WO2022055306A1 - 유체 처리 장치 - Google Patents

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WO2022055306A1
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이정훈
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서울바이오시스주식회사
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Definitions

  • the present invention relates to a fluid treatment apparatus.
  • the conventional air purifier has to change the capacity of the air purifier according to the amount of air purification or the target area, and as the capacity increases, the size of the device must increase.
  • An object of the present invention is to provide a fluid processing apparatus capable of improving sterilization efficiency.
  • Another object of the present invention is to provide a fluid processing apparatus capable of performing sterilization without lowering sterilization efficiency in an increase in the capacity of a fluid and an area of a fluid processing space.
  • an inlet through which a fluid passes, an outlet, and a flow path connecting the inlet and the outlet are formed, and a pipe providing a sterilization treatment area in the flow path; a fan for controlling the flow of the fluid to move the fluid from the inlet to the outlet of the pipe; and at least one light source module including a light source emitting light for sterilization to the sterilization treatment area of the pipe and a substrate on which the light source is mounted.
  • the inlet of the pipe is disposed adjacent to a bottom surface of the external space of the pipe, the outlet of the pipe is disposed adjacent to an upper surface of the external space, and the pipe includes a bent portion.
  • the direction of the fluid passing through the and outlet and the direction of the fluid passing through the sterilization treatment region are different from each other, and the length of the sterilization treatment region may be longer than a diameter of the sterilization treatment region.
  • the tubing may be bent between the inlet and the sterilization treatment region and between the sterilization treatment region and the outlet.
  • the light source module may be disposed on at least one of an inner wall of a pipe facing the sterilization treatment region between the inlet and the sterilization treatment region and an inner wall of the pipe facing the sterilization treatment region between the sterilization treatment region and the outlet.
  • the substrate of the light source module is disposed to cross the flow path of the pipe, the light source of the light source module emits light in a direction opposite to the direction in which the fluid flows, and the fluid passes through the passage formed by the substrate to be directed toward the outlet of the pipe.
  • the light source module may be located in the sterilization treatment area, and may be disposed on at least one of an upper inner wall and a lower inner wall of the pipe constituting the sterilizing treatment area.
  • the pipe further includes at least one guide formed in the sterilization treatment area to change a movement path of the fluid, wherein the guide is formed to extend downward from the upper inner wall of the pipe or extend from the lower inner wall to the upper direction It can be formed to be
  • the pipe may include a plurality of the guides, and a guide formed on an upper inner wall of the pipe and a guide formed on a lower inner wall of the pipe may be alternately disposed in the sterilization treatment region.
  • the guide is formed so that the outer surface of the guide is in close contact with the inner wall of the pipe constituting the sterilization treatment area, a plurality of through-holes penetrating one surface and the other surface are formed, and the fluid may pass through the through-holes of the guide.
  • the pipe may include a plurality of guides, and the plurality of guides may be disposed so that through holes formed in each guide are positioned to be shifted from each other.
  • the guide may be formed of a material that transmits light.
  • the substrate of the light source module is disposed to cross the flow path of the pipe, the light source of the light source module emits light in a direction opposite to the direction in which the fluid flows, and the fluid passes through the passage formed by the substrate to be directed toward the outlet of the pipe.
  • It may further include a filter formed on the guide to filter the contaminants contained in the fluid.
  • the light source module may be disposed on both sides of the guide, respectively.
  • a cross-sectional area of the sterilization treatment region may be greater than a cross-sectional area of the inlet and a cross-sectional area of the outlet.
  • a plurality of pipes may be provided, and an outlet of one pipe may be connected to an inlet of another pipe among the plurality of pipes.
  • the pipe includes at least two curved portions in which at least a portion of the inner wall has a curved surface, the sterilization treatment region is formed between the two curved portions, and the light source module is positioned diagonally to the curved surface to form the sterilization treatment region light can be irradiated.
  • the light source module may further include a substrate fixing part for fixing the substrate to the curved surface in an oblique direction, and the substrate fixing part may include a part fixed to the curved surface of the pipe and another part on which the substrate is mounted. .
  • the angle of the one part and the other part of the substrate fixing part may be adjustable.
  • the fan may be disposed adjacent to the inlet of the pipe.
  • a filter disposed at at least one of a front end and a rear end of the fan may be further included.
  • the fluid processing apparatus may improve sterilization efficiency by increasing the time during which the fluid is exposed to light for sterilization.
  • the fluid processing apparatus may improve sterilization efficiency of a fluid including a contaminant by sterilizing the fluid by sucking the fluid below the fluid processing space.
  • FIG. 1 is an exemplary view showing a fluid processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a sixth embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a seventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to an eighth embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a ninth embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a tenth embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to an eleventh embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a twelfth embodiment of the present invention.
  • FIG. 13 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a thirteenth embodiment of the present invention.
  • FIG. 14 is a graph illustrating sterilization efficiency of a light source module included in a fluid processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • 15 is an exemplary view in which a fluid processing apparatus is disposed in a fluid processing space according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is an exemplary view showing a fluid processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 1 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , a first light source module 150 , and a second light source module 160 .
  • the pipe 100 has a flow path 110 that is a passage through which a fluid flows and moves.
  • the pipe 100 has an inlet 101 that is a passage through which the fluid flows into the flow path 110 from the outside of the pipe 100 and an outlet ( 102) may be included.
  • the inlet 101 and the outlet 102 are shown to be located in the lower part of the sterilization treatment area S.
  • the inlet 101 is located at the lower portion of the fluid treatment space
  • the outlet 102 is located at the upper portion of the fluid treatment space. That is, the fluid processing apparatus 1 is not disposed in the fluid processing space as the inlet 101 and the outlet 102 shown in the drawings face downward.
  • a structure in which the fluid processing apparatus 1 is disposed in the fluid processing space will be described in detail through a later embodiment.
  • the inner wall of the pipe 100 may include a material that reflects light.
  • a light reflective material may be coated on the inner wall of the pipe 100 .
  • the pipe 100 may be made of a light reflective material or a material including a light reflective material.
  • the entire inner wall of the pipe 100 may include a light reflective material.
  • the light reflective material may be included only on the inner wall constituting the sterilization treatment region S in which the sterilization of the fluid is performed.
  • the first light source module 150 and the second light source module 160 are disposed in the flow path 110 of the pipe 100 .
  • the first light source module 150 and the second light source module 160 may be disposed on the inner wall of the pipe 100 to emit light for fluid processing toward the fluid flowing through the flow path 110 .
  • a region in which sterilization can be performed through the light emitted from the first light source module 150 and the second light source module 160 is the sterilization treatment region S. That is, when the fluid passes through the sterilization treatment region S, sterilization may be performed through light emitted from at least one of the first light source module 150 and the second light source module 160 . That is, the first light source module 150 and the second light source module 160 emit sterilization light, which is light having a wavelength capable of sterilizing the fluid.
  • the sterilizing light may be ultraviolet light.
  • the kind of sterilizing light is not limited to ultraviolet rays.
  • the type of the sterilizing light may be changed according to the type of the fluid and the purpose of the sterilization.
  • first light source module 150 and the second light source module 160 may include at least one light source 152 that generates and emits light, respectively, and substrates 151 and 161 on which the light source 162 is mounted. there is.
  • the first light source module 150 and the second light source module 160 may emit the same or different types of light.
  • the first light source module 150 and the second light source module 160 each include a plurality of light sources 152 and 162, and the plurality of light sources 152 and 162 emit the same or different types of light. may be
  • the first light source module 150 may be located on the inner wall of the pipe 100 facing the sterilization region S between the inlet 101 and the sterilization region S.
  • the second light source module 160 may be located on the inner wall of the pipe 100 facing the sterilization treatment region (S) between the sterilization treatment region (S) and the outlet (102). Accordingly, the first light source module 150 and the second light source module 160 may be disposed to face each other at both ends of the sterilization treatment region S as shown in FIG. 1 . That is, both the first light source module 150 and the second light source module 160 may emit light for the sterilization treatment in the longitudinal direction of the sterilization treatment region S.
  • the first light source module 150 may irradiate light in the same direction as the direction in which the fluid moves.
  • the second light source module 160 may irradiate light in a direction opposite to the direction in which the fluid moves.
  • the pipe 100 may be formed to have a structure in which the length of the flow path 110 is longer than the diameter of the flow path 110 .
  • the flow path 110 of the pipe 100 is elongated in the longitudinal direction, and at the same time, the first light source module 150 and the second light source module 150 are provided at both ends of the flow path 110 .
  • the sterilization treatment area S may be maximized.
  • the fluid processing apparatus 1 due to the structure that maximizes the sterilization treatment area S, the amount of fluid that can be simultaneously sterilized increases, so that the sterilization efficiency for the fluid is improved. can In addition, in the fluid treatment apparatus 1 according to the present embodiment, since the length of the sterilization treatment region S is long, it is possible to increase the time for the fluid to pass through the sterilization treatment region S to improve the sterilization efficiency of the fluid. .
  • the fan 120 may be disposed inside and outside the pipe 100 . Further, the fan 120 may be disposed near at least one of the inlet 101 and the outlet 102 . In FIG. 1 , the fan 120 is located inside the pipe 100 near the inlet 101 .
  • the structure of the fluid processing apparatus 1 is not limited thereto. That is, if the fan 120 can form a flow of the fluid so that the fluid passes through the sterilization treatment region S inside the pipe 100 , the arrangement position and number of the fan 120 may be variously changed.
  • the fan 120 may control the moving speed of the fluid.
  • the fluid processing apparatus 1 may control the moving speed of the fluid by changing the speed of the fan 120 and the number of fans 120 that operate.
  • the fluid processing apparatus 1 of the present embodiment may improve sterilization efficiency by controlling the moving speed of the fluid passing through the sterilization processing region S using the fan 120 .
  • the fluid treatment apparatus 1 controls the flow rate and flow rate of the fluid passing through the sterilization treatment area S by adjusting the length of the fan 120 and the sterilization treatment area S. can do. Accordingly, the fluid processing apparatus 1 according to the present embodiment can improve the sterilization efficiency of the fluid by sufficiently irradiating light to the fluid passing through the pipe 100 so that the contaminants contained in the fluid and the light sufficiently react. there is.
  • the fluid processing apparatus 1 may further include at least one filter 130 .
  • the filter 130 may be disposed between the fan 120 and the inlet 101 .
  • some of the contaminants included in the fluid may be primarily filtered by the filter 130 .
  • the fluid processing apparatus 1 according to the embodiment of the present invention can minimize the contamination of the fan 120 by the filter 130 by the contamination source.
  • the filter 130 is disposed between the fan 120 and the inlet 101 in FIG. 1 , the fluid processing apparatus 1 of the present embodiment is not limited thereto.
  • the filter 130 may be located at at least one of a front end and a rear end of the fan 120 .
  • the plurality of filters 130 may be different types of filters 130 .
  • the filter 130 may be formed of a plurality of layers made of different materials.
  • the filter 130 may include a first filter layer 131 and a second filter layer 132 .
  • the first filter layer 131 may have a plurality of pores having a size smaller than that of a contaminant included in the fluid. Accordingly, the first filter layer 131 may filter the contaminants while passing the fluid.
  • the second filter layer 132 may be formed of a material different from that of the first filter layer 131 .
  • the second filter layer 132 may be formed of a material having a higher rigidity or hardness than that of the first filter layer 131 .
  • the second filter layer 132 is formed on at least one of the front end and the rear end of the first filter layer 131 to prevent the first filter layer 131 from being damaged by the fast moving speed of the fluid.
  • Contaminant concentration of the fluid passing through the sterilization treatment region S may be reduced by such a filter 130 .
  • the concentration of the pollutant in which the sterilization reaction is performed by the light is lowered by the filter 130, the sterilization efficiency of the fluid is improved for the same amount of time and amount of light exposed to light.
  • FIG. 2 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 2 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , and a light source module 250 .
  • the light source module 250 may include a substrate 251 and a plurality of light sources 252 mounted on the substrate 251 .
  • the length of the substrate 251 may be similar to the diameter of the flow path 110 . Accordingly, as shown in FIG. 2 , the substrate 251 may be fixed inside the pipe 100 to cross the flow path 110 .
  • the substrate 251 does not have a structure to close the flow path 110 . That is, the substrate 251 may be formed to have a cross-sectional area smaller than that of the flow path 110 . Accordingly, a space through which the fluid can pass may be formed on both sides of the substrate 251 . For example, both sides of the substrate 251 and the inner wall of the pipe 100 are spaced apart so that the fluid may pass through a space between the substrate 251 and the inner wall of the pipe 100 .
  • the substrate 251 may have a structure in which a plurality of through-holes passing through the upper and lower surfaces are formed and the outer edge is in close contact with the inner wall of the pipe 100 . In this case, the fluid may pass through the through hole of the substrate 251 .
  • Such a substrate 251 may guide the movement of the fluid.
  • the substrate 251 is formed to block a portion of a passage through which the fluid moves, a portion of the fluid may collide with the substrate 251 . Accordingly, the time the fluid stays around the substrate 251 may increase. As the amount of time the fluid stays around the substrate 251 increases, the amount of time the fluid is exposed to light emitted from the light source module 250 increases.
  • the light source 252 mounted on the substrate 251 may emit light in a direction opposite to the moving direction of the fluid.
  • the fluid may be continuously exposed to light from the start of the sterilization treatment region S until it passes through the substrate 251 .
  • the fluid processing apparatus 2 increases the time during which the fluid is exposed to light through the structure of the substrate 251 of the light source module 250 and the arrangement of the light source module 250 to improve sterilization efficiency. can do it
  • the fluid processing device 2 includes one light source module 250 .
  • the fluid processing apparatus 2 may include a plurality of light source modules 250 . That is, the plurality of substrates 251 on which the light sources 252 are mounted may be mounted on the pipe 100 . In this case, the situation in which the fluid collides with the substrate 251 increases, and accordingly, the time during which the fluid is exposed to light increases, so that the sterilization efficiency of the fluid may be further improved.
  • FIG 3 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a third embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 3 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , and a light source module 250 .
  • the light source module 250 may include a substrate 251 and a plurality of light sources 252 mounted on the substrate 251 .
  • the light source module 250 is located in the sterilization processing area S. As shown in FIG.
  • the light source module 250 may be mounted on the pipe 100 such that the lower surface of the substrate 251 faces the inner wall of the pipe 100 .
  • the lower surface of the substrate 251 is opposite to the surface on which the light source 252 is mounted. That is, the light source 252 is mounted on the upper surface of the substrate 251 .
  • the light source module 250 is positioned above the sterilization area S. However, it is also possible that the light source module 250 is positioned below the sterilization treatment area (S). In addition, it is also possible that the light source module 250 is positioned above and below the sterilization area (S), respectively.
  • the distance between the light source module 250 and the fluid is shorter than that of the previous embodiments. That is, the light irradiation distance of the light source module 250 may be reduced. As the light irradiation distance becomes shorter, the light energy increases.
  • the fluid processing apparatus 3 may increase the energy of light irradiated to the fluid by shortening the distance between the light source module 250 and the fluid.
  • the fluid processing apparatus 3 of the present embodiment may improve the sterilization efficiency of the fluid by increasing the light energy irradiated to the fluid.
  • the fluid processing apparatus 3 of the present embodiment may include a plurality of light source modules 250 .
  • a plurality of light source modules 250 are disposed along the pipe 100 to further improve the sterilization efficiency of the fluid.
  • FIG. 4 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 4 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , a guide 470 , and a light source module 250 .
  • the light source module 250 may include a substrate 251 and a plurality of light sources 252 mounted on the substrate 251 .
  • the light source module 250 may be disposed to cross the flow path 110 to emit light in a direction opposite to the direction in which the fluid moves. That is, the light source module 250 of the present embodiment may be the same as the light source module 250 of the second embodiment.
  • the guide 470 may be disposed in the sterilization treatment area (S). Also, referring to FIG. 4 , the guide 470 may have a structure in which one end is in contact with the upper inner wall of the pipe 100 and the other end is spaced apart from the lower inner wall of the pipe 100 . Accordingly, the fluid passing through the sterilization treatment region S passes through the lower space of the guide 470 spaced apart from the inner wall of the pipe 100 .
  • the fluid when a portion of the fluid passes through the sterilization treatment region S, it may collide with the guide 470 . At this time, a vortex may be generated in the sterilization treatment region S by the fluid colliding with the guide 470 . Due to the vortex, the time the fluid stays in the sterilization treatment area S increases. For example, the velocity of the fluid passing through the lower portion of the guide 470 may be reduced by the vortex. Accordingly, the amount of time the fluid is exposed to the light of the light source module 250 may increase.
  • the fluid may be continuously exposed to the light of the light source module 250 while moving the region between the guide 470 and the light source module 250 .
  • the fluid may be continuously exposed to the light of the light source module 250 while passing through the sterilization treatment region S.
  • the guide 470 may be formed of a material that reflects light.
  • the guide 470 may reflect light that sterilizes the fluid so that the light is uniformly irradiated to the entire sterilization area S. Accordingly, by improving the light uniformity in the sterilization treatment area S by the guide 470 and minimizing the area to which light is not irradiated, the sterilization efficiency of the fluid treatment apparatus 4 may be improved.
  • the fluid passes through a narrow space between the guide 470 and the inner wall of the pipe 100 and then passes through the flow path 110 which is a space made up of the entire inner wall of the pipe 100 . That is, as the cross-sectional area of the flow path 110 through which the fluid passes increases, the moving speed may decrease.
  • the guide 470 may change the movement path of the fluid. That is, the movement distance of the fluid in the sterilization treatment area S is increased by the guide 470 . Accordingly, as the moving distance of the fluid in the sterilization treatment region S increases, the time during which the fluid is exposed to light may also increase.
  • the fluid processing apparatus 4 reduces the moving speed of the fluid by the arrangement structure of the guide 470 and the light source module 250, increases the moving distance of the fluid, and increases the moving distance of the fluid while the fluid moves. By continuously providing light, it is possible to improve the sterilization efficiency of the fluid.
  • FIG. 5 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 5 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , a guide 470 , and a light source module 250 .
  • the light source module 250 may include a substrate 251 and a plurality of light sources 252 mounted on the upper surface of the substrate 251 .
  • the guide 470 may have a structure in which one end is in contact with the upper inner wall of the pipe 100 , and the other end is spaced apart from the lower inner wall of the pipe 100 . Accordingly, the fluid passing through the sterilization treatment region S passes through the lower space of the guide 470 spaced apart from the inner wall of the pipe 100 .
  • the light source module 250 may be located under the guide 470 .
  • the guide 470 may be mounted on the pipe 100 such that the lower surface of the substrate 251 faces the inner wall of the pipe 100 .
  • some light sources among the plurality of light sources 252 are disposed between the inlet 101 and the guide 470 of the pipe 100 , and other light sources are the guide 470 and the outlet 102 . can be placed between them.
  • the first light source 255 may be disposed between the inlet 101 and the guide 470
  • the second light source 256 may be disposed between the guide 470 and the outlet 102 .
  • a portion of the fluid may collide with the guide 470 to generate a vortex between the inlet 101 and the guide 470 .
  • the fluid passes through the space between the narrow guide 470 and the inner wall of the pipe 100 . Accordingly, the time that a portion of the fluid stays between the inlet 101 and the guide 470 increases.
  • the fluid remaining in the region between the inlet 101 and the guide 470 by the guide 470 may be exposed to the light of the first light source 255 . Since the residence time of the fluid is increased by the guide 470 , the time the fluid is exposed to the light of the first light source 255 in the region between the inlet 101 and the guide 470 may also increase.
  • the fluid passes through a narrow space and moves to a wide space between the guide 470 and the outlet 102 .
  • the velocity of the fluid decreases. Accordingly, the fluid may be exposed to the light of the second light source 256 in the region between the guide 470 and the outlet 102 . Accordingly, the amount of time the fluid is exposed to the light of the second light source 256 may increase.
  • the guide 470 is disposed between the first light source 255 and the second light source 256 as an example, but the guide 470 is disposed between the light source modules 250 instead of the light sources. It is also possible
  • the light source module 250 is disposed under the pipe 100 so that the light irradiation distance can be reduced. That is, as the distance between the light source module 250 and the fluid becomes shorter, the energy of light irradiated to the fluid may increase.
  • the fluid processing apparatus 5 provides an arrangement of the light source module 250 and the guide 470 for increasing the amount of time the fluid is exposed to light and increasing the light energy irradiated to the fluid. Sterilization efficiency can be improved.
  • the fluid processing apparatus 5 may include a plurality of light source modules 250 .
  • the amount of light emitted into the sterilization treatment region S may be increased to further improve sterilization efficiency for the fluid.
  • FIG. 6 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a sixth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 6 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , a guide 670 , and a light source module 250 .
  • the light source module 250 may include a substrate 251 and a plurality of light sources 252 mounted on the substrate 251 .
  • the light source module 250 may be disposed to cross the flow path 110 to emit light in a direction opposite to the direction in which the fluid moves.
  • a plurality of guides 670 may be disposed in the sterilization treatment area S.
  • the plurality of guides 670 may be formed on an upper inner wall or a lower inner wall of the pipe 100 .
  • Some of the plurality of guides 670 may be formed to extend downward from the inner wall of the upper portion of the pipe 100 .
  • other portions of the plurality of guides 670 may be formed to extend upwardly from the lower inner wall of the pipe 100 .
  • the guide 670 formed on the upper inner wall of the pipe 100 and the guide 670 formed on the lower inner wall of the pipe 100 may be alternately disposed.
  • the guide 670 may include a first guide 671 , a second guide 672 , and a third guide 673 .
  • the first guide 671 and the third guide 673 are formed on the lower inner wall of the pipe 100
  • the second guide 671 is formed on the upper inner wall of the pipe 100 .
  • the fluid processing apparatus 6 according to the embodiment of the present invention has the same effect of improving the sterilization efficiency by the guide 470 and the light source module 250 of the fluid processing apparatus according to the fourth embodiment (4 in FIG. 4 ).
  • a fluid movement path in the sterilization processing region S may be increased by the plurality of guides 670 . Accordingly, the fluid treatment apparatus 6 according to the present embodiment allows the fluid to move along the fluid movement path formed by the plurality of guides 670 to increase the time the fluid stays in the sterilization treatment region S. .
  • the fluid passes through the sterilization treatment region S, it collides with the guide 670 to decrease the movement speed. That is, while the fluid moves, it collides with the guide 670 and stays in the sterilization treatment region S may increase.
  • the plurality of guides 670 may be formed of a material that transmits light.
  • the guide 670 may be formed of a material that transmits light, such as glass or quartz.
  • the light emitted from the light source module 250 may pass through the plurality of guides 670 to be irradiated onto the fluid passing through the sterilization treatment region S.
  • the fluid treatment apparatus 6 may increase the time the fluid is exposed to light by increasing the residence time in the sterilization treatment region S. Accordingly, the fluid processing apparatus 6 according to an embodiment of the present invention may increase the time during which the fluid is exposed to light to improve sterilization efficiency.
  • FIG. 7 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a seventh embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 7 may include a pipe 100 , a fan 120 , a filter 130 , a guide 670 , and a light source module 750 .
  • the light source module 750 may include a substrate and a plurality of light sources mounted on the substrate.
  • a plurality of guides 670 may be disposed on the pipe 100 , and a plurality of light source modules 750 may be disposed on each of the plurality of guides 670 . Also, the light source module 750 may be disposed on one surface and the other surface of the guide 670 , respectively.
  • the fluid processing device 7 may include a first guide 671 to a third guide 673 .
  • the first guide 671 is a guide 670 disposed closest to the inlet 101 of the pipe 100
  • the third guide 673 is the outlet 102 of the pipe 100 and It is the guide 670 disposed closest to it.
  • the first guide 671 and the third guide 673 may have a structure extending upwardly from the lower inner wall of the pipe 100 .
  • the second guide 672 is disposed between the first guide 671 and the second guide 672 .
  • the second guide 672 may have a structure extending downward from the upper inner wall of the pipe 100 .
  • a light source module 750 may be disposed in the first guide 671 to the third guide 673 , respectively.
  • a 1-1 light source module 751 may be disposed on one surface of the first guide 671 , and a 1-2 light source module 752 may be disposed on the other surface of the first guide 671 .
  • a 2-1 light source module 753 may be disposed on one surface of the second guide 672
  • a 2-2 second light source module 754 may be disposed on the other surface of the second guide 672
  • a 3-1 th light source module 755 may be disposed on one surface of the third guide 673
  • a 3-2 th light source module 756 may be disposed on the other surface of the third guide 673 .
  • one surface of the guide 670 is a surface facing the direction opposite to the moving direction of the fluid. That is, one surface of the guide 670 is a surface facing the fluid moving from the inlet 101 to the outlet 102 .
  • the other surface of the guide 670 is the opposite surface of the one surface of the guide (670).
  • the 1-1 light source module 751 may irradiate light to the fluid passing through the area from the beginning of the sterilization treatment area S to the first guide 671 .
  • the 3-2 light source module 756 may irradiate light to the fluid passing through the area from the third guide 673 to the end of the sterilization treatment area S.
  • the 1-2 th light source module 752 and the 2-1 th light source module 753 may irradiate light to the fluid passing between the first guide 671 and the second guide 672 .
  • the 2-2 light source module 754 and the 3-1 light source module 755 may irradiate light to the fluid passing between the second guide 672 and the third guide 673 .
  • the fluid processing apparatus 7 of the present embodiment may increase the time the fluid stays in the sterilization processing region S by the plurality of guides 670 .
  • the distance from the fluid passing through the sterilization processing region S may be shortened. That is, the fluid moving in the sterilization treatment region S may be exposed to high energy light due to a close distance to the light source module 750 .
  • the light source modules 750 disposed to face each other on one surface and the other surface of each guide 670 , light is irradiated to the same area. In this case, the light emitted from the light source modules 750 may overlap each other.
  • the light source modules 750 disposed to emit light in the same area may be disposed to be shifted from each other in consideration of the light beam direction. That is, by controlling the overlapping irradiation area of the lights emitted from the light source modules 750 , the overall light irradiation uniformity of the corresponding area may be improved.
  • the 1-2 th light source module 752 and the 2-1 th light source module 753 may be disposed to be shifted from each other in consideration of the orientation angle.
  • the 1-2-th light source module 752 and the 2-1-th light source module 753 may be arranged to minimize an overlapping area of the light emitted from each. Accordingly, uniform light can be irradiated to the entire area between the first guide 671 and the second guide 672 by the 1-2 light source module 752 and the 2-1 light source module 753 .
  • This arrangement method is equally applied to the 2-2 light source module 754 and the 3-1 light source module 755 to improve the light uniformity in the area between the second guide 672 and the third guide 673 . can do it
  • the present invention is not limited thereto.
  • a plurality of light sources pass through the inner wall of the upper inner wall of the pipe 100 and the inner wall of the lower inner wall of the pipe 100 along the length of the pipe 100 . can be arranged accordingly.
  • the light source modules 750 are disposed between the part where the sterilization treatment area (S) starts and the first guide 670, the last guide 670 and the part where the sterilization treatment area (S) ends, and the guides 670 disposed adjacent to each other. can be placed between them.
  • FIG. 8 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to an eighth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 8 may include a pipe 810 , a fan 120 , a filter 130 , and a light source module 250 .
  • the pipe 810 of the fluid processing apparatus 8 may have a structure in which one part has a different inner diameter from that of another part. That is, one portion of the flow path 810 of the pipe 810 may be formed to have a cross-sectional area different from that of the other portion.
  • the pipe 810 may have a structure in which the sterilization treatment region S has a larger diameter than the inlet 801 and the outlet 802 . Furthermore, in the pipe 810 , the cross-sectional area of the sterilization treatment region S may be greater than the cross-sectional area of the inlet 801 and the outlet 802 .
  • the cross-sectional area is the area of the cross-section when the pipe 810 is cut in a direction perpendicular to the moving direction of the fluid.
  • the cross-sectional area of the inlet 801 and the cross-sectional area of the outlet 802 may be the same or different from each other.
  • the light source module 250 is located in the sterilization treatment area S, and may be disposed on an upper inner wall or a lower inner wall of the pipe 810 .
  • the flow velocity of the fluid passing through the inlet 801 may decrease as the cross-sectional area of the flow path 810 increases. Accordingly, the moving speed of the fluid passing through the sterilization treatment region S may decrease, so that the time the fluid is exposed to the light of the light source module 250 may increase.
  • the fluid that has passed through the sterilization treatment region (S) is directed toward the outlet 802 having a relatively small cross-sectional area compared to the sterilization treatment region (S).
  • the pipe 810 may have a structure in which the cross-sectional area of the flow path 810 becomes narrower from the end of the sterilization treatment region S toward the outlet 802 .
  • a portion of the fluid directed to the outlet 802 may not directly go to the outlet 802 and may collide with the inner wall of the pipe 810 having a reduced diameter.
  • a vortex may occur near the inner wall of the pipe 810 due to the fluid collided with the inner wall of the pipe 810 .
  • the time for the fluid to stay inside the pipe 810 may increase, and accordingly, the time for the fluid to be exposed to the light of the light source module 250 may also increase.
  • the fluid processing apparatus 8 may increase the time during which the fluid is exposed to light from the light source module 250 due to a structure in which a part has a cross-sectional area different from that of other parts, thereby improving sterilization efficiency.
  • FIG. 9 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a ninth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 9 may include a pipe 810 , a fan 120 , a filter 130 , a guide 470 , and a light source module 250 .
  • the fluid treatment apparatus 9 of this embodiment includes a pipe 810 having a structure in which a cross-sectional area of the sterilization treatment region S is greater than that of an inlet 801 and an outlet 802 .
  • the fluid treatment apparatus 9 of the present embodiment is formed in the sterilization treatment area S, and includes a guide 470 disposed to face the light source module 250 .
  • the light source module 250 is disposed on an upper inner wall of the pipe 810 to emit light in a downward direction.
  • the guide 470 is disposed on the lower inner wall of the pipe 810 and has a structure extending in the upper direction.
  • the light source module 250 and the guide 470 have a structure spaced apart from each other.
  • the light source module 250 may include a plurality of light sources 252 .
  • the light source module 250 may include a first light source 255 and a second light source 256 .
  • the first light source 255 may be located in a space between the start of the sterilization area S and the guide 470 . Accordingly, the first light source 255 may irradiate light to the area from the start of the sterilization treatment area S to the guide 470 .
  • the second light source 256 may be located in a space between the ends of the sterilization treatment area S in the guide 470 . Accordingly, the second light source 256 may irradiate light to the area from the guide 470 to the end of the sterilization treatment area S.
  • the fluid processing apparatus 9 according to the present embodiment may reduce the moving speed of the fluid by the structure of the pipe 810 . Also, in the fluid processing apparatus 9 according to the present embodiment, the movement distance of the fluid in the sterilization processing region S may be increased by the guide 470 . In addition, in the fluid processing apparatus 9 according to the present embodiment, the distance between the light source module 250 and the fluid passing through the sterilization treatment region S can be shortened by disposing the light source module 250 on the upper inner wall of the fluid. there is.
  • the fluid processing apparatus 9 of the present embodiment may reduce the moving speed of the fluid, increase the moving distance of the fluid, and increase the energy of light irradiated to the fluid, thereby improving the sterilization efficiency of the fluid.
  • the light source module 250 is disposed on an upper inner wall of the pipe 810 to emit light in a downward direction.
  • the structures of these embodiments are not limited thereto.
  • the light source module 250 has a flow path 810 like the fluid processing apparatus of the second embodiment (2 of FIG. 2 ). It may be arranged to cross the In this case, the sterilization efficiency can be further improved by controlling the speed of the fluid by the substrate of the light source module 250 .
  • FIG. 10 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a tenth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 80 may include a pipe 810 , a fan 120 , a filter 130 , a guide 670 , and a light source module 750 .
  • the fluid processing apparatus 80 according to the tenth embodiment has the same structure as the fluid processing apparatus 80 according to the ninth embodiment and the pipe 810 , but the number and arrangement of the guides 670 and the light source modules 750 . The structure is different.
  • the fluid processing device 80 of this embodiment increases the movement path of the fluid by the plurality of guides 670 and generates a vortex to increase the time the fluid stays in the sterilization treatment region S.
  • the fluid processing apparatus 80 according to the present exemplary embodiment may increase the time during which the fluid is exposed to light to improve sterilization efficiency.
  • a plurality of guides 670 may be disposed on the pipe 810 , and a plurality of light source modules 750 may be disposed on each of the plurality of guides 670 .
  • the light source module 750 may be disposed on one surface and the other surface of the guide 670 , respectively.
  • the light source modules 750 arranged to irradiate light to the same area may be arranged in consideration of each light directivity angle.
  • the light source modules 750 may be staggered to minimize the overlapping area of each light irradiation area. Accordingly, the fluid processing apparatus 80 according to the present embodiment may improve the sterilization efficiency by improving the uniformity of light irradiated to the entire sterilization processing region S.
  • FIG. 11 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to an eleventh embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 11 may include a pipe, a fan 120 , a filter 130 , and a light source module 250 .
  • the pipe may include a first pipe 1100-1 and a second pipe 1100-2.
  • the first pipe 1100-1 and the second pipe 1100-2 may each have the same structure as the pipe 810 of the fluid processing apparatus according to the eighth embodiment (8 of FIG. 8). Also, the first pipe 1100-1 and the second pipe 1100-2 may be connected to each other. That is, the outlet of the first pipe 1100-1 and the inlet of the second pipe 1100-2 may be connected to each other. Accordingly, the inlet 1101 of the fluid processing apparatus 11 according to the embodiment of the present invention becomes an inlet of the first pipe 1100-1, and the outlet 1102 is an outlet of the second pipe 1100-2. can be
  • the fluid processing apparatus 11 may increase the time that the fluid stays in the sterilization processing region S and the flow path 1110 due to the structure of the pipe. For a description of this, refer to the pipe 810 of the fluid processing apparatus 11 according to the eighth embodiment.
  • the time for the fluid to stay inside the pipe is further increased.
  • the fluid flows in the first pipe 1100-1 and the second pipe 1100-2. Each may be exposed to light.
  • the fluid processing apparatus 11 may increase the residence time and movement path of the fluid and increase the time the fluid is exposed to light, thereby improving sterilization efficiency.
  • the fluid processing apparatus 11 of the present embodiment has a structure in which two pipes are connected, but more pipes may be connected.
  • the fluid processing apparatus 11 of the present embodiment may further include at least one guide 470 described in the previous embodiment.
  • the guide 470 and the light source module 250 positioned in the sterilization processing area S are the guides ( 10 in FIG. 10 ) of the fluid processing apparatus according to the tenth embodiment. 670) and the light source module 750 may be provided.
  • FIG. 12 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a twelfth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 12 may include a pipe 1200 , a fan 120 , a filter 130 , and a light source module 1250 .
  • At least a portion of an inner wall of the pipe 1200 of the fluid processing apparatus 12 may be formed of a curved surface.
  • the pipe 1200 may be formed to have at least two bent portions.
  • the pipe 1200 may include a sterilization treatment region S at the first bent portion and the second bent portion.
  • the inlet 1201 of the pipe 1200 and the outlet 1202 of the pipe 1200 face different directions.
  • the present invention is not limited to the structure of the pipe 1200 as described above.
  • the fluid moving along the inner wall of the pipe 1200 may become a vortex in the sterilization treatment region S while moving along the curved surface of the inner wall of the pipe 1200 .
  • the vortex may increase the residence time of the fluid in the sterilization treatment region S.
  • a plurality of light source modules 1250 may be arranged to emit light toward the sterilization processing region S.
  • the plurality of light source modules 1250 may be disposed on a curved portion as shown in FIG. 12 and may be disposed to emit light in an oblique direction.
  • the light source module 1250 may include a substrate 1251 , a light source 1252 , and a substrate fixing unit 1253 .
  • the substrate fixing unit 1253 may allow the substrate 1251 on which the light source 252 is mounted to be diagonally fixed to the bent portion. Accordingly, the light source module 1250 may be disposed on the bent portion so that light is stably irradiated to the sterilization treatment region S by the substrate fixing portion 1253 .
  • the substrate fixing unit 1253 may be able to adjust the angle between the portion fixed to the inner wall of the fluid and the portion on which the substrate 1251 is mounted. Accordingly, the light irradiation area of the light source module 1250 may be adjusted by adjusting the angle of the substrate fixing unit 1253 .
  • the time during which the fluid is exposed to light may be increased by the structure of the pipe 1200 formed to generate a vortex of the fluid in the sterilization processing region S. Accordingly, the fluid processing apparatus 12 of the present embodiment may improve sterilization efficiency.
  • FIG. 13 is an exemplary view illustrating a fluid processing apparatus according to a thirteenth embodiment of the present invention.
  • the fluid processing apparatus 13 may include a pipe 100 , a fan 120 , filters 130 and 1380 , a guide 1370 , and a light source module 1350 .
  • the fluid processing apparatus 13 of the present embodiment may include a plurality of guides 1370 .
  • the fluid processing apparatus 13 may include a first guide 1371 and a second guide 1372 .
  • the first guide 1371 and the second guide 1372 may be formed so that the outer surface is in close contact with the inner wall of the pipe 100 constituting the sterilization treatment region (S).
  • the first guide 1371 and the second guide 1372 may be formed to have a plurality of through-holes 1375 .
  • the first guide 1371 and the second guide 1372 block the flow path 110 of the pipe 100, and the through hole 1375 of the guide 1370 is the flow path ( 110) may be formed to play a role.
  • the residence time in the sterilization treatment region S may increase.
  • first guide 1371 and the second guide 1372 may be disposed such that the through hole 1375 of the first guide 1371 and the through hole 1375 of the second guide 1372 cross each other.
  • the length of the movement path of the fluid may be increased by the through-holes 1375 of the first guide 1371 and the second guide 1372 that are alternately arranged.
  • the light source module 1350 may be disposed on an upper inner wall of the pipe 100 constituting the sterilization treatment region S. Accordingly, the light source module 1350 may irradiate light to the fluid passing through the first guide 1371 and the second guide 1372 . Therefore, in the fluid processing apparatus 13 according to the present embodiment, the time during which the fluid is exposed to light is increased by the structure of the first guide 1371 and the second guide 1372 to improve the sterilization efficiency of the fluid. there is.
  • the first guide 1371 and the second guide 1372 may include a filter 1380 for filtering the contaminants included in the fluid.
  • first guide 1371 and the second guide 1372 may be a filter 1380 in which a plurality of through holes 1375 are formed.
  • one surface and the other surface of the first guide 1371 and the second guide 1372 may contain a component that adsorbs a contaminant contained in the fluid.
  • the contaminant contained in the fluid may be adsorbed to the filter 1380 . Since the contaminant source is adsorbed and fixed to the filter 1380 of the first guide 1371 and the second guide 1372 , it can be sterilized by being exposed to the light source module 1350 for a long time.
  • the time during which the fluid is exposed to light by the guide 1370 is increased, and the contamination source is also exposed to light for a long time, thereby improving light sterilization efficiency.
  • the filter 1380 is formed on the guide 1370 has been described through this embodiment.
  • the filter 1380 may be applied to the guide 1370 also in the fluid processing apparatus 13 of another embodiment having the guide 1370 described above.
  • FIG. 14 is a graph illustrating sterilization efficiency of a light source module included in a fluid processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the light source module may perform sterilization with different types of light according to the type of pollution source, purpose of use, type of fluid, and the like.
  • the light source module may be a light source emitting UVC, UVB, UVA according to the purpose.
  • the light source module may include a light source emitting light having a peak wavelength in a wavelength range of 400 nm to 430 nm depending on the purpose.
  • the light source of the light source module may be composed of a light emitting diode.
  • FIG. 14 is a graph showing the results of Table 1.
  • Table 1 and FIG. 14 are graphs showing the time during which sterilization of about 99.9% is possible through UVC and the distance from the light source module.
  • the light source module When the light source module emits UVC, it can sterilize 99.9% of pollutants within a distance of 30cm from the light source module in about 4 seconds.
  • the light source module emits UVC, it is possible to sterilize 99.9% of pollutants within a distance of 50 cm from the light source module in about 11 seconds.
  • the light source module emits UVC, it is possible to sterilize 99.9% of pollutants within a distance of 70 cm from the light source module in about 22 seconds.
  • the light source module emits UVC, it is possible to sterilize 99.9% of pollutants within a distance of 100 cm from the light source module in about 45 seconds.
  • the area in which the sterilization is performed can also be increased in proportion to the time the light for sterilization is irradiated.
  • the sterilization efficiency may be controlled by adjusting at least one of a time for emitting light from the light source module and a distance between the light source module and the contamination source.
  • Such a light source module may be a light source module applied to the first to thirteenth embodiments.
  • 15 is an exemplary view in which a fluid processing apparatus is disposed in a fluid processing space according to an embodiment of the present invention.
  • a fluid processing apparatus 14 is schematically illustrated.
  • the fluid processing apparatus 14 of FIG. 15 may be one of the fluid processing apparatuses of all the previously described embodiments.
  • the fluid processing space 20 may be a space in which air or water flows or is stored in the external space 20 of the fluid processing apparatus 14 . That is, the fluid may be a gas such as air or a liquid such as water.
  • the fluid processing space 20 may be an indoor space requiring air purification.
  • pollutants are heavier than air, so they may be concentrated on the floor of the indoor space.
  • the inlet 101 of the fluid processing apparatus 14 may be located at a lower portion of the fluid processing space 20 .
  • the outlet 102 of the fluid processing device 14 may be located at an upper portion of the fluid processing space 20 .
  • the fluid processing apparatus 14 may perform sterilization by sucking air from a lower portion of the fluid processing space 20 in which contaminants are concentrated through the fan 120 . Also, the fluid processing device 14 may discharge sterilized air from the upper portion of the fluid processing space 20 .
  • the fluid processing apparatus is disposed in the fluid processing space to suck and sterilize the contaminants concentrated on the floor, thereby improving the sterilization efficiency of the fluid processing space.
  • the fluid processing apparatus can prevent a decrease in sterilization efficiency while minimizing a change in size by applying a structure of a guide and a pipe that can increase the time during which the fluid is exposed to light. That is, the fluid processing apparatus according to an embodiment of the present invention can sterilize the fluid without degrading the sterilization efficiency even when the capacity of the fluid or the area of the fluid processing space increases.

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Abstract

본 발명은 유체 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 처리 장치는 유체가 통과하는 유입구, 배출구 및 유입구와 배출구를 연결하는 유로가 형성되며, 유로 내에 살균 처리 영역을 제공하는 배관; 유체를 배관의 유입구에서 배출구 방향으로 이동하도록 유체의 흐름을 제어하는 팬; 및 배관의 살균 처리 영역으로 살균을 위한 광을 방출하는 광원 및 광원을 실장하는 기판을 포함하는 적어도 하나의 광원 모듈을 포함할 수 있다. 배관의 유입구는 배관의 외부 공간의 바닥면에 인접하게 배치되고, 배관의 배출구는 외부 공간의 상면에 인접하게 배치되며, 배관은 굴곡된 부분을 포함하여 배관의 유입구와 배출구를 통과하는 유체 방향과 살균 처리 영역을 통과하는 유체 방향이 상이하도록 형성되며, 살균 처리 영역의 길이는 살균 처리 영역의 직경보다 길 수 있다.

Description

유체 처리 장치
본 발명은 유체 처리 장치에 관한 것이다.
최근 산업화로 인한 환경 오염이 심해지고 있으며, 대규모 전염병이 증가하고 있는 가운데, 개인 및 공공 위생에 대한 관심이 확산되고 있다. 이에 따라, 살균된 물이나 정화된 공기에 대한 수요가 점점 늘어나고 있는 바, 병원성 미생물로부터 안전한 환경을 조성할 수 있는 제균 관련 제품이 개발되고 있다.
종래 공기 정화기는 공기 정화량 또는 대상 면적에 따라 공기 정화기의 용량을 변경해야 하며, 용량이 늘어날수록 장치의 사이즈가 증가해야 하는 문제점이 있다.
본 발명의 해결하고자 하는 과제는 살균 효율을 향상시킬 수 있는 유체 처리 장치를 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 해결하고자 하는 다른 과제는 유체의 용량 및 유체 처리 공간의 면적의 증가에서 살균 효율 저하없이 살균을 수행할 수 있는 유체 처리 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 유체가 통과하는 유입구, 배출구 및 유입구와 배출구를 연결하는 유로가 형성되며, 상기 유로 내에 살균 처리 영역을 제공하는 배관; 상기 유체를 상기 배관의 상기 유입구에서 상기 배출구 방향으로 이동하도록 상기 유체의 흐름을 제어하는 팬; 및 상기 배관의 상기 살균 처리 영역으로 살균을 위한 광을 방출하는 광원 및 상기 광원을 실장하는 기판을 포함하는 적어도 하나의 광원 모듈을 포함하는 유체 처리 장치가 제공될 수 있다. 상기 배관의 상기 유입구는 상기 배관의 외부 공간의 바닥면에 인접하게 배치되고, 상기 배관의 상기 배출구는 상기 외부 공간의 상면에 인접하게 배치되며, 상기 배관은 굴곡된 부분을 포함하여 상기 배관의 유입구와 배출구를 통과하는 유체 방향과 상기 살균 처리 영역을 통과하는 유체 방향이 상이하도록 형성되며, 상기 살균 처리 영역의 길이는 상기 살균 처리 영역의 직경보다 길 수 있다.
상기 배관은 상기 유입구와 상기 살균 처리 영역 사이에서 굴곡되고, 상기 살균 처리 영역과 상기 배출구 사이에서 굴곡될 수 있다.
상기 광원 모듈은 상기 유입구와 살균 처리 영역 사이에서 살균 처리 영역을 마주하는 배관의 내벽 및 살균 처리 영역과 배출구 사이에서 살균 처리 영역을 마주하는 배관의 내벽 중 적어도 하나에 배치될 수 있다.
상기 광원 모듈의 상기 기판은 상기 배관의 유로를 가로지르도록 배치되며, 상기 광원 모듈의 상기 광원은 상기 유체가 흐르는 방향의 반대 방향으로 광을 방출하며, 상기 유체는 상기 기판에 의해 형성된 통로를 통과하여 상기 배관의 상기 배출구를 향할 수 있다.
상기 광원 모듈은 상기 살균 처리 영역에 위치하며, 상기 살균 처리 영역을 이루는 상기 배관의 상부 내벽 및 하부 내벽 중 적어도 하나에 배치될 수 있다.
상기 배관은 상기 살균 처리 영역에 형성되어 상기 유체의 이동 경로를 변경하는 적어도 하나의 가이드를 더 포함하며, 상기 가이드는 상기 배관의 상부 내벽에서 하부 방향으로 연장되도록 형성되거나 하부 내벽에서 상부 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다.
상기 배관은 복수의 상기 가이드를 포함하며, 상기 살균 처리 영역에는 상기 배관의 상부 내벽에 형성된 가이드와 상기 배관의 하부 내벽에 형성된 가이드가 교차로 배치될 수 있다.
상기 가이드는 외측면이 상기 살균 처리 영역을 이루는 상기 배관의 내벽에 밀착하도록 형성되며, 일면 및 타면을 관통하는 복수의 관통공이 형성되며, 상기 유체는 상기 가이드의 관통공을 통과할 수 있다.
상기 배관은 상기 가이드를 복수로 구비하며, 상기 복수의 가이드는 각각의 가이드에 형성된 관통공이 서로 어긋나게 위치하도록 배치될 수 있다.
상기 가이드는 광이 투과하는 재질로 형성될 수 있다.
상기 광원 모듈의 상기 기판은 상기 배관의 유로를 가로지르도록 배치되며, 상기 광원 모듈의 상기 광원은 상기 유체가 흐르는 방향의 반대 방향으로 광을 방출하며, 상기 유체는 상기 기판에 의해 형성된 통로를 통과하여 상기 배관의 상기 배출구를 향할 수 있다.
상기 가이드에 형성되어 상기 유체에 포함된 오염원을 필터링하는 필터를 더 포함할 수 있다.
상기 광원 모듈은 상기 가이드의 양 측면에 각각 배치될 수 있다.
상기 배관은 상기 살균 처리 영역의 단면적이 상기 유입구의 단면적 및 상기 배출구의 단면적보다 클 수 있다.
상기 배관이 복수로 구비되며, 상기 복수의 배관 중에서 일 배관의 배출구는 타 배관의 유입구와 연결될 수 있다.
상기 배관은 내벽의 적어도 일부가 곡면으로 이루어진 적어도 2개의 굴곡부를 포함하고, 상기 살균 처리 영역은 상기 2개의 굴곡부 사이에 형성되며, 상기 광원 모듈은 상기 곡면에 사선 방향으로 위치하여 상기 살균 처리 영역으로 광을 조사할 수 있다.
상기 광원 모듈은 상기 기판을 상기 곡면에 사선 방향으로 고정시키는 기판 고정부를 더 포함하며, 상기 기판 고정부는 상기 배관의 상기 곡면에 고정되는 일 부분과 상기 기판이 실장되는 타 부분을 포함할 수 있다.
상기 기판 고정부의 상기 일 부분과 상기 타 부분은 각도 조절이 가능할 수 있다.
상기 팬은 상기 배관의 유입구에 인접하게 배치될 수 있다.
상기 팬의 전단 및 후단 중 적어도 한 곳에 배치되는 필터를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치는 유체가 살균을 위한 광에 노출되는 시간을 증가시켜 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치는 유체 처리 공간의 하부의 유체를 흡입하여 살균함으로써, 오염원을 포함한 유체의 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 4는 본 발명의 제4 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 5는 본 발명의 제5 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 6은 본 발명의 제6 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 7은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 8은 본 발명의 제8 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 9는 본 발명의 제9 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 10은 본 발명의 제10 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 11은 본 발명의 제11 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 12는 본 발명의 제12 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 13은 본 발명의 제13 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 처리 장치에 포함된 광원 모듈의 살균 효율을 나타낸 그래프이다.
도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 처리 장치가 유체 처리 공간에 배치된 예시도이다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세히 설명하기로 한다. 다음에 소개되는 실시 예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위한 예시로써 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하 설명되는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타내고 유사한 참조번호는 대응하는 유사한 구성요소를 나타낸다.
또한, "하부", "상부", “상면”, “하면”, "측면” 등과 같은 공간적으로 상대적인 용어는 설명과 이해를 돕기 위한 것이며, 도면에 도시된 요소와 다른 요소(들)와의 관계를 설명하기 위해 사용될 수 있다. 즉, 이후 실시 예들을 설명할 때 사용되는 "하부", "상부", “상면”, “하면”, "측면”은 절대적인 방향을 나타내는 것이 아니라 도면을 기준으로 하는 상대적인 방향의 의미를 갖는다.
이후, 도면을 통해서 본 발명의 유체 처리 장치에 대한 실시 예들에 대해 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제 1 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 배관(100), 팬(120), 필터(130), 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)을 포함할 수 있다.
도 1을 참고하면, 배관(100)은 유체가 유입되어 이동하는 통로인 유로(110)가 형성되어 있다. 또한, 배관(100)은 유체가 배관(100)의 외부에서 유로(110)로 유입되는 통로인 유입구(101) 및 유체가 유로(110)에서 배관(100)의 외부로 배출되는 통로인 배출구(102)를 포함할 수 있다.
도 1에서 유입구(101) 및 배출구(102)가 살균 처리 영역(S)의 하부에 위치하도록 도시되어 있다. 그러나 이는 설명과 이해를 돕기 위한 것으로, 유체 처리 장치(1)는 유입구(101)가 유체 처리 공간의 하부에 위치하고, 배출구(102)가 유체 처리 공간의 상부에 위치하게 된다. 즉, 유체 처리 장치(1)가 도면에 도시된 유입구(101)와 배출구(102)가 하부 방향을 향하는 그대로 유체 처리 공간에 배치되는 것은 아니다. 유체 처리 장치(1)가 유체 처리 공간에 배치되는 구조는 추후 실시 예를 통해서 자세히 설명하도록 한다.
또한, 배관(100)의 내벽은 광을 반사하는 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 배관(100)의 내벽에 광 반사 물질이 코팅될 수 있다. 또는 배관(100)이 광 반사 물질로 이루어지거나 광 반사 물질을 포함하는 재질로 이루어 질 수 있다. 또한, 배관(100)의 내벽 전체가 광 반사 물질을 포함할 수 있다. 또는 유체의 살균이 수행되는 살균 처리 영역(S)을 이루는 내벽에만 광 반사 물질을 포함할 수 있다.
제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 배관(100)의 유로(110)에 배치된다.
제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 배관(100)의 내벽에 배치되어 유로(110)를 흐르는 유체를 향해 유체 처리를 위한 광을 방출할 수 있다. 여기서, 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)에서 방출된 광을 통해 살균이 수행될 수 있는 영역을 살균 처리 영역(S)이다. 즉, 유체는 살균 처리 영역(S)을 통과할 때, 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160) 중 적어도 하나에서 방출된 광을 통해 살균이 수행될 수 있다. 즉, 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 유체를 살균할 수 있는 파장의 광인 살균광을 방출한다. 예를 들어, 살균광은 자외선일 수 있다. 그러나 살균광의 종류가 자외선으로 한정되는 것은 아니다. 살균광은 유체의 종류 및 살균의 목적에 따라 그 종류가 변경될 수 있다.
또한, 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 각각 광을 생성하고 방출하는 적어도 하나의 광원(152) 및 광원(162)이 실장되는 기판(151, 161)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 동일하거나 서로 다른 종류의 광을 방출할 수 있다. 또는 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 각각 복수의 광원(152, 162)을 포함하고, 복수의 광원(152, 162)은 동일하거나, 서로 다른 종류의 광을 방출할 수도 있다.
제1 광원 모듈(150)은 유입구(101)와 살균 처리 영역(S) 사이에서 살균 처리 영역(S)을 마주하는 배관(100)의 내벽에 위치할 수 있다. 또한, 제2 광원 모듈(160)은 살균 처리 영역(S)과 배출구(102) 사이에서 살균 처리 영역(S)을 마주하는 배관(100)의 내벽에 위치할 수 있다. 따라서, 제1 광원 모듈(150) 및 제2 광원 모듈(160)은 도 1에 도시된 바와 같이 살균 처리 영역(S)의 양 끝단에서 서로 마주하도록 배치될 수 있다. 즉, 제1 광원 모듈(150)과 제2 광원 모듈(160)은 모두 살균 처리 영역(S)의 길이 방향으로 살균 처리를 위한 광을 방출할 수 있다.
이에 따라, 제1 광원 모듈(150)은 유체가 이동하는 방향과 동일한 방향으로 광을 조사할 수 있다. 또한, 제2 광원 모듈(160)은 유체가 이동하는 방향과 반대 방향으로 광을 조사할 수 있다.
또한, 본 실시 예에 따르면, 배관(100)은 유로(110)의 길이가 유로(110)의 직경보다 긴 구조를 갖도록 형성될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 배관(100)의 유로(110)를 길이 방향으로 길게 형성함과 동시에 유로(110)의 양 단에 제1 광원 모듈(150)과 제2 광원 모듈(160)을 각각 배치함으로써, 살균 처리 영역(S)을 최대화할 수 있다.
이와 같은 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 살균 처리 영역(S)을 최대한으로 증가시키는 구조로 인해 동시에 살균 처리가 수행될 수 있는 유체의 양이 증가하여 유체에 대한 살균 효율이 향상될 수 있다. 또한, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 살균 처리 영역(S)의 길이가 길기 때문에 유체가 살균 처리 영역(S)을 통과하는 시간을 증가시켜 유체에 대한 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
팬(120)은 배관(100)의 내부 및 외부에 배치될 수 있다. 또한, 팬(120)은 유입구(101) 및 배출구(102) 중 적어도 하나의 근처에 배치될 수 있다. 도 1에서는 팬(120)은 유입구(101) 근처의 배관(100) 내부에 위치한다. 그러나 유체 처리 장치(1)의 구조가 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 팬(120)은 유체가 배관(100) 내부의 살균 처리 영역(S)을 통과하도록 유체의 흐름을 형성할 수 있다면 배치 위치 및 개수는 다양하게 변경될 수 있다.
또한, 팬(120)은 유체의 이동 속도를 제어할 수 있다. 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 유체의 이동 속도는 팬(120)의 속도, 동작하는 팬(120)의 개수 등을 변경하여 제어할 수 있다.
본 실시 예의 유체 처리 장치(1)는 팬(120)을 이용하여 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체의 이동 속도를 제어함으로써, 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
이와 같이, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 팬(120) 및 살균 처리 영역(S)의 길이 등을 조절하여, 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체의 유량 및 유속 등을 제어할 수 있다. 이에 따라 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 배관(100)을 통과하는 유체에 충분히 광을 조사하여 유체에 포함된 오염원과 광이 충분히 반응하도록 함으로써, 유체에 대한 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 적어도 하나의 필터(130)를 더 포함할 수 있다.
도 1에서 필터(130)는 팬(120)과 유입구(101) 사이에 배치될 수 있다. 이 경우, 유체에 포함된 오염원 중 일부가 필터(130)에 의해서 1차적으로 필터링될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 필터(130)에 의해서 오염원에 의해 팬(120)이 오염되는 것을 최소화할 수 있다.
도 1에서 필터(130)가 팬(120)과 유입구(101) 사이에 배치되지만, 본 실시 예의 유체 처리 장치(1)가 이에 한정되는 것은 아니다. 필터(130)는 팬(120)의 전단 및 후단 중 적어도 하나에 위치할 수 있다. 또한, 필터(130)가 복수로 구비되는 경우, 복수의 필터(130)는 서로 다른 종류의 필터(130)일 수 있다.
또한, 필터(130)는 서로 다른 물질로 이루어진 복수의 층으로 형성된 것일 수 있다. 예를 들어, 필터(130)는 제1 필터층(131) 및 제2 필터층(132)을 포함할 수 있다.
제1 필터층(131)은 유체에 포함된 오염원보다 작은 크기의 복수의 구멍을 가질 수 있다. 따라서, 제1 필터층(131)은 유체는 통과시키면서 오염원을 필터링할 수 있다.
또한, 제2 필터층(132)은 제1 필터층(131)과 다른 물질로 형성된 것일 수 있다. 제2 필터층(132)은 제1 필터층(131)보다 강성 또는 경도가 높은 물질로 형성될 수 있다.
이와 같은 제2 필터층(132)은 제1 필터층(131)의 전단 및 후단 중 적어도 하나에 형성되어, 유체의 빠른 이동 속도에 의해 제1 필터층(131)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
이와 같은 필터(130)에 의해서 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체의 오염원 농도가 감소할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(1)는 필터(130)에 의해서 광에 의해 살균 반응이 이루어지는 오염원의 농도가 낮아지므로, 광에 노출되는 동일한 시간 및 광량 대비 유체에 대한 살균 효율이 향상될 수 있다.
이후, 유체 처리 장치(1)에 대한 다른 실시 예에 대해서 설명하도록 한다. 이때, 유체 처리 장치(1)에 대한 설명은 이전에 설명한 유체 처리 장치(1)와의 차이점을 위주로 하여 설명하도록 한다. 생략되거나 간략하게 설명된 구성에 대한 자세한 사항은 이전 설명을 참고하도록 한다.
도 2는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제2 실시 예에 따른 유체 처리 장치(2)는 배관(100), 팬(120), 필터(130) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다.
광원 모듈(250)은 기판(251) 및 기판(251)에 실장된 복수의 광원(252)을 포함할 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 기판(251)의 길이는 유로(110)의 직경과 유사할 수 있다. 따라서, 도 2에 도시된 바와 같이, 기판(251)은 유로(110)를 가로지르도록 배관(100) 내부에 고정될 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 기판(251)은 유로(110)를 폐쇄하는 구조가 아니다. 즉, 기판(251)은 유로(110)의 단면적보다 작은 단면적을 갖도록 형성될 수 있다. 따라서, 기판(251)의 양 측으로 유체가 통과할 수 있는 공간이 형성될 수 있다. 예를 들어, 기판(251)의 양측과 배관(100)의 내벽이 이격되어 유체가 기판(251)과 배관(100) 내벽 사이의 공간을 통과할 수 있다. 또는 기판(251)은 상하면을 관통하는 복수의 관통공이 형성되고 외측 테두리가 배관(100)의 내벽과 밀착되는 구조를 가질 수 있다. 이때, 유체는 기판(251)의 관통공을 통과할 수 있다.
이와 같은 기판(251)은 유체의 이동을 가이드할 수 있다.
또한, 기판(251)은 유체가 이동하는 통로의 일부를 가로막도록 형성되므로, 유체의 일부는 기판(251)에 부딪힐 수 있다. 따라서, 기판(251) 주변에 유체가 머무는 시간이 증가할 수 있다. 유체가 기판(251) 주변에 머무는 시간이 증가할수록 광원 모듈(250)에서 방출되는 광에 유체가 노출되는 시간이 증가하게 된다.
기판(251)에 장착된 광원(252)은 유체의 이동 방향과 반대 방향으로 광을 방출할 수 있다.
따라서, 유체는 살균 처리 영역(S)이 시작하는 시점부터 기판(251)을 통과하기 전까지 지속적으로 광에 노출될 수 있다.
이와 같이, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(2)는 광원 모듈(250)의 기판(251) 구조 및 광원 모듈(250)의 배치를 통해서 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시켜 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 2에서는 유체 처리 장치(2)가 하나의 광원 모듈(250)을 포함하는 것을 도시하고 있다. 그러나 유체 처리 장치(2)는 복수의 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다. 즉, 광원(252)이 실장된 복수의 기판(251)이 배관(100)에 장착될 수 있다. 이 경우, 유체가 기판(251)에 부딪히는 상황이 증가하며, 이에 따라 유체가 광에 노출되는 시간이 증가하여, 유체에 대한 살균 효율이 더 향상될 수 있다.
도 3은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제3 실시 예에 따르면, 유체 처리 장치(3)는 배관(100), 팬(120), 필터(130) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다. 광원 모듈(250)은 기판(251) 및 기판(251)에 실장된 복수의 광원(252)을 포함할 수 있다.
도 3을 참고하면, 제3 실시 예에 따른 유체 처리 장치(3)는 광원 모듈(250)은 살균 처리 영역(S)에 위치한다. 또한, 광원 모듈(250)은 기판(251)의 하면이 배관(100)의 내벽을 향하도록 배관(100)에 장착될 수 있다. 여기서, 기판(251)의 하면은 광원(252)이 실장되는 면의 반대면이다. 즉, 광원(252)은 기판(251)의 상면에 실장된다.
도 3에서는 광원 모듈(250)은 살균 처리 영역(S)의 상부에 위치한다. 그러나 광원 모듈(250)이 살균 처리 영역(S)의 하부에 위치하는 것도 가능하다. 또한, 광원 모듈(250)이 살균 처리 영역(S)의 상부 및 하부에 각각 위치하는 것도 가능하다.
본 실시 예에 따르면, 광원 모듈(250)이 유로(110)의 상부에 형성되므로, 이전 실시 예들 보다 광원 모듈(250)과 유체 간의 거리가 짧다. 즉, 광원 모듈(250)의 광 조사 거리가 감소할 수 있다. 광 조사 거리가 짧아질수록 광 에너지는 증가하게 된다.
즉, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(3)는 광원 모듈(250)과 유체 간의 거리를 단축하여 유체에 조사되는 광의 에너지를 증가시킬 수 있다.
따라서, 본 실시 예의 유체 처리 장치(3)는 유체에 조사되는 광 에너지를 증가시키는 방식으로 유체에 대한 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 실시 예의 유체 처리 장치(3)는 복수의 광원 모듈(250)을 구비할 수 있다. 본 실시 예에의 유체 처리 장치(3)는 복수의 광원 모듈(250)이 배관(100)을 따라 배치하여 유체에 대한 살균 효율을 더 향상시킬 수 있다.
도 4는 본 발명의 제4 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제4 실시 예에 따른 유체 처리 장치(4)는 배관(100), 팬(120), 필터(130), 가이드(470) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다. 광원 모듈(250)은 기판(251) 및 기판(251)에 실장된 복수의 광원(252)을 포함할 수 있다.
광원 모듈(250)은 유로(110)를 가로지르도록 배치되어 유체가 이동하는 방향과 반대 방향으로 광을 방출할 수 있다. 즉, 본 실시 예의 광원 모듈(250)은 제2 실시 예의 광원 모듈(250)과 동일할 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 가이드(470)는 살균 처리 영역(S)에 배치될 수 있다. 또한, 도 4를 참고하면, 가이드(470)는 일단이 배관(100)의 상부 내벽에 접하고, 타단은 배관(100)의 하부 내벽과 이격된 구조를 가질 수 있다. 따라서, 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체는 배관(100)의 내벽과 이격된 가이드(470)의 하부 공간을 통과하게 된다.
즉, 유체의 일부는 살균 처리 영역(S)을 통과할 때, 가이드(470)에 부딪힐 수 있다. 이때, 가이드(470)에 부딪힌 유체에 의해 살균 처리 영역(S)에서 와류가 발생할 수 있다. 와류에 의해서 유체는 살균 처리 영역(S)에서 머무는 시간이 증가하게 된다. 예를 들어, 와류에 의해서 가이드(470)의 하부를 통과하는 유체의 속도가 감소할 수 있다. 따라서, 유체는 광원 모듈(250)의 광에 노출되는 시간이 증가할 수 있다.
또한, 광원 모듈(250)의 배치 구조에 따라 유체는 가이드(470)와 광원 모듈(250) 사이의 영역을 이동하는 동안 지속적으로 광원 모듈(250)의 광에 노출될 수 있다.
또한, 가이드(470)가 광이 투과되는 재질로 형성되는 경우, 유체는 살균 처리 영역(S)을 통과하는 동안 지속적으로 광원 모듈(250)의 광에 노출될 수 있다.
또는, 가이드(470)는 광을 반사하는 재질로 형성될 수 있다. 가이드(470)가 광을 반사하는 재질로 형성되는 경우, 유체를 살균하는 광을 반사하여, 살균 처리 영역(S) 전체에 광이 균일하게 조사되도록 할 수 있다. 따라서, 가이드(470)에 의해서 살균 처리 영역(S)에서의 광 균일도를 향상시키고, 광이 조사되지 않는 영역을 최소화함으로써, 유체 처리 장치(4)의 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 유체는 가이드(470)와 배관(100)의 내벽 사이의 좁은 공간을 통과한 후 배관(100) 내벽 전체로 이루어진 공간인 유로(110)를 통과하게 된다. 즉, 유체가 통과하는 유로(110)의 단면적이 증가함에 따라 이동 속도가 감소할 수 있다.
또한, 가이드(470)는 유체의 이동 경로를 변경할 수 있다. 즉, 가이드(470)에 의해서 살균 처리 영역(S) 내에서 유체의 이동 거리가 증가하게 된다. 따라서, 살균 처리 영역(S) 내에서 유체의 이동거리가 증가함에 따라 유체가 광에 노출되는 시간도 증가할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(4)는 가이드(470) 및 광원 모듈(250)의 배치 구조에 의해서 유체의 이동 속도를 감소시키며, 유체의 이동 거리를 증가시키고, 유체가 이동하는 동안 지속적으로 광을 제공하여 유체에 대한 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 5는 본 발명의 제5 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제5 실시 예에 따른 유체 처리 장치(5)는 배관(100), 팬(120), 필터(130), 가이드(470) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다. 광원 모듈(250)은 기판(251) 및 기판(251)의 상면에 실장된 복수의 광원(252)을 포함할 수 있다.
가이드(470)는 일단이 배관(100)의 상부 내벽에 접하고, 타단은 배관(100)의 하부 내벽과 이격된 구조를 가질 수 있다. 따라서, 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체는 배관(100)의 내벽과 이격된 가이드(470)의 하부 공간을 통과하게 된다.
도 5를 참고하면, 광원 모듈(250)은 가이드(470)의 하부에 위치할 수 있다. 또한, 가이드(470)는 기판(251)의 하면이 배관(100)의 내벽을 향하도록 배관(100)에 장착될 수 있다.
이때, 광원 모듈(250)은 복수의 광원(252) 중 일부 광원이 배관(100)의 유입구(101)와 가이드(470) 사이에 배치되고, 다른 일부 광원은 가이드(470)와 배출구(102) 사이에 배치될 수 있다. 예를 들어, 제1 광원(255)은 유입구(101)와 가이드(470) 사이에 배치되고, 제2 광원(256)은 가이드(470)와 배출구(102) 사이에 배치될 수 있다.
또한, 유체의 일부가 가이드(470)에 부딪혀 유입구(101)와 가이드(470) 사이에 와류가 발생할 수 있다. 또한, 유체는 좁은 가이드(470)와 배관(100)의 내벽 사이 공간을 통과하게 된다. 따라서, 유체의 일부는 유입구(101)와 가이드(470) 사이에 체류하는 시간이 증가하게 된다.
즉, 가이드(470)에 의해서 유입구(101)와 가이드(470) 사이의 영역에서 체류하는 유체는 제1 광원(255)의 광에 노출될 수 있다. 가이드(470)에 의해서 유체의 체류 시간이 증가하므로, 유체는 유입구(101)와 가이드(470) 사이의 영역에서 제1 광원(255)의 광에 노출되는 시간도 증가할 수 있다.
또한, 가이드(470)에 의해서 유체는 좁은 공간을 통과하여 가이드(470)와 배출구(102) 사이의 넓은 공간으로 이동하게 된다. 이때, 유체가 이동하는 유로(110)의 단면적이 증가함에 따라 유체의 속도는 감소하게 된다. 따라서, 유체는 가이드(470)와 배출구(102) 사이의 영역에서 제2 광원(256)의 광에 노출될 수 있다. 이에 따라 유체는 제2 광원(256)의 광에 노출되는 시간이 증가할 수 있다.
본 실시 예에서는 가이드(470)가 제1 광원(255)과 제2 광원(256) 사이에 배치되는 것을 예시로 설명하였지만, 광원들 대신 광원 모듈(250)들 사이에 가이드(470)가 배치되는 것도 가능하다.
또한, 본 실시 예에서 광원 모듈(250)은 배관(100)의 하부에 배치되어 광 조사 거리가 감소할 수 있다. 즉, 광원 모듈(250)과 유체 간의 거리가 짧아 짐에 따라 유체에 조사되는 광의 에너지가 증가할 수 있다.
본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(5)는 광원 모듈(250)의 배치 구조 및 가이드(470)에 의해서 유체가 광에 노출되는 시간의 증가 및 유체에 조사되는 광 에너지의 증가를 통해서 유체에 대한 살균 효율이 향상될 수 있다.
또한, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(5)는 복수의 광원 모듈(250)을 구비할 수 있다. 이 경우, 살균 처리 영역(S) 내로 방출되는 광량이 증가되어 유체에 대한 살균 효율이 더 향상될 수 있다.
도 6은 본 발명의 제6 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제6 실시 예에 따른 유체 처리 장치(6)는 배관(100), 팬(120), 필터(130), 가이드(670) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다. 광원 모듈(250)은 기판(251) 및 기판(251)에 실장된 복수의 광원(252)을 포함할 수 있다.
광원 모듈(250)은 유로(110)를 가로지르도록 배치되어 유체가 이동하는 방향과 반대 방향으로 광을 방출할 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 살균 처리 영역(S)에 복수의 가이드(670)가 배치될 수 있다. 또한, 복수의 가이드(670)는 배관(100)의 상부 내벽 또는 하부 내벽에 형성될 수 있다.
복수의 가이드(670) 중 일부는 배관(100)의 상부의 내벽에서 하부 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 또한, 복수의 가이드(670) 중 다른 일부는 배관(100)의 하부 내벽에서 상부 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 이때, 배관(100)의 상부 내벽에 형성된 가이드(670)와 배관(100)의 하부 내벽에 형성된 가이드(670)는 교대로 배치될 수 있다.
예를 들어, 가이드(670)는 제1 가이드(671), 제2 가이드(672) 및 제3 가이드(673)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 가이드(671) 및 제3 가이드(673)는 배관(100)의 하부 내벽에 형성되며, 제2 가이드(671)는 배관(100)의 상부 내벽에 형성된다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(6)는 제4 실시 예에 따른 유체 처리 장치(도 4의 4)의 가이드(470) 및 광원 모듈(250)에 의한 살균 효율 향상 효과를 동일하게 가질 수 있다.
더 나아가 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(6)는 복수의 가이드(670)에 의해서 살균 처리 영역(S) 내에서의 유체 이동 경로가 증가할 수 있다. 따라서, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(6)는 유체가 복수의 가이드(670)에 의해서 이루어진 유체 이동 경로를 따라 이동하도록 하여 유체가 살균 처리 영역(S) 내에 체류하는 시간을 증가시킬 수 있다.
또한, 유체가 살균 처리 영역(S)을 통과하면서 가이드(670)에 부딪혀 이동 속도가 감소할 수 있다. 즉, 유체가 이동하면서 가이드(670)에 부딪혀 살균 처리 영역(S)에 체류하는 시간이 증가할 수 있다.
또한, 복수의 가이드(670)는 광이 투과하는 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 가이드(670)는 유리, 쿼츠 등과 같이 광이 투과하는 재질로 형성될 수 있다.
따라서, 광원 모듈(250)에서 방출되는 광은 복수의 가이드(670)를 투과하여 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체에 조사될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(6)는 유체가 살균 처리 영역(S)에 체류하는 시간을 증가시켜 광에 노출되는 시간을 증가시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(6)는 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시켜 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 7은 본 발명의 제7 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제7 실시 예에 따른 유체 처리 장치(7)는 배관(100), 팬(120), 필터(130), 가이드(670) 및 광원 모듈(750)을 포함할 수 있다. 광원 모듈(750)은 기판 및 기판에 실장된 복수의 광원을 포함할 수 있다.
도 7을 참고하면, 배관(100)에 복수의 가이드(670)가 배치되며, 복수의 가이드(670) 각각에는 복수의 광원 모듈(750)이 배치될 수 있다. 또한, 광원 모듈(750)은 가이드(670)의 일면 및 타면에 각각 배치될 수 있다.
예를 들어, 유체 처리 장치(7)는 제1 가이드(671) 내지 제3 가이드(673)를 포함할 수 있다.
도 7을 참고하면, 제1 가이드(671)는 배관(100)의 유입구(101)와 가장 가까이 배치된 가이드(670)이며, 제3 가이드(673)는 배관(100)의 배출구(102)와 가장 가까이 배치된 가이드(670)이다. 이때, 제1 가이드(671) 및 제3 가이드(673)는 배관(100)의 하부 내벽에서 상부 방향으로 연장된 구조를 가질 수 있다. 제2 가이드(672)는 제1 가이드(671)와 제2 가이드(672) 사이에 배치된다. 또한, 제2 가이드(672)는 배관(100)의 상부 내벽에서 하부 방향으로 연장된 구조를 가질 수 있다.
또한, 제1 가이드(671) 내지 제3 가이드(673)에는 각각 광원 모듈(750)이 배치될 수 있다.
도 7을 참고하면, 제1 가이드(671)의 일면에는 제1-1 광원 모듈(751)이 배치되고, 제1 가이드(671)의 타면에는 제1-2 광원 모듈(752)이 배치될 수 있다. 또한, 제2 가이드(672)의 일면에는 제2-1 광원 모듈(753)이 배치되고, 제2 가이드(672)의 타면에는 제2-2 광원 모듈(754)이 배치될 수 있다. 또한, 제3 가이드(673)의 일면에는 제3-1 광원 모듈(755)이 배치되고, 제3 가이드(673)의 타면에는 제3-2 광원 모듈(756)이 배치될 수 있다.
여기서, 가이드(670)의 일면은 유체의 이동 방향을 반대 방향을 향하는 면이다. 즉, 가이드(670)의 일면은 유입구(101)에서 배출구(102)로 이동하는 유체를 마주하는 면이다. 또한, 가이드(670)의 타면은 가이드(670)의 일면의 반대면이다.
제1-1 광원 모듈(751)은 살균 처리 영역(S)이 시작되는 부분에서 제1 가이드(671) 까지의 영역을 통과하는 유체에 광을 조사할 수 있다.
제3-2 광원 모듈(756)은 제3 가이드(673)에서 살균 처리 영역(S)이 끝나는 부분까지의 영역을 통과하는 유체에 광을 조사할 수 있다.
제1-2 광원 모듈(752) 및 제2-1 광원 모듈(753)은 제1 가이드(671)와 제2 가이드(672) 사이를 통과하는 유체에 광을 조사할 수 있다.
또한, 제2-2 광원 모듈(754) 및 제3-1 광원 모듈(755)은 제2 가이드(672)와 제3 가이드(673) 사이를 통과하는 유체에 광을 조사할 수 있다.
이와 같이, 본 실시 예의 유체 처리 장치(7)는 복수의 가이드(670)에 의해서 유체가 살균 처리 영역(S)에 체류하는 시간을 증가시킬 수 있다.
또한, 본 실시 예의 유체 처리 장치(7)는 광원 모듈(750)이 가이드(670)에 배치되어 있으므로, 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체와의 거리가 단축될 수 있다. 즉, 살균 처리 영역(S)을 이동하는 유체는 광원 모듈(750)과의 가까운 거리에 의해 높은 에너지의 광에 노출될 수 있다.
각 가이드(670)의 일면과 타면에서 서로 마주보도록 배치된 광원 모듈(750)들의 경우 동일한 영역으로 서로 광을 조사하게 된다. 이때, 광원 모듈(750)들에서 방출된 광은 서로 중첩될 수 있다.
본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(7)는 동일한 영역에 광을 방출하도록 배치된 광원 모듈(750)들이 광 지향각을 고려하여 서로 어긋나게 배치될 수 있다. 즉, 광원 모듈(750)들에서 방출된 광들의 중첩되는 조사 영역을 제어하여 해당 영역의 전체적인 광 조사 균일도를 향상시킬 수 있다.
예를 들어, 제1-2 광원 모듈(752)과 제 2-1 광원 모듈(753)은 지향각을 고려하여 서로 어긋나게 배치될 수 있다. 이때, 제1-2 광원 모듈(752)과 제2-1 광원 모듈(753)은 각각에서 방출되는 광이 중첩되는 영역을 최소화되도록 배치될 수 있다. 따라서, 제1-2 광원 모듈(752)과 제 2-1 광원 모듈(753)에 의해서 제1 가이드(671)와 제2 가이드(672) 사이의 영역 전체에 균일한 광이 조사되도록 할 수 있다. 이와 같은 배치 방식은 제2-2 광원 모듈(754)과 제 3-1 광원 모듈(755)에도 동일하게 적용되어 제2 가이드(672)와 제3 가이드(673) 사이의 영역의 광 균일도를 향상시킬 수 있다.
본 발명의 실시 예에서는 유체 처리 장치(7)의 광원 모듈(750)이 복수의 가이드(670)의 일면 및 타면에 각각 배치되는 구조를 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다.
복수의 가이드(670) 및 복수의 광원 모듈(750)을 포함하는 유체 처리 장치(7)는 복수의 광원이 배관(100)의 길이를 따라 배관(100) 상부 내벽 및 배관(100) 하부 내벽을 따라 배치될 수 있다. 이때, 광원 모듈(750)들은 살균 처리 영역(S)이 시작되는 부분과 첫번째 가이드(670) 사이, 마지막 가이드(670)와 살균 처리 영역(S)이 끝나는 부분 및 인접하게 배치된 가이드(670)들 사이에 배치될 수 있다.
도 8은 본 발명의 제8 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제8 실시 예에 따른 유체 처리 장치(8)는 배관(810), 팬(120), 필터(130) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다.
본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(8)의 배관(810)은 일 부분이 다른 부분과 내부 직경이 다른 구조로 형성될 수 있다. 즉, 배관(810)의 유로(810) 일 부분은 다른 부분과 다른 단면적을 갖도록 형성될 수 있다.
도 8을 참고하면, 배관(810)은 살균 처리 영역(S)의 직경은 유입구(801) 및 배출구(802)보다 큰 직경을 갖는 구조를 가질 수 있다. 더 나아가 배관(810)은 살균 처리 영역(S)의 단면적이 유입구(801) 및 배출구(802)의 단면적보다 클 수 있다. 여기서 단면적은 배관(810)을 유체의 이동 방향의 수직 방향으로 절단하였을 때의 단면의 면적이다.
이때, 유입구(801)의 단면적과 배출구(802)의 단면적은 동일하거나 서로 다를 수 있다.
광원 모듈(250)은 살균 처리 영역(S)에 위치하며, 배관(810)의 상부 내벽 또는 하부 내벽에 배치될 수 있다.
본 실시 예에 따르면 유입구(801)를 통과한 유체는 유로(810)의 단면적이 증가함에 따라 유속이 감소할 수 있다. 따라서, 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체의 이동 속도가 감소하여 유체는 광원 모듈(250)의 광에 노출되는 시간이 증가할 수 있다.
또한, 본 실시 예에 따르면, 살균 처리 영역(S)을 통과한 유체는 살균 처리 영역(S)에 비해 상대적으로 작은 단면적인 배출구(802)를 향하게 된다. 따라서, 배관(810)은 살균 처리 영역(S)의 끝부분에서 배출구(802)를 향할수록 유로(810)의 단면적이 좁아지는 구조를 가질 수 있다. 이때, 배출구(802)를 향하는 유체의 일부는 배출구(802)로 바로 향하지 못하고 직경이 감소하는 배관(810)의 내벽에 부딪힐 수 있다. 배관(810)의 내벽에 근처에는 배관(810)의 내벽에 부딪힌 유체로 인해 와류가 발생할 수 있다. 따라서, 유로(810)가 감소하는 구조에 의해서 유체는 배관(810) 내부에 체류하는 시간이 증가하고, 이에 따라 유체가 광원 모듈(250)의 광에 노출되는 시간도 증가할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(8)는 일부가 다른 부분과 상이한 단면적을 갖는 구조에 의해서 유체가 광원 모듈(250)의 광에 노출되는 시간을 증가시켜 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 9는 본 발명의 제9 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제 9 실시 예에 따른 유체 처리 장치(9)는 배관(810), 팬(120), 필터(130), 가이드(470) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다.
본 실시 예의 유체 처리 장치(9)는 살균 처리 영역(S)의 단면적이 유입구(801) 및 배출구(802)의 단면적보다 큰 구조를 갖는 배관(810)을 포함한다. 또한, 본 실시 예의 유체 처리 장치(9)는 살균 처리 영역(S)에 형성되며, 광원 모듈(250)과 마주하도록 배치된 가이드(470)를 포함한다.
도 9를 참고하면, 광원 모듈(250)은 배관(810)의 상부 내벽에 배치되어 하부 방향으로 광을 방출한다. 또한, 가이드(470)는 배관(810)의 하부 내벽에 배치되어 상부 방향으로 연장된 구조를 갖는다. 또한, 광원 모듈(250)과 가이드(470)는 서로 이격된 구조를 갖는다.
광원 모듈(250)은 복수의 광원(252)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 광원 모듈(250)은 제1 광원(255) 및 제2 광원(256)을 포함할 수 있다.
제1 광원(255)은 살균 처리 영역(S)의 시작 부분과 가이드(470) 사이의 공간에 위치할 수 있다. 따라서, 제1 광원(255)은 살균 처리 영역(S)의 시작 부분에서 가이드(470)까지의 영역에 광을 조사할 수 있다.
또한, 제2 광원(256)은 가이드(470)에서 살균 처리 영역(S)의 끝 부분 사이의 공간에 위치할 수 있다. 따라서, 제2 광원(256)은 가이드(470)에서 살균 처리 영역(S)의 끝 부분까지의 영역에 광을 조사할 수 있다.
본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(9)는 배관(810)의 구조에 의해서 유체의 이동 속도를 감소시킬 수 있다. 또한, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(9)는 가이드(470)에 의해서 살균 처리 영역(S) 내의 유체의 이동 거리가 증가되도록 할 수 있다. 또한, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(9)는 광원 모듈(250)을 유체의 상부 내벽에 배치함으로써, 광원 모듈(250)과 살균 처리 영역(S)을 통과하는 유체 간의 거리를 단축시킬 수 있다.
따라서, 본 실시 예의 유체 처리 장치(9)는 유체의 이동 속도를 감소하고, 유체의 이동 거리를 증가시키고, 유체에 조사되는 광의 에너지를 증가시켜 유체에 대한 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
제8 실시 예 및 제9 실시 예에 따른 유체 처리 장치(도 8의 8 및 도 9의 9)는 광원 모듈(250)이 배관(810)의 상부 내벽에 배치되어 하부 방향으로 광을 방출한다. 그러나 이 실시 예들의 구조가 이에 한정되는 것은 아니다.
제8 실시 예 및 제9 실시 예에 따른 유체 처리 장치(도 8의 8 및 도 9의 9)는 제2 실시 예의 유체 처리 장치(도 2의 2)처럼 광원 모듈(250)이 유로(810)를 가로지르도록 배치될 수도 있다. 이 경우, 광원 모듈(250)의 기판에 의해서 유체의 속도를 제어함으로써, 살균 효율을 더 향상시킬 수 있다.
도 10은 본 발명의 제10 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제10 실시 예에 따른 유체 처리 장치(80)는 배관(810), 팬(120), 필터(130), 가이드(670) 및 광원 모듈(750)을 포함할 수 있다.
제10 실시 예에 따른 유체 처리 장치(80)는 제9 실시 예에 따른 유체 처리 장치(80)와 배관(810)의 구조는 동일하지만, 가이드(670) 및 광원 모듈(750)의 개수 및 배치 구조가 상이하다.
도 10을 참고하면, 본 실시 예의 유체 처리 장치(80)는 복수의 가이드(670)에 의해서 유체의 이동 경로를 증가시키고 와류를 발생시켜 유체가 살균 처리 영역(S)에 체류하는 시간을 증가시킬 수 있다. 따라서 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(80)는 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시켜 살균 효율이 향상되도록 할 수 있다.
또한, 본 실시 예의 유체 처리 장치(80)는 배관(810)에 복수의 가이드(670)가 배치되며, 복수의 가이드(670) 각각에는 복수의 광원 모듈(750)이 배치될 수 있다.
또한, 광원 모듈(750)은 가이드(670)의 일면 및 타면에 각각 배치될 수 있다. 이때, 동일한 영역에 광을 조사하도록 배치된 광원 모듈(750)들은 각각의 광 지향각을 고려하여 배치될 수 있다. 예를 들어, 광원 모듈(750)들은 각각의 광 조사 영역의 중첩 영역을 최소화되도록 엇갈리게 배치될 수 있다. 따라서, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(80)는 살균 처리 영역(S) 전체에 조사되는 광의 균일도를 향상시켜 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 11은 본 발명의 제11 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제11 실시 예에 따른 유체 처리 장치(11)는 배관, 팬(120), 필터(130) 및 광원 모듈(250)을 포함할 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 배관은 제1 배관(1100-1) 및 제2 배관(1100-2)을 포함할 수 있다.
제1 배관(1100-1) 및 제2 배관(1100-2)은 각각 제8 실시 예의 유체 처리 장치(도 8의 8)의 배관(810)과 동일한 구조를 가질 수 있다. 또한, 제1 배관(1100-1)과 제2 배관(1100-2)은 서로 연결될 수 있다. 즉, 제1 배관(1100-1)의 배출구와 제2 배관(1100-2)의 유입구가 서로 연결될 수 있다. 이에 따라 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(11)의 유입구(1101)는 제1 배관(1100-1)의 유입구가 되며, 배출구(1102)는 제2 배관(1100-2)의 배출구가 될 수 있다.
본 실시 에에 따른 유체 처리 장치(11)는 배관의 구조에 의해서 유체가 살균 처리 영역(S) 및 유로(1110) 내부에 체류하는 시간을 증가시킬 수 있다. 이에 대한 설명은 제8 실시 예에 따른 유체 처리 장치(11)의 배관(810)을 참고하도록 한다.
본 실시 예에 따르면, 유체의 체류 시간을 증가시킬 수 있는 구조의 제1 배관(1100-1)과 제2 배관(1100-2)을 연속적으로 구비함으로써, 유체가 배관 내부에 체류하는 시간을 더 증가시킬 수 있다.
또한, 제1 배관(1100-1) 및 제2 배관(1100-2)에 각각 광원 모듈(250)을 구비함으로써, 유체가 제1 배관(1100-1) 및 제2 배관(1100-2)에서 각각 광에 노출될 수 있다.
따라서 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(11)는 유체의 체류 시간 및 이동 경로를 증가시키고 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시켜 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 11을 참고하면, 본 실시 예의 유체 처리 장치(11)는 2개의 배관이 연결된 구조를 갖지만, 더 많은 배관이 연결될 수도 있다.
또한, 본 실시 예의 유체 처리 장치(11)는 이전에 실시 예에서 설명한 적어도 하나의 가이드(470)를 더 포함하는 것도 가능하다.
또한, 본 실시 예의 유체 처리 장치(11)는 살균 처리 영역(S) 내에 위치하는 가이드(470) 및 광원 모듈(250)이 제 10 실시 예에 따른 유체 처리 장치(도 10의 10)의 가이드(670) 및 광원 모듈(750)처럼 구비될 수도 있다.
도 12는 본 발명의 제12 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제12 실시 예에 따른 유체 처리 장치(12)는 배관(1200), 팬(120), 필터(130) 및 광원 모듈(1250)을 포함할 수 있다.
본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(12)의 배관(1200)은 내벽의 적어도 일부가 곡면으로 이루어 질 수 있다. 도 12를 참고하면, 배관(1200)은 적어도 두 개의 굴곡부를 갖도록 형성될 수 있다. 또한, 배관(1200)은 첫번째 굴곡부와 두번째 굴곡부에 살균 처리 영역(S)을 구비할 수 있다.
또한, 도 12를 참고하면, 배관(1200)의 유입구(1201)와 배관(1200)의 배출구(1202)는 서로 다른 방향을 향하고 있다. 그러나 이와 같은 배관(1200)의 구조로 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
본 실시 예에 따르면, 배관(1200)의 내벽을 따라 이동하는 유체는 배관(1200) 내벽의 곡면을 따라 이동하다 살균 처리 영역(S) 내에서 와류가 될 수 있다. 와류에 의해서 유체는 살균 처리 영역(S) 내에서의 체류 시간이 증가할 수 있다.
본 실시 예의 유체 처리 장치(12)는 복수의 광원 모듈(1250)이 살균 처리 영역(S)을 향해 광을 방출하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수의 광원 모듈(1250)은 도 12에 도시된 바와 같이 굴곡부에 배치되며, 사선 방향으로 광을 방출하도록 배치될 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 광원 모듈(1250)은 기판(1251), 광원(1252) 및 기판 고정부(1253)를 포함할 수 있다.
기판 고정부(1253)는 광원(252)이 실장된 기판(1251)이 굴곡부에 사선으로 고정되도록 할 수 있다. 따라서, 광원 모듈(1250)은 기판 고정부(1253)에 의해서 안정적으로 살균 처리 영역(S)으로 광이 조사되도록 굴곡부에 배치될 수 있다.
또한, 기판 고정부(1253)는 유체의 내벽에 고정되는 부분과 기판(1251)이 실장되는 부분의 각도 조절이 가능할 수 있다. 따라서, 기판 고정부(1253)의 각도 조절을 통해서 광원 모듈(1250)의 광 조사 영역을 조절할 수 있다.
이와 같이, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(12)는 살균 처리 영역(S)에서 유체의 와류가 발생하도록 형성된 배관(1200)의 구조에 의해서 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시킬 수 있다. 따라서, 본 실시 예의 유체 처리 장치(12)는 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
도 13은 본 발명의 제13 실시 예에 따른 유체 처리 장치를 나타낸 예시도이다.
제13 실시 예에 따른 유체 처리 장치(13)는 배관(100), 팬(120), 필터(130, 1380), 가이드(1370) 및 광원 모듈(1350)을 포함하 할 수 있다.
본 실시 예의 유체 처리 장치(13)는 복수의 가이드(1370)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 유체 처리 장치(13)는 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)를 포함할 수 있다.
본 실시 예에 따르면, 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)는 외측면이 살균 처리 영역(S)을 이루는 배관(100)의 내벽과 밀착하도록 형성될 수 있다. 또한, 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)는 복수의 관통공(1375)을 갖도록 형성될 수 있다.
즉, 도 13에 도시된 바와 같이, 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)는 배관(100)의 유로(110)를 가로막으며, 가이드(1370)의 관통공(1375)이 유로(110)의 역할을 하도록 형성될 수 있다.
따라서, 유체는 가이드(1370)에 부딪히거나 관통공(1375)에 의해서 좁아진 유로(110)를 통과해야 하므로 살균 처리 영역(S)에 체류하는 시간이 증가할 수 있다.
또한, 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)는 제1 가이드(1371)의 관통공(1375)과 제2 가이드(1372)의 관통공(1375)이 서로 엇갈리도록 배치될 수 있다.
따라서, 제1 가이드(1371)와 제2 가이드(1372)의 엇갈리게 배치된 관통공(1375)들에 의해서 유체의 이동 경로의 길이가 증가할 수 있다.
광원 모듈(1350)은 살균 처리 영역(S)을 이루는 배관(100)의 상부 내벽에 배치될 수 있다. 따라서, 광원 모듈(1350)은 제1 가이드(1371)와 제2 가이드(1372)를 통과하는 유체에 광을 조사할 수 있다. 따라서, 본 실시 예에 따른 유체 처리 장치(13)는 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)의 구조에 의해서 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시켜 유체에 대한 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 실시 예에 따르면, 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)는 유체에 포함된 오염원을 필터링하는 필터(1380)를 포함할 수 있다.
예를 들어, 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)는 복수의 관통공(1375)이 형성된 필터(1380)일 수 있다. 또는 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)의 일면 및 타면이 유체에 포함된 오염원을 흡착하는 성분을 포함할 수 있다.
따라서, 유체가 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)를 통과하는 동안 유체에 포함된 오염원이 필터(1380)에 흡착될 수 있다. 오염원은 제1 가이드(1371) 및 제2 가이드(1372)의 필터(1380)에 흡착되어 고정되므로 광원 모듈(1350)에 장시간 노출되어 살균될 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(13)는 가이드(1370)에 의해서 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시키고, 오염원 역시 광에 장시간 노출시켜 광 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
가이드(1370)에 필터(1380)가 형성된 예시를 본 실시 예를 통해서 설명하였다. 그러나 이전에 설명한 가이드(1370)를 구비한 다른 실시 예의 유체 처리 장치(13)에서도 가이드(1370)에 필터(1380)가 적용될 수 있다.
도 14는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 처리 장치에 포함된 광원 모듈의 살균 효율을 나타낸 그래프이다.
본 발명의 실시 예에 따르면, 광원 모듈은 오염원의 종류, 사용 목적, 유체의 종류 등에 따라 다른 종류의 광으로 살균을 수행할 수 있다.
예를 들어, 광원 모듈은 목적에 따라 UVC, UVB, UVA를 방출하는 광원이 적용될 수 있다. 또한, 광원 모듈은 목적에 따라 400nm 내지 430nm 사이의 파장대 범위에서 피크 파장을 갖는 광을 방출하는 광원을 포함할 수 있다.
또한, 광원 모듈의 광원은 발광 다이오드로 구성될 수 있다.
시간(sec) 거리(cm)
4 30
11 50
22 70
45 100
도 14는 표 1의 결과를 그래프로 나타낸 것이다.표 1 및 도 14는 UVC를 통해 약 99.9%의 살균이 가능한 시간과 광원 모듈과의 거리를 나타낸 그래프이다.
광원 모듈이 UVC를 방출하는 경우, 약 4초 동안에 광원 모듈과 30cm 거리 이내의 오염원을 99.9% 살균할 수 있다.
또한, 광원 모듈이 UVC를 방출하는 경우, 약 11초 동안에 광원 모듈과 50cm 거리 이내의 오염원을 99.9% 살균할 수 있다.
또한, 광원 모듈이 UVC를 방출하는 경우, 약 22초 동안에 광원 모듈과 70cm 거리 이내의 오염원을 99.9% 살균할 수 있다.
또한, 광원 모듈이 UVC를 방출하는 경우, 약 45초에 광원 모듈과 100cm 거리 이내의 오염원을 99.9% 살균할 수 있다.
이와 같이, 살균을 위한 광이 조사되는 시간에 비례하여 살균이 수행되는 영역도 증가시킬 수 있다.
따라서, 광원 모듈에서 광을 방출하는 시간 및 광원 모듈과 오염원 간의 거리 중 적어도 하나를 조절하여 살균 효율을 제어할 수 있다.
이와 같은 광원 모듈은 제1 실시 예 내지 제13실시 예에 적용된 광원 모듈일 수 있다.
도 15는 본 발명의 일 실시 예에 따른 유체 처리 장치가 유체 처리 공간에 배치된 예시도이다.
도 15를 참고하면, 유체 처리 장치(14)가 개략적으로 도시되어 있다. 도 15의 유체 처리 장치(14)는 이전에 설명한 모든 실시 예의 유체 처리 장치 중 하나일 수 있다.
유체 처리 공간(20)은 유체 처리 장치(14)의 외부 공간(20)으로 공기 또는 물이 흐르거나 저장된 공간일 수 있다. 즉, 유체는 공기와 같은 기체이거나 물과 같은 액체일 수 있다. 예를 들어, 유체 처리 공간(20)은 공기 정화가 필요한 실내 공간일 수 있다.
일반적으로 오염원은 공기보다 무겁기 때문에 실내 공간의 바닥 부분에 밀집되어 있을 수 있다.
도 15를 참고하면, 유체 처리 장치(14)의 유입구(101)는 유체 처리 공간(20)의 하부에 위치할 수 있다. 또한, 유체 처리 장치(14)의 배출구(102)는 유체 처리 공간(20)의 상부에 위치할 수 있다.
따라서, 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치(14)는 오염원이 밀집되어 있는 유체 처리 공간(20)의 하부의 공기를 팬(120)을 통해 흡입하여 살균을 수행할 수 있다. 또한, 유체 처리 장치(14)는 살균된 공기를 유체 처리 공간(20)의 상부에서 토출할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치는 바닥에 밀집된 오염원을 흡입하여 살균하도록 유체 처리 공간에 배치됨으로써, 유체 처리 공간의 살균 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치는 유체가 광에 노출되는 시간을 증가시킬 수 있는 가이드 및 배관의 구조를 적용함으로써, 크기 변화를 최소화하면서도 살균 효율의 저하를 방지할 수 있다. 즉, 본 발명의 실시 예에 따른 유체 처리 장치는 유체의 용량 또는 유체 처리 공간의 면적이 증가하더라도 살균 효율 저하없이 유체를 살균할 수 있다.
위에서 설명한 바와 같이 본 발명에 대한 자세한 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시 예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이므로, 본 발명이 상기 실시 예에만 국한되는 것으로 이해돼서는 안 되며, 본 발명의 권리 범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어야 할 것이다.

Claims (20)

  1. 유체가 통과하는 유입구, 배출구 및 유입구와 배출구를 연결하는 유로가 형성되며, 상기 유로 내에 살균 처리 영역을 제공하는 배관;
    상기 유체를 상기 배관의 상기 유입구에서 상기 배출구 방향으로 이동하도록 상기 유체의 흐름을 제어하는 팬; 및
    상기 배관의 상기 살균 처리 영역으로 살균을 위한 광을 방출하는 광원 및 상기 광원을 실장하는 기판을 포함하는 적어도 하나의 광원 모듈을 포함하며,
    상기 배관의 상기 유입구는 상기 배관의 외부 공간의 바닥면에 인접하게 배치되고,
    상기 배관의 상기 배출구는 상기 외부 공간의 상면에 인접하게 배치되며,
    상기 배관은 굴곡된 부분을 포함하여 상기 배관의 유입구와 배출구를 통과하는 유체 방향과 상기 살균 처리 영역을 통과하는 유체 방향이 상이하도록 형성되며,
    상기 살균 처리 영역의 길이는 상기 살균 처리 영역의 직경보다 긴 유체 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 배관은 상기 유입구와 상기 살균 처리 영역 사이에서 굴곡되고, 상기 살균 처리 영역과 상기 배출구 사이에서 굴곡되는 유체 처리 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 광원 모듈은 상기 유입구와 살균 처리 영역 사이에서 살균 처리 영역을 마주하는 배관의 내벽 및 살균 처리 영역과 배출구 사이에서 살균 처리 영역을 마주하는 배관의 내벽 중 적어도 하나에 배치되는 유체 처리 장치.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 광원 모듈의 상기 기판은 상기 배관의 유로를 가로지르도록 배치되며,
    상기 광원 모듈의 상기 광원은 상기 유체가 흐르는 방향의 반대 방향으로 광을 방출하며,
    상기 유체는 상기 기판에 의해 형성된 통로를 통과하여 상기 배관의 상기 배출구를 향하는 유체 처리 장치.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 광원 모듈은 상기 살균 처리 영역에 위치하며, 상기 살균 처리 영역을 이루는 상기 배관의 상부 내벽 및 하부 내벽 중 적어도 하나에 배치되는 유체 처리 장치.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기 배관은 상기 살균 처리 영역에 형성되어 상기 유체의 이동 경로를 변경하는 적어도 하나의 가이드를 더 포함하며,
    상기 가이드는 상기 배관의 상부 내벽에서 하부 방향으로 연장되도록 형성되거나 하부 내벽에서 상부 방향으로 연장되도록 형성되는 유체 처리 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 배관은 복수의 상기 가이드를 포함하며,
    상기 살균 처리 영역에는 상기 배관의 상부 내벽에 형성된 가이드와 상기 배관의 하부 내벽에 형성된 가이드가 교차로 배치되는 유체 처리 장치.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 가이드는 외측면이 상기 살균 처리 영역을 이루는 상기 배관의 내벽에 밀착하도록 형성되며, 일면 및 타면을 관통하는 복수의 관통공이 형성되며,
    상기 유체는 상기 가이드의 관통공을 통과하는 유체 처리 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 배관은 상기 가이드를 복수로 구비하며,
    상기 복수의 가이드는 각각의 가이드에 형성된 관통공이 서로 어긋나게 위치하도록 배치되는 유체 처리 장치.
  10. 청구항 6에 있어서,
    상기 가이드는 광이 투과하는 재질로 형성된 유체 처리 장치.
  11. 청구항 6에 있어서,
    상기 광원 모듈의 상기 기판은 상기 배관의 유로를 가로지르도록 배치되며,
    상기 광원 모듈의 상기 광원은 상기 유체가 흐르는 방향의 반대 방향으로 광을 방출하며,
    상기 유체는 상기 기판에 의해 형성된 통로를 통과하여 상기 배관의 상기 배출구를 향하는 유체 처리 장치.
  12. 청구항 6에 있어서,
    상기 가이드에 형성되어 상기 유체에 포함된 오염원을 필터링하는 필터를 더 포함하는 유체 처리 장치.
  13. 청구항 6에 있어서,
    상기 광원 모듈은 상기 가이드의 양 측면에 각각 배치되는 유체 처리 장치.
  14. 청구항 2에 있어서,
    상기 배관은 상기 살균 처리 영역의 단면적이 상기 유입구의 단면적 및 상기 배출구의 단면적보다 큰 유체 처리 장치.
  15. 청구항 14에 있어서,
    상기 배관이 복수로 구비되며,
    상기 복수의 배관 중에서 일 배관의 배출구는 타 배관의 유입구와 연결되는 유체 처리 장치.
  16. 청구항 2에 있어서,
    상기 배관은 내벽의 적어도 일부가 곡면으로 이루어진 적어도 2개의 굴곡부를 포함하고,
    상기 살균 처리 영역은 상기 2개의 굴곡부 사이에 형성되며,
    상기 광원 모듈은 상기 곡면에 사선 방향으로 위치하여 상기 살균 처리 영역으로 광을 조사하는 유체 처리 장치.
  17. 청구항 16에 있어서,
    상기 광원 모듈은 상기 기판을 상기 곡면에 사선 방향으로 고정시키는 기판 고정부를 더 포함하며,
    상기 기판 고정부는 상기 배관의 상기 곡면에 고정되는 일 부분과 상기 기판이 실장되는 타 부분을 포함하는 유체 처리 장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 기판 고정부의 상기 일 부분과 상기 타 부분은 각도 조절이 가능한 유체 처리 장치.
  19. 청구항 1에 있어서,
    상기 팬은 상기 배관의 유입구에 인접하게 배치되는 유체 처리 장치.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 팬의 전단 및 후단 중 적어도 한 곳에 배치되는 필터를 더 포함하는 유체 처리 장치.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090081659A (ko) * 2008-01-24 2009-07-29 웅진코웨이주식회사 음용수 저장탱크용 살균장치
KR20130017998A (ko) * 2011-08-12 2013-02-20 엘지이노텍 주식회사 살균 처리 장치
KR101336590B1 (ko) * 2013-10-15 2013-12-16 주식회사 미드니 자외선 살균장치
KR20180115978A (ko) * 2017-04-14 2018-10-24 서울바이오시스 주식회사 유체 살균 장치
KR20190097435A (ko) * 2018-02-12 2019-08-21 (주)엠큐더블유 유수 절수 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090081659A (ko) * 2008-01-24 2009-07-29 웅진코웨이주식회사 음용수 저장탱크용 살균장치
KR20130017998A (ko) * 2011-08-12 2013-02-20 엘지이노텍 주식회사 살균 처리 장치
KR101336590B1 (ko) * 2013-10-15 2013-12-16 주식회사 미드니 자외선 살균장치
KR20180115978A (ko) * 2017-04-14 2018-10-24 서울바이오시스 주식회사 유체 살균 장치
KR20190097435A (ko) * 2018-02-12 2019-08-21 (주)엠큐더블유 유수 절수 장치

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