WO2022195868A1 - 吸引装置及びシステム - Google Patents

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WO2022195868A1
WO2022195868A1 PCT/JP2021/011471 JP2021011471W WO2022195868A1 WO 2022195868 A1 WO2022195868 A1 WO 2022195868A1 JP 2021011471 W JP2021011471 W JP 2021011471W WO 2022195868 A1 WO2022195868 A1 WO 2022195868A1
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WO
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susceptor
suction device
area
region
longitudinal direction
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PCT/JP2021/011471
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English (en)
French (fr)
Inventor
玲二朗 川崎
Original Assignee
日本たばこ産業株式会社
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Publication date
Application filed by 日本たばこ産業株式会社 filed Critical 日本たばこ産業株式会社
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
    • A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
    • A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
    • A24F40/40—Constructional details, e.g. connection of cartridges and battery parts
    • A24F40/46—Shape or structure of electric heating means
    • A24F40/465—Shape or structure of electric heating means specially adapted for induction heating
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A24—TOBACCO; CIGARS; CIGARETTES; SIMULATED SMOKING DEVICES; SMOKERS' REQUISITES
    • A24F—SMOKERS' REQUISITES; MATCH BOXES; SIMULATED SMOKING DEVICES
    • A24F40/00—Electrically operated smoking devices; Component parts thereof; Manufacture thereof; Maintenance or testing thereof; Charging means specially adapted therefor
    • A24F40/20—Devices using solid inhalable precursors

Definitions

  • the present invention relates to suction devices and systems.
  • the suction device uses a base material including an aerosol source for generating an aerosol and a flavor source for imparting a flavor component to the generated aerosol to generate an aerosol imparted with a flavor component.
  • a user can enjoy the flavor by inhaling the flavor component-applied aerosol generated by the suction device.
  • the action of the user inhaling the aerosol is hereinafter also referred to as puffing or puffing action.
  • Patent Document 1 discloses the use of an existing coil as an electromagnetic induction source, it does not mention any technological improvement of the electromagnetic induction source itself.
  • an object of the present invention is to provide a mechanism relating to an electromagnetic induction source that is suitable for an induction heating type suction device.
  • a housing part capable of housing a substrate containing an aerosol source and a susceptor thermally adjacent to the aerosol source in an internal space; and an electromagnetic induction source disposed so as to surround the accommodating portion, and in a state in which the susceptor is accommodated in the accommodating portion in a predetermined state, the longitudinal direction of the susceptor among the electromagnetic induction sources
  • a first portion located on the front side in the thickness direction perpendicular to the susceptor and a second portion located on the back side in the thickness direction are a first projection region obtained by vertically projecting the first portion onto the front side surface of the susceptor and the The ratio of the area of the overlap region where the first projection region and the second projection region overlap in the thickness direction to the area of each of the second projection regions obtained by vertically projecting the second portion onto the back surface of the susceptor is 0 to 0.
  • Suction devices are provided which are arranged offset from each other in the longitudinal direction of the susceptor by 90%
  • the shape of the susceptor may be plate-like.
  • the thickness of the susceptor may be 10 to 100 [ ⁇ m].
  • the susceptor may be made of a material having ferromagnetism and having a Curie point within a temperature range reachable by induction heating by the electromagnetic induction source.
  • the susceptor may be made of SUS (steel use stainless) 430.
  • the distribution of the aerosol source may differ between portions and portions proximate to the overlap region.
  • a portion of the substrate adjacent to the first non-overlapping region or the second non-overlapping region may have more aerosol sources distributed than a portion adjacent to the overlapping region.
  • the longitudinal direction of the internal space substantially coincides with the longitudinal direction of the susceptor, and the first portion and the second portion are in a state in which the susceptor is accommodated in the accommodating portion in the predetermined state. In the above, they are arranged in a state offset from each other in the longitudinal direction of the inner space so that the ratio of the area of the overlap region to the area of each of the first projection region and the second projection region is 0 to 90%. good too.
  • the longitudinal direction of the internal space is substantially different from the longitudinal direction of the susceptor.
  • the longitudinal direction of the susceptor may be inclined with respect to the longitudinal direction of the internal space so that the ratio of the area of the overlap region to the area of each second projection region is 0 to 90%.
  • the susceptor may be included in the base material.
  • the accommodating portion has an opening, the substrate is inserted into the internal space through the opening, a mark is provided on each of the surface of the suction device near the opening and the surface of the substrate, and the vicinity of the opening is provided.
  • the position of the mark provided on the surface of the suction device and the position of the mark provided on the surface of the base material match when the susceptor is stored in the storage portion in the predetermined state.
  • the accommodating portion has an opening, the substrate is inserted into the internal space through the opening, and the susceptor is accommodated in the accommodating portion in each of the internal space and the substrate in the predetermined state.
  • it may have a shape that allows the base material to be inserted into the internal space.
  • a base material containing an aerosol source and a susceptor thermally adjacent to the aerosol source can be accommodated in an internal space and a suction device configured as a solenoid-type coil and having an electromagnetic induction source arranged to surround the accommodating portion, wherein the substrate is accommodated in the accommodating portion in a predetermined state.
  • a first portion of the electromagnetic induction source located on the front side in the thickness direction perpendicular to the longitudinal direction of the susceptor and a second portion located on the back side in the thickness direction are arranged on the front surface of the susceptor.
  • the first projection area and the second projection area for the area of each of a first projection area obtained by vertically projecting the first portion and a second projection area obtained by vertically projecting the second portion onto the back surface of the susceptor A system is provided in which the susceptors are staggered from each other in the longitudinal direction such that the area ratio of the overlapping regions overlapping in the thickness direction is between 0 and 90%.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a physical configuration near the holding portion according to the present embodiment in a state where the stick-shaped base material is housed in the holding portion in a predetermined state;
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a cross section taken along line AA shown in FIG. 3;
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a cross section taken along the line BB shown in FIG. 3;
  • FIG. 11 is a diagram for explaining another example of the first modified example; It is a figure for demonstrating the 2nd modification.
  • Configuration example of suction device The suction device according to this configuration example generates an aerosol by heating a substrate including an aerosol source by induction heating (IH (Induction Heating)). This configuration example will be described below with reference to FIG.
  • IH Induction Heating
  • FIG. 1 is a schematic diagram schematically showing a configuration example of a suction device.
  • the suction device 100 includes a power supply unit 111, a sensor unit 112, a notification unit 113, a storage unit 114, a communication unit 115, a control unit 116, a susceptor 161, an electromagnetic induction source 162, and A retainer 140 is included.
  • the user performs suction while the stick-shaped substrate 150 is held by the holding portion 140 .
  • Each component will be described in order below.
  • the power supply unit 111 accumulates power.
  • the power supply unit 111 supplies electric power to each component of the suction device 100 .
  • the power supply unit 111 may be composed of, for example, a rechargeable battery such as a lithium ion secondary battery.
  • the power supply unit 111 may be charged by being connected to an external power supply via a USB (Universal Serial Bus) cable or the like.
  • the power supply unit 111 may be charged in a state of being disconnected from the device on the power transmission side by wireless power transmission technology. Alternatively, only the power supply unit 111 may be detached from the suction device 100 or may be replaced with a new power supply unit 111 .
  • the sensor unit 112 detects various information regarding the suction device 100 .
  • the sensor unit 112 then outputs the detected information to the control unit 116 .
  • the sensor unit 112 is configured by a pressure sensor such as a condenser microphone, a flow rate sensor, or a temperature sensor.
  • the sensor unit 112 detects a numerical value associated with the user's suction
  • the sensor unit 112 outputs information indicating that the user has performed suction to the control unit 116 .
  • the sensor unit 112 is configured by an input device, such as a button or switch, that receives information input from the user.
  • sensor unit 112 may include a button for instructing start/stop of aerosol generation.
  • the sensor unit 112 then outputs the information input by the user to the control unit 116 .
  • the sensor section 112 is configured by a temperature sensor that detects the temperature of the susceptor 161 .
  • a temperature sensor detects the temperature of the susceptor 161 based on the electrical resistance value of the electromagnetic induction source 162, for example.
  • the sensor section 112 may detect the temperature of the stick-shaped substrate 150 held by the holding section 140 based on the temperature of the susceptor 161 .
  • the notification unit 113 notifies the user of information.
  • the notification unit 113 is configured by a light-emitting device such as an LED (Light Emitting Diode).
  • the notification unit 113 emits light in different light emission patterns when the power supply unit 111 is in a charging required state, when the power supply unit 111 is being charged, when an abnormality occurs in the suction device 100, and the like.
  • the light emission pattern here is a concept including color, timing of lighting/lighting out, and the like.
  • the notification unit 113 may be configured by a display device that displays an image, a sound output device that outputs sound, a vibration device that vibrates, or the like, together with or instead of the light emitting device.
  • the notification unit 113 may notify information indicating that suction by the user has become possible. Information indicating that suction by the user is enabled is notified when the temperature of the stick-shaped base material 150 heated by electromagnetic induction reaches a predetermined temperature.
  • the storage unit 114 stores various information for the operation of the suction device 100 .
  • the storage unit 114 is configured by, for example, a non-volatile storage medium such as flash memory.
  • An example of the information stored in the storage unit 114 is information regarding the OS (Operating System) of the suction device 100, such as control details of various components by the control unit 116.
  • FIG. Another example of the information stored in the storage unit 114 is information related to suction by the user, such as the number of times of suction, suction time, total suction time, and the like.
  • the communication unit 115 is a communication interface for transmitting and receiving information between the suction device 100 and other devices.
  • the communication unit 115 performs communication conforming to any wired or wireless communication standard.
  • a communication standard for example, wireless LAN (Local Area Network), wired LAN, Wi-Fi (registered trademark), Bluetooth (registered trademark), or the like can be adopted.
  • the communication unit 115 transmits information about suction by the user to the smartphone so that the smartphone displays information about suction by the user.
  • the communication unit 115 receives new OS information from the server in order to update the OS information stored in the storage unit 114 .
  • the control unit 116 functions as an arithmetic processing device and a control device, and controls the general operations within the suction device 100 according to various programs.
  • the control unit 116 is realized by an electronic circuit such as a CPU (Central Processing Unit) and a microprocessor.
  • the control unit 116 may include a ROM (Read Only Memory) for storing programs to be used, calculation parameters, etc., and a RAM (Random Access Memory) for temporarily storing parameters, etc. that change as appropriate.
  • the suction device 100 executes various processes under the control of the controller 116 .
  • the holding part 140 has an internal space 141 and holds the stick-shaped base material 150 while accommodating a part of the stick-shaped base material 150 in the internal space 141 .
  • the holding part 140 has an opening 142 that communicates the internal space 141 with the outside, and holds the stick-shaped substrate 150 inserted into the internal space 141 through the opening 142 .
  • the holding portion 140 is a tubular body having an opening 142 and a bottom portion 143 as a bottom surface, and defines a columnar internal space 141 .
  • the holding part 140 is configured such that the inner diameter is smaller than the outer diameter of the stick-shaped base material 150 at least in part in the height direction of the cylindrical body, and holds the stick-shaped base material 150 inserted into the internal space 141.
  • the stick-shaped substrate 150 can be held by pressing from the outer periphery.
  • the retainer 140 also functions to define air flow paths through the stick-shaped substrate 150 .
  • An air inlet hole which is an inlet for air into the flow path, is arranged, for example, in the bottom portion 143 .
  • the air outflow hole which is the exit of air from such a channel, is the opening 142 .
  • the stick-shaped base material 150 is a stick-shaped member.
  • the stick-type substrate 150 includes a substrate portion 151 and a mouthpiece portion 152 .
  • the base material portion 151 includes an aerosol source.
  • the aerosol source is atomized by heating to produce an aerosol.
  • the aerosol source may be tobacco-derived, such as, for example, a processed product of cut tobacco or tobacco material formed into granules, sheets, or powder. Aerosol sources may also include non-tobacco sources made from plants other than tobacco, such as mints and herbs. By way of example, the aerosol source may contain perfume ingredients such as menthol. If the inhalation device 100 is a medical inhaler, the aerosol source may contain a medicament for inhalation by the patient.
  • the aerosol source is not limited to solids, and may be, for example, polyhydric alcohols such as glycerin and propylene glycol, and liquids such as water. At least part of the base material part 151 is accommodated in the internal space 141 of the holding part 140 in a state in which the stick-shaped base material 150 is held by the holding part 140.
  • the mouthpiece 152 is a member held by the user when inhaling. At least part of the mouthpiece 152 protrudes from the opening 142 when the stick-shaped base material 150 is held by the holding part 140 . Then, when the user holds the mouthpiece 152 protruding from the opening 142 and sucks, air flows into the inside of the holding part 140 from an air inlet hole (not shown). The air that has flowed in passes through the internal space 141 of the holding part 140 , that is, passes through the base material part 151 and reaches the inside of the user's mouth together with the aerosol generated from the base material part 151 .
  • the stick-type base material 150 includes a susceptor 161 .
  • the susceptor 161 generates heat by electromagnetic induction.
  • the susceptor 161 is made of a conductive material such as metal.
  • the susceptor 161 is a metal plate.
  • a susceptor 161 is placed in close proximity to the aerosol source. In the example shown in FIG. 1, the susceptor 161 is included in the base portion 151 of the stick-shaped base 150 .
  • the susceptor 161 is placed in thermal proximity to the aerosol source.
  • the susceptor 161 being thermally close to the aerosol source means that the susceptor 161 is arranged at a position where heat generated in the susceptor 161 is transferred to the aerosol source.
  • the susceptor 161 is contained in the substrate portion 151 along with the aerosol source and is surrounded by the aerosol source. With such a configuration, the heat generated from the susceptor 161 can be efficiently used to heat the aerosol source.
  • the susceptor 161 may not be accessible from the outside of the stick-shaped substrate 150 .
  • the susceptor 161 may be arranged to be embedded inside the stick-shaped substrate 150 .
  • the electromagnetic induction source 162 causes the susceptor 161 to generate heat by electromagnetic induction.
  • the electromagnetic induction source 162 is composed of, for example, a coiled conductor wire, and is arranged so as to wrap around the outer periphery of the holding portion 140 .
  • the electromagnetic induction source 162 generates a magnetic field when alternating current is supplied from the power supply section 111 .
  • the electromagnetic induction source 162 is arranged at a position where the internal space 141 of the holding section 140 overlaps the generated magnetic field. Therefore, when a magnetic field is generated while the stick-shaped substrate 150 is held by the holding portion 140, an eddy current is generated in the susceptor 161 and Joule heat is generated.
  • the Joule heat heats the aerosol source contained in the stick-shaped substrate 150 and atomizes it to generate an aerosol.
  • power may be supplied and an aerosol may be generated when the sensor unit 112 detects that a predetermined user input has been performed.
  • the temperature of the stick-shaped substrate 150 induction-heated by the susceptor 161 and the electromagnetic induction source 162 reaches a predetermined temperature, the suction by the user becomes possible.
  • the power supply may be stopped.
  • power may be supplied and aerosol may be generated during a period in which the sensor unit 112 detects that the user has inhaled.
  • the combination of the suction device 100 and the stick-shaped substrate 150 may be regarded as one system in that aerosol can be generated by combining the suction device 100 and the stick-shaped substrate 150 .
  • Induction heating is the process of heating a conductive object by penetrating a varying magnetic field into the object.
  • Induction heating involves a magnetic field generator that generates a fluctuating magnetic field, and a conductive heated object that is heated by being exposed to the fluctuating magnetic field.
  • An example of a varying magnetic field is an alternating magnetic field.
  • the electromagnetic induction source 162 shown in FIG. 1 is an example of a magnetic field generator.
  • the susceptor 161 shown in FIG. 1 is an example of the object to be heated.
  • the magnetic field generator and the object to be heated are arranged in relative positions such that the fluctuating magnetic field generated by the magnetic field generator penetrates into the object to be heated, when the fluctuating magnetic field is generated from the magnetic field generator, the object to be heated Eddy currents are induced.
  • Joule heat corresponding to the electrical resistance of the object to be heated is generated and the object to be heated is heated.
  • Such heating is also referred to as joule heating, ohmic heating, or resistance heating.
  • the object to be heated may have magnetism.
  • the object to be heated is further heated by magnetic hysteresis heating.
  • Magnetic hysteresis heating is the process of heating a magnetic object by impinging it with a varying magnetic field.
  • the magnetic dipoles contained in the magnetic body align along the magnetic field. Therefore, when a fluctuating magnetic field penetrates a magnetic material, the orientation of the magnetic dipole changes according to the applied fluctuating magnetic field. Due to such reorientation of the magnetic dipoles, heat is generated in the magnetic material, and the object to be heated is heated.
  • Magnetic hysteresis heating typically occurs at temperatures below the Curie point and does not occur at temperatures above the Curie point.
  • the Curie point is the temperature at which a magnetic material loses its magnetic properties. For example, when the temperature of an object to be heated which has ferromagnetism at a temperature below the Curie point exceeds the Curie point, the magnetism of the object to be heated undergoes a reversible phase transition from ferromagnetism to paramagnetism. When the temperature of the object to be heated exceeds the Curie point, magnetic hysteresis heating does not occur, so the rate of temperature increase slows down.
  • the object to be heated is made of a conductive material. Furthermore, it is desirable that the object to be heated is made of a ferromagnetic material. In the latter case, it is possible to increase the heating efficiency by combining resistance heating and magnetic hysteresis heating.
  • the object to be heated is made of one or more materials selected from a group of materials including aluminum, iron, nickel, cobalt, conductive carbon, copper, stainless steel, and the like.
  • induction heating directly heats the susceptor 161 included in the stick-shaped base material 150
  • the base material can be heated more efficiently than when the stick-shaped base material 150 is heated from the outer periphery or the like by an external heat source. It is possible.
  • the temperature of the external heat source is inevitably higher than that of the stick-shaped substrate 150 .
  • the electromagnetic induction source 162 does not become hotter than the stick-shaped substrate 150 . Therefore, the temperature of the suction device 100 can be kept lower than when an external heat source is used, which is a great advantage in terms of user safety.
  • the electromagnetic induction source 162 uses power supplied from the power supply unit 111 to generate a varying magnetic field.
  • the power supply unit 111 may be a DC (Direct Current) power supply. In that case, the power supply unit 111 supplies AC power to the electromagnetic induction source 162 via a DC/AC (Alternate Current) inverter. In that case, the electromagnetic induction source 162 can generate an alternating magnetic field.
  • DC Direct Current
  • AC Alternate Current
  • FIG. 2 is a diagram showing an example of a physical configuration near the holding unit 140 according to this embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram showing an example of a physical configuration near the holding section 140 according to the present embodiment when the stick-shaped substrate 150 is accommodated in the holding section 140 in a predetermined state.
  • FIG. 4 is a diagram showing an example of a cross section taken along line AA shown in FIG.
  • FIG. 5 is a diagram showing an example of a cross section taken along the line BB shown in FIG.
  • the holding part 140 is an example of an accommodating part capable of accommodating the stick-shaped substrate 150 and the susceptor 161 in the internal space 141 .
  • the electromagnetic induction source 162 is configured as a solenoid coil and arranged to surround the holding portion 140 .
  • the solenoid coil as used herein refers to a coil in which a conductor such as copper is wound one or more turns, and the shape of the coil is not particularly limited, and may be rectangular or circular.
  • the susceptor 161 is formed in a plate shape.
  • the plate surface of the susceptor 161 extends in the longitudinal direction and the lateral direction, and is formed to form the front and back sides in the thickness direction.
  • the longitudinal direction, lateral direction and thickness direction of the susceptor 161 are orthogonal to each other.
  • the susceptor 161 is made of a material that has ferromagnetism and has a Curie point within the temperature range that can be reached by induction heating by the electromagnetic induction source 162 .
  • the susceptor 161 may be made of SUS (steel use stainless) 430 .
  • the Curie point of the SUS430 forming the susceptor 161 falls within the range of temperatures that the susceptor 161 can reach by induction heating by the electromagnetic induction source 162 .
  • the temperature range that the susceptor 161 can reach by induction heating by the electromagnetic induction source 162 is, for example, 0.degree. C. to 350.degree.
  • the electromagnetic induction source 162 uses power supplied from the power supply unit 111 to generate a fluctuating magnetic field in the space surrounded by the coils, that is, the internal space 141 .
  • the fluctuating magnetic field generated by the electromagnetic induction source 162 enters the susceptor 161 and causes the susceptor 161 to generate an eddy current.
  • an eddy current flows in the cross section of the susceptor 161 in the direction opposite to the current flowing in the electromagnetic induction source 162 .
  • This eddy current flows intensively from the surface of the susceptor 161 to a current penetration depth ⁇ given by the following equation. This eddy current heats the susceptor 161 .
  • ⁇ is the current penetration depth [mm].
  • ⁇ is the specific resistance [ ⁇ m].
  • ⁇ r is the relative permeability.
  • f is the heating frequency [Hz].
  • the Z-axis direction shown in FIGS. 2 to 5 is the longitudinal direction of the internal space 141 and the direction in which the stick-shaped substrate 150 is inserted and removed.
  • the direction in which the stick-shaped substrate 150 is removed is assumed to be positive, and the direction in which the stick-shaped substrate 150 is inserted is assumed to be negative.
  • the electromagnetic induction sources 162 located on the front and back of the susceptor 161 are arranged in a state of being shifted in the Z-axis direction with the holding portion 140 interposed therebetween.
  • the X-axis direction is the direction in which the displacement in the Z-axis direction across the holding portion 140 of the electromagnetic induction source 162 is the largest.
  • the positive direction of the X-axis is also referred to as the front side
  • the negative direction of the X-axis is also referred to as the back side.
  • the Y-axis direction is a direction orthogonal to the X-axis direction and the Z-axis direction. Typically, the Y-axis direction is the direction with the smallest deviation in the Z-axis direction across the holding portion 140 of the electromagnetic induction source 162 .
  • the longitudinal direction of the susceptor 161 substantially coincides with the Z-axis direction
  • the lateral direction of the susceptor 161 substantially coincides with the Y-axis direction
  • the thickness direction of the susceptor 161 substantially coincides with the X-axis direction.
  • the tip of the stick-shaped base material 150 reaches the bottom portion 143 of the holding portion 140 .
  • Such a state is a state in which the susceptor 161 (that is, the stick-shaped substrate 150 containing the susceptor 161) is accommodated (held) in the holding portion 140 in a predetermined state.
  • substantially matching includes not only complete matching but also a state of deviation of less than several degrees.
  • the first portion 162A and the second portion 162B of the electromagnetic induction source 162 form a first projected area XA .
  • the second projection area XB are arranged in a state of being offset from each other in the longitudinal direction of the susceptor 161 so that the ratio of the area of the overlapping area Y to the area of each of the second projection areas XB is 0 to 90%.
  • the electromagnetic induction source 162 is arranged such that each of Y/X A ⁇ 100% and Y/X B ⁇ 100% is 0 to 90%, that is, in a state of being shifted from each other in the Z-axis direction. be. With such a configuration, it is possible to efficiently heat the susceptor 161 as described below.
  • the first projection area XA is an area obtained by vertically projecting the first portion 162A of the electromagnetic induction source 162 located on the front side of the susceptor 161 onto the front side surface 161A of the susceptor 161 .
  • the first projection area XA is an area surrounded by lines when both ends of the first portion 162A in the Z - axis direction are vertically projected onto the front surface 161A of the susceptor 161.
  • the first projection area XA includes not only the area where the coils are actually projected, but also the area sandwiched between the coils.
  • a second projection area XB is an area obtained by vertically projecting a second portion 162B of the electromagnetic induction source 162 located on the back side of the susceptor 161 onto the surface 161B on the back side of the susceptor 161 .
  • the second projection area XB is an area surrounded by lines when both ends of the second portion 162B in the Z - axis direction are vertically projected onto the back surface 161B of the susceptor 161 . That is, the second projection area XB includes not only the area where the coils are actually projected, but also the area sandwiched between the coils.
  • the overlapping area Y is an area where the first projection area XA and the second projection area XB overlap in the thickness direction.
  • a region other than the overlapping region Y in the first projection region XA is also referred to as a first non - overlapping region ZA.
  • a region other than the overlapping region Y in the second projection region XB is also referred to as a second non - overlapping region ZB.
  • the electromagnetic induction source 162 exists only on one of the front and back sides of the susceptor 161 . Therefore, in these regions, an eddy current 20 flows in the opposite direction to the current 10 flowing in the electromagnetic induction source 162 on one of the front and back sides of the susceptor 161 . Therefore, in these regions, eddy current interference does not occur between the front and back surfaces, so that the susceptor 161 can be suitably heated without being hindered.
  • the heating inhibition in the overlapping region Y described above becomes more serious as the temperature of the susceptor 161 rises.
  • the specific resistance ⁇ of a metal increases as the temperature rises.
  • the current penetration depth ⁇ increases as the resistivity ⁇ increases.
  • the relative magnetic permeability ⁇ r decreases as the temperature rises and approaches the Curie point, and becomes 1 when the Curie point is exceeded. Therefore, according to the above formula (1), the current penetration depth ⁇ increases as the relative permeability ⁇ r decreases.
  • the current penetration depth ⁇ of the eddy current 20 increases with increasing temperature.
  • the interference between the eddy currents 20 flowing on the front and back sides of the susceptor 161 increases.
  • the electromagnetic induction sources 162 located on the front and back sides of the susceptor 161 are arranged in a state of being offset from each other in the longitudinal direction of the susceptor 161, thereby reducing the interference of the eddy currents flowing on the front and back sides of the susceptor 161. Therefore, it is possible to realize efficient heating. It is desirable that the ratio of the area of the overlap region Y to the areas of the first projection region XA and the second projection region XB be as small as possible for the reason described above. For example, it is more effective if the ratio of the area of the overlap region Y to the area of each of the first projection region X A and the second projection region X B is 0 to 60%.
  • the current penetration depth ⁇ reaches 10 to 200 [ ⁇ m] within the temperature range that the susceptor 161 can reach by induction heating by the electromagnetic induction source 162 .
  • the thickness of the susceptor 161 may be 10 to 100 [ ⁇ m]. According to such a configuration, in the first non - overlapping region ZA and the second non - overlapping region ZB, an eddy current flows in one direction over the entire thickness direction, so rapid heating is possible.
  • the distribution of the aerosol source may be different between the portion of the stick-shaped substrate 150 adjacent to the first non - overlapping region ZA or the second non - overlapping region ZB and the portion adjacent to the overlapping region Y.
  • the first non - overlapping area ZA and the second non - overlapping area ZB tend to reach a higher temperature than the overlapping area Y, and this tendency becomes more pronounced when the Curie point is exceeded.
  • the portion of the stick-shaped base material 150 adjacent to the first non - overlapping region ZA or the second non - overlapping region ZB tends to reach a high temperature, while the portion adjacent to the overlapping region Y does not tend to reach a high temperature.
  • the proximity means being positioned at the same or close position in the longitudinal direction of the stick-shaped base material 150 .
  • more aerosol sources are distributed in the portion of the stick-shaped substrate 150 adjacent to the first non - overlapping region ZA or the second non - overlapping region ZB than in the portion adjacent to the overlapping region Y.
  • many aerosol sources are distributed in the portion of the stick-shaped base material 150 that is close to the first non - overlapping region ZA or the second non-overlapping region ZB , that is, the portion that tends to become high temperature. It is possible to generate an aerosol.
  • the holding portion 140 is interposed therebetween and arranged in a state in which there is almost no deviation in the Z-axis direction. Therefore, since the ratio of the area of the overlapping area Y to the area of each of the first projection area XA and the second projection area XB is almost 100%, efficient heating may be difficult.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the first modified example.
  • FIG. 6 shows the appearance of the suction device 100 and the stick-shaped substrate 150 when the stick-shaped substrate 150 is housed in the holding portion 140 in a predetermined state.
  • marks 31 and 32 may be provided on the surface of the suction device 100 near the opening 142 and the surface of the stick-shaped substrate 150, respectively.
  • the position of the mark 31 provided on the surface of the suction device 100 near the opening 142 and the position of the mark 32 provided on the surface of the stick-shaped substrate 150 are different from each other.
  • the stick-shaped substrate 150 may match if it is accommodated in the state of The user is prompted to insert the stick-shaped substrate 150 into the internal space 141 so that the arrow mark 31 and the arrow mark 32 face each other as shown in FIG. Then, when the stick-shaped substrate 150 is inserted into the internal space 141 so that the arrow mark 31 and the arrow mark 32 face each other, the stick-shaped substrate 150 is inserted into the internal space 141 as shown in FIGS. 150 is accommodated in the holding portion 140 in a predetermined state.
  • the stick-shaped base material 150 can be held in the holding portion 140 in a predetermined state by simply inserting the stick-shaped base material 150 into the internal space 141 by aligning the position of the mark 31 with the position of the mark 32 . It is possible to easily realize the accommodated state.
  • FIG. 7 is a diagram for explaining another example of the first modified example.
  • FIG. 7 shows a cross section near the holding portion 140 when the stick-shaped substrate 150 is accommodated in the holding portion 140 in a predetermined state.
  • each of the internal space 141 and the stick-shaped base material 150 is configured such that when the stick-shaped base material 150 is accommodated in the holding portion 140 in a predetermined state, the stick-shaped base material 150 is held in the internal space 141. It may have an insertable shape.
  • the cross-sectional shape of the internal space 141 and the stick-shaped base material 150 is a rectangle having long sides and short sides, and the stick can only be formed when the long sides and short sides match each other. Insertion of the mold substrate 150 is possible.
  • the cross-sectional short sides of the internal space 141 are formed in the X-axis direction
  • the cross-sectional long sides of the internal space 141 are formed in the Y-axis direction.
  • the susceptor 161 is arranged in the stick-shaped substrate 150 so that the thickness direction of the susceptor 161 is parallel to the short side direction of the cross section of the stick-shaped substrate 150 . Therefore, as shown in FIG. 7, when the stick-shaped substrate 150 is inserted into the internal space 141, the thickness direction of the susceptor 161 substantially coincides with the X-axis direction. That is, the stick-shaped substrate 150 is held in the holding portion 140 in a predetermined state.
  • the stick-shaped base material 150 can be easily accommodated in the holding portion 140 in a predetermined state by simply inserting the stick-shaped base material 150 into the internal space 141 by the user. Become.
  • cross-sectional shapes of the holding part 140 and the stick-shaped base material 150 are not limited to the rectangular shape shown in FIG.
  • Second modification> Although the longitudinal direction of the internal space 141 and the longitudinal direction of the susceptor 161 are substantially aligned in the above embodiment, the present invention is not limited to such an example.
  • the longitudinal direction of the internal space 141 and the longitudinal direction of the susceptor 161 may be substantially different. "Substantially different" means a state of deviation of several degrees or more. Such an example will be described with reference to FIG.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining a second modification.
  • FIG. 8 shows a cross section near the holding portion 140 when the stick-shaped substrate 150 is accommodated in the holding portion 140 in a predetermined state.
  • the longitudinal direction of the susceptor 161 may be inclined with respect to the longitudinal direction of the stick-shaped substrate 150 .
  • the longitudinal direction of the susceptor 161 may be inclined with respect to the longitudinal direction of the internal space 141 (that is, the Z-axis direction).
  • the susceptor 161 in a state where the stick - shaped base material 150 is accommodated in the holding portion 140 in a predetermined state, is such that the area of the overlapping area Y with respect to the area of each of the first projection area XA and the second projection area XB is The longitudinal direction of the susceptor 161 is inclined with respect to the longitudinal direction of the internal space 141 so that the ratio is 0 to 90%. According to such a configuration, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained.
  • the predetermined state in this modified example means a state in which the lateral direction of the susceptor 161 substantially coincides with the Y-axis direction and the tip of the stick-shaped base material 150 reaches the bottom portion 143 of the holding portion 140. shall point to
  • the susceptor 161 has a plate shape and a rectangular cross-sectional shape, but the present invention is not limited to this example.
  • the cross-sectional shape of the susceptor 161 may be any shape such as a rounded rectangle, square, circle, or ellipse.
  • the surface of the susceptor 161 may be flat, or may be varied such as wavy.
  • the present invention is not limited to this example. That is, the susceptor 161 can be placed at any location where the susceptor 161 is in thermal proximity to the aerosol source.
  • the susceptor 161 may be configured in a blade shape and arranged to protrude from the bottom portion 143 of the holding portion 140 into the internal space 141 . Then, when the stick-shaped base material 150 is inserted into the holding part 140, the blade-shaped susceptor 161 may be inserted so as to pierce the base part 151 from the end of the stick-shaped base material 150 in the insertion direction. .
  • the susceptor 161 is arranged in the internal space 141 so that the holding portion 140 always accommodates the susceptor 161 in a predetermined state.
  • a housing portion capable of housing a substrate containing an aerosol source and a susceptor thermally adjacent to the aerosol source in an internal space; an electromagnetic induction source configured as a solenoid-type coil and arranged to surround the accommodating portion; with When the susceptor is accommodated in the accommodating portion in a predetermined state, a first portion of the electromagnetic induction source located on the front side in the thickness direction orthogonal to the longitudinal direction of the susceptor and a first portion located on the back side in the thickness direction of the electromagnetic induction source.
  • the second portion is a first projection area obtained by vertically projecting the first portion onto the front surface of the susceptor and a second projection area obtained by vertically projecting the second portion onto the back surface of the susceptor.
  • the first projected region and the second projected region are arranged in a state of being offset from each other in the longitudinal direction of the susceptor so that the ratio of the area of the overlapping region where the first projected region and the second projected region overlap in the thickness direction is 0 to 90%.
  • suction device. (2) The shape of the susceptor is plate-like. The suction device according to (1) above. (3) The thickness of the susceptor is 10 to 100 [ ⁇ m], The suction device according to (1) or (2) above.
  • the susceptor is made of a material that has ferromagnetism and has a Curie point within a temperature range that can be reached by induction heating by the electromagnetic induction source.
  • the suction device according to any one of (1) to (3) above.
  • the susceptor is made of SUS (steel use stainless) 430, The suction device according to (4) above.
  • (6) Close to a first non-overlapping region that is a region other than the overlapping region in the first projection region or a second non-overlapping region that is a region other than the overlapping region in the second projection region of the base material the distribution of the aerosol source is different between a portion and a portion proximate to the overlapping region;
  • the suction device according to any one of (1) to (5) above.
  • a portion of the substrate proximate to the first non-overlapping region or the second non-overlapping region has a greater distribution of the aerosol source than a portion proximate to the overlapping region.
  • the suction device according to (6) above. the longitudinal direction of the internal space and the longitudinal direction of the susceptor substantially match, The first portion and the second portion are defined as the overlapping area of the area of each of the first projection area and the second projection area when the susceptor is accommodated in the accommodating portion in the predetermined state. Displaced from each other in the longitudinal direction of the internal space so that the ratio of the area is 0 to 90%, The suction device according to any one of (1) to (7) above.
  • the longitudinal direction of the internal space is substantially different from the longitudinal direction of the susceptor,
  • the ratio of the area of the overlapping area to the area of each of the first projection area and the second projection area is 0 to 90%. so that the longitudinal direction of the susceptor is inclined with respect to the longitudinal direction of the internal space,
  • the suction device according to any one of (1) to (8) above. (10) wherein the susceptor is included in the substrate; The suction device according to any one of (1) to (9) above.
  • the accommodating portion has an opening, and the base material is inserted into the internal space from the opening, markings are provided on each of the surface of the suction device and the surface of the substrate near the opening; The position of the mark provided on the surface of the suction device near the opening and the position of the mark provided on the surface of the base material are different when the susceptor is accommodated in the accommodation portion in the predetermined state. matches the The suction device according to (10) above.
  • the accommodating portion has an opening, and the base material is inserted into the internal space from the opening, each of the inner space and the base material has a shape that allows the base material to be inserted into the inner space when the susceptor is accommodated in the accommodating portion in the predetermined state; The suction device according to (10) or (11) above.
  • a substrate containing an aerosol source and a susceptor in thermal proximity to the aerosol source a suction device having an accommodating portion capable of accommodating the base material in an internal space, and an electromagnetic induction source configured as a solenoid coil and arranged so as to surround the accommodating portion; with In a state in which the substrate is accommodated in the accommodating portion in a predetermined state, a first portion of the electromagnetic induction source located on the front side in the thickness direction perpendicular to the longitudinal direction of the susceptor and a first portion located on the back side in the thickness direction of the susceptor.
  • a first projection area obtained by vertically projecting the first part onto the front surface of the susceptor and a second projection area obtained by vertically projecting the second part onto the back surface of the susceptor. are offset from each other in the longitudinal direction of the susceptor so that the ratio of the area of the overlapped region where the first projected region and the second projected region overlap in the thickness direction is 0 to 90% with respect to the area of the , system.
  • suction device 111 power supply unit 112 sensor unit 113 notification unit 114 storage unit 115 communication unit 116 control unit 140 holding unit (accommodating unit) 141 Internal space 142 Opening 143 Bottom 150 Stick-shaped base material 151 Base material part 152 Mouthpiece part 161 Susceptor 161A Front surface of susceptor 161B Back surface of susceptor 162 Electromagnetic induction source 162A First part 162B Second part 10 To electromagnetic induction source Flowing current 20 Eddy current flowing on the surface of the susceptor 31, 32 Mark X A first projection area X B second projection area Y overlapping area Z A first non-overlapping area Z B second non-overlapping area

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Medical Preparation Storing Or Oral Administration Devices (AREA)

Abstract

【課題】誘導加熱式の吸引装置に適合する電磁誘導源に関する仕組みを提供する。 【解決手段】エアロゾル源を含有する基材及びサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、ソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源と、を備え、前記収容部に前記サセプタが所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの厚み方向の表側に位置する第１部分と裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、吸引装置。

Description

吸引装置及びシステム
　本発明は、吸引装置及びシステムに関する。
　電子タバコ及びネブライザ等の、ユーザに吸引される物質を生成する吸引装置が広く普及している。例えば、吸引装置は、エアロゾルを生成するためのエアロゾル源、及び生成されたエアロゾルに香味成分を付与するための香味源等を含む基材を用いて、香味成分が付与されたエアロゾルを生成する。ユーザは、吸引装置により生成された、香味成分が付与されたエアロゾルを吸引することで、香味を味わうことができる。ユーザがエアロゾルを吸引する動作を、以下ではパフ又はパフ動作とも称する。
　これまでは、加熱用ブレード等の外部熱源を用いる方式の吸引装置が主流であった。しかし近年では、下記特許文献１に開示されているような、ソレノイド型のコイルを電磁誘導源として用いてサセプタを誘導加熱することでエアロゾルを生成する、誘導加熱式の吸引装置が注目を集めている。
特許第６６２３１７５号公報
　しかしながら、上記特許文献１では、既存のコイルを電磁誘導源として使用することが開示される一方で、電磁誘導源自体の技術向上に関しては何ら言及されていない。
　そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、誘導加熱式の吸引装置に適合する電磁誘導源に関する仕組みを提供することにある。
　上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、ソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源と、を備え、前記収容部に前記サセプタが所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの長手方向に直交する厚み方向の表側に位置する第１部分と前記厚み方向の裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、吸引装置が提供される。
　前記サセプタの形状は、板状であってもよい。
　前記サセプタの厚みは、１０～１００［μｍ］であってもよい。
　前記サセプタは、強磁性を有し、且つ前記電磁誘導源による誘導加熱により到達可能な温度の範囲内にキュリー点が含まれる素材により構成されてもよい。
　前記サセプタは、ＳＵＳ（steel use stainless）４３０により構成されてもよい。
　前記基材のうち、前記第１投影領域のうち前記重複領域以外の領域である第１非重複領域又は前記第２投影領域のうち前記重複領域以外の領域である第２非重複領域に近接する部分と前記重複領域に近接する部分とで、前記エアロゾル源の分布が異なってもよい。
　前記基材のうち、前記第１非重複領域又は前記第２非重複領域に近接する部分では、前記重複領域に近接する部分と比較して、前記エアロゾル源が多く分布してもよい。
　前記内部空間の長手方向と、前記サセプタの長手方向とは、実質的に一致し、前記第１部分と前記第２部分とは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容された状態において、前記第１投影領域及び前記第２投影領域の各々の面積に対する前記重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記内部空間の長手方向に互いにずれた状態で配置されてもよい。
　前記内部空間の長手方向と、前記サセプタの長手方向とは、実質的に異なり、前記サセプタは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容された状態において、前記第１投影領域及び前記第２投影領域の各々の面積に対する前記重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向が前記内部空間の長手方向に対して傾斜してもよい。
　前記サセプタは、前記基材に含まれてもよい。
　前記収容部は、開口を有し、前記開口から前記内部空間に前記基材が挿入され、前記開口付近の前記吸引装置の表面及び前記基材の表面の各々に目印が付与され、前記開口付近の前記吸引装置の表面に付与された前記目印の位置と前記基材の表面に付与された前記目印の位置とは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容される場合に一致してもよい。
　前記収容部は、開口を有し、前記開口から前記内部空間に前記基材が挿入され、前記内部空間及び前記基材の各々は、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容される場合に、前記内部空間に前記基材を挿入可能な形状を有してもよい。
　また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、エアロゾル源、及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを含有する基材と、前記基材を内部空間に収容可能な収容部、及びソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源を有する吸引装置と、を備え、前記収容部に前記基材が所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの長手方向に直交する厚み方向の表側に位置する第１部分と前記厚み方向の裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、システムが提供される。
　以上説明したように本発明によれば、誘導加熱式の吸引装置に適合する電磁誘導源に関する仕組みが提供される。
吸引装置の構成例を模式的に示す模式図である。 本実施形態に係る保持部付近の物理的な構成の一例を示す図である。 保持部にスティック型基材が所定の状態で収容された状態における、本実施形態に係る保持部付近の物理的な構成の一例を示す図である。 図３に示したＡ－Ａ切断線における断面の一例を示す図である。 図３に示したＢ－Ｂ切断線における断面の一例を示す図である。 第１の変形例について説明するための図である。 第１の変形例の他の一例について説明するための図である。 第２の変形例について説明するための図である。
　以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
　＜１．吸引装置の構成例＞
　本構成例に係る吸引装置は、エアロゾル源を含む基材を、誘導加熱（ＩＨ（Induction　Heating））により加熱することで、エアロゾルを生成する。以下、図１を参照しながら、本構成例を説明する。
　図１は、吸引装置の構成例を模式的に示す模式図である。図１に示すように、本構成例に係る吸引装置１００は、電源部１１１、センサ部１１２、通知部１１３、記憶部１１４、通信部１１５、制御部１１６、サセプタ１６１、電磁誘導源１６２、及び保持部１４０を含む。保持部１４０にスティック型基材１５０が保持された状態で、ユーザによる吸引が行われる。以下、各構成要素について順に説明する。
　電源部１１１は、電力を蓄積する。そして、電源部１１１は、吸引装置１００の各構成要素に、電力を供給する。電源部１１１は、例えば、リチウムイオン二次電池等の充電式バッテリにより構成され得る。電源部１１１は、ＵＳＢ（Universal　Serial　Bus）ケーブル等により外部電源に接続されることで、充電されてもよい。また、電源部１１１は、ワイヤレス電力伝送技術により送電側のデバイスに非接続な状態で充電されてもよい。他にも、電源部１１１のみを吸引装置１００から取り外すことができてもよく、新しい電源部１１１と交換することができてもよい。
　センサ部１１２は、吸引装置１００に関する各種情報を検出する。そして、センサ部１１２は、検出した情報を制御部１１６に出力する。一例として、センサ部１１２は、コンデンサマイクロホン等の圧力センサ、流量センサ又は温度センサにより構成される。そして、センサ部１１２は、ユーザによる吸引に伴う数値を検出した場合に、ユーザによる吸引が行われたことを示す情報を制御部１１６に出力する。他の一例として、センサ部１１２は、ボタン又はスイッチ等の、ユーザからの情報の入力を受け付ける入力装置により構成される。とりわけ、センサ部１１２は、エアロゾルの生成開始／停止を指示するボタンを含み得る。そして、センサ部１１２は、ユーザにより入力された情報を制御部１１６に出力する。他の一例として、センサ部１１２は、サセプタ１６１の温度を検出する温度センサにより構成される。かかる温度センサは、例えば、電磁誘導源１６２の電気抵抗値に基づいてサセプタ１６１の温度を検出する。センサ部１１２は、サセプタ１６１の温度に基づいて、保持部１４０により保持されたスティック型基材１５０の温度を検出してもよい。
　通知部１１３は、情報をユーザに通知する。一例として、通知部１１３は、ＬＥＤ（Light　Emitting　Diode）などの発光装置により構成される。その場合、通知部１１３は、電源部１１１の状態が要充電である場合、電源部１１１が充電中である場合、及び吸引装置１００に異常が発生した場合等に、それぞれ異なる発光パターンで発光する。ここでの発光パターンとは、色、及び点灯／消灯のタイミング等を含む概念である。通知部１１３は、発光装置と共に、又は代えて、画像を表示する表示装置、音を出力する音出力装置、及び振動する振動装置等により構成されてもよい。他にも、通知部１１３は、ユーザによる吸引が可能になったことを示す情報を通知してもよい。ユーザによる吸引が可能になったことを示す情報は、電磁誘導により発熱したスティック型基材１５０の温度が所定の温度に達した場合に、通知される。
　記憶部１１４は、吸引装置１００の動作のための各種情報を記憶する。記憶部１１４は、例えば、フラッシュメモリ等の不揮発性の記憶媒体により構成される。記憶部１１４に記憶される情報の一例は、制御部１１６による各種構成要素の制御内容等の、吸引装置１００のＯＳ（Operating　System）に関する情報である。記憶部１１４に記憶される情報の他の一例は、吸引回数、吸引時刻、吸引時間累計等の、ユーザによる吸引に関する情報である。
　通信部１１５は、吸引装置１００と他の装置との間で情報を送受信するための、通信インタフェースである。通信部１１５は、有線又は無線の任意の通信規格に準拠した通信を行う。かかる通信規格としては、例えば、無線ＬＡＮ（Local　Area　Network）、有線ＬＡＮ、Ｗｉ－Ｆｉ（登録商標）、又はＢｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）等が採用され得る。一例として、通信部１１５は、ユーザによる吸引に関する情報をスマートフォンに表示させるために、ユーザによる吸引に関する情報をスマートフォンに送信する。他の一例として、通信部１１５は、記憶部１１４に記憶されているＯＳの情報を更新するために、サーバから新たなＯＳの情報を受信する。
　制御部１１６は、演算処理装置及び制御装置として機能し、各種プログラムに従って吸引装置１００内の動作全般を制御する。制御部１１６は、例えばＣＰＵ（Central　Processing　Unit）、及びマイクロプロセッサ等の電子回路によって実現される。他に、制御部１１６は、使用するプログラム及び演算パラメータ等を記憶するＲＯＭ（Read　Only　Memory）、並びに適宜変化するパラメータ等を一時記憶するＲＡＭ（Random　Access　Memory）を含んでいてもよい。吸引装置１００は、制御部１１６による制御に基づいて、各種処理を実行する。電源部１１１から他の各構成要素への給電、電源部１１１の充電、センサ部１１２による情報の検出、通知部１１３による情報の通知、記憶部１１４による情報の記憶及び読み出し、並びに通信部１１５による情報の送受信は、制御部１１６により制御される処理の一例である。各構成要素への情報の入力、及び各構成要素から出力された情報に基づく処理等、吸引装置１００により実行されるその他の処理も、制御部１１６により制御される。
　保持部１４０は、内部空間１４１を有し、内部空間１４１にスティック型基材１５０の一部を収容しながらスティック型基材１５０を保持する。保持部１４０は、内部空間１４１を外部に連通する開口１４２を有し、開口１４２から内部空間１４１に挿入されたスティック型基材１５０を保持する。例えば、保持部１４０は、開口１４２及び底部１４３を底面とする筒状体であり、柱状の内部空間１４１を画定する。保持部１４０は、筒状体の高さ方向の少なくとも一部において、内径がスティック型基材１５０の外径よりも小さくなるように構成され、内部空間１４１に挿入されたスティック型基材１５０を外周から圧迫するようにしてスティック型基材１５０を保持し得る。保持部１４０は、スティック型基材１５０を通る空気の流路を画定する機能も有する。かかる流路内への空気の入り口である空気流入孔は、例えば底部１４３に配置される。他方、かかる流路からの空気の出口である空気流出孔は、開口１４２である。
　スティック型基材１５０は、スティック型の部材である。スティック型基材１５０は、基材部１５１、及び吸口部１５２を含む。
　基材部１５１は、エアロゾル源を含む。エアロゾル源は、加熱されることで霧化され、エアロゾルが生成される。エアロゾル源は、例えば、刻みたばこ又はたばこ原料を、粒状、シート状、又は粉末状に成形した加工物などの、たばこ由来のものであってもよい。また、エアロゾル源は、たばこ以外の植物（例えばミント及びハーブ等）から作られた、非たばこ由来のものを含んでいてもよい。一例として、エアロゾル源は、メントール等の香料成分を含んでいてもよい。吸引装置１００が医療用吸入器である場合、エアロゾル源は、患者が吸入するための薬剤を含んでもよい。なお、エアロゾル源は固体に限られるものではなく、例えば、グリセリン及びプロピレングリコール等の多価アルコール、並びに水等の液体であってもよい。基材部１５１の少なくとも一部は、スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態において、保持部１４０の内部空間１４１に収容される
　吸口部１５２は、吸引の際にユーザに咥えられる部材である。吸口部１５２の少なくとも一部は、スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態において、開口１４２から突出する。そして、開口１４２から突出した吸口部１５２をユーザが咥えて吸引すると、図示しない空気流入孔から保持部１４０の内部に空気が流入する。流入した空気は、保持部１４０の内部空間１４１を通過して、すなわち、基材部１５１を通過して、基材部１５１から発生するエアロゾルと共に、ユーザの口内に到達する。
　さらに、スティック型基材１５０は、サセプタ１６１を含む。サセプタ１６１は、電磁誘導により発熱する。サセプタ１６１は、金属等の導電性の素材により構成される。一例として、サセプタ１６１は、金属板である。サセプタ１６１は、エアロゾル源に近接して配置される。図１に示した例では、サセプタ１６１は、スティック型基材１５０の基材部１５１に含まれる。
　ここで、サセプタ１６１は、エアロゾル源に熱的に近接して配置される。サセプタ１６１がエアロゾル源に熱的に近接しているとは、サセプタ１６１に発生した熱が、エアロゾル源に伝達される位置に、サセプタ１６１が配置されていることを指す。例えば、サセプタ１６１は、エアロゾル源と共に基材部１５１に含有され、エアロゾル源により周囲を囲まれる。かかる構成により、サセプタ１６１から発生した熱を、効率よくエアロゾル源の加熱に使用することが可能となる。
　なお、サセプタ１６１には、スティック型基材１５０の外部から接触不可能であってもよい。例えば、サセプタ１６１は、スティック型基材１５０の内部に埋没するように配置されてもよい。
　電磁誘導源１６２は、電磁誘導によりサセプタ１６１を発熱させる。電磁誘導源１６２は、例えば、コイル状の導線により構成され、保持部１４０の外周に巻き付くように配置される。電磁誘導源１６２は、電源部１１１から交流電流が供給されると、磁界を発生させる。電磁誘導源１６２は、発生させた磁界に保持部１４０の内部空間１４１が重畳する位置に配置される。よって、保持部１４０にスティック型基材１５０が保持された状態で磁界が発生すると、サセプタ１６１において渦電流が発生して、ジュール熱が発生する。そして、かかるジュール熱によりスティック型基材１５０に含まれるエアロゾル源が加熱されて霧化され、エアロゾルが生成される。一例として、所定のユーザ入力が行われたことがセンサ部１１２により検出された場合に、給電され、エアロゾルが生成されてもよい。サセプタ１６１及び電磁誘導源１６２により誘導加熱されたスティック型基材１５０の温度が所定の温度に達した場合に、ユーザによる吸引が可能となる。その後、所定のユーザ入力が行われたことがセンサ部１１２により検出された場合に、給電が停止されてもよい。他の一例として、ユーザによる吸引が行われたことがセンサ部１１２により検出されている期間において、給電され、エアロゾルが生成されてもよい。
　なお、吸引装置１００とスティック型基材１５０とを組み合わせることでエアロゾルを生成可能になる点で、吸引装置１００とスティック型基材１５０との組み合わせが１つのシステムとして捉えられてもよい。
　＜２．誘導加熱＞
　誘導加熱について、以下に詳細に説明する。
　誘導加熱とは、導電性を有する物体に変動磁場を侵入させることによって、その物体を加熱するプロセスである。誘導加熱には、変動磁場を発生させる磁場発生器と、変動磁場に曝されることにより加熱される、導電性を有する被加熱物とが関与する。変動磁場の一例は、交番磁場である。図１に示した電磁誘導源１６２は、磁場発生器の一例である。図１に示したサセプタ１６１は、被加熱物の一例である。
　磁場発生器と被加熱物とが、磁場発生器から発生した変動磁場が被加熱物に侵入するような相対位置に配置された状態で、磁場発生器から変動磁場が発生すると、被加熱物に渦電流が誘起される。被加熱物に渦電流が流れることにより、被加熱物の電気抵抗に応じたジュール熱が発生し、被加熱物が加熱される。このような加熱は、ジュール加熱、オーム加熱、又は抵抗加熱とも称される。
　被加熱物は、磁性を有していてもよい。その場合、被加熱物は、磁気ヒステリシス加熱によりさらに加熱される。磁気ヒステリシス加熱とは、磁性を有する物体に変動磁場を侵入させることによって、その物体を加熱するプロセスである。磁場が磁性体に侵入すると、磁性体に含まれる磁気双極子が磁場に沿って整列する。従って、変動磁場が磁性体に侵入すると、磁気双極子の向きは、印可された変動磁場に応じて変化する。このような磁気双極子の再配向によって、磁性体に熱が発生し、被加熱物が加熱される。
　磁気ヒステリシス加熱は、典型的には、キュリー点以下の温度で発生し、キュリー点を超える温度では発生しない。キュリー点とは、磁性体がその磁気特性を失う温度である。例えば、キュリー点以下の温度で強磁性を有する被加熱物の温度がキュリー点を超えると、被加熱物の磁性には、強磁性から常磁性への可逆的な相転移が生じる。被加熱物の温度がキュリー点を超えると、磁気ヒステリシス加熱が発生しなくなるので、昇温速度が鈍化する。
　被加熱物は、導電性の材料により構成されることが望ましい。さらに、被加熱物は、強磁性を有する材料により構成されることが望ましい。後者の場合、抵抗加熱と磁気ヒステリシス加熱との組み合わせにより、加熱効率を高めることが可能なためである。例えば、被加熱物は、アルミニウム、鉄、ニッケル、コバルト、導電性炭素、銅、及びステンレス鋼などを含む素材群から選択される１以上の素材により構成される。
　抵抗加熱、及び磁気ヒステリシス加熱の双方において、熱は、外部熱源からの熱伝導により発生するのではなく、被加熱物の内部で発生する。そのため、被加熱物の急速な温度上昇、及び均一な熱分布を実現することができる。これは、被加熱物の材料及び形状、並びに変動磁場の大きさ及び向きを適切に設計することにより、実現することができる。即ち、スティック型基材１５０に含まれるサセプタ１６１の分布を適切に設計することにより、スティック型基材１５０の急速な温度上昇、及び均一な熱分布を実現することができる。従って、予備加熱にかかる時間を短縮可能な上に、ユーザが味わう香味の質を向上させることも可能である。
　誘導加熱は、スティック型基材１５０に含まれるサセプタ１６１を直接加熱するため、外部熱源によりスティック型基材１５０を外周等から加熱する場合と比較して、基材を効率的に加熱することが可能である。また、外部熱源による加熱を行う場合、外部熱源は必然的にスティック型基材１５０よりも高温になる。一方で、誘導加熱を行う場合、電磁誘導源１６２はスティック型基材１５０よりも高温にならない。そのため、外部熱源を用いる場合と比較して吸引装置１００の温度を低く維持することができるので、ユーザの安全面に関し大きな利点となる。
　電磁誘導源１６２は、電源部１１１から供給された電力を使用して変動磁場を発生させる。一例として、電源部１１１は、ＤＣ（Direct　Current）電源であってもよい。その場合、電源部１１１は、ＤＣ／ＡＣ（Alternate　Current）インバータを介して、交流電力を電磁誘導源１６２に供給する。その場合、電磁誘導源１６２は、交番磁場を発生させることができる。
　＜３．技術的特徴＞
　図２は、本実施形態に係る保持部１４０付近の物理的な構成の一例を示す図である。図３は、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態における、本実施形態に係る保持部１４０付近の物理的な構成の一例を示す図である。図４は、図３に示したＡ－Ａ切断線における断面の一例を示す図である。図５は、図３に示したＢ－Ｂ切断線における断面の一例を示す図である。
　保持部１４０は、スティック型基材１５０及びサセプタ１６１を内部空間１４１に収容可能な収容部の一例である。図２に示すように、電磁誘導源１６２は、ソレノイド型のコイルとして構成され、保持部１４０を囲うように配置される。ここでのソレノイド型のコイルとは、銅等の導電体を１周以上巻いたコイルを指し、巻く形状は矩形でも円形でも特に限定されない。
　図４及び図５に示すように、サセプタ１６１は、板状に形成される。そして、サセプタ１６１の板面が、長手方向及び短手方向に延び、且つ厚み方向で表裏を成すように形成される。サセプタ１６１の長手方向、短手方向及び厚み方向は互いに直交する。
　サセプタ１６１は、強磁性を有し、且つ電磁誘導源１６２による誘導加熱により到達可能な温度の範囲内にキュリー点が含まれる素材により構成される。一例として、サセプタ１６１は、ＳＵＳ（steel use stainless）４３０により構成されてもよい。その場合、サセプタ１６１を構成するＳＵＳ４３０のキュリー点は、電磁誘導源１６２による誘導加熱によりサセプタ１６１が到達可能な温度の範囲内に収まる。電磁誘導源１６２による誘導加熱によりサセプタ１６１が到達可能な温度の範囲は、一例として０℃～３５０℃である。
　電磁誘導源１６２は、電源部１１１から供給された電力を使用して、コイルにより囲まれる空間、即ち内部空間１４１に変動磁場を発生させる。図２に示すように、スティック型基材１５０が保持部１４０に保持された状態では、サセプタ１６１は、コイルにより囲まれることとなる。そのため、電磁誘導源１６２から発生した変動磁場は、サセプタ１６１に侵入してサセプタ１６１に渦電流を発生させる。具体的には、サセプタ１６１の断面には、電磁誘導源１６２に流れる電流とは逆向きの方向に渦電流が流れる。この渦電流は、サセプタ１６１の表面から次式で示される電流浸透深さδの範囲に集中して流れる。この渦電流により、サセプタ１６１は加熱される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　ここで、δは、電流浸透深さ［ｍｍ］である。ρは、比抵抗［Ωｍ］である。μｒは、比透磁率である。ｆは、加熱周波数［Ｈｚ］である。
　図２～図５に示すＺ軸方向は、内部空間１４１の長手方向であって、スティック型基材１５０が挿抜される方向である。以下では、Ｚ軸方向のうち、スティック型基材１５０が抜去される方向を正とし、スティック型基材１５０が挿入される方向を負とする。
　図２～図４に示すように、サセプタ１６１の表裏に位置する電磁誘導源１６２は、保持部１４０を挟んでＺ軸方向にずれた状態で配置される。Ｘ軸方向は、電磁誘導源１６２の保持部１４０を挟んだＺ軸方向のずれが最も大きい方向である。以下では、Ｘ軸正方向を表側とも称し、Ｘ軸負方向を裏側とも称する。
　Ｙ軸方向は、Ｘ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向である。典型的には、Ｙ軸方向は、電磁誘導源１６２の保持部１４０を挟んだＺ軸方向のずれが最も小さい方向である。
　図３～図５に示すように、サセプタ１６１の長手方向がＺ軸方向に、サセプタ１６１の短手方向がＹ軸方向に、サセプタ１６１の厚み方向がＸ軸方向に、それぞれ実質的に一致している。そして、スティック型基材１５０の先端が保持部１４０の底部１４３まで到達している。このような状態が、保持部１４０にサセプタ１６１（即ち、サセプタ１６１を含有するスティック型基材１５０）が所定の状態で収容（保持）された状態である。なお、実質的に一致するとは、完全一致の他、数度未満ずれた状態を含むものとする。
　図４に示すように、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態において、電磁誘導源１６２の第１部分１６２Ａと第２部分１６２Ｂとは、第１投影領域ＸＡ及び第２投影領域ＸＢの各々の面積に対する重複領域Ｙの面積の割合が０～９０％となるように、サセプタ１６１の長手方向に互いにずれた状態で配置される。換言すると、電磁誘導源１６２は、Ｙ／ＸＡ×１００％及びＹ／ＸＢ×１００％の各々が、０～９０％になるように、即ち、Ｚ軸方向に互いにずれた状態で配置される。かかる構成によれば、以下に説明するように、サセプタ１６１を効率的に加熱することが可能となる。
　第１投影領域ＸＡは、サセプタ１６１の表側の表面１６１Ａに、電磁誘導源１６２のうちサセプタ１６１の表側に位置する第１部分１６２Ａを垂直投影した領域である。ここで、第１投影領域ＸＡは、第１部分１６２ＡのＺ軸方向の両端をサセプタ１６１の表側の表面１６１Ａに垂直投影したときの線により囲まれる領域である。即ち、第１投影領域ＸＡは、コイルが実際に投影される領域だけではなく、コイル間に挟まれる領域も含む。
　第２投影領域ＸＢは、サセプタ１６１の裏側の表面１６１Ｂに、電磁誘導源１６２のうちサセプタ１６１の裏側に位置する第２部分１６２Ｂを垂直投影した領域である。ここで、第２投影領域ＸＢは、第２部分１６２ＢのＺ軸方向の両端をサセプタ１６１の裏側の表面１６１Ｂに垂直投影したときの線により囲まれる領域である。即ち、第２投影領域ＸＢは、コイルが実際に投影される領域だけではなく、コイル間に挟まれる領域も含む。
　重複領域Ｙは、第１投影領域ＸＡ及び第２投影領域ＸＢが厚み方向に重なる領域である。第１投影領域ＸＡのうち重複領域Ｙ以外の領域を、第１非重複領域ＺＡとも称する。第２投影領域ＸＢのうち重複領域Ｙ以外の領域を、第２非重複領域ＺＢとも称する。
　図５に示すように、重複領域Ｙにおいては、サセプタ１６１の表裏の双方に、電磁誘導源１６２が存在する。そのため、サセプタ１６１の表裏の双方において、電磁誘導源１６２に流れる電流１０とは逆向きの方向に渦電流２０が流れる。そのため、重複領域Ｙでは、サセプタ１６１の表裏を流れる渦電流が干渉して打ち消し合う場合がある。その結果、サセプタ１６１の断面内を電流が流れにくくなり、加熱が阻害されてしまう。
　一方で、第１非重複領域ＺＡ及び第２非重複領域ＺＢでは、サセプタ１６１の表裏の一方にのみ電磁誘導源１６２が存在する。そのため、これらの領域では、サセプタ１６１の表裏の一方において、電磁誘導源１６２に流れる電流１０とは逆向きの方向に渦電流２０が流れる。従って、これらの領域では、表裏での渦電流の干渉が発生しないので、サセプタ１６１が阻害されることなく好適に加熱される。
　上述した重複領域Ｙにおける加熱の阻害は、サセプタ１６１の温度が上昇するにつれて深刻になる。金属は、温度の上昇に伴い比抵抗ρが上昇する。上記数式（１）より、比抵抗ρが上昇するにつれて電流浸透深さδが深くなる。また、ＳＵＳ４３０のような強磁性の磁性材では、温度が上昇しキュリー点に近づくにつれ比透磁率μｒが減少し、キュリー点を超えると比透磁率μｒは１になる。従って、上記数式（１）より、比透磁率μｒが減少するにつれて電流浸透深さδが深くなる。このように、渦電流２０の電流浸透深さδは、温度上昇とともに深くなる。電流浸透深さδが深くなるにつれて、サセプタ１６１の表裏を流れる渦電流２０の干渉が大きくなるので、薄い板厚のサセプタ１６１では、加熱困難になってしまう。
　この点、本実施形態では、サセプタ１６１の表裏に位置する電磁誘導源１６２を、サセプタ１６１の長手方向に互いにずれた状態で配置することで、サセプタ１６１の表裏を流れる渦電流の干渉を軽減して、効率的な加熱を実現することが可能である。なお、第１投影領域ＸＡ及び第２投影領域ＸＢの各々の面積に対する重複領域Ｙの面積の割合は、上述した理由で少ないほど望ましい。例えば、第１投影領域ＸＡ及び第２投影領域ＸＢの各々の面積に対する重複領域Ｙの面積の割合は、０～６０％であるとより効果的である。
　電磁誘導源１６２による誘導加熱によりサセプタ１６１が到達可能な温度の範囲内で、電流浸透深さδは１０～２００［μｍ］に達することが想定される。これに対し、サセプタ１６１の厚みは、１０～１００［μｍ］であってもよい。かかる構成によれば、第１非重複領域ＺＡ及び第２非重複領域ＺＢでは、厚み方向全域にわたって一方向に渦電流が流れるので、急速な加熱が可能となる。
　スティック型基材１５０のうち、第１非重複領域ＺＡ又は第２非重複領域ＺＢに近接する部分と重複領域Ｙに近接する部分とで、エアロゾル源の分布が異なっていてもよい。第１非重複領域ＺＡ及び第２非重複領域ＺＢは、重複領域Ｙと比較して高温になりやすく、その傾向はキュリー点を超えるとさらに顕著になる。つまり、スティック型基材１５０のうち、第１非重複領域ＺＡ又は第２非重複領域ＺＢに近接する部分は高温になりやすい一方で、重複領域Ｙに近接する部分は高温になりにくい。この点、かかる構成によれば、温度上昇の度合いに応じてエアロゾル源を分布させることで、好適なエアロゾルを生成することが可能となる。なお、ここでの近接とは、スティック型基材１５０の長手方向で同一又は近い位置に位置することを意味するものとする。
　とりわけ、スティック型基材１５０のうち、第１非重複領域ＺＡ又は第２非重複領域ＺＢに近接する部分では、重複領域Ｙに近接する部分と比較して、エアロゾル源が多く分布していてもよい。かかる構成によれば、スティック型基材１５０のうち第１非重複領域ＺＡ又は第２非重複領域ＺＢに近接する部分、即ち高温になりやすい部分にエアロゾル源が多く分布するので、多くのエアロゾルを生成することが可能となる。
　＜４．変形例＞
　＜４．１．第１の変形例＞
　スティック型基材１５０がＺ軸を回転軸として保持部１４０に対し回転可能である場合、サセプタ１６１と電磁誘導源１６２との相対的な位置関係が変化し得る。この場合、図３～図５に示したような、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態にすることが困難になり得る。
　例えば、図３～図５に示した例からスティック型基材１５０が９０°回転すると、サセプタ１６１の表裏に位置する（即ちＹ軸方向の正側及び負側に位置する）電磁誘導源１６２は、保持部１４０を挟んでＺ軸方向にほぼずれがない状態で配置されることとなる。従って、第１投影領域ＸＡ及び第２投影領域ＸＢの各々の面積に対する重複領域Ｙの面積の割合はほぼ１００％になるので、効率的な加熱が困難になり得る。
　そこで、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態を容易に実現可能な仕組みが提供されることが望ましい。以下、図６及び図７を参照しながら、かかる仕組みの例を説明する。
　図６は、第１の変形例について説明するための図である。図６では、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態における、吸引装置１００及びスティック型基材１５０の外観が示されている。図６に示すように、開口１４２付近の吸引装置１００の表面、及びスティック型基材１５０の表面の各々に、目印３１、３２が付与されていてもよい。そして、開口１４２付近の吸引装置１００の表面に付与された目印３１の位置と、スティック型基材１５０の表面に付与された目印３２の位置とは、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容される場合に一致してもよい。ユーザは、図６に示すように、矢印である目印３１と矢印である目印３２とが向かい合わせになるようスティック型基材１５０を内部空間１４１に挿入するよう促される。そして、矢印である目印３１と矢印である目印３２とが向かい合わせになるようスティック型基材１５０が内部空間１４１に挿入されると、図３～図５に示したように、スティック型基材１５０が所定の状態で保持部１４０に収容されることとなる。
　かかる構成によれば、ユーザが、目印３１の位置と目印３２の位置を合わせてスティック型基材１５０を内部空間１４１に挿入するだけで、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態を容易に実現することが可能となる。
　図７は、第１の変形例の他の一例について説明するための図である。図７では、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態における、保持部１４０付近の断面が示されている。図７に示すように、内部空間１４１及びスティック型基材１５０の各々は、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容される場合に、内部空間１４１にスティック型基材１５０を挿入可能な形状を有していてもよい。
　図７に示した例では、内部空間１４１及びスティック型基材１５０の断面形状は、長辺と短辺とを有する長方形であり、互いの長辺同士及び短辺同士が一致する状態でのみスティック型基材１５０の挿入が可能である。とりわけ、内部空間１４１の断面形状の短辺はＸ軸方向に形成され、内部空間１４１の断面形状の長辺はＹ軸方向に形成されている。そして、スティック型基材１５０の断面の短辺方向にサセプタ１６１の厚み方向が平行するように、スティック型基材１５０内にサセプタ１６１が配置されている。そのため、図７に示すように、内部空間１４１にスティック型基材１５０を挿入すると、サセプタ１６１の厚み方向がＸ軸方向に実質的に一致する。即ち、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態となる。
　かかる構成によれば、ユーザがスティック型基材１５０を内部空間１４１に挿入するだけで、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態を容易に実現することが可能となる。
　なお、保持部１４０及びスティック型基材１５０の断面形状は、図７に示した長方形に限定されず、例えば楕円形等であってもよい。
　＜２．第２の変形例＞
　上記実施形態では、内部空間１４１の長手方向とサセプタ１６１の長手方向とが、実質的に一致する例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。内部空間１４１の長手方向とサセプタ１６１の長手方向とは実質的に異なっていてもよい。実質的に異なるとは、数度以上ずれた状態である。かかる例について、図８を参照しながら説明する。
　図８は、第２の変形例について説明するための図である。図８では、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態における、保持部１４０付近の断面が示されている。図８に示すように、スティック型基材１５０の長手方向に対し、サセプタ１６１の長手方向が傾斜していてもよい。そして、内部空間１４１の長手方向（即ち、Ｚ軸方向）に対し、サセプタ１６１の長手方向が傾斜していてもよい。ただし、サセプタ１６１は、保持部１４０にスティック型基材１５０が所定の状態で収容された状態において、第１投影領域ＸＡ及び第２投影領域ＸＢの各々の面積に対する重複領域Ｙの面積の割合が０～９０％となるように、サセプタ１６１の長手方向が内部空間１４１の長手方向に対して傾斜する。かかる構成によれば、上記実施形態と同様の効果が奏される。即ち、サセプタ１６１の表裏に位置する電磁誘導源１６２を、サセプタ１６１の長手方向に互いにずれた状態で配置することで、サセプタ１６１の表裏を流れる渦電流の干渉を軽減して、効率的な加熱を実現することが可能である。
　なお、本変形例における所定の状態とは、サセプタ１６１の短手方向がＹ軸方向に実質的に一致し、スティック型基材１５０の先端が保持部１４０の底部１４３まで到達している状態を指すものとする。
　＜５．補足＞
　以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
　例えば、上記実施形態では、サセプタ１６１が板状であり断面形状が長方形である例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。例えば、サセプタ１６１の断面形状は、角丸長方形、正方形、円、又は楕円形等の任意の形状であってよい。また、サセプタ１６１の表面は平坦であってもよいし、波打つ等変化してもよい。
　例えば、上記実施形態では、基材部１５１にサセプタ１６１が含有される例を説明したが、本発明はかかる例に限定されない。即ち、サセプタ１６１は、サセプタ１６１がエアロゾル源に熱的に近接する任意の位置に配置され得る。一例として、サセプタ１６１は、ブレード状に構成されて保持部１４０の底部１４３から内部空間１４１に突出するように配置されてもよい。そして、スティック型基材１５０が保持部１４０に挿入された際に、スティック型基材１５０の挿入方向の端部から基材部１５１に、ブレード状のサセプタ１６１が突き刺さるように挿入されてもよい。この場合、保持部１４０がサセプタ１６１を常に所定の状態で収容するように、内部空間１４１内にサセプタ１６１が配置される。
　なお、以下のような構成も本発明の技術的範囲に属する。
（１）
　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
　ソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源と、
　を備え、
　前記収容部に前記サセプタが所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの長手方向に直交する厚み方向の表側に位置する第１部分と前記厚み方向の裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、
　吸引装置。
（２）
　前記サセプタの形状は、板状である、
　前記（１）に記載の吸引装置。
（３）
　前記サセプタの厚みは、１０～１００［μｍ］である、
　前記（１）又は（２）に記載の吸引装置。
（４）
　前記サセプタは、強磁性を有し、且つ前記電磁誘導源による誘導加熱により到達可能な温度の範囲内にキュリー点が含まれる素材により構成される、
　前記（１）～（３）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（５）
　前記サセプタは、ＳＵＳ（steel use stainless）４３０により構成される、
　前記（４）に記載の吸引装置。
（６）
　前記基材のうち、前記第１投影領域のうち前記重複領域以外の領域である第１非重複領域又は前記第２投影領域のうち前記重複領域以外の領域である第２非重複領域に近接する部分と前記重複領域に近接する部分とで、前記エアロゾル源の分布が異なる、
　前記（１）～（５）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（７）
　前記基材のうち、前記第１非重複領域又は前記第２非重複領域に近接する部分では、前記重複領域に近接する部分と比較して、前記エアロゾル源が多く分布する、
　前記（６）に記載の吸引装置。
（８）
　前記内部空間の長手方向と、前記サセプタの長手方向とは、実質的に一致し、
　前記第１部分と前記第２部分とは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容された状態において、前記第１投影領域及び前記第２投影領域の各々の面積に対する前記重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記内部空間の長手方向に互いにずれた状態で配置される、
　前記（１）～（７）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（９）
　前記内部空間の長手方向と、前記サセプタの長手方向とは、実質的に異なり、
　前記サセプタは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容された状態において、前記第１投影領域及び前記第２投影領域の各々の面積に対する前記重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向が前記内部空間の長手方向に対して傾斜する、
　前記（１）～（８）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（１０）
　前記サセプタは、前記基材に含まれる、
　前記（１）～（９）のいずれか一項に記載の吸引装置。
（１１）
　前記収容部は、開口を有し、前記開口から前記内部空間に前記基材が挿入され、
　前記開口付近の前記吸引装置の表面及び前記基材の表面の各々に目印が付与され、
　前記開口付近の前記吸引装置の表面に付与された前記目印の位置と前記基材の表面に付与された前記目印の位置とは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容される場合に一致する、
　前記（１０）に記載の吸引装置。
（１２）
　前記収容部は、開口を有し、前記開口から前記内部空間に前記基材が挿入され、
　前記内部空間及び前記基材の各々は、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容される場合に、前記内部空間に前記基材を挿入可能な形状を有する、
　前記（１０）又は（１１）に記載の吸引装置。
（１３）
　エアロゾル源、及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを含有する基材と、
　前記基材を内部空間に収容可能な収容部、及びソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源を有する吸引装置と、
　を備え、
　前記収容部に前記基材が所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの長手方向に直交する厚み方向の表側に位置する第１部分と前記厚み方向の裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、
　システム。
　１００　　吸引装置
　１１１　　電源部
　１１２　　センサ部
　１１３　　通知部
　１１４　　記憶部
　１１５　　通信部
　１１６　　制御部
　１４０　　保持部（収容部）
　１４１　　内部空間
　１４２　　開口
　１４３　　底部
　１５０　　スティック型基材
　１５１　　基材部
　１５２　　吸口部
　１６１　　サセプタ
　１６１Ａ　　サセプタの表側の表面
　１６１Ｂ　　サセプタの裏側の表面
　１６２　　電磁誘導源
　１６２Ａ　　第１部分
　１６２Ｂ　　第２部分
　１０　　電磁誘導源に流れる電流
　２０　　サセプタの表面に流れる渦電流
　３１、３２　　目印
　ＸＡ　　第１投影領域
　ＸＢ　　第２投影領域
　Ｙ　　重複領域
　ＺＡ　　第１非重複領域
　ＺＢ　　第２非重複領域

Claims (13)

  1. 　エアロゾル源を含有する基材及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを内部空間に収容可能な収容部と、
    　ソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源と、
    　を備え、
    　前記収容部に前記サセプタが所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの長手方向に直交する厚み方向の表側に位置する第１部分と前記厚み方向の裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、
    　吸引装置。
  2. 　前記サセプタの形状は、板状である、
    　請求項１に記載の吸引装置。
  3. 　前記サセプタの厚みは、１０～１００［μｍ］である、
    　請求項１又は２に記載の吸引装置。
  4. 　前記サセプタは、強磁性を有し、且つ前記電磁誘導源による誘導加熱により到達可能な温度の範囲内にキュリー点が含まれる素材により構成される、
    　請求項１～３のいずれか一項に記載の吸引装置。
  5. 　前記サセプタは、ＳＵＳ（steel use stainless）４３０により構成される、
    　請求項４に記載の吸引装置。
  6. 　前記基材のうち、前記第１投影領域のうち前記重複領域以外の領域である第１非重複領域又は前記第２投影領域のうち前記重複領域以外の領域である第２非重複領域に近接する部分と前記重複領域に近接する部分とで、前記エアロゾル源の分布が異なる、
    　請求項１～５のいずれか一項に記載の吸引装置。
  7. 　前記基材のうち、前記第１非重複領域又は前記第２非重複領域に近接する部分では、前記重複領域に近接する部分と比較して、前記エアロゾル源が多く分布する、
    　請求項６に記載の吸引装置。
  8. 　前記内部空間の長手方向と、前記サセプタの長手方向とは、実質的に一致し、
    　前記第１部分と前記第２部分とは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容された状態において、前記第１投影領域及び前記第２投影領域の各々の面積に対する前記重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記内部空間の長手方向に互いにずれた状態で配置される、
    　請求項１～７のいずれか一項に記載の吸引装置。
  9. 　前記内部空間の長手方向と、前記サセプタの長手方向とは、実質的に異なり、
    　前記サセプタは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容された状態において、前記第１投影領域及び前記第２投影領域の各々の面積に対する前記重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向が前記内部空間の長手方向に対して傾斜する、
    　請求項１～８のいずれか一項に記載の吸引装置。
  10. 　前記サセプタは、前記基材に含まれる、
    　請求項１～９のいずれか一項に記載の吸引装置。
  11. 　前記収容部は、開口を有し、前記開口から前記内部空間に前記基材が挿入され、
    　前記開口付近の前記吸引装置の表面及び前記基材の表面の各々に目印が付与され、
    　前記開口付近の前記吸引装置の表面に付与された前記目印の位置と前記基材の表面に付与された前記目印の位置とは、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容される場合に一致する、
    　請求項１０に記載の吸引装置。
  12. 　前記収容部は、開口を有し、前記開口から前記内部空間に前記基材が挿入され、
    　前記内部空間及び前記基材の各々は、前記収容部に前記サセプタが前記所定の状態で収容される場合に、前記内部空間に前記基材を挿入可能な形状を有する、
    　請求項１０又は１１に記載の吸引装置。
  13. 　エアロゾル源、及び前記エアロゾル源に熱的に近接するサセプタを含有する基材と、
    　前記基材を内部空間に収容可能な収容部、及びソレノイド型のコイルとして構成され、前記収容部を囲うように配置される電磁誘導源を有する吸引装置と、
    　を備え、
    　前記収容部に前記基材が所定の状態で収容された状態において、前記電磁誘導源のうち前記サセプタの長手方向に直交する厚み方向の表側に位置する第１部分と前記厚み方向の裏側に位置する第２部分とが、前記サセプタの前記表側の表面に前記第１部分を垂直投影した第１投影領域及び前記サセプタの前記裏側の表面に前記第２部分を垂直投影した第２投影領域の各々の面積に対する前記第１投影領域及び前記第２投影領域が前記厚み方向に重なる重複領域の面積の割合が０～９０％となるように、前記サセプタの長手方向に互いにずれた状態で配置される、
    　システム。
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