第2電極32の電位に基づいてセンサ部3のコンデンサ30の充放電の切り替えのタイミングを決定する。判定回路431は、充放電回路42が第1状態である場合に第1電極31の電位が第1閾値に達したかどうかの判定を実行する。判定回路431は、充放電回路42が第2状態である場合に第2電極32の電位が第2閾値に達したかどうかの判定を実行する。本実施の形態では、第1閾値と第2閾値とは互いに等しい。判定回路431の判定の結果は、駆動回路432に出力される。判定回路431は、例えば、第1電極31の電位と第1閾値とを比較する第1コンパレータと、第2電極32の電位と第2閾値とを比較する第2コンパレータと、第1及び第2コンパレータからの出力信号が入力されるOR回路とを備えて構成されてよい。
 駆動回路432は、判定回路431の判定結果に応じて充放電回路42の第1~第4スイッチS1~S4を駆動するように構成される。本実施の形態では、駆動回路432は、第1及び第3スイッチS1,S3に共通の第1駆動信号D1を出力し、第2及び第4スイッチS2,S4に共通の第2駆動信号D2を出力する。上述したように、第1及び第2スイッチS1,S2はエンハンスメント型PチャネルMOSFETであり、第3及び第4スイッチS3,S4は、エンハンスメント型NチャネルMOSFETである。第1~第4スイッチS1~S4を駆動するにあたっては、第1駆動信号D1の電圧値と第2駆動信号D2の電圧値とは、ハイレベル又はロウレベルに設定される。ハイレベル及びロウレベルは、第1及び第2スイッチS1,S2のエンハンスメント型PチャネルMOSFET及び第3及び第4スイッチS3,S4のエンハンスメント型NチャネルMOSFETの特性から決定される。ハイレベル及びロウレベルは、第1駆動信号D1がハイレベルのとき、第1スイッチS1がオン、第3スイッチS3がオフ、第1駆動信号D1がロウレベルのとき、第1スイッチS1がオフ、第3スイッチS3がオンとなるように、設定される。ハイレベル及びロウレベルは、第2駆動信号D2がハイレベルのとき、第2スイッチS2がオン、第4スイッチS4がオフ、第2駆動信号D2がロウレベルのとき、第2スイッチS2がオフ、第4スイッチS4がオンとなるように、設定される。第1駆動信号D1と第2駆動信号D2とは、同時にハイレベル又はロウレベルにならないようにされている。
 駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する場合には、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定する。これによって、第1及び第4スイッチS1、S4がオン、第2及び第3スイッチS2,S3がオフとなる。駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する場合には、第1駆動信号D1の電圧値をロウレベル、第2駆動信号D2の電圧値をハイレベルにそれぞれ設定する。これによって、第1及び第4スイッチS1、S4がオフ、第2及び第3スイッチS2,S3がオンとなる。
 駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定している状態において、判定回路431により第1電極31の電位が第1閾値に達したと判定されると、第1駆動信号D1の電圧値をロウレベル、第2駆動信号D2の電圧値をハイレベルにそれぞれ設定する。これによって、充放電回路42が第1状態から第2状態に切り替えられる。駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をロウレベル、第2駆動信号D2の電圧値をハイレベルにそれぞれ設定している状態において、判定回路431により第2電極32の電位が第2閾値に達したと判定されると、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定する。これによって、充放電回路42が第2状態から第1状態に切り替えられる。なお、駆動回路432は、第1及び第2駆動信号D1,D2の電圧値のハイレベルとロウレベルとを切り替える際には、上述したように、第3状態に設定することでデッドタイムを設ける。例えば、駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベルとロウレベルとの間で切り替え、かつ、第2駆動信号D2の電圧値をハイレベルとロウレベルとの間で切り替える過程において、第1駆動信号D1の電圧値及び第2駆動信号D2の電圧値を、図8のように第1~第4スイッチS1~S4の全てがオフになる中間電圧に設定する。これによって、充放電回路42において電源Iinと基準電位Vgとが短絡される可能性が低減される。
 次に、図6~図13を参照して静電容量検知回路4の動作の一例について説明する。
 図6は、静電容量検知回路4の動作の一例のタイミング図である。図6において、V1は第1電極31の電位を示し、V2は第2電極32の電位を示す。図6において、Hは、第2駆動信号D2の電圧値がハイレベルの状態に対応し、Lは、第2駆動信号D2の電圧値がロウレベルの状態を示す。図7~図13は、静電容量検知回路4の動作の一例の説明図である。図7~図13では、図示の簡略化のためだけに、制御回路43を省略している。
 図6の時刻t10では、コンデンサ30に電荷が蓄積されていない。駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定することにより、充放電回路42を第1状態に設定する。
 図7は、充放電回路42が第1状態であるときの静電容量検知回路4の動作の説明図である。図7に示すように、第1状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオン、第2及び第3スイッチS2,S3がオフである。第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。充放電回路42は、第1電極31に並列的に接続される第1補助コンデンサ44aを有するから、第1状態では第1補助コンデンサ44aがコンデンサ30に並列に接続されて、第1補助コンデンサ44aにも電荷が蓄積される。
 判定回路431は、充放電回路42が第1状態である場合に第1電極31の電位V1が第1閾値に達したかどうかの判定を実行する。図6では、第1閾値は、Vthである。時刻t11において、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。本実施の形態では、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替える際に、充放電回路42を第3状態に設定することで、デッドタイムを設ける。より詳細には、駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベルからロウレベルに、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルからハイレベルに設定する過程において、第1駆動信号D1の電圧値及び第2駆動信号D2の電圧値を、図8のように第1~第4スイッチS1~S4の全てがオフになる中間電圧に設定する。図8は、充放電回路42が第3状態であるときの静電容量検知回路4の動作の説明図である。この後に、駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をロウレベル、第2駆動信号D2の電圧値をハイレベルに設定することにより、充放電回路42を第2状態に設定する。
 図9は、充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後の静電容量検知回路4の動作の説明図である。図9に示すように、第2状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオフ、第2及び第3スイッチS2,S3がオンである。コンデンサ30では、第1電極31が基準電位端子41bに接続され、第2電極32が電源端子41aに接続される。充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後は、第2電極32の電位V2が負になる。充放電回路42は、第2電極32に並列的に接続される第2補助コンデンサ44bを有するから、第2状態では第2補助コンデンサ44bがコンデンサ30に並列に接続される。これによって、コンデンサ30の電荷が第2補助コンデンサ44bに移動する。図6では、第2電極32の電位V2は、Vdまで低下する。Vdは負の値である。Vdは、第1状態においてコンデンサ30に蓄えらえた電荷と、コンデンサ30と第2補助コンデンサ44bの合成静電容量とで決まるから、次式(1)が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
 式(1)において、Ceはコンデンサ30の静電容量であり、Cgは第1補助コンデンサ44aと第2補助コンデンサ44bの静電容量である。
 本実施の形態では、|Vd|≦|Vf|が成立するように、第2補助コンデンサ44bの静電容量(Cg)と、第1閾値(Vth)とが設定されている。Vfは負の値であり、Vfの大きさは、第3スイッチS3として用いられる電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧に等しい。|Vd|>|Vf|の場合には、ボディダイオードの順方向電圧が|Vf|を超えることになるから、第2電極32の電位V2は、Vfまで低下する。Vfの大きさは第3スイッチS3の電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧の大きさに対応し、第2補助コンデンサ44bがない場合における充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替えた際の第2電極32の電位V2の下限値である。
 第2状態では、第2電極32には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。また、第2補助コンデンサ44bにも電荷が蓄積される。図10は、充放電回路42が第2状態に切り替えられて時間が経過した静電容量検知回路4の動作の説明図である。図10では、第2電極32の電位V2が正になっている。
 判定回路431は、充放電回路42が第2状態である場合に第2電極32の電位V2が第2閾値に達したかどうかの判定を実行する。図6では、第2閾値は、第1閾値と等しく、Vthである。時刻t12において、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。本実施の形態では、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替える際に、充放電回路42を第3状態に設定することで、デッドタイムを設ける。図11は、充放電回路42が第3状態であるときの静電容量検知回路4の動作の説明図である。この後に、駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルに設定することにより、充放電回路42を第1状態に設定する。
 図12は、充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後の静電容量検知回路4の動作の説明図である。図12に示すように、第1状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオン、第2及び第3スイッチS2,S3がオフである。コンデンサ30では、第1電極31が電源端子41aに接続され、第2電極32が基準電位端子41bに接続される。充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後は、第1電極31の電位V1が負になる。充放電回路42は、第1電極31に並列的に接続される第1補助コンデンサ44aを有するから、第1状態では第1補助コンデンサ44aがコンデンサ30に並列に接続される。これによって、コンデンサ30の電荷が第1補助コンデンサ44aに移動する。図6では、第1電極31の電位V1は、第2電極32と同様にVdまで低下する。
 本実施の形態では、|Vd|≦|Vf|が成立するように、第1補助コンデンサ44aの静電容量(Cg)と、第2閾値(Vth)とが設定されている。Vfは負の値であり、Vfの大きさは、第4スイッチS4として用いられる電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧に等しい。|Vd|>|Vf|の場合には、ボディダイオードの順方向電圧が|Vf|を超えることになるから、第1電極31の電位V1は、Vfまで低下する。Vfの大きさは第4スイッチS4の電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧の大きさに対応し、第1補助コンデンサ44aがない場合における充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替えた際の第1電極31の電位V1の下限値である。
 第1状態では、第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。また、第1補助コンデンサ44aにも電荷が蓄積される。充放電回路42が第1状態に切り替えられて時間が経過した後には、図7に示すように、第1電極31の電位V1が正になる。
 図6の時刻t13では、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。
 図6の時刻t14では、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。
 図6の時刻t15では、時刻t13の場合と同様に、判定回路431が第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定して、駆動回路432が充放電回路42を第2状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。
 このように、制御回路43は、充放電回路42が第1状態である場合に第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達すると充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替える。制御回路43は、充放電回路42が第2状態である場合に第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達すると充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替える。したがって、静電容量検知回路4では、コンデンサ30が第1電極31の電位が第2電極32の電位より高くなるように充電される状態と、コンデンサ30が第2電極32の電位が第1電極31の電位より高くなるように充電される状態とが繰り返される。
 図6において、Tは、このようなコンデンサ30の充放電の周期を示す。周期Tは、第1周期T1と、第2周期T2との合計である。第1周期T1は、充放電回路42が第1状態である期間の長さである。充放電回路42が第1状態である期間の長さは、コンデンサ30と第1補助コンデンサ44aとの合成コンデンサに、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第1電極31の電位がVdからVthになるまでにかかる時間である。第2周期T2は、充放電回路42が第2状態である期間の長さである。充放電回路42が第2状態である期間の長さは、コンデンサ30と第2補助コンデンサ44bとの合成コンデンサに、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第2電極32の電位がVdからVthになるまでにかかる時間である。したがって、周期Tは、次式(2)で与えられる。次式(2)において、iは、出力電流I1の値(電流値)である。
 なお、第1補助コンデンサ44aの静電容量と、第2補助コンデンサ44bの静電容量とが等しい場合は、図6に示すように、周期T1と周期T2が等しくなり、周期T1における電位Vdと周期T2における電位Vdとが等しくなる。よって、周期T1、T2の期間であったり、それぞれの電位Vdを測定することにより、第1補助コンデンサ44aの静電容量と、第2補助コンデンサ44bの静電容量とを算出することが可能となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 式(2)に、上式(1)のVdを代入すると、次式(3)が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 上式(3)から明らかなように、周期Tから、コンデンサ30の静電容量Ceの算出が可能である。
 なお、本実施の形態では、周期Tを含む式から静電容量Ceを算出しているが、これに限らず、インピーダンス測定など、既存の方法により静電容量を測定してもよい。
 図13は、比較例の静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図である。比較例の静電容量検知回路は、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bを有していない点で、静電容量検知回路4と異なる。
 図13において、時刻t20において充放電回路42が第1状態に設定されて、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。時刻t21において、電位V1が第1閾値Vthに達し、充放電回路42が第2状態に切り替えられる。時刻t22において、電位V2が第2閾値Vthに達し、充放電回路42が第1状態に切り替えられる。時刻t23において、電位V1が第1閾値Vthに達し、充放電回路42が第2状態に切り替えられる。時刻t24において、電位V2が第2閾値Vthに達し、充放電回路42が第1状態に切り替えられる。時刻t25において、電位V1が第1閾値Vthに達し、充放電回路42が第2状態に切り替えられる。
 図13に示すように、充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後(時刻t22,t24参照)は、第1電極31の電位V1がVfになる。充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後(時刻t21,t23参照)は、第2電極32の電位V2がVfになる。これは、|Vth|が|Vf|より大きいためである。
 比較例では、第1周期T1は、コンデンサ30に、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第1電極31の電位がVfからVthになるまでにかかる時間である。第2周期T2は、コンデンサ30に、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第2電極32の電位がVfからVthになるまでにかかる時間である。したがって、比較例では、周期Tは、次式(4)で与えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
 式(3)と式(4)とを比較すると、本実施の形態の静電容量検知回路4は、周期Tに対する静電容量Ceの変化の影響が、比較例の静電容量検知回路よりも2倍になっていることがわかる。静電容量検知回路4は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 図2の処理回路5は、演算回路51と、入出力回路52とを備える。演算回路51と入出力回路52とは、センサ基板33及び回路基板4aとは別の回路基板5aに配置される(図14参照)。回路基板5aには、基準電位Vgが設けられる。回路基板5aには、直流電源6が配置される。
 入出力回路52は、静電容量センサ1の操作のための入力装置、及び、静電容量センサ1からの情報の出力のための出力装置としての機能を有する。入出力回路52は、例えば、1以上のヒューマン・マシン・インタフェースを備える。ヒューマン・マシン・インタフェースの例としては、メカニカルスイッチ、タッチパッド等の入力装置、ディスプレイ、スピーカ等の出力装置、タッチパネル等の入出力装置が挙げられる。
 演算回路51は、静電容量センサ1の動作を制御する。演算回路51は、入出力回路52に接続される。演算回路51は、例えば、1以上のプロセッサ(マイクロプロセッサ)と1以上のメモリとを含むコンピュータシステムにより実現され得る。1以上のプロセッサが(1以上のメモリ等)プログラムを実行することで、演算回路51としての機能を実現する。
 演算回路51は、入出力回路52に接続される。演算回路51は、入出力回路52の入力装置により水分量の計測開始の操作がされた場合、静電容量検知回路4に、静電容量の検知のための動作を開始させる。演算回路51は、静電容量検知回路4によるコンデンサ30の充放電の時間に基づいてコンデンサ30の静電容量を算出するように構成される。本実施の形態において、静電容量検知回路4によるコンデンサ30の充放電の時間は、周期Tである。図2の演算回路51は、静電容量検知回路4の駆動回路432から第2駆動信号D2を取得し、第2駆動信号D2に基づいて周期Tを決定する。図6に示すように、周期Tは、第2駆動信号D2の周期に対応する。演算回路51は、上記の式(3)に基づき、周期Tからコンデンサ30の静電容量Ceを求めることができる。演算回路51は、コンデンサ30の静電容量Ceに基づいて測定対象の水分量を求めるように構成される。演算回路51は、測定対象の水分量を、入出力回路52の出力装置により表示する。
 [1.1.2 使用方法]
 次に、図1の測定器10の使用方法の一例について説明する。例えば、測定器10は、測定者が、測定対象の口腔内の水分量を測定するために利用される。測定者は、例えば、医師、看護師等の医療従事者である。測定対象は、例えば、患者である。一例として、測定者は、測定器10のハンドヘルド筐体2のグリップ部22を手で持って、測定器10のハンドヘルド筐体2のヘッド部21を測定対象の口腔内に入れ、舌粘膜、頬粘膜、口蓋粘膜又は口唇粘膜等の測定部位に接触させる。測定器10自体は接地されていないため、上記のように測定器10を使用する場合、測定器10のヘッド部21が測定対象と介して接地され、さらに測定器10のグリップ部22が測定者を介して接地される。そのため、測定器10の使用時には種々の浮遊容量が生じうる。
 図14は、図1の測定器10の使用時に生じる浮遊容量の説明図である。図14では、M1は、測定対象の体を概略的に示す。M11は、測定者の体表面水分層を概略的に示す。M2は、測定者の体を概略的に示す。
 図14に示すように、測定器10のハンドヘルド筐体2のヘッド部21は測定対象M1の口腔内の特定部位に接触される。図14では、センサ部3の第1及び第2電極31,32が保護層34を介して、測定対象M1の体表面水分層M11に触れる。これによって、第1電極31と測定対象M1との間に、浮遊容量C1が生じ得る。第2電極32と測定対象M1との間に、浮遊容量C2が生じ得る。浮遊容量C1,C2の影響により、第1及び第2電極31,32とで構成されるコンデンサ30の静電容量が変化する。
 測定器10の使用時には、測定しようとする静電容量に関係しない浮遊容量が生じる。図14では、測定対象M1とグランドとの間に浮遊容量ch1が生じ得る。静電容量検知回路4において第1電極31に接続される端子と基準電位Vgとの間に浮遊容量Cp1が生じうる。静電容量検知回路4において第2電極32に接続される端子と基準電位Vgとの間に浮遊容量Cp2が生じうる。測定器10のハンドヘルド筐体2のグリップ部22は測定者M2により持たれる。図14では、測定者M2とグランドとの間に浮遊容量Ch21が生じ得る。測定者M2と処理回路5の基準電位Vgとの間に、浮遊容量Ch22が生じ得る。
 このように水分量の測定を行うために、人体に接触し、静電容量を測定する測定器10においては測定箇所となるセンサ部3以外においても、人体と測定器10の間)や、人体と基準電位Vgの間に発生する浮遊容量Ch1,Ch21,Ch22が接地電位を介して接続され、正確な容量が観測できない可能性がある。測定する静電容量が大きい場合には、このような浮遊容量の影響は相対的に小さくなるため、測定の精度に対する影響が少ない。これに対して、第1及び第2電極31,32間の静電容量のような微小な場合には、浮遊容量の影響は大きな誤差の一因となり得る。従来、このような浮遊容量の対策としては、静電容量を周波数に変換する回路を有する基板の面積を最小にした上で他の機能回路との基準電位を分離する必要がある他、ガードリング等の方法で測定対象外の容量が回路から無視できるようにする対策がある。しかしながら、基準電位の分離を行うためには高価かつ複雑な回路構成が必要になり、基板面積の増大から、口腔内への挿入が困難になり、製品価格も上昇する。ガードリングに関しても、人体を製品と電気的に結合する必要があり、装置構成や、安全面などからも難易度が高くなる。
 これに対して、本実施の形態では、測定しようとする静電容量に関係しない浮遊容量をまとめてCsとすると、上式(3)は次式(5)のように変形することができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
 測定器10では、静電容量検知回路4が第1及び第2補助コンデンサ44a,44bを備えており、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bの静電容量Cgによって、検出しようとする容量に対して相対的に感度を高めることができる。つまり、外乱となる浮遊容量(例えば、図14のCh1、Ch21、Ch22)の影響を受けにくくなる。浮遊容量Csの影響を低減できる。つまり、本実施の形態では、第1及び第2補助コンデンサ44a,44bを配置するだけで、浮遊容量Csの影響を低減できる。
 [1.1.3 変形例]
 図15は、実施の形態1の一変形例の静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図である。本変形例は、第1補助コンデンサ44aの静電容量と第2補助コンデンサ44bの静電容量とが同じではなく、異なっている点で、上記の構成と異なる。
 図15の時刻t30では、コンデンサ30に電荷が蓄積されていない。駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定することにより、充放電回路42を第1状態に設定する。
 第1状態では、第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。充放電回路42は、第1電極31に並列的に接続される第1補助コンデンサ44aを有するから、第1状態では第1補助コンデンサ44aがコンデンサ30に並列に接続されて、第1補助コンデンサ44aにも電荷が蓄積される。
 時刻t31において、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後は、第2電極32の電位V2が負になる。充放電回路42は、第2電極32に並列的に接続される第2補助コンデンサ44bを有するから、第2状態では第2補助コンデンサ44bがコンデンサ30に並列に接続される。これによって、コンデンサ30の電荷が第2補助コンデンサ44bに移動する。図15では、第2電極32の電位V2は、Vd2まで低下する。Vd2は負の値である。Vd2は、第1状態においてコンデンサ30に蓄えらえた電荷と、コンデンサ30と第2補助コンデンサ44bの合成静電容量とで決まるから、次式(6)が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
 式(6)において、Ceはコンデンサ30の静電容量であり、Cg2は第2補助コンデンサ44bの静電容量である。Vd2の大きさは、第3スイッチS3のボディダイオードの閾値電圧の大きさを超えないように設定される。つまり、|Vd2|≦|Vf|が成立するように、第2補助コンデンサ44bの静電容量(Cg2)と、第1閾値(Vth)とが設定されている。
 第2状態では、第2電極32には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。また、第2補助コンデンサ44bにも電荷が蓄積される。
 時刻t32において、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後は、第1電極31の電位V1が負になる。充放電回路42は、第1電極31に並列的に接続される第1補助コンデンサ44aを有するから、第1状態では第1補助コンデンサ44aがコンデンサ30に並列に接続される。これによって、コンデンサ30の電荷が第1補助コンデンサ44aに移動する。図15では、第2電極32の電位V2は、Vd1まで低下する。Vd1は負の値である。Vd1は、第2状態においてコンデンサ30に蓄えらえた電荷と、コンデンサ30と第1補助コンデンサ44aの合成静電容量とで決まるから、次式(7)が成立する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
 式(7)において、Cg1は第1補助コンデンサ44aの静電容量である。Vd1の大きさは、第4スイッチS4のボディダイオードの閾値電圧の大きさを超えないように設定される。つまり、||Vd1|≦|Vf|が成立するように、第1補助コンデンサ44aの静電容量(Cg1)と、第2閾値(Vth)とが設定されている。
 本実施の形態において、第1閾値と第2閾値との値は等しく、Vthである。式(6)において、Vthは、第1閾値の値であり、式(7)において、Vthは、第2閾値の値である。第1閾値と第2閾値とが異なる場合には、式(6)は次式(6a)となり、式(7)は次式(7a)となる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
 本実施の形態において、第3スイッチS3のボディダイオードの閾値電圧と第4スイッチS4のボディダイオードの閾値電圧は等しい。上記の|Vd2|≦|Vf|の条件式において、Vfは、第2補助コンデンサ44bがない場合における充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替えた際の第2電極32の電位V2の下限値であり、第3スイッチS3のボディダイオードの閾値電圧に対応する。上記の|Vd1|≦|Vf|の条件式において、Vfは、第1補助コンデンサ44aがない場合における充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替えた際の第1電極31の電位V1の下限値であり、第4スイッチS4のボディダイオードの閾値電圧に対応する。第3スイッチS3のボディダイオードの閾値電圧の大きさをVf1、第4スイッチS4のボディダイオードの閾値電圧の大きさをVf2として互いに区別すると、|Vd1|≦|Vf|の条件式は次式(8)で表され、|Vd2|≦|Vf|の条件式は次式(9)で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
 本実施の形態では、上式(8),(9)を満たすように、第1補助コンデンサ44aの静電容量と、第2補助コンデンサ44bの静電容量と、第1閾値と、第2閾値とが設定されている。
 第1状態では、第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。また、第1補助コンデンサ44aにも電荷が蓄積される。
 図15の時刻t33,t35では、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。
 図6の時刻t34では、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。
 図15において、Tは、コンデンサ30の充放電の周期を示す。周期Tは、第1周期T1と、第2周期T2との合計である。第1周期T1は、コンデンサ30と第1補助コンデンサ44aとの合成コンデンサに、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第1電極31の電位がVd1から第1閾値(Vth)になるまでにかかる時間である。第2周期T2は、コンデンサ30と第2補助コンデンサ44bとの合成コンデンサに、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第2電極32の電位がVd2から第2閾値(Vth)になるまでにかかる時間である。したがって、周期Tは、次式(10)で与えられる。次式(10)において、iは、出力電流I1の値(電流値)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
 式(10)に、上式(6)のVd2及び上式(7)のVd1を代入すると、次式(11)が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
 上式(11)から明らかなように、周期Tから、コンデンサ30の静電容量Ceの算出が可能である。
 なお、第1閾値をVth1、第2閾値をVth2とした場合には、上式(11)は次式(12)のようになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
 上式(12)から明らかなように、周期Tから、コンデンサ30の静電容量Ceの算出が可能である。静電容量センサ1の簡略化のためには、第1閾値と第2閾値とが等しく、第1補助コンデンサ44aの静電容量と第2補助コンデンサ44bとの静電容量とが等しいほうがよい。
 また、周期Tを構成する周期T1、T2の期間から、第1補助コンデンサ44aの静電容量と、第2補助コンデンサ44bの静電容量との算出が可能である。T1≠T2の場合は、第1補助コンデンサ44aの静電容量と、第2補助コンデンサ44bの静電容量とは異なっている。そして、周期T1における電位Vd1と周期T2における電位Vd2との値も異なる。このように、周期T1,T2だけでなく、電位Vd1,Vd2に基づいて、第1補助コンデンサ44aの静電容量と、第2補助コンデンサ44bの静電容量との算出が可能となる。
 [1.1.4 効果等]
 以上述べたように、静電容量センサ1は、コンデンサ30を構成する第1電極31及び第2電極32を有するセンサ部3と、センサ部3に接続される静電容量検知回路4とを備える。静電容量検知回路4は、第1電極31及び第2電極32に接続され、コンデンサ30を充放電させるための充放電回路42と、コンデンサ30が充放電を繰り返すように充放電回路42を制御する制御回路43と、コンデンサ30と並列となるように第1電極31に接続される第1補助コンデンサ44aとコンデンサ30と並列となるように第2電極32に接続される第2補助コンデンサ44bとを有する補助容量回路44とを備える。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 静電容量センサ1において、第1補助コンデンサ44aの静電容量と第2補助コンデンサ44bの静電容量とは等しい。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 静電容量センサ1において、第1補助コンデンサ44aの静電容量と第2補助コンデンサ44bの静電容量とが異なる。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 静電容量センサ1において、充放電回路42は、第1電極31に一定の出力電流を供給する第1状態と、第2電極32に一定の出力電流を供給する第2状態と、が相補的に切り替え可能に構成される。制御回路43は、充放電回路42が第1状態である場合に第1電極31の電位が第1閾値に達すると充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替えるように構成される。制御回路43は、充放電回路42が第2状態である場合に第2電極32の電位が第2閾値に達すると充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替えるように構成される。この構成は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 静電容量センサ1において、第1閾値と第2閾値とは等しい。この構成は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 静電容量センサ1において、充放電回路42は、電源Iinに接続される電源端子41aと基準電位Vgに接続される基準電位端子41bとの間に接続され、第1スイッチS1、第2スイッチS2、第3スイッチS3及び第4スイッチS4を有する。第1スイッチS1と第3スイッチS3は、直列回路を構成する。第1スイッチS1と第3スイッチS3の直列回路は、第1スイッチS1が電源端子41a、第3スイッチS3が基準電位端子41bに接続されるように、電源端子41aと基準電位端子41bとの間にある。第1スイッチS1と第3スイッチS3との接続点が第1電極31に接続される。第2スイッチS2と第4スイッチS4は、直列回路を構成する。第2スイッチS2と第4スイッチS4の直列回路は、第2スイッチS2が電源端子41a、第4スイッチS4が基準電位端子41bに接続され、かつ、第1スイッチS1と第3スイッチS3との直列回路に並列に接続されるように、電源端子41aと基準電位端子41bとの間にある。第2スイッチS2と第4スイッチS4との接続点が第2電極32に接続される。第1状態では、第1及び第4スイッチS4がオン、第2及び第3スイッチS3がオフとなる。第2状態では、第1及び第4スイッチS4がオフ、第2及び第3スイッチS3がオンとなる。この構成は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 静電容量センサ1において、第1補助コンデンサ44aが第3スイッチS3に並列となるように、第1補助コンデンサ44aの第1端が第1電極31に接続されるとともに、第1補助コンデンサ44aの第2端が基準電位端子41bに接続される。第2補助コンデンサ44bが第4スイッチS4に並列となるように、第2補助コンデンサ44bの第1端が第2電極32に接続されるとともに、第2補助コンデンサ44bの第2端が基準電位端子41bに接続される。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 静電容量センサ1において、次式を満たす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000015
 Ceは、コンデンサ30の静電容量である。Cg1は、第1補助コンデンサ44aの静電容量である。Cg2は、第2補助コンデンサ44bの静電容量である。Vth1は、第1閾値である。Vth2は、第2閾値である。Vf1は、第1補助コンデンサ44aがない場合における充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替えた際の第1電極31の電位の下限値である。Vf2は、第2補助コンデンサ44bがない場合における充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替えた際の第2電極32の電位の下限値である。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 なお、第1補助コンデンサ44aの静電容量と第2補助コンデンサ44bの静電容量とが等しい場合、Cg1=Cg2=Cgとできる。第1閾値と第2閾値とが等しい場合、Vth1=Vth2=Vthとできる。第1補助コンデンサ44aがない場合における充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替えた際の第1電極31の電位の下限値と第2補助コンデンサ44bがない場合における充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替えた際の第2電極32の電位の下限値とが等しい場合、Vf1=Vf2=Vfとすることができる。この場合、静電容量検知回路4において、次式を満たせばよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
 静電容量センサ1において、Vf1=Vf2を満たす。この構成は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 静電容量センサ1において、Vf1<0及びVf2<0を満たす。この構成は、静電容量の変化量を大きくでき、静電容量の検知の精度の向上が図れる。
 静電容量センサ1において、第2スイッチS3と第4スイッチS4の各々は、電界効果トランジスタである。Vf1は、第2スイッチS3のボディダイオードの閾値電圧で決まる。Vf2は、第4スイッチS4のボディダイオードの閾値電圧で決まる。この構成は、静電容量検知回路の小型化及び第1状態と第2状態との切り替えの高速化が図れる。
 静電容量センサ1は、静電容量検知回路4によるコンデンサ30の充放電の時間に基づいてコンデンサ30の静電容量を算出する処理回路5をさらに備える。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 静電容量センサ1において、センサ部3は、第1電極31及び第2電極32が配置されるセンサ基板33を有する。充放電回路42は、センサ基板33とは別の回路基板4aに配置される。補助容量回路44は、センサ基板33と回路基板4aとの間で、かつ、センサ基板33よりも回路基板4aに近い位置に配置される。この構成は、センサ部3の第1電極31及び第2電極32からの浮遊容量の影響を低減することができる。
 以上述べた測定器10は、静電容量センサ1と、静電容量センサ1を収容するハンドヘルド筐体2とを備える。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 測定器10において、ハンドヘルド筐体2は、ハンドヘルド筐体2の第1端に配置されるとともに測定対象に接触されるヘッド部21と、ハンドヘルド筐体2の第2端に配置されるとともに手で握られるグリップ部22と、ヘッド部21とグリップ部22とを結合するプローブ部23とを含む。センサ部3は、ヘッド部21に位置する。静電容量検知回路4は、ヘッド部21又はプローブ部23に位置する。処理回路5は、グリップ部22に位置する。この構成は、グリップ部で生じる浮遊容量の影響を低減できる。
 測定器10において、グリップ部22は、グリップ部22の表面に露出する導電部221を有する。導電部221は、処理回路5の基準電位Vgに接続される。この構成は、測定器を持つ人側での浮遊容量の影響のばらつきを低減できる。
 測定器10において、センサ部3は、第1及び第2電極31,32が測定対象に接触することで第1及び第2電極31,32が測定対象の一部とともにコンデンサ30を形成するように構成される。処理回路5は、コンデンサ30の静電容量に基づいて測定対象の水分量を求めるように構成される。この構成は、測定対象の水分量の測定を可能にする。
 測定器10において、測定対象は、生物である。この構成は、生物の水分量の測定を可能にする。
 測定器10において、測定対象は、生物の口腔である。この構成は、生物の口腔の水分量の測定を可能にする。
 [1.2 実施の形態2]
 [1.2.1 構成]
 図16は、実施の形態2にかかる測定器の静電容量センサ1Aの構成例の回路図である。静電容量センサ1Aは、静電容量センサ1の静電容量検知回路4とは異なる静電容量検知回路4Aを備える点で、静電容量センサ1と異なる。図16の静電容量検知回路4Aは、静電容量検知回路4の補助容量回路44とは異なる補助容量回路44Aを備える点で、静電容量検知回路4とは異なる。補助容量回路44Aは、第1補助コンデンサ44aを備えるが、第2補助コンデンサ44bを備えていない点で、補助容量回路44と異なる。
 次に、図17~図23を参照して静電容量検知回路4Aの動作の一例について説明する。
 図17は、静電容量検知回路4Aの動作の一例のタイミング図である。図17において、V1は第1電極31の電位を示し、V2は第2電極32の電位を示す。図17において、Hは、第2駆動信号D2の電圧値がハイレベルの状態に対応し、Lは、第2駆動信号D2の電圧値がロウレベルの状態を示す。図18~図23は、静電容量検知回路4Aの動作の一例の説明図である。図18~図23では、図示の簡略化のためだけに、制御回路43を省略している。
 図17の時刻t40では、コンデンサ30に電荷が蓄積されていない。駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定することにより、充放電回路42を第1状態に設定する。
 図18は、充放電回路42が第1状態であるときの静電容量検知回路4Aの動作の説明図である。図18に示すように、第1状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオン、第2及び第3スイッチS2,S3がオフである。第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。充放電回路42は、第1電極31に並列的に接続される第1補助コンデンサ44aを有するから、第1状態では第1補助コンデンサ44aがコンデンサ30に並列に接続されて、第1補助コンデンサ44aにも電荷が蓄積される。
 判定回路431は、充放電回路42が第1状態である場合に第1電極31の電位V1が第1閾値に達したかどうかの判定を実行する。図17では、第1閾値は、Vthである。時刻t41において、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。本実施の形態では、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する前に、第3状態に設定する。図19は、充放電回路42が第3状態であるときの静電容量検知回路4Aの動作の説明図である。この後に、駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をロウレベル、第2駆動信号D2の電圧値をハイレベルに設定することにより、充放電回路42を第2状態に設定する。
 図20は、充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後の静電容量検知回路4Aの動作の説明図である。図20に示すように、第2状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオフ、第2及び第3スイッチS2,S3がオンである。コンデンサ30では、第1電極31が基準電位端子41bに接続され、第2電極32が電源端子41aに接続される。充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後は、第2電極32の電位V2が負になる。充放電回路42は、第2電極32に並列的に接続される第2補助コンデンサ44bを有していない。そのため、実施の形態1とは異なり、図17では、第2電極32の電位V2は、Vf1まで低下する。Vf1は負の値であり、Vf1の大きさは、第3スイッチS3として用いられる電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧に等しい。
 第2状態では、第2電極32には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。図21は、充放電回路42が第2状態に切り替えられて時間が経過した静電容量検知回路4Aの動作の説明図である。図21では、第2電極32の電位V2が正になっている。
 判定回路431は、充放電回路42が第2状態である場合に第2電極32の電位V2が第2閾値に達したかどうかの判定を実行する。図17では、第2閾値は、第1閾値と等しく、Vthである。時刻t42において、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。本実施の形態では、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する前に、充放電回路42を第3状態に設定する。図22は、充放電回路42が第3状態であるときの静電容量検知回路4Aの動作の説明図である。この後に、駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルに設定することにより、充放電回路42を第1状態に設定する。
 図23は、充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後の静電容量検知回路4Aの動作の説明図である。図23に示すように、第1状態では、第1及び第4スイッチS1、S4がオン、第2及び第3スイッチS2,S3がオフである。コンデンサ30では、第1電極31が電源端子41aに接続され、第2電極32が基準電位端子41bに接続される。充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後は、第1電極31の電位V1が負になる。充放電回路42は、第1電極31に並列的に接続される第1補助コンデンサ44aを有するから、第1状態では第1補助コンデンサ44aがコンデンサ30に並列に接続される。これによって、コンデンサ30の電荷が第1補助コンデンサ44aに移動する。図17では、第1電極31の電位V1は、Vd1まで低下する。Vd1は負の値である。Vd1は、第2状態においてコンデンサ30に蓄えらえた電荷と、コンデンサ30と第1補助コンデンサ44aの合成静電容量とで決まるから、上式(7)が成立する。
 本実施の形態では、|Vd1|≦|Vf2|が成立するように、第1補助コンデンサ44aの静電容量(Cg1)と、第2閾値(Vth)とが設定されている。Vf2は負の値であり、Vf2の大きさは、第4スイッチS4として用いられる電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧に等しい。|Vd1|>|Vf2|の場合には、第4スイッチS4のボディダイオードの順方向電圧が|Vf2|を超えることになるから、第1電極31の電位V1は、Vf2まで低下する。
 第1状態では、第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。また、第1補助コンデンサ44aにも電荷が蓄積される。充放電回路42が第1状態に切り替えられて時間が経過した後には、図18に示すように、第1電極31の電位V1が正になる。
 図17の時刻t43,t45では、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。
 図17の時刻t44では、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。
 図17において、Tは、このようなコンデンサ30の充放電の周期を示す。周期Tは、第1周期T1と、第2周期T2との合計である。第1周期T1は、コンデンサ30と第1補助コンデンサ44aとの合成コンデンサに、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第1電極31の電位がVd1から第1閾値(Vth)になるまでにかかる時間である。第2周期T2は、コンデンサ30に、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第2電極32の電位がVf1から第2閾値(Vth)になるまでにかかる時間である。したがって、周期Tは、次式(12)で与えられる。次式(12)において、iは、出力電流I1の値(電流値)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000017
 式(13)に、上式(7)のVd1を代入すると、次式(13)が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000018
 上式(14)から明らかなように、周期Tから、コンデンサ30の静電容量Ceの算出が可能である。
 [1.2.2 変形例]
 図24は、実施の形態2の一変形例の静電容量検知回路の動作の一例のタイミング図である。本変形例は、静電容量検知回路が、第2補助コンデンサ44bを備えるが、第1補助コンデンサ44aを備えていない点で、静電容量検知回路4Aと異なる。
 図24の時刻t50では、コンデンサ30に電荷が蓄積されていない。駆動回路432は、第1駆動信号D1の電圧値をハイレベル、第2駆動信号D2の電圧値をロウレベルにそれぞれ設定することにより、充放電回路42を第1状態に設定する。
 第1状態では、第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。
 時刻t51において、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。充放電回路42が第2状態に切り替えられた直後は、第2電極32の電位V2が負になる。充放電回路42は、第2電極32に並列的に接続される第2補助コンデンサ44bを有するから、第2状態では第2補助コンデンサ44bがコンデンサ30に並列に接続される。これによって、コンデンサ30の電荷が第2補助コンデンサ44bに移動する。図24では、第2電極32の電位V2は、Vd2まで低下する。Vd2は負の値である。Vd2は、第1状態においてコンデンサ30に蓄えらえた電荷と、コンデンサ30と第2補助コンデンサ44bの合成静電容量とで決まるから、上式(6)が成立する。
 本変形例では、|Vd2|≦|Vf1|が成立するように、第2補助コンデンサ44bの静電容量(Cg2)と、第1閾値(Vth)とが設定されている。Vf1は負の値であり、Vf1の大きさは、第3スイッチS3として用いられる電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧に等しい。|Vd2|>|Vf1|の場合には、第3スイッチS3のボディダイオードの順方向電圧が|Vf1|を超えることになるから、第2電極32の電位V2は、Vf1まで低下する。
 第2状態では、第2電極32には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。また、第2補助コンデンサ44bにも電荷が蓄積される。
 時刻t52において、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これにより、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。充放電回路42が第1状態に切り替えられた直後は、第1電極31の電位V1が負になる。図24では、第1電極31の電位V1は、Vf2まで低下する。Vf2は負の値である。Vf2の大きさは、第4スイッチS4として用いられる電界効果トランジスタのボディダイオードの閾値電圧に等しい。
 第1状態では、第1電極31には、電源Iinから一定の出力電流I1が供給される。これにより、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。
 図24の時刻t53,t55では、判定回路431は、第1電極31の電位V1が第1閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第2状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第2電極32の電位V2が第1電極31の電位V1より高くなるように充電される。
 図24の時刻t54では、判定回路431は、第2電極32の電位V2が第2閾値(Vth)に達したと判定する。これによって、駆動回路432は、充放電回路42を第1状態に設定する。これによって、コンデンサ30は、第1電極31の電位V1が第2電極32の電位V2より高くなるように充電される。
 図24において、Tは、コンデンサ30の充放電の周期を示す。周期Tは、第1周期T1と、第2周期T2との合計である。第1周期T1は、コンデンサ30に、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第1電極31の電位がVf2からVthになるまでにかかる時間である。第2周期T2は、コンデンサ30と第2補助コンデンサ44bとの合成コンデンサに、電源Iinから一定の出力電流I1が供給されることで、第2電極32の電位がVd2からVthになるまでにかかる時間である。したがって、周期Tは、次式(14)で与えられる。次式(14)において、iは、出力電流I1の値(電流値)である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000019
 式(15)に、上式(6)のVd2を代入すると、次式(16)が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000020
 上式(16)から明らかなように、周期Tから、コンデンサ30の静電容量Ceの算出が可能である。
 [1.2.3 効果等]
 以上述べたように、静電容量センサ1Aは、コンデンサ30を構成する第1電極31及び第2電極32を有するセンサ部3と、センサ部3に接続される静電容量検知回路4Aとを備える。静電容量検知回路4Aは、第1電極31及び第2電極32に接続され、コンデンサ30を充放電させるための充放電回路42と、コンデンサ30が充放電を繰り返すように充放電回路42を制御する制御回路43と、コンデンサ30と並列となるように第1電極31に接続される第1補助コンデンサ44aとコンデンサ30と並列となるように第2電極32に接続される第2補助コンデンサ44bとの一方を有する補助容量回路44Aとを備える。この構成は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 [1.3 実施の形態3]
 [1.3.1 構成]
 図25は、実施の形態3にかかる測定器10Bの構成例の概略図である。測定器10Bは、人の上下顎歯の咬合力を測定するための咬合力測定器である。
 図25の測定器10Bは、静電容量式の咬合力測定器である。測定器10Bは、静電容量センサ1Bと、ハンドヘルド筐体2Bとを備える。
 ハンドヘルド筐体2Bは、静電容量センサ1Bを収容する。ハンドヘルド筐体2Bは、人が片手で持てる大きさ及び重さである。ハンドヘルド筐体2Bは、防水構造を有し、ハンドヘルド筐体2B内の静電容量センサ1Bを水分から保護する。図25のハンドヘルド筐体2Bは、棒状である。図25のハンドヘルド筐体2Bは、いわゆる歯ブラシのような形状である。ハンドヘルド筐体2Bは、ヘッド部21Bと、グリップ部22と、ヘッド部21Bとグリップ部22とを結合するプローブ部23とを備える。図25のハンドヘルド筐体2Bは、ヘッド部21Bの構造が、図1のハンドヘルド筐体2と異なる。
 ヘッド部21Bは、ハンドヘルド筐体2Bにおいて測定対象に接触される部位である。ヘッド部21Bは、ハンドヘルド筐体2Bの第1端(図25における左端)に配置される。本実施の形態では、ヘッド部21Bは、使用時に人の口腔内に入れられて上下顎歯で挟まれる。ヘッド部21Bは、上下顎歯による咬合力を静電容量センサ1Bに伝達できるように柔らかい材料により形成される。
 図26は、ヘッド部21Bの構成例の概略斜視図である。ヘッド部21Bは、一対の樹脂層211B,212Bを有する。一対の樹脂層211B,212B間には、後述するセンサ部3Bが配置される。樹脂層211B,212Bは、例えば、矩形板状である。樹脂層211B,212Bは、柔軟性を有する樹脂により形成される。柔軟性を有する樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂が挙げられる。
 静電容量センサ1Bは、静電容量に基づいて咬合力を求める。静電容量センサ1Bは、センサ部3Bと、静電容量検知回路4と、処理回路5Bとを備える。本実施の形態では、センサ部3B及び静電容量検知回路4は、ハンドヘルド筐体2Bのヘッド部21Bに位置する。本実施の形態では、処理回路5Bは、ハンドヘルド筐体2Bのグリップ部22Bに位置する。
 図26に示すように、センサ部3Bは、第1及び第2電極31B,32Bと、変形部35Bとを備える。変形部35Bは、圧力が加わることで変形する。圧力は、例えば、人が上下顎歯で咬むことで与えられ得る。変形部35Bは、例えば、矩形板状である。変形部35Bは、柔軟性を有する樹脂で形成される。柔軟性を有する樹脂としては、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、荷重に対する物性変化が大きく、使用者に対する負荷を抑えることが可能となる。第1及び第2電極31B,32Bは、例えば、矩形板状である。第1及び第2電極31B,32Bは、スパッタ、蒸着や印刷により形成することができる。第1及び第2電極31B,32Bの材料としては、Au、Ag、Pd等の貴金属、Cu、Al、Ni等の卑金属が挙げられる。センサ部3Bでは、変形部35Bが第1及び第2電極31B,32B間にある。これによって、センサ部3Bは、第1及び第2電極31B,32Bが変形部35Bとともにコンデンサ30Bを形成するように構成される。より詳細には、第1及び第2電極31B,32Bは、コンデンサ30Bの電極として機能する。変形部35Bは、第1及び第2電極31B,32Bに対する誘電体として機能する。つまり、柔軟性を有する変形部35Bが変位することで第1及び第2電極31B,32B間の静電容量、つまり、コンデンサ30Bの静電容量が変化する。
 処理回路5Bは、演算回路51の動作が、図2の処理回路5と異なる。図25の処理回路5Bの演算回路51は、演算回路51は、入出力回路52の入力装置により咬合力の計測開始の操作がされた場合、静電容量検知回路4に、静電容量の検知のための動作を開始させる。演算回路51は、静電容量検知回路4によるコンデンサ30の充放電の時間に基づいてコンデンサ30の静電容量を算出するように構成される。演算回路51は、実施の形態1,2と同様に、周期Tからコンデンサ30Bの静電容量Ceを求めることができる。演算回路51は、コンデンサ30Bの静電容量Ceに基づいて上下顎歯の咬合力を求めるように構成される。演算回路51は、咬合力を示す情報、入出力回路52の出力装置により表示する。
 [1.3.2 効果等]
 以上述べた測定器10Bでは、センサ部3Bは、圧力が加わることで変形する変形部35Bを備える。センサ部3Bは、第1及び第2電極31B,32Bが変形部35Bとともにコンデンサ30Bを形成するように構成される。処理回路5は、コンデンサ30Bの静電容量に基づいて圧力を求めるように構成される。この構成は、圧力の測定を可能にする。特に、圧力は、人が上下顎歯で咬むことで変形部35Bに与えられてよい。この場合は、人の上下顎歯の咬合力の測定を可能にする。
 [1.4 実施の形態4]
 [1.4.1 構成]
 図27は、実施の形態4にかかる測定器10Cのヘッド部21Cの構成例の概略斜視図である。測定器10Cは、測定器10と同様に、静電容量式の水分測定器である。測定器10Cは、静電容量センサ1Cと、ハンドヘルド筐体2Cとを備える。
 ハンドヘルド筐体2Cは、静電容量センサ1Cを収容する。ハンドヘルド筐体2Cは、ヘッド部21Cを備える。図27では図示が省略されているが、ハンドヘルド筐体2Cは、図1のハンドヘルド筐体2と同様に、グリップ部22と、プローブ部23とを備える。
 静電容量センサ1Cは、静電容量に基づいて測定対象の水分量を求める。静電容量センサ1Cは、センサ部3Cを備える。静電容量センサ1Cは、図2の静電容量センサ1と同様に、静電容量検知回路4と、処理回路5とを備える。
 本実施の形態では、少なくともセンサ部3Cが、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Cの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Cの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Cの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。接触領域100は、測定器10Cでの測定時に測定対象に接触されることが予定されている領域である。本実施の形態において、センサ部3Cの表面300は、ヘッド部21Cの枠状領域200を含む所定平面上に位置する。つまり、センサ部3Cの表面300とヘッド部21Cの枠状領域200とは同一平面上にあるといえる。
 図28は、静電容量センサ1Cのセンサ部3Cの構成例の説明図である。図29は、静電容量センサ1Cのセンサ部3Cの構成例の概略断面図である。図30は、センサ部3Cの概略平面図である。図31は、センサ部3Cの概略底面図である。特に、図29は、図30のA-A線の断面図である。
 図28及び図29のセンサ部3Cは、第1電極31と、第2電極32と、センサ基板33と、保護層34Cとを備える。センサ部3Cは、第1及び第2電極31,32が測定対象に接触することで第1及び第2電極31,32が測定対象の一部とともにコンデンサ30(図2参照)を形成するように構成される。
 図30及び図31に示すように、センサ基板33は矩形板状である。図28及び図29に示すように、センサ基板33は、センサ基板33の厚み方向において第1面33a及び第2面33bを有する。図28及び図29に示すように、センサ基板33には、第1電極31と第2電極32と保護層34Cとが配置される。図30において、保護層34Cの図示は省略されている。
 図30及び図31に示すように、第1電極31は、電極部311と、端子部312と、接続部313とを有する。
 電極部311は、測定対象との接触に用いられる。図30に示すように、電極部311は、センサ基板33の第1面33aに配置される。図30の電極部311は、櫛歯構造である。電極部311は、所定間隔で並ぶ複数の歯部3111と、複数の歯部3111の一端同士を連結する連結部3112と、端子部312に接続される接続部3113とを有する。接続部3113は、連結部3112の端部から複数の歯部3111と並ぶように延びる。図28に示すように、電極部311は、例えば、複数の金属層を含む。図28の電極部311の複数の金属層は、例えば、Ni層311aと、Ni層311aを覆うPd層311bと、Pd層311bを覆うAu層311cとを含む。電極部311の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 端子部312は、静電容量検知回路4との接続に用いられる。図31に示すように、端子部312は、センサ基板33の第2面33bに配置される。図31の端子部312は、矩形状のパッド部3121と、電極部311に接続される接続部3122とを有する。接続部3122は、パッド部3121から延びる帯状である。図28に示すように、端子部312は、例えば、複数の金属層(金属膜)を含む。図28の端子部312の複数の金属層は、例えば、Ni層312aと、Ni層312aを覆うPd層312bと、Pd層312bを覆うAu層312cとを含む。端子部312の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 接続部313は、電極部311と端子部312とを接続する。より詳細には、接続部313は、電極部311の接続部3113の端部と端子部312の接続部3122の端部とを接続する。図29に示すように、接続部313は、センサ基板33を貫通するビアである。接続部313は、例えば、Ag製である。
 図30及び図31に示すように、第2電極32は、電極部321と、端子部322と、接続部323とを有する。
 電極部321は、測定対象との接触に用いられる。図30に示すように、電極部321は、センサ基板33の第1面33aに配置される。図30の電極部321は、櫛歯構造である。電極部321は、所定間隔で並ぶ複数の歯部3211と、複数の歯部3211の一端同士を連結する連結部3212と、端子部322に接続される接続部3213とを有する。接続部3213は、連結部3212の端部から複数の歯部3211と並ぶように延びる。図28に示すように、電極部321は、例えば、複数の金属層を含む。図28の電極部321の複数の金属層は、例えば、Ni層321aと、Ni層321aを覆うPd層321bと、Pd層321bを覆うAu層321cとを含む。電極部321の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 端子部322は、静電容量検知回路4との接続に用いられる。図31に示すように、端子部322は、センサ基板33の第2面33bに配置される。図31の端子部322は、矩形状のパッド部3221と、電極部321に接続される接続部3222とを有する。接続部3222は、パッド部3221から延びる帯状である。図28に示すように、端子部322は、例えば、複数の金属層(金属膜)を含む。図28の端子部322の複数の金属層は、例えば、Ni層322aと、Ni層322aを覆うPd層322bと、Pd層322bを覆うAu層322cとを含む。端子部322の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 接続部323は、電極部321と端子部322とを接続する。より詳細には、接続部323は、電極部321の接続部3213の端部と端子部322の接続部3222の端部とを接続する。接続部323は、センサ基板33を貫通するビアである。接続部323は、例えば、Ag製である。
 保護層34Cは、第1電極31と第2電極32とを保護するために用いられる。特に、保護層34Cは、第1電極31の電極部311と第2電極32の電極部321とを保護するために用いられる。図28及び図29に示すように、保護層34Cは、センサ基板33の第1面33aに配置される。保護層34Cは、第1電極31の電極部311と第2電極32の電極部321とを覆う。保護層34Cは、例えば、絶縁性を有する。保護層34Cは、例えば、ポリイミド等の絶縁性を有する材料により形成される。
 図28の保護層34Cの表面340は、凹凸形状を有する。図28において、保護層34Cの表面340は、凸領域341と、凹領域342とを含む。凸領域341は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含み、凹領域342は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含まない。つまり、図28の保護層34Cの表面340は、センサ基板33の第1面33aに電極部311,321が形成されたことにより生じた凹凸形状を反映する。このように、保護層34Cが下地の凹凸を反映する場合、一般的には、保護層34Cの厚みはおおよそ一定になる。つまり、凸領域341での保護層34Cの厚みTH1と凹領域342での保護層34Cの厚みTH2とは同等、実質的に等しくなる。凸領域341での保護層34Cの厚みTH1は、凸領域341と第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321との間の距離である。凹領域342での保護層34Cの厚みTH2は、凹領域342と第1面33aとの間の距離である。図28の保護層34Cは、例えば、スピンコート法により形成され得る。なお、保護層34Cにおいて、必ずしも、厚みTH1と厚みTH2とは実質的に等しい必要はなく、例えば、図29のように、凸領域341と凹領域342とでの保護層34Cの厚みが異なってもよい。なお、図29では、凸領域341よりも凹領域342のほうが、保護層34Cが厚い。
 本実施の形態において、保護層34Cの表面340が、センサ部3Cにおいてヘッド部21Cから露出する表面300を規定する。そして、上述したように、保護層34Cの表面340が凹凸形状を有しており、これによって、センサ部3Cの表面300が凹凸形状を有する。
 センサ部3Cの表面300が凹凸形状であることによって、センサ部3Cの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Cの比表面積が大きくなる。センサ部3Cの比表面積が大きくなると、センサ部3Cが測定対象の一部とともに構成するコンデンサ30の静電容量が大きくなり得る。そのため、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。特に、図28及び図29のセンサ部3Cでは、凹領域342において測定対象と電極部311又は電極部321との距離が短くなりやすく、これによっても、部分的に静電容量が大きくなり得る。
 センサ部3Cの表面300が凹凸形状であることによって、センサ部3Cの表面300が平坦である場合に比べれば、測定対象に対するセンサ部3Cの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)が大きくなる。これにより、測定時においてセンサ部3Cと測定対象との位置関係が変動する可能性を低減できる。つまり、センサ部3Cのグリップ力が向上し、測定対象により固定されるようになる。これによって、センサ部3Cの表面300を測定対象に押し付けやすくなり、測定対象によりセンサ部3Cの表面300にかかる圧力が大きくなりやすい。測定対象によりセンサ部3Cの表面300にかかる圧力が大きくなる。結果として、センサ部3Cの測定対象に対する密着性が向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.4.2 効果等]
 以上述べた測定器10Cにおいて、センサ部3Cは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。センサ部3Cの表面300は、凹凸形状を有する。この構成は、センサ部3Cの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Cの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Cの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 以上述べた測定器10Cは、測定対象に接触される接触領域100を有する。接触領域100は、センサ部3Cの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Cの表面300を囲う枠状領域200とを含む。接触領域100は、凹凸形状を有する。この構成は、接触領域100が平坦である場合に比べれば、接触領域100の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 測定器10Cにおいて、センサ部3Cの表面300は、凹凸形状を有する。この構成は、センサ部3Cの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Cの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Cの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.5 実施の形態5]
 [1.5.1 構成]
 図32は、静電容量センサのセンサ部3Dの構成例の概略断面図である。図33は、センサ部3Dの概略平面図である。図34は、センサ部3Dの概略底面図である。特に、図32は、図33のB-B線の断面図である。
 センサ部3Dは、センサ部Cと同様に、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Dの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Dの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Dの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。
 図32のセンサ部3Dは、第1電極31と、第2電極32と、センサ基板33と、保護層34Dとを備える。センサ部3Dは、第1及び第2電極31,32が測定対象に接触することで第1及び第2電極31,32が測定対象の一部とともにコンデンサ30(図2参照)を形成するように構成される。
 図33及び図34に示すように、センサ基板33は矩形板状である。図32に示すように、センサ基板33は、センサ基板33の厚み方向において第1面33a及び第2面33bを有する。図32に示すように、センサ基板33には、第1電極31と第2電極32と保護層34Dとが配置される。図33において、保護層34Dの図示は省略されている。
 図33及び図34に示すように、第1電極31は、電極部311と、端子部312と、接続部313とを有する。
 電極部311は、測定対象との接触に用いられる。図33に示すように、電極部311は、センサ基板33の第1面33aに配置される。図33の電極部311は、櫛歯構造である。電極部311は、所定間隔で並ぶ複数の歯部3111と、複数の歯部3111の一端同士を連結する連結部3112とを有する。電極部311は、例えば、複数の金属層を含む。電極部311の複数の金属層は、例えば、Ni層と、Ni層を覆うPd層と、Pd層を覆うAu層とを含む。電極部311の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 端子部312は、静電容量検知回路4との接続に用いられる。図34に示すように、端子部312は、センサ基板33の第2面33bに配置される。図34の端子部312は、矩形状のパッド部3121と、電極部311に接続される接続部3122とを有する。接続部3122は、パッド部3121から延びる帯状である。端子部312は、例えば、複数の金属層(金属膜)を含む。端子部312の複数の金属層は、例えば、Ni層と、Ni層を覆うPd層と、Pd層を覆うAu層とを含む。端子部312の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 接続部313は、電極部311と端子部312とを接続する。より詳細には、接続部313は、電極部311の複数の歯部3111の一つの端部と端子部312の接続部3122の端部とを接続する。接続部313は、センサ基板33を貫通するビアである。接続部313は、例えば、Ag製である。
 図33及び図34に示すように、第2電極32は、電極部321と、端子部322と、接続部323とを有する。
 電極部321は、測定対象との接触に用いられる。図33に示すように、電極部321は、センサ基板33の第1面33aに配置される。図33の電極部321は、櫛歯構造である。電極部321は、所定間隔で並ぶ複数の歯部3211と、複数の歯部3211の一端同士を連結する連結部3212とを有する。電極部321は、例えば、複数の金属層を含む。電極部321の複数の金属層は、例えば、Ni層と、Ni層を覆うPd層と、Pd層を覆うAu層とを含む。電極部321の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 端子部322は、静電容量検知回路4との接続に用いられる。図34に示すように、端子部322は、センサ基板33の第2面33bに配置される。図34の端子部322は、矩形状のパッド部3221と、電極部321に接続される接続部3222とを有する。接続部3222は、パッド部3221から延びる帯状である。端子部322は、例えば、複数の金属層(金属膜)を含む。端子部322の複数の金属層は、例えば、Ni層と、Ni層を覆うPd層と、Pd層を覆うAu層とを含む。端子部322の複数の金属層は、メッキ処理により形成され得る。
 接続部323は、電極部321と端子部322とを接続する。より詳細には、接続部323は、電極部321の複数の歯部3211の一つの端部と端子部322の接続部3222の端部とを接続する。図32に示すように、接続部323は、センサ基板33を貫通するビアである。接続部323は、例えば、Ag製である。
 保護層34Dは、第1電極31と第2電極32とを保護するために用いられる。特に、保護層34Dは、第1電極31の電極部311と第2電極32の電極部321とを保護するために用いられる。図32に示すように、保護層34Dは、センサ基板33の第1面33aに配置される。保護層34Dは、第1電極31の電極部311と第2電極32の電極部321とを覆う。保護層34Dは、例えば、絶縁性を有する。保護層34Dは、例えば、ポリイミド等の絶縁性を有する材料により形成される。
 図32の保護層34Dの表面340は、凹凸形状を有する。図32において、保護層34Dの表面340は、凸領域341と、凹領域342とを含む。凹領域342におけるセンサ基板33の第1面33aからの距離は、凸領域341におけるセンサ基板33の第1面33aからの距離よりも短い。凸領域341は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含まず、凹領域342は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含む。
 本実施の形態において、保護層34Dの表面340が、センサ部3Dにおいてヘッド部21Cから露出する表面300を規定する。そして、上述したように、保護層34Dの表面340が凹凸形状を有しており、これによって、センサ部3Dの表面300が凹凸形状を有する。
 センサ部3Dの表面300が凹凸形状であることによって、センサ部3Dの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Dの比表面積が大きくなる。センサ部3Dの比表面積が大きくなると、センサ部3Dが測定対象の一部とともに構成するコンデンサ30の静電容量が大きくなり得る。そのため、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。特に、図32のセンサ部3Dでは、凹領域342において測定対象と電極部311又は電極部321との距離が短くなりやすく、これによっても、部分的に静電容量が大きくなり得る。
 センサ部3Dの表面300が凹凸形状であることによって、センサ部3Dの表面300が平坦である場合に比べれば、測定対象に対するセンサ部3Dの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)が大きくなる。これにより、測定時においてセンサ部3Dと測定対象との位置関係が変動する可能性を低減できる。つまり、センサ部3Dのグリップ力が向上し、測定対象により固定されるようになる。これによって、センサ部3Dの表面300を測定対象に押し付けやすくなり、測定対象によりセンサ部3Dの表面300にかかる圧力が大きくなりやすい。測定対象によりセンサ部3Dの表面300にかかる圧力が大きくなる。結果として、センサ部3Dの測定対象に対する密着性が向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.5.2 効果等]
 以上述べた測定器10Dにおいて、センサ部3Dは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。センサ部3Dの表面300は、凹凸形状を有する。この構成は、センサ部3Dの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Dの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Dの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 以上述べた測定器10Dは、測定対象に接触される接触領域100を有する。接触領域100は、センサ部3Dの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Dの表面300を囲う枠状領域200とを含む。接触領域100は、凹凸形状を有する。この構成は、接触領域100が平坦である場合に比べれば、接触領域100の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 測定器10Dにおいて、センサ部3Dの表面300は、凹凸形状を有する。この構成は、センサ部3Dの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Dの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Dの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.6 実施の形態6]
 [1.6.1 構成]
 図35は、実施の形態6にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部3Eの構成例の概略断面図である。
 センサ部3Eは、センサ部Cと同様に、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Eの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Eの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Eの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。
 図35のセンサ部3Eは、第1電極31と、第2電極32と、センサ基板33と、保護層34Eとを備える。センサ部3Eの第1電極31、第2電極32及びセンサ基板33は、センサ部3Cの第1電極31、第2電極32及びセンサ基板33と同様である。
 図35の保護層34Eの表面340は、図28及び図29の保護層34Cの表面340と同様に、凹凸形状を有する。図35において、保護層34Eの表面340は、凸領域341と、凹領域342とを含む。凹領域342におけるセンサ基板33の第1面33aからの距離は、凸領域341におけるセンサ基板33の第1面33aからの距離よりも短い。凸領域341は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含み、凹領域342は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含まない。
 図35の保護層34Eの表面340においては、凹凸形状の表面が、不規則な凹凸を有する粗面である。より詳細には、保護層34Eの表面340の凸領域341及び凹領域342は、不規則な凹凸を有する粗面である。保護層34Eの表面340の凹凸形状の粗面化には、エッチング技術等の周知の技術を利用可能である。
 本実施の形態において、保護層34Eの表面340、つまり、センサ部3Eの表面300の凹凸形状の表面が不規則な凹凸を有することによって、センサ部3Eの比表面積が更に大きくなり、測定対象に対するセンサ部3Eの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)が更に大きくなる。これによって、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。
 [1.6.2 効果等]
 以上述べたように、センサ部3Eは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。センサ部3Eの表面300は、凹凸形状を有する。この構成は、センサ部3Eの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Eの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Dの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 センサ部3Eにおいて、センサ部3Eの表面300の凹凸形状の表面は不規則な凹凸を有する粗面である。この構成は、センサ部3Eの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Eの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を更に大きくできて、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。
 [1.7 実施の形態7]
 [1.7.1 構成]
 図36は、実施の形態7にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部3Fの構成例の概略断面図である。
 センサ部3Fは、センサ部Cと同様に、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Fの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Fの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Fの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。
 図36のセンサ部3Fは、第1電極31と、第2電極32と、センサ基板33と、保護層34Fとを備える。センサ部3Fの第1電極31、第2電極32及びセンサ基板33は、センサ部3Dの第1電極31、第2電極32及びセンサ基板33と同様である。
 図36の保護層34Fの表面340は、図32の保護層34Dの表面340と同様に、凹凸形状を有する。図36において、保護層34Fの表面340は、凸領域341と、凹領域342とを含む。凹領域342におけるセンサ基板33の第1面33aからの距離は、凸領域341におけるセンサ基板33の第1面33aからの距離よりも短い。凸領域341は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含まず、凹領域342は、第1電極31の電極部311又は第2電極32の電極部321を覆う領域を含む。
 図36の保護層34Fの表面340においては、凹凸形状の表面が不規則な凹凸を有する粗面である。より詳細には、保護層34Fの表面340の凸領域341及び凹領域342は、不規則な凹凸を有する粗面である。保護層34Fの表面340の凹凸形状の粗面化には、エッチング技術等の周知の技術を利用可能である。
 本実施の形態において、保護層34Fの表面340、つまり、センサ部3Fの表面300の凹凸形状の表面が不規則な凹凸を有することによって、センサ部3Fの比表面積が更に大きくなり、測定対象に対するセンサ部3Fの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)が更に大きくなる。これによって、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。
 [1.7.2 効果等]
 以上述べたように、センサ部3Fは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。センサ部3Fの表面300は、凹凸形状を有する。この構成は、センサ部3Fの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Fの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Dの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 センサ部3Fにおいて、センサ部3Fの表面300の凹凸形状の表面は不規則な凹凸を有する粗面である。この構成は、センサ部3Fの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Fの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を更に大きくできて、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。
 [1.8 実施の形態8]
 [1.8.1 構成]
 図37は、実施の形態8にかかる測定器の静電容量センサのセンサ部3Gの構成例の概略断面図である。
 センサ部3Gは、センサ部Cと同様に、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Gの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Gの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Gの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。
 図37のセンサ部3Gは、第1電極31と、第2電極32と、センサ基板33と、保護層34Gとを備える。センサ部3Gの第1電極31、第2電極32及びセンサ基板33は、センサ部3Cの第1電極31、第2電極32及びセンサ基板33と同様である。ただし、図37のセンサ部3Gでは、第1電極31の電極部311及び第2電極32の電極部321は、センサ基板33の第1面33aに位置するが、第1電極31の電極部311の表面及び第2電極32の電極部321の表面は、センサ基板33の第1面33aと同一平面上に位置する。
 図37の保護層34Gの表面340は、図28及び図29の保護層34Cの表面340のような凹凸形状を有していないが、不規則な凹凸を有する粗面を含む。保護層34Gの表面340の粗面化には、エッチング技術等の周知の技術を利用可能である。なお、図28及び図29の保護層34Cの表面340は、全体が不規則な凹凸を有する粗面であるが、必ずしも表面340全体が不規則な凹凸を有する粗面である必要はない。
 本実施の形態において、保護層34Gの表面340、つまり、センサ部3Gの表面300が不規則な凹凸を有する粗面であることによって、センサ部3Gの比表面積が大きくなり、測定対象に対するセンサ部3Gの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)が大きくなる。これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.8.2 効果等]
 以上述べたように、センサ部3Gは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。センサ部3Gの表面300は、粗面を含む。この構成は、センサ部3Gの表面300が平坦である場合に比べれば、センサ部3Gの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Dの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 センサ部3Gにおいて、センサ部3Gの表面300の凹凸形状の表面は粗面である。この構成は、センサ部3Gの比表面積及び測定対象に対するセンサ部3Gの表面300の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.9 実施の形態9]
 [1.9.1 構成]
 図38は、実施の形態9にかかる測定器10Hのヘッド部21Cの構成例の概略斜視図である。測定器10Hは、測定器10Cと同様に、静電容量式の水分測定器である。測定器10Hは、静電容量センサ1Cと、ハンドヘルド筐体2Cとを備える。
 ハンドヘルド筐体2Cは、静電容量センサ1Cを収容する。ハンドヘルド筐体2Cは、ヘッド部21Cを備える。図38では図示が省略されているが、ハンドヘルド筐体2Cは、図1のハンドヘルド筐体2と同様に、グリップ部22と、プローブ部23とを備える。
 静電容量センサ1Cは、静電容量に基づいて測定対象の水分量を求める。静電容量センサ1Cは、センサ部3Cを備える。静電容量センサ1Cは、図2の静電容量センサ1と同様に、静電容量検知回路4と、処理回路5とを備える。
 本実施の形態では、少なくともセンサ部3Cが、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Cの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Cの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Cの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。
 図38のセンサ部3Cの表面300は、ヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出する。これによって、測定器10Hの接触領域100を測定対象に接触させた場合に、センサ部3Cの表面300が測定対象に十分に接触しやすくなり、測定器10Hの測定のばらつきが抑制され、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。特に、センサ部3Cの表面300がヘッド部21Cの枠状領域200に対して凹没するよりも、センサ部3Cの表面300がヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出するほうが、センサ部3Cが測定対象に接触しやすくなる。センサ部3Cの表面300がヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出するから、冬場の低湿度環境等の静電気の発生しやすい状態でセンサ部3Cが帯電しても、センサ部3Cに帯電した静電気が効果的に放電され得る。そのため、センサ部3Cの帯電による測定結果のばらつきが抑制され、これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。この場合において、センサ部3Cの表面300の面積が1mm以上であると、静電気が更に効果的に放電され得る。
 本実施の形態においては、センサ部3Cの表面300の全部が、ヘッド部21Cの枠状領域200から突出する。したがって、グリップ力を得ながら、センサ部3Cが全面的に測定対象に接触する。結果として、センサ部3Cで検出する信号(静電容量の変化)が大きくなる。これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。センサ部3Cの表面300の全部が、ヘッド部21Cの枠状領域200から突出するから、センサ部3Cに帯電する静電気がより効果的に放電される。その結果、センサ部3Cの帯電による測定結果のばらつきが抑制され、これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 図38の測定器10Hでは、センサ高さH1は、5μm以上1mm以下である。センサ高さH1が5μm以上であることで、センサ高さH1が5μm未満である場合に比べて、測定器10Hの測定のばらつきが抑制され得る。センサ高さH1が1mm以下であることで、センサ高さH1が1mmより大きい場合に比べて、センサ部3Cの測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかる可能性を低減し得る。センサ部3Cの測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかると、測定対象が人である場合に、痛みを感じる可能性がある。
 図38のセンサ高さH1は、センサ部3Cの表面300と、ヘッド部21Cの枠状領域200を含む所定平面との間の距離で規定される。センサ部3Cにおいては、図28及び図29に示すように、センサ部3Cの表面300は凹凸形状である。ここで、保護層34Cの厚みは非常に薄い。そのため、センサ部3Cのセンサ基板33の第1面33aと所定平面との間の距離を、センサ部3Cの表面300と所定平面との間の距離、すなわち、センサ高さH1として用いることができる。これによって、センサ部3Cの表面300の形状によらずに、センサ高さH1の設定が可能となる。
 [1.9.2 効果等]
 以上述べた測定器10Hにおいて、センサ部3Cは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。ヘッド部21Cは、センサ部3Cの表面300を囲う枠状領域200を有する。センサ部3Cの表面300の少なくとも一部は、ヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出する。この構成は、センサ部3Cの表面300の少なくとも一部がヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出も凹没もしない場合に比べれば、センサ部3Cの測定対象に対する密着性が向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。この構成は、センサ部3Cに帯電する静電気が効果的に放電されるために、センサ部3Cの帯電による測定結果のばらつきが抑制され、これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 測定器10Hにおいて、センサ部3Cの表面300の全部は、ヘッド部21Cの枠状領域200から突出する。この構成は、センサ部3Cの測定対象に対する密着性が更に向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。この構成は、センサ部3Cに帯電する静電気がより効果的に放電されるために、センサ部3Cの帯電による測定結果のばらつきが抑制され、これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 測定器10Hにおいて、センサ部3Cの表面300とヘッド部21Cの枠状領域200を含む所定平面との間の距離(センサ高さH1)は、5μm以上1mm以下である。この構成は、センサ部3Cの測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかる可能性を低減しながら、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.10 実施の形態10]
 [1.10.1 構成]
 図39は、実施の形態10にかかる測定器10Iのヘッド部21Cの構成例の概略斜視図である。測定器10Iは、測定器10Cと同様に、静電容量式の水分測定器である。測定器10Iは、静電容量センサ1Cと、ハンドヘルド筐体2Cとを備える。
 ハンドヘルド筐体2Cは、静電容量センサ1Cを収容する。ハンドヘルド筐体2Cは、ヘッド部21Cを備える。図39では図示が省略されているが、ハンドヘルド筐体2Cは、図1のハンドヘルド筐体2と同様に、グリップ部22と、プローブ部23とを備える。
 静電容量センサ1Cは、静電容量に基づいて測定対象の水分量を求める。静電容量センサ1Cは、センサ部3Cを備える。静電容量センサ1Cは、図2の静電容量センサ1と同様に、静電容量検知回路4と、処理回路5とを備える。
 本実施の形態では、少なくともセンサ部3Cが、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cに位置する。センサ部3Cの表面300は、ハンドヘルド筐体2Cのヘッド部21Cから外部に露出する。センサ部3Cの表面300と、ヘッド部21Cにおけるセンサ部3Cの表面300を囲う枠状領域200とは、測定対象に接触される接触領域100を構成する。
 図39のセンサ部3Cの表面300は、ヘッド部21Cの枠状領域200に対して凹没する。これによって、測定器10Iの接触領域100を測定対象に接触させた場合に、測定対象の一部が変形してヘッド部21Cの枠状領域200で囲まれた空間内に入り込む。これによって、センサ部3Cの表面300が測定対象に十分に接触しやすくなり、測定器10Iの測定のばらつきが抑制され、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。特に、センサ部3Cの表面300がヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出するよりも、センサ部3Cの表面300がヘッド部21Cの枠状領域200に対して凹没するほうが、グリップ力が向上し、センサ部3Cが測定対象に対して固定されやすくなる。
 本実施の形態においては、センサ部3Cの表面300の全部が、ヘッド部21Cの枠状領域200から凹没する。したがって、グリップ力を得ながら、センサ部3Cが全面的に測定対象に接触しやすくなる。結果として、センサ部3Cで検出する信号(静電容量の変化)が大きくなる。これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 図39の測定器10Iでは、センサ高さI1は、5μm以上1mm以下である。センサ高さI1が5μm以上であることで、センサ高さI1が5μm未満である場合に比べて、測定器10Iの測定のばらつきが抑制され得る。センサ高さI1が1mm以下であることで、センサ高さI1が1mmより大きい場合に比べて、センサ部3Cの測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかる可能性を低減し得る。センサ部3Cの測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかると、測定対象が人である場合に、痛みを感じる可能性がある。
 [1.9.2 効果等]
 以上述べた測定器10Iにおいて、センサ部3Cは、ヘッド部21Cから露出する表面300を有する。ヘッド部21Cは、センサ部3Cの表面300を囲う枠状領域200を有する。センサ部3Cの表面300の少なくとも一部は、ヘッド部21Cの枠状領域200に対して凹没する。この構成は、センサ部3Cの表面300の少なくとも一部がヘッド部21Cの枠状領域200に対して突出も凹没もしない場合に比べれば、センサ部3Cの測定対象に対する密着性が向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 測定器10Iにおいて、センサ部3Cの表面300の全部は、ヘッド部21Cの枠状領域200から凹没する。この構成は、センサ部3Cの測定対象に対する密着性が更に向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。
 測定器10Iにおいて、センサ部3Cの表面300とヘッド部21Cの枠状領域200を含む所定平面との間の距離(センサ高さI1)は、5μm以上1mm以下である。この構成は、センサ部3Cの測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかる可能性を低減しながら、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [1.11 実施の形態11]
 [1.11.1 構成]
 図40は、実施の形態11にかかる測定器10Jの構成例の概略図である。図40の測定器10Jは、静電容量式の水分測定器である。測定器10Jは、静電容量センサ1Jと、ハンドヘルド筐体2とを備える。
 静電容量センサ1Jは、静電容量に基づいて測定対象の水分量を求める。静電容量センサ1Jは、センサ部3と、静電容量検知回路4と、処理回路5Jと、荷重検出回路7とを備える。本実施の形態では、センサ部3、静電容量検知回路4及び荷重検出回路7は、ハンドヘルド筐体2のヘッド部21に位置する。本実施の形態では、処理回路5Jは、ハンドヘルド筐体2のグリップ部22に位置する。
 荷重検出回路7は、センサ部3が測定対象から受ける荷重を検出する。荷重検出回路7は、センサ部3が測定対象から受ける荷重それ自体又は当該荷重と相関がある物理量を検出できればよい。荷重検出回路7は、例えば、圧力センサを含んでよい。
 処理回路5Jは、演算回路51Jと、入出力回路52とを備える。
 演算回路51Jは、入出力回路52に接続される。演算回路51Jは、入出力回路52の入力装置により水分量の計測開始の操作がされた場合、静電容量検知回路4に、静電容量の検知のための動作を開始させる。演算回路51Jは、静電容量検知回路4によるコンデンサ30の充放電の時間に基づいてコンデンサ30の静電容量を算出するように構成される。演算回路51Jは、コンデンサ30の静電容量に基づいて測定対象の水分量を求めるように構成される。演算回路51Jは、測定対象の水分量を、入出力回路52の出力装置により表示する。
 ここで、センサ部3と測定対象の接触が不十分である場合には、算出されるコンデンサ30の静電容量の信頼性が低い場合がある。コンデンサ30の静電容量の信頼性が低いと、当然ながら、コンデンサ30の静電容量に基づく演算の結果(測定対象の水分量)の信頼性も低くなる。この観点から、本実施の形態において、演算回路51Jは、センサ部3が測定対象から受ける荷重に応じて、コンデンサの静電容量に基づく演算の結果(測定対象の水分量)を出力するかどうかを決定するように構成される。より詳細には、演算回路51Jは、荷重検出回路7はからセンサ部3が測定対象から受ける荷重を取得すると、センサ部3が測定対象から受ける荷重を所定値と比較する。演算回路51Jは、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値以上である間は、コンデンサの静電容量に基づく演算の結果(測定対象の水分量)を出力する。処理回路5Jは、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値未満である間は、コンデンサの静電容量に基づく演算の結果(測定対象の水分量)を出力しない。所定値は、例えば、2.3gf/mmである。
 このように、処理回路5Jは、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値以上である間は、コンデンサの静電容量に基づく演算の結果(測定対象の水分量)を出力し、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値未満である間は、コンデンサの静電容量に基づく演算の結果(測定対象の水分量)を出力しない。これによって、コンデンサ30の静電容量が信頼できる場合にだけ、演算の結果を出力することができるから、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 本実施の形態において、プローブ部23は、センサ部3が測定対象から受ける荷重に応じて、グリップ部22に対するヘッド部21の位置が変化するように構成される。プローブ部23は、センサ部3が測定対象から受ける荷重が0である場合(無負荷時)においては、ヘッド部21がグリップ部22の長さ方向に対して前側に傾斜するように構成される。プローブ部23は、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値である場合においては、ヘッド部21がグリップ部22の長さ方向に対して平行するように構成される。一例として、プローブ部23は、ばね性を有する材料で形成され得る。
 [1.11.2 効果等]
 以上述べた測定器10Jにおいて、処理回路5Jは、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値以上である間は、コンデンサ30の静電容量に基づく演算の結果を出力し、センサ部3が測定対象から受ける荷重が所定値未満である間は、コンデンサ30の静電容量に基づく演算の結果を出力しない。この構成は、コンデンサ30の静電容量が信頼できる場合にだけ、演算の結果を出力することができるから、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 [2.変形例]
 本開示の実施の形態は、上記実施の形態に限定されない。上記実施の形態は、本開示の課題を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、上記実施の形態の変形例を列挙する。以下に説明する変形例は、適宜組み合わせて適用可能である。
 一変形例において、静電容量検知回路4の第1~第4スイッチS1~S4は必ずしも電界効果トランジスタでなくてもよい。第1~第4スイッチS1~S4は、半導体スイッチであってもよいし、メカニカルスイッチであってもよい。第3スイッチS3及び第4スイッチS4が電界効果トランジスタではなく、ボディダイオードを有していない場合には、式(8)のVf2は、第2補助コンデンサ44bがない場合における充放電回路42を第1状態から第2状態に切り替えた際の第2電極32の電位V2の下限値であり、Vf2の大きさは第2閾値の大きさに等しい。式(9)のVf9は、第1補助コンデンサ44aがない場合における充放電回路42を第2状態から第1状態に切り替えた際の第1電極31の電位V1の下限値であり、Vf1の大きさは第1閾値の大きさに等しい。
 一変形例において、センサ部3,3Bの構造は特に限定されない。センサ部3,3Bは、従来周知の構造を有してよい。水分計の場合には、センサ部3は、第1及び第2電極31,32が測定対象に接触することで第1及び第2電極31,32が測定対象の一部とともにコンデンサ30を形成するように構成されるとよい。咬合力計の場合、センサ部3Bは、圧力が加わることで変形する変形部35Bを備え、第1及び第2電極31B,32Bが変形部35Bとともにコンデンサ30Bを形成するように構成されるとよい。
 実施の形態では、静電容量は周期Tに基づいて算出したがこれに限らず、インピーダンス測定などで測定してもよい。静電容量は総容量に限らず、補助コンデンサのみ測定、算出を行ってもよい。
 また、測定器の起動時の条件を一定にするため、起動前にコンデンサの電荷を放電させる動作を行ってから測定を開始しても良い。これに限らず、コンデンサを満充電にしてから測定しても良い。起動時のコンデンサに蓄えられた電荷がばらつくと測定結果に悪影響を与える可能性がある。そして、起動時の電荷を一定条件にすることにより、悪影響を低減し、測定の精度を向上させることが可能である。
 実施の形態4,6において、保護層34Cの表面340の凸領域341及び凹領域342は、センサ基板33の第1面33aの電極部311,321に関係なく配置されてよい。実施の形態5,7において、保護層34Dの表面340の凸領域341及び凹領域342は、センサ基板33の第1面33aの電極部311,321に関係なく配置されてよい。
 一変形例において、ヘッド部21Cの枠状領域200は、凹凸形状又は不規則な凹凸を有する粗面を有してよい。この場合、センサ部3Cの表面300は平坦であってよい。すなわち、接触領域100が凹凸形状或いは不規則な凹凸を有する粗面又はその両方を有していればよく、センサ部3Cの表面300が凹凸形状或いは不規則な凹凸を有する粗面又はその両方を有することは必須ではない。なお、測定器10Cの使用時には、ヘッド部21Cは保護用の樹脂フィルムで覆われることがある。凹凸形状或いは不規則な凹凸を有する粗面は、このような樹脂フィルムの上からでも機能する程度の寸法形状であることが望ましい。
 実施の形態9,10において、センサ部3Cの代わりに、センサ部3,3D-3Gのいずれかを採用してもよい。実施の形態9において、センサ部3Cの表面300は、曲面状(凸面状)であってよい。これによって、センサ部3Cの表面300の全部ではなく一部が、ヘッド部21Cの枠状領域200から突出してよい。実施の形態10において、センサ部3Cの表面300は、曲面状(凹面状)であってよい。これによって、センサ部3Cの表面300の全部ではなく一部が、ヘッド部21Cの枠状領域200から凹没してよい。センサ部3Cの表面300の形状は、センサ部3Cの表面300の全部又は一部をヘッド部21Cの枠状領域200に対してどの程度突出又は凹没させるかによって、適宜設定され得る。
 実施の形態11において、センサ部3の代わりに、センサ部3B-3Gのいずれかを採用してもよい。
 [3.態様]
 上記実施の形態及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。以下では、実施の形態との対応関係を明示するためだけに、符号を括弧付きで付している。なお、文章の見やすさを考慮して2回目以降の括弧付きの符号の記載を省略する場合がある。
 第1の態様は、静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)であって、コンデンサ(30)を構成する第1電極(31)及び第2電極(32)を有するセンサ部(3;3B)と、前記センサ部(3;3B~3G)に接続される静電容量検知回路(4;4A)とを備える。前記静電容量検知回路(4;4A)は、前記第1電極(31)及び前記第2電極(32)に接続され、前記コンデンサ(30)を充放電させるための充放電回路(42)と、前記コンデンサ(30)が充放電を繰り返すように前記充放電回路(42)を制御する制御回路(43)と、前記コンデンサ(30)と並列となるように前記第1電極(31)に接続される第1補助コンデンサ(44a)と、前記コンデンサ(30)と並列となるように前記第2電極(32)に接続される第2補助コンデンサ(44b)との少なくとも一方を有する補助容量回路(44;44A)とを備える。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第2の態様は、第1の態様に基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第2の態様において、前記補助容量回路(44)は、前記第1補助コンデンサ(44a)と前記第2補助コンデンサ(44b)とを有する。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第3の態様は、第2の態様に基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第3の態様において、前記第1補助コンデンサ(44a)の静電容量と前記第2補助コンデンサ(44b)の静電容量とは等しい。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第4の態様は、第2の態様に基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第4の態様において、前記第1補助コンデンサ(44a)の静電容量と前記第2補助コンデンサ(44b)の静電容量とが異なる。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第5の態様は、第1~第4の態様のいずれか一つに基づく静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)である。第5の態様において、前記充放電回路(42)は、前記第1電極(31)に一定の出力電流を供給する第1状態と、前記第2電極(32)に一定の出力電流を供給する第2状態と、が相補的に切り替え可能に構成される。前記制御回路(43)は、前記充放電回路(42)が前記第1状態である場合に前記第1電極(31)の電位が第1閾値に達すると前記充放電回路(42)を前記第1状態から前記第2状態に切り替えるように構成される。前記制御回路(43)は、前記充放電回路(42)が前記第2状態である場合に前記第2電極(32)の電位が第2閾値に達すると前記充放電回路(42)を前記第2状態から前記第1状態に切り替えるように構成される。この態様は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 第6の態様は、第5の態様に基づく静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)である。第6の態様において、前記第1閾値と前記第2閾値とは等しい。この態様は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 第7の態様は、第5又は第6の態様に基づく静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)である。第7の態様において、前記充放電回路(42)は、電源(Iin)に接続される電源端子(41a)と基準電位(Vg)に接続される基準電位端子(41b)との間に接続され、第1スイッチ(S1)、第2スイッチ(S2)、第3スイッチ(S3)及び第4スイッチ(S4)を有する。前記第1スイッチ(S1)と前記第3スイッチ(S3)は、直列回路を構成する。前記第1スイッチ(S1)と前記第3スイッチ(S3)の直列回路は、前記第1スイッチ(S1)が前記電源端子(41a)、前記第3スイッチ(S3)が前記基準電位端子(41b)に接続されるように、前記電源端子(41a)と前記基準電位端子(41b)との間にある。前記第1スイッチ(S1)と前記第3スイッチ(S3)との接続点が前記第1電極(31)に接続される。前記第2スイッチ(S2)と前記第4スイッチ(S4)は、直列回路を構成する。前記第2スイッチ(S2)と前記第4スイッチ(S4)の直列回路は、前記第2スイッチ(S2)が前記電源端子(41a)、前記第4スイッチ(S4)が前記基準電位端子(41b)に接続され、かつ、前記第1スイッチ(S1)と前記第3スイッチ(S3)との直列回路に並列に接続されるように、前記電源端子(41a)と前記基準電位端子(41b)との間にある。前記第2スイッチ(S2)と前記第4スイッチ(S4)との接続点が前記第2電極(32)に接続される。前記第1状態では、前記第1及び第4スイッチ(S4)がオン、前記第2及び第3スイッチ(S3)がオフとなる。前記第2状態では、前記第1及び第4スイッチ(S4)がオフ、前記第2及び第3スイッチ(S3)がオンとなる。この態様は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 第8の態様は、第7の態様に基づく静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)である。第8の態様において、前記第1補助コンデンサ(44a)が前記第3スイッチ(S3)に並列となるように、前記第1補助コンデンサ(44a)の第1端が前記第1電極(31)に接続されるとともに、前記第1補助コンデンサ(44a)の第2端が前記基準電位端子(41b)に接続される。前記第2補助コンデンサ(44b)が前記第4スイッチ(S4)に並列となるように、前記第2補助コンデンサ(44b)の第1端が前記第2電極(32)に接続されるとともに、前記第2補助コンデンサ(44b)の第2端が前記基準電位端子(41b)に接続される。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第9の態様は、第8の態に基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第9の態様において、前記静電容量検知回路(4)は、次式を満たす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000021
 Ceは、前記コンデンサ(30)の静電容量である。Cg1は、前記第1補助コンデンサ(44a)の静電容量である。Cg2は、前記第2補助コンデンサ(44b)の静電容量である。Vth1は、前記第1閾値である。Vth2は、前記第2閾値である。Vf1は、前記第1補助コンデンサ(44a)がない場合における前記充放電回路(42)を前記第2状態から前記第1状態に切り替えた際の前記第1電極(31)の電位の下限値である。Vf2は、前記第2補助コンデンサ(44b)がない場合における前記充放電回路(42)を前記第1状態から前記第2状態に切り替えた際の前記第2電極(32)の電位の下限値である。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第10の態様は、第9の態様に基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第10の態様において、Vf1=Vf2を満たす。この態様は、静電容量検知回路の構成を簡素化できる。
 第11の態様は、第9又は第10の態様に基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第11の態様において、Vf1<0及びVf2<0を満たす。この態様は、静電容量の変化量を大きくでき、静電容量の検知の精度の向上が図れる。
 第12の態様は、第9~第11の態様のいずれか一つに基づく静電容量センサ(1;1B~1G;1J)である。第12の態様において、前記第2スイッチ(S3)と前記第4スイッチ(S4)の各々は、電界効果トランジスタである。Vf1は、前記第2スイッチ(S3)のボディダイオードの閾値電圧で決まる。Vf2は、前記第4スイッチ(S4)のボディダイオードの閾値電圧で決まる。この態様は、静電容量検知回路の小型化及び第1状態と第2状態との切り替えの高速化が図れる。
 第13の態様は、第1~第12の態様のいずれか一つに基づく静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)である。第13の態様において、前記センサ部(3;3B~3G)は、前記第1電極(31)及び前記第2電極(32)が配置されるセンサ基板(33)を有する。前記充放電回路(42)は、前記センサ基板(33)とは別の回路基板(4a)に配置される。前記補助容量回路(44;44A)は、前記センサ基板(33)と前記回路基板(4a)との間で、かつ、前記センサ基板(33)よりも前記回路基板(4a)に近い位置に配置される。この態様は、センサ部の第1電極及び第2電極からの浮遊容量の影響を低減することができる。
 第14の態様は、第1~第13の態様のいずれか一つに基づく静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)である。第14の態様において、前記静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)は、前記静電容量検知回路(4;4A)による前記コンデンサ(30)の充放電の時間に基づいて前記コンデンサ(30)の静電容量を算出する処理回路(5;5B;5J)をさらに備える。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第15の態様は、測定器(10;10B;~10J)であって、第1~第13の態様のいずれか一つに基づく静電容量センサ(1;1A:1B~1G;1J)と、前記静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)を収容するハンドヘルド筐体(2;2B;2C)とを備える。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第16の態様は、第15の態様に基づく測定器(10;10B~10J)である。第16の態様において、前記静電容量センサ(1;1A;1B~1G;1J)は、前記静電容量検知回路(4;4A)による前記コンデンサ(30)の充放電の時間に基づいて前記コンデンサ(30)の静電容量を算出する処理回路(5;5B;5J)をさらに備える。この態様は、静電容量の検知に対する浮遊容量の影響を低減できる。
 第17の態様は、第16の態様に基づく測定器(10;10B~10J)である。第17の態様において、前記ハンドヘルド筐体(2;2B;2C)は、前記ハンドヘルド筐体(2;2B;2C)の第1端に配置されるとともに測定対象に接触されるヘッド部(21;21B;21C)と、前記ハンドヘルド筐体(2;2B;2C)の第2端に配置されるとともに手で握られるグリップ部(22;22B)と、前記ヘッド部(21;21B;21C)と前記グリップ部(22;22B)とを結合するプローブ部(23)とを含む。前記センサ部(3;3B~3G)は、前記ヘッド部(21;21B;21C)に位置する。前記静電容量検知回路(4)は、前記ヘッド部(21;21B;21C)又は前記プローブ部(23)に位置する。前記処理回路(5;5B;5J)は、前記グリップ部(22;22B)に位置する。この態様は、グリップ部で生じる浮遊容量の影響を低減できる。
 第18の態様は、第17の態様に基づく測定器(10;10B~10J)である。第18の態様において、前記グリップ部(22;22B)は、前記グリップ部(22;22B)の表面に露出する導電部(221;221B)を有する。前記導電部(221;221B)は、前記処理回路(5;5B;5J)の基準電位(Vg)に接続される。この態様は、測定器を持つ人側での浮遊容量の影響のばらつきを低減できる。
 第19の態様は、第16~第18の態様のいずれか一つに基づく測定器(10C)である。第19の態様において、前記センサ部(3C;3D;3E;3F)は、前記ヘッド部(21C)から露出する表面(300)を有する。前記センサ部(3C;3D;3E;3F)の表面(300)は、凹凸形状を有する。この態様は、センサ部の表面が平坦である場合に比べれば、センサ部の比表面積及び測定対象に対するセンサ部の表面の摩擦係数(主に静止摩擦係数)を大きくできて、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 第20の態様は、第17の態様に基づく測定器(10H;10I)である。第20の態様において、前記センサ部(3C)は、前記ヘッド部(21C)から露出する表面(300)を有する。前記ヘッド部(21C)は、前記センサ部(3C)の表面(300)を囲う枠状領域(200)を有する。前記センサ部(3C)の表面(300)の少なくとも一部は、前記ヘッド部(21C)の枠状領域(200)に対して突出又は凹没する。この態様は、センサ部の表面の少なくとも一部がヘッド部の枠状領域に対して突出も凹没もしない場合に比べれば、センサ部の測定対象に対する密着性が向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。この構成は、センサ部3Cに帯電する静電気が効果的に放電されるために、センサ部3Cの帯電による測定結果のばらつきが抑制され、これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 第21の態様は、第20の態様に基づく測定器(10H)である。第21の態様において、前記センサ部(3C)の表面(300)の全部は、前記ヘッド部(21C)の枠状領域(200)から突出する。この態様は、センサ部の測定対象に対する密着性が更に向上するから、測定が安定し、静電容量の検知の精度のさらなる向上が可能になる。この構成は、センサ部3Cに帯電する静電気がより効果的に放電されるために、センサ部3Cの帯電による測定結果のばらつきが抑制され、これによって、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 第22の態様は、第20の態様に基づく測定器(10H;10I)である。第22の態様において、前記センサ部(3C)の表面(300)と前記所定平面との間の距離は、5μm以上1mm以下である。この態様は、センサ部の測定対象との接触時に測定対象に過剰な圧力がかかる可能性を低減しながら、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 第23の態様は、第17の態様に基づく測定器(10J)である。第23の態様において、前記処理回路(5J)は、前記センサ部(3)が前記測定対象から受ける荷重が所定値以上である間は、前記コンデンサ(30)の静電容量に基づく演算の結果を出力し、前記センサ部(3)が前記測定対象から受ける荷重が所定値未満である間は、前記コンデンサ(30)の静電容量に基づく演算の結果を出力しない。この態様は、コンデンサの静電容量が信頼できる場合にだけ、演算の結果を出力することができるから、静電容量の検知の精度の向上が可能になる。
 第24の態様は、第16~第23の態様のいずれか一つに基づく測定器(10;10C~10J)である。第24の態様において、前記センサ部(3;3C~3G)は、前記第1及び第2電極(31,32)が測定対象に接触することで前記第1及び第2電極(31,32)が前記測定対象の一部とともに前記コンデンサ(30)を形成するように構成される。前記処理回路(5;5J)は、前記コンデンサ(30)の静電容量に基づいて前記測定対象の水分量を求めるように構成される。この態様は、測定対象の水分量の測定を可能にする。
 第25の態様は、第24の態様に基づく測定器(10;10C~10J)である。第25の態様において、前記測定対象は、生物である。この態様は、生物の水分量の測定を可能にする。
 第26の態様は、第24又は第25の態様に基づく測定器(10;10C~10J)である。第26の態様において、前記測定対象は、生物の口腔である。この態様は、生物の口腔の水分量の測定を可能にする。
 第27の態様は、第26の態様に基づく測定器(10B)である。第22の態様において、前記センサ部(3B)は、圧力が加わることで変形する変形部(35B)を備える。前記センサ部(3B)は、前記第1及び第2電極(31B,32B)が前記変形部(35B)とともに前記コンデンサ(30B)を形成するように構成される。前記処理回路(5)は、前記コンデンサ(30B)の静電容量に基づいて前記圧力を求めるように構成される。この態様は、圧力の測定を可能にする。特に、圧力は、人が上下顎歯で咬むことで変形部(35B)に与えられてよい。この場合は、人の上下顎歯の咬合力の測定を可能にする。
 上記の第2~第14の態様、及び、第16~第27の態様は必須ではない。
 本開示は、静電容量検知回路、静電容量センサ、及び測定器に適用可能である。具体的には、コンデンサの充放電に基づいて静電容量を検知するための静電容量検知回路、静電容量検知回路を備える静電容量センサ、及び、静電容量センサを備える測定器に、本開示は適用可能である。
  10,10B~10J 測定器
  1,1A,1B~1G,1J 静電容量センサ
  2,2B,2C ハンドヘルド筐体
  21,21B,21C ヘッド部
  22,22B グリップ部
  221,221B 導電部
  23 プローブ部
  3,3B~3G センサ部
  30,30B コンデンサ
  31B 第1電極
  32B 第2電極
  33 センサ基板
  35B 変形部
  4,4A 静電容量検知回路
  41a 電源端子
  41b 基準電位端子
  42 充放電回路
  S1 第1スイッチ
  S2 第2スイッチ
  S3 第3スイッチ
  S4 第4スイッチ
  43 制御回路
  44,44A 補助容量回路
  44a 第1補助コンデンサ
  44b 第2補助コンデンサ
  4a 回路基板
  5,5B,5J 処理回路
  Iin 電源
  Vg 基準電位

Claims (27)

  1.  コンデンサを構成する第1電極及び第2電極を有するセンサ部と、
     前記センサ部に接続される静電容量検知回路と、
     を備え、
     前記静電容量検知回路は、
      前記第1電極と前記第2電極とに接続され、前記コンデンサを充放電させるための充放電回路と、
      前記コンデンサが充放電を繰り返すように前記充放電回路を制御する制御回路と、
      前記コンデンサと並列となるように前記第1電極に接続される第1補助コンデンサと、前記コンデンサと並列となるように前記第2電極に対して接続される第2補助コンデンサと、の少なくとも一方を有する補助容量回路と、
     を備える、
     静電容量センサ。
  2.  前記補助容量回路は、前記第1補助コンデンサと前記第2補助コンデンサとを有する、
     請求項1に記載の静電容量センサ。
  3.  前記第1補助コンデンサの静電容量と前記第2補助コンデンサの静電容量とは等しい、
     請求項2に記載の静電容量センサ。
  4.  前記第1補助コンデンサの静電容量と前記第2補助コンデンサの静電容量とが異なる、
     請求項2に記載の静電容量センサ。
  5.  前記充放電回路は、前記第1電極に一定の出力電流を供給する第1状態と、前記第2電極に一定の出力電流を供給する第2状態と、が相補的に切り替え可能に構成され、
     前記制御回路は、
      前記充放電回路が前記第1状態である場合に前記第1電極の電位が第1閾値に達すると前記充放電回路を前記第1状態から前記第2状態に切り替え、
      前記充放電回路が前記第2状態である場合に前記第2電極の電位が第2閾値に達すると前記充放電回路を前記第2状態から前記第1状態に切り替える、
     ように構成される、
     請求項1に記載の静電容量センサ。
  6.  前記第1閾値と前記第2閾値とは等しい、
     請求項5に記載の静電容量センサ。
  7.  前記充放電回路は、電源に接続される電源端子と基準電位に接続される基準電位端子との間に接続され、第1スイッチ、第2スイッチ、第3スイッチ及び第4スイッチを有し、
     前記第1スイッチと前記第3スイッチは、直列回路を構成し、
     前記第1スイッチと前記第3スイッチの直列回路は、前記第1スイッチが前記電源端子、前記第3スイッチが前記基準電位端子に接続されるように、前記電源端子と前記基準電位端子との間にあり、
     前記第1スイッチと前記第3スイッチとの接続点が前記第1電極に接続され、
     前記第2スイッチと前記第4スイッチは、直列回路を構成し、
     前記第2スイッチと前記第4スイッチの直列回路は、前記第2スイッチが前記電源端子、前記第4スイッチが前記基準電位端子に接続され、かつ、前記第1スイッチと前記第3スイッチの直列回路に並列に接続されるように、前記電源端子と前記基準電位端子との間にあり、
     前記第2スイッチと前記第4スイッチとの接続点が前記第2電極に接続され、
     前記第1状態では、前記第1及び第4スイッチがオン、前記第2及び第3スイッチがオフとなり、
     前記第2状態では、前記第1及び第4スイッチがオフ、前記第2及び第3スイッチがオンとなる、
     請求項5に記載の静電容量センサ。
  8.  前記第1補助コンデンサが前記第3スイッチに並列となるように、前記第1補助コンデンサの第1端が前記第1電極に接続されるとともに、前記第1補助コンデンサの第2端が前記基準電位端子に接続され、
     前記第2補助コンデンサが前記第4スイッチに並列となるように、前記第2補助コンデンサの第1端が前記第2電極に接続されるとともに、前記第2補助コンデンサの第2端が前記基準電位端子に接続される、
     請求項7に記載の静電容量センサ。
  9.  前記静電容量検知回路は、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
     及び、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
     を満たし、
     Ceは、前記コンデンサの静電容量であり、
     Cg1は、前記第1補助コンデンサの静電容量であり、
     Cg2は、前記第2補助コンデンサの静電容量であり、
     Vth1は、前記第1閾値であり、
     Vth2は、前記第2閾値であり、
     Vf1は、前記第1補助コンデンサがない場合における前記充放電回路を前記第2状態から前記第1状態に切り替えた際の前記第1電極の電位の下限値であり、
     Vf2は、前記第2補助コンデンサがない場合における前記充放電回路を前記第1状態から前記第2状態に切り替えた際の前記第2電極の電位の下限値である、
     請求項8に記載の静電容量センサ。
  10.  Vf1=Vf2を満たす、
     請求項9に記載の静電容量センサ。
  11.  Vf1<0及びVf2<0を満たす、
     請求項9に記載の静電容量センサ。
  12.  前記第3スイッチと前記第4スイッチの各々は、電界効果トランジスタであり、
     Vf1は、前記第3スイッチのボディダイオードの閾値電圧で決まり、
     Vf2は、前記第4スイッチのボディダイオードの閾値電圧で決まる、
     請求項9に記載の静電容量センサ。
  13.  前記センサ部は、前記第1電極及び前記第2電極が配置されるセンサ基板を有し、
     前記充放電回路は、前記センサ基板とは別の回路基板に配置され、
     前記補助容量回路は、前記センサ基板と前記回路基板との間で、かつ、前記センサ基板よりも前記回路基板に近い位置に配置される、
     請求項1~12のいずれか一つに記載の静電容量センサ。
  14.  前記静電容量検知回路による前記コンデンサの充放電の時間に基づいて前記コンデンサの静電容量を算出する処理回路をさらに備える、
     請求項1~12のいずれか一つに記載の静電容量センサ。
  15.  請求項1~12のいずれか一つに記載の静電容量センサと、
     前記静電容量センサを収容するハンドヘルド筐体と、
     を備える、
     測定器。
  16.  前記静電容量検知回路による前記コンデンサの充放電の時間に基づいて前記コンデンサの静電容量を算出する処理回路をさらに備える、
     請求項15に記載の測定器。
  17.  前記ハンドヘルド筐体は、
     前記ハンドヘルド筐体の第1端に配置されるとともに測定対象に接触されるヘッド部と、
     前記ハンドヘルド筐体の第2端に配置されるとともに手で握られるグリップ部と、
     前記ヘッド部と前記グリップ部とを結合するプローブ部と、
     を含み、
     前記センサ部は、前記ヘッド部に位置し、
     前記静電容量検知回路は、前記ヘッド部又は前記プローブ部に位置し、
     前記処理回路は、前記グリップ部に位置する、
     請求項16に記載の測定器。
  18.  前記グリップ部は、前記グリップ部の表面に露出する導電部を有し、
     前記導電部は、前記処理回路の基準電位に接続される、
     請求項17に記載の測定器。
  19.  前記センサ部は、前記ヘッド部から露出する表面を有し、
     前記センサ部の表面は、凹凸形状を有する、
     請求項17に記載の測定器。
  20.  前記センサ部は、前記ヘッド部から露出する表面を有し、
     前記ヘッド部は、前記センサ部の表面を囲う枠状領域を有し、
     前記センサ部の表面の少なくとも一部は、前記ヘッド部の枠状領域に対して突出又は凹没する、
     請求項17に記載の測定器。
  21.  前記センサ部の表面の全部は、前記ヘッド部の枠状領域から突出する、
     請求項20に記載の測定器。
  22.  前記センサ部の表面と前記枠状領域を含む所定平面との間の距離は、5μm以上1mm以下である、
     請求項20に記載の測定器。
  23.  前記処理回路は、前記センサ部が前記測定対象から受ける荷重が所定値以上である間に、前記コンデンサの静電容量に基づく演算の結果を出力する、
     請求項17に記載の測定器。
  24.  前記センサ部は、前記第1及び第2電極が測定対象に接触することで前記第1及び第2電極が前記測定対象の一部とともに前記コンデンサを形成するように構成され、
     前記処理回路は、前記コンデンサの静電容量に基づいて前記測定対象の水分量を求めるように構成される、
     請求項16に記載の測定器。
  25.  前記測定対象は、生物である、
     請求項24に記載の測定器。
  26.  前記測定対象は、生物の口腔である、
     請求項24に記載の測定器。
  27.  前記センサ部は、圧力が加わることで変形する変形部を備え、
     前記センサ部は、前記第1及び第2電極が前記変形部とともに前記コンデンサを形成するように構成され、
     前記処理回路は、前記コンデンサの静電容量に基づいて前記圧力を測定する、
     請求項26に記載の測定器。
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