WO2022019012A1 - 光学装置 - Google Patents

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angle
refractive index
light
filter
transmittance
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翼 渡邊
寛人 酒井
寧 大林
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浜松ホトニクス株式会社
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    • G02F2203/62—Switchable arrangements whereby the element being usually not switchable

Definitions

  • This disclosure relates to an optical device.
  • Patent Document 1 discloses a technique related to an optical filter.
  • This optical filter is composed of a dielectric multilayer film in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated, and an object thereof is to transmit incident light when the incident angle is within a predetermined angle.
  • An angle filter capable of selectively extracting a desired angle component from light propagating in space and removing other angle components is desired.
  • unnecessary light may be emitted in an angle direction different from the emission angle corresponding to the incident angle of light due to the diffraction action generated in each pixel. If such unnecessary light can be removed by using an angle filter, the quality of the light emitted from the spatial light modulator will be improved.
  • An object of the embodiment is to provide an optical device provided with an angle filter capable of selectively extracting a desired angle component from light propagating in space and removing other angle components.
  • the embodiment is an optical device.
  • the optical device includes an optical system that outputs parallel light and an angle filter arranged on the optical path of the parallel light output from the optical system, and the angle filter includes a dielectric layer having a first refractive index.
  • the angle filter includes a dielectric layer having a first refractive index.
  • the transmittance and reflectance of the dielectric multilayer film change according to the incident angle of light, and its characteristics can be controlled by the layer structure of the dielectric multilayer film (thickness of each layer, number of layers, and material). Is. Therefore, according to the above configuration, a desired angle component can be selectively extracted from the light propagating in space, and other angle components can be removed.
  • an optical device provided with an angle filter capable of selectively extracting a desired angle component from light propagating in space and removing other angle components.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of an optical device according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an outline of the configuration of the spatial light modulator.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration example of an angle filter.
  • FIG. 4 is a graph showing an example of the relationship between the transmittance of the dielectric multilayer film and the wavelength of transmitted light.
  • FIG. 5 is a graph showing the relationship between the incident angle of light and the transmittance in the same dielectric multilayer film used in FIG.
  • FIG. 6 is a graph showing the relationship between the incident angle and the transmittance when 690 nm is used as the design wavelength.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of an optical device according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an outline of the configuration of the spatial light modulator.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration example of an angle filter.
  • FIG. 4 is a graph showing an example of
  • FIG. 7 is a graph showing (a) an example of the relationship between the transmittance of the dielectric multilayer film and the wavelength of transmitted light, and (b) the light in the same dielectric multilayer film used in (a). It is a graph which shows the relationship between the incident angle and the transmittance.
  • FIG. 8 is a graph showing an example of the angle-transmittance characteristic of the angle filter.
  • FIG. 9 is a schematic diagram showing the configuration of the angle filter according to the modified example.
  • FIG. 10 is a graph showing an example of the angle-transmittance characteristic of the angle filter according to the modified example.
  • FIG. 11 is a graph showing the relationship between the incident angle and the transmittance of the angle filter at a wavelength of 633 nm obtained by the examples.
  • FIG. 12 is a graph showing the wavelength-transmittance characteristics of the dielectric multilayer film.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of an optical device 1 according to an embodiment.
  • the optical device 1 includes a light source 2, an optical system 3, a spatial light modulator 4, and an angle filter 6.
  • the light source 2 outputs a coherent modulated light L 1 having a single wavelength.
  • the light source 2 includes, for example, a laser light source such as a semiconductor laser element or an incoherent light source such as an SLD (Super Luminescence Diode).
  • the output wavelength of the light source 2 is included in, for example, a visible region or an invisible region such as an ultraviolet region or an infrared region (including a near infrared region). In one example, the output wavelength of the light source 2 is in the range of 200 nm to 2000 nm.
  • the optical system 3 is optically coupled to the light source 2 via a space, and receives the modulated light L 1 output from the light source 2.
  • the optical system 3 parallelizes (colimates) the modulated light L 1 and outputs it as parallel light.
  • the optical system 3 may be composed of various optical systems including, for example, one or a plurality of convex lenses.
  • the parallel light does not mean that the fluctuation of the beam diameter in the optical axis direction is strictly zero.
  • the contour of the beam may have an angle of 3 ° or less with respect to the optical axis.
  • the spatial light modulator 4 is optically coupled to the optical system 3 via space.
  • the spatial light modulator 4 inputs the modulated light L 1 which is parallel light output from the optical system 3, spatially modulates the phase of the modulated light L 1 , and outputs the modulated light L 2.
  • the spatial light modulator 4 has a reflective configuration. That is, when the spatial light modulator 4 reflects the incident light, the spatial light modulator 4 spatially modulates the phase of the light.
  • the modulated light L 2 output from the spatial light modulator 4 is also parallel light.
  • the spatial light modulator 4 includes a silicon substrate 42, a modulation unit 40 provided on the silicon substrate 42, and a transparent substrate 49 provided on the modulation unit 40. That is, the modulation unit 40 is sandwiched between the silicon substrate 42 and the transparent substrate 49.
  • the modulation unit 40 displays the phase pattern.
  • the modulation unit 40 has a plurality of pixels arranged one-dimensionally or two-dimensionally, and modulates the phase or intensity of the modulated light L 1 for each pixel according to the magnitude of the drive signal (for example, the drive voltage).
  • the spatial light modulator 4 of the present embodiment is a liquid crystal type, and is, for example, LCOS-SLM (Liquid Crystal On Silicon Spatial Light Modulator) or LCD (Liquid Crystal Display).
  • the angle filter 6 is a transmission type optical filter arranged on an optical path of parallel light output from the optical system 3.
  • the angle filter 6 is arranged on the optical path of the modulated light L 2 , and is preferably arranged on the modulation unit 40 of the spatial light modulator 4.
  • the angle filter 6 is arranged on the transparent substrate 49 and integrated with the transparent substrate 49.
  • Angular filter 6 the desired angle component contained in the modulated light L 2 (eg, n-order diffracted light (n is an integer)) selectively transmits, unnecessary angular components contained in the modulated light L 2 (m-order diffracted light (M is an integer other than n)) is blocked.
  • Figure 2 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a spatial light modulator 4, and shows a cross section along the central axis of the modulated light L 1 incident on the modulation unit 40.
  • the modulation unit 40 includes a plurality of pixel electrodes 43, a liquid crystal layer 44, transparent electrodes 45, alignment films 46a and 46b, a dielectric mirror 47, and a spacer 48. ing.
  • Transparent substrate 49 is made of optically transparent material that transmits the modulated light L 1, it is arranged along a main surface of the silicon substrate 42. In addition, having light transmission means the property of transmitting light of a target wavelength by 90% or more. If the wavelength of the modulated light L 1 is included in the visible range, the transparent substrate 49, for example (in one example BK-7) synthetic quartz or glass may be mainly constituted by such materials.
  • the plurality of pixel electrodes 43 are arranged in a two-dimensional lattice pattern on the main surface of the silicon substrate 42, and constitute each pixel of the modulation unit 40.
  • the transparent electrode 45 is arranged on the surface 49b of the transparent substrate 49 facing the plurality of pixel electrodes 43.
  • the liquid crystal layer 44 is arranged between the plurality of pixel electrodes 43 and the transparent electrodes 45.
  • the liquid crystal layer 44 is made of a liquid crystal such as a nematic liquid crystal and contains a large number of liquid crystal molecules 44a.
  • the alignment film 46a is arranged between the liquid crystal layer 44 and the transparent electrode 45, and the alignment film 46b is arranged between the liquid crystal layer 44 and the plurality of pixel electrodes 43.
  • the dielectric mirror 47 is arranged between the alignment film 46b and the plurality of pixel electrodes 43. Dielectric mirror 47 reflects the modulated light L 1 having passed through the liquid crystal layer 44 enters the transparent substrate 49.
  • the spatial light modulator 4 further includes a drive circuit 41.
  • the drive circuit 41 is a pixel electrode circuit (active matrix drive circuit) that controls a drive voltage applied between the plurality of pixel electrodes 43 and the transparent electrode 45.
  • the drive circuit 41 generates a drive voltage for each pixel electrode 43 to display a desired phase pattern on the modulation unit 40.
  • the desired phase pattern is calculated by a computer (not shown) and sent to the drive circuit 41.
  • the drive circuit 41 receives a signal related to the phase pattern from the computer and applies a drive voltage based on this signal to the plurality of pixel electrodes 43 of the modulation unit 40.
  • a drive voltage is applied from the drive circuit 41 to any of the pixel electrodes 43
  • the liquid crystal display located on the pixel electrode 43 depends on the magnitude of the electric field generated between the pixel electrode 43 and the transparent electrode 45.
  • the orientation of the molecule 44a changes.
  • the refractive index of the portion of the liquid crystal layer 44 changes. Therefore, the optical path length of the modulated light L 1 transmitted through the portion of the liquid crystal layer 44 changes, and the phase of the modulated light L 1 transmitted through the portion changes.
  • the modulated light L 1 is emitted from the transparent substrate 49 to the outside of the modulation unit 40 as the modulated light L 2.
  • driving voltage of varying magnitude is applied to the plurality of pixel electrodes 43, it can be written spatial distribution of phase modulation amount electrically, modulated light of various wave shapes as required L 2 Can be realized in.
  • the angle filter 6 is arranged on the surface 49a on the side of the transparent substrate 49 opposite to the surface 49b on which the transparent electrode 45 is formed.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration example of the angle filter 6.
  • the angle filter 6 is configured to include a dielectric multilayer film in which a dielectric layer (first dielectric layer) 61 and a dielectric layer (second dielectric layer) 62 are alternately laminated.
  • the dielectric layer 61 has a first refractive index n 1.
  • the dielectric layer 62 has a second refractive index n 2 that is smaller than the first refractive index n 1.
  • the first refractive index n 1 is larger than the refractive index of the transparent substrate 49, and the second refractive index n 2 is smaller than the refractive index of the transparent substrate 49.
  • the first index of refraction n 1 is greater than 1.5 and the second index of refraction n 2 is less than 1.5.
  • the dielectric layer 61 is arranged at one end 6a on the transparent substrate 49 side in the stacking direction.
  • a dielectric layer 62 is arranged on the other end 6b on the opposite side of the transparent substrate 49 in the stacking direction. That is, the dielectric multilayer film is laminated in order from the dielectric layer 61 when viewed from the transparent substrate 49 side, and ends with the dielectric layer 62.
  • an inorganic material As the constituent materials of the dielectric layers 61 and 62, an inorganic material, an organic material, a semiconductor, a metal, or air can be used.
  • Examples of the inorganic material constituting the dielectric layer 61 which is a high refractive index layer include titanium oxide (TiO 2 ), niobium pentoxide (Nb 2 O 5 ), tantalum pentoxide (Ta 2 O 5 ), and hafnium oxide (HfO 2).
  • At least one material included in the group consisting of tin-added indium oxide (ITO), aluminum-added zinc oxide (AZO), fluorine-added tin oxide (FTO), IGZO, and carbon (C) can be used.
  • Examples of the inorganic material constituting the dielectric layer 62 which is a low refractive index layer include silicon dioxide (SiO 2 ), aluminum fluoride (AlF 3 ), calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), and foot. At least one material included in the group consisting of lithium fluoride (LiF), cryolite (Na 3 AlF 6 ), thiolite (Na 5 Al 3 F 14 ), and sodium fluoride (NaF) can be used.
  • Examples of the organic material constituting the dielectric layer 61 which is a high refractive index layer include poly ⁇ -methyl methacrylate, polymethacrylic acid-2,3-dibrompropyl, diallyl phthalate, phenylpolymethacrylate, and polybenzoic acid. At least one material included in the group consisting of vinyl, polystyrene, pentachlorphenyl polymethacrylate, poly ⁇ -chlorstyrene, polyvinylnaphthalene, and polyvinylcarbazole can be used.
  • CR-39 diethylene glycol bisallyl carbonate
  • Examples of the semiconductor constituting the dielectric layers 61 and 62 include silicon (Si), germanium (Ge), gallium arsenide (GaAs), gallium arsenide (GaN), indium antimonide (InSb), indium phosphide (InP), and gallium phosphide (InP). At least one material included in the group consisting of GaP), aluminum nitride (AlN), indium gallium arsenide (InGaAs), and indium gallium phosphide (InGaP) can be used.
  • the refractive index of the dielectric layers 61 and 62 can be adjusted by changing the composition ratio of the semiconductor, and can also be adjusted by changing the concentration of the substance added to the semiconductor.
  • the metal material constituting the dielectric layers 61 and 62 at least one material included in the group consisting of aluminum, chromium, copper, nickel, titanium, gold, silver, platinum, and molybdenum can be used.
  • the dielectric layers 61 and 62 may be, for example, vacuum vapor deposition, sputtering, resistance heating vapor deposition, atomic layer deposition (Atomic Layer Deposition), laser. It can be formed by various methods such as ablation or chemical vapor deposition. Further, when the dielectric layers 61 and 62 are made of an organic material, the dielectric layers 61 and 62 can be formed by various methods such as spin coating, coating, or printing.
  • the thicknesses of the dielectric layers 61 and 62 are set according to the desired characteristics required for the angle filter 6.
  • the dielectric layers 61 and 62 may have a structure such as a metamaterial structure or a Fabry-Perot structure in which the refractive index can be arbitrarily changed from a value peculiar to the material.
  • FIG. 4 is a graph showing an example of the relationship between the transmittance of such a dielectric multilayer film and the wavelength of transmitted light.
  • FIG. 4 shows graph G11 when the incident angle of light with respect to the dielectric multilayer film is 0 ° (that is, the incident direction of light is perpendicular to the surface of the angle filter 6), and graph G12 when the incident angle is 15 °. , And the graph G13 when the incident angle is 40 ° is shown.
  • the design wavelength is 690 nm.
  • this dielectric multilayer film constitutes a low-pass filter that does not transmit light in a wavelength region longer than a certain cutoff wavelength and transmits light in a wavelength region shorter than the cutoff wavelength.
  • the characteristics change depending on the incident angle of light, and the cutoff wavelength shifts to the shorter wavelength side as the incident angle increases. From this, it can be seen that the transmittance of the dielectric multilayer film has a correlation with the incident angle of light at a specific wavelength.
  • FIG. 5 is a graph showing the relationship between the incident angle of light and the transmittance in the same dielectric multilayer film used in FIG.
  • the vertical axis represents the transmittance (unit:%)
  • the horizontal axis represents the incident angle (unit: degrees).
  • the transmittance of the dielectric multilayer film gradually approaches 100%.
  • the transmittance of the dielectric multilayer film gradually approaches 0%, and almost all the light is reflected.
  • the transmittance is monotonically decreased with respect to the incident angle.
  • the angle at which the transmittance is 50% is defined as the cutoff angle.
  • the number of repetitions of the high refractive index layer and the low refractive index layer Should be adjusted.
  • the absolute value of the rate of change of the transmittance with respect to the incident angle becomes large, and the slope of the graph becomes steep.
  • the absolute value of the rate of change of the transmittance with respect to the incident angle becomes smaller, and the slope of the graph becomes slower.
  • the thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer In order to set the cutoff angle to a desired size, it is advisable to adjust the thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer. The thicker the high-refractive index layer and the low-refractive index layer, the more the cutoff angle shifts to the longer wavelength side. Conversely, the thinner the high-refractive index layer and the low-refractive index layer, the more the cutoff angle shifts to the shorter wavelength side.
  • FIG. 6 is a graph showing the relationship between the incident angle and the transmittance when 690 nm is the design wavelength, and is a graph showing the relationship between the incident angle and the transmittance, when the wavelength is 690 nm (graph G23) and when the wavelength is 670 nm (graph G21). , 680 nm (graph G22), 700 nm (graph G24), and 710 nm (graph G25), respectively.
  • the vertical axis represents the transmittance (unit:%)
  • the horizontal axis represents the incident angle (unit: degrees). As shown in FIG. 6, it can be seen that the cutoff angle shifts to the lower angle side as the wavelength becomes larger.
  • the dielectric multilayer film transmits light having an incident angle smaller than the cutoff angle and has an incident angle larger than the cutoff angle. It functions as a low-pass filter that reflects light.
  • FIG. 7A is a graph showing an example of the relationship between the transmittance of such a dielectric multilayer film and the wavelength of transmitted light.
  • FIG. 7A the vertical axis represents the transmittance (unit:%) and the horizontal axis represents the wavelength (unit: nm).
  • FIG. 7A shows a graph G31 when the incident angle of light with respect to the dielectric multilayer film is 30 °, a graph G32 when the incident angle is 45 °, and a graph when the incident angle is 60 °. G33 is shown.
  • the design wavelength is 900 nm.
  • this dielectric multilayer film constitutes a high-pass filter that transmits light in a wavelength region longer than a certain cutoff wavelength and does not transmit light in a wavelength region shorter than the cutoff wavelength.
  • the characteristics change depending on the incident angle of light, and the cutoff wavelength shifts to the shorter wavelength side as the incident angle increases. From this, it can be seen that the transmittance of the dielectric multilayer film has a correlation with the incident angle of light at a specific wavelength.
  • FIG. 7 (b) is a graph showing the relationship between the incident angle of light and the transmittance in the same dielectric multilayer film used in FIG. 7 (a).
  • the vertical axis represents the transmittance (unit:%) and the horizontal axis represents the incident angle (unit: degrees).
  • the transmittance of the dielectric multilayer film gradually approaches 0% and almost all the light is reflected.
  • the transmittance of the dielectric multilayer film gradually approaches 100%. Then, in the region A5 between these regions A4 and A6, the transmittance monotonically increases with respect to the incident angle.
  • a high refractive index layer and a low refractive index layer are used. It is good to adjust the number of repetitions of. As the number of repetitions of the high refractive index layer and the low refractive index layer increases, the absolute value of the rate of change of the transmittance with respect to the incident angle becomes large, and the slope of the graph becomes steep. Conversely, as the number of repetitions of the high refractive index layer and the low refractive index layer decreases, the absolute value of the rate of change of the transmittance with respect to the incident angle becomes smaller, and the slope of the graph becomes slower.
  • the thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer In order to set the cutoff angle to a desired size, it is advisable to adjust the thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer. The thicker the high-refractive index layer and the low-refractive index layer, the more the cutoff angle shifts to the longer wavelength side. Conversely, the thinner the high-refractive index layer and the low-refractive index layer, the more the cutoff angle shifts to the shorter wavelength side.
  • the dielectric multilayer film reflects light with an incident angle smaller than the cutoff angle and has an incident angle larger than the cutoff angle. It functions as a high-pass filter that transmits light.
  • the dielectric layer 61 which is a high refractive index layer, is arranged at one end 6a on the transparent substrate 49 side in the stacking direction, and is different from the transparent substrate 49 side.
  • a dielectric layer 62 which is a low refractive index layer, is arranged at the other end 6b on the opposite side.
  • the angle filter 6 in which the dielectric layers located at both ends in the stacking direction are both high refractive index layers and the dielectric layers located at both ends in the stacking direction are both low refractive index layers. It is equivalent to a stack of dielectric multilayer films. Therefore, the angle filter 6 of the present embodiment functions as a bandpass filter having both the characteristics of the low-pass filter shown in FIG. 5 and the characteristics of the high-pass filter shown in FIG. 7B.
  • FIG. 8 is a graph showing an example of the angle-transmittance characteristic of the angle filter 6.
  • the vertical axis represents the transmittance (unit:%)
  • the horizontal axis represents the incident angle (unit: degrees).
  • the transmittance is maximized (100%) when the incident angle is 5 °, and the transmittance is monotonically increased from 0% to 100% in the range of 3 ° to 5 °, from 5 ° to 7 °.
  • the transmittance is monotonically reduced from 100% to 0% in the range.
  • the predetermined (in other words, design) incident angle of the modulated light L 1 shown in FIG. 1 with respect to the angle filter 6 is set to 5 °.
  • the incident angle of the modulated light L 2 emitted from the spatial light modulator 4 through the angle filter 6 with respect to the angle filter 6 is also 5 °.
  • Angular filter 6 the desired angular component selectively transmits unnecessary angular components (higher-order diffracted light included in the modulated light L 2, diffracted light generated from the gap between the pixels, the transparent substrate internal contained in the modulated light L 2 Or, it blocks diffracted light generated from micron-order linear scratches inside the pixel).
  • the incident angle of the modulated light L 1 with respect to the angle filter 6 is preferably set within an angle range in which the transmittance is 50% or more (more preferably 90% or more).
  • the width A of the angle range in which the transmittance is 50% or more is 1 °, but the width A can be set arbitrarily. The smaller the width A, the more unnecessary angle components can be removed and the quality of the modulated light L 2 can be improved.
  • the diffraction angle of the diffracted light emitted from the phase modulation type spatial light modulator depends on the pixel structure, but is usually about 2 ° to 3 °. Therefore, the width A may be, for example, less than 2 °.
  • the transmittance and reflectance of the angle filter 6 of the present embodiment change according to the incident angle of light, and its characteristics can be controlled by the layer structure of the angle filter 6 (thickness of each layer, number of layers, and material). .. Therefore, it is possible to selectively extract a desired angle component from the light propagating in space and remove other angle components.
  • the angle filter 6 is arranged on the modulation unit 40 of the spatial light modulator 4, transmits light in an angle range including a predetermined input / output angle of parallel light, and transmits light outside the angle range. Cut off.
  • unnecessary light is emitted in an angle direction different from the emission angle of the modulated light L 2 corresponding to the incident angle of the modulated light L 1 due to the diffraction action generated in each pixel.
  • such unnecessary light can be removed by using the angle filter 6, so that the quality of the modulated light L 2 emitted from the spatial light modulator 4 can be improved.
  • the width A of the angle range in which the transmittance is 50% or more may be less than 2 °.
  • the spatial light modulator 4 may have a transparent substrate 49 having light transmission provided on the modulation unit 40.
  • the angle filter 6 is provided on the transparent substrate 49, the refractive index n 1 of the dielectric layer 61 is larger than the refractive index of the transparent substrate 49, and the refractive index n 2 of the dielectric layer 62 is larger than the refractive index of the transparent substrate 49.
  • the dielectric layer 61 is arranged at one end 6a on the transparent substrate 49 side in the laminating direction of the small dielectric multilayer film, and the dielectric layer 62 is arranged at the other end 6b on the opposite side of the transparent substrate 49 in the laminating direction of the dielectric multilayer film. May be placed.
  • the dielectric multilayer film of the angle filter 6 having such a configuration, it is possible to selectively extract a desired angle component and remove other unnecessary angle components. Further, by integrating the angle filter 6 with the transparent substrate 49, the relative angle adjustment mechanism between the angle filter 6 and the spatial light modulator 4 becomes unnecessary, and a simple and highly accurate optical arrangement can be realized. Further, it is sufficient to form a dielectric multilayer film on the transparent substrate 49, and the angle filter 6 can be easily formed.
  • FIG. 9 is a schematic diagram showing the configuration of the angle filter 6A according to the modified example of the above embodiment.
  • the angle filter 6A is configured to include a dielectric multilayer film in which the dielectric layers 61 and the dielectric layers 62 are alternately laminated.
  • the arrangement of the angle filter 6A, the refractive index of the dielectric layers 61 and 62, and the constituent materials are the same as those of the angle filter 6 of the above embodiment.
  • the dielectric layer 61 is arranged on both one end 6a and the other end 6b on the transparent substrate 49 side in the stacking direction. That is, the dielectric multilayer film is laminated in order from the dielectric layer 61 when viewed from the transparent substrate 49 side, and ends with the dielectric layer 61.
  • the angle filter 6A has the characteristics of a low-pass filter.
  • FIG. 10 is a graph showing an example of the angle-transmittance characteristic of the angle filter 6A.
  • the vertical axis represents the transmittance (unit:%)
  • the horizontal axis represents the incident angle (unit: degrees).
  • the transmittance when the incident angle is 0 ° is maximized (100%), and the transmittance is monotonically reduced from 100% to 0% in the range of 0 ° to 1 °.
  • a predetermined (in other words, design) incident angle of the modulated light L 1 shown in FIG. 1 with respect to the angle filter 6A is set to 0 °.
  • the incident angle of the modulated light L 2 emitted from the spatial light modulator 4 through the angle filter 6A with respect to the angle filter 6A is also 0 °.
  • the optical axes of the modulated light L 1 and the modulated light L 2 are perpendicular to the surface of the angle filter 6A.
  • Angular filter 6A is a desired angle component contained in the modulated light L 2 selectively transmits and blocks unnecessary angular components contained in the modulated light L 2 (such as higher-order diffracted light).
  • the width A of the angle range in which the transmittance is 50% or more is 0.5 °, but the width A can be arbitrarily set. Similar to the above embodiment, the smaller the width A, the more unnecessary angle components can be removed and the quality of the modulated light L 2 can be improved. As an example, the width A may be less than 1 °.
  • the design center wavelength is 633 nm
  • the high refractive index layer of the dielectric multilayer film is composed of TiO 2
  • the low refractive index layer is composed of MgF 2.
  • FIG. 11 is a graph showing the relationship between the incident angle and the transmittance of the angle filter at a wavelength of 633 nm obtained by this embodiment.
  • the transmittance gradually decreases from 0 ° to 25 °, and when the incident angle exceeds 25 °, the transmittance gradually approaches 0%.
  • an angle filter which is a low-pass filter in which the transmittance changes from 100% to 0% while the incident angle changes from 0 ° to 25 °, is manufactured.
  • the wavelength-transmittance characteristics of the dielectric multilayer film are shown in FIG.
  • the optical device is not limited to the above-described embodiment and configuration example, and various other modifications are possible.
  • the spatial light modulator is combined with the angle filter
  • the optical device having the above configuration is not limited to the spatial light modulator, and includes a configuration in which the angle filter is combined with other optical elements or optical components. It is also good.
  • the optical device includes an optical system that outputs parallel light and an angle filter arranged on the optical path of the parallel light output from the optical system, and the angle filter has a first refractive index.
  • the above optical device further includes a reflection type spatial light modulator that inputs parallel light output from the optical system and spatially modulates and outputs the phase of the parallel light, and the angle filter is a spatial optical modulator. It may be arranged on the modulation unit of the above, and may be configured to transmit light in an angle range including a predetermined input / output angle of parallel light and block light outside the angle range.
  • unnecessary light may be emitted in an angle direction different from the emission angle corresponding to the incident angle of the light due to the diffraction action generated in each pixel.
  • such unnecessary light can be removed by using an angle filter, so that the quality of the light emitted from the spatial light modulator can be improved.
  • the width of the angle range in which the transmittance is 50% or more may be less than 2 °.
  • the spatial optical modulator has a light-transmitting substrate provided on the modulator, the angle filter is provided on the substrate, and the first refractive index is larger than the refractive index of the substrate.
  • the second refractive index is smaller than the refractive index of the substrate, and the dielectric layer located at one end on the substrate side in the stacking direction of the dielectric multilayer film has the first refractive index, and is in the stacking direction of the dielectric multilayer film.
  • the dielectric layer located at the other end on the opposite side of the substrate may have a second refractive index.
  • the embodiment can be used as an optical device including an angle filter capable of selectively extracting a desired angle component from light propagating in space and removing other angle components.
  • Optical device 1 ... Optical device, 2 ... Light source, 3 ... Optical system, 4 ... Spatial light modulator, 6, 6A ... Angle filter, 6a ... One end, 6b ... The other end, 40 ... Modulator, 41 ... Drive circuit, 42 ... Silicon Substrate, 43 ... pixel electrode, 44 ... liquid crystal layer, 44a ... liquid crystal molecule, 45 ... transparent electrode, 46a, 46b ... alignment film, 47 ... dielectric mirror, 48 ... spacer, 49 ... transparent substrate, 49a, 49b ... surface, 61, 62 ... Dielectric layer, L 1 ... Modulated light, L 2 ... Modulated light.

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Abstract

光学装置１は、平行光を出力する光学系３と、光学系３から出力された平行光の光路上に配置された角度フィルタ６と、を備える。角度フィルタ６は、第１の屈折率ｎ1を有する誘電体層と、第１の屈折率ｎ１より小さい第２の屈折率ｎ2を有する誘電体層と、が交互に積層された誘電体多層膜を含む。これにより、空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去し得る角度フィルタを備える光学装置が実現される。

Description

光学装置
　本開示は、光学装置に関するものである。
　特許文献１には、光学フィルタに関する技術が開示されている。この光学フィルタは、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された誘電体多層膜からなり、入射角度が所定の角度以内の場合に入射光を透過することを目的としている。
特開２０１７－９７２８０号公報
　空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去し得る角度フィルタが望まれている。例えば、位相変調型の空間光変調器においては、各画素において生じる回折作用に起因して、光の入射角に対応する出射角とは異なる角度方向に不要な光が出射されることがある。このような不要な光を角度フィルタを用いて除去することができれば、空間光変調器から出射される光の品質が向上する。
　実施形態は、空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去し得る角度フィルタを備える光学装置を提供することを目的とする。
　実施形態は、光学装置である。光学装置は、平行光を出力する光学系と、光学系から出力された平行光の光路上に配置された角度フィルタと、を備え、角度フィルタは、第１の屈折率を有する誘電体層と、第１の屈折率より小さい第２の屈折率を有する誘電体層と、が交互に積層された誘電体多層膜を含む。
　上記構成において、誘電体多層膜の透過率および反射率は光の入射角に応じて変化し、その特性は誘電体多層膜の層構造（各層の厚さ、積層数、及び材料）によって制御可能である。したがって、上記構成によれば、空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去することができる。
　実施形態によれば、空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去し得る角度フィルタを備える光学装置を提供することが可能となる。
図１は、一実施形態に係る光学装置の構成を概略的に示す図である。 図２は、空間光変調器の構成の概略を示す断面図である。 図３は、角度フィルタの構成例を示す模式図である。 図４は、誘電体多層膜の透過率と、透過光の波長との関係の一例を示すグラフである。 図５は、図４において用いたものと同じ誘電体多層膜における、光の入射角と透過率との関係を示すグラフである。 図６は、６９０ｎｍを設計波長とした場合における入射角と透過率との関係を示すグラフである。 図７は、（ａ）誘電体多層膜の透過率と、透過光の波長との関係の一例を示すグラフ、及び（ｂ）（ａ）において用いたものと同じ誘電体多層膜における、光の入射角と透過率との関係を示すグラフである。 図８は、角度フィルタの角度－透過率特性の一例を示すグラフである。 図９は、変形例に係る角度フィルタの構成を示す模式図である。 図１０は、変形例に係る角度フィルタの角度－透過率特性の一例を示すグラフである。 図１１は、実施例によって得られた、波長６３３ｎｍにおける角度フィルタの入射角と透過率との関係を示すグラフである。 図１２は、誘電体多層膜の波長－透過率特性を示すグラフである。
　以下、添付図面を参照しながら、光学装置の実施の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。本発明は、これらの例示に限定されるものではない。
　図１は、一実施形態に係る光学装置１の構成を概略的に示す図である。この光学装置１は、光源２と、光学系３と、空間光変調器４と、角度フィルタ６とを備えている。
　光源２は、単一波長のコヒーレントな被変調光Ｌ1を出力する。光源２は、例えば、半導体レーザ素子等のレーザ光源、またはＳＬＤ（Super Luminescence Diode）等のインコヒーレント光源を含んで構成される。光源２の出力波長は例えば可視域、或いは、紫外域又は赤外域（近赤外域を含む）といった不可視域に含まれる。一例では、光源２の出力波長は２００ｎｍ～２０００ｎｍの範囲内である。
　光学系３は、空間を介して光源２と光学的に結合されており、光源２から出力された被変調光Ｌ1を受ける。光学系３は、被変調光Ｌ1を平行化（コリメート）し、平行光として出力する。光学系３は、例えば一又は複数の凸レンズを含む種々の光学系によって構成され得る。なお、本実施形態において、平行光とは、光軸方向におけるビーム径の変動が厳密にゼロであることを意味しない。例えば、ビームの輪郭が光軸に対して３°以下の角度を有してもよい。
　空間光変調器４は、空間を介して光学系３と光学的に結合されている。空間光変調器４は、光学系３から出力された平行光である被変調光Ｌ1を入力し、被変調光Ｌ1の位相を空間的に変調して、変調光Ｌ2を出力する。この空間光変調器４は、反射型の構成を備える。すなわち、空間光変調器４は、入射した光を反射する際に、その光の位相を空間的に変調する。空間光変調器４から出力される変調光Ｌ2も平行光である。
　空間光変調器４は、シリコン基板４２と、シリコン基板４２上に設けられた変調部４０と、変調部４０上に設けられた透明基板４９とを備える。すなわち、変調部４０は、シリコン基板４２と透明基板４９との間に挟まれている。
　変調部４０は、位相パターンを表示する。変調部４０は、一次元或いは二次元に配列された複数の画素を有し、駆動信号（例えば駆動電圧）の大きさに応じて被変調光Ｌ1の位相或いは強度を画素毎に変調する。本実施形態の空間光変調器４は液晶型であり、例えば、ＬＣＯＳ－ＳＬＭ（Liquid Crystal On Silicon Spatial Light Modulator）或いはＬＣＤ（Liquid Crystal Display）である。
　角度フィルタ６は、光学系３から出力された平行光の光路上に配置される透過型の光学フィルタである。本実施形態では、角度フィルタ６は変調光Ｌ2の光路上に配置され、好適には空間光変調器４の変調部４０上に配置される。
　図示例では、角度フィルタ６は透明基板４９上に配置され、透明基板４９と一体化している。角度フィルタ６は、変調光Ｌ2に含まれる所望の角度成分（例えば、ｎ次回折光（ｎは整数））を選択的に透過させ、変調光Ｌ2に含まれる不要な角度成分（ｍ次回折光（ｍはｎ以外の整数））を遮断する。
　図２は、空間光変調器４の構成の概略を示す断面図であって、変調部４０に入射する被変調光Ｌ１の中心軸線に沿った断面を示している。図２に示すように、変調部４０は、複数の画素電極４３と、液晶層４４と、透明電極４５と、配向膜４６ａ及び４６ｂと、誘電体ミラー４７と、スペーサ４８とを含んで構成されている。
　透明基板４９は、被変調光Ｌ１を透過する光透過性の材料から成り、シリコン基板４２の主面に沿って配置される。なお、光透過性を有するとは、対象波長の光を９０％以上透過する性質をいう。被変調光Ｌ１の波長が可視域に含まれる場合、透明基板４９は、例えば合成石英またはガラス（一例ではＢＫ－７）といった材料によって主に構成され得る。
　複数の画素電極４３は、シリコン基板４２の主面上において二次元格子状に配列され、変調部４０の各画素を構成する。透明電極４５は、複数の画素電極４３と対向する透明基板４９の面４９ｂ上に配置されている。液晶層４４は、複数の画素電極４３と透明電極４５との間に配置されている。液晶層４４は、例えばネマチック液晶といった液晶からなり、多数の液晶分子４４ａを含む。
　配向膜４６ａは、液晶層４４と透明電極４５との間に配置され、配向膜４６ｂは、液晶層４４と複数の画素電極４３との間に配置される。誘電体ミラー４７は、配向膜４６ｂと複数の画素電極４３との間に配置される。誘電体ミラー４７は、透明基板４９から入射して液晶層４４を透過した被変調光Ｌ１を反射する。
　空間光変調器４は、駆動回路４１を更に備える。駆動回路４１は、複数の画素電極４３と透明電極４５との間に印加される駆動電圧を制御する画素電極回路（アクティブマトリクス駆動回路）である。駆動回路４１は、変調部４０に所望の位相パターンを表示させるための駆動電圧を画素電極４３毎に生成する。所望の位相パターンは、図示しないコンピュータによって演算され、駆動回路４１に送られる。
　駆動回路４１は、コンピュータから位相パターンに関する信号を受けて、この信号に基づく駆動電圧を変調部４０の複数の画素電極４３に与える。駆動回路４１から何れかの画素電極４３に駆動電圧が印加されると、該画素電極４３と透明電極４５との間に生じた電界の大きさに応じて、該画素電極４３上に位置する液晶分子４４ａの向きが変化する。その結果、液晶層４４の当該部分の屈折率が変化する。したがって、液晶層４４の当該部分を透過する被変調光Ｌ１の光路長が変化し、ひいては、当該部分を透過する被変調光Ｌ１の位相が変化する。
　被変調光Ｌ１は、位相変調の後、変調光Ｌ２として透明基板４９から変調部４０の外部へ出射する。複数の画素電極４３に様々な大きさの駆動電圧が印加されることによって、位相変調量の空間的な分布を電気的に書き込むことができ、必要に応じて様々な波面形状を変調光Ｌ２において実現することができる。
　角度フィルタ６は、透明基板４９における透明電極４５が形成された面４９ｂとは反対側の面４９ａ上に配置されている。図３は、角度フィルタ６の構成例を示す模式図である。角度フィルタ６は、誘電体層（第１誘電体層）６１と、誘電体層（第２誘電体層）６２とが交互に積層された誘電体多層膜を含んで構成されている。
　誘電体層６１は、第１の屈折率ｎ１を有する。誘電体層６２は、第１の屈折率ｎ１より小さい第２の屈折率ｎ２を有する。第１の屈折率ｎ１は透明基板４９の屈折率より大きく、第２の屈折率ｎ２は透明基板４９の屈折率より小さい。一例では、第１の屈折率ｎ１は１．５より大きく、第２の屈折率ｎ２は１．５より小さい。
　この誘電体多層膜において、誘電体層６１は、積層方向における透明基板４９側の一端６ａに配置されている。積層方向における透明基板４９とは反対側の他端６ｂには、誘電体層６２が配置されている。すなわち、誘電体多層膜は、透明基板４９側から見て誘電体層６１から順に積層され、誘電体層６２で終わっている。
　誘電体層６１及び６２の構成材料としては、無機材料、有機材料、半導体、金属、又は空気を用いることができる。
　高屈折率層である誘電体層６１を構成する無機材料としては、酸化チタン（ＴｉＯ2）、五酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、窒化珪素（Ｓｉ3Ｎ4）、フッ化ランタン（ＬａＦ3）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3）、錫添加酸化インジウム（ＩＴＯ）、アルミニウム添加酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、ＩＧＺＯ、及び炭素（Ｃ）からなる群に含まれる少なくとも１つの材料が用いられ得る。
　低屈折率層である誘電体層６２を構成する無機材料としては、二酸化珪素（ＳｉＯ2）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、クリオライト（Ｎａ3ＡｌＦ6）、チオライト（Ｎａ5Ａｌ3Ｆ14）、及びフッ化ナトリウム（ＮａＦ）からなる群に含まれる少なくとも１つの材料が用いられ得る。
　高屈折率層である誘電体層６１を構成する有機材料としては、ポリα－ブロムアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸－２、３－ジブロムプロピル、フタル酸ジアリル、ポリメタクリル酸フェニル、ポリ安息香酸ビニル、ポリスチレン、ポリメタクリル酸ペンタクロルフェニル、ポリσ－クロルスチレン、ポリビニルナフタレン、及びポリビニルカルバゾールからなる群に含まれる少なくとも１つの材料が用いられ得る。
　低屈折率層である誘電体層６２を構成する有機材料としては、ＣＦ2＝ＣＦ2－ＣＦ2＝ＣＦ（ＣＦ3）共重合体、ポリメタクリル酸トリフルオロエチル、ポリメタクリル酸イソブチル、ポリアクリル酸メチル、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ－３９）ポリマー、ポリメタクリル酸メチル、シリコーンポリマー、セルロースアセテート、及びポリメチルメタクリレートからなる群に含まれる少なくとも１つの材料が用いられ得る。
　誘電体層６１及び６２を構成する半導体としては、シリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、砒化ガリウム（ＧａＡｓ）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、インジウムアンチモン（ＩｎＳｂ）、インジウムリン（ＩｎＰ）、ガリウムリン（ＧａＰ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、インジウムガリウム砒素（ＩｎＧａＡｓ）、及びインジウムガリウムリン（ＩｎＧａＰ）からなる群に含まれる少なくとも１つの材料が用いられ得る。
　なお、誘電体層６１及び６２の屈折率は、半導体の組成比を変更することによって調整可能であり、半導体に添加する物質の濃度を変更することによっても調整可能である。
　誘電体層６１及び６２を構成する金属材料としては、アルミニウム、クロム、銅、ニッケル、チタン、金、銀、白金、及びモリブデンからなる群に含まれる少なくとも１つの材料が用いられ得る。
　誘電体層６１及び６２が無機材料、半導体、または金属材料によって構成されている場合、誘電体層６１及び６２は、例えば真空蒸着、スパッタリング、抵抗加熱蒸着、原子層堆積（Atomic Layer Deposition）、レーザアブレーション、又は化学気相成長（Chemical Vapor Deposition）といった種々の方法により形成され得る。また、誘電体層６１及び６２が有機材料によって構成されている場合、誘電体層６１及び６２は、例えばスピンコート、塗布、または印刷といった種々の方法により形成され得る。
　誘電体層６１及び６２の厚さは、角度フィルタ６に求められる所望の特性に応じて設定される。なお、誘電体層６１及び６２は、メタマテリアル構造若しくはファブリペロー構造といった、屈折率を材料固有の値から任意に変化させ得る構造を有してもよい。
　角度フィルタ６の特性及び機能について説明する。まず、誘電体多層膜の積層方向における両端に位置する誘電体層が共に高屈折率層である場合について説明する。図４は、そのような誘電体多層膜の透過率と、透過光の波長との関係の一例を示すグラフである。
　図４において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は波長（単位：ｎｍ）を表す。図４には、誘電体多層膜に対する光の入射角が０°（すなわち光の入射方向が角度フィルタ６の表面に垂直）である場合のグラフＧ１１、入射角が１５°である場合のグラフＧ１２、及び入射角が４０°である場合のグラフＧ１３が示されている。この例では、設計波長を６９０ｎｍとしている。
　図４に示すように、この誘電体多層膜は、或るカットオフ波長より長い波長域では光を透過せず、カットオフ波長より短い波長域では光を透過するローパスフィルタを構成する。但し、光の入射角によってその特性は変化し、入射角が大きくなるほどカットオフ波長が短波長側へシフトしている。このことから、或る特定の波長において、誘電体多層膜の透過率が光の入射角と相関を有することがわかる。
　図５は、図４において用いたものと同じ誘電体多層膜における、光の入射角と透過率との関係を示すグラフである。図５において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は入射角（単位：度）を表す。
　図５に示すように、この例において、１５°以下といった入射角が比較的小さい領域Ａ１では、誘電体多層膜の透過率は１００％に漸近する。また、４０°以上といった入射角が比較的大きい領域Ａ３では、誘電体多層膜の透過率は０％に漸近し、光をほぼ全て反射する。そして、これらの領域Ａ１，Ａ３の間の領域Ａ２では、透過率が入射角に対して単調に減少している。なお、以下の説明において、透過率が５０％となるときの角度をカットオフ角と定義する。
　図５に示されたグラフの領域Ａ２における、透過率の入射角に対する変化率（すなわちグラフの傾き）を所望の大きさに設定するためには、高屈折率層及び低屈折率層の繰り返し数を調整するとよい。高屈折率層及び低屈折率層の繰り返し数が多くなるほど、透過率の入射角に対する変化率の絶対値は大きくなり、グラフの傾きは急峻になる。逆に言えば、高屈折率層及び低屈折率層の繰り返し数が少なくなるほど、透過率の入射角に対する変化率の絶対値は小さくなり、グラフの傾きは緩慢になる。
　カットオフ角を所望の大きさに設定するためには、高屈折率層及び低屈折率層の厚さを調整するとよい。高屈折率層及び低屈折率層が厚くなるほど、カットオフ角は長波長側へ移動する。逆に言えば、高屈折率層及び低屈折率層が薄くなるほど、カットオフ角は短波長側へ移動する。
　図６は、６９０ｎｍを設計波長とした場合における入射角と透過率との関係を示すグラフであって、波長が６９０ｎｍである場合（グラフＧ２３）のほか、波長が６７０ｎｍである場合（グラフＧ２１）、６８０ｎｍである場合（グラフＧ２２）、７００ｎｍである場合（グラフＧ２４）、及び７１０ｎｍである場合（グラフＧ２５）をそれぞれ示している。図６において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は入射角（単位：度）を表す。図６に示すように、波長が大きくなるほど、カットオフ角が低角度側へシフトすることがわかる。
　上述したように、積層方向における両端に高屈折率層が配置されている場合、誘電体多層膜は、カットオフ角よりも小さい入射角の光を透過し、カットオフ角よりも大きい入射角の光を反射する、ローパスフィルタとして機能する。
　次に、誘電体多層膜の積層方向における両端に位置する誘電体層が共に低屈折率層である場合について説明する。図７（ａ）は、そのような誘電体多層膜の透過率と、透過光の波長との関係の一例を示すグラフである。
　図７（ａ）において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は波長（単位：ｎｍ）を表す。図７（ａ）には、誘電体多層膜に対する光の入射角が３０°である場合のグラフＧ３１、入射角が４５°である場合のグラフＧ３２、及び入射角が６０°である場合のグラフＧ３３が示されている。この例では、設計波長を９００ｎｍとしている。
　図７（ａ）に示すように、この誘電体多層膜は、或るカットオフ波長より長い波長域では光を透過し、カットオフ波長より短い波長域では光を透過しないハイパスフィルタを構成する。但し、光の入射角によってその特性は変化し、入射角が大きくなるほどカットオフ波長が短波長側へシフトしている。このことから、或る特定の波長において、誘電体多層膜の透過率が光の入射角と相関を有することがわかる。
　図７（ｂ）は、図７（ａ）において用いたものと同じ誘電体多層膜における、光の入射角と透過率との関係を示すグラフである。図７（ｂ）において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は入射角（単位：度）を表す。
　図７（ｂ）に示すように、この例において、４０°以下といった入射角が比較的小さい領域Ａ４では、誘電体多層膜の透過率は０％に漸近し、光をほぼ全て反射する。また、５０°以上といった入射角が比較的大きい領域Ａ６では、誘電体多層膜の透過率は１００％に漸近する。そして、これらの領域Ａ４，Ａ６の間の領域Ａ５では、透過率が入射角に対して単調に増加する。
　図７（ｂ）に示されたグラフの領域Ａ５における、透過率の入射角に対する変化率（すなわちグラフの傾き）を所望の大きさに設定するためには、高屈折率層及び低屈折率層の繰り返し数を調整するとよい。高屈折率層及び低屈折率層の繰り返し数が多くなるほど、透過率の入射角に対する変化率の絶対値は大きくなり、グラフの傾きは急峻になる。逆に言えば、高屈折率層及び低屈折率層の繰り返し数が少なくなるほど、透過率の入射角に対する変化率の絶対値は小さくなり、グラフの傾きは緩慢になる。
　カットオフ角を所望の大きさに設定するためには、高屈折率層及び低屈折率層の厚さを調整するとよい。高屈折率層及び低屈折率層が厚くなるほど、カットオフ角は長波長側へ移動する。逆に言えば、高屈折率層及び低屈折率層が薄くなるほど、カットオフ角は短波長側へ移動する。
　上述したように、積層方向における両端に低屈折率層が配置されている場合、誘電体多層膜は、カットオフ角よりも小さい入射角の光を反射し、カットオフ角よりも大きい入射角の光を透過する、ハイパスフィルタとして機能する。
　図３に示したように、本実施形態の角度フィルタ６では、積層方向における透明基板４９側の一端６ａに、高屈折率層である誘電体層６１が配置されており、透明基板４９側とは反対側の他端６ｂに、低屈折率層である誘電体層６２が配置されている。
　この場合、角度フィルタ６は、積層方向の両端に位置する誘電体層が共に高屈折率層である誘電体多層膜と、積層方向の両端に位置する誘電体層が共に低屈折率層である誘電体多層膜とを重ねたものと等価となる。したがって、本実施形態の角度フィルタ６は、図５に示したローパスフィルタとしての特性と、図７（ｂ）に示したハイパスフィルタとしての特性とを兼ね備える、バンドパスフィルタとして機能する。
　図８は、角度フィルタ６の角度－透過率特性の一例を示すグラフである。図８において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は入射角（単位：度）を表す。この例では、入射角が５°であるときの透過率を最大（１００％）とし、３°から５°の範囲において透過率を０％から１００％まで単調増加させ、５°から７°の範囲において透過率を１００％から０％まで単調減少させている。
　この角度フィルタ６を用いる場合には、図１に示した被変調光Ｌ1の角度フィルタ６に対する所定の（言い換えると、設計上の）入射角を５°に設定する。この場合、空間光変調器４から角度フィルタ６を通過して出射する変調光Ｌ2の角度フィルタ６に対する入射角も５°となる。角度フィルタ６は、変調光Ｌ2に含まれる所望の角度成分を選択的に透過させ、変調光Ｌ2に含まれる不要な角度成分（高次回折光、画素間ギャップから生じる回折光、透明基板内部または画素内部のミクロンオーダーの線状の傷から生じる回折光など）を遮断する。
　被変調光Ｌ1の角度フィルタ６に対する入射角は、透過率が５０％以上（より好適には、９０％以上）となる角度範囲内に設定されるとよい。図８に示す例では、透過率が５０％以上となる角度範囲の幅Ａが１°となっているが、幅Ａは任意に設定され得る。この幅Ａが小さいほど、不要な角度成分を多く除去し、変調光Ｌ2の品質を高めることができる。
　なお、本発明者の知見によれば、位相変調型の空間光変調器から出射される回折光の回折角は、画素構造に依存するが、通常は２°ないし３°程度である。したがって、幅Ａは、例えば２°未満であるとよい。
　以上に説明した本実施形態の光学装置１によって得られる効果について説明する。本実施形態の角度フィルタ６の透過率および反射率は光の入射角に応じて変化し、その特性は角度フィルタ６の層構造（各層の厚さ、積層数、及び材料）によって制御可能である。したがって、空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去することができる。
　特に、本実施形態では、角度フィルタ６が空間光変調器４の変調部４０上に配置され、平行光の所定の入出射角を含む角度範囲の光を透過し、その角度範囲外の光を遮断する。空間光変調器４においては、各画素において生じる回折作用に起因して、被変調光Ｌ1の入射角に対応する変調光Ｌ2の出射角とは異なる角度方向に不要な光が出射されることがある。本実施形態の光学装置１によれば、このような不要な光を角度フィルタ６を用いて除去できるので、空間光変調器４から出射される変調光Ｌ2の品質を向上できる。
　前述したように、透過率が５０％以上となる角度範囲の幅Ａは２°未満であってもよい。角度フィルタ６が光を透過する角度範囲がこのように狭く設定されることにより、不要な光を十分に除去して、空間光変調器４から出射される変調光Ｌ2の品質をより向上できる。
　本実施形態のように、空間光変調器４は、変調部４０上に設けられた光透過性を有する透明基板４９を有してもよい。そして、角度フィルタ６は透明基板４９上に設けられ、誘電体層６１の屈折率ｎ1は透明基板４９の屈折率より大きく、誘電体層６２の屈折率ｎ2は透明基板４９の屈折率より小さく、誘電体多層膜の積層方向における透明基板４９側の一端６ａに誘電体層６１が配置され、誘電体多層膜の積層方向における透明基板４９とは反対側の他端６ｂに誘電体層６２が配置されてもよい。
　例えばこのような構成を角度フィルタ６の誘電体多層膜が有することにより、所望の角度成分を選択的に抽出し、他の不要な角度成分を除去することができる。また、角度フィルタ６が透明基板４９と一体化することにより、角度フィルタ６と空間光変調器４との相対的な角度調整機構が不要となり、簡便且つ高精度な光学配置を実現できる。また、透明基板４９上に誘電体多層膜を成膜するのみで足り、角度フィルタ６の形成が容易である。
　（変形例）
　図９は、上記実施形態の変形例に係る角度フィルタ６Ａの構成を示す模式図である。角度フィルタ６Ａは、誘電体層６１と誘電体層６２とが交互に積層された誘電体多層膜を含んで構成されている。なお、角度フィルタ６Ａの配置、並びに誘電体層６１及び６２の屈折率及び構成材料は、上記実施形態の角度フィルタ６と同様である。
　この誘電体多層膜において、誘電体層６１は、積層方向における透明基板４９側の一端６ａ及び他端６ｂの双方に配置されている。すなわち、誘電体多層膜は、透明基板４９側から見て誘電体層６１から順に積層され、誘電体層６１で終わっている。
　この場合、角度フィルタ６Ａは、ローパスフィルタとしての特性を有する。図１０は、角度フィルタ６Ａの角度－透過率特性の一例を示すグラフである。図１０において、縦軸は透過率（単位：％）を表し、横軸は入射角（単位：度）を表す。この例では、入射角が０°であるときの透過率を最大（１００％）とし、０°から１°の範囲において透過率を１００％から０％まで単調減少させている。
　この角度フィルタ６Ａを用いる場合には、図１に示した被変調光Ｌ1の角度フィルタ６Ａに対する所定の（言い換えると、設計上の）入射角を０°に設定する。この場合、空間光変調器４から角度フィルタ６Ａを通過して出射する変調光Ｌ2の角度フィルタ６Ａに対する入射角も０°となる。言い換えると、被変調光Ｌ1及び変調光Ｌ2の光軸を、角度フィルタ６Ａの表面に対して垂直とする。角度フィルタ６Ａは、変調光Ｌ2に含まれる所望の角度成分を選択的に透過させ、変調光Ｌ2に含まれる不要な角度成分（高次回折光など）を遮断する。
　なお、図１０に示す例では、透過率が５０％以上となる角度範囲の幅Ａが０．５°となっているが、幅Ａは任意に設定され得る。上記実施形態と同様に、この幅Ａが小さいほど、不要な角度成分を多く除去し、変調光Ｌ2の品質を高めることができる。一例としては、幅Ａは１°未満であってもよい。
　本変形例の構成によれば、上記実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
　（実施例）
　上記実施形態の角度フィルタ６Ａを実際に作製した例について説明する。この実施例では、設計中心波長を６３３ｎｍとし、誘電体多層膜の高屈折率層をＴｉＯ2によって構成し、低屈折率層をＭｇＦ2によって構成した。
　図１１は、この実施例によって得られた、波長６３３ｎｍにおける角度フィルタの入射角と透過率との関係を示すグラフである。図１１に示すように、０°から２５°にかけて透過率が次第に小さくなり、入射角が２５°を超えると透過率は０％に漸近する。このように、入射角が０°から２５°まで変化する間に透過率が１００％から０％まで変化するローパスフィルタである角度フィルタを作製した。参考のため、誘電体多層膜の波長－透過率特性を図１２に示す。
　光学装置は、上述した実施形態及び構成例に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態では、空間光変調器に角度フィルタを組み合わせたが、上記構成の光学装置は、空間光変調器に限らず、他の光学素子または光学部品に角度フィルタを組み合わせる構成を備えてもよい。
　上記実施形態による光学装置は、平行光を出力する光学系と、光学系から出力された平行光の光路上に配置された角度フィルタと、を備え、角度フィルタは、第１の屈折率を有する誘電体層（第１誘電体層）と、第１の屈折率より小さい第２の屈折率を有する誘電体層（第２誘電体層）と、が交互に積層された誘電体多層膜を含む。
　上記の光学装置は、光学系から出力された平行光を入力し、平行光の位相を空間的に変調して出力する反射型の空間光変調器を更に備え、角度フィルタは、空間光変調器の変調部上に配置され、平行光の所定の入出射角を含む角度範囲の光を透過し、角度範囲外の光を遮断する構成としてもよい。
　前述したように、空間光変調器においては、各画素において生じる回折作用に起因して、光の入射角に対応する出射角とは異なる角度方向に不要な光が出射されることがある。これに対して、上記の光学装置によれば、このような不要な光を角度フィルタを用いて除去できるので、空間光変調器から出射される光の品質を向上できる。
　上記の光学装置において、透過率が５０％以上となる角度範囲の幅は２°未満である構成としてもよい。角度フィルタが光を透過する角度範囲がこのように狭く設定されることにより、不要な光を十分に除去して、空間光変調器から出射される光の品質をより向上できる。
　上記の光学装置において、空間光変調器は、変調部上に設けられた光透過性を有する基板を有し、角度フィルタは基板上に設けられ、第１の屈折率は基板の屈折率より大きく、第２の屈折率は基板の屈折率より小さく、誘電体多層膜の積層方向における基板側の一端に位置する誘電体層が第１の屈折率を有し、誘電体多層膜の積層方向における基板とは反対側の他端に位置する誘電体層が第２の屈折率を有する構成としてもよい。例えばこのような構成を誘電体多層膜が有することにより、所望の角度成分を選択的に抽出し、他の不要な角度成分を除去することができる。
　実施形態は、空間を伝搬する光から所望の角度成分を選択的に抽出し、他の角度成分を除去し得る角度フィルタを備える光学装置として利用可能である。
　１…光学装置、２…光源、３…光学系、４…空間光変調器、６，６Ａ…角度フィルタ、６ａ…一端、６ｂ…他端、４０…変調部、４１…駆動回路、４２…シリコン基板、４３…画素電極、４４…液晶層、４４ａ…液晶分子、４５…透明電極、４６ａ，４６ｂ…配向膜、４７…誘電体ミラー、４８…スペーサ、４９…透明基板、４９ａ，４９ｂ…面、６１，６２…誘電体層、Ｌ１…被変調光、Ｌ２…変調光。

Claims (4)

  1. 　平行光を出力する光学系と、
    　前記光学系から出力された前記平行光の光路上に配置された角度フィルタと、
    を備え、
    　前記角度フィルタは、第１の屈折率を有する誘電体層と、前記第１の屈折率より小さい第２の屈折率を有する誘電体層と、が交互に積層された誘電体多層膜を含む、光学装置。
  2. 　前記光学系から出力された前記平行光を入力し、前記平行光の位相を空間的に変調して出力する反射型の空間光変調器を更に備え、
    　前記角度フィルタは、前記空間光変調器の変調部上に配置され、前記平行光の所定の入出射角を含む角度範囲の光を透過し、前記角度範囲外の光を遮断する、請求項１に記載の光学装置。
  3. 　透過率が５０％以上となる前記角度範囲の幅は２°未満である、請求項２に記載の光学装置。
  4. 　前記空間光変調器は、前記変調部上に設けられた光透過性を有する基板を有し、
    　前記角度フィルタは前記基板上に設けられ、
    　前記第１の屈折率は前記基板の屈折率より大きく、前記第２の屈折率は前記基板の屈折率より小さく、
    　前記誘電体多層膜の積層方向における前記基板側の一端に位置する誘電体層が前記第１の屈折率を有し、
    　前記誘電体多層膜の積層方向における前記基板とは反対側の他端に位置する誘電体層が前記第２の屈折率を有する、請求項２または３に記載の光学装置。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10153747A (ja) * 1996-11-25 1998-06-09 Sumitomo Heavy Ind Ltd ビームホモジナイザ
WO2002031592A1 (fr) * 2000-10-06 2002-04-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Unite optique d"eclairage et ecran de projection comprenant cette unite
JP2015072387A (ja) * 2013-10-03 2015-04-16 セイコーエプソン株式会社 プロジェクター及びその制御方法
JP2017097280A (ja) * 2015-11-27 2017-06-01 株式会社豊田中央研究所 光学フィルタ、およびそれを用いた光ｍｉｍｏ通信システム

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017090280A (ja) 2015-11-11 2017-05-25 太陽化学株式会社 粘稠性食品のスクープ特性の評価方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10153747A (ja) * 1996-11-25 1998-06-09 Sumitomo Heavy Ind Ltd ビームホモジナイザ
WO2002031592A1 (fr) * 2000-10-06 2002-04-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Unite optique d"eclairage et ecran de projection comprenant cette unite
JP2015072387A (ja) * 2013-10-03 2015-04-16 セイコーエプソン株式会社 プロジェクター及びその制御方法
JP2017097280A (ja) * 2015-11-27 2017-06-01 株式会社豊田中央研究所 光学フィルタ、およびそれを用いた光ｍｉｍｏ通信システム

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