WO2022016700A1 - 一种压应力光纤及其制造工艺 - Google Patents

一种压应力光纤及其制造工艺 Download PDF

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compressive stress
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张功会
陈伟
朱永刚
严勇虎
孙伟
劳雪刚
田国才
肖华
王林
李永通
周忠凯
郝昌平
宋君
卢萍
王友兵
胡付俭
王亚玲
罗干
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江苏亨通光纤科技有限公司
江苏亨通光电股份有限公司
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
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    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference

Definitions

  • the present application relates to the technical field of optical fiber manufacturing, for example, to a compressive stress optical fiber and a manufacturing process thereof.
  • the prefabricated stress layer containing the aluminum ions is prepared on the outside of the auxiliary layer by a plasma spraying method.
  • a first feature "on” or “under” a second feature may include direct contact between the first and second features, or may include the first and second features Not directly but through additional features between them.
  • the first feature being “above”, “over” and “above” the second feature includes the first feature being directly above and obliquely above the second feature, or simply means that the first feature is level higher than the second feature.
  • the first feature is “below”, “below” and “below” the second feature includes the first feature being directly below and diagonally below the second feature, or simply means that the first feature has a lower level than the second feature.
  • the auxiliary layer 3 is made outside the core rod.
  • a sleeve for the auxiliary layer 3 containing halogen elements is first fabricated, and the auxiliary layer 3 is sleeved on the outer side of the inner cladding layer 2 by using the sleeve method.
  • halogen elements reduces the refractive index of the auxiliary layer 3, and adopts a comprehensive waveguide design to form a refractive index difference ⁇ 2 between the auxiliary layer 3 and the inner cladding layer 2, and the refractive index difference ⁇ 2 ⁇ -0.5% ⁇ -1.2 %.
  • a total reflection condition is formed, and the transmission loss of the incident light in the compressive stress fiber is reduced.
  • the addition of halogen elements further improves the bending resistance of the optical fiber, and the macrobending level of the optical fiber is significantly improved; in addition, the addition of halogen elements makes the interface between the inner cladding layer 2 and the auxiliary layer 3 form relatively large relative stress.
  • the prefabricated stress layer 4 containing aluminum ions may also be prepared on the outside of the auxiliary layer 3 by a plasma spraying method.

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  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract

本文公开一种压应力光纤及其制造工艺。其中压应力光纤包括：芯层，材质为含有200ppm～400ppm碱离子的二氧化硅；内包层，包覆于芯层，材质为含有5000ppm-10000ppm氟离子的二氧化硅；辅助层，包覆于内包层，材质为含有13000ppm-20000ppm卤素离子的二氧化硅；预制应力层，包覆于辅助层，材质为含有5ppm～20ppm铝离子的二氧化硅。

Description

一种压应力光纤及其制造工艺 技术领域
本申请涉及光纤制造技术领域，例如涉及一种压应力光纤及其制造工艺。
背景技术
目前广泛使用的通信光纤是通过在纤芯中掺杂锗元素(GeO 2)的方式来提高纤芯的折射率，从而和纯二氧化硅的包层材料间形成折射率差，以保证入射光在光纤中的传播。但由于芯层中氧化物的掺入破坏了光纤在氢元素和伽马射线辐射环境中的稳定性，因此掺锗光纤的衰减值较高。
基于此，亟需一种压应力光纤及其制造工艺，以解决上述存在的问题。
发明内容
本申请的目的在于提供一种压应力光纤及其制造工艺，实现了光纤在1550nm波长处的衰减值≤0.160db/km，减小了光纤传输衰减值。而且未采用锗元素，避免了由于光纤本身材质导致的光纤损耗增加，实现了光纤损耗的进一步降低。
为达上述目的，本申请采用以下技术方案：
一方面，提供一种压应力光纤，包括：
芯层，其材质为含有碱离子的二氧化硅，其中所述碱离子的重量含量基于所述芯层总重量为200ppm～400ppm；
内包层，其包覆于所述芯层，所述内包层的材质为含有氟离子的二氧化硅，其中所述氟离子的重量含量基于所述内包层总重量为5000ppm-10000ppm；
辅助层，其包覆于所述内包层，所述辅助层的材质为含有卤素离子的二氧化硅，其中所述卤素离子的重量含量基于所述辅助层总重量为 13000ppm-20000ppm；
预制应力层，其包覆于所述辅助层，所述预制应力层的材质为含有铝离子的二氧化硅，其中所述铝离子的重量含量基于所述预制应力层总重量为5ppm～20ppm。
作为一种压应力光纤的可选技术方案，还包括涂覆层，其包覆于所述预制应力层，所述涂覆层的材质为丙烯酸类树脂。
作为一种压应力光纤的可选技术方案，所述芯层的外径为9μm～13μm；
所述内包层的外径为20μm～40μm；
所述辅助层的外径为70μm～90μm；
所述预制应力层的外径为125μm-126μm；
所述涂覆层的外径为235μm-255μm。
作为一种压应力光纤的可选技术方案，所述内包层与所述芯层的折射率差Δ1≈-0.25％～-0.45％；
所述辅助层与所述芯层的折射率差Δ2≈-0.5％～-1.2％。
作为一种压应力光纤的可选技术方案，所述芯层中掺入的碱离子的氧化物包括K 2O或Li 2O；
所述预制应力层中掺入的铝离子的氧化物包括Al 2O 3。
作为一种压应力光纤的可选技术方案，所述涂覆层为双涂层，包括内涂层和外涂层；或所述涂覆层为单涂层。
另一方面，提供一种压应力光纤的制造工艺，用于制造以上任一方案所述的压应力光纤，包括以下步骤：
S1、制作呈松散体的所述芯层；
S2、取出所述松散体通过脱水和烧结工艺将所述松散体玻璃化，形成所述芯层和所述内包层结合的芯棒；
S3、在所述芯棒外制作所述辅助层；
S4、在所述辅助层外制作所述预制应力层；
S5、将所述芯层、所述内包层、所述辅助层及所述预制应力层的组合体进行拉丝处理。
作为一种压应力光纤的制造工艺的可选技术方案，在步骤S5后，还包括步骤S6，在所述预制应力层外制作涂覆层。
作为一种压应力光纤的制造工艺的可选技术方案，在所述S1步骤中，通过气相沉积工艺制作含有所述碱离子且呈松散体的所述芯层；
在所述S2步骤中，所述烧结工艺过程中掺入所述氟离子，所述碱离子在所述芯层内扩散，在所述芯层外形成含有所述氟离子的所述内包层；
在所述S3步骤中，制作含有所述卤素元素的所述辅助层的套管，采用套管法工艺，将所述辅助层套于所述内包层外侧；
在所述S4步骤中，制作含有所述铝离子的所述预制应力层的套管，采用套管法工艺，将所述预制应力层套设于所述辅助层外侧；
在所述S6步骤中，采用涂覆模具在所述预制应力层外制作涂覆层。
作为一种压应力光纤的制造工艺的可选技术方案，在所述S4步骤中，采用等离子喷涂法在所述辅助层外侧制备含有所述铝离子的所述预制应力层。
本申请的有益效果为：
芯层为含有碱离子的二氧化硅，内包层中掺入氟离子，辅助层中掺入卤素离子，实现了压应力光纤中芯层、内包层和辅助层之间的折射率差，以使入射 光在光纤内实现全反射传递。
芯层材料为碱离子含量为200ppm～400ppm的二氧化硅，内包层的材质为氟离子含量为5000ppm-10000ppm的二氧化硅，辅助层的材质为卤素离子含量为13000ppm-20000ppm的二氧化硅，预制应力层的材质为卤素离子含量为5ppm～20ppm的二氧化硅，由于芯层、内包层、辅助层及预制应力层内元素离子以及含量的不同，各层之间产生相互的应力，共同作用构成应力分布图，其中，芯层和内保层的压应力为-40MPa～-20MPa，辅助层的压应力为-35MPa～-15MPa，预制应力层的压应力为20MPa～20MPa。光纤从应力上考虑降低光纤损耗，在此种应力分布下，光纤在1550nm波长处的衰减值≤0.160db/km，减小了光纤传输衰减值。而且未采用锗元素，避免了由于光纤本身材质导致的光纤损耗增加，实现了光纤损耗的进一步降低。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对本申请实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本申请实施例的内容和这些附图获得其他的附图。
图1是本申请具体实施方式提供的压应力光纤的剖视图；
图2是本申请具体实施方式提供的气相沉积装置的结构示意图。
图中标记如下：
1、芯层；2、内包层；3、辅助层；4、预制应力层；5、涂覆层；
10、气相沉积装置；101、石英管；102、加热件；103、三通管；104、碱离子加热箱。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本申请，而非对本申请的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本申请相关的部分而非全部结构。
在本申请的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
目前广泛使用的通信光纤是通过在纤芯中掺杂锗元素GeO 2的方式来提高纤 芯的折射率，从而和纯二氧化硅的包层材料间形成折射率差，以保证入射光在光纤中的传播。但由于芯层中氧化物的掺入破坏了光纤在氢元素和伽马射线辐射环境中的稳定性，因此掺锗光纤的光纤损耗的衰减值较高。
为解决上述问题，如图1所示，本申请提供一种压应力光纤，该光纤包括芯层1、内包层2、辅助层3、预制应力层4及涂覆层5。
具体地，芯层1的材质为含有碱离子的二氧化硅，芯层1中碱离子的含量为200ppm～400ppm，具体含量可以为大约200ppm、大约250ppm、大约300ppm、大约350ppm或大约400ppm。芯层1的外径为9μm-13μm，具体外径可以为9μm、10μm、11μm、12μm或13μm。其中，掺杂的碱离子元素的氧化物为K 2O或Li 2O。由于在芯层1中不掺杂或几乎不掺杂锗元素，减小了由于瑞利散射导致的光纤衰减，实现了光纤损耗的进一步降低。
但是为了保持芯层1与包层的折射率差，在芯层1外包覆有内包层2，内包层2的外径为20μm～40μm，具体外径值可以为20μm、25μm、30μm或40μm，内包层2的材质为含有氟元素的二氧化硅，内包层2中氟离子含量为5000ppm-10000ppm，具体含量可以为大约5000ppm、大约6000ppm、大约7000ppm、大约8000ppm、大约9000ppm或大约10000ppm。氟元素的掺入，一方面，使内包层2与芯层1之间形成折射率差Δ1，折射率差Δ1≈-0.25％～-0.45％。而且，石英玻璃的粘度较高，掺入氟元素后粘度降低，光纤的芯层1与内包层2在高温熔融状态下粘度适配，内包层2获取与芯层1接近的粘度值，同时，使芯层1和内包层2的内应力发生变化。
进一步地，为了使光纤内部形成全反射条件，在内包层2的外侧包覆辅助层3，辅助层3的外径为70μm～90μm，具体外径可以为：70μm、75μm、80 μm、85μm或90μm，辅助层3的材质为含有氟、氯等卤素元素的二氧化硅，辅助层3中卤素离子含量为13000ppm-20000ppm，具体含量可以为大约13000ppm、大约15000ppm、大约17000ppm、大约18000ppm、大约19000ppm或大约20000ppm。卤素元素的掺入，一方面，辅助层3的折射率变小，采用综合波导设计，使辅助层3与内包层2之间形成折射率差Δ2，折射率差Δ2≈-0.5％～-1.2％。入射光在该压应力光纤内传输时，在折射率差Δ1和折射率差Δ2的条件下，形成全反射条件，降低入射光在该压应力光纤中的传输损耗。另一方面，卤素元素的掺入，使光纤的抗弯性能得到进一步的提高，光纤的宏弯水平得到明显提升；再者，卤素元素的添加使内包层2与辅助层3的界面形成了较大的相对应力。
进一步地，在辅助层3的外侧还包覆有预制应力层4，预制应力层4的外径为125μm-126μm，预制应力层4的材质为含有铝元素的二氧化硅，预制应力层4中铝离子含量为5ppm～20ppm，具体含量可以为大约5ppm、大约10ppm、大约15ppm或大约20ppm。其中，掺入的铝离子元素的氧化物为Al 2O 3。预制应力层4为辅助层3提供压应力。
由于芯层1、内包层2、辅助层3及预制应力层4内元素离子以及含量的不同，各层之间产生相互的应力，共同作用构成应力分布图，光纤内部形成能够降低光纤传输损耗的压应力分布。具体地，芯层1的压应力为-40MPa～-20MPa，内包层2的压应力为-40MPa～-20MPa，辅助层3的压应力为-35MPa～-15MPa，预制应力层4的压应力为20MPa～20MPa。光纤从应力上考虑降低光纤损耗，在此种应力分布下，光纤在1550nm波长处的衰减值≤0.160db/km，生产出超低损耗G.652、G.654.E等系列单模光纤，减小了光纤内光信号的传输衰减值。而且 未采用锗元素，避免了由于光纤本身材质导致的光纤损耗增加，实现了光纤损耗的进一步降低。
可选地，在预制应力层4的外侧包覆有涂覆层5，涂覆层5的外径为235μm-255μm，涂覆层5的材质为丙烯酸类树脂。涂覆层5用于防止光纤受到外界因素磨损，使光纤具有可操作性。而且本实施例中，该压应力光纤在此种涂覆层5和辅助层3的共同作用下，可生产出G.657.B3系列弯曲不敏感单模光纤，半径5mm*10圈的弯曲损耗达到0.15dB以下，很大程度的提高了光纤抗弯曲性能，提高光纤的使用寿命。可选地，涂覆层5为双层涂层，包括内涂层和外涂层；或涂覆层5为单涂层；或对于锁色光纤，涂覆层5上包括锁色层。
需要特别说明的是，本实施例还提供一种压应力光纤的制造工艺，用于制造该压应力光纤，除此之外该制造工艺还可以制作单模光纤、多模光纤、特种光纤等各类通信光纤。具体步骤如下：
S1、制作呈松散体的芯层1；
本实施例中，如图2所示，通过气相沉积工艺制作含有碱离子的呈松散体的芯层1；其中，气相沉积工艺使用气相沉积装置10，气相沉积装置10包括石英管101、加热件102、三通管103、气体生成装置及碱离子加热箱104。气体生成装置和碱离子加热箱104分别连接于三通管103的两个进口，石英管101连接于三通管103的出气口。气体生成装置为石英管101提供四氯化硅、氧气和氢气等原料气体。碱离子加热箱104内放置碱离子盐，碱离子加热箱104为石英管101提供碱离子蒸汽，其中，碱离子盐在1250度-1400度的工艺条件下形成碱离子蒸汽。加热件102位于石英管101的下方，为反应提供所需的热量。石英管101内原料气体和碱离子蒸汽发生化学反应，并沉积形成呈松散体状的 芯层1，接近完成时关闭碱离子加热箱104的通道。
S2、取出松散体通过脱水和烧结工艺将松散体玻璃化，在烧结工艺过程中掺入氟离子，在芯层1外形成含有氟离子的内包层2，同时碱离子在芯层1内扩散，形成芯层1和内包层2结合的芯棒。
氟元素的掺入，一方面，使内包层2与芯层1之间形成折射率差Δ1，折射率差Δ1≈-0.25％～-0.45％。而且，石英玻璃的粘度较高，掺入氟元素后粘度降低，光纤的芯层1与内包层2在高温熔融状态下粘度适配，内包层2获取与芯层1接近的粘度值，同时，使芯层1和内包层2的内应力发生变化。
S3、在芯棒外制作辅助层3。
本实施例中，先制作含有卤素元素的辅助层3的套管，采用套管法的工艺，将辅助层3套于内包层2外侧。
卤素元素的掺入，一方面，辅助层3的折射率变小，采用综合波导设计，使辅助层3与内包层2之间形成折射率差Δ2，折射率差Δ2≈-0.5％～-1.2％。入射光在该压应力光纤内传输时，在折射率差Δ1和折射率差Δ2的条件下，形成全反射条件，降低入射光在该压应力光纤中的传输损耗。另一方面，卤素元素的掺入，使光纤的抗弯性能得到进一步的提高，光纤的宏弯水平得到明显提升；再者，卤素元素的添加使内包层2与辅助层3的界面形成了较大的相对应力。
S4、在辅助层3外制作预制应力层4。
本实施例中，制作含有铝离子的预制应力层4的套管，采用套管法的工艺，将预制应力层4套设于辅助层3外侧。
在其他实施例中，还可以采用等离子喷涂法在辅助层3外侧制备含有铝离子的预制应力层4。
S5、将芯层1、内包层2、辅助层3及预制应力层4的组合体进行拉丝处理；
S6、在预制应力层4外制作涂覆层5。
本实施例中，采用涂覆模具在预制应力层4外制作涂覆层5，以增强光纤的结构强度，使光纤实现可操作性。
注意，上述仅为本申请的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本申请不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不脱离本申请的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本申请进行了较为详细的说明，但是本申请不仅仅限于以上实施例，在不脱离本申请构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本申请的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (11)

  1. 一种压应力光纤，其包括：
    芯层(1)，其材质为含有碱离子的二氧化硅，其中所述碱离子的重量含量基于所述芯层(1)总重量为200ppm～400ppm；
    内包层(2)，其包覆于所述芯层(1)，所述内包层(2)的材质为含有氟离子的二氧化硅，其中所述氟离子的重量含量基于所述内包层(2)总重量为5000ppm-10000ppm；
    辅助层(3)，其包覆于所述内包层(2)，所述辅助层(3)的材质为含有卤素离子的二氧化硅，其中所述卤素离子的重量含量基于所述辅助层(3)总重量为13000ppm-20000ppm；
    预制应力层(4)，其包覆于所述辅助层(3)，所述预制应力层(4)的材质为含有铝离子的二氧化硅，其中所述铝离子的重量含量基于所述预制应力层(4)总重量为5ppm～20ppm。
  2. 根据权利要求1所述的压应力光纤，其中，所述芯层(1)的外径为9μm～13μm；
    所述内包层(2)的外径为20μm～40μm；
    所述辅助层(3)的外径为70μm～90μm；
    所述预制应力层(4)的外径为125μm-126μm。
  3. 根据权利要求1所述的压应力光纤，其中，
    所述内包层(2)与所述芯层(1)的折射率差Δ1≈-0.25％～-0.45％；
    所述辅助层(3)与所述芯层(1)的折射率差Δ2≈-0.5％～-1.2％。
  4. 根据权利要求1所述的压应力光纤，其还包括涂覆层(5)，所述涂覆层(5)包覆于所述预制应力层(4)，所述涂覆层(5)的材质为丙烯酸类树脂。
  5. 根据权利要求4所述的压应力光纤，所述涂覆层(5)的外径为235μm-255μm。
  6. 根据权利要求1所述的压应力光纤，其中，所述芯层(1)中的碱离子为掺入的碱离子的氧化物的形式，所述碱离子的氧化物包括K 2O或Li 2O；
    所述预制应力层(4)中的铝离子为掺入的铝离子的氧化物的形式，所述铝离子的氧化物包括Al 2O 3。
  7. 根据权利要求4所述的压应力光纤，其中，所述涂覆层(5)为双涂层，包括内涂层和外涂层；或所述涂覆层(5)为单涂层。
  8. 一种压应力光纤的制造工艺，其用于制造如权利要求1-7任一项所述的压应力光纤，包括以下步骤：
    S1、制作呈松散体的所述芯层(1)；
    S2、取出所述松散体通过脱水和烧结工艺将所述松散体玻璃化，形成所述芯层(1)和所述内包层(2)结合的芯棒；
    S3、在所述芯棒外制作所述辅助层(3)；
    S4、在所述辅助层(3)外制作所述预制应力层(4)；
    S5、将所述芯层(1)、所述内包层(2)、所述辅助层(3)及所述预制应力层(4)的组合体进行拉丝处理。
  9. 根据权利要求8所述的压应力光纤的制造工艺，其中，在步骤S5后，还包括步骤S6，在所述预制应力层(4)外制作涂覆层(5)。
  10. 根据权利要求9所述的压应力光纤的制造工艺，其中，
    在所述S1步骤中，通过气相沉积工艺制作含有所述碱离子且呈松散体的所述芯层(1)；
    在所述S2步骤中，所述烧结工艺过程中掺入所述氟离子，所述碱离子在所述芯层(1)内扩散，在所述芯层(1)外形成含有所述氟离子的所述内包层(2)；
    在所述S3步骤中，制作含有所述卤素离子的所述辅助层(3)的套管，采用套管法工艺，将所述辅助层(3)套于所述内包层(2)外侧；
    在所述S4步骤中，制作含有所述铝离子的所述预制应力层(4)的套管，采用套管法工艺，将所述预制应力层(4)套设于所述辅助层(3)外侧；
    在所述S6步骤中，采用涂覆模具在所述预制应力层(4)外制作涂覆层(5)。
  11. 根据权利要求8所述的压应力光纤的制造工艺，其中，在所述S4步骤中，采用等离子喷涂法在所述辅助层(3)外侧制备含有所述铝离子的所述预制应力层(4)。
PCT/CN2020/117011 2020-07-23 2020-09-23 一种压应力光纤及其制造工艺 WO2022016700A1 (zh)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102770380A (zh) * 2010-02-26 2012-11-07 康宁股份有限公司 机械强度提高的光纤
CN104216045A (zh) * 2014-09-22 2014-12-17 江苏亨通光电股份有限公司 一种光纤及其制作方法
US20150023642A1 (en) * 2013-07-16 2015-01-22 Corning Incorporated High bandwidth mmf and method of making
CN104898200A (zh) * 2015-06-25 2015-09-09 长飞光纤光缆股份有限公司 一种掺杂优化的超低衰减单模光纤

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102770380A (zh) * 2010-02-26 2012-11-07 康宁股份有限公司 机械强度提高的光纤
US20150023642A1 (en) * 2013-07-16 2015-01-22 Corning Incorporated High bandwidth mmf and method of making
CN104216045A (zh) * 2014-09-22 2014-12-17 江苏亨通光电股份有限公司 一种光纤及其制作方法
CN104898200A (zh) * 2015-06-25 2015-09-09 长飞光纤光缆股份有限公司 一种掺杂优化的超低衰减单模光纤

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