WO2022209340A1 - 偏光子および偏光子の製造方法 - Google Patents

偏光子および偏光子の製造方法 Download PDF

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WO2022209340A1
WO2022209340A1 PCT/JP2022/005332 JP2022005332W WO2022209340A1 WO 2022209340 A1 WO2022209340 A1 WO 2022209340A1 JP 2022005332 W JP2022005332 W JP 2022005332W WO 2022209340 A1 WO2022209340 A1 WO 2022209340A1
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polarizer
layer
chemically modified
main surface
liquid crystal
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PCT/JP2022/005332
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English (en)
French (fr)
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優 石▲崎▼
拓実 井ノ原
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日東電工株式会社
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    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12—Chemical modification
    • C08J7/126—Halogenation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements

Definitions

  • the present invention relates to a polarizer and a method for manufacturing a polarizer.
  • Image display devices represented by liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices are rapidly spreading.
  • a polarizing plate is typically used for an image display panel mounted in an image display device.
  • a polarizing plate with a retardation layer, in which a polarizing plate and a retardation plate are integrated, is widely used (for example, Patent Document 1).
  • the polarizer included in the polarizing plate may deteriorate in polarizing performance when the image display device is used for a long time or placed in a harsh environment (for example, high temperature and high humidity environment).
  • decolorization loss of color
  • the present invention has been made to solve the above problems, and its main purpose is to provide a polarizer in which deterioration of polarization performance is suppressed.
  • a polarizer contains iodine and is composed of a resin film having a first principal surface and a second principal surface facing each other, and at least the first principal surface has a chemically modified portion in which the resin film is chemically modified. , the chemically modified portion is more hydrophobic than other portions that are not chemically modified.
  • the chemical modifier comprises a fluorine-containing group.
  • the fluorine containing group comprises a trifluoroacetyl group.
  • the chemically modified portion is chemically modified with trifluoroacetic anhydride.
  • the polarizer has a fluorine content of 20 ⁇ g/g or more.
  • the chemically modified portion has a contact angle of 90° or more.
  • the thickness of the polarizer is 8 ⁇ m or less.
  • a method for manufacturing the polarizer contains iodine and includes chemically modifying at least the first main surface of a resin film having a first main surface and a second main surface facing each other.
  • the chemical modification increases the contact angle of the first main surface by 5° or more.
  • a polarizer is provided. This polarizing plate has the polarizer and at least one of a protective layer and a retardation layer.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizer according to one embodiment of the invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a laminate used for manufacturing a polarizer in one embodiment of the present invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the invention
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the invention
  • refractive index (nx, ny, nz) is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), and "ny” is the in-plane direction orthogonal to the slow axis (i.e., fast axis direction) and "nz” is the refractive index in the thickness direction.
  • In-plane retardation (Re) “Re( ⁇ )” is an in-plane retardation measured at 23° C. with light having a wavelength of ⁇ nm.
  • Re(550) is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C.
  • Thickness direction retardation (Rth) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of ⁇ nm.
  • Rth(550) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of 550 nm.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a polarizer according to one embodiment of the invention. In addition, in FIG. 1, hatching is omitted from the cross section of the polarizer in order to make the drawing easier to see.
  • the polarizer 10 is composed of a resin film having a first major surface 10a and a second major surface 10b facing each other.
  • a first main surface 10a of the polarizer 10 has a chemically modified portion in which a resin film is chemically modified.
  • the chemically modified portion may be formed on at least a portion of the first main surface 10a, and the formation region is not particularly limited, but for example, it is formed over the entire first main surface 10a.
  • the polarizer is composed of a resin film containing iodine.
  • resin film for example, hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films are used.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • partially formalized PVA films partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films are used.
  • the thickness of the polarizer 10 is preferably 15 ⁇ m or less, may be 12 ⁇ m or less, may be 10 ⁇ m or less, or may be 8 ⁇ m or less. On the other hand, the thickness of the polarizer is preferably 1 ⁇ m or more.
  • the polarizer 10 preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength from 380 nm to 780 nm.
  • the single transmittance (Ts) of the polarizer 10 is preferably 41.0% or higher, more preferably 42.0% or higher, and even more preferably 42.5% or higher. On the other hand, the single transmittance of the polarizer 10 is, for example, 44.2% or less.
  • the degree of polarization (P) of the polarizer 10 is preferably 99.95% or higher, more preferably 99.98% or higher, even more preferably 99.99% or higher. On the other hand, the degree of polarization of the polarizer 10 is, for example, 99.996% or less.
  • the single transmittance is typically a Y value measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer and subjected to visibility correction.
  • the degree of polarization is typically obtained by the following formula based on the parallel transmittance Tp and the orthogonal transmittance Tc measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer and subjected to visibility correction.
  • Degree of polarization (%) ⁇ (Tp-Tc)/(Tp+Tc) ⁇ 1/2 ⁇ 100
  • the chemically modified part is more hydrophobic than other parts that are not chemically modified.
  • a chemically modified portion By forming such a chemically modified portion, it is possible to obtain a polarizer (polarizing plate) in which the intrusion of moisture into the polarizer (resin film) is suppressed and the deterioration of the polarizing performance is suppressed.
  • the other parts include not only the surface of the resin film but also the inside of the resin film.
  • the chemically modified portion may be formed on at least one main surface (first main surface 10a), and may be formed on each of the first main surface 10a and the second main surface 10b.
  • a chemically modified portion is formed only on one main surface.
  • chemically modified portions are formed on both main surfaces.
  • the chemically modified portion may or may not be formed on the end face 10c.
  • the chemically modified portion can be formed by chemically modifying the resin film.
  • it can be formed by a modification reaction of the hydroxy groups of the resin film.
  • Modification reactions of hydroxy groups in resin films include, for example, methyl ether, substituted methyl ether, substituted ethyl ether, methoxy-substituted benzyl ether, silyl ether, ester (formate, acetyl, benzoyl), micellized ester, sulfonate, and sulfenate.
  • modifying groups such as acid esters, sulfinic acid esters, carbonates, carbamates, cyclic acetals, cyclic ketals, cyclic orthoesters, silyl derivative groups, cyclic carbonates, cyclic borate esters and the like can be mentioned.
  • the conditions for the modification reaction appropriate conditions can be appropriately adopted depending on the type of modification group and the like.
  • the resin film and the chloride of the modifying group to be substituted are brought into contact with each other at 0° C. to 100° C. for 1 minute to 20 hours in the presence of a catalyst, if necessary, for modification reaction.
  • the above-mentioned chemical modification part is a modification having groups such as alkyl groups, halogeno groups, halogenated alkyl groups, aryl groups, acyl groups, and silyl groups (groups that improve hydrophobicity) on the hydroxy groups of the resin film. It can be formed by reacting agents. Chemical modification is performed by, for example, alkylation, halogenation, acylation (eg, acetylation, esterification), silylation, etherification, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
  • acylating agents used for the above acylation include carboxylic acid anhydrides, carboxylic acid halides, benzoyl halides, esters, amides, and ketene. Specific examples include trifluoroacetic anhydride, acetic anhydride, acetyl chloride, chloroacetic anhydride, chloroacetyl chloride, dichloroacetic anhydride, trichloroacetic anhydride, and benzoyl chloride.
  • silylating agent used for the silylation examples include chlorotrimethylsilane, chlorotriethylsilane, chlorotriisopropylsilane, chlorotriphenylsilane, tert-butyldimethylchlorosilane, dichlorodimethylsilane, dichlorodiethylsilane, dichlorodiisopropylsilane, and the like. chlorosilanes of.
  • amide-based silylating agents such as N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide and N,O-bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide, and amine-based silylating agents such as N-trimethylsilylimidazole are also used. be able to.
  • etherification agent used for the etherification examples include benzyl bromide, 4-methoxybenzyl chloride, chloromethyl methyl ether, and trityl chloride.
  • the chemical modification moiety has a fluorine-containing group.
  • Groups containing fluorine include, for example, fluoroalkyl groups having one or more fluoro groups, and fluoroacyl groups (eg, trifluoroacetyl group).
  • the chemically modified portion is chemically modified with trifluoroacetic anhydride.
  • the fluorine content of the polarizer is preferably 20 ⁇ g/g or more, more preferably 30 ⁇ g/g or more, still more preferably 40 ⁇ g/g or more.
  • the fluorine content of the polarizer may be, for example, 100 ⁇ g/g or more, 200 ⁇ g/g or more, or 300 ⁇ g/g or more.
  • the fluorine content of the polarizer is, for example, 800 ⁇ g/g or less.
  • the fluorine content of the polarizer is preferably 0.01 ⁇ g/cm 2 or more, more preferably 0.02 ⁇ g/cm 2 or more, still more preferably 0.03 ⁇ g/cm 2 or more.
  • the fluorine content of the polarizer may be, for example, 0.1 ⁇ g/cm 2 or more, 0.2 ⁇ g/cm 2 or more, or 0.3 ⁇ g/cm 2 or more.
  • the fluorine content of the polarizer is, for example, 0.5 ⁇ g/cm 2 or less.
  • the fluorine content can be determined by ion chromatography (IC).
  • the chemically modified portion (main surface having the chemically modified portion) preferably has a ratio of absorbance at 1787 cm -1 to absorbance at 2940 cm -1 exceeding 0.2, more preferably 0, in the FT-IR spectrum measured by ATR. 0.25 or more, more preferably 0.3 or more.
  • the ratio of absorbance at 1787 cm -1 to absorbance at 2940 cm -1 is less than one, for example.
  • the absorption peak near 2940 cm ⁇ 1 is derived from the C—H stretching vibration of the resin film
  • the absorption peak near 1787 cm ⁇ 1 is derived from the C ⁇ O stretching vibration of the trifluoroacetyl group.
  • the contact angle of the chemically modified portion (main surface having the chemically modified portion) is preferably 90° or more, more preferably 92° or more, and still more preferably 94° or more.
  • the contact angle of the chemically modified portion is, for example, 115° or less, and may be 110° or less.
  • the contact angle of the other sites not chemically modified is, for example, 86° or less.
  • the polarizer contains iodine and can be obtained by chemically modifying at least one main surface (first main surface) of a resin film having a first main surface and a second main surface facing each other.
  • first main surface of the resin film is chemically modified while the protective material is placed on the second main surface of the resin film.
  • a laminate of a resin film and a protective material is prepared, and the first main surface of the resin film of this laminate is chemically modified.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a schematic configuration of a laminate used for manufacturing a polarizer in one embodiment of the present invention.
  • a laminate 100 has a resin film 10 and a protective material 1 .
  • the resin film 10 has a first main surface 10a and a second main surface 10b facing each other, and the protective material 1 is arranged on the second main surface 10b of the resin film 10 .
  • the resin film contained in the laminate can be produced by any appropriate method.
  • hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films are added with iodine, dichroic dyes, and the like. It is produced by a method including dyeing with a dichroic material and stretching. The method may further include an insolubilization treatment, a swelling treatment, a cross-linking treatment, and the like. Since such a manufacturing method is well known and commonly used in the industry, detailed description thereof will be omitted.
  • the resin film contained in the laminate is produced using a laminate of a resin substrate and a resin layer (typically, a PVA-based resin layer).
  • a PVA-based resin solution is applied to a resin substrate and dried to form a PVA-based resin layer on the resin substrate to obtain a laminate of the resin substrate and the PVA-based resin layer; stretching and dyeing;
  • a PVA-based resin layer containing a halide and a PVA-based resin is formed on one side of the resin substrate.
  • Stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution for stretching.
  • stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (eg, 95° C.
  • the laminate is preferably subjected to drying shrinkage treatment in which the laminate is heated while being conveyed in the longitudinal direction to shrink the laminate by 2% or more in the width direction.
  • the manufacturing method of the present embodiment includes subjecting the laminate to an in-air auxiliary stretching treatment, a dyeing treatment, an underwater stretching treatment, and a drying shrinkage treatment in this order.
  • the resin substrate may be used as it is as a protective layer of the resulting polarizer, or may be peeled off from the laminate of the resin substrate/PVA-based resin layer. Details of the method for producing such a resin film (polarizer) are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455. These publications are incorporated herein by reference in their entireties.
  • any appropriate member for example, film, layer
  • the resin base material can be used as a protective material.
  • the protective material at least one of a protective layer of a polarizer and a retardation layer, which will be described later, may be used.
  • the protective material can be laminated to the resin film via an adhesive or adhesive.
  • the chemical modification can be carried out by any appropriate method depending on, for example, the properties of the modifying agent used.
  • a gas phase reaction Specifically, it can be carried out by placing the resin film (laminate) in an atmosphere containing a vaporized modifier.
  • the reaction time is, for example, 30 seconds to 60 minutes.
  • a liquid phase reaction Specifically, a reaction liquid containing a modifying agent may be applied to the main surface (first main surface 10a) of the resin film, or the resin film (laminate) may be coated on the reaction liquid containing the modifying agent. may be immersed.
  • the immersion time is, for example, 10 seconds to 5 minutes.
  • the contact angle of the treated surface (first main surface) it is preferable to increase the contact angle of the treated surface (first main surface) by 5° or more, more preferably 7° or more, and still more preferably 10° or more by chemical modification.
  • By performing such a treatment it is possible to effectively suppress the intrusion of moisture into the obtained polarizer, and to obtain a polarizer (polarizing plate) in which deterioration of polarizing performance is suppressed.
  • Polarizing Plate A polarizing plate according to an embodiment of the present invention has the polarizer described above. Typically, it has the polarizer and at least one of a protective layer and a retardation layer. Polarizing plates according to embodiments of the present invention are typically used in image display panels. Specifically, it is arranged on the viewing side of the image display panel main body.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a polarizing plate according to one embodiment of the present invention.
  • the polarizing plate 200 includes a polarizer 10, a first protective layer 21 arranged on the first main surface 10a side (viewing side) of the polarizer 10, and an adhesive layer 21 arranged on the second main surface 10b side of the polarizer 10. It has an agent layer 40 and a release film 50 . At least the first main surface 10a of the polarizer 10 is formed with the chemically modified portion. In the image display panel, by arranging the first main surface 10a having the chemically modified portion on the viewing side, it is possible to effectively suppress deterioration of the polarization performance due to the influence of the external environment.
  • the adhesive layer 40 and the release film 50 are arranged on the first main surface 10a side having the chemically modified portion, and the first protective layer 21 is arranged on the second main surface 10b side (viewing side). may have been
  • the release film 50 is detachably attached to the adhesive layer 40 and can protect the adhesive layer 40 .
  • the polarizing plate 200 can be formed into a roll. Practically, the polarizing plate 200 can be attached to the image display panel main body by the adhesive layer 40 .
  • the release film 50 can function as a separator that is temporarily attached until the polarizing plate 200 is ready for use.
  • a second protective layer may be arranged between the polarizer 10 and the adhesive layer 40.
  • the polarizing plate may have a retardation layer. Specifically, it may be a polarizing plate with a retardation layer. A retardation layer is arranged, for example, between the polarizer 10 and the adhesive layer 40 .
  • Each member constituting the polarizing plate can be laminated via any appropriate adhesive layer (some of which are not shown).
  • Specific examples of the adhesive layer include an adhesive layer and an adhesive layer.
  • the polarizing plate may be elongated or sheet-shaped.
  • the term "elongated” refers to an elongated shape whose length is sufficiently longer than its width, for example, an elongated shape whose length is 10 times or more, preferably 20 times or more, its width.
  • the elongated retardation layer polarizing plate can be wound into a roll.
  • the protective layer can be formed of any suitable film that can be used as a protective layer for a polarizer.
  • the material that is the main component of the film include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, and polysulfone-based resins.
  • TAC triacetyl cellulose
  • polyester-based polyvinyl alcohol-based
  • polycarbonate-based polyamide-based
  • polyimide-based polyimide-based
  • polyethersulfone-based polysulfone-based resins.
  • polystyrene cycloolefin such as polynorbornene, polyolefin, (meth)acrylic, and acetate.
  • the polarizing plate is typically arranged on the viewing side of the image display device, and the first protective layer 21 is arranged on the viewing side. Therefore, the first protective layer 21 may be subjected to surface treatment such as hard coat (HC) treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, anti-glare treatment, etc., if necessary.
  • surface treatment such as hard coat (HC) treatment, anti-reflection treatment, anti-sticking treatment, anti-glare treatment, etc.
  • the thickness of the protective layer is preferably 5 ⁇ m to 80 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 40 ⁇ m, still more preferably 15 ⁇ m to 35 ⁇ m.
  • the thickness of the 1st protective layer 21 is thickness including the thickness of a surface treatment layer.
  • the second protective layer is preferably optically isotropic in one embodiment.
  • “optically isotropic” means that the in-plane retardation Re (550) is 0 nm to 10 nm and the thickness direction retardation Rth (550) is ⁇ 10 nm to +10 nm.
  • the thickness of the second protective layer is preferably 5 ⁇ m to 80 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 40 ⁇ m, still more preferably 10 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the thickness of the adhesive layer 40 is preferably 10 ⁇ m to 20 ⁇ m. Any appropriate configuration can be adopted as the adhesive that constitutes the adhesive layer 40 . Specific examples include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, and polyether adhesives. By adjusting the type, number, combination and compounding ratio of the monomers forming the base resin of the adhesive, as well as the compounding amount of the cross-linking agent, the reaction temperature, the reaction time, etc., an adhesive having desired properties according to the purpose. can be prepared.
  • the base resin of the adhesive may be used alone or in combination of two or more.
  • the base resin is preferably an acrylic resin (specifically, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably composed of an acrylic pressure-sensitive adhesive).
  • the release film may be composed of any suitable plastic film.
  • plastic films include polyethylene terephthalate (PET) films, polyethylene films, and polypropylene films.
  • PET polyethylene terephthalate
  • a release film can function as a separator.
  • a plastic film whose surface is coated with a release agent is preferably used as the release film.
  • release agents include silicone-based release agents, fluorine-based release agents, and long-chain alkyl acrylate-based release agents.
  • the thickness of the release film is preferably 20 ⁇ m to 80 ⁇ m, more preferably 35 ⁇ m to 55 ⁇ m.
  • the retardation layer may have a laminated structure of two or more layers, or may be a single layer.
  • the thickness of the retardation layer is, for example, 1 ⁇ m or more and 50 ⁇ m or less, depending on its configuration (whether it is a single layer or has a laminated structure). In one embodiment, the thickness of the retardation layer is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 8 ⁇ m or less, and even more preferably 6 ⁇ m or less.
  • the "thickness of the retardation layer” means the total thickness of each retardation layer. Specifically, the "thickness of the retardation layer" does not include the thickness of the adhesive layer.
  • an alignment fixed layer (liquid crystal alignment fixed layer) of a liquid crystal compound is preferably used.
  • a liquid crystal compound for example, the difference between nx and ny in the resulting retardation layer can be significantly increased compared to a non-liquid crystal material. thickness can be significantly reduced. Therefore, it is possible to realize a remarkable thinning of the polarizing plate with the retardation layer.
  • the term "fixed alignment layer” refers to a layer in which a liquid crystal compound is aligned in a predetermined direction and the alignment state is fixed.
  • the "alignment fixed layer” is a concept including an alignment cured layer obtained by curing a liquid crystal monomer as described later.
  • rod-shaped liquid crystal compounds are typically aligned in the slow axis direction of the retardation layer (homogeneous alignment).
  • the liquid crystal alignment fixed layer is formed by subjecting the surface of a predetermined base material to an alignment treatment, coating the surface with a coating liquid containing a liquid crystal compound, and orienting the liquid crystal compound in a direction corresponding to the alignment treatment. It can be formed by fixing the orientation state. Any appropriate orientation treatment can be adopted as the orientation treatment. Specific examples include mechanical orientation treatment, physical orientation treatment, and chemical orientation treatment. Specific examples of mechanical orientation treatment include rubbing treatment and stretching treatment. Specific examples of physical orientation treatment include magnetic orientation treatment and electric field orientation treatment. Specific examples of chemical alignment treatment include oblique vapor deposition and photo-alignment treatment. Arbitrary appropriate conditions can be adopted as the processing conditions for various alignment treatments depending on the purpose.
  • the alignment of the liquid crystal compound is performed by processing at a temperature that exhibits a liquid crystal phase depending on the type of liquid crystal compound. By performing such a temperature treatment, the liquid crystal compound assumes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is aligned in accordance with the orientation treatment direction of the surface of the base material.
  • the alignment state is fixed by cooling the liquid crystal compound aligned as described above.
  • the orientation state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.
  • liquid crystal compound and details of the method for forming the alignment fixed layer are described in JP-A-2006-163343. The description of the publication is incorporated herein by reference.
  • the retardation layer can function as a ⁇ /4 plate.
  • Re(550) of the retardation layer is preferably 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, still more preferably 110 nm to 160 nm.
  • the thickness of the retardation layer can be adjusted so as to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /4 plate.
  • the retardation layer is the liquid crystal alignment fixing layer described above, its thickness is, for example, 1.0 ⁇ m to 2.5 ⁇ m.
  • the angle formed by the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 40 ° to 50 °, more preferably 42 ° to 48 °, still more preferably 44 ° to 46°.
  • the retardation layer preferably exhibits reverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light.
  • the retardation layer can function as a ⁇ /2 plate.
  • Re(550) of the retardation layer is preferably 200 nm to 300 nm, more preferably 230 nm to 290 nm, still more preferably 230 nm to 280 nm.
  • the thickness of the retardation layer can be adjusted so as to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /2 plate.
  • the retardation layer is the liquid crystal alignment fixed layer described above, its thickness is, for example, 2.0 ⁇ m to 4.0 ⁇ m.
  • the angle formed by the slow axis of the retardation layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 10 ° to 20 °, more preferably 12 ° to 18 °, still more preferably 12 ° to 16°.
  • the retardation layer has a laminated structure
  • the retardation layer has a first retardation layer (H layer) and a second retardation layer (Q layer) arranged in this order from the polarizer side. It also has a two-layer laminated structure.
  • the H layer can typically function as a ⁇ /2 plate and the Q layer can typically function as a ⁇ /4 plate.
  • Re(550) of the H layer is preferably 200 nm to 300 nm, more preferably 220 nm to 290 nm, still more preferably 230 nm to 280 nm;
  • Re(550) of the Q layer is preferably It is 100 nm to 180 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, even more preferably 110 nm to 150 nm.
  • the thickness of the H layer can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /2 plate.
  • the H layer is the liquid crystal alignment fixing layer described above, its thickness is, for example, 2.0 ⁇ m to 4.0 ⁇ m.
  • the thickness of the Q layer can be adjusted to obtain the desired in-plane retardation of the ⁇ /4 plate.
  • the Q layer is the liquid crystal alignment fixing layer described above, its thickness is, for example, 1.0 ⁇ m to 2.5 ⁇ m.
  • the angle between the slow axis of the H layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 10° to 20°, more preferably 12° to 18°, still more preferably 12°. ⁇ 16°; the angle formed by the slow axis of the Q layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 70° to 80°, more preferably 72° to 78°, still more preferably 72° ⁇ 76°.
  • each layer (for example, the H layer and the Q layer) may exhibit an inverse dispersion wavelength characteristic in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light, and the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light. It may exhibit a small positive wavelength dispersion characteristic, or may exhibit a flat wavelength dispersion characteristic in which the retardation value hardly changes even with the wavelength of the measurement light.
  • the Nz coefficient of the retardation layer is preferably 0.9 to 1.5, more preferably 0.9 to 1.3.
  • the retardation layer is preferably a liquid crystal alignment fixed layer.
  • the liquid crystal compound include a liquid crystal compound having a nematic liquid crystal phase (nematic liquid crystal).
  • a liquid crystal compound for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. Either lyotropic or thermotropic mechanism may be used to develop the liquid crystallinity of the liquid crystal compound.
  • the liquid crystal polymer and liquid crystal monomer may be used alone or in combination.
  • the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer.
  • the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or cross-linking (that is, curing) the liquid crystal monomer. After aligning the liquid crystal monomers, for example, the alignment state can be fixed by polymerizing or cross-linking the liquid crystal monomers.
  • a polymer is formed by polymerization and a three-dimensional network structure is formed by cross-linking, but these are non-liquid crystalline. Therefore, the formed retardation layer does not undergo a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a change in temperature, which is peculiar to liquid crystalline compounds. As a result, the retardation layer becomes a highly stable retardation layer that is not affected by temperature changes.
  • the temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40°C to 120°C, more preferably 50°C to 100°C, and most preferably 60°C to 90°C.
  • liquid crystal monomer Any appropriate liquid crystal monomer can be adopted as the liquid crystal monomer.
  • polymerizable mesogenic compounds described in JP-T-2002-533742 WO00/37585
  • EP358208 US5211877
  • EP66137 US4388453
  • WO93/22397 EP0261712, DE19504224, DE4408171, and GB2280445
  • Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include LC242 (trade name) available from BASF, E7 (trade name) available from Merck, and LC-Sillicon-CC3767 (trade name) available from Wacker-Chem.
  • a nematic liquid crystal monomer is preferable as the liquid crystal monomer.
  • the details of the ⁇ /4 plate are as described above.
  • the angle between the slow axis of the first retardation layer and the absorption axis of the polarizer is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, still more preferably is 44° to 46°.
  • the first retardation layer preferably exhibits reverse dispersion wavelength characteristics in which the retardation value increases according to the wavelength of the measurement light.
  • the thickness direction retardation Rth (550) of the positive C plate is preferably ⁇ 50 nm to ⁇ 300 nm, more preferably ⁇ 70 nm to ⁇ 250 nm, still more preferably ⁇ 90 nm to ⁇ 200 nm, and particularly preferably is -100 nm to -180 nm.
  • the in-plane retardation Re(550) of the positive C plate is, for example, less than 10 nm.
  • a liquid crystal material (liquid crystal compound) capable of homeotropic alignment may be a liquid crystal monomer or a liquid crystal polymer.
  • Specific examples of the liquid crystal compound and the method for forming the retardation layer include the liquid crystal compound and the method for forming the retardation layer described in [0020] to [0028] of JP-A-2002-333642.
  • the thickness of the second retardation layer is preferably 0.5 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • a polarizing plate according to an embodiment of the present invention can be obtained by laminating each layer on the polarizer. Lamination of each layer is performed, for example, while being transported by rolls (so-called roll-to-roll). Lamination of the protective layer is performed using, for example, an adhesive. Lamination of the retardation layer is typically carried out by transferring the liquid crystal alignment solidified layer formed on the substrate. When the retardation layer has a laminated structure, the respective retardation layers may be sequentially laminated (transferred) to the resin film, or the laminate of the retardation layers may be laminated (transferred) to the resin film. Transfer is performed using, for example, an active energy ray-curable adhesive.
  • the thickness of the active energy ray-curable adhesive after curing is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.4 ⁇ m to 3.0 ⁇ m, and still more preferably 0.6 ⁇ m to 1.5 ⁇ m.
  • thickness is the value measured by the following measuring method.
  • parts and “%” in Examples and Comparative Examples are by weight.
  • ⁇ Thickness> The thickness of 10 ⁇ m or less was measured using a scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd., product name “JSM-7100F”). A thickness exceeding 10 ⁇ m was measured using a digital micrometer (manufactured by Anritsu Co., Ltd., product name “KC-351C”).
  • Example 1 (Production of laminate) As a thermoplastic resin substrate, a long amorphous isophthalic copolymerized polyethylene terephthalate film (thickness: 100 ⁇ m) having a Tg of about 75° C. was used, and one side of this resin substrate was subjected to corona treatment. .
  • Polyvinyl alcohol degree of polymerization: 4,200, degree of saponification: 99.2 mol%) and acetoacetyl-modified PVA (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., trade name "GOSEFIMER”) were mixed at a ratio of 9:1, and 100 parts by weight of PVA-based resin.
  • aqueous PVA solution (coating solution).
  • the above PVA aqueous solution was applied to the corona-treated surface of the resin base material and dried at 60° C. to form a PVA-based resin layer having a thickness of 13 ⁇ m, thereby producing a laminate.
  • the resulting laminate was uniaxially stretched 2.4 times in the machine direction (longitudinal direction) in an oven at 130° C. (in-air auxiliary stretching treatment).
  • the laminate was immersed in an insolubilizing bath (an aqueous boric acid solution obtained by mixing 4 parts by weight of boric acid with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 40° C.
  • the finally obtained polarizer is added to a dyeing bath (iodine aqueous solution obtained by blending iodine and potassium iodide at a weight ratio of 1:7 with respect to 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 30 ° C. It was immersed for 60 seconds while adjusting the concentration so that the single transmittance (Ts) was a desired value (dyeing treatment). Next, it was immersed for 30 seconds in a cross-linking bath at a liquid temperature of 40°C (an aqueous solution of boric acid obtained by blending 3 parts by weight of potassium iodide and 5 parts by weight of boric acid with respect to 100 parts by weight of water).
  • crosslinking treatment After that, while immersing the laminate in an aqueous solution of boric acid (boric acid concentration: 4% by weight, potassium iodide concentration: 5% by weight) at a liquid temperature of 70° C., the laminate was moved vertically (longitudinally) between rolls with different peripheral speeds. Uniaxial stretching was performed so that the stretching ratio was 5.5 times (underwater stretching treatment). After that, the laminate was immersed in a washing bath (aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water) at a liquid temperature of 20° C. (washing treatment).
  • a washing bath aqueous solution obtained by blending 4 parts by weight of potassium iodide with 100 parts by weight of water
  • HC-TAC film (thickness: 32 ⁇ m) was attached as a first protective layer to the chemically modified surface of the resin film (polarizer) via an ultraviolet curable adhesive.
  • the HC-TAC film is a film in which a hard coat (HC) layer (7 ⁇ m in thickness) is formed on a TAC film (25 ⁇ m in thickness), and the TAC film is attached to the resin film side.
  • the resin substrate is peeled off from the resin film, a 20 ⁇ m-thick pressure-sensitive adhesive layer (higher moisture permeability than the HC-TAC film) is formed on the peeled surface, and a separator (PET film, thickness 38 ⁇ m) is attached. rice field.
  • a polarizing plate was obtained.
  • polarizing plate B A pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 23 ⁇ m was formed on the chemically modified surface of the resin film (polarizer), and a separator (PET film, thickness of 38 ⁇ m) was attached.
  • the resin substrate was peeled off from the resin film, and an HC-TAC film (thickness: 32 ⁇ m) was attached as a first protective layer to the peeled surface via an ultraviolet curable adhesive.
  • the HC-TAC film is a film in which a hard coat (HC) layer (7 ⁇ m in thickness) is formed on a TAC film (25 ⁇ m in thickness), and the TAC film is attached to the resin film side.
  • Example 2 A polarizing plate A and a polarizing plate B were obtained in the same manner as in Example 1, except that the laminate was treated according to the following procedure for the chemical modification.
  • Example 3 In the chemical modification, polarizing plate A and polarizing plate B were obtained in the same manner as in Example 2, except that the standing time was set to 30 minutes.
  • Example 1 A polarizing plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the resulting laminate was not chemically modified.
  • Table 1 The values shown in Table 1 are the average values of three measurements. 2. Fluorine content
  • a test piece of 2 cm ⁇ 4 cm (8 cm 2 ) was cut out from the resin film (polarizer) after chemical modification, placed on a ceramic board and weighed, and then a combustion improver was added. . Next, it was combusted using an automatic sample combustor, and the generated gas was collected in 10 mL of the absorbent. The absorption liquid after collection was adjusted to 15 mL with ultrapure water, and the fluorine content was determined by performing an analysis by ion chromatography.
  • the analyzer and measurement conditions are as follows.
  • a polarizer according to an embodiment of the present invention is used, for example, in image display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, and inorganic EL display devices.

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Abstract

偏光性能の低下が抑制された偏光子を提供する。本発明の実施形態による偏光子は、ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する樹脂フィルムから構成され、少なくとも前記第一主面に前記樹脂フィルムが化学修飾された化学修飾部を有し、前記化学修飾部は、化学修飾されていない他の部位よりも疎水性が高い。

Description

偏光子および偏光子の製造方法
　本発明は、偏光子および偏光子の製造方法に関する。
　液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置に搭載される画像表示パネルには、代表的には、偏光板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている（例えば、特許文献１）。しかし、偏光板に含まれる偏光子は、画像表示装置の長時間の使用や過酷な環境下（例えば、高温、高湿環境下）に置かれることにより、偏光性能が低下する場合がある。偏光性能の低下の一因として、例えば、脱色（色抜け）が考えられる。
特許第３３２５５６０号公報
　本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、偏光性能の低下が抑制された偏光子を提供することにある。
　本発明の実施形態によれば、偏光子が提供される。この偏光子は、ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する樹脂フィルムから構成され、少なくとも前記第一主面に前記樹脂フィルムが化学修飾された化学修飾部を有し、前記化学修飾部は、化学修飾されていない他の部位よりも疎水性が高い。
　１つの実施形態においては、上記化学修飾部はフッ素を含む基を含む。
　１つの実施形態においては、上記フッ素を含む基はトリフルオロアセチル基を含む。
　１つの実施形態においては、上記化学修飾部は無水トリフルオロ酢酸により化学修飾されている。
　１つの実施形態においては、上記偏光子のフッ素含有量は２０μｇ／ｇ以上である。
　１つの実施形態においては、上記化学修飾部の接触角は９０°以上である。
　１つの実施形態においては、上記偏光子の厚みは８μｍ以下である。
　本発明の別の実施形態によれば、上記偏光子の製造方法が提供される。この製造方法は、ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する樹脂フィルムの少なくとも前記第一主面を化学修飾することを含む。
　１つの実施形態においては、上記化学修飾により上記第一主面の接触角を５°以上上昇させる。
　本発明のさらに別の実施形態によれば、偏光板が提供される。この偏光板は、上記偏光子と、保護層または位相差層の少なくとも一つと、を有する。
　本発明によれば、化学修飾部を形成することにより、偏光性能の低下が抑制された偏光子を得ることができる。
本発明の１つの実施形態による偏光子の模式的な断面図である。 本発明の１つの実施形態における偏光子の製造に用いられる積層物の概略の構成を示す模式的な断面図である。 本発明の１つの実施形態による偏光板の模式的な断面図である。
　以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
（用語および記号の定義）
　本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
　「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
　「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
　「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
　Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
　本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。
Ａ．偏光子
　図１は、本発明の１つの実施形態による偏光子の模式的な断面図である。なお、図１では、図を見やすくするために偏光子の断面は、ハッチングを省略している。偏光子１０は、互いに対向する第一主面１０ａおよび第二主面１０ｂを有する樹脂フィルムから構成される。偏光子１０の第一主面１０ａは、樹脂フィルムが化学修飾された化学修飾部を有する。化学修飾部は、第一主面１０ａの少なくとも一部に形成されていればよく、形成領域は特に限定されないが、例えば、第一主面１０ａの全体に亘って形成される。
　上記偏光子は、ヨウ素を含む樹脂フィルムから構成される。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムが用いられる。
　偏光子１０の厚みは、好ましくは１５μｍ以下であり、１２μｍ以下であってもよく、１０μｍ以下であってもよく、８μｍ以下であってもよい。一方、偏光子の厚みは、好ましくは１μｍ以上である。
　偏光子１０は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子１０の単体透過率（Ｔｓ）は、好ましくは４１．０％以上であり、より好ましくは４２．０％以上であり、さらに好ましくは４２．５％以上である。一方、偏光子１０の単体透過率は、例えば４４．２％以下である。偏光子１０の偏光度（Ｐ）は、好ましくは９９．９５％以上、より好ましくは９９．９８％以上であり、さらに好ましくは９９．９９％以上である。一方、偏光子１０の偏光度は、例えば９９．９９６％以下である。
　上記単体透過率は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定し、視感度補正を行なったＹ値である。上記偏光度は、代表的には、紫外可視分光光度計を用いて測定して視感度補正を行なった平行透過率Ｔｐおよび直交透過率Ｔｃに基づいて、下記式により求められる。
　　　偏光度（％）＝｛（Ｔｐ－Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２×１００
　化学修飾部は、化学修飾されていない他の部位よりも疎水性が高い。このような化学修飾部を形成することにより、偏光子（樹脂フィルム）内への水分の侵入を抑制して、偏光性能の低下が抑制された偏光子（偏光板）を得ることができる。なお、他の部位には、樹脂フィルム表面だけでなく、樹脂フィルム内部も含まれる。
　化学修飾部は少なくとも一方の主面（第一主面１０ａ）に形成されていればよく、第一主面１０ａおよび第二主面１０ｂのそれぞれに形成されていてもよい。１つの実施形態においては、例えば、製造工程を簡略化する観点から、一方の主面にのみ化学修飾部を形成する。別の実施形態においては、効果的に偏光性能の低下を抑制する観点から、いずれの主面にも化学修飾部を形成する。また、端面１０ｃには、化学修飾部は形成されていてもよいし、形成されていなくてもよい。
　化学修飾部は、樹脂フィルムを化学修飾することにより形成され得る。例えば、樹脂フィルムのヒドロキシ基の修飾反応により形成され得る。樹脂フィルムのヒドロキシ基の修飾反応は、例えば、メチルエーテル、置換メチルエーテル、置換エチルエーテル、メトキシ置換ベンジルエーテル、シリルエーテル、エステル（ギ酸エステル、アセチル、ベンゾイル）、ミセル化エステル、スルホン酸エステル、スルフェン酸エステル、スルフィン酸エステル、カーボネート、カーバメート、環状アセタール、環状ケタール、環状オルトエステル、シリル誘導体基、環状カーボネート、環状ホウ酸エステル等の修飾基による置換が挙げられる。修飾反応の条件は、修飾基の種類等に応じて、適宜、適切な条件が採用され得る。例えば、樹脂フィルムと置換する修飾基の塩化物とを、必要に応じて触媒の存在下、０℃から１００℃で１分から２０時間、接触させることで修飾反応させる。
　また例えば、上記化学修飾部は、樹脂フィルムのヒドロキシ基に、アルキル基、ハロゲノ基、ハロゲン化アルキル基、アリール基、アシル基、シリル基等の基（疎水性を向上させる基）を有する修飾化剤を反応させることにより形成され得る。化学修飾は、例えば、アルキル化、ハロゲン化、アシル化（例えば、アセチル化、エステル化）、シリル化、エーテル化等により行われる。これらは単独で、または、二種以上組み合わせて用いられ得る。
　上記アシル化に用いられるアシル化剤としては、例えば、カルボン酸無水物、カルボン酸ハロゲン化物、ハロゲン化ベンゾイル、エステル、アミド、ケテンが挙げられる。具体例としては、無水トリフルオロ酢酸、無水酢酸、塩化アセチル、無水クロロ酢酸、塩化クロロアセチル、無水ジクロロ酢酸、無水トリクロロ酢酸、塩化ベンゾイルが挙げられる。
　上記シリル化に用いられるシリル化剤としては、例えば、クロロトリメチルシラン、クロロトリエチルシラン、クロロトリイソプロピルシラン、クロロトリフェニルシラン、ターシャリーブチルジメチルクロロシラン、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラン、ジクロロジイソプロピルシラン等のクロロシラン類が挙げられる。また、シリル化剤として、Ｎ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、Ｎ，Ｏ－ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド等のアミド系シリル化剤、Ｎ－トリメチルシリルイミダゾール等のアミン系シリル化剤等も用いることができる。
　上記エーテル化に用いられるエーテル化剤としては、例えば、臭化ベンジル、４－メトキシベンジルクロリド、クロロメチルメチルエーテル、トリチルクロリドが挙げられる。
　代表的には、上記化学修飾部はフッ素を含む基を有する。フッ素を含む基としては、例えば、一つ以上のフルオロ基を有するフルオロアルキル基、フルオロアシル基（例えば、トリフルオロアセチル基）が挙げられる。具体例としては、化学修飾部は、無水トリフルオロ酢酸により化学修飾されている。偏光子のフッ素含有量は、好ましくは２０μｇ／ｇ以上であり、より好ましくは３０μｇ／ｇ以上であり、さらに好ましくは４０μｇ／ｇ以上である。偏光子のフッ素含有量は、例えば１００μｇ／ｇ以上であってもよく、２００μｇ／ｇ以上であってもよく、３００μｇ／ｇ以上であってもよい。一方、偏光子のフッ素含有量は、例えば８００μｇ／ｇ以下である。また、偏光子のフッ素含有量は、好ましくは０．０１μｇ／ｃｍ２以上であり、より好ましくは０．０２μｇ／ｃｍ２以上であり、さらに好ましくは０．０３μｇ／ｃｍ２以上である。偏光子のフッ素含有量は、例えば０．１μｇ／ｃｍ２以上であってもよく、０．２μｇ／ｃｍ２以上であってもよく、０．３μｇ／ｃｍ２以上であってもよい。一方、偏光子のフッ素含有量は、例えば０．５μｇ／ｃｍ２以下である。なお、フッ素含有量は、イオンクロマトグラフィー（ＩＣ）により求めることができる。
　化学修飾部（化学修飾部を有する主面）は、ＡＴＲ測定によるＦＴ－ＩＲスペクトルにおいて、２９４０ｃｍ－１における吸光度に対する１７８７ｃｍ－１における吸光度の比が０．２を超えることが好ましく、より好ましくは０．２５以上であり、さらに好ましくは０．３以上である。一方、２９４０ｃｍ－１における吸光度に対する１７８７ｃｍ－１における吸光度の比は、例えば１未満である。なお、ＦＴ－ＩＲスペクトルにおいて、２９４０ｃｍ－１付近の吸収ピークは樹脂フィルムのＣ－Ｈ伸縮振動に由来し、１７８７ｃｍ－１付近の吸収ピークはトリフルオロアセチル基のＣ＝Ｏ伸縮振動に由来する。
　化学修飾部（化学修飾部を有する主面）の接触角は、好ましくは９０°以上であり、より好ましくは９２°以上であり、さらに好ましくは９４°以上である。一方、化学修飾部の接触角は、例えば１１５°以下であり、１１０°以下であってもよい。上記化学修飾されていない他の部位の接触角は、例えば８６°以下である。
Ｂ．製造方法
　上記偏光子は、ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する樹脂フィルムの少なくとも一方の主面（第一主面）を化学修飾することにより得ることができる。１つの実施形態においては、樹脂フィルムの第二主面に保護材が配置された状態で、樹脂フィルムの第一主面を化学修飾する。具体的には、樹脂フィルムと保護材との積層物を準備し、この積層物の樹脂フィルムの第一主面を化学修飾する。
Ｂ－１．積層物
　図２は、本発明の１つの実施形態における偏光子の製造に用いられる積層物の概略の構成を示す模式的な断面図である。積層物１００は、樹脂フィルム１０と保護材１を有する。樹脂フィルム１０は互いに対向する第一主面１０ａおよび第二主面１０ｂを有し、樹脂フィルム１０の第二主面１０ｂに保護材１が配置される。
　上記積層物に含まれる樹脂フィルムは、任意の適切な方法で作製され得る。１つの実施形態においては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理と延伸処理とを施すことを含む方法により作製される。当該方法は、不溶化処理、膨潤処理、架橋処理等をさらに含んでいてもよい。このような作製方法は、当業界で周知慣用であるので、詳細な説明は省略する。
　別の実施形態においては、上記積層物に含まれる樹脂フィルムは、樹脂基材と樹脂層（代表的には、ＰＶＡ系樹脂層）との積層体を用いて作製される。例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色すること；により作製され得る。本実施形態においては、好ましくは、樹脂基材の片側に、ハロゲン化物とＰＶＡ系樹脂とを含むＰＶＡ系樹脂層を形成する。延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。加えて、本実施形態においては、好ましくは、積層体は、長手方向に搬送しながら加熱することにより幅方向に２％以上収縮させる乾燥収縮処理に供される。代表的には、本実施形態の製造方法は、積層体に、空中補助延伸処理と染色処理と水中延伸処理と乾燥収縮処理とをこの順に施すことを含む。補助延伸を導入することにより、熱可塑性樹脂基材上にＰＶＡを塗布する場合でも、ＰＶＡの結晶性を高めることが可能となり、高い光学特性を達成し得る。また、同時にＰＶＡの配向性を事前に高めることで、後の染色工程や延伸工程で水に浸漬された時に、ＰＶＡの配向性の低下や溶解などの問題を防止することができ、高い光学特性を達成し得る。さらに、ＰＶＡ系樹脂層を液体に浸漬した場合において、ＰＶＡ系樹脂層がハロゲン化物を含まない場合に比べて、ＰＶＡ分子の配向の乱れ、および配向性の低下が抑制され得、高い光学特性を達成し得る。さらに、乾燥収縮処理により積層体を幅方向に収縮させることにより、高い光学特性を達成し得る。樹脂基材は、得られる偏光子の保護層としてそのまま用いてもよく、樹脂基材／ＰＶＡ系樹脂層の積層体から剥離されてもよい。このような樹脂フィルム（偏光子）の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
　樹脂フィルム１０の第二主面１０ｂに配置される保護材１としては、任意の適切な部材（例えば、フィルム、層）が用いられる。例えば、保護材として、上記樹脂基材を用いることができる。また、保護材として、後述の偏光子の保護層または位相差層の少なくとも一つを用いてもよい。この場合、保護材は、接着剤または粘着剤を介して樹脂フィルムに積層され得る。
Ｂ－２．化学修飾
　上記化学修飾は、例えば、用いる修飾化剤の性質に応じて、任意の適切な方法により行うことができる。例えば、気相反応により行うことができる。具体的には、気化した修飾化剤を含む雰囲気下に上記樹脂フィルム（積層物）を置くことにより行うことができる。気相反応を採用する場合、反応時間は、例えば、３０秒～６０分である。別の例としては、液相反応により行うことができる。具体的には、上記樹脂フィルムの主面（第一主面１０ａ）に修飾化剤を含む反応液を塗工してもよいし、修飾化剤を含む反応液に上記樹脂フィルム（積層物）を浸漬してもよい。浸漬による液相反応を採用する場合、浸漬時間は、例えば、１０秒～５分である。
　例えば、化学修飾により処理面（第一主面）の接触角を５°以上上昇させることが好ましく、より好ましくは７°以上であり、さらに好ましくは１０°以上である。このような処理を施すことにより、得られる偏光子内への水分の侵入を効果的に抑制して、偏光性能の低下が抑制された偏光子（偏光板）を得ることができる。
Ｃ．偏光板
　本発明の実施形態による偏光板は、上記偏光子を有する。代表的には、上記偏光子と、保護層または位相差層の少なくとも一つとを有する。本発明の実施形態による偏光板は、代表的には、画像表示パネルに用いられる。具体的には、画像表示パネル本体の視認側に配置される。
　図３は、本発明の１つの実施形態による偏光板の模式的な断面図である。偏光板２００は、偏光子１０と、偏光子１０の第一主面１０ａ側（視認側）に配置された第一保護層２１と、偏光子１０の第二主面１０ｂ側に配置された粘着剤層４０および剥離フィルム５０を有する。偏光子１０の少なくとも第一主面１０ａには、上記化学修飾部が形成されている。画像表示パネルにおいて、化学修飾部を有する第一主面１０ａが視認側に配置されることにより、外部環境からの影響による偏光性能の低下を効果的に抑制することができる。なお、図示例とは異なり、化学修飾部を有する第一主面１０ａ側に粘着剤層４０および剥離フィルム５０が配置され、第二主面１０ｂ側（視認側）に第一保護層２１が配置されていてもよい。
　剥離フィルム５０は、粘着剤層４０に対して剥離可能に貼り合わせられており、粘着剤層４０を保護し得る。剥離フィルム５０を用いることにより、例えば、偏光板２００のロール形成が可能となる。実用的には、偏光板２００は、粘着剤層４０により、画像表示パネル本体に貼り付け可能とされる。剥離フィルム５０は、偏光板２００が使用に供されるまで仮着されるセパレーターとして機能し得る。
　図示しないが、偏光子１０と粘着剤層４０との間には、第二保護層が配置されていてもよい。また、偏光板は、位相差層を有していてもよい。具体的には、位相差層付偏光板であってもよい。位相差層は、例えば、偏光子１０と粘着剤層４０との間に配置される。
　偏光板を構成する各部材は、任意の適切な接着層（一部は図示せず）を介して積層され得る。接着層の具体例としては、接着剤層、粘着剤層が挙げられる。偏光板は、長尺状であってもよいし、枚葉状であってもよい。ここで、「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状をいい、例えば、幅に対して長さが１０倍以上、好ましくは２０倍以上の細長形状をいう。長尺状の位相差層偏光板は、ロール状に巻回可能である。
Ｃ－１．保護層
　上記保護層は、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成され得る。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂が挙げられる。
　上記偏光板は、代表的には、画像表示装置の視認側に配置され、第一保護層２１は視認側に配置される。したがって、第一保護層２１には、必要に応じて、ハードコート（ＨＣ）処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。
　保護層の厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍ、より好ましくは１０μｍ～４０μｍ、さらに好ましくは１５μｍ～３５μｍである。なお、上記表面処理が施されている場合、第一保護層２１の厚みは、表面処理層の厚みを含めた厚みである。
　上記第二保護層は、１つの実施形態においては、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ～１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－１０ｎｍ～＋１０ｎｍであることをいう。第二保護層の厚みは、好ましくは５μｍ～８０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～４０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ～３０μｍである。
Ｃ－２．粘着剤層
　粘着剤層４０の厚みは、好ましくは１０μｍ～２０μｍである。粘着剤層４０を構成する粘着剤としては、任意の適切な構成が採用され得る。具体例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間等を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤を調製することができる。粘着剤のベース樹脂は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。ベース樹脂は、好ましくはアクリル樹脂である（具体的には、粘着剤層は、好ましくはアクリル系粘着剤で構成される）。
Ｃ－３．剥離フィルム
　上記剥離フィルムは、任意の適切なプラスチックフィルムで構成され得る。プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが挙げられる。剥離フィルムは、セパレーターとして機能し得る。具体的には、剥離フィルムとして、表面が剥離剤でコートされたプラスチックフィルムが好ましく用いられる。剥離剤の具体例としては、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤が挙げられる。
　剥離フィルムの厚みは、好ましくは２０μｍ～８０μｍであり、より好ましくは３５μｍ～５５μｍである。
Ｃ－４．位相差層
　上記位相差層は、二層以上の積層構造を有していてもよいし、単一層とされていてもよい。位相差層の厚みは、その構成（単一層であるか積層構造を有するか）にもよるが、例えば１μｍ以上５０μｍ以下である。1つの実施形態においては、位相差層の厚みは、好ましくは１０μｍ以下であり、より好ましくは８μｍ以下であり、さらに好ましくは６μｍ以下である。なお、位相差層が積層構造である場合、「位相差層の厚み」は、各位相差層の厚みの合計を意味する。具体的には、「位相差層の厚み」には接着層の厚みは含まれない。
　上記位相差層としては、好ましくは、液晶化合物の配向固化層（液晶配向固化層）が用いられる。液晶化合物を用いることにより、例えば、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくすることができるので、所望の面内位相差を得るための位相差層の厚みを格段に小さくすることができる。したがって、位相差層付偏光板の顕著な薄型化を実現することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。位相差層においては、代表的には、棒状の液晶化合物が位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。
　上記液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
　液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
　配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
　液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６－１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
　位相差層が単一層である場合の１つの実施形態においては、位相差層は、λ／４板として機能し得る。具体的には、位相差層のＲｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１１０ｎｍ～１６０ｎｍである。位相差層の厚みは、λ／４板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。位相差層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば１．０μｍ～２．５μｍである。本実施形態においては、位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°であり、より好ましくは４２°～４８°であり、さらに好ましくは４４°～４６°である。また、位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示すことが好ましい。
　位相差層が単一層である場合の別の実施形態においては、位相差層は、λ／２板として機能し得る。具体的には、位相差層のＲｅ（５５０）は、好ましくは２００ｎｍ～３００ｎｍであり、より好ましくは２３０ｎｍ～２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２３０ｎｍ～２８０ｎｍである。位相差層の厚みは、λ／２板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。位相差層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば２．０μｍ～４．０μｍである。本実施形態においては、位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°であり、より好ましくは１２°～１８°であり、さらに好ましくは１２°～１６°である。
　位相差層が積層構造を有する場合の１つの実施形態においては、位相差層は、偏光子側から順に第一位相差層（Ｈ層）と第二位相差層（Ｑ層）とが配置された、二層の積層構造を有する。Ｈ層は、代表的にはλ／２板として機能し得、Ｑ層は、代表的にはλ／４板として機能し得る。具体的には、Ｈ層のＲｅ（５５０）は好ましくは２００ｎｍ～３００ｎｍであり、より好ましくは２２０ｎｍ～２９０ｎｍであり、さらに好ましくは２３０ｎｍ～２８０ｎｍであり；Ｑ層のＲｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ～１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１１０ｎｍ～１５０ｎｍである。Ｈ層の厚みは、λ／２板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。Ｈ層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば２．０μｍ～４．０μｍである。Ｑ層の厚みは、λ／４板の所望の面内位相差が得られるよう調整され得る。Ｑ層が上述の液晶配向固化層である場合、その厚みは、例えば１．０μｍ～２．５μｍである。本実施形態においては、Ｈ層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは１０°～２０°であり、より好ましくは１２°～１８°であり、さらに好ましくは１２°～１６°であり；Ｑ層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは７０°～８０°であり、より好ましくは７２°～７８°であり、さらに好ましくは７２°～７６°である。なお、Ｈ層およびＱ層の配置順序は逆であってもよく、Ｈ層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度およびＱ層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は逆であってもよい。また、それぞれの層（例えば、Ｈ層およびＱ層）は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。
　位相差層（積層構造を有する場合には少なくとも一つの層）は、代表的には、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。なお、「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＞ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。位相差層のＮｚ係数は、好ましくは０．９～１．５であり、より好ましくは０．９～１．３である。
　上述のとおり、位相差層は、好ましくは液晶配向固化層である。上記液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。
　液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋（すなわち、硬化）させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。
　液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃～１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃～１００℃であり、最も好ましくは６０℃～９０℃である。
　上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２－５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ－Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ－Ｓｉｌｌｉｃｏｎ－ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、ネマチック性液晶モノマーが好ましい。
　別の実施形態においては、位相差層は、偏光子側から、λ／４板として機能し得る第一位相差層と、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す第二位相差層（いわゆるポジティブＣプレート）との積層構造を有する。λ／４板の詳細については上述のとおりである。本実施形態においては、第一位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°であり、より好ましくは４２°～４８°であり、さらに好ましくは４４°～４６°である。また、第一位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示すことが好ましい。
　上記ポジティブＣプレートの厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは－５０ｎｍ～－３００ｎｍであり、より好ましくは－７０ｎｍ～－２５０ｎｍであり、さらに好ましくは－９０ｎｍ～－２００ｎｍであり、特に好ましくは－１００ｎｍ～－１８０ｎｍである。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。ポジティブＣプレートの面内位相差Ｒｅ（５５０）は、例えば１０ｎｍ未満である。
　ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を有する第二位相差層は、任意の適切な材料で形成され得るが、好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶材料を含むフィルムからなる。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであってもよいし、液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該位相差層の形成方法の具体例としては、特開２００２－３３３６４２号公報の［００２０］～［００２８］に記載の液晶化合物および当該位相差層の形成方法が挙げられる。この場合、第二位相差層の厚みは、好ましくは０．５μｍ～５μｍである。
Ｃ－５．偏光板の作製
　本発明の実施形態による偏光板は、上記偏光子に各層を積層することにより得ることができる。各層の積層は、例えば、ロール搬送しながら（いわゆるロールトゥロールにより）行われる。上記保護層の積層は、例えば、接着剤を用いて行われる。上記位相差層の積層は、代表的には、基材に形成された液晶配向固化層を転写することにより行われる。位相差層が積層構造を有する場合には、それぞれの位相差層を樹脂フィルムに順次積層（転写）してもよく、位相差層の積層物を樹脂フィルムに積層（転写）してもよい。転写は、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤を用いて行われる。活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化後の厚み（接着剤層の厚み）は、好ましくは０．４μｍ以上であり、より好ましくは０．４μｍ～３．０μｍであり、さらに好ましくは０．６μｍ～１．５μｍである。
　以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、厚みは下記の測定方法により測定した値である。また、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
＜厚み＞
　１０μｍ以下の厚みは、走査型電子顕微鏡（日本電子社製、製品名「ＪＳＭ－７１００Ｆ」）を用いて測定した。１０μｍを超える厚みは、デジタルマイクロメーター（アンリツ社製、製品名「ＫＣ－３５１Ｃ」）を用いて測定した。
［実施例１］
（積層物の作製）
　熱可塑性樹脂基材として、長尺状で、Ｔｇ約７５℃である、非晶質のイソフタル共重合ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１００μｍ）を用い、この樹脂基材の片面に、コロナ処理を施した。
　ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー」）を９：１で混合したＰＶＡ系樹脂１００重量部に、ヨウ化カリウム１３重量部を添加したものを水に溶かし、ＰＶＡ水溶液（塗布液）を調製した。
　樹脂基材のコロナ処理面に、上記ＰＶＡ水溶液を塗布して６０℃で乾燥することにより、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
　得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で縦方向（長手方向）に２．４倍に一軸延伸した（空中補助延伸処理）。
　次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
　次いで、液温３０℃の染色浴（水１００重量部に対して、ヨウ素とヨウ化カリウムを１：７の重量比で配合して得られたヨウ素水溶液）に、最終的に得られる偏光子の単体透過率（Ｔｓ）が所望の値となるように濃度を調整しながら６０秒間浸漬させた（染色処理）。
　次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
　その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度４重量％、ヨウ化カリウム濃度５重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸処理）。
　その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
　その後、約９０℃に保たれたオーブン中で乾燥しながら、表面温度が約７５℃に保たれたＳＵＳ製の加熱ロールに接触させた（乾燥収縮処理）。
　このようにして、樹脂基材上に厚み約５μｍの樹脂フィルムを形成し、樹脂基材／樹脂フィルムの構成を有する積層物を得た。
（化学修飾１）
　室温下で、得られた積層物の樹脂フィルムの露出面に、無水トリフルオロ酢酸（富士フイルム和光純薬株式会社製、純度９８．０％以上）を塗工した。
（偏光板Ａの作製）
　上記樹脂フィルム（偏光子）の化学修飾を施した面に、紫外線硬化型接着剤を介して、ＨＣ－ＴＡＣフィルム（厚み３２μｍ）を第一保護層として貼り合わせた。ＨＣ－ＴＡＣフィルムは、ＴＡＣフィルム（厚み２５μｍ）にハードコート（ＨＣ）層（厚み７μｍ）が形成されたフィルムであり、ＴＡＣフィルムが樹脂フィルム側となるようにして貼り合わせた。次いで、樹脂フィルムから樹脂基材を剥がし、この剥離面に、厚み２０μｍの粘着剤層（ＨＣ－ＴＡＣフィルムよりも透湿度が高い）を形成し、セパレーター（ＰＥＴ系フィルム、厚み３８μｍ）を貼り合わせた。こうして、偏光板を得た。
（偏光板Ｂの作製）
　上記樹脂フィルム（偏光子）の化学修飾を施した面に、厚み２３μｍの粘着剤層を形成し、セパレーター（ＰＥＴ系フィルム、厚み３８μｍ）を貼り合わせた。次いで、樹脂フィルムから樹脂基材を剥がし、この剥離面に、紫外線硬化型接着剤を介して、ＨＣ－ＴＡＣフィルム（厚み３２μｍ）を第一保護層として貼り合わせた。ＨＣ－ＴＡＣフィルムは、ＴＡＣフィルム（厚み２５μｍ）にハードコート（ＨＣ）層（厚み７μｍ）が形成されたフィルムであり、ＴＡＣフィルムが樹脂フィルム側となるようにして貼り合わせた。こうして、偏光板を得た。
［実施例２］
　化学修飾に際し、上記積層物に対する処理を下記の手順で行ったこと以外は実施例１と同様にして、偏光板Ａおよび偏光板Ｂを得た。
（化学修飾２）
　長尺状の積層物を長手方向および幅方向に沿って切断して得られた２００ｍｍ×１５０ｍｍの枚葉状の積層物および４ｍｌの無水トリフルオロ酢酸を入れた容器（カップ）を、内部を窒素で満たしたポリエチレン製の袋（旭化成ホームプロダクツ株式会社製、ジップロック（登録商標）フリーザーバッグ、２６８ｍｍ×２７３ｍｍ）に入れて密封し、室温下に５分間静置した。
［実施例３］
　化学修飾に際し、上記静置時間を３０分としたこと以外は実施例２と同様にして、偏光板Ａおよび偏光板Ｂを得た。
［比較例１］
　得られた積層物に対し化学修飾を行わなかったこと以外は実施例１と同様にして、偏光板を得た。
＜評価＞
　各実施例および比較例について、下記の評価を行った。評価結果を表１にまとめる。
１．接触角
　各実施例および比較例において、化学修飾後の樹脂フィルム（偏光子）の化学修飾面の水接触角を測定した。具体的には、２３℃、５０％ＲＨの環境下において、接触角計（協和界面科学社製、商品名「ＤＭｏ－５０１型」、コントロールボックス「ＤＭＣ－２」、制御・解析ソフト「ＦＡＭＡＳ（バージョン５．０．３０）」）を用いて液滴法により測定した。蒸留水の滴下量は２μＬとし、滴下５秒後の画像からθ／２法により接触角を算出した。
　なお、表１に記載の値は、測定３回の平均値である。
２．フッ素含有量
　各実施例および比較例において、化学修飾後の樹脂フィルム（偏光子）から２ｃｍ×４ｃｍ（８ｃｍ２）の試験片を切り出し、これをセラミックボードに入れて秤量後、助燃剤を添加した。次に、自動試料燃焼装置を用いて燃焼させ、発生したガスを吸収液１０ｍＬに捕集した。捕集後の吸収液を超純水で１５ｍＬとし、イオンクロマトグラフィーによる分析を行うことによりフッ素含有量を求めた。
　なお、分析装置・測定条件は以下のとおりである。
〇分析装置
（１）自動試料燃焼装置：日東精工アナリテック社製、「ＡＱＦ－２１００Ｈ」
（２）イオンクロマトグラフィー装置：Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、「ＩＣＳ－３０００」
〇測定条件
（１）自動試料燃焼装置
　Ｉｎｌｅｔ温度：１０００℃
　Ｏｕｔｌｅｔ温度：１１００℃
　ガス流量Ｏ２：４００ｍＬ／ｍｉｎ
　ガス流量Ａｒ：２００ｍＬ／ｍｉｎ
　Ａｒ送液ユニット：１００ｍＬ／ｍｉｎ
（２）イオンクロマトグラフィー装置
　分離カラム：Ｄｉｏｎｅｘ　ＩｏｎＰａｃ　ＡＳ１８－ｆａｓｔ（４ｍｍ×１５０ｍｍ）
　ガードカラム：Ｄｉｏｎｅｘ　ＩｏｎＰａｃ　ＡＳ１８－ｆａｓｔ（４ｍｍ×３０ｍｍ）
　除去システム：Ｄｉｏｎｅｘ　ＡＤＲＳ－６００（エクスターナルモード）
　検出器：電気伝導度検出器
　溶離液：ＫＯＨ水溶液（溶離液ジェネレーターＥＧＣＩＩＩを使用）
　溶離液流量：１．２ｍＬ／ｍｉｎ
　試料注入量：２５０μＬ
　なお、表１に記載の値は、測定２回（実施例１のみ３回）の平均値である。
３．耐久性
　実施例および比較例で得られた偏光板からセパレーターを剥がし、無アルカリガラス板に貼り合わせた。この状態で８５℃、８５％ＲＨのオーブン内に２４時間静置した後、湿熱試験前後の偏光板の単体透過率を測定し、湿熱試験による単体透過率の変化を算出した。単体透過率Ｔｓは、紫外可視分光光度計（日本分光社製、Ｖ－７１００）を用いて測定した。なお、Ｔｓは、ＪＩＳ　Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により測定して視感度補正を行なったＹ値である。
　なお、表１に記載の値は、湿熱試験前の単体透過率から湿熱試験後の単体透過率を引いた値を示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１より、化学修飾により偏光性能の低下が抑制されていることがわかる。
　本発明の実施形態による偏光子は、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置等の画像表示装置に用いられる。
　　１　　　保護材
　１０　　　偏光子（樹脂フィルム）
　２１　　　第一保護層
　４０　　　粘着剤層
　５０　　　剥離フィルム
１００　　　積層物
２００　　　偏光板

Claims (10)

  1. 　ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する樹脂フィルムから構成され、
    　少なくとも前記第一主面に前記樹脂フィルムが化学修飾された化学修飾部を有し、
    　前記化学修飾部は、化学修飾されていない他の部位よりも疎水性が高い、
    　偏光子。
  2. 　前記化学修飾部はフッ素を含む基を含む、請求項１に記載の偏光子。
  3. 　前記フッ素を含む基はトリフルオロアセチル基を含む、請求項２に記載の偏光子。
  4. 　前記化学修飾部は無水トリフルオロ酢酸により化学修飾されている、請求項１から３のいずれかに記載の偏光子。
  5. 　フッ素含有量が２０μｇ／ｇ以上である、請求項１から４のいずれかに記載の偏光子。
  6. 　前記化学修飾部の接触角が９０°以上である、請求項１から５のいずれかに記載の偏光子。
  7. 　厚みが８μｍ以下である、請求項１から６のいずれかに記載の偏光子。
  8. 　ヨウ素を含み、互いに対向する第一主面および第二主面を有する樹脂フィルムの少なくとも前記第一主面を化学修飾することを含む、
    　請求項１から７のいずれかに記載の偏光子の製造方法。
  9. 　前記化学修飾により前記第一主面の接触角を５°以上上昇させる、請求項８に記載の製造方法。
  10. 　請求項１から７のいずれかに記載の偏光子と、
    　保護層または位相差層の少なくとも一つと、
    　を有する、偏光板。
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