WO2019188864A1 - 弾性波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置 - Google Patents

弾性波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置 Download PDF

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WO2019188864A1
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Definitions

  • the present invention relates to an elastic wave filter having an elastic wave resonator, a multiplexer, a high frequency front end circuit, and a communication device.
  • an elastic wave filter using an elastic wave is widely used for a band-pass filter disposed in a front end portion of a mobile communication device.
  • a high-frequency front-end circuit including a plurality of elastic wave filters has been put into practical use in order to cope with the combination of multimode / multiband.
  • Patent Document 1 discloses that an elastic wave filter corresponding to multiband formation is formed with a protective film (dielectric) so as to cover an IDT electrode constituting an elastic wave resonator in order to improve temperature characteristics. It is shown.
  • an object of the present invention is to provide an elastic wave filter, a multiplexer, a high-frequency front-end circuit, and a communication device that have improved attenuation characteristics on the high-frequency side from the passband.
  • an elastic wave filter is an elastic wave filter, and includes a first input / output terminal for inputting / outputting a high-frequency signal, a second input / output terminal, and the first input / output terminal.
  • a series arm resonance circuit having a first acoustic wave resonator provided in a first path connecting an output terminal and the second input / output terminal, and a second path connecting a node of the first path and the ground.
  • a parallel arm resonance circuit having a second elastic wave resonator, the parallel arm resonance circuit having a second elastic wave resonator, and the first elastic wave resonator and the second elastic wave resonator.
  • Each of the resonators includes an IDT electrode composed of a plurality of electrode fingers formed on a substrate having piezoelectricity at least in part, and a protective film formed to cover the IDT electrode.
  • the film thickness of the protective film in the two acoustic wave resonator is The first elastic wave resonator and the second elastic wave resonator are thinner than the protective film in the elastic wave resonator, and each of the first elastic wave resonator and the second elastic wave resonator has a higher frequency than the antiresonance frequency, and a higher order resonance frequency by a higher order mode.
  • a value obtained by dividing the difference between the high-order resonance frequency and the resonance frequency in the elastic wave resonator by the resonance frequency of the elastic wave resonator is defined as a first specific bandwidth
  • the value obtained by dividing the difference between the high-order antiresonance frequency and the antiresonance frequency in the wave resonator by the antiresonance frequency of the elastic wave resonator is defined as the second specific bandwidth
  • the first specific bandwidth is larger than the first specific bandwidth in the first elastic wave resonator
  • the second specific bandwidth in the second elastic wave resonator is the first specific wave resonator in the first elastic wave resonator. Greater than second specific bandwidth.
  • the thickness of the protective film in the second acoustic wave resonator is reduced, the higher order antiresonance frequency in the first acoustic wave resonator and the higher order resonance frequency in the second acoustic wave resonator are The frequency difference can be reduced. Therefore, the response due to the higher order mode can be reduced, and the attenuation characteristic on the high frequency side from the pass band can be improved.
  • the frequency difference between the higher order antiresonance frequency in the first elastic wave resonator and the higher order resonance frequency in the second elastic wave resonator is the same as the antiresonance frequency in the first elastic wave resonator and the second elasticity. It may be smaller than the frequency difference from the resonance frequency in the wave resonator.
  • the frequency difference between the high-order anti-resonance frequency in the first elastic wave resonator and the high-order resonance frequency in the second elastic wave resonator is expressed as the anti-resonance frequency in the first elastic wave resonator and the resonance frequency in the second elastic wave resonator.
  • the parallel arm resonance circuit further includes an impedance circuit connected to the second elastic wave resonator for changing a pass band of the elastic wave filter, and the impedance circuit includes the second elastic wave resonator.
  • the parallel arm resonance circuit further includes a third elastic wave resonator, and the third elastic wave resonator is connected between the node and the ground, and the second elastic wave resonator and the impedance.
  • a circuit is connected in parallel with a circuit connected in series, and a resonance frequency of the third elastic wave resonator is different from a resonance frequency of the second elastic wave resonator, and an anti-resonance frequency of the third elastic wave resonator. May be different from the antiresonance frequency of the second elastic wave resonator.
  • the resonance frequency of the third elastic wave resonator is lower than the resonance frequency of the second elastic wave resonator, and the anti-resonance frequency of the third elastic wave resonator is the anti-resonance frequency of the second elastic wave resonator.
  • the impedance circuit may be lower in frequency than the resonance frequency, and the impedance circuit may be connected in series only to the second elastic wave resonator among the second elastic wave resonator and the third elastic wave resonator.
  • the resonance frequency of the third elastic wave resonator is higher than the resonance frequency of the second elastic wave resonator, and the anti-resonance frequency of the third elastic wave resonator is the anti-resonance frequency of the second elastic wave resonator.
  • the impedance circuit may be higher in frequency than the resonance frequency, and the impedance circuit may be connected in series only to the second elastic wave resonator among the second elastic wave resonator and the third elastic wave resonator.
  • the parallel arm resonance circuit further includes a third elastic wave resonator, and the impedance circuit is connected to the circuit in which the second elastic wave resonator and the third elastic wave resonator are connected in parallel. It may be connected in series.
  • the impedance circuit is connected in series to only one of the second elastic wave resonator and the third elastic wave resonator, and the parallel arm resonance circuit is further connected between the node and the ground.
  • the other acoustic circuit connected in series only to the other of the second acoustic wave resonator and the third acoustic wave resonator may be included.
  • the passband is shifted to the high band side without dropping the shoulders of the high band band and the low band band while shifting the attenuation poles of the high band band and the low band band to the high band side.
  • the impedance circuit may further include an inductor connected in series to the switch element, and the circuit in which the switch element and the inductor are connected in series may be connected in parallel to the capacitor element. .
  • a multiplexer includes the elastic wave filter according to any one of the above and a first filter connected to the first input / output terminal, and a passband frequency in the first filter. Is higher than the frequency of the passband of the acoustic wave filter, and the higher order resonance frequency in the first acoustic wave resonator and the higher order antiresonance frequency in the second acoustic wave resonator are passed through the first filter. It is higher than the frequency at the high end of the band.
  • the first acoustic wave resonator includes a second filter connected to the first input / output terminal, wherein a frequency of a pass band in the second filter is higher than a frequency of a pass band of the first filter.
  • the higher-order resonance frequency at and the higher-order anti-resonance frequency at the second acoustic wave resonator may be lower than the frequency at the lower end of the pass band of the second filter.
  • a multiplexer can be realized in which the insertion loss in the pass band in the first filter and the insertion loss in the pass band in the second filter are reduced.
  • a high-frequency front end circuit includes the elastic wave filter described above and an amplifier circuit connected to the elastic wave filter.
  • a communication device includes an RF signal processing circuit that processes a high-frequency signal transmitted and received by an antenna element, and the high-frequency signal that is transmitted between the antenna element and the RF signal processing circuit.
  • a high-frequency front-end circuit as described.
  • an elastic wave filter it is possible to provide an elastic wave filter, a multiplexer, a high-frequency front-end circuit, and a communication device that have improved attenuation characteristics on the high-frequency side from the passband.
  • FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a filter according to the first embodiment.
  • FIG. 2A is a unit circuit diagram illustrating an on / off operation of a switch of the filter.
  • FIG. 2B is a graph showing attenuation characteristics of a conventional filter.
  • FIG. 2C is a graph showing attenuation characteristics of the filter according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a plan view and a cross-sectional view illustrating an electrode configuration of the filter according to the first embodiment.
  • FIG. 4A is a cross-sectional view of the electrode film and the surrounding structure in the first exemplary embodiment.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view of another example of the electrode film and the surrounding structure in the first exemplary embodiment.
  • FIG. 4A is a cross-sectional view of the electrode film and the surrounding structure in the first exemplary embodiment.
  • FIG. 5A is a graph showing the resonance characteristics of the surface acoustic wave resonator when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5B is a graph showing the resonance frequency, antiresonance frequency, and specific bandwidth in the fundamental mode when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5C is a graph showing a resonance frequency, an anti-resonance frequency, and a specific bandwidth according to a higher-order mode when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5D is a graph showing the first specific bandwidth and the second specific bandwidth when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 6A is a graph showing pass characteristics when the filter according to Embodiment 1 (Example) is switched on.
  • FIG. 1 Example
  • FIG. 6B is a graph showing pass characteristics when the filter according to Embodiment 1 (Example) is switched off.
  • FIG. 6C is a graph comparing the pass characteristics when the filter according to Embodiment 1 (example) is switched on and off.
  • FIG. 7A is a graph showing pass characteristics when the filter according to the comparative example is switched on.
  • FIG. 7B is a graph showing pass characteristics when the filter according to the comparative example is switched off.
  • FIG. 7C is a graph comparing pass characteristics when the filter according to the comparative example is switched on and off.
  • FIG. 8A is a graph comparing pass characteristics when the filters according to the example and the comparative example are switched on.
  • FIG. 8B is a graph comparing pass characteristics when the filters according to the example and the comparative example are switched off.
  • FIG. 9A is a graph illustrating resonance characteristics and pass characteristics in a wide band of the filter according to the example.
  • FIG. 9B is a graph illustrating resonance characteristics and pass characteristics in the high-frequency attenuation band of the filter according to the example.
  • FIG. 10A is a circuit configuration diagram of a filter according to Modification 1 of Embodiment 1.
  • FIG. 10B is a graph illustrating pass characteristics of the filter according to the first modification of the first embodiment.
  • FIG. 11A is a circuit configuration diagram of a filter according to the second modification of the first embodiment.
  • FIG. 11B is a graph showing pass characteristics of the filter according to the second modification of the first embodiment.
  • FIG. 12A is a circuit configuration diagram of a filter according to Modification 3 of Embodiment 1.
  • FIG. 12B is a graph showing a pass characteristic of the filter according to the third modification of the first embodiment.
  • FIG. 13A is a circuit configuration diagram of a filter according to Modification 4 of Embodiment 1.
  • FIG. 13B is a graph illustrating a pass characteristic of the filter according to the fourth modification of the first embodiment.
  • FIG. 14A is a circuit configuration diagram of a filter according to Modification 5 of Embodiment 1.
  • FIG. 14B is a graph showing pass characteristics of the variable filter according to Modification 5 of Embodiment 1.
  • FIG. 15A is a circuit configuration diagram of a multiplexer according to the second embodiment.
  • FIG. 15B is a schematic waveform diagram of pass characteristics of filters and impedance characteristics of acoustic wave resonators that constitute the multiplexer according to Embodiment 2.
  • FIG. 16 is a configuration diagram of the high-frequency front-end circuit and its peripheral circuits according to the third embodiment.
  • FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a filter 10 according to the first embodiment.
  • the filter 10 is, for example, a high-frequency filter circuit disposed in the front end portion of a multimode / multiband mobile phone.
  • the filter 10 is provided, for example, in a front-end circuit of a mobile phone or the like that supports LTE (Long Term Evolution), and passes a high-frequency signal in a Band (frequency band) standardized by 3GPP (Third Generation Partnership Project). Filter (attenuate) unnecessary high-frequency signals that affect communication.
  • This filter 10 is an elastic wave filter having a function of varying frequencies of a pass band and an attenuation band using an elastic wave resonator.
  • the filter 10 includes series arm resonators s1, s2, and s3, parallel arm resonators p1, p2, and p3, and impedance circuits 11, 12, and 13.
  • the series arm resonators s1, s2, and s3 are first acoustic wave resonators connected between the input / output terminal 11m (first input / output terminal) and the input / output terminal 11n (second input / output terminal), respectively. is there.
  • Each of the series arm resonators s1, s2, and s3 constitutes a series arm resonance circuit provided in a first path connecting the input / output terminal 11m and the input / output terminal 11n.
  • Each series arm resonance circuit is not limited to the case where the series arm resonators s1, s2, and s3 are each configured, but may be composed of one or more elastic wave resonators.
  • each series arm resonance circuit is constituted by one elastic wave resonator, but may be constituted by a plurality of elastic wave resonators.
  • the series arm resonance circuit including a plurality of elastic wave resonators includes, for example, a longitudinally coupled resonator including a plurality of elastic wave resonators, or a plurality of divided resonances in which one elastic wave resonator is divided in series. Includes children.
  • a plurality of divided resonators in which one acoustic wave resonator is divided in series as a series arm resonance circuit, it becomes possible to adapt to filter characteristics that require enhanced power durability, and series arm resonance.
  • By using a longitudinally coupled resonator as a circuit it is possible to adapt to filter characteristics that require enhanced attenuation.
  • the parallel arm resonator p1 is a second elastic wave resonator connected between the node x1 of the first path and the ground (reference terminal).
  • the parallel arm resonator p2 is a second acoustic wave resonator connected between the node x2 of the first path and the ground (reference terminal).
  • the parallel arm resonator p3 is a second acoustic wave resonator connected between the node x3 of the first path and the ground (reference terminal).
  • the node x1 is a connection node of the series arm resonators s1 and s2
  • the node x2 is a connection node of the series arm resonators s2 and s3
  • the node x3 is the series arm resonator s3 and the input / output terminal 11n. Connection node.
  • the parallel arm resonators p1, p2, and p3 have a resonance frequency lower than the pass band of the filter 10 and an anti-resonance frequency in the pass band.
  • the series arm resonators s1, s2, and s3 It has a resonance frequency in the pass band and an anti-resonance frequency on the higher frequency side than the pass band. Therefore, in the present embodiment, the resonance frequencies in parallel arm resonators p1, p2, and p3 are lower than the resonance frequencies in series arm resonators s1, s2, and s3, and antiresonance in parallel arm resonators p1, p2, and p3.
  • the frequency is lower than the antiresonance frequency in the series arm resonators s1, s2, and s3.
  • the resonance frequency of the resonator is a frequency of a “resonance point” that is a singular point (ideally a point where the impedance is 0) at which the impedance of the resonator is minimized.
  • the antiresonance frequency in the resonator is a frequency of an “antiresonance point” that is a singular point (ideally an infinite point) where the impedance of the resonator becomes a maximum.
  • a singular point where the impedance is minimal (ideally a point where the impedance is 0) will be described as “ It is called “resonance point” and its frequency is called “resonance frequency”.
  • a singular point where the impedance is maximum (ideally a point where the impedance is infinite) is called an “anti-resonance point”, and its frequency is called an “anti-resonance frequency”.
  • the resonance frequency in the above-described resonator indicates the resonance frequency of the fundamental mode in the resonator
  • the anti-resonance frequency in the resonator described above indicates the anti-resonance frequency of the fundamental mode in the resonator.
  • the high-order resonance frequency which is the resonance frequency of the higher-order mode, is the minimum point of the impedance next to the impedance at the resonance frequency of the fundamental mode at a frequency higher than the resonance frequency of the fundamental mode.
  • the high-order antiresonance frequency which is the anti-resonance frequency of the higher-order mode, is the maximum point of the impedance lower than the impedance at the anti-resonance frequency of the fundamental mode at a frequency higher than the antiresonance frequency of the fundamental mode, Defined as frequency.
  • each of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 is constituted by one elastic wave resonator.
  • each of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 may be configured by a plurality of split resonators in which one elastic wave resonator is divided in series.
  • the series arm resonators s1, s2, and s3 and the parallel arm resonators p1, p2, and p3 form a pass band of the filter 10.
  • the impedance circuit 11 has a capacitive element C1 connected to the parallel arm resonator p1 and a switch SW1, and varies the pass band of the filter 10 and the attenuation band on the lower side of the pass band.
  • the parallel arm resonator p1 and the impedance circuit 11 constitute a parallel arm resonance circuit 21 provided in a second path connecting the node x1 and the ground.
  • the impedance circuit 12 includes a capacitive element C2 connected to the parallel arm resonator p2 and a switch SW2, and varies the pass band of the filter 10 and the attenuation band on the lower side of the pass band.
  • the parallel arm resonator p2 and the impedance circuit 12 constitute a parallel arm resonance circuit 22 provided in the second path.
  • the impedance circuit 13 includes a capacitive element C3 connected to the parallel arm resonator p3 and a switch SW3, and varies the pass band of the filter 10 and the attenuation band on the lower side of the pass band.
  • the parallel arm resonator p3 and the impedance circuit 13 constitute a parallel arm resonance circuit 23 provided in the second path.
  • the parallel arm resonator p1 is connected to the node x1
  • the parallel arm resonator p2 is connected to the node x2
  • the parallel arm resonator p3 is connected to the node x3
  • the impedance circuits 11, 12 and 13 are connected to the ground, respectively, but the connection order of the parallel arm resonators p1, p2 and p3 and the impedance circuits 11, 12 and 13 is not limited to this. It doesn't matter.
  • the switch element will be described as an ideal element having an impedance of zero when conducting (on) and infinite when non-conducting (off). Actually, since the switch element has parasitic components such as a capacitance component when turned off, an inductor component when turned on, and a resistance component, the characteristics using the switch element as an ideal element are slightly different.
  • the capacitive element C1 is connected between the node x1 and the ground (reference terminal).
  • the capacitive element C2 is connected between the node x2 and the ground (reference terminal).
  • the capacitive element C3 is connected between the node x3 and the ground (reference terminal). More specifically, the parallel arm resonator p1 and the capacitive element C1 are connected in series, and are connected between the node x1 and the ground, and the parallel arm resonator p2 and the capacitive element C2 are connected in series to be connected to the node x2.
  • the parallel arm resonator p3 and the capacitive element C3 are connected in series and connected between the node x3 and the ground.
  • the parallel arm resonator p1 is connected to the node x1
  • the parallel arm resonator p2 is connected to the node x2
  • the parallel arm resonator p3 is connected to the node x3, and the capacitive elements C1, C2, and C3 are respectively Connected to ground.
  • the switch SW1 is a switch element that is connected in parallel with the capacitive element C1, one terminal is connected to a connection node between the parallel arm resonator p1 and the capacitive element C1, and the other terminal is connected to the ground.
  • the switch SW2 is a switch element that is connected in parallel with the capacitive element C2, one terminal connected to a connection node between the parallel arm resonator p2 and the capacitive element C2, and the other terminal connected to the ground.
  • the switch SW3 is a switch element that is connected in parallel with the capacitive element C3, one terminal is connected to a connection node between the parallel arm resonator p3 and the capacitive element C3, and the other terminal is connected to the ground.
  • the switches SW1 to SW3 are turned on (conductive) and turned off (non-conductive) in accordance with a control signal from a control unit such as an RF signal processing circuit (RFIC: Radio Frequency Integrated Circuit).
  • RFIC Radio Frequency Integrated Circuit
  • the impedance circuits 11, 12, and 13 vary the resonance frequencies of the parallel arm resonance circuits 21, 22, and 23 by the on / off operation of the switches SW1 to SW3.
  • the switches SW1 to SW3 are configured by, for example, a FET (Field Effect Transistor) switch made of GaAs or CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) or a diode switch in order to reduce the size.
  • FET Field Effect Transistor
  • CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
  • impedance circuits 11, 12 and 13 are connected in series with second acoustic wave resonators (parallel arm resonators p1, p2 and p3 in the present embodiment) on the second path, respectively.
  • the filter 10 can switch the pass band and the attenuation band lower than the pass band in accordance with the on / off of the switches SW1 to SW3.
  • a (frequency variable type) filter can be realized.
  • the filter 10 includes a unit circuit constituted by a series arm resonator s1 (series arm resonance circuit) and a parallel arm resonance circuit 21, and a series arm resonator s2 (series arm resonance circuit) and a parallel arm resonance circuit 22.
  • the unit circuit includes a sixth-order ladder filter structure in which unit circuits configured by a series arm resonator s3 (series arm resonance circuit) and a parallel arm resonance circuit 23 are connected in cascade.
  • the filter 10 shifts the attenuation pole on the low side of the passband to the high frequency side with respect to the on state.
  • the filter 10 constitutes a frequency variable filter in which the low band end of the pass band is variable.
  • each of series arm resonators s1, s2, and s3 and parallel arm resonators p1, p2, and p3 is a plurality formed on a substrate having piezoelectricity at least in part.
  • An IDT electrode composed of electrode fingers and a protective film formed so as to cover the IDT electrode.
  • the substrate having piezoelectricity is a substrate having piezoelectricity at least on the surface.
  • the substrate may include, for example, a piezoelectric thin film on the surface, a film having a different sound velocity from the piezoelectric thin film, and a laminated body such as a support substrate.
  • the substrate includes, for example, a laminate including a high sound speed support substrate and a piezoelectric thin film formed on the high sound speed support substrate, a high sound speed support substrate, and a low sound speed film formed on the high sound speed support substrate.
  • a laminate including a piezoelectric thin film formed on the film may be used.
  • the substrate may have piezoelectricity throughout the substrate.
  • the protective film formed so as to cover the IDT electrode is made of a dielectric or insulator such as SiO 2 or SiN, and may be a laminate of these.
  • the thickness of the protective film of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 is smaller than the thickness of the protective film of the series arm resonators s1, s2, and s3.
  • the frequency interval between the resonance frequency of each of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 in the fundamental mode and the higher order resonance frequency of the higher order mode depends on the respective fundamental modes of the series arm resonators s1, s2, and s3. It becomes larger than the frequency interval between the resonance frequency and the higher-order resonance frequency by the higher-order mode.
  • a value obtained by dividing the difference between the higher-order resonance frequency and the resonance frequency in the elastic wave resonator by the resonance frequency of the elastic wave resonator is defined as a first specific bandwidth
  • the higher-order reaction in the elastic wave resonator is defined.
  • a value obtained by dividing the difference between the resonance frequency and the antiresonance frequency by the antiresonance frequency of the elastic wave resonator is defined as a second specific bandwidth.
  • the first specific bandwidth in the parallel arm resonators p1, p2, and p3 is larger than the first specific bandwidth in the series arm resonators s1, s2, and s3, and the second specific bandwidth in the parallel arm resonators p1, p2, and p3.
  • the specific bandwidth is greater than the second specific bandwidth in series arm resonators s1, s2, and s3.
  • the higher-order antiresonance frequencies of the series arm resonators s1, s2, and s3 and the higher-order resonance frequencies of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 can be brought close to each other. It is possible to improve the attenuation characteristics of the attenuation band on the higher frequency side.
  • the filter 10 according to the present embodiment is a sixth-order ladder type filter circuit in which unit circuits composed of one series arm resonator and one parallel arm resonator are cascade-connected in three stages.
  • the filter (elastic wave filter) according to the present invention may have at least one stage of the unit circuit.
  • the filter 10 according to the present embodiment is a variable frequency filter to which the impedance circuits 11 to 13 are added.
  • the acoustic wave filter according to the present invention is the switches SW1 to SW3 or the impedance circuits 11 to 13 may be a filter that does not have a frequency variable function.
  • the switches SW1 to SW3 are not provided, the characteristics are equivalent to the characteristics when the switches SW1 to SW3 are off, and when the impedance circuits 11 to 13 are not provided, the characteristics are equivalent to those when the switches are on.
  • FIG. 2A is a unit circuit diagram showing an on / off operation of a switch of the filter 10Z according to the modification of the first embodiment.
  • the filter 10Z includes a series arm resonator s1, a parallel arm resonator p1, a capacitive element C1, and a switch SW1.
  • the capacitive element C1 and the switch SW1 constitute an impedance circuit, and constitute a parallel arm resonance circuit together with the parallel arm resonator p1.
  • the film thickness of the protective film of the parallel arm resonator p1 is smaller than the film thickness of the protective film of the series arm resonator s1.
  • the frequency interval between the resonance frequency of the parallel arm resonator p1 and the higher order resonance frequency becomes larger than the frequency interval between the resonance frequency of the series arm resonator s1 and the higher order resonance frequency.
  • the higher-order antiresonance frequency of the series arm resonator s1 and the higher-order resonance frequency of the parallel arm resonator p1 can be brought close to each other, so that a higher-order mode generation frequency band (attenuation band on the higher frequency side than the passband) It is possible to improve the attenuation characteristics of the.
  • the insertion loss in the pass band, the steepness of the pass band, and the attenuation amount of the attenuation band vary depending on the number of connection stages of the unit circuit.
  • the insertion loss in the pass band increases as the number of connection stages of the unit circuit increases, it is possible to ensure the steepness of the pass band and the attenuation amount of the attenuation band. That is, the number of connection stages of the unit circuit in the filter (elastic wave filter) according to the present invention can be appropriately set according to the required specifications of the filter characteristics.
  • FIG. 2B is a graph showing the attenuation characteristics of the filter of the comparative example. Note that the filter according to the comparative example has a circuit configuration similar to that of the filter 10Z illustrated in FIG. 2A, and the protective film thicknesses of the parallel arm resonator p1 and the series arm resonator s1 are equal.
  • the parallel arm resonator p1 has a fundamental mode resonance frequency on the lower side of the passband of the filter and an antiresonance frequency of the fundamental mode in the passband.
  • the resonance frequency in the parallel arm resonator p1 is lower than the resonance frequency in the series arm resonator s1
  • the antiresonance frequency in the parallel arm resonator p1 is lower than the antiresonance frequency in the series arm resonator s1.
  • the impedance characteristic of the parallel arm resonance circuit 21 is a characteristic that is not affected by the capacitive element C1. That is, in this state, the impedance characteristic of the parallel arm resonator p1 alone becomes the impedance characteristic of the parallel arm resonance circuit 21.
  • the switch SW1 is off, the impedance characteristic of the parallel arm resonance circuit 21 is affected by the capacitive element C1. That is, in this state, the combined characteristic of the parallel arm resonator p1 and the capacitive element C1 becomes the impedance characteristic of the parallel arm resonance circuit 21.
  • the parallel arm resonance circuit 21 has two resonance frequencies fr1on and fr1off and one anti-resonance frequency fap1 (at this time, fr1on ⁇ fr1off is satisfied).
  • fr1on ⁇ fr1off is satisfied because the switch SW1 is switched from on to off, and thus is affected by the impedance of the capacitive element C1 in the frequency band near the resonance frequency of the parallel arm resonator p1.
  • the anti-resonance frequency fap1 coincides with the anti-resonance frequency of the parallel arm resonator p1 alone when the switch SW1 is on and off.
  • the anti-resonance frequency is not shifted in the parallel arm resonance circuit 21, and only the resonance frequency is shifted to the high frequency side (fr1on ⁇ fr1off).
  • the resonance bandwidth (anti-resonance frequency ⁇ resonance frequency) of an acoustic wave resonator in order to ensure a variable frequency range.
  • the higher-order resonance frequency (frs2) and the higher-order anti-resonance frequency (fas2) of the series arm resonator s1 and the parallel arm resonance are located higher than the resonance frequency and anti-resonance frequency of the fundamental mode.
  • a high-order resonance frequency (fr2on and fr2off) and a high-order anti-resonance frequency (fap2) of the circuit 21 are generated.
  • the pass characteristic of the filter according to the comparative example becomes a characteristic as shown in the lower part of FIG. 2B by the switching operation of the switch SW1.
  • the switch SW1 In the vicinity of the pass band, by turning off the switch SW1, only the attenuation pole on the low pass band side shifts to the high pass side, and the pass band is varied.
  • the frequency interval between the resonance frequency by the fundamental mode of the parallel arm resonance circuit 21 and the higher order resonance frequency by the higher order mode is equal to the resonance frequency by the fundamental mode of the series arm resonator s1 and the higher order.
  • the frequency interval with the higher-order resonance frequency depending on the mode is approximately the same. That is, the first specific bandwidth of the parallel arm resonance circuit 21 and the first specific bandwidth of the series arm resonator s1 are substantially the same. Therefore, as shown in the lower part of FIG. 2B, in the attenuation band on the higher frequency side than the pass band, a characteristic similar to the filter characteristic of the pass band obtained by the resonance characteristic of the fundamental mode is generated, and the attenuation characteristic is deteriorated. .
  • the switch SW1 is turned off, the impedance of the parallel arm resonance circuit 21 to which the capacitive element C1 is added increases, so that the amount of attenuation near the high-order mode generation frequency is small (insertion loss is small). Yes.
  • the thickness of the protective film of the parallel arm resonator p1 constituting the parallel arm resonant circuit 21 is thinner than the thickness of the protective film of the series arm resonator s1. It is characterized by that.
  • FIG. 2C is a graph showing the attenuation characteristics of the filter 10Z according to the embodiment.
  • the parallel arm resonator p ⁇ b> 1 has a fundamental mode resonance frequency on the lower side of the passband of the filter 10 ⁇ / b> Z and a fundamental mode antiresonance frequency in the passband.
  • the resonance frequency in the parallel arm resonator p1 is lower than the resonance frequency in the series arm resonator s1
  • the antiresonance frequency in the parallel arm resonator p1 is lower than the antiresonance frequency in the series arm resonator s1.
  • the parallel arm resonance circuit 21 has two resonance frequencies fr1on and fr1off and one anti-resonance frequency fap1 (at this time, fr1on ⁇ fr1off is satisfied). Also in the filter 10Z according to the embodiment, when the switch SW1 is switched from on to off, the anti-resonance frequency is not shifted in the parallel arm resonance circuit 21, and only the resonance frequency is shifted to the high frequency side (fr1on ⁇ fr1off). .
  • the pass characteristic of the filter 10Z according to the embodiment becomes a characteristic as shown in the lower part of FIG. 2C by the switching operation of the switch SW1.
  • the switch SW1 In the vicinity of the pass band, by turning off the switch SW1, only the attenuation pole on the low pass band side shifts to the high pass side, and the pass band is varied.
  • higher-order mode resonance exists on the higher frequency side than the pass band.
  • 21 higher-order mode resonance frequencies (frp2 (including fr2on and fr2off)) and anti-resonance frequencies (fap2) are generated.
  • the frequency interval between the resonance frequency by the fundamental mode of the parallel arm resonance circuit 21 and the resonance frequency by the higher order mode is the resonance frequency by the fundamental mode of the series arm resonator s1. It becomes larger than the frequency interval with the higher order resonance frequency by the higher order mode.
  • the higher-order antiresonance frequency due to the higher-order mode of the series arm resonator s1 and the higher-order resonance frequency due to the higher-order mode of the parallel arm resonance circuit 21 can be brought close to each other. It is possible to improve the attenuation characteristic (increase the insertion loss) of the attenuation band on the higher frequency side.
  • FIG. 3 is a plan view and a cross-sectional view illustrating the electrode configuration of the filter 10 according to the first embodiment.
  • the left side of FIG. 3 shows a plan view of the electrode configuration of the filter 10, and the upper right side of FIG. 3 shows an AA ′ cross-sectional view of the series arm resonator s1 of the filter 10.
  • AA ′ cross-sectional view of the series arm resonator s1 of the filter 10.
  • a cross-sectional view of the parallel arm resonator p1 of the filter 10 taken along the line BB ′ is shown.
  • input / output terminals 11 m and 11 n are arranged on the outer peripheral portion on the surface of the substrate 102.
  • an IDT electrode 113 and a reflector 114 constituting the series arm resonator s2, and a series arm resonator s3 are provided on the surface of the substrate 102.
  • An IDT electrode 115 and a reflector 116 are formed.
  • an IDT electrode 121 and a reflector 122 constituting the parallel arm resonator p1 On the surface of the substrate 102, an IDT electrode 121 and a reflector 122 constituting the parallel arm resonator p1, an IDT electrode 123 and a reflector 124 constituting the parallel arm resonator p2, and a parallel arm resonator p3 are provided.
  • An IDT electrode 125 and a reflector 126 are formed.
  • comb-shaped capacitive electrodes 131, 132, and 133 are formed on the surface of the substrate 102.
  • the input / output terminals 11m and 11n, the IDT electrodes 111, 113, 115, 121, 123 and 125, and the comb capacitance electrodes 131, 132 and 133 are connected on the surface of the substrate 102. Each wiring is formed.
  • the substrate 102 is a substrate having piezoelectricity at least in part.
  • a piezoelectric thin film may be provided on the surface, and the piezoelectric thin film may have a different sound velocity from the piezoelectric thin film, and a laminated body such as a support substrate. Further, the substrate 102 may have piezoelectricity over the entire substrate. In this case, the substrate 102 is a piezoelectric substrate composed of a single piezoelectric layer.
  • the IDT electrode 111 and the reflector 112 are composed of a plurality of electrode fingers, and together with the substrate 102 constitute a series arm resonator s1.
  • the IDT electrode 113 and the reflector 114 are composed of a plurality of electrode fingers, and together with the substrate 102 constitute a series arm resonator s2.
  • the IDT electrode 115 and the reflector 116 are composed of a plurality of electrode fingers, and together with the substrate 102 constitute a series arm resonator s3.
  • the IDT electrode 121 and the reflector 122 are composed of a plurality of electrode fingers, and together with the substrate 102 constitute a parallel arm resonator p1.
  • the IDT electrode 123 and the reflector 124 are composed of a plurality of electrode fingers, and together with the substrate 102 constitute a parallel arm resonator p2.
  • the IDT electrode 125 and the reflector 126 are composed of a plurality of electrode fingers, and constitute a parallel arm resonator p3 together with the substrate 102.
  • the extending direction of the electrode fingers of the IDT electrodes 111, 113, and 115 and the extending direction of the electrode fingers of the IDT electrodes 121, 123, and 125 substantially coincide with each other, and the extending direction corresponds to the propagation direction of the substrate 102. On the other hand, it is perpendicular.
  • the series arm resonators s1 to s3 and the parallel arm resonators p1 to p3 excite elastic waves in the same propagation direction.
  • the comb-tooth capacitive electrodes 131, 132, and 133 are each formed of a plurality of electrode fingers and formed on the substrate 102.
  • the extending direction of the electrode fingers of the comb capacitance electrodes 131 to 133 intersects the extending direction of the electrode fingers of the IDT electrode.
  • the comb-teeth capacitive electrode 131 and the substrate 102 constitute a capacitive element C1 (capacitor) that is a comb-teeth capacitor.
  • the comb-tooth capacitive electrode 132, together with the substrate 102, constitutes a capacitive element C2 (capacitor) that is a comb-tooth capacitor.
  • the comb-teeth capacitive electrode 133 and the substrate 102 constitute a capacitive element C3 (capacitor) that is a comb-teeth capacitor.
  • the series arm resonator, the parallel arm resonator, and the capacitive element constituting the filter 10 can be formed on the same substrate 102, so that the filter 10 can be reduced in size. Further, by adjusting the electrode finger pitch, the logarithm, the crossing width, etc. constituting the comb-tooth capacitive electrodes 131 to 133, the capacitance value can be set according to the frequency variable width.
  • the switches SW1, SW2, and SW3 are disposed outside the substrate 102 and connected to the comb-tooth capacitive electrodes 131, 132, and 133, respectively. Note that the switches SW1 to SW3 may be arranged on the substrate 102 in order to save the area.
  • the filter 10 has a protective film 105 formed so as to cover the IDT electrodes of the parallel arm resonators p1, p2, and p3, and the series arm resonators s1, s2, and A protective film 105 is formed so as to cover the IDT electrode of s3. Further, the protective film 105 of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 is thinner than the protective film 105 of the series arm resonators s1, s2, and s3.
  • the film thickness (Tgp1) of the protective film 105 covering the IDT electrodes 121, 123, and 125 is smaller than the film thickness (Tgs1) of the protective film 105 covering the IDT electrodes 111, 113, and 115.
  • the frequency interval between the resonance frequency of each of the parallel arm resonators p1, p2, and p3 in the fundamental mode and the higher order resonance frequency of the higher order mode depends on the respective fundamental modes of the series arm resonators s1, s2, and s3. It becomes larger than the frequency interval between the resonance frequency and the resonance frequency by the higher order mode.
  • the first specific bandwidth in the parallel arm resonators p1, p2, and p3 is larger than the first specific bandwidth in the series arm resonators s1, s2, and s3, and the second ratio in the parallel arm resonators p1, p2, and p3.
  • the bandwidth is greater than the second specific bandwidth in series arm resonators s1, s2, and s3.
  • the higher-order mode anti-resonance frequencies of the series arm resonators s1, s2, and s3 can be brought close to the higher-order mode resonance frequencies of the parallel arm resonators p1, p2, and p3. It is possible to improve the attenuation characteristic of the attenuation band on the higher frequency side than the pass band.
  • the plurality of electrode fingers constituting the IDT electrode, the reflector, and the comb capacitance electrode described above may be formed of a single-layer metal film, or a laminate of a plurality of metal films as described below. It may be comprised.
  • the protective film described above may be composed of a single-layer dielectric or insulator, or may be composed of a laminate of a plurality of dielectrics or insulators.
  • the wavelength of the excited elastic wave is defined by the design parameters of the IDT electrode.
  • the design parameters of the IDT electrode will be described using the parallel arm resonator p1 as an example.
  • the wavelength of the elastic wave is defined by the repetition period ⁇ p1 of the electrode fingers connected to one bus bar electrode among the plurality of electrode fingers.
  • the crossing width Lp1 of the IDT electrode 121 is an overlapping electrode finger length when the electrode finger connected to one of the bus bar electrodes and the electrode finger connected to the other are viewed from the propagation direction of the elastic wave. That's it.
  • the electrode duty is the line width occupation ratio of the plurality of electrode fingers, and the ratio of the line width to the sum of the line width and the space width of the plurality of electrode fingers, that is, Wp1 / (Wp1 + Sp1).
  • the electrode duty is defined by the ratio of the width of the plurality of electrode fingers to the electrode finger pitch (the pitch of the plurality of electrode fingers), that is, Wp1 / Pp1.
  • the film thickness of the electrode finger is the film thickness Tp1 of the electrode film 101 that forms the electrode finger.
  • the comb-tooth capacitive electrode 131 is composed of a plurality of electrode fingers. As shown in FIG. 3, the comb-teeth capacitive electrode 131 is configured by the electrode film 101 similarly to the IDT electrode 121. That is, the comb-teeth capacitive electrode 131 constituting the capacitive element C1 is formed on the same substrate 102 as the IDT electrode 121 constituting the parallel arm resonator p1. The comb-teeth capacitive electrode 131 and the IDT electrode 121 may be formed on different substrates.
  • the comb-teeth capacitive electrode 131 has a plurality of electrode fingers and a set of bus bar electrodes arranged to face each other across the plurality of electrode fingers, and the plurality of electrode fingers are connected to one of the set of bus bar electrodes. It is configured by being alternately connected to the other.
  • the plurality of electrode fingers are formed along the propagation direction of the elastic wave, and are periodically formed along a direction orthogonal to the propagation direction.
  • the characteristics such as the capacitance value and the Q value are defined by the design parameters of the comb-teeth capacitive electrode 131.
  • design parameters of the comb-tooth capacitive electrode 131 will be described.
  • the cross width LC1 of the comb-teeth capacitive electrode 131 is an overlapping electrode when the electrode finger connected to one of the pair of bus bar electrodes and the electrode finger connected to the other are viewed from the propagation direction of the elastic wave.
  • the electrode duty (duty ratio) is the line width occupation ratio of the plurality of electrode fingers, and the ratio of the line width to the sum of the line width and the space width of the plurality of electrode fingers, that is, WC1 / (WC1 + SC1).
  • the electrode duty is defined by the ratio of the width of the plurality of electrode fingers to the pitch of the plurality of electrode fingers, that is, WC1 / PC1.
  • the film thickness of the electrode finger is the film thickness TC1 of the electrode film 101 that forms the electrode finger.
  • the design parameters of the comb-teeth capacitive electrodes 131 to 133 constituting the capacitive elements C1 to C3 and the IDT electrodes 121, 123, and 125 of the parallel arm resonators p1 to p3 connected to the capacitive elements C1 to C3 are compared.
  • the relationship between the capacitive element C1 of the capacitive elements C1 to C3 and the IDT electrode 121 of the parallel arm resonator p1 will be described. This relationship also applies to the relationship between the capacitive element C2 and the IDT electrode 123 of the parallel arm resonator p2 and the relationship between the capacitive element C3 and the IDT electrode 125 of the parallel arm resonator p3.
  • the electrode finger pitch of the capacitive element C1 is narrower than the electrode finger pitch of the parallel arm resonator p1 (second elastic wave resonator). That is, PC1 ⁇ Pp1 is satisfied.
  • the film thickness of the plurality of electrode fingers in the capacitive element C1 is thinner than the film thickness of the plurality of electrode fingers in the parallel arm resonator p1. That is, TC1 ⁇ Tp1 is satisfied.
  • the film thickness TC1 of the electrode finger is preferably 40% or less (that is, TC1 ⁇ 0.40 ⁇ PC1) with respect to the electrode finger pitch PC1.
  • the film thickness Tp1 of the electrode fingers is preferably 40% or less (that is, Tp1 ⁇ 0.40 ⁇ Pp1) with respect to the electrode finger pitch Pp1.
  • the lower limit of the electrode finger film thickness TC1 is not particularly limited, but is, for example, 15% or more of the electrode finger pitch PC1 (that is, 0.15 ⁇ PC1 ⁇ TC1).
  • the lower limit of the electrode finger film thickness Tp1 is not particularly limited. For example, it is 15% or more of the electrode finger pitch Pp1 (that is, 0.15 ⁇ Pp1 ⁇ Tp1).
  • the electrode duty of the capacitive element C1 is preferably larger than the electrode duty of the parallel arm resonator p1. That is, it is preferable that the capacitive element C1 and the parallel arm resonator p1 satisfy WC1 / PC1> Wp1 / Pp1. With such a configuration, the capacitance value per unit area of the capacitive element C1 can be increased, so that downsizing and space saving can be achieved.
  • the electrode finger pitch, film thickness, electrode duty, etc. are not necessarily uniform, and the manufacturing process In some cases, it is non-uniform due to variations due to the like, or non-uniform due to adjustment of characteristics or the like. For this reason, the capacitive element C1 and the parallel arm resonator p1 are when the comb-teeth capacitive electrode 131 and the IDT electrode 121 constituting them do not satisfy the relationship such as the electrode finger pitch, film thickness, and electrode duty described above. There is also.
  • the above-described relationship between the electrode finger pitch, the film thickness, and the electrode duty between the capacitive element C1 and the parallel arm resonator p1 only needs to be substantially established.
  • the average value of the capacitive element C1 and the parallel arm resonance What is necessary is just to be materialized with the average value of the child p1.
  • each IDT electrode and each comb-teeth capacitive electrode are configured by a common electrode film 101 except that the film thicknesses are different.
  • the structure or composition is different from each other. It may be configured.
  • FIG. 4A is a cross-sectional view of the electrode film 101 constituting the electrode finger of the IDT electrode and the electrode finger of the comb-teeth capacitive electrode and the surrounding structure in the first embodiment.
  • FIG. 4B is a cross-sectional view of another example of the electrode film 101 constituting the electrode finger of the IDT electrode and the electrode finger of the comb-teeth capacitive electrode in Embodiment 1 and the surrounding structure.
  • the electrode film 101 includes, in order from the substrate 102 side, a metal film 211 made of NiCr, a metal film 212 made of Pt, a metal film 213 made of Ti, a metal film 214 made of AlCu, and Ti.
  • the metal film 215 is formed by being laminated.
  • the substrate 102 is made of, for example, LiNbO 3 piezoelectric single crystal.
  • the electrode film 101 is covered with a protective film for the purpose of protecting the electrode film 101 from the external environment, adjusting the frequency temperature characteristics, and improving the moisture resistance.
  • the protective film is formed by laminating a protective film 103 made of SiO 2 and a protective film 104 made of SiN in this order from the substrate 102 side.
  • an electromechanical coupling coefficient adjustment film 103a may be provided between the electrode film 101 and the substrate 102 as shown in FIG. 4B.
  • the electromechanical coupling coefficient adjusting film 103a is made of SiO 2 .
  • the protective film 103 and the protective film 104 are collectively referred to as the protective film 105 (already illustrated in FIG. 3).
  • the metal film 212 made of Pt is the metal film having the highest density among the plurality of metal films 211 to 215 constituting the stacked body. Further, the metal films 211, 213, 214, and 215 constitute a metal film other than the metal film 212 having the highest density.
  • the filter 10 is configured to protect the parallel arm resonators p1, p2, and p3 on the assumption that a plurality of electrode fingers constituting the IDT electrode and the comb-teeth capacitive electrode are formed of a single-layer metal film.
  • the film 105 is characterized in that the film thickness is thinner than the film thickness of the protective film 105 of the series arm resonators s1, s2, and s3.
  • the configuration of the electrode film 101 shown in FIGS. 4A and 4B is an example, and is not limited thereto.
  • the electrode film 101 may not be a stacked structure of metal films but may be a single layer of metal films.
  • the material which comprises each metal film and each protective film is not limited to the material mentioned above.
  • the electrode film 101 may be made of, for example, a metal or alloy such as Ti, Al, Cu, Pt, Au, Ag, or Pd, and is made of a plurality of laminated bodies made of the above metals or alloys. May be.
  • the substrate 102 may be made of, for example, LiTaO 3 piezoelectric single crystal, KNbO 3 piezoelectric single crystal, crystal, or piezoelectric ceramic.
  • the configuration of the protective films 103, 104, 103b and the electromechanical coupling coefficient adjusting film 103a is not limited to the above-described configuration, and for example, a dielectric such as SiO 2 , SiN, AlN, polyimide, or a laminate thereof. Or you may comprise with an insulator. Further, one of the protective films 103 and 104 may not be formed.
  • FIG. 5A is a graph showing the resonance characteristics of the surface acoustic wave resonator when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5B is a graph showing the resonance frequency, antiresonance frequency, and specific bandwidth in the fundamental mode when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5C is a graph showing a high-order resonance frequency, a high-order anti-resonance frequency, and a specific bandwidth according to a high-order mode when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5D is a graph showing the first specific bandwidth and the second specific bandwidth when the thickness of the protective film is changed.
  • FIG. 5A shows a surface acoustic wave having an IDT electrode composed of a substrate 102 using a ⁇ 10 ° Y-cut X-propagating LiNbO 3 piezoelectric single crystal, the electrode film 101 shown in FIG. 4A, and a protective film 105.
  • the resonator resonance characteristics when the thickness of the protective film 105 is changed are shown.
  • the thicker the protective film 105 the narrower the specific mode specific bandwidth.
  • the higher order resonance frequency and the higher order antiresonance frequency due to the higher order mode shift to the lower frequency side, and the response of the higher order mode (impedance and higher order of the higher order mode resonance frequency fr2). It can be seen that the difference between the mode anti-resonance frequency fa2 and the impedance) increases.
  • the thicker the protective film 105 is, the more the fundamental mode resonance frequency (fr1) is shifted to the higher frequency side, and the fundamental mode anti-resonance frequency (fa1) is shifted to the lower frequency side.
  • the relative bandwidth of the fundamental mode is reduced.
  • the higher-order mode higher-order resonance frequency (fr2) and higher-order anti-resonance frequency (fa2) shift to the lower frequency side, The specific bandwidth of the next mode is increased.
  • the first specific bandwidth and the second specific bandwidth become smaller as the thickness of the protective film 105 is increased.
  • the antiresonance frequencies of the fundamental modes of the parallel arm resonators p1 to p3 are arranged in the passband of the filter 10. Furthermore, since it is necessary to increase the specific bandwidth of the fundamental mode of the parallel arm resonators p1 to p3 in order to ensure a large frequency variable width of the filter 10, the IDT electrodes 121 of the parallel arm resonators p1 to p3 are required. , 123 and 125 are preferably thin. Further, as the protective film 105 is thinner, the specific bandwidth of the higher order mode becomes smaller and the response of the higher order mode becomes smaller, and the first specific bandwidth and the second specific bandwidth become larger.
  • the resonance frequency of the fundamental mode of the series arm resonators s 1 to s 3 is arranged in the pass band of the filter 10.
  • the series arm resonators s1 to s3 do not add a frequency variable function, it is necessary to reduce the fundamental mode relative bandwidth and increase the steepness in the vicinity of the passband. Therefore, it is desirable that the protective film 105 is thicker.
  • the frequency variable width is increased and the vicinity of the passband is increased. Steepness can be increased.
  • the first specific bandwidth of the parallel arm resonators p1 to p3 is larger than the first specific bandwidth of the series arm resonators s1 to s3, and the second specific bandwidth of the parallel arm resonators p1 to p3 is It can be made larger than the second specific bandwidth in the resonators s1 to s3.
  • the substrate 102 is a -10 ° Y-cut X-propagating LiNbO 3 piezoelectric single crystal.
  • the filter 10 is a filter that varies the reception band (1475.9-1495.9 MHz) of Band 11 and the reception band (1495.9-1510.9 MHz) of Band 21 of the LTE communication standard.
  • the thickness of the protective film 105 of the parallel arm resonators p1 to p3 is made thinner than the thickness of the protective film 105 of the series arm resonators s1 to s3.
  • SiO 2 is used as the protective film for the parallel arm resonators p1 to p3 and the series arm resonators s1 to s3, and the thickness of the protective film for the parallel arm resonators p1 to p3 is set to 650 nm.
  • the thickness of the protective film of the children s1 to s3 is set to 750 nm.
  • the protective film thickness (SiO 2 film thickness: 750 nm) of the parallel arm resonators p1 to p3 is higher than that of the filter 10 according to the embodiment. The difference is that it is the same as the thickness of the protective film (SiO 2 film thickness: 750 nm).
  • the film thickness of the protective film of the parallel arm resonators p1 to p3 in the filter according to the comparative example is different from the film thickness of the protective film of the parallel arm resonators p1 to p3 in the filter 10 according to the example. ing.
  • the resonance frequency and antiresonance frequency of the parallel arm resonators p1 to p3 are different between the filter 10 according to the embodiment and the filter according to the comparative example.
  • the wavelength ⁇ of the parallel arm resonators p1 to p3 by adjusting the wavelength ⁇ of the parallel arm resonators p1 to p3, the frequency of the resonance point and antiresonance point of the fundamental mode between the filter 10 according to the example and the filter according to the comparative example.
  • the relationship is the same condition.
  • FIG. 6A is a graph showing pass characteristics (Band11-Rx) when the filter 10 according to the embodiment is switched on.
  • FIG. 6B is a graph showing a pass characteristic (Band21-Rx) when the filter 10 according to the example is switched off.
  • FIG. 6C is a graph comparing pass characteristics when the filter 10 according to the embodiment is switched on and off.
  • FIG. 7A is a graph showing pass characteristics (Band11-Rx) when the filter according to the comparative example is switched on.
  • FIG. 7B is a graph showing pass characteristics (Band21-Rx) when the filter according to the comparative example is switched off.
  • FIG. 7C is a graph comparing the pass characteristics when the filter according to the comparative example is switched on and off.
  • FIG. 8A is a graph comparing pass characteristics (Band11-Rx) when the filters according to the example and the comparative example are switched on.
  • FIG. 8B is a graph comparing the pass characteristics (Band21-Rx) when the filters according to the example and the comparative example are switched off.
  • the insertion loss (marker m1 and marker m2 in the figure) in the passband is almost the same in the embodiment and the comparative example, and the attenuation amount of the low-frequency attenuation band in the vicinity of the passband The same applies to the marker m3 and the marker m4 in the figure.
  • 6B is compared with FIG. 7B, the insertion loss (marker m1 and marker m2 in the figure) in the passband is almost the same in the embodiment and the comparative example, and the low-frequency attenuation band in the vicinity of the passband is the same.
  • the amount of attenuation (marker m3 and marker m4 in the figure) is substantially the same.
  • the filter 10 according to the example improves the attenuation characteristics on the higher frequency side than the pass band while maintaining the pass band insertion loss and the attenuation amount in the vicinity thereof as compared with the filter according to the comparative example. This factor will be described with reference to FIGS. 9A and 9B.
  • FIG. 9A is a graph showing resonance characteristics and pass characteristics in a wide band (1.3 GHz to 2.0 GHz) of the filter 10 according to the embodiment.
  • FIG. 9B is a graph showing resonance characteristics and pass characteristics in the high-frequency attenuation band (1.8 GHz to 1.9 GHz) of the filter 10 according to the example.
  • FIG. 9A shows the resonance characteristics of the series arm resonators s1 to s3, and FIG. 9A shows the resonance characteristics when the parallel arm resonators p1 to p3 are switched on.
  • 9C shows the resonance characteristics when the parallel arm resonators p1 to p3 are switched off, and FIG. 9A shows a comparison of the pass characteristics when the filter 10 is switched on and off. Represents.
  • (a) to (d) in FIG. 9B correspond to the expanded higher-order mode resonance generation bands in (a) to (d) of FIG. 9A, respectively. Comparing (a) to (c) of FIG.
  • the higher-order mode resonance occurrence points in the parallel arm resonators p1 to p3 are higher in frequency than the higher-order mode resonance occurrence points in the series arm resonators s1 to s3. It turns out that it is shifting to the side.
  • the film thickness of the protective film 105 of the parallel arm resonators p1 to p3 (SiO 2 film thickness: 650 nm) is set to the film thickness of the protective film 105 of the series arm resonators s1 to s3 (SiO2). (2 film thickness: 750 nm), the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the parallel arm resonator is such that the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the series arm resonator are It is larger than the frequency interval.
  • the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the parallel arm resonator and the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the series arm resonator can be brought close to each other. (Attenuation band on the side) can be improved.
  • the filter 10 does not need to turn on / off both the switches SW1 to SW3, and may individually turn them on / off. However, when both the switches SW1 to SW3 are turned on / off, the number of control lines for controlling the switches SW1 to SW2 can be reduced, so that the configuration of the filter 10 can be simplified.
  • circuit configurations of the filters shown in the following modifications 1 to 5 exemplify ladder type circuits in which one series arm resonator and one or two parallel arm resonators are combined, but the filters 10 and 10Z As described above, filters having a plurality of stages of filter circuits shown in the first to fifth modifications are also included in the filter according to the present invention.
  • the impedance circuit 11 has been described by taking the parallel connection circuit of the switch SW1 and the capacitor C1 as an example.
  • the impedance circuit is not limited to such a configuration.
  • FIG. 10A is a diagram illustrating a part of a circuit configuration of a filter 10D according to the first modification of the first embodiment.
  • the filter 10D shown in the figure further includes an inductor L connected in series to the switch SW, compared to the filter 10Z shown in FIG. 2A. That is, in this modification, the impedance circuit 11D is configured by connecting a circuit in which the switch SW and the inductor L are connected in series to the capacitive element C1 in parallel. In addition, the parallel arm resonance circuit 21D is configured by connecting the impedance circuit 11D to the parallel arm resonator p1 (second elastic wave resonator).
  • connection order of the switch SW and the inductor L is not particularly limited, and may be the reverse of the connection order of FIG. 10A.
  • FIG. 10B is a graph showing the pass characteristics of the filter 10D according to the first modification of the first embodiment. Specifically, this figure is a graph showing a comparison of pass characteristics when the switch SW is on / off.
  • the anti-resonance frequency of the parallel arm resonance circuit 21D and the resonance frequency of the series arm resonator s1 are brought close to each other to form a pass band.
  • the inductor L is added to the parallel arm resonator p1 when the switch SW is turned on, and the capacitive element C1 is added when the switch SW is turned off.
  • the resonance frequency of the parallel arm resonance circuit 21D is shifted to a lower frequency side than the resonance frequency of the parallel arm resonator p1 alone when the switch SW is off, and is higher than the resonance frequency of the parallel arm resonator p1 alone when the switch SW is off. It will shift to the high frequency side. Therefore, as shown in the figure, the filter 10D according to this modification can expand the frequency variable width of the passband as compared with the filter 10Z according to the first embodiment.
  • the frequency variable width of the pass band of the filter 10D depends on the constants of the capacitive element C1 and the inductor L.
  • the larger the inductor constant the wider the frequency variable width.
  • the constant of the inductor L can be appropriately determined according to the frequency specification required for the filter 10D.
  • the inductor may be a variable inductor using MEMS (Micro Electro Mechanical Systems). As a result, the frequency variable width can be finely adjusted.
  • the thickness of the protective film 105 of the parallel arm resonator p1 is smaller than the thickness of the protective film 105 of the series arm resonator s1.
  • the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the parallel arm resonator p1 becomes larger than the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the series arm resonator s1.
  • the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the parallel arm resonator p1 and the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the series arm resonator s1 can be brought close to each other.
  • the capacitive element C1 and the inductor L may be provided in reverse. That is, a circuit in which the switch SW and the capacitive element C1 are connected in series may be connected in parallel to the inductor L. According to such a configuration, the shift direction of the attenuation pole when the switch SW is turned on / off is opposite to that of the filter 10D according to the first modification.
  • one parallel arm resonator p1 (second elastic wave resonator) is provided between the node x1 and the ground.
  • a parallel arm resonator (third elastic wave resonator) different from the parallel arm resonator p1 may be provided between the node x1 and the ground.
  • FIG. 11A is a circuit configuration diagram of a filter 10E according to the second modification of the first embodiment.
  • the filter 10E shown in the figure includes a parallel arm resonance circuit 21E instead of the parallel arm resonance circuit 21 provided in the filter 10Z shown in FIG. 2A.
  • the parallel arm resonance circuit 21E is further connected between the node x1 and the ground as compared with the parallel arm resonance circuit 21, and is a parallel arm resonator having a resonance frequency and an antiresonance frequency different from those of the parallel arm resonator p1.
  • p2 third elastic wave resonator
  • the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2 are connected to one node x1 on the series arm connecting the input / output terminal 11m and the input / output terminal 11n.
  • the filter 10E can frequency-shift at least one of the attenuation pole on the low passband side and the attenuation pole on the high passband side.
  • “one node” includes not only one point on the transmission line but also two different points located on one transmission line without using a resonator or an impedance element.
  • the parallel arm resonator p2 has a higher resonance frequency and antiresonance frequency than the parallel arm resonator p1, and the impedance circuit 11 is a parallel arm resonator of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2. It is connected in series only to p1. That is, the parallel arm resonator p2 is connected in parallel to a circuit in which the parallel arm resonator p1 and the impedance circuit 11 are connected in series.
  • the parallel arm resonance circuit 21E configured as described above has a minimum impedance at the resonance frequencies of the parallel arm resonators p1 and p2. That is, the parallel arm resonance circuit 21E has two resonance frequencies.
  • the parallel arm resonance circuit 21E has a maximum impedance in a frequency band between the two resonance frequencies and a frequency band higher than the two resonance frequencies. That is, the parallel arm resonance circuit 21E has two anti-resonance frequencies.
  • FIG. 11B is a graph showing the pass characteristic of the filter 10E according to the second modification of the first embodiment. Specifically, this figure is a graph showing a comparison of pass characteristics when the switch SW is on / off.
  • the low-frequency side anti-resonance frequency of the two anti-resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21E and the resonance frequency of the series arm resonance circuit (in this modification, the series arm resonator s1) are brought close to each other and passed. Form a band.
  • the capacitive element C1 is added to the parallel arm resonator p1 only when the switch SW is off. For this reason, the resonance frequency on the low frequency side of the two resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21E is shifted to the high frequency side from the resonance frequency of the parallel arm resonator p1 alone when the switch SW is turned off.
  • the anti-resonance frequency on the low frequency side of the parallel arm resonance circuit 21E is shifted to the high frequency side when the switch SW is on than when the switch SW is on.
  • the attenuation pole on the low band side of the pass band of the filter 10E is defined by the anti-resonance frequency on the low band side of the parallel arm resonance circuit 21E.
  • the steepness of the attenuation slope on the low pass side of the pass band is defined by the difference frequency between the resonance frequency on the low frequency side of the parallel arm resonance circuit 21E and the anti-resonance frequency on the low frequency side. Therefore, as shown in the figure, when the switch SW is switched from ON to OFF, the filter 10E drops the shoulder on the low passband side while shifting the attenuation pole on the low passband side to the high frequency side. The pass band can be shifted to the high frequency side without any problem.
  • the thickness of the protective film 105 of the parallel arm resonator p1 is smaller than the thickness of the protective film 105 of the series arm resonator s1.
  • the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the parallel arm resonator p1 becomes larger than the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the series arm resonator s1.
  • the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the parallel arm resonator p1 and the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the series arm resonator s1 can be brought close to each other.
  • the impedance circuit 11 is connected in series only to the parallel arm resonator p1 out of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2.
  • the impedance circuit 11 may be connected in series only to the parallel arm resonator p2 out of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2.
  • the second acoustic wave resonator connected to the capacitive element C1 without passing through another acoustic wave resonator resonates at a lower frequency side than the pass band of the filter.
  • the parallel arm resonator p1 having a frequency has been described as an example.
  • a parallel arm resonator p2 having a resonance frequency higher than the pass band of the filter will be described as an example of the second elastic wave resonator.
  • FIG. 12A is a circuit configuration diagram of a filter 10F according to the third modification of the first embodiment.
  • the impedance circuit 11 is connected in series only to the parallel arm resonator p2 of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2.
  • the parallel arm resonance circuit 21F is provided.
  • the parallel arm resonator p1 having a resonance frequency and antiresonance frequency lower than that of the parallel arm resonator p2 (second elastic wave resonator) is connected in parallel to the parallel arm resonator p2, and the parallel arm
  • the resonator p2 corresponds to a third elastic wave resonator having a different resonance frequency and antiresonance frequency.
  • FIG. 12B is a graph showing the pass characteristic of the filter 10F according to the third modification of the first embodiment. Specifically, this figure is a graph showing a comparison of pass characteristics when the switch SW is on / off.
  • the low-band side anti-resonance frequency of the two anti-resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21F and the resonance frequency of the series arm resonator s1 are close to each other to form a pass band. .
  • the capacitive element C1 is added to the parallel arm resonator p2 only when the switch SW is off. Therefore, the resonance frequency on the high frequency side of the two resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21F is shifted to the high frequency side than the resonance frequency of the parallel arm resonator p2 alone when the switch SW is turned off. Further, the anti-resonance frequency on the low frequency side of the parallel arm resonance circuit 21F is shifted to the high frequency side when the switch SW is on than when the switch SW is on.
  • the attenuation pole on the high band side of the pass band of the filter 10F is defined by the anti-resonance frequency on the high band side of the parallel arm resonance circuit 21F.
  • the steepness of the attenuation slope on the high side of the passband is defined by the difference frequency between the resonance frequency on the high frequency side and the antiresonance frequency on the low frequency side of the parallel arm resonance circuit 21F. Therefore, as shown in the figure, when the switch SW is switched from ON to OFF, the filter 10F drops the shoulder on the low pass band side while shifting the attenuation pole on the high pass band side to the high frequency side. The pass band can be shifted to the high frequency side without any problem.
  • the protective film 105 of the parallel arm resonator p2 is thinner than the protective film 105 of the series arm resonator s1.
  • the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the parallel arm resonator p2 becomes larger than the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the series arm resonator s1.
  • the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the parallel arm resonator p2 and the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the series arm resonator s1 can be brought close to each other.
  • the filter 10E includes the impedance circuit 11 connected in series only to the parallel arm resonator p1 out of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2.
  • the filter 10F includes the impedance circuit 11 connected in series only to the parallel arm resonator p2 out of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2.
  • the elastic wave filter may include both of such impedance circuits 11.
  • FIG. 13A is a circuit configuration diagram of a filter 10G according to the fourth modification of the first embodiment.
  • the filter 10G shown in the figure includes both an impedance circuit 11a corresponding to the impedance circuit 11 provided in the filter 10E shown in FIG. 11A and an impedance circuit 11b corresponding to the impedance circuit 11 provided in the filter 10F shown in FIG. 12A. . That is, the parallel arm resonance circuit 21G in the present modification is in parallel with the impedance circuit 11a connected in series to only one of the parallel arm resonators p1 and p2 (the second elastic wave resonator and the third elastic wave resonator). An impedance circuit 11b connected in series only to the other of the arm resonators p1 and p2 (second elastic wave resonator and third elastic wave resonator).
  • FIG. 13B is a graph showing the pass characteristic of the filter 10G according to the fourth modification of the first embodiment. Specifically, this figure is a graph showing a comparison of pass characteristics when both the switches SW1 and SW2 are on / off.
  • the capacitive element C1a is added to the parallel arm resonator p1 only when the switch SW1 is off.
  • the capacitive element C1b is added to the parallel arm resonator p2 only when the switch SW2 is off.
  • the resonance frequency on the low frequency side of the two resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21G is shifted to the high frequency side than the resonance frequency of the parallel arm resonator p1 alone when the switch SW1 is turned off.
  • the resonance frequency on the high frequency side of the two resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21G is shifted to a frequency higher than the resonance frequency of the parallel arm resonator p2 alone when the switch SW2 is turned off.
  • the anti-resonance frequency on the low frequency side of the parallel arm resonance circuit 21G shifts to the high frequency side when at least one of the switches SW1 and SW2 is off than when both the switches SW1 and SW2 are on.
  • the filter 10G shifts the attenuation poles on the high side of the passband and the low side of the passband to the high side by switching both the switches SW1 and SW2 from on to off,
  • the pass band can be shifted to the high band side without dropping the shoulders of the high band band and the low band band. For this reason, for example, the filter 10G can shift the center frequency while maintaining the bandwidth.
  • the impedance circuits 11a and 11b include the capacitive elements C1a and C1b.
  • the impedance circuits 11a and 11b instead of the comb capacitance, for example, a capacitance stacked on the substrate 102 or a variable capacitor such as a varicap and a DTC (Digital Tunable Capacitor) may be provided.
  • the filter 10G may not turn on / off both the switches SW1 and SW2, and may individually turn them on / off. However, when both the switches SW1 and SW2 are turned on / off, the number of control lines for controlling the switches SW1 and SW2 can be reduced, so that the configuration of the filter 10G can be simplified.
  • the high band end of the pass band can be varied according to the on / off state of the switch SW2 connected in series to the parallel arm resonator p2. Further, the low band end of the pass band can be varied according to the on / off state of the switch SW1 connected in series to the parallel arm resonator p1.
  • the switch SW1 and SW2 By turning both the switches SW1 and SW2 on or off, it is possible to shift both the low band end and the high band end of the pass band to the low band side or the high band side. That is, the center frequency of the pass band can be shifted to the low frequency side or the high frequency side. Also, by turning one of the switches SW1 and SW2 from on to off and the other from off to on, both the low band end and the high band end of the pass band are shifted so that these frequency differences are widened or narrowed. be able to. That is, the pass band width can be varied while making the center frequency of the pass band substantially constant.
  • the other of the low band end and the high band of the pass band is fixed in a state where one of the low band end and the high band end is fixed. Can be shifted to the side. That is, the low band end or high band end of the pass band can be varied.
  • the filter 10G includes the impedance circuit 11a connected in series only to the parallel arm resonator p1 of the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2, and the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2.
  • the impedance circuit 11b connected in series only to the parallel arm resonator p2, the degree of freedom of changing the passband can be increased.
  • the protective film 105 of the parallel arm resonators p1 and p2 is thinner than the protective film 105 of the series arm resonator s1.
  • the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the parallel arm resonators p1 and p2 is larger than the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the series arm resonator s1.
  • the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the parallel arm resonators p1 and p2 and the frequency of the higher-order mode resonance generation point of the series arm resonator s1 can be brought close to each other. It is possible to improve the attenuation characteristic of the attenuation band on the higher frequency side than the band.
  • the impedance circuit 11 was connected in series only to the parallel arm resonator p1 among the parallel arm resonators p1 and p2.
  • the impedance circuit 11 is connected in series only to the parallel arm resonator p2 out of the parallel arm resonators p1 and p2.
  • the impedance circuit 11 may be connected in series to a circuit in which the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2 are connected in parallel.
  • FIG. 14A is a circuit configuration diagram of a filter 10H according to the fifth modification of the first embodiment.
  • the filter 10H shown in the figure includes a parallel arm resonance circuit 21H having an impedance circuit 11 connected in series to a circuit in which a parallel arm resonator p1 and a parallel arm resonator p2 are connected in parallel.
  • FIG. 14B is a graph showing the pass characteristic of the filter 10H according to the fifth modification of the first embodiment. Specifically, this figure is a graph showing a comparison of pass characteristics when the switch SW is on / off.
  • the low-frequency side anti-resonance frequency of the two anti-resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21H and the resonance frequency of the series arm resonance circuit (in this modification, the series arm resonator s1) To form a passband.
  • the capacitive element C1 is added to both the parallel arm resonators p1 and p2 only when the switch SW is off. For this reason, the resonance frequency on the low frequency side of the two resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21H is shifted to the high frequency side than the resonance frequency of the parallel arm resonator p1 alone when the switch SW is turned off. Further, the resonance frequency on the high frequency side of the two resonance frequencies of the parallel arm resonance circuit 21H is shifted to the high frequency side than the resonance frequency of the parallel arm resonator p2 alone when the switch SW is turned off.
  • the anti-resonance frequency on the lower side of the parallel arm resonance circuit 21H is such that the impedance circuit 11 is connected in series to the circuit in which the parallel arm resonator p1 and the parallel arm resonator p2 are connected in parallel. Does not shift when switch SW is off. Therefore, as shown in the figure, the filter 10H can shift the attenuation poles on both sides of the pass band to the high band side by switching the switch SW from on to off.
  • the thickness of the protective film 105 of the parallel arm resonators p1 and p2 is smaller than the thickness of the protective film 105 of the series arm resonator s1.
  • the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the parallel arm resonators p1 and p2 is larger than the frequency interval between the fundamental mode resonance point and the higher order mode resonance point of the series arm resonator s1.
  • the higher-order mode generation frequency band (rather than the passband) It is possible to improve the attenuation characteristic of the high frequency side attenuation band.
  • Embodiment 2 In this embodiment, a multiplexer having the filter according to Embodiment 1 is described.
  • FIG. 15A is a circuit configuration diagram of the multiplexer 5 according to the second embodiment.
  • FIG. 15B is a schematic waveform diagram of the pass characteristic of each filter and the impedance characteristic of each elastic wave resonator constituting the multiplexer 5 according to the second embodiment.
  • the multiplexer 5 according to the present embodiment includes a filter 10, a filter 30, and a filter 40.
  • the filter 10 is the filter 10 according to the first embodiment.
  • the film thickness of the protective film 105 of the parallel arm resonators p1 to p3 of the filter 10 is smaller than the film thickness of the protective film 105 of the series arm resonators s1 to s3.
  • the filter 30 is a first filter disposed between the input / output terminal 11m and the input / output terminal 11p. As shown in FIG. 15B, the frequency of the pass band in the filter 30 is higher than the frequency of the pass band of the filter 10. high.
  • the filter 40 is a second filter disposed between the input / output terminal 11m and the input / output terminal 11q. As shown in FIG. 15B, the frequency of the pass band in the filter 40 is higher than the frequency of the pass band of the filter 30. high.
  • the filters 10, 30, and 40 are commonly connected to the input / output terminal 11m.
  • the filter 10 is a filter that varies, for example, an LTE Band 11 reception band (1475.9-1495.9 MHz) and a Band 21 reception band (1495.9-1510.9 MHz) as a pass band.
  • the filter 30 is, for example, a filter having a Band 3 reception band (1805 to 1880 MHz) as a pass band.
  • the filter 40 is, for example, a filter having a band 1 reception band (2110-2170 MHz) as a pass band.
  • the high-order antiresonance frequency fap2 of the parallel arm resonators p1 to p3 of the filter 10 and the high-order resonance frequency frs2 of the series arm resonators s1 to s3 are higher than the frequency at the high band end of the passband of the filter 30.
  • the wavelength ⁇ , the electrode duty, the electrode finger film thickness, and the protective film thickness of each resonator of the filter 10 are set. Thereby, the multiplexer 5 in which the insertion loss in the pass band in the filter 30 is reduced can be realized.
  • the high-order antiresonance frequency fap2 of the parallel arm resonators p1 to p3 of the filter 10 and the high-order resonance frequency frs2 of the series arm resonators s1 to s3 are lower than the frequency at the low end of the pass band of the filter 40.
  • the wavelength ⁇ , electrode duty, electrode finger film thickness, and protective film thickness of each resonator of the filter 10 are set. Thereby, the multiplexer 5 in which the insertion loss in the pass band in the filter 30 and the insertion loss in the pass band in the filter 40 are reduced can be realized.
  • the generation frequency of the higher order mode can be increased.
  • the frequency of the pass band of the filter 40 (for example, Band 1 reception band (2110-2170 MHz)) is larger than the frequency of the pass band of the filter 10 (for example, Band 21 reception band (1495.9-1510.9 MHz)) (for example, 500 MHz or more). )is seperated. For this reason, it is difficult to make the generation frequency of the higher-order mode in the filter 10 higher than the frequency of the pass band of the filter 40. This is because if the protective film is made too thin, the reliability (environment resistance) decreases and the temperature characteristics also deteriorate.
  • the filter 30 for example, the Band 3 reception band (1805 to 1880 MHz)
  • the filter 40 for example, whose frequency in the pass band is separated
  • the insertion loss of the filters 30 and 40 is reduced and the reliability and temperature characteristics of the filter 10 are maintained by adjusting the frequency of the higher-order mode to the frequency between the band 1 reception band (2110-2170 MHz) can do.
  • the multiplexer 5 is configured to include the filters 10, 30, and 40, only one of the filters 30 and 40 and the filter 10 may be commonly connected. . Even in this case, the insertion loss in the passband in either one of the filters 30 and 40 can be reduced.
  • the multiplexer 5 according to the present embodiment is configured to include the filter 10 according to the first embodiment, but instead of the filter 10, the filters 10D to 10H and 10Z that are application examples of the first embodiment are used. It is good also as a structure provided with either. Even in this case, the multiplexer 5 in which the insertion loss in the passband in the filters 30 and 40 is reduced can be realized.
  • an impedance matching circuit a phase shifter, a circulator, and a switch element capable of selecting two or more filters may be connected to the multiplexer 5 between the input / output terminal 11m and the three filters.
  • an impedance matching circuit, a switch element, and the like are arranged between the filter 10 and the input / output terminal 11n, between the filter 30 and the input / output terminal 11p, and between the filter 40 and the input / output terminal 11q. Also good.
  • the filter (elastic wave filter) described in the first embodiment can be applied to a high-frequency front-end circuit or the like.
  • FIG. 16 is a configuration diagram of the high-frequency front-end circuit 1 and its peripheral circuits according to the third embodiment.
  • a high-frequency front-end circuit 1 an antenna element 2, and an RF signal processing circuit (RFIC) 3 are shown.
  • the high frequency front end circuit 1, the RFIC 3 and the antenna element 2 constitute a communication device 4.
  • the antenna element 2, the high-frequency front end circuit 1, and the RFIC 3 are disposed, for example, in a front end portion of a mobile phone that supports multimode / multiband.
  • the antenna element 2 is a multiband antenna that transmits and receives a high-frequency signal and conforms to a communication standard such as LTE.
  • the antenna element 2 may not correspond to, for example, all the bands of the communication device 4, and may correspond to only the bands of the low frequency band group or the high frequency band group. Further, the antenna element 2 may not be built in the communication device 4.
  • RFIC 3 is an RF signal processing circuit that processes high-frequency signals transmitted and received by the antenna element 2. Specifically, the RFIC 3 processes a high-frequency signal (here, a high-frequency reception signal) input from the antenna element 2 via the reception-side signal path of the high-frequency front-end circuit 1 by down-conversion or the like, and performs the signal processing. The received signal generated in this way is output to a baseband signal processing circuit (not shown). Further, the RFIC 3 performs signal processing on the transmission signal input from the baseband signal processing circuit by up-conversion or the like, and transmits a high-frequency signal (here, a high-frequency transmission signal) generated by the signal processing to the high-frequency front-end circuit 1. Output to the side signal path (not shown).
  • a high-frequency signal here, a high-frequency reception signal
  • the RFIC 3 performs signal processing on the transmission signal input from the baseband signal processing circuit by up-conversion or the like, and transmits a high-frequency signal (here,
  • the high frequency front end circuit 1 is a circuit that transmits a high frequency signal between the antenna element 2 and the RFIC 3. Specifically, the high-frequency front end circuit 1 transmits a high-frequency signal (here, a high-frequency transmission signal) output from the RFIC 3 to the antenna element 2 via a transmission-side signal path (not shown). The high-frequency front end circuit 1 transmits a high-frequency signal (here, a high-frequency reception signal) received by the antenna element 2 to the RFIC 3 via the reception-side signal path.
  • a configuration in which the filter according to Embodiment 1 is provided in the reception-side signal path of the high-frequency front-end circuit 1 will be described. However, the filter is provided in the transmission-side signal path of the high-frequency front-end circuit 1. It does not matter even if it is done.
  • the high-frequency front-end circuit 1 includes, in order from the antenna element 2 side, a switch group 110 including a plurality of switches, a filter group 120 including a plurality of filters, a switch group 150, and a reception amplifier circuit group 160. Prepare.
  • the switch group 110 includes one or more switches (a plurality of switches in the present embodiment) that connect the antenna element 2 and a signal path corresponding to a predetermined band in accordance with a control signal from a control unit (not shown). Composed.
  • the number of signal paths connected to the antenna element 2 is not limited to one, and a plurality of signal paths may be used. That is, the high frequency front end circuit 1 may support carrier aggregation.
  • the filter group 120 includes one or more filters, and in the present embodiment, for example, includes the following plurality of filters.
  • the band includes (i) a tunable filter that can handle Bands 11, 21, and 32, (ii) Band 3, and a tunable filter that can handle CA (Carrier Aggregation) of Bands 3 and 9.
  • a filter corresponding to Band 25 (iv) a filter corresponding to Band 34, (v) a filter corresponding to Band 1, 4, 65 and 66, (vi) a tunable filter corresponding to Band 40, (vii) corresponding to Band 30
  • Vii) a filter corresponding to Band 41 a tunable filter capable of supporting CA of Band 7 and Band 7 and 38.
  • Switch group 150 connects a signal path corresponding to a predetermined band and a reception amplifier circuit corresponding to the predetermined band in reception amplifier circuit group 160 in accordance with a control signal from a control unit (not shown). It is composed of one or more switches (a plurality of switches in this embodiment). The number of signal paths connected to the antenna element 2 is not limited to one, and a plurality of signal paths may be used. That is, the high frequency front end circuit 1 may support carrier aggregation. As a result, the high-frequency signal (here, the high-frequency reception signal) input from the antenna element 2 is amplified by the predetermined reception amplification circuit of the reception amplification circuit group 160 via the predetermined filter of the filter group 120, and is transmitted to the RFIC 3 Is output. Note that the RFIC corresponding to the low band and the RFIC corresponding to the high band may be provided separately.
  • the reception amplifier circuit group 160 includes one or more low noise amplifiers (a plurality of low noise amplifiers in the present embodiment) that amplify the power of the high frequency reception signals input from the switch group 150.
  • the high-frequency front-end circuit 1 configured in this manner includes any one of the filters 10, 10D to 10H, and 10Z in the application example of the first embodiment as at least one tunable filter. According to this, the attenuation characteristic on the higher frequency side than the pass band can be improved, and the number of filters can be reduced as compared with the case where a filter is provided for each band, so that the size can be reduced.
  • the communication device 4 including the high-frequency front-end circuit 1 and the RFIC 3 (RF signal processing circuit) described above is also included in the present invention. According to such a communication device 4, it is possible to improve the attenuation characteristic on the higher frequency side than the pass band.
  • a multiplexer such as a duplexer provided with the above-described filter is also included in the present invention. That is, in a multiplexer in which a plurality of filters are commonly connected, at least one filter may be any of the above-described filters.
  • one or more elastic wave resonances excluding the elastic wave resonators (second elastic wave resonators) connected to the comb-tooth capacitance without passing through other elastic wave resonators, among the elastic wave resonators constituting the filter.
  • At least one of the children may be constituted by an elastic wave resonator using a bulk wave or a boundary acoustic wave.
  • circuit elements such as inductors and capacitors may be connected between the constituent elements.
  • the inductor may include a wiring inductor formed by wiring that connects the components.
  • the present invention can be widely used in communication devices such as mobile phones as filters, multiplexers, front-end circuits and communication devices having excellent attenuation characteristics on the high frequency side.

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Abstract

フィルタ(10)は、直列腕共振子(s1)と、並列腕共振子(p1)とを備え、直列腕共振子(s1)および並列腕共振子(p1)のそれぞれは、基板(102)上に形成された複数の電極指からなるIDT電極(111および121)と保護膜(105)とを有し、並列腕共振子(p1)の保護膜(105)の膜厚は、直列腕共振子(s1)の保護膜(105)の膜厚よりも薄く、並列腕共振子(p1)における第1比帯域幅((高次共振周波数-共振周波数)/共振周波数)は、直列腕共振子(s1)における第1比帯域幅より大きく、並列腕共振子(p1)における第2比帯域幅((高次反共振周波数-反共振周波数)/反共振周波数)は、直列腕共振子(s1)における第2比帯域幅より大きい。

Description

弾性波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置
 本発明は、弾性波共振子を有する弾性波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置に関する。
 従来、移動体通信機のフロントエンド部に配置される帯域通過型フィルタなどに、弾性波を使用した弾性波フィルタが広く用いられている。また、マルチモード/マルチバンドなどの複合化に対応すべく、複数の弾性波フィルタを備えた高周波フロントエンド回路が実用化されている。
 例えば、マルチバンド化に対応する弾性波フィルタとしては、温度特性を改善するために、弾性波共振子を構成するIDT電極を覆うように保護膜(誘電体)を形成することが特許文献1に示されている。
特開平6-152299号公報
 しかしながら、特許文献1に記載された弾性波フィルタでは、保護膜の厚みが大きいと、共振周波数および反共振周波数より高周波数において、高次モードによるレスポンスが大きくなり、弾性波フィルタの通過帯域より高周波数側における減衰量が大きくなるという課題がある。
 そこで、本発明は、通過帯域より高周波側の減衰特性が向上した弾性波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置を提供することを目的とする。
 上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る弾性波フィルタは、弾性波フィルタであって、高周波信号を入出力する第1入出力端子および第2入出力端子と、前記第1入出力端子と前記第2入出力端子とを結ぶ第1経路に設けられた、第1弾性波共振子を有する直列腕共振回路と、前記第1経路のノードとグランドとを結ぶ第2経路に設けられた、第2弾性波共振子を有する並列腕共振回路と、を備え、前記並列腕共振回路は、第2弾性波共振子を有し、前記第1弾性波共振子および前記第2弾性波共振子のそれぞれは、少なくとも一部に圧電性を有する基板上に形成された複数の電極指からなるIDT電極と、前記IDT電極を覆うように形成された保護膜と、を有し、前記第2弾性波共振子における前記保護膜の膜厚は、前記第1弾性波共振子における前記保護膜の膜厚よりも薄く、前記第1弾性波共振子および前記第2弾性波共振子のそれぞれは、反共振周波数より高周波数に、高次モードによる高次共振周波数および高次反共振周波数を有し、弾性波共振子における高次共振周波数と共振周波数との差を、当該弾性波共振子の共振周波数で除した値を第1比帯域幅と定義し、弾性波共振子における高次反共振周波数と反共振周波数との差を、当該弾性波共振子の反共振周波数で除した値を第2比帯域幅と定義した場合、前記第2弾性波共振子における前記第1比帯域幅は、前記第1弾性波共振子における前記第1比帯域幅より大きく、前記第2弾性波共振子における前記第2比帯域幅は、前記第1弾性波共振子における前記第2比帯域幅より大きい。
 上記構成によれば、第2弾性波共振子における保護膜の膜厚を薄くしているため、第1弾性波共振子における高次反共振周波数と第2弾性波共振子における高次共振周波数との周波数差を小さくすることができる。そのため、高次モードによるレスポンスを小さくすることができ、通過帯域より高周波側の減衰特性を向上することが可能となる。
 また、前記第1弾性波共振子における高次反共振周波数と前記第2弾性波共振子における高次共振周波数との周波数差は、前記第1弾性波共振子における反共振周波数と前記第2弾性波共振子における共振周波数との周波数差より小さくてもよい。
 第1弾性波共振子における高次反共振周波数と第2弾性波共振子における高次共振周波数との周波数差を、第1弾性波共振子における反共振周波数と第2弾性波共振子における共振周波数との周波数差より小さくすることで、高次モードによるレスポンスが発生する周波数領域を狭くすることができる。
 また、前記並列腕共振回路は、さらに、前記第2弾性波共振子に接続され、前記弾性波フィルタの通過帯域を可変するためのインピーダンス回路を有し、前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子に接続された容量素子と、前記第2弾性波共振子とグランドとの間で、前記容量素子と並列接続されたスイッチ素子と、を有してもよい。
 これにより、スイッチ素子のオンおよびオフに応じて通過帯域の低域側の減衰極を周波数シフトすることができるため、通過帯域を切り替える周波数可変型の弾性波フィルタを実現できる。
 また、前記並列腕共振回路は、さらに、第3弾性波共振子を有し、前記第3弾性波共振子は、前記ノードと前記グランドとの間で、前記第2弾性波共振子および前記インピーダンス回路が直列接続された回路と並列接続され、前記第3弾性波共振子の共振周波数は、前記第2弾性波共振子の共振周波数と異なっており、前記第3弾性波共振子の反共振周波数は、前記第2弾性波共振子の反共振周波数と異なっていてもよい。
 これにより、通過帯域低域側の減衰極および通過帯域高域側の減衰極の少なくとも一方を周波数シフトできるチューナブルフィルタを実現できる。
 また、前記第3弾性波共振子の共振周波数は、前記第2弾性波共振子の共振周波数よりも低く、前記第3弾性波共振子の反共振周波数は、前記第2弾性波共振子の反共振周波数よりも低く、前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち前記第2弾性波共振子のみに直列接続されていてもよい。
 これにより、通過帯域高域側の減衰極を高域側にシフトさせつつ、通過帯域低域側の肩を落とすことなく通過帯域を高域側にシフトさせることができる。
 また、前記第3弾性波共振子の共振周波数は、前記第2弾性波共振子の共振周波数よりも高く、前記第3弾性波共振子の反共振周波数は、前記第2弾性波共振子の反共振周波数よりも高く、前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち前記第2弾性波共振子のみに直列接続されていてもよい。
 これにより、通過帯域低域側の減衰極を高域側にシフトさせつつ、通過帯域低域側の肩を落とすことなく通過帯域を高域側にシフトさせることができるチューナブルフィルタを実現できる。
 また、前記並列腕共振回路は、さらに、第3弾性波共振子を有し、前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子が並列接続された回路に対して直列接続されていてもよい。
 これにより、通過帯域両側の減衰極を共に高域側にシフトさせることができるチューナブルフィルタを実現できる。
 また、前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち一方のみに直列接続されており、前記並列腕共振回路は、さらに、前記ノードと前記グランドとの間で前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち他方のみに直列接続された他のインピーダンス回路を有してもよい。
 これにより、通過帯域高域側および通過帯域低域側の減衰極を高域側にシフトさせつつ、通過帯域高域側および通過帯域低域側の肩を落とすことなく通過帯域を高域側にシフトさせることができる。このため、例えば、帯域幅を維持しつつ、中心周波数をシフトすることができるチューナブルフィルタを実現できる。
 また、前記インピーダンス回路は、さらに、前記スイッチ素子に直列接続されたインダクタを有し、前記スイッチ素子と前記インダクタとが直列接続された回路は、前記容量素子に対して並列接続されていてもよい。
 これにより、通過帯域の周波数可変幅の広いチューナブルフィルタを実現できる。
 また、本発明の一態様に係るマルチプレクサは、上記いずれかに記載の弾性波フィルタと、前記第1入出力端子に接続された第1フィルタと、を備え、前記第1フィルタにおける通過帯域の周波数は、前記弾性波フィルタの通過帯域の周波数より高く、前記第1弾性波共振子における高次共振周波数、および、前記第2弾性波共振子における高次反共振周波数は、前記第1フィルタの通過帯域高域端の周波数より高い。
 これにより、第1フィルタにおける通過帯域内の挿入損失を低減したマルチプレクサを実現できる。
 また、さらに、前記第1入出力端子に接続された第2フィルタを備え、前記第2フィルタにおける通過帯域の周波数は、前記第1フィルタの通過帯域の周波数より高く、前記第1弾性波共振子における高次共振周波数、および、前記第2弾性波共振子における高次反共振周波数は、前記第2フィルタの通過帯域低域端の周波数より低くてもよい。
 これにより、第1フィルタにおける通過帯域内の挿入損失、および、第2フィルタにおける通過帯域内の挿入損失を低減したマルチプレクサを実現できる。
 また、本発明の一態様に係る高周波フロントエンド回路は、上記いずれかに記載の弾性波フィルタと、前記弾性波フィルタに接続された増幅回路と、を備える。
 これにより、通過帯域よりも高周波側の減衰特性が向上した弾性波フィルタを有する高周波フロントエンド回路を提供できる。
 また、本発明の一態様に係る通信装置は、アンテナ素子で送受信される高周波信号を処理するRF信号処理回路と、前記アンテナ素子と前記RF信号処理回路との間で前記高周波信号を伝達する上記記載の高周波フロントエンド回路と、を備える。
 これにより、通過帯域よりも高周波側の減衰特性が向上した弾性波フィルタを有する通信装置を提供できる。
 本発明によれば、通過帯域より高周波側の減衰特性が向上した弾性波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置を提供することが可能となる。
図1は、実施の形態1に係るフィルタの回路構成図である。 図2Aは、フィルタのスイッチのオンオフ動作を表す単位回路図である。 図2Bは、従来のフィルタの減衰特性を表すグラフである。 図2Cは、実施の形態に係るフィルタの減衰特性を表すグラフである。 図3は、実施の形態1に係るフィルタの電極構成を表す平面図および断面図である。 図4Aは、実施の形態1における電極膜およびその周囲の構造の断面図である。 図4Bは、実施の形態1における電極膜およびその周囲の構造の他の一例の断面図である。 図5Aは、保護膜の膜厚を変化させたときの弾性表面波共振子の共振特性を示すグラフである。 図5Bは、保護膜の膜厚を変化させたときの基本モードによる共振周波数、反共振周波数および比帯域幅を示すグラフである。 図5Cは、保護膜の膜厚を変化させたときの高次モードによる共振周波数、反共振周波数および比帯域幅を示すグラフである。 図5Dは、保護膜の膜厚を変化させたときの第1比帯域幅および第2比帯域幅を示すグラフである。 図6Aは、実施の形態1(実施例)に係るフィルタのスイッチオン時の通過特性を表すグラフである。 図6Bは、実施の形態1(実施例)に係るフィルタのスイッチオフ時の通過特性を表すグラフである。 図6Cは、実施の形態1(実施例)に係るフィルタのスイッチオン時およびオフ時の通過特性を比較したグラフである。 図7Aは、比較例に係るフィルタのスイッチオン時の通過特性を表すグラフである。 図7Bは、比較例に係るフィルタのスイッチオフ時の通過特性を表すグラフである。 図7Cは、比較例に係るフィルタのスイッチオン時およびオフ時の通過特性を比較したグラフである。 図8Aは、実施例および比較例に係るフィルタのスイッチオン時の通過特性を比較したグラフである。 図8Bは、実施例および比較例に係るフィルタのスイッチオフ時の通過特性を比較したグラフである。 図9Aは、実施例に係るフィルタの広帯域における共振特性および通過特性を示すグラフである。 図9Bは、実施例に係るフィルタの高域側減衰帯域における共振特性および通過特性を示すグラフである。 図10Aは、実施の形態1の変形例1に係るフィルタの回路構成図である。 図10Bは、実施の形態1の変形例1に係るフィルタの通過特性を表すグラフである。 図11Aは、実施の形態1の変形例2に係るフィルタの回路構成図である。 図11Bは、実施の形態1の変形例2に係るフィルタの通過特性を表すグラフである。 図12Aは、実施の形態1の変形例3に係るフィルタの回路構成図である。 図12Bは、実施の形態1の変形例3に係るフィルタの通過特性を表すグラフである。 図13Aは、実施の形態1の変形例4に係るフィルタの回路構成図である。 図13Bは、実施の形態1の変形例4に係るフィルタの通過特性を表すグラフである。 図14Aは、実施の形態1の変形例5に係るフィルタの回路構成図である。 図14Bは、実施の形態1の変形例5に係る可変フィルタの通過特性を表すグラフである。 図15Aは、実施の形態2に係るマルチプレクサの回路構成図である。 図15Bは、実施の形態2に係るマルチプレクサを構成する各フィルタの通過特性および各弾性波共振子のインピーダンス特性の概略波形図である。 図16は、実施の形態3に係る高周波フロントエンド回路およびその周辺回路の構成図である。
 以下、本発明の実施の形態について、実施例および図面を用いて詳細に説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置および接続形態などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。以下の実施の形態における構成要素のうち、独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。また、図面に示される構成要素の大きさ、または大きさの比は、必ずしも厳密ではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略または簡略化する場合がある。
 (実施の形態1)
 [1.1 フィルタ10の回路構成]
 図1は、実施の形態1に係るフィルタ10の回路構成図である。フィルタ10は、例えば、マルチモード/マルチバンド対応の携帯電話のフロントエンド部に配置される、高周波フィルタ回路である。フィルタ10は、例えば、LTE(Long Term Evolution)に対応する携帯電話等のフロントエンド回路に設けられ、3GPP(Third Generation Partnership Project)にて規格されたBand(周波数帯域)の高周波信号を通過させ、通信に影響する不要な高周波信号をフィルタリング(減衰)する。このフィルタ10は、弾性波共振子を用いて、通過帯域および減衰帯域の周波数を可変する機能を有する弾性波フィルタである。
 同図に示すように、フィルタ10は、直列腕共振子s1、s2およびs3と、並列腕共振子p1、p2およびp3と、インピーダンス回路11、12および13と、を備える。
 直列腕共振子s1、s2およびs3は、それぞれ、入出力端子11m(第1入出力端子)と入出力端子11n(第2入出力端子)との間に接続された第1弾性波共振子である。また、直列腕共振子s1、s2およびs3のそれぞれは、入出力端子11mと入出力端子11nとを結ぶ第1経路に設けられた直列腕共振回路を構成している。なお、各直列腕共振回路は、直列腕共振子s1、s2およびs3のそれぞれのみで構成されている場合に限らず、1以上の弾性波共振子から構成されていればよい。本実施の形態では、当該各直列腕共振回路は、1つの弾性波共振子によって構成されているが、複数の弾性波共振子によって構成されていてもかまわない。複数の弾性波共振子によって構成される直列腕共振回路には、例えば、複数の弾性波共振子からなる縦結合共振子、あるいは、1つの弾性波共振子が直列分割等された複数の分割共振子が含まれる。例えば、直列腕共振回路として1つの弾性波共振子が直列分割等された複数の分割共振子を用いることにより耐電力性強化が要求されるフィルタ特性に適応させることが可能になり、直列腕共振回路として縦結合共振子を用いることにより、減衰強化等が要求されるフィルタ特性に適応させることが可能となる。
 並列腕共振子p1は、上記第1経路のノードx1とグランド(基準端子)との間に接続された第2弾性波共振子である。並列腕共振子p2は、上記第1経路のノードx2とグランド(基準端子)との間に接続された第2弾性波共振子である。並列腕共振子p3は、上記第1経路のノードx3とグランド(基準端子)との間に接続された第2弾性波共振子である。なお、ノードx1は、直列腕共振子s1およびs2の接続ノードであり、ノードx2は、直列腕共振子s2およびs3の接続ノードであり、ノードx3は、直列腕共振子s3および入出力端子11nの接続ノードである。
 この並列腕共振子p1、p2およびp3は、フィルタ10の通過帯域より低域側に共振周波数を有し通過帯域内に反共振周波数を有し、直列腕共振子s1、s2およびs3は、該通過帯域内に共振周波数を有し通過帯域より高域側に反共振周波数を有する。よって、本実施の形態では、並列腕共振子p1、p2およびp3における共振周波数は、直列腕共振子s1,s2およびs3における共振周波数よりも低く、並列腕共振子p1、p2およびp3における反共振周波数は、直列腕共振子s1、s2およびs3における反共振周波数よりも低い。
 ここで、共振子における共振周波数とは、当該共振子のインピーダンスが極小となる特異点(理想的にはインピーダンスが0となる点)である「共振点」の周波数である。また、共振子における反共振周波数とは、当該共振子のインピーダンスが極大となる特異点(理想的には無限大となる点)である「反共振点」の周波数である。なお、以下では、共振子単体に限らず複数の共振子もしくはインピーダンス素子とで構成される回路についても、便宜上、インピーダンスが極小となる特異点(理想的にはインピーダンスが0となる点)を「共振点」と称し、その周波数を「共振周波数」と称する。また、インピーダンスが極大となる特異点(理想的にはインピーダンスが無限大となる点)を「反共振点」と称し、その周波数を「反共振周波数」と称する。
 より具体的には、上述した共振子における共振周波数とは、当該共振子における基本モードの共振周波数を示し、上述した共振子における反共振周波数とは、当該共振子における基本モードの反共振周波数を示す。これに対して、高次モードの共振周波数である高次共振周波数とは、基本モードの共振周波数より高周波数において、基本モードの共振周波数におけるインピーダンスの次に高いインピーダンスの極小点であり、その周波数と定義される。また、高次モードの反共振周波数である高次反共振周波数とは、基本モードの反共振周波数より高周波数において、基本モードの反共振周波数におけるインピーダンスの次に低いインピーダンスの極大点であり、その周波数と定義される。
 また、本実施の形態では、並列腕共振子p1、p2およびp3のそれぞれは、1つの弾性波共振子によって構成されている。しかし、並列腕共振子p1、p2およびp3のそれぞれは、1つの弾性波共振子が直列分割等された複数の分割共振子によって構成されていてもかまわない。
 上記構成により、直列腕共振子s1、s2およびs3と、並列腕共振子p1、p2およびp3とは、フィルタ10の通過帯域を形成する。
 インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1に接続された容量素子C1と、スイッチSW1とを有し、フィルタ10の通過帯域および通過帯域より低域側の減衰帯域を可変する。並列腕共振子p1とインピーダンス回路11とは、ノードx1とグランドとを結ぶ第2経路に設けられた並列腕共振回路21を構成する。インピーダンス回路12は、並列腕共振子p2に接続された容量素子C2と、スイッチSW2とを有し、フィルタ10の通過帯域および通過帯域より低域側の減衰帯域を可変する。並列腕共振子p2とインピーダンス回路12とは、上記第2経路に設けられた並列腕共振回路22を構成する。インピーダンス回路13は、並列腕共振子p3に接続された容量素子C3と、スイッチSW3とを有し、フィルタ10の通過帯域および通過帯域より低域側の減衰帯域を可変する。並列腕共振子p3とインピーダンス回路13とは、上記第2経路に設けられた並列腕共振回路23を構成する。本実施の形態では、並列腕共振子p1がノードx1に接続され、並列腕共振子p2がノードx2に接続され、並列腕共振子p3がノードx3に接続されており、インピーダンス回路11、12および13は、それぞれ、グランドに接続されているが、並列腕共振子p1、p2およびp3と、インピーダンス回路11、12および13との接続順序はこれに限らず、上記接続順序と逆であってもかまわない。
 また、以下において、スイッチ素子は、導通(オン)の場合にはインピーダンスがゼロとなり、非導通(オフ)の場合にはインピーダンスが無限大となる理想素子として説明する。実際は、スイッチ素子には、オフの場合の容量成分、オンの場合のインダクタ成分、及び、抵抗成分などの寄生成分があるため、理想素子としてのスイッチ素子を用いた特性とは、若干異なる。
 容量素子C1は、ノードx1とグランド(基準端子)との間に接続されている。容量素子C2は、ノードx2とグランド(基準端子)との間に接続されている。容量素子C3は、ノードx3とグランド(基準端子)との間に接続されている。より具体的には、並列腕共振子p1および容量素子C1は直列接続されて、ノードx1とグランドとの間に接続され、並列腕共振子p2および容量素子C2は直列接続されて、ノードx2とグランドとの間に接続され、並列腕共振子p3および容量素子C3は直列接続されて、ノードx3とグランドとの間に接続されている。つまり、並列腕共振子p1がノードx1に接続され、並列腕共振子p2がノードx2に接続され、並列腕共振子p3がノードx3に接続されており、容量素子C1、C2およびC3は、それぞれ、グランドに接続されている。
 スイッチSW1は、容量素子C1と並列接続され、一方の端子が、並列腕共振子p1と容量素子C1との接続ノードに接続され、他方の端子がグランドに接続されたスイッチ素子である。スイッチSW2は、容量素子C2と並列接続され、一方の端子が、並列腕共振子p2と容量素子C2との接続ノードに接続され、他方の端子がグランドに接続されたスイッチ素子である。スイッチSW3は、容量素子C3と並列接続され、一方の端子が、並列腕共振子p3と容量素子C3との接続ノードに接続され、他方の端子がグランドに接続されたスイッチ素子である。上記接続構成により、スイッチSW1~SW3は、例えばRF信号処理回路(RFIC:Radio Frequency Integrated Circuit)等の制御部からの制御信号にしたがってオン(導通)およびオフ(非導通)する。インピーダンス回路11、12および13は、スイッチSW1~SW3のオンオフ動作により、並列腕共振回路21、22および23の共振周波数を可変させる。
 スイッチSW1~SW3は、例えば、小型化を図るために、GaAsもしくはCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)からなるFET(Field Effect Transistor)スイッチ、または、ダイオードスイッチにより構成される。
 本実施の形態では、インピーダンス回路11、12および13は、それぞれ、第2経路上で第2弾性波共振子(本実施の形態では並列腕共振子p1、p2およびp3)と直列接続されている。このようなインピーダンス回路11~13が設けられていることにより、フィルタ10は、スイッチSW1~SW3のオンおよびオフに応じて通過帯域および通過帯域より低域側の減衰帯域を切り替えることができるチューナブル(周波数可変型)フィルタを実現できる。
 すなわち、フィルタ10は、直列腕共振子s1(直列腕共振回路)と並列腕共振回路21とで構成された単位回路、直列腕共振子s2(直列腕共振回路)と並列腕共振回路22とで構成された単位回路、および直列腕共振子s3(直列腕共振回路)と並列腕共振回路23とで構成された単位回路が縦続接続された6次のラダー型フィルタ構造を有する。
 上記構成により、フィルタ10は、スイッチSW1~SW3のオフ時には、オン時に対して通過帯域低域側の減衰極が高周波側にシフトする。これにより、フィルタ10は、通過帯域の低域端が可変する周波数可変型のフィルタを構成する。
 本実施の形態に係るフィルタ10において、直列腕共振子s1、s2およびs3、ならびに、並列腕共振子p1、p2およびp3のそれぞれは、少なくとも一部に圧電性を有する基板上に形成された複数の電極指からなるIDT電極と、当該IDT電極を覆うように形成された保護膜と、を有している。なお、圧電性を有する基板は、少なくとも表面に圧電性を有する基板である。当該基板は、例えば、表面に圧電薄膜を備え、当該圧電薄膜と音速の異なる膜、および、支持基板などの積層体で構成されていてもよい。また、当該基板は、例えば、高音速支持基板と、高音速支持基板上に形成された圧電薄膜とを含む積層体、高音速支持基板と、高音速支持基板上に形成された低音速膜と、低音速膜上に形成された圧電薄膜とを含む積層体、または、支持基板と、支持基板上に形成された高音速膜と、高音速膜上に形成された低音速膜と、低音速膜上に形成された圧電薄膜とを含む積層体であってもよい。なお、当該基板は、基板全体に圧電性を有していてもよい。また、IDT電極を覆うように形成された保護膜は、例えば、SiO、SiNなどの誘電体または絶縁体からなり、またこれらの積層体であってもよい。
 ここで、並列腕共振子p1、p2およびp3の保護膜の膜厚は、直列腕共振子s1、s2およびs3の保護膜の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1、p2およびp3のそれぞれの基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔が、直列腕共振子s1、s2およびs3のそれぞれの基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔よりも大きくなる。
 ここで、弾性波共振子における高次共振周波数と共振周波数との差を、当該弾性波共振子の共振周波数で除した値を第1比帯域幅と定義し、弾性波共振子における高次反共振周波数と反共振周波数との差を、当該弾性波共振子の反共振周波数で除した値を第2比帯域幅と定義する。この場合、並列腕共振子p1、p2およびp3における第1比帯域幅は、直列腕共振子s1、s2およびs3における第1比帯域幅より大きく、並列腕共振子p1、p2およびp3における第2比帯域幅は、直列腕共振子s1、s2およびs3における第2比帯域幅より大きい。これにより、直列腕共振子s1、s2およびs3の高次反共振周波数と並列腕共振子p1、p2およびp3の高次共振周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 なお、本実施の形態に係るフィルタ10は、1つの直列腕共振子および1つの並列腕共振子で構成された単位回路が3段縦続接続された6次のラダー型フィルタ回路となっている。しかしながら、本発明に係るフィルタ(弾性波フィルタ)は、上記単位回路を少なくとも1段有していればよい。
 また、本実施の形態に係るフィルタ10は、インピーダンス回路11~13が付加された周波数可変型のフィルタとしているが、本発明に係る弾性波フィルタは、スイッチSW1~SW3、または、インピーダンス回路11~13が無い、周波数可変機能を有さないフィルタであってもよい。なお、スイッチSW1~SW3がない場合には、スイッチSW1~SW3がオフの場合の特性と等価であり、インピーダンス回路11~13が無い場合は、スイッチがオンの場合と等価である。
 図2Aは、実施の形態1の変形例に係るフィルタ10Zのスイッチのオンオフ動作を表す単位回路図である。同図に示すように、フィルタ10Zは、直列腕共振子s1と、並列腕共振子p1と、容量素子C1とスイッチSW1とを備える。容量素子C1とスイッチSW1とは、インピーダンス回路を構成し、並列腕共振子p1ととともに並列腕共振回路を構成する。ここで、並列腕共振子p1の保護膜の膜厚は、直列腕共振子s1の保護膜の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1の共振周波数と高次共振周波数との周波数間隔が、直列腕共振子s1の共振周波数と高次共振周波数との周波数間隔よりも大きくなる。これにより、直列腕共振子s1の高次反共振周波数と並列腕共振子p1の高次共振周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 なお、上記単位回路の接続段数により、通過帯域内の挿入損失、通過帯域の急峻性、および減衰帯域の減衰量が変化する。例えば、上記単位回路の接続段数が多いほど、通過帯域内の挿入損失は増加するが、通過帯域の急峻性および減衰帯域の減衰量を確保することが可能となる。つまり、本発明に係るフィルタ(弾性波フィルタ)における上記単位回路の接続段数は、フィルタ特性の要求仕様により適宜設定され得る。
 [1.2 フィルタの減衰特性]
 ここで、フィルタの減衰特性における問題点について、説明する。
 図2Bは、比較例のフィルタの減衰特性を表すグラフである。なお、比較例に係るフィルタは、図2Aに示されたフィルタ10Zと同様の回路構成を有し、並列腕共振子p1および直列腕共振子s1の保護膜の膜厚が等しい。
 図2Bの上段の共振特性より、並列腕共振子p1は、フィルタの通過帯域より低域側に基本モードの共振周波数を有し通過帯域内に基本モードの反共振周波数を有する。また、並列腕共振子p1における共振周波数は、直列腕共振子s1における共振周波数よりも低く、並列腕共振子p1における反共振周波数は、直列腕共振子s1における反共振周波数よりも低い。
 比較例に係るフィルタでは、スイッチSW1オンの状態では、並列腕共振回路21のインピーダンス特性は、容量素子C1の影響を受けない特性となる。つまり、この状態では、並列腕共振子p1単体でのインピーダンス特性が並列腕共振回路21のインピーダンス特性となる。一方、スイッチSW1オフの状態では、並列腕共振回路21のインピーダンス特性は、容量素子C1の影響を受ける特性となる。つまり、この状態では、並列腕共振子p1と容量素子C1との合成特性が並列腕共振回路21のインピーダンス特性となる。
 図2Bに示すように、並列腕共振回路21は、2つの共振周波数fr1onおよびfr1offと、1つの反共振周波数fap1とを有する(このとき、fr1on<fr1offを満たす)。ここで、fr1on<fr1offとなる理由は、スイッチSW1がオンからオフに切り替わることにより、並列腕共振子p1の共振周波数近傍の周波数帯域において、容量素子C1によるインピーダンスの影響を受けるためである。なお、反共振周波数fap1については、スイッチSW1オン時及びオフ時のいずれにおいても、並列腕共振子p1単体での反共振周波数と一致する。
 このように、比較例に係るフィルタでは、スイッチSW1をオンからオフに切り替えると、並列腕共振回路21において、反共振周波数はシフトせず、共振周波数のみが高域側にシフトする(fr1on→fr1off)。
 さらに、弾性波フィルタでは、周波数可変幅を確保するために、弾性波共振子の共振帯域幅(反共振周波数-共振周波数)を広くする必要があるが、このような弾性波共振子を有する並列腕共振回路および直列腕共振子では、通過帯域を構成する共振周波数および反共振周波数に加え、通過帯域より高周波側に高次モードによる高次共振が存在する。図2Bに示すように、基本モードの共振周波数および反共振周波数よりも高周波側に、直列腕共振子s1の高次共振周波数(frs2)および高次反共振周波数(fas2)、ならびに、並列腕共振回路21の高次共振周波数(fr2onおよびfr2off)および高次反共振周波数(fap2)が発生する。
 上述した共振特性により、比較例に係るフィルタの通過特性は、スイッチSW1の切り替え動作により、図2Bの下段に示すような特性となる。通過帯域近傍では、スイッチSW1をオフ状態にすることで、通過帯域低域側の減衰極のみが高域側にシフトし、通過帯域を可変する。
 ここで、比較例に係るフィルタでは、並列腕共振回路21の基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔は、直列腕共振子s1の基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔と概ね同じとなる。すなわち、並列腕共振回路21の第1比帯域幅と、直列腕共振子s1の第1比帯域幅とは概ね同じとなる。よって、図2Bの下段に示すように、通過帯域よりも高周波側の減衰帯域では、基本モードの共振特性により得られる通過帯域のフィルタ特性と類似した特性が発生し、減衰特性が悪化している。特に、スイッチSW1をオフ状態にすることで、容量素子C1が付加された並列腕共振回路21のインピーダンスが上がるため、高次モード発生周波数付近での減衰量が小さく(挿入損失が小さく)なっている。
 上述したように、弾性波共振子を用いたフィルタでは、高次モード共振の発生により、通過帯域よりも高周波側の減衰特性がさらに悪化してしまうという問題がある。
 上記問題に対し、本実施の形態に係るフィルタ10Zでは、並列腕共振回路21を構成する並列腕共振子p1の保護膜の膜厚が、直列腕共振子s1の保護膜の膜厚よりも薄いことを特徴とする。
 図2Cは、実施の形態に係るフィルタ10Zの減衰特性を表すグラフである。図2Cの上段に示すように、並列腕共振子p1は、フィルタ10Zの通過帯域より低域側に基本モードの共振周波数を有し通過帯域内に基本モードの反共振周波数を有する。また、並列腕共振子p1における共振周波数は、直列腕共振子s1における共振周波数よりも低く、並列腕共振子p1における反共振周波数は、直列腕共振子s1における反共振周波数よりも低い。並列腕共振回路21は、2つの共振周波数fr1onおよびfr1offと、1つの反共振周波数fap1とを有する(このとき、fr1on<fr1offを満たす)。実施の形態に係るフィルタ10Zにおいても、スイッチSW1をオンからオフに切り替えると、並列腕共振回路21において、反共振周波数はシフトせず、共振周波数のみが高域側にシフトする(fr1on→fr1off)。
 上述した共振特性により、実施の形態に係るフィルタ10Zの通過特性は、スイッチSW1の切り替え動作により、図2Cの下段に示すような特性となる。通過帯域近傍では、スイッチSW1をオフ状態にすることで、通過帯域低域側の減衰極のみが高域側にシフトし、通過帯域を可変する。
 さらに、フィルタ10Zでは、通過帯域より高周波側に高次モードの共振が存在する。図2Cに示すように、基本モードの共振周波数および反共振周波数よりも高周波側に、直列腕共振子s1の高次モード共振周波数(frs2)および反共振周波数(fas2)、ならびに、並列腕共振回路21の高次モード共振周波数(frp2(fr2onおよびfr2offを含む))および反共振周波数(fap2)が発生する。
 ここで、実施の形態に係るフィルタ10Zでは、並列腕共振回路21の基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔が、直列腕共振子s1の基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔よりも大きくなる。これにより、直列腕共振子s1の高次モードによる高次反共振周波数と並列腕共振回路21の高次モードによる高次共振周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上させる(挿入損失を大きくする)ことが可能となる。
 [1.3 フィルタ10の電極構成]
 図3は、実施の形態1に係るフィルタ10の電極構成を表す平面図および断面図である。図3の左側には、フィルタ10の電極構成の平面図が表されており、図3の右側上段には、フィルタ10の直列腕共振子s1のA-A’断面図が表されており、図3の右側下段には、フィルタ10の並列腕共振子p1のB-B’断面図が表されている。
 図3の左側に示すように、基板102の表面上の外周部には、入出力端子11mおよび11nが配置されている。また、基板102の表面上には、直列腕共振子s1を構成するIDT電極111および反射器112、直列腕共振子s2を構成するIDT電極113および反射器114、ならびに、直列腕共振子s3を構成するIDT電極115および反射器116が形成されている。また、基板102の表面上には、並列腕共振子p1を構成するIDT電極121および反射器122、並列腕共振子p2を構成するIDT電極123および反射器124、ならびに、並列腕共振子p3を構成するIDT電極125および反射器126が形成されている。さらに、基板102の表面上に、櫛歯容量電極131、132および133が形成されている。また、詳細表示していないが、基板102の表面上に、入出力端子11mおよび11n、IDT電極111、113、115、121、123および125、ならびに櫛歯容量電極131、132および133を接続する各配線が形成されている。
 基板102は、少なくとも一部に圧電性を有する基板である。例えば、表面に圧電薄膜を備え、当該圧電薄膜と音速の異なる膜、および支持基板などの積層体で構成されていてもよい。また、基板102は、基板全体に圧電性を有していても良い。この場合、基板102は、圧電体層一層からなる圧電基板である。
 IDT電極111および反射器112は、複数の電極指からなり、基板102とともに、直列腕共振子s1を構成する。IDT電極113および反射器114は、複数の電極指からなり、基板102とともに、直列腕共振子s2を構成する。IDT電極115および反射器116は、複数の電極指からなり、基板102とともに、直列腕共振子s3を構成する。IDT電極121および反射器122は、複数の電極指からなり、基板102とともに、並列腕共振子p1を構成する。IDT電極123および反射器124は、複数の電極指からなり、基板102とともに、並列腕共振子p2を構成する。IDT電極125および反射器126は、複数の電極指からなり、基板102とともに、並列腕共振子p3を構成する。ここで、IDT電極111、113および115の電極指の延伸方向とIDT電極121、123および125の電極指の延伸方向とは、略一致しており、当該延伸方向は、基板102の伝搬方向に対して垂直方向となっている。これにより、直列腕共振子s1~s3および並列腕共振子p1~p3は、同一の伝搬方向に弾性波を励振する。
 櫛歯容量電極131、132および133は、それぞれ、複数の電極指からなり、基板102上に形成されている。ここで、櫛歯容量電極131~133の電極指の延伸方向と、上記IDT電極の電極指の延伸方向とは、交差している。櫛歯容量電極131は、基板102とともに、櫛歯容量である容量素子C1(キャパシタ)を構成する。櫛歯容量電極132は、基板102とともに、櫛歯容量である容量素子C2(キャパシタ)を構成する。櫛歯容量電極133は、基板102とともに、櫛歯容量である容量素子C3(キャパシタ)を構成する。
 上記電極構成により、フィルタ10を構成する直列腕共振子、並列腕共振子、および容量素子を同一の基板102上に形成できるので、フィルタ10を小型化することが可能となる。また、櫛歯容量電極131~133を構成する電極指ピッチ、対数、交叉幅などを調整することにより、周波数可変幅に応じて容量値を設定することが可能となる。
 スイッチSW1、SW2およびSW3は、基板102の外部に配置され、それぞれ、櫛歯容量電極131、132および133と接続されている。なお、省面積化を図るべく、スイッチSW1~SW3は、基板102上に配置されていてもよい。
 ここで、図3の右側に示すように、フィルタ10は、並列腕共振子p1、p2およびp3のIDT電極を覆うように形成された保護膜105を有し、直列腕共振子s1、s2およびs3のIDT電極を覆うように形成された保護膜105を有する。さらに、並列腕共振子p1、p2およびp3の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1、s2およびs3の保護膜105の膜厚よりも薄い。つまり、IDT電極121、123および125を覆う保護膜105の膜厚(Tgp1)は、IDT電極111、113および115を覆う保護膜105の膜厚(Tgs1)よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1、p2およびp3のそれぞれの基本モードによる共振周波数と高次モードによる高次共振周波数との周波数間隔が、直列腕共振子s1、s2およびs3のそれぞれの基本モードによる共振周波数と高次モードによる共振周波数との周波数間隔よりも大きくなる。つまり、並列腕共振子p1、p2およびp3における第1比帯域幅は、直列腕共振子s1、s2およびs3における第1比帯域幅より大きく、並列腕共振子p1、p2およびp3における第2比帯域幅は、直列腕共振子s1、s2およびs3における第2比帯域幅より大きくなる。
 これにより、直列腕共振子s1、s2およびs3の高次モード反共振周波数と並列腕共振子p1、p2およびp3の高次モード共振周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 なお、上述したIDT電極、反射器、および櫛歯容量電極を構成する複数の電極指は、単層の金属膜で構成されていてもよいし、以下に示すように複数の金属膜の積層体で構成されていてもよい。また、上述した保護膜は、単層の誘電体または絶縁体で構成されていてもよいし、複数の誘電体または絶縁体の積層体で構成されていてもよい。
 上述した直列腕共振子s1、s2およびs3ならびに並列腕共振子p1、p2およびp3では、IDT電極の設計パラメータ等によって、励振される弾性波の波長が規定される。以下、並列腕共振子p1を例示してIDT電極の設計パラメータについて説明する。
 弾性波の波長は、複数の電極指のうち1つのバスバー電極に接続された電極指の繰り返し周期λp1で規定される。また、電極指ピッチ(複数の電極指のピッチ、すなわち電極指周期)Pp1とは、当該繰り返し周期λp1の1/2であり、電極指のライン幅をWp1とし、隣り合う電極指の間のスペース幅をSp1とした場合、Pp1=(Wp1+Sp1)で定義される。また、IDT電極121の交叉幅Lp1とは、1組のバスバー電極の一方に接続された電極指と他方に接続された電極指とを弾性波の伝搬方向から見た場合の重複する電極指長さである。また、電極デューティ(デューティ比)とは、複数の電極指のライン幅占有率であり、複数の電極指のライン幅とスペース幅との加算値に対する当該ライン幅の割合、つまりWp1/(Wp1+Sp1)で定義される。すなわち、電極デューティは、電極指ピッチ(複数の電極指のピッチ)に対する複数の電極指の幅の比、つまりWp1/Pp1で定義される。また、対数とは、対をなす電極指の数であり、電極指の総数の概ね半数である。例えば、対数をNp1とし、電極指の総数をMp1とすると、Mp1=2Np1+1を満たす。また、電極指の膜厚とは、電極指を形成する電極膜101の膜厚Tp1である。
 次いで、櫛歯容量電極131~133の構造について、櫛歯容量電極131を例示して説明する。
 櫛歯容量電極131は、複数の電極指で構成されている。図3に示すように、櫛歯容量電極131は、IDT電極121と同様に電極膜101によって構成されている。つまり、容量素子C1を構成する櫛歯容量電極131は、並列腕共振子p1を構成するIDT電極121と同一の基板102上に形成されている。なお、櫛歯容量電極131とIDT電極121とは、互いに異なる基板上に形成されていてもかまわない。
 櫛歯容量電極131は、複数の電極指と、当該複数の電極指を挟んで対向して配置された1組のバスバー電極とを有し、複数の電極指が1組のバスバー電極の一方と他方に対して交互に接続されることにより構成されている。ここで、複数の電極指は、弾性波の伝搬方向に沿って形成され、当該伝搬方向と直交する方向に沿って周期的に形成されている。
 このように構成された容量素子C1では、櫛歯容量電極131の設計パラメータ等によって、容量値およびQ値等の特性が規定される。以下、櫛歯容量電極131の設計パラメータについて説明する。
 電極指ピッチ(電極指のピッチ、すなわち電極指周期)PC1とは、電極指のライン幅をWC1とし、隣り合う電極指の間のスペース幅をSC1とした場合、PC1=(WC1+SC1)で定義される。また、櫛歯容量電極131の交叉幅LC1とは、1組のバスバー電極の一方に接続された電極指と他方に接続された電極指とを弾性波の伝搬方向から見た場合の重複する電極指長さである。また、電極デューティ(デューティ比)とは、複数の電極指のライン幅占有率であり、複数の電極指のライン幅とスペース幅との加算値に対する当該ライン幅の割合、つまりWC1/(WC1+SC1)で定義される。すなわち、電極デューティは、複数の電極指のピッチに対する複数の電極指の幅の比、つまりWC1/PC1で定義される。また、対数とは、対をなす電極指の数であり、電極指の総数の概ね半数である。例えば、対数をNC1とし、電極指の総数をMC1とすると、MC1=2NC1+1を満たす。また、電極指の膜厚とは、電極指を形成する電極膜101の膜厚TC1である。
 次いで、容量素子C1~C3を構成する櫛歯容量電極131~133と、容量素子C1~C3と接続される並列腕共振子p1~p3のIDT電極121、123、および125の設計パラメータについて、比較して説明する。なお、以下では、容量素子C1~C3のうち容量素子C1と並列腕共振子p1のIDT電極121との関係について説明する。この関係については、容量素子C2と並列腕共振子p2のIDT電極123との関係、および、容量素子C3と並列腕共振子p3のIDT電極125との関係についても適用される。
 容量素子C1の電極指ピッチは、並列腕共振子p1(第2弾性波共振子)の電極指ピッチより狭い。つまり、PC1<Pp1を満たす。ここで、容量素子C1における複数の電極指のピッチは、並列腕共振子p1(第2弾性波共振子)における複数の電極指のピッチの80パーセント以下(すなわちPC1≦0.8×Pp1=0.4×λp1)であることが好ましい。
 また、容量素子C1における複数の電極指の膜厚は、並列腕共振子p1における複数の電極指の膜厚より薄い。つまり、TC1<Tp1を満たす。ここで、製造上の理由から、容量素子C1において、電極指の膜厚TC1は電極指ピッチPC1に対して40%以下(すなわちTC1≦0.40×PC1)であることが好ましい。また、同様の理由から、並列腕共振子p1において、電極指の膜厚Tp1は電極指ピッチPp1に対して40%以下(すなわちTp1≦0.40×Pp1)であることが好ましい。また、電極指の膜厚TC1の下限については特に限定されないが、例えば、電極指ピッチPC1の15%以上(すなわち0.15×PC1≦TC1)である。同様に、電極指の膜厚Tp1の下限についても特に限定されないが、例えば、電極指ピッチPp1の15%以上(すなわち0.15×Pp1≦Tp1)である。
 また、容量素子C1の電極デューティは、並列腕共振子p1の電極デューティより大きいことが好ましい。つまり、容量素子C1および並列腕共振子p1は、WC1/PC1>Wp1/Pp1を満たすことが好ましい。このような構成にすることにより、容量素子C1の単位面積当たりの容量値を大きくすることができるので、小型化および省スペース化が図られる。
 なお、各素子(直列腕共振子s1~s3、並列腕共振子p1~p3、容量素子C1~C3等)において、電極指ピッチ、膜厚および電極デューティ等は、均一とは限らず、製造プロセス等によるばらつきによって不均一となっている、あるいは、特性等の調整のために不均一となっている場合がある。このため、容量素子C1と並列腕共振子p1とは、これらを構成する櫛歯容量電極131およびIDT電極121の一部が上述した電極指ピッチ、膜厚および電極デューティ等の関係を満たさない場合もある。つまり、容量素子C1と並列腕共振子p1との間の上述した電極指ピッチ、膜厚および電極デューティの関係は、概ね成立していればよく、例えば、容量素子C1の平均値と並列腕共振子p1の平均値との間で成立していればよい。
 [1.4 電極指の詳細構造]
 ここでは、IDT電極、反射器、および櫛歯容量電極を構成する複数の電極指が、複数の金属膜の積層体で構成されている場合について説明する。なお、以下の説明では、各IDT電極および各櫛歯容量電極は、膜厚が異なる点を除いて共通の電極膜101によって構成されているとしているが、構造または組成等が互いに異なる電極膜によって構成されていてもよい。
 図4Aは、実施の形態1におけるIDT電極の電極指および櫛歯容量電極の電極指を構成する電極膜101およびその周囲の構造の断面図である。また、図4Bは、実施の形態1におけるIDT電極の電極指および櫛歯容量電極の電極指を構成する電極膜101およびその周囲の構造の他の一例の断面図である。
 図4Aに示すように、電極膜101は、基板102側から順に、NiCrからなる金属膜211、Ptからなる金属膜212、Tiからなる金属膜213、AlCuからなる金属膜214、および、Tiからなる金属膜215が積層されることによって形成されている。このとき、基板102は、例えば、LiNbO圧電単結晶からなる。
 また、電極膜101は、当該電極膜101を外部環境から保護するとともに、周波数温度特性を調整する、および、耐湿性を高めるなどを目的とする保護膜によって覆われている。当該保護膜は、本実施の形態では、基板102側から順に、SiOからなる保護膜103、および、SiNからなる保護膜104が積層されることにより形成されている。
 なお、電極膜101と基板102の間には、図4Bに示すように電気機械結合係数の調整膜103aが設けられていてもかまわない。電気機械結合係数の調整膜103aは、SiOからなる。
 なお、図4Aおよび図4Bでは、保護膜103と保護膜104とを、まとめて保護膜105(既に図3に図示)としている。
 Ptからなる金属膜212は、積層体を構成する複数の金属膜211~215のうち最も高密度の金属膜である。また、金属膜211、213、214および215は、最も高密度の金属膜212以外の金属膜を構成する。
 上記実施の形態1に係るフィルタ10は、IDT電極および櫛歯容量電極を構成する複数の電極指が単層の金属膜で構成されているものとして、並列腕共振子p1、p2およびp3の保護膜105の膜厚が、直列腕共振子s1、s2およびs3の保護膜105の膜厚よりも薄いという特徴を有するものとしている。
 なお、図4Aおよび図4Bに示された電極膜101の構成は一例であり、これらに限らない。前述したように、電極膜101は、金属膜の積層構造でなく、金属膜の単層であってもよい。また、各金属膜および各保護膜を構成する材料は、上述した材料に限定されない。また、電極膜101は、例えば、Ti、Al、Cu、Pt、Au、Ag、Pdなどの金属または合金から構成されてもよく、上記の金属または合金から構成される複数の積層体から構成されてもよい。また、基板102は、例えば、LiTaO圧電単結晶、KNbO圧電単結晶、水晶、または圧電セラミックスからなってもかまわない。また、保護膜103、104、103b、および電気機械結合係数の調整膜103aの構成は、上述の構成に限らず、例えば、SiO、SiN、AlN、ポリイミド、もしくはこれらの積層体などの誘電体もしくは絶縁体で構成されてもかまわない。また、保護膜103および104のいずれか一方は、形成されていなくてもよい。
 [1.5 フィルタの共振特性]
 次に、弾性波共振子を構成する保護膜の膜厚を変化させた場合の共振特性について説明する。
 図5Aは、保護膜の膜厚を変化させたときの弾性表面波共振子の共振特性を示すグラフである。また、図5Bは、保護膜の膜厚を変化させたときの基本モードによる共振周波数、反共振周波数および比帯域幅を示すグラフである。また、図5Cは、保護膜の膜厚を変化させたときの高次モードによる高次共振周波数、高次反共振周波数および比帯域幅を示すグラフである。また、図5Dは、保護膜の膜厚を変化させたときの第1比帯域幅および第2比帯域幅を示すグラフである。
 図5Aには、-10°YカットX伝搬LiNbO圧電単結晶を用いた基板102と、図4Aに示された電極膜101と、保護膜105とで構成されたIDT電極を有する弾性表面波共振子において、保護膜105の膜厚を変化させた場合の共振特性が示されている。
 図5Aに示すように、保護膜105を厚くするほど、基本モードの比帯域幅は狭くなる。また、保護膜105を厚くするほど、高次モードによる高次共振周波数および高次反共振周波数が低周波側にシフトするとともに、高次モードのレスポンス(高次モード共振周波数fr2のインピーダンスと高次モード反共振周波数fa2のインピーダンスとの差)が大きくなることが分かる。
 図5Bに示すように、保護膜105の膜厚を厚くするほど、基本モードの共振周波数(fr1)は高周波側にシフトし、基本モードの反共振周波数(fa1)は低周波側にシフトし、基本モードの比帯域幅は小さくなる。
 また、図5Cに示すように、保護膜105の膜厚を厚くするほど、高次モードの高次共振周波数(fr2)および高次反共振周波数(fa2)は低周波側にシフトするとともに、高次モードの比帯域幅は大きくなる。
 また、図5Dに示すように、保護膜105の膜厚を厚くするほど、第1比帯域幅および第2比帯域幅は小さくなる。
 図5A~図5Dの結果より、保護膜105の膜厚を変化させた場合、基本モードの比帯域幅、第1比帯域幅および第2比帯域幅が変化する。
 これにより、本実施の形態に係るフィルタ10では、並列腕共振子p1~p3の基本モードの反共振周波数をフィルタ10の通過帯域内に配置する。さらに、フィルタ10の周波数可変幅を大きく確保するために、並列腕共振子p1~p3の基本モードの比帯域幅を大きくすることが必要になるため、並列腕共振子p1~p3のIDT電極121、123および125に形成される保護膜105の膜厚は薄いほうが望ましい。また、保護膜105の膜厚が薄いほうが、高次モードの比帯域幅が小さくなり高次モードのレスポンスが小さくなるとともに、第1比帯域幅および第2比帯域幅が大きくなる。
 一方、直列腕共振子s1~s3の基本モードの共振周波数をフィルタ10の通過帯域内に配置する。ただし、直列腕共振子s1~s3は周波数可変の機能を付加しないため、基本モードの比帯域幅を小さくして通過帯域近傍の急峻性を高めることが必要になる。そのため、保護膜105の膜厚は厚いほうが望ましい。
 以上より、並列腕共振子p1~p3の保護膜105の膜厚を直列腕共振子s1~s3の保護膜105の膜厚より薄くすることで、周波数可変幅を大きくするとともに、通過帯域近傍の急峻性を高めることができる。さらに、並列腕共振子p1~p3における第1比帯域幅は、直列腕共振子s1~s3における第1比帯域幅より大きく、並列腕共振子p1~p3における第2比帯域幅は、直列腕共振子s1~s3における第2比帯域幅より大きくすることができる。このため、直列腕共振子s1~s3における高次反共振周波数と並列腕共振子における高次共振周波数との周波数差を小さくできるので、減衰量が大きくなり、フィルタ10の通過帯域より高周波側の減衰特性が向上する。
 [1.6 フィルタの通過特性]
 ここでは、実施の形態1(実施例)に係るフィルタ10の通過特性について、比較例に係るフィルタの通過特性と比較しながら説明する。
 本実施例に係るフィルタ10において、基板102は、-10°YカットX伝搬LiNbO圧電単結晶を用いた。
 また、本実施例に係るフィルタ10は、LTE通信規格のBand11の受信帯域(1475.9-1495.9MHz)とBand21の受信帯域(1495.9-1510.9MHz)とを可変するフィルタである。
 本実施例に係るフィルタ10では、並列腕共振子p1~p3の保護膜105の膜厚を、直列腕共振子s1~s3の保護膜105の膜厚より薄くしている。具体的には、並列腕共振子p1~p3および直列腕共振子s1~s3の保護膜として、SiOを用い、並列腕共振子p1~p3の保護膜の膜厚を650nmとし、直列腕共振子s1~s3の保護膜の膜厚を750nmとしている。
 一方、比較例に係るフィルタでは、実施例に係るフィルタ10と比較して、並列腕共振子p1~p3の保護膜の膜厚(SiO膜厚:750nm)が直列腕共振子s1~s3の保護膜の膜厚(SiO膜厚:750nm)と同じである点が異なる。なお、上述したように、比較例に係るフィルタにおける並列腕共振子p1~p3の保護膜の膜厚は、実施例に係るフィルタ10における並列腕共振子p1~p3の保護膜の膜厚と異なっている。この膜厚の差異のみによれば、並列腕共振子p1~p3の共振周波数および反共振周波数は、実施例に係るフィルタ10と比較例に係るフィルタとで異なってしまう。しかしながら、これについては、並列腕共振子p1~p3の波長λを調整することにより、実施例に係るフィルタ10と比較例に係るフィルタとの間で、基本モードの共振点および反共振点の周波数関係を同条件としている。
 図6Aは、実施例に係るフィルタ10のスイッチオン時の通過特性(Band11-Rx)を表すグラフである。また、図6Bは、実施例に係るフィルタ10のスイッチオフ時の通過特性(Band21-Rx)を表すグラフである。また、図6Cは、実施例に係るフィルタ10のスイッチオン時およびオフ時の通過特性を比較したグラフである。
 一方、図7Aは、比較例に係るフィルタのスイッチオン時の通過特性(Band11-Rx)を表すグラフである。また、図7Bは、比較例に係るフィルタのスイッチオフ時の通過特性(Band21-Rx)を表すグラフである。また、図7Cは、比較例に係るフィルタのスイッチオン時およびオフ時の通過特性を比較したグラフである。
 さらに、図8Aは、実施例および比較例に係るフィルタのスイッチオン時の通過特性(Band11-Rx)を比較したグラフである。また、図8Bは、実施例および比較例に係るフィルタのスイッチオフ時の通過特性(Band21-Rx)を比較したグラフである。
 図6Aと図7Aとを比較して、実施例と比較例とで通過帯域内の挿入損失(図中マーカm1およびマーカm2)はほぼ同じであり、通過帯域近傍の低域減衰帯域の減衰量(図中マーカm3およびマーカm4)もほぼ同じである。また、図6Bと図7Bとを比較して、実施例と比較例とで通過帯域内の挿入損失(図中マーカm1およびマーカm2)はほぼ同じであり、通過帯域近傍の低域減衰帯域の減衰量(図中マーカm3およびマーカm4)もほぼ同じである。
 これに対して、図8Aおよび図8Bに示すように、通過帯域よりも高周波側の高次モード共振周波数付近(図中破線内)では、比較例よりも実施例のほうが、減衰量が大きくなっている。なお、この高次モード共振は、SH波の高次モードを主体とするものである。つまり、実施例に係るフィルタ10は、比較例に係るフィルタと比較して、通過帯域挿入損失およびその近傍における減衰量を維持しつつ、通過帯域よりも高周波側の減衰特性を向上させている。この要因について、図9Aおよび図9Bを用いて説明する。
 図9Aは、実施例に係るフィルタ10の広帯域(1.3GHz~2.0GHz)における共振特性および通過特性を示すグラフである。また、図9Bは、実施例に係るフィルタ10の高域側減衰帯域(1.8GHz~1.9GHz)における共振特性および通過特性を示すグラフである。
 図9Aの(a)は、直列腕共振子s1~s3の共振特性を表しており、図9Aの(b)は、並列腕共振子p1~p3のスイッチオン時の共振特性を表しており、図9Aの(c)は、並列腕共振子p1~p3のスイッチオフ時の共振特性を表しており、図9Aの(d)は、フィルタ10のスイッチオン時およびオフ時の通過特性の比較を表している。これに対して、図9Bの(a)~(d)は、それぞれ、図9Aの(a)~(d)における高次モード共振発生帯域を拡大したものに対応している。図9Bの(a)~(c)を比較すると、直列腕共振子s1~s3における高次モードの共振発生点よりも、並列腕共振子p1~p3における高次モードの共振発生点が、高周波側へシフトしていることが解る。
 つまり、実施例に係るフィルタ10では、並列腕共振子p1~p3の保護膜105の膜厚(SiO膜厚:650nm)を、直列腕共振子s1~s3の保護膜105の膜厚(SiO膜厚:750nm)よりも薄くしたことにより、並列腕共振子の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔が、直列腕共振子の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔よりも大きくなっている。これにより、並列腕共振子の高次モード共振発生点の周波数と直列腕共振子の高次モード共振発生点の周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 なお、フィルタ10は、スイッチSW1~SW3を共にオン/オフしなくてもよく、これらを個別にオン/オフしてもかまわない。ただし、スイッチSW1~SW3を共にオン/オフする場合、スイッチSW1~SW2を制御する制御線の本数を削減できるため、フィルタ10の構成の簡素化が図られる。
 [1.7 可変フィルタ回路の変形例]
 本実施の形態に係るフィルタ10および10Zの構成は、他のチューナブルフィルタの構成に適用することができる。そこで、以下、本実施の形態に係るフィルタの変形例として、他のチューナブルフィルタの構成およびフィルタ特性について説明する。
 なお、以下の変形例1~5に示すフィルタの回路構成では、1つの直列腕共振子と1つまたは2つの並列腕共振子とが組み合わされたラダー型回路を例示するが、フィルタ10および10Zの関係のように、変形例1~5に示すフィルタ回路を複数段有するフィルタも、本発明に係るフィルタに含まれる。
 [1.7.1 フィルタ回路の変形例1]
 上記実施の形態では、インピーダンス回路11としてスイッチSW1と容量素子C1との並列接続回路を例に説明した。しかし、インピーダンス回路は、このような構成に限らない。
 図10Aは、実施の形態1の変形例1に係るフィルタ10Dの回路構成の一部を示す図である。
 同図に示すフィルタ10Dは、図2Aに示すフィルタ10Zに比べて、さらに、スイッチSWに直列接続されたインダクタLを有する。つまり、本変形例では、スイッチSWとインダクタLとが直列接続された回路が容量素子C1に並列接続されることにより、インピーダンス回路11Dが構成されている。また、当該インピーダンス回路11Dが並列腕共振子p1(第2弾性波共振子)に接続されることにより、並列腕共振回路21Dが構成されている。
 なお、スイッチSWとインダクタLとの接続順序は特に限定されず、図10Aの接続順序と逆であってもかまわない。
 図10Bは、実施の形態1の変形例1に係るフィルタ10Dの通過特性を表すグラフである。具体的には、同図は、スイッチSWオン/オフ時の通過特性を比較して表すグラフである。
 フィルタ10Dでは、並列腕共振回路21Dの反共振周波数と直列腕共振子s1の共振周波数とを近接させて、通過帯域を形成する。
 このとき、本変形例では、並列腕共振子p1に対して、スイッチSWオン時にはインダクタLが付加され、スイッチSWオフ時には容量素子C1が付加される。このため、並列腕共振回路21Dの共振周波数は、スイッチSWオフ時に並列腕共振子p1単体の共振周波数よりも低域側にシフトし、スイッチSWオフ時に並列腕共振子p1単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。よって、同図に示すように、本変形例に係るフィルタ10Dは、実施の形態1に係るフィルタ10Zに比べて、通過帯域の周波数可変幅を広げることができる。
 これに関し、フィルタ10Dの通過帯域の周波数可変幅は、容量素子C1およびインダクタLの定数に依存し、例えばインダクタの定数が大きいほど周波数可変幅が広くなる。このため、インダクタLの定数は、フィルタ10Dに要求される周波数仕様に応じて、適宜決定され得る。また、インダクタは、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)を用いた可変インダクタであってもかまわない。これにより、周波数可変幅を細かく調整することが可能となる。
 上述したフィルタ10Dにおいて、並列腕共振子p1の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1の保護膜105の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔が、直列腕共振子s1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔よりも大きくなる。これにより、並列腕共振子p1の高次モード共振発生点の周波数と直列腕共振子s1の高次モード共振発生点の周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 なお、容量素子C1とインダクタLとは逆に設けられていてもかまわない。すなわち、スイッチSWと容量素子C1とが直列接続された回路がインダクタLに並列接続されていてもかまわない。このような構成によれば、変形例1に係るフィルタ10Dに比べて、スイッチSWをオン/オフしたときの減衰極のシフト方向が反対となる。
 [1.7.2 フィルタ回路の変形例2]
 上記実施の形態1およびその変形例1では、ノードx1とグランドとの間には、1つの並列腕共振子p1(第2弾性波共振子)が設けられていた。しかし、ノードx1とグランドとの間には、並列腕共振子p1と異なる並列腕共振子(第3弾性波共振子)が設けられていてもかまわない。
 図11Aは、実施の形態1の変形例2に係るフィルタ10Eの回路構成図である。
 同図に示すフィルタ10Eは、図2Aに示すフィルタ10Zが備える並列腕共振回路21に代わり、並列腕共振回路21Eを備える。この並列腕共振回路21Eは、並列腕共振回路21に比べて、さらに、ノードx1とグランドとの間に接続され、当該並列腕共振子p1とは共振周波数および反共振周波数が異なる並列腕共振子p2(第3弾性波共振子)を有する。つまり、並列腕共振子p1と並列腕共振子p2とは、入出力端子11mと入出力端子11nとを結ぶ直列腕上の1つのノードx1に接続されている。これにより、フィルタ10Eは、通過帯域低域側の減衰極および通過帯域高域側の減衰極の少なくとも一方を周波数シフトすることができる。ここで、「1つのノード」とは、伝送線路上の1点だけでなく、共振子またはインピーダンス素子を介さずに1つの伝送線路上に位置する異なる2点も含まれる。
 具体的には、並列腕共振子p2は、並列腕共振子p1よりも共振周波数および反共振周波数が高く、インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p1のみに直列接続されている。つまり、並列腕共振子p2は、並列腕共振子p1とインピーダンス回路11とが直列接続された回路に対して並列接続されている。
 このように構成された並列腕共振回路21Eは、並列腕共振子p1およびp2それぞれの共振周波数において、インピーダンスが極小となる。つまり、並列腕共振回路21Eは、2つの共振周波数を有する。また、並列腕共振回路21Eは、当該2つの共振周波数の間の周波数帯域、および、当該2つの共振周波数よりも高域側の周波数帯域において、インピーダンスが極大となる。つまり、並列腕共振回路21Eは、2つの反共振周波数を有する。
 図11Bは、実施の形態1の変形例2に係るフィルタ10Eの通過特性を表すグラフである。具体的には、同図は、スイッチSWオン/オフ時の通過特性を比較して表すグラフである。
 フィルタ10Eでは、並列腕共振回路21Eの2つの反共振周波数のうち低域側の反共振周波数と直列腕共振回路(本変形例では直列腕共振子s1)の共振周波数とを近接させて、通過帯域を形成する。
 このとき、本変形例では、並列腕共振子p1に対して、スイッチSWオフ時のみ、容量素子C1が付加される。このため、並列腕共振回路21Eの2つの共振周波数のうち低域側の共振周波数は、スイッチSWオフ時に並列腕共振子p1単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。また、並列腕共振回路21Eの低域側の反共振周波数は、スイッチSWオフ時にスイッチSWオン時よりも高域側にシフトすることになる。ここで、フィルタ10Eの通過帯域低域側の減衰極は、並列腕共振回路21Eの低域側の反共振周波数によって規定される。また、当該通過帯域低域側の減衰スロープの急峻度は、並列腕共振回路21Eの低域側の共振周波数と低域側の反共振周波数との差分周波数によって規定される。よって、同図に示すように、フィルタ10Eは、スイッチSWがオンからオフに切り替わることにより、通過帯域低域側の減衰極を高域側にシフトさせつつ、通過帯域低域側の肩を落とすことなく通過帯域を高域側にシフトさせることができる。
 上述したフィルタ10Eにおいて、並列腕共振子p1の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1の保護膜105の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔が、直列腕共振子s1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔よりも大きくなる。これにより、並列腕共振子p1の高次モード共振発生点の周波数と直列腕共振子s1の高次モード共振発生点の周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 [1.7.3 フィルタ回路の変形例3]
 上記実施の形態1の変形例2では、インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p1のみに直列接続されていた。しかし、インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p2のみに直列接続されていてもかまわない。
 つまり、上記実施の形態1ならびに変形例1および2では、他の弾性波共振子を介することなく容量素子C1と接続される第2弾性波共振子として、フィルタの通過帯域より低域側に共振周波数を有する並列腕共振子p1を例に説明した。これに対し、本変形例では、第2弾性波共振子として、フィルタの通過帯域より高域側に共振周波数を有する並列腕共振子p2を例に説明する。
 図12Aは、実施の形態1の変形例3に係るフィルタ10Fの回路構成図である。
 同図に示すフィルタ10Fは、図11Aに示すフィルタ10Eの並列腕共振回路21Eに代わり、インピーダンス回路11が並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p2のみに直列接続されている並列腕共振回路21Fを備える。
 つまり、本変形例では、並列腕共振子p2(第2弾性波共振子)よりも共振周波数および反共振周波数が低い並列腕共振子p1が、並列腕共振子p2と並列接続され、当該並列腕共振子p2とは共振周波数および反共振周波数が異なる第3弾性波共振子に相当する。
 図12Bは、実施の形態1の変形例3に係るフィルタ10Fの通過特性を表すグラフである。具体的には、同図は、スイッチSWオン/オフ時の通過特性を比較して表すグラフである。
 フィルタ10Fでは、フィルタ10Eと同様に、並列腕共振回路21Fの2つの反共振周波数のうち低域側の反共振周波数と直列腕共振子s1の共振周波数とを近接させて、通過帯域を形成する。
 このとき、本変形例では、並列腕共振子p2に対して、スイッチSWオフ時のみ、容量素子C1が付加される。このため、並列腕共振回路21Fの2つの共振周波数のうち高域側の共振周波数は、スイッチSWオフ時に並列腕共振子p2単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。また、並列腕共振回路21Fの低域側の反共振周波数は、スイッチSWオフ時にスイッチSWオン時よりも高域側にシフトすることになる。ここで、フィルタ10Fの通過帯域高域側の減衰極は、並列腕共振回路21Fの高域側の反共振周波数によって規定される。また、当該通過帯域高域側の減衰スロープの急峻度は、並列腕共振回路21Fの高域側の共振周波数と低域側の反共振周波数との差分周波数によって規定される。よって、同図に示すように、フィルタ10Fは、スイッチSWがオンからオフに切り替わることにより、通過帯域高域側の減衰極を高域側にシフトさせつつ、通過帯域低域側の肩を落とすことなく通過帯域を高域側にシフトさせることができる。
 上述したフィルタ10Fにおいて、並列腕共振子p2の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1の保護膜105の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p2の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔が、直列腕共振子s1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔よりも大きくなる。これにより、並列腕共振子p2の高次モード共振発生点の周波数と直列腕共振子s1の高次モード共振発生点の周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 [1.7.4 フィルタ回路の変形例4]
 上記実施の形態1の変形例2では、フィルタ10Eは、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p1のみに直列接続されたインピーダンス回路11を備えた。また、上記実施の形態1の変形例3では、フィルタ10Fは、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p2のみに直列接続されたインピーダンス回路11を備えた。しかし、弾性波フィルタは、このようなインピーダンス回路11の双方を備えてもかまわない。
 図13Aは、実施の形態1の変形例4に係るフィルタ10Gの回路構成図である。
 同図に示すフィルタ10Gは、図11Aに示すフィルタ10Eが備えるインピーダンス回路11に相当するインピーダンス回路11a、および、図12Aに示すフィルタ10Fが備えるインピーダンス回路11に相当するインピーダンス回路11b、の双方を備える。つまり、本変形例における並列腕共振回路21Gは、並列腕共振子p1およびp2(第2弾性波共振子および第3弾性波共振子)のうち一方のみに直列接続されたインピーダンス回路11aと、並列腕共振子p1およびp2(第2弾性波共振子および第3弾性波共振子)のうち他方のみに直列接続されたインピーダンス回路11bと、を備える。
 図13Bは、実施の形態1の変形例4に係るフィルタ10Gの通過特性を表すグラフである。具体的には、同図は、スイッチSW1およびSW2共にオン/共にオフ時の通過特性を比較して表すグラフである。
 本変形例では、並列腕共振子p1に対して、スイッチSW1オフ時のみ、容量素子C1aが付加される。また、並列腕共振子p2に対して、スイッチSW2オフ時のみ、容量素子C1bが付加される。このため、並列腕共振回路21Gの2つの共振周波数のうち低域側の共振周波数は、スイッチSW1オフ時に並列腕共振子p1単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。また、並列腕共振回路21Gの2つの共振周波数のうち高域側の共振周波数は、スイッチSW2オフ時に並列腕共振子p2単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。また、並列腕共振回路21Gの低域側の反共振周波数は、スイッチSW1およびSW2の少なくとも一方のオフ時にスイッチSW1およびSW2双方のオン時よりも高域側にシフトすることになる。
 よって、同図に示すように、フィルタ10Gは、スイッチSW1およびSW2が共にオンからオフに切り替わることにより、通過帯域高域側および通過帯域低域側の減衰極を高域側にシフトさせつつ、通過帯域高域側および通過帯域低域側の肩を落とすことなく通過帯域を高域側にシフトさせることができる。このため、フィルタ10Gは、例えば、帯域幅を維持しつつ、中心周波数をシフトすることができる。
 なお、フィルタ通過特性の観点からは、インピーダンス回路11aおよび11bが容量素子C1aおよびC1bを有することが好ましいが、フィルタ10Gに要求される通過特性およびサイズ等を勘案して、インピーダンス回路11aおよび11bの一方は、櫛歯容量に代わり、例えば基板102上に積層された構成された容量、あるいは、バリキャップおよびDTC(Digital Tunable Capacitor)等の可変キャパシタを有してもかまわない。
 また、フィルタ10Gは、スイッチSW1およびSW2を共にオン/オフしなくてもよく、これらを個別にオン/オフしてもかまわない。ただし、スイッチSW1およびSW2を共にオン/オフする場合、スイッチSW1およびSW2を制御する制御線の本数を削減できるため、フィルタ10Gの構成の簡素化が図られる。
 一方、これらを個別にオン/オフする場合、フィルタ10Gによって切り替え可能な通過帯域のバリエーションを増やすことができる。
 具体的には、並列腕共振子p2に直列接続されたスイッチSW2のオンおよびオフに応じて、通過帯域の高域端を可変することができる。また、並列腕共振子p1に直列接続されたスイッチSW1のオンおよびオフに応じて、通過帯域の低域端を可変することができる。
 したがって、スイッチSW1およびSW2を共にオンまたは共にオフすることにより、通過帯域の低域端および高域端を共に低域側または高域側にシフトすることができる。すなわち、通過帯域の中心周波数を低域側または高域側にシフトすることができる。また、スイッチSW1およびSW2の一方をオンからオフにするとともに他方をオフからオンにすることにより、通過帯域の低域端および高域端の双方をこれらの周波数差が広がるまたは狭まるようにシフトすることができる。すなわち、通過帯域の中心周波数を略一定にしつつ、通過帯域幅を可変することができる。また、スイッチSW1およびSW2の一方をオンまたはオフとした状態で他方をオンおよびオフすることにより、通過帯域の低域端および高域端の一方を固定した状態で他方を低域側または高域側にシフトすることができる。すなわち、通過帯域の低域端または高域端を可変することができる。
 このように、フィルタ10Gは、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p1のみに直列接続されたインピーダンス回路11aと、並列腕共振子p1および並列腕共振子p2のうち並列腕共振子p2のみに直列接続されたインピーダンス回路11bと、を備えることにより、通過帯域を可変する自由度を高めることができる。
 上述したフィルタ10Gにおいて、並列腕共振子p1およびp2の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1の保護膜105の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1およびp2の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔が、直列腕共振子s1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔よりも大きくなる。これにより、並列腕共振子p1およびp2の高次モード共振発生点の周波数と直列腕共振子s1の高次モード共振発生点の周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 [1.7.5 フィルタ回路の変形例5]
 上記実施の形態1の変形例2では、インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1およびp2のうち並列腕共振子p1のみに直列接続された。また、上記実施の形態1の変形例3では、インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1およびp2のうち並列腕共振子p2のみに直列接続された。しかし、インピーダンス回路11は、並列腕共振子p1と並列腕共振子p2とが並列接続された回路に対して直列接続されてもかまわない。
 図14Aは、実施の形態1の変形例5に係るフィルタ10Hの回路構成図である。
 同図に示すフィルタ10Hは、並列腕共振子p1と並列腕共振子p2とが並列接続された回路に対して直列接続されているインピーダンス回路11を有する並列腕共振回路21Hを備える。
 図14Bは、実施の形態1の変形例5に係るフィルタ10Hの通過特性を表すグラフである。具体的には、同図は、スイッチSWオン/オフ時の通過特性を比較して表すグラフである。
 フィルタ10Hでは、フィルタ10Eと同様に、並列腕共振回路21Hの2つの反共振周波数のうち低域側の反共振周波数と直列腕共振回路(本変形例では直列腕共振子s1)の共振周波数とを近接させて、通過帯域を形成する。
 このとき、本変形例では、並列腕共振子p1およびp2の双方に対して、スイッチSWオフ時のみ、容量素子C1が付加される。このため、並列腕共振回路21Hの2つの共振周波数のうち低域側の共振周波数は、スイッチSWオフ時に並列腕共振子p1単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。また、並列腕共振回路21Hの2つの共振周波数のうち高域側の共振周波数は、スイッチSWオフ時に並列腕共振子p2単体の共振周波数よりも高域側にシフトすることになる。ただし、並列腕共振回路21Hの低域側の反共振周波数は、並列腕共振子p1と並列腕共振子p2とが並列接続された回路に対してインピーダンス回路11が直列接続されていることにより、スイッチSWオフ時にシフトしない。よって、同図に示すように、フィルタ10Hは、スイッチSWがオンからオフに切り替わることにより、通過帯域両側の減衰極を共に高域側にシフトさせることができる。
 上述したフィルタ10Hにおいて、並列腕共振子p1およびp2の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1の保護膜105の膜厚よりも薄い。これにより、並列腕共振子p1およびp2の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔が、直列腕共振子s1の基本モード共振点と高次モード共振点との周波数間隔よりも大きくなる。並列腕共振子p1およびp2の高次モード共振発生点の周波数と直列腕共振子s1の高次モード共振発生点の周波数とを近付けることができるので、高次モード発生周波数帯域(通過帯域よりも高周波側の減衰帯域)の減衰特性を向上することが可能となる。
 (実施の形態2)
 本実施の形態では、実施の形態1に係るフィルタを有するマルチプレクサについて示す。
 図15Aは、実施の形態2に係るマルチプレクサ5の回路構成図である。また、図15Bは、実施の形態2に係るマルチプレクサ5を構成する各フィルタの通過特性および各弾性波共振子のインピーダンス特性の概略波形図である。同図に示すように、本実施の形態に係るマルチプレクサ5は、フィルタ10と、フィルタ30と、フィルタ40と、を備える。
 フィルタ10は、実施の形態1に係るフィルタ10である。フィルタ10の並列腕共振子p1~p3の保護膜105の膜厚は、直列腕共振子s1~s3の保護膜105の膜厚より薄い。
 フィルタ30は、入出力端子11mと入出力端子11pとの間に配置された第1フィルタであり、図15Bに示すように、フィルタ30における通過帯域の周波数は、フィルタ10の通過帯域の周波数より高い。
 フィルタ40は、入出力端子11mと入出力端子11qとの間に配置された第2フィルタであり、図15Bに示すように、フィルタ40における通過帯域の周波数は、フィルタ30の通過帯域の周波数より高い。
 フィルタ10、30、および40は、入出力端子11mに共通接続されている。
 フィルタ10は、例えば、LTEのBand11の受信帯域(1475.9-1495.9MHz)とBand21の受信帯域(1495.9-1510.9MHz)とを通過帯域として可変するフィルタである。また、フィルタ30は、例えば、Band3の受信帯域(1805-1880MHz)を通過帯域とするフィルタである。また、フィルタ40は、例えば、Band1の受信帯域(2110-2170MHz)を通過帯域とするフィルタである。
 ここで、フィルタ10の並列腕共振子p1~p3の高次反共振周波数fap2、および、直列腕共振子s1~s3の高次共振周波数frs2は、フィルタ30の通過帯域高域端の周波数より高くなるように、フィルタ10の各共振子の波長λ、電極デューティ、電極指膜厚、保護膜の膜厚が設定されている。これにより、フィルタ30における通過帯域内の挿入損失が低減したマルチプレクサ5を実現できる。
 さらに、フィルタ10の並列腕共振子p1~p3の高次反共振周波数fap2、および、直列腕共振子s1~s3の高次共振周波数frs2は、フィルタ40の通過帯域低域端の周波数より低くなるように、フィルタ10の各共振子の波長λ、電極デューティ、電極指膜厚、保護膜の膜厚が設定されている。これにより、フィルタ30における通過帯域内の挿入損失、および、フィルタ40における通過帯域内の挿入損失が低減したマルチプレクサ5を実現できる。
 フィルタ10の保護膜を薄くすると、高次モードの発生周波数を高くすることができる。しかしながら、フィルタ40の通過帯域(例えばBand1受信帯域(2110-2170MHz))の周波数は、フィルタ10の通過帯域(例えばBand21受信帯域(1495.9-1510.9MHz))の周波数から大きく(例えば500MHz以上)離れている。このため、フィルタ10における上記高次モードの発生周波数を、フィルタ40の通過帯域の周波数より高くすることは困難である。なぜなら、保護膜を薄くしすぎると、信頼性(耐環境性能)が低下するとともに、温度特性も悪化するからである。
 上記観点から、フィルタ10の通過帯域の周波数に対して、比較的通過帯域の周波数が近いフィルタ30(例えばBand3受信帯域(1805-1880MHz))と、通過帯域の周波数が離れているフィルタ40(例えばBand1受信帯域(2110-2170MHz))との間の周波数に、上記高次モードの発生周波数を合わせることで、フィルタ30および40の挿入損失を低減するとともに、フィルタ10の信頼性および温度特性を維持することができる。
 なお、本実施の形態に係るマルチプレクサ5は、フィルタ10、30および40を有する構成としたが、フィルタ30および40のいずれか一方のみと、フィルタ10とが共通接続された構成であってもよい。この場合であっても、フィルタ30および40のいずれか一方における通過帯域内の挿入損失を低減できる。
 また、本実施の形態に係るマルチプレクサ5は、実施の形態1に係るフィルタ10を有する構成としたが、フィルタ10に替えて、実施の形態1の適用例であるフィルタ10D~10H、および10Zのいずれかを備える構成としてもよい。この場合であっても、フィルタ30および40における通過帯域内の挿入損失が低減したマルチプレクサ5を実現できる。
 また、マルチプレクサ5には、入出力端子11mと3つのフィルタとの間に、インピーダンス整合回路、移相器、サーキュレータ、および、2以上のフィルタを選択可能なスイッチ素子などが接続されていてもよい。また、フィルタ10と入出力端子11nとの間、フィルタ30と入出力端子11pとの間、および、フィルタ40と入出力端子11qとの間に、インピーダンス整合回路およびスイッチ素子などが配置されていてもよい。
 (実施の形態3)
 実施の形態1で説明したフィルタ(弾性波フィルタ)は、高周波フロントエンド回路等に適用することができる。
 そこで、本実施の形態では、このような高周波フロントエンド回路について説明する。
 図16は、実施の形態3に係る高周波フロントエンド回路1及びその周辺回路の構成図である。同図には、高周波フロントエンド回路1と、アンテナ素子2と、RF信号処理回路(RFIC)3とが示されている。高周波フロントエンド回路1、RFIC3およびアンテナ素子2は、通信装置4を構成している。アンテナ素子2、高周波フロントエンド回路1、およびRFIC3は、例えば、マルチモード/マルチバンド対応の携帯電話のフロントエンド部に配置される。
 アンテナ素子2は、高周波信号を送受信する、例えばLTE等の通信規格に準拠したマルチバンド対応のアンテナである。なお、アンテナ素子2は、例えば通信装置4の全バンドに対応しなくてもよく、低周波数帯域群または高周波数帯域群のバンドのみに対応していてもかまわない。また、アンテナ素子2は、通信装置4に内蔵されていなくてもよい。
 RFIC3は、アンテナ素子2で送受信される高周波信号を処理するRF信号処理回路である。具体的には、RFIC3は、アンテナ素子2から高周波フロントエンド回路1の受信側信号経路を介して入力された高周波信号(ここでは高周波受信信号)を、ダウンコンバートなどにより信号処理し、当該信号処理して生成された受信信号をベースバンド信号処理回路(図示せず)へ出力する。また、RFIC3は、ベースバンド信号処理回路から入力された送信信号をアップコンバートなどにより信号処理し、当該信号処理して生成された高周波信号(ここでは高周波送信信号)を高周波フロントエンド回路1の送信側信号経路(図示せず)に出力する。
 高周波フロントエンド回路1は、アンテナ素子2とRFIC3との間で高周波信号を伝達する回路である。具体的には、高周波フロントエンド回路1は、RFIC3から出力された高周波信号(ここでは高周波送信信号)を、送信側信号経路(図示せず)を介してアンテナ素子2に伝達する。また、高周波フロントエンド回路1は、アンテナ素子2で受信された高周波信号(ここでは高周波受信信号)を、受信側信号経路を介してRFIC3に伝達する。本実施の形態では、実施の形態1に係るフィルタが高周波フロントエンド回路1の受信側信号経路に設けられている構成について説明するが、当該フィルタは高周波フロントエンド回路1の送信側信号経路に設けられていてもかまわない。
 高周波フロントエンド回路1は、アンテナ素子2側から順に、複数のスイッチにより構成されるスイッチ群110と、複数のフィルタにより構成されるフィルタ群120と、スイッチ群150と、受信増幅回路群160とを備える。
 スイッチ群110は、制御部(図示せず)からの制御信号にしたがって、アンテナ素子2と所定のバンドに対応する信号経路とを接続する1以上のスイッチ(本実施の形態では複数のスイッチ)によって構成される。なお、アンテナ素子2と接続される信号経路は1つに限らず、複数であってもかまわない。つまり、高周波フロントエンド回路1は、キャリアアグリゲーションに対応してもかまわない。
 フィルタ群120は、1以上のフィルタによって構成され、本実施の形態では、例えば次の複数のフィルタによって構成される。具体的には、当該帯域は、(i)Band11、21および32に対応可能なチューナブルフィルタ、(ii)Band3、および、Band3と9とのCA(キャリアアグリゲーション)に対応可能なチューナブルフィルタ、(iii)Band25に対応するフィルタ、(iv)Band34に対応するフィルタ、(v)Band1、4、65および66に対応するフィルタ、(vi)Band40に対応するチューナブルフィルタ、(vii)Band30に対応するフィルタ、(viii)Band41に対応するフィルタ、ならびに、(ix)Band7、および、Band7と38とのCAに対応可能なチューナブルフィルタ、である。
 スイッチ群150は、制御部(図示せず)からの制御信号にしたがって、所定のバンドに対応する信号経路と、受信増幅回路群160のうち当該所定のバンドに対応する受信増幅回路とを接続する1以上のスイッチ(本実施の形態では複数のスイッチ)によって構成される。なお、アンテナ素子2と接続される信号経路は1つに限らず、複数であってもかまわない。つまり、高周波フロントエンド回路1は、キャリアアグリゲーションに対応してもかまわない。これにより、アンテナ素子2から入力された高周波信号(ここでは高周波受信信号)は、フィルタ群120の所定のフィルタを介して、受信増幅回路群160の所定の受信増幅回路で増幅されて、RFIC3に出力される。なお、ローバンドに対応するRFICとハイバンドに対応するRFICとが個別に設けられていてもかまわない。
 受信増幅回路群160は、スイッチ群150から入力された高周波受信信号を電力増幅する1以上のローノイズアンプ(本実施の形態では複数のローノイズアンプ)によって構成される。
 このように構成された高周波フロントエンド回路1は、少なくとも1つのチューナブルフィルタとして、実施の形態1の適用例におけるフィルタ10、10D~10H、および10Zのいずれかを備える。これによれば、通過帯域よりも高周波側の減衰特性を向上させることができ、バンドごとにフィルタを設ける場合に比べてフィルタの個数が削減されるので小型化することができる。
 (その他の実施の形態)
 以上、本発明の実施の形態に係る弾性波フィルタ、マルチプレクサ、および高周波フロントエンド回路について、実施の形態1~3を挙げて説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。上記実施の形態における任意の構成要素を組み合わせて実現される別の実施の形態や、上記実施の形態に対して本発明の主旨を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例や、本発明に係る弾性波フィルタ、マルチプレクサ、および高周波フロントエンド回路を内蔵した各種機器も本発明に含まれる。
 例えば、上述した高周波フロントエンド回路1とRFIC3(RF信号処理回路)とを備える通信装置4も本発明に含まれる。このような通信装置4によれば、通過帯域よりも高周波側の減衰特性を向上させることができる。
 また、上述したフィルタを備えるデュプレクサ等のマルチプレクサも本発明に含まれる。つまり、複数のフィルタが共通接続されたマルチプレクサにおいて、少なくとも1つのフィルタは上述したいずれかのフィルタであってもかまわない。
 また、フィルタを構成する弾性波共振子のうち、櫛歯容量と他の弾性波共振子を介することなく接続される弾性波共振子(第2弾性波共振子)を除く1以上の弾性波共振子の少なくとも1つは、バルク波または弾性境界波を用いた弾性波共振子によって構成されていてもかまわない。
 また、例えば、上記弾性波フィルタ、高周波フロントエンド回路および通信装置において、各構成要素の間に、インダクタやキャパシタなどの回路素子が接続されていてもかまわない。なお、当該インダクタには、各構成要素間を繋ぐ配線による配線インダクタが含まれてもよい。
 本発明は、高周波側の減衰特性に優れたフィルタ、マルチプレクサ、フロントエンド回路および通信装置として、携帯電話などの通信機器に広く利用できる。
 1  高周波フロントエンド回路
 2  アンテナ素子
 3  RFIC(RF信号処理回路)
 4  通信装置
 5  マルチプレクサ
 10、10D、10E、10F、10G、10H、10Z  フィルタ(弾性波フィルタ)
 11、11a、11b、11D、12、13  インピーダンス回路
 11m、11n、11p、11q  入出力端子
 21、21D、21E、21F、21G、21H、22、23  並列腕共振回路
 30、40  フィルタ
 101  電極膜
 102  基板
 103、104、105  保護膜
 103a  調整膜
 110、150  スイッチ群
 111、113、115、121、123、125  IDT電極
 112、114、116、122、124、126  反射器
 120  フィルタ群
 131、132、133  櫛歯容量電極
 160  受信増幅回路群
 211、212、213、214、215  金属膜
 C1、C1a、C1b、C2、C3  容量素子
 L  インダクタ
 p1、p2、p3  並列腕共振子
 s1、s2、s3  直列腕共振子
 SW、SW1、SW2、SW3  スイッチ(スイッチ素子)

Claims (13)

  1.  弾性波フィルタであって、
     高周波信号を入出力する第1入出力端子および第2入出力端子と、
     前記第1入出力端子と前記第2入出力端子とを結ぶ第1経路に設けられた、第1弾性波共振子を有する直列腕共振回路と、
     前記第1経路のノードとグランドとを結ぶ第2経路に設けられた、第2弾性波共振子を有する並列腕共振回路と、を備え、
     前記並列腕共振回路は、
     第2弾性波共振子を有し、
     前記第1弾性波共振子および前記第2弾性波共振子のそれぞれは、
     少なくとも一部に圧電性を有する基板上に形成された複数の電極指からなるIDT電極と、
     前記IDT電極を覆うように形成された保護膜と、を有し、
     前記第2弾性波共振子における前記保護膜の膜厚は、前記第1弾性波共振子における前記保護膜の膜厚よりも薄く、
     前記第1弾性波共振子および前記第2弾性波共振子のそれぞれは、反共振周波数より高周波数に、高次モードによる高次共振周波数および高次反共振周波数を有し、
     弾性波共振子における高次共振周波数と共振周波数との差を、当該弾性波共振子の共振周波数で除した値を第1比帯域幅と定義し、弾性波共振子における高次反共振周波数と反共振周波数との差を、当該弾性波共振子の反共振周波数で除した値を第2比帯域幅と定義した場合、
     前記第2弾性波共振子における前記第1比帯域幅は、前記第1弾性波共振子における前記第1比帯域幅より大きく、
     前記第2弾性波共振子における前記第2比帯域幅は、前記第1弾性波共振子における前記第2比帯域幅より大きい、
     弾性波フィルタ。
  2.  前記第1弾性波共振子における高次反共振周波数と前記第2弾性波共振子における高次共振周波数との周波数差は、前記第1弾性波共振子における反共振周波数と前記第2弾性波共振子における共振周波数との周波数差より小さい、
     請求項1に記載の弾性波フィルタ。
  3.  前記並列腕共振回路は、さらに、
     前記第2弾性波共振子に接続され、前記弾性波フィルタの通過帯域を可変するためのインピーダンス回路を有し、
     前記インピーダンス回路は、
     前記第2弾性波共振子に接続された容量素子と、
     前記第2弾性波共振子とグランドとの間で、前記容量素子と並列接続されたスイッチ素子と、を有する、
     請求項1または2に記載の弾性波フィルタ。
  4.  前記並列腕共振回路は、さらに、第3弾性波共振子を有し、
     前記第3弾性波共振子は、前記ノードと前記グランドとの間で、前記第2弾性波共振子および前記インピーダンス回路が直列接続された回路と並列接続され、
     前記第3弾性波共振子の共振周波数は、前記第2弾性波共振子の共振周波数と異なっており、前記第3弾性波共振子の反共振周波数は、前記第2弾性波共振子の反共振周波数と異なっている、
     請求項3に記載の弾性波フィルタ。
  5.  前記第3弾性波共振子の共振周波数は、前記第2弾性波共振子の共振周波数よりも低く、
     前記第3弾性波共振子の反共振周波数は、前記第2弾性波共振子の反共振周波数よりも低く、
     前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち前記第2弾性波共振子のみに直列接続されている、
     請求項4に記載の弾性波フィルタ。
  6.  前記第3弾性波共振子の共振周波数は、前記第2弾性波共振子の共振周波数よりも高く、
     前記第3弾性波共振子の反共振周波数は、前記第2弾性波共振子の反共振周波数よりも高く、
     前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち前記第2弾性波共振子のみに直列接続されている、
     請求項4に記載の弾性波フィルタ。
  7.  前記並列腕共振回路は、さらに、第3弾性波共振子を有し、
     前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子が並列接続された回路に対して直列接続されている、
     請求項3に記載の弾性波フィルタ。
  8.  前記インピーダンス回路は、前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち一方のみに直列接続されており、
     前記並列腕共振回路は、さらに、前記ノードと前記グランドとの間で前記第2弾性波共振子および前記第3弾性波共振子のうち他方のみに直列接続された他のインピーダンス回路を有する、
     請求項4に記載の弾性波フィルタ。
  9.  前記インピーダンス回路は、さらに、前記スイッチ素子に直列接続されたインダクタを有し、
     前記スイッチ素子と前記インダクタとが直列接続された回路は、前記容量素子に対して並列接続されている、
     請求項3に記載の弾性波フィルタ。
  10.  請求項1~9のいずれか1項に記載の弾性波フィルタと、
     前記第1入出力端子に接続された第1フィルタと、を備え、
     前記第1フィルタにおける通過帯域の周波数は、前記弾性波フィルタの通過帯域の周波数より高く、
     前記第1弾性波共振子における高次共振周波数、および、前記第2弾性波共振子における高次反共振周波数は、前記第1フィルタの通過帯域高域端の周波数より高い、
     マルチプレクサ。
  11.  さらに、前記第1入出力端子に接続された第2フィルタを備え、
     前記第2フィルタにおける通過帯域の周波数は、前記第1フィルタの通過帯域の周波数より高く、
     前記第1弾性波共振子における高次共振周波数、および、前記第2弾性波共振子における高次反共振周波数は、前記第2フィルタの通過帯域低域端の周波数より低い、
     請求項10に記載のマルチプレクサ。
  12.  請求項1~9のいずれか1項に記載の弾性波フィルタと、
     前記弾性波フィルタに接続された増幅回路と、を備える、
     高周波フロントエンド回路。
  13.  アンテナ素子で送受信される高周波信号を処理するRF信号処理回路と、
     前記アンテナ素子と前記RF信号処理回路との間で前記高周波信号を伝達する請求項12に記載の高周波フロントエンド回路と、を備える、
     通信装置。
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