WO2021153452A1 - 基板保持装置 - Google Patents

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WO2021153452A1
WO2021153452A1 PCT/JP2021/002243 JP2021002243W WO2021153452A1 WO 2021153452 A1 WO2021153452 A1 WO 2021153452A1 JP 2021002243 W JP2021002243 W JP 2021002243W WO 2021153452 A1 WO2021153452 A1 WO 2021153452A1
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mask
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blocks
holding
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PCT/JP2021/002243
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Inventor
米澤　良
Original Assignee
株式会社ブイ・テクノロジー
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68728—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a plurality of separate clamping members, e.g. clamping fingers
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    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by supporting substrates others than wafers, e.g. chips

Definitions

  • the present invention relates to a substrate holding device.
  • Patent Document 1 is a substrate holding device that holds a substantially plate-shaped substrate in a substantially vertical direction (vertical placement), and presses a side surface of the substrate against a reference surface of a vertical frame portion by using a plurality of clamp portions.
  • the holding device is disclosed.
  • the clamp portion includes a first unit having a first tip surface that comes into contact with the substrate when it is in the contact position, a second unit provided so as to be movable in a substantially horizontal direction between the first unit and the frame, and a second unit.
  • the second unit is translated toward the substrate side, the first unit moves toward the reference plane side along the tip surface of the second unit, thereby pressing the substrate against the reference plane.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate holding device capable of smoothly moving the entire substrate toward the reference plane when the substrate is pressed against the reference plane. do.
  • the substrate holding device is, for example, a substrate holding device that holds a substantially plate-shaped substrate in a substantially vertical direction, and is arranged below the substrate in the vertical direction.
  • a first vertical frame portion having a plurality of holding blocks with which end faces abut, and a substantially rod-shaped first vertical frame portion and a second vertical frame portion extending in a substantially vertical direction, and having a reference surface with which the back surface of the substrate abuts.
  • the holding block includes an upper block that abuts on a side surface substantially along the vertical direction and presses the substrate against the reference surface, and the holding block is provided on the lower side of the upper block and the upper block that abuts on the lower end surface. It has a contact block having a lower block, and the upper block is movable with respect to the lower block in the thickness direction of the substrate.
  • a plurality of holding blocks arranged on the lower side in the vertical direction of the substrate and abutting the lower end surfaces are provided on the upper block that abuts on the lower end surface of the substrate and the lower side of the upper block.
  • the upper block is movable with respect to the lower block in the thickness direction of the substrate.
  • the contact block has a restoring means for connecting the upper block and the lower block, and the upper block completely connects the upper block to the lower block when viewed from a vertically upward direction.
  • the upper block can be moved between the overlapping first state and the second state in which the upper block is displaced with respect to the lower block when viewed from the vertically upward direction, and the restoring means moves the upper block to the above.
  • the second state may be restored to the first state.
  • the restoring means is a leaf spring that connects the upper block and the lower block, and the upper block and the lower block have substantially the same shape when viewed from the vertically upward direction.
  • the leaf spring is a surface substantially along the vertical direction of the upper block and the lower block, and is provided along a surface substantially orthogonal to the movement direction of the upper block, and is provided near the upper end of the leaf spring. May be fixed to the upper block, and the vicinity of the lower end of the leaf spring may be fixed to the lower block. As a result, the upper block can be reliably moved with a simple configuration.
  • synthetic oil may be applied between the upper block and the lower block.
  • the coefficient of friction between the upper block and the lower block can be reduced, and the upper block can be moved with a small force.
  • synthetic oil the amount of the lubricant applied to the lubricating surface is not reduced, and the upper block can be slid stably.
  • a sheet made of a self-lubricating resin may be provided between the upper block and the lower block.
  • the coefficient of friction between the upper block and the lower block can be reduced, and the upper block can be moved with a small force.
  • the upper block that abuts on the lower end surface is formed of a crystalline resin
  • the lower block may be formed of a metal.
  • the holding unit includes the holding block, and the holding block has the contact block and a base block provided under the contact block so as to be movable in a substantially horizontal direction.
  • the holding unit has a fixing portion for fixing the base block, and the first surface of the contact block facing the base block and the second surface of the base block facing the contact block are substantially parallel. It may be tilted with respect to the horizontal plane. As a result, by moving the base block horizontally, the contact block can be moved in the vertical direction, and the substrate can be reliably brought into contact with the contact block.
  • the entire substrate when the substrate is pressed against the reference plane, the entire substrate can be smoothly moved toward the reference plane.
  • (C) is a state of the lower end portion (the end portion on the ⁇ y side) of the mask M. It is a figure which shows the case where the holding blocks 21 and 22 of this embodiment are used. It is a figure which shows the outline of the holding block 21A which concerns on the modification. It is a figure which shows the outline of the holding block 21B which concerns on the modification. It is a figure which shows the outline of the holding block 21C which concerns on the modification.
  • the present invention is a substrate holding device for holding a transparent substantially plate-shaped substrate having a flat or curved chamfered portion formed on the peripheral edge in a substantially vertical direction, and is provided inside a substrate inspection machine or the like for inspecting the substrate. ..
  • the mask M is used as the substrate.
  • the mask M is a transparent substantially plate-shaped member made of quartz or the like, and is an exposure mask used for manufacturing, for example, a substrate for a display device of an organic EL or a liquid crystal display device.
  • the mask M is a large substantially rectangular substrate having a side of about 1 m on which one or a plurality of transfer patterns for image devices are formed. Further, the mask M is formed with a chamfered portion on the peripheral edge so that the mask edge is not chipped.
  • the chamfered portion may be a flat chamfered portion (so-called C surface) or a curved chamfered portion (so-called R surface). Further, the C surface may be a normal chamfer having an angle of about 45 degrees or a special chamfer having an angle of about 30 degrees.
  • C1 chamfered portion having an angle of approximately 45 degrees and a side length of 1 mm
  • FIG. 1 is a front view showing an outline of the mask holding device 1 according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a side view showing the outline of the mask holding device 1 as viewed from the x direction.
  • illustrations other than the main configuration will be omitted.
  • the direction substantially along the longitudinal direction of the frame 13 in the horizontal direction is defined as the x direction
  • the vertical direction is defined as the y direction
  • the x direction and the direction orthogonal to the y direction are defined as the z direction.
  • the mask holding device 1 is mounted on the base 30, and mainly has a mask holding unit 10, a holding unit 20, and an imaging unit and an illumination unit (not shown).
  • the image pickup unit and the illumination unit are provided so as to face each other with the mask M in between. While irradiating light from the illumination unit, the image pickup unit captures an image of the pattern formed on the mask M. In this way, the mask holding device 1 functions as an inspection device for inspecting the mask M. Since the imaging unit and the illumination unit are already known, detailed description thereof will be omitted.
  • the mask holding portion 10 mainly includes substantially rod-shaped vertical frame portions 11a and 11b extending in the substantially vertical direction, a clamp portion 12 for gripping the mask M, a substantially frame-shaped frame 13, a resin sheet 14, and the like.
  • the frame 13 is formed in a substantially frame shape so as to surround the outer periphery of the mask M held vertically, and the vertical frame portions 11a and 11b are provided on the frame 13.
  • the vertical frame portions 11a and 11b can be moved in the horizontal direction (x direction) because they correspond to masks of different sizes.
  • Various already known techniques can be used for the form and the moving mechanism in which the vertical frame portions 11a and 11b are movably provided.
  • the vertical frame portions 11a and 11b have a portion that overlaps the peripheral edge of the mask M when viewed from a direction (z direction) substantially orthogonal to the surface of the mask M.
  • the vertical frame portions 11a and 11b hold the mask M so that the surface m1 of the mask M (the surface on which the pattern is formed, see FIG. 3) is substantially parallel to the xy plane.
  • a resin sheet 14 is provided on the surfaces (reference surfaces 11c and 11d, see FIG. 3) of the vertical frame portions 11a and 11b that the masks M come into contact with.
  • the resin sheet 14 is made of, for example, an ultra-high molecular weight polyethylene resin.
  • Clamp portions 12 are provided on the vertical frame portions 11a and 11b.
  • the clamp portion 12 has clamp portions 12a to 12j.
  • the vertical frame portion 11a is provided with clamp portions 12a, 12b, 12c, 12d, 12e
  • the vertical frame portion 11b is provided with clamp portions 12f, 12g, 12h, 12i, 12j.
  • the clamp portion 12a and the clamp portion 12f are opposed to each other
  • the clamp portion 12b and the clamp portion 12g are opposed to each other
  • the clamp portion 12c and the clamp portion 12h are opposed to each other
  • the clamp portion 12d and the clamp portion 12i are opposed to each other
  • the clamp portion 12e and the clamp portion are opposed to each other. 12j faces each other.
  • the tips of the clamp portions 12a to 12j can move in the substantially horizontal direction (x direction) between the contact position where the mask M abuts and the retracted position where the mask M does not abut.
  • the vertical frame portion 11a is provided with five clamp portions 12, and the vertical frame portion 11b is provided with five clamp portions 12, but the positions and numbers of the clamp portions 12 are the same. Not limited to.
  • FIG. 3 is a plan view of the mask holding device 1 as viewed from the y direction showing an outline of the mask holding portion 10. In FIG. 3, some configurations are not shown.
  • the clamp portions 12a to 12j (in FIG. 3, the clamp portions 12b to 12e and 12g to 12j cannot be visually recognized) are in contact positions with the mask M.
  • the vertical frame portions 11a and 11b each have reference surfaces 11c and 11d with which the back surface m2 of the mask M abuts when the clamp portions 12a to 12j are in contact positions.
  • the clamp portions 12a to 12j press the mask M, the back surface m2 is pressed against the reference surfaces 11c and 11d.
  • the resin sheets 14 are provided on the reference surfaces 11c and 11d, they are hereinafter referred to as the reference surfaces 11c and 11d including the resin sheet 14.
  • a pattern is formed on the surface m1 of the mask M, and the pattern is inspected using the imaging unit and the illumination unit.
  • the pattern is formed in a region inside about 10 mm to 20 mm from the peripheral edge of the mask M.
  • the distance x2 at which the mask M and the reference surfaces 11c and 11d abut is smaller than the distance x1 (distance x1 is about 10 mm) from the peripheral edge of the mask M in the portion where the pattern is not formed, and is about 5 to 6 mm.
  • FIG. 4 is a diagram showing an outline of the clamp portion 12a.
  • the alternate long and short dash line indicates the state in which the clamp portion 12a is in the retracted position
  • the solid line indicates the state in which the clamp portion 12a is in the contact position.
  • the clamp portions 12a to 12j have the same configuration. However, the clamp portions 12a to 12e and the clamp portions 12f to 12j are symmetrical.
  • the clamp portion 12a mainly has a clamp 121, a clamp plate 122, a stripper bolt 123, and an elastic member 124.
  • the clamp 121 is provided at the tip of the clamp portion 12a.
  • the clamp plate 122 is provided between the clamp 121 and the frame 13 (not shown in FIG. 4).
  • the clamp plate 122 is movably provided with respect to the frame 13 and is moved in a substantially horizontal direction by a drive unit (not shown). When the clamp plate 122 moves in the substantially horizontal direction and the clamp portion 12a moves to the contact position, the clamp 121 comes into contact with the mask M.
  • the clamp 121 is formed of a resin having excellent heat resistance and mechanical strength, such as polyetheretherketone resin (PEEK).
  • PEEK polyetheretherketone resin
  • the clamp 121 has a main body portion 121a having a substantially trapezoidal shape when viewed from a vertically upward direction (+ y direction) or a vertically downward direction ( ⁇ y direction), and a mounting portion 121b protruding toward the clamp plate 122 side.
  • PEEK polyetheretherketone resin
  • the tip surface 121c of the main body portion 121a is a surface that comes into contact with the mask M and is inclined with respect to a surface P that is substantially orthogonal to the reference surface 11c.
  • the surface of the main body 121a opposite to the tip surface 121c is a sliding surface 121d that is in contact with the clamp plate 122 and is a sliding surface between the clamp 121 and the clamp plate 122.
  • the angle ⁇ 1 formed by the tip surface 121c and the surface P substantially orthogonal to the reference surface 11c is smaller than approximately 45 degrees.
  • the angle ⁇ 1 formed by the tip surface 121c and the surface P is smaller than about 45 degrees, the ridge line e of the mask M is brought into contact with the tip surface 121c so that the tip surface 121c does not come into contact with the surface m1 of the mask M. Foreign matter formed on the surface m1 that impairs the pattern information can be prevented from adhering to the surface m1.
  • the angle ⁇ 1 is approximately 10 degrees.
  • the angle ⁇ 2 formed by the sliding surface 121d and the surface P is larger than the angle ⁇ 1.
  • the angle ⁇ 2 is approximately 45 degrees. The force with which the clamp plate 122 pushes the clamp 121 downward becomes stronger as the angle ⁇ 2 increases.
  • the mounting portion 121b is formed at substantially the center of the main body portion 121a so as to project on the opposite side to the tip surface 121c.
  • the surface (sliding surface 121h) opposite to the tip surface 121c of the mounting portion 121b is in contact with the clamp plate 122 and is a sliding surface between the clamp 121 and the clamp plate 122.
  • the sliding surface 121h is substantially parallel to the sliding surface 121d, and the angle formed by the sliding surface 121h and the surface P is equal to the angle ⁇ 2.
  • the clamp plate 122 is made of a metal such as iron, and has sliding surfaces 122a and 122b that are sliding surfaces of the clamp 121 and the clamp plate 122.
  • the sliding surface 122a is in contact with the sliding surface 121d
  • the sliding surface 122b is in contact with the sliding surface 121h.
  • the sliding surfaces 122a and 122b are substantially parallel to the sliding surfaces 121d and 121h, and the angle formed by the sliding surfaces 122a and 122b and the surface P is equal to the angle ⁇ 2.
  • a screw hole 121k and a hole 121l are formed in the clamp 121.
  • the screw hole 121k and the hole 121l are integrated, and the hole 121l opens to the sliding surface 121h.
  • the clamp plate 122 is formed with a long hole 122e and a counterbore hole 122f.
  • the elongated hole 122e penetrates the clamp plate 122.
  • the elongated hole 122e and the counterbore hole 122f are integrated, and one end opens to the upper surface 122g and the other end opens to the sliding surface 122b.
  • the elongated hole 122e and the counterbore hole 122f are substantially orthogonal to the sliding surface 122b.
  • the stripper bolt 123 is inserted into the hole 121l, the elongated hole 122e, and the counterbore hole 122f. Further, the screw portion of the stripper bolt 123 is screwed into the screw hole 121k.
  • the stripper bolt 123 is inserted into the hole 121l, the elongated hole 122e and the counterbore hole 122f from the upper surface 122g side, and the threaded portion at the tip of the stripper bolt 123 is screwed into the screw hole 121k.
  • the clamp 121 and the clamp plate 122 are connected by the stripper bolt 123 so that the clamp 121 does not separate from the clamp plate 122.
  • the stripper bolt 123 is formed along the longitudinal direction of the elongated hole 122e and the counterbore hole 122f. It is slidable inside the elongated hole 122e and the counterbore hole 122f (see the dotted arrow in FIG. 4).
  • the method of slidably connecting the clamp 121 and the clamp plate 122 is not limited to this.
  • Holes 121i and 121j are formed in the clamp 121 (main body 121a).
  • the hole 121i and the hole 121j are integrated, the hole 121j is thicker than the hole 121i, and the hole 121i is longer than the hole 121j.
  • holes 122c and 122d are formed in the clamp plate 122.
  • the hole 122c and the hole 122d are integrated, the hole 122c is thicker than the hole 122d, and the hole 122d is longer than the hole 122c.
  • the elastic member 124 is inserted into the holes 121i and 121j and the holes 122c and 122d.
  • the elastic member 124 is a wire rod that can be elastically deformed, such as a piano wire.
  • the elastic member 124 is inserted into the hole 121j, the hole 121i, the hole 122c and the hole 122d from the ⁇ y side, and is fixed to the clamp plate 122 by a screw (not shown).
  • the widths of the holes 121i and 122d are substantially the same as the diameter of the elastic member 124, and the widths of the holes 121j and 122c are larger than the diameter of the elastic member 124.
  • the tip surface 121c becomes the ridge line between the side surface s of the mask M and the chamfered portion c. Contact e. Even after the tip surface 121c comes into contact with the ridge line e, the clamp plate 122 is urged by a driving unit (not shown) in a direction of moving in the ⁇ x direction.
  • the lines that pass through the position where the tip surface 121c and the ridge line e abut and are substantially orthogonal to the tip surface 121c are the sliding surfaces 121d and 122a. Crosses with. Therefore, the clamp 121 is translated by the urging force applied to the clamp plate 122 (the clamp 121 does not rotate).
  • the angle ⁇ 2 is approximately 45 degrees, if the force F urged by the driving portion (not shown) of the clamp plate 122 in the ⁇ x direction is a force F, the clamp 121 is downward from the clamp plate 122. Force F is urged.
  • the clamp 121 slides toward the tip surface 121c along the sliding surfaces 122a and 122b (see the black arrow in FIG. 4). Even if the clamp 121 slides with respect to the clamp plate 122 due to friction between the tip surface 121c and the ridge line e, the positional relationship between the tip surface 121c and the ridge line e does not change. Therefore, the mask M is pushed by the clamp 121 in the thickness direction of the mask M, here in the ⁇ z direction, and the back surface m2 of the mask M is pressed against the reference surface 11c by the force F.
  • the elastic member 124 moves the clamp 121 with respect to the clamp plate 122. It is elastically deformed as a result.
  • the clamp 121 When the elastic member 124 is elastically deformed, the clamp 121 is urged by the elastic member 124 with a force in the direction away from the reference surface 11c.
  • the clamp plate 122 When the clamp plate 122 is moved from the contact position to the standby position by a drive unit (not shown) (moves in the + x direction in FIG. 3), the tip surface 121c is separated from the ridge line e, and the elastic member 124 causes the clamp 121 to move in the + z direction. Pushed up.
  • the elastic member 124 is provided on the ⁇ y side of the clamp 121 and the clamp plate 122, and the clamp 121 receives a well-balanced force from both sides in the y direction, so that the clamp 121 moves in parallel.
  • a holding unit 20 is provided near the lower end of the mask holding portion 10.
  • the holding unit 20 is mounted on the base 30, and has a plurality of holding blocks 21 and 22 that abut on the lower end surface arranged on the lower side in the vertical direction of the mask M, a fixing portion 26, and a moving mechanism 28.
  • a plurality of holding blocks 21 and 22 are provided in the horizontal direction, here, along the x direction, which is the extending direction of the long side of the mask M.
  • the holding unit 20 has two holding blocks 21 and 22, respectively, but the number of holding blocks 21 and 22 held by the holding unit 20 is not limited to this, and a plurality of holding blocks 21 and 22 may be combined. Just do it.
  • the holding unit 20 may have one holding block 21 and 22 each, or the holding unit 20 may have three holding blocks 21 and 22 each.
  • the widths of the holding blocks 21 and 22 in the horizontal direction are different, and the other configurations are the same.
  • the holding blocks 21 and 22 mainly include contact blocks 211 and 221 that abut on the lower end surface of the mask M, and base blocks 212 and 222 that are provided below the contact block so as to be movable in a substantially horizontal direction.
  • the holding blocks 21 and 22 have a moving mechanism 28 that moves the base blocks 212 and 222 in the substantially horizontal direction (here, the x direction).
  • the moving mechanism 28 has a shaft 23 penetrating a hole provided in the base blocks 212 and 222, and an elastic member 24.
  • the shaft 23 extends in the x direction, and when the shaft 23 is moved in the x direction via a drive unit (not shown), the base blocks 212 and 222 move in the horizontal direction.
  • the elastic member 24 urges the base blocks 212 and 222 with a force in the + x direction.
  • the holding blocks 21 and 22 have a fixing portion 26.
  • the fixing portion 26 fixes the base block 212 and 222 so that the base block 212 and 222 do not move after the base block 212 and 222 are moved by the moving mechanism 28.
  • FIG. 5 is a perspective view showing an outline of the holding blocks 21 and 22.
  • the contact blocks 211a and 221 each have an upper block 211a and 221a that come into contact with the lower end surface of the mask M, and lower blocks 211b and 221b provided below the upper blocks 211a and 221a, respectively.
  • the upper blocks 211a and 221a are movable with respect to the lower blocks 211b and 221b in the thickness direction of the mask M (here, the ⁇ z direction). That is, in the upper blocks 211a and 221a, the upper blocks 211a and 221a completely overlap the lower blocks 211b and 221b when viewed from the vertically upward direction, and the upper blocks 211a and 221a are viewed from the vertically upward direction. It is possible to move between the lower blocks 211b and the state of being displaced with respect to 221b.
  • the upper blocks 211a and 221a are made of crystalline resin.
  • the crystalline resin includes a crystalline resin such as polyetheretherketone (PEEK), a polyamide resin containing monomer cast nylon, and a turkey containing ethylene tetrafluoride (PTFE) as a main material.
  • PEEK polyetheretherketone
  • PTFE ethylene tetrafluoride
  • the lower blocks 211b and 221b are made of a metal such as iron.
  • the shapes of the upper blocks 211a, 221a and the lower blocks 211b, 221b are substantially the same.
  • the contact blocks 211 and 221 include a leaf spring 25.
  • the leaf spring 25 connects the upper block 211a and the lower block 211b, and the upper block 221a and the lower block 221b.
  • This is a restoration means that restores the upper blocks 211a and 221a to a state in which the upper blocks 211a and 221a completely overlap the lower blocks 211b and 221b when viewed from the vertically upward direction from the displaced state.
  • the leaf spring 25 is provided along the planes 211c and 211d substantially along the vertical direction of the upper block 211a and the lower block 211b and substantially orthogonal to the moving direction (z direction) of the mask M, and is provided along the upper block 211a. And the lower block 211b are connected. Further, the leaf spring 25 is provided along the planes 221c and 221d substantially along the vertical direction of the upper block 221a and the lower block 221b and substantially orthogonal to the moving direction (z direction) of the mask M, and is provided on the upper side. The block 221a and the lower block 221b are connected.
  • the leaf spring 25 In the leaf spring 25, the vicinity of the upper end is fixed to the upper blocks 211a and 221a, and the vicinity of the lower end is fixed to the lower blocks 211b and 221b. That is, in the state where the upper blocks 211a and 221a are moved in the ⁇ z direction (the upper blocks 211a and 221a are displaced with respect to the lower blocks 211b and 221b), the leaf spring 25 moves the upper blocks 211a and 221a. A force in the direction of returning to the previous state (a state in which the upper blocks 211a and 221a completely overlap the lower blocks 211b and 221b), that is, a force in the + z direction is urged on the upper blocks 211a and 221a.
  • a stainless steel plate having a thickness of about 0.1 mm is used as the leaf spring 25.
  • ferritic stainless steel which tends to have springiness, is used.
  • the form (shape and material) of the leaf spring 25 is not limited to this.
  • Synthetic oil is applied between the upper block 211a and the lower block 211b, and between the upper block 221a and the lower block 221b.
  • the synthetic oil refers to an oil whose base oil does not contain mineral oil, and includes, for example, an engine oil using a synthetic oil as a base oil, and a lithium soap-based grease obtained by adding lithium soap as a thickener to the synthetic oil. ..
  • the upper blocks 211a and 221a are movable with respect to the lower blocks 211b and 221b, respectively. Since synthetic oil is applied between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, the coefficient of friction between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b is small. The upper blocks 211a and 221a can be moved with a small force. Further, by using a synthetic oil having a low vapor pressure as the lubricant, the amount of the lubricant applied to the lubricating surface is not reduced, and the upper blocks 211a and 221a can be slid stably.
  • the sliding surface facing the lower blocks 211b and 221b of the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b It is desirable that the upper sliding surface facing the upper blocks 211a and 221a of the above has high surface accuracy, and here, the difference between the highest point and the lowest point is 3 ⁇ m or less.
  • a low-viscosity synthetic oil so that the oil film breaks when a load of 20 kgf is applied to the upper blocks 211a and 221a, and the oil film returns when the load is removed. Further, if the viscosity of the synthetic oil is too low, the oil film becomes too thin, so that the unevenness of the surfaces of the upper blocks 211a, 221a and the lower blocks 211b, 221b cannot be covered, and the effect of reducing the friction coefficient is obtained. Not enough. Therefore, for example, when using engine oil as synthetic oil is desirably kinematic viscosity at a 100 ° C. is about 10 m 2 / s for (9.3m 2 /s ⁇ 12.5m 2 / s) .
  • the base blocks 212 and 222 are provided with movable portions 21b and 22b that move along the slide rails 21a and 22a provided on the base 30. Further, the base blocks 212 and 222 are provided with holes 212a and 222a, respectively, and the shaft 23 is inserted into the holes 212a and 222a, respectively. The base blocks 212 and 222 move in the x direction along the slide rails 21a and 22a as the shaft 23 moves.
  • the holes 212a and 222a are provided with counterbore holes 212b and 222b, and the elastic member 24 is inserted into the counterbore holes 212b and 222b.
  • One end of the elastic member 24 is provided on the bottom surface of the counterbore holes 212b and 222b, and the other end of the elastic member 24 is provided on the shaft 23. Therefore, the elastic member 24 urges the base blocks 212 and 222 with a force in the direction of moving in the + x direction.
  • the movable portions 21b and 22b are provided with fixed portions 26, respectively.
  • the positions of the base blocks 212 and 222 in the x direction are fixed.
  • the surfaces 211e and 221e of the contact blocks 211 and 221 facing the base blocks 212 and 222 and the surfaces 212c and 222c of the base blocks 212 and 222 facing the contact blocks 211 and 221 are substantially parallel and tilted with respect to the horizontal plane. There is.
  • the surfaces 212c and 222c are provided with slide rails 21c and 22c, and the surfaces 211e and 222e are provided with movable portions 21d and 22d that move along the slide rails 21c and 22c. Therefore, when the base blocks 212 and 222 move in the x direction, the movable portions 21d and 22d move along the slide rails 21c and 22c, so that the contact blocks 211 and 221 move along the surfaces 212c and 222c. As a result, the contact blocks 211 and 221 move in the vertical direction (y direction). Further, since the holding blocks 21 and 22 are independent of each other, the position in the height direction (y direction) can be changed for each holding block 21 and 22.
  • the holding blocks 21 and 22 are moved downward (-y direction) by the moving mechanism 28 and a driving unit (not shown).
  • the mask M is gripped by a loader (not shown), and the mask M is inserted into the mask holding device 1.
  • the mask M is arranged on the front side (+ z side) of the frame 13 (see FIG. 1).
  • the holding blocks 21 and 22 are moved upward (in the + y direction) by the moving mechanism 28 and a driving unit (not shown), and the holding blocks 21 and 22 are brought into contact with the lower end surface of the mask M. Since the upper blocks 211a and 221a are made of resin, the mask M is not cracked or the like.
  • the mask M can be reliably brought into contact with the contact blocks 211 and 221 regardless of the variation in the position of the lower end surface of the mask M.
  • the clamp portion 12 is moved from the standby position to the contact position.
  • the clamp portion 12 grips the mask M and moves the mask M in the thickness direction of the mask M (here, the ⁇ z direction).
  • the back surface m2 of the mask M is pressed against the reference surface 11c (see FIG. 3).
  • the upper blocks 211a and 221a with which the mask M is in contact move in parallel with the mask M in the ⁇ z direction. This makes it possible to prevent the mask M from being deformed. Further, since synthetic oil is applied between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, the upper blocks 211a and 221a can easily move together with the mask M.
  • the mask M is inspected using an imaging unit and an illumination unit (not shown).
  • the mask M is grasped by a loader (not shown), and the mask M is carried out of the mask holding device 1.
  • the loader not shown
  • the contact between the holding blocks 21 and 22 and the lower end surface of the mask M is released, the upper blocks 211a and 221a are moved in the + z direction by the urging force of the leaf spring 25. Move to.
  • the entire mask M when the mask M is pressed against the reference surface, the entire mask M can be smoothly moved toward the reference surfaces 11c and 11d. As a result, it is possible to prevent the mask M from being deformed and causing defects during inspection.
  • FIG. 6A and 6B are views for explaining the movement of the mask M
  • FIG. 6A is a diagram showing the state of the upper end portion (the end portion on the + y side) of the mask M
  • FIG. 6B is a diagram showing the state of the lower end portion of the mask M. It is the state of (the end portion on the ⁇ y side), and is a diagram showing the case where the conventional holding blocks 21'and 22'are used
  • (C) is the lower end portion (end portion on the ⁇ y side) of the mask M. It is a figure which shows the case where the holding blocks 21 and 22 of this embodiment are used.
  • the mask M is generally formed by depositing a chrome film on a quartz glass substrate, but the mask has a substantially bowl shape in which the film surface (surface m1) is concave due to the tension of the film. M is often deformed. Then, the left and right ends of the mask M are pressed against the vertical frame portions 11a and 11b, so that the left and right ends of the mask M are straightened. Therefore, in FIG. 6, a state in which the mask M is curved so that the surface m1 is concave when viewed from the vertically upward direction will be described as an example.
  • the clamp portions 12 press both ends of the mask M, so that the left and right ends of the mask M are vertically framed.
  • the degree of curvature of the mask M does not change when pressed against the portions 11a and 11b. This is the same when the conventional holding blocks 21'and 22' are used and in the present embodiment.
  • FIG. 6B which is a conventional example
  • the holding blocks 21'and 22'that cannot be moved in the z direction are used, the lower end portion of the mask M comes into contact with the holding blocks 21'and 22'. Therefore, the mask M cannot move in the z direction for the portions held by the holding blocks 21'and 22'.
  • the left and right ends of the mask M are pressed against the vertical frame portions 11a and 11b by the clamp portions 12, only both end portions of the mask M move in the ⁇ z direction at the lower end portions of the mask M, and the mask M is deformed. Will end up.
  • the degree of curvature of the mask M does not change with respect to the upper end portion of the mask M, when the conventional holding blocks 21'and 22'are used, the left and right ends of the mask M are pressed by the vertical frame portions 11a and 11b.
  • the curvature of the upper end of the mask M is not corrected, the lower end of the mask M is deformed, and the direction and degree of curvature change between the upper end and the lower end of the mask M.
  • the interval (scale) of the patterns formed on the mask M changes depending on the position of the mask M.
  • the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b since synthetic oil is applied between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b The coefficient of friction between them is small, and the upper blocks 211a and 221a, that is, the mask M can be moved in the z direction with a small force.
  • synthetic oil has a low vapor pressure, the amount of lubricant applied to the lubricating surface does not decrease, and stable and good lubrication can be obtained for a long period of time. Further, since the synthetic oil has a low vapor pressure and does not evaporate, it is possible to prevent the evaporated oil from entering between the mask M and the pellicle attached to the mask M and causing a problem during processing.
  • the contact blocks 211 and 221 include the leaf spring 25, and the leaf spring 25 returns the upper blocks 211a and 221a from the state of being moved in the ⁇ z direction to the original positions, but the upper blocks 211a and 221a are returned.
  • the method of returning the original position from the state in which the is moved in the ⁇ z direction is not limited to this.
  • the restoration means for connecting the upper block 211a and the lower block 211b and the upper block 221a and the lower block 221b and returning the upper block 211a and 221a from the state of being moved in the ⁇ z direction to the original position is other than the leaf spring.
  • Various elastic members can be used.
  • the elastic member for example, a coil spring or a disc spring may be used, or an elastic body such as rubber may be used.
  • the restoration means a cylinder mechanism using a fluid such as air or oil, a mechanism using an actuator, or the like may be used.
  • a leaf spring as the restoring means, the upper block 211a can be reliably moved with a simple configuration.
  • a lubricant synthetic oil in this case
  • a lubricant is applied between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, but the upper blocks 211a and 221a and the lower block are coated.
  • the method of reducing the coefficient of friction between 211b and 221b is not limited to this.
  • FIG. 7 is a diagram showing an outline of the holding block 21A according to the modified example. Since the configuration of the holding block 22A is the same as the configuration of the holding block 21A, the description thereof will be omitted.
  • the holding block 21A has an upper block 211a, a lower block 211b, and a resin sheet 21e.
  • the resin sheet 21e is a sheet made of a self-lubricating resin.
  • a sheet made of ultra-high molecular weight polyethylene (UPE) is used as the sheet made of the self-lubricating resin, but the sheet made of the self-lubricating resin is limited to this. I can't.
  • a sheet obtained by coating the surface of a thin film member such as paper or a resin sheet with silicone, which is a self-lubricating resin is also included in the sheet formed of the self-lubricating resin.
  • the resin sheet 21e is a thin film member having a thickness of about 25 ⁇ m to about 100 ⁇ m, and the deformation of the resin sheet 21e due to the load of the mask M can be ignored.
  • the friction coefficient between the upper block 211a and the lower block 211b can be reduced, and the upper block 211a can be moved with a small force.
  • FIG. 8 is a diagram showing an outline of the holding block 21B according to the modified example. Since the configuration of the holding block 22B is the same as the configuration of the holding block 21B, the description thereof will be omitted.
  • the holding block 21B has an upper block 211a, a lower block 211b, and resin sheets 21e and 21f.
  • the resin sheet 21f is the same as the resin sheet 21e, and the coefficient of friction between the resin sheet 21e and the resin sheet 21f is small.
  • the upper block 211a can be moved with a small force.
  • the upper blocks 211a and 221a are formed of crystalline resin, but the form of the upper block is not limited to this.
  • FIG. 9 is a diagram showing an outline of the holding block 21C according to the modified example. Since the configuration of the holding block 22B is the same as the configuration of the holding block 21B, the description thereof will be omitted.
  • the holding block 21C has an upper block 211f and a lower block 211b.
  • the upper block 211f has a resin block 211g and a metal block 211h.
  • the resin block 211g is made of a crystalline resin in order to prevent damage due to stress concentration when the mask M comes into contact with the mask M.
  • the metal block 211h is made of metal, for example iron.
  • the resin block 211g and the metal block 211h are fixed by screws 211j.
  • the surface of the metal block 211h facing the lower block 211b and the surface of the lower block 211b facing the metal block 211h are scraped surfaces that are scraped to form minute dents on the flat surface.
  • an air slide using a hydrostatic air bearing is used.
  • a rolling element (ball, roller, etc.) may be provided between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, or between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b.
  • the magnets may be provided so that the same poles face each other.
  • the upper blocks 211a and 221a are formed of polyamide resin or turkey, and synthetic oil is applied between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, but the synthetic oil is applied. Is not required. In this case, it is desirable to use an ultra-high molecular weight polyethylene (UPE) resin having a small friction coefficient (about 0.1) among the crystalline resins. However, when synthetic oil is applied between the upper blocks 211a and 221a and the lower blocks 211b and 221b, it is desirable to use a polyamide resin or turkey that hardly deforms even when a load of about 20 kg is applied.
  • UPE ultra-high molecular weight polyethylene
  • the substantially cubic shape is not limited to the case of a strictly cubic shape.
  • the "neighborhood” is a concept indicating that, for example, when it is in the vicinity of A, it is near A and may or may not include A.
  • Mask holding device 10 Mask holding parts 11a, 11b: Vertical frame parts 11c, 11d: Reference surfaces 12, 12a to 12j: Clamp parts 13: Frame 14: Resin sheet 20: Holding units 21, 21', 21A, 21B , 22, 22', 22A, 22B: Holding blocks 21a, 21c, 22a, 22c: Slide rails 21b, 21d, 22b, 22d: Movable parts 21e, 21f: Resin sheet 23: Shaft 24: Elastic member 25: Leaf spring 26 : Fixed portion 28: Moving mechanism 30: Base 121: Clamp 121a: Main body portion 121b: Mounting portion 121c: Tip surface 121d, 121h: Sliding surface 121i, 121j, 121l: Hole 121k: Screw hole 122: Clamp plate 122a, 122b : Sliding surface 122c, 122d: Hole 122e: Long hole 122f: Counterbore hole 122g: Top surface 123: Stripper bolt 124:

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Abstract

基板を基準面に押圧するときに、基板全体を基準面に向けて滑らかに移動させることができる。　略板状の基板を略鉛直方向に保持する基板保持装置において、基板の鉛直方向下側に配置された下端面が当接する複数の保持ブロックは、基板の下端面に当接する上側ブロックと、上側ブロックの下側に設けられた下側ブロックと、を有する。上側ブロックは、基板の厚さ方向に、下側ブロックに対して移動可能である。

Description

基板保持装置
　本発明は、基板保持装置に関する。
　特許文献１には、略板状の基板を略鉛直方向（縦置き）に保持する基板保持装置であって、複数のクランプ部を用いて縦枠部の基準面に基板の側面を押圧する基板保持装置が開示されている。クランプ部は、当接位置にあるときに基板と当接する第１先端面を有する第１ユニットと、第１ユニットとフレームとの間に略水平方向に移動可能に設けられた第２ユニットと、を有し、第２ユニットを基板側へ平行移動させると、第１ユニットが第２ユニットの先端面に沿って基準面側に移動することで、基準面に基板を押圧する。
特開２０１９－１２９２６７号公報
　特許文献１に記載の発明では、縦置きされた基板の側面を基準面に向けて移動させるときに、縦置きされた基板の下端面が保持ブロックに引っかかり移動しにくいことが原因で、基板が湾曲するおそれがある。
　本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、基板を基準面に押圧するときに、基板全体を基準面に向けて滑らかに移動させることができる基板保持装置を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明に係る基板保持装置は、例えば、略板状の基板を略鉛直方向に保持する基板保持装置であって、前記基板の鉛直方向下側に配置された下端面が当接する複数の保持ブロックと、略鉛直方向に延設された略棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部であって、前記基板の裏面が当接する基準面を有する第１縦枠部及び第２縦枠部と、前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部に設けられた複数のクランプ部であって、略水平方向に移動可能に設けられており、前記基板の鉛直方向に略沿った側面に当接して前記基板を前記基準面に押圧するクランプ部と、を備え、前記保持ブロックは、前記下端面に当接する上側ブロックと、前記上側ブロックの下側に設けられた下側ブロックと、を有するコンタクトブロックを有し、前記上側ブロックは、前記基板の厚さ方向に、前記下側ブロックに対して移動可能であることを特徴とする。
　本発明に係る基板保持装置によれば、基板の鉛直方向下側に配置された下端面が当接する複数の保持ブロックは、基板の下端面に当接する上側ブロックと、上側ブロックの下側に設けられた下側ブロックと、を有し、上側ブロックは、基板の厚さ方向に、下側ブロックに対して移動可能である。これにより、基板を基準面に押圧するときに、基板全体を基準面に向けて滑らかに移動させることができる。
　ここで、前記コンタクトブロックは、前記上側ブロックと前記下側ブロックとを連結する復元手段を有し、前記上側ブロックは、鉛直上方向から見たときに前記上側ブロックが前記下側ブロックに完全に重なる第１状態と、鉛直上方向から見たときに前記上側ブロックが前記下側ブロックに対してずれている第２状態との間で移動可能であり、前記復元手段は、前記上側ブロックを前記第２状態から前記第１状態へと復元してもよい。これにより、保持ブロックと基板の下端面との当接が解除されたときに、復元手段の付勢力により、上側ブロックを元の位置に戻すことができ、次サンプルの受け入れ準備が自動的に可能になる。
　ここで、前記復元手段は、前記上側ブロックと前記下側ブロックとを連結する板ばねであり、前記上側ブロック及び前記下側ブロックは、鉛直上方向から見たときの形状が略同一であり、前記板ばねは、前記上側ブロック及び前記下側ブロックの鉛直方向に略沿った面であって、前記上側ブロックの移動方向に略直交する面に沿って設けられており、前記板ばねの上端近傍が前記上側ブロックに固定されており、前記板ばねの下端近傍が前記下側ブロックに固定されていてもよい。これにより、簡単な構成で、確実に上側ブロックを移動させることができる。
　ここで、前記上側ブロックと前記下側ブロックとの間には、合成油が塗布されていてもよい。これにより、上側ブロックと下側ブロックとの間の摩擦係数を小さくし、小さな力で上側ブロックを移動させることができる。また、合成油を用いることで、潤滑面に塗布された潤滑剤の量が減らず、安定して上側ブロックを摺動させることができる。
　ここで、前記上側ブロックと前記下側ブロックとの間には、自己潤滑性を有する樹脂で形成されたシートが設けられていてもよい。これにより、上側ブロックと下側ブロックとの間の摩擦係数を小さくし、小さな力で上側ブロックを移動させることができる。
　ここで、前記上側ブロックは、少なくとも前記下端面に当接する部分が結晶性の樹脂で形成されており、前記下側ブロックは、金属で形成されていてもよい。これにより、基板としてガラス製のマスクを用いる場合に、マスクが上側ブロックに当接しても、応力集中によるマスクの破損を防止することができる。
　ここで、前記保持ブロックを含む保持ユニットを有し、前記保持ブロックは、前記コンタクトブロックと、前記コンタクトブロックの下側に略水平方向に移動可能に設けられたベースブロックと、を有し、前記保持ユニットは、前記ベースブロックを固定する固定部を有し、前記コンタクトブロックの前記ベースブロックと対向する第１面及び前記ベースブロックの前記コンタクトブロックと対向する第２面は、略平行であり、水平面に対して傾いていてもよい。これにより、ベースブロックを水平に移動させることでコンタクトブロックを上下方向に移動させ、コンタクトブロックに基板を確実に当接させることができる。
　本発明によれば、基板を基準面に押圧するときに、基板全体を基準面に向けて滑らかに移動させることができる。
第１の実施の形態に係るマスク保持装置１の概略を示す正面図である。 マスク保持装置１の概略を示す側面図である。 マスク保持装置１におけるマスク保持部１０の概略を示す平面図である。 クランプ部１２ａの概略を示す図である。 保持ブロック２１、２２の概略を示す斜視図である。 マスクＭの移動の様子を説明する図であり、（Ａ）はマスクＭの上端部（＋ｙ側の端部）の様子を示す図であり、（Ｂ）はマスクＭの下端部（－ｙ側の端部）の様子であって、従来の保持ブロック２１’、２２’を用いた場合を示す図であり、（Ｃ）はマスクＭの下端部（－ｙ側の端部）の様子であって、本実施の形態の保持ブロック２１、２２を用いた場合を示す図である。 変形例にかかる保持ブロック２１Ａの概略を示す図である。 変形例にかかる保持ブロック２１Ｂの概略を示す図である。 変形例にかかる保持ブロック２１Ｃの概略を示す図である。
　以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明は、周縁に平面又は曲面の面取部が形成された透明な略板状の基板を略鉛直方向に保持する基板保持装置であり、基板を検査する基板検査機等の内部に設けられる。
　本発明では、基板としてマスクＭを用いる。マスクＭは、石英等により形成された透明な略板状の部材であり、例えば有機ＥＬや液晶表示装置の表示装置用の基板を製造するために用いられる露光用マスクである。マスクＭは、一辺が１ｍ程度の大型な略矩形形状の基板上に、１個または複数個のイメージデバイス用転写パターンが形成されたものである。また、マスクＭには、マスクエッジが欠けないようにするため、周縁に面取部が形成されている。
　面取部は、平面の面取部（いわゆるＣ面）であってもよいし、曲面の面取部（いわゆるＲ面）であってもよい。また、Ｃ面は、角度が略４５度の通常面取りであってもよいし、角度が略３０度の特別面取りであってもよい。以下、面取部として、角度が略４５度、辺の長さが１ｍｍの面取り（Ｃ１）を有する場合を例に説明する。
　図１は、第１の実施の形態に係るマスク保持装置１の概略を示す正面図である。図２は、マスク保持装置１の概略を示すｘ方向から見た側面図である。図２では、説明のため、主要構成以外の図示を省略する。
　以下、水平方向のうちのフレーム１３の長手方向に略沿った方向をｘ方向と定義し、鉛直方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向と直交する方向をｚ方向と定義する。
　マスク保持装置１は、ベース３０に載置されており、主として、マスク保持部１０と、保持ユニット２０と、図示しない撮像部及び照明部と、を有する。
　撮像部及び照明部は、マスクＭを挟んで対向するように設けられている。照明部から光を照射しながら、撮像部でマスクＭに形成されたパターンの画像を撮像する。このようにして、マスク保持装置１は、マスクＭの検査を行う検査装置として機能する。撮像部、照明部は既に公知であるため、詳細な説明は省略する。
　マスク保持部１０は、主として、略鉛直方向に延設された略棒状の縦枠部１１ａ、１１ｂと、マスクＭを把持するクランプ部１２と、略枠状のフレーム１３と、樹脂シート１４と、を有する。フレーム１３は、鉛直に保持されるマスクＭの外周を囲むよう、略枠状に形成されており、縦枠部１１ａ、１１ｂはフレーム１３に設けられている。
　縦枠部１１ａ、１１ｂは、異なる大きさのマスクに対応するため、水平方向（ｘ方向）に移動可能である。縦枠部１１ａ、１１ｂを移動可能に設ける形態及び移動機構については、既に公知の様々な技術を用いることができる。
　縦枠部１１ａ、１１ｂは、マスクＭの表面と略直交する方向（ｚ方向）からみて、マスクＭの周縁と重なる部分を有する。縦枠部１１ａ、１１ｂは、マスクＭの表面ｍ１（パターンが形成される面、図３参照）がｘｙ平面と略平行となるようにマスクＭを保持する。
　縦枠部１１ａ、１１ｂのマスクＭが当接する面（基準面１１ｃ、１１ｄ、図３参照）には、樹脂シート１４が設けられている。樹脂シート１４は、例えば、超高分子量ポリエチレン樹脂で形成されている。
　縦枠部１１ａ、１１ｂには、クランプ部１２が設けられる。クランプ部１２は、クランプ部１２ａ～１２ｊを有する。縦枠部１１ａには、クランプ部１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ、１２ｅが設けられ、縦枠部１１ｂには、クランプ部１２ｆ、１２ｇ、１２ｈ、１２ｉ、１２ｊが設けられる。クランプ部１２ａとクランプ部１２ｆは対向し、クランプ部１２ｂとクランプ部１２ｇは対向し、クランプ部１２ｃとクランプ部１２ｈは対向し、クランプ部１２ｄとクランプ部１２ｉは対向し、クランプ部１２ｅとクランプ部１２ｊは対向する。
　クランプ部１２ａ～１２ｊは、マスクＭと当接する当接位置とマスクＭと当接しない退避位置との間で、先端が略水平方向（ｘ方向）に移動可能である。
　なお、本実施の形態では、縦枠部１１ａに５個のクランプ部１２が設けられ、縦枠部１１ｂに５個のクランプ部１２が設けられているが、クランプ部１２の位置及び数はこれに限られない。
　図３は、マスク保持装置１におけるマスク保持部１０の概略を示すｙ方向から見た平面図である。図３では、一部の構成について図示を省略している。
　図３では、クランプ部１２ａ～１２ｊ（図３ではクランプ部１２ｂ～１２ｅ、１２ｇ～１２ｊは視認できず）は、マスクＭと当接する当接位置にある。縦枠部１１ａ、１１ｂは、それぞれ、クランプ部１２ａ～１２ｊが当接位置にあるときに、マスクＭの裏面ｍ２が当接する基準面１１ｃ、１１ｄを有する。クランプ部１２ａ～１２ｊがマスクＭを押圧すると、裏面ｍ２が基準面１１ｃ、１１ｄに押圧される。なお、基準面１１ｃ、１１ｄには樹脂シート１４が設けられているが、以下、樹脂シート１４を含めて基準面１１ｃ、１１ｄという。
　マスクＭの表面ｍ１にはパターンが形成されており、撮像部及び照明部を用いてパターンの検査を行う。パターンは、マスクＭの周縁から１０ｍｍ～２０ｍｍ程度内側の領域に形成されている。マスクＭと基準面１１ｃ、１１ｄとが当接する距離ｘ２は、パターンが形成されていない部分のマスクＭの周縁からの距離ｘ１（距離ｘ１は略１０ｍｍ）より小さく、略５～６ｍｍ程度である。
　図４は、クランプ部１２ａの概略を示す図である。図３において、二点鎖線は、クランプ部１２ａが退避位置にある状態を示し、実線は、クランプ部１２ａが当接位置にある状態を示す。なお、クランプ部１２ａ～１２ｊは、同一の構成である。ただし、クランプ部１２ａ～１２ｅとクランプ部１２ｆ～１２ｊとは左右対称である。
　クランプ部１２ａは、主として、クランプ１２１と、クランププレート１２２と、ストリッパーボルト１２３と、弾性部材１２４と、を有する。
　クランプ１２１は、クランプ部１２ａの先端に設けられる。クランププレート１２２は、クランプ１２１とフレーム１３（図４では図示省略）との間に設けられている。クランププレート１２２は、フレーム１３に対して移動可能に設けられ、図示しない駆動部により略水平方向に移動される。クランププレート１２２が略水平方向に移動してクランプ部１２ａが当接位置に移動すると、クランプ１２１がマスクＭと当接する。
　クランプ１２１は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ）等の耐熱性、機械的強度に優れた樹脂で形成される。クランプ１２１は、鉛直上方向（＋ｙ方向）又は鉛直下方向（－ｙ方向）から見たときの形状が略台形形状である本体部１２１ａと、クランププレート１２２側に突出する取付部１２１ｂと、を有する。
　本体部１２１ａの先端面１２１ｃは、マスクＭと当接する面であり、基準面１１ｃと略直交する面Ｐに対して傾斜している。本体部１２１ａの先端面１２１ｃの反対側の面は、クランププレート１２２と当接し、クランプ１２１とクランププレート１２２との摺動面である摺動面１２１ｄである。
　先端面１２１ｃと、基準面１１ｃと略直交する面Ｐとのなす角度θ１は略４５度より小さい。先端面１２１ｃと面Ｐとのなす角度θ１を略４５度より小さくすることで、マスクＭの稜線ｅを先端面１２１ｃと当接させて先端面１２１ｃがマスクＭの表面ｍ１に接触しないようにし、表面ｍ１に形成されたパターン情報を損なう異物が表面ｍ１に付着しないようにすることができる。本実施の形態では、角度θ１は略１０度である。
　摺動面１２１ｄと面Ｐとのなす角度θ２は、角度θ１より大きい。本実施の形態では、角度θ２は略４５度である。クランププレート１２２がクランプ１２１を下向きに押す力は、角度θ２が大きくなるにつれて強くなる。
　取付部１２１ｂは、本体部１２１ａの略中央に、先端面１２１ｃと反対側に突出するように形成されている。取付部１２１ｂの先端面１２１ｃの反対側の面（摺動面１２１ｈ）は、クランププレート１２２と当接し、クランプ１２１とクランププレート１２２との摺動面である。摺動面１２１ｈは摺動面１２１ｄと略平行であり、摺動面１２１ｈと面Ｐとのなす角度は角度θ２と等しい。
　クランププレート１２２は、鉄等の金属で形成され、クランプ１２１とクランププレート１２２との摺動面である摺動面１２２ａ、１２２ｂを有する。摺動面１２２ａは、摺動面１２１ｄと当接し、摺動面１２２ｂは、摺動面１２１ｈと当接する。摺動面１２２ａ、１２２ｂは、摺動面１２１ｄ、摺動面１２１ｈと略平行であり、摺動面１２２ａ、１２２ｂと面Ｐとのなす角度は角度θ２と等しい。
　クランプ１２１には、ねじ孔１２１ｋと、穴１２１ｌとが形成される。ねじ孔１２１ｋと穴１２１ｌとは一体であり、穴１２１ｌは摺動面１２１ｈに開口する。また、クランププレート１２２には、長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆが形成される。長孔１２２ｅは、クランププレート１２２を貫通する。長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆは、一体であり、一端は上面１２２ｇに開口し、他端は摺動面１２２ｂに開口する。長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆは、摺動面１２２ｂと略直交する。穴１２１ｌ、長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆには、ストリッパーボルト１２３が挿入される。また、ねじ孔１２１ｋには、ストリッパーボルト１２３のねじ部が螺合される。
　ストリッパーボルト１２３を上面１２２ｇ側から穴１２１ｌ、長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆに挿入し、ストリッパーボルト１２３の先端のねじ部をねじ孔１２１ｋに螺合する。その結果、クランプ１２１がクランププレート１２２から離脱しないように、クランプ１２１とクランププレート１２２とがストリッパーボルト１２３により連結される。長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆの中心軸と略直交する方向から見て、長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆは長穴であるため、長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆの長手方向に沿ってストリッパーボルト１２３が長孔１２２ｅ及びザグリ穴１２２ｆの内部を摺動可能である（図４の点線矢印参照）。但し、クランプ１２１とクランププレート１２２とを摺動可能に連結する方法はこれに限られない。
　クランプ１２１（本体部１２１ａ）には、穴１２１ｉ、１２１ｊが形成される。穴１２１ｉと穴１２１ｊとは一体であり、穴１２１ｊは穴１２１ｉより太く、穴１２１ｉは穴１２１ｊより長い。また、クランププレート１２２には、穴１２２ｃ、１２２ｄが形成される。穴１２２ｃと穴１２２ｄとは一体であり、穴１２２ｃは穴１２２ｄより太く、穴１２２ｄは穴１２２ｃより長い。穴１２１ｉ、１２１ｊ及び穴１２２ｃ、１２２ｄには、弾性部材１２４が挿入される。
　弾性部材１２４は、例えばピアノ線等の弾性変形が可能な線材である。弾性部材１２４は、±ｙ側から穴１２１ｊ、穴１２１ｉ、穴１２２ｃ及び穴１２２ｄに挿入され、図示しないビスによりクランププレート１２２に固定される。穴１２１ｉ、１２２ｄの幅は、弾性部材１２４の直径と略同一であり、穴１２１ｊ、１２２ｃの幅は、弾性部材１２４の直径より大きい。
　クランププレート１２２が待機位置から当接位置に向けて移動（図４では、－ｘ方向へ移動、図４黒矢印参照）すると、先端面１２１ｃがマスクＭの側面ｓと面取部ｃとの稜線ｅに当接する。クランププレート１２２には、先端面１２１ｃが稜線ｅと当接した後も、図示しない駆動部により－ｘ方向へ移動する方向の力が付勢される。
　鉛直上方向又は鉛直下方向から見たときに、先端面１２１ｃと稜線ｅとが当接する位置を通り、先端面１２１ｃと略直交する線（図４一点鎖線参照）は、摺動面１２１ｄ、１２２ａと交差する。そのため、クランププレート１２２に加えられた付勢力によりクランプ１２１が平行移動する（クランプ１２１は回転しない）。
　本実施の形態では、角度θ２が略４５度であるため、クランププレート１２２が図示しない駆動部により－ｘ方向に付勢される力を力Ｆとすると、クランプ１２１は、クランププレート１２２から下向きの力Ｆが付勢される。
　このようにして、クランプ１２１は、摺動面１２２ａ、１２２ｂに沿って先端面１２１ｃ側へ摺動する（図４黒矢印参照）。先端面１２１ｃと稜線ｅとの摩擦により、クランプ１２１がクランププレート１２２に対して摺動しても、先端面１２１ｃと稜線ｅとの位置関係は変化しない。そのため、マスクＭはクランプ１２１により、マスクＭの厚さ方向に、ここでは－ｚ方向に押し込まれ、マスクＭの裏面ｍ２が基準面１１ｃに力Ｆで押圧される。
　穴１２１ｉ、１２２ｄの幅が弾性部材１２４の直径と略同一であり、穴１２１ｊ、１２２ｃの幅が弾性部材１２４の直径より大きいため、弾性部材１２４は、クランプ１２１がクランププレート１２２に対して移動するのに伴って弾性変形する。
　弾性部材１２４が弾性変形することで、クランプ１２１には、弾性部材１２４により基準面１１ｃから遠ざける方向の力が付勢される。図示しない駆動部によりクランププレート１２２が当接位置から待機位置に向けて移動（図３では、＋ｘ方向へ移動）すると、先端面１２１ｃが稜線ｅから離れ、弾性部材１２４によりクランプ１２１が＋ｚ方向へ押し上げられる。弾性部材１２４がクランプ１２１及びクランププレート１２２の±ｙ側に設けられ、クランプ１２１がｙ方向の両側からバランスよく力を受けるため、クランプ１２１は平行移動する。
　図１、２の説明に戻る。マスク保持部１０の下端近傍には、保持ユニット２０が設けられる。保持ユニット２０は、ベース３０に載置されており、マスクＭの鉛直方向下側に配置された下端面に当接する複数の保持ブロック２１、２２と、固定部２６と、移動機構２８と、を有する。保持ブロック２１、２２は、水平方向、ここではマスクＭの長辺の延設方向であるｘ方向に沿って複数設けられている。本実施の形態では、保持ユニット２０が保持ブロック２１、２２をそれぞれ２個有するが、保持ユニット２０が有する保持ブロック２１、２２の数はこれに限られず、保持ブロック２１、２２を併せて複数あればよい。例えば、保持ユニット２０が保持ブロック２１、２２を各１個有してもいてもよいし、保持ユニット２０が保持ブロック２１、２２を各３個有していてもよい。
　保持ブロック２１、２２は、水平方向の幅が異なり、その他の構成は同様である。保持ブロック２１、２２は、主として、マスクＭの下端面に当接するコンタクトブロック２１１、２２１と、コンタクトブロックの下側に略水平方向に移動可能に設けられたベースブロック２１２、２２２と、を有する。
　保持ブロック２１、２２は、ベースブロック２１２、２２２を略水平方向（ここでは、ｘ方向）に移動させる移動機構２８を有する。移動機構２８は、ベースブロック２１２、２２２に設けられた孔を貫通するシャフト２３と、弾性部材２４とを有する。シャフト２３はｘ方向に沿って延設されており、図示しない駆動部を介してシャフト２３をｘ方向に移動させると、ベースブロック２１２、２２２が水平方向に移動する。弾性部材２４は、ベースブロック２１２、２２２に＋ｘ方向の力を付勢する。
　また、保持ブロック２１、２２は固定部２６を有する。固定部２６は、移動機構２８によりベースブロック２１２、２２２が移動された後で、ベースブロック２１２、２２２が移動しないようにベースブロック２１２、２２２を固定する。
　次に、保持ブロック２１、２２について詳細に説明する。図５は、保持ブロック２１、２２の概略を示す斜視図である。
　まず、コンタクトブロック２１１、２２１について説明する。コンタクトブロック２１１、２２１は、それぞれ、マスクＭの下端面に当接する上側ブロック２１１ａ、２２１ａと、上側ブロック２１１ａ、２２１ａの下側に設けられた下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂと、を有する。上側ブロック２１１ａ、２２１ａは、マスクＭの厚さ方向（ここでは、－ｚ方向）に、下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに対して移動可能である。つまり、上側ブロック２１１ａ、２２１ａは、鉛直上方向から見たときに上側ブロック２１１ａ、２２１ａが下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに完全に重なる状態と、鉛直上方向から見たときに上側ブロック２１１ａ、２２１ａが下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに対してずれている状態との間で移動可能である。
　上側ブロック２１１ａ、２２１ａは、結晶性の樹脂で形成されている。本発明において、結晶性の樹脂とは、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、モノマーキャストナイロンを含むポリアミド樹脂等の結晶性の樹脂、及び、四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）を主材料としたターカイト等の結晶性の樹脂を主原料とする樹脂を含む。これにより、１００ｋｇ程度のガラス製のマスクＭが上側ブロック２１１ａ、２２１ａに当接しても、応力集中によるマスクＭの破損を防止することができる。下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂは、鉄等の金属で形成されている。
　鉛直上方向又は鉛直下方向から見たときに、上側ブロック２１１ａ、２２１ａ及び下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂの形状は略同一である。
　コンタクトブロック２１１、２２１は、板ばね２５を含む。板ばね２５は、上側ブロック２１１ａと下側ブロック２１１ｂ及び上側ブロック２２１ａと下側ブロック２２１ｂとを連結し、鉛直上方向から見たときに上側ブロック２１１ａ、２２１ａが下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに対してずれている状態から、鉛直上方向から見たときに上側ブロック２１１ａ、２２１ａが下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに完全に重なる状態へと復元する復元手段である。
　板ばね２５は、上側ブロック２１１ａ及び下側ブロック２１１ｂの鉛直方向に略沿っており、マスクＭの移動方向（ｚ方向）に略直交する面２１１ｃ、２１１ｄに沿って設けられており、上側ブロック２１１ａと下側ブロック２１１ｂを連結する。また、板ばね２５は、上側ブロック２２１ａ及び下側ブロック２２１ｂの鉛直方向に略沿っており、マスクＭの移動方向（ｚ方向）に略直交する面２２１ｃ、２２１ｄに沿って設けられており、上側ブロック２２１ａと下側ブロック２２１ｂを連結する。板ばね２５は、上端近傍が上側ブロック２１１ａ、２２１ａに固定されており、下端近傍が下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに固定されている。つまり、上側ブロック２１１ａ、２２１ａが－ｚ方向に移動した状態（上側ブロック２１１ａ、２２１ａが下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに対してずれている状態）では、板ばね２５は、上側ブロック２１１ａ、２２１ａを移動前の状態（上側ブロック２１１ａ、２２１ａが下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに完全に重なる状態）に戻す向きの力、すなわち＋ｚ方向の力を上側ブロック２１１ａ、２２１ａに付勢する。
　なお、本実施の形態では、板ばね２５として、厚さが略０．１ｍｍ程度のステンレスの板材を用いる。特に、ステンレスのうち、ばね性を持ちやすいフェライト系ステンレスを用いる。ただし、板ばね２５の形態（形状や材質）はこれに限られない。
　上側ブロック２１１ａと下側ブロック２１１ｂとの間、及び、上側ブロック２２１ａと下側ブロック２２１ｂとの間には、合成油が塗布されている。本発明において、合成油とは、基油が鉱物油を含まないものをいい、例えば、合成油をベースオイルとするエンジンオイル、合成油にリチウム石けんを増ちょう剤として添加したリチウム石けん系グリスを含む。
　上側ブロック２１１ａ、２２１ａは、それぞれ、下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂに対して移動可能である。上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間には、それぞれ、合成油が塗布されているため、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間の摩擦係数が小さく、小さな力で上側ブロック２１１ａ、２２１ａを移動させることができる。また、潤滑剤として蒸気圧が低い合成油を用いることで、潤滑面に塗布された潤滑剤の量が減らず、安定して上側ブロック２１１ａ、２２１ａを摺動させることができる。
　なお、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間の摩擦係数を小さくするため、上側ブロック２１１ａ、２２１ａの下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂと対向する摺動面及び下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂの上側ブロック２１１ａ、２２１ａと対向する上側の摺動面は、高い面精度、ここでは最も高い点と最も低い点との差異が３μｍ以下とすることが望ましい。
　また、本実施の形態では、上側ブロック２１１ａ、２２１ａに２０ｋｇｆの荷重がかかると油膜が切れ、荷重を除去すると油膜が戻るように、低粘度の合成油を用いることが望ましい。また、合成油の粘度が低すぎると、油膜が薄くなりすぎることで、上側ブロック２１１ａ、２２１ａや下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂの表面の凹凸を被覆することができず、摩擦係数を小さくする効果が十分に得られない。そのため、例えば、エンジンオイルを合成油として使用する場合には、１００℃のときの動粘度が１０ｍ２／ｓ程度（９．３ｍ２／ｓ～１２．５ｍ２／ｓ）のものが望ましい。
　次に、ベースブロック２１２、２２２の移動及びベースブロック２１２、２２２の移動に伴うコンタクトブロック２１１、２２１の移動について説明する。
　ベースブロック２１２、２２２には、ベース３０に設けられたスライドレール２１ａ、２２ａに沿って移動する可動部２１ｂ、２２ｂが設けられている。また、ベースブロック２１２、２２２には、それぞれ孔２１２ａ、２２２ａが設けられており、孔２１２ａ、２２２ａには、シャフト２３が挿入されている。ベースブロック２１２、２２２は、シャフト２３が移動することにより、スライドレール２１ａ、２２ａに沿ってｘ方向に移動する。
　また、孔２１２ａ、２２２ａには、ザグリ穴２１２ｂ、２２２ｂが設けられており、ザグリ穴２１２ｂ、２２２ｂには、弾性部材２４が挿入されている。弾性部材２４の一端はザグリ穴２１２ｂ、２２２ｂの底面に設けられており、弾性部材２４の他端はシャフト２３に設けられている。そのため、ベースブロック２１２、２２２には、弾性部材２４により＋ｘ方向へ移動する方向の力が付勢される。
　可動部２１ｂ、２２ｂには、それぞれ固定部２６が設けられている。固定部２６が可動部２１ｂ、２２ｂをスライドレール２１ａ、２２ａに対して固定することで、ベースブロック２１２、２２２のｘ方向の位置が固定される。
　コンタクトブロック２１１、２２１のベースブロック２１２、２２２と対向する面２１１ｅ、２２１ｅ及びベースブロック２１２、２２２のコンタクトブロック２１１、２２１と対向する面２１２ｃ、２２２ｃは、略平行であり、水平面に対して傾いている。
　面２１２ｃ、２２２ｃには、スライドレール２１ｃ、２２ｃが設けられており、面２１１ｅ、２２２ｅには、スライドレール２１ｃ、２２ｃに沿って移動する可動部２１ｄ、２２ｄが設けられている。したがって、ベースブロック２１２、２２２がｘ方向に移動すると、可動部２１ｄ、２２ｄがスライドレール２１ｃ、２２ｃに沿って移動することで、コンタクトブロック２１１、２２１が面２１２ｃ、２２２ｃに沿って移動する。その結果、コンタクトブロック２１１、２２１が上下方向（ｙ方向）に移動する。また、保持ブロック２１、２２は、それぞれ独立しているため、保持ブロック２１、２２毎に高さ方向（ｙ方向）の位置を変更することができる。
　このように構成されたマスク保持装置１の作用について説明する。まず、移動機構２８及び図示しない駆動部により、保持ブロック２１、２２を下方（－ｙ方向）に移動させる。次に、ローダ（図示せず）でマスクＭを把持し、マスクＭをマスク保持装置１の内部へと挿入する。これにより、フレーム１３の手前側（＋ｚ側）にマスクＭが配置される（図１参照）。
　その後、移動機構２８及び図示しない駆動部により、保持ブロック２１、２２を上方（＋ｙ方向）に移動させ、保持ブロック２１、２２とマスクＭの下端面とを当接させる。上側ブロック２１１ａ、２２１ａが樹脂製であるため、マスクＭの割れ等は生じない。
　また、保持ブロック２１、２２の高さが別々に調整可能であるため、マスクＭの下端面の位置のばらつきに関わらず、コンタクトブロック２１１、２２１にマスクＭを確実に当接させることができる。
　次に、クランプ部１２を待機位置から当接位置へと移動させる。その結果、クランプ部１２は、マスクＭを把持し、マスクＭをマスクＭの厚さ方向（ここでは、－ｚ方向）に移動させる。その結果、マスクＭの裏面ｍ２が基準面１１ｃに押圧される（図３参照）。
　クランプ部１２がマスクＭを－ｚ方向へ移動させるときに、マスクＭが当接している上側ブロック２１１ａ、２２１ａがマスクＭと共に－ｚ方向に平行移動する。これにより、マスクＭの変形を防止することができる。また、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間には合成油が塗布されているため、上側ブロック２１１ａ、２２１ａがマスクＭと共に移動しやすい。
　次に、図示しない撮像部及び照明部を用いてマスクＭの検査を行う。マスクＭの検査終了後、ローダ（図示せず）でマスクＭを把持し、マスクＭをマスク保持装置１の外へと搬出する。ローダ（図示せず）でマスクＭが把持され、保持ブロック２１、２２とマスクＭの下端面との当接が解除されると、板ばね２５の付勢力により、上側ブロック２１１ａ、２２１ａが＋ｚ方向に移動する。
　本実施の形態によれば、マスクＭを基準面に押圧するときに、マスクＭ全体を基準面１１ｃ、１１ｄに向けて滑らかに移動させることができる。その結果、マスクＭの変形や、これによる検査時の不具合を防止することができる。
　図６は、マスクＭの移動の様子を説明する図であり、（Ａ）はマスクＭの上端部（＋ｙ側の端部）の様子を示す図であり、（Ｂ）はマスクＭの下端部（－ｙ側の端部）の様子であって、従来の保持ブロック２１’、２２’を用いた場合を示す図であり、（Ｃ）はマスクＭの下端部（－ｙ側の端部）の様子であって、本実施の形態の保持ブロック２１、２２を用いた場合を示す図である。
　なお、マスクＭは、一般的に石英ガラスの基板にクロムの膜を蒸着して形成しているが、その膜の張力が原因で、膜面（表面ｍ１）が凹となる略椀型にマスクＭが変形することが多い。そして、マスクＭの左右両端が縦枠部１１ａ、１１ｂに押圧されることで、マスクＭの左右両端は直線状に矯正される。そのため、図６では、鉛直上方向から見たときにマスクＭが表面ｍ１が凹となるように湾曲している状態を例に説明する。
　図６（Ａ）に示すように、マスクＭの上端部は保持ブロック２１、２２に当接していないため、マスクＭの両端をクランプ部１２が押圧することで、マスクＭの左右両端を縦枠部１１ａ、１１ｂに押圧するときにマスクＭの湾曲の程度は変化しない。これは、従来の保持ブロック２１’、２２’を用いる場合も本実施の形態も同様である。
　従来の例である図６（Ｂ）に示すように、ｚ方向に移動できない保持ブロック２１’、２２’を用いる場合には、マスクＭの下端部が保持ブロック２１’、２２’に当接しているため、保持ブロック２１’、２２’により保持されている部分についてはマスクＭがｚ方向に移動できない。その結果、マスクＭの左右両端をクランプ部１２により縦枠部１１ａ、１１ｂに押圧すると、マスクＭの下端部については、マスクＭの両端部分のみが－ｚ方向に移動し、マスクＭが変形してしまう。
　マスクＭの上端部については、マスクＭの湾曲の程度は変化しないため、従来の保持ブロック２１’、２２’を用いる場合には、マスクＭの左右両端が縦枠部１１ａ、１１ｂに押圧された状態では、マスクＭの上端の湾曲は矯正されずにマスクＭの下端が変形し、マスクＭの上端と下端とで湾曲の方向や程度が変化する。その結果、マスクＭに形成されたパターンの間隔（スケール）がマスクＭの位置によって変わってしまう。
　それに対し、本実施の形態である図６（Ｃ）に示すように、マスクＭの下端部が上側ブロック２１１ａ、２２１ａと共にｚ方向に移動する場合には、マスクＭが平行移動するときにマスクＭの下端部における湾曲の程度は変化しない。つまり、マスクＭの左右両端が縦枠部１１ａ、１１ｂに押圧された状態では、マスクＭの上端も下端も同程度だけ湾曲（マスクＭがハーフパイプ状に湾曲）している。したがって、マスクＭの上端と下端とで湾曲の方向や程度が略一致し、マスクＭの位置によってスケールが変わるという問題は発生しない。
　また、本実施の形態によれば、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間には合成油が塗布されているため、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間の摩擦係数が小さく、小さな力で上側ブロック２１１ａ、２２１ａ、すなわちマスクＭをｚ方向に移動させることができる。また、合成油は蒸気圧が低いため、潤滑面に塗布された潤滑剤の量が減らず、長期間安定して良好な潤滑が得られる。また、合成油は蒸気圧が低く蒸発しないため、マスクＭとマスクＭに貼付したペリクルとの間に蒸発した油が入り込んで加工時に不具合が生じることを防ぐことができる。
　なお、本実施の形態では、コンタクトブロック２１１、２２１が板ばね２５を含み、板ばね２５が上側ブロック２１１ａ、２２１ａを－ｚ方向に移動した状態から元の位置に戻すが、上側ブロック２１１ａ、２２１ａを－ｚ方向に移動した状態から元の位置に戻す方法はこれに限られない。上側ブロック２１１ａと下側ブロック２１１ｂ及び上側ブロック２２１ａと下側ブロック２２１ｂとを連結し、上側ブロック２１１ａ、２２１ａを－ｚ方向に移動した状態から元の位置に戻す復元手段は、板ばね以外に、様々な弾性部材を用いることができる。弾性部材として、例えば、コイルばね、皿ばねを用いてもよいし、ゴム等の弾性体を用いてもよい。また、復元手段として、空気、油等の流体を用いたシリンダ機構や、アクチュエータを用いた機構などを用いてもよい。ただし、復元手段として板ばねを使用することで、簡単な構成で、確実に上側ブロック２１１ａを移動させることができる。
　また、本実施の形態では、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間には潤滑剤（ここでは、合成油）が塗布されていたが、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間の摩擦係数を小さくする方法はこれに限られない。
　図７は、変形例にかかる保持ブロック２１Ａの概略を示す図である。保持ブロック２２Ａの構成は保持ブロック２１Ａの構成と同様であるため、説明を省略する。
　保持ブロック２１Ａは、上側ブロック２１１ａと、下側ブロック２１１ｂと、樹脂シート２１ｅと、を有する。樹脂シート２１ｅは、自己潤滑性を有する樹脂で形成されたシートである。本実施の形態では、自己潤滑性を有する樹脂で形成されたシートとして、超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）で形成されたシートを用いるが、自己潤滑性を有する樹脂で形成されたシートはこれに限られない。例えば、自己潤滑性を有する樹脂であるシリコーンを、紙や樹脂シート等の薄膜状の部材の表面にコーティングしたシートも、自己潤滑性を有する樹脂で形成されたシートに含まれる。
　なお、本実施の形態では、樹脂シート２１ｅは、略２５μｍ～略１００μｍ程度の薄膜状の部材であり、マスクＭの荷重による樹脂シート２１ｅの変形は無視できる。
　本変形例によれば、上側ブロック２１１ａと下側ブロック２１１ｂとの間の摩擦係数を小さくし、小さな力で上側ブロック２１１ａを移動させることができる。
　図８は、変形例にかかる保持ブロック２１Ｂの概略を示す図である。保持ブロック２２Ｂの構成は保持ブロック２１Ｂの構成と同様であるため、説明を省略する。
　保持ブロック２１Ｂは、上側ブロック２１１ａと、下側ブロック２１１ｂと、樹脂シート２１ｅ、２１ｆと、を有する。樹脂シート２１ｆは樹脂シート２１ｅと同様のものであり、樹脂シート２１ｅと樹脂シート２１ｆとの間の摩擦係数は小さい。
　本変形例によれば、樹脂シート２１ｅと、樹脂シート２１ｆとの間で滑りが発生するため、小さな力で上側ブロック２１１ａを移動させることができる。
　また、本実施の形態では、上側ブロック２１１ａ、２２１ａを結晶性の樹脂で形成したが、上側ブロックの形態はこれに限られない。
　図９は、変形例にかかる保持ブロック２１Ｃの概略を示す図である。保持ブロック２２Ｂの構成は保持ブロック２１Ｂの構成と同様であるため、説明を省略する。
　保持ブロック２１Ｃは、上側ブロック２１１ｆと、下側ブロック２１１ｂと、を有する。上側ブロック２１１ｆは、樹脂ブロック２１１ｇと、金属ブロック２１１ｈとを有する。樹脂ブロック２１１ｇは、マスクＭが当接したときの応力集中による破損を防ぐため、結晶性の樹脂で形成されている。金属ブロック２１１ｈは、下側ブロック２１１ｂと同様、金属、例えば鉄で形成されている。樹脂ブロック２１１ｇと金属ブロック２１１ｈとは、ねじ２１１ｊにより固定されている。
　金属ブロック２１１ｈの下側ブロック２１１ｂと対向する面及び下側ブロック２１１ｂの金属ブロック２１１ｈと対向する面は、平坦面に微小な窪みを形成するきさげ加工が施されたきさげ面である。これにより、上側ブロック２１１ｆに２０ｋｇｆの荷重がかかると油膜が切れて摩擦係数が大きくなり、荷重を除去すると油膜が戻り摩擦係数が小さくなる。その結果、上側ブロック２１１ｆを小さな力で容易に移動させるとともに、上側ブロック２１１ｆの移動後は上側ブロック２１１ｆが容易に移動しないようにすることができる。
　また、図７～９に示す形態以外に、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間の摩擦係数を小さくするのに、例えば、静圧空気軸受を用いたエアスライドを用いてもよいし、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間に転動体（ボール、コロ等）を設けてもよいし、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間に磁石を同極が対向するように設けてもよい。
　また、本実施の形態では、上側ブロック２１１ａ、２２１ａをポリアミド樹脂やターカイトで形成し、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間には合成油を塗布したが、合成油の塗布は必須ではない。この場合には、結晶性樹脂のうち、摩擦係数が小さい（０．１程度）超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）樹脂を用いることが望ましい。ただし、上側ブロック２１１ａ、２２１ａと下側ブロック２１１ｂ、２２１ｂとの間には合成油を塗布する場合には、２０ｋｇ程度の荷重を受けてもほとんど変形しないポリアミド樹脂やターカイトを用いることが望ましい。
　以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
　本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略立方体形状とは、厳密に立方体形状の場合に限られない。また、例えば、単に鉛直、一致等と表現する場合において、厳密に鉛直、一致等の場合のみでなく、略鉛直、略一致等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、例えばＡの近傍であるときに、Ａの近くであって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。
１　　　　：マスク保持装置
１０　　　：マスク保持部
１１ａ、１１ｂ：縦枠部
１１ｃ、１１ｄ：基準面
１２、１２ａ～１２ｊ：クランプ部
１３　　　：フレーム
１４　　　：樹脂シート
２０　　　：保持ユニット
２１、２１’、２１Ａ、２１Ｂ、２２、２２’、２２Ａ、２２Ｂ：保持ブロック
２１ａ、２１ｃ、２２ａ、２２ｃ：スライドレール
２１ｂ、２１ｄ、２２ｂ、２２ｄ：可動部
２１ｅ、２１ｆ：樹脂シート
２３　　　：シャフト
２４　　　：弾性部材
２５　　　：板ばね
２６　　　：固定部
２８　　　：移動機構
３０　　　：ベース
１２１　　：クランプ
１２１ａ　：本体部
１２１ｂ　：取付部
１２１ｃ　：先端面
１２１ｄ、１２１ｈ：摺動面
１２１ｉ、１２１ｊ、１２１ｌ：穴
１２１ｋ　：ねじ孔
１２２　　：クランププレート
１２２ａ、１２２ｂ：摺動面
１２２ｃ、１２２ｄ：穴
１２２ｅ　：長孔
１２２ｆ　：ザグリ穴
１２２ｇ　：上面
１２３　　：ストリッパーボルト
１２４　　：弾性部材
２１１、２２１：コンタクトブロック
２１１ａ、２１１ｆ、２２１ａ：上側ブロック
２１１ｂ、２２１ｂ：下側ブロック
２１１ｃ、２１１ｄ、２１１ｅ、２２１ｃ、２２１ｄ、２２２ｅ：面
２１１ｇ　：樹脂ブロック
２１１ｈ　：金属ブロック
２１１ｊ　：ねじ
２１２、２２２：ベースブロック
２１２ａ、２２２ａ：孔
２１２ｂ、２２２ｂ：ザグリ穴
２１２ｃ、２２２ｃ：面

Claims (7)

  1. 　略板状の基板を略鉛直方向に保持する基板保持装置であって、
    　前記基板の鉛直方向下側に配置された下端面が当接する複数の保持ブロックと、
    　略鉛直方向に延設された略棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部であって、前記基板の裏面が当接する基準面を有する第１縦枠部及び第２縦枠部と、
    　前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部に設けられた複数のクランプ部であって、略水平方向に移動可能に設けられており、前記基板の鉛直方向に略沿った側面に当接して前記基板を前記基準面に押圧するクランプ部と、
    　を備え、
    　前記保持ブロックは、前記下端面に当接する上側ブロックと、前記上側ブロックの下側に設けられた下側ブロックと、を有するコンタクトブロックを有し、
    　前記上側ブロックは、前記基板の厚さ方向に、前記下側ブロックに対して移動可能である
    　ことを特徴とする基板保持装置。
  2. 　前記コンタクトブロックは、前記上側ブロックと前記下側ブロックとを連結する復元手段を有し、
    　前記上側ブロックは、鉛直上方向から見たときに前記上側ブロックが前記下側ブロックに完全に重なる第１状態と、鉛直上方向から見たときに前記上側ブロックが前記下側ブロックに対してずれている第２状態との間で移動可能であり、
    　前記復元手段は、前記上側ブロックを前記第２状態から前記第１状態へと復元する
    　ことを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
  3. 　前記復元手段は、前記上側ブロックと前記下側ブロックとを連結する板ばねであり、
    　前記上側ブロック及び前記下側ブロックは、鉛直上方向から見たときの形状が略同一であり、
    　前記板ばねは、前記上側ブロック及び前記下側ブロックの鉛直方向に略沿った面であって、前記上側ブロックの移動方向に略直交する面に沿って設けられており、前記板ばねの上端近傍が前記上側ブロックに固定されており、前記板ばねの下端近傍が前記下側ブロックに固定されている
    　ことを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
  4. 　前記上側ブロックと前記下側ブロックとの間には、合成油が塗布されている
    　ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の基板保持装置。
  5. 　前記上側ブロックと前記下側ブロックとの間には、自己潤滑性を有する樹脂で形成されたシートが設けられている
    　ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の基板保持装置。
  6. 　前記上側ブロックは、少なくとも前記下端面に当接する部分が結晶性の樹脂で形成されており、
    　前記下側ブロックは、金属で形成されている
    　ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の基板保持装置。
  7. 　前記保持ブロックを含む保持ユニットを有し、
    　前記保持ブロックは、前記コンタクトブロックと、前記コンタクトブロックの下側に略水平方向に移動可能に設けられたベースブロックと、を有し、
    　前記保持ユニットは、前記ベースブロックを固定する固定部を有し、
    　前記コンタクトブロックの前記ベースブロックと対向する第１面及び前記ベースブロックの前記コンタクトブロックと対向する第２面は、略平行であり、水平面に対して傾いている
    　ことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の基板保持装置。
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