WO2020164786A1 - Vorrichtung und verfahren zur charakterisierung der oberflächenform eines testobjekts - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zur charakterisierung der oberflächenform eines testobjekts Download PDF

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vacuum chamber
test
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test object
vacuum
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Jochen Hetzler
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Carl Zeiss SMT GmbH
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    • G03F7/70591—Testing optical components

Definitions

  • the invention relates to a device and a method for characterizing the surface shape of a test object.
  • Microlithography is used for the production of microstructured components such as integrated circuits or LCDs.
  • the micro-lithography process is carried out in what is known as a projection exposure system, which has an illumination device and a projection lens.
  • a substrate e.g. a silicon wafer
  • a light-sensitive layer photoresist
  • NA image-side numerical aperture
  • the increase in the numerical aperture (NA) on the image side is typically accompanied by an increase in the required mirror surfaces of the mirrors used in the projection exposure system. This in turn means that, in addition to production, checking the surface shape of the mirrors is a demanding challenge.
  • Interferometric measuring methods using diffractive optical elements such as e.g. Computer-generated holograms (CGH) are used. It is i.a. also known, in one and the same CGH in addition to the functionality required for the actual test (ie the CGH structure designed according to the mirror shape to shape the wave front mathematically corresponding to the test object shape) at least one further "calibration functionality" to provide a for Calibration or error correction serving reference waves to be encoded front.
  • Such interferometric measurement methods are typically carried out under vacuum conditions (at typical pressures of the order of magnitude of less than 10 mbar, in particular less than 1 mbar) to meet the high accuracy requirements that apply to the testing of EUV mirrors for microlithography.
  • vacuum conditions at typical pressures of the order of magnitude of less than 10 mbar, in particular less than 1 mbar
  • This takes into account the fact that when the interferometric test arrangement is operated under atmospheric pressure, high-precision temperature control with accuracies of the order of magnitude of 10m K would be required due to the temperature dependence of the refractive index of, for example, air.
  • the introduction of optical components into a vacuum chamber due to the expansion of the air taking place during evacuation is accompanied by a cooling of the surface of the respective optical components.
  • temperature control phases can be planned.
  • such temperature control phases can require waiting times of significantly more than 60 minutes for the mirror test (for example, to achieve a temperature homogeneity of 4mK to measure an EUV mirror with an accuracy of 0.1 nm), whereby the throughput achieved in the respective measuring arrangement is undesirable is restricted.
  • a device for characterizing the surface shape of a test object has
  • test arrangement for determining the surface shape of a test object using a test wave, wherein the test wave has a wavefront generated by diffraction on a diffractive optical element
  • the second vacuum chamber has a magazine for storing at least two diffractive optical elements.
  • the invention is based in particular on the concept of ensuring that when performing interferometric measurements on different test objects (eg EUV mirrors) by providing two vacuum chambers, one of which has a magazine for storing a plurality of diffractive optical elements the respective diffractive optical elements (eg CGHs) can remain permanently in the vacuum, with the result that undesired extended waiting or temperature control phases are unnecessary.
  • test objects eg EUV mirrors
  • two vacuum chambers one of which has a magazine for storing a plurality of diffractive optical elements the respective diffractive optical elements (eg CGHs) can remain permanently in the vacuum, with the result that undesired extended waiting or temperature control phases are unnecessary.
  • a “magazine” is to be understood as any storage or storage device for receiving a plurality (i.e. at least two) diffractive optical elements.
  • a vacuum state is preferably to be understood as a state with a (constant or changing) pressure of less than 10 mbar, in particular less than 1 mbar.
  • the invention is based, among other things, on the consideration that with diffractive optical elements such as CGHs (in particular those with substrates made of quartz glass) the problem of thermally induced deformations described at the beginning even under the comparatively moderate vacuum conditions in interferometric measurement applications (with vacuum pressures, for example in the range from 1 mbar to 10 mbar) has critical effects on the measurement accuracy, whereas the thermal behavior of the actual test objects such as EUV mirrors in such scenarios - both in comparison to said CGHs and in comparison to use in the actual microlithographic pro projection exposure system - is comparatively stable.
  • a change of the respective test objects between vacuum and atmospheric pressure is carried out for the test objects, but not the diffractive optical elements or CGHs.
  • both an increased space requirement due to the storage of several diffractive optical elements in a vacuum and a higher degree of automation, in particular for the adjustment of the respective diffractive optical elements or CGHs in the interferometric test arrangement, are accepted in return to achieve the desired high throughput in the test arrangement while avoiding the time-extended temperature control phases described above.
  • the second vacuum chamber is configured to permanently maintain a vacuum state during operation of the device.
  • the first vacuum chamber is configured to switch between a state with atmospheric pressure and a vacuum state during operation of the device.
  • the device has a first transport device for transporting a test object from an outer region into the first vacuum chamber.
  • the test arrangement is arranged in the second vacuum chamber.
  • the device has a second transport device for transporting a respective test object from the first vacuum chamber into the second vacuum chamber.
  • test arrangement is arranged in the first vacuum chamber.
  • the first vacuum chamber and the second vacuum chamber are configured so that the first vacuum chamber each receives one of the diffractive optical elements from the second vacuum chamber under vacuum conditions.
  • the device has an exchange mechanism for exchanging the diffractive optical element located in the test arrangement.
  • the diffractive optical elements are computer-generated holograms (CGH).
  • the diffractive optical elements have quartz glass (S1O 2 ).
  • the test objects are optical elements, in particular special for microlithography.
  • the test objects are mirrors, in particular mirrors designed for operation under EUV conditions.
  • the invention further relates to a vacuum chamber system for use in a device having the features described above, and a method for characterizing the surface shape of a test object using a device having the features described above.
  • FIG. 3 shows a schematic representation of a possible structure of an interferometric test arrangement
  • FIG. 4 shows schematic representations of a further possible configuration of an interferometric test arrangement
  • FIG. 5 shows a schematic representation of a projection exposure system designed for operation in the EUV. DETAILED DESCRIPTION OF PREFERRED
  • FIG. 5 initially shows a schematic representation of an exemplary projection exposure system designed for operation in the EUV, which has mirrors that can be checked with a device according to the invention.
  • an illumination device in a projection exposure system 510 designed for EUV has a field facet mirror 503 and a pupil facet mirror 504.
  • the light from a light source unit which comprises a plasma light source 501 and a collector mirror 502, is directed onto the field facet mirror 503.
  • a first telescope mirror 505 and a second telescope mirror 506 are arranged.
  • a deflecting mirror 507 is arranged, which directs the radiation hitting it onto an object field in the object plane of a projection lens comprising six mirrors 521-526.
  • a reflective structure-bearing mask 531 is arranged on a mask table 530, which is imaged with the aid of the projection lens in an image plane in which a substrate 541 coated with a light-sensitive layer (photoresist) is located on a wafer table 540.
  • a light-sensitive layer photoresist
  • test object tested in a device according to the invention described below it can e.g. be any mirror of the projection exposure system 510.
  • FIG. 1 and FIG. 2 have in common, among other things, that the device according to the invention for characterizing the surface shape of a test object such as an EUV mirror has a first vacuum chamber (labeled “110” or “210”) and a (labeled with "120” or “220") second vacuum chamber, said second vacuum chamber 120, 220 having a magazine (not shown in detail in Fig. 1-2) for storing a plurality of diffractive optical elements (which in Fig. 1-2 with 121, 122, 123, ... or 221, 222, 223, ... and the number of which is basically arbitrary).
  • a first vacuum chamber labeled “110” or “210”
  • a second vacuum chamber 120, 220 having a magazine (not shown in detail in Fig. 1-2) for storing a plurality of diffractive optical elements (which in Fig. 1-2 with 121, 122, 123, ... or 221, 222, 223, ... and the number of which is basically arbitrary).
  • Said second vacuum chamber 120 or 220 is configured for permanent maintenance of vacuum conditions (e.g. with vacuum pressures of less than 10Ombar, in particular less than 1 mbar), whereas the first vacuum chamber 110 or 210 is configured as described below to switch between atmospheric pressure and vacuum conditions.
  • a test arrangement 130 for determining the surface shape of a test object 111, 112, 113, ... is located in the second vacuum chamber 120. Possible configurations of such a test arrangement are described with reference to FIGS. 3 and 4a -4b still described.
  • the first vacuum chamber 110 is designed as a lock chamber with corresponding lock doors 114, 115, via wel che different test objects 111, 112, 113, ... from one below
  • Atmospheric pressure located outer area can be transferred into the second vacuum chamber 120 and in the opposite direction.
  • two transport devices 150, 160 are provided for this purpose, in order to initially move the respective test object 111, 112, 113, ... from the outer area (which has atmospheric pressure) into the first vacuum chamber 110, which is used here as a lock chamber, and then to be transferred into the second vacuum chamber 120 under vacuum conditions.
  • the transport devices 150, 160 can have, for example, a robot-assisted gripper arm which each grips a mount of the relevant test object (eg CGHs).
  • the first vacuum chamber 110 is set to the desired vacuum (For example, to a pressure of less than 10 mbar, preferably of less than 1 mbar), with the lowest possible pumping times of less than 10 minutes, in particular less than 1 minute (e.g. each up to Reaching a pressure of 1 mbar).
  • the invention makes i.a. also take advantage of the fact that corresponding electric drives are commercially available under the comparatively moderate vacuum conditions described above and can be easily placed in the first vacuum chamber 110 or in the second vacuum chamber 120 and controlled via suitable vacuum feedthroughs.
  • test objects 111, 112, 113, ... can preferably be transferred to the respective measuring position within the test arrangement 130 or removed from this measuring position without a collision with the respective diffractive optical element 121, 122, 123, ... takes place, both according to FIG. 1 and also according to FIG. 2 via a lateral feed of the respective test object is realized in the measuring position.
  • different test objects 111, 112, 113, ... (for the measurement of which one and the same diffractive optical element is suitable, for example) can be tested without the diffractive optical element having to be removed from the test arrangement 130 or 230 for this purpose needs.
  • the embodiment of FIG. 2 differs from the embodiment of FIG. 1 in particular in that, according to FIG. 2, the test arrangement 230 is arranged in the first vacuum chamber 210 (which alternates between atmospheric pressure and vacuum conditions) and consequently the test arrangement 230 is also between atmospheric pressure and Vacuum conditions change.
  • Fig. 2 has the advantage over the embodiment of Fig. 1 that even comparatively large and heavy test objects such as EUV mirrors with a single (e.g. rail-based) transport system directly from the outer (atmospheric pressure) area into the respective area Measurement position can be transferred since, unlike in FIG. 1, the test object does not have to be guided through a further lock opening to the test arrangement.
  • the evacuation of a larger volume of the vacuum chamber 210 accommodating the test arrangement 230 in comparison to the volume of the vacuum chamber 110 from FIG. 1 is accepted.
  • Fig. 3 and Fig. 4a-4b show in a schematic representation exemplary possible realizations of the interferometric test arrangement 130 or 230 in the embodiments described above.
  • Fig. 3 occurs from a (not shown) light source generated and exiting from the exit surface of an optical waveguide 301 illuminating radiation as an input wave 305 with a spherical wavefront, passes through a beam splitter 310 and then meets a complex coded CGH 320.
  • the CGH 320 generates in transmission in the example according to its complex coding from the input shaft 305 a total of four output waves, one of which as a test wave hits the surface of the test object in the form of a mirror 340 with a wave front adapted to the target shape of the surface of this mirror 340.
  • the CGH 320 generates three further output waves from the input wave 305 in transmission, each of which hits a further reflective optical element 331, 332 or 333.
  • a shutter is designated by “335”.
  • the CGH 320 is also used to superimpose the test wave reflected by the test object or mirror 340 as well as the reference waves reflected by the elements 331-333, which hit the beam splitter 310 again as convergent beams and from there in the direction of an interferometer camera designed as a CCD camera 360 are reflected, where they pass through an eyepiece 350.
  • the interferometer camera 360 records an interferogram generated by the interfering waves, from which the actual shape of the optical surface of the test object 340 is determined via an evaluation device (not shown).
  • FIG. 4a-b show schematic representations to explain a further possible functional principle of an interferometric test arrangement for testing a mirror 401.
  • an interferogram is reflected in a Fizeau arrangement between a reference surface 410 (“Fizeau plate”) Reference light (reference wave) and a measurement light (test wave) reflected on the mirror 401 is generated.
  • the measuring light is Computer-generated hologram (CGH) 420 formed into an aspherical wavefront which mathematically corresponds exactly to the “test object shape” (ie the shape of the relevant mirror 401) at a nominal distance.
  • CGH Computer-generated hologram

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts weist eine Prüfanordnung (130, 230) zur Bestimmung der Oberflächenform eines Test- objekts (111, 112, 113, 211, 212, 213) unter Verwendung einer Prüfwelle, wo- bei die Prüfwelle eine durch Beugung an einem diffraktiven optischen Element erzeugte Wellenfront aufweist, eine erste Vakuumkammer (110, 210) und eine zweite Vakuumkammer (120, 220) auf, wobei die zweite Vakuumkammer (120, 220) ein Magazin zur Lagerung von wenigstens zwei diffraktiven optischen Elementen (121, 122, 123, 221, 222, 223) aufweist.

Description

Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung
der Oberflächenform eines Testobjekts
Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der Deutschen Patent anmeldung DE 10 2019 201 762.2, angemeldet am 12. Februar 2019. Der Inhalt dieser DE-Anmeldung wird durch Bezugnahme („incorporation by reference“) mit in den vorliegenden Anmeldungstext aufgenommen.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts.
Stand der Technik
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikro lithographieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durchgeführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) proji ziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Sub strats zu übertragen. In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d.h. bei Wellenlän gen von z.B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit ge eigneter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Kompo nenten für den Abbildungsprozess verwendet. Typische für EUV ausgelegte Projektionsobjektive, wie z.B. aus US 2016/0085061 A1 bekannt, können bei spielsweise eine bildseitige numerische Apertur (NA) im Bereich von NA = 0.55 aufweisen und bilden ein (z.B. ringsegmentförmiges) Objektfeld in die Bildebe ne bzw. Waferebene ab.
Mit der Erhöhung der bildseitigen numerischen Apertur (NA) geht typischer weise eine Vergrößerung der erforderlichen Spiegelflächen der in der Projektionsbelichtungsanlage eingesetzten Spiegel einher. Dies hat wiederum zur Folge, dass neben der Fertigung auch die Prüfung der Oberflächenform der Spiegel eine anspruchsvolle Herausforderung darstellt. Hierbei kommen zur hochgenauen Prüfung der Spiegel insbesondere interferometrische Mess verfahren unter Verwendung diffraktiver optischer Elemente wie z.B. Compu- ter-generierter Hologramme (CGH) zum Einsatz. Dabei ist es u.a. auch be kannt, in ein- und dasselbe CGH zusätzlich zu der für die eigentliche Prüfung benötigten Funktionalität (d.h. der entsprechend der Spiegelform ausgelegten CGH-Struktur zur Formung der mathematisch der Prüflingsform entsprechen den Wellenfront) wenigstens eine weitere„Kalibrierfunktionalität“ zur Bereitstel lung einer zur Kalibrierung bzw. Fehlerkorrektur dienenden Referenzwellen front einzukodieren.
Derartige interferometrische Messverfahren werden zur Erfüllung der etwa bei der Prüfung von EUV-Spiegeln für die Mikrolithographie geltenden hohen Ge nauigkeitsanforderungen typischerweise unter Vakuumbedingungen (bei typi schen Drücken von größenordnungsmäßig weniger als l OOmbar, insbesondere weniger als 1 mbar) durchgeführt. Hierdurch wird u.a. dem Umstand Rechnung getragen, dass bei Betrieb der interferometrischen Prüfanordnung unter Atmo sphärendruck infolge der Temperaturabhängigkeit der Brechzahl von z.B. Luft eine hochgenaue Temperaturregelung mit Genauigkeiten von größenord nungsmäßig 10m K erforderlich wäre. Bei somit gebotener Durchführung der interferometrischen Spiegelprüfung unter den vorstehend beschriebenen Vakuumbedingungen tritt jedoch in der Praxis das weitere Problem auf, dass das Einbringen optischer Komponenten in eine Vakuumkammer infolge der beim Evakuieren stattfindenden Expansion der Luft mit einer Oberflächenabkühlung der jeweiligen optischen Komponen ten einhergeht. Um hierbei durch thermisch induzierte Deformationen bedingte temperaturabhängige Messfehler zu vermeiden, können entsprechende Temperierphasen eingeplant werden. Solche Temperierphasen können jedoch bei der Spiegelprüfung Wartezeiten von wesentlich mehr als 60 Minuten erfordern (um beispielsweise zum Vermessen eines EUV-Spiegels mit einer Genauigkeit von 0.1 nm eine Temperaturhomogenität von 4mK zu erreichen), wodurch der in der jeweiligen Messanordnung erzielte Durchsatz in uner wünschter Weise eingeschränkt wird.
Das vorstehend beschriebene Problem ist umso gravierender, als zur Prüfung unterschiedlicher Testobjekte bzw. EUV-Spiegel in der Regel unterschiedliche diffraktive optische Elemente bzw. CGHs zum Einsatz kommen, wodurch die insgesamt anfallende Wartezeit weiter vergrößert wird.
Zum Stand der Technik wird lediglich beispielhaft auf DE 10 2015 209 490 A1 sowie DE 10 2015 202 676 B4 verwiesen.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Vor dem obigen Hintergrund ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts bereitzustellen, welche eine erhöhte Messgenauigkeit unter zumindest teilweiser Vermeidung der vorstehend beschriebenen Probleme ermöglichen. Diese Aufgabe wird durch die Vorrichtung gemäß den Merkmalen des unab hängigen Patentanspruchs 1 bzw. das Verfahren gemäß den Merkmalen des nebengeordneten Patentanspruchs 15 gelöst.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist eine Vorrichtung zur Charakterisie rung der Oberflächenform eines Testobjekts
- eine Prüfanordnung zur Bestimmung der Oberflächenform eines Testob jekts unter Verwendung einer Prüfwelle, wobei die Prüfwelle eine durch Beugung an einem diffraktiven optischen Element erzeugte Wellenfront aufweist,
- eine erste Vakuumkammer, und
- eine zweite Vakuumkammer auf,
- wobei die zweite Vakuumkammer ein Magazin zur Lagerung von wenigs tens zwei diffraktiven optischen Elementen aufweist.
Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, bei Durchführung in- terferometrischer Messungen an unterschiedlichen Testobjekten (z.B. EUV- Spiegeln) durch Bereitstellung von zwei Vakuumkammern, von denen die eine Vakuumkammer ein Magazin zur Lagerung einer Mehrzahl diffraktiver opti scher Elemente aufweist, zu gewährleisten, dass die jeweiligen diffraktiven op tischen Elemente (z.B. CGHs) dauerhaft im Vakuum verbleiben können mit der Folge, dass unerwünschte zeitlich ausgedehnte Warte- bzw. Temperierphasen entbehrlich werden.
Dabei ist im Sinne der vorliegenden Anmeldung unter einem„Magazin“ eine beliebige Speicher- bzw. Lagervorrichtung zur Aufnahme von einer Mehrzahl (d.h. wenigstens zwei) diffraktiven optischen Elementen zu verstehen.
Des Weiteren ist im Sinne der vorliegenden Anmeldung unter einem Vakuum zustand vorzugsweise ein Zustand mit einem (konstanten oder wechselnden) Druck von weniger als l OOmbar, insbesondere weniger als 1 mbar, zu verste hen. Dabei geht die Erfindung u.a. von der Überlegung aus, dass bei diffraktiven op tischen Elementen wie z.B. CGHs (insbesondere solchen mit Substraten aus Quarzglas) das eingangs beschriebene Problem thermisch induzierter Defor mationen auch bei den vergleichsweise moderaten Vakuumbedingungen in in- terferometrischen Messanwendungen (mit Vakuumdrücken z.B. im Bereich von 1 mbar bis l OOmbar) kritische Auswirkungen auf die Messgenauigkeit hat, wo hingegen das thermische Verhalten der eigentlichen Testobjekte wie z.B. EUV- Spiegel in solchen Szenarien - sowohl im Vergleich zu besagten CGHs als auch im Vergleich zum Einsatz in der eigentlichen mikrolithographischen Pro jektionsbelichtungsanlage - vergleichsweise stabil ist.
Von dieser Überlegung ausgehend wird in Ausführungsformen der Erfindung ein Wechsel der jeweiligen Testobjekte zwischen Vakuum- und Atmosphären druck zwar für die Testobjekte, nicht jedoch die diffraktiven optischen Elemente bzw. CGHs vorgenommen.
Dabei wird im Rahmen der vorliegenden Erfindung sowohl ein durch die Lage rung mehrerer diffraktiver optischer Elemente im Vakuum bedingter erhöhter Bauraumbedarf als auch ein höherer Automatisierungsgrad insbesondere für die Justierung der jeweiligen diffraktiven optischen Elemente bzw. CGHs in der interferometrischen Prüfanordnung in Kauf genommen, um im Gegenzug den angestrebten hohen Durchsatz in der Prüfanordnung unter Vermeidung der eingangs beschriebenen zeitlich ausgedehnten Temperierphasen zu erreichen.
Gemäß einer Ausführungsform ist die zweite Vakuumkammer zur permanenten Aufrechterhaltung eines Vakuumzustandes während des Betriebs der Vorrich tung konfiguriert.
Gemäß einer Ausführungsform ist die erste Vakuumkammer dazu konfiguriert, während des Betriebs der Vorrichtung zwischen einem Zustand mit Atmosphä rendruck und einem Vakuumzustand zu wechseln. Gemäß einer Ausführungsform weist die Vorrichtung eine erste Transportein richtung zum Transportieren eines Testobjekts von einem äußeren Bereich in die erste Vakuumkammer auf.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Prüfanordnung in der zweiten Vakuum kammer angeordnet.
Gemäß einer Ausführungsform weist die Vorrichtung eine zweite Transportein richtung zum Transportieren jeweils eines Testobjekts von der ersten Vakuum kammer in die zweite Vakuumkammer auf.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die Prüfanordnung in der ersten Vakuumkammer angeordnet.
Gemäß einer Ausführungsform sind die erste Vakuumkammer und die zweite Vakuumkammer dazu konfiguriert, dass die erste Vakuumkammer jeweils ei nes der diffraktiven optischen Elemente von der zweiten Vakuumkammer unter Vakuumbedingungen aufnimmt.
Gemäß einer Ausführungsform weist die Vorrichtung einen Austauschmecha nismus zum Austausch des jeweils in der Prüfanordnung befindlichen diffrakti ven optischen Elements auf.
Gemäß einer Ausführungsform sind die diffraktiven optischen Elemente Com- puter-generierte Hologramme (CGH).
Gemäß einer Ausführungsform weisen die diffraktiven optischen Elemente Quarzglas (S1O2) auf.
Gemäß einer Ausführungsform sind die Testobjekte optische Elemente, insbe sondere für die Mikrolithographie. Gemäß einer Ausführungsform sind die Testobjekte Spiegel, insbesondere für den Betrieb unter EUV-Bedingungen ausgelegte Spiegel.
Die Erfindung betrifft weiter ein Vakuumkammersystem zur Verwendung in einer Vorrichtung mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen, sowie ein Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts unter Verwendung einer Vorrichtung mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unteransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Es zeigen:
Figur 1-2 schematische Darstellungen zur Erläuterung beispielhafter
Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung;
Figur 3 eine schematische Darstellung eines möglichen Aufbaus einer interferometrischen Prüfanordnung;
Figur 4 schematische Darstellungen einer weiteren möglichen Ausge staltung einer interferometrischen Prüfanordnung; und
Figur 5 eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage. DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER
AUSFÜHRUNGSFORMEN
Fig. 5 zeigt zunächst eine schematische Darstellung einer beispielhaften für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage, welche mit einer erfindungsgemäßen Vorrichtung prüfbare Spiegel aufweist.
Gemäß Fig. 5 weist eine Beleuchtungseinrichtung in einer für EUV ausgeleg ten Projektionsbelichtungsanlage 510 einen Feldfacettenspiegel 503 und einen Pupillenfacettenspiegel 504 auf. Auf den Feldfacettenspiegel 503 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 501 und einen Kollektorspiegel 502 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillenfacetten spiegel 504 sind ein erster Teleskopspiegel 505 und ein zweiter Teleskopspie gel 506 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspiegel 507 ange ordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebe ne eines sechs Spiegel 521-526 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 531 auf einem Maskentisch 530 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 541 auf einem Wafertisch 540 be findet.
Bei dem in einer im Weiteren beschriebenen erfindungsgemäßen Vorrichtung geprüften Testobjekt kann es sich z.B. um einen beliebigen Spiegel der Projek tionsbelichtungsanlage 510 handeln.
Im Weiteren werden Ausführungsformen der Erfindung unter Bezugnahme auf die schematischen Abbildungen in Fig. 1 und Fig. 2 beschrieben.
Den Ausführungsformen von Fig. 1 und Fig. 2 ist u.a. gemeinsam, dass die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform ei nes Testobjekts wie z.B. eines EUV-Spiegels eine (mit„110“ bzw.„210“ be- zeichnete) erste Vakuumkammer und eine (mit„120“ bzw.„220“ bezeichnete) zweite Vakuumkammer aufweist, wobei besagte zweite Vakuumkammer 120, 220 ein (in Fig. 1-2 nicht näher dargestelltes) Magazin zur Lagerung einer Mehrzahl von diffraktiven optischen Elementen (welche in Fig. 1 -2 mit 121 , 122, 123, ... bzw. 221 , 222, 223, ... bezeichnet sind und deren Anzahl grund sätzlich beliebig ist) aufweist.
Dabei ist jeweils besagte zweite Vakuumkammer 120 bzw. 220 zur permanen ten Aufrechterhaltung von Vakuumbedingungen (z.B. mit Vakuumdrücken von weniger als l OOmbar, insbesondere weniger als 1 mbar) konfiguriert, wohinge gen die erste Vakuumkammer 110 bzw. 210 wie im Weiteren beschrieben dazu konfiguriert ist, zwischen Atmosphärendruck und Vakuumbedingungen zu wechseln.
In der Ausführungsform von Fig. 1 befindet sich eine Prüfanordnung 130 zur Bestimmung der Oberflächenform jeweils eines Testobjekts 111 , 112, 113, ... in der zweiten Vakuumkammer 120. Mögliche Ausgestaltungen einer solchen Prüfanordnung werden unter Bezugnahme auf Fig. 3 und Fig. 4a-4b noch be schrieben.
Des Weiteren ist gemäß Fig. 1 die erste Vakuumkammer 110 als Schleusen kammer mit entsprechenden Schleusentüren 114, 115 ausgestaltet, über wel che unterschiedliche Testobjekte 111 , 112, 113, ... von einem unter
Atmosphärendruck befindlichen äußeren Bereich in die zweite Vakuumkammer 120 sowie in umgekehrter Richtung überführt werden können. Gemäß Fig. 1 sind hierzu zwei (durch Doppelpfeile symbolisierte) Transporteinrichtungen 150, 160 vorgesehen, um das jeweilige Testobjekt 111 , 112, 113, ... zunächst vom (Atmosphärendruck aufweisenden) äußeren Bereich in die hier als Schleusenkammer dienende erste Vakuumkammer 110 und anschließend bei Vakuumbedingungen in die zweite Vakuumkammer 120 zu überführen. Dabei können die Transporteinrichtungen 150, 160 z.B. einen robotergestützt betrie benen Greifarm, welcher jeweils an einer Fassung des betreffenden Test objekts (z.B. CGHs) angreift, aufweisen. Im Betrieb der Vorrichtung gemäß Fig. 1 wird nach Überführung eines„neuen“ zu prüfenden Testobjekts 111 , 112, 113,... in die als Schleusenkammer dienende erste Vakuumkammer 110 nach Schließen der Schleusentüren 114, 115 die erste Vakuumkammer 110 auf das gewünschte Vakuum (z.B. auf einen Druck von weniger als l OOmbar, vorzugsweise von weniger als 1 mbar) abgepumpt, wobei im Hinblick auf den angestrebten hohen Durchsatz vor zugsweise möglichst niedrige Abpumpzeiten von weniger als 10 Minuten, ins besondere weniger als 1 Minute (z.B. jeweils bis zum Erreichen eines Druckes von 1 mbar) realisiert werden.
Hierbei können an die Transporteinrichtungen 150, 160 gemäß Fig. 1 rechner gesteuert Befehle zur Aufnahme jeweils eines neuen Testobjekts 111 , 112, 113, ... übermittelt werden, wobei das betreffende Testobjekt 111 , 112, 113, ... dann auf den entsprechenden Befehl in die (Mess-) Position innerhalb der Prüfanordnung 130 verfahren und ferner ein Austauschmechanismus 140 zur Platzierung des jeweils für die Prüfung des betreffenden Testobjekts geeigne ten diffraktiven optischen Elements 121 , 122, 123, ... in der Prüfanordnung 130 angesteuert wird. In Ausführungsformen kann das Magazin zur Lagerung der Mehrzahl von diffraktiven optischen Elementen 121 , 122, 123, ... auch im Bereich des Austauschmechanismus 140 angeordnet oder in diesen integriert sein.
Die Erfindung macht sich u.a. auch den Umstand zunutze, dass entsprechende elektrische Antriebe bei den vorstehend beschriebenen, vergleichsweise moderaten Vakuumbedingungen kommerziell verfügbar sind und problemlos in der ersten Vakuumkammer 110 bzw. in der zweiten Vakuumkammer 120 plat ziert und über geeignete Vakuumdurchführungen angesteuert werden können.
Vorzugsweise sind die Testobjekte 111 , 112, 113, ... in die jeweilige Messposi tion innerhalb der Prüfanordnung 130 überführbar bzw. aus dieser Messpositi on wieder entnehmbar, ohne dass hierbei eine Kollision mit dem jeweiligen dif fraktiven optischen Element 121 , 122, 123, ... erfolgt, was sowohl gemäß Fig. 1 als auch gemäß Fig. 2 über eine seitliche Zuführung des jeweiligen Testobjekts in die Messposition realisiert ist. Auf diese Weise können unterschiedliche Testobjekte 111 , 112, 113, ... (für deren Vermessung z.B. ein- und dasselbe diffraktive optische Element geeignet ist) geprüft werden, ohne dass hierzu das diffraktive optische Element aus der Prüfanordnung 130 bzw. 230 entfernt zu werden braucht.
Die Ausführungsform von Fig. 2 unterscheidet sich von der Ausführungsform von Fig. 1 insbesondere dadurch, dass gemäß Fig. 2 die Prüfanordnung 230 in der (zwischen Atmosphärendruck und Vakuumbedingungen wechselnden) ers ten Vakuumkammer 210 angeordnet ist und demzufolge die Prüfanordnung 230 ebenfalls zwischen Atmosphärendruck und Vakuumbedingungen wech selt.
Gemäß Fig. 2 ist ferner im Unterschied zu Fig. 1 für den Transport der Testob jekte 211 , 212, 213, ... vom äußeren (Atmosphärendruck aufweisenden) Be reich in die erste Vakuumkammer 110 bzw. 210 lediglich eine (durch einen Doppelpfeil symbolisierte) Transporteinrichtung 250 vorgesehen. Gemäß Fig. 2 kann über diese Transporteinrichtung 250 (welche z.B. einen in Atmosphären druck befindlichen Roboter aufweisen kann) das jeweilige Testobjekt 211 , 212, 213, ... direkt in der Messposition in der Prüfanordnung 230 abgelegt werden, woraufhin typischerweise lediglich noch eine Justage um z.B. wenige Mikro meter (pm) zu erfolgen braucht.
Die Ausführungsform von Fig. 2 hat dabei gegenüber der Ausführungsform von Fig. 1 den Vorteil, dass auch vergleichsweise große und schwere Testobjekte wie z.B. EUV-Spiegel mit einem einzigen (z.B. schienenbasierten) Transport system direkt vom äußeren (Atmosphärendruck aufweisenden) Bereich in die jeweilige Messposition überführt werden können, da anders als bei Fig. 1 keine Flindurchführung des Testobjekts durch eine weitere Schleusenöffnung hin zur Prüfanordnung zu erfolgen hat. Andererseits wird gemäß Fig. 2 das Evakuie ren eines im Vergleich zum Volumen der Vakuumkammer 110 aus Fig. 1 größeren Volumens der die Prüfanordnung 230 aufnehmenden Vakuumkam mer 210 in Kauf genommen. Fig. 3 und Fig. 4a-4b zeigen in schematischer Darstellung beispielhafte mögli che Realisierungen der interferometrischen Prüfanordnung 130 bzw. 230 in den vorstehend beschrieben Ausführungsformen.
Gemäß Fig. 3 tritt von einer (nicht dargestellten) Lichtquelle erzeugte und aus der Austrittsfläche eines Lichtwellenleiters 301 austretende Beleuchtungsstrah lung als Eingangswelle 305 mit einer sphärischen Wellenfront aus, durchläuft einen Strahlteiler 310 und trifft anschließend auf ein komplex kodiertes CGH 320. Das CGH 320 erzeugt in Transmission im Beispiel gemäß seiner komple xen Kodierung aus der Eingangswelle 305 insgesamt vier Ausgangswellen, von denen eine Ausgangswelle als Prüfwelle auf die Oberfläche des Testob jekts in Form eines Spiegels 340 mit einer an die Sollform der Oberfläche die ses Spiegels 340 angepassten Wellenfront auftrifft. Des Weiteren erzeugt das CGH 320 aus der Eingangswelle 305 in Transmission drei weitere Ausgangs wellen, von denen jede auf jeweils ein weiteres reflektives optisches Element 331 , 332 bzw. 333 trifft. Mit„335“ ist ein Shutter bezeichnet. Das CGH 320 dient auch zur Überlagerung der vom Testobjekt bzw. Spiegel 340 reflektierten Prüfwelle sowie der von den Elementen 331 -333 reflektierten Referenzwellen, welche als konvergente Strahlen wieder auf den Strahlteiler 310 treffen und von diesem in Richtung einer als CCD-Kamera ausgelegten Interferometerka mera 360 reflektiert werden, wobei sie ein Okular 350 durchlaufen. Die Inter ferometerkamera 360 erfasst ein durch die interferierenden Wellen erzeugtes Interferogramm, aus welchem über eine (nicht dargestellte) Auswerteeinrich tung die tatsächliche Form der optischen Oberfläche des Testobjekts 340 bestimmt wird.
Fig. 4a-b zeigen schematische Darstellungen zur Erläuterung eines weiteren möglichen Funktionsprinzips einer interferometrischen Prüfanordnung zur Prü fung eines Spiegels 401. Gemäß Fig. 4a wird in einer Fizeau-Anordnung ein Interferogramm zwischen an einer Referenzfläche 410 („Fizeau-Platte“) reflek tiertem Referenzlicht (Referenzwelle) und einem an dem Spiegel 401 reflek tierten Messlicht (Prüfwelle) erzeugt. Dabei wird das Messlicht durch ein Com- puter-generiertes Hologramm (CGH) 420 zu einer asphärischen Wellenfront geformt, die mathematisch exakt der„Prüflingsform“ (d.h. der Form des betref fenden Spiegels 401 ) in einem Sollabstand entspricht. Die von der Referenz fläche 410 einerseits und dem betreffenden Spiegel 401 bzw. Prüfling anderer- seits reflektierten Wellenfronten interferieren miteinander in einem (in Fig. 4b im Gesamtaufbau schematisch und bespielhaft dargestellten) Interferometer 405, wobei in Fig. 4b für das Interferometer 405 ein Kollimator 409, eine Strahl teilerplatte 408, eine Blende 407, ein Okular 406 und eine CCD-Kamera 404 sowie eine Lichtquelle 403 dargestellt sind. Mit der CCD-Kamera 404 wird ein Interferogramm des jeweiligen Spiegels aufgenommen.
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alterna tive Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungs formen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äqui valente beschränkt ist.

Claims

Patentansprüche
1. Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts, mit:
• einer Prüfanordnung (130, 230) zur Bestimmung der Oberflächen form eines Testobjekts (111 , 112, 113, 211 , 212, 213) unter Verwen dung einer Prüfwelle, wobei die Prüfwelle eine durch Beugung an einem diffraktiven optischen Element erzeugte Wellenfront aufweist;
• einer ersten Vakuumkammer (110, 210); und
• einer zweiten Vakuumkammer (120, 220);
• wobei die zweite Vakuumkammer (120, 220) ein Magazin zur Lage rung von wenigstens zwei diffraktiven optischen Elementen (121 , 122, 123, 221 , 222, 223) aufweist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Vakuumkammer (120, 220) zur permanenten Aufrechterhaltung eines Vakuumzustands während des Betriebs der Vorrichtung konfiguriert ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Vakuumkammer (110, 210) dazu konfiguriert ist, während des Be triebs der Vorrichtung zwischen einem Zustand mit Atmosphärendruck und einem Vakuumzustand zu wechseln.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine erste Transporteinrichtung (150, 250) zum Transportieren jeweils eines Testobjekts (111 , 112, 113, 211 , 212, 213) von einem äußer en Bereich in die erste Vakuumkammer (110, 210) aufweist.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die Prüfanordnung (130) in der zweiten Vakuumkam mer (120) angeordnet ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine zweite Transporteinrichtung (160) zum Transportieren eines Testobjekts (111 , 112, 113) von der ersten Vakuumkammer (110) in die zweite Vakuumkammer (120) aufweist.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Prüfanordnung (230) in der ersten Vakuumkammer (210) ange ordnet ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Vakuumkammer (210) und die zweite Vakuumkammer (220) dazu konfigu riert sind, dass die erste Vakuumkammer (210) jeweils eines der diffrakti- ven optischen Elemente (221 , 222, 223) von der zweiten Vakuumkammer (220) unter Vakuumbedingungen aufnimmt.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass diese einen Austauschmechanismus (140, 240) zum Austausch des jeweils in der Prüfanordnung (130, 230) befindlichen diffraktiven optischen Elements (121 , 122, 123, 221 , 222, 223) aufweist.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die diffraktiven optischen Elemente (121 , 122, 123, 221 , 222, 223) Computer-generierte Hologramme (CGH) sind.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die diffraktiven optischen Elemente (121 , 122, 123, 221 , 222, 223) Quarzglas (S1O2) aufweisen.
12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge kennzeichnet, dass die Testobjekte (111 , 112, 113, 211 , 212, 213) opti sche Elemente, insbesondere für die Mikrolithographie, sind.
13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge- kennzeichnet, dass die Testobjekte (111 , 112, 113, 211 , 212, 213) Spiegel, insbesondere für den Betrieb unter EUV-Bedingungen ausgelegte Spiegel, sind.
14. Vakuumkammersystem zur Verwendung in einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13.
15. Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts unter Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 13.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102021202909A1 (de) * 2021-03-25 2022-09-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Messvorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Oberflächenform

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19944021A1 (de) * 1998-09-14 2000-05-04 Nikon Corp Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche
US20070121092A1 (en) * 2005-11-11 2007-05-31 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
DE102006055070A1 (de) * 2006-11-22 2008-06-05 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts
DE102008000790A1 (de) * 2007-03-20 2008-09-25 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Verbessern von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System
DE102007036814A1 (de) * 2007-08-03 2009-02-12 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Koordinaten-Messmaschine zum Vermessen von Strukturen auf einem Substrat
US20160085061A1 (en) 2013-07-29 2016-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit
DE102015202676B4 (de) 2015-02-13 2016-09-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Interferometrische Messvorrichtung
DE102015209490A1 (de) 2015-05-22 2016-11-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Interferometrische Messanordnung

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11125511A (ja) * 1997-10-22 1999-05-11 Canon Inc 面形状測定装置
JP2000193644A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Japan Steel Works Ltd:The 表面状態検出方法および基板表面状態検出装置
DE10351142B4 (de) * 2002-11-04 2007-01-04 Schott Ag Vorrichtungen und Verfahren zur Messung von thermisch induzierten Oberflächendeformationen
JP4336509B2 (ja) * 2003-03-07 2009-09-30 キヤノン株式会社 処理方法及びシステム
JP4564742B2 (ja) * 2003-12-03 2010-10-20 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
EP1901125A1 (de) * 2006-09-14 2008-03-19 Carl Zeiss SMT AG Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen
JP2008263173A (ja) * 2007-03-16 2008-10-30 Canon Inc 露光装置
KR20200043533A (ko) * 2011-09-02 2020-04-27 가부시키가이샤 니콘 공간 광 변조기의 검사 방법 및 장치, 및 노광 방법 및 장치
US9581910B2 (en) * 2013-01-17 2017-02-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Method of lithographically transferring a pattern on a light sensitive surface and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
DE102015202695A1 (de) * 2015-02-13 2016-08-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Prüfvorrichtung sowie Verfahren zum Prüfen eines Spiegels
WO2016184571A2 (de) * 2015-05-20 2016-11-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Messverfahren und messanordnung für ein abbildendes optisches system
US10151574B2 (en) * 2016-07-12 2018-12-11 Uchicago Argonne, Llc Precision surface measurement in a vacuum

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19944021A1 (de) * 1998-09-14 2000-05-04 Nikon Corp Interferometrische Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen der Oberflächentopographie einer Testoberfläche
US20070121092A1 (en) * 2005-11-11 2007-05-31 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
DE102006055070A1 (de) * 2006-11-22 2008-06-05 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zum interferometrischen Vermessen einer Form eines Testobjekts
DE102008000790A1 (de) * 2007-03-20 2008-09-25 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Verbessern von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems sowie derartiges optisches System
DE102007036814A1 (de) * 2007-08-03 2009-02-12 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Koordinaten-Messmaschine zum Vermessen von Strukturen auf einem Substrat
US20160085061A1 (en) 2013-07-29 2016-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit
DE102015202676B4 (de) 2015-02-13 2016-09-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Interferometrische Messvorrichtung
DE102015209490A1 (de) 2015-05-22 2016-11-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Interferometrische Messanordnung

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