WO2019230641A1 - 排ガス洗浄システムおよび排ガス洗浄システムの運用方法 - Google Patents

排ガス洗浄システムおよび排ガス洗浄システムの運用方法 Download PDF

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WO2019230641A1
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exhaust gas
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亮太 文
長安 弘貢
彬人 大谷
祐輔 渡辺
龍 清野
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三菱日立パワーシステムズ株式会社
三菱造船株式会社
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Definitions

  • the present disclosure relates to an exhaust gas cleaning system for cleaning exhaust gas discharged from an exhaust gas generator mounted on a ship, and an operation method of the exhaust gas cleaning system.
  • the amount of exhaust gas discharged from the main engine of a very large ship (the amount of exhaust gas at 100% load) reaches, for example, 200,000 Nm 3 / h or more.
  • a plurality of power generation engines and boilers are installed in order to respond to various electric power demands etc. in a very large ship.
  • a desulfurization apparatus having a large passage area is required for a desulfurization apparatus mounted on a very large ship in order to desulfurize a large amount of exhaust gas discharged from these main engines and a plurality of power generation engines / boilers.
  • Patent Document 1 discloses a cleaning water supply system for performing a so-called open loop operation in which cleaning water taken from outside the hull is discharged outside the hull after use with an exhaust gas cleaning device, and cleaning water (seawater or fresh water) in the hull.
  • An exhaust gas cleaning system for ships is provided, which is provided with a cleaning water supply system for performing so-called closed loop operation, which is used in an exhaust gas cleaning device after cooling.
  • Patent Document 1 discloses that either one of a washing water supply system for performing an open loop operation and a washing water supply system for performing a closed loop operation can be switched from one to the other. Yes.
  • an object of at least one embodiment of the present invention is to provide an exhaust gas cleaning system that can be easily remodeled from an existing exhaust gas cleaning system and can suppress an increase in the occupied area.
  • An exhaust gas cleaning system includes: An exhaust gas cleaning system for cleaning exhaust gas discharged from an exhaust gas generator mounted on a ship, A desulfurization tower that internally defines a gas-liquid contact portion for bringing the cleaning liquid into contact with the exhaust gas; A water intake section for taking outboard water from outside the hull; A supply path connecting the intake section and the desulfurization tower; A discharge path for discharging the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower to the outside of the hull; A circulation path for refluxing the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower to the supply path as a circulation liquid, and a circulation path that merges at the junction with the supply path; In order to switch the supply source of the cleaning liquid supplied to the desulfurization tower to either the outboard water taken by the water intake section or the circulating liquid returned to the supply path through the circulation path A supply-side switching device of A discharge-side switching device for switching the outflow destination of the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower to either the discharge path or the circulation
  • the exhaust gas cleaning system uses a supply source of the cleaning liquid supplied to the desulfurization tower as outboard water taken in by the water intake unit, or circulation returned to the supply path via the circulation path A supply-side switching device for switching to any one of the liquids, and a discharge-side switching device for switching the outflow destination of the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower to either the discharge path or the circulation path ing.
  • the exhaust gas cleaning system includes an open loop operation in which the supply source is outboard water and the outflow destination of the cleaning liquid is a discharge path by the supply side switching device and the discharge side switching device, and the supply source is a circulating fluid. In addition, it is possible to switch to a closed loop operation where the outflow destination of the cleaning liquid is a circulation path.
  • the exhaust gas cleaning system is a shared facility in which the downstream portion of the supply passage and the desulfurization tower are used in both the open loop operation and the closed loop operation.
  • the downstream portion and the desulfurization tower are used in both the open loop operation and the closed loop operation.
  • the water supply pump provided on the downstream side of the junction in the supply path, and the circulation path provided in the circulation path.
  • a storage tank capable of storing the liquid.
  • the water supply pump is also a shared facility that is used in any operating state of the open loop operation and the closed loop operation, and from the existing exhaust gas cleaning system as in the configuration of (1) above. Remodeling is easy and increase in the area occupied by the exhaust gas cleaning system can be suppressed. Furthermore, by storing the circulating fluid in the storage tank, it is possible to stably supply the circulating fluid to the desulfurization tower during closed loop operation. Further, when the operation state is switched from the closed loop operation to the open loop operation, the operation state can be quickly switched by storing the circulating fluid remaining in the circulation path in the storage tank.
  • a storage amount acquisition device configured to be able to acquire a storage amount of the circulating fluid in the storage tank
  • the storage tank The outboard water supply device configured to be able to replenish the outboard water and the outboard to the storage tank by the outboard water supply device according to the storage amount acquired by the storage amount acquisition device
  • a control unit that controls a replenishment amount of water.
  • the exhaust gas cleaning system controls the replenishment amount of the outboard water to the storage tank by the outboard water replenishment device in accordance with the storage amount acquired by the storage amount acquisition device by the control unit. By doing so, the storage amount of the storage tank can be set to an appropriate amount.
  • a pH value detection device configured to be able to detect the pH value of the circulating fluid in the storage tank, and the storage tank
  • a neutralizer addition device configured to be capable of adding a neutralizer
  • the control unit is configured to use the neutralizer addition device according to the pH value detected by the pH value detection device. The amount of the neutralizing agent added is controlled.
  • the exhaust gas cleaning system controls the amount of neutralizing agent added by the neutralizing agent adding device according to the pH value detected by the control unit with the pH value detecting device, Excessive consumption of the neutralizing agent can be prevented, and corrosion of equipment and piping such as a water pump located at a later stage than the storage tank can be suppressed. By suppressing corrosion of equipment such as a water pump and piping, the exhaust gas cleaning system can stably clean the exhaust gas over a long period of time.
  • a circulating liquid processing apparatus capable of removing impurities from the circulating liquid, and the circulating liquid is used as the circulating liquid processing apparatus.
  • a liquid path to be processed to be sent to the circulating liquid processing apparatus as a liquid to be processed by the liquid processing apparatus, and a liquid flow rate control valve configured to be able to control a flow rate of the liquid to be processed in the liquid path to be processed are further provided.
  • the circulating liquid in which impurities are concentrated by repeatedly cleaning the exhaust gas is sent to the circulating liquid processing apparatus via the processing liquid path as the processing liquid to be processed by the circulating liquid processing apparatus.
  • clogging and scaling of the piping can be prevented, so that stable operation is possible.
  • the exhaust gas cleaning system according to (5) further includes a specific gravity detection device capable of detecting a specific gravity of the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas, and the control unit includes the specific gravity.
  • the opening degree of the to-be-processed liquid flow rate control valve can be controlled according to the specific gravity of the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas detected by the detection device.
  • the cleaning liquid (circulating liquid) in which impurities are concentrated by repeated exhaust gas cleaning tends to increase in specific gravity.
  • the control unit controls the opening degree of the liquid flow control valve to be processed in accordance with the specific gravity of the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas detected by the specific gravity detection device.
  • a cleaning liquid (liquid to be processed) having an appropriate flow rate can be supplied to the processing liquid path.
  • a liquid storage tank that is provided in the liquid path to be processed and that can store the liquid to be processed is further provided. Prepare.
  • the exhaust gas cleaning system stores a part of the liquid to be processed before being processed by the circulating liquid processing apparatus in the liquid storage tank to be processed, so that the processing amount per unit time is increased. Even a small and small circulating liquid processing apparatus can process the liquid to be processed. Further, by reducing the size of the circulating fluid treatment device, it is possible to save the space of the exhaust gas cleaning system and reduce the device cost.
  • the liquid passage to be treated is provided downstream of the water supply pump in the supply passage.
  • a first treatment liquid path connecting the first branching section and the circulating liquid treatment apparatus; and the treatment liquid flow rate control valve is capable of controlling a flow rate of the treatment liquid in the first treatment liquid path.
  • the 1st to-be-processed liquid flow rate control valve comprised is included.
  • the exhaust gas cleaning system controls the flow rate of the liquid to be treated in the first liquid flow path by the first liquid flow rate control valve, so that the first liquid flow path is controlled.
  • the liquid to be treated can be flowed at an appropriate flow rate from the supply path to the circulating liquid treatment apparatus.
  • the pump pressure of a water-feed pump acts on the to-be-processed liquid in a 1st to-be-processed liquid path.
  • the piping design of the 1st to-be-processed liquid path can be increased.
  • the liquid passage to be treated is a first connecting the storage tank and the circulating liquid treatment apparatus.
  • the liquid flow rate control valve includes a second liquid flow rate control valve configured to be able to control the flow rate of the liquid to be processed in the second liquid flow path.
  • the exhaust gas cleaning system controls the flow rate of the liquid to be processed in the second liquid path to be processed by the second liquid flow rate control valve for the second liquid to be processed via the second liquid path to be processed.
  • the exhaust gas cleaning system can flow the circulating fluid remaining in the storage tank to the second treated liquid path after switching from the closed loop operation to the open loop operation, the closed loop operation is changed to the open loop operation. Can be switched quickly.
  • the exhaust gas cleaning system performs control for opening the second liquid flow rate control valve by the control unit when the storage amount acquired by the storage amount acquisition device exceeds the upper limit threshold.
  • excess circulating fluid stored in the storage tank can be quickly discharged from the storage tank.
  • the control unit sets the storage amount acquired by the storage amount acquisition device to a lower limit threshold value.
  • fill the control which switches the said supply source by the said supply side switching apparatus to the said outboard water taken in by the said intake part is possible.
  • the exhaust gas cleaning system supplies the control by switching the supply-side switching device by the control unit when the storage amount acquired by the storage amount acquisition device is less than the lower limit threshold. Since the source can be switched to the outboard water acquired by the water supply section, the insufficient circulating fluid can be quickly supplied to the storage tank.
  • the desulfurization tower in the exhaust gas cleaning system according to any one of (2) to (11), includes a liquid pool portion positioned below the gas-liquid contact portion, The storage tank located below the liquid pool is further defined inside.
  • An operation method of the exhaust gas cleaning system includes: An operation method of an exhaust gas cleaning system for cleaning exhaust gas discharged from an exhaust gas generator mounted on a ship,
  • the exhaust gas cleaning system is A desulfurization tower that internally defines a gas-liquid contact portion for bringing the cleaning liquid into contact with the exhaust gas;
  • a water intake section for taking outboard water from outside the hull;
  • a supply path connecting the intake section and the desulfurization tower;
  • a water pump provided downstream of the junction in the supply path;
  • the supply source of the cleaning liquid is returned to the supply path through the circulation path from the outboard water taken by the intake section by the supply side switching device.
  • the operation state of the exhaust gas cleaning system is changed by performing a first supply source switching step for switching to the circulating fluid and a first outlet switching step for switching the discharge destination of the cleaning liquid from the discharge path to the circulation path by the discharge side switching device. It is possible to switch from open loop operation to closed loop operation.
  • the exhaust gas cleaning system in the circulation path and can store the circulating fluid; and A storage amount acquisition device configured to be capable of acquiring the amount of the circulating fluid stored in the storage tank, and the operation method of the exhaust gas cleaning system is configured to store the amount of the circulating fluid stored by the storage amount acquisition device.
  • a storage amount acquisition step to be acquired is further provided, wherein the first supply source switching step is after the first outflow destination switching step and after the storage amount acquired by the storage amount acquisition step exceeds a predetermined amount. Done.
  • the operation method of the exhaust gas cleaning system can acquire the storage amount of the circulating fluid in the storage tank in the storage amount acquisition step.
  • the first supply source switching step is performed after the first outflow destination switching step and after the storage amount in the storage tank exceeds a predetermined amount.
  • the operation method of such an exhaust gas cleaning system is that the sufficient amount of circulating fluid is stored in the storage tank when the supply source of cleaning fluid is switched from outboard water to circulating fluid. It is possible to suppress a decrease in the cleaning ability.
  • An operation method of the exhaust gas cleaning system includes: An operation method of an exhaust gas cleaning system for cleaning exhaust gas discharged from an exhaust gas generator mounted on a ship,
  • the exhaust gas cleaning system is A desulfurization tower that internally defines a gas-liquid contact portion for bringing the cleaning liquid into contact with the exhaust gas;
  • a water intake section for taking outboard water from outside the hull;
  • a supply path connecting the intake section and the desulfurization tower;
  • a water pump provided downstream of the junction in the supply path;
  • the operation method of the exhaust gas cleaning system is such that the supply side of the cleaning liquid is taken out from the circulating liquid returned to the supply path through the circulation path by the supply side switching device.
  • the operation state of the exhaust gas cleaning system is closed by performing a second supply source switching step for switching to water and a second outlet switching step for switching the discharge destination of the cleaning liquid from the circulation path to the discharge path by the discharge side switching device. It is possible to switch from loop operation to open loop operation.
  • the exhaust gas cleaning system in the circulation path and can store the circulating fluid; and A circulating liquid processing apparatus capable of removing impurities from the circulating liquid, and a liquid path to be processed for sending the circulating liquid to the circulating liquid processing apparatus as a processing liquid to be processed by the circulating liquid processing apparatus.
  • the process liquid flow rate control valve is opened and stored in the storage tank after the second supply source switching step and the second outflow destination switching step.
  • the serial circulating fluid further comprises a circulating fluid discharge step of sending to the circulating fluid processing apparatus.
  • the exhaust gas cleaning system is operated after the second supply source switching step and the second outlet switching step, after the liquid flow rate control valve (second liquid flow rate control valve to be processed). ) Is opened, and the circulating fluid discharge step for sending the circulating fluid stored in the storage tank to the circulating fluid treatment device is further provided. Therefore, when the operating state of the exhaust gas cleaning system is switched from closed loop operation to open loop operation. The circulating fluid remaining in the storage tank can be discharged to the circulating fluid processing device located outside the storage tank.
  • an exhaust gas cleaning system that can be easily modified from an existing exhaust gas cleaning system and can suppress an increase in the exclusive area.
  • an expression indicating that things such as “identical”, “equal”, and “homogeneous” are in an equal state not only represents an exactly equal state, but also has a tolerance or a difference that can provide the same function. It also represents the existing state.
  • expressions representing shapes such as quadrangular shapes and cylindrical shapes represent not only geometrically strict shapes such as quadrangular shapes and cylindrical shapes, but also irregularities and chamfers as long as the same effects can be obtained. A shape including a part or the like is also expressed.
  • the expressions “comprising”, “comprising”, “comprising”, “including”, or “having” one constituent element are not exclusive expressions for excluding the existence of the other constituent elements.
  • symbol may be attached
  • FIG. 1 is a perspective view of a ship including an exhaust gas cleaning system according to an embodiment.
  • the exhaust gas cleaning system 20 is mounted on a ship 1 as shown in FIG.
  • the ship 1 is a very large ship in which the amount of exhaust gas from the main engine (the amount of exhaust gas at 100% load) exceeds 200,000 Nm 3 / h, for example, as shown in FIG.
  • the ship 1 is an ultra-large container ship having a container loading capacity of 10,000 TEU or more called ULCS (Ultra Large Container Ship).
  • the ship 1 includes a hull 2 having a hull including an upper deck 3, a ship side outer plate 4, and a ship bottom outer plate 5, a living area 6 provided to protrude from the upper deck 3, A steel plate structure 7 protruding from the deck 3.
  • the steel plate structure 7 is called a chimney or an engine casing.
  • the residential area 6 is provided at a position slightly ahead of the center in the bow-stern direction, and the steel plate structure 7 is provided at a position on the stern side of the residential area 6. ing.
  • FIG. 2 is an enlarged perspective view showing the periphery of the steel plate structure in the ship shown in FIG.
  • an engine room 8 is formed inside the hull 2.
  • the engine room 8 is provided at a position vertically below the steel plate structure 7.
  • the engine room 8 includes a main engine 11 including a marine diesel engine for applying a propulsive force to the ship 1 and a main engine boiler for driving a main engine turbine, and various thermal demands in the ship 1.
  • a plurality of auxiliary engines 12 including an auxiliary boiler for responding to the demand and an auxiliary engine for responding to power demand and the like are installed.
  • the main engine 11 and the auxiliary engine 12 correspond to the exhaust gas generator 10 mounted on the ship 1.
  • the steel plate structure 7 is a structure for releasing the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 10 such as the main engine 11 and the auxiliary engine 12 to the outside of the ship 1.
  • the steel plate structure 7 is formed in a long cylindrical shape having a longitudinal direction along the starboard-portal direction (width direction) of the ship 1.
  • a desulfurization tower 30 for cleaning (desulfurization) exhaust gas discharged from the exhaust gas generators 10 such as the main engine 11 and the auxiliary engine 12 is disposed inside the steel plate structure 7, and exhaust gas is generated.
  • An exhaust gas introducing device 13 for guiding the exhaust gas discharged from the device 10 to the inside of the desulfurization tower 30 is disposed.
  • FIG. 3 is a configuration diagram schematically showing the configuration of the exhaust gas cleaning system according to the embodiment.
  • the desulfurization tower 30 includes a desulfurization tower body 31, an exhaust gas introduction part 32, and an exhaust gas discharge part 33.
  • the desulfurization tower main body 31 defines an internal space 34 inside.
  • an exhaust gas introduction port 36 communicating with the internal space 34 (lower internal space 34B) is formed on the wall surface 35 on the exhaust gas introduction part 32 side of the desulfurization tower main body 31.
  • the exhaust gas introduced into the internal space 34 from the exhaust gas inlet 36 through the exhaust gas inlet 32 flows from the exhaust gas inlet 32 toward the side away from the exhaust gas inlet 32, and then rises in the internal space 34. While flowing.
  • the desulfurization tower 30 further includes a spraying device 37 configured to spray a cleaning liquid (for example, seawater) on the exhaust gas flowing through the internal space 34.
  • the spraying device 37 may be configured to efficiently perform gas-liquid contact, and is not limited to a configuration that ejects the cleaning liquid downward as shown in FIG. 3, for example.
  • the spraying device 37 is provided in each of the plurality of water spray pipes 37 ⁇ / b> A that extend along the horizontal direction and are arranged at equal intervals, and the water spray pipe 37 ⁇ / b> A. And at least one watering nozzle 37 ⁇ / b> B capable of spraying into the space 34.
  • the internal space 34 includes a lower internal space 34 ⁇ / b> B formed below the spraying device 37 and an upper internal space 34 ⁇ / b> C formed above the spraying device 37. Further, the desulfurization tower 30 defines a gas-liquid contact portion 38 for bringing the cleaning liquid into contact with the exhaust gas.
  • the spraying device 37 is provided at a position closer to the upper side of the internal space 34 and jets the cleaning liquid toward the lower side opposite to the flow direction of the exhaust gas.
  • diffusion apparatus 37 is comprised so that the sulfur content contained in exhaust gas may be removed by spraying cleaning liquid with respect to the waste gas which flows through the lower side internal space 34B, and making cleaning fluid contact the exhaust gas.
  • the lower inner space 34B corresponds to the gas-liquid contact portion 38 described above.
  • a mist eliminator 39 that separates the upper side internal space 34C and the outlet side internal space 34D is disposed in the internal space 34 at a position above the upper side internal space 34C.
  • the mist eliminator 39 is configured to remove moisture from the exhaust gas passing through the mist eliminator 39. Then, the exhaust gas that has passed through the mist eliminator 39 is discharged to the outside of the ship 1 from the exhaust gas discharge part 33 connected to the uppermost part of the desulfurization tower main body 31 via the outlet side internal space 34D.
  • the desulfurization tower main body 31 stores the sprayed cleaning liquid sprayed on the exhaust gas guided to the internal space 34, that is, the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas.
  • a liquid pool portion 34A is formed.
  • the liquid pool portion 34A is formed below the lower internal space 34B and below the lower surface of the exhaust gas inlet 36.
  • the exhaust gas cleaning system 20 connects the above-described desulfurization tower 30, a water intake part 41 for taking outboard water from the outside of the hull 2, a water intake part 41, and the desulfurization tower 30.
  • a supply path 40, a discharge path 50 for discharging the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower 30 to the outside of the hull 2, and a water supply pump 43 provided in the supply path 40 are provided.
  • the exhaust gas cleaning system 20 can perform an open loop operation.
  • the outboard water means water located outside the hull 2 and includes seawater, river water, lake water, and the like.
  • the intake section 41 is an opening formed below the draft line of the hull 2 and is an opening communicating with the outside of the hull 2.
  • the outboard water taken in the water intake unit 41 is sent as a cleaning liquid from the water intake unit 41 to the spraying device 37 of the desulfurization tower 30 via the supply path 40.
  • the outboard water (cleaning liquid) is sent to the spraying device 37 by driving the water pump 43.
  • the cleaning liquid is sprayed by the spraying device 37 and comes into contact with the exhaust gas flowing through the internal space 34 of the desulfurization tower 30 to clean the exhaust gas.
  • the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas is discharged from the desulfurization tower 30 and then discharged to the outside of the hull 2 through the discharge path 50.
  • the above-described exhaust gas cleaning system 20 is an exhaust liquid treatment device 51 provided in the discharge path 50, and is configured to be able to process the cleaning liquid (exhaust liquid) flowing through the discharge path 50.
  • the waste liquid treatment device 51 may be further provided.
  • the treatment of the effluent in the effluent treatment device 51 includes adjusting the pH value of the effluent by adding outboard water to the effluent to dilute the effluent. Further, the treatment of the effluent in the effluent treatment apparatus 51 may include removing impurities (contaminants) from the effluent.
  • the discharged liquid is discharged outside the hull 2 after being processed by the discharged liquid processing device 51.
  • Such an exhaust gas cleaning system 20 is provided with the exhaust liquid treatment device 51, so that contamination of outboard water located outside the hull 2 due to discharge of the exhaust liquid to the outside of the hull 2 can be suppressed. It is.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above is a circulation path 60 for refluxing the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower 30 to the supply path 40 as a circulation liquid, and the supply path 40 and the junction 42.
  • the supply source of the cleaning liquid supplied to the desulfurization tower 30 is either outboard water taken in by the water intake section 41 or the circulating liquid returned to the supply path 40 via the circulation path 60.
  • the water pump 43 mentioned above is provided in the downstream rather than the confluence
  • the exhaust gas cleaning system 20 can perform open-loop operation and closed-loop operation, and can switch the operating state of the exhaust gas cleaning system 20 in both open-loop operation and closed-loop operation.
  • the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas is recirculated as a circulating liquid to the supply path 40 and sent to the spraying device 37 of the desulfurization tower 30 through the supply path 40.
  • the circulating liquid (cleaning liquid) is sent to the spraying device 37 by driving the water pump 43.
  • the circulating liquid (cleaning liquid) is sprayed by the spraying device 37 and is brought into contact with the exhaust gas flowing through the internal space 34 of the desulfurization tower 30 to clean the exhaust gas.
  • the supply-side switching device 71 is electrically connected to the control unit 21 and supplies a cleaning liquid supplied to the desulfurization tower 30 in accordance with a signal transmitted from the control unit 21. It is configured to be switchable.
  • the control unit 21 is configured as a microcomputer including a central processing unit (CPU), a random access memory (RAM), a read only memory (ROM), and an I / O interface.
  • the supply-side switching device 71 is a supply-side three-way valve 73 provided in the junction 42 with the circulation path 60 of the supply path 40.
  • the discharge-side switching device 72 is electrically connected to the control unit 21, and the outflow destination of the cleaning liquid discharged from the desulfurization tower 30 in accordance with a signal transmitted from the control unit 21. It is configured to be switchable.
  • the discharge side switching device 72 is a discharge side three-way valve 74 provided at a branch portion 52 between the discharge path 50 and the circulation path 60.
  • the supply path 40 includes a supply pipe 40 ⁇ / b> A that connects the intake section 41 and the supply-side three-way valve 73, a supply pipe 40 ⁇ / b> B that connects the supply-side three-way valve 73 and the water supply pump 43, And a supply pipe 40 ⁇ / b> C for connecting the water pump 43 and the spraying device 37.
  • the discharge path 50 includes a discharge pipe 50 ⁇ / b> A that connects the desulfurization tower 30 and the discharge side three-way valve 74, and a discharge pipe 50 ⁇ / b> B that connects the discharge side three-way valve 74 and the discharge liquid processing device 51.
  • the circulation path 60 is provided with a storage tank 61 that defines an internal space 62 for storing the cleaning liquid (circulating liquid).
  • the circulation path 60 is a common pipe connected to the above-described discharge pipe 50 ⁇ / b> A, a circulation pipe 60 ⁇ / b> A connecting the desulfurization tower 30 and the discharge side three-way valve 74, and a circulation connecting the discharge side three-way valve 74 and the storage tank 61.
  • a pipe 60B and a circulation pipe 60C that connects the storage tank 61 and the supply side three-way valve 73 are included.
  • the supply-side switching device 71 uses the supply source of the cleaning liquid as outboard water taken by the water supply unit 41, and the discharge-side switching device 72 sets the discharge destination of the cleaning liquid as the discharge path 50.
  • the cleaning liquid flows in the order of the supply pipes 40A, 40B, 40C and the discharge pipes 50A, 50B.
  • the supply-side switching device 71 uses the supply source of the cleaning liquid as the circulating fluid that has been refluxed to the supply passage 40 via the circulation path 60, and the discharge-side switching device 72 uses the circulation liquid 60 as the outflow destination of the cleaning liquid. To do.
  • the cleaning liquid (circulating liquid) flows in the order of the circulation pipes 60A, 60B, 60C, and the supply pipes 40B, 40C.
  • the discharge side switching device 72 switches the outflow destination of the cleaning liquid from the discharge path 50 (discharge pipe 50B) to the circulation path 60 (circulation pipe 60B) in accordance with a signal transmitted from the control unit 21 (first outflow). Destination switching step S202).
  • the supply-side switching device 71 returns the cleaning liquid supply source from the outboard water taken by the water intake unit 41 to the supply channel 40 via the circulation path 60.
  • the circulating fluid is switched (first supply source switching step S201).
  • the supply-side switching device 71 takes a supply source of the cleaning liquid from the circulating liquid returned to the supply path 40 via the circulation path 60 by the water intake section 41. Switching to outside water (second supply source switching step S301).
  • the discharge side switching device 72 switches the outflow destination of the cleaning liquid from the circulation path 60 (circulation pipe 60B) to the discharge path 50 (discharge pipe 50B) in accordance with a signal transmitted from the control unit 21 (second).
  • Outflow destination switching step S302 By performing the second supply source switching step S301 and the second destination switching step S302, the operation state of the exhaust gas cleaning system 20 can be switched from the closed loop operation to the open loop operation.
  • FIG. 4 is a block diagram schematically showing the configuration of an exhaust gas cleaning system capable of open-loop operation according to a comparative example.
  • the exhaust gas cleaning system 20 ⁇ / b> A according to the comparative example includes the above-described desulfurization tower 30, the above-described supply path 40, the above-described water intake unit 41, the above-described water supply pump 43, and the above-described discharge path 50. And the above-described drainage treatment apparatus 51.
  • the exhaust gas cleaning system 20A can be modified to the exhaust gas cleaning system 20 by adding the above-described circulation path 60, the above-described supply-side switching device 71, the above-described discharge-side switching device 72, and the like. Note that when the exhaust gas cleaning system 20A is modified to the exhaust gas cleaning system 20, the water pump 43 may be replaced with one that can handle closed loop operation.
  • the exhaust gas cleaning system 20 includes the desulfurization tower 30 described above, the water intake unit 41 described above, the supply path 40 described above, and the discharge described above as illustrated in FIG.
  • the passage 50, the circulation path 60 described above, the supply switching device 71 described above, and the discharge switching device 72 described above are provided.
  • the supply source of the cleaning liquid supplied to the desulfurization tower 30 is returned to the supply path 40 via the outboard water taken by the water intake unit 41 or the circulation path 60.
  • a switching device 72 for switching to any one of the circulating fluids and the discharge side for switching the outflow destination of the cleaning fluid discharged from the desulfurization tower 30 to either one of the discharge passage 50 or the circulation passage 60.
  • the exhaust gas cleaning system 20 uses the supply-side switching device 71 and the discharge-side switching device 72 to perform open loop operation in which the supply source is outboard water and the cleaning liquid is discharged to the discharge passage 50, and the supply source is It is possible to switch to a closed loop operation in which the circulating fluid is used and the outflow destination of the cleaning fluid is the circulation path 60.
  • the downstream portion (supply pipes 40B and 40C) of the supply path 40 and the desulfurization tower 30 are used in any operating state of the open loop operation and the closed loop operation. It is a common facility.
  • the downstream portion (supply pipes 40B and 40C) of the supply passage 40 and the desulfurization tower 30 common, it is easy to modify the existing exhaust gas cleaning system (for example, the exhaust gas cleaning system 20A). In addition, an increase in the area occupied by the exhaust gas cleaning system 20 can be suppressed.
  • the above-described exhaust gas cleaning system 20 is provided in the above-described water supply pump 43 and the circulation path 60 as shown in FIG. 61.
  • the water supply pump 43 is also a shared facility that is used in both the open-loop operation and the closed-loop operation, and the downstream portion of the supply section 40 (the supply pipe 40B and the supply pipe 40B).
  • 40C) and the desulfurization tower 30 are shared facilities, it is possible to easily modify the existing exhaust gas cleaning system (for example, the exhaust gas cleaning system 20A) and to suppress an increase in the exclusive area of the exhaust gas cleaning system 20. is there.
  • the circulating fluid can be stably supplied to the desulfurization tower 30 during the closed loop operation. Further, when the operation state is switched from the closed loop operation to the open loop operation, the operation state can be quickly switched by storing the circulating fluid remaining in the circulation path 60 in the storage tank 61.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above includes a storage amount acquisition device 63 configured to be able to acquire a storage amount of circulating fluid in the storage tank 61, and the storage tank 61, as shown in FIG. And an outboard water replenishing device 64 configured to replenish outboard water. And the control part 21 mentioned above controls the replenishment amount of the outboard water to the storage tank 61 by the outboard water replenishment device 64 according to the storage amount acquired by the storage amount acquisition device 63. .
  • the storage amount acquisition device 63 is a water level detection sensor that is provided in the storage tank 61 and detects the water level of the storage tank 61.
  • the outboard water replenishing device 64 is configured to obtain outboard water (makeup water) from the outside of the hull 2, and outboard water (makeup water) from the second intake unit 641 to the storage tank 61. ),
  • the second water pump 642 provided in the middle of the outboard water supply path 640, and the flow rate of the outboard water (supply water) in the outboard water supply path 640 can be controlled.
  • the makeup water flow rate control valve 643 is provided on the downstream side of the second water supply pump 642 in the outboard water supply channel 640.
  • the makeup water flow rate control valve 643 is electrically connected to the control unit 21, and performs control to adjust the opening / closing of the valve or the opening of the valve in accordance with a signal transmitted from the control unit 21.
  • the storage amount acquisition device 63 is not limited to the above-described water level detection sensor as long as the storage amount of the circulating fluid in the storage tank 61 can be acquired. Further, the storage amount acquisition device 63 may be provided in addition to the storage tank 61. For example, the storage amount acquisition device 63 may calculate the storage amount in the storage tank 61 from the difference between the flow rates of the circulating fluid flowing through the circulation pipes 60B and 60C.
  • the exhaust gas cleaning system 20 is configured to supply the outboard water to the storage tank 61 by the outboard water supply device 64 according to the storage amount acquired by the control unit 21 using the storage amount acquisition device 63.
  • the storage amount of the storage tank 61 can be set to an appropriate amount.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above includes a pH value detection device 65 configured to be able to detect the pH value of the circulating fluid in the storage tank 61, and the storage tank 61, as shown in FIG. And a neutralizer addition device 66 configured to be capable of adding a neutralizer.
  • the control unit 21 described above is configured to control the amount of neutralizing agent added by the neutralizing agent adding device 66 in accordance with the pH value detected by the pH value detecting device 65.
  • the pH value detection device 65 is a pH meter provided in the storage tank 61.
  • the neutralizer addition device 66 includes a neutralizer storage tank 661 for storing the neutralizer, and a neutralizer supply path 660 for sending the neutralizer from the neutralizer storage tank 661 to the storage tank 61.
  • a neutralizer supply pump 662 provided in the middle of the neutralizer supply path 660, a neutralizer amount control valve 663 configured to be able to control the amount of neutralizer in the neutralizer supply path 660, have.
  • the neutralizer amount control valve 663 is provided on the downstream side of the neutralizer supply pump 662 in the neutralizer supply path 660.
  • the neutralizing agent amount control valve 663 is electrically connected to the control unit 21 and performs control for opening / closing the valve or adjusting the opening of the valve in accordance with a signal transmitted from the control unit 21.
  • the pH value detection device 65 only needs to be configured to be able to detect the pH value of the circulating fluid in the storage tank 61, and is not limited to the pH meter described above. Further, the pH value detection device 65 may be provided other than the storage tank 61.
  • the exhaust gas cleaning system 20 controls the amount of neutralizing agent added by the neutralizing agent adding device 66 in accordance with the pH value detected by the control unit 21 with the pH value detecting device 65.
  • the exhaust gas cleaning system 20 can stably clean the exhaust gas over a long period of time.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above further includes a cooler 44 for cooling the cleaning liquid (circulating liquid) in the closed loop operation, as shown in FIG.
  • the cooler 44 is provided in a portion (supply pipe 40 ⁇ / b> C) on the downstream side of the water supply pump 43 in the supply path 40.
  • the cooler 44 exchanges heat with the third water intake portion 441 for obtaining outboard water (coolant) from the outside of the hull 2 and the outboard water (coolant), so that the water supply pump 43 in the supply passage 40 is exchanged.
  • a cooling section 442 capable of cooling the downstream portion (supply pipe 40C), a cooling liquid path 440 for sending outboard water (cooling liquid) from the third water intake section 441 to the cooling section 442, and a cooling liquid path And a third water supply pump 443 provided in the middle of 440.
  • the outboard water (coolant) after heat exchange in the cooling section 442 is discharged to the outside of the hull 2.
  • the cooler 44 is configured to operate during closed loop operation. In this case, the cleaning liquid (circulating liquid) flowing through the supply path 40 can be cooled by the cooler 44.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above further includes a parallel water pump 43B arranged in parallel with the water pump 43, as shown in FIG.
  • the supply path 40 includes a bypass 431 that bypasses the water pump 43.
  • the parallel water pump 43B is provided in the bypass 431.
  • the detour 431 includes a pipe that connects a portion upstream of the water supply pump 43 in the supply passage 40 (supply pipe 40B) and a portion downstream of the water supply pump 43 in the supply passage 40 (supply pipe 40C). .
  • the parallel water pump 43 ⁇ / b> B arranged in parallel with the water pump 43.
  • the required amount can be supplied.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above includes a pair of connection paths 444 and 445 that connect the water pump 43 described above and the third water pump 443 described above in parallel, as shown in FIG. It has more.
  • the connection path 444 upstream connection path
  • the connection path 445 downstream connection path
  • the connection path 445 is The pipes connect the downstream sides of the water pump 43 and the third water pump.
  • connection path 444 includes a part upstream of the water supply pump 43 in the supply path 40 (supply pipe 40B), a part upstream of the third water supply pump 443 in the cooling liquid path 440 (supply pipe 440A), It consists of piping that connects the two.
  • the connection path 445 connects a part of the supply path 40 downstream of the water pump 43 (supply pipe 40C) and a part of the cooling liquid path 440 downstream of the third water pump 443 (supply pipe 440B). It consists of piping. Note that valves (open / close valves, flow path adjusting valves) may be provided in the connection paths 444 and 445.
  • the water pump 43 can be used in place of the third water pump 443 when water is not supplied from the supply pipe 40B to the water pump 43 by water supply by the parallel water pump 43B. That is, the water supply pump 43 can supply water to the cooler 44. Therefore, according to said structure, it can be set as the structure remove
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above is processed by a circulating fluid processing device 81 capable of removing impurities from the circulating fluid and the circulating fluid by the circulating fluid processing device 81 as shown in FIG.
  • the liquid passage 80 to be treated described above is connected to the first branch 45 provided on the downstream side of the water supply pump 43 of the supply passage 40 and the circulating liquid treatment device 81. It includes a processing liquid path 83 and a second processing target liquid path 85 that connects the storage tank 61 and the circulating liquid processing apparatus 81.
  • the to-be-processed liquid flow rate control valve 82 mentioned above is the 1st to-be-processed liquid flow rate control valve 84 comprised so that control of the flow volume of the to-be-processed liquid in the 1st to-be-processed liquid path 83 was possible, and 2nd to-be-processed liquid.
  • a second processed liquid flow rate control valve 86 configured to be able to control the flow rate of the processed liquid in the passage 85.
  • the circulating liquid processing target
  • the 4th water supply pump 87 for sending liquid is provided.
  • the impurities removed from the circulating liquid (liquid to be processed) in the circulating liquid processing apparatus 81 are stored in the impurity tank 100. Further, in the circulating liquid processing apparatus 81, the circulating liquid (processed liquid) from which impurities are removed is discharged from the processed liquid discharge path 102.
  • the liquid discharge path 102 to be processed is a liquid pipe 102A to be processed that connects the circulating liquid processing apparatus 81 and the branching section 103, and a pipe that connects the branching section 103 to the middle of the discharge pipe 50B.
  • a processing liquid pipe 102 ⁇ / b> B and a processing liquid pipe 102 ⁇ / b> C that connects the processing liquid tank 101 capable of storing the processing liquid and the branch portion 103 are included.
  • the treated liquid pipe 102B is provided with a first treated liquid flow rate control valve 104 capable of controlling the flow rate of the treated liquid after being processed by the circulating liquid processing apparatus 81 flowing through the treated liquid pipe 102B.
  • the treated liquid pipe 102C is provided with a second treated liquid flow rate control valve 105 capable of controlling the flow rate of the treated liquid after being processed by the circulating liquid processing apparatus 81 flowing through the treated liquid pipe 102C.
  • the above-described first processed liquid flow rate control valve 104 is opened, and the above-described second processed liquid flow rate control valve 105 is closed. And the to-be-processed liquid discharged
  • the circulating fluid remaining in the storage tank 61 can be processed and discharged via the second liquid passage 85 to be processed, the operation can be quickly switched to the open loop operation.
  • the above-described second processed liquid flow rate control valve 105 is opened, and the above-described first processed liquid flow rate control valve 104 is closed. Then, the liquid to be processed discharged from the liquid discharge path 102 is sent to the liquid tank 101 through the liquid pipes 102A and 102C. After switching from the closed loop operation to the open loop operation, the liquid to be processed stored in the liquid tank 101 to be processed is sent to the discharged liquid processing apparatus 51 via the second liquid discharge path 106.
  • the circulating liquid in which impurities are concentrated by repeatedly cleaning the exhaust gas is sent to the circulating liquid processing apparatus 81 via the processing liquid path 80 as the processing liquid to be processed by the circulating liquid processing apparatus 81.
  • clogging and scaling of the pipes can be prevented, and stable operation becomes possible.
  • the liquid passage 80 to be treated may include only one of the first liquid passage 83 to be treated and the second liquid passage 85 to be treated. Both the first treated liquid path 83 and the second treated liquid path 85 may not be included. Further, the above-described liquid passage 80 to be treated may include a liquid passage to be treated other than the first liquid passage 83 to be treated and the second liquid passage 85 to be treated.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above further includes a specific gravity detector 67 capable of detecting the specific gravity of the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas, as shown in FIG.
  • the control part 21 mentioned above is the opening degree of the to-be-processed liquid flow control valve 82 (1st to-be-processed liquid flow control valve 84) according to the specific gravity of the washing
  • the specific gravity detection device 67 is a hydrometer that detects the specific gravity of the cleaning liquid in the storage tank 61.
  • the specific gravity detection device 67 is configured to supply cleaning liquid in the supply path 40 (supply pipes 40B, 40C), the circulation path 60 (circulation pipes 60A, 60B, 60C), the liquid pool 34A of the desulfurization tower 30, and the like. It may be a hydrometer that detects specific gravity.
  • the control part 21 mentioned above controls the opening degree of the 2nd to-be-processed liquid flow control valve 86) according to the specific gravity of the washing
  • the cleaning liquid (circulating liquid) in which impurities are concentrated by repeated exhaust gas cleaning tends to increase in specific gravity.
  • the control unit 21 controls the opening degree of the liquid flow control valve 82 to be processed in accordance with the specific gravity of the cleaning liquid after cleaning the exhaust gas detected by the specific gravity detection device 67.
  • a cleaning liquid (liquid to be processed) having an appropriate flow rate can be passed through the processing liquid path 80.
  • By flowing a cleaning liquid (liquid to be processed) at an appropriate flow rate through the liquid path 80 to be processed it is possible to prevent clogging and scaling of the pipes (supply pipes 40B and 40C, circulation pipes 60A to 60C, etc.). Driving becomes possible.
  • the processing amount of the processing liquid in the circulating liquid processing apparatus 81 can be reduced.
  • FIG. 5 is a block diagram schematically showing the configuration of an exhaust gas cleaning system according to another embodiment.
  • the exhaust gas cleaning system 20 described above further includes a liquid storage tank 90 that is provided in the liquid path 80 to be processed and can store the liquid to be processed.
  • the liquid passage 80 to be treated is a second branch portion 88 provided between the first branch 45 in the first liquid passage 83 and the first liquid flow control valve 84 to be treated.
  • 1 further includes a bypass passage 89 that branches from the first liquid passage 83 to be treated and is connected to the circulating fluid treatment device 81.
  • the bypass passage 89 is provided with the above-mentioned liquid storage tank 90 to be processed that defines an internal space 91 for storing the circulating liquid (liquid to be processed) before being processed by the circulating liquid processing apparatus 81. .
  • a bypass path inlet side flow rate control valve 92 capable of controlling the flow rate of the liquid to be treated sent to the liquid tank 90 to be treated via the bypass path 89 is provided upstream of the liquid tank 90 to be treated in the bypass path 89. It is done.
  • the bypass path outlet side capable of controlling the flow rate of the to-be-treated liquid sent from the to-be-treated liquid storage tank 90 to the circulating liquid processing apparatus 81 via the bypass path 89.
  • a flow control valve 93 is provided.
  • the bypass passage inlet side flow control valve 92 is opened and the bypass passage outlet side flow control valve 93 is closed. For this reason, at the time of closed loop operation, a part of the liquid to be processed flowing through the first liquid liquid path 83 is sent to the liquid tank 90 to be processed via the bypass path 89 and stored in the liquid tank 90 to be processed. Is done.
  • the bypass path inlet side flow control valve 92 After switching from closed loop operation to open loop operation, the bypass path inlet side flow control valve 92 is closed and the bypass path outlet side flow control valve 93 is opened. For this reason, the to-be-processed liquid stored in the to-be-processed liquid storage tank 90 at the time of closed loop operation is sent to the circulating liquid processing apparatus 81 at the time of an open loop operation.
  • the exhaust gas cleaning system 20 stores a part of the liquid to be processed before being processed by the circulating liquid processing device 81 in the liquid tank 90 to be processed, so that the processing amount per unit time is reduced. Even the small and small circulating liquid processing apparatus 81 can process the liquid to be processed. Further, by reducing the size of the circulating fluid treatment device 81, it is possible to save the space of the exhaust gas cleaning system 20 and reduce the device cost.
  • the liquid path 80 to be processed connects the first branch 45 provided on the downstream side of the water supply pump 43 of the supply path 40 and the circulating liquid processing apparatus 81.
  • the first treated liquid path 83 described above is included.
  • the above-mentioned to-be-processed liquid flow control valve 82 contains the above-mentioned 1st to-be-processed liquid flow control valve 84 comprised so that control of the flow of the to-be-processed liquid in the 1st to-be-processed liquid path 83 was possible.
  • the exhaust gas cleaning system 20 controls the flow rate of the liquid to be treated in the first liquid flow path 83 by the first liquid flow rate control valve 84 so that the first liquid flow path 83 is controlled. Accordingly, the liquid to be processed can be flowed at an appropriate flow rate from the supply path 40 to the circulating liquid processing device 81. Moreover, since the 1st to-be-processed liquid path 83 is provided in the downstream rather than the water supply pump 43 of the supply path 40, the pump pressure of the water supply pump 43 acts on the to-be-processed liquid in the 1st to-be-processed liquid path 83.
  • the 1st to-be-processed liquid path 83 where the pump pressure of the water pump 43 acts can enlarge the head and horizontal distance from the water pump 43 to the circulating liquid processing apparatus 81, Therefore
  • the 1st to-be-processed liquid path The degree of freedom of 83 piping design can be increased.
  • the above-described processing target liquid path 80 includes the above-described second processing target liquid path 85 that connects the storage tank 61 and the circulating liquid processing apparatus 81.
  • the above-mentioned to-be-processed liquid flow control valve 82 contains the above-mentioned 2nd to-be-processed liquid flow control valve 86 comprised so that control of the flow of the to-be-processed liquid in the 2nd to-be-processed liquid path 85 is possible.
  • the exhaust gas cleaning system 20 controls the flow rate of the liquid to be treated in the second liquid flow path 85 to be treated by the second liquid flow rate control valve 86, so that the second liquid passage 85 to be treated is controlled. Accordingly, the liquid to be processed can be flowed from the storage tank 61 to the circulating liquid processing apparatus 81 through the storage tank 61. Further, since the exhaust gas cleaning system 20 can flow the circulating liquid remaining in the storage tank 61 to the second liquid passage 85 after switching from the closed loop operation to the open loop operation, the closed loop operation is changed to the open loop operation. Switching to operation can be performed quickly.
  • FIG. 6 is a diagram for explaining the control of the storage amount of the storage tank, and is a schematic sectional view of the storage tank.
  • the control unit 21 described above has a storage amount of the cleaning liquid (circulating liquid) in the storage tank 61 between the range upper limit value RU and the range lower limit value RL as shown in FIG.
  • the opening / closing control of the makeup water flow rate control valve 643 in the outboard water replenishing device 64 or the control for adjusting the opening of the valve is performed so as to fall within the range.
  • control unit 21 described above is configured so that the storage amount of the cleaning liquid (circulating liquid) in the storage tank 61 approaches the target value T as shown in FIG.
  • the opening / closing control of the makeup water flow rate control valve 643 at 64 or the control for adjusting the opening of the valve may be performed.
  • control unit 21 described above is configured such that the second treated liquid flow rate control valve when the storage amount acquired by the storage amount acquisition device 63 exceeds the upper limit threshold UL as illustrated in FIG. 6. Control to open 86 is possible.
  • the exhaust gas cleaning system 20 performs control to open the second liquid flow rate control valve 86 by the control unit 21 when the storage amount acquired by the storage amount acquisition device 63 exceeds the upper limit threshold UL. By doing so, excess circulating fluid stored in the storage tank 61 can be quickly discharged from the storage tank 61.
  • the control unit 21 described above supplies the supply amount by the supply-side switching device 71 when the storage amount acquired by the storage amount acquisition device 63 is less than the lower limit threshold LL as shown in FIG. Control that switches the source to the outboard water taken by the water intake unit 41 is possible.
  • the exhaust gas cleaning system 20 performs control to switch the supply-side switching device 71 by the control unit 21 when the storage amount acquired by the storage amount acquisition device 63 is less than the lower limit threshold LL. Since the supply source can be switched to the outboard water acquired by the water supply unit 41, the insufficient circulating fluid can be quickly supplied to the storage tank 61.
  • FIG. 7 is a block diagram schematically showing the configuration of an exhaust gas cleaning system according to another embodiment.
  • the supply-side switching device 71 described above includes a first supply-side two-way valve 75 provided between the junction 42 and the water supply pump 43 in the supply path 40, as shown in FIG.
  • the second supply side two-way valve 76 provided between the storage tank 61 and the junction 42 in the circulation path 60 is included.
  • Each of the first supply side two-way valve 75 and the second supply side two-way valve 76 is electrically connected to the control unit 21.
  • Each of the first supply side two-way valve 75 and the second supply side two-way valve 76 can switch the supply source of the cleaning liquid by performing valve opening / closing control according to a signal transmitted from the control unit 21. is there.
  • the first supply side two-way valve 75 may be provided between the water intake section 41 and the merge section 42 in the supply path 40.
  • the discharge side switching device 72 described above includes a first discharge side 2 provided between the branch portion 52 and the discharge liquid processing device 51 in the discharge path 50, as shown in FIG. And a second discharge side two-way valve 78 provided between the branch portion 52 and the storage tank 61 in the circulation path 60.
  • Each of the first discharge side two-way valve 77 and the second discharge side two-way valve 78 is electrically connected to the control unit 21.
  • Each of the first discharge side two-way valve 77 and the second discharge side two-way valve 78 performs opening / closing control of the valve in accordance with a signal transmitted from the control unit 21, thereby cleaning liquid discharged from the desulfurization tower 30.
  • the outflow destination can be switched.
  • the supply path 40 connects the supply pipe 40 ⁇ / b> D that connects the water intake unit 41 and the first supply-side two-way valve 75, and the first supply-side two-way valve 75 and the water supply pump 43.
  • the supply pipe 40E and the supply pipe 40C described above are included.
  • the discharge path 50 includes a discharge pipe 50C that connects the desulfurization tower 30 and the branching section 52, a discharge pipe 50D that connects the branching section 52 and the first discharge-side two-way valve 77, and a first discharge-side two-way valve 77
  • a discharge pipe 50 ⁇ / b> E connecting the discharge liquid processing apparatus 51 is included.
  • the circulation path 60 is a common pipe and the above-described discharge pipe 50C, a circulation pipe 60D that connects the desulfurization tower 30 and the branch part 52, and a circulation pipe that connects the branch part 52 and the second discharge-side two-way valve 78.
  • 60E a circulation pipe 60F connecting the second discharge side two-way valve 78 and the storage tank 61, a circulation pipe 60G connecting the storage tank 61 and the second supply side two-way valve 76, and a second supply side two-way valve
  • a circulation pipe 60 ⁇ / b> H that connects 76 and the joining portion 42 is included.
  • FIG. 8 is a block diagram schematically showing the configuration of an exhaust gas cleaning system according to another embodiment.
  • the desulfurization tower 30 described above includes a liquid pool portion 34A located below the gas-liquid contact portion 38 and a position below the liquid pool portion 34A.
  • a storage tank 61 (storage tank 61A) is defined inside.
  • the desulfurization tower 30 and the storage tank 61 are integrally formed.
  • the internal space 34 and the internal space 62 are partitioned by the intermediate plate portion 311 constituting the bottom surface of the liquid pool portion 34 ⁇ / b> A and extending along the horizontal direction.
  • the above-described liquid pool portion 34 ⁇ / b> A and the above-described storage tank 61 ⁇ / b> A are formed inside the desulfurization tower 30.
  • the discharge path 50 includes a discharge pipe 50F connecting the desulfurization tower 30 and the first discharge side two-way valve 77, and the above-described discharge pipe 50E.
  • the circulation path 60 includes a circulation pipe 60J connected to the liquid pool portion 34A and the internal space 62, and the above-described circulation pipe 60C.
  • the discharge side switching device 72 described above includes a first discharge side two-way valve 77 provided between the desulfurization tower 30 and the discharge liquid processing device 51 in the discharge path 50 described above, A third discharge side two-way valve 79 provided between the liquid pool portion 34A and the internal space 62 in the circulation path 60 (circulation pipe 60J).
  • Each of the first discharge side two-way valve 77 and the third discharge side two-way valve 79 is electrically connected to the control unit 21.
  • Each of the first discharge side two-way valve 77 and the third discharge side two-way valve 79 performs the opening / closing control of the valve in accordance with a signal transmitted from the control unit 21, thereby cleaning liquid discharged from the desulfurization tower 30.
  • the outflow destination can be switched.
  • FIG. 9 is a flowchart for explaining an operation method of the exhaust gas cleaning system according to the embodiment.
  • FIG. 10 is a flowchart for explaining an operation method of the exhaust gas cleaning system according to another embodiment.
  • the operation method 200 ⁇ / b> A, 200 ⁇ / b> B of the exhaust gas cleaning system is an operation method of the above-described exhaust gas cleaning system 20 for cleaning the exhaust gas discharged from the exhaust gas generator 10 mounted on the ship 1. It is.
  • the exhaust gas cleaning system 20 in the operation methods 200A and 200B of the exhaust gas cleaning system includes, for example, the above-described desulfurization tower 30, the above-described water intake unit 41, the above-described supply path 40, and the above-described water supply pump as illustrated in FIG. 43, the discharge path 50 described above, the circulation path 60 described above, the supply side switching device 71 described above, and the discharge side switching device 72 described above.
  • the exhaust gas cleaning system operating method 200A includes the first supply source switching step S201 described above and the first outlet switching step S202 described above. .
  • the supply source of the cleaning liquid is returned from the outboard water taken by the water intake unit 41 to the supply path 40 via the circulation path 60 by the supply side switching device 71.
  • the first supply source switching step S201 for switching to the circulating fluid and the first outlet switching step S202 for switching the discharge destination of the cleaning liquid from the discharge path 50 to the circulation path 60 by the discharge side switching device 72 exhaust gas cleaning is performed.
  • the operating state of the system 20 can be switched from open loop operation to closed loop operation.
  • the exhaust gas cleaning system 20 in the operation method 200A of the exhaust gas cleaning system further includes the above-described storage tank 61 and the above-described storage amount acquisition device 63 as illustrated in FIG. 3, for example. Yes.
  • the exhaust gas cleaning system operating method 200 ⁇ / b> A according to some embodiments further includes a storage amount acquisition step S ⁇ b> 203 for acquiring the amount of circulating fluid stored by the storage amount acquisition device 63 described above.
  • the first supply source switching step S201 described above is performed after the first outflow destination switching step S202 and after the storage amount acquired by the storage amount acquisition step S203 exceeds a predetermined amount.
  • the exhaust gas cleaning system operation method 200 ⁇ / b> A further includes a storage amount determination step S ⁇ b> 204 that determines whether or not the storage amount acquired in the storage amount acquisition step S ⁇ b> 203 exceeds a predetermined amount. Yes.
  • the storage amount does not exceed the predetermined amount in the storage amount determination step S204 (“NO” in S204)
  • the above-described storage amount acquisition step S203 is performed again.
  • the storage amount exceeds the predetermined amount in the storage amount determination step S204 (“YES” in S204)
  • the first supply source switching step S201 described above is performed.
  • the operation method 200A of the exhaust gas cleaning system can acquire the storage amount of the circulating fluid in the storage tank 61 in the storage amount acquisition step S203.
  • the first supply source switching step S201 is performed after the first outflow destination switching step S202 and after the storage amount in the storage tank 61 exceeds a predetermined amount.
  • a sufficient amount of circulating fluid is stored in the storage tank 61 when the cleaning liquid supply source is switched from outboard water to circulating fluid. It is possible to suppress a reduction in exhaust gas cleaning ability due to the above.
  • the first supply source switching step S201 may be executed after a predetermined period of time has elapsed since the execution of the first outflow destination switching step S202. In this case, it is possible to simplify the operation method 200A of the exhaust gas cleaning system by assuming that a predetermined amount or more of the cleaning liquid is stored in the storage tank 61 after a predetermined period.
  • the exhaust gas cleaning system operation method 200 ⁇ / b> B includes the above-described second supply source switching step S ⁇ b> 301 and the above-described second outflow destination switching step S ⁇ b> 302. .
  • the exhaust gas cleaning system operation method 200 ⁇ / b> B uses the supply side switching device 71 to supply the cleaning liquid as the supply source of the cleaning liquid from the circulating liquid returned to the supply path 40 via the circulation path 60.
  • the second supply source switching step S301 for switching to water and the second outlet switching step S302 for switching the discharge destination of the cleaning liquid from the circulation path 60 to the discharge path 50 by the discharge side switching device 72 the exhaust gas cleaning system.
  • the 20 operating states can be switched from closed loop operation to open loop operation.
  • the downstream portion (supply pipes 40B and 40C) of the supply path 40 and the desulfurization tower 30 are shared facilities that are used in any of the operating states of the open loop operation and the closed loop operation. Therefore, the dirty circulating liquid remaining in the pipe (the supply pipes 40B and 40C, the circulating pipes 60A to 60C, etc.) through which the circulating liquid flows in the closed loop operation and the liquid pool part 34A at the bottom of the desulfurization tower 30 can be washed away. More specifically, by performing the above-described second supply source switching step S301, dirt existing in the pipe (supply pipes 40B, 40C, circulation pipes 60A to 60C, etc.) and in the liquid pool part 34A at the bottom of the desulfurization tower 30 is obtained.
  • the timing of the transition from the second supply source switching step S301 described above to the second outlet destination switching step S302 described above is present in the piping (supply pipes 40B, 40C, circulation pipes 60A-60C, etc.) and the liquid pool 34A.
  • the time required for replacing all of the circulating fluid to be replaced with the outboard water may be used as a guide, and the above-described control unit 21 may use the above-described second outflow destination switching step using the above-described required time as a guide.
  • S302 may be executed.
  • the exhaust gas cleaning system 20 in the operation method 200B of the exhaust gas cleaning system includes, for example, the above-described storage tank 61, the above-described circulating liquid processing device 81, and the above-described second system as illustrated in FIG.
  • the liquid passage 85 to be treated (liquid passage 80 to be treated) and the second liquid flow control valve 86 (liquid flow control valve 82 to be treated) described above are further provided.
  • the exhaust gas cleaning system operation method 200 ⁇ / b> B includes a second treated liquid flow rate control after the second supply source switching step S ⁇ b> 301 and the second outflow destination switching step S ⁇ b> 302.
  • a circulating fluid discharge step S303 is also provided in which the valve 86 (processed liquid flow rate control valve 82) is opened and the circulating fluid stored in the storage tank 61 is sent to the circulating fluid processing device 81.
  • the operation method 200B of the exhaust gas cleaning system is configured such that the second treated liquid flow rate control valve 86 (treated liquid flow rate control is performed after the second supply source switching step S301 and the second outlet switching step S302. Since the valve 82) is further opened and the circulating fluid discharge step S303 for sending the circulating fluid stored in the storage tank 61 to the circulating fluid processing device 81 is further provided, the operating state of the exhaust gas cleaning system 20 is changed from closed loop operation to open loop. When switching to operation, the circulating fluid remaining in the storage tank 61 can be discharged to the circulating fluid processing device 81 located outside the storage tank 61.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes forms obtained by modifying the above-described embodiments and forms obtained by appropriately combining these forms.

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Abstract

排ガス洗浄システムは、排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、船外水を取水するための取水部と、取水部と脱硫塔とを接続する供給路と、脱硫塔から排出される洗浄液を船体の外部に排出するための排出路と、脱硫塔から排出される洗浄液を循環液として供給路に還流させるために供給路と合流部において合流する循環路と、脱硫塔に供給される洗浄液の供給源を、取水部で取水した船外水、又は、循環路を介して供給路に還流された循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、脱硫塔から排出される洗浄液の流出先を、排出路、又は、循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備える。

Description

排ガス洗浄システムおよび排ガス洗浄システムの運用方法
 本開示は、船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システム、および該排ガス洗浄システムの運用方法に関する。
 近年の船舶に対する排ガス規制の強化に伴い、排出規制海域(ECA海域)では、硫黄分が0.1%以下の燃料油の使用、又はこれと同等の効果を有する代替措置が義務付けられている。さらに、2020年には、一般海域においても、硫黄分が0.5%以下の燃料油の使用、又はこれと同等の効果を有する代替措置が義務付けられる。従来、例えばULCS(Ultra Large Container Ship)などの超大型船舶においては、硫黄分の少ない低硫黄燃料油を用いることで対応していたが、今後はこれら超大型船舶においても上述した代替措置としての脱硫装置の設置需要が高まることが予想される。
 超大型船舶の主機関から排出される排ガス量(100%負荷時の排ガス量)は、例えば20万Nm/h以上にも及ぶ。また、超大型船舶には、船内の様々な電力需要等に応えるため、複数の発電機関・ボイラが設置される。このため、超大型船舶に搭載される脱硫装置には、これら主機関や複数の発電機関・ボイラから排出される大量の排ガスを脱硫するために、大きな通過面積を有する脱硫塔が必要となる。
 特許文献1には、船体外から取り込んだ洗浄水を排ガス洗浄装置で使用後に船体外に排出する、いわゆるオープンループ運転を行うための洗浄水供給系列と、船体内で洗浄水(海水または清水)を循環させて、冷却後に排ガス洗浄装置で使用する、いわゆるクローズドループ運転を行うための洗浄水供給系列と、が設けられる船舶用の排ガス洗浄システムが開示されている。また、特許文献1には、オープンループ運転を行うための洗浄水供給系列と、クローズドループ運転を行うための洗浄水供給系列と、の何れか一方から他方に切り替え可能であることが開示されている。
特開2017-19415号公報
 将来のさらなる排ガス規制の強化が懸念されるため、オープンループ運転を実行可能な設備を有する排ガス洗浄システムに追設して、クローズドループ運転に切り替え可能な排ガス洗浄システムに変更する改造が望まれる場合がある。上記改造は、船舶に対して行われるので、短期間で改造が終了するような容易なものが望ましい。
 また、排ガス洗浄システムが搭載される対象である船舶は、船体内のスペースに限りがあるので、搭載される排ガス洗浄システムの専有面積(フットプリント)が大きいと、排ガス洗浄システムの設置が困難になる虞がある。
 上述した事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態の目的は、既存の排ガス洗浄システムからの改造が容易であるとともに、専有面積の増大を抑制可能な排ガス洗浄システムを提供することにある。
(1)本発明の少なくとも一実施形態にかかる排ガス洗浄システムは、
 船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システムであって、
 上記排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、
 船体の外部から船外水を取水するための取水部と、
 上記取水部と上記脱硫塔とを接続する供給路と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液を上記船体の外部に排出するための排出路と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液を循環液として上記供給路に還流させるための循環路であって、上記供給路と合流部において合流する循環路と、
 上記脱硫塔に供給される上記洗浄液の供給源を、上記取水部で取水した上記船外水、又は、上記循環路を介して上記供給路に還流された上記循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液の流出先を、上記排出路、又は、上記循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備える。
 上記(1)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、脱硫塔に供給される洗浄液の供給源を、取水部で取水した船外水、又は、循環路を介して供給路に還流された循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、脱硫塔から排出される洗浄液の流出先を、排出路、又は、循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備えている。上記排ガス洗浄システムは、供給側切替装置および排出側切替装置により、上記供給源を船外水とし、且つ上記洗浄液の流出先を排出路とするオープンループ運転と、上記供給源を循環液とし、且つ上記洗浄液の流出先を循環路とするクローズドループ運転と、に切り替え可能である。
 また、排ガス洗浄システムは、供給路の合流部よりも下流側の部分および脱硫塔が、オープンループ運転およびクローズドループ運転の何れの運転状態においても使用される共有設備になっている。供給路の合流部よりも下流側の部分および脱硫塔を共有設備とすることで、既存の排ガス洗浄システムからの改造が容易であるとともに、排ガス洗浄システムの専有面積の増大を抑制可能である。
(2)幾つかの実施形態では、上記(1)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記供給路における上記合流部よりも下流側に設けられた送水ポンプと、上記循環路に設けられるとともに上記循環液を貯留可能な貯留タンクと、をさらに備える。
 上記(2)の構成によれば、送水ポンプもオープンループ運転およびクローズドループ運転の何れの運転状態においても使用される共有設備となり、上記(1)の構成と同様に既存の排ガス洗浄システムからの改造が容易であるとともに、排ガス洗浄システムの専有面積の増大を抑制可能である。
 さらに、貯留タンクに循環液を貯留することで、クローズドループ運転時に脱硫塔に循環液を安定して供給可能である。また、クローズドループ運転からオープンループ運転に運転状態を切り替える際に、循環路に残った循環液を貯留タンクに貯留することで、上記運転状態の切り替えを迅速に行うことができる。
(3)幾つかの実施形態では、上記(2)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記貯留タンクにおける上記循環液の貯留量を取得可能に構成されている貯留量取得装置と、上記貯留タンクに上記船外水を補給可能に構成されている船外水補給装置と、上記貯留量取得装置で取得される上記貯留量に応じて、上記船外水補給装置による上記貯留タンクへの上記船外水の補給量を制御する制御部と、をさらに備える。
 上記(3)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、制御部により貯留量取得装置で取得される貯留量に応じて、船外水補給装置による貯留タンクへの船外水の補給量を制御することで、貯留タンクの貯留量を適切な量にすることができる。
(4)幾つかの実施形態では、上記(3)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記貯留タンクにおける上記循環液のpH値を検出可能に構成されているpH値検出装置と、上記貯留タンクに中和剤を添加可能に構成されている中和剤添加装置と、をさらに備え、上記制御部は、上記pH値検出装置で検出される上記pH値に応じて、上記中和剤添加装置による上記中和剤の添加量の制御を行うように構成されている。
 上記(4)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、制御部によりpH値検出装置で検出されるpH値に応じて、中和剤添加装置による中和剤の添加量の制御することで、中和剤の過剰消費を防止することができるとともに、貯留タンクよりも後段に位置する送水ポンプなどの設備や配管の腐食を抑制することができる。送水ポンプなどの設備や配管の腐食を抑制することで、排ガス洗浄システムにより長期間にわたり排ガスの洗浄を安定して行うことができる。
(5)幾つかの実施形態では、上記(3)又は(4)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記循環液から不純物を除去可能な循環液処理装置と、上記循環液を上記循環液処理装置により処理される被処理液として上記循環液処理装置に送るための被処理液路と、上記被処理液路における上記被処理液の流量を制御可能に構成されている被処理液流量制御弁と、をさらに備える。
 上記(5)の構成によれば、排ガスの洗浄を繰り返して不純物が濃縮した循環液を循環液処理装置により処理される被処理液として、被処理液路を介して循環液処理装置に送ることで、配管の詰まりやスケーリングを防止することができるため、安定した運転が可能になる。
(6)幾つかの実施形態では、上記(5)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記排ガスを洗浄後の上記洗浄液の比重を検出可能な比重検出装置をさらに備え、上記制御部は、上記比重検出装置で検出される上記排ガスを洗浄後の上記洗浄液の比重に応じた、上記被処理液流量制御弁の開度の制御が可能に構成されている。
 排ガスの洗浄を繰り返して不純物が濃縮した洗浄液(循環液)は、比重が高くなる傾向がある。上記(6)の構成によれば、制御部は、比重検出装置で検出される排ガスを洗浄後の洗浄液の比重に応じた、被処理液流量制御弁の開度の制御を行うことで、被処理液路に適切な流量の洗浄液(被処理液)を流すことができる。被処理液路に適切な流量の洗浄液(被処理液)を流すことで、配管の詰まりやスケーリングを防止することができるため、安定した運転が可能になる。また、被処理液路に過剰量の洗浄液が流れることを防止できるので、循環液処理装置における被処理液の処理量を削減することができる。
(7)幾つかの実施形態では、上記(5)又は(6)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記被処理液路に設けられるとともに上記被処理液を貯留可能な被処理液貯留タンクをさらに備える。
 上記(7)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、循環液処理装置により処理される前の被処理液の一部を被処理液貯留タンクに貯留することで、単位時間当たりの処理量が小さく小型な循環液処理装置であっても被処理液の処理が可能になる。そして、循環液処理装置を小型にすることで、排ガス洗浄システムの省スペース化や装置コストの低減が図れる。
(8)幾つかの実施形態では、上記(5)~(7)の何れかに記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記被処理液路は、上記供給路の上記送水ポンプよりも下流側に設けられる第1分岐部と上記循環液処理装置とを接続する第1被処理液路を含み、上記被処理液流量制御弁は、上記第1被処理液路における上記被処理液の流量を制御可能に構成されている第1被処理液流量制御弁を含む。
 上記(8)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、第1被処理液流量制御弁により第1被処理液路における被処理液の流量を制御することで、第1被処理液路を介して供給路から循環液処理装置に、適切な流量の被処理液を流すことができる。また、第1被処理液路は、供給路の送水ポンプよりも下流側に設けられるので、第1被処理液路における被処理液には送水ポンプのポンプ圧が作用する。このため、送水ポンプのポンプ圧が作用する第1被処理液路は、送水ポンプから循環液処理装置までの揚程や水平距離を大きくすることができるので、第1被処理液路の配管設計の自由度を高めることができる。
(9)幾つかの実施形態では、上記(5)~(8)の何れかに記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記被処理液路は、上記貯留タンクと上記循環液処理装置とを接続する第2被処理液路を含み、上記被処理液流量制御弁は、上記第2被処理液路における上記被処理液の流量を制御可能に構成されている第2被処理液流量制御弁を含む。
 上記(9)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、第2被処理液流量制御弁により第2被処理液路における被処理液の流量を制御することで、第2被処理液路を介して貯留タンクから循環液処理装置に、適切な流量の被処理液を流すことができる。また、上記排ガス洗浄システムは、クローズドループ運転からオープンループ運転に切り替え後に、貯留タンクに残った循環液を第2被処理液路に流すことが可能であるので、クローズドループ運転からオープンループ運転への切り替えを迅速に行うことができる。
(10)幾つかの実施形態では、上記(9)に記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記制御部は、上記貯留量取得装置で取得される上記貯留量が上限閾値を超える場合に、上記第2被処理液流量制御弁を開く制御が可能に構成されている。
 上記(10)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、貯留量取得装置で取得される貯留量が上限閾値を超える場合に、制御部により第2被処理液流量制御弁を開く制御を行うことで、貯留タンクに貯留される過剰な循環液を貯留タンクから迅速に排出することができる。
(11)幾つかの実施形態では、上記(3)~(10)の何れかに記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記制御部は、上記貯留量取得装置で取得される上記貯留量が下限閾値に満たない場合に、上記供給側切替装置による上記供給源を上記取水部で取水した上記船外水に切り替える制御が可能に構成されている。
 上記(11)の構成によれば、排ガス洗浄システムは、貯留量取得装置で取得される貯留量が下限閾値に満たない場合に、制御部により供給側切替装置を切り替える制御を行うことで、供給源を取水部で取得した船外水に切り替えることができるため、貯留タンクに不足分の循環液を迅速に供給することができる。
(12)幾つかの実施形態では、上記(2)~(11)の何れかに記載の排ガス洗浄システムにおいて、上記脱硫塔は、上記気液接触部よりも下方に位置する液だまり部と、上記液だまり部よりも下方に位置する上記貯留タンクと、をさらに内部に画定する。
 上記(12)の構成によれば、脱硫塔の内部に液だまり部と貯留タンクとを画定することで、脱硫塔の外部に別途貯留タンクを設ける必要がなくなるため、排ガス洗浄システムの専有面積の増大を抑制可能である。
(13)本発明の少なくとも一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法は、
 船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システムの運用方法であって、
 上記排ガス洗浄システムは、
 上記排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、
 船体の外部から船外水を取水するための取水部と、
 上記取水部と上記脱硫塔とを接続する供給路と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液を上記船体の外部に排出するための排出路と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液を循環液として上記供給路に還流させるための循環路であって、上記供給路と合流部において合流する循環路と、
 上記供給路における上記合流部よりも下流側に設けられた送水ポンプと、
 上記脱硫塔に供給される上記洗浄液の供給源を、上記取水部で取水した上記船外水、又は、上記循環路を介して上記供給路に還流された上記循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液の流出先を、上記排出路、又は、上記循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備え、
 上記排ガス洗浄システムの運用方法は、
 上記供給側切替装置により上記洗浄液の上記供給源を、上記取水部で取水した上記船外水から上記循環路を介して上記供給路に還流された上記循環液に切り替える第1供給源切替ステップと、
 上記排出側切替装置により上記洗浄液の上記流出先を、上記排出路から上記循環路に切り替える第1流出先切替ステップと、を備える。
 上記(13)の方法によれば、排ガス洗浄システムの運用方法は、供給側切替装置により洗浄液の供給源を、取水部で取水した船外水から、循環路を介して供給路に還流された循環液に切り替える第1供給源切替ステップと、排出側切替装置により洗浄液の流出先を、排出路から循環路に切り替える第1流出先切替ステップと、を行うことで、排ガス洗浄システムの運転状態をオープンループ運転からクローズドループ運転に切り替えることができる。
(14)幾つかの実施形態では、上記(13)に記載の排ガス洗浄システムの運用方法において、上記排ガス洗浄システムは、上記循環路に設けられるとともに上記循環液を貯留可能な貯留タンクと、上記貯留タンクにおける上記循環液の貯留量を取得可能に構成されている貯留量取得装置と、をさらに備え、上記排ガス洗浄システムの運用方法は、上記貯留量取得装置により上記循環液の上記貯留量を取得する貯留量取得ステップをさらに備え、上記第1供給源切替ステップは、上記第1流出先切替ステップよりも後、且つ上記貯留量取得ステップにより取得される上記貯留量が所定量を超えた後に行われる。
 上記(14)の方法によれば、排ガス洗浄システムの運用方法は、貯留量取得ステップで貯留タンクにおける循環液の貯留量を取得することができる。そして、第1供給源切替ステップは、第1流出先切替ステップよりも後に、且つ、貯留タンクにおける貯留量が所定量を超えた後に行われる。このような排ガス洗浄システムの運用方法は、洗浄液の供給源を船外水から循環液に切り替えた際に、十分な量の循環液が貯留タンクに貯留されているので、循環液の不足による排ガスの洗浄能力の低下を抑制することができる。
(15)本発明の少なくとも一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法は、
 船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システムの運用方法であって、
 上記排ガス洗浄システムは、
 上記排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、
 船体の外部から船外水を取水するための取水部と、
 上記取水部と上記脱硫塔とを接続する供給路と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液を上記船体の外部に排出するための排出路と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液を循環液として上記供給路に還流させるための循環路であって、上記供給路と合流部において合流する循環路と、
 上記供給路における上記合流部よりも下流側に設けられた送水ポンプと、
 上記脱硫塔に供給される上記洗浄液の供給源を、上記取水部で取水した上記船外水、又は、上記循環路を介して上記供給路に還流された上記循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、
 上記脱硫塔から排出される上記洗浄液の流出先を、上記排出路、又は、上記循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備え、
 上記排ガス洗浄システムの運用方法は、
 上記供給側切替装置により上記洗浄液の上記供給源を、上記循環路を介して上記供給路に還流された上記循環液から上記取水部で取水した上記船外水に切り替える第2供給源切替ステップと、
 上記排出側切替装置により上記洗浄液の上記流出先を、上記循環路から上記排出路に切り替える第2流出先切替ステップと、を備える。
 上記(15)の方法によれば、排ガス洗浄システムの運用方法は、供給側切替装置により洗浄液の供給源を、循環路を介して供給路に還流された循環液から取水部で取水した船外水に切り替える第2供給源切替ステップと、排出側切替装置により洗浄液の流出先を、循環路から排出路に切り替える第2流出先切替ステップと、を行うことで、排ガス洗浄システムの運転状態をクローズドループ運転からオープンループ運転に切り替えることができる。
(16)幾つかの実施形態では、上記(15)に記載の排ガス洗浄システムの運用方法において、上記排ガス洗浄システムは、上記循環路に設けられるとともに上記循環液を貯留可能な貯留タンクと、上記循環液から不純物を除去可能な循環液処理装置と、上記循環液を上記循環液処理装置により処理される被処理液として上記循環液処理装置に送るための被処理液路であって、上記貯留タンクと上記循環液処理装置とを接続する被処理液路と、上記被処理液路における上記被処理液の流量を制御可能に構成されている被処理液流量制御弁と、をさらに備え、上記排ガス洗浄システムの運用方法は、上記第2供給源切替ステップおよび上記第2流出先切替ステップよりも後に、上記被処理液流量制御弁を開いて、上記貯留タンクに貯留される上記循環液を上記循環液処理装置に送る循環液排出ステップをさらに備える。
 上記(16)の方法によれば、排ガス洗浄システムの運用方法は、第2供給源切替ステップおよび第2流出先切替ステップよりも後に、被処理液流量制御弁(第2被処理液流量制御弁)を開いて、貯留タンクに貯留される循環液を循環液処理装置に送る循環液排出ステップをさらに備えているので、排ガス洗浄システムの運転状態をクローズドループ運転からオープンループ運転に切り替えた際に、貯留タンクに残った循環液を貯留タンクの外部に位置する循環液処理装置に排出することができる。
 本発明の少なくとも一実施形態によれば、既存の排ガス洗浄システムからの改造が容易であるとともに、専有面積の増大を抑制可能な排ガス洗浄システムが提供される。
一実施形態における排ガス洗浄システムを備える船舶の斜視図である。 図1に示す船舶における鋼板構造物の周辺を拡大して示す斜視図である。 一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。 比較例にかかるオープンループ運転が可能な排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。 他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。 貯留タンクの貯留量の制御について説明するための図であって、貯留タンクの概略断面図である。 他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。 他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。 一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法を説明するためのフロー図である。 他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法を説明するためのフロー図である。
 以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
 例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
 例えば、「同一」、「等しい」及び「均質」等の物事が等しい状態であることを表す表現は、厳密に等しい状態を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の差が存在している状態も表すものとする。
 例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
 一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
 なお、同様の構成については同じ符号を付し説明を省略することがある。
 図1は、一実施形態における排ガス洗浄システムを備える船舶の斜視図である。排ガス洗浄システム20は、図1に示されるような船舶1に搭載される。船舶1は、例えば図1に示されるような、主機関の排ガス量(100%負荷時の排ガス量)が、20万Nm/hを超える超大型船舶である。図1に示される実施形態では、船舶1は、ULCS(Ultra Large Container Ship)と呼ばれる10、000TEU以上のコンテナ積載容積を有する超大型のコンテナ船である。
 船舶1は、図1に示されるように、上甲板3、船側外板4、および船底外板5を含む船殻を有する船体2と、上甲板3から突出して設けられる居住区6と、上甲板3から突出して設けられる鋼板構造物7と、を備えている。ここで、鋼板構造物7は、煙突又はエンジンケーシングと呼称されるものである。図1に示される実施形態では、居住区6は、船首-船尾方向における中心よりやや前方よりの位置に設けられており、鋼板構造物7は、居住区6よりも船尾側の位置に設けられている。
 図2は、図1に示す船舶における鋼板構造物の周辺を拡大して示す斜視図である。図2に示されるように、船体2の内部には機関室8が形成されている。図2に示される実施形態では、機関室8は、鋼板構造物7の鉛直下方の位置に設けられている。機関室8には、船舶1に対して推進力を付与するための舶用ディーゼルエンジンや主機用タービンを駆動させるための主機用ボイラなどを含む主機関11と、船舶1内の様々な温熱需要などに応えるための補助ボイラや電力需要などに応えるための補機用エンジンなどを含む複数の補助機関12と、が設置されている。主機関11および補助機関12は、船舶1に搭載される排ガス発生装置10に相当するものである。
 鋼板構造物7は、主機関11および補助機関12などの排ガス発生装置10から排出される排ガスを船舶1の外部に放出するための構造物である。図1、2に示される実施形態では、鋼板構造物7は、船舶1の右舷-左舷方向(幅方向)に沿って長手方向を有する長筒状に形成されている。
 図2に示されるように、鋼板構造物7の内側には、主機関11および補助機関12などの排ガス発生装置10から排出される排ガスを洗浄(脱硫)するための脱硫塔30と、排ガス発生装置10から排出される排ガスを脱硫塔30の内部に導くための排ガス導入装置13と、が配置されている。
 図3は、一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。図3に示されるように、脱硫塔30は、脱硫塔本体部31と、排ガス導入部32と、排ガス排出部33と、を含んでいる。脱硫塔本体部31は、内部に内部空間34を画定している。また、脱硫塔本体部31の排ガス導入部32側の壁面35には、内部空間34(下方側内部空間34B)と連通する排ガス導入口36が形成されている。排ガス導入部32を通って排ガス導入口36から内部空間34に導入された排ガスは、排ガス導入部32側から排ガス導入部32とは離れた側に向かって流れた後、内部空間34を上昇しながら流れていく。
 図3に示されるように、脱硫塔30は、内部空間34を流れる排ガスに洗浄液(例えば海水)を散布可能に構成されている散布装置37をさらに含んでいる。散布装置37は、気液接触を効率よく行える構成であればよく、例えば図3に示されるような下方に洗浄液を噴射するような構成に限定されるわけではない。図3に示される実施形態では、散布装置37は、水平方向に沿って延在するとともに等間隔に配置される複数の散水管37Aと、複数の散水管37Aの各々に設けられるとともに洗浄液を内部空間34に噴射可能な少なくとも一つの散水ノズル37Bと、を有している。内部空間34は、散布装置37よりも下方に形成される下方側内部空間34Bと、散布装置37よりも上方に形成される上方側内部空間34Cと、を含んでいる。また、脱硫塔30は、排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部38を内部に画定している。
 図3に示される実施形態では、散布装置37は、内部空間34の上方寄りの位置に設けられるとともに、排ガスの流れ方向とは反対側である下方に向かって洗浄液を噴射するようになっている。そして、散布装置37は、下方側内部空間34Bを流れる排ガスに対して洗浄液を散布して、排ガスに洗浄液を接触させることで、排ガス中に含まれる硫黄分を除去するように構成されている。上記の構成において、下方側内部空間34Bは、上述した気液接触部38に相当するものである。
 図3に示される実施形態では、内部空間34には、上方側内部空間34Cの上方の位置に、上方側内部空間34Cと出口側内部空間34Dとを隔てるミストエリミネータ39が配置されている。ミストエリミネータ39は、ミストエリミネータ39を通過する排ガスから水分を除去するように構成されている。そして、ミストエリミネータ39を通過した排ガスは、出口側内部空間34Dを介して、脱硫塔本体部31の最上部に接続されている排ガス排出部33から船舶1の外部に排出される。
 また、図3に示される実施形態では、脱硫塔本体部31には、内部空間34に導かれた排ガスに対して散布された散布済みの洗浄液、すなわち排ガスを洗浄した後の洗浄液が貯留される液だまり部34Aが形成されている。液だまり部34Aは、下方側内部空間34Bの下方、且つ、排ガス導入口36の下面よりも下方の位置に形成されている。
 図3に示されるように、排ガス洗浄システム20は、上述した脱硫塔30と、船体2の外部から船外水を取水するための取水部41と、取水部41と脱硫塔30とを接続する供給路40と、脱硫塔30から排出される洗浄液を船体2の外部に排出するための排出路50と、供給路40に設けられる送水ポンプ43と、を備えている。この場合には、排ガス洗浄システム20は、オープンループ運転が可能である。ここで、船外水は、船体2の外部に位置する水を意味しており、海水、河川水及び湖水等を含むものである。取水部41は、船体2の喫水線よりも下方に形成される開口であって、船体2の外部に連通される開口である。
 オープンループ運転において、取水部41において取水した船外水は、洗浄液として供給路40を介して取水部41から脱硫塔30の散布装置37に送られる。この際、船外水(洗浄液)は、送水ポンプ43が駆動することで散布装置37に送られる。そして、洗浄液は、散布装置37により散布されて、脱硫塔30の内部空間34を流れる排ガスに接触することで、排ガスを洗浄する。オープンループ運転において、排ガスを洗浄した後の洗浄液は、脱硫塔30から排出された後に、排出路50を介して船体2の外部に排出される。
 なお、図3に示されるように、上述した排ガス洗浄システム20は、排出路50に設けられる排出液処理装置51であって、排出路50を流れる洗浄液(排出液)を処理可能に構成されている排出液処理装置51をさらに備えていてもよい。排出液処理装置51における排出液の処理には、排出液に船外水を添加して排出液を希釈し、排出液のpH値の調整を行うことが含まれる。また、排出液処理装置51における排出液の処理には、排出液から不純物(汚染物質)の除去を行うことを含んでいてもよい。排出液は、排出液処理装置51による処理後に船体2の外部に排出される。このような排ガス洗浄システム20は、排出液処理装置51を備えることで、排出液が船体2の外部に排出されることによる船体2の外部に位置する船外水の汚染を抑制することが可能である。
 図3に示されるように、上述した排ガス洗浄システム20は、脱硫塔30から排出される洗浄液を循環液として供給路40に還流させるための循環路60であって、供給路40と合流部42において合流する循環路60と、脱硫塔30に供給される洗浄液の供給源を、取水部41で取水した船外水、又は、循環路60を介して供給路40に還流された循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置71と、脱硫塔30から排出される洗浄液の流出先を、排出路50、又は、循環路60の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置72と、をさらに備えている。そして、上述した送水ポンプ43は、供給路40における合流部42よりも下流側に設けられている。この場合には、排ガス洗浄システム20は、オープンループ運転およびクローズドループ運転が可能であるとともに、オープンループ運転とクローズドループ運転ともに排ガス洗浄システム20の運転状態の切り替えが可能である。
 クローズドループ運転において、排ガスを洗浄した後の洗浄液は、循環液として供給路40に還流され、供給路40を介して脱硫塔30の散布装置37に送られる。この際、循環液(洗浄液)は、送水ポンプ43が駆動することで散布装置37に送られる。そして、循環液(洗浄液)は、散布装置37により散布されて、脱硫塔30の内部空間34を流れる排ガスに接触することで、排ガスを洗浄する。
 供給側切替装置71は、図3に示されるように、制御部21と電気的に接続されており、制御部21から発信される信号に応じて、脱硫塔30に供給される洗浄液の供給源を切り替え可能に構成されている。制御部21は、中央処理装置(CPU)、ランダムアクセスメモリ(RAM)、リードオンリメモリ(ROM)、及びI/Oインターフェイスなどからなるマイクロコンピュータとして構成される。図3に示される実施形態では、供給側切替装置71は、供給路40の循環路60との合流部42に設けられる供給側3方弁73である。
 排出側切替装置72は、図3に示されるように、制御部21と電気的に接続されており、制御部21から発信される信号に応じて、脱硫塔30から排出される洗浄液の流出先を切り替え可能に構成されている。図3に示される実施形態では、排出側切替装置72は、排出路50と循環路60との分岐部52に設けられる排出側3方弁74である。
 図3に示される実施形態では、供給路40は、取水部41と供給側3方弁73とを接続する供給管40A、供給側3方弁73と送水ポンプ43とを接続する供給管40B、および送水ポンプ43と散布装置37とを接続する供給管40Cを含んでいる。排出路50は、脱硫塔30と排出側3方弁74とを接続する排出管50A、および排出側3方弁74と排出液処理装置51とを接続する排出管50Bを含んでいる。また、循環路60には、洗浄液(循環液)を貯留するための内部空間62を内部に画定する貯留タンク61が設けられている。そして、循環路60は、上述した排出管50Aと共有配管であり脱硫塔30と排出側3方弁74とを接続する循環管60A、排出側3方弁74と貯留タンク61とを接続する循環管60B、および貯留タンク61と供給側3方弁73とを接続する循環管60Cを含んでいる。
 オープンループ運転において、供給側切替装置71は、洗浄液の供給源を取水部41で取水した船外水とし、排出側切替装置72は、洗浄液の流出先を排出路50とする。通常のオープンループ運転において、洗浄液は、供給管40A、40B、40C、排出管50A、50Bの順に流れる。
 クローズドループ運転において、供給側切替装置71は、洗浄液の供給源を循環路60を介して供給路40に還流された循環液とし、排出側切替装置72は、洗浄液の流出先を循環路60とする。通常のクローズドループ運転において、洗浄液(循環液)は、循環管60A、60B、60C、供給管40B、40Cの順に流れる。
 次に、オープンループ運転からクローズドループ運転への切り替えについて説明する。まず、排出側切替装置72が、制御部21から発信される信号に応じて、洗浄液の流出先を、排出路50(排出管50B)から循環路60(循環管60B)に切り替える(第1流出先切替ステップS202)。次に、供給側切替装置71が、制御部21から発信される信号に応じて、洗浄液の供給源を、取水部41で取水した船外水から循環路60を介して供給路40に還流された循環液に切り替える(第1供給源切替ステップS201)。第1供給源切替ステップS201および第1流出先切替ステップS202を行うことで、排ガス洗浄システム20の運転状態をオープンループ運転からクローズドループ運転に切り替えることができる。
 次に、クローズドループ運転からオープンループ運転への切り替えについて説明する。まず、供給側切替装置71が、制御部21から発信される信号に応じて、洗浄液の供給源を、循環路60を介して供給路40に還流された循環液から取水部41で取水した船外水に切り替える(第2供給源切替ステップS301)。次に、排出側切替装置72が、制御部21から発信される信号に応じて、洗浄液の流出先を、循環路60(循環管60B)から排出路50(排出管50B)に切り替える(第2流出先切替ステップS302)。第2供給源切替ステップS301および第2流出先切替ステップS302を行うことで、排ガス洗浄システム20の運転状態をクローズドループ運転からオープンループ運転に切り替えることができる。
 図4は、比較例にかかるオープンループ運転が可能な排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。図4に示されるように比較例にかかる排ガス洗浄システム20Aは、上述した脱硫塔30と、上述した供給路40と、上述した取水部41と、上述した送水ポンプ43と、上述した排出路50と、上述した排出液処理装置51と、を備えている。排ガス洗浄システム20Aは、上述した循環路60、上述した供給側切替装置71、上述した排出側切替装置72などを追加することで、排ガス洗浄システム20に改造することができる。なお、排ガス洗浄システム20Aを排ガス洗浄システム20に改造する際に、送水ポンプ43をクローズドループ運転に対応可能なものに交換してもよい。
 上述したように、幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、上述した脱硫塔30と、上述した取水部41と、上述した供給路40と、上述した排出路50と、上述した循環路60と、上述した供給側切替装置71と、上述した排出側切替装置72と、を備えている。
 上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、脱硫塔30に供給される洗浄液の供給源を、取水部41で取水した船外水、又は、循環路60を介して供給路40に還流された循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置71と、脱硫塔30から排出される洗浄液の流出先を、排出路50、又は、循環路60の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置72と、を備えている。上記排ガス洗浄システム20は、供給側切替装置71および排出側切替装置72により、上記供給源を船外水とし、且つ上記洗浄液の流出先を排出路50とするオープンループ運転と、上記供給源を循環液とし、且つ上記洗浄液の流出先を循環路60とするクローズドループ運転と、に切り替え可能である。
 また、排ガス洗浄システム20は、供給路40の合流部42よりも下流側の部分(供給管40Bおよび40C)および脱硫塔30が、オープンループ運転およびクローズドループ運転の何れの運転状態においても使用される共有設備になっている。供給路40の合流部42よりも下流側の部分(供給管40Bおよび40C)および脱硫塔30を共有設備とすることで、既存の排ガス洗浄システム(例えば排ガス洗浄システム20A)からの改造が容易であるとともに、排ガス洗浄システム20の専有面積の増大を抑制可能である。
 上述したように、幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、上述した送水ポンプ43と、循環路60に設けられるとともに循環液を貯留可能な貯留タンク61と、をさらに備えている。この場合には、送水ポンプ43もオープンループ運転およびクローズドループ運転の何れの運転状態においても使用される共有設備となり、上述した供給路40の合流部42よりも下流側の部分(供給管40Bおよび40C)および脱硫塔30を共有設備としたのと同様に、既存の排ガス洗浄システム(例えば排ガス洗浄システム20A)からの改造が容易であるとともに、排ガス洗浄システム20の専有面積の増大を抑制可能である。
 さらに、貯留タンク61に循環液を貯留することで、クローズドループ運転時に脱硫塔30に循環液を安定して供給可能である。また、クローズドループ運転からオープンループ運転に運転状態を切り替える際に、循環路60に残った循環液を貯留タンク61に貯留することで、上記運転状態の切り替えを迅速に行うことができる。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、貯留タンク61における循環液の貯留量を取得可能に構成されている貯留量取得装置63と、貯留タンク61に船外水を補給可能に構成されている船外水補給装置64と、をさらに備えている。そして、上述した制御部21は、貯留量取得装置63で取得される貯留量に応じて、船外水補給装置64による貯留タンク61への船外水の補給量を制御するようになっている。
 図3に示される実施形態では、貯留量取得装置63は、貯留タンク61に設けられるとともに貯留タンク61の水位を検出する水位検出センサである。そして、船外水補給装置64は、船体2の外部から船外水(補給水)を取得するための第2取水部641と、第2取水部641から貯留タンク61に船外水(補給水)を送るための船外水補給路640と、船外水補給路640の途中に設けられる第2送水ポンプ642と、船外水補給路640における船外水(補給水)の流量を制御可能に構成されている補給水流量制御弁643と、を有している。補給水流量制御弁643は、船外水補給路640の第2送水ポンプ642よりも下流側に設けられる。また、補給水流量制御弁643は、制御部21に電気的に接続されており、制御部21から発信される信号に応じて、弁の開閉制御又は弁の開度を調整する制御を行うことで、貯留タンク61への船外水の補給量を制御するようになっている。なお、貯留量取得装置63は、貯留タンク61における循環液の貯留量を取得可能に構成されていればよく、上述した水位検出センサに限定されない。また、貯留量取得装置63は、貯留タンク61以外に設けられていてもよい。例えば、貯留量取得装置63は、循環管60Bおよび60Cを流れる循環液の流量の差分から貯留タンク61における貯留量を算出してもよい。
 上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、制御部21により貯留量取得装置63で取得される貯留量に応じて、船外水補給装置64による貯留タンク61への船外水の補給量を制御することで、貯留タンク61の貯留量を適切な量にすることができる。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、貯留タンク61における循環液のpH値を検出可能に構成されているpH値検出装置65と、貯留タンク61に中和剤を添加可能に構成されている中和剤添加装置66と、をさらに備えている。そして、上述した制御部21は、pH値検出装置65で検出されるpH値に応じて、中和剤添加装置66による中和剤の添加量の制御を行うように構成されている。
 図3に示される実施形態では、pH値検出装置65は、貯留タンク61に設けられるpH計である。そして、中和剤添加装置66は、中和剤を貯留するための中和剤貯留タンク661と、中和剤貯留タンク661から貯留タンク61に中和剤を送るための中和剤供給路660と、中和剤供給路660の途中に設けられる中和剤供給ポンプ662と、中和剤供給路660における中和剤の量を制御可能に構成されている中和剤量制御弁663と、を有している。中和剤量制御弁663は、中和剤供給路660の中和剤供給ポンプ662よりも下流側に設けられる。また、中和剤量制御弁663は、制御部21に電気的に接続されており、制御部21から発信される信号に応じて、弁の開閉制御又は弁の開度を調整する制御を行うことで、貯留タンク61への中和剤の投入量を制御するようになっている。なお、pH値検出装置65は、貯留タンク61における循環液のpH値を検出可能に構成されていればよく、上述したpH計に限定されない。また、pH値検出装置65は、貯留タンク61以外に設けられていてもよい。
 上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、制御部21によりpH値検出装置65で検出されるpH値に応じて、中和剤添加装置66による中和剤の添加量の制御することで、中和剤の過剰消費を防止することができるとともに、貯留タンク61よりも後段に位置する送水ポンプ43などの設備や配管の腐食を抑制することができる。送水ポンプ43などの設備や配管の腐食を抑制することで、排ガス洗浄システム20により長期間にわたり排ガスの洗浄を安定して行うことができる。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、クローズドループ運転に洗浄液(循環液)を冷却するためのクーラー44をさらに備えている。図3に示される実施形態では、クーラー44は、供給路40における送水ポンプ43よりも下流側の部分(供給管40C)に設けられている。クーラー44は、船体2の外部から船外水(冷却液)を取得するための第3取水部441と、船外水(冷却液)により熱交換を行うことで、供給路40における送水ポンプ43よりも下流側の部分(供給管40C)を冷却可能な冷却部442と、第3取水部441から冷却部442に船外水(冷却液)を送るための冷却液路440と、冷却液路440の途中に設けられる第3送水ポンプ443と、を有している。冷却部442で熱交換が行われた後の船外水(冷却液)は船体2の外部に排出される。クーラー44は、クローズドループ運転時に動作するようになっている。この場合には、クーラー44により供給路40を流れる洗浄液(循環液)を冷却することができる。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、送水ポンプ43に並列に配置される並列送水ポンプ43Bをさらに備えている。図3に示される実施形態では、供給路40は、送水ポンプ43を迂回する迂回路431を含んでいる。並列送水ポンプ43Bは、迂回路431に設けられる。迂回路431は、供給路40における送水ポンプ43よりも上流側の部分(供給管40B)と、供給路40における送水ポンプ43よりも下流側の部分(供給管40C)と、を繋ぐ配管からなる。上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20の運転状態の切り替えに伴い、送水ポンプ43に要求される送水量が増加もしくは低減した際に、送水ポンプ43に並列に配置される並列送水ポンプ43Bからも送水するもしくは送水ポンプ43の代わりに並列送水ポンプ43Bのみを使用することで、必要量を送水することができる。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、上述した送水ポンプ43と上述した第3送水ポンプ443とを並列に接続する一対の接続路444、445をさらに備えている。図3に示される実施形態では、接続路444(上流側接続路)は、送水ポンプ43および第3送水ポンプの夫々の上流側同士を繋ぐ配管からなり、接続路445(下流側接続路)は、送水ポンプ43および第3送水ポンプの夫々の下流側を繋ぐ配管からなる。つまり、接続路444は、供給路40における送水ポンプ43よりも上流側の部分(供給管40B)と、冷却液路440における第3送水ポンプ443よりも上流側の部分(供給管440A)と、を繋ぐ配管からなる。接続路445は、供給路40における送水ポンプ43よりも下流側の部分(供給管40C)と、冷却液路440における第3送水ポンプ443よりも下流側の部分(供給管440B)と、を繋ぐ配管からなる。なお、接続路444、445に弁(開閉弁、流路調整弁)を設けてもよい。上記の構成によれば、並列送水ポンプ43Bによる送水によって、供給管40Bから送水ポンプ43への送水が行われない際に第3送水ポンプ443に代えて送水ポンプ43を利用することができる。つまり、送水ポンプ43によるクーラー44への送水が可能である。よって、上記の構成によれば、上述した排ガス洗浄システム20から第3送水ポンプ443を除いた構造にすることができる。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、循環液から不純物を除去可能な循環液処理装置81と、循環液を循環液処理装置81により処理される被処理液として循環液処理装置81に送るための被処理液路80と、被処理液路80における被処理液の流量を制御可能に構成されている被処理液流量制御弁82と、をさらに備えている。
 図3に示される実施形態では、上述した被処理液路80は、供給路40の送水ポンプ43よりも下流側に設けられる第1分岐部45と循環液処理装置81とを接続する第1被処理液路83と、貯留タンク61と循環液処理装置81とを接続する第2被処理液路85と、を含んでいる。そして、上述した被処理液流量制御弁82は、第1被処理液路83における被処理液の流量を制御可能に構成されている第1被処理液流量制御弁84と、第2被処理液路85における被処理液の流量を制御可能に構成されている第2被処理液流量制御弁86と、を含んでいる。図3に示されるように、第2被処理液路85における貯留タンク61と第2被処理液流量制御弁86との間には、貯留タンク61から循環液処理装置81に循環液(被処理液)を送るための第4送水ポンプ87が設けられている。
 図3に示されるように、循環液処理装置81において、循環液(被処理液)から除去された不純物は、不純物タンク100に貯留される。また、循環液処理装置81において、不純物が除去された循環液(被処理液)は、被処理液排出路102から排出される。図3に示される実施形態では、被処理液排出路102は、循環液処理装置81と分岐部103とを接続する被処理液管102A、排出管50Bの途中と分岐部103とを接続する被処理液管102B、および被処理液を貯留可能な被処理液タンク101と分岐部103とを接続する被処理液管102Cを含んでいる。そして、被処理液管102Bには、被処理液管102Bを流れる循環液処理装置81で処理後の被処理液の流量を制御可能な第1処理済液流量制御弁104が設けられている。また、被処理液管102Cには、被処理液管102Cを流れる循環液処理装置81で処理後の被処理液の流量を制御可能な第2処理済液流量制御弁105が設けられている。
 クローズドループ運転からオープンループ運転に切り替えた場合において、上述した第1処理済液流量制御弁104が開き、且つ上述した第2処理済液流量制御弁105が閉じる。そして、被処理液排出路102から排出された被処理液は、被処理液管102A、102Bおよび排出管50Bを介して、排出液処理装置51に送られる。また、貯留タンク61内に残存している循環液を第2被処理液路85経由で処理して排出可能であるため、迅速にオープンループ運転に切り替え可能である。
 クローズドループ運転において、上述した第2処理済液流量制御弁105が開き、且つ上述した第1処理済液流量制御弁104が閉じる。そして、被処理液排出路102から排出された被処理液は、被処理液管102A、102Cを通り、被処理液タンク101に送られる。クローズドループ運転からオープンループ運転に切り替わった後に、被処理液タンク101に貯留された被処理液は、第2被処理液排出路106を介して排出液処理装置51に送られる。
 上記の構成によれば、排ガスの洗浄を繰り返して不純物が濃縮した循環液を循環液処理装置81により処理される被処理液として、被処理液路80を介して循環液処理装置81に送ることで、配管(供給管40B、40Cや循環管60A~60Cなど)の詰まりやスケーリングを防止することができるため、安定した運転が可能になる。
 なお、他の実施形態では、上述した被処理液路80は、上述した第1被処理液路83および上述した第2被処理液路85の何れか一方のみを含んでいてもよく、また、第1被処理液路83および第2被処理液路85の両方を含んでいなくてもよい。また、上述した被処理液路80は、第1被処理液路83や第2被処理液路85以外の被処理液路を含んでいてもよい。
 幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、図3に示されるように、排ガスを洗浄後の洗浄液の比重を検出可能な比重検出装置67をさらに備えている。そして、上述した制御部21は、比重検出装置67で検出される排ガスを洗浄後の洗浄液の比重に応じた、被処理液流量制御弁82(第1被処理液流量制御弁84)の開度の制御が可能に構成されている。図3に示される実施形態では、比重検出装置67は、貯留タンク61における洗浄液の比重を検出する比重計である。なお、他の実施形態では、比重検出装置67は、供給路40(供給管40B、40C)や循環路60(循環管60A、60B、60C)、脱硫塔30の液だまり部34Aなどにおける洗浄液の比重を検出する比重計であってもよい。また、他の実施形態では、上述した制御部21は、比重検出装置67で検出される排ガスを洗浄後の洗浄液の比重に応じた、第2被処理液流量制御弁86)の開度の制御が可能に構成されていてもよい。
 排ガスの洗浄を繰り返して不純物が濃縮した洗浄液(循環液)は、比重が高くなる傾向がある。上記の構成によれば、制御部21は、比重検出装置67で検出される排ガスを洗浄後の洗浄液の比重に応じた、被処理液流量制御弁82の開度の制御を行うことで、被処理液路80に適切な流量の洗浄液(被処理液)を流すことができる。被処理液路80に適切な流量の洗浄液(被処理液)を流すことで、配管(供給管40B、40Cや循環管60A~60Cなど)の詰まりやスケーリングを防止することができるため、安定した運転が可能になる。また、被処理液路80に過剰量の洗浄液が流れることを防止できるので、循環液処理装置81における被処理液の処理量を削減することができる。
 図5は、他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。幾つかの実施形態では、上述した排ガス洗浄システム20は、被処理液路80に設けられるとともに被処理液を貯留可能な被処理液貯留タンク90をさらに備えている。
 図5に示される実施形態では、被処理液路80は、第1被処理液路83における第1分岐部45と第1被処理液流量制御弁84との間に設けられる第2分岐部88において、第1被処理液路83から分岐するとともに循環液処理装置81に接続されるバイパス路89をさらに含んでいる。バイパス路89には、循環液処理装置81により処理される前の循環液(被処理液)を貯留するための内部空間91を内部に画定する上述した被処理液貯留タンク90が設けられている。バイパス路89における被処理液貯留タンク90の上流側には、バイパス路89を介して被処理液貯留タンク90に送られる被処理液の流量を制御可能なバイパス路入口側流量制御弁92が設けられる。バイパス路89における被処理液貯留タンク90の下流側には、バイパス路89を介して被処理液貯留タンク90から循環液処理装置81に送られる被処理液の流量を制御可能なバイパス路出口側流量制御弁93が設けられる。
 クローズドループ運転において、バイパス路入口側流量制御弁92が開き、且つバイパス路出口側流量制御弁93が閉じている。このため、クローズドループ運転時に、第1被処理液路83を流れる被処理液の一部が、バイパス路89を介して被処理液貯留タンク90に送られて、被処理液貯留タンク90に貯留される。
 クローズドループ運転からオープンループ運転に切り替え後に、バイパス路入口側流量制御弁92が閉じ、且つバイパス路出口側流量制御弁93が開く。このため、クローズドループ運転時に被処理液貯留タンク90に貯留された被処理液は、オープンループ運転時に、循環液処理装置81に送られる。
 上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、循環液処理装置81により処理される前の被処理液の一部を被処理液貯留タンク90に貯留することで、単位時間当たりの処理量が小さく小型な循環液処理装置81であっても被処理液の処理が可能になる。そして、循環液処理装置81を小型にすることで、排ガス洗浄システム20の省スペース化や装置コストの低減が図れる。
 上述したように、幾つかの実施形態では、上述した被処理液路80は、供給路40の送水ポンプ43よりも下流側に設けられる第1分岐部45と循環液処理装置81とを接続する上述した第1被処理液路83を含んでいる。そして、上述した被処理液流量制御弁82は、第1被処理液路83における被処理液の流量を制御可能に構成されている上述した第1被処理液流量制御弁84を含んでいる。
 上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、第1被処理液流量制御弁84により第1被処理液路83における被処理液の流量を制御することで、第1被処理液路83を介して供給路40から循環液処理装置81に、適切な流量の被処理液を流すことができる。また、第1被処理液路83は、供給路40の送水ポンプ43よりも下流側に設けられるので、第1被処理液路83における被処理液には送水ポンプ43のポンプ圧が作用する。このため、送水ポンプ43のポンプ圧が作用する第1被処理液路83は、送水ポンプ43から循環液処理装置81までの揚程や水平距離を大きくすることができるので、第1被処理液路83の配管設計の自由度を高めることができる。
 上述したように、幾つかの実施形態では、上述した被処理液路80は、貯留タンク61と循環液処理装置81とを接続する上述した第2被処理液路85を含んでいる。そして、上述した被処理液流量制御弁82は、第2被処理液路85における被処理液の流量を制御可能に構成されている上述した第2被処理液流量制御弁86を含んでいる。
 上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、第2被処理液流量制御弁86により第2被処理液路85における被処理液の流量を制御することで、第2被処理液路85を介して貯留タンク61から循環液処理装置81に、適切な流量の被処理液を流すことができる。また、排ガス洗浄システム20は、クローズドループ運転からオープンループ運転に切り替え後に、貯留タンク61に残った循環液を第2被処理液路85に流すことが可能であるので、クローズドループ運転からオープンループ運転への切り替えを迅速に行うことができる。
 図6は、貯留タンクの貯留量の制御について説明するための図であって、貯留タンクの概略断面図である。クローズドループ運転において、循環路60や供給路40における循環液は、一部が被処理液路80に流れるので、徐々に総量が減っていく。幾つかの実施形態では、上述した制御部21は、貯留タンク61における洗浄液(循環液)の貯留量が、図6に示されるような、範囲上限値RUと、範囲下限値RLと、の間の範囲内に収まるように、船外水補給装置64における補給水流量制御弁643の弁の開閉制御又は弁の開度を調整する制御を行う。なお、他の実施形態では、上述した制御部21は、貯留タンク61における洗浄液(循環液)の貯留量が、図6に示されるような、目標値Tに近づくように、船外水補給装置64における補給水流量制御弁643の弁の開閉制御又は弁の開度を調整する制御を行うようにしてもよい。
 幾つかの実施形態では、上述した制御部21は、貯留量取得装置63で取得される貯留量が、図6に示されるような上限閾値ULを超える場合に、第2被処理液流量制御弁86を開く制御が可能に構成されている。上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、貯留量取得装置63で取得される貯留量が上限閾値ULを超える場合に、制御部21により第2被処理液流量制御弁86を開く制御を行うことで、貯留タンク61に貯留される過剰な循環液を貯留タンク61から迅速に排出することができる。
 幾つかの実施形態では、上述した制御部21は、貯留量取得装置63で取得される貯留量が、図6に示されるような下限閾値LLに満たない場合に、供給側切替装置71による供給源を取水部41で取水した船外水に切り替える制御が可能に構成されている。上記の構成によれば、排ガス洗浄システム20は、貯留量取得装置63で取得される貯留量が下限閾値LLに満たない場合に、制御部21により供給側切替装置71を切り替える制御を行うことで、供給源を取水部41で取得した船外水に切り替えることができるため、貯留タンク61に不足分の循環液を迅速に供給することができる。
 図7は、他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。幾つかの実施形態では、上述した供給側切替装置71は、図7に示されるように、供給路40における合流部42と送水ポンプ43との間に設けられる第1供給側2方弁75と、循環路60における貯留タンク61と合流部42との間に設けられる第2供給側2方弁76と、を含んでいる。第1供給側2方弁75および第2供給側2方弁76の夫々は、制御部21に電気的に接続されている。第1供給側2方弁75および第2供給側2方弁76の夫々は、制御部21から発信される信号に応じて、弁の開閉制御を行うことで、洗浄液の供給源を切り替え可能である。なお、他の幾つかの実施形態では、第1供給側2方弁75は、供給路40における取水部41と合流部42との間に設けられていてもよい。
 また、幾つかの実施形態では、上述した排出側切替装置72は、図7に示されるように、排出路50における分岐部52と排出液処理装置51との間に設けられる第1排出側2方弁77と、循環路60における分岐部52と貯留タンク61との間に設けられる第2排出側2方弁78と、を含んでいる。第1排出側2方弁77および第2排出側2方弁78の夫々は、制御部21に電気的に接続されている。第1排出側2方弁77および第2排出側2方弁78の夫々は、制御部21から発信される信号に応じて、弁の開閉制御を行うことで、脱硫塔30から排出される洗浄液の流出先を切り替え可能である。
 図7に示される実施形態では、供給路40は、取水部41と第1供給側2方弁75とを接続する供給管40D、第1供給側2方弁75と送水ポンプ43とを接続する供給管40E、および上述した供給管40Cを含んでいる。排出路50は、脱硫塔30と分岐部52とを接続する排出管50C、分岐部52と第1排出側2方弁77とを接続する排出管50D、および第1排出側2方弁77と排出液処理装置51とを接続する排出管50Eを含んでいる。また、循環路60は、上述した排出管50Cと共有配管であり脱硫塔30と分岐部52とを接続する循環管60D、分岐部52と第2排出側2方弁78とを接続する循環管60E、第2排出側2方弁78と貯留タンク61とを接続する循環管60F、貯留タンク61と第2供給側2方弁76とを接続する循環管60G、および第2供給側2方弁76と合流部42とを接続する循環管60Hを含んでいる。
 図8は、他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの構成を概略的に示す構成図である。幾つかの実施形態では、図8に示されるように、上述した脱硫塔30は、上述した気液接触部38よりも下方に位置する液だまり部34Aと、液だまり部34Aよりも下方に位置する貯留タンク61(貯留タンク61A)と、を内部に画定している。換言すると、脱硫塔30と貯留タンク61とが一体的に形成されている。図8に示される実施形態では、液だまり部34Aの底面を構成する中板部311であって、水平方向に沿って延在する中板部311により、内部空間34と内部空間62とが区画されることで、脱硫塔30の内部に、上述した液だまり部34Aと上述した貯留タンク61Aとが形成されている。
 図8に示される実施形態では、排出路50は、脱硫塔30と第1排出側2方弁77とを接続する排出管50F、および上述した排出管50Eを含んでいる。循環路60は、液だまり部34Aと内部空間62とに接続される循環管60J、および上述した循環管60Cを含んでいる。また、上述した排出側切替装置72は、図8に示されるように、上述した排出路50における脱硫塔30と排出液処理装置51との間に設けられる第1排出側2方弁77と、循環路60(循環管60J)における液だまり部34Aと内部空間62との間に設けられる第3排出側2方弁79と、を含んでいる。第1排出側2方弁77および第3排出側2方弁79の夫々は、制御部21に電気的に接続されている。第1排出側2方弁77および第3排出側2方弁79の夫々は、制御部21から発信される信号に応じて、弁の開閉制御を行うことで、脱硫塔30から排出される洗浄液の流出先を切り替え可能である。
 上記の構成によれば、脱硫塔30の内部に液だまり部34Aと貯留タンク61Aとを画定することで、脱硫塔30の外部に別途貯留タンク61を設ける必要がなくなるため、排ガス洗浄システム20の専有面積の増大を抑制可能である。
 図9は、一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法を説明するためのフロー図である。図10は、他の一実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法を説明するためのフロー図である。図9、10に示されるように、排ガス洗浄システムの運用方法200A、200Bは、船舶1に搭載される排ガス発生装置10から排出される排ガスを洗浄するための上述した排ガス洗浄システム20の運用方法である。排ガス洗浄システムの運用方法200A、200Bにおける排ガス洗浄システム20は、例えば図3に示されるような、上述した脱硫塔30と、上述した取水部41と、上述した供給路40と、上述した送水ポンプ43と、上述した排出路50と、上述した循環路60と、上述した供給側切替装置71と、上述した排出側切替装置72と、を少なくとも備えている。
 幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法200Aは、図9に示されるように、上述した第1供給源切替ステップS201と、上述した第1流出先切替ステップS202と、を備えている。この場合には、排ガス洗浄システムの運用方法200Aは、供給側切替装置71により洗浄液の供給源を、取水部41で取水した船外水から、循環路60を介して供給路40に還流された循環液に切り替える第1供給源切替ステップS201と、排出側切替装置72により洗浄液の流出先を、排出路50から循環路60に切り替える第1流出先切替ステップS202と、を行うことで、排ガス洗浄システム20の運転状態をオープンループ運転からクローズドループ運転に切り替えることができる。
 幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法200Aにおける排ガス洗浄システム20は、例えば図3に示されるような、上述した貯留タンク61と、上述した貯留量取得装置63と、をさらに備えている。幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法200Aは、図9に示されるように、上述した貯留量取得装置63により循環液の貯留量を取得する貯留量取得ステップS203をさらに備えている。そして、上述した第1供給源切替ステップS201は、第1流出先切替ステップS202よりも後、且つ貯留量取得ステップS203により取得される貯留量が所定量を超えた後に行われる。
 図9に示される実施形態では、排ガス洗浄システムの運用方法200Aは、貯留量取得ステップS203により取得される貯留量が所定量を超えているか否かを判定する貯留量判定ステップS204をさらに備えている。貯留量判定ステップS204において貯留量が所定量を超えていない場合には(S204で「NO」)、上述した貯留量取得ステップS203が再度行われる。また、貯留量判定ステップS204において貯留量が所定量を超えている場合には(S204で「YES」)、上述した第1供給源切替ステップS201が行われる。
 上記の方法によれば、排ガス洗浄システムの運用方法200Aは、貯留量取得ステップS203で貯留タンク61における循環液の貯留量を取得することができる。そして、第1供給源切替ステップS201は、第1流出先切替ステップS202よりも後に、且つ、貯留タンク61における貯留量が所定量を超えた後に行われる。このような排ガス洗浄システムの運用方法200Aは、洗浄液の供給源を船外水から循環液に切り替えた際に、十分な量の循環液が貯留タンク61に貯留されているので、循環液の不足による排ガスの洗浄能力の低下を抑制することができる。
 なお、他の実施形態では、第1流出先切替ステップS202を実行してから所定期間経過後に、第1供給源切替ステップS201を実行してもよい。この場合には、所定期間経過後に貯留タンク61に洗浄液が所定以上の量が貯留されていると仮定することで、排ガス洗浄システムの運用方法200Aの単純化を図ることができる。
 幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法200Bは、図10に示されるように、上述した第2供給源切替ステップS301と、上述した第2流出先切替ステップS302と、を備えている。この場合には、排ガス洗浄システムの運用方法200Bは、供給側切替装置71により洗浄液の供給源を、循環路60を介して供給路40に還流された循環液から取水部41で取水した船外水に切り替える第2供給源切替ステップS301と、排出側切替装置72により洗浄液の流出先を、循環路60から排出路50に切り替える第2流出先切替ステップS302と、を行うことで、排ガス洗浄システム20の運転状態をクローズドループ運転からオープンループ運転に切り替えることができる。
 また、供給路40の合流部42よりも下流側の部分(供給管40Bおよび40C)および脱硫塔30が、オープンループ運転およびクローズドループ運転の何れの運転状態においても使用される共有設備になっているため、クローズドループ運転において循環液が流れる配管(供給管40B、40Cや循環管60A~60Cなど)内および脱硫塔30下部の液だまり部34Aに残存する汚れた循環液を洗い流すことができる。より詳細には、上述した第2供給源切替ステップS301を実施することで、配管(供給管40B、40Cや循環管60A~60Cなど)内および脱硫塔30下部の液だまり部34Aに存在する汚れた循環液の全てが、海水などの船外水によって洗浄されて貯留タンク61に導かれる。このため、上述した第2流出先切替ステップS302に移る際には、排出路50に流れる洗浄液の全てが船外水に置換されているので、オープンループ運転への移行が無駄なく迅速に行われる。
 なお、上述した第2供給源切替ステップS301から上述した第2流出先切替ステップS302への移行のタイミングは、配管(供給管40B、40Cや循環管60A~60Cなど)および液だまり部34Aに存在する循環液の全てが船外水に置換されるのに必要な時間を目安としてもよく、また、上述した制御部21は、上述した必要な時間を目安として、上述した第2流出先切替ステップS302を実行するようにしてもよい。
 幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法200Bにおける排ガス洗浄システム20は、例えば図3に示されるような、上述した貯留タンク61と、上述した循環液処理装置81と、上述した第2被処理液路85(被処理液路80)と、上述した第2被処理液流量制御弁86(被処理液流量制御弁82)と、をさらに備えている。幾つかの実施形態にかかる排ガス洗浄システムの運用方法200Bは、図10に示されるように、第2供給源切替ステップS301および第2流出先切替ステップS302よりも後に、第2被処理液流量制御弁86(被処理液流量制御弁82)を開いて、貯留タンク61に貯留される循環液を循環液処理装置81に送る循環液排出ステップS303をさらに備えている。
 上記の方法によれば、排ガス洗浄システムの運用方法200Bは、第2供給源切替ステップS301および第2流出先切替ステップS302よりも後に、第2被処理液流量制御弁86(被処理液流量制御弁82)を開いて、貯留タンク61に貯留される循環液を循環液処理装置81に送る循環液排出ステップS303をさらに備えているので、排ガス洗浄システム20の運転状態をクローズドループ運転からオープンループ運転に切り替えた際に、貯留タンク61に残った循環液を貯留タンク61の外部に位置する循環液処理装置81に排出することができる。
 本発明は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。
1      船舶
2      船体
3      上甲板
4      船側外板
5      船底外板
6      居住区
7      鋼板構造物
8      機関室
10     排ガス発生装置
11     主機関
12     補助機関
20,20A 排ガス洗浄システム
20     船舶用脱硫装置
21     制御部
30     脱流塔
40     供給路
41     取水部
42     合流部
43     送水ポンプ
44     クーラー
50     排出路
51     排出液処理装置
60     循環路
61,61A 貯留タンク
63     貯留量取得装置
64     船外水補給装置
65     pH値検出装置
66     中和剤添加装置
67     比重検出装置
71     供給側切替装置
72     排出側切替装置
80     被処理液路
81     循環液処理装置
90     被処理液貯留タンク
200A,200B 排ガス洗浄システムの運用方法
LL     下限閾値
RL     範囲下限値
RU     範囲上限値
T      目標値
UL     上限閾値

Claims (16)

  1.  船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システムであって、
     前記排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、
     船体の外部から船外水を取水するための取水部と、
     前記取水部と前記脱硫塔とを接続する供給路と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液を前記船体の外部に排出するための排出路と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液を循環液として前記供給路に還流させるための循環路であって、前記供給路と合流部において合流する循環路と、
     前記脱硫塔に供給される前記洗浄液の供給源を、前記取水部で取水した前記船外水、又は、前記循環路を介して前記供給路に還流された前記循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液の流出先を、前記排出路、又は、前記循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備える
    排ガス洗浄システム。
  2.  前記供給路における前記合流部よりも下流側に設けられた送水ポンプと、
     前記循環路に設けられるとともに前記循環液を貯留可能な貯留タンクと、をさらに備える
    請求項1に記載の排ガス洗浄システム。
  3.  前記貯留タンクにおける前記循環液の貯留量を取得可能に構成されている貯留量取得装置と、
     前記貯留タンクに前記船外水を補給可能に構成されている船外水補給装置と、
     前記貯留量取得装置で取得される前記貯留量に応じて、前記船外水補給装置による前記貯留タンクへの前記船外水の補給量を制御する制御部と、をさらに備える
    請求項2に記載の排ガス洗浄システム。
  4.  前記貯留タンクにおける前記循環液のpH値を検出可能に構成されているpH値検出装置と、
     前記貯留タンクに中和剤を添加可能に構成されている中和剤添加装置と、をさらに備え、
     前記制御部は、前記pH値検出装置で検出される前記pH値に応じて、前記中和剤添加装置による前記中和剤の添加量の制御を行うように構成されている
    請求項3に記載の排ガス洗浄システム。
  5.  前記循環液から不純物を除去可能な循環液処理装置と、
     前記循環液を前記循環液処理装置により処理される被処理液として前記循環液処理装置に送るための被処理液路と、
     前記被処理液路における前記被処理液の流量を制御可能に構成されている被処理液流量制御弁と、をさらに備える
    請求項3又は4に記載の排ガス洗浄システム。
  6.  前記排ガスを洗浄後の前記洗浄液の比重を検出可能な比重検出装置をさらに備え、
     前記制御部は、前記比重検出装置で検出される前記排ガスを洗浄後の前記洗浄液の比重に応じた、前記被処理液流量制御弁の開度の制御が可能に構成されている
    請求項5に記載の排ガス洗浄システム。
  7.  前記被処理液路に設けられるとともに前記被処理液を貯留可能な被処理液貯留タンクをさらに備える
    請求項5又は6に記載の排ガス洗浄システム。
  8.  前記被処理液路は、前記供給路の前記送水ポンプよりも下流側に設けられる第1分岐部と前記循環液処理装置とを接続する第1被処理液路を含み、
     前記被処理液流量制御弁は、前記第1被処理液路における前記被処理液の流量を制御可能に構成されている第1被処理液流量制御弁を含む
    請求項5乃至7の何れか1項に記載の排ガス洗浄システム。
  9.  前記被処理液路は、前記貯留タンクと前記循環液処理装置とを接続する第2被処理液路を含み、
     前記被処理液流量制御弁は、前記第2被処理液路における前記被処理液の流量を制御可能に構成されている第2被処理液流量制御弁を含む
    請求項5乃至8の何れか1項に記載の排ガス洗浄システム。
  10.  前記制御部は、前記貯留量取得装置で取得される前記貯留量が上限閾値を超える場合に、前記第2被処理液流量制御弁を開く制御が可能に構成されている
    請求項9に記載の排ガス洗浄システム。
  11.  前記制御部は、前記貯留量取得装置で取得される前記貯留量が下限閾値に満たない場合に、前記供給側切替装置による前記供給源を前記取水部で取水した前記船外水に切り替える制御が可能に構成されている
    請求項3乃至10の何れか1項に記載の排ガス洗浄システム。
  12.  前記脱硫塔は、前記気液接触部よりも下方に位置する液だまり部と、前記液だまり部よりも下方に位置する前記貯留タンクと、をさらに内部に画定する
    請求項2乃至11の何れか1項に記載の排ガス洗浄システム。
  13.  船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システムの運用方法であって、
     前記排ガス洗浄システムは、
     前記排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、
     船体の外部から船外水を取水するための取水部と、
     前記取水部と前記脱硫塔とを接続する供給路と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液を前記船体の外部に排出するための排出路と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液を循環液として前記供給路に還流させるための循環路であって、前記供給路と合流部において合流する循環路と、
     前記供給路における前記合流部よりも下流側に設けられた送水ポンプと、
     前記脱硫塔に供給される前記洗浄液の供給源を、前記取水部で取水した前記船外水、又は、前記循環路を介して前記供給路に還流された前記循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液の流出先を、前記排出路、又は、前記循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備え、
     前記排ガス洗浄システムの運用方法は、
     前記供給側切替装置により前記洗浄液の前記供給源を、前記取水部で取水した前記船外水から前記循環路を介して前記供給路に還流された前記循環液に切り替える第1供給源切替ステップと、
     前記排出側切替装置により前記洗浄液の前記流出先を、前記排出路から前記循環路に切り替える第1流出先切替ステップと、を備える
    排ガス洗浄システムの運用方法。
  14.  前記排ガス洗浄システムは、
     前記循環路に設けられるとともに前記循環液を貯留可能な貯留タンクと、
     前記貯留タンクにおける前記循環液の貯留量を取得可能に構成されている貯留量取得装置と、をさらに備え、
     前記排ガス洗浄システムの運用方法は、
     前記貯留量取得装置により前記循環液の前記貯留量を取得する貯留量取得ステップをさらに備え、
     前記第1供給源切替ステップは、前記第1流出先切替ステップよりも後、且つ前記貯留量取得ステップにより取得される前記貯留量が所定量を超えた後に行われる
    請求項13に記載の排ガス洗浄システムの運用方法。
  15.  船舶に搭載される排ガス発生装置から排出される排ガスを洗浄するための排ガス洗浄システムの運用方法であって、
     前記排ガス洗浄システムは、
     前記排ガスに洗浄液を接触させる気液接触部を内部に画定する脱硫塔と、
     船体の外部から船外水を取水するための取水部と、
     前記取水部と前記脱硫塔とを接続する供給路と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液を前記船体の外部に排出するための排出路と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液を循環液として前記供給路に還流させるための循環路であって、前記供給路と合流部において合流する循環路と、
     前記供給路における前記合流部よりも下流側に設けられた送水ポンプと、
     前記脱硫塔に供給される前記洗浄液の供給源を、前記取水部で取水した前記船外水、又は、前記循環路を介して前記供給路に還流された前記循環液の何れか一方に切り替えるための供給側切替装置と、
     前記脱硫塔から排出される前記洗浄液の流出先を、前記排出路、又は、前記循環路の何れか一方に切り替えるための排出側切替装置と、を備え、
     前記排ガス洗浄システムの運用方法は、
     前記供給側切替装置により前記洗浄液の前記供給源を、前記循環路を介して前記供給路に還流された前記循環液から前記取水部で取水した前記船外水に切り替える第2供給源切替ステップと、
     前記排出側切替装置により前記洗浄液の前記流出先を、前記循環路から前記排出路に切り替える第2流出先切替ステップと、を備える
    排ガス洗浄システムの運用方法。
  16.  前記排ガス洗浄システムは、
     前記循環路に設けられるとともに前記循環液を貯留可能な貯留タンクと、
     前記循環液から不純物を除去可能な循環液処理装置と、
     前記循環液を前記循環液処理装置により処理される被処理液として前記循環液処理装置に送るための被処理液路であって、前記貯留タンクと前記循環液処理装置とを接続する被処理液路と、
     前記被処理液路における前記被処理液の流量を制御可能に構成されている被処理液流量制御弁と、をさらに備え、
     前記排ガス洗浄システムの運用方法は、
     前記第2供給源切替ステップおよび前記第2流出先切替ステップよりも後に、前記被処理液流量制御弁を開いて、前記貯留タンクに貯留される前記循環液を前記循環液処理装置に送る循環液排出ステップをさらに備える
    請求項15に記載の排ガス洗浄システムの運用方法。
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