WO2022016984A1 - 光学胶带、显示面板和光学胶带制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种光学胶带、显示面板和光学胶带制备方法，该光学胶带包括第一缓冲层和开孔，开孔对应指纹识别区处设置且贯穿第一缓冲层，开孔内填充可脱落的填充物，该填充物包括第二缓冲层。

Description

光学胶带、显示面板和光学胶带制备方法 技术领域

本申请涉及显示技术领域，具体涉及一种光学胶带、显示面板和光学胶带制备方法。

发明背景

在柔性显示面板中，贴合指纹模组需在复合胶带、柔性电路板等材料上开指纹孔(fingerprint on display，简称FOD)，指纹孔处由于膜材差异，在受到外界压力或者光照和温度的影响下，会出现颜色不均、深浅不均及明显边界，导致产品显示不良。

发明内容

有鉴于此，本申请实施例致力于提供一种光学胶带以及使用该光学胶带的显示面板和光学胶带制备方法，解决了上述指纹孔在制备过程中出现的颜色不均、深浅不均及明显边界等问题。

根据本申请的一方面，本申请一实施例提供的一种光学胶带，用于指纹识别区，包括：第一缓冲层；开孔，对应所述指纹识别区处设置且贯穿所述第一缓冲层；其中，所述开孔内填充可脱落的填充物，所述填充物包括第二缓冲层。

根据本申请的另一方面，本申请一实施例提供的一种显示面板，包括：阵列基板，所述阵列基板一侧设置像素单元；以及光学胶带，所述光学胶带位于所述阵列基板远离所述像素单元的一侧，其中，所述光学胶带包括如上述任一项所述的光学胶带。

根据本申请的另一方面，本申请一实施例提供的一种光学胶带制备方法，用于制备用于指纹识别区的光学胶带，包括：制备第一缓冲层；对应所述指纹识别区处制备贯穿所述第一缓冲层的开孔；其中，所述开孔内填充可脱落的填充物，所述填充物包括第二缓冲层。

本申请实施例提供的一种光学胶带、显示面板和光学胶带制备方法，通过在光学胶带对于指纹识别区处设置贯穿光学胶带的第一缓冲层的开孔，并且在开孔内填充可脱落的填充物，该填充物包括第二缓冲层，利用第二缓冲层可以实现在制备过程中，相同的压力、光照和温度条件对开孔处与光学胶带其他位置的影响相同或相似，从而避免了开孔对应的指纹孔出现的颜色不均、深浅不均及明显边界的现象，提高了产品良率，并且在制备完成后将开孔内的填充物剥离，以保证指纹孔录取指纹的功能。

附图简要说明

图1所示为本申请一实施例提供的一种光学胶带的结构示意图，其中，开孔内填充有第二缓冲层、第二散热层、第二胶层。

图2所示为本申请另一实施例提供的一种光学胶带的结构示意图，其中开孔内仅填充第二缓冲层以及第二胶层。

图3所示为本申请一实施例提供的光学胶带制备方法的流程示意图。

实施本发明的方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

众所周知，掩膜板包括开口区与开口区相邻的遮挡区。在掩膜板的实际制备过程中，通常需要将掩膜板网面按照预定焊接线的位置焊接到掩膜板框架上，在完成焊接后，沿着焊接线边缘外围预定距离将缓冲区域切除。

此外，在示例性实施例中，因为相同的参考标记表示具有相同结构的相同部件或相同方法的相同步骤，如果示例性地描述了一实施例，则在其他示例性实施例中仅描述与已描述实施例不同的结构或方法。

图1所示为本申请一实施例提供的一种光学胶带的结构示意图，其中，开孔内填充有第二缓冲层、第二散热层、第二胶层。如图1所示，该光学胶带用于指纹识别区，包括第一缓冲层11和开孔2；开孔2对应设置在指纹识别区处且贯穿第一缓冲层11；其中，开孔2内填充可脱落的填充物3，填充物3包括第二缓冲层31。显示面板通常会在阵列基板层的非发光侧设置用于缓冲外界应力的膜层，而该缓冲外界应力的膜层通常会采用光学胶带，通过将具有缓冲外界应力的材料和其他功能材料层叠设置以形成一个组合膜层，该组合膜层可以实现缓冲外界应力的功能，并且该组合膜层中的其他材料还可以实现其他所需要的功能，例如设置具有导热性能的材料或膜层，即可实现导热功能。随着指纹识别技术的不断发展，越来越多的显示面板(例如手机等)上都设置了指纹识别结构，为了实现指纹识别，就需要在显示面板上预留出指纹孔来录取用户指纹。其中，指纹孔的形状可以是圆形、方形或椭圆形等。为了实现显示屏体最大化，现在越来越多的显示面板都采用屏下指纹识别，即指纹孔设置于显示面板的非发光侧，以避免指纹孔占用屏体面积，使用光学胶带作为缓冲膜层的显示面板，其光学胶带就需要对应指纹孔的位置处设置通孔，以保证用户手指上的光线通过该通孔到达指纹录取模块实现指纹识别，而设置了开孔的光学胶带在显示模组的制备过程中，由于光 学胶带的开孔处无其他膜层，而光学胶带的其他位置处包括其他膜层材料，并且不同膜层材料对于压力、光照和温度的反应不同，即在制备过程中光学胶带的开孔位置与其他位置所呈现出来的性质不同，从而导致显示面板在制备完成后，光学胶带的开孔位置与其他位置的颜色亮度或深浅不均匀，甚至在开孔的边缘会出现明显的边界，最终导致产品的不良率提高。

为了解决上述问题，本申请实施例提供一种光学胶带结构，该光学胶带包括第一缓冲层11，利用第一缓冲层11可以实现光学胶带吸收和缓解外界应力的功能；光学胶带对应指纹识别区的位置处设置贯穿光学胶带的第一缓冲层11的开孔2，通过开孔2可以实现指纹识别功能，并且在开孔2内填充可以脱落的填充物3，填充物3包括第二缓冲层31，第二缓冲层31可以与第一缓冲层11的材质相同或相近，利用填充物3可以实现相同的压力、光照和温度条件对开孔2与光学胶带其他位置的影响相同或相似，从而避免制备过程中的不同条件而导致开孔2处与光学胶带其他位置的显示效果不同(即出现颜色不均、深浅不均及明显边界的现象)。

在一实施例中，第一缓冲层11可以包括泡棉，利用泡棉可以实现吸收和缓解外界应力，从而降低外界应力对阵列基板的影响。在一实施例中，第二缓冲层31包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或泡棉等柔性材质，利用聚对苯二甲酸乙二醇酯或泡棉等柔性材质可以实现相同的压力、光照和温度条件对于开孔2处与光学胶带其他位置的影响一致性。本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取第一缓冲层11和第二缓冲层31的具体材质，例如第二缓冲层31也可以包括黑色聚酰亚胺(Polyimide,PI)或者其他不透光的材质，只要保证第一缓冲层11和第二缓冲层31的材质相同或相近且具备缓解外界应力的功能即可，本申请实施例对于第一缓冲层11和第二缓冲层31的具体材质不做限定。

本申请实施例提供的一种光学胶带，通过在光学胶带对应指纹识别区的位置处设置贯穿光学胶带的第一缓冲层的开孔，并且在开孔内填充可脱落的填充物，该填充物包括第二缓冲层，利用第二缓冲层可以实现在制备过程中，相同的压力、光照和温度条件对开孔处与光学胶带其他位置的影响相同或相似，从而避免了开孔对应的指纹识别区出现的颜色不均、深浅不均及明显边界的现象，提高了产品良率，并且在制备完成后将开孔内的填充物剥离，以保证指纹孔录取指纹的功能。

在一实施例中，如图1所示，光学胶带可以包括与第一缓冲层11层叠设置的第一散热层12。通过设置第一散热层12，可以利用第一散热层12实现光学胶带对阵列基板的散热功能。

在一实施例中，第一散热层12可以包括导热性能较好的材料，例如第一散热层12可以是铜箔等，通过设置铜箔，不仅可以实现对阵列基板的导热和散热功能，还能利用铜箔的刚性特性对阵列基板提供一定的支撑作用。本申请实施例可以根 据实际应用场景的需求而选取第一散热层12的具体材质，只要保证第一散热层12的导热功能即可，本申请实施例对于第一散热层12的具体材质不做限定。

在一实施例中，如图1所示，填充物3与开孔2的内壁之间可以留有间隙21。通过在填充物3与开孔2的内壁之间留有间隙21，可以避免因填充物3填充开孔2过满而导致后续难以剥离填充物3，在保证开孔2处与光学胶带其他位置的显示一致性的同时，也要保证后续剥离填充物3的便利性，以放置额外增加制备难度。

在一实施例中，如图1所示，间隙21的宽度d可以包括0.1毫米-0.2毫米。通过设置一定宽度的间隙21，可以保证填充物3在后期能够简单的从开孔2内剥离，降低制备难度。本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取间隙21的具体宽度，只要所选取的间隙21的宽度能够保证填充物3的简单剥离即可，本申请实施例对于间隙21的具体宽度不做限定。

在一实施例中，如图1所示，光学胶带还可以包括离型膜13，离型膜13位于第一缓冲层11远离第一散热层12的一侧，离型膜13覆盖填充物3。离型膜是指能从表面剥离的的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性，离型膜的主要作用有隔离、填充、保护、易于剥离。通过设置离型膜13，可以实现光学胶带与外界的隔离，并且光学胶带与阵列基板贴合时，只需要将该离型膜13剥离后，光学胶带即可与阵列基板进行贴合，操作简单。

在一实施例中，如图1所示，光学胶带还可以包括第一胶层14，第一胶层14设置于离型膜13与第一缓冲层11之间。通过设置第一胶层14，可以利用第一胶层14实现光学胶带与阵列基板之间的贴合，并且在贴合之前利用离型膜13隔离和保护光学胶带。

在一实施例中，第一胶层14可以包括双面胶，例如光学胶等，本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取第一胶层14的具体材料，例如光学胶、水胶等，只要第一胶层14能够保证光学胶带与阵列基板之间的贴合即可，本申请实施例对于第一胶层14的具体材质不做限定。

在一实施例中，如图1所示，光学胶带可以还包括保护膜15，保护膜15位于第一散热层12远离第一缓冲层11的一侧，保护膜15覆盖填充物3。通过设置保护膜15，可以利用保护膜15对光学胶带的其他膜层以及填充物3进行保护。

在一实施例中，如图1所示，光学胶带还可以包括第一导热层16，第一导热层16位于第一缓冲层11与第一散热层12之间。在进一步的实施例中，第一导热层16可以包括PI层或石墨层。由于在贴合至阵列基板时，第一缓冲层11为靠近阵列基板的一侧，通过设置PI层或石墨层，可以利用石墨的导热性能与第一散热层12配合将阵列基板和第一缓冲层11的热量通过第一导热层16传递至第一散热层12，从而进一步提高散热效果；利用PI(聚酰亚胺)的柔性可以改善模组贴合压痕及其他一些不良，并且由于石墨层通常为片层结构，会出现分层掉碎屑等现 象，利用PI层对石墨进行包边处理，避免可靠性测试后石墨出现分层及掉屑问题。本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取第一缓冲层11与第一散热层12之间是否设置其他膜层以及设置的膜层的具体材质，例如第一缓冲层11与第一散热层12之间可以不设置其他膜层，即第一缓冲层11与第一散热层12直接接触，也可以实现热量的快速传递，只要所选取的第一缓冲层11与第一散热层12之间的膜层能够满足散热需求即可，本申请实施例对于第一缓冲层11与第一散热层12之间的具体膜层以及膜层的具体材质不做限定。

在一实施例中，如图1所示，填充物3可以包括第二胶层32，第二胶层32位于第二缓冲层31与保护膜15之间。通过在第二缓冲层31与保护膜15直接设置第二胶层32，可以在完成阵列基板与光学胶带的贴合后，通过剥离保护膜15以实现连带的剥离与保护膜15粘黏的填充物3，从而简单的实现填充物3的剥离，实现指纹孔的制备。本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取第二胶层32的具体材料，例如光学胶、水胶等，只要第二胶层32能够保证在剥离保护膜15时能够将填充物3连带剥离即可，本申请实施例对于第二胶层32的具体材质不做限定。

在一实施例中，如图1所示，填充物3可以包括第二散热层33，第二散热层33位于第二缓冲层31与第二胶层32之间。通过设置第二散热层33，可以保证在制备过程中相同的温度对于开孔2处和光学胶带其他位置的影响一致。在一实施例中，第二散热层33可以包括导热性能较好的材料，例如第二散热层33可以是铜箔等，通过设置铜箔，不仅可以实现制备过程中对开孔2的导热和散热功能，还能利用铜箔的刚性特性对开孔2提供一定的支撑作用。本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取第二散热层33的具体材质，只要所选取的第二散热层33的材质能够保证第二散热层33的导热功能即可，本申请实施例对于第二散热层33的具体材质不做限定。

在一实施例中，如图1所示，填充物3还可以包括第二导热层34。在进一步的实施例中，第二导热层34可以包括PI层或石墨层。通过设置PI层或石墨层，可以实现开孔2处的填充物3与光学胶带其他位置的膜层结构一致，从而保证开孔2处和光学胶带其他位置处在制备过程中受到的压力、光照和温度的影响一致。本申请实施例可以根据实际应用场景的需求而选取是否设置第二导热层34，只要保证开孔2处和光学胶带其他位置处在制备过程中受到的压力、光照和温度的影响一致即可，本申请实施例对于是否设置第二导热层34不做限定。

在一实施例中，如图1所示，光学胶带沿靠近阵列基板一侧向远离阵列基板一侧的方向可以依次包括层叠设置的离型膜13、第一胶层14、第一缓冲层11、第一散热层12、保护膜15，对应的填充物3沿靠近阵列基板一侧向远离阵列基板一侧的方向可以依次包括层叠设置的第二缓冲层31、第二散热层33、第二胶层 32。通过设置填充物3的膜层与光学胶带其他位置的膜层相同或相似，仅仅是层叠顺序不同，可以保证在制备过程中，开孔2处与光学胶带其他位置处在相同的压力、光照和温度条件下的显示效果一致性，从而避免了颜色不均、深浅不均及明显边界的现象。在另一实施例中，如图1所示，第一缓冲层11和第一散热层12之间可以包括第一导热层16，对应的，填充物3中的第二缓冲层31与第二散热层33之间包括第二导热层34。

图2所示为本申请另一实施例提供的一种光学胶带的结构示意图，其中开孔内仅填充第二缓冲层以及第二胶层。如图2所示，光学胶带包括第一缓冲层11；光学胶带对应指纹识别区的位置处设置贯穿第一缓冲层11的开孔2；其中，开孔2内填充可脱落的填充物3，填充物3包括第二缓冲层31。在进一步的实施例中，光学胶带还可以包括上述实施例中的离型膜13、第一散热层12、第一胶层14、保护膜15、第一导热层16中的任一种或多种的组合，填充物还可以包括设置于第二缓冲层31与保护膜15之间的第二胶层32。本申请实施例通过在开孔2内仅填充第二缓冲层31以及粘黏第二缓冲层31和保护膜15的第二胶层32，可以实现开孔2处与光学胶带其他位置处在相同的压力、光照和温度条件下的显示效果一致性，从而避免了颜色不均、深浅不均及明显边界的现象，并且通过剥离保护膜15连带的剥离填充物3。

本申请一实施例还提供了一种显示面板，包括：阵列基板，阵列基板一侧设置像素单元；以及光学胶带，光学胶带位于阵列基板远离像素单元的一侧，其中，光学胶带包括如上述任一项所述的光学胶带。本申请实施例提供的一种显示面板，通过在光学胶带对应指纹识别区的位置处设置贯穿光学胶带的第一缓冲层的开孔，并且在开孔内填充可脱落的填充物，该填充物包括第二缓冲层，利用第二缓冲层可以实现在制备过程中，相同的压力、光照和温度条件对开孔处与光学胶带其他位置的影响相同或相似，从而避免了开孔对应的指纹识别区出现的颜色不均、深浅不均及明显边界的现象，提高了产品良率，并且在制备完成后将开孔内的填充物剥离，以保证指纹孔录取指纹的功能。

图3所示为本申请一实施例提供的光学胶带制备方法的流程示意图。如图3所示，本申请实施例提供的光学胶带制备方法，用于制备用于指纹识别区的光学胶带，包括如下步骤。

步骤S10：制备第一缓冲层。

步骤S20：对应指纹识别区处制备贯穿第一缓冲层的开孔。

其中，开孔内填充可脱落的填充物，填充物包括第二缓冲层。

在实际应用过程中，首先制备第一缓冲层，然后在对应指纹识别区处制备贯穿第一缓冲层的开孔。

本申请实施例提供的光学胶带制备方法，通过在光学胶带对应指纹识别区的 位置处制备贯穿光学胶带的第一缓冲层的开孔，并且在开孔内填充可脱落的填充物，该填充物包括第二缓冲层，利用第二缓冲层可以实现在制备过程中，相同的压力、光照和温度条件对开孔处与光学胶带其他位置的影响相同或相似，从而避免了开孔对应的指纹识别区出现的颜色不均、深浅不均及明显边界的现象。因此，与相关技术中的光学胶带制备方法相比，本申请实施例提供的光学胶带方法提高了产品良率，并且保证了指纹孔录取指纹的功能。

以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (20)

1. 一种光学胶带，用于指纹识别区，包括：

   第一缓冲层；

   开孔，对应所述指纹识别区处设置且贯穿所述第一缓冲层；

   其中，所述开孔内填充可脱落的填充物，所述填充物包括第二缓冲层。
2. 根据权利要求1所述的光学胶带，其中，所述填充物与所述开孔的内壁之间留有间隙。
3. 根据权利要求2所述的光学胶带，其中，所述间隙宽度包括0.1毫米-0.2毫米。
4. 根据权利要求1所述的光学胶带，其中，所述第二缓冲层与所述第一缓冲层的材质相同。
5. 根据权利要求1所述的光学胶带，其中，所述第一缓冲层包括泡棉，所述第二缓冲层包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或泡棉。
6. 根据权利要求1所述的光学胶带，其中，所述光学胶带包括与所述第一缓冲层层叠设置的第一散热层。
7. 根据权利要求6所述的光学胶带，其中，所述第一散热层包括铜箔。
8. 根据权利要求6所述的光学胶带，还包括离型膜，位于所述第一缓冲层远离所述第一散热层的一侧，所述离型膜覆盖所述填充物。
9. 根据权利要求8所述的光学胶带，还包括第一胶层，设置于所述离型膜与所述第一缓冲层之间。
10. 根据权利要求9所述的光学胶带，其中，所述第一胶层包括双面胶。
11. 根据权利要求6所述的光学胶带，其中，还包括保护膜，位于所述第一散热层远离所述第一缓冲层的一侧，所述保护膜覆盖所述填充物。
12. 根据权利要求6所述的光学胶带，其中，还包括第一导热层，所述第一导热层位于所述第一缓冲层与所述第一散热层之间。
13. 根据权利要求12所述的光学胶带，其中，所述第一导热层包括PI层或石墨层。
14. 根据权利要求11所述的光学胶带，其中，所述填充物包括第二胶层，所述第二胶层位于所述第二缓冲层与所述保护膜之间。
15. 根据权利要求14所述的光学胶带，其中，所述填充物包括第二散热层，所述第二散热层位于所述第二缓冲层与所述第二胶层之间。
16. 根据权利要求15所述的光学胶带，其中，所述第二散热层包括铜箔。
17. 根据权利要求1所述的光学胶带，其中，所述填充物还包括第二导热层。
18. 根据权利要求17所述的光学胶带，其中，所述第二导热层包括PI层或 石墨层。
19. 一种显示面板，包括：

    阵列基板，所述阵列基板一侧设置像素单元；以及

    光学胶带，所述光学胶带位于所述阵列基板远离所述像素单元的一侧，其中，所述光学胶带包括如上述权利要求1-18中任一项所述的光学胶带。
20. 一种光学胶带制备方法，用于制备用于指纹识别区的光学胶带，包括：

    制备第一缓冲层；

    对应所述指纹识别区处制备贯穿所述第一缓冲层的开孔；

    其中，所述开孔内填充可脱落的填充物，所述填充物包括第二缓冲层。

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