WO2018224388A1 - Vorrichtung zur bestimmung des taupunktes eines gases in einem prozessraum und wärmebehandlungsvorrichtung mit einer solchen vorrichtung zur bestimmung des taupunktes - Google Patents

Vorrichtung zur bestimmung des taupunktes eines gases in einem prozessraum und wärmebehandlungsvorrichtung mit einer solchen vorrichtung zur bestimmung des taupunktes Download PDF

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WO2018224388A1
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temperature sensor
dew point
tempering
gas
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Dirk Ingmar Ulhenhaut
Jochen Ganz
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Belimed Ag
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    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/24—Medical instruments, e.g. endoscopes, catheters, sharps

Definitions

  • the invention relates to a device for determining the dew point of a gas in a process space and in particular for determining the steam purity, preferably the presence of non-condensable gases, in a process space.
  • the invention further relates to a heat treatment device with a device according to the invention for determining the dew point of a gas in a process space.
  • Such devices are used in the heat treatment, particularly in the sterilization of objects, which have hard to reach for the used gas locations, as is the case for example in towel stacks or ends of Kapil ⁇ stellar or endoscopes.
  • the equilibrium temperature between gas and liquid phase is reached in the entire process space.
  • this steam purity may not be achieved locally or globally.
  • the desired temperature Tempe ⁇ As a result, not delayed reached so that the sterilization is called unsuccessful.
  • Such a device is known from EP 0 286 834.
  • the cross-sectional area of the body is smaller than the betaubare surface of the body, so that the temperature of the betaubaren surface by the temperature of the condensate be ⁇ true. That it can not be miniaturized any because the Betau ⁇ bare surface must always have a certain relation to the cross-sectional area ⁇ A disadvantage of such an arrangement.
  • the device must be partially disposed off sergur of the process space, which limits the use ⁇ spectrum of such a device.
  • the object is achieved with a device according to the independent claim.
  • the inventive apparatus for determining the dew point of a gas in a process chamber includes a Tem ⁇ perierelement and a temperature sensor for determining the temperature in the process chamber, which is operatively connected in a thermally conductive stands with the tempering.
  • the tempering is designed for tive heating and cooling of the temperature sensor
  • the temperature sensor is arranged in direct contact with the temperature control element.
  • the temperature sensor itself also serves as a heat-conducting body. This miniaturization of the device is possible.
  • the thermal mass of the temperature sensor is very small, so that the temperature of the temperature sensor can be changed by a small tempering geän ⁇ . Since the temperature sensor is arranged directly on the tempering, also eliminates the need for a second temperature sensor, since the temperature of Temperie ⁇ relements the temperature of the temperature sensor due to the An ⁇ order on Temperierelement and the short bathleitwege ent ⁇ speaks. It can be seen that the temperature sensor can only determine the temperature in the process space if the temperature control element is not operated. As soon as the tempering element is actuated and the temperature sensor heats up or cools down, the temperature sensor determines its own temperature.
  • the inventive device is operated as follows: To ⁇ next the temperature of the temperature-is increased, so that the temperature of the temperature sensor is increased over the Kondensati ⁇ onstemperatur of the gas at the pressure prevailing in the process chamber conditions. This ensures that the measuring ⁇ surface of the temperature sensor, which simultaneously serves as betaubare surface is dry. The tempering is then cooled, so that the condensation is made possible on the measuring surface of the temperature sensor in Tempe ⁇ . During the condensation of the gas condensation heat is released, which is the cooling rate of the temperature sensor.
  • the temperature sensor and the temperature control are electrically isolated from each other.
  • Tem ⁇ perierelement consists of an electrically conductive material and the temperature sensor is also electrically conductive members having (eg wires) which are attached ⁇ arranged directly on tempering and otherwise a short circuit or the operation of the apparatus could affect. It goes without saying that the electrical insulation furthermore allows a good heat conduction between the temperature sensor and the tempering element.
  • the tempering is also keptbil ⁇ det as Peltier element.
  • Peltier elements are characterized in particular by a very fast response time when changing the temperature and can also quickly heat a body (in this case the Temperature sensor) supply and remove.
  • the Peltier elements can be made very small, so that the device is overall very small executable.
  • the tempering is verse ⁇ hen with a heat sink.
  • a heat sink is advantageous in the case of a tempering element designed as a Peltier element.
  • the heat sink is arranged on the side of the Peltier element, which is heated while cooling the Tempe ⁇ temperature sensor in order to ensure a better cooling of the temperature sensor in Tempe ⁇ .
  • the temperature sensor is designed as a thermocouple.
  • a thermocouple consists We ⁇ sentlichen of two conductors of different materials, which are joined together at one end.
  • the junction of a first conductor and a second conductor of the thermocouple forms a betaubare Oberflä ⁇ che.
  • the connection point which is usually designed as a welding point of both lines, thus ideally ⁇ provides the only betaubare surface of the device, which is arranged in the intended condition of the device in the process room and finds to determine the dew point to ⁇ application.
  • connection point can also be arranged on the tempering or slightly spaced from this. It is important for the present invention that the junction is in heat-conducting operative connection with the tempering and that the distance between the connection point and tempering is kept as small as possible in order to minimize the effects of thermal heat conduction.
  • thermocouple with the exception of the connection point ⁇ both conductors, and at least parts of the temperature-of a heat-insulating and gas-impermeable layer vice ben are preferred.
  • the layer protects the rest of the device from moisture and corrosion. Parts of the tempering, in particular when a heat sink is present, are not affected by the
  • thermosets As materials for the layer, in particular, thermosets, lacquers, gas phase precipitates and particularly preferably synthetic resins are used.
  • thermocouple leads is ideally the only one that can be betrayed
  • connection point is preferably coated with a heat-conducting and gas-impermeable layer.
  • Such a coating can be used in embodiments with and without a heat-insulating and gas-impermeable layer and protects the joint, in particular from corrosion.
  • the temperature sensor is designed as a resistive temperature sensor.
  • the temperature sensor is designed as a platinum measuring resistor, which is particularly preferably vapor-deposited onto the tempering element.
  • Such a device is particularly easy to manufacture and, depending on the intended use, allows the provision of a larger surface which can be betrayed than with devices having a thermocouple.
  • This variant is particularly suitable for the determination of the dew point in the process chamber volumes which can be viewed in relation to the be ⁇ taubaren surface quasi infinite.
  • the temperature sensor is preferably covered by a heat-conducting and gas-impermeable protective layer, which forms a betaubare surface.
  • the protective layer thus provides the only embeddable surface of the device which, in the intended condition of the device, is arranged in the process space and is used to determine the dew point.
  • the protective layer protects the sensor against moisture and corrosion and at the same time allows a measurement of the temperature, since the protective layer is thermally conductive.
  • the device preferably also comprises a second temperature sensor arranged on the temperature control element for determining the temperature of the temperature control element. A second temperature measurement is preferably used to amplify the measurement signals.
  • the signal from the first temperature ⁇ tursensor (temperature) is used to determine the dew point, a difference between which is influenced by the condensation process at the betaubaren surface measured by the first temperature sensor, and the measured by the second temperature ⁇ sensor temperature which is substantially the temperature of the tempering corresponds.
  • Both temperatures Tempe ⁇ temperatures have when cooling the temperature sensor, if no condensation takes place on the betaubaren surface similar courses (the slope is substantially equal), so that a difference between the two temperatures is approximately constant. This changes as soon as the condensing on the concrete surface starts, because the second temperature decreases faster than the first temperature (ideally even the first temperature remains constant). The difference value thus increases.
  • the device preferably further comprises a pressure sensor for determining the pressure in the process space.
  • the pressure prevailing in the process space is known.
  • the measured dew point can be compared to a reference value of ei ⁇ ner saturated steam table therefore, to determine whether the measured conditions in the process chamber actually correspond to the expected and necessary for sterilization conditions.
  • a device With the integration of a pressure sensor, a device can be provided which provides comprehensive monitoring of the Process room allowed. By using the pressure, the process reliability can be increased, since on the one hand pressure deviations in the process space can be detected (eg in a cavity where the pressure is adjusted with a delay compared to the rest of the process space), on the other hand a redundancy of the pressure sensors ⁇ exists.
  • the device further comprises a control and evaluation unit, which is designed to determine the dew point temperature based on discontinuities in the temperature profile of the temperature detected by the temperature sensor.
  • the control and evaluation unit can be formed with the device integ ral ⁇ or via a wire connection or wire are loosely associated with the device itself in communication link.
  • the heat of condensation of the gas in the process chamber is released during cooling of the temperature sensor, preferably with a constant Abkühlra ⁇ te, and when reaching the dew point on the betaubaren surface of the temperature sensor.
  • a discontinuity of the temperature profile which is represented in a graphical representation, for example, as a "kink" of the cooling curve
  • the temperature at which the discontinuity occurs is used to determine the dew point temperature at that in the vicinity of the temperature sensor Tempera ⁇ tursensors the gas is more or less super-cooled, so that the temperature at which the discontinuity occurs, not exactly the dew point temperature corresponds, so that a correction, which is however device-specific and method-specific can be determined, may be necessary.
  • the invention further relates to a heat treatment apparatus comprising a process space which is equipped with a process gas. can be sent, and at least a device for determining the dew point as described above.
  • the heat treatment apparatus is preferably a sterilization apparatus in which steam is supplied to the process space.
  • Fig. 1 is a schematic sectional view of a sterilization ⁇ device with an inserted object
  • Fig. 2 is a schematic, perspective view of a first
  • Fig. 3 is a sectional view through the device of Figure 2;
  • Fig. 4 is a schematic, perspective view of a two ⁇ th embodiment of the device.
  • FIG. 5 is a sectional view through the device of Figure 4.
  • FIG. 1 schematically shows a heat treatment device 11.
  • the heat treatment device 11 comprises a housing 12 with a chamber wall 13, which defines a process space 2.
  • the process chamber which is hermetically sealed, is sent to a saturated steam atmosphere during sterilization and held for a fixed time until it can be ascertained that the destruction of pathogens necessary for sterilization has taken place.
  • a load carrier floor 14 in the form of a grating is arranged in the Pro ⁇ zessraum. 2 On the load carrier floor 14 a rolled dummy endoscope 15 is shown cal ⁇ automatically.
  • An endoscope is usually designed as a tubular hollow body. For this reason can not be ensured that in the cavity of the endoscope, the same Sattdampfat ⁇ phere has set as in the rest of the process chamber. 2
  • a device 1 according to the invention is thus arranged, which will be better described below.
  • An endoscope is used in the following description as a purely exemplary object.
  • the inventive concept can be used anywhere where the conditions in a portion of a heat treatment device may deviate from the conditions in the rest of the process space 2, as is the case for example with towel stacks, capillaries, etc.
  • the device 1 is not arranged on a "real" endoscope usually but to an endoscope dummy having the same properties as the sterilized endoscope 15 has (diameter, Mate ⁇ rial, etc.) should be noted because it In "real" endoscopes is often not possible to connect a device 1 at all. Since it is assumed that in the middle of a "real" endoscope, the International ⁇ probability of a deviation from the conditions in the process chamber 2 is at its highest, the endoscope dummy is executed 15 at half the length of the "real" endoscope and with a closed end. The device 1 is placed at the closed end of the endoscope dummy 15.
  • FIGS. 2 and 3 show a first embodiment of the device 1.
  • the device 1 comprises a Peltier element 3, which is arranged on an aluminum cooling element 5.
  • the aluminum cooling element 5 may have cooling ribs, which however are not shown in FIGS. 2 to 5 for the sake of simplicity. Further is an infeed 16 for the operation of the Peltier element 3 before ⁇ present .
  • thermocouple 4 On the Peltier element 3, a thermocouple 4 is arranged.
  • the thermocouple 4 comprises two conductors 7 and 8, which are connected to each other at ei ⁇ ner connection point 6.
  • the connection point 6, in the intended state faces the process space 2 (or rather the cavity of the endoscope 15).
  • thermocouple 4 is in electrically thermally active connection with the Peltier element 3, but electrically isolated from the latter by means of a layer not shown.
  • the thermocouple 4 can thus be heated and cooled by means of the Peltier element 3.
  • a synthetic resin mass 9 shown transparent surrounds the Peltier element 3 and the Thermoele ⁇ ment 4 and protects them from moisture and corrosion.
  • the synthetic resin composition 9 serves as thermal insulation for the device 1, so that a heat exchange can take place only via the non-protected areas of the device 1 with the cavity of the dummy endoscope 15 °.
  • the cooling element 5 is only partially surrounded by the synthetic resin compound 9, since the heat generated by the Peltier element 3 at the contact surface between the Peltier element 3 and the cooling element 5 during cooling of the thermocouple 4 should be dissipated. Depending on the application, further parts of the cooling element 5 may be surrounded by the synthetic resin compound 9.
  • the cooling element 5 releases the heat in the process chamber 2 outside the cavity of the Endosko ⁇ patt rappe 15 to influence the atmosphere in the cavity not to be ⁇ . Only the attachment point 6 protrudes from the synthetic resin mass 9 and into the process chamber 2 and thus allows the loading ⁇ humor of the dew point, which will be described later. It can also be seen that also the lines 7 and 8 of the thermocouple 4 and the feed 16 of the Peltier element 3 are only partially protected by the resin composition 9. This has no effect on the device 1, since the lines 7 and 8 and the feed 16 are also surrounded by insulation.
  • thermocouple 4 is first heated by means of the Peltier element to a temperature above the dew point of the located in the process space 2 gas to ensure that no condensed gas is on the surface of the junction 6.
  • the thermocouple ⁇ element 4 is then pick ⁇ cooled with a constant cooling rate.
  • condensation of the gas takes place at the surface of the connection point 6.
  • the heat of condensation released thereby influences the cooling of the thermocouple 6, so that a discontinuity of the temperature profile arises.
  • the dew point can thus be determined very simply by determining the discontinuity in the course of the temperature.
  • an inventive device 1 can be heated to ⁇ next for 2 to 5 seconds on the dew point temperature and are subsequently pick ⁇ cooled with a cooling rate of 10 K / s.
  • the dew point can thus be determined in less than 10 seconds.
  • FIGS. 4 and 5 show a second embodiment of the device 1.
  • the device 1 comprises a Peltier element 3, which is arranged on egg ⁇ nem aluminum cooling element 5. Furthermore, a feed 16 for the operation of the Peltier element 3 is present.
  • a resistive temperature sensor 4 is arranged on the Peltier element 3.
  • the meandering course of the temperature sensor 4 increases the length of the resistive path of the temperature sensor 4, so that a more precise measurement of the temperature is possible or stronger measured values are generated.
  • the temperature sensor 4 may be formed, for example, as a vapor-deposited platinum wire.
  • the temperature sensor 4 is in thermally conductive operative connection with the Peltier element 3, but electrically isolated from the latter by means of a layer, not shown.
  • the temperature sensor 4 can thus be heated by means of the Peltier element 3 and obtain ⁇ cooled.
  • the temperature sensor 4 in the intended state is arranged on the side of the Peltier element 3, which faces the process space 2 (or rather the cavity of the endoscope dummy 15).
  • a transparent protective layer 10 surrounds the Peltier element 3 and protects it from moisture and corrosion.
  • the protective ⁇ layer 10 serves as a thermal insulator for the device 1, so that a heat exchange with the process chamber 2 only through the loading rich 17, in which the temperature sensor 4 is exposed, can be done.
  • the cooling element 5 is also only partially surrounded by the protective layer 10, since the heat generated by the Peltier element 3 at the contact surface between the Peltier element 3 and the cooling element 5 during cooling of the temperature sensor 4 should be dissipated. Depending on the application, further parts of the cooling element 5 may be surrounded by the protective layer 10. Thus, for example, be the case that the cooling element 5, the heat in the process chamber 2 but outside the cavity of the Endoskopattrappe 15 emits, so as not to influence the atmosphere in the cavity.
  • the measurement of the dew point is analogous to the measurement with a device 1 according to Figures 2 and 3 with the difference that the betaubare surface is the surface of the temperature sensor 4 ⁇ .
  • This betaubare surface is first heated and then cooled until the condensation of the gas ⁇ sets. Also in this case, the released condensation heat causes a discontinuity in the temperature profile during the cooling of the betaubaren surface occurs.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases in einem Prozessraum (2) umfassend ein Temperierelement (3) und einen Temperatursensor (4) zur Bestimmung der Temperatur im Prozessraum (2), welcher in wärmeleitender Wirkverbindung mit dem Temperierelement (3) steht, wobei das Temperierelement (3) zum aktiven Erwärmen und Abkühlen des Temperatursensors (4) ausgebildet ist. Erfindungsgemäss ist der Temperatursensor in direktem Kontakt am Temperierelement (3) angeordnet.

Description

Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases in einem Prozessraum und Wärmebehandlungsvorrichtung mit einer solchen Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases in einem Prozessraum und insbesondere zur Bestimmung der Dampfreinheit, bevorzugt der Anwesenheit von nicht kondensierbaren Gasen, in einem Prozessraum. Die Erfindung betrifft ferner eine Wärmebehandlungsvorrichtung mit einer er- findungsgemässen Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases in einem Prozessraum.
Solche Vorrichtungen werden bei der Wärmebehandlung, insbesondere bei der Sterilisation, von Objekten eingesetzt, welche über für das eingesetzte Gas schwer zu erreichende Stellen verfügen, wie das beispielsweise bei Handtuchstapeln oder Enden von Kapil¬ laren oder Endoskopen der Fall ist. Bei der Sterilisierung wird angenommen, dass im gesamten Prozessraum die Gleichgewichtstemperatur zwischen Gas und Flüssigphase erreicht wird. Falls es jedoch, wie oben beschrieben, schwer zu erreichende Stellen vorhanden sind, wird unter Umständen diese Dampfreinheit lokal oder global nicht erreicht. Infolgedessen wird die gewünschte Tempe¬ ratur nicht oder verzögert erreicht, so dass die Sterilisation als nicht erfolgreich bezeichnet wird.
Es werden daher unterschiedliche Vorrichtungen angewendet, um eine korrekt durchgeführte Sterilisation zu bestätigen. Bekannt sind Sensoren, welche beim Erreichen der erforderlichen Temperatur und Anwesenheit von Feuchtigkeit die Farbe wechseln, und so das Erreichen der erforderlichen Temperatur an der Stelle bestätigen. Nachteilig ist jedoch, dass eine Kontrolle erst nach dem gesamten Prozessverlauf möglich ist. Ferner sind Farbumschlags¬ ensoren hinsichtlich der Genauigkeit und der Zuverlässigkeit ebenfalls mit Nachteilen behaftet, da der Farbumschlag nicht nur von der Temperatur sondern auch von der Feuchtigkeit und der Einwirkzeit abhängig ist. Andere Vorrichtungen sehen die Anordnung eines wärmeleitenden Körpers in einem Prozessraum vor. Der wärmeleitende Körper ist mit einer Temperiervorrichtung zum Ändern der Temperatur des Körpers verbunden und mit Temperatursensoren versehen. Durch Erwärmung und Abkühlung des Körpers wird eine Kondensation des Prozessgases am Körper selber erzeugt, wobei die freigesetzte Kondensationswärme eine Unstetigkeit der Abkühlungskurve des Körpers verursacht. Eine solche Vorrichtung ist aus der EP 0 286 834 bekannt. Die Querschnittsfläche des Körpers ist kleiner als die betaubare Oberfläche des Körpers, so dass die Temperatur der betaubaren Oberfläche durch die Temperatur des Kondensats be¬ stimmt wird. Nachteilig ist bei einer solchen Anordnung, dass diese nicht beliebig miniaturisiert werden kann, weil die betau¬ bare Oberfläche stets ein gewisses Verhältnis zur Querschnitts¬ fläche aufweisen muss. Zudem muss die Vorrichtung teilweise aus- serhalb des Prozessraumes angeordnet werden, was das Einsatz¬ spektrum einer solchen Vorrichtung beschränkt.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung eine Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases anzugeben, welche die Nachteile des Bekannten vermeidet und insbesondere eine Überwachung quasi in Echtzeit des Taupunktes eines Gases ermöglicht und gleichzei¬ tig miniaturisierbar ist.
Die Aufgabe wird mit einer Vorrichtung nach dem unabhängigen An- spruch gelöst. Die erfindungsgemässe Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases in einem Prozessraum umfasst ein Tem¬ perierelement und einen Temperatursensor zur Bestimmung der Temperatur im Prozessraum, welcher in wärmeleitender Wirkverbindung mit dem Temperierelement steht. Das Temperierelement ist zum tiven Erwärmen und Abkühlen des Temperatursensors ausgebildet
Erfindungsgemäss ist der Temperatursensor in direktem Kontakt am Temperierelement angeordnet.
Damit kann auf den bei den bekannten Vorrichtungen verwendeten wärmeleitenden Körper verzichtet werden. Der Temperatursensor selbst dient auch als wärmeleitender Körper. Damit ist eine Miniaturisierung der Vorrichtung möglich. Zudem ist die thermische Masse des Temperatursensors sehr klein, so dass die Temperatur des Temperatursensors durch ein kleines Temperierelement geän¬ dert werden kann. Da der Temperatursensor direkt am Temperierelement angeordnet ist, entfällt ferner auch die Notwendigkeit eines zweiten Temperatursensors, da die Temperatur des Temperie¬ relements der Temperatur des Temperatursensors aufgrund der An¬ ordnung am Temperierelement und der kurzen Wärmeleitwege ent¬ spricht. Es ist ersichtlich, dass der Temperatursensor die Temperatur im Prozessraum nur bestimmen kann, wenn das Temperierelement nicht betrieben wird. Sobald das Temperierelement be¬ trieben wird und den Temperatursensor aufheizt oder abkühlt, wird vom Temperatursensor seine eigene Temperatur bestimmt.
Die erfindungsgemässe Vorrichtung wird wie folgt betrieben: Zu¬ nächst wird die Temperatur des Temperierelements erhöht, so dass auch die Temperatur des Temperatursensors über die Kondensati¬ onstemperatur des Gases bei den im Prozessraum herrschenden Bedingungen erhöht wird. Damit wird sichergestellt, dass die Mess¬ fläche des Temperatursensors, welche gleichzeitig als betaubare Oberfläche dient, trocken ist. Das Temperierelement wird dann abgekühlt, so dass die Kondensation an der Messfläche des Tempe¬ ratursensors ermöglicht wird. Bei der Kondensation des Gases wird Kondensationswärme freigesetzt, welche die Abkühlungsrate des Temperatursensors beeinflusst. Dies ist als Unstetigkeit (z.B. als „Knick") in einer graphischen Darstellung des Temperaturverlaufes des Temperatursensors ersichtlich. Im besten Fall entsteht ein Gleichgewicht, so dass in der graphischen Darstel- lung eine Plateauphase bei der Taupunktemperatur erkennbar ist. Damit ist der Taupunkt des Gases in der unmittelbaren Umgebung der Vorrichtung messbar.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform sind der Temperatursensor und das Temperierelement voneinander elektrisch isoliert.
Eine solche Anordnung ist insbesondere notwendig, wenn das Tem¬ perierelement aus einem elektrisch leitenden Material besteht und der Temperatursensor ebenfalls elektrisch leitende Teile aufweist (z.B. Drähte), welche direkt am Temperierelement ange¬ ordnet sind und sonst zu einem Kurzschluss bzw. den Betrieb der Vorrichtung beeinträchtigen könnten. Es versteh sich, dass die elektrische Isolierung weiterhin eine gute Wärmeleitung zwischen Temperatursensor und Temperierelement erlaubt.
Dabei ist zu vermerken, dass in Sinne der vorliegenden Erfindung, auch wenn zwischen Temperierelement und Temperatursensor eine elektrisch isolierende Schicht vorhanden ist, der Tempera¬ tursensor trotzdem als in direktem Kontakt mit dem Temperierele- ment verstanden wird, da kein wärmeleitender Körper (Heatpipe) dazwischengeschaltet ist.
Bevorzugt ist das Temperierelement als Peltier-Element ausgebil¬ det .
Peltier-Elemente zeichnen sich insbesondere durch eine sehr schnelle Ansprechzeit bei der Änderung der Temperatur aus und können ebenfalls schnell Wärme einem Körper (in diesem Fall dem Temperatursensor) zu- und abführen. Zudem können die Peltier- Elemente sehr klein ausgeführt werden, so dass die Vorrichtung insgesamt sehr klein ausführbar ist .
Bevorzugt ist das Temperierelement mit einem Kühlkörper verse¬ hen .
Somit kann die Wärme, welche beim Abkühlen des Temperatursensors demselben entzogen wird, besser abgeführt werden. Insbesondere ist ein Kühlkörper bei einem als Peltier-Element ausgebildeten Temperierelement vorteilhaft. Der Kühlkörper wird an der Seite des Peltier-Elements angeordnet, welche beim Abkühlen des Tempe¬ ratursensors erwärmt wird, um eine bessere Abkühlung des Tempe¬ ratursensors zu gewährleisten.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform ist der Temperatursensor als Thermoelement ausgebildet. Ein Thermoelement besteht im We¬ sentlichen aus zwei Leitern aus unterschiedlichen Materialien, welche an einem Ende miteinander verbunden sind.
Die Verbindungsstelle eines ersten Leiters und eines zweiten Leiters des Thermoelements bildet dabei eine betaubare Oberflä¬ che. Die Verbindungsstelle, welche in der Regel als Schweiss- punkt beider Leitungen ausgebildet ist, stellt somit idealer¬ weise die einzige betaubare Oberfläche der Vorrichtung bereit, welche im bestimmungsgemässen Zustand der Vorrichtung im Prozessraum angeordnet wird und zur Bestimmung des Taupunktes An¬ wendung findet.
Die Verbindungsstelle kann dabei ebenfalls am Temperierelement angeordnet oder von diesem leicht beabstandet sein. Wichtig ist für die vorliegende Erfindung, dass die Verbindungsstelle in wärmeleitender Wirkverbindung mit dem Temperierelement steht und dass der Abstand zwischen Verbindungsstelle und Temperierelement möglichst klein gehalten wird, um die Einflüsse der thermischen Wärmeleitung gering zu halten.
Bevorzugt sind das Thermoelement, mit Ausnahme der Verbindungs¬ stelle beider Leiter, und zumindest Teile des Temperierelements von einer wärmeisolierenden und gasundurchlässigen Schicht umge ben .
Somit wird erreicht, dass ein Wärmeaustausch mit der Umgebung (Prozessraum) nur über die nicht geschützte Stelle der Vorrichtung erfolgt (Verbindungsstelle) , so dass die Messwerte nicht von Wärmeaustauschprozessen der übrigen Vorrichtung beeinflusst werden. Zudem schützt die Schicht die übrige Vorrichtung vor Feuchte und Korrosion. Teile des Temperierelements, insbesonder wenn ein Kühlkörper vorhanden ist, werden nicht durch die
Schicht geschützt, um eine möglichst grosse Wärmeabfuhr beim Ab kühlen des Temperierelements zu erlauben.
Als Materialen für die Schicht finden insbesondere Duroplaste, Lacke, Gasphasenabscheidungen und besonders bevorzugt syntheti sehe Harze Anwendung.
Wie vorher beschrieben stellt die Verbindungsstelle beider Lei- tungen des Thermoelements idealerweise die einzige betaubare
Oberfläche der Vorrichtung bereit. Es kann jedoch der Fall sein, dass die Schicht im Übergangsbereich zur Verbindungsstelle auf¬ grund der geringen Schichtdicke der Schicht ebenfalls teilweise beim Betreiben der Vorrichtung betaut wird. Diese Nebeneffekte können bei der genauen Auswahl von Material und Ausführung der Schicht jedoch weitestgehend vernachlässigt werden. Die Verbindungsstelle ist bevorzugt mit einer wärmeleitenden und gasundurchlässigen Schicht beschichtet.
Eine solche Beschichtung kann bei Ausführungsformen mit und ohne wärmeisolierende und gasundurchlässige Schicht verwendet werden und schützt die Verbindungsstelle, insbesondere vor Korrosion.
Bei einer alternativen Ausführungsform der erfindungsgemässen Vorrichtung ist der Temperatursensor als resistiver Temperatur- sensor ausgebildet. Insbesondere ist der Temperatursensor als Platin-Messwiderstand ausgebildet, welcher besonders bevorzugt auf das Temperierelement aufgedampft wird.
Eine solche Vorrichtung ist besonders einfach in der Herstellung und erlaubt, je nach Einsatzzweck, die Bereitstellung einer grösseren betaubaren Oberfläche als bei Vorrichtungen mit einem Thermoelement .
Diese Variante eignet sich insbesondere bei der Bestimmung des Taupunktes bei Prozessraumvolumina, welche im Verhältnis zur be¬ taubaren Oberfläche quasi als unendlich angesehen werden können.
Der Temperatursensor ist bevorzugt von einer wärmeleitenden und gasundurchlässigen Schutzschicht bedeckt, welche eine betaubare Oberfläche bildet. Die Schutzschicht stellt somit die einzige betaubare Oberfläche der Vorrichtung bereit, welche im bestim- mungsgemässen Zustand der Vorrichtung im Prozessraum angeordnet wird und zur Bestimmung des Taupunktes Anwendung findet. Die Schutzschicht schützt den Sensor vor Feuchte und Korrosion und erlaubt gleichzeitig eine Messung der Temperatur, da die Schutzschicht wärmeleitend ausgebildet ist. Bevorzugt umfasst die Vorrichtung ferner einen zweiten am Temperierelement angeordneten Temperatursensor zur Ermittlung der Temperatur des Temperierelements. Eine zweite Temperaturmessung wird bevorzugt zu Verstärkung der Messsignale verwendet. Statt des Signals aus dem ersten Tempera¬ tursensor (Temperatur) wird zur Bestimmung des Taupunktes eine Differenz zwischen der vom ersten Temperatursensor gemessenen Temperatur, welche vom Kondensationsvorgang an der betaubaren Oberfläche beeinflusst wird, und der vom zweiten Temperatur¬ sensor gemessenen Temperatur, welche im Wesentlichen der Temperatur des Temperierelements entspricht, verwendet. Beide Tempe¬ raturen haben beim Abkühlen des Temperatursensors, wenn keine Kondensation an der betaubaren Oberfläche stattfindet, ähnliche Verläufe (die Steigung ist im Wesentlichen gleich) , so dass eine Differenz beider Temperaturen in etwa konstant ist. Dies ändert sich sobald die Kondensation an der betaubaren Oberfläche ihren Gang nimmt, da die zweite Temperatur schneller abnimmt als die erste Temperatur (idealerweise bleibt sogar die erste Temperatur konstant) . Der Differenzwert nimmt somit zu. Die Zunahme des
Differenzwertes wird demnach zur Bestimmung des Taupunktes her¬ angezogen .
Die Vorrichtung umfasst ferner bevorzugt einen Drucksensor zur Ermittlung des Druckes im Prozessraum.
In der Regel ist der im Prozessraum herrschende Druck bekannt. Der gemessene Taupunkt kann somit mit einem Referenzwert aus ei¬ ner Sattdampftabelle verglichen werden, um festzustellen, ob die gemessenen Bedingungen im Prozessraum tatsächlich den erwarteten und für die Sterilisation notwendigen Bedingungen entsprechen. Mit der Integrierung eines Drucksensors kann eine Vorrichtung bereitgestellt werden, welche eine umfassende Überwachung des Prozessraumes erlaubt. Durch Heranziehen des Druckes kann die Prozesssicherheit erhöht werden, da einerseits Druckabweichungen im Prozessraum erkannt werden können (z.B. in einem Hohlraum wo der Druck mit einer Verzögerung gegenüber dem übrigen Prozess- räum eingestellt wird) , andererseits eine Redundanz der Druck¬ sensoren vorhanden ist.
Die Vorrichtung umfasst ferner eine Steuer- und Auswerteeinheit, welche dazu ausgebildet ist, die Taupunkttemperatur anhand von Unstetigkeiten im Temperaturverlauf der von dem Temperatursensor ermittelten Temperatur zu bestimmen.
Die Steuer- und Auswerteeinheit kann mit der Vorrichtung integ¬ ral ausgebildet sein oder über eine Drahtverbindung oder draht- lose Verbindung mit der Vorrichtung selbst in Kommunikationsverbindung stehen. Wie bereits eingangs erwähnt, wird beim Abkühlen des Temperatursensors, bevorzugt mit einer konstanten Abkühlra¬ te, und beim Erreichen der Taupunkttemperatur an der betaubaren Oberfläche des Temperatursensors die Kondensationswärme des Ga- ses im Prozessraum freigesetzt. Dies führt zu einer Unstetigkeit des Temperaturverlaufes, welche in einer graphischen Darstellung beispielsweise als „Knick" der Abkühlungskurve wiedergeben wird. Die Temperatur, bei welcher die Unstetigkeit auftritt, wird zur Bestimmung der Taupunkttemperatur bei der in der Umgebung des Temperatursensors verwendet. Je nach Abkühlungsrate des Tempera¬ tursensors wird das Gas mehr oder weniger unterkühlt, so dass die Temperatur, bei welcher die Unstetigkeit auftritt, nicht exakt der Taupunkttemperatur entspricht, so dass eine Korrektur, welche jedoch Vorrichtungs- und Verfahrensspezifisch ermittelbar ist, unter Umständen notwendig ist.
Die Erfindung betrifft ferner eine Wärmebehandlungsvorrichtung umfassend einen Prozessraum, welcher mit einem Prozessgas be- schickbar ist, und wenigstes eine Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes wie oben beschrieben. Bei der Wärmebehandlungsvorrichtung handelt es sich bevorzugt um eine Sterilisationsvorrichtung, bei welcher den Prozessraum mit Dampf beschickt wird.
Mit der Integration einer erfindungsgemässen Vorrichtung zur Bestimmung des Taupunktes in einer Wärmebehandlungsvorrichtung kann eine erhöhte Prozesssicherheit erreicht werden, wobei die quasi in Echtzeit stattfindende Überwachung des Taupunktes bei- spielsweise den Abbruch einer Behandlung erlaubt, wenn die Bedingungen für eine erfolgreiche Wärmebehandlung nicht erfüllt werden. Somit sind auch Kosten- und Energieeinsparungen möglich, da nicht zuerst das Ende der Wärmebehandlung erreicht werden muss, um festzustellen, ob die Wärmebehandlung selbst erfolg- reich war.
Abschliessend sei noch angemerkt, dass in der obenstehenden Be¬ schreibung stets die Rede von einem Prozessraum bzw. von der Bestimmung des Taupunktes eines Gases im Prozessraum die Rede ist. Es ist jedoch ersichtlich, dass unter Umständen der Prozessraum, in welchem der Taupunkt bestimmt wird (z.B. Innenraum eines Endoskops), nicht mit einem Gesamtprozessraum (z.B. Behandlungs¬ kammer eines Sterilisators) übereinstimmt. Anders ausgedrückt kann der Prozessraum, in welchem der Taupunkt bestimmt wird, ei- ne Untereinheit eines grösseren, zweiten Prozessraumes sein.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen in Verbindung mit den Figuren besser beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 Eine schematische Schnittansicht einer Sterilisations¬ vorrichtung mit einem eingelegten Objekt; Fig. 2 eine schematische, perspektivische Ansicht einer ersten
Ausführungsform der Vorricht
Fig. 3 eine Schnittansicht durch die Vorrichtung der Figur 2 ;
Fig. 4 eine schematische, perspektivische Ansicht einer zwei¬ ten Ausführungsform der Vorrichtung; und
Fig. 5 eine Schnittansicht durch die Vorrichtung der Figur 4.
In der Figur 1 ist schematisch eine Wärmebehandlungsvorrichtung 11 dargestellt. Die Wärmebehandlungsvorrichtung 11 umfasst ein Gehäuse 12 mit einer Kammerwand 13, welche einen Prozessraum 2 definiert. Der Prozessraum, welcher hermetisch abgeschlossen ist, wird beim Sterilisieren mit einer Sattdampfatmosphäre be¬ schickt und für eine festgelegte Zeit so gehalten, bis sicherge¬ stellt werden kann, dass die für eine Sterilisation notwendige Abtötung von Krankheitserregern stattgefunden hat. Eine Beladungsträgeretage 14 in Form eines Gitters ist im Pro¬ zessraum 2 angeordnet. Auf der Beladungsträgeretage 14 ist sche¬ matisch eine aufgerollte Endoskopattrappe 15 gezeigt.
Ein Endoskop ist meistens als schlauchförmiger Hohlkörper ausge- bildet. Aus diesem Grund kann nicht sichergestellt werden, dass auch im Hohlraum des Endoskops sich die gleiche Sattdampfat¬ mosphäre wie im übrigen Prozessraum 2 eingestellt hat. Um eine Kontrolle der im Hohlraum des Endoskops herrschenden Bedingungen zu ermöglichen wird somit eine erfindungsgemässe Vorrichtung 1 angeordnet, welche nachfolgend besser beschrieben wird.
Ein Endoskop wird bei der nachfolgenden Beschreibung als rein beispielhaftes Objekt herangezogen. Die erfindungsgemässe Vor- richtung ist jedoch überall einsetzbar, wo die Bedingungen in einem Teilbereich einer Wärmebehandlungsvorrichtung von den Bedingungen im übrigen Prozessraum 2 abweichen können, wie das zum Beispiel bei Handtuchstapeln, Kapillaren, usw. der Fall ist.
An dieser Stelle sei vermerkt, dass in der Regel die Vorrichtung 1 nicht an einem „echten" Endoskop angeordnet wird sondern an einer Endoskopattrappe, welche die gleichen Eigenschaften wie das zu sterilisierende Endoskop 15 aufweist (Durchmesser, Mate¬ rial usw.), da es bei „echten" Endoskopen oft nicht möglich ist, eine Vorrichtung 1 überhaupt anzuschliessen . Da man davon ausgeht, dass in der Mitte eines „echten" Endoskopes die Wahr¬ scheinlichkeit einer Abweichung von den Bedingungen im Prozessraum 2 am höchsten ist, wird die Endoskopattrappe 15 mit der halben Länge des „echten" Endoskops und mit einem geschlossenem Ende ausgeführt. Die Vorrichtung 1 wird an dem geschlossenen Ende der Endoskopattrappe 15 angeordnet.
Es ist ferner zu vermerken, dass in der nachfolgenden Beschreibung von einem Prozessraum 2 und von einem Hohlraum eines Endoskops die Rede ist. Der Hohlraum des Endoskops ist Teil des Pro¬ zessraumes 2. Aufgrund der Eigenschaften des Endoskops kann es jedoch der Fall sein, dass im Hohlraum des Endoskops und im üb¬ rigen Prozessraum 2 nicht die gleichen Bedingungen herrschen.
In den Figuren 2 und 3 ist eine erste Ausführungsform der Vorrichtung 1 gezeigt.
Die Vorrichtung 1 umfasst ein Peltier-Element 3, welches auf ei- nem Aluminiumkühlelement 5 angeordnet ist. Das Aluminiumkühlele- ment 5 kann Kühlrippen aufweisen, welche jedoch der Einfachheit halber in den Figuren 2 bis 5 nicht dargestellt sind. Ferner ist eine Einspeisung 16 für den Betrieb des Peltier-Elements 3 vor¬ handen .
Auf dem Peltier-Element 3 ist ein Thermoelement 4 angeordnet. Das Thermoelement 4 umfasst zwei Leiter 7 und 8, welche bei ei¬ ner Verbindungsstelle 6 miteinander verbunden sind. Wie aus der Figur 2 ersichtlich, ist die Verbindungsstelle 6 im bestimmungs- gemässen Zustand dem Prozessraum 2 (oder besser gesagt dem Hohlraum des Endoskops 15) zugewandt.
Das Thermoelement 4 ist in wärmeleitender Wirkverbindung mit dem Peltier-Element 3, jedoch von Letzterem mittels einer nicht dar- gestellten Schicht elektrisch isoliert. Das Thermoelement 4 kann somit mittels des Peltier-Elements 3 geheizt und abgekühlt wer- den .
Eine der Übersichtlichkeit halber als durchsichtig dargestellte Kunstharzmasse 9 umgibt das Peltier-Element 3 und das Thermoele¬ ment 4 und schützt diese vor Feuchtigkeit und Korrosion. Gleich¬ zeitig dient die Kunstharzmasse 9 als thermische Isolierung für die Vorrichtung 1, so dass ein Wärmeaustausch mit dem Hohlraum der Endoskopattrappe 15 nur über die nicht geschützten Bereiche der Vorrichtung 1 stattfinden kann. Das Kühlelement 5 ist nur teilweise von der Kunstharzmasse 9 umgeben, da die vom Peltier- Element 3 an der Kontaktfläche zwischen Peltier-Element 3 und Kühlelement 5 beim Abkühlen des Thermoelements 4 erzeugte Wärme abgeführt werden soll. Je nach Anwendung können weitere Teile des Kühlelements 5 von der Kunstharzmasse 9 umgeben sein. So kann es beispielsweise der Fall sein, dass das Kühlelement 5 die Wärme im Prozessraum 2 ausserhalb des Hohlraumes der Endosko¬ pattrappe 15 abgibt, um die Atmosphäre im Hohlraum nicht zu be¬ einflussen . Lediglich die Verbindungsstelle 6 ragt aus der Kunstharzmasse 9 heraus und in den Prozessraum 2 hinein und erlaubt somit die Be¬ stimmung des Taupunktes, welche später beschrieben wird. Es ist ferner ersichtlich, dass ebenfalls die Leitungen 7 und 8 des Thermoelements 4 sowie die Einspeisung 16 des Peltier-Elements 3 nur teilweise von der Kunstharzmasse 9 geschützt werden. Dies hat keinen Einfluss auf die Vorrichtung 1, da die Leitungen 7 und 8 sowie die Einspeisung 16 ebenfalls von einer Isolierung umgeben sind.
Zur Bestimmung des Taupunktes wird das Thermoelement 4 zunächst mithilfe des Peltier-Elements auf eine Temperatur oberhalb des Taupunktes des sich im Prozessraum 2 befindlichen Gases aufgewärmt, um sicherzustellen, dass kein kondensiertes Gas sich auf der Oberfläche der Verbindungsstelle 6 befindet. Das Thermoele¬ ment 4 wird anschliessend mit einer konstanten Abkühlrate abge¬ kühlt. Beim Erreichen der Taupunkttemperatur findet eine Kondensation des Gases an der Oberfläche der Verbindungsstelle 6 statt. Die dadurch freigesetzte Kondensationswärme beeinflusst die Abkühlung des Thermoelements 6, so dass eine Unstetigkeit des Temperaturverlaufes entsteht. Der Taupunkt kann somit sehr einfach durch Bestimmung der Unstetigkeit im Temperaturverlauf ermittelt werden. Beispielsweise kann eine erfindungsgemässe Vorrichtung 1 zu¬ nächst für 2 bis 5 Sekunden über die Taupunkttemperatur erwärmt werden und anschliessend mit einer Abkühlrate von 10 K/s abge¬ kühlt werden. Der Taupunkt kann somit in weniger als 10 Sekunden ermittelt werden. Dies erlaubt durch Wiederholung der Taupunkt- bestimmung eine kontinuierliche Überwachung der stattfindenden Wärmebehandlung, so dass diese, falls die notwendigen Bedingungen im Hohlraum nicht erfüllt werden, sofort gestoppt und neu gestartet werden kann. Damit kann die Prozesssicherheit erhöht werden, da quasi in Echtzeit überwacht werden kann, ob die Wär¬ mebehandlung erfolgreich war.
In den Figuren 4 und 5 ist eine zweite Ausführungsform der Vor- richtung 1 gezeigt.
Die Vorrichtung 1 umfasst ein Peltier-Element 3, welches auf ei¬ nem Aluminiumkühlelement 5 angeordnet ist. Ferner ist eine Ein- speisung 16 für den Betrieb des Peltier-Elements 3 vorhanden.
Auf dem Peltier-Element 3 ist ein resistiver Temperatursensor 4 angeordnet. Der mäanderförmige Verlauf des Temperatursensors 4 erhöht die Länge der resistiven Strecke des Temperatursensors 4, so dass eine präzisere Messung der Temperatur möglich ist bzw. stärkere Messwerte erzeugt werden. Der Temperatursensor 4 kann beispielsweise als aufgedampfter Platindraht ausgebildet sein.
Der Temperatursensor 4 ist in wärmeleitender Wirkverbindung mit dem Peltier-Element 3, jedoch von Letzterem mittels einer nicht dargestellten Schicht elektrisch isoliert. Der Temperatursensor 4 kann somit mittels des Peltier-Elements 3 geheizt und abge¬ kühlt werden.
Wie aus der Figur 5 ersichtlich, ist der Temperatursensor 4 im bestimmungsgemässen Zustand auf der Seite des Peltier-Elements 3 angeordnet, welche dem Prozessraum 2 (oder besser gesagt dem Hohlraum der Endoskopattrappe 15) zugewandt ist.
Eine der Übersichtlichkeit halber als durchsichtig dargestellte Schutzschicht 10 umgibt das Peltier-Element 3 und schützt dieses vor Feuchtigkeit und Korrosion. Gleichzeitig dient die Schutz¬ schicht 10 als thermische Isolierung für die Vorrichtung 1, so dass ein Wärmeaustausch mit dem Prozessraum 2 nur über den Be- reich 17, in welchem der Temperatursensor 4 freiliegt, erfolgen kann .
Das Kühlelement 5 ist ferner nur teilweise von der Schutzschicht 10 umgeben, da die vom Peltier-Element 3 an der Kontaktfläche zwischen Peltier-Element 3 und Kühlelement 5 beim Abkühlen des Temperatursensors 4 erzeugte Wärme abgeführt werden soll. Je nach Anwendung können weitere Teile des Kühlelements 5 von der Schutzschicht 10 umgeben sein. So kann beispielsweise der Fall sein, dass das Kühlelement 5 die Wärme im Prozessraum 2 aber ausserhalb des Hohlraumes der Endoskopattrappe 15 abgibt, um die Atmosphäre im Hohlraum nicht zu beeinflussen.
Die Messung des Taupunktes erfolgt analog zur Messung mit einer Vorrichtung 1 gemäss den Figuren 2 und 3 mit dem Unterschied, dass die betaubare Oberfläche die Oberfläche des Temperatur¬ sensors 4 ist. Diese betaubare Oberfläche wird zunächst erwärmt und anschliessend abgekühlt, bis die Kondensation des Gases ein¬ setzt. Auch in diesem Fall führt die freigesetzte Kondensations- wärme dazu, dass eine Unstetigkeit im Temperaturverlauf bei der Abkühlung der betaubaren Oberfläche auftritt.

Claims

Vorrichtung (1) zur Bestimmung des Taupunktes eines Gases in einem Prozessraum (2) umfassend:
- ein Temperierelement (3) und
- einen Temperatursensor (4) zur Bestimmung der Temperatur im Prozessraum
(2), welcher in wärmeleitender Wirkverbindung mit dem Temperierelement (3) steht,
wobei das Temperierelement (3) zum aktiven Erwärmen und Ab¬ kühlen des Temperatursensors (4) ausgebildet ist,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Temperatursensor in direktem Kontakt am Temperierelement
(3) angeordnet ist.
Vorrichtung (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperatursensor
(4) und das Temperierelement (3) voneinander elektrisch isoliert sind.
Vorrichtung (1) nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Temperierelement (3) als Peltier-Element aus¬ gebildet ist.
Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Temperierelement (3) mit einem Kühlkörper
(5) versehen ist.
Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperatursensor (4) als Thermoelement ausgebildet ist, wobei die Verbindungsstelle (6) eines ersten Leiters (7) und eines zweiten Leiters (8) des Thermoelements (4) eine betaubare Oberfläche bildet.
6. Vorrichtung (1) nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine wärmeisolierende und gasundurchlässige Schicht (9) das Thermoelement (4), mit Ausnahme der Verbindungs¬ stelle (6) beider Leiter (7, 8), und bevorzugt zumindest Teile des Temperierelements (4) umgibt.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindungsstelle (6) mit einer wär meleitenden und gasundurchlässigen Schicht überzogen ist.
8. Vorrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperatursensor (4) als resisti- ver Temperatursensor, vorzugsweise als Platin- Messwiderstand, ausgebildet ist.
9. Vorrichtung (1) nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperatursensor (4) von einer wärmeleitenden und gasundurchlässigen Schutzschicht (10) bedeckt ist, welche eine betaubare Oberfläche bildet.
10. Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (1) ferner ei nen zweiten am Temperierelement angeordneten Temperatursensor zur Ermittlung der Temperatur des Temperierelements (4) umfasst.
11. Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (1) ferner ei nen Drucksensor zur Ermittlung des Druckes im Prozessraum (2) umfasst.
12. Vorrichtung (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung (1) ferner ei ne Steuer- und Auswerteeinheit umfasst, welche dazu ausge¬ bildet ist, die Taupunkttemperatur anhand von Unstetigkei- ten im Temperaturverlauf der von dem Temperatursensor (4) ermittelten Temperatur zu bestimmen.
Wärmebehandlungsvorrichtung (11), insbesondere Sterilisati¬ onsvorrichtung umfassend einen Prozessraum (2), welcher mit einem Prozessgas beschickbar ist, und wenigstes eine Vor¬ richtung (1) zur Bestimmung des Taupunktes nach einem der vorhergehenden Ansprüche.
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