WO2019048191A1 - Optisches system, optische anordnung und lithographieanlage - Google Patents

Optisches system, optische anordnung und lithographieanlage Download PDF

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WO2019048191A1
WO2019048191A1 PCT/EP2018/071944 EP2018071944W WO2019048191A1 WO 2019048191 A1 WO2019048191 A1 WO 2019048191A1 EP 2018071944 W EP2018071944 W EP 2018071944W WO 2019048191 A1 WO2019048191 A1 WO 2019048191A1
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mirror
aperture
segment
optical system
light
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PCT/EP2018/071944
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Peter Deufel
Stefan Xalter
Viktor Kulitzki
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Carl Zeiss Smt Gmbh
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Definitions

  • the present invention relates to an optical system, an optical device and a lithography system.
  • Microlithography is used to fabricate microstructured devices such as integrated circuits.
  • the Mikrolithographiepro- process is carried out with a lithography apparatus comprising an illumination system and a projection system ⁇ .
  • the image of a processing system illuminated mask by means of lighting (reticle) is projected in this case coated by means of the projection ⁇ system was bonded to a photosensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system substrate (eg. As a silicon wafer) to to transfer the mask structure to the photosensitive coating of the substrate.
  • a photosensitive layer photoresist
  • EUV lithography tools ⁇ oped which light having a wavelength in the range of 0.1 to 30 nm (nanometer), in particular 13.5 nm, use.
  • reflective optics that is, mirrors
  • refractive optics that is, lenses.
  • the numerical aperture is an important parameter of lithography systems.
  • the numerical aperture in lithography equipment is adjusted using aperture stops (also referred to as NA stops).
  • aperture stops also referred to as NA stops.
  • obscuration apertures are used to shade an obscuration in the beam path.
  • a holding device which supports the obscuration diaphragm, for example, on a housing of the optical system.
  • the Obskurati ⁇ onsblende is disposed to the optical element from an optical element, for example a mirror, and in the re ⁇ gel spaced. It is also customary to arrange an aperture stop in front of an optical element, in particular a mirror, with the aid of a holding device. Holding devices often have the
  • Assemblies including a first mirror and a second mirror having an opening, said work light falls through the aperture onto the first mirror, from said first mirror onto the second mirror and is reflected by the two ⁇ th mirror to a target object, can also act as h-Design be ⁇ draws. These have a problem that a provision of an aperture ⁇ aperture to the extending exactly from the first light reflected to the second mirror work light around, sometimes an obstacle for the work light that is reflected from the two ⁇ th mirror for the target object represents.
  • aperture diaphragms are known, which consist of different segments (English: "split stop") and are arranged in a pupil plane or in the vicinity of the pupil plane.
  • the object of the present invention is to provide an improved optical system, an improved optical device and an improved lithography system.
  • an optical system for a lithography system comprising a first mirror, a second mirror, which adjusts a beam path. defined together with the first mirror and further comprises a breakthrough, wherein the optical system is adapted to that working light falls through the aperture on the first mirror, wherein working light from the first Spie ⁇ gel on the second mirror and from the second mirror to a target object is re _ flexes, an obscuration which is arranged within the optical path between the first mirror and the second mirror, and an aperture stop, which second Aperturblendensegment a first and a
  • Aperture aperture segment wherein the first aperture diaphragm segment is adapted to partially work light, which is reflected from the first mirror to the second mirror, and the second aperture diaphragm segment is adapted to partially shade work light, which is reflected from the second mirror to the target object, wherein the first Aperturblendenseg ⁇ ment and the second aperture diaphragm segment in the direction of the first Spie ⁇ gel to the second mirror are spaced from each other.
  • first and the second aperture diaphragm segment are arranged spaced in the direction of the first mirror to the second mirror, under ⁇ different levels can be used to arrange the aperture diaphragm in the beam path.
  • This has the advantage that different aperture levels can be exploited.
  • a space can, for example, fle ible ⁇ be used and / or a support frame and / or actuators expedient ⁇ FLOWING be incorporated in a lithography system.
  • the additional provision of the obscuration diaphragm can eliminate field-dependent shadowing due to the aperture in the exit pupil.
  • work light is in the present light or a light beam to be understood, which is used for exposure in the optical system, to transfer a mask pattern onto a photosensitive coating of the substrate (in particular microstructures ⁇ tured component).
  • light path is the geometric - see the course of light rays (work light) toward a target object, ⁇ example, a wafer to be exposed, understood.
  • breakthrough in the present case, a through hole, for example by the second mirror to understand.
  • the first and second mirrors each comprise a substrate and a reflection coating applied to the substrate for reflecting the working light, which may also be designed as a multilayer coating.
  • the reflective coating of the first mirror of the Reflexionsbe ⁇ coating of the second mirror faces.
  • the first and / or second mirror can each be actuated by means of a mirror actuator for tracking a position of the mirror.
  • the mirror actuator is designed, for example, as a linear actuator, piezoactuator or actuator with stepper motors. It is understood that the first and second mirrors are mounted on a support structure, insbeson ⁇ particular a supporting frame. Such storage is preferably vibration decoupled.
  • the target is for example an image plane or a pre ⁇ arranged in the image plane wafer.
  • the target object can be used as an optical element, such as a further mirror, a lens or an optical grating, out ⁇ forms to be.
  • aperture stops Such panels, which engage from the outside in a light beam, thereby forming a part thereof at its outer To hide ⁇ catch or shade.
  • Optskurationsblenden are arranged within the corresponding light beam and dazzle and thus shadow an inner Part of the corresponding light beam off or.
  • Ab ⁇ shadow is an absorption and / or a targeted reflection out of light rays of the working light out of the beam path to understand.
  • the working light preferably falls in the form of a cone of light on the first mirror, second mirror and on the target object.
  • partially circumferential is present, along a circumferential angle of less than 360 ° - to a light cone (dull) around the beam path - to understand Aperture diaphragm segmented such that the working light shading surfaces of the first aperture diaphragm segment with the working light shading surfaces of the second Aperturblendensegments are unconnected and offset from each other.
  • the first aperture segment is transverse to the direction from the first mirror to the second mirror spaced from the second aperture segment.
  • the optical system comprises a first obscuration positioned in front of the first mirror and adapted beitslicht Ar- that falls through the opening in the direction of the first mirror, ERS ⁇ shade, and a second obscuration, the front the second mirror is arranged on ⁇ and adapted to shade working light that falls from the first mirror in the direction of the second mirror.
  • the aforementioned obscuration diaphragm is, for example, the first or second obscuration diaphragm.
  • the first obscuration is formed as Ab ⁇ sorption and formed on the first mirror and / or the two ⁇ te obscuration as absorption coating and applied to the second mirror.
  • the absorbent coating is present, a coating which is to be directed ⁇ , work light based on an equal surface to more absorbie ⁇ ren as the reflective coating of the mirror.
  • the absorption coating has the advantage that undesired shadows on the reflection coating, which are generated by a holding device of an obscuration diaphragm, are avoided.
  • the Obskurati ⁇ onsblende is integrated to save space in the mirror by an absorption coating.
  • the absorption coating on the mirror allows a convenient material rial selection and the use of certain production technologies, in particular coating methods or surface treatments. In addition, no elaborate adjustment steps are required to align the obscuration aperture relative to the mirror.
  • the first and / or second obscuration can be formed as a foil or as a sheet, which is connected to the substrate or the reflective coating of the mirror.
  • a deflection coating or a deflecting element which deflects incident working light out of the beam path, for example to a light trap or the like, may be formed as a first and / or second obscuration diaphragm.
  • the first obscuration diaphragm is arranged with the aid of a support structure in front of the first mirror and / or the second obscuration diaphragm is arranged with the aid of a support structure in front of the second mirror.
  • the obscuration diaphragm does not touch the mirror.
  • the first Aperturblendensegment and / or the second Aperturblendensegment to a partially circular arc-shaped ⁇ , Oförmige and / or U-shaped light-determined contour.
  • the first aperture diaphragm segment shadows working light along a circumferential angle between 90 and 270 °, 120 and 240 °, 150 and 210 ° or 170 and 190 °.
  • the second aperture ⁇ dazzle segment shadowed work light along a circumferential angle of 90-270 °, 120 ° and 240 °, 150 ° and 210 ° or 170 ° and 190 ° from.
  • a light-defining contour formed by the first aperture segment is discontinuous and / or unconnected to a light-defining contour formed by the second aperture segment.
  • concisebestim ⁇ mender contour is a contour present, in particular edge of the aperture dazzling segment, to be understood, which limits a light passage area of the working light on the aperture diaphragm segment and thus at least partially forms the light passage area.
  • a cone of light can be formed by the light-determining contour.
  • the first and second aperture diaphragm segments thus form different light cones.
  • the first aperture diaphragm segment and / or the second aperture diaphragm segment is designed as a circular, arcuate, C-shaped, U-shaped and / or self-shaped annular segment.
  • first aperture diaphragm segment and / or the second aperture diaphragm segment are designed to be adjustable and / or trackable.
  • Aperture diaphragm segment relative to the first mirror and / or the second mirror for the preparation of a standby, in particular before a start-up and / or in a final assembly step of the optical system and / or between regular operations of the optical system to understand.
  • the second aperture diaphragm segment may be positioned or aligned relative to the second mirror and / or the target object. It is understood that an alignment with a support structure of the corresponding aperture diaphragm segment can also take place.
  • the second Aperturblendensegment can relative to the first mirror and / or the second mirror (or other levels of Lithography ⁇ phiestrom) during regular operation of the optical device nachge ⁇ leads or be positioned.
  • the optical device comprises a first actuator which is adapted to actuate the first aperture diaphragm segment for adjustment and / or tracking, and a second actuator which is adapted to the second aperture diaphragm segment for the adjustment and / or tracking to actuate.
  • the optical device includes, for example, a sensor configured to detect a position of the first aperture stop segment for adjustment and / or tracking, and a second sensor configured to adjust a position of the second aperture stop segment for adjustment and / or take tracking ⁇ to it. Based on the detected positions, for example, the first and / or the second actuator can be controlled.
  • the optical sys- tem may comprise a sensor frame to which the first and second sensors are attached, so that for example the respective positions of the aperture diaphragms ⁇ segments are detected relative to the sensor frame.
  • the first and / or the second actuator is designed for example as a Lorentz actuator, piezo actuator, or Ak ⁇ tuator with stepper motors.
  • Aperture diaphragm segment a first part which is in the beam path for a ⁇ form a light-defining contour and out of the beam path out, and a second part, wherein in a shift out of the first part of the beam path, the second part forms the light-defining contour.
  • the aperture diaphragm segment has a first switching position, in which the first part forms the light-determining contour, and a second switching position, in which the second part forms the light-determining contour.
  • the first part of the first and / or second Aperturblendensegments by means of a rotational and / or translato ⁇ step movement of the beam path out is displaceable.
  • the first part of the corresponding aperture diaphragm segment can be folded away.
  • the first part of entspre ⁇ sponding Aperturblendensegments can be pushed from the beam path out who ⁇ .
  • the second part of the first aperture ⁇ dazzle segment in the direction from the first mirror to the second mirror is arranged behind the first part and / or the second part of the second Aperturblendensegments in the direction from the second mirror to the target object before, or before or arranged behind the first part.
  • the optical system includes a base support frame and a ⁇ held by the base support frame first sub-frame, wherein the first Aperturblendensegment is held by means of the first subframe.
  • “Subframe” means herein a supporting structure, which is for example formed as a separate body or materially in one integrally formed on the base support frame.
  • the first sub-frame to the base support frame is at least teilwei- attached vibration-decoupled.
  • the first subframe is rela ⁇ tively adjustable to the base support frame.
  • the first of two or more Aperturblendensegmenten is only open from the first subframe ⁇ hold.
  • two or more aperture diaphragm segments may be held by the first sub-frame.
  • the optical system has a second sub-frame, which is held by the base support frame, wherein the second aperture diaphragm segment is held by means of the second sub-frame.
  • the second subframe is attached to the base support frame at least partially vibration-decoupled.
  • the second Operarah ⁇ men is adjustable relative to the base support frame.
  • only the second aperture diaphragm segment is held by the second subframe. It is understood that the first actuator of the first sub-frame and the second actuator can be held by the second sub-frame.
  • the optical arrangement comprises an optical element which has a breakthrough, a diaphragm which is arranged in front of the optical element, and a support structure which carries the diaphragm, the support structure protruding into the opening .
  • the aperture is preferably before ⁇ an obscuration.
  • the support structure is connected to the mirror within the aperture, that is, attached thereto. According to a further embodiment, the support structure extends over an entire length of the opening.
  • the optical element is formed as a mirror having a reflection side and a towand ⁇ te from the reflection side back side, wherein the aperture of the reflection side extends up to the rear side, wherein the aperture is disposed at the reflection side, and wherein the Supporting structure of the reflection side to behind the back he ⁇ stretches, this engages behind and is secured with this.
  • the lithography system may in particular be an EUV lithography system.
  • EUV stands for "extreme ultraviolet” (eng ⁇ lisch: extreme ultraviolet, EUV), and denotes a wavelength of the working light ⁇ between 0.1 and 30 nm
  • DUV stands for "deep ultraviolet” (English:. Deep ultraviolet, DUV ) and denotes a wavelength of the working light between 30 and 250 nm.
  • FIG. 1A shows a view of an EUV lithography system
  • Fig. 1B is a view of a DUV lithography apparatus
  • Fig. 2 is a schematic sectional view showing an optical system according to a first embodiment
  • Fig. 3 shows a schematic sectional view of the optical system according to a second embodiment
  • Fig. 4 shows an optical arrangement ge ⁇ Josess a first embodiment in a schematic sectional view
  • Fig. 5 shows in a schematic sectional view of an optical arrangement ge ⁇ Josess a second embodiment.
  • Fig. 1A is a schematic view of an EUV lithography apparatus 100A, which includes a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 ⁇ .
  • EUV stands for "extreme ultraviolet” (English: ext reme ultraviolet, EUV).
  • the radiation and illumination system 102 and the Pro ⁇ jedgingssystem 104 are each in a seen not shown vacuum housing before ⁇ , wherein the vacuum housing is evacuated by means of a not shown Evakuie ⁇ reasoning apparatus.
  • the vacuum housing are surrounded by a non-illustrated machine room, in which the drive device for the mechanical method and adjusting the optical elements vorgese are ⁇ hen. Further, electrical controls and the like may be provided in the machine room ⁇ sem.
  • the EUV lithography apparatus 100A has an EUV light source 106A.
  • EUV light source 106A for example, a plasma source (or synchrotron) may be provided, which radiation 108A in the EUV range (extreme ultraviolet range), ie z. B. in the wavelength range of 5 to 20 nm emitted.
  • EUV range extreme ultraviolet range
  • the EUV radiation 108A bundled and the desired operating wavelength of the EUV radiation 108A is filtered ⁇ forth.
  • the generated by the EUV light source 106A EUV radiation 108A has a relatively low transmissivity by air, which is why the beam ⁇ guide spaces in the radiation and illumination system 102 and the projec ⁇ onssystem 104 are evacuated.
  • the radiation and illumination system 102 illustrated in FIG. 1A has five mirrors 110, 112, 114, 116, 118.
  • the EUV radiation 108A is applied to the photomask (English: reticle) directed 120th
  • the photomask 120 is also formed as a reflective element and can optically table outside the systems 102, 104 may be angeord ⁇ net. Further, the EUV radiation 108A may be directed to the photomask 120 by means of a mirror 122.
  • the photomask 120 has a structure, which surface is imaged by means of the projection system 104 onto a wafer 124 or the like.
  • the projection system 104 (also referred to as a projection objective) has six mirrors M1 to M6 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124. Since ⁇ mirror Ml be arranged to M6 of the projection system 104 symmetrical to the optical axis 126 of projection system 104 in a single can. It should be noted that the number of mirrors of the EUV lithography apparatus 100A is not limited to the number shown. There may also be more or fewer mirrors. For example, the projection system 104 may include ten mirrors. Furthermore, the levels are usually at their pre ⁇ the side curved for beam shaping. In another embodiment, the projection system 104 may be embodied without an optical axis, wherein one or more mirrors M1 to M6 are designed as free-form surfaces.
  • Fig. 1B is a schematic view of the DUV lithography system 100B, che wel ⁇ a beam shaping and illumination system 102 and a projection system 104 includes.
  • DUV stands for "deep ultraviolet” (English: deep ultra violet, DUV) and denotes a working light wavelength between 30 and 250 nm.
  • the DUV lithography system 100B has a DUV light source 106B.
  • DUV light source 106B for example, an ArF excimer laser can be provided, which emits radiation 108B in the DUV range at, for example, 193 nm.
  • the radiation shaping and illumination system 102 illustrated in FIG. 1B conducts the DUV radiation 108B onto a photomask 120.
  • the photomask 120 is embodied as a transmissive optical element and can be arranged outside the systems 102, 104.
  • the photomask 120 has a structure which is reduced by means of the projection system 104 onto a wafer 124 or the same ⁇ is imaged.
  • the projection system 104 has a plurality of lenses 128 and / or mirrors 130 for imaging the photomask 120 onto the wafer 124. In this case, individual lenses 128 and / or mirrors 130 of the projection system 104 may be arranged symmetrically with respect to the optical axis 126 of the projection system 104.
  • the number of lenses and mirrors of the DUV system 100B is not limited to the number shown. It is also possible to provide more or fewer lenses and / or mirrors. Furthermore, the mirrors are usually curved at their front for beam shaping.
  • An air gap between the last lens 128 and the wafer 124 may be replaced by a liquid medium 132, which has a refractive index greater than 1 on ⁇ .
  • the liquid medium may be, for example, high purity water.
  • a sol ⁇ cher structure is referred to as immersion lithography and has, an increased photolithographic resolution on.
  • FIG. 2 shows a schematic section through an optical system 200 for the lithography system 100A, 100B.
  • the optical system 200 includes a first mirror 202, which defines a beam path 204, and a second mirror 206, which defines the beam path 204 and has an opening 208 where ⁇ falls at work light 210 through the aperture 208 on the first mirror 202, from the first mirror 202 to the second mirror 206 and from the second mirror 206 to a target object 212, in particular the in an image plane E3 to ⁇ ordered wafer 124, is reflective.
  • the first mirror 202 is, for example, the mirror M5 of FIG. 1A
  • the second mirror 206 is, for example, the mirror M6 of FIG. 1A.
  • the first and second mirrors 202, 206 could also be the ninth and tenth mirrors, that is to say the mirrors arranged in the beam path 204 on the penultimate and last point in front of the wafer 124.
  • the first mirror 202 comprises a substrate 214 and a reflection coating 216 applied to the substrate 214.
  • the second one also comprises Mirror 206, a substrate 218 and a coating applied to the substrate 218-reflectance onsbe harshung 220.
  • the optical system 200 includes a Obskura- tion aperture 222, which is between the first mirror 202 and arranged to the second Spie ⁇ gel 206th
  • the obscuration stop 222 is applied as an absorption and / or deflection coating on the reflective coating 220 around the aperture 208.
  • the absorption coating is adapted to work ⁇ light 210 relative to a same area more than the reflective coating 220 to absorb.
  • the deflection coating is configured to reflect working light 210 out of the beam path 204 so that it does not reach the target object 212.
  • the obscuration bezel 222 may also be present as a corresponding sheet or foil that is applied to the reflective coating 220.
  • the optical system 200 includes an aperture 224 which has a first Aperturblendensegment 226 and a second Aperturblendensegment 228, wherein the first Aperturblendensegment 226 circumferentially partly working ⁇ light 210 reflektier ⁇ bar from the first mirror 202 to the second mirror 206, and the second aperture diaphragm segment 228 partially shadows working light 210 that is reflectable from the second mirror 206 to the target object 212.
  • the first 226 and second aperture stops Aperturblendensegment ⁇ segment 228 are spaced apart in the direction Rl of the first mirror 202 to the second mirror 206 from each other.
  • the first Aperturblendensegment 226 ⁇ it extends along a first main plane El and the second Aperturblendensegment 228 extends along a second main plane of extension E2.
  • the first and second main extension planes El, E2 have a distance D from one another.
  • the distance D be ⁇ carries, for example, between 150 mm and 400 mm, 200 mm and 300 mm or 230 mm and 270 mm.
  • Rl surrounds the obscuration the annular By ⁇ break 208 222, in particular annular.
  • the first Aperturblendensegment 226 forms a first light-determining contour 230 and the second Aperturblendensegment 228 forms a second lichtbestim ⁇ Mende contour 232 of.
  • the first and second light-determining contours 230, 232 may have a circular segment-shaped, arcuate, C-shaped, U-shaped or sig-shaped geometry.
  • the first aperture stops ⁇ segment 226 and the second Aperturblendensegment may be 228 out of a circular ring-shaped, arc-shaped, C-shaped, U-shaped or ring segment-shaped sichei ⁇ forms.
  • the first and second aperture segments 226, 228 may be adjustable and / or trackable.
  • FIG. 3 shows a second embodiment of the optical system 200.
  • the work light 210 through the opening 208 in direction R2 of the first mirror 202 falls, shaded, and a second obscuration aperture 302 is arranged in front of the second mirror 206, the working light 210, that of the first mirror 202 in the direction Rl of the second
  • the second obscuration diaphragm 302 is viewed in the direction of R 1 in an annular manner around the opening 208. For example, only one of the two obscuration apertures 300, 302 may be present. Viewed from the direction R2, the first obstruction diaphragm 300 has, for example, an oval or circular outer contour. Furthermore, the first obscuration diaphragm 300 may, for example, have a disk shape.
  • a base support frame 308 is provided, on which a first Operarah ⁇ men 310 and a second sub-frame 312 are held (in Fig. Respectively indicated with egg ner connecting line 3).
  • the first aperture segment 226 is connected to and held by the first sub-frame 310.
  • the two ⁇ aperture aperture segment 228 is connected to the second sub-frame 312 and is held by this.
  • a third sub-frame 314 is connected to the base support frame 308, wherein the first, second, and third sub-frames 310, 312, 314 enclose a space 316 (so-called "mini-environment") within a volume 318 enclosed by the base frame 308.
  • the space 316 there is a positive pressure relative to the remaining volume that is enclosed by the base support frame ⁇ 308th the increased pressure makes it difficult to penetrate dirt particles into the space 316th
  • the optical system 200 includes a first actuator 304 configured to actuate the first aperture segment 226 for adjustment and / or tracking, and a second actuator 306 configured to adjust the second aperture segment 228 for adjustment and / or or Nachtile ⁇ ren to actuate.
  • the first Aperturblendensegment 226 includes a first portion 320, with the aid of the first actuator 304 in the optical path 204 for forming the first light-determining contour 230 into and be displaced from the beam path 204 out, and a second portion 322, wherein in a Herausver ⁇ store the first part 320 from the beam path 204 of the second part 322, the first light-defining contour 230 is formed.
  • the second Aperturblendenseg ⁇ element 228 includes a first portion 324, which in the beam path 204 is displaceable by means of the second actuator 306 for forming the second light-determining Kon ⁇ structure 232 into and from the light path 204 out, and a second portion 326, wherein when the first part 324 is moved out of the beam path 204, the second part 326 forms the second light-determining contour 232.
  • the second part 322 is arranged ⁇ 320 is in the direction Rl of the first part.
  • the second part 326 is arranged in the direction from the second mirror 206 to the target object 212 behind the first part 324.
  • the first part 320, 324 is displaceable out of the beam path 304 by means of a rotational and / or translational movement. This makes it possible the Aperturblendensegmente 226 to actively control 228 to selectively vary as the nume ⁇ generic aperture.
  • a second aperture stop 328 can be arranged on the first mirror 202 and / or a third aperture stop 330 can be arranged on the second mirror 206, which are present as a reflection and / or deflection coating.
  • the second and third aperture stop 328, 330 may also be present as a corresponding sheet or foil.
  • the third aperture stop 330 annularly encloses a reflection surface 332 of the second mirror 206.
  • the second aperture stop 328 annularly encloses a reflection surface 334 of the first mirror 202.
  • the optical arrangement 400 comprises an optical element 402 which has an aperture 404, a diaphragm 406 which is arranged in front of the optical element 402, and a support structure 408 which supports the diaphragm 406, wherein the support structure 408 penetrates into the aperture 404 in ⁇ protrudes.
  • the support structure 408 comprises a particularly tubular section 410, which connects in particular termein Nativeig to the panel 406, and a projection 412, which adjoins the tubular portion 410 and with a lying within the opening 404 surface 414 of the optical element 402, in particular materially connected is.
  • the tubular portion 410 does not contact the surface 414.
  • the optical element 402 has, for example, a reflection side 418 and a rear side 420 facing away from the reflection side 418, the opening 404 extending from the reflection side 418 to the back side 420.
  • the diaphragm 406 is arranged on the reflection side 418.
  • the support structure 408 ends inside of the opening 404.
  • ⁇ summarizes the aperture 406 an aperture 416.
  • the aperture 406 is, for example, annular, in particular annular.
  • the aperture 406 may also have an oval geometry.
  • the aperture 406 is an obscuration aperture or aperture stop.
  • the optical element 402, the stop 406 and the support structure 408 may also be provided in the optical system 200 (see FIGS. 2 and 3) instead of the second mirror 206 and the second obscuration diaphragm 302.
  • the optical assembly 400 may also be provided instead of one of the mirrors M1-M6 (see FIG. 1A), one of the mirrors 130, or one of the lenses 128 (see FIG. 1B).
  • Fig. 5 shows a second embodiment of an optical assembly 400.
  • the aperture 406 with an end surface 500 of the tubular portion 410 in particular cohesively joined.
  • the material bond can be done for example by gluing, welding or soldering.
  • the tubular portion 408 extends over an entire length of the opening 404, wherein the adjoining the tubular portion 410 projection 412, the rear ⁇ side 420 engages behind and at this, in particular cohesively, is attached.

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Abstract

Offenbart wird ein optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Spiegel (202), einem zweiten Spiegel (206), der einen Strahlengang (204) zusammen mit dem ersten Spiegel (202) definiert und ferner einen Durchbruch (208) aufweist, wobei das optische System (200) dazu eingerichtet ist, dass Arbeitslicht (210) durch den Durchbruch (208) auf den ersten Spiegel (202) fällt, wobei Arbeitslicht (210) von dem ersten Spiegel (202) auf den zweiten Spiegel (206) und von dem zweiten Spiegel (206) zu einem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, einer Obskurationsblende (222), welche innerhalb des Strahlengangs (204) zwischen dem ersten Spiegel (202) und dem zweiten Spiegel (206) angeordnet ist, und einer Aperturblende (224), welche ein erstes Aperturblendensegment (226) und ein zweites Aperturblendensegment (228) aufweist, wobei das erste Aperturblendensegment (226) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) reflektierbar ist, und das zweite Aperturblendensegment (228) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem zweiten Spiegel (206) zu dem Zielobjekt (212) reflektierbar ist, abzuschatten, wobei das erste Aperturblendensegment (226) und das zweite Aperturblendensegment (228) in Richtung (R1) von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) beabstandet voneinander sind.

Description

OPTISCHES SYSTEM, OPTISCHE ANORDNUNG UND
LITHOGRAPHIEANLAGE
Der Inhalt der deutschen Patentanmeldung DE 10 2017 215 544.2, angemeldet am 5. September 2017, wird vollumfänglich in die vorliegende Anmeldung aufge¬ nommen.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches System, eine optische Anordnung sowie eine Lithographieanlage.
Die Mikrolithografie wird zur Herstellung mikro strukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierte Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographiepro- zess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungs¬ system und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuch- tungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektions¬ systems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Fotoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat (z. B. ein Silizium wafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Be- schichtung des Substrats zu übertragen.
Getrieben durch das Streben nach immer kleineren Strukturen bei der Herstel¬ lung integrierter Schaltungen werden derzeit EUV- Lithographieanlagen entwi¬ ckelt, welche Licht mit einer Wellenlänge im Bereich von 0,1 bis 30 nm (Nanome- ter), insbesondere 13,5 nm, verwenden. Bei solchen EUV-Lithographieanlagen müssen wegen der hohen Absorption der meisten Materialien von Licht dieser Wellenlänge reflektierende Optiken, das heißt Spiegel, anstelle von— wie bisher — brechenden Optiken, das heißt Linsen, eingesetzt werden.
Neben der Wellenlänge ist auch die numerische Apertur eine wichtige Kenngröße von Lithographieanlagen. Die numerische Apertur wird bei Lithographieanlagen mithilfe von Aperturblenden (auch als NA-Blenden bezeichnet) eingestellt. Da- neben kommen Obskurationsblenden zum Einsatz, um eine Obskuration im Strahlengang abzuschatten.
Um die Obskurationsblende innerhalb des Strahlengangs anordnen zu können, ist in der Regel eine Haltevorrichtung vorgesehen, die die Obskurationsblende beispielsweise an einem Gehäuse des optischen Systems abstützt. Die Obskurati¬ onsblende wird vor einem optischen Element, z.B. einem Spiegel, und in der Re¬ gel beabstandet zu dem optischen Element angeordnet. Ebenso ist es üblich eine Aperturblende vor einem optischen Element, insbesondere einem Spiegel, mit Hilfe einer Haltevorrichtung anzuordnen. Haltevorrichtungen haben oft den
Nachteil, dass diese in den Strahlengeng hineinragen und somit ungewollte Ab- schattungs- und Reflexionseffekte mit sich bringen.
Anordnungen mit einem ersten Spiegel und einem zweiten Spiegel, der einen Durchbruch aufweist, wobei Arbeitslicht durch den Durchbruch auf den ersten Spiegel fällt, von dem ersten Spiegel auf den zweiten Spiegel und von dem zwei¬ ten Spiegel zu einem Zielobjekt reflektiert wird, können auch als h-Design be¬ zeichnet werden. Diese haben das Problem, dass ein Vorsehen einer Apertur¬ blende, die genau um das vom ersten zum zweiten Spiegel reflektierte Arbeits- licht herum verläuft, teilweise ein Hindernis für das Arbeitslicht, das vom zwei¬ ten Spiegel zum dem Zielobjekt reflektiert wird, darstellt.
Weiterhin sind Aperturblenden bekannt, die aus unterschiedlichen Segmenten (englisch:„split stop") bestehen und in einer Pupillenebene oder in der Nähe der Pupillenebene angeordnet sind.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein verbessertes optisches System, eine verbesserte optische Einrichtung und eine verbesserte Lithographieanlage bereitzustellen.
Demgemäß wird ein optisches System für eine Lithographieanlage bereitgestellt, mit einem ersten Spiegel, einem zweiten Spiegel, der einen Strahlengang zu- sammen mit dem ersten Spiegel definiert und ferner einen Durchbruch aufweist, wobei das optische System dazu eingerichtet ist, dass Arbeitslicht durch den Durchbruch auf den ersten Spiegel fällt, wobei Arbeitslicht von dem ersten Spie¬ gel auf den zweiten Spiegel und von dem zweiten Spiegel zu einem Zielobjekt re_ flektierbar ist, einer Obskurationsblende, welche innerhalb des Strahlengangs zwischen dem ersten Spiegel und dem zweiten Spiegel angeordnet ist, und einer Aperturblende, welche ein erstes Aperturblendensegment und ein zweites
Aperturblendensegment aufweist, wobei das erste Aperturblendensegment dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht, das von dem ersten Spiegel zu dem zweiten Spiegel reflektierbar ist, und das zweite Aperturblendensegment dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht, das von dem zweiten Spiegel zu dem Zielobjekt reflektierbar ist, abzuschatten, wobei das erste Aperturblendenseg¬ ment und das zweite Aperturblendensegment in Richtung von dem ersten Spie¬ gel zu dem zweiten Spiegel beabstandet voneinander sind.
Indem das erste und das zweite Aperturblendensegment beabstandet in Richtung von dem ersten Spiegel zu dem zweiten Spiegel angeordnet sind, können unter¬ schiedliche Ebenen genutzt werden, um die Aperturblende in dem Strahlengang anzuordnen. Dies hat den Vorteil, dass unterschiedliche Blendenebenen ausge- nutzt werden können. Weiterhin kann dadurch beispielsweise ein Bauraum fle¬ xibler genutzt werden und/oder ein Tragrahmen und/oder Aktuatoren zweckmä¬ ßiger in eine Lithographieanlage integriert werden. Außerdem kann durch das zusätzliche Vorsehen der Obskurationsblende eine feldabhängige Abschattung aufgrund des Durchbruchs in der Austrittspupille eliminiert werden.
Unter„Arbeitslicht" ist vorliegend Licht bzw. ein Lichtbündel zu verstehen, das zur Belichtung in dem optischen System genutzt wird, um eine Maskenstruktur auf eine lichtempfindliche Beschichtung des Substrats (insbesondere mikrostruk¬ turiertes Bauelement) zu übertragen. Unter„Strahlengang" wird der geometri- sehe Verlauf von Lichtstrahlen (Arbeitslicht) hin zu einem Zielobjekt, beispiels¬ weise einem zu belichtenden Wafer, verstanden. Unter„Durchbruch" ist vorliegend ein Durchgangsloch, z.B. durch den zweiten Spiegel, zu verstehen.
Der erste und zweite Spiegel umfassen beispielsweise jeweils ein Substrat und eine auf das Substrat aufgebrachte Reflexionsbeschichtung zum Reflektieren des Arbeitslichts, die auch als Mehrlagenbeschichtung ausgebildet sein kann. Vor¬ zugsweise ist die Reflexionsbeschichtung des ersten Spiegels der Reflexionsbe¬ schichtung des zweiten Spiegels zugewandt. Beispielsweise ist der erste und/oder zweite Spiegel jeweils mit Hilfe eines Spiegel- Aktuators zum Nachführen einer Position des Spiegels aktuierbar. Der Spiegel- Aktuator ist beispielsweise als Lo- renz-Aktuator, Piezoaktuator oder Aktuator mit Schrittmotoren ausgebildet. Es versteht sich, dass der erste und zweite Spiegel an einer Tragstruktur, insbeson¬ dere einem Tragrahmen, gelagert sind. Eine derartige Lagerung ist vorzugsweise schwingungsentkoppelt.
Das Zielobjekt ist beispielsweise eine Bildebene bzw. ein in der Bildebene ange¬ ordneter Wafer. Alternativ kann das Zielobjekt als ein optisches Element, wie beispielsweise ein weiterer Spiegel, eine Linse oder ein optisches Gitter, ausge¬ bildet sein.
Unter„Aperturblenden" versteht man solche Blenden, welche von außen in ein Lichtbündel eingreifen und dadurch einen Teil desselben an seinem äußeren Um¬ fang ausblenden bzw. abschatten.„Obskurationsblenden" sind dagegen innerhalb des entsprechenden Lichtbündels angeordnet und blenden bzw. schatten somit einen inneren Teil des entsprechenden Lichtbündels aus bzw. ab. Unter„Ab¬ schatten" ist eine Absorption und/oder ein gezieltes Herausreflektieren von Lichtstrahlen des Arbeitslichts heraus aus dem Strahlengang zu verstehen.
Vorzugswiese fällt das Arbeitslicht jeweils in Form eines Lichtkegels auf den ers- ten Spiegel, zweiten Spiegel und auf das Zielobjekt. Unter„teilumfänglich" ist vorliegend, entlang eines Umfangswinkels von weniger als 360°— um einen Lichtkegel(stumpf) des Strahlengangs herum - zu verstehen. Weiterhin ist die Aperturblende derart segmentiert, dass die Arbeitslicht abschattenden Flächen des ersten Aperturblendensegments mit den Arbeitslicht abschattenden Flächen des zweiten Aperturblendensegments unverbunden und versetzt voneinander sind. Insbesondere ist das erste Aperturblendensegment quer zu der Richtung von dem ersten Spiegel zu dem zweiten Spiegel beabstandet von dem zweiten Aperturblendensegment.
Gemäß einer Ausführungsform umfasst das optische System eine erste Obskura- tionsblende, die vor dem ersten Spiegel angeordnet und dazu eingerichtet ist, Ar- beitslicht, das durch den Durchbruch in Richtung des ersten Spiegels fällt, abzu¬ schatten, und eine zweite Obskurationsblende, die vor dem zweiten Spiegel an¬ geordnet und dazu eingerichtet ist, Arbeitslicht, das von dem ersten Spiegel in Richtung des zweiten Spiegels fällt, abzuschatten. Die zuvor genannte Obskurationsblende ist beispielsweise die erste oder zweite Obskurationsblende. Das Vorsehen der ersten und/oder zweiten Obskurations¬ blende hat den Vorteil, dass eine feldabhängige Abschattung aufgrund des Durchbruchs in der Austrittspupille eliminiert werden kann. Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die erste Obskurationsblende als Ab¬ sorptionsbeschichtung ausgebildet und auf dem ersten Spiegel und/oder die zwei¬ te Obskurationsblende als Absorptionsbeschichtung ausgebildet und auf dem zweiten Spiegel aufgebracht. Die Absorptionsbeschichtung ist vorliegend eine Beschichtung, die dazu einge¬ richtet ist, Arbeitslicht auf eine gleichgroße Fläche bezogen stärker zu absorbie¬ ren als die Reflexionsbeschichtung des Spiegels. Die Absorptionsbeschichtung hat den Vorteil, dass unerwünschte Schatten auf der Reflektionsbeschichtung, die von einer Haltevorrichtung einer Obskurationsblende erzeugt werden, ver- mieden werden. Ferner wird durch eine Absorptionsbeschichtung die Obskurati¬ onsblende platzsparend in den Spiegel integriert. Darüber hinaus ermöglicht das Anordnen der Absorptionsbeschichtung auf dem Spiegel eine zweckmäßige Mate- rialauswahl und den Einsatz bestimmter Fertigungstechnologien, insbesondere Beschichtungsverfahren oder Oberflächenbehandlungen. Außerdem sind keine aufwendigen Justierschritte erforderlich, um die Obskurationsblende relativ zu dem Spiegel auszurichten. Alternativ kann die erste und/oder zweite Obskurati- onsblende als eine Folie oder als ein Blech, die/das mit dem Substrat oder der Reflektionsbeschichtung des Spiegels verbunden ist, ausgebildet sein. Weiterhin kann alternativ oder zusätzlich zu der Absorptionsbeschichtung eine Ablenkbe- schichtung oder eine Ablenkelement, die/das einfallendes Arbeitslicht aus dem Strahlengang z.B. zu einer Lichtfalle oder dergleichen hin ablenkt, als erste und/oder zweite Obskurationsblende ausgebildet sein.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist die erste Obskurationsblende mit Hilfe einer Tragstruktur vor dem ersten Spiegel angeordnet und/oder die zweite Obskurationsblende mit Hilfe einer Tragstruktur vor dem zweiten Spiegel ange- ordnet.
Vorzugsweise berührt dabei die Obskurationsblende den Spiegel nicht.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das erste Aperturblendensegment und/oder das zweite Aperturblendensegment eine teilweise kreisförmige, bogen¬ förmige, Oförmige und/oder U-förmige lichtbestimmende Kontur auf.
Damit kann zuverlässig ein teilumfänglicher Eingriff in den Strahlengang ge¬ währleistet werden. Insbesondere schattet das erste Aperturblendensegment Ar- beitslicht entlang eines Umfangswinkels zwischen 90 und 270°, 120 und 240°, 150 und 210° oder 170 und 190° ab. Insbesondere schattet das zweite Apertur¬ blendensegment Arbeitslicht entlang eines Umfangswinkels zwischen 90 und 270°, 120 und 240°, 150 und 210° oder 170 und 190° ab. Eine lichtbestimmende Kontur, die von dem ersten Aperturblendensegment ausgebildet wird, ist mit ei- ner lichtbestimmenden Kontur, die von dem zweiten Aperturblendensegment ausgebildet wird, diskontinuierlich und/oder unverbunden. Unter„lichtbestim¬ mender Kontur" ist vorliegend eine Kontur, insbesondere Kante des Apertur- blendensegments, zu verstehen, die eine Lichtdurchtrittsfläche des Arbeitslichts an dem Aperturblendensegment begrenzt und die Lichtdurchtrittsfläche damit zumindest teilweise formt. Somit kann beispielsweise ein Lichtkegel durch die lichtbestimmende Kontur geformt werden. Das erste und zweite Aperturblenden- segment formen damit unterschiedliche Lichtkegel.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das erste Aperturblendensegment und/oder das zweite Aperturblendensegment als kreisförmiges, bogenförmiges, C- förmiges, U-förmiges und/oder sichei-förmiges Ringsegment ausgebildet.
Damit kann gewährleistet werden, dass ausreichend Arbeitslicht mit Hilfe des Ringsegments abgeschattet wird.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform sind das erste Aperturblendensegment und/oder das zweite Aperturblendensegment justierbar und/oder nachführbar ausgestaltet.
Dabei ist unter„Justieren" das Positionieren oder Ausrichten des ersten
Aperturblendensegments relativ zu dem ersten Spiegel und/oder dem zweiten Spiegel für die Herstellung einer Betriebsbereitschaft, insbesondere vor einer Inbetriebnahme und/oder bei einem Endmontageschritt des optischen Systems und/oder zwischen regulären Betrieben des optischen Systems, zu verstehen. Analog kann das zweite Aperturblendensegment relativ zu dem zweiten Spiegel und/oder dem Zielobjekt positioniert oder ausgerichtet werden. Es versteht sich, dass dabei auch eine Ausrichtung zu einer Tragstruktur des entsprechenden Aperturblendensegments erfolgen kann.
Unter„Nachführen" ist vorliegend ein Positionieren oder Ausrichten des ersten Aperturblendensegments relativ zu dem ersten Spiegel und/oder dem zweiten Spiegel (oder einem anderen Spiegel der Lithographieanlage) während eines Be¬ lichtungsbetriebs des optischen Systems, d.h. während der Belichtung eines Wafers/Dies und/oder in den dazwischenliegenden Zeitintervallen, zu verstehen. Entsprechend kann das zweite Aperturblendensegment relativ zu dem ersten Spiegel und/oder dem zweiten Spiegel (oder einem anderen Spiegel der Lithogra¬ phieanlage) während eines regulären Betriebs der optischen Einrichtung nachge¬ führt oder positioniert werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform umfasst die optische Einrichtung einen ersten Aktuator, der dazu eingerichtet ist, das erste Aperturblendensegment für das Justieren und/oder Nachführen zu aktuieren, und einen zweiten Aktuator, der dazu eingerichtet ist, das zweite Aperturblendensegment für das Justieren und/oder Nachführen zu aktuieren.
Dies hat den Vorteil, dass trotz schlechter Zugänglichkeit eine Justierbarkeit und Nachführbarkeit gewährleistet werden kann. Ferner umfasst die optische Einrichtung beispielsweise einen Sensor, der dazu eingerichtet ist, eine Position des ersten Aperturblendensegments für das Justieren und/oder Nachführen zu erfassen, und einen zweiten Sensor, der dazu eingerichtet ist, eine Position des zweiten Aperturblendensegments für das Justieren und/oder Nachführen zu er¬ fassen. Auf Basis der erfassten Positionen kann beispielsweise der erste und/oder der zweite Aktuator angesteuert werden. Beispielsweise kann das optische Sys- tem einen Sensorrahmen umfassen, an dem der erste und zweite Sensor befestigt sind, sodass beispielsweise die entsprechenden Positionen der Aperturblenden¬ segmente relativ zu dem Sensorrahmen erfasst werden. Der erste und/oder der zweite Aktuator ist beispielsweise als Lorenz-Aktuator, Piezoaktuator oder Ak¬ tuator mit Schrittmotoren ausgebildet.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das erste und/oder zweite
Aperturblendensegment einen ersten Teil, der in den Strahlengang für ein Aus¬ bilden einer lichtbestimmenden Kontur hinein und aus dem Strahlengang heraus verlagerbar ist, und einen zweiten Teil auf, wobei bei einem Herausverlagern des ersten Teils aus dem Strahlengang der zweite Teil die lichtbestimmende Kontur ausbildet. Beispielsweise weist das Aperturblendensegment eine erste Schaltstellung auf, in der der erste Teil die lichtbestimmende Kontur ausbildet, und eine zweite Schaltstellung, in der der zweite Teil die lichtbestimmende Kontur ausbildet. Hierdurch kann beispielsweise zwischen verschiedenen numerischen Aperturen geschalten werden.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der erste Teil des ersten und/oder zweiten Aperturblendensegments mittels einer rotatorischen und/oder translato¬ rischen Bewegung aus dem Strahlengang heraus verlagerbar.
Beispielsweise kann der erste Teil des entsprechenden Aperturblendensegments weggeklappt werden. Alternativ oder zusätzlich kann der erste Teil des entspre¬ chenden Aperturblendensegments aus dem Strahlengang heraus geschoben wer¬ den.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist der zweite Teil des ersten Apertur¬ blendensegments in Richtung von dem ersten Spiegel zu dem zweiten Spiegel vor oder hinter dem ersten Teil angeordnet und/oder der zweite Teil des zweiten Aperturblendensegments in Richtung von dem zweiten Spiegel zu dem Zielobjekt vor oder hinter dem ersten Teil angeordnet.
Folglich sind der erste und der zweite Teil des jeweiligen Aperturblendenseg¬ ments in Lichtrichtung des Arbeitslichts beabstandet angeordnet. Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische System einen Basis¬ tragrahmen und einen von dem Basistragrahmen gehaltenen ersten Teilrahmen auf, wobei das erste Aperturblendensegment mit Hilfe des ersten Teilrahmens gehalten ist. „Teilrahmen" meint vorliegend eine Tragstruktur, die z.B. als separater Körper ausgebildet oder materialeinstückig an den Basistragrahmen angeformt ist. Bei¬ spielsweise ist der erste Teilrahmen an den Basistragrahmen zumindest teilwei- se schwingungsentkoppelt befestigt. Vorzugsweise ist der erste Teilrahmen rela¬ tiv zu dem Basistragrahmen justierbar. Beispielsweise ist lediglich das erste von zwei oder mehreren Aperturblendensegmenten von dem ersten Teilrahmen ge¬ halten. Alternativ können zwei oder mehr Aperturblendensegmente von dem ers- ten Teilrahmen gehalten sein.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform weist das optische System einen zweiten Teilrahmen auf, der von dem Basistragrahmen gehalten ist, wobei das zweite Aperturblendensegment mit Hilfe des zweiten Teilrahmens gehalten ist.
Beispielsweise ist der zweite Teilrahmen an den Basistragrahmen zumindest teilweise schwingungsentkoppelt befestigt. Vorzugsweise ist der zweite Teilrah¬ men relativ zu dem Basistragrahmen justierbar. Beispielsweise wird lediglich das zweite Aperturblendensegment von dem zweiten Teilrahmen gehalten. Es versteht sich, dass der erste Aktuator von dem ersten Teilrahmen und der zweite Aktuator von dem zweiten Teilrahmen gehalten sein können.
Ferner wird eine optische Anordnung für eine Lithographieanlage vorgeschlagen. Die optische Anordnung umfasst ein optisches Element, welches einen Durch- bruch aufweist, eine Blende, die vor dem optischen Element angeordnet ist, und eine Tragstruktur, die die Blende trägt, wobei die Tragstruktur in den Durch¬ bruch hineinragt.
Indem die Tragstruktur der Blende in den Durchbruch hineinragt, können uner- wünschte Hindernisse für das Arbeitslicht, wie z.B. Haltestege vor dem Spiegel, die durch den Strahlengang verlaufen, vermieden werden. Die Blende ist vor¬ zugsweise eine Obskurationsblende.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Tragstruktur innerhalb des Durchbruchs an den Spiegel angebunden, d.h. an diesem befestigt. Gemäß einer weiteren Ausführungsform erstreckt sich die Tragstruktur über eine gesamte Länge des Durchbruchs.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform ist das optische Element als Spiegel ausgebildet, der eine Reflexionsseite und eine von der Reflexionsseite abgewand¬ te Rückseite aufweist, wobei der Durchbruch von der Reflexionsseite bis zu der Rückseite verläuft, wobei die Blende an der Reflexions Seite angeordnet ist und wobei die Tragstruktur sich von der Reflexionsseite bis hinter die Rückseite er¬ streckt, diese hintergreift und mit dieser befestigt ist. Dadurch kann eine zuver- lässige Anbindung der Blende an den Spiegel bereitgestellt werden.
Außerdem wird eine Lithographieanlage mit einem optischen System, wie vor¬ stehend beschrieben, und/oder einer optischen Anordnung, wie vorstehend be¬ schrieben, vorgeschlagen.
Bei der Lithographieanlage kann es sich insbesondere um eine EUV- Lithographieanlage handeln. Dabei steht EUV für„extremes Ultraviolett" (eng¬ lisch: extreme ultra violet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeits¬ lichts zwischen 0,1 und 30 nm. DUV steht für„tiefes Ultraviolett" (englisch: deep ultra violet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm.
„Ein" ist vorliegend nicht zwangsweise als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine genaue Beschränkung auf genau die entsprechende Anzahl von Elementen verwirklicht sein muss. Vielmehr sind zah¬ lenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich. Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli¬ zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh¬ rungsbeispiele beschriebenen Merkmale oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen- stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs¬ beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug¬ ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert. Fig. 1A zeigt eine Ansicht einer EUV- Lithographieanlage;
Fig. 1B zeigt eine Ansicht einer DUV- Lithographieanlage;
Fig. 2 zeigt in einer schematischen Schnittansicht ein optisches System gemäß einer ersten Ausführungsform;
Fig. 3 zeigt in einer schematischen Schnittansicht das optische System gemäß einer zweiten Ausführungsform; Fig. 4 zeigt in einer schematischen Schnittansicht eine optische Anordnung ge¬ mäß einer ersten Ausführungsform; und
Fig. 5 zeigt in einer schematischen Schnittansicht eine optische Anordnung ge¬ mäß einer zweiten Ausführungsform.
In den Figuren sind gleiche oder funktions gleiche Elemente mit denselben Be¬ zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Soweit ein Bezugszeichen vorliegend mehrere Bezugslinien aufweist, heißt dies, dass das entsprechende Element mehrfach vorhanden ist. Bezugszeichenlinien, die auf verdeckte Details weisen, sind gestrichelt dargestellt. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendigerweise ma߬ stabsgerecht sind. Fig. 1A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV- Lithographieanlage 100A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektions¬ system 104 umfasst. Dabei steht EUV für„extremes Ultraviolett" (englisch: ext- reme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwi¬ schen 0,1 und 30 nm. Das Strahlungs- und Beleuchtungssystem 102 und das Pro¬ jektionssystem 104 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum- Gehäuse vor¬ gesehen, wobei das Vakuum- Gehäuse mithilfe einer nicht dargestellten Evakuie¬ rungsvorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum- Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem die Antriebsvorrichtung zum mechanischen Verfahren bzw. Einstellen der optischen Elemente vorgese¬ hen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und dergleichen in die¬ sem Maschinenraum vorgesehen sein. Die EUV- Lithographieanlage 100A weist eine EUV- Lichtquelle 106A auf. Als
EUV- Lichtquelle 106A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder Synchrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 108A im EUV- Bereich (extrem ultravioletter Bereich), also z. B. im Wellenlängenbereich von 5 bis 20 nm, aussendet. Im Strahlungs- und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A gebün- delt und die gewünschte Betriebswellenlänge aus der EUV-Strahlung 108A her¬ ausgefiltert. Die von der EUV- Lichtquelle 106A erzeugte EUV-Strahlung 108A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahl¬ führungsräume im Strahlungs- und Beleuchtungssystem 102 und im Projekti¬ onssystem 104 evakuiert sind.
Das in Fig. 1A dargestellte Strahlungs- und Beleuchtungssystem 102 weist fünf Spiegel 110, 112, 114, 116, 118 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahlungs¬ und Beleuchtungssystem 102 wird die EUV-Strahlung 108A auf die Fotomaske (englisch: reticle) 120 geleitet. Die Fotomaske 120 ist ebenfalls als reflektives op- tisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 102, 104 angeord¬ net sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 108A mittels eines Spiegels 122 auf die Fotomaske 120 gelenkt werden. Die Fotomaske 120 weist eine Struktur auf, wel- che mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einen Wafer 124 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 104 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist sechs Spiegel Ml bis M6 zur Abbildung der Fotomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Da¬ bei können einzelne Spiegel Ml bis M6 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel der EUV-Lithographieanlage 100A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder we- niger Spiegel vorgesehen sein. Beispielsweise kann das Projektionssystem 104 zehn Spiegel umfassen. Des Weiteren sind die Spiegel in der Regel an ihrer Vor¬ derseite zur Strahlformung gekrümmt. In einer anderen Ausführungsform kann das Projektions System 104 ohne optische Achse ausgeführt sein, wobei ein oder mehrere Spiegel Ml bis M6 als Freiformflächen ausgeführt sind.
Fig. 1B zeigt eine schematische Ansicht der DUV- Lithographieanlage 100B, wel¬ che ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 102 und ein Projektionssystem 104 umfasst. Dabei steht DUV für„tiefes Ultraviolett" (englisch: deep ultra vio- let, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 und 250 nm.
Die DUV- Lithographieanlage 100B weist eine DUV- Lichtquelle 106B auf. Als DUV- Lichtquelle 106B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 108B im DUV- Bereich bei beispielsweise 193 nm emit- tiert.
Das in Fig. 1B dargestellte Strahlungsformungs- und Beleuchtungssystem 102 leitet die DUV-Strahlung 108B auf eine Fotomaske 120. Die Fotomaske 120 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Syste- me 102, 104 angeordnet sein. Die Fotomaske 120 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 104 verkleinert auf einem Wafer 124 oder der¬ gleichen abgebildet wird. Das Projektionssystem 104 weist mehrere Linsen 128 und/oder Spiegel 130 zur Abbildung der Fotomaske 120 auf den Wafer 124 auf. Dabei können einzelne Linsen 128 und/oder Spiegel 130 des Projektionssystems 104 symmetrisch zur optischen Achse 126 des Projektionssystems 104 angeordnet sein. Es sollte be¬ achtet werden, dass die Anzahl der Linsen und Spiegel der DUV- Anlage 100B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder we¬ niger Linsen und/oder Spiegel vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 128 und dem Wafer 124 kann durch ein flüssiges Medium 132 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex größer 1 auf¬ weist. Das flüssige Medium kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein sol¬ cher Aufbau wird auch als Immersionslithografie bezeichnet und weist eine er- höhte fotolithografische Auflösung auf.
Fig. 2 zeigt einen schematischen Schnitt durch ein optisches System 200 für die Lithographieanlage 100A, 100B. Das optische System 200 umfasst einen ersten Spiegel 202, der einen Strahlengang 204 definiert, und einen zweiten Spiegel 206, der den Strahlengang 204 definiert und einen Durchbruch 208 aufweist, wo¬ bei Arbeitslicht 210 durch den Durchbruch 208 auf den ersten Spiegel 202 fällt, von dem ersten Spiegel 202 auf den zweiten Spiegel 206 und von dem zweiten Spiegel 206 zu einem Zielobjekt 212, insbesondere dem in einer Bildebene E3 an¬ geordneten Wafer 124, reflektierbar ist. Der erste Spiegel 202 ist beispielsweise der Spiegel M5 aus Fig. 1A und der zweite Spiegel 206 ist beispielsweise der Spiegel M6 aus Fig. 1A. Bei einem Projektionsobjektiv mit zehn Spiegeln könnte der erste und der zweite Spiegel 202, 206 auch der neunte und zehnte Spiegel, also die im Strahlengang 204 an vorletzter und letzter Stelle vor dem Wafer 124 angeordneten Spiegel, sein.
Der erste Spiegel 202 umfasst ein Substrat 214 und eine auf das Substrat 214 aufgebrachte Reflexionsbeschichtung 216. Weiterhin umfasst auch der zweite Spiegel 206 ein Substrat 218 und eine auf das Substrat 218 aufgebrachte Reflexi- onsbeschichtung 220. Außerdem umfasst das optische System 200 eine Obskura- tionsblende 222, welche zwischen dem ersten Spiegel 202 und dem zweiten Spie¬ gel 206 angeordnet ist. Die Obskurationsblende 222 ist als Absorptions- und/oder Ablenkbeschichtung auf der Reflexionsbeschichtung 220 um den Durchbruch 208 herum aufgebracht. Die Absorptionsbeschichtung ist dazu eingerichtet, Arbeits¬ licht 210 auf eine gleiche Fläche bezogen stärker als die Reflexionsbeschichtung 220 zu absorbieren. Die Ablenkbeschichtung ist dazu eingerichtet, Arbeitslicht 210 aus dem Strahlengang 204 heraus zu reflektieren, sodass dieses nicht zu dem Zielobjekt 212 gelangt. Beispielsweise kann die Obskurationsblende 222 auch als entsprechendes Blech oder entsprechende Folie vorliegen, das/die auf die Reflexionsbeschichtung 220 aufgebracht ist.
Weiterhin umfasst das optische System 200 eine Aperturblende 224, welche ein erstes Aperturblendensegment 226 und ein zweites Aperturblendensegment 228 aufweist, wobei das erste Aperturblendensegment 226 teilumfänglich Arbeits¬ licht 210, das von dem ersten Spiegel 202 zu dem zweiten Spiegel 206 reflektier¬ bar ist, und das zweite Aperturblendensegment 228 teilumfänglich Arbeitslicht 210, das von dem zweiten Spiegel 206 zu dem Zielobjekt 212 reflektierbar ist, ab- schatten. Das erste Aperturblendensegment 226 und das zweite Aperturblenden¬ segment 228 sind in Richtung Rl von dem ersten Spiegel 202 zu dem zweiten Spiegel 206 beabstandet voneinander. Das erste Aperturblendensegment 226 er¬ streckt sich entlang einer ersten Haupterstreckungsebene El und das zweite Aperturblendensegment 228 erstreckt sich entlang einer zweiten Haupterstre- ckungsebene E2. In Richtung Rl gesehen weisen die erste und zweite Haupter- streckungsebenen El, E2 einen Abstand D voneinander auf. Der Abstand D be¬ trägt beispielsweise zwischen 150 mm und 400 mm, 200 mm und 300 mm oder 230 mm und 270 mm. Aus der Richtung Rl betrachtet umgibt die Obskurationsblende 222 den Durch¬ bruch 208 ringförmig, insbesondere kreisringförmig. Das erste Aperturblendensegment 226 bildet eine erste lichtbestimmende Kontur 230 und das zweite Aperturblendensegment 228 bildet eine zweite lichtbestim¬ mende Kontur 232 aus. Die erste und zweite lichtbestimmende Kontur 230, 232 können eine kreissegmentförmige, bogenförmige, C-förmige, U-förmige oder si- chel-förmige Geometrie aufweisen. Dabei können auch das erste Aperturblenden¬ segment 226 und das zweite Aperturblendensegment 228 als kreisringförmiges, bogenförmiges, C-förmiges, U-förmiges oder sichei-förmiges Ringsegment ausge¬ bildet sein. Das erste und zweite Aperturblendensegment 226, 228 können justierbar und/oder nachführbar ausgestaltet sein. Hierdurch ist es möglich die numerische Apertur einzustellen, um damit die Abbildung störender Strahlen höherer Ord¬ nung oder Streulicht abzublenden. Fig. 3 zeigt eine zweite Ausführungsform des optischen Systems 200. Im Unter¬ schied zu Fig. 2 ist anstelle einer einzigen Obskurationsblende eine erste Obsku- rationsblende 300 vor dem ersten Spiegel 202, die Arbeitslicht 210, das durch den Durchbruch 208 in Richtung R2 des ersten Spiegels 202 fällt, abschattet, und eine zweite Obskurationsblende 302 vor dem zweiten Spiegel 206 angeordnet, die Arbeitslicht 210, das von dem ersten Spiegel 202 in Richtung Rl des zweiten
Spiegels 206 fällt, abschattet. Die zweite Obskurationsblende 302 ist in Richtung Rl betrachtet ringförmig um den Durchbruch 208 gebildet. Beispielsweise kann auch lediglich eine von den beiden Obskurationsblenden 300, 302 vorhanden sein. Aus der Richtung R2 betrachtet weist die erste Obskurationsblende 300 beispielsweise eine ovale oder kreisförmige Außenkontur auf. Weiterhin kann die erste Obskurationsblende 300 beispielsweise eine Scheibenform aufweisen.
Weiterhin ist ein Basistragrahmen 308 vorgesehen, an dem ein erster Teilrah¬ men 310 und ein zweiter Teilrahmen 312 gehalten sind (in Fig. 3 jeweils mit ei- ner Verbindungslinie angedeutet). Das erste Aperturblendensegment 226 ist mit dem ersten Teilrahmen 310 verbunden und wird von diesem gehalten. Das zwei¬ te Aperturblendensegment 228 ist mit dem zweiten Teilrahmen 312 verbunden und wird von diesem gehalten. Ferner ist ein dritter Teilrahmen 314 mit dem Basistragrahmen 308 verbunden, wobei der erste, zweite und dritte Teilrahmen 310, 312, 314 einen Raum 316 (sogenanntes„Mini- Environment") innerhalb eines vom Basisrahmen 308 umschlossenen Volumens 318 einschließen. In dem Raum 316 herrscht ein Uber druck relativ zum restlichen Volumen, das von dem Basis¬ tragrahmen 308 umschlossen ist. Der Uberdruck erschwert es, Schmutzpartikeln in den Raum 316 einzudringen.
Ferner umfasst das optische System 200 einen ersten Aktuator 304, der dazu eingerichtet ist, das erste Aperturblendensegment 226 für das Justieren und/oder Nachführen zu aktuieren, und einen zweiten Aktuator 306, der dazu eingerichtet ist, das zweite Aperturblendensegment 228 für das Justieren und/oder Nachfüh¬ ren zu aktuieren. Das erste Aperturblendensegment 226 umfasst einen ersten Teil 320, der mit Hilfe des ersten Aktuators 304 in den Strahlengang 204 für ein Ausbilden der ersten lichtbestimmenden Kontur 230 hinein und aus dem Strahlengang 204 heraus verlagerbar ist, und einen zweiten Teil 322, wobei bei einem Herausver¬ lagern des ersten Teils 320 aus dem Strahlengang 204 der zweite Teil 322 die erste lichtbestimmende Kontur 230 ausbildet. Das zweite Aperturblendenseg¬ ment 228 umfasst einen ersten Teil 324, der mit Hilfe des zweiten Aktuators 306 in den Strahlengang 204 für ein Ausbilden der zweiten lichtbestimmenden Kon¬ tur 232 hinein und aus dem Strahlengang 204 heraus verlagerbar ist, und einen zweiten Teil 326, wobei bei einem Herausverlagern des ersten Teils 324 aus dem Strahlengang 204 der zweite Teil 326 die zweite lichtbestimmende Kontur 232 ausbildet. Der zweite Teil 322 ist in Richtung Rl vor dem ersten Teil 320 ange¬ ordnet. Der zweite Teil 326 ist in Richtung von dem zweiten Spiegel 206 zu dem Zielobjekt 212 hinter dem ersten Teil 324 angeordnet. Der erste Teil 320, 324 ist mittels einer rotatorischen und/oder translatorischen Bewegung aus dem Strahlengang 304 heraus verlagerbar. Damit ist es möglich, die Aperturblendensegmente 226, 228 aktiv zu regeln, um z.B. gezielt die nume¬ rische Apertur zu variieren.
Weiterhin kann auf dem ersten Spiegel 202 eine zweite Aperturblende 328 und/oder auf dem zweiten Spiegel 206 eine dritte Aperturblende 330 angeordnet sein, die als Reflexions- und/oder Ablenkbeschichtung vorliegen. Beispielsweise kann die zweite und dritte Aperturblende 328, 330 auch als entsprechendes Blech oder entsprechende Folie vorliegen. In der Richtung Rl gesehen schließt die dritte Aperturblende 330 ringförmig eine Reflexionsfläche 332 des zweiten Spiegels 206 ein. In der Richtung R2 gesehen schließt die zweite Aperturblende 328 ringförmig eine Reflexionsfläche 334 des ersten Spiegels 202 ein.
Fig. 4 zeigt eine erste Ausführungsform einer optischen Anordnung 400 für die Lithographieanlage 100A, 100B. Die optische Anordnung 400 umfasst ein opti- sches Element 402, welches einen Durchbruch 404 aufweist, eine Blende 406, die vor dem optischen Element 402 angeordnet ist, und eine Tragstruktur 408, die die Blende 406 trägt, wobei die Tragstruktur 408 in den Durchbruch 404 hinein¬ ragt. Die Tragstruktur 408 umfasst einen insbesondere rohrförmigen Abschnitt 410, der insbesondere materialeinstückig an die Blende 406 anschließt, und eine Auskragung 412, die an den rohrförmigen Abschnitt 410 anschließt und mit einer innerhalb des Durchbruchs 404 liegenden Fläche 414 des optischen Elements 402, insbesondere stoffschlüssig, verbunden ist. Vorzugsweise berührt der rohr- förmige Abschnitt 410 die Fläche 414 nicht. Das optische Element 402 weist z.B. eine Reflexionsseite 418 und eine von der Reflexionsseite 418 abgewandte Rückseite 420 auf, wobei der Durchbruch 404 von der Reflexionsseite 418 bis zu der Rückseite 420 verläuft. Die Blende 406 ist dabei an der Reflexionsseite 418 angeordnet. Die Tragstruktur 408 endet innerhalb des Durchbruchs 404. Insbesondere um¬ fasst die Blende 406 einen Durchbruch 416. Beispielsweise verläuft der Strah¬ lengang 204 (siehe Fig. 2 und 3) durch den Durchbruch 416 und entsprechend auch durch den Durchbruch 404. Die Blende 406 ist beispielsweise ringförmig, insbesondere kreisringförmig. Die Blende 406 kann auch eine ovale Geometrie aufweisen. Beispielsweise ist die Blende 406 eine Obskurationsblende oder eine Aperturblende .
Das optische Element 402, die Blende 406 und die Tragstruktur 408 können auch in dem optischen System 200 (siehe Fig. 2 und 3) anstelle des zweiten Spiegels 206 und der zweiten Obskurationsblende 302 vorgesehen sein. Beispielsweise kann die optische Anordnung 400 auch anstelle von einem der Spiegel Ml - M6 (siehe Fig. 1A), einem der Spiegel 130 oder einer der Linsen 128 (siehe Fig. 1B) vorgesehen sein.
Fig. 5 zeigt eine zweite Ausführungsform einer optischen Anordnung 400. Im Un¬ terschied zu Fig. 4 ist die Blende 406 mit einer Stirnfläche 500 des rohrförmigen Abschnitts 410, insbesondere stoffschlüssig, verbunden. Der Stoffschluss kann z.B. mittels Kleben, Schweißen oder Löten erfolgen. Weiterhin erstreckt sich der rohrförmige Abschnitt 408 über eine gesamte Länge des Durchbruchs 404, wobei die an den rohrförmigen Abschnitt 410 anschließende Auskragung 412 die Rück¬ seite 420 hintergreift und an dieser, insbesondere stoffschlüssig, befestigt ist.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen beschrie¬ ben wurde, ist sie vielfältig modifizierbar.
BEZUGSZEICHENLISTE
100A EUV- Lithographieanlage
100B DUV- Lithographieanlage
102 Strahlformungs- und Beleuchtungssystem
104 Projektionssystem, Projektionsobjektiv
106A EUV- Lichtquelle
106B DUV- Lichtquelle
108A EUV- Strahlung
108B DUV- Strahlung
110 - 118 Spiegel
120 Photomaske, Retikel
122 Spiegel, Grazing-Incidence-Spiegel
124 Wafer
126 optische Achse
128 Linse
130 Spiegel
132 Immersionsflüssigkeit
200 optisches System
202 Spiegel
204 Strahlengang
206 Spiegel
208 Durchbruch
210 Arbeitslicht
212 Zielobjekt
214 Substrat
216 Reflexionsbeschichtung
218 Substrat
220 Reflexionsbeschichtung
222 Obskurationsblende
224 Aperturblende
226 Aperturblendensegment 228 Aperturblendensegment
230 lichtbestimmende Kontur
232 lichtbestimmende Kontur
300 Obskurationsblende
302 Obskurationsblende
304 Aktuator
306 Aktuator
308 Basistragrahmen
310 Teilrahmen
312 Teilrahmen
314 Teilrahmen
316 Raum
318 Volumen
320 Teil
322 Teil
324 Teil
326 Teil
328 Aperturblende
330 Aperturblende
332 Reflexionsfläche
334 Reflexionsfläche
400 optische Anordnung
402 optisches Element
404 Durchbruch
406 Blende
408 Tragstruktur
410 Abschnitt
412 Auskragung
414 Fläche
416 Durchbruch
418 Reflexions Seite
420 Rückseite 500 Stirnfläche
El Ebene
E2 Ebene E3 Bildebene
D Abstand
Rl Richtung
R2 Richtung

Claims

PATENTANSPRÜCHE
1. Optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit
einem ersten Spiegel (202),
einem zweiten Spiegel (206), der einen Strahlengang (204) zusammen mit dem ersten Spiegel (202) definiert und ferner einen Durchbruch (208) aufweist, wobei das optische System (200) dazu eingerichtet ist, dass Arbeitslicht (210) durch den Durchbruch (208) auf den ersten Spiegel (202) fällt, wobei Arbeitslicht (210) von dem ersten Spiegel (202) auf den zweiten Spiegel (206) und von dem zweiten Spiegel (206) zu einem Zielobjekt (212) reflektierbar ist,
einer Obskurationsblende (222), welche innerhalb des Strahlengangs (204) zwischen dem ersten Spiegel (202) und dem zweiten Spiegel (206) angeordnet ist, und
einer Aperturblende (224), welche ein erstes Aperturblendensegment (226) und ein zweites Aperturblendensegment (228) aufweist, wobei das erste Apertur¬ blendensegment (226) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) reflektierbar ist, und das zweite Aperturblendensegment (228) dazu eingerichtet ist, teilumfänglich Arbeitslicht (210), das von dem zweiten Spiegel (206) zu dem Zielobjekt (212) re_ flektierbar ist, abzuschatten, wobei das erste Aperturblendensegment (226) und das zweite Aperturblendensegment (228) in Richtung (Rl) von dem ersten Spie¬ gel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) beabstandet voneinander sind.
2. Optisches System nach Anspruch 1, ferner aufweisend eine erste Obskurati - onsblende (300), die vor dem ersten Spiegel (202) angeordnet und dazu eingerich¬ tet ist, Arbeitslicht (210), das durch den Durchbruch (208) in Richtung (R2) des ersten Spiegels (202) fällt, abzuschatten, und eine zweite Obskurationsblende (222, 302), die vor dem zweiten Spiegel (206) angeordnet und dazu eingerichtet ist, Arbeitslicht (210), das von dem ersten Spiegel (202) in Richtung (Rl) des zweiten Spiegels (206) fällt, abzuschatten.
3. Optisches System nach Anspruch 2, wobei die erste Obskurationsblende (300) als Absorptionsbeschichtung ausgebildet ist und auf dem ersten Spiegel (202) und/oder die zweite Obskurationsblende (222, 302) als Absorptionsbeschichtung ausgebildet ist und auf dem zweiten Spiegel (206) aufgebracht ist.
4. Optisches System nach Anspruch 2, wobei die erste Obskurationsblende (300) mit Hilfe einer Tragstruktur (408) vor dem ersten Spiegel (202) angeordnet ist und/oder wobei die zweite Obskurationsblende (222, 302) mit Hilfe einer Trags¬ truktur (408) vor dem zweiten Spiegel (206) angeordnet ist.
5. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 4, wobei das erste Apertur¬ blendensegment (226) und/oder das zweite Aperturblendensegment (228) eine teilweise kreisförmige, bogenförmige, C-förmige und/oder U-förmige lichtbestim¬ mende Kontur (230, 232) aufweist.
6. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 5, wobei das erste Apertur¬ blendensegment (226) und/oder das zweite Aperturblendensegment (228) als kreisförmiges, bogenförmiges, C-förmiges, U-förmiges und/oder sichei-förmiges Ringsegment ausgebildet ist.
7. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 6, wobei das erste Apertur¬ blendensegment (226) und/oder das zweite Aperturblendensegment (228) justier¬ bar und/oder nachführbar ausgestaltet sind.
8. Optisches System nach Anspruch 7, ferner aufweisend einen ersten Aktuator (304), der dazu eingerichtet ist, das erste Aperturblendensegment (226) für das Justieren und/oder Nachführen zu aktuieren, und/oder einen zweiten Aktuator (306), der dazu eingerichtet ist, das zweite Aperturblendensegment (228) für das Justieren und/oder Nachführen zu aktuieren.
9. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 8, wobei das erste und/oder zweite Aperturblendensegment (226, 228) einen ersten Teil (320, 324), der in den Strahlengang (204) für ein Ausbilden einer lichtbestimmenden Kontur (230, 232) hinein und aus dem Strahlengang (204) heraus verlagerbar ist, und einen zwei¬ ten Teil (322, 326) aufweist, wobei bei einem Herausverlagern des ersten Teils (320, 324) aus dem Strahlengang (204) der zweite Teil (322, 326) die lichtbe- stimmende Kontur (230, 232) ausbildet.
10. Optisches System nach Anspruch 9, wobei der erste Teil (320, 324) des ersten und/oder zweiten Aperturblendensegments (226, 228) mittels einer rotatorischen und/oder translatorischen Bewegung aus dem Strahlengang (204) heraus verla- gerbar ist.
11. Optisches System nach Anspruch 9 oder 10, wobei der zweite Teil (322) des ersten Aperturblendensegments (226) in Richtung (Rl) von dem ersten Spiegel (202) zu dem zweiten Spiegel (206) vor oder hinter dem ersten Teil (320) ange- ordnet ist und/oder der zweite Teil (326) des zweiten Aperturblendensegments (228) in Richtung von dem zweiten Spiegel (206) zu dem Zielobjekt (212) vor oder hinter dem ersten Teil (320) angeordnet ist.
12. Optisches System nach einem der Ansprüche 1 - 11, ferner aufweisend einen Basistragrahmen (308) und einen von dem Basistragrahmen (308) gehaltenen ersten Teilrahmen (310), wobei das erste Aperturblendensegment (226) mit Hilfe des ersten Teilrahmens (310) gehalten ist.
13. Optisches System nach Anspruch 12, ferner aufweisend einen zweiten Teil- rahmen (312), der von dem Basistragrahmen (308) gehalten ist, wobei das zweite
Aperturblendensegment (228) mit Hilfe des zweiten Teilrahmens (312) gehalten ist.
14. Optische Anordnung (400) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem optischen Element (402), welches einen Durchbruch (404) aufweist, einer Blende (406), die vor dem optischen Element (402) angeordnet ist, und einer Tragstruktur (408), die die Blende (406) trägt, wobei die Tragstruktur (408) in den Durchbruch (404) hineinragt.
15. Lithographieanlage (100A, 100B) mit
einem optischen System (200) nach einem der Ansprüche 1 - 13 und/oder einer optischen Anordnung (400) nach Anspruch 14.
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