WO2021157729A1 - 膜を有する部材、その製造方法及び膜 - Google Patents

膜を有する部材、その製造方法及び膜 Download PDF

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WO2021157729A1
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metal
film
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outer layer
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佑来 高橋
真樹 森山
瀧 優介
恒一郎 岩堀
工 岸梅
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株式会社ニコン
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    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N25/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators, characterised by their forms, or by their non-active ingredients or by their methods of application, e.g. seed treatment or sequential application; Substances for reducing the noxious effect of the active ingredients to organisms other than pests
    • A01N25/08Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators, characterised by their forms, or by their non-active ingredients or by their methods of application, e.g. seed treatment or sequential application; Substances for reducing the noxious effect of the active ingredients to organisms other than pests containing solids as carriers or diluents
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N59/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing elements or inorganic compounds
    • A01N59/16Heavy metals; Compounds thereof
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    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
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    • B32B5/14Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by a layer differing constitutionally or physically in different parts, e.g. denser near its faces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material

Definitions

  • the present invention relates to a member having a film (amorphous carbon film), a method for producing the same, and a film (amorphous carbon film).
  • Diamond-like carbon which is a type of amorphous carbon, is attracting attention as a surface coating material in various fields.
  • silver (Ag) is known to have antibacterial properties.
  • Non-Patent Document 1 describes that a mixed film of Ag particles and DLC (Ag-DLC film) exhibits antibacterial properties.
  • Patent Document 1 also discloses an antibacterial DLC film coating member.
  • the DLC film is a vapor deposition film of an amorphous carbon / hydrogen solid having a composition of C: 85 to 60 at% and H: 15 to 40 at%, and has an antibacterial action in the film. It contains 1 to 30 at% of metal fine particles dispersed.
  • the first surface and the opposite surface of the first surface which are formed on the base material and contain amorphous carbon and a metal dispersed in the amorphous carbon and are in contact with the base material.
  • a member comprising a film having a second surface, wherein the atomic concentration of the metal on the second surface is lower than the atomic concentration of the metal on the first surface.
  • the film is formed by simultaneously or alternately irradiating the base material with carbon ions and the metal ions. Manufacturing methods including include are provided. According to the third aspect, it is a film having a first surface and a second surface opposite to the first surface, which contains amorphous carbon and a metal dispersed in the amorphous carbon, and is a second. A film is provided in which the atomic concentration of the metal on the surface is lower than the atomic concentration of the metal on the first surface.
  • FIG. 12 (a) to 12 (e) are electron microscope (SEM) photographs of the sample surface after the blood coagulation test.
  • FIG. 12 (f) is an enlarged photograph of the region F of FIG. 12 (e). It is a graph which shows the result of the blood compatibility test (hemolysis test).
  • the member 100 has a base material 40 and a film 50 formed on the base material 40.
  • the base material 40 may have various shapes depending on the use of the member 100, and may be made of various materials. For example, it may be composed of resin, silicon, titanium, stainless steel, or the like.
  • the film 50 covers at least a part of the surface of the base material 40.
  • the film 50 is a film having antibacterial properties, and contains amorphous carbon 60 and a metal 70 dispersed in the amorphous carbon 60.
  • the metal 70 having antibacterial activity is not particularly limited, and examples thereof include silver, mercury, platinum, copper, cadmium, gold, cobalt, nickel, and lead, or alloys containing these, and silver is preferable.
  • the film 50 has a first surface 50a that comes into contact with the base material 40 and a second surface 50b that is opposite to the first surface 50a and is exposed to the outside.
  • the atomic concentration A2 of the metal 70 on the second surface 50b is lower than the atomic concentration A1 of the metal 70 on the first surface 50a (A2 ⁇ A1).
  • the configuration of the film 50 is not particularly limited as long as the above conditions (A2 ⁇ A1) are satisfied.
  • the film 50 of the present embodiment has a two-layer structure composed of an inner layer 52 including the first surface 50a and an outer layer 51 including the second surface 50b.
  • the atomic concentration of the metal 70 in the inner layer 52 and the atomic concentration of the metal 70 in the outer layer 51 are the atomic concentrations A1 of the metal 70 on the first surface 50a and the atoms of the metal 70 on the second surface 50b, respectively.
  • the above condition (A2 ⁇ A1) can be satisfied by lowering the atomic concentration of the metal 70 in the outer layer 51 to be lower than the atomic concentration of the metal 70 in the inner layer 52.
  • the atomic concentration A1 of the metal 70 on the first surface 50a can be increased, and the atomic concentration A2 of the metal 70 on the second surface 50b can be decreased.
  • the precipitation of the metal 70 on the second surface 50b is promoted, and sufficient antibacterial properties can be imparted to the film 50.
  • by lowering the atomic concentration A2 of the metal 70 in the second surface 50b it is easy to adjust the proportion of sp 3 hybridized carbon atoms of the second surface 50b. This can increase the proportion of sp 3 hybridized carbon atoms, according to the application of the member 100 becomes easy to design the characteristic of the second surface 50b.
  • a second surface 50b is high hardness, high sliding properties, for good mechanical properties such as high durability.
  • the proportion of sp 3 mixed carbon atoms on the second surface 50b can be easily controlled within a specific range having high blood compatibility.
  • High blood compatibility means that hemolysis and blood coagulation are suppressed when the second surface 50b is brought into contact with blood.
  • medical devices for example, artificial joints, blood bags, etc.
  • the film surface having a high atomic concentration of the metal 70 tends to have high antibacterial properties but low biocompatibility.
  • Low biocompatibility is, for example, a property that has high cytotoxicity and adversely affects cells in the living body.
  • the atomic concentration A1 is increased to maintain the antibacterial property, while the atomic concentration A2 is decreased to decrease the biocompatibility of the second surface 50b. You can improve your sex.
  • the membrane 50 of the present embodiment has sufficient antibacterial properties by satisfying the above conditions (A2 ⁇ A1), and has good mechanical properties and high blood compatibility according to the use of the member 100. It can have properties such as high biocompatibility.
  • the atomic concentration A1 of the metal 70 on the first surface 50a is not particularly limited.
  • the atomic concentration A1 may be, for example, 1 atomic% or more, or 6 atomic% or more from the viewpoint of further enhancing the antibacterial property.
  • the upper limit of the atomic concentration A1 is not particularly limited, but is, for example, 30 atomic% or less.
  • the atomic concentration A2 of the metal 70 on the second surface 50b is not particularly limited.
  • the atomic concentration A2 may be 6 atomic% or less and 1 atomic% or less. Further, the atomic concentration A2 may be 0 (zero) atomic%. That is, the metal 70 may not be present on the second surface 50b, and the outer layer 51 of the present embodiment may not contain the metal 70.
  • the atomic concentration A2 With the above-mentioned range, easier to adjust the proportion of sp 3 hybridized carbon atoms of the second surface 50b, also enhanced more biocompatible second surface 50b.
  • the atomic concentration (A1, A2) of the metal 70 described above can be adjusted by adjusting the film forming conditions of the film 50, although the details will be described later. Further, the atomic concentration of the metal 70 can be analyzed by, for example, Rutherford Backscattering Spectroscopy (RBS) measurement.
  • RBS Rutherford Backscattering Spectroscopy
  • the film thickness of the film 50, the film thickness of the outer layer 51, and the film thickness of the inner layer 52 can be appropriately determined according to the application of the member 100.
  • the film thickness of the film 50 can be 2 nm to 1000 nm or 10 to 500 nm
  • the film thickness of the outer layer 51 can be 1 nm to 500 nm, or 5 to 300 nm
  • the film thickness of the inner layer 52 can be. It can be 1 nm to 500 nm, or 5 to 300 nm.
  • Each film thickness can be adjusted by adjusting the film forming conditions of the film 50 such as the film forming time.
  • the film thickness of the outer layer 51 is preferably 300 nm or less, for example, the atomic concentration A1 of the metal 70 in the inner layer 52 is 30 atoms. If it exceeds%, it is presumed that the film thickness of the outer layer 51 may be a film thickness of more than 300 nm.
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or less, and the atomic concentration A1 of the inner layer 52 is 6.
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably 100 nm or less, and when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 is 30 atomic% or more, the thickness of the outer layer 51 is preferably 300 nm or less.
  • the film thickness of the outer layer 51 may be less than 20 nm, and when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 exceeds 6 atomic%, 12 atomic% in particular.
  • the film thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or more.
  • the atomic concentration A1 of the metal 70 of the inner layer 52 and the film thickness of the outer layer 51 can be set in the following ranges. preferable.
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably less than 300 nm, and when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 exceeds 6 atomic% and is less than 30 atomic%, the outer layer 51
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or more and 300 nm or less, and when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 is 30 atomic% or more, the thickness of the outer layer 51 may exceed 300 nm. From the viewpoint of achieving both high antibacterial properties and biocompatibility, it is preferable that the atomic concentration A1 of the metal 70 in the inner layer 52 and the film thickness of the outer layer 51 are in the following ranges.
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably less than 20 nm, and when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 exceeds 6 atomic% and is less than 30 atomic%, the outer layer 51
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or more and 100 nm or less, and when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 is 30 atomic% or more, the thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or more and 300 nm or less.
  • the proportion ⁇ of the sp 3 hybridized carbon atoms in the amorphous carbon 60 is defined as the following equation (1).
  • the ratio ⁇ forms a bond with the sp 3 hybrid orbital to the sum of the number of carbon atoms forming the bond with the sp 2 hybrid orbital and the number of carbon atoms forming the bond with the sp 3 hybrid orbital. It is the ratio of the number of carbon atoms.
  • ⁇ (atomic%) ( number of sp 3 hybrid carbon atoms) / ⁇ (number of sp 2 hybrid carbon atoms) + (number of sp 3 hybrid carbon atoms) ⁇ ⁇ 100 ...
  • ratio ⁇ 2 The ratio ⁇ of sp 3 mixed carbon atoms defined by the formula (1) on the second surface 50b (referred to as “ratio ⁇ 2”) is the sp 3 mixed carbon defined by the formula (1) on the first surface 50a. It is preferably higher than the atomic ratio ⁇ (referred to as “ratio ⁇ 1”) ( ⁇ 2> ⁇ 1). By increasing the ratio ⁇ 2, the second surface 50b can obtain good mechanical properties such as high hardness, high slidability, and high durability.
  • the ratio ⁇ of sp 3 mixed carbon atoms defined by the formula (1) in the inner layer 52 and the ratio ⁇ of sp 3 mixed carbon atoms defined by the formula (1) in the outer layer 51 are , which are equal to the above ratios ⁇ 1 and ⁇ 2, respectively.
  • the ratio ⁇ 2 on the second surface 50b is preferably, for example, 50 atomic% or more from the viewpoint of obtaining good mechanical properties. Further, the ratio ⁇ 2 is preferably, for example, 57 atomic% to 77 atomic% from the viewpoint of obtaining high blood compatibility.
  • the ratio ⁇ 1 on the first surface 50a is not particularly limited, but may be, for example, 26 atomic% to 65 atomic%.
  • the ratio ⁇ of the sp 3 hybridized carbon atoms as defined in formula (1) can be adjusted by adjusting the film formation conditions of films 50. Further, the ratio ⁇ of the sp 3 hybridized carbon atoms as defined in formula (1), for example, can be analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).
  • XPS X-ray photoelectron spectroscopy
  • the film 50 may be composed of only amorphous carbon (carbon) 60 and metal 70, or may contain other elements as long as the effects of the present embodiment are not impaired.
  • the membrane 50 may contain hydrogen.
  • the stress of the film 50 can be relaxed by containing hydrogen.
  • the film 50 described above has sufficient antibacterial properties because the atomic concentration A2 of the metal 70 on the second surface 50b is lower than the atomic concentration A1 of the metal 70 on the first surface 50a (A2 ⁇ A1). It can have properties such as good mechanical properties, high blood compatibility, and high biocompatibility according to the use of the member 100.
  • the membrane 50 of the embodiment has high antibacterial property and low biocompatibility by balancing antibacterial property and biocompatibility, and has low antibacterial property and high biocompatibility with the passage of time.
  • the characteristics can also be changed to the state. For example, by adjusting the precipitation amount and the precipitation rate of the metal 70 deposited on the second surface 50b, the metal 70 can be deposited on the second surface 50b from a state in which the amount of precipitation of the metal 70 is large and the antibacterial property is high and the biocompatibility is low. It can be changed to a state in which the amount of precipitation of 70 is small (or does not precipitate), the antibacterial property is low, and the biocompatibility is high.
  • the member 100 provided with the membrane 50 having such characteristics is expected to be applied to, for example, an artificial joint, an artificial organ, or the like to be transplanted in a living body.
  • the artificial joint (member 100) has high antibacterial properties immediately after surgery having a high risk of bacterial infection.
  • the artificial joint (member 100) preferably has high biocompatibility.
  • the member 100 may be used, for example, in medical instruments, medical materials, housing building materials, building materials, biological culture-related devices, and daily necessities.
  • the film 50 may be arbitrarily arranged depending on the use of the member 100.
  • the film 50 may be formed so as to cover the entire surface of the base material 40, or may be formed only partially on the surface of the base material 40.
  • the membrane 50 may be provided in a region of the member 100 that may be exposed to bacteria. Since the membrane 50 has an antibacterial effect, the growth of bacteria can be suppressed.
  • the member 100 may be used alone or in combination of a plurality of members 100.
  • the term “medical device” includes all medical devices, and specifically, artificial joints, artificial bones, artificial teeth, artificial tooth roots, artificial hearts, artificial cardiac valves, artificial blood vessels, and artificial implants.
  • the film 50 shown in FIG. 1 has a two-layer structure in which an outer layer 51 is laminated on an inner layer 52, but the configuration of the film 50 of the present embodiment is not limited to this.
  • the film 50 may include at least one layer of amorphous carbon in which a metal is dispersed between the inner layer 52 and the outer layer 51.
  • the film 50 is composed of three or more layers of amorphous carbon having different atomic concentrations of the metal 70.
  • the atomic concentration of the metal 70 may gradually decrease from the first surface 50a to the second surface 50b of the film 50.
  • the method for producing the member 100 includes forming a film 50 containing the amorphous carbon 60 and the metal 70 dispersed in the amorphous carbon 60 on the base material 40.
  • the method for forming the film 50 is not particularly limited, and examples thereof include an ion plating method including a filtered cascade vacuum arc method (FCVA method), a sputtering method, and a vacuum deposition method.
  • the film 50 is formed by simultaneously or alternately irradiating the base material 40 with carbon ions and metal ions by the FCVA method.
  • the FCVA method has an advantage that the base material 40 having a complicated shape can be uniformly coated and a film 50 having a high adhesive force with the base material 40 can be formed even at room temperature.
  • the FCVA film forming apparatus 1 shown in FIG. 3 mainly includes a first arc plasma generating section 10a, a second arc plasma generating section 10b, a first filter section 20a, a second filter section 20b, and a film forming chamber section. It is composed of 30.
  • the first arc plasma generating section 10a and the second arc plasma generating section 10b are connected to the film forming chamber section 30 by the duct-shaped first filter section 20a and the second filter section 20b, respectively, and are formed by a vacuum device (not shown).
  • the pressure of the membrane chamber portion 30 is set to a degree of vacuum of about 10-5 to 10-7 [Torr].
  • the first arc plasma generation unit 10a is provided with a first target 11a as a cathode and an anode (striker) (not shown).
  • a first target 11a as a cathode and an anode (striker) (not shown).
  • an arc discharge is generated, whereby an arc plasma is generated.
  • Neutral particles and charged particles generated from the first target 11a by the arc plasma fly through the first filter unit 20a toward the film forming chamber unit 30.
  • the first filter unit 20a is provided with a first duct 23a around which the first electromagnet coil 21a is wound and a coil 25a for the first ion scan.
  • the first duct 23a is bent twice in two orthogonal directions between the first arc plasma generation section 10a and the film forming chamber section 30, and the first electromagnet coil 21a is wound around the outer periphery thereof. Since the first duct 23a has such a bent structure (double bend structure), the neutral particles in the first duct 23a are removed by colliding with the inner wall surface and accumulating.
  • the first electromagnet coil 21a By passing an electric current through the first electromagnet coil 21a, a Lorentz force acts on the charged particles inside the first duct 23a, and the charged particles are concentrated in the central region of the duct cross section and fly along the bending of the duct to form a film. It is guided to the chamber portion 30. That is, the first electromagnet coil 21a and the first duct 23a form a narrow-band electromagnetic spatial filter through which only charged particles pass with high efficiency.
  • the second arc plasma generation unit 10b is provided with a second target 11b as a cathode and an anode (striker) (not shown).
  • the second filter unit 20b is provided with a second duct 23b around which the second electromagnet coil 21b is wound and a second ion scan coil 25b, and the second electromagnet coil 21b and the second duct 23b are charged. It constitutes a narrow-band electromagnetic spatial filter that allows only particles to pass through with high efficiency.
  • the first ion scan coil 25a and the second ion scan coil 25b scan the beams of charged particles that enter the film forming chamber 30 through the first duct 23a and the second duct 23b, respectively, as described above.
  • a holder 31 is provided in the film forming chamber portion 30, and the base material 40 is set on the surface of the holder 31.
  • the holder 31 rotates on its axis by the motor 35.
  • An arbitrary bias voltage can be applied to the holder 31 by the power supply 37.
  • a beam of particles scanned by the first ion scanning coil 25a and a beam of particles scanned by the second ion scanning coil 25b are incident on the surface of the base material 40 held by the holder 31 and are mounted on the base material 40. These particles are uniformly deposited on the surface.
  • a graphite target is used as the first target 11a and a metal target is used as the second target 11b.
  • the metal as described above, silver, mercury, platinum, copper, cadmium, gold, cobalt, nickel, lead, or an alloy containing these is used, but silver is preferably used.
  • carbon and metal are simultaneously or alternately formed on the base material 40.
  • a negative bias voltage is applied to the holder 31 by the power supply 37. As a result, the charged particles incident on the base material 40 are accelerated. The accelerated charged particles are deposited on the base material 40, and a dense amorphous carbon film 50 containing a metal is uniformly formed on the base material 40 to obtain a member 100.
  • the proportion of metal deposited on the base material 40 (atomic concentration of metal) can be controlled, for example, by changing the currents (filter currents) of the first electromagnet coil 21a and the second electromagnet coil 21b. Therefore, by adjusting the value of the filter current, it is possible to form the film 50 in which two or more amorphous carbon layers having different atomic concentrations of the metal 70 shown in FIG. 1 are laminated. Further, by continuously changing the value of the filter current during the film formation of the film 50, it is possible to give a gradient of the atomic concentration of the metal 70 in the film thickness direction of the film 50 as shown in FIG.
  • Application ratio of sp 3 hybridized carbon atoms in the amorphous carbon 60 i.e., the proportion of sp 3 hybridized carbon atoms as defined in formula (1) may, for example, a metal concentration in the amorphous carbon 60, and the holder 31 by a power supply 37 It can be controlled by adjusting the bias voltage to be applied.
  • the film 50 may be formed only on a part of the base material 40. In this case, after covering the region of the base material 40 that does not form the film 50 with a mask, the base material 40 may be set in the holder 31 to form the film 50.
  • the film 50 is formed (deposited) on the base material 40 by using the FCVA method, but the film forming method of the film 50 is not limited to this.
  • the film 50 can be formed by, for example, a PVD method (physical vapor deposition method) or a CVD method (chemical vapor deposition method).
  • the PVD method include an ionized vapor deposition method, an ion beam sputtering method, a magnetron sputtering method, a laser vapor deposition method, and an arc ion plating method using a carbon target as a raw material.
  • Examples of the CVD method include a microwave plasma CVD method, a DC plasma CVD method, a high frequency plasma CVD method, and a magnetic field plasma CVD method using hydrocarbon gas as a raw material.
  • the embodiment of the member having the film and the method for manufacturing the member having the film has been described above, the present invention is not limited to this, and the member may be the film itself.
  • the film can have the same structure as the film of the member having the film described above, but does not necessarily require a base material.
  • sample 1 Samples a to l (L) (two-layer structure) Using the FCVA film forming apparatus 1 (see FIG. 3), the inner layer 52 and the outer layer 51 are laminated in this order on the base material 40 to form a film 50 composed of these two layers, and sample a (member 100). ) was prepared (see FIG. 1).
  • As the base material 40 plate-shaped stainless steel (JIS symbol: SUS316L, 30 mm ⁇ 30 mm ⁇ 0.03 mm) was used.
  • SUS316L is a commonly used medical stainless steel.
  • carbon and silver were alternately formed on the base material 40 by the FCVA method to form an inner layer 52.
  • a sintered graphite target was used as the first target 11a of the FCVA film forming apparatus 1, and a silver target was used as the second target 11b.
  • the sintered graphite target used was dehydrated.
  • the film forming conditions were adjusted so that the atomic concentration (Ag concentration) of silver with respect to the total amount of silver and carbon deposited was 1 atomic% and the film thickness was about 100 nm.
  • the film forming conditions are as follows.
  • First filter current 14A, current of the second electromagnet coil 21b in the second filter section 20b (second filter current): 5A, current of the anode side power supply in the first arc plasma generation section 10a (first anode current).
  • 6A current of power supply on the anode side in the second arc plasma generation unit 10b (second anode current): 6A, substrate bias: -66V, film formation time: 650 seconds.
  • the base material was not heated, and the temperature of the base material during film formation was about 25 to 30 ° C.
  • the ultimate pressure of the film forming chamber portion 30 was 2 ⁇ 10 -4 Pa or less.
  • X-ray photoelectron spectroscopy by (XPS) was determined the ratio ⁇ 1 of sp 3 hybridized carbon atoms are the in the amorphous carbon 60 defined by the formula (1), was 65 atom%.
  • the atomic concentration (Ag concentration) of silver with respect to the total of silver and carbon was set to 0 (zero) atomic%.
  • the film thickness was adjusted so that the film thickness was about 20 nm.
  • the film forming conditions are as follows.
  • Each sample bl (L) (member 100) was prepared by the same production method as the sample a. However, in the samples b to l (L), regarding the atomic concentration (Ag concentration) of silver in the inner layer 52, the arc current value of the arc power source (cathode side power source) in the first arc plasma generation unit 10a and the arc current value in the second filter unit 20b. By adjusting the current value (second filter current value) of the second electromagnet coil 21b, the film formation time of the outer layer 51 was adjusted to obtain the values shown in Table 1.
  • References 1 to 3 were prepared as references used for the evaluation of the sample described below.
  • Reference 1 (Ref. 1) was a base material (plate-shaped stainless steel, JIS symbol: SUS316L) on which no film was formed.
  • References 2 and 3 (Ref. 2 and 3) are samples in which 100 nm of amorphous carbon containing no Ag is formed on a base material (plate-shaped stainless steel, JIS symbol: SUS316L) by the FCVA method, and the above formula (Ref. 2 and 3) is used.
  • the ratio of sp 3 mixed carbon atoms in the amorphous carbon defined in 1) was 78 atomic% in Reference 2 and 63 atomic% in Reference 3.
  • the samples a to l (L) in which the film 50 has a two-layer structure correspond to the examples
  • the samples m to p in which the film 50 has a single-layer structure correspond to the comparative example. ..
  • Sample a ⁇ l it is low Ag concentrations of the outer layer 51 (Ag concentration: 0 atomic%), easy to control the rate ⁇ 2 of sp 3 hybridized carbon atoms.
  • the outer layer 51 of the sample a ⁇ l and the proportion ⁇ 2 of sp 3 hybridized carbon atoms and 78% as high. From this, it is presumed that the films 50 of the samples a to l have sufficient mechanical properties.
  • Samples d-1 and h-1 adjusts the conditions for forming the outer layer 51, is defined by the formula in the outer layer 51 (1), the proportion ⁇ 2 of sp 3 hybridized carbon atoms in the amorphous carbon 60 63 atomic% It is a sample having the same composition as the samples d and h except that. Samples d-1 and h-1 correspond to Examples. As described above, in the low Ag concentration layer 51, it is easy to control the rate ⁇ 2 of sp 3 hybridized carbon atoms. Sample d-1 and h-1, the proportion ⁇ 2 of sp 3 hybridized carbon atoms of the outer layer 51 has high blood compatibility and a range of 57% to 77%.
  • Antibacterial property test film adhesion method
  • Escherichia coli Escherichia coli
  • MRSA methicillin-resistant Staphylococcus aureus
  • Pseudomonas aeruginosa As the bacterial culture solution, a normal bouillon medium diluted to 1/50 with distilled water was used.
  • a normal bouillon medium diluted to 1/500 with distilled water is used.
  • the dilution rate of the normal bouillon medium in which the number of bacteria grows even on SUS316L is searched, and if the normal bouillon medium is diluted to 1/50 with distilled water, each bacterium grows on SUS316L. Ordinary bouillon medium was used. It was also confirmed that each bacterium grows on titanium, which is also known as a medical metal like SUS316L, if it is a normal bouillon medium diluted 1/50 with distilled water. Compared to the dilution rate of 1/500, the dilution rate of 1/50 makes it easier for bacteria to grow. Therefore, the sample to be evaluated is evaluated in a harsher environment than JIS Z 2801: 2012. , Decreasing the number of bacteria indicates that it has stronger antibacterial properties.
  • an aqueous solution of each bacterium (bacterial concentration: 1 ⁇ 10 4 CFU / mL) was prepared using a normal bouillon medium diluted to 1/50 with distilled water, and 0.1 mL of each prepared bacterial aqueous solution was prepared. It was dropped on the films of the samples a to p and on the reference 1 (stainless substrate). Further, a polyethylene film (20 mm ⁇ 20 mm) was placed on the film, and the bacterial aqueous solution was spread on the membrane 50.
  • the samples a to p and the reference 1 were left to stand in an environment having a temperature of 35 ⁇ 1 ° C. and a relative humidity of 90% or more for about 24 hours to culture the bacteria.
  • the cultured samples a to p and Reference 1 were immersed in 10 mL of SCDLP liquid medium and shaken to recover the cultured bacteria, and 10 mL of the recovered solution was obtained.
  • the culture medium of agarose, diluted samples a to p and the recovery solution of Reference 1 were mixed, and the bacteria were cultured in an environment of a temperature of 35 ⁇ 1 ° C. for about 48 hours.
  • the number of bacteria per unit area (cm 2 ) present on the sample was calculated for each of Samples a to p and Reference 1 by counting the number of bacteria on the culture ground.
  • the graphs of FIGS. 5 to 7 show the number of bacteria (relative value) per unit area (cm 2) of the samples a to p.
  • FIG. 5 shows the results using Escherichia coli
  • FIG. 6 shows the results using MRSA
  • FIG. 7 shows the results using Pseudomonas aeruginosa.
  • the number of bacteria per unit area (cm 2 ) of the samples a to p shown in the graphs of FIGS. 5 to 7 is a relative value with the number of bacteria per unit area (cm 2) of Reference 1 as 100.
  • the number of bacteria (relative value) shown in the graphs of FIGS. 5 to 7 is less than 100, and the lower the number, the smaller the number of bacteria as compared with Reference 1.
  • the reduction in the number of bacteria is smaller in the samples a to l (L) in which the membrane 50 has a two-layer structure than in the samples m to p in which the membrane 50 has a single-layer structure.
  • the reason for this is that, as compared with the single-layer structure film having no outer layer 51, the two-layer structure film 50 having the outer layer 51 is less likely to deposit Ag contained in the inner layer 52 on the surface of the film 50. Guessed.
  • the samples a to l (Ag concentration of the inner layer 52: 1 atomic% or more) had a reduced number of bacteria of any kind as compared with the reference 1 (stainless steel substrate), and were used for the samples a to l. It was shown that antibacterial properties can be imparted by forming a film 50 having a film composition on a stainless steel substrate.
  • the samples a to l tend to have higher antibacterial properties as the Ag concentration of the inner layer 52 increases, and the antibacterial properties decrease as the film thickness of the outer layer 51 increases. It was confirmed that there was a tendency.
  • the sample having an Ag concentration of 30 atomic% is higher than the sample having an Ag concentration of 1 atomic% in the inner layer 52. It showed antibacterial properties.
  • the antibacterial properties of the samples d, h and l (L) having an Ag concentration of 30 atomic% decreased as the film thickness of the outer layer 51 became thicker.
  • the film thickness of the outer layer 51 is preferably small. ..
  • the film thickness of the outer layer 51 is preferably 300 nm or less.
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or less, and the atomic concentration A1 of the inner layer 52 is 6.
  • the thickness of the outer layer 51 is preferably 100 nm or less when it exceeds atomic% and less than 30 atomic%, and the thickness of the outer layer 51 is preferably 300 nm or less when the atomic concentration A1 of the inner layer 52 is 30 atomic% or more. NS.
  • the graph of FIG. 8 shows the number of bacteria (relative value) per unit area (cm 2 ) of samples d and h after immersion in the medium (1 month later). For comparison, the results of the antibacterial test of the same samples d and h when stored in the air for one month (28 days) are also shown in FIG.
  • the number of bacteria per unit area (cm 2 ) of the samples d and h shown in the graph of FIG. 8 is a relative value with the number of bacteria per unit area (cm 2 ) of Reference 1 as 100, as in FIGS. 5 to 7. Is.
  • the number of bacteria (relative value) shown in the graph of FIG. 8 was less than 100, and the lower the number, the lower the number of bacteria as compared with Reference 1, and antibacterial properties could be imparted to the stainless steel base material. It is shown that.
  • the antibacterial properties of the samples d and h after being immersed in the medium for one month were lower than those of the samples d and h stored in the atmosphere. However, it was confirmed that the number of bacteria was smaller than that of Reference 1 and sufficient antibacterial properties were exhibited even after soaking in the medium for 1 month.
  • Cytotoxicity test A cylindrical member (resin tube) was erected on each of the membrane 50 of the samples a to p and the amorphous carbon membrane (on a silicon wafer) of the reference 2 to prepare a test container.
  • the prepared test container has a well having a bottom surface made of a film 50 and a side surface made of a cylindrical member.
  • 0.5 mL of culture solution for human normal umbilical vein endothelial cells (HUVEC) and about 50,000 human umbilical vein endothelial cells (HUVEC) were injected into the wells of the test container in an environment of 37 ° C. and 5% CO 2. It was allowed to stand for one day (about 24 hours). After standing, evaluations 1 and 2 described below were performed.
  • LDH assay The amount of lactate dehydrogenase (LDH) released from the cells into the culture medium was measured, and the degree of non-cellular injury was determined based on the measured amount of LDH.
  • LDH is an enzyme present in the cytoplasm that normally remains in the cytoplasm but is released into the culture medium when the cell membrane is damaged. That is, the larger the amount of LDH released into the culture medium, the more damaged the cells, and the smaller the amount of LDH, the less damaged the cells.
  • the degree to which the cells were not damaged was determined based on the measured amount of LDH.
  • the graph of FIG. 9 shows the degree of non-cytotoxicity (relative value) of samples a to p.
  • the non-cytotoxicity of samples a to p shown in the graph of FIG. 9 is a relative value with the non-cytotoxicity of Reference 2 as 100.
  • Reference 2 (Amorphous carbon without Ag) has been confirmed to be non-cytotoxic. Therefore, in FIG. 9, the closer the non-cytotoxicity (relative value) of the samples a to p is to 100, the less the cytotoxicity is.
  • the graph of FIG. 10 shows the number of living cells and the number of dead cells (relative values) of samples a to p.
  • the number of live cells is calculated by subtracting the number of dead cells from the total number of cells.
  • the total number of cells which is the sum of the number of living cells and the number of dead cells of samples a to p shown in the graph of FIG. 10, is a relative value with the total number of cells of Reference 2 as 100.
  • Sample m (Ag concentration: 1 atomic%) and sample n (Ag concentration: 6 atomic%) having a relatively low Ag concentration had low cytotoxicity, but sample o (Ag concentration: 12 atomic%) having a relatively high Ag concentration had low cytotoxicity. ) And sample p (Ag concentration: 30 atomic%) had high cytotoxicity.
  • the cytotoxicity increases when the Ag concentration of the membrane 50 is high, but the cytotoxicity can be suppressed by providing the outer layer with the membrane 50 as a two-layer structure. Further, when the Ag concentration of the membrane 50 (the Ag concentration of the inner layer 52) is low, the cytotoxicity is not so high, so that the film thickness of the outer layer may be relatively small. For example, when the Ag concentration of the inner layer 52 is 6 atomic% or less, it is estimated that the film thickness of the outer layer 51 may be less than 20 nm. Further, when the Ag concentration of the membrane 50 (the Ag concentration of the inner layer 52) is high, it is preferable that the outer layer has a large film thickness from the viewpoint of suppressing cytotoxicity. For example, when the Ag concentration of the inner layer 52 exceeds 6 atomic%, particularly when it is 12 atomic% or more, the film thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or more.
  • A Blood coagulation test Human blood (heparin 1 U / mL) was brought into contact with each sample d-1, h-1, m, p and reference 3 and shaken at 37 ° C. for 4 hours. After shaking, the amount (concentration) of three types of proteins, specifically, thrombin-antithrombin complex (TAT) in blood, which is an index of blood coagulation, and ⁇ -thromboglobulin ( ⁇ -TG), which is an index of platelet activity. ) And SC5b-9, which is an index of inflammatory response, and their respective concentrations were measured. In addition, electron microscope (SEM) observation of the surfaces of each sample d-1, h-1, m, p and reference 3 after the blood coagulation test was also performed.
  • TAT thrombin-antithrombin complex
  • ⁇ -TG ⁇ -thromboglobulin
  • the graph of FIG. 11 shows the measured three types of protein amounts (relative values).
  • the amount of protein shown in the graph of FIG. 11 is the result (protein amount) when a similar blood compatibility test was performed on a human blood sample at the same timing using a commercially available blood bag (Terumo Corporation: Terumo Separation Bag). It is a relative value set to 100. The lower the protein amount (relative value) shown in the graph of FIG. 11, the higher the blood compatibility. If the protein amount (relative value) is less than 100, each blood bag is compared with a commercially available blood bag. The item indicates high blood compatibility.
  • FIGS. 12 (a) to 12 (e) show SEM photographs of the film surfaces of Reference 3, Samples d-1, h-1, m, and p, respectively.
  • a large amount of blood cell lines such as fibrin chains and erythrocytes were observed on the membrane, but these were hardly observed on the membrane surface of any of the samples.
  • the samples p single layer structure, Ag concentration: 30 atomic%) shown in FIGS. 12 (e) and 12 (f)
  • spiny erythrocytes were observed. From this result, there is a possibility that hemolysis has occurred in the sample p, and the hemolytic test described below was performed.
  • the graph of FIG. 13 shows the hemolysis rate of each sample obtained by the (bi) indirect contact method and the (bi) direct contact method.
  • the hemolysis rate of the negative control material and the positive control material is also shown in the graph of FIG.
  • a high-density polyethylene film was used as the "negative control material”
  • a 1.5% nonionic surfactant-containing polyvinyl chloride pellet was used as the "positive control material”.
  • the hemolysis rates of the samples d-1, h-1, m and the reference 3 were different in both the results of using the (bi) indirect contact method and the (bi) direct contact method.
  • the value was as low as the hemolysis rate of the negative target material.
  • the sample p (Ag concentration: 30 atomic%) having a single-layer structure and a relatively high Ag concentration had a high hemolysis rate.
  • sample p Ag concentration: 30 atomic%
  • the film thickness of the outer layer 51 is preferably 20 nm or more.
  • the member 100 having the membrane 50 of the present embodiment has sufficient antibacterial properties, and can have properties such as good mechanical properties, high blood compatibility, and high biocompatibility according to the use of the member 100. ..
  • the member 100 of the present embodiment can be used, for example, for medical instruments, medical materials, biological culture-related devices, housing building materials, and daily necessities.
  • Film formation device 40 Base material 50 Film 50a First surface 50b Second surface 51 Outer layer 52 Inner layer 60 Amorphous carbon 70 Metal 100 Member

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Abstract

十分な抗菌性を有すると共に、sp混成炭素原子の割合の高いアモルファスカーボン膜を有する部材を提供する。前記部材は、基材と、前記基材上に形成され、アモルファスカーボン及び前記アモルファスカーボン中に分散する金属を含み、前記基材に接触する第1表面及び第1表面の反対面である第2表面を有する膜とを備える。第2表面における前記金属の原子濃度は、第1表面における前記金属の原子濃度よりも低い。

Description

膜を有する部材、その製造方法及び膜
 本発明は、膜(アモルファスカーボン膜)を有する部材、その製造方法及び膜(アモルファスカーボン膜)に関する。
 アモルファスカーボンの一種であるダイヤモンドライクカーボン(DLC)は、種々の分野において表面被覆材として注目されている。また、銀(Ag)は、抗菌性を有することが知られている。非特許文献1には、Ag粒子とDLCの混合膜(Ag-DLC膜)が抗菌性を示すことが記載されている。
 また、特許文献1にも、抗菌性DLC膜被覆部材が開示されている。特許文献1において、DLC膜は、C:85~60at%およびH:15~40at%の組成からなるアモルファス状炭素・水素固形物の気相蒸着膜であり、この膜中には抗菌作用を有する金属微粒子を1~30at%分散含有している。
P.Pisarik et al.,"Antibacterial, mechanical and surface properties of Ag-DLC films prepared by dual PLD for medical applications"Materials Science and Engineering:C Volume 77, 1 August 2017, Pages 955-962
特開2015-81370号公報
 第1の態様に従えば、基材と、前記基材上に形成され、アモルファスカーボン及び前記アモルファスカーボン中に分散する金属を含み、前記基材に接触する第1表面及び第1表面の反対面である第2表面を有する膜とを備え、第2表面における前記金属の原子濃度が、第1表面における前記金属の原子濃度よりも低い部材が提供される。
 第2の態様に従えば、第1の態様の部材を製造する製造方法であって、前記基材上に炭素イオンと前記金属のイオンを同時又は交互に照射して前記膜を形成することを含む製造方法が提供される。
 第3の態様に従えば、第1表面と、第1表面の反対面である第2表面とを有する膜であって、アモルファスカーボンと、前記アモルファスカーボン中に分散する金属とを含み、第2表面における前記金属の原子濃度が、第1表面における前記金属の原子濃度よりも低い膜が提供される。
実施形態に係る部材の概略断面図である。 実施形態に係る部材の別の例の概略断面図である。 成膜装置の概略構成図である。 実施例で製造した部材の断面SEM写真である。 大腸菌を用いた抗菌性試験の結果を示すグラフである。 MRSAを用いた抗菌性試験の結果を示すグラフである。 緑膿菌を用いた抗菌性試験の結果を示すグラフである。 抗菌持続性試験の結果を示すグラフである。 細胞毒性試験(LDH assay)の結果を示すグラフである。 細胞毒性試験(生細胞・死細胞同時染色)の結果を示すグラフである。 血液適合性試験(血液凝固性試験)の結果を示すグラフである。 図12(a)~(e)は、血液凝固性試験後の試料表面の電子顕微鏡(SEM)写真である。図12(f)は、図12(e)の領域Fの拡大写真である。 血液適合性試験(溶血性試験)の結果を示すグラフである。
[膜を有する部材]
 以下、図面を参照しながら部材の実施形態を説明する。図1に示すように、部材100は、基材40と、基材40上に形成された膜50とを有する。
(1)基材40
 基材40は、部材100の用途に応じて、種々の形状を有してよく、種々の材料から構成されてよい。例えば、樹脂、シリコン、チタン、ステンレス等から構成されてよい。
(2)膜50
 膜50は、基材40の表面少なくとも一部を被覆している。膜50は、抗菌性を有する膜であり、アモルファスカーボン60と、アモルファスカーボン60中に分散する金属70とを含む。
 抗菌性を有する金属70は、特に限定されないが、例えば、銀、水銀、白金、銅、カドミウム、金、コバルト、ニッケル、及び鉛、又はこれらを含む合金が挙げられ、中でも、銀が好ましい。
 膜50は、基材40に接触する第1表面50aと、第1表面50aの反対面であり、外部に露出している第2表面50bとを有する。第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2は、第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1よりも低い(A2<A1)。
 上記条件(A2<A1)を満たしていれば、膜50の構成は特に限定されない。本実施形態の膜50は、図1に示すように、第1表面50aを含む内層52と、第2表面50bを含む外層51とから構成される2層構造とする。本実施形態の膜50において、内層52の金属70の原子濃度、外層51の金属70の原子濃度は、それぞれ、第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1、第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2に等しい。外層51の金属70の原子濃度を内層52の金属70の原子濃度より低くすることで、上記条件(A2<A1)を満たすことができる。
 上記条件(A2<A1)を満たすことで、第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1を高くでき、第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2を低くできる。第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1を高くすることで、第2表面50b上への金属70の析出が促進され、膜50に十分な抗菌性を付与できる。一方、第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2を低くすることで、第2表面50bのsp混成炭素原子の割合を調整し易くなる。これにより、sp混成炭素原子の割合を高くでき、部材100の用途に合わせて、第2表面50bの特性を設計し易くなる。例えば、sp混成炭素原子の割合を高めることで、第2表面50bは、高硬度、高摺動性、高耐久性等の良好な機械特性を得られる。また、例えば、第2表面50bのsp混成炭素原子の割合を血液適合性が高い特定の範囲に容易に制御できる。血液適合性が高いとは、第2表面50bを血液に接触させた場合、溶血や血液凝固が抑制されることを意味する。血液適合性を高めることで、溶血や血液凝固を抑制する必要のある、血液と接触する医療器具(例えば、人工関節、血液バック、等)への応用が可能となる。
 また、金属70の原子濃度が高い膜表面は、抗菌性は高いが、生体親和性が低い傾向がある。生体親和性が低いとは、例えば、細胞毒性が高く、生体内の細胞に悪影響を与える特性である。しかし、本実施形態では、上記条件(A2<A1)を満たすことで、原子濃度A1を高くして抗菌性を維持し、一方で、原子濃度A2を低くして、第2表面50bの生体親和性を高められる。
 このように、本実施形態の膜50は、上記条件(A2<A1)を満たすことで、十分な抗菌性を有すると共に、部材100の用途に合わせて、良好な機械特性、高い血液適合性、高い生体親和性等の性質を有することができる。
 上記条件(A2<A1)を満たすのであれば、第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1は特に限定されない。原子濃度A1は、抗菌性をより高める観点からは、例えば、1原子%以上、又は6原子%以上であってもよい。原子濃度A1の上限値は特に限定されないが、例えば、30原子%以下である。
 上記条件(A2<A1)を満たすのであれば、第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2は特に限定されない。例えば、原子濃度A2は、6原子%以下、1原子%以下であってもよい。また、原子濃度A2は、0(ゼロ)原子%であってもよい。即ち、第2表面50bに金属70は存在しなくてもよく、本実施形態の外層51は金属70を含まなくてもよい。原子濃度A2を上記範囲内とすることで、第2表面50bのsp混成炭素原子の割合をより調整し易くなり、また、第2表面50bの生体親和性をより高められる。
 上述の金属70の原子濃度(A1、A2)は、詳細は後述するが、膜50の成膜条件を調整することにより調整が可能である。また、金属70の原子濃度は、例えば、ラザフォード後方散乱分光(RBS)測定により解析可能である。
 膜50の膜厚、外層51の膜厚、及び内層52の膜厚は、部材100の用途に応じて適宜決定できる。例えば、膜50の膜厚は、2nm~1000nm、又は10~500nmとすることができ、外層51の膜厚は、1nm~500nm、又は5~300nmとすることができ、内層52の膜厚は、1nm~500nm、又は5~300nmとすることができる。各膜厚は、成膜時間等の膜50の成膜条件を調整することにより調整が可能である。
 2層構造の膜50において、内層52の金属70の原子濃度A1が高い程、抗菌性が高い傾向があり、また、外層51の膜厚が厚いほど、抗菌性が低下する傾向がある。したがって、内層52の原子濃度A1が高い場合には外層51の膜厚はある程度大きくとも、高い抗菌性を得られるが、内層52の原子濃度A1が低い場合には外層51の膜厚は小さい方が好ましい。抗菌性を得る観点からは、例えば内層52の金属70の原子濃度A1が30原子%以下の場合、外層51の膜厚は300nm以下が好ましく、例えば内層52の金属70の原子濃度A1が30原子%を超える場合、外層51の膜厚は300nmを超える膜厚であってもよいと推察される。一方で、高い抗菌性を得る観点からは、例えば、内層52の金属70の原子濃度A1が6原子%以下の場合、外層51の膜厚は20nm以下が好ましく、内層52の原子濃度A1が6原子%を超え、30原子%未満の場合、外層51の膜厚は100nm以下が好ましく、内層52の原子濃度A1が30原子%以上の場合、外層51の膜厚は300nm以下が好ましい。
 また、膜50の表面における金属70の原子濃度が高い程、金属70が細胞等に悪影響を及ぼす可能性が高くなり、生体親和性は低くなる。したがって、2層構造の膜50において、生体親和性を高める観点からは、内層52の金属70の原子濃度A1が低い場合、外層51の膜厚は比較的小さくてもよく、反対に、内層52の金属70の原子濃度A1が高い場合、外層51の膜厚は比較的大きい方がよい。例えば、内層52の原子濃度A1が6原子%以下である場合、外層51の膜厚は20nm未満であってもよく、内層52の原子濃度A1が6原子%を超える場合、特に、12原子%以上である場合、外層51の膜厚は20nm以上が好ましい。
 以上から、2層構造の膜50において、抗菌性と生体親和性とを両立する観点からは、内層52の金属70の原子濃度A1と、外層51の膜厚とを以下の範囲とすることが好ましい。内層52の金属70の原子濃度A1が6原子%以下の場合、外層51の膜厚は300nm未満が好ましく、内層52の原子濃度A1が6原子%を超え、30原子%未満の場合、外層51の膜厚は20nm以上300nm以下が好ましく、内層52の原子濃度A1が30原子%以上の場合、外層51の膜厚は300nmを超えても良い。さらに高い抗菌性と生体親和性とを両立する観点からは、内層52の金属70の原子濃度A1と、外層51の膜厚とを以下の範囲とすることが好ましい。内層52の金属70の原子濃度A1が6原子%以下の場合、外層51の膜厚は20nm未満が好ましく、内層52の原子濃度A1が6原子%を超え、30原子%未満の場合、外層51の膜厚は20nm以上100nm以下が好ましく、内層52の原子濃度A1が30原子%以上の場合、外層51の膜厚は20nm以上300nm以下が好ましい。
 膜50に含まれるアモルファスカーボン60は、sp混成軌道による結合を形成している炭素原子(sp混成炭素原子)及びsp混成軌道による結合を形成している炭素原子(sp混成炭素原子)を含む。アモルファスカーボン60中のsp混成炭素原子の割合αを下記式(1)のように定義する。割合αは、sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数とsp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の合計に対する、sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の割合である。
 
α(原子%)=(sp混成炭素原子の数)/{(sp混成炭素原子の数)+(sp混成炭素原子の数)}×100・・・・・・・・(1)
 
 第2表面50bにおける、式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合α(「割合α2」とする)は、第1表面50aにおける、式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合α(「割合α1」とする)よりも高いことが好ましい(α2>α1)。割合α2を高くすることで、第2表面50bは、高硬度、高摺動性、高耐久性等の良好な機械特性を得られる。尚、2層構造の膜50において、内層52における式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合α、外層51における式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合αは、それぞれ、上記割合α1、α2に等しい。
 第2表面50bにおける割合α2は、良好な機械特性を得る観点からは、例えば、50原子%以上が好ましい。また、割合α2は、高い血液適合性を得る観点からは、例えば、57原子%~77原子%が好ましい。また、第1表面50aにおける割合α1は、特に限定されないが、例えば、26原子%~65原子%としてよい。
 式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合αは、詳細は後述するが、膜50の成膜条件を調整することにより調整が可能である。また、式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合αは、例えば、X線光電子分光法(XPS)により解析可能である。
 膜50は、アモルファスカーボン(炭素)60及び金属70のみから構成されてもよいし、本実施形態の効果を損なわない範囲において、他の元素を含んでもよい。例えば、膜50は、水素を含んでもよい。水素を含むことにより膜50の応力を緩和できる。
 以上説明した膜50は、第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2が、第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1よりも低いことで(A2<A1)、十分な抗菌性を有すると共に、部材100の用途に合わせて、良好な機械特性、高い血液適合性、高い生体親和性等の性質を有することができる。
 また、実施形態の膜50は、抗菌性と生体親和性とのバランスを取ることにより、抗菌性が高く且つ生体親和性が低い状態から、時間経過と共に、抗菌性が低く且つ生体親和性が高い状態に、特性を変化させることもできる。例えば、第2表面50b上へ析出する金属70の析出量及び析出速度を調整することで、第2表面50bを金属70の析出量が多い抗菌性が高く且つ生体親和性が低い状態から、金属70の析出量の少ない(又は析出しない)抗菌性が低く且つ生体親和性が高い状態に変化させることができる。このような特性を有する膜50を備えた部材100は、例えば、生体内に移植する人工関節、人工臓器等への応用が期待される。人工関節等の移植手術において、細菌感染リスクの高い手術直後は、人工関節(部材100)は、高い抗菌性を有することが好ましい。手術後、時間が経過して細菌感染リスクが低下したときには、人工関節(部材100)は、高い生体親和性を有することが好ましい。
 本実施形態に係る部材100は、例えば、医療器具、医用材料、住宅建材、建材、生物培養関連装置、日用品に用いられてよい。膜50は、部材100の用途によって任意に配置されてよい。膜50が基材40の全ての表面を覆うように形成されていてもよいし、基材40の表面に一部にのみ形成されていてもよい。部材100が医療器具に用いられる場合、部材100の細菌に暴露される可能性がある領域に膜50が設けられてよい。膜50は抗菌効果を有するため細菌の増殖を抑制できる。部材100は単独で用いられてもよいし、複数の部材100を組み合わせて用いてもよい。
 尚、「医療器具」という語は、一般に医療器具と呼ばれ得るものをすべて含み、具体的には、人工関節、人工骨、人工歯、人工歯根、人工心臓、人工心臓弁、人工血管、人工肛門、人工尿管、人工胸膜、人工補綴物、ステント(血管ステント、気管支ステントを含む)、ガイドワイヤー、カテーテル、留置カテーテル、ペースメーカー電極、ペースメーカーリード線、コンタクトレンズ、人工水晶体、電気メス、高周波メス、注射針、血液バッグ、採血管、メス、内視鏡、血液フィルタなどのフィルタ類、血液回路などの流路類、送血チューブなどのチューブ類、鉗子、人工肺、人工心肺装置、透析装置、整形外科器具、人工内耳、人工鼓膜、人工声帯、カニューレ、脳動脈治療用コイル、人工すい臓、鍼灸治療器具、電極、縫合糸、創傷被覆材、創傷保護材、廃液チューブ、整形外科インプラント、ペースメーカー等を含む。また、「生物培養関連装置」とは、一般的に生物培養プロセスに使用されるものをすべて含み、具体的には細胞や細菌培養装置、細胞や細菌観察装置、顕微鏡、細胞や細菌操作に使用する器具等を含む。
[変形例]
 図1に示す膜50は、内層52上に外層51が積層された2層構造であるが、本実施形態の膜50の構成はこれに限定されない。例えば、膜50は、内層52と外層51との間に、少なくとも一層の、金属が分散されたアモルファスカーボンの層を含んでもよい。この場合、膜50は、金属70の原子濃度の異なる3層以上のアモルファスカーボンの層から構成される。また、例えば、図2に示すように、膜50の第1表面50aから第2表面50bに向って、金属70の原子濃度が徐々に低下してもよい。第2表面50bにおける金属70の原子濃度A2が、第1表面50aにおける金属70の原子濃度A1よりも低い(A2<A1)という条件を満たしていれば、図1に示す膜50と同様の効果を奏する。
[部材の製造方法]
 部材100の製造方法について説明する。部材100の製造方法は、基材40上に、アモルファスカーボン60と、アモルファスカーボン60中に分散する金属70とを含む膜50を形成することを含む。膜50を形成する方法は特に限定されないが、例えば、フィルタードカソーディックバキュームアーク法(FCVA法)を含むイオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法などが挙げられる。本実施形態では、FCVA法により、基材40上に炭素イオンと金属イオンを同時又は交互に照射して膜50を形成する。FCVA法は、複雑な形状の基材40を均一にコーティングでき、室温でも基材40との付着力が高い膜50を形成できるという利点を有する。
 図3に示すFCVA成膜装置1は、主に、第1アークプラズマ生成部10aと、第2アークプラズマ生成部10bと、第1フィルタ部20aと、第2フィルタ部20bと、成膜チャンバ部30とから構成される。第1アークプラズマ生成部10a及び第2アークプラズマ生成部10bは、それぞれ、ダクト状の第1フィルタ部20a及び第2フィルタ部20bにより成膜チャンバ部30に接続され、図示省略する真空装置により成膜チャンバ部30の圧力が10-5~10-7[Torr]程度の真空度に設定される。
 第1アークプラズマ生成部10aには、カソードとしての第1ターゲット11aとアノード(ストライカー)(不図示)が設けられている。ストライカーを第1ターゲット11aに接触させて直後に離すことによってアーク放電が生じ、それによりアークプラズマが発生される。アークプラズマにより第1ターゲット11aから生成された中性粒子及び荷電粒子は、成膜チャンバ部30に向けて第1フィルタ部20aを飛行する。
 第1フィルタ部20aには、第1電磁石コイル21aが巻かれた第1ダクト23a及び第1イオンスキャン用コイル25aが設けられている。第1ダクト23aは、第1アークプラズマ生成部10aと成膜チャンバ部30との間で、直交する二方向に2度曲折されており、その外周に第1電磁石コイル21aが巻き付けられている。第1ダクト23aがこのような屈曲構造(ダブルベンド構造)を有することにより、第1ダクト23a内の中性粒子は内壁面に衝突して堆積することにより除去される。第1電磁石コイル21aに電流を流すことにより第1ダクト23a内部の荷電粒子にはローレンツ力が作用し、荷電粒子がダクト断面の中心領域に集約されてダクトの屈曲に沿って飛行し、成膜チャンバ部30に導かれるようになっている。すなわち、この第1電磁石コイル21aと第1ダクト23aが、荷電粒子のみを高効率で通過させる狭帯域の電磁気空間的フィルタを構成する。
 同様に、第2アークプラズマ生成部10bには、カソードとしての第2ターゲット11bとアノード(ストライカー)(不図示)が設けられている。また、第2フィルタ部20bには、第2電磁石コイル21bが巻かれた第2ダクト23b及び第2イオンスキャン用コイル25bが設けられており、第2電磁石コイル21bと第2ダクト23bが、荷電粒子のみを高効率で通過させる狭帯域の電磁気空間的フィルタを構成する。
 第1イオンスキャン用コイル25a、第2イオンスキャン用コイル25bは、それぞれ、上記のようにして第1ダクト23a、第2ダクト23bを通り成膜チャンバ部30に入る荷電粒子のビームをスキャンする。成膜チャンバ部30には、ホルダ31が設けられ、このホルダ31の表面に基材40がセットされる。ホルダ31はモータ35により自転運動する。ホルダ31には電源37によって任意のバイアス電圧を印加可能になっている。ホルダ31に保持された基材40の表面に、第1イオンスキャン用コイル25aによってスキャンされた粒子のビーム及び第2イオンスキャン用コイル25bによってスキャンされた粒子のビームが入射し、基材40上にこれらの粒子が一様に堆積される。
 本実施形態では、第1ターゲット11aとしてグラファイトターゲット、第2ターゲット11bとして金属ターゲットを用いる。金属は前述のように、銀、水銀、白金、銅、カドミウム、金、コバルト、ニッケル、及び鉛、又はこれらを含む合金などが用いられるが、銀を用いることが好ましい。これらのターゲットを用いて基材40上に炭素と金属を同時又は交互成膜する。ホルダ31には、電源37によって負のバイアス電圧を印加する。これにより、基材40に入射する荷電粒子が加速される。加速した荷電粒子は基材40上に堆積し、基材40上に、金属を含有する緻密なアモルファスカーボンの膜50が一様に形成され、部材100が得られる。
 基材40上に堆積する金属の割合(金属の原子濃度)は、例えば第1電磁石コイル21a及び第2電磁石コイル21bの電流(フィルタ電流)を変化させることによって制御できる。したがって、フィルタ電流の値を調整することで、図1に示す、金属70の原子濃度の異なるアモルファスカーボン層が2層以上積層された膜50を形成できる。また、膜50の成膜中にフィルタ電流の値を連続的に変化させることで、図2に示す、膜50の膜厚方向に金属70の原子濃度の勾配を付けることもできる。アモルファスカーボン60中のsp混成炭素原子の割合、即ち、式(1)で定義されるsp混成炭素原子の割合は、例えば、アモルファスカーボン60中の金属濃度、及び電源37によってホルダ31に印加されるバイアス電圧を調整することによって制御できる。
 膜50は、基材40の一部のみに形成してもよい。この場合、基材40の膜50を形成しない領域をマスクで被覆した後に、基材40をホルダ31にセットして膜50の形成を行ってよい。
 尚、本実施形態では、FCVA法を用いて基材40上に膜50を形成(成膜)したが、膜50の成膜方法はこれに限定されない。膜50は、例えば、PVD法(物理気相成長法)又はCVD法(化学気相成長法)により形成できる。PVD法としては、例えば、カーボンターゲットを原料として用いた、イオン化蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法、レーザ蒸着法、アークイオンプレーティング法等が挙げられる。CVD法としては、例えば、炭化水素ガスを原料として用いた、マイクロ波プラズマCVD法、直流プラズマCVD法、高周波プラズマCVD法、有磁場プラズマCVD法等が挙げられる。
 以上、膜を有する部材、及び膜を有する部材の製造方法の実施形態を説明したが、本発明はこれに限定されず、膜そのものであってよい。膜は、上述した膜を有する部材の膜と同様の構成とすることができるが、必ずしも基材を必要としない。
 以下に、実施例及び比較例により、アモルファスカーボン膜を有する部材及びその製造方法について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例及び比較例に限定されない。
1.試料の作製
(1)試料a~l(エル)(2層構造)
 FCVA成膜装置1(図3参照)を用いて、基材40上に、内層52と、外層51とをこの順に積層して、これら2層からなる膜50を形成し、試料a(部材100)を作製した(図1参照)。基材40として板状のステンレス(JIS記号:SUS316L、30mm×30mm×0.03mm)を用いた。SUS316Lは、一般的に用いられる医療用ステンレスである。
 まず、基材40上に、FCVA法により炭素及び銀を交互成膜し、内層52を形成した。FCVA成膜装置1の第1ターゲット11aとして焼結グラファイトターゲットを用い、第2ターゲット11bとして銀ターゲットを用いた。焼結グラファイトターゲットは脱水処理したものを用いた。成膜条件を調整し、堆積する銀と炭素の合計に対する銀の原子濃度(Ag濃度)を1原子%、膜厚を約100nmとした。成膜条件は以下である。第1アークプラズマ生成部10aにおけるアーク電源(カソード側電源)のアーク電流:80A、第2アークプラズマ生成部10bにおけるアーク電源のアーク電流:120A、第1フィルタ部20aにおける第1電磁石コイル21aの電流(第1フィルタ電流):14A、第2フィルタ部20bにおける第2電磁石コイル21bの電流(第2フィルタ電流):5A、第1アークプラズマ生成部10aにおけるアノード側電源の電流(第1アノード電流):6A、第2アークプラズマ生成部10bにおけるアノード側電源の電流(第2アノード電流):6A、基板バイアス:-66V、成膜時間:650秒。尚、基材の加熱は行わず、成膜中の基材の温度は約25~30℃であった。成膜チャンバ部30の到達圧力は2×10-4Pa以下であった。X線光電子分光法(XPS)により、上記式(1)で定義されるアモルファスカーボン60中のsp混成炭素原子の割合α1を求めたところ、65原子%であった。
 続いて、内層52上に、FCVA法により炭素のみを成膜し、外層51を形成した。即ち、銀と炭素の合計に対する銀の原子濃度(Ag濃度)は0(ゼロ)原子%とした。成膜条件を調整し、膜厚を約20nmとした。成膜条件は以下である。第1アークプラズマ生成部10aにおけるアーク電源(カソード側電源)のアーク電流:40A、第1フィルタ部20aにおける第1電磁石コイル21aの電流(第1フィルタ電流):14A、第1アークプラズマ生成部10aにおけるアノード側電源の電流(第1アノード電流):6A、基板バイアス:-66V、成膜時間:380秒。X線光電子分光法(XPS)により、上記式(1)で定義されるアモルファスカーボン60中のsp混成炭素原子の割合α2を求めたところ、78原子%であった。以上説明する方法により、試料aを得た。
 試料aと同様の作製方法により、各試料b~l(エル)(部材100)を作製した。但し、試料b~l(エル)では、内層52の銀の原子濃度(Ag濃度)に関しては第1アークプラズマ生成部10aにおけるアーク電源(カソード側電源)のアーク電流値、第2フィルタ部20bにおける第2電磁石コイル21bの電流値(第2フィルタ電流値)を調整することで、外層51の膜厚に関しては成膜時間を調整することで、表1に記載する値とした。各試料b~l(エル)の内層52において、X線光電子分光法(XPS)により、上記式(1)で定義されるアモルファスカーボン60中のsp混成炭素原子の割合α1を求めた。結果を併せて、表1に示す。また、試料c(内層のAg濃度:12原子%、外層の膜厚:20nm)の断面SEM写真を図4に示す。
(2)試料m~p(単層構造)
 試料aと同様に、基材上に、FCVA法により炭素及び銀を交互成膜して膜を形成し、試料m~pを得た。試料m~pでは、第1アークプラズマ生成部10aにおけるアーク電源(カソード側電源)のアーク電流値、第2フィルタ部20bにおける第2電磁石コイル21bの電流値(第2フィルタ電流値)を調整し、膜の銀の原子濃度(Ag濃度)を表1に記載する値とした。試料m~pの膜は、単層構造であり、膜内に銀が略均一に分散するように成膜した。各試料m~pの膜において、X線光電子分光法(XPS)により、上記式(1)で定義されるアモルファスカーボン中のsp混成炭素原子の割合を求めた。結果を併せて、表1に示す。
(3)リファレンス1~3
 以下に説明する試料の評価に用いるリファレンスとして、リファレンス1~3を用意した。リファレンス1(Ref.1)は、膜が形成されていない基材(板状のステンレス、JIS記号:SUS316L)とした。リファレンス2及び3(Ref.2及び3)は、FCVA法により、基材(板状のステンレス、JIS記号:SUS316L)上にAgを含まないアモルファスカーボンを100nm成膜した試料であり、上記式(1)で定義されるアモルファスカーボン中のsp混成炭素原子の割合をリファレンス2では78原子%とし、リファレンス3では、63原子%とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示す、試料a~pのうち、膜50が2層構造の試料a~l(エル)が実施例に相当し、膜50が単層構造の試料m~pが比較例に相当する。試料a~lでは、外層51のAg濃度が低いため(Ag濃度:0原子%)、sp混成炭素原子の割合α2を制御し易い。試料a~lの外層51では、sp混成炭素原子の割合α2を78%と高い値とした。これにより、試料a~lの膜50は、十分な機械特性を有すると推測される。
(4)試料d-1及びh-1(2層構造)
 試料d-1及びh-1は、外層51の成膜条件を調整し、外層51における上記式(1)で定義される、アモルファスカーボン60中のsp混成炭素原子の割合α2を63原子%とした以外は、試料d及びhと同様の構成の試料である。試料d-1及びh-1は、実施例に相当する。上述のように、Ag濃度の低い外層51では、sp混成炭素原子の割合α2を制御し易い。試料d-1及びh-1では、外層51のsp混成炭素原子の割合α2を血液適合性が高い、57%~77%の範囲とした。
 尚、以上説明した試料を用いて以下に説明する評価を行ったが、一部の評価では試料の基材の大きさ及び/又は材質を変更した試料を用いた。基材が異なってもアモルファスカーボン膜の特性に影響はないため、同組成及び同構成のアモルファスカーボン膜を有する試料には、同じ試料番号を付した。
2.評価
 作製した試料a~p、d-1及びh-1について、以下の評価試験を行った。
(1)抗菌性試験(フィルム密着法)
 細菌として、大腸菌、メチリシン耐性黄色ブドウ球菌(MRSA)、緑膿菌の3種類を用意した。細菌の培養液には、蒸留水で50分の1に希釈した普通ブイヨン培地を用いた。通常、JIS Z 2801:2012に規定されるフィルム密着法を用いた抗菌性試験では、蒸留水で500分の1に希釈した普通ブイヨン培地が用いられる。これは日常製品に対する抗菌性及び抗菌効果の評価を目的とするために、例えば机上の細菌の栄養となる物質が存在する環境を再現したものであり、培地の希釈率が高いため細菌にとっては増殖しにくい状況となる。一方、事前検討により、基材及びリファレンス1に用いたSUS316L上で500分の1に希釈した普通ブイヨン培地を用いてフィルム密着法により各細菌増殖を評価すると細菌が増殖せずに減少することを確認した。細菌数が減少するということは、例えば医療機器で課題となる細菌増殖が再現できていないことを示している。そこでSUS316L上でも細菌数が増殖する普通ブイヨン培地の希釈率を探索し、蒸留水で50分の1に希釈した普通ブイヨン培地であれば各細菌がSUS316L上で増殖することから、同希釈率の普通ブイヨン培地を採用した。また医療向け金属としてSUS316L同様に知られているチタン上でも、蒸留水で50分の1に希釈した普通ブイヨン培地であれば各細菌が増殖することも確認した。50分の1の希釈率は500分の1の希釈率に比較して、細菌が増殖しやすい環境となるため、被評価試料にとってはJIS Z 2801:2012より厳しい環境で評価していることとなり、細菌数の減少はより強い抗菌性を持つことを示している。
 以上を踏まえ、蒸留水で50分の1に希釈した普通ブイヨン培地を用いて、各細菌の水溶液(細菌濃度:1×10CFU/mL)を調製し、調製した各細菌水溶液0.1mLを試料a~pの膜上、及びリファレンス1(ステンレス基材)上に滴下した。更にその上にポリエチレンのフィルム(20mm×20mm)を載せて、膜50上に細菌水溶液を広げた。
 次に、試料a~p及びリファレンス1を温度35±1℃、相対湿度90%以上の環境下に約24時間放置して細菌を培養した。培養後、試料a~p及びリファレンス1をSCDLP液体培地10mLに浸漬及び振盪して培養した細菌を回収し、10mLの回収液を得た。アガロースの培養培地と、希釈した試料a~p及びリファレンス1の回収液を混合して、温度35±1℃の環境下で約48時間、細菌を培養した。培養後、培養地上の細菌の数を数えることで、試料a~p及びリファレンス1それぞれについて、試料上に存在していた単位面積(cm)当たりの細菌数を計算した。
 図5~7のグラフに、試料a~pの単位面積(cm)当たりの細菌数(相対値)を示す。図5は大腸菌、図6はMRSA、図7は緑膿菌を用いた結果である。図5~7のグラフに示す試料a~pの単位面積(cm)当たりの細菌数は、リファレンス1の単位面積(cm)当たりの細菌数を100とした相対値である。図5~7のグラフに示す細菌数(相対値)が100未満であり、低い程、リファレンス1と比較して細菌数が減少することを示している。
 図5~7に示すように、膜50が2層構造である試料a~l(エル)は、膜50が単層構造である試料m~pと比較すると、細菌数の減少が小さい。この原因は、外層51を有さない単層構造の膜と比較して、外層51を有する2層構造の膜50は、内層52に含まれるAgが膜50の表面に析出し難いためだと推測される。しかし、試料a~l(内層52のAg濃度:1原子%以上)は、リファレンス1(ステンレス基板)と比較していずれかの種類の細菌数が減少しており、試料a~lに用いた膜組成の膜50をステンレス基材に成膜することで抗菌性を付与できることを示した。
 また、図5~7に示す結果から、試料a~lは、内層52のAg濃度が高い程、抗菌性が高い傾向があり、また、外層51の膜厚が厚いほど、抗菌性が低下する傾向があることが確認された。例えば、図6に示すMRSAに対する抗菌性試験結果では、外層51の膜厚が同一であれば、内層52のAg濃度が1原子%の試料より、Ag濃度が30原子%の試料の方が高い抗菌性を示した。また、Ag濃度が30原子%の試料d、h及びl(エル)は、外層51の膜厚が厚くなるに従い、抗菌性が低下した。したがって、内層52の原子濃度が高い場合には外層51の膜厚はある程度大きくとも、高い抗菌性を得られるが、内層52の原子濃度が低い場合には外層51の膜厚は小さい方が好ましい。
 以上の結果から、抗菌性を得る観点からは、例えば内層52の金属70の原子濃度A1が30原子%以下の場合、外層51の膜厚は300nm以下が好ましい。一方で、高い抗菌性を得る観点からは、例えば、内層52の金属70の原子濃度A1が6原子%以下の場合、外層51の膜厚は20nm以下が好ましく、内層52の原子濃度A1が6原子%を超え、30原子%未満の場合、外層51の膜厚は100nm以下が好ましく、内層52の原子濃度A1が30原子%以上の場合、外層51の膜厚は300nm以下が好ましいと推測される。
(2)抗菌持続性試験
 以下に説明する方法により、試料d(2層構造、内層52のAg濃度:30原子%、外層51の膜厚:20nm)、試料h(2層構造、内層52のAg濃度:30原子%、外層51の膜厚:100nm)について、抗菌持続性試験を行った。試料d及びhを試料単位cmあたり1mLとなるようにヒト正常臍帯静脈内皮細胞(HUVEC)用培地(EGM(登録商標)-2BulletKit(登録商標))に浸漬し、浸漬開始から3時間後、1日後、6日後、13日後及び20日後に培地交換を行いながら浸漬を継続し、1ヵ月(28日)後に試料を培地から取り出した。取り出した試料をリン酸緩衝生理食塩水(PBS)、純水で洗浄し、乾燥後、上述の抗菌性試験(フィルム密着法)と同様の方法により、抗菌性を評価した。
 図8のグラフに、培地浸漬後(1ヶ月後)の試料d及びhの単位面積(cm)当たりの細菌数(相対値)を示す。比較のため、同様の試料d及びhについて大気中に1ヵ月(28日)保管した際の試料d及びhの抗菌性試験の結果も併せて図8に示す。図8のグラフに示す試料d及びhの単位面積(cm)当たりの細菌数は、図5~7と同様に、リファレンス1の単位面積(cm)当たりの細菌数を100とした相対値である。図8のグラフに示す細菌数(相対値)が100未満であり、低い程、リファレンス1と比較して細菌数が減少することを示しており、ステンレス基材に対して抗菌性を付与できたことを示している。
 図8に示すように、試料d及びhでは、1ヶ月の培地浸漬後の抗菌性は、大気中保管した試料d及びhと比較して低下した。しかし、1ヶ月の培地浸漬後においても、リファレンス1と比較して細菌数は少なく、十分な抗菌性を示すことが確認された。
(3)細胞毒性試験
 試料a~pの膜50及びリファレンス2のアモルファスカーボン膜(シリコンウェハ上)それぞれの上に円筒形部材(樹脂製チューブ)を立てて設置して試験用容器を作製した。作製した試験用容器は、底面が膜50により構成され、側面が円筒形部材からなるウェルを有する。試験用容器のウェルにヒト正常臍帯静脈内皮細胞(HUVEC)用培養液0.5mLと、ヒト臍帯静脈内皮細胞(HUVEC)約50,000個を注入し、37℃、5%COの環境下で1日(約24時間)静置した。静置後、以下に説明する評価1及び2を行った。
(a)評価1(LDH assay)
 細胞から培養液中に放出された乳酸脱水素酵素(LDH)の量を測定し、測定したLDHの量に基づいて非細胞障害度を求めた。LDHは細胞質に存在する酵素で、通常は細胞質に留まっているが、細胞膜が傷害を受けると培養液中に放出される。即ち、培養液中に放出されたLDHの量が多いほど、細胞が障害を受けたことを意味し、LDHの量が少ない程、細胞が障害を受けていないことを意味する。本評価では、測定したLDHの量に基づいて、細胞が障害を受けていない程度(非細胞障害度)を求めた。
 図9のグラフに、試料a~pの非細胞傷害度(相対値)を示す。図9のグラフに示す試料a~pの非細胞傷害度は、リファレンス2の非細胞傷害度を100とした相対値である。リファレンス2(Agを含まないアモルファスカーボン)は、細胞毒性がないことが確認されている。したがって、図9において、試料a~pの非細胞傷害度(相対値)は、100に近い程、細胞障害が少ないことを意味する。
(b)評価2(生細胞・死細胞同時染色)
 試料a~pの膜50及びリファレンス2のアモルファスカーボン膜それぞれに付着していた細胞を蛍光色素(Hoechst 33258、Calcein-AM、EthD-III)により染色し(細胞核:青色、生細胞:緑色、死細胞:赤色)、蛍光顕微鏡を用いて全細胞及び死細胞の数をそれぞれカウントした。また、緑色蛍光から生細胞の状態を観察した。
 図10のグラフに、試料a~pの生細胞数及び死細胞数(相対値)を示す。生細胞数は全細胞数から死細胞数を差し引くことで算出している。図10のグラフに示す試料a~pの生細胞数及び死細胞数の和である全細胞数は、リファレンス2の全細胞数を100とした相対値である。
 図9に示す評価1(LDH assay)の結果から、膜50が2層構造である試料a~l(エル)は、内層52のAg濃度の大小にかかわらず、非細胞傷害度(相対値)は約90%以上であり細胞への悪影響が非常に小さいまたは無いことが示唆された。また、図10に示す評価2(細胞核・生細胞・死細胞同時染色)の結果からも、試料a~lの全細胞数はリファレンス2と大きな差異はなく、死細胞の割合も非常に小さいことから細胞への悪影響が非常に小さいまたは無いことが確認できた。
 一方、膜50が単層構造である(外層51を有さない)試料m~pは、図9に示す評価1(LDH assay)において、膜50中のAg濃度が高い程、非細胞傷害度(相対値)が低下した。また、図10に示す評価2(細胞核・生細胞・死細胞同時染色)において、膜50中のAg濃度が高い程、死細胞の数が増加し、細胞死に伴い膜50に接着している全細胞数が大幅に減少した。Ag濃度が比較的低い試料m(Ag濃度:1原子%)及び試料n(Ag濃度:6原子%)の細胞毒性は低かったが、Ag濃度が比較的高い試料o(Ag濃度:12原子%)及び試料p(Ag濃度:30原子%)の細胞毒性は高かった。
 これらの結果から、膜50のAg濃度が高いと細胞毒性が高くなるが、膜50を2層構造として外層を設けることで、細胞毒性を抑制できることがわかった。また、膜50のAg濃度(内層52のAg濃度)が低い場合、細胞毒性はそれほど高くないため、外層の膜厚は比較的小さくてもよい。例えば、内層52のAg濃度が6原子%以下である場合、外層51の膜厚は20nm未満であってよいと推測される。また、膜50のAg濃度(内層52のAg濃度)が高い場合、細胞毒性を抑制する観点から、外層の膜厚は大きい方が好ましい。例えば、内層52のAg濃度が6原子%を超える場合、特に、12原子%以上である場合、外層51の膜厚は20nm以上が好ましい。
(4)血液適合性試験
 膜50が二層構造である試料d-1及びh-1、膜50が単層構造である試料m及びpを用いて、血液適合性試験を行った。このとき、基材40として板状のステンレス(JIS記号:SUS316L、10mm×10mm×0.3mm)を用いた。具体的には試料にヒト血液を接触させて凝固性(異物反応による血液凝固)及び溶血性(赤血球の崩壊)を評価した。
(a)血液凝固性試験
 各試料d-1、h-1、m、p及びリファレンス3に、ヒト血液(ヘパリン1U/mL)を接触させて37℃で4時間振盪した。振盪後、3種類のタンパク質量(濃度)、具体的には、血液凝固の指標である血中のトロンビン-アンチトロンビン複合体(TAT)、血小板活性の指標であるβ-トロンボグロブリン(β-TG)及び炎症反応の指標であるSC5b-9、それぞれの濃度を測定した。また、血液凝固性試験後の各試料d-1、h-1、m、p及びリファレンス3の表面の電子顕微鏡(SEM)観察も行った。
 図11のグラフに、測定した3種類のタンパク質量(相対値)を示す。図11のグラフに示すタンパク質量は、市販の血液バッグ(テルモ社:テルモ分離バッグ)を用いて同様のタイミング及びヒト血液サンプルで同様の血液適合性試験を行ったときの結果(タンパク質量)を100とした相対値である。図11のグラフに示すタンパク質量(相対値)が低い程、血液適合性が高いことを示しており、タンパク質量(相対値)が、100未満であれば、市販の血液バッグと比較して各項目で血液適合性が高いことを示している。
 図11に示すように、試料d-1、h-1、m、p及びリファレンス3は、いずれも、TATの濃度(相対値)が低く、血液凝固性が低かった。血小板活性の指標であるβ-TG及び炎症反応の指標であるSC5b-9の濃度は、市販の血液バッグと同等であった。
 図12(a)~(e)に、リファレンス3、試料d-1、h-1、m、pの膜表面のSEM写真をそれぞれ示めす。血液の凝固が生じていると大量のフィブリン鎖や赤血球をはじめとする血球系細胞が膜上に観察されるが、いずれの試料の膜表面にも、これらはほとんど観察されなかった。しかし、図12(e)及び(f)に示す試料p(単層構造、Ag濃度:30原子%)においては、棘状の赤血球が観察された。この結果から、試料pにおいては、溶血が生じている可能性があり、以下に説明する溶血性試験を行った。
(b)溶血性試験
 以下に説明する2つの方法により、血液の溶血率を求めた。このとき、基材40として板状のステンレス(JIS記号:SUS316L、20mm×20mm×0.03mm)を用いた。
(b-i)間接接触法
 各試料d-1、h-1、m、p及びリファレンス3をリン酸緩衝生理食塩水(PBS)に浸漬し、37℃で72時間放置して、抽出液を得た。得られた抽出液をヒト血液(クエン酸ナトリウムで非凝固処理済)と所定の体積割合(PBS:ヒト血液=7:1)で混合し、37℃で3時間振盪した。その後、混合溶液の吸光度から溶血率を測定した。
(b-ii)直接接触法
 各試料d-1、h-1、m、p及びリファレンス3をリン酸緩衝生理食塩水(PBS)に浸漬し、更に、ヒト血液(クエン酸ナトリウムで非凝固処理済)と所定の体積割合(PBS:ヒト血液=7:1)で混合し、血液と各試料を直接接触させ、37℃で3時間振盪した。その後、各試料と接触させた混合溶液の吸光度から溶血率を測定した。
 図13のグラフに、(b-i)間接接触法及び(b-ii)直接接触法で求めた、各試料の溶血率を示す。また、併せて、陰性対照材料及び陽性対照材料の溶血率も図13のグラフに示す。「陰性対照材料」としては、高密度ポリエチレンフィルムを用い、「陽性対照材料」としては、1.5%非イオン界面活性剤含有ポリ塩化ビニルペレットを用いた。
 図13に示すように、(b-i)間接接触法及び(b-ii)直接接触法のどちらを用いた結果においても、試料d-1、h-1、m及びリファレンス3の溶血率は、陰性対象材料の溶血率と同程度の低い値であった。一方、膜50が単層構造であり、比較的Ag濃度の高い試料p(Ag濃度:30原子%)は、溶血率が高かった。
 膜50が単層構造である試料p(Ag濃度:30原子%)において溶血が認められたのに対して、同じAg濃度の内層52上に、膜厚20nmの外層51を積層した構造の試料d-1、膜厚100nmの外層51を積層した構造の試料h-1では溶血が認められなかった。これらの結果から、溶血を抑制する観点から、内層52のAg濃度が30原子%以上である場合、外層51の膜厚は20nm以上であることが好ましい。
 本実施形態の膜50を有する部材100は、十分な抗菌性を有すると共に、部材100の用途に合わせて、良好な機械特性、高い血液適合性、高い生体親和性等の性質を有することができる。本実施形態の部材100は、例えば、医療器具、医用材料、生物培養関連装置、住宅建材、日用品に用いることができる。
1   成膜装置
40  基材
50  膜
50a 第1表面
50b 第2表面
51  外層
52  内層
60  アモルファスカーボン
70  金属
100 部材

Claims (26)

  1.  基材と、
     前記基材上に形成され、アモルファスカーボン及び前記アモルファスカーボン中に分散する金属を含み、前記基材に接触する第1表面及び第1表面の反対面である第2表面を有する膜とを備え、
     第2表面における前記金属の原子濃度が、第1表面における前記金属の原子濃度よりも低い部材。
  2.  第1表面における前記金属の原子濃度が、1原子%以上である請求項1に記載の部材。
  3.  第1表面における前記金属の原子濃度が、6原子%以上である請求項2に記載の部材。
  4.  第2表面において、前記金属が存在しない請求項1~3のいずれか一項に記載の部材。
  5.  前記金属が、銀、水銀、白金、銅、カドミウム、金、コバルト、ニッケル、及び鉛からなる群から選択される少なくとも一種である請求項1~4のいずれか一項に記載の部材。
  6.  前記金属が銀である請求項5に記載の部材。
  7.  前記アモルファスカーボンが、sp混成軌道による結合を形成している炭素原子及びsp混成軌道による結合を形成している炭素原子を含み、
     第2表面における、前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数と前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の合計に対する、前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の割合が50原子%以上である、請求項1~6のいずれか一項に記載の部材。
  8.  前記アモルファスカーボンが、sp混成軌道による結合を形成している炭素原子及びsp混成軌道による結合を形成している炭素原子を含み、
     第2表面における、前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数と前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の合計に対する、前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の割合が57原子%~77原子%である、請求項1~6のいずれか一項に記載の部材。
  9.  第2表面における、前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数と前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の合計に対する、前記sp混成軌道による結合を形成している炭素原子の数の割合が、第1表面における該割合よりも高い、請求項7又は8に記載の部材。
  10.  前記膜が、第2表面を含む外層と、第1表面を含む内層とを有する、請求項1及び4~9のいずれか一項に記載の部材。
  11.  前記内層における前記金属の原子濃度が6原子%以下であり、
     前記外層の膜厚が300nm未満である請求項10に記載の部材。
  12.  前記内層における前記金属の原子濃度が6原子%を超え、且つ30原子%未満であり、
     前記外層の膜厚が20nm以上、且つ300nm以下である請求項10に記載の部材。
  13.  前記内層における前記金属の原子濃度が30原子%以上であり、
     前記外層の膜厚が300nmを超える請求項10に記載の部材。
  14.  前記内層における前記金属の原子濃度が6原子%以下であり、
     前記外層の膜厚が20nm未満である請求項10に記載の部材。
  15.  前記内層における前記金属の原子濃度が6原子%を超え、且つ30原子%未満であり、
     前記外層の膜厚が20nm以上、且つ100nm以下である請求項10に記載の部材。
  16.  前記内層における前記金属の原子濃度が30原子%以上であり、
     前記外層の膜厚が20nm以上、且つ300nm以下である請求項10に記載の部材。
  17.  前記内層における前記金属の原子濃度が30原子%以下であり、
     前記外層の膜厚が300nm以下である請求項10に記載の部材。
  18.  前記内層における前記金属の原子濃度が30原子%を超え、
     前記外層の膜厚が300nmを超える請求項10に記載の部材。
  19.  前記内層における前記金属の原子濃度が6原子%以下であり、
     前記外層の膜厚が20nm以下である請求項10に記載の部材。
  20.  前記内層における前記金属の原子濃度が6原子%を超え、且つ30原子%未満であり、
     前記外層の膜厚が100nm以下である請求項10に記載の部材。
  21.  前記内層における前記金属の原子濃度が30原子%以上であり、
     前記外層の膜厚が300nm以下である請求項10に記載の部材。
  22.  前記膜中における前記金属の原子濃度が、第1表面から第2表面に向って徐々に低下する請求項1~9のいずれか一項に記載の部材。
  23.  医療器具、建材、生物培養関連装置又は日用品である請求項1~22のいずれか一項に記載の部材。
  24.  請求項1~23のいずれか一項に記載の部材を製造する製造方法であって、
     前記基材上に炭素イオンと前記金属のイオンを同時又は交互に照射して前記膜を形成することを含む部材の製造方法。
  25.  請求項10~21のいずれか一項に記載の部材を製造する製造方法であって、
     前記基材上に、前記内層を成膜することと、
     前記内層上に、前記外層を成膜することを含む製造方法。
  26.  第1表面と、第1表面の反対面である第2表面とを有する膜であって、
     アモルファスカーボンと、
     前記アモルファスカーボン中に分散する金属とを含み、
     第2表面における前記金属の原子濃度が、第1表面における前記金属の原子濃度よりも低い膜。
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