WO2019064786A1 - シンチレータパネル及び放射線検出器 - Google Patents

シンチレータパネル及び放射線検出器 Download PDF

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WO2019064786A1
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scintillator
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resin
radiation detector
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啓輔 後藤
和広 白川
秀典 上西
将志 畑中
晴紀 山路
純 櫻井
楠山 泰
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浜松ホトニクス株式会社
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    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
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    • G21K4/00Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
    • G21K2004/06Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens with a phosphor layer

Definitions

  • the present invention relates to a scintillator panel and a radiation detector.
  • Patent documents 1 to 3 are known as techniques in the relevant field.
  • Patent Document 1 discloses a scintillator panel.
  • the scintillator panel has a metal film provided between the resin substrate and the phosphor layer.
  • Patent Document 2 discloses a radiation detection apparatus provided with a scintillator panel.
  • the scintillator panel has a scintillator layer containing cesium iodide as a main component.
  • the scintillator layer is doped with thallium.
  • the concentration of thallium in the scintillator layer is large near the interface with the substrate. According to the concentration distribution of thallium, the light output is improved.
  • Patent document 3 discloses a radiation detector provided with a phosphor layer.
  • the radiation detector has a scintillator layer mainly composed of cesium iodide.
  • the scintillator layer is doped with thallium.
  • the concentration of thallium in the scintillator layer is larger on the substrate side. According to the concentration distribution of thallium, the adhesion between the sensor substrate and the phosphor layer is improved.
  • the growth substrate on which the scintillator layer is grown may have moisture permeability which transmits moisture.
  • the moisture transmitted through the growth substrate reaches the root of the scintillator layer.
  • Scintillator layers formed of cesium iodide are known to be deliquescent. Water supplied from the growth substrate causes deliquescence at the root of the scintillator layer. As a result, the characteristics of the scintillator panel are degraded. Therefore, in the field, it is desired to improve the moisture resistance of a scintillator panel having a scintillator layer formed of cesium iodide.
  • the scintillator panel of Patent Document 1 has a metal film provided between the substrate and the phosphor layer.
  • the metal film inhibits the movement of water from the resin substrate to the phosphor layer.
  • An object of the present invention is to provide a scintillator panel and a radiation detector which can improve moisture resistance.
  • a scintillator panel which is an embodiment of the present invention includes a substrate, an intermediate layer formed on the substrate and made of an organic material, a barrier layer formed on the intermediate layer and containing thallium iodide as a main component, and the barrier layer. And a scintillator layer composed of a plurality of columnar crystals containing cesium iodide to which thallium is added as a main component.
  • the scintillator layer of the scintillator panel is formed on the substrate via the intermediate layer and the barrier layer.
  • the barrier layer contains thallium iodide as a main component.
  • the barrier layer has the property of being less permeable to moisture. As a result, it is possible to block moisture that is going to move from the intermediate layer made of an organic material to the scintillator layer by the barrier layer. That is, since deliquescence at the root portion of the scintillator layer is suppressed, it is possible to suppress deterioration of the characteristics of the scintillator panel. Therefore, the moisture resistance of the scintillator panel can be improved.
  • the substrate may contain any one of a metal material, a carbon material, a glass material and a resin material as a main component. According to this configuration, it is possible to give the substrate a property based on the material property.
  • the organic material may contain any one of xylylene resin, acrylic resin, silicone resin, polyimide or polyester resin. According to this configuration, it is possible to give the intermediate layer a property based on the material property.
  • a radiation detector includes a substrate, an intermediate layer formed on the substrate and made of an organic material, a barrier layer formed on the intermediate layer and containing thallium iodide as a main component, and a barrier
  • a scintillator panel having a scintillator layer formed on a layer and including a plurality of columnar crystals containing cesium iodide to which thallium is added as a main component, and a photoelectric conversion element receiving light generated in the scintillator panel
  • a sensor substrate including the detected light detection surface, and the light detection surface of the sensor substrate faces the scintillator layer.
  • the radiation detector In the radiation detector, light is generated by radiation incident on the scintillator panel, and the light is detected by a photoelectric conversion element provided on the light detection surface.
  • the radiation detector has an intermediate layer made of an organic material and a barrier layer containing thallium iodide as a main component between the substrate and the scintillator layer.
  • the barrier layer can block the movement of moisture from the intermediate layer to the scintillator layer. Therefore, since the deliquescence at the root portion of the scintillator layer is suppressed, it is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the scintillator panel. As a result, in the radiation detector, the deterioration of the radiation detection characteristics is suppressed. Therefore, the radiation detector can improve the moisture resistance.
  • the substrate may contain any one of a metal material, a carbon material, a glass material and a resin material as a main component. According to this configuration, it is possible to give the substrate a property based on the material property.
  • the organic material may contain any one of xylylene resin, acrylic resin, silicone resin, polyimide and polyester resin. According to this configuration, it is possible to give the intermediate layer a property based on the material property.
  • a radiation detector includes a substrate, an intermediate layer formed on the substrate and made of an organic material, and a barrier layer formed on the intermediate layer and containing thallium iodide as a main component.
  • a scintillator layer comprising a plurality of columnar crystals formed on the barrier layer and containing cesium iodide to which thallium is added as a main component, and the substrate is a photoelectric conversion element which receives light generated in the scintillator layer It has a light detection surface provided.
  • a radiation detector In a radiation detector, light is generated by radiation incident on a scintillator panel. The light is detected by a photoelectric conversion element provided on the light detection surface.
  • the radiation detector has an intermediate layer made of an organic material and a barrier layer containing thallium iodide as a main component between the substrate and the scintillator layer.
  • the barrier layer can block the movement of moisture from the intermediate layer to the scintillator layer. Therefore, since the deliquescence at the root portion of the scintillator layer is suppressed, it is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the scintillator panel. As a result, in the radiation detector, the deterioration of the radiation detection characteristics is suppressed. Therefore, the radiation detector can improve the moisture resistance.
  • the substrate may contain any one of a metal material, a carbon material and a glass material as a main component. According to this configuration, it is possible to give the substrate a property based on the material property.
  • the organic material may contain any one of xylylene resin, acrylic resin, silicone resin, polyimide, polyester resin, siloxane resin and epoxy resin. According to this configuration, it is possible to give the intermediate layer a property based on the material property.
  • a scintillator panel and a radiation detector that can improve moisture resistance are provided.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a scintillator panel according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to the second embodiment.
  • Part (a) of FIG. 3 is a cross-sectional view showing a scintillator panel according to Modification 1
  • part (b) of FIG. 3 is a cross-sectional view showing a scintillator panel according to Modification 2.
  • Part (a) of FIG. 4 is a cross-sectional view showing a scintillator panel according to the third modification
  • part (b) of FIG. 4 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to the fourth modification. Part (a) of FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to the fifth modification
  • part (b) of FIG. 5 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to the sixth modification.
  • Part (a) of FIG. 6 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to modification 7
  • part (b) of FIG. 6 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to modification 8.
  • Part (a) of FIG. 7 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to modification 9
  • part (b) of FIG. 7 is a cross-sectional view showing a radiation detector according to modification 10.
  • FIG. 8 is a graph showing the results of the experimental example.
  • the scintillator panel 1 includes a substrate 2, a resin protective layer 5 (intermediate layer), a barrier layer 3, a scintillator layer 4, and a protective film 6. .
  • the scintillator panel 1 is used as a radiation image sensor in combination with a photoelectric conversion element (not shown).
  • the substrate 2, the resin protective layer 5, the barrier layer 3 and the scintillator layer 4 are stacked in this order along the thickness direction to form a stacked body 7.
  • resin protective layer 5 is formed on substrate 2.
  • Barrier layer 3 is formed on resin protective layer 5.
  • the scintillator layer 4 is formed on the barrier layer 3.
  • a resin protective layer 5 and a barrier layer 3 exist between the substrate 2 and the scintillator layer 4. There is no direct contact between the substrate 2 and the scintillator layer 4.
  • the laminate 7 is covered with a protective film 6.
  • the substrate 2 constitutes a base of the scintillator panel 1.
  • the substrate 2 has a rectangular, polygonal or circular shape in plan view.
  • the thickness of the scintillator panel 1 is 10 micrometers or more and 5000 micrometers or less.
  • the thickness of the scintillator panel 1 is, for example, 100 micrometers.
  • the substrate 2 has a substrate front surface 2a, a substrate back surface 2b, and a substrate side surface 2c.
  • the substrate 2 is made of a metal material, a carbon material, a ceramic material or a resin material.
  • the metal material include aluminum, stainless steel (SUS), and copper.
  • As a carbon material amorphous carbon is mentioned, for example.
  • Examples of the ceramic material include glass and alumina.
  • the resin material include polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, and polyether ether ketone.
  • the resin protective layer 5 prevents direct contact of the scintillator layer 4 with the substrate 2 when the substrate 2 is made of a metal material. As a result, since the substrate 2 is not in direct contact with the scintillator layer 4, the corrosion of the metal substrate 2 due to the direct contact is prevented. Therefore, the resin protective layer 5 has at least a larger area than the scintillator layer 4.
  • the resin protective layer 5 is provided on the substrate 2 so that the substrate 2 at the root portion of the scintillator layer 4 composed of a plurality of columnar crystals is obtained. The film becomes better. As a result, good columnar crystals can be grown.
  • the resin protective layer 5 has a protective layer surface 5a, a protective layer back surface 5b, and a protective layer side surface 5c.
  • the protective layer surface 5 a faces the barrier layer 3.
  • Protective layer back surface 5b faces substrate surface 2a.
  • the protective layer side surface 5c is flush with the substrate side surface 2c.
  • the resin protective layer 5 is formed on the entire surface of the substrate surface 2a.
  • the resin protective layer 5 may cover the substrate back surface 2b and the substrate side surface 2c in addition to the substrate surface 2a.
  • the resin protective layer 5 may cover the entire substrate 2.
  • the resin protective layer 5 is made of a resin material. Examples of resin materials include xylylene resins such as polyparaxylylene, acrylic resins, silicone resins, polyimides, and polyester resins.
  • the barrier layer 3 inhibits the movement of water from the resin protective layer 5 to the scintillator layer 4.
  • Barrier layer 3 is formed on a partial region of protective layer surface 5a.
  • the barrier layer 3 is smaller than the resin protective layer 5 and the substrate 2 when viewed in the thickness direction.
  • the thickness of the barrier layer 3 is 0.001 micrometers or more and 1.0 micrometers or less.
  • the thickness of the barrier layer 3 is, for example, 0.06 micrometers (600 angstroms).
  • Barrier layer 3 has barrier layer surface 3a, barrier layer back surface 3b, and barrier layer side surface 3c.
  • the barrier layer surface 3 a faces the scintillator layer 4.
  • the barrier layer back surface 3b faces the protective layer surface 5a.
  • the barrier layer 3 contains thallium iodide (TlI) as a main component.
  • TlI thallium iodide
  • the TlI content of the barrier layer 3 may be 90% or more and 100% or less.
  • the barrier layer 3 contains TlI as a main component.
  • the barrier layer 3 may be formed, for example, by a two-source evaporation method. Specifically, a first deposition source containing cesium iodide (CsI) and a second deposition source containing thallium iodide (TlI) are used.
  • the barrier layer 3 is formed by depositing TlI on the substrate prior to CsI.
  • the thickness of the barrier layer 3 is about 600 angstrom as an example.
  • the thickness of the barrier layer 3 can be measured by peeling the scintillator layer and the substrate with a strong adhesive tape or the like and analyzing the substrate interface using a fluorescent X-ray analysis (XRF) device.
  • XRF fluorescent X-ray analysis
  • the scintillator layer 4 receives radiation and generates light corresponding to the radiation.
  • the thickness of the scintillator layer 4 is 10 micrometers or more and 3000 micrometers or less.
  • the thickness of the scintillator layer 4 is 600 micrometers as an example.
  • the scintillator layer 4 is a phosphor material and contains cesium iodide to which thallium is added as a main component.
  • Cesium iodide contains thallium as a dopant (CsI: Tl).
  • the CsI content of the scintillator layer 4 may be 90% or more and 100% or less.
  • the scintillator layer 4 contains CsI as a main component.
  • the scintillator layer 4 is composed of a plurality of columnar crystals. Each columnar crystal exhibits a light guide effect. Therefore, the scintillator layer 4 is suitable for high resolution imaging.
  • the scintillator layer 4 may be formed, for example, by vapor deposition.
  • the scintillator layer 4 has a scintillator layer surface 4a, a scintillator layer back surface 4b, and a scintillator layer side surface 4c.
  • the scintillator layer 4 is formed on the barrier layer 3 such that the scintillator layer back surface 4b faces the barrier layer surface 3a.
  • a barrier layer 3 is present between the scintillator layer 4 and the resin protective layer 5.
  • the scintillator layer 4 is not in direct contact with the resin protective layer 5.
  • the barrier layer 3 is smaller than the substrate 2 and the resin protective layer 5 when viewed in the thickness direction.
  • the scintillator layer 4 is smaller than the substrate 2 and the resin protective layer 5 when viewed from the thickness direction.
  • the scintillator layer 4 includes a plurality of columnar crystals extending in the thickness direction of the scintillator layer 4.
  • the root portions of the plurality of columnar crystals constitute the back surface 4b of the scintillator layer.
  • the root portion is in contact with the barrier layer surface 3 a of the barrier layer 3.
  • the tips of the plurality of columnar crystals constitute the scintillator layer surface 4a.
  • the scintillator layer 4 has a truncated pyramid shape.
  • the scintillator layer side surface 4c is inclined with respect to the thickness direction of the scintillator layer side surface 4c.
  • the scintillator layer side surface 4c is a slope. Specifically, when the scintillator layer 4 is viewed in cross section from the direction orthogonal to the thickness direction, the cross section has a trapezoidal shape. That is, one side on the scintillator layer surface 4 a side is shorter than one side on the scintillator layer back surface 4 b side.
  • the protective film 6 covers the laminate 7. As a result, the protective film 6 protects the laminate 7 from moisture.
  • the protective film 6 covers the substrate back surface 2b, the substrate side surface 2c, the protective layer side surface 5c, the barrier layer side surface 3c, the scintillator layer side surface 4c, and the scintillator layer surface 4a.
  • the thickness of the protective film 6 may be substantially the same at all the portions to be formed. In addition, the thickness of the protective film 6 may be different from place to place. In the protective film 6, for example, a film portion formed on the scintillator layer surface 4a is thicker than a film portion formed on the substrate back surface 2b, the substrate side surface 2c, the barrier layer side surface 3c, and the scintillator layer side surface 4c.
  • the protective film 6 may contain polyparaxylylene as a main component.
  • the protective film 6 may be formed, for example, by chemical vapor deposition (CVD).
  • a barrier layer 3 is provided between the resin protective layer 5 and the scintillator layer 4.
  • the barrier layer 3 contains thallium iodide as a main component.
  • the barrier layer 3 has the property of being less permeable to moisture. Therefore, it is possible to block moisture which is going to move from the resin protective layer 5 to the scintillator layer 4 by the barrier layer 3.
  • the deliquescence at the root portion of the scintillator layer 4 is suppressed, the deterioration of the characteristics of the scintillator panel 1 can be suppressed. Therefore, the moisture resistance of the scintillator panel 1 can be improved.
  • Second Embodiment A radiation detector according to the second embodiment will be described.
  • an area (side) for providing electrical conduction is provided on the sensor panel 11.
  • it has not illustrated for convenience.
  • the radiation detector 10 includes a sensor panel 11 (sensor substrate), a resin protective layer 5, a barrier layer 3, a scintillator layer 4, and a sealing portion 12.
  • the radiation received from the sealing plate 14 is incident on the scintillator layer 4.
  • the scintillator layer 4 generates light according to the radiation.
  • the light passes through the resin protective layer 5 and the barrier layer 3 and enters the sensor panel 11.
  • the sensor panel 11 generates an electrical signal in accordance with the incident light.
  • the electrical signal is output through a predetermined electrical circuit. According to the electrical signal, a radiation image can be obtained.
  • the sensor panel 11 has a panel surface 11a, a panel back surface 11b, and a panel side surface 11c.
  • the sensor panel 11 is a CCD sensor, a CMOS sensor or a TFT panel having a photoelectric conversion element 16.
  • the sensor panel 11 contains a semiconductor such as silicon or glass as a main component.
  • the sensor panel 11 may contain an organic material as a main component. Examples of the organic material include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN) and polyimide (PI).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PI polyimide
  • the plurality of photoelectric conversion elements 16 are two-dimensionally arranged on the panel surface 11a. An area on the panel surface 11a in which the plurality of photoelectric conversion elements 16 are arranged is a light detection area S1 (light detection surface).
  • the panel surface 11a includes, in addition to the light detection area S1, a surrounding area S2 surrounding the light detection area S1.
  • a resin protective layer 5 is provided to protect the photoelectric conversion element 16.
  • the resin protective layer 5 is, for example, a polyimide, a siloxane resin or an epoxy resin.
  • the same resin protective layer 5 as that of the first embodiment may be provided.
  • the sealing portion 12 covers a part of the protective layer back surface 5 b of the sensor panel 11, the barrier layer 3, and the scintillator layer 4. Sealing part 12 is fixed to peripheral field S2 in protective layer back 5b. The sealing portion 12 keeps the internal space formed by the sealing portion 12 and the resin protective layer 5 airtight. This configuration protects the scintillator layer 4 from moisture.
  • the sealing portion 12 has a sealing frame 13 and a sealing plate 14.
  • the sealing frame 13 has a frame surface 13a, a frame back surface 13b, and a frame wall 13c.
  • the frame wall portion 13c connects the frame surface 13a and the frame back surface 13b.
  • the height of the frame wall portion 13c (that is, the length from the frame surface 13a to the frame back surface 13b) is higher than the height from the protective layer back surface 5b to the scintillator layer back surface 4b.
  • a gap is formed between the scintillator layer back surface 4 b and the sealing plate 14.
  • the sealing frame 13 may be made of, for example, a resin material, a metal material, or a ceramic material.
  • the sealing frame 13 may be solid or hollow.
  • the frame surface 13a and the plate back surface 14b, and the frame back surface 13b and the resin protective layer 5 may be bonded by an adhesive.
  • the sealing plate 14 is a rectangular plate in plan view.
  • the sealing plate 14 has a plate surface 14a, a plate back surface 14b, and a plate side surface 14c.
  • the plate back surface 14b is fixed to the frame surface 13a.
  • the plate side surface 14c may be flush with the outer side surface of the frame wall 13c.
  • the sealing plate 14 may be made of, for example, a glass material, a metal material, a carbon material, or a barrier film.
  • a metal material aluminum is illustrated.
  • CFRP is illustrated.
  • As a barrier film the laminated body of an organic material layer (PET or PEN) and an inorganic material layer (SiN) is illustrated.
  • the radiation detector 10 In the radiation detector 10, light is generated by the radiation incident on the scintillator layer 4. The light is detected by the photoelectric conversion element 16 provided in the light detection region S1.
  • the radiation detector 10 has a barrier layer 3 containing thallium iodide as a main component between the resin protective layer 5 and the scintillator layer 4.
  • the barrier layer 3 blocks the movement of moisture from the resin protective layer 5 to the scintillator layer 4. Therefore, the deliquescence at the root of the scintillator layer 4 is suppressed. As a result, the radiation detector 10 can suppress the deterioration of the detection characteristic.
  • Modifications 1 to 3 are modifications of the first embodiment. Further, Modifications 4 to 9 are modifications of the second embodiment.
  • FIG. 3 shows a scintillator panel 1A according to a first modification.
  • the scintillator panel 1A according to the first modification includes a substrate 2A, a resin reflection layer 5A, a barrier layer 3, a scintillator layer 4, and a protective film 6.
  • the substrate 2A is not particularly limited in the constituent material.
  • the substrate 2A may be composed of a metal material and a carbon material, or may be composed of a glass material and / or a resin material.
  • a metal material aluminum and stainless steel (SUS) are mentioned, for example.
  • the carbon material include amorphous carbon and carbon fiber reinforced plastic (CFRP).
  • the resin material examples include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polyimide (PI).
  • the resin reflection layer 5A reflects the light generated in the scintillator layer 4.
  • the resin reflective layer 5A may be made of, for example, a mixed material of a white pigment and a binder resin. Examples of white pigments include alumina, titanium oxide, yttrium oxide and zirconium oxide.
  • the protective film 6 may be made of polyparaxylylene. The protective film 6 is formed by a chemical vapor deposition method (CVD method).
  • FIG. 3 Part (b) of FIG. 3 shows a scintillator panel 1B according to a second modification.
  • the scintillator panel 1B according to the second modification includes a substrate 2, an inorganic reflection layer 8, a resin protective layer 5, a barrier layer 3, a scintillator layer 4, and a protective film 6. That is, the scintillator panel 1B according to the modification 2 is obtained by adding the inorganic reflection layer 8 to the scintillator panel 1 according to the first embodiment.
  • the inorganic reflection layer 8 is formed between the substrate 2 and the resin protective layer 5. Specifically, the inorganic reflection layer 8 has a reflection layer surface 8a, a reflection layer back surface 8b, and a reflection layer side surface 8c.
  • the reflective layer surface 8a faces the protective layer back surface 5b.
  • the reflective layer back surface 8b faces the substrate surface 2a.
  • the inorganic reflection layer 8 may be made of, for example, a metal material. Examples of the metal material include aluminum and silver.
  • the inorganic reflective layer 8 may be a dielectric multilayer film.
  • the dielectric multilayer film is a laminated film of silicon oxide (SiO 2) and titanium oxide (TiO 2).
  • Examples of the resin protective layer 5 include polyimide (PI) and polyparaxylylene. According to the scintillator panel 1 ⁇ / b> B, light generated in the scintillator layer 4 can be reflected in the inorganic reflection layer 8.
  • a resin protective layer 5 is formed between the scintillator layer 4 and the inorganic reflective layer 8.
  • the resin protective layer 5 prevents the inorganic reflective layer 8 made of a metal material from being in direct contact with the scintillator layer 4. Therefore, the occurrence of corrosion of the inorganic reflective layer 8 caused by the direct contact of the inorganic reflective layer 8 with the scintillator layer 4 can be suppressed.
  • the resin protective layer 5 can suppress the occurrence of corrosion of the metal substrate when there are pinholes in the dielectric multilayer film.
  • FIG. 4 shows a scintillator panel 1C according to a third modification.
  • the scintillator panel 1C has a substrate 2B, a resin reflection layer 5A, a barrier layer 3, a scintillator layer 4, and a resin film 9.
  • the substrate 2B is made of a thin glass material (for example, 150 ⁇ m or less in thickness) or a carbon material such as CFRP.
  • the substrate 2B has the property of being easily warped.
  • the scintillator panel 1C forms a resin film 9 in order to suppress warpage of the substrate 2B that may occur when forming a scintillator layer. Specifically, the resin film 9 is formed on the entire surface of the back surface 2b of the substrate 2B.
  • the resin film 9 is a sheet member made of a resin material.
  • the resin film 9 may bond a sheet member to the back surface 2b of the substrate.
  • the resin film 9 may be formed by drying after applying a resin material.
  • the resin film 9 can suppress the occurrence of warpage of the substrate 2B.
  • Part (b) of FIG. 4 shows a radiation detector 10A according to the fourth modification.
  • the radiation detector 10A has a sealing portion 12A different from the radiation detector 10 according to the second embodiment.
  • the configurations of the barrier layer 3, the scintillator layer 4, the resin protective layer 5 and the sensor panel 11 are the same as those of the radiation detector 10 according to the second embodiment.
  • the sealing portion 12A has a sealing plate 14 and a sealing frame 13A.
  • the sealing frame 13A further includes an inner sealing frame 17 and an outer sealing frame 18.
  • the sealing frame 13 has a double structure.
  • the inner sealing frame 17 may be made of, for example, a resin material.
  • the outer sealing frame 18 may be made of, for example, an inorganic solid material such as a coating layer formed of an inorganic material and / or a glass rod. According to this configuration, the scintillator layer 4 can be suitably protected from moisture.
  • FIG. 5 Part (a) of FIG. 5 shows a radiation detector 10B according to the fifth modification.
  • the radiation detector 10B is different from the radiation detector 10 according to the second embodiment in that the radiation detector 10B does not have the sealing portion 12 and has a protective film 6A in place of the sealing portion 12.
  • the configurations of the barrier layer 3, the scintillator layer 4 and the sensor panel 11 are the same as those of the radiation detector 10 according to the second embodiment.
  • the protective film 6A covers the protective layer back surface 5b, the barrier layer side surface 3c, the scintillator layer side surface 4c, and the scintillator layer back surface 4b. According to this configuration, the protective film 6A can protect the scintillator layer 4A from moisture.
  • the protective film 6A may be selected from the same material as the protective film 6.
  • Part (b) of FIG. 5 shows a radiation detector 10C according to the sixth modification.
  • the radiation detector 10C is obtained by further adding a sealing frame 13B to the radiation detector 10B according to the fifth modification. Accordingly, the scintillator layer 4, the barrier layer 3, the resin protective layer 5, the sensor panel 11, and the protective film 6A are the same as the radiation detector 10B according to the fifth modification.
  • the sealing frame 13B closes the joint between the resin protective layer 5 and the protective film 6A. Therefore, the sealing frame 13B is along the outer edge of the protective film 6A in plan view in the thickness direction.
  • the sealing frame 13B may be made of, for example, a UV curing resin. According to this configuration, intrusion of moisture from the junction of the sensor panel 11 and the protective film 6A is suppressed. Therefore, the radiation detector 10C can further enhance the moisture resistance.
  • Part (a) of FIG. 6 shows a radiation detector 10D according to the seventh modification.
  • the radiation detector 10D does not have the sealing part 12 of the radiation detector 10 according to the second embodiment, and has a sealing sheet 12B instead of the sealing part 12 according to the second embodiment. It differs from the radiation detector 10.
  • the configurations of the barrier layer 3, the scintillator layer 4, the resin protective layer 5 and the sensor panel 11 are the same as those of the radiation detector 10 according to the second embodiment.
  • the sealing sheet 12B has a rectangular shape, a polygonal shape or a circular shape in plan view in the thickness direction.
  • the sealing sheet 12B may be made of, for example, a metal foil, a metal sheet such as an aluminum sheet, or a barrier film.
  • the sealing sheet 12 B covers the scintillator layer 4 and the barrier layer 3. Specifically, the scintillator layer back surface 4b, the scintillator layer side surface 4c, the barrier layer side surface 3c, and a part of the protective layer back surface 5b are covered.
  • the sealing sheet 12B is larger than the scintillator layer 4 and the barrier layer 3 in a plan view.
  • the outer peripheral edge 12a of the sealing sheet 12B is adhered to the panel surface 11a by an adhesive 15. Therefore, the sealing sheet 12B and the sensor panel 11 form an airtight area which accommodates the scintillator layer 4 and the barrier layer 3. Therefore, the scintillator layer 4 can be protected from moisture.
  • the adhesive 15 may include a filler material. The particle size of the filler material is less than the thickness of the adhesive layer.
  • Part (b) of FIG. 6 shows a radiation detector 10E according to the eighth modification.
  • the radiation detector 10E has a sealing frame 12C having a configuration different from that of the sealing sheet 12B according to the seventh modification.
  • the sealing frame 12C has a box shape.
  • the sealing frame 12C has an opening at the bottom.
  • the sealing sheet 12B which concerns on the modification 7 has a softness
  • the sealing frame 12C according to the modification 8 maintains a predetermined shape and is hard. Therefore, the sealing frame 12C may be made of, for example, a glass material, a metal material, or a carbon material.
  • the sealing frame 12C has its bottom surface adhered to the panel surface 11a by the adhesive 15.
  • the scintillator layer 4 is disposed in the hermetic area formed by the sealing frame 12C and the sensor panel 11. Therefore, the radiation detector 10E can protect the scintillator layer 4 from moisture. Furthermore, the sealing frame 12C is hard. As a result, the radiation detector 10E can mechanically protect the scintillator layer 4.
  • FIG. 7 shows a radiation detector 10F according to the ninth modification.
  • the radiation detector 10F has a barrier layer 3A, a scintillator layer 4A, and a resin protective layer 5B which are different from the radiation detector 10 according to the second embodiment.
  • the barrier layer 3A has a barrier layer surface 3a, a barrier layer back surface 3b, and a barrier layer side surface 3c.
  • the scintillator layer 4A has a scintillator layer surface 4a, a scintillator layer back surface 4b, and a scintillator layer side surface 4c.
  • the resin protective layer 5B has a protective layer surface 5a, a protective layer back surface 5b, and a protective layer side surface 5c.
  • unit structure of the sensor panel 11 is the same as that of the radiation detector 10 which concerns on 2nd Embodiment.
  • the scintillator layer 4A is formed on one side of the sensor panel 11 so as to protrude from the light detection area S1.
  • the resin protective layer 5B is formed on the light detection region S1 and one peripheral region S2a.
  • the barrier layer 3A includes the light detection region S1, one panel side surface 11c, and the peripheral region S2a between the light detection region S1 and one panel side surface 11c so as to cover the resin protective layer 5B.
  • the scintillator layer 4A is formed on the entire surface of the barrier layer 3A so as to cover the barrier layer 3A.
  • the radiation detector 10F having this configuration can be suitably used as a radiation detector for mammography.
  • the radiation detector 10F is disposed such that the side formed such that the scintillator layer 4A protrudes from the light detection area S1 is located on the chest wall side of the subject.
  • Part (b) of FIG. 7 shows a radiation detector 10G according to the tenth modification.
  • the radiation detector 10G according to the modification 10 has a substrate 2, a resin protective layer 5, a barrier layer 3, a scintillator layer 4 and a sensor panel 11.
  • the radiation detector 10G is attached to the sensor panel 11 such that the scintillator layer surface 4a faces the panel surface 11a. According to this configuration, the exposed area S3 on the substrate surface 2a also faces the peripheral area S2 of the panel surface 11a.
  • the protective layer surface 5 a is separated from the panel surface 11 a by the height of the scintillator layer 4 and the barrier layer 3.
  • the sealing frame 13 is sandwiched between the protective layer surface 5a and the panel surface 11a. The sealing frame 13 and the resin protective layer 5 are fixed to each other by adhesion.
  • the sealing frame 13 and the sensor panel 11 are fixed to each other by adhesion (if the sealing frame 13 is adhesive, they are adhered by bonding, and if they are non-adhesive, an adhesive is provided at the interface) .
  • the substrate 2 having the resin protective layer 5 can exhibit the function of the barrier layer 3 and the scintillator layer 4 as a growth substrate and the function of the radiation detector 10G as a sealing plate. Therefore, the number of parts constituting the radiation detector 10G can be reduced.
  • the moisture resistance in the present experimental example refers to the relationship between the time of exposure to an environment having a predetermined humidity and the degree of change in resolution (CTF) exhibited by the scintillator panel. That is, high moisture resistance means that the degree of decrease in resolution of the scintillator panel is small even when exposed to a humidity environment for a long time. Conversely, low moisture resistance means that the degree of decrease in resolution exhibited by the scintillator panel is high when exposed to a humid environment for a long time.
  • test bodies were prepared. Each test body has a scintillator layer and a substrate. Each scintillator layer contains CsI as a main component, and its thickness is 600 micrometers.
  • the first and second test bodies have a barrier layer containing TlI as a main component between the substrate and the scintillator layer.
  • the third test body does not have a barrier layer.
  • the third test body is a comparative example in which the scintillator layer is formed directly on the substrate.
  • the substrate of the first test body is an organic substrate containing an organic material as a main component.
  • the first test body corresponds to the scintillator panel according to the reference example.
  • the second test body formed a resin protective film containing an organic material as a main component on a substrate made of aluminum.
  • the second test body corresponds to the scintillator panel according to the first embodiment.
  • the substrate of the third specimen is the same as the substrate of the second specimen.
  • first test body a substrate made of an organic material, a barrier layer, a scintillator layer.
  • Second test body a substrate having an organic layer, a barrier layer, a scintillator layer.
  • Third test body a substrate having an organic layer, a scintillator layer (without a barrier layer).
  • the resolutions of the first to third specimens were obtained. This resolution was used as the reference value.
  • the first to third test bodies were placed in an environmental tester at a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90%. Next, every predetermined time passed from the start of installation, the resolution was obtained for each test body. Then, the ratio of the obtained resolution to the reference value resolution was calculated each time a predetermined time has elapsed. That is, the relative value to the resolution before installing in the environmental testing machine was obtained. For example, if the relative value is 100%, the resolution obtained after the predetermined time has elapsed does not change with respect to the resolution before installing in the environmental tester, and the performance is not degraded. Show. Thus, the lower the relative value, the lower the characteristics of the scintillator panel.
  • the graph shown in FIG. 8 shows the relationship between the time of exposure to the above environment (horizontal axis) and the relative value (vertical axis).
  • the first test sample was subjected to measurement of resolution 1 hour, 72 hours and 405 hours after the start of installation. The measurement results are shown as plots P1a, P1b and P1c.
  • the second test sample was subjected to measurement of resolution 1 hour, 20.5 hours, 84 hours and 253 hours after the start of installation.
  • the measurement results are shown as plots P2a, P2b, P2c, P2d.
  • the third test sample was subjected to resolution measurement 1 hour, 24 hours, 71 hours and 311 hours after the start of installation.
  • the measurement results are shown as plots P3a, P3b, P3c, P3d.
  • the performance deterioration of the third test body (plots P3a, P3b, P3c, P3d) among the first to third test bodies is the largest.
  • the performance was degraded because water permeated from the organic layer to the scintillator layer and the deliquescence of the scintillator layer progressed with the passage of time due to the permeation of water.
  • the first and second test bodies plots P1a, P1b, P1c, and plots P2a, P2b, P2c, P2d
  • the degree of reduction of the relative value indicated by the first and second specimens was clearly suppressed more than the degree of reduction of the relative value indicated by the third specimen. Therefore, it was found that the deterioration of the characteristics of the scintillator panel can be suppressed by providing the barrier layer containing TlI as a main component. It has been found that the barrier layer containing TlI as a main component can contribute to the improvement of the moisture resistance of the scintillator panel.
  • 1, 1A, 1B, 1C scintillator panel, 2, 2A, 2B: substrate, 2a: substrate surface, 2b: substrate back surface, 2c: substrate side surface, 3, 3A: barrier layer, 3a: barrier layer surface, 3b: barrier Layer back surface, 3c: barrier layer side surface, 4, 4A: scintillator layer, 4a: scintillator layer surface, 4b: scintillator layer back surface, 4c: scintillator layer side surface, 5, 5B: resin protective layer, 5A: resin reflective layer, 5a ...

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Abstract

シンチレータパネル1は、基板2と、基板2上に形成され、有機材料からなる樹脂保護層5と、樹脂保護層5の上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層3と、バリア層3上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含むシンチレータ層4と、を備える。このシンチレータパネル1によれば、バリア層3を有するので、耐湿性を向上することができる。

Description

シンチレータパネル及び放射線検出器
 本発明は、シンチレータパネル及び放射線検出器に関する。
 当該分野の技術として特許文献1~3が知られている。
 特許文献1は、シンチレータパネルを開示する。シンチレータパネルは、樹脂基板と蛍光体層との間に設けられた金属膜を有する。
 特許文献2は、シンチレータパネルを備える放射線検出装置を開示する。シンチレータパネルは、ヨウ化セシウムを主成分とするシンチレータ層を有する。シンチレータ層には、タリウムがドープされている。シンチレータ層におけるタリウムの濃度は、基板との界面付近において大きい。タリウムの濃度分布によれば、光出力が向上する。
 特許文献3は、蛍光体層を備える放射線検出器を開示する。放射線検出器は、ヨウ化セシウムを主成分とするシンチレータ層を有する。シンチレータ層には、タリウムがドープされている。シンチレータ層におけるタリウムの濃度は、基板側が大きい。タリウムの濃度分布によれば、センサ基板と蛍光体層との密着性が向上する。
国際公開第2011/065302号 特開2008-51793号公報 特開2012-98110号公報
 シンチレータ層を成長させる成長基板は、水分を透過する透湿性を有することがある。成長基板を透過した水分は、シンチレータ層の根元部に到達する。ヨウ化セシウムにより形成されたシンチレータ層は、潮解性を有することが知られている。成長基板から供給された水分によって、シンチレータ層の根元部に潮解が生じる。その結果、シンチレータパネルの特性が低下する。従って、当該分野においては、ヨウ化セシウムにより形成されたシンチレータ層を有するシンチレータパネルの耐湿性の向上が望まれている。
 例えば、特許文献1のシンチレータパネルは、基板と蛍光体層との間に設けられた金属膜を有する。金属膜は、樹脂基板から蛍光体層への水分の移動を阻害する。
 本発明は、耐湿性を向上し得るシンチレータパネル及び放射線検出器を提供することを目的とする。
 本発明の一形態であるシンチレータパネルは、基板と、基板上に形成され、有機材料からなる中間層と、中間層上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層と、バリア層上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層と、を備える。
 シンチレータパネルのシンチレータ層は、中間層とバリア層とを介して基板上に形成される。バリア層は、ヨウ化タリウムを主成分として含む。バリア層は、水分を透し難い性質を有する。その結果、有機材料からなる中間層からシンチレータ層へ移動しようとする水分を、バリア層によって阻止することが可能になる。つまり、シンチレータ層の根元部における潮解が抑制されるので、ひいてはシンチレータパネルの特性の低下を抑制できる。従って、シンチレータパネルの耐湿性を向上することができる。
 上記のシンチレータパネルにおいて、基板は、金属材料、炭素材料、ガラス材料及び樹脂材料の何れか一つを主成分として含んでもよい。この構成によれば、基板に対して材料特性に基づく特性を付与することができる。
 上記のシンチレータパネルにおいて、有機材料は、キシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド又はポリエステル系樹脂の何れか一つを含んでもよい。この構成によれば、中間層に対して材料特性に基づく特性を付与することができる。
 本発明の別の形態である放射線検出器は、基板と、基板上に形成され、有機材料からなる中間層と、中間層上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層と、バリア層上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層と、を有するシンチレータパネルと、シンチレータパネルにおいて生じた光を受ける光電変換素子が設けられた光検出面を含むセンサ基板と、を備え、センサ基板の光検出面は、シンチレータ層と対面する。
 放射線検出器は、シンチレータパネルに入射した放射線によって光が生成され、光は光検出面に設けられた光電変換素子によって検出される。放射線検出器は、基板とシンチレータ層との間に、有機材料からなる中間層と、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層を有する。バリア層によれば、中間層からシンチレータ層への水分の移動を阻止することが可能になる。従って、シンチレータ層の根元部における潮解が抑制されるので、シンチレータパネルの特性の低下を抑制することが可能になる。その結果、放射線検出器は、放射線の検出特性の低下が抑制される。従って、放射線検出器は、耐湿性を向上することができる。
 上記の放射線検出器において、基板は、金属材料、炭素材料、ガラス材料及び樹脂材料の何れか一つを主成分として含んでもよい。この構成によれば、基板に対して材料特性に基づく特性を付与することができる。
 上記の放射線検出器において、有機材料は、キシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド及びポリエステル系樹脂の何れか一つを含んでもよい。この構成によれば、中間層に対して材料特性に基づく特性を付与することができる。
 本発明のさらに別の形態である放射線検出器は、基板と、基板上に形成され、有機材料からなる中間層と、中間層上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層と、バリア層上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層と、を備え、基板は、シンチレータ層において生じた光を受ける光電変換素子が設けられた光検出面を有する。
 放射線検出器では、シンチレータパネルに入射した放射線によって光が生成される。光は光検出面に設けられた光電変換素子によって検出される。放射線検出器は、基板とシンチレータ層との間に、有機材料からなる中間層と、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層を有する。バリア層によれば、中間層からシンチレータ層への水分の移動を阻止することが可能になる。従って、シンチレータ層の根元部における潮解が抑制されるので、シンチレータパネルの特性の低下を抑制することが可能になる。その結果、放射線検出器は、放射線の検出特性の低下が抑制される。従って、放射線検出器は、耐湿性を向上することができる。
 上記の放射線検出器において、基板は、金属材料、炭素材料及びガラス材料の何れか一つを主成分として含んでもよい。この構成によれば、基板に対して材料特性に基づく特性を付与することができる。
 上記の放射線検出器において、有機材料は、キシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド、ポリエステル系樹脂、シロキサン樹脂及びエポキシ樹脂の何れか一つを含んでもよい。この構成によれば、中間層に対して材料特性に基づく特性を付与することができる。
 本発明によれば、耐湿性を向上し得るシンチレータパネル及び放射線検出器が提供される。
図1は、第1実施形態に係るシンチレータパネルを示す断面図である。 図2は、第2実施形態に係る放射線検出器を示す断面図である。 図3の(a)部は変形例1に係るシンチレータパネルを示す断面図であり、図3の(b)部は変形例2に係るシンチレータパネルを示す断面図である。 図4の(a)部は変形例3に係るシンチレータパネルを示す断面図であり、図4の(b)部は変形例4に係る放射線検出器を示す断面図である。 図5の(a)部は変形例5に係る放射線検出器を示す断面図であり、図5の(b)部は変形例6に係る放射線検出器を示す断面図である。 図6の(a)部は変形例7に係る放射線検出器を示す断面図であり、図6の(b)部は変形例8に係る放射線検出器を示す断面図である。 図7の(a)部は変形例9に係る放射線検出器を示す断面図であり、図7の(b)部は変形例10に係る放射線検出器を示す断面図である。 図8は、実験例の結果を示すグラフである。
 以下、添付図面を参照しながら本発明を実施するための形態を詳細に説明する。図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
<第1実施形態>
 図1に示されるように、第1実施形態に係るシンチレータパネル1は、基板2と、樹脂保護層5(中間層)と、バリア層3と、シンチレータ層4と、保護膜6と、を有する。シンチレータパネル1は、光電変換素子(不図示)と組み合わされて放射線イメージセンサとして用いられる。
 基板2、樹脂保護層5、バリア層3及びシンチレータ層4は、それぞれの厚さ方向に沿ってこの順に積層されて、積層体7を構成する。具体的には、基板2上に樹脂保護層5が形成される。樹脂保護層5上にバリア層3が形成される。バリア層3上にシンチレータ層4が形成される。基板2とシンチレータ層4との間には、樹脂保護層5とバリア層3とが存在する。基板2とシンチレータ層4とが直接に接することはない。積層体7は、保護膜6に覆われる。
 基板2は、シンチレータパネル1の基体を構成する。基板2は、平面視して矩形、多角形又は円形を呈する。シンチレータパネル1の厚さは、10マイクロメートル以上5000マイクロメートル以下である。シンチレータパネル1の厚さは、一例として100マイクロメートルである。基板2は、基板表面2aと、基板裏面2bと、基板側面2cとを有する。基板2は、金属材料、炭素材料、セラミックス材料又は樹脂材料からなる。金属材料として、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼(SUS)、銅が挙げられる。炭素材料として、例えば、アモルファスカーボンが挙げられる。セラミックス材料として、例えば、ガラスやアルミナが挙げられる。樹脂材料として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトンが挙げられる。
 樹脂保護層5は、基板2が金属材料からなる場合、基板2に対するシンチレータ層4の直接接触を妨げる。その結果、基板2がシンチレータ層4に直接接触しないので、直接接触に起因する金属製の基板2の腐食が防止される。従って、樹脂保護層5は、少なくともシンチレータ層4よりも大きい面積を有する。又、基板2が炭素材料、セラミックス材料、樹脂材料からなる場合、基板2上に樹脂保護層5を設けることによれば、複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層4の根元部分の基板2に対する膜付きがよくなる。その結果、良好な柱状結晶を成長させることができる。樹脂保護層5は、保護層表面5aと、保護層裏面5bと、保護層側面5cと、を有する。保護層表面5aは、バリア層3と対面する。保護層裏面5bは、基板表面2aと対面する。保護層側面5cは、基板側面2cと面一である。樹脂保護層5は、基板表面2aの全面に形成される。樹脂保護層5は、基板表面2aに加えて、基板裏面2b及び基板側面2c上を覆ってもよい。樹脂保護層5は、基板2の全体を覆ってもよい。樹脂保護層5は、樹脂材料からなる。樹脂材料として、ポリパラキシリレン等のキシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド、ポリエステル系樹脂が挙げられる。
 バリア層3は、樹脂保護層5からシンチレータ層4への水分の移動を阻害する。バリア層3は、保護層表面5aの一部の領域上に形成される。厚さ方向からみたとき、バリア層3は、樹脂保護層5及び基板2よりも小さい。バリア層3の厚さは、0.001マイクロメートル以上1.0マイクロメートル以下である。バリア層3の厚さは、一例として0.06マイクロメートル(600オングストローム)である。バリア層3は、バリア層表面3aと、バリア層裏面3bと、バリア層側面3cと、を有する。バリア層表面3aは、シンチレータ層4と対面する。バリア層裏面3bは、保護層表面5aと対面する。バリア層3は、ヨウ化タリウム(TlI)を主成分として含む。例えば、バリア層3のTlI含有量は、90%以上100%以下であってもよい。バリア層3におけるTlI含有量が90%以上である場合に、バリア層3はTlIを主成分とするものといってよい。バリア層3は、例えば、二源蒸着法によって形成してよい。具体的には、ヨウ化セシウム(CsI)を収容する第1蒸着源と、ヨウ化タリウム(TlI)を収容する第2蒸着源と、を利用する。CsIよりも先にTlIを基板に蒸着することにより、バリア層3を形成する。バリア層3の厚さは、一例として600オングストローム程度である。尚、バリア層3の厚さは、強粘着テープ等でシンチレータ層と基板とを剥離し、基板界面を蛍光X線分析(XRF)装置を用いて分析することにより測定できる。蛍光X線分析装置としては例えばリガク社のZSX Primusを挙げることができる。
 シンチレータ層4は、放射線を受けて、当該放射線に対応する光を発生させる。シンチレータ層4の厚さは、10マイクロメートル以上3000マイクロメートル以下である。シンチレータ層4の厚さは、一例として600マイクロメートルである。シンチレータ層4は、蛍光体材料であって、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む。ヨウ化セシウムは、タリウムをドーパントとして含む(CsI:Tl)。例えば、シンチレータ層4のCsI含有量は、90%以上100%以下であってもよい。シンチレータ層4のCsI含有量が90%以上である場合に、シンチレータ層4はCsIを主成分とするものといってよい。シンチレータ層4は複数の柱状結晶により構成される。各柱状結晶は、ライトガイド効果を奏する。従って、シンチレータ層4は、高解像度のイメージングに適している。シンチレータ層4は、例えば、蒸着法によって形成してよい。
 シンチレータ層4は、シンチレータ層表面4aと、シンチレータ層裏面4bと、シンチレータ層側面4cとを有する。シンチレータ層4は、シンチレータ層裏面4bがバリア層表面3aと対面するように、バリア層3上に形成される。シンチレータ層4と樹脂保護層5との間には、バリア層3が存在する。シンチレータ層4は、樹脂保護層5に直接に接触することはない。厚さ方向から見てバリア層3は、基板2及び樹脂保護層5よりも小さい。シンチレータ層4も同様に、厚さ方向から見てシンチレータ層4は、基板2及び樹脂保護層5よりも小さい。
 シンチレータ層4は、シンチレータ層4の厚さ方向に延びる複数の柱状結晶を含む。複数の柱状結晶の根元部は、シンチレータ層裏面4bを構成する。根元部は、バリア層3のバリア層表面3aと接する。複数の柱状結晶の先端部は、シンチレータ層表面4aを構成する。
 シンチレータ層4は角錐台形状を呈する。シンチレータ層側面4cは、シンチレータ層側面4cの厚さ方向に対して傾く。シンチレータ層側面4cは、スロープ(傾斜)である。具体的には、シンチレータ層4を厚さ方向に直交する方向から断面視したとき、断面は台形状を呈する。つまり、シンチレータ層表面4a側の一辺は、シンチレータ層裏面4b側の一辺よりも短い。
 保護膜6は、積層体7を覆う。その結果、保護膜6は、積層体7を湿気から保護する。保護膜6は、基板裏面2b、基板側面2c、保護層側面5c、バリア層側面3c、シンチレータ層側面4c及びシンチレータ層表面4aを覆う。保護膜6の厚さは、形成される全ての箇所において略同じであってもよい。また、保護膜6の厚さは、箇所ごとに異なっていてもよい。保護膜6において、例えば、シンチレータ層表面4aの上に形成された膜部は、基板裏面2b、基板側面2c、バリア層側面3c、シンチレータ層側面4cの上に形成された膜部よりも厚い。保護膜6は、ポリパラキシリレンを主成分として含んでよい。保護膜6は、例えば化学気相成長法(CVD)により形成してよい。
 シンチレータパネル1では、樹脂保護層5とシンチレータ層4との間にバリア層3が設けられる。バリア層3は、ヨウ化タリウムを主成分として含む。バリア層3は、水分を透し難い性質を有する。従って、樹脂保護層5からシンチレータ層4へ移動しようとする水分を、バリア層3によって阻止することが可能になる。その結果、シンチレータ層4の根元部における潮解が抑制されるので、シンチレータパネル1の特性の低下を抑制できる。従って、シンチレータパネル1の耐湿性を向上することができる。
<第2実施形態>
 第2実施形態に係る放射線検出器について説明する。なお、実際にはセンサパネル11上には電気的な導通を取るための領域(辺)が設けられる。しかし、各図では、便宜上図示していない。
 図2に示されるように、放射線検出器10は、センサパネル11(センサ基板)と、樹脂保護層5と、バリア層3と、シンチレータ層4と、封止部12と、を有する。封止板14から受け入れられた放射線は、シンチレータ層4に入射する。シンチレータ層4は、放射線に応じた光を発生させる。当該光は、樹脂保護層5及びバリア層3を通過してセンサパネル11に入射する。センサパネル11は、入射した光に応じて電気信号を発生させる。電気信号は、所定の電気回路を通じて出力される。電気信号によれば、放射線イメージ画像が得られる。
 センサパネル11は、パネル表面11aと、パネル裏面11bと、パネル側面11cと、を有する。センサパネル11は、光電変換素子16を有するCCDセンサ、CMOSセンサ又はTFTパネルである。センサパネル11は、シリコン等の半導体又はガラスを主成分として含む。センサパネル11は、有機材料を主成分として含んでもよい。有機材料として、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド(PI)が挙げられる。複数の光電変換素子16は、パネル表面11a上において二次元状に配置される。複数の光電変換素子16が配置されたパネル表面11a上の領域は、光検出領域S1(光検出面)である。パネル表面11aは、光検出領域S1に加えて、当該光検出領域S1を囲む周囲領域S2を含む。光電変換素子16を保護するために、樹脂保護層5が設けられる。樹脂保護層5は、例えば、ポリイミド、シロキサン樹脂又はエポキシ樹脂である。複数の柱状結晶よりなるシンチレータ層の結晶性を高めるために、第1実施形態と同様の樹脂保護層5を設けてもよい。
 封止部12は、センサパネル11の保護層裏面5bの一部と、バリア層3と、シンチレータ層4と、を覆う。封止部12は、保護層裏面5bにおける周囲領域S2に固定される。封止部12は、封止部12と樹脂保護層5によって形成される内部空間を気密に保つ。この構成により、シンチレータ層4が湿気から保護される。
 封止部12は、封止枠13と、封止板14と、を有する。封止枠13は、枠表面13aと、枠裏面13bと、枠壁部13cと、を有する。枠壁部13cは、枠表面13aと枠裏面13bとを連結する。枠壁部13cの高さ(つまり枠表面13aから枠裏面13bまでの長さ)は、保護層裏面5bからシンチレータ層裏面4bまでの高さよりも高い。シンチレータ層裏面4bと封止板14との間には隙間が形成される。封止枠13は、例えば、樹脂材料、金属材料、セラミック材料により構成してよい。封止枠13は中実であっても、中空であってもよい。枠表面13aと板裏面14b、枠裏面13bと樹脂保護層5とを接着剤によって接合してもよい。
 封止板14は、平面視して矩形状の板材である。封止板14は、板表面14aと、板裏面14bと、板側面14cとを有する。板裏面14bは、枠表面13aに対して固定される。板側面14cは、枠壁部13cの外側面に対して面一であってもよい。封止板14は、例えば、ガラス材料、金属材料、カーボン材料、バリアフィルムにより構成してよい。金属材料としては、アルミニウムが例示される。カーボン材料としては、CFRPが例示される。バリアフィルムとしては、有機材料層(PETやPEN)と無機材料層(SiN)との積層体が例示される。
 放射線検出器10では、シンチレータ層4に入射した放射線によって光が生成される。光は光検出領域S1に設けられた光電変換素子16によって検出される。放射線検出器10は、樹脂保護層5とシンチレータ層4との間に、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層3を有する。バリア層3は、樹脂保護層5からシンチレータ層4への水分の移動を阻止する。従って、シンチレータ層4の根元部における潮解が抑制される。その結果、放射線検出器10は、検出特性の低下を抑制することができる。
 以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態に限定されることなく様々な形態で実施される。変形例1~3は、第1実施形態の変形例である。また、変形例4~9は、第2実施形態の変形例である。
<変形例1>
 図3の(a)部は、変形例1に係るシンチレータパネル1Aを示す。変形例1に係るシンチレータパネル1Aは、基板2Aと、樹脂反射層5Aと、バリア層3と、シンチレータ層4と、保護膜6と、を有する。基板2Aは、構成材料に特に限定がない。基板2Aは、金属材料及び炭素材料により構成してもよいし、ガラス材料及び/又は樹脂材料により構成してもよい。金属材料として、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼(SUS)が挙げられる。炭素材料として、例えば、アモルファスカーボン、炭素繊維強化プラスチック(CFRP)が挙げられる。樹脂材料として、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリイミド(PI)が挙げられる。樹脂反射層5Aは、シンチレータ層4において生じた光を反射する。樹脂反射層5Aは、例えば、白色顔料とバインダー樹脂の混合材料により構成してよい。白色顔料としては、例えば、アルミナ、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ジルコニウムが挙げられる。保護膜6は、ポリパラキシリレンによって構成してよい。保護膜6は、化学気相成長法(CVD法)によって形成される。
<変形例2>
 図3の(b)部は、変形例2に係るシンチレータパネル1Bを示す。変形例2に係るシンチレータパネル1Bは、基板2と、無機反射層8と、樹脂保護層5と、バリア層3と、シンチレータ層4と、保護膜6と、を有する。つまり、変形例2に係るシンチレータパネル1Bは、第1実施形態に係るシンチレータパネル1に、無機反射層8を追加したものである。無機反射層8は、基板2と樹脂保護層5との間に形成される。具体的には、無機反射層8は、反射層表面8aと、反射層裏面8bと、反射層側面8cと、を有する。反射層表面8aは、保護層裏面5bと対面する。反射層裏面8bは、基板表面2aと対面する。無機反射層8は、例えば、金属材料により構成されてもよい。金属材料として、例えば、アルミニウム、銀が挙げられる。無機反射層8は、誘電体多層膜であってもよい。誘電体多層膜は、酸化シリコン(SiO2)と酸化チタン(TiO2)との積層膜である。樹脂保護層5は、例えば、ポリイミド(PI)、ポリパラキシリレンが挙げられる。シンチレータパネル1Bによれば、無機反射層8において、シンチレータ層4において生じた光を反射することができる。シンチレータ層4と無機反射層8との間には、樹脂保護層5が形成される。樹脂保護層5は、金属材料により構成された無機反射層8がシンチレータ層4へ直接に接触することを阻害する。従って、無機反射層8のシンチレータ層4への直接接触に起因する無機反射層8の腐食の発生を抑制できる。無機反射層8が誘電体多層膜からなる場合、樹脂保護層5を設けることにより、誘電体多層膜にピンホールがある場合の金属基板の腐食の発生を抑制できる。
<変形例3>
 図4の(a)部は、変形例3に係るシンチレータパネル1Cを示す。シンチレータパネル1Cは、基板2Bと、樹脂反射層5Aと、バリア層3と、シンチレータ層4と、樹脂膜9と、を有する。基板2Bは、薄いガラス材料(例えば150μm以下の厚さ)又はCFRPといった炭素材料により構成される。基板2Bは、反りやすい性質を有する。シンチレータパネル1Cは、シンチレータ層形成時に生じ得る基板2Bの反りを抑制するために、樹脂膜9を形成する。具体的には、基板2Bの基板裏面2bの全面に樹脂膜9を形成する。樹脂膜9は、樹脂材料により構成されたシート部材である。樹脂膜9は、シート部材を基板裏面2bに貼りあわせてもよい。樹脂膜9は、樹脂材料を塗布した後に、乾燥させて形成したものであってもよい。樹脂膜9によれば、基板2Bの反りの発生を抑制できる。
<変形例4>
 図4の(b)部は、変形例4に係る放射線検出器10Aを示す。放射線検出器10Aは、第2実施形態に係る放射線検出器10とは異なる封止部12Aを有する。バリア層3、シンチレータ層4、樹脂保護層5及びセンサパネル11の構成は、第2実施形態に係る放射線検出器10と同様である。封止部12Aは、封止板14と封止枠13Aとを有する。封止枠13Aは、さらに、内側封止枠17と外側封止枠18とを有する。封止枠13は、二重構造を有する。内側封止枠17は、例えば、樹脂材料により構成してよい。外側封止枠18は、例えば、無機材料により形成されたコーティング層及び/又はガラスロッドといった無機固形材料により構成してもよい。この構成によれば、シンチレータ層4を湿気から好適に保護することができる。
<変形例5>
 図5の(a)部は、変形例5に係る放射線検出器10Bを示す。放射線検出器10Bは、封止部12を有しておらず、封止部12に代えて保護膜6Aを有する点で、第2実施形態に係る放射線検出器10と相違する。バリア層3、シンチレータ層4及びセンサパネル11の構成は、第2実施形態に係る放射線検出器10と同様である。保護膜6Aは、保護層裏面5bと、バリア層側面3cと、シンチレータ層側面4cと、シンチレータ層裏面4bとを覆う。この構成によれば、保護膜6Aは、シンチレータ層4Aを湿気から保護することができる。保護膜6Aは保護膜6と同様の材料から選択してよい。
<変形例6>
 図5の(b)部は、変形例6に係る放射線検出器10Cを示す。放射線検出器10Cは、変形例5に係る放射線検出器10Bに対して、さらに封止枠13Bを追加したものである。従って、シンチレータ層4、バリア層3、樹脂保護層5、センサパネル11及び保護膜6Aは、変形例5に係る放射線検出器10Bと同様である。封止枠13Bは、樹脂保護層5と保護膜6Aの接合部を塞ぐ。従って、封止枠13Bは、厚さ方向から平面視すると、保護膜6Aの外縁に沿う。封止枠13Bは、例えば、UV硬化樹脂により構成してよい。この構成によれば、センサパネル11と保護膜6Aの接合部からの湿気の侵入が抑制される。従って、放射線検出器10Cは、耐湿性をさらに高めることができる。
<変形例7>
 図6の(a)部は、変形例7に係る放射線検出器10Dを示す。放射線検出器10Dは、第2実施形態に係る放射線検出器10の封止部12を有しておらず、封止部12に代えて封止シート12Bを有する点で、第2実施形態に係る放射線検出器10と相違する。バリア層3、シンチレータ層4、樹脂保護層5及びセンサパネル11の構成は、第2実施形態に係る放射線検出器10と同様である。封止シート12Bは、厚さ方向に平面視して矩形、多角形又は円形を呈する。封止シート12Bは、例えば、金属箔、アルミニウムシートといった金属シート、バリアフィルムにより構成してよい。封止シート12Bは、シンチレータ層4及びバリア層3を覆う。具体的には、シンチレータ層裏面4b、シンチレータ層側面4c、バリア層側面3c及び保護層裏面5bの一部を覆う。平面視した場合に、封止シート12Bは、シンチレータ層4及びバリア層3よりも大きい。封止シート12Bの外周縁12aは、パネル表面11aに対して接着剤15により接着される。従って、封止シート12B及びセンサパネル11は、シンチレータ層4及びバリア層3を収容する気密領域を形成する。従って、シンチレータ層4を湿気から保護することができる。接着剤15は、フィラー材を含んでもよい。このフィラー材の粒径は、接着層の厚さ未満である。
<変形例8>
 図6の(b)部は、変形例8に係る放射線検出器10Eを示す。放射線検出器10Eは、変形例7に係る封止シート12Bとは異なる構成の封止枠12Cを有する。封止枠12Cは、箱状を呈する。封止枠12Cは、底面に開口を有する。変形例7に係る封止シート12Bは柔軟性を有する。一方、変形例8に係る封止枠12Cは所定の形状を保ち、硬質である。従って、封止枠12Cは、例えば、ガラス材料、金属材料、カーボン材料により構成してよい。封止枠12Cは、その底面がパネル表面11aに対して接着剤15により接着される。この構成によれば、封止枠12Cとセンサパネル11とが形成する気密領域にシンチレータ層4が配置される。従って、放射線検出器10Eは、シンチレータ層4を湿気から保護することができる。さらに、封止枠12Cが硬質である。その結果、放射線検出器10Eは、シンチレータ層4を機械的に保護することができる。
<変形例9>
 図7の(a)部は、変形例9に係る放射線検出器10Fを示す。放射線検出器10Fは、第2実施形態に係る放射線検出器10とは異なるバリア層3A、シンチレータ層4A及び樹脂保護層5Bを有する。バリア層3Aは、バリア層表面3aと、バリア層裏面3bと、バリア層側面3cと、を有する。シンチレータ層4Aは、シンチレータ層表面4aと、シンチレータ層裏面4bと、シンチレータ層側面4cと、を有する。樹脂保護層5Bは、保護層表面5aと、保護層裏面5bと、保護層側面5cと、を有する。センサパネル11の単体構成は、第2実施形態に係る放射線検出器10と同様である。シンチレータ層4Aは、センサパネル11の一側面において、光検出領域S1からはみ出すように形成される。具体的には、まず、樹脂保護層5Bは、光検出領域S1と、一方の周辺領域S2a上に形成される。次に、バリア層3Aは、樹脂保護層5Bを覆うように、光検出領域S1と、一方のパネル側面11cと、光検出領域S1と一方のパネル側面11cとの間の周辺領域S2aと、の上に形成される。そして、シンチレータ層4Aは、バリア層3Aを覆うように、バリア層3Aの全面上に形成される。この構成を有する放射線検出器10Fは、マンモグラフィー用の放射線検出器として好適に用いることができる。このような適用において、放射線検出器10Fは、シンチレータ層4Aが光検出領域S1をはみ出すように形成された辺が被験者の胸壁側に位置するように、配置される。
<変形例10>
 図7の(b)部は、変形例10に係る放射線検出器10Gを示す。変形例10に係る放射線検出器10Gは、基板2と、樹脂保護層5と、バリア層3と、シンチレータ層4と、センサパネル11と、を有する。
 放射線検出器10Gでは、シンチレータ層表面4aがパネル表面11aと対面するように、センサパネル11に対して取り付けられる。この構成によれば、基板表面2aにおける露出領域S3もパネル表面11aの周囲領域S2と対面する。保護層表面5aは、パネル表面11aに対してシンチレータ層4及びバリア層3の高さ分だけ離間する。保護層表面5aとパネル表面11aとの間に、封止枠13を挟み込む。封止枠13と樹脂保護層5とは互いに接着により固定される。同様に、封止枠13とセンサパネル11とは互いに接着により固定される(封止枠13が接着性の場合は貼り合せることで接着され、非接着性の場合は界面に接着剤を設ける)。この構成によれば、樹脂保護層5を有する基板2は、バリア層3及びシンチレータ層4の成長基板としての機能と、放射線検出器10Gにおける封止板としての機能と、を奏し得る。従って、放射線検出器10Gを構成する部品数を低減することができる。
<実験例>
 実験例では、バリア層が奏する耐湿性の向上についてその効果を確認した。本実験例でいう耐湿性とは、所定の湿度を有する環境に曝された時間と、シンチレータパネルが示す解像度(CTF)の変化の度合いと、の関係をいう。つまり、耐湿性が高いとは、湿度環境に長時間曝された場合であっても、シンチレータパネルが示す解像度の低下度合いが小さいことをいう。逆に、耐湿性が低いとは、湿度環境に長時間曝された場合に、シンチレータパネルが示す解像度の低下度合いが大きいことをいう。
 実験例では、まず、3個の試験体(シンチレータパネル)を準備した。それぞれの試験体は、シンチレータ層と基板とを有する。それぞれのシンチレータ層は、CsIを主成分として含み、その厚さは600マイクロメートルである。そして、第1及び第2の試験体は、基板とシンチレータ層との間にTlIを主成分として含むバリア層を有する。一方、第3の試験体は、バリア層を有しない。第3の試験体は、基板上に直接にシンチレータ層が形成された比較例である。第1の試験体の基板は、有機材料を主成分として含む有機基板である。第1の試験体は、参考例に係るシンチレータパネルに対応する。第2の試験体は、アルミニウム製の基板上に有機材料を主成分として含む樹脂保護膜を形成した。第2の試験体は、第1実施形態に係るシンチレータパネルに対応する。第3の試験体の基板は、第2の試験体の基板と同じである。
 第1~第3の試験体の構成は以下のとおりである。
  第1の試験体:有機材料からなる基板、バリア層、シンチレータ層。
  第2の試験体:有機層を有する基板、バリア層、シンチレータ層。
  第3の試験体:有機層を有する基板、(バリア層なし)シンチレータ層。
 第1~第3の試験体が有するそれぞれの解像度を得た。この解像度を基準値とした。次に、第1~第3の試験体を、温度が40℃であり湿度が90%に設定された環境試験機に設置した。次に、設置開始から所定時間が経過するごとに、それぞれの試験体について解像度を得た。そして、所定時間が経過するごとに得た解像度が基準値である解像度に対してどの程度の割合であるかを算出した。つまり、環境試験機に設置する前の解像度に対する相対値を得た。例えば、相対値が100パーセントである場合には、所定時間が経過した後に得た解像度は、環境試験機に設置する前の解像度に対して変化しておらず、性能が低下していないことを示す。従って、相対値が低くなるにつれて、シンチレータパネルの特性が低下することを示す。
 図8に示されたグラフは、上記の環境に曝された時間(横軸)と相対値(縦軸)との関係を示す。第1の試験体は、設置開始から1時間後、72時間後、405時間後に解像度の測定を行った。測定結果は、プロットP1a,P1b,P1cとして示す。第2の試験体は、設置開始から1時間後、20.5時間後、84時間後及び253時間後に解像度の測定を行った。測定結果は、プロットP2a,P2b,P2c,P2dとして示す。第3の試験体は、設置開始から1時間後、24時間後、71時間後及び311時間後に解像度の測定を行った。測定結果は、プロットP3a,P3b,P3c,P3dとして示す。
 それぞれの測定結果を確認すると、第1~第3の試験体のうち、バリア層を有しない第3の試験体(プロットP3a,P3b,P3c,P3d)の性能の低下が最も大きかった。第3の試験体では、有機層から水分がシンチレータ層へ浸透し、水分の浸透に起因してシンチレータ層の潮解が時間の経過と共に進行したことにより、性能の低下が生じたものと考えられる。一方、第1及び第2の試験体(プロットP1a,P1b,P1c、プロットP2a,P2b,P2c,P2d)についても、時間が経過するごとに相対値が低下する傾向が確認できた。しかし、第1及び第2の試験体が示す相対値の低下の度合いは、第3の試験体が示す相対値の低下の度合いよりも明らかに抑制されていた。従って、TlIを主成分として含むバリア層を設けることにより、シンチレータパネルの特性の低下を抑制できることがわかった。TlIを主成分として含むバリア層は、シンチレータパネルの耐湿性の向上に寄与し得ることがわかった。
1,1A,1B,1C…シンチレータパネル、2,2A,2B…基板、2a…基板表面、2b…基板裏面、2c…基板側面、3,3A…バリア層、3a…バリア層表面、3b…バリア層裏面、3c…バリア層側面、4,4A…シンチレータ層、4a…シンチレータ層表面、4b…シンチレータ層裏面、4c…シンチレータ層側面、5,5B…樹脂保護層、5A…樹脂反射層、5a…保護層表面、5b…保護層裏面、5c…保護層側面、6,6A…保護膜、7…積層体、8…無機反射層、8a…反射層表面、8b…反射層裏面、8c…反射層側面、9…樹脂膜、10,10A,10B,10C,10D,10E,10F,10G…放射線検出器、11…センサパネル、11a…パネル表面、11b…パネル裏面、11c…パネル側面、12,12A…封止部、12a…外周縁、12B…封止シート、12C…封止枠、13,13A,13B…封止枠、13a…枠表面、13b…枠裏面、13c…枠壁部、14…封止板、14a…板表面、14b…板裏面、14c…板側面、15…接着剤、16…光電変換素子、17…内側封止枠、18…外側封止枠、S1…光検出領域、S2…周囲領域、S2a…周辺領域、S3…露出領域。
 

Claims (9)

  1.  基板と、
     前記基板上に形成され、有機材料からなる中間層と、
     前記中間層上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層と、
     前記バリア層上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層と、を備えるシンチレータパネル。
  2.  前記基板は、金属材料、炭素材料、ガラス材料及び樹脂材料の何れか一つを主成分として含む、請求項1に記載のシンチレータパネル。
  3.  前記有機材料は、キシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド及びポリエステル系樹脂の何れか一つを含む、請求項1又は2に記載のシンチレータパネル。
  4.  基板と、前記基板上に形成され、有機材料からなる中間層と、前記中間層上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層と、前記バリア層上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層と、を有するシンチレータパネルと、
     前記シンチレータパネルにおいて生じた光を受ける光電変換素子が設けられた光検出面を含むセンサ基板と、を備え、
     前記センサ基板の前記光検出面は、前記シンチレータ層と対面する、放射線検出器。
  5.  前記基板は、金属材料、炭素材料、ガラス材料及び樹脂材料の何れか一つを主成分として含む、請求項4に記載の放射線検出器。
  6.  前記有機材料は、キシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド及びポリエステル系樹脂の何れか一つを含む、請求項4又は5に記載の放射線検出器。
  7.  基板と、
     前記基板上に形成され、有機材料からなる中間層と、
     前記中間層上に形成され、ヨウ化タリウムを主成分として含むバリア層と、
     前記バリア層上に形成され、タリウムが添加されたヨウ化セシウムを主成分として含む複数の柱状結晶により構成されるシンチレータ層と、を備え、
     前記基板は、前記シンチレータ層において生じた光を受ける光電変換素子が設けられた光検出面を有する、放射線検出器。
  8.  前記基板は、金属材料、炭素材料及びガラス材料の何れか一つを主成分として含む、請求項7に記載の放射線検出器。
  9.  前記有機材料は、キシリレン系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド、ポリエステル系樹脂、シロキサン樹脂及びエポキシ樹脂の何れか一つを含む、請求項7又は8に記載の放射線検出器。
     
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