WO2022163635A1 - ガス分析装置および制御方法 - Google Patents

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直樹 高橋
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アトナープ株式会社
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    • H01J49/427—Ejection and selection methods
    • H01J49/429—Scanning an electric parameter, e.g. voltage amplitude or frequency

Definitions

  • the present invention relates to a gas analyzer and its control method.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 1996-7829 describes simplifying the configuration of the ion deflection lens of a plasma mass spectrometer and facilitating adjustment. Therefore, a cylindrical intermediate electrode with an obliquely cut end face is provided between the first and second electrode plates which are provided substantially perpendicular to the direction of ion emission from the nozzle, and a DC voltage is applied to each electrode. Both fields are tilted and ions are deflected by both fields. On the other hand, since the plasma light travels straight, it is shielded by the second electrode plate.
  • One aspect of the present invention includes an ionizer that generates an ion flow of a sample gas, an analyzer that continuously or intermittently analyzes the ion flow supplied from the ionizer, and an ion flow from the ionizer to an inlet of the analyzer. and intermittently blocking ion flow in at least a portion of the ion flow path through the first ion path to a mass filter of the spectrometer by an electric or magnetic field. and a releasing blocking device, which allows measurement of blocked ion flow and unblocked ion flow.
  • the ionization device may include a device for plasma ionizing the sample gas, and the blocking device may include either a blocking potential generator and an energy filter.
  • This gas analyzer can employ the following control method, and highly accurate measurement can be performed while suppressing the influence of light from the ionizer and the influence of other noises.
  • This control method includes the following steps. 1. Acquiring first detection data with the spectrometer while the ion stream is blocked from passing by the blocking device. 2. Acquiring second detection data with the spectrometer in a state in which passage of the ion stream is not blocked by the blocking device, i.e., in a state in which the passage of the ion stream is released. 3. Outputting a detection result including a difference between the second detection data and the first detection data.
  • the first detection data and the second detection data may include spectral data.
  • the first path guides the ion flow non-linearly (bending or bending), resulting in noise in the spectrometer. can suppress the influence of , and improve the accuracy of analysis.
  • background measurement results are obtained in a state where the ion flow is blocked (blocked), and ions
  • the gas analysis device has a control device for controlling the gas analysis device, and the control device has a first function of acquiring first detection data by the analyzer in a state in which passage of the ion flow is blocked by the blocking device. and a second function of acquiring second detection data by the spectrometer with the blocking device freed from passage of the ion stream, and a detection result including the difference between the second detection data and the first detection data. and a third function that outputs the
  • control device is a device that executes a program
  • the controlling program is to obtain first detection data by the spectrometer in a state in which passage of the ion flow is blocked by the blocking device; Acquiring second detection data with the spectrometer in a state in which passage of the ion stream is released by and outputting a detection result including a difference between the second detection data and the first detection data contains instructions to
  • FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a gas analyzer;
  • FIG. 4 shows some examples of data obtained by a gas analyzer;
  • 4 is a flow chart showing an outline of a control method for the gas analyzer.
  • FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of another example of the gas analyzer;
  • Figures 1(a) and 1(b) show the appearance of the gas analyzer viewed from the front right and front left.
  • This gas analyzer 1 is of a hybrid type that includes a microplasma generator and an electron impact (EI) ion source as an ionization device (ion source).
  • An example of the size and weight of the gas analyzer 1 is 400 mm in length, 297 mm in width, 341 mm in height, and 15 kg in weight, and operates with a power supply of 24 VDC (350 W).
  • the gas analyzer 1 includes a sample inlet 3a for plasma generation, a sample inlet 3b for EI ionization, and several ports 4 for data input/output on the side.
  • FIG. 2 shows a state in which the upper housing 2a and the side panel 2b of the gas analyzer 1 are removed.
  • the gas analyzer 1 includes an ionization unit (ion generation unit) 10 that ionizes a sample gas to be measured (sampling gas, gas sample) supplied from a process to be monitored, and the generated ions (ion flow).
  • an analysis unit (analyzer) 20 for analyzing a sample gas a control module 30 for the analysis unit 20, a system controller (programmable logic controller, PLC) 50 for controlling the gas analyzer 1 and outputting measurement data, and exhaust system 60 .
  • PLC programmable logic controller
  • FIG. 3 shows a schematic configuration of a process monitor 100 as an example of a system including the gas analyzer 1.
  • a gas analyzer 1 analyzes a sample gas 9 supplied from a process chamber 101 in which a plasma process to be monitored is performed.
  • the plasma processes carried out in the process chamber 101 are typically processes for forming various types of films or layers on substrates, etching substrates, and CVD (Chemical Vapor Deposition). or PVD (Physical Vapor Deposition).
  • the plasma process may be a process of laminating various types of thin films using optical components such as lenses and filters as substrates.
  • the process monitor system 100 using the gas analyzer 1 of this example it is possible to provide innovative process control by performing real-time monitoring even in a harsh environment and providing highly reliable measurement results.
  • the gas analyzer 1 functions as a total solution platform developed for the purpose of dramatically improving the throughput in semiconductor chip manufacturing and maximizing the yield rate.
  • the gas analyzer 1 of this example has a very small installation area, so that it can be directly connected to the chamber 101 and used on site.
  • standard protocols that are currently mainly used in semiconductor manufacturing process equipment, such as the Either CAT protocol can be mounted on the PLC 50 and integrated into the process equipment control system 100. be.
  • the gas analyzer 1 includes an ionization device 10 that generates ions (ion flow) 17 of the sample gas 9 and an analyzer (analysis unit) 20 that analyzes the ions 17 supplied from the ionization device 10 .
  • the ionization device 10 includes a plasma generation unit (plasma generation device) that generates a plasma (microplasma) 19 of the sample gas 9 to be measured supplied from the process via the sample input 3a and supplies it as an ion stream 17 to the analysis unit 20. ) 11.
  • the plasma generation unit 11 includes a dielectric wall structure 12a, a chamber (sample chamber) 12 into which the sample gas 9 to be measured flows, and a high-frequency electric field and/or magnetic field via the dielectric wall structure 12a. , a radio frequency supply device (RF supply mechanism) 13 for generating a plasma 19 in an evacuated sample chamber 12, and a plasma controller 16 for controlling the frequency and power of the radio frequency.
  • RF supply mechanism radio frequency supply device
  • the gas analyzer 1 of this example is a mass spectrometry analyzer capable of continuously or intermittently analyzing the sample gas 9 supplied from the process 100 .
  • the analysis unit 20 includes a filter unit (mass filter, quadrupole section in this example) 25 for filtering the flow (ion flow) 17 of the ionized sample gas (sample gas ions) by mass-to-charge ratio, and a filtered and a detector unit 26 for detecting ions.
  • the gas analyzer 1 further includes a vacuum container (housing) 40 containing the filter unit 25 and the detector unit 26, and an exhaust system 60 that maintains the inside of the housing 40 under an appropriate negative pressure condition (vacuum condition).
  • the exhaust system 60 in this example includes a turbomolecular pump (TMP) 61 and a roots pump (drag stage) 62 .
  • TMP turbomolecular pump
  • the exhaust system 60 is of split-flow type that also controls the internal pressure of the sample chamber 12 of the plasma generator 11 .
  • the input of the roots pump 62 or the stage having a negative pressure suitable for the internal pressure of the chamber 12 is communicated with the chamber 12 so that the internal pressure of the chamber 12 is controlled.
  • the mass filter 25 of this example includes four cylindrical or columnar electrodes (HyperQuad) 25a whose inner surfaces are finished with hyperboloids to form a hyperbolic electric field for filtering by mass-to-charge ratio.
  • the quadrupole-type mass filter 25 may be one in which a large number of, for example, nine cylindrical electrodes are arranged to form a matrix (array) so as to form a plurality of quasi-hyperbolic electric fields.
  • the detector unit 26 includes a Faraday Cap (FC) and a Secondary Electron Multiplier (SEM), which can be used in combination or by switching.
  • the detector unit 26 may be of other types, such as a channel secondary electron multiplier (CEM, Channel Electron Multiplier), a microchannel plate (MP, Microchannel Plate).
  • CEM channel secondary electron multiplier
  • MP Microchannel Plate
  • the plasma generation unit 11 of this example includes a sample chamber 12 for plasma generation that is integrally incorporated inside a housing 40 .
  • the outer shell of the chamber 12 is made of Hastelloy, an insulated cylindrical electrode is inserted therein, and plasma 19 is generated therein. Only the sample gas 9 flows into the evacuated sample chamber 12 from the process chamber 101 to be monitored via the sample input 3 a , and a plasma (microplasma) 19 is formed inside the sample chamber 12 . That is, in the plasma generation unit 11, the analysis plasma 19 is generated only from the sample gas 9 without using an assist gas (support gas) such as argon gas.
  • the wall 12a of the sample chamber 12 is made of a dielectric member (dielectric), one example of which is quartz, aluminum oxide ( Al2O3 ) and silicon nitride ( SiN3 ). It is a highly durable dielectric.
  • a plasma generation device (RF supply mechanism) 13 of the plasma generation unit 11 generates a plasma 19 by an electric field and/or a magnetic field through a dielectric wall structure 12a without using a plasma torch inside the sample chamber 12. Generate.
  • An example of the RF supply mechanism 13 is a mechanism that excites the plasma 19 with RF (Radio Frequency) power.
  • Examples of the RF supply mechanism 13 include inductively coupled plasma (ICP), dielectric barrier discharge (DBD), and electron cyclotron resonance (ECR). .
  • the RF supply 13 for generating plasma in these manners may include a radio frequency power source and an RF field shaping unit.
  • a typical RF field shaping unit includes coils positioned along the sample chamber 12 .
  • the plasma controller 16 of the plasma generation unit 11 of the present example includes a matching control unit 16a that adjusts (matches) the frequency of the RF field supplied by the RF supply 13 to maintain the plasma, and a matching RF frequency and a function (ignition unit) 16b that ignites by changing
  • the ignition unit 16b can ignite plasma using the RF supply device 13 by, for example, applying high-power high-frequency power in a pulse form for a short period of time, for example, about 10 ms, at a frequency higher than the matching frequency. Therefore, plasma can be easily ignited without providing electrodes for conventional glow discharge or without providing a mechanism for applying high voltage stimulation such as a piezoelectric element.
  • the plasma generation unit 11 may be of a type that forms an inductively coupled plasma (ICP) with an assist gas such as argon gas, introduces a sample gas, and ionizes the sample gas.
  • ICP inductively coupled plasma
  • the internal pressure of the sample chamber 12 of this example may be a pressure at which plasma is likely to be generated, for example, in the range of 0.01-1 kPa.
  • the internal pressure of the sample chamber 12 may be controlled to a lower pressure, for example, about 0.1 to several 10 Pa, 0.1 Pa or more, Alternatively, it may be controlled to 0.5 Pa or more, 10 Pa or less, or 5 Pa or less.
  • the inside of the sample chamber 12 may be evacuated to about 1-10 mTorr (0.13-1.3 Pa).
  • the sample chamber 12 may be a small chamber (miniature chamber) that can generate the microplasma 19, for example, several millimeters to several tens of millimeters. By reducing the capacity of the sample chamber 12, it is possible to provide the gas analyzer 1 excellent in real-time performance.
  • Sample chamber 12 may be cylindrical.
  • the gas analyzer 1 non-linearly directs a stream of ions 17 from an outlet 18 of a plasma generator 11 , typically a chamber 12 , of an ionizer 10 to an inlet 27 of an analyzer (analysis unit) 20 .
  • a path 41 and a second ion path 42 which directs the ion stream 17 from the inlet 27 of the analysis unit 20 into the filter unit 25 at a predetermined angle, typically parallel to the electrodes 25a of the filter unit 25; including.
  • a first ion path 41 includes a first electrostatic lens group 43 and extracts a stream of ions 17 from a plasma 19 formed in a sample chamber (plasma chamber) 12 by an electric field through a chamber outlet 18 and a chamber outlet (chamber
  • the ion flow 17 is directed to an inlet (aperture) 27 located non-linearly with respect to the aperture 18 .
  • the entrance 27 of the analysis unit 20 is an opening provided in the barrier 27 a so that only the ion flow 17 passing through the entrance (opening) 27 is introduced into the analysis unit 20 .
  • the inlet 27 of the analysis unit 20 with respect to the chamber outlet 18 is shifted with respect to the second ion path 42 or relative to the central axis of the quadrupole filter 25 such that the respective apertures do not overlap ( A first ion path 41 is provided between these apertures 18 and 27 to bend and direct the ion stream 17 .
  • the light leaking from the chamber outlet 18 is shielded from the analysis unit 20 by the barrier 27a.
  • the path of the ion flow 17 is bent under the influence of the electric field, whereas the light due to the excited luminescence of the plasma 19 leaking from the chamber exit 18 travels straight without being affected by the electric field. Therefore, at a position shifted with respect to the chamber outlet 18, an opening 27 is provided which leads the ion stream 17 to the filter unit 25, the ion stream 17 being non-linearly (bent) leading to a first ion path 41 between them. , it is possible to suppress the plasma excitation light emitted linearly from the chamber outlet 18 from reaching the inlet (opening) 27 of the analysis unit 20 .
  • the excitation light of the plasma reaches the detector 26, which in this example is a combination of a Faraday cup (FC) and a secondary electron multiplier (SEM), and the secondary electrons become a background signal (noise) in the mass spectrum. can be suppressed from being generated.
  • FC Faraday cup
  • SEM secondary electron multiplier
  • the first ion path 41 that bends (bends) the ion flow 17 in a non-linear manner should be able to block straight light and guide the ion flow 17 so as to bend once. , or may be bent so that the chamber outlet 18 and the inlet 27 of the analysis unit 20 are aligned linearly.
  • the first ion path 41 only needs to control the direction of the ion flow 17, and does not need to have such precision or diameter as to control the movement direction of individual ions. It may be a route designed so that filtering is not performed.
  • a second ion path 42 includes a second electrostatic lens group 44 and an energy filter 28 positioned therebetween.
  • the second electrostatic lens group 44 controls the direction of the ion flow 17 entering the second ion path 42 through the opening 27 of the barrier 27 a provided between the first ion path 41 and the second electrostatic lens group 44 .
  • the energy filter 28 may be a Bessel-Box, a CMA (Cylindrical Mirror Analyzer), or a CHA (Concentric Hemispherical Analyzer).
  • the Bessel box type energy filter 28 is composed of a cylindrical electrode, a disc-shaped electrode (same potential as the cylindrical electrode) placed in the center of the cylindrical electrode, and electrodes placed at both ends of the cylindrical electrode.
  • the electric field created by the potential difference Vba and the potential Vbe of the cylindrical electrode act as a band-pass filter that allows only ions having a specific kinetic energy to pass through.
  • soft X-rays generated during plasma generation and light generated during gas ionization can be prevented from directly entering the ion detector (detector) 26 by the disc-shaped electrode arranged at the center of the cylindrical electrode. , can reduce noise.
  • the energy filter 28 can also eliminate ions and neutral particles that are generated in the ion generation section or outside and that enter the filter unit 25 parallel to the central axis, so that the structure is such that their detection can be suppressed.
  • the energy filter 28 can block the passage of ions (ion current) 17 having all kinetic energies destined to enter the filter unit 25 through the second ion path 42 by controlling the electric field. It is possible.
  • the energy filter 28 intermittently blocks and blocks the ion stream 17 in at least a portion of the path of the ion stream 17 through the first ion path 41 to the mass filter 25 of the spectrometer 20 with an electric or magnetic field. It functions as a blocking device 29 that releases.
  • control the electric field (potential) of some or all of the second electrostatic lens group 44 that controls the direction of the ion stream 17 in the second ion path 42. It may also function as a blocking device (blocking potential generator) 29 that is used as a blocking potential to intermittently block or release the ion flow 17 reaching the mass filter 25 .
  • the ionization device 10 of the gas analyzer 1 of this example further includes a filament (EI ion source) 15 that ionizes the sample gas 9 to be measured supplied from the process via the sample input 3b by electron impact.
  • the EI ion source 15 operates in a high vacuum, and when the process in the process chamber 101 to be monitored is in a high vacuum and the conditions are such that it is difficult to generate the microplasma 19, the operation at the ultimate pressure of the gas analyzer 1 and the sensitivity correction are performed. can be used for the purpose of The supply of sample gas 9 to the sample input 3a for plasma ionization and the sample input 3b for EI ionization can be automatically switched by the process controller 105 by upstream valves 103a and 103b.
  • the process controller 105 supplies the sample gas 9 to the gas analyzer 1 by opening the valve 103a in the case of a reactive process when the internal pressure of the process chamber 101 is high, for example, 1 Pa or more, and further A plasma 19 of the sample gas 9 is generated through the control device (PLC module) 50 of the gas analyzer 1, and an ion flow 17 is drawn out for mass spectrometry.
  • the EI ion source (filament) 15 is not lit, and the valve (port) 103b is closed.
  • the process controller 105 closes the plasma-side port (valve) 103a and opens the EI-side port 103b to supply the sample gas 9 and control A filament is ignited (EI activated) by the device 50 to generate an ion stream 17 for mass spectrometric analysis.
  • the gas analyzer 1 includes a controller (unit controller, module controller, control box, control module) 30 that controls each module of the analysis unit 20 under a system controller (system controller, PCL module) 50 .
  • the unit controller 30 controls a first lens control device (control unit, control function, circuit, module) 31 that controls the potential of the first electrostatic lens group 43 and the potential of the second electrostatic lens group 44.
  • a second lens control device (control unit) 32 an energy filter control device (energy filter control unit) 33 that controls the potential of the energy filter 28, and a filament control device (filament control unit) that controls the filament current and voltage 34, a filter control device (quadrupole filter control unit) 35 that controls the RF and DC voltages of the mass filter 25, and a detector control device (detector control unit) 36 that controls the detector 26 and obtains the detected current.
  • control conditions of the first electrostatic lens 43 and the second electrostatic lens 44 are set to be the same as the conditions for acquiring a mass spectrum by the analysis unit 20, and the ion stream 17 is passed through, and energy By changing the conditions of the filter 28 only, the ion stream 17 entering the mass filter 25 of the analysis unit 20 can be blocked or released.
  • a system controller (PLC module) 50 that controls the gas analyzer 1 includes computer resources such as a CPU and a memory 59, and controls the gas analyzer 1 by downloading and executing a program (control program) 55.
  • the program 55 includes a first module (first processing) for acquiring first detection data 71 by the analysis unit (analyzer) 20 in a state in which passage of the ion flow 17 is blocked by the blocking device 29 ( a first function) 51, and a process of acquiring second detection data 72 by the analysis unit 20 in a state in which passage of the ion stream 17 is not blocked by the blocking device 29 (state in which the passage of the ion stream 17 is released).
  • FIG. 4 schematically shows some examples of mass spectra (spectral data, spectra).
  • FIG. 4A shows an example of detection results obtained by a conventional mass spectrometer that does not have a first ion path that bends and guides the ion flow 17, instead of the gas spectrometer 1 of this example. . That is, it is an example of the mass spectrum 79 obtained by inputting the ion flow 17 into the analysis unit 20 without shielding the emission of the plasma 19 .
  • the peak width P1 of the mass spectrum 79 is also wide, the offset amount P2 is large, and it can be seen that the noise caused by the light emitted from the plasma 19 reaching the detector 26 reduces the accuracy of the detected mass spectrum.
  • FIG. 4(b) is an example of a mass spectrum obtained as a detection result in the gas analyzer 1 of this example.
  • This mass spectrum 78 schematically shows data (second measurement data) 72 measured in a state (released state) in which passage of the ion flow 17 is not blocked by the blocking device 29 .
  • the analysis unit 20 By guiding the ion flow 17 non-linearly in the first ion path 41 by the analysis unit 20, it is possible to suppress the influence of the light emission of the plasma 19 which advances linearly. Therefore, it can be seen that the peak of the mass spectrum 78 is sharpened (the width is narrowed) and the offset (noise floor) amount P2 is reduced.
  • the energy of the ions 17 input to the mass filter 25 can be selected by the energy filter 28 . Therefore, a mass spectrum with sharper peaks can be obtained.
  • FIG. 4(c) shows a spectrum 77 obtained as a detection result in the gas analyzer 1 of this example.
  • the first detection data) 71 is schematically shown. That is, the spectrum 77 is an example of the detection spectrum obtained by the detector 26 with the energy filter 28 set so that ions of all energies do not pass through and functioning as the blocking device 29 .
  • the ion stream 17 is directed non-linearly towards the aperture 27 .
  • the deflection angle of the ion stream 17 and/or aperture 27 must be It may not be possible to select the area of , giving priority to light shielding. In particular, when trying to realize a portable and compact gas analyzer 1, the length and angle of the ion flow 17 may not be sufficiently secured for light shielding.
  • the first module (function) 51 of the PLC 50 blocks the ion flow 17 input to the mass filter 25 as designed by the blocking device 29 for measurement.
  • Data (first detection data) 71 obtained in this process can be used as noise (offset) specific to the measurement conditions in the gas analyzer 1 .
  • FIG. 4(d) shows second detection data 72 (FIG. 4D) measured by the third module (function) 53 of the PLC 50 while the ion flow 17 is not blocked by the blocking device 29 by the second module 52. 4(b)) and the first detection data 71 (FIG. 4(c)) acquired by the first module 51 with the ion stream 17 blocked by the blocking device 29 (FIG. 4(c)).
  • the unique noise spectrum (background spectrum) 77 of the analyzer 1 obtained as the first detection data 71 from the mass spectrum 78 obtained as the second detection data 72, the influence of noise including offset
  • a highly accurate mass spectrum 76 can be obtained in which almost no is seen, and can be output as a detection result 73 .
  • FIG. 5 shows an overview of a control method for outputting measurement results with offset (noise) canceled in the gas analyzer 1 .
  • step 81 it is determined whether or not the first module 51 acquires the first detection data 71 regarding offset (noise).
  • the gas analyzer 1 can essentially continuously generate the ion stream 17 and analyze the ion stream 17 continuously or intermittently for short-term repetitive averaging. Therefore, under substantially the same conditions, measurement with the ion flow 17 blocked (blocked) and measurement with the ion flow 17 released (not blocked) can be repeatedly performed.
  • the first detection data 71 regarding the offset may be obtained each time the second detection data 72 regarding the mass spectrum is obtained, giving priority to accuracy. may be obtained periodically when the time has elapsed, or at limited timing such as when the measurement conditions change or when the gas analyzer 1 is activated.
  • the energy filter 28 When acquiring the first detection data 71, in step 82, the energy filter 28 is set to the condition to function as the blocking device 29, and in step 83, the energy filter 28 blocks the passage of the ions 17, and the analysis is performed.
  • a unit (analyzer) 20 acquires first detection data 71 .
  • the second module 52 in step 84 sets the energy filter 28 to a predetermined Conditions are set to energy sort the ion stream 17 and in step 85 second detection data 72 relating to the mass spectrum are acquired by the analysis unit 20 with the ion stream 17 unblocked.
  • the third module 53 outputs the mass spectrum obtained by subtracting the first detection data 71 regarding the offset from the second detection data 72 obtained including the offset as the detection result 73 .
  • the influence of the light emission of the plasma 19 is suppressed by the first ion path 41 that bends and guides the ion flow 17, and the peak of the mass spectrum 78 contained in the second detection data 72 is sharp.
  • the offset amount is also small. Therefore, by substantially simply subtracting the limited background information contained in the first detection data 71 obtained by blocking the ion flow 17, a sharper offset amount can be obtained without complicated processing. can obtain a small mass spectrum of
  • the gas analyzer 1 shown in FIG. 6A is configured using an ion guide device (guide unit) 45 that controls the path (first ion path) 41 of the ion flow 17 instead of the electrostatic lens group.
  • the guide unit 45 includes, for example, a cylindrical electrode 47 forming the periphery of the ion path 41 and deflection electrodes 46a and 46b arranged therein. If the ions to be guided are positively charged, the cylindrical surrounding electrode 47 is maintained at a positive potential, eg, about 100V, and the deflection electrodes 46a and 46b are maintained at ground potential, eg, 0V.
  • the direction of the ion stream 17 is controlled along the electric field formed by these electrodes, and the ion stream 17 is shifted up and down in the drawing, bent non-linearly twice, and led to the opening 27 of the analysis unit 20 . Therefore, the ion flow 17 from the chamber outlet 18 of the plasma generator 11, which is the ionization device 10, can be guided non-linearly to the inlet opening 27 of the analysis unit 20, thereby suppressing the influence of the plasma light traveling linearly.
  • the gas analyzer 1 shown in FIG. 6B applies an electric field that non-linearly guides the ion flow 17 from the chamber outlet 18 of the plasma generator 11, which is the ionizer 10, to the energy filter 28 arranged in the ion path 41. and a device provided to function as a blocking device 29 blocking the ion flow 17 .
  • the Bessel box type energy filter 28 is composed of a cylindrical electrode, a disc-shaped electrode placed in the center of the cylindrical electrode, and electrodes placed at both ends of the cylindrical electrode, and the ion stream 17 It is guided non-linearly to avoid the disc-shaped electrode located in the center of the electrode.
  • the ion stream 17 passes through the energy filter 28 in a tortuous path from the entrance to the exit of the energy filter 28, passing around the disk-shaped electrode. Therefore, the disc-shaped electrode arranged at the center of the cylindrical electrode can prevent soft X-rays generated during plasma generation and light generated during gas ionization from directly entering the detector 26 . Therefore, even in the gas analyzer 1 having these configurations, the influence of the light generated in the plasma generator 11 can be suppressed by guiding the ion flow 17 non-linearly. Furthermore, by measuring the offset (noise) while blocking the ion flow 17, it is possible to efficiently remove remaining noise components, and output a more accurate mass spectrum as a detection result. .
  • a quadrupole type mass filter 25 of the gas analysis unit 20 is used. good too.

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Abstract

ガス分析装置（１）は、サンプルガス（９）のイオン流（１７）を生成するイオン化装置（１０）と、イオン化装置から供給されるイオン流を分析する分析計（２０）と、イオン化装置から分析計の入口に対しイオン流を非直線的に導く第１のイオン経路（４１）と、第１のイオン経路を介して分析計の質量フィルター（２５）に至るイオン流の経路の少なくとも一部の経路におけるイオン流を電場または磁場により断続的に阻止および解放する阻止装置（２９）とを有し、イオン流が阻止された状態での測定と、イオン流が阻止されていない状態での測定を可能とする。

Description

ガス分析装置および制御方法
　本発明は、ガス分析装置およびその制御方法に関するものである。
　日本国特開１９９６－７８２９号には、プラズマ質量分析装置のイオン偏向レンズの構成を簡単にし、調整を容易にすることが記載されている。そのため、ノズルからのイオンの出射方向に対して略垂直に設けた第１及び第２電極板の間に、端面を斜めに切断した円筒状の中間電極を設け、各電極に直流電圧を印加する。両電場が傾斜し、イオンは両電場により偏向される。一方、プラズマ光は直進するため、第２電極板により遮蔽される。
　サンプルガスをイオン化してサンプルガスに含まれる成分を検出する分析装置においてノイズを低減するとともに、ノイズが低減された検出結果を提供できるソフトウェア（制御方法、測定方法）、およびそのソフトウェアに適したハードウェアの提供が要望されている。
　本発明の一態様は、サンプルガスのイオン流を生成するイオン化装置と、イオン化装置から供給されるイオン流を連続または断続的に分析する分析計と、イオン化装置から分析計の入口に対しイオン流を非直線的に導く第１のイオン経路と、第１のイオン経路を介して分析計の質量フィルターに至るイオン流の経路の少なくとも一部の経路におけるイオン流を電場または磁場により断続的に阻止および解放する阻止装置とを有し、イオン流が阻止された状態とイオン流が阻止されていない状態との測定を可能とするガス分析装置である。イオン化装置は、サンプルガスをプラズマイオン化する装置を含んでもよく、阻止装置は、阻止電位発生装置およびエネルギーフィルターのいずれかを含んでもよい。
　このガス分析装置においては以下の制御方法を採用することが可能であり、イオン化装置からの光の影響および他のノイズの影響を抑制した精度の高い測定が可能となる。この制御方法は、以下のステップを含む。
１．阻止装置によりイオン流の通過が阻止された状態で分析計により第１の検出データを取得すること。
２．阻止装置によりイオン流の通過が阻止されていない状態、すなわちイオン流の通過が解放された状態で分析計により第２の検出データを取得すること。
３．第２の検出データと第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力すること。第１の検出データおよび第２の検出データはスペクトルデータを含んでもよい。
　イオン化の際に発生する光は直線的に進むのに対し、第１の経路によりイオン流を非直線的に導く（曲がるように、屈曲するように導く）ことにより、分析計においてノイズとなる光の影響を抑制でき、分析精度を向上できる。しかしながら、第１の経路では、イオン流を導くために、光を完全に遮断（遮光）することは不可能であり、漏光あるいは迷光などによりイオン化の際に発生する光の一部が分析計に到達し、測定結果に影響を与えるノイズの要因となる可能性がある。本発明においては、ノイズを低減するために遮光性能をさらに高める代わりに、あるいはそれとともに、イオン流を阻止（遮断）した状態でバックグラウンドの測定結果（第１の検出データ）を取得し、イオン流を積極的には阻止しない状態の第２の検出データとを差分を得ることにより、ノイズ成分がさらに低減された、精度の高い測定結果を取得できるようにする。
　ガス分析装置は、当該ガス分析装置を制御する制御装置を有し、制御装置は、阻止装置によりイオン流の通過が阻止された状態で分析計により第１の検出データを取得する第１の機能と、阻止装置によりイオン流の通過が解放された状態で分析計により第２の検出データを取得する第２の機能と、第２の検出データと第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力する第３の機能とを含んでもよい。
　典型的には、制御装置はプログラムを実行する装置であり、制御するプログラムは、阻止装置によりイオン流の通過が阻止された状態で分析計により第１の検出データを取得することと、阻止装置によりイオン流の通過が解放された状態で分析計により第２の検出データを取得することと、第２の検出データと第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力することとを実行する命令を含む。
ガス分析装置の一例の外観を示す斜視図であり、図１（ａ）は右前方、図１（ｂ）は左前方を示す。 ガス分析装置のハウジングを展開して内部の概略構成を示す斜視図。 ガス分析装置の概略構成を示すブロック図。 ガス分析装置により得られるデータのいくつかの例を示す図。 ガス分析装置の制御方法の概要を示すフローチャート。 ガス分析装置の他の例の概略構成を示す図。
発明の実施の形態
　図１（ａ）および図１（ｂ）に、ガス分析装置の外観を右前方および左前方から見た様子を示している。このガス分析装置１は、イオン化装置（イオン源）としてマイクロプラズマ生成装置と電子衝撃（ＥＩ）イオン源とを備えたハイブリッドタイプである。ガス分析装置１のサイズおよび重量の一例は、長さ４００ｍｍ、幅２９７ｍｍ、高さ３４１ｍｍ、重さ１５ｋｇであり、２４ＶＤＣ（３５０Ｗ）の電力の供給を受けて動作する。ガス分析装置１は、プラズマ生成用のサンプルインレット３ａと、ＥＩイオン化用のサンプルインレット３ｂとを含み、側面にデータ入出力用のいくつかのポート４を含む。
　図２に、ガス分析装置１の上部ハウジング２ａおよび側面パネル２ｂを外した状態を示している。ガス分析装置１は、モニタリング対象のプロセスから供給された測定対象のサンプルガス（サンプリングガス、ガスサンプル）をイオン化するイオン化ユニット（イオン生成ユニット）１０と、生成されたイオン（イオン流）を介してサンプルガスを分析する分析ユニット（分析計）２０と、分析ユニット２０の制御モジュール３０と、ガス分析装置１を制御して測定データを出力するシステムコントローラ（プルグラマブルロジックコントローラー、ＰＬＣ）５０と、排気システム６０とを含む。
　図３に、ガス分析装置１を含むシステムの一例として、プロセスモニター１００の概略構成を示している。ガス分析装置１は、モニタリング対象のプラズマプロセスが実施されるプロセスチャンバー１０１から供給されるサンプルガス９を分析する。プロセスチャンバー１０１において実施されるプラズマプロセスは、典型的には、様々な種類の膜あるいは層を基板の上に生成する工程や、基板をエッチングする工程であり、ＣＶＤ（化学蒸着、Chemical Vapor Deposition）またはＰＶＤ（物理蒸着、Physical Vapor Deposition）を含む。プラズマプロセスは、レンズ、フィルターなどの光学部品を基板として様々な種類の薄膜を積層するプロセスであってもよい。
　例えば、半導体においては、近年では、記憶容量の増大、ロジック速度の向上、低電力化などの要求から、半導体チップ構造が三次元化している。このため、半導体プロセス制御では、プロセスがさらに複雑になり、原子レベルの品質が求められ、計測モニタコストが増大することが課題となっている。プロセスマッチング、成膜時の遷移点計測、エッチングのエンドポイントの検出には反応物や副生成物を含むガスの監視が重要であり、現在標準的に採用されているプラズマ発光計測（Optical Emission Spectroscopy、ＯＥＳ）では、総合的にプロセスをモニターすることは難しいとされている。一方で、通常の熱フィラメントを採用したイオン源の残留ガス分析計、質量分析計では、半導体ガスによるダメージによる寿命が問題となる。
　本例のガス分析装置１を用いたプロセスモニターシステム１００においては、過酷な環境下においてもリアルタイムモニタを行い、信頼性の高い測定結果を提供することで革新的なプロセス制御を提供できる。ガス分析装置１は、半導体チップ製造におけるスループットを劇的に向上させ、歩留まり率を最大化することを目的に開発されたトータルソリューションプラットホームとして機能する。上記のように、本例のガス分析装置１は、設置面積が非常に小さいことから、チャンバー１０１に直接接続して現場で使用することが可能である。また、現在、半導体製造プロセス装置で主に取り入れられている標準的なプロトコル、例えば、イーサーキャット（Ｅｉｔｈｅｒ　ＣＡＴ）プロトコルをＰＬＣ５０に搭載することができ、プロセス機器制御システム１００に統合することが可能である。
　ガス分析装置１は、サンプルガス９のイオン（イオン流）１７を生成するイオン化装置１０と、イオン化装置１０から供給されるイオン１７を分析する分析計（分析ユニット）２０とを含む。イオン化装置１０は、プロセスからサンプル入力３ａを介して供給される測定対象のサンプルガス９のプラズマ（マイクロプラズマ）１９を生成してイオン流１７として分析ユニット２０へ供給するプラズマ生成ユニット（プラズマ生成装置）１１を含む。プラズマ生成ユニット１１は、誘電性の壁体構造１２ａを備え、測定対象のサンプルガス９が流入するチャンバー（サンプルチャンバー）１２と、誘電性の壁体構造１２ａを介して高周波電場および／または磁場により、減圧されたサンプルチャンバー１２内でプラズマ１９を生成する高周波供給装置（ＲＦ供給機構）１３と、高周波の周波数および電力を制御するプラズマコントローラ１６とを含む。
　本例のガス分析装置１は、プロセス１００から供給されるサンプルガス９を連続して、または短い周期で断続的に分析することができる質量分析型の分析装置である。分析ユニット２０は、イオン化されたサンプルガス（サンプルガスイオン）の流れ（イオン流）１７を質量電荷比によりフィルタリングするフィルターユニット（質量フィルター、本例においては四重極部）２５と、フィルタリングされたイオンを検出するディテクタユニット２６とを含む。ガス分析装置１は、さらに、フィルターユニット２５およびディテクタユニット２６を収納した真空容器（ハウジング）４０と、ハウジング４０の内部を適当な負圧条件（真空条件）に維持する排気システム６０を含む。本例の排気システム６０は、ターボモレキュラポンプ（ＴＭＰ）６１と、ルーツポンプ（吸引段、Ｄｒａｇ　ｓｔａｇｅ）６２とを含む。排気システム６０は、プラズマ生成装置１１のサンプルチャンバー１２の内圧も制御するスプリットフロータイプである。排気システム６０の多段のＴＭＰ６１のうち、チャンバー１２の内圧に適した負圧となる段、またはルーツポンプ６２の入力がチャンバー１２と連通し、チャンバー１２の内圧が制御されるようになっている。
　本例の質量フィルター２５は、質量電荷比によるフィルタリング用の双曲電場を形成するために内側が双曲面に仕上げられた４本の円筒または円柱状の電極（ハイパークアッド、ＨｙｐｅｒＱｕａｄ）２５ａを含む。四重極タイプの質量フィルター２５は、複数の疑似双曲電場を形成するように多数、例えば９本の円柱状の電極を、マトリクス（アレイ）を形成するように配置したものであってもよい。ディテクタユニット２６は、ファラデーカップ（ＦＣ、Faraday Cap）と二次電子増倍器（ＳＥＭ、Secondary Electron Multiplier）とを含み、これらを組み合わせて、または、切り替えて使用することができる。ディテクタユニット２６は、チャンネル型二次電子増倍器（ＣＥＭ、Channel Electron Multiplier）、マイクロチャンネルプレート（ＭＰ、Microchannel Plate）などの他のタイプであってもよい。
　本例のプラズマ生成ユニット１１は、ハウジング４０の内部に一体に組み込まれたプラズマ生成用のサンプルチャンバー１２を含む。チャンバー１２の外郭はハステロイ製であり、内部に絶縁された円筒電極が挿入され、その内部でプラズマ１９が生成される。減圧されたサンプルチャンバー１２には、監視対象のプロセスチャンバー１０１からサンプル入力３ａを介してサンプルガス９のみが流入し、サンプルチャンバー１２の内部でプラズマ（マイクロプラズマ）１９が形成される。すなわち、プラズマ生成ユニット１１においては、アルゴンガスなどのアシストガス（サポートガス）は用いられずに、サンプルガス９のみにより分析用のプラズマ１９が生成される。サンプルチャンバー１２の壁体１２ａは誘電性の部材（誘電体）から構成されており、その一例は、石英（Ｑｕａｒｔｚ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）および窒化ケイ素（ＳｉＮ３）などのプラズマに対して耐久性が高い誘電体である。
　プラズマ生成ユニット１１のプラズマ生成する装置（ＲＦ供給機構）１３は、サンプルチャンバー１２の内部で、プラズマトーチを用いずに、誘電性の壁体構造１２ａを介して電場および／または磁場によりプラズマ１９を生成する。ＲＦ供給機構１３の一例は高周波（ＲＦ、Radio Frequency）電力でプラズマ１９を励起する機構である。ＲＦ供給機構１３の例としては、誘電結合プラズマ（ＩＣＰ、Inductively Coupled Plasma）、誘電体バリア放電（ＤＢＤ、Dielectric Barrier Discharge）、電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ、Electron Cyclotron Resonance）などの方式を挙げることができる。これらの方式でプラズマを生成するＲＦ供給装置１３は、高周波電源と、ＲＦ場形成ユニットとを含んでもよい。ＲＦ場形成ユニットの典型的なものは、サンプルチャンバー１２に沿って配置されたコイルを含む。
　本例のプラズマ生成ユニット１１のプラズマコントローラ１６は、ＲＦ供給装置１３により供給されるＲＦ場の周波数を調整して（マッチングさせて）プラズマを維持するマッチング制御ユニット１６ａと、マッチングの状態のＲＦ周波数を変化させて点火する機能（点火ユニット）１６ｂとを含む。点火ユニット１６ｂは、例えば、マッチング周波数よりも高い周波数で高パワーの高周波電力をパルス状に短時間、例えば１０ｍｓ程度投入することでプラズマを、ＲＦ供給装置１３を用いて点火できる。このため、従来のグロー放電用の電極を設けたり、圧電素子などの高電圧刺激を与える機構を設けたりしなくても容易にプラズマを点火できる。プラズマが点火した後は、ＲＦ供給装置１３を定常動作状態に移行することでプラズマを生成して維持できる。なお、プラズマ生成ユニット１１は、アルゴンガスなどのアシストガスによる誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）を形成しサンプルガスを導入してイオン化するタイプであってもよい。
　本例のサンプルチャンバー１２の内圧は、プラズマが生成しやすい圧力、例えば、０．０１－１ｋＰａの範囲であってもよい。プロセスチャンバー１０１の内圧が１－数１００Ｐａ程度に管理される場合、サンプルチャンバー１２の内圧は、それより低い圧力、例えば、０．１－数１０Ｐａ程度に管理されてもよく、０．１Ｐａ以上、または０．５Ｐａ以上、１０Ｐａ以下、または５Ｐａ以下に管理されてもよい。例えば、サンプルチャンバー１２は内部が、１－１０ｍＴｏｒｒ（０．１３－１．３Ｐａ）程度に減圧されてもよい。サンプルチャンバー１２を上記の程度の減圧に維持することにより、サンプルガス９のみで、低温でプラズマ１９を生成することが可能である。サンプルチャンバー１２は、マイクロプラズマ１９を生成できる程度の小型の、例えば、数ｍｍから数１０ｍｍ程度のチャンバー（ミニチュアチャンバー）であってもよい。サンプルチャンバー１２の容量を小さくすることにより、リアルタイム性に優れたガス分析装置１を提供できる。サンプルチャンバー１２は、円筒状であってもよい。
　ガス分析装置１は、イオン化装置１０のプラズマ生成装置１１、典型的にはチャンバー１２の出口１８から分析計（分析ユニット）２０の入口２７に対しイオン流１７を非直線的に導く第１のイオン経路４１と、分析ユニット２０の入口２７からフィルターユニット２５に対して所定の角度、典型的にはフィルターユニット２５の電極２５ａと平行に入力するようにイオン流１７を導く第２のイオン経路４２とを含む。第１のイオン経路４１は、第１の静電レンズ群４３を含み、電場によりサンプルチャンバー（プラズマチャンバー）１２に形成されたプラズマ１９からチャンバー出口１８を通してイオン流１７を抽出し、チャンバー出口（チャンバー開口）１８に対して非直線の位置に設けられた入口（開口）２７へイオン流１７を導く。分析ユニット２０の入口２７は、障壁２７ａに設けられた開口となっており、入口（開口）２７を通過したイオン流１７のみが分析ユニット２０に導入されるようになっている。本例においてチャンバー出口１８に対して分析ユニット２０の入口２７は、第２のイオン経路４２から見て、あるいは四重極フィルター２５の中心軸に対して、それぞれの開口が重ならない程度にシフト（直交する方向に移動）して配置されており、第１のイオン経路４１がそれらの開口１８および２７の間を、イオン流１７を曲げて導くように設けられている。一方、チャンバー出口１８から漏れ出る光は、障壁２７ａにより分析ユニット２０に対して遮光されるようになっている。
　イオン流１７の経路は、電場の影響を受けて曲がるのに対し、チャンバー出口１８から漏れ出すプラズマ１９の励起発光による光は電場の影響を受けずに直進する。したがって、チャンバー出口１８に対してシフトした位置に、イオン流１７をフィルターユニット２５に導く開口２７を設け、イオン流１７は非直線的に（曲げて）導く第１のイオン経路４１をそれらの間に設けることにより、チャンバー出口１８から直線的に放出されるプラズマの励起光が分析ユニット２０の入口（開口）２７に到達することを抑制できる。そのため、プラズマの励起光がディテクタ２６、本例では、ファラデーカップ（ＦＣ）と二次電子倍増器（ＳＥＭ）との組み合わせ、に到達して質量スペクトルのバックグランド信号（ノイズ）となる二次電子が生成されることを抑制できる。
　イオン流１７を非直線的に、曲げて（屈曲させて）導く第１のイオン経路４１は、直進する光を遮ることができるものであればよく、イオン流１７を一度屈曲するように導くものであってもよく、さらに屈曲させてチャンバー出口１８と分析ユニット２０の入口２７とが直線的に並ぶように導くものであってもよい。また、この第１のイオン経路４１は、イオン流１７としての方向を制御すればよく、個々のイオンの移動方向を制御するような精度あるいは口径を備えている必要はなく、そのような制御あるいはフィルタリングが行われないように設計された経路であってもよい。
　第２のイオン経路４２は、第２の静電レンズ群４４と、それらの間に配置されたエネルギーフィルター２８とを含む。第２の静電レンズ群４４は、第１のイオン経路４１との間に設けられた障壁２７ａの開口２７を経て第２のイオン経路４２に流入したイオン流１７の方向を制御する。エネルギーフィルター２８は、ベッセルボックス（Ｂｅｓｓｅｌ－Ｂｏｘ）であってもよく、ＣＭＡ（Cylindrical Mirror Analyzer）であってもよく、ＣＨＡ（Concentric Hemispherical Analyzer）であってもよい。ベッセルボックスタイプのエネルギーフィルター２８は、円筒電極と円筒電極の中心部に配置した円板形電極（円筒電極と同電位）、円筒電極の両端に配置した電極とから構成され、円筒電極と両端電極の電位差Ｖｂａによって作られる電場と円筒電極の電位Ｖｂｅとによって特定の運動エネルギーを持つイオンのみを通過させるバンドパスフィルターとして動作する。また、プラズマ生成の際に発生する軟Ｘ線や気体イオン化の際に発生する光が円筒電極中心に配置されている円板形電極により直接イオン検出器（ディテクタ）２６に入射することを阻止でき、ノイズを低減できる。また、エネルギーフィルター２８により、イオン生成部あるいは外部で生成され、フィルターユニット２５に対して中心軸と平行に入射するイオンや中性粒子なども排除できるので、それらの検出を抑制できる構造となっている。
　さらに、エネルギーフィルター２８は、電場の制御により、第２のイオン経路４２を通過してフィルターユニット２５に入力される予定の全ての運動エネルギーを持つイオン（イオン流）１７の通過を阻止することが可能である。したがって、エネルギーフィルター２８は、第１のイオン経路４１を介して分析計２０の質量フィルター２５に至るイオン流１７の経路の少なくとも一部の経路におけるイオン流１７を電場または磁場により断続的に阻止および解放する阻止装置２９として機能する。エネルギーフィルター２８の代わりに、または協働して、第２のイオン経路４２においてイオン流１７の方向を制御する第２の静電レンズ群４４の一部または全部の電場（電位）を制御して阻止電位として用い、質量フィルター２５に至るイオン流１７を断続的に阻止したり解放したりする阻止装置（阻止電位発生装置）２９として機能させてもよい。
　本例のガス分析装置１のイオン化装置１０は、さらに、プロセスからサンプル入力３ｂを介して供給される測定対象のサンプルガス９を電子衝撃によりイオン化するフィラメント（ＥＩイオン源）１５を含む。ＥＩイオン源１５は高真空で動作し、モニタリング対象のプロセスチャンバー１０１におけるプロセスが高真空でマイクロプラズマ１９の生成が難しい条件の場合、ガス分析装置１の到達圧力での動作、さらには、感度補正を目的として使用できる。プラズマイオン化用のサンプル入力３ａと、ＥＩイオン化用のサンプル入力３ｂとへのサンプルガス９の供給は、上流に設けられたバルブ１０３ａおよび１０３ｂにより、プロセスコントローラ１０５により自動的に切り替えることができる。
　一実施例では、プロセスコントローラ１０５が、プロセスチャンバー１０１の内圧が高い、例えば、１Ｐａ以上で，反応性プロセスの場合にはバルブ１０３ａを開いてガス分析装置１にサンプルガス９を供給し、さらに、ガス分析装置１の制御装置（ＰＬＣモジュール）５０を介してサンプルガス９のプラズマ１９を生成してイオン流１７を引き出して質量分析を行う。この際、ＥＩイオン源（フィラメント）１５は点灯せず、バルブ（ポート）１０３ｂは閉鎖される。プロセスチャンバー１０１の内圧が低い、例えば、到達圧力などで測定するときには、プロセスコントローラ１０５がプラズマ側のポート（バルブ）１０３ａを閉じて、ＥＩ側のポート１０３ｂを開いてサンプルガス９を供給し、制御装置５０によりフィラメントを点灯して（ＥＩ作動させて）イオン流１７を生成し、質量分析を行う。
　ガス分析装置１は、システムコントローラ（システム制御装置、ＰＣＬモジュール）５０の下で分析ユニット２０の各モジュールを制御する制御装置（ユニットコントローラ、モジュールコントローラ、コントロールボックス、制御モジュール）３０を含む。ユニットコントローラ３０は、第１の静電レンズ群４３の電位を制御する第１のレンズ制御装置（制御ユニット、制御機能、回路、モジュール）３１と、第２の静電レンズ群４４の電位を制御する第２のレンズ制御装置（制御ユニット）３２と、エネルギーフィルター２８の電位を制御するエネルギーフィルター制御装置（エネルギーフィルタ制御ユニット）３３と、フィラメント電流および電圧を制御するフィラメント制御装置（フィラメント制御ユニット）３４と、質量フィルター２５のＲＦおよびＤＣ電圧を制御するフィルター制御装置（四重極フィルタ制御ユニット）３５と、ディテクタ２６を制御して検出電流を取得するディテクタ制御装置（ディテクタ制御ユニット）３６とを含む。本例においては、例えば、第１の静電レンズ４３および第２の静電レンズ４４の制御条件は分析ユニット２０により質量スペクトルを取得する条件と同じに設定してイオン流１７を通過させ、エネルギーフィルター２８のみの条件を変えることにより、分析ユニット２０の質量フィルター２５に流入するイオン流１７を阻止したり解放したりすることができる。
　ガス分析装置１を制御するシステム制御装置（ＰＬＣモジュール）５０は、ＣＰＵおよびメモリ５９などのコンピュータ資源を含み、プログラム（制御用プログラム）５５をダウンロードして実行することによりガス分析装置１を制御する。プログラム５５は、阻止装置２９によりイオン流１７の通過が阻止された状態で分析ユニット（分析計）２０により第１の検出データ７１を取得する処理（第１の処理）を行う第１のモジュール（第１の機能）５１と、阻止装置２９によりイオン流１７の通過が阻止されていない状態（イオン流１７の通過が解放された状態）で分析ユニット２０により第２の検出データ７２を取得する処理（第２の処理）を行う第２のモジュール（第２の機能）５２と、第２の検出データ７１と第１の検出データ７２との差分を含む検出結果７３を出力する処理（第３の処理）を行う第３のモジュール（第３の機能）５３としてＰＬＣモジュール５０を機能させるための命令を含む。
　図４に、質量スペクトル（スペクトルデータ、スペクトラ）のいくつかの例を模式的に示している。図４（ａ）は、本例のガス分析装置１ではなく、イオン流１７を曲げて導くような第１のイオン経路を有しない、従来型の質量分析装置により得られる検出結果の一例である。すなわち、プラズマ１９の発光を遮光せずに分析ユニット２０にイオン流１７を入力して得られる質量スペクトル７９の一例である。質量スペクトル７９のピーク幅Ｐ１も広く、オフセット量Ｐ２も大きく、プラズマ１９の発光がディテクタ２６に届いていることによるノイズが、検出される質量スペクトルの精度を低下させていることがわかる。
　図４（ｂ）は、本例のガス分析装置１において検出結果として得られる質量スペクトルの一例である。この質量スペクトル７８は、阻止装置２９によりイオン流１７の通過が阻止されていない状態（解放された状態）で計測されたデータ（第２の計測データ）７２を模式的に示したものである。分析ユニット２０により第１のイオン経路４１においてイオン流１７を非直線的に導くことにより、直線的に進むプラズマ１９の発光の影響を抑制することが可能となる。このため、質量スペクトル７８のピークが鋭くなり（幅が狭くなり）、オフセット（ノイズフロアー）量Ｐ２が減少していることがわかる。さらに、このガス分析装置１においては、エネルギーフィルター２８により質量フィルター２５に入力されるイオン１７のエネルギーを選別することが可能である。このため、よりシャープなピークを持った質量スペクトを得ることができる。
　図４（ｃ）は、本例のガス分析装置１において検出結果として得られるスペクトル７７であるが、阻止装置２９によりイオン流１７の通過が阻止された状態で分析ユニット２０により計測されたデータ（第１の検出データ）７１を模式的に示したものである。すなわち、スペクトル７７は、エネルギーフィルター２８の条件を全てのエネルギーのイオンが通過しないように設定し、阻止装置２９として機能させた状態で、ディテクタ２６により得られる検出スペクトルの一例である。第１のイオン経路４１において、イオン流１７は開口２７に向かって非直線的に導かれる。しかしながら、検出対象の様々な質量電荷比（ｍ／ｚ）のイオンを含むイオン流１７を分析ユニット２０に、計測に十分な量を供給するためにはイオン流１７の偏向角度および／または開口２７の面積を、遮光を優先して選択できないこともある。特に、携帯可能なコンパクトなガス分析装置１を実現しようとするとイオン流１７の長さおよび角度が、遮光のために十分に確保できないことがある。
　また、ガス分析装置１の内部において迷光は、ほぼ必ず発生し、質量フィルター２５によりフィルタリングされないイオンがディテクタ２６に到達することもある。したがって、ガス分析装置１の固有のノイズは常に発生する可能性があり、そのようなノイズを全てハードウェアで阻止することは難しい。ガス分析装置１においては、ＰＬＣ５０の第１のモジュール（機能）５１により、質量フィルター２５に対し、設計通りに入力するイオン流１７を阻止装置２９により阻止して計測を行う。このプロセスにおいて得られたデータ（第１の検出データ）７１を、ガス分析装置１における、計測条件に固有のノイズ（オフセット）とすることができる。
　図４（ｄ）は、ＰＬＣ５０の第３のモジュール（機能）５３により、第２のモジュール５２によりイオン流１７が阻止装置２９により阻止されていない状態で測定された第２の検出データ７２（図４（ｂ））と、第１のモジュール５１によりイオン流１７が阻止装置２９により阻止された状態で取得された第１の検出データ７１（図４（ｃ））と、の差分の質量スペクトル７６を示す。第２の検出データ７２として得られた質量スペクトル７８から、第１の検出データ７１として得られた分析装置１の固有のノイズスペクトル（バックグラウンドスペクトル）７７を差し引くことにより、オフセットを含むノイズの影響がほぼ見られない、精度の高い質量スペクトル７６を得ることができ、それを検出結果７３として出力することができる。
　図５に、ガス分析装置１において、オフセット（ノイズ）をキャンセルした計測結果を出力する処理に関する制御方法の概要を示している。ステップ８１において、第１のモジュール５１によりオフセット（ノイズ）に関する第１の検出データ７１を取得するか否かを判断する。ガス分析装置１は、基本的には連続してイオン流１７を生成でき、そのイオン流１７を連続して、または短時間の繰り返しによる平均化を図るために断続的に分析することができる。したがって、ほぼ同じ条件で、イオン流１７を遮断（阻止）した状態の測定と、イオン流１７を解放した（阻止しない）状態の測定とを繰り返し行うことができる。オフセットに関する第１の検出データ７１は、精度を優先して、質量スペクトルに関する第２の検出データ７２を取得する都度、取得してもよく、測定に要する時間を優先して所定の測定回数あるいは時間が経過したときに定期的に、あるいは測定条件が変わったとき、ガス分析装置１が起動したときなどの限られたタイミングで取得してもよい。
　第１の検出データ７１を取得する場合は、ステップ８２において、エネルギーフィルター２８を阻止装置２９として機能する条件に設定し、ステップ８３において、エネルギーフィルター２８によりイオン１７の通過が阻止された状態で分析ユニット（分析計）２０により第１の検出データ７１を取得する。オフセット（ノイズ）に関する第１の検出データ７１ではなく、オフセットも含めた質量スペクトルに関する第２の検出データ７２を取得する場合は、第２のモジュール５２により、ステップ８４において、エネルギーフィルター２８を所定の条件でイオン流１７のエネルギー選別を行うように設定し、ステップ８５において、イオン流１７が阻止されていない状態で分析ユニット２０により質量スペクトルに関する第２の検出データ７２を取得する。さらに、ステップ８６において、第３のモジュール５３により、オフセットを含めて得られた第２の検出データ７２から、オフセットに関する第１の検出データ７１を差し引いた質量スペクトルを検出結果７３として出力する。
　この分析装置１においては、イオン流１７を曲げて導く第１のイオン経路４１により、プラズマ１９の発光の影響は抑制されており、第２の検出データ７２に含まれる質量スペクトル７８のピークは鋭く、オフセット量も小さい。したがって、イオン流１７を遮断して得られる第１の検出データ７１に含まれる、限られたバックグランドの情報をほぼ単純に差し引くことにより、複雑な処理を経ずに、よりシャープで、オフセット量の小さな質量スペクトを得ることができる。
　図６にガス分析装置１のいくつかの異なる例を示している。図６（ａ）に示したガス分析装置１は、イオン流１７の経路（第１のイオン経路）４１を、静電レンズ群に代わり制御するイオンガイド装置（ガイドユニット）４５を用いて構成した例を示している。このガイドユニット４５はイオン経路４１の周囲を構成する、例えば円筒状の電極４７と、その内部に配置された偏向用の電極４６ａおよび４６ｂとを含む。ガイドする対象のイオンがプラス電荷である場合、円筒状の周囲電極４７は正電位、例えば１００Ｖ程度に維持され、偏向用の電極４６ａおよび４６ｂは接地電位、例えば０Ｖに維持される。これらの電極により構成される電場に沿ってイオン流１７の方向は制御され、図面上、上下にシフトして非直線状に２回曲げられて分析ユニット２０の開口２７へ導かれる。したがって、イオン化装置１０であるプラズマ生成装置１１のチャンバー出口１８からイオン流１７を、分析ユニット２０の入口の開口２７に対し非直線的に導き、直線的に進むプラズマ光の影響を抑制できる。
　図６（ｂ）に示したガス分析装置１は、イオン経路４１に配置されたエネルギーフィルター２８を、イオン化装置１０であるプラズマ生成装置１１のチャンバー出口１８からイオン流１７を非直線で導く電場を形成する装置と、イオン流１７を阻止する阻止装置２９として機能させるように設けた装置である。上述したように、ベッセルボックスタイプのエネルギーフィルター２８は、円筒電極と円筒電極の中心部に配置した円板形電極と、円筒電極の両端に配置した電極とから構成され、イオン流１７は、円筒電極中心に配置されている円板形電極を避けるように非直線に導かれる。典型的には、イオン流１７は、エネルギーフィルター２８の入口から出口に向かって、円板形電極の周囲を迂回して通過するように、屈曲した流路でエネルギーフィルター２８を通過する。このため、円筒電極中心に配置されている円板形電極によりプラズマ生成の際に発生する軟Ｘ線や気体イオン化の際に発生する光が直にディテクタ２６に入射することを阻止できる。したがって、これらの構成のガス分析装置１においても、プラズマ生成装置１１においては発生する光による影響を、イオン流１７を非直線的に導くことにより抑制できる。さらに、イオン流１７を阻止した状態でオフセット（ノイズ）を測定することにより、残存するノイズ成分についても効率よく除去することが可能となり、より精度の高い質量スペクトルを検出結果として出力することができる。
　なお、上記では、ガス分析ユニット２０の質量フィルター２５として四重極タイプを採用した例を説明しているが、質量フィルター２５は、イオントラップ、ウィーン（Ｗｉｅｎ）フィルターなどの他のタイプであってもよい。
　また、上記においては、本発明の特定の実施形態を説明したが、様々な他の実施形態および変形例は本発明の範囲および精神から逸脱することなく当業者が想到し得ることであり、そのような他の実施形態および変形は以下の請求の範囲の対象となり、本発明は以下の請求の範囲により規定されるものである。
 

Claims (10)

  1. 　ガス分析装置の制御方法であって、
    　当該ガス分析装置は、サンプルガスのイオン流を生成するイオン化装置と、
    　前記イオン化装置から供給される前記イオン流を連続または断続的に分析する分析計と、
    　前記イオン化装置から前記分析計の入口に対し前記イオン流を非直線的に導く第１のイオン経路と、
    　前記第１のイオン経路を介して前記分析計の質量フィルターに至る前記イオン流の経路の少なくとも一部の経路における前記イオン流を電場または磁場により断続的に阻止および解放する阻止装置とを有し、
    　当該方法は、
    　前記阻止装置により前記イオン流の通過が阻止された状態で前記分析計により第１の検出データを取得することと、
    　前記阻止装置により前記イオン流の通過が解放された状態で前記分析計により第２の検出データを取得することと、
    　前記第２の検出データと前記第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力することとを有する、方法。
  2. 　請求項１において、
    　前記第１の検出データおよび前記第２の検出データはスペクトルデータを含む、方法。
  3. 　サンプルガスのイオン流を生成するイオン化装置と、
    　前記イオン化装置から供給されるイオン流を連続または断続的に分析する分析計と、
    　前記イオン化装置から前記分析計の入口に対し前記イオン流を非直線的に導く第１のイオン経路と、
    　前記第１のイオン経路を介して前記分析計の質量フィルターに至る前記イオン流の経路の少なくとも一部の経路における前記イオン流を電場または磁場により断続的に阻止および解放する阻止装置とを有するガス分析装置。
  4. 　請求項３において、
    　前記イオン化装置は、前記サンプルガスをプラズマイオン化する装置を含む、ガス分析装置。
  5. 　請求項４において、
    　前記イオン化装置は、誘電性の壁体構造を含み、減圧されたサンプルチャンバーであって、監視対象のプロセスから前記サンプルガスが流入するサンプルチャンバーと、
    　前記誘電性の壁体構造を介して電場および磁場の少なくともいずれかにより前記サンプルチャンバー内でプラズマを生成する高周波供給装置と、
    　前記高周波供給装置より供給される高周波の周波数および電力を制御するプラズマコントローラとを含み、
    　前記第１のイオン経路は、前記サンプルチャンバーの出口と前記分析計の入口と接続する経路を含む、ガス分析装置。
  6. 　請求項５において、
    　前記プラズマコントローラは、前記高周波供給装置により供給される高周波の周波数を変化させて前記サンプルチャンバー内でプラズマを点火する機能を含む、ガス分析装置。
  7. 　請求項３ないし６のいずれかにおいて、
    　前記阻止装置は、阻止電位発生装置およびエネルギーフィルターのいずれかを含む、ガス分析装置。
  8. 　請求項３ないし７のいずれかにおいて、さらに、
    　当該ガス分析装置を制御する制御装置を有し、
    　前記制御装置は、前記阻止装置により前記イオン流の通過が阻止された状態で前記分析計により第１の検出データを取得する第１の機能と、
    　前記阻止装置により前記イオン流の通過が解放された状態で前記分析計により第２の検出データを取得する第２の機能と、
    　前記第２の検出データと前記第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力する第３の機能とを含む、ガス分析装置。
  9. 　請求項３ないし７のいずれかに記載のガス分析装置と、
    　前記ガス分析装置を制御するプログラムを実行する制御装置とを有するシステムにおいて、
    　前記制御するプログラムは、前記阻止装置により前記イオン流の通過が阻止された状態で前記分析計により第１の検出データを取得することと、
    　前記阻止装置により前記イオンの通過が解放された状態で前記分析計により第２の検出データを取得することと、
    　前記第２の検出データと前記第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力することとを実行する命令を含む、システム。
  10. 　請求項３ないし７のいずれかに記載のガス分析装置の制御用のプログラムであって、
    　前記阻止装置により前記イオン流の通過が阻止された状態で前記分析計により第１の検出データを取得することと、
    　前記阻止装置により前記イオンの通過が解放された状態で前記分析計により第２の検出データを取得することと、
    　前記第２の検出データと前記第１の検出データとの差分を含む検出結果を出力することとを実行する命令を有する、プログラム。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH087829A (ja) 1994-06-16 1996-01-12 Shimadzu Corp プラズマ質量分析装置
JP2005512274A (ja) * 2001-08-08 2005-04-28 シオネックス・コーポレーション 容量放電プラズマ・イオン源
JP2013130584A (ja) * 2013-02-15 2013-07-04 Shimadzu Corp 質量分析データ処理方法及び質量分析装置
WO2019016851A1 (ja) * 2017-07-18 2019-01-24 株式会社島津製作所 質量分析装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9204524D0 (en) * 1992-03-03 1992-04-15 Fisons Plc Mass spectrometer
JP3367719B2 (ja) * 1993-09-20 2003-01-20 株式会社日立製作所 質量分析計および静電レンズ
JP3240857B2 (ja) * 1994-10-11 2001-12-25 株式会社日立製作所 プラズマイオン質量分析装置及びプラズマイオン質量分析方法
AUPR465101A0 (en) * 2001-04-27 2001-05-24 Varian Australia Pty Ltd "Mass spectrometer"
GB2517670B (en) 2013-03-15 2020-04-29 Smiths Detection Watford Ltd Ion modification
JP6544491B2 (ja) * 2016-09-21 2019-07-17 株式会社島津製作所 質量分析装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH087829A (ja) 1994-06-16 1996-01-12 Shimadzu Corp プラズマ質量分析装置
JP2005512274A (ja) * 2001-08-08 2005-04-28 シオネックス・コーポレーション 容量放電プラズマ・イオン源
JP2013130584A (ja) * 2013-02-15 2013-07-04 Shimadzu Corp 質量分析データ処理方法及び質量分析装置
WO2019016851A1 (ja) * 2017-07-18 2019-01-24 株式会社島津製作所 質量分析装置

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