WO2018211910A1 - Transparent conductive film and image display device - Google Patents

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徹 梅本
仁志 西嶋
尚樹 橋本
鷹尾　寛行
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日東電工株式会社
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Abstract

This transparent conductive film is sequentially provided with a first transparent conductive layer, a first optical adjustment layer, a transparent substrate, a second optical adjustment layer and a second transparent conductive layer. The surface resistivity of the second transparent conductive layer is higher than the surface resistivity of the first transparent conductive layer; the surface resistivity of the first transparent conductive layer is from 10 Ω/□ to 70 Ω/□ (inclusive); the surface resistivity of the second transparent conductive layer is from 50 Ω/□ to 150 Ω/□ (inclusive); and the refractive index of the second optical adjustment layer is lower than the refractive index of the first optical adjustment layer.

Description

透明導電性フィルムおよび画像表示装置Transparent conductive film and image display device
　本発明は、透明導電性フィルム、および、それを備える画像表示装置に関する。 The present invention relates to a transparent conductive film and an image display device including the same.
　従来から、タッチパネルおよび画像表示素子を備える画像表示装置は、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電層が透明基材に形成されたタッチパネル用フィルムを備えることが知られている。そのようなタッチパネル用フィルムとして、透明基材の両面にＩＴＯ層が配置されている両面透明導電性フィルムが、例えば、特許文献１に記載されている。 Conventionally, it is known that an image display device including a touch panel and an image display element includes a film for a touch panel in which a transparent conductive layer made of indium tin composite oxide (ITO) is formed on a transparent substrate. As such a touch panel film, for example, Patent Document 1 discloses a double-sided transparent conductive film in which ITO layers are disposed on both sides of a transparent substrate.
　ところで、液晶セルなどの画像表示素子は、電磁波を発生するため、画像表示装置には、電磁波を遮蔽する電磁波シールド効果が望まれている。そして、抵抗膜方式タッチパネルにおいて、２枚のＩＴＯ膜を対向配置したＩＴＯ構造は、電磁波シールド効果があることが知られている（例えば、非特許文献１参照。）。 Incidentally, since an image display element such as a liquid crystal cell generates an electromagnetic wave, an electromagnetic wave shielding effect for shielding the electromagnetic wave is desired for the image display device. And in the resistive film type touch panel, it is known that the ITO structure in which two ITO films are arranged to face each other has an electromagnetic wave shielding effect (see, for example, Non-Patent Document 1).
　特に、非特許文献１では、ＩＴＯ膜の抵抗値を低くするためには、ＩＴＯ膜の厚膜化が必要であるが、その結果、光透過率が低下することが記載されている。また、一方のＩＴＯ膜のみの抵抗値（例えば、１０Ω程度）を低くすれば、他方のＩＴＯ膜の抵抗値を高くしても、良好な電磁波シールド効果があることが記載されている。 In particular, Non-Patent Document 1 describes that in order to reduce the resistance value of the ITO film, it is necessary to increase the thickness of the ITO film, but as a result, the light transmittance decreases. Further, it is described that if only one ITO film has a low resistance value (for example, about 10Ω), even if the other ITO film has a high resistance value, there is a good electromagnetic shielding effect.
　そして、これらの結果から、非特許文献１は、一方のＩＴＯ膜のみの抵抗値を低くし、他方のＩＴＯ膜の抵抗値を高くすることによって、良好な電磁波シールド効果を発現しながら、光透過率低下を抑制できることを開示している。 And from these results, Non-Patent Document 1 shows that a light transmission can be achieved while reducing the resistance value of only one ITO film and increasing the resistance value of the other ITO film while exhibiting a good electromagnetic shielding effect. It is disclosed that the rate reduction can be suppressed.
特開２０１３－９９９２４号公報JP 2013-99924 A
　ところで、耐久性が良好であり、誤作動が少ない静電容量方式に用いられるタッチパネル用フィルム（両面透明導電性フィルム）では、両面に配置される２枚のＩＴＯ層は、電極パターン形状にエッチングされる。そして、電極パターンの視認を抑制するため、ＩＴＯ層と透明基材との間に、光学調整層が設けられる。 By the way, in the film for touch panels (double-sided transparent conductive film) used for the electrostatic capacity method with good durability and few malfunctions, the two ITO layers arranged on both sides are etched into the electrode pattern shape. The And in order to suppress visual recognition of an electrode pattern, an optical adjustment layer is provided between an ITO layer and a transparent base material.
　この場合、両面透明導電性フィルムが光学調整層をさらに備えるため、光透過性が低下する。 In this case, since the double-sided transparent conductive film further includes an optical adjustment layer, the light transmittance is lowered.
　本発明は、電磁波シールド効果を備え、電極パターンの視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える透明導電性フィルムおよび画像表示装置を提供する。 The present invention provides a transparent conductive film and an image display device having an electromagnetic wave shielding effect and having good light transmittance while suppressing visual recognition of an electrode pattern.
　本発明［１］は、第１透明導電層、第１光学調整層、透明基材、第２光学調整層および第２透明導電層を順に備え、前記第２透明導電層の表面抵抗値は、前記第１透明導電層の表面抵抗値よりも大きく、前記第１透明導電層の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であり、前記第２透明導電層の表面抵抗値は、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であり、前記第２光学調整層の屈折率は、前記第１光学調整層の屈折率よりも小さい、透明導電性フィルムを含んでいる。 The present invention [1] comprises a first transparent conductive layer, a first optical adjustment layer, a transparent substrate, a second optical adjustment layer and a second transparent conductive layer in this order, and the surface resistance value of the second transparent conductive layer is: It is larger than the surface resistance value of the first transparent conductive layer, the surface resistance value of the first transparent conductive layer is 10Ω / □ or more and 70Ω / □ or less, and the surface resistance value of the second transparent conductive layer is The refractive index of the second optical adjustment layer is 50Ω / □ or more and 150Ω / □ or less, and includes a transparent conductive film that is smaller than the refractive index of the first optical adjustment layer.
　本発明［２］は、前記第２透明導電層の厚さは、前記第１透明導電層の厚さよりも薄い、［１］に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。 The present invention [2] includes the transparent conductive film according to [1], wherein the thickness of the second transparent conductive layer is thinner than the thickness of the first transparent conductive layer.
　本発明［３］は、前記第１光学調整層の屈折率は、１．６５以上、１．７５以下であり、前記第２光学調整層の屈折率は、１．６０以上、１．７０以下である、［１］または［２］に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。 In the invention [3], the refractive index of the first optical adjustment layer is 1.65 or more and 1.75 or less, and the refractive index of the second optical adjustment layer is 1.60 or more and 1.70 or less. The transparent conductive film described in [1] or [2] is included.
　本発明［４］は、前記第１光学調整層および前記第２光学調整層の厚さは、ともに、１００ｎｍ以下であることを特徴とする、［１］～［３］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。 According to the present invention [4], in any one of [1] to [3], the thicknesses of the first optical adjustment layer and the second optical adjustment layer are both 100 nm or less. The transparent conductive film of description is included.
　本発明［５］は、前記第１透明導電層および前記第２透明導電層は、ともにパターニングされており、前記第１透明導電層は、一方向に長い第１パターンを備え、前記第２透明導電層は、前記一方向と直交する直交方向に長い第２パターンを備え、前記第１パターンの一方向長さは、前記第２パターンの直交方向長さよりも長い、［１］～［４］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含んでいる。 In the present invention [5], the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are both patterned, and the first transparent conductive layer has a first pattern that is long in one direction, and the second transparent conductive layer The conductive layer includes a second pattern that is long in an orthogonal direction orthogonal to the one direction, and the one-direction length of the first pattern is longer than the orthogonal direction length of the second pattern [1] to [4] The transparent conductive film as described in any one of these is included.
　本発明［６］は、［１］～［５］のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムと、前記透明導電性フィルムの前記第１透明導電層側に配置される画像表示素子とを備える、画像表示装置を含んでいる。 The present invention [6] includes the transparent conductive film according to any one of [1] to [5] and an image display element disposed on the first transparent conductive layer side of the transparent conductive film. An image display device is provided.
　本発明の透明導電性フィルムによれば、第１透明導電層、第１光学調整層、透明基材、第２光学調整層および第２透明導電層を順に備える。このため、第１透明導電層および第２透明導電層がパターニングされた場合に、その第１透明導電層および第２透明導電層の視認を抑制することができる。 According to the transparent conductive film of the present invention, the first transparent conductive layer, the first optical adjustment layer, the transparent substrate, the second optical adjustment layer, and the second transparent conductive layer are provided in this order. For this reason, when the 1st transparent conductive layer and the 2nd transparent conductive layer are patterned, the visual recognition of the 1st transparent conductive layer and the 2nd transparent conductive layer can be controlled.
　また、第１透明導電層の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であるため、透明導電性フィルムは、表面抵抗値が小さい透明導電層を備える。このため、透明導電性フィルムは、良好な電磁波シールド効果を発現することができる。 In addition, since the surface resistance value of the first transparent conductive layer is 10Ω / □ or more and 70Ω / □ or less, the transparent conductive film includes a transparent conductive layer having a small surface resistance value. For this reason, a transparent conductive film can express a favorable electromagnetic wave shielding effect.
　また、第２透明導電層の表面抵抗値は、第１透明導電層の表面抵抗値よりも大きく、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であるため、第２透明導電層を、第１透明導電層よりも相対的に薄膜化できる。また、第２光学調整層の屈折率は、第１光学調整層の屈折率よりも低い。これらにより、透明導電性フィルムの光透過性を向上させることができる。 Moreover, since the surface resistance value of the second transparent conductive layer is larger than the surface resistance value of the first transparent conductive layer and is 50Ω / □ or more and 150Ω / □ or less, the second transparent conductive layer is replaced with the first transparent conductive layer. It can be made thinner than the layer. The refractive index of the second optical adjustment layer is lower than the refractive index of the first optical adjustment layer. By these, the light transmittance of a transparent conductive film can be improved.
　本発明の画像表示装置によれば、電磁波シールド効果を備え、パターニングされた第１透明導電層および第２透明導電層の視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える。 According to the image display device of the present invention, it has an electromagnetic wave shielding effect, and has good light transmittance while suppressing visual recognition of the patterned first transparent conductive layer and second transparent conductive layer.
図１は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態の断面図を示す。FIG. 1 shows a cross-sectional view of one embodiment of the transparent conductive film of the present invention. 図１は、図１に示す透明導電性フィルムをパターニングしたタッチパネル用フィルムの断面図を示す。FIG. 1 shows a cross-sectional view of a film for a touch panel obtained by patterning the transparent conductive film shown in FIG. 図３Ａ～図３Ｂは、図３に示すタッチパネル用フィルムであって、図３Ａは、第１透明導電層の電極パターンを示す平面図、図３Ｂは、第２透明導電層の電極パターンを示す底面図を示す。3A to 3B are the touch panel films shown in FIG. 3, in which FIG. 3A is a plan view showing an electrode pattern of the first transparent conductive layer, and FIG. 3B is a bottom view showing the electrode pattern of the second transparent conductive layer. The figure is shown. 図４は、図２に示す透明導電性フィルムを備える画像表示装置を示す。FIG. 4 shows an image display apparatus provided with the transparent conductive film shown in FIG. 図５Ａ～図５Ｂは、本発明のタッチパネル用フィルムの変形例（透明導電層の電極パターンが、複数の連続した矩形パターンを備える形態）であって、図５Ａは、第１透明導電層の電極パターンを示す平面図、図５Ｂは、第２透明導電層の電極パターンを示す底面図を示す。5A to 5B are modifications of the film for a touch panel according to the present invention (the electrode pattern of the transparent conductive layer includes a plurality of continuous rectangular patterns), and FIG. 5A illustrates the electrode of the first transparent conductive layer. FIG. 5B is a plan view showing the pattern, and FIG. 5B is a bottom view showing the electrode pattern of the second transparent conductive layer.
　＜透明導電性フィルムの一実施形態＞
　本発明の透明導電性フィルムの一実施形態について、図を参照しながら以下に説明する。図１において、紙面上下方向は、上下方向（厚み方向、第１方向）であって、紙面上側が、上側（厚み方向一方側、第１方向一方側）、紙面下側が、下側（厚み方向他方側、第１方向他方側）である。また、紙面左右方向は、左右方向（第２方向、第１方向と直交する直交方向）であって、紙面左側が、左側（第２方向一方側）、紙面右側が、右側（第２方向他方側）である。また、紙面紙厚方向は、奥行き方向（第３方向、第１方向および第２方向と直交する直交方向）であって、紙面手前が、前側（第３方向一方側）、紙面奥側が、後側（第３方向他方側）である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。 <One Embodiment of Transparent Conductive Film>
One embodiment of the transparent conductive film of the present invention will be described below with reference to the drawings. In FIG. 1, the vertical direction of the paper is the vertical direction (thickness direction, first direction), the upper side of the paper is the upper side (one side in the thickness direction, the first direction), and the lower side of the paper is the lower side (thickness direction). The other side, the other side in the first direction). The left and right direction on the paper is the left and right direction (second direction, orthogonal direction orthogonal to the first direction), the left side of the paper is the left side (one side in the second direction), the right side of the paper is the right side (the other in the second direction). Side). Further, the paper thickness direction is the depth direction (the orthogonal direction orthogonal to the third direction, the first direction, and the second direction), the front side of the paper is the front side (one side in the third direction), and the back side of the paper is the rear side. This is the side (the other side in the third direction). Specifically, it conforms to the direction arrow in each figure.
　１．透明導電性フィルム
　透明導電性フィルム１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、厚み方向と直交する所定方向（面方向）に延び、平坦な上面および平坦な下面を有する。透明導電性フィルム１は、例えば、画像表示装置に備えられるタッチパネル用基材などを作製するための一部品であり、つまり、画像表示装置ではない。すなわち、透明導電性フィルム１は、液晶セルなどの画像表示素子を含まず、部品単独で流通し、産業上利用可能なデバイスである。 1. Transparent conductive film The transparent conductive film 1 has a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness, extends in a predetermined direction (surface direction) orthogonal to the thickness direction, and has a flat upper surface and a flat lower surface. . The transparent conductive film 1 is a component for producing, for example, a base material for a touch panel provided in the image display device, that is, it is not an image display device. That is, the transparent conductive film 1 is an industrially available device that does not include an image display element such as a liquid crystal cell and is distributed alone as a component.
　具体的には、図１に示すように、透明導電性フィルム１は、透明基材２と、透明基材２の上面（一方面）に配置される第１ハードコート層３と、第１ハードコート層３の上面に配置される第１光学調整層４と、第１光学調整層４の上面に配置される第１透明導電層５と、透明基材２の下面（他方面）に配置される第２ハードコート層６と、第２ハードコート層６の下面に配置される第２光学調整層７と、第２光学調整層７の下面に配置される第２透明導電層８とを備える。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４、および、第１透明導電層５を備える。 Specifically, as shown in FIG. 1, the transparent conductive film 1 includes a transparent substrate 2, a first hard coat layer 3 disposed on the upper surface (one surface) of the transparent substrate 2, and a first hard The first optical adjustment layer 4 disposed on the upper surface of the coat layer 3, the first transparent conductive layer 5 disposed on the upper surface of the first optical adjustment layer 4, and the lower surface (the other surface) of the transparent substrate 2. Second hard coat layer 6, second optical adjustment layer 7 disposed on the lower surface of second hard coat layer 6, and second transparent conductive layer 8 disposed on the lower surface of second optical adjustment layer 7. . That is, the transparent conductive film 1 includes, in order from the bottom, the second transparent conductive layer 8, the second optical adjustment layer 7, the second hard coat layer 6, the transparent substrate 2, the first hard coat layer 3, and the first optical adjustment. A layer 4 and a first transparent conductive layer 5 are provided.
　透明導電性フィルム１は、好ましくは、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４および第１透明導電層５からなる。以下、各層について詳述する。 The transparent conductive film 1 preferably has a second transparent conductive layer 8, a second optical adjustment layer 7, a second hard coat layer 6, a transparent substrate 2, a first hard coat layer 3, a first optical adjustment layer 4 and It consists of a first transparent conductive layer 5. Hereinafter, each layer will be described in detail.
　（透明基材）
　透明基材２は、透明導電性フィルム１の機械強度を確保する基材である。透明基材２は、第１透明導電層５および第２透明導電層８を、第１ハードコート層３、第２ハードコート層６、第１光学調整層４および第２光学調整層７とともに、支持している。 (Transparent substrate)
The transparent substrate 2 is a substrate that ensures the mechanical strength of the transparent conductive film 1. The transparent substrate 2 includes the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8 together with the first hard coat layer 3, the second hard coat layer 6, the first optical adjustment layer 4, and the second optical adjustment layer 7. I support it.
　透明基材２は、例えば、透明性を有する高分子フィルムである。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの（メタ）アクリル樹脂（アクリル樹脂および／またはメタクリル樹脂）、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。高分子フィルムは、単独使用または２種以上併用することができる。 The transparent substrate 2 is, for example, a polymer film having transparency. Examples of the material of the polymer film include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, for example, (meth) acrylic resins (acrylic resin and / or methacrylic resin) such as polymethacrylate, Olefin resins such as polyethylene, polypropylene, cycloolefin polymer (COP), for example, polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, melamine resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, polystyrene resin, norbornene resin, etc. It is done. The polymer film can be used alone or in combination of two or more.
　透明性、耐熱性、機械的強度などの観点から、好ましくは、オレフィン樹脂が挙げられ、より好ましくは、ＣＯＰが挙げられる。 From the viewpoint of transparency, heat resistance, mechanical strength, etc., preferably, an olefin resin is used, and more preferably, COP is used.
　透明基材２の厚みは、機械的強度、耐擦傷性、タッチパネル用フィルム１ａの打点特性などの観点から、例えば、２μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下である。 The thickness of the transparent substrate 2 is, for example, 2 μm or more, preferably 20 μm or more, for example, 300 μm or less, preferably from the viewpoints of mechanical strength, scratch resistance, and spot characteristics of the touch panel film 1a. 150 μm or less.
　透明基材２の厚みは、例えば、マイクロゲージ式厚み計を用いて測定することができる。 The thickness of the transparent substrate 2 can be measured using, for example, a micro gauge thickness gauge.
　なお、透明基材２の上面および／または下面には、必要に応じて、易接着層、接着剤層などが設けられていてもよい。 In addition, an easily bonding layer, an adhesive layer, etc. may be provided in the upper surface and / or lower surface of the transparent base material 2 as needed.
　（第１ハードコート層）
　第１ハードコート層３は、透明導電性フィルム１に擦り傷を生じ難くするための擦傷保護層である。 (First hard coat layer)
The first hard coat layer 3 is an abrasion protective layer for making the transparent conductive film 1 less susceptible to abrasion.
　第１ハードコート層３は、フィルム形状を有しており、例えば、透明基材２の上面全面に、透明基材２の上面と接触するように、配置されている。より具体的には、第１ハードコート層３は、透明基材２と第１光学調整層４との間に、透明基材２の上面および第１光学調整層４の下面と接触するように、配置されている。 The first hard coat layer 3 has a film shape, and is disposed, for example, on the entire upper surface of the transparent substrate 2 so as to be in contact with the upper surface of the transparent substrate 2. More specifically, the first hard coat layer 3 is in contact with the upper surface of the transparent substrate 2 and the lower surface of the first optical adjustment layer 4 between the transparent substrate 2 and the first optical adjustment layer 4. Have been placed.
　第１ハードコート層３は、例えば、ハードコート組成物から形成されている。 The first hard coat layer 3 is formed of, for example, a hard coat composition.
　第１ハードコート層３のハードコート組成物は、樹脂を含有し、好ましくは、樹脂のみからなる。 The hard coat composition of the first hard coat layer 3 contains a resin, and preferably consists only of a resin.
　樹脂としては、例えば、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂（例えば、ポリオレフィン樹脂）などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the resin include a curable resin, a thermoplastic resin (for example, a polyolefin resin), and preferably a curable resin.
　硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線（具体的には、紫外線、電子線など）の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。 Examples of the curable resin include an active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with active energy rays (specifically, ultraviolet rays, electron beams, etc.), for example, a thermosetting resin that is cured by heating, and the like. Preferably, an active energy ray curable resin is used.
　活性エネルギー線硬化性樹脂は、例えば、分子中に重合性炭素－炭素二重結合を有する官能基を有するポリマーが挙げられる。そのような官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基（メタクリロイル基および／またはアクリロイル基）などが挙げられる。 Examples of the active energy ray-curable resin include a polymer having a functional group having a polymerizable carbon-carbon double bond in the molecule. Examples of such a functional group include a vinyl group and a (meth) acryloyl group (methacryloyl group and / or acryloyl group).
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの（メタ）アクリル系紫外線硬化性樹脂が挙げられる。 Specific examples of the active energy ray curable resin include (meth) acrylic ultraviolet curable resins such as urethane acrylate and epoxy acrylate.
　また、活性エネルギー線硬化性樹脂以外の硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物などの熱硬化性樹脂が挙げられる。 In addition, examples of the curable resin other than the active energy ray curable resin include thermosetting resins such as urethane resin, melamine resin, alkyd resin, siloxane polymer, and organic silane condensate.
　樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。 Resins can be used alone or in combination of two or more.
　ハードコート組成物は、粒子を含有することができる。これにより、第１ハードコート層３を、耐ブロッキング特性を有するアンチブロッキング層とすることができる。 The hard coat composition can contain particles. Thereby, the 1st hard-coat layer 3 can be made into the anti blocking layer which has an anti-blocking characteristic.
　粒子としては、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。 Examples of the particles include inorganic particles and organic particles. Examples of the inorganic particles include silica particles, for example, metal oxide particles made of zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, and the like, for example, carbonate particles such as calcium carbonate. Examples of the organic particles include crosslinked acrylic resin particles. The particles can be used alone or in combination of two or more.
　また、ハードコート組成物には、さらに、レベリング剤、チクソトロピー剤、帯電防止剤などの公知の添加剤を含有することができる。 The hard coat composition may further contain known additives such as a leveling agent, a thixotropic agent, and an antistatic agent.
　第１ハードコート層３の屈折率は、例えば、１．４０以上、好ましくは、１．４５以上であり、また、例えば、１．６０未満、好ましくは、１．５５以下である。第１ハードコート層３が上記範囲であれば、第１ハードコート層３の屈折率を、第１光学調整層４の屈折率よりも低くすることができ、電極パターンの視認をより一層抑制することができる。 The refractive index of the first hard coat layer 3 is, for example, 1.40 or more, preferably 1.45 or more, for example, less than 1.60, preferably 1.55 or less. If the 1st hard coat layer 3 is the said range, the refractive index of the 1st hard coat layer 3 can be made lower than the refractive index of the 1st optical adjustment layer 4, and the visual recognition of an electrode pattern is suppressed further. be able to.
　ハードコート層（第１ハードコート層３および第２ハードコート層６）の屈折率は、例えば、分光エリプソメーターを用いて測定することができる。 The refractive indexes of the hard coat layers (the first hard coat layer 3 and the second hard coat layer 6) can be measured using, for example, a spectroscopic ellipsometer.
　第１ハードコート層３の厚みは、耐擦傷性、電極パターンの視認抑制の観点から、例えば、０．１μｍ以上、好ましくは、０．５μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下である。 The thickness of the first hard coat layer 3 is, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and for example, 10 μm or less, preferably from the viewpoint of scratch resistance and suppression of visual recognition of the electrode pattern. 5 μm or less.
　ハードコード層（第１ハードコート層３および第２ハードコート層６）の厚みは、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ２０００」）を用い、干渉スペクトルの波形を基礎に算出することができる。 The thickness of the hard code layer (the first hard coat layer 3 and the second hard coat layer 6) can be calculated based on the waveform of the interference spectrum using an instantaneous multi-photometry system ("MCPD2000" manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). it can.
　（第１光学調整層）
　第１光学調整層４は、第１透明導電層５をパターニングした際に、そのパターン（例えば、電極パターン）の視認を抑制しつつ、透明導電性フィルム１に優れた透明性を確保するために、透明導電性フィルム１の光学物性（例えば、屈折率）を調整する層である。 (First optical adjustment layer)
The first optical adjustment layer 4 is used to ensure excellent transparency in the transparent conductive film 1 while suppressing the visual recognition of the pattern (for example, electrode pattern) when the first transparent conductive layer 5 is patterned. It is a layer for adjusting the optical properties (for example, refractive index) of the transparent conductive film 1.
　第１光学調整層４は、フィルム形状を有しており、例えば、第１ハードコート層３の上面全面に、第１ハードコート層３の上面に接触するように、配置されている。より具体的には、第１光学調整層４は、第１ハードコート層３と第１透明導電層５との間に、第１ハードコート層３の上面および第１透明導電層５の下面に接触するように、配置されている。 The first optical adjustment layer 4 has a film shape, and is disposed, for example, on the entire upper surface of the first hard coat layer 3 so as to be in contact with the upper surface of the first hard coat layer 3. More specifically, the first optical adjustment layer 4 is disposed between the first hard coat layer 3 and the first transparent conductive layer 5 on the upper surface of the first hard coat layer 3 and the lower surface of the first transparent conductive layer 5. It is arranged to come into contact.
　第１光学調整層４は、光学調整組成物から形成されている。 The first optical adjustment layer 4 is formed from an optical adjustment composition.
　光学調整組成物は、例えば、樹脂を含有する。光学調整組成物は、好ましくは、樹脂と粒子とを含有し、より好ましくは、樹脂と粒子とのみからなる。 The optical adjustment composition contains, for example, a resin. The optical adjustment composition preferably contains a resin and particles, and more preferably consists only of a resin and particles.
　樹脂としては特に限定されないが、ハードコート組成物で用いる樹脂と同一のものが挙げられる。樹脂は、単独使用または２種以上併用することができる。好ましくは、硬化性樹脂、より好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。 Although it does not specifically limit as resin, The same thing as resin used with a hard-coat composition is mentioned. The resins can be used alone or in combination of two or more. Preferably, a curable resin, more preferably an active energy ray curable resin is used.
　樹脂の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、１０質量％以上、好ましくは、２５質量％以上であり、また、例えば、９５質量％以下、好ましくは、６０質量％以下である。 The content ratio of the resin is, for example, 10% by mass or more, preferably 25% by mass or more, and, for example, 95% by mass or less, preferably 60% by mass or less with respect to the optical adjustment composition.
　粒子としては、第１光学調整層４の求める屈折率に応じて好適な材料を選択することができ、無機粒子、有機粒子などが挙げられる。無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、例えば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化などからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などが挙げられる。有機粒子としては、例えば、架橋アクリル樹脂粒子などが挙げられる。粒子は、単独使用または２種以上併用することができる。 As the particles, a suitable material can be selected according to the refractive index required by the first optical adjustment layer 4, and examples thereof include inorganic particles and organic particles. Examples of the inorganic particles include silica particles, for example, metal oxide particles made of zirconium oxide, titanium oxide, zinc oxide, oxidation, and the like, for example, carbonate particles such as calcium carbonate. Examples of the organic particles include crosslinked acrylic resin particles. The particles can be used alone or in combination of two or more.
　粒子としては、好ましくは、無機粒子、より好ましくは、金属酸化物粒子が挙げられ、さらに好ましくは、酸化ジルコニウム粒子（ＺｎＯ２）が挙げられる。 The particles are preferably inorganic particles, more preferably metal oxide particles, and more preferably zirconium oxide particles (ZnO 2 ).
　粒子の平均粒子径（メジアン径）は、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上であり、また、例えば、１００ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以下である。 The average particle diameter (median diameter) of the particles is, for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and for example, 100 nm or less, preferably 50 nm or less.
　粒子の含有割合は、光学調整組成物に対して、例えば、５質量％以上、好ましくは、４０質量％以上であり、また、例えば、９０質量％以下、好ましくは、７５質量％以下である。 The content ratio of the particles is, for example, 5% by mass or more, preferably 40% by mass or more, and, for example, 90% by mass or less, preferably 75% by mass or less with respect to the optical adjustment composition.
　第１光学調整層４の屈折率は、第２光学調整層７の屈折率よりも高く、例えば、１．６５以上であり、好ましくは、１．７０以上である。また、上限については、例えば、１．８０以下、好ましくは、１．７５以下である。第１光学調整層４の屈折率が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の光透過性をより一層良好にすることができる。 The refractive index of the first optical adjustment layer 4 is higher than the refractive index of the second optical adjustment layer 7, and is, for example, 1.65 or more, preferably 1.70 or more. The upper limit is, for example, 1.80 or less, preferably 1.75 or less. If the refractive index of the 1st optical adjustment layer 4 is the said range, the light transmittance of the transparent conductive film 1 can be made still more favorable.
　光学調整層（第１光学調整層４および第２光学構成層７）屈折率は、例えば、分光エリプソメーターを用いて測定することができる。 The refractive index of the optical adjustment layer (the first optical adjustment layer 4 and the second optical configuration layer 7) can be measured using, for example, a spectroscopic ellipsometer.
　第１光学調整層４の厚みは、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、８５ｎｍ以下であり、また、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上である。第１光学調整層４の厚みが上記上限以下であれば、透明導電性フィルム１の色相（特に、Ｌａ＊ｂ＊の色空間）をより確実にニュートラルにできる。すなわち、透明導電性フィルム１の着色（例えば、黄色）を低減し、無色透明の透明導電性フィルム１を確実に得ることができる。 The thickness of the first optical adjustment layer 4 is, for example, 150 nm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 85 nm or less, and for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more. If the thickness of the first optical adjustment layer 4 is not more than the above upper limit, the hue of the transparent conductive film 1 (particularly, the color space of La * b * ) can be more reliably neutral. That is, coloring (for example, yellow) of the transparent conductive film 1 can be reduced, and the colorless and transparent transparent conductive film 1 can be obtained reliably.
　光学調整層（第１光学調整層４および第２光学調整層７）の厚みは、例えば、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ２０００」）を用い、干渉スペクトルの波形を基礎に算出することができる。 The thickness of the optical adjustment layer (the first optical adjustment layer 4 and the second optical adjustment layer 7) is calculated based on the waveform of the interference spectrum using, for example, an instantaneous multi-photometry system (“MCPD2000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.). be able to.
　（第１透明導電層）
　第１透明導電層５は、エッチングなどの後工程で、所定のパターン（例えば、電極パターン）に形成するための透明な導電層である。 (First transparent conductive layer)
The first transparent conductive layer 5 is a transparent conductive layer for forming a predetermined pattern (for example, an electrode pattern) in a subsequent process such as etching.
　第１透明導電層５は、透明導電性フィルム１の最上層であって、フィルム形状を有しており、第１光学調整層４の上面全面に、第１光学調整層４の上面に接触するように、配置されている。 The first transparent conductive layer 5 is the uppermost layer of the transparent conductive film 1 and has a film shape. The first transparent conductive layer 5 is in contact with the entire upper surface of the first optical adjustment layer 4 and the upper surface of the first optical adjustment layer 4. So that it is arranged.
　第１透明導電層５の材料としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗからなる群より選択される少なくとも１種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープしていてもよい。 The material of the first transparent conductive layer 5 is, for example, at least selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, and W. A metal oxide containing one kind of metal can be given. If necessary, the metal oxide may be further doped with a metal atom shown in the above group.
　第１透明導電層５の材料は、好ましくは、インジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモン－スズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、より好ましくは、インジウム含有酸化物が挙げられ、さらに好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。これにより、第１透明導電層５は、優れた透明性および導電性を両立することができる。 The material of the first transparent conductive layer 5 is preferably an indium-containing oxide such as indium-tin composite oxide (ITO), for example, an antimony-containing oxide such as antimony-tin composite oxide (ATO). More preferably, an indium-containing oxide is used, and more preferably, ITO is used. Thereby, the 1st transparent conductive layer 5 can make the outstanding transparency and electroconductivity compatible.
　第１透明導電層５の材料としてＩＴＯを用いる場合、酸化スズ（ＳｎＯ２）含有量は、酸化スズおよび酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）の合計量に対して、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。 When ITO is used as the material of the first transparent conductive layer 5, the tin oxide (SnO 2 ) content is, for example, 0.5% by mass or more with respect to the total amount of tin oxide and indium oxide (In 2 O 3 ). The amount is preferably 3% by mass or more, and for example, 15% by mass or less, preferably 13% by mass or less.
　「ＩＴＯ」は、少なくともインジウム（Ｉｎ）とスズ（Ｓｎ）とを含む複合酸化物であればよく、これら以外の追加成分を含むこともできる。追加成分としては、例えば、Ｉｎ、Ｓｎ以外の金属元素が挙げられ、具体的には、Ｚｎ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｆｅ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｇａなどが挙げられる。 “ITO” may be a composite oxide containing at least indium (In) and tin (Sn), and may contain additional components other than these. Examples of the additional component include metal elements other than In and Sn. Specifically, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W, Fe , Pb, Ni, Nb, Cr, Ga and the like.
　第１透明導電層５は、結晶質および非晶質のいずれであってもよい。第１透明導電層５は、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。これにより、第１透明導電層５の透明性を向上させ、また、第１透明導電層５の表面抵抗値をより一層低減させることができる。 The first transparent conductive layer 5 may be either crystalline or amorphous. The first transparent conductive layer 5 is preferably made of a crystalline material, more specifically, a crystalline ITO layer. Thereby, the transparency of the 1st transparent conductive layer 5 can be improved, and the surface resistance value of the 1st transparent conductive layer 5 can be reduced further.
　透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）が結晶質であることは、例えば、透明導電層がＩＴＯ層である場合は、２０℃の塩酸（濃度５質量％）に１５分間浸漬した後、水洗・乾燥し、１５ｍｍ程度の間の端子間抵抗を測定することで判断できる。具体的は、塩酸（２０℃、濃度：５質量％）への浸漬・水洗・乾燥後に、１５ｍｍ間の端子間抵抗が１０ｋΩ以下である場合、ＩＴＯ層が結晶質であるものとする。 The transparent conductive layers (the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8) are crystalline. For example, when the transparent conductive layer is an ITO layer, the hydrochloric acid (concentration 5% by mass) at 20 ° C. It can be judged by immersing for 15 minutes, washing and drying, and measuring the resistance between terminals of about 15 mm. Specifically, the ITO layer is crystalline when the resistance between terminals between 15 mm is 10 kΩ or less after immersion, washing and drying in hydrochloric acid (20 ° C., concentration: 5 mass%).
　第１透明導電層５の表面抵抗値は、第２透明導電層８の表面抵抗値よりも低く、具体的には、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下である。好ましくは、２０Ω／□以上、より好ましくは、３０Ω／□以上であり、また、好ましくは、６０Ω／□以下、より好ましくは、５０Ω／□以下である。第１透明導電層５の表面抵抗値が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１が、優れた電磁波シールド性および導電性を発現することができる。 The surface resistance value of the first transparent conductive layer 5 is lower than the surface resistance value of the second transparent conductive layer 8, specifically 10Ω / □ or more and 70Ω / □ or less. Preferably, it is 20Ω / □ or more, more preferably 30Ω / □ or more, preferably 60Ω / □ or less, more preferably 50Ω / □ or less. If the surface resistance value of the 1st transparent conductive layer 5 is the said range, the transparent conductive film 1 can express the outstanding electromagnetic wave shielding property and electroconductivity.
　透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）の表面抵抗値は、例えば、４端子法を用いて測定することができる。 The surface resistance value of the transparent conductive layer (the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8) can be measured using, for example, a four-terminal method.
　第１透明導電層５の厚みは、好ましくは、第２透明導電層８の厚みよりも厚く、例えば、３０ｎｍ以上、好ましくは、３５ｎｍ以上であり、また、例えば、２００ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、６０ｎｍ以下である。第１透明導電層５の厚みが上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の電磁波シールド性をより一層良好にすることができる。 The thickness of the first transparent conductive layer 5 is preferably greater than the thickness of the second transparent conductive layer 8, for example, 30 nm or more, preferably 35 nm or more, and, for example, 200 nm or less, preferably 100 nm or less. More preferably, it is 60 nm or less. If the thickness of the 1st transparent conductive layer 5 is the said range, the electromagnetic wave shielding property of the transparent conductive film 1 can be made still better.
　透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）の厚みは、例えば、透明導電層の断面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより、測定することができる。 The thickness of the transparent conductive layer (the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8) can be measured, for example, by observing the cross section of the transparent conductive layer with a transmission electron microscope (TEM).
　（第２ハードコート層）
　第２ハードコート層６は、透明導電性フィルム１に擦り傷を生じ難くするための擦傷保護層である。 (Second hard coat layer)
The second hard coat layer 6 is a scratch protective layer for making it difficult to cause scratches on the transparent conductive film 1.
　第２ハードコート層６は、フィルム形状を有しており、例えば、透明基材２の下面全面に、透明基材２の下面と接触するように、配置されている。より具体的には、第２ハードコート層６は、透明基材２と第２光学調整層７との間に、透明基材２の下面および第２光学調整層７の上面と接触するように、配置されている。 The second hard coat layer 6 has a film shape, and is disposed, for example, on the entire lower surface of the transparent substrate 2 so as to be in contact with the lower surface of the transparent substrate 2. More specifically, the second hard coat layer 6 is in contact with the lower surface of the transparent substrate 2 and the upper surface of the second optical adjustment layer 7 between the transparent substrate 2 and the second optical adjustment layer 7. Have been placed.
　第２ハードコート層６は、第１ハードコート層３と同様の層であり、例えば、第１ハードコート層３と同一の材料から、同一の構成（厚み、屈折率など）を有する。そのため、第２ハードコート層６も、第１ハードコート層３と同一形状、同一寸法を有する。 The second hard coat layer 6 is the same layer as the first hard coat layer 3, and has the same configuration (thickness, refractive index, etc.) from the same material as the first hard coat layer 3, for example. Therefore, the second hard coat layer 6 also has the same shape and the same dimensions as the first hard coat layer 3.
　（第２光学調整層）
　第２光学調整層７は、第２透明導電層８をパターニングした際に、そのパターン（例えば、電極パターン）の視認を抑制しつつ、透明導電性フィルム１に優れた透明性を確保するために、透明導電性フィルム１の光学物性（例えば、屈折率）を調整する層である。 (Second optical adjustment layer)
When the second optical adjustment layer 7 patterns the second transparent conductive layer 8, the second optical adjustment layer 7 suppresses the visual recognition of the pattern (for example, the electrode pattern) and secures excellent transparency in the transparent conductive film 1. It is a layer for adjusting the optical properties (for example, refractive index) of the transparent conductive film 1.
　第２光学調整層７は、フィルム形状を有しており、例えば、第２ハードコート層６の下面全面に、第２ハードコート層６の下面と接触するように、配置されている。より具体的には、第２光学調整層７は、第２ハードコート層６と第２透明導電層８との間に、第２ハードコート層６の下面および第２透明導電層８の上面と接触するように、配置されている。 The second optical adjustment layer 7 has a film shape and is disposed, for example, on the entire lower surface of the second hard coat layer 6 so as to be in contact with the lower surface of the second hard coat layer 6. More specifically, the second optical adjustment layer 7 includes a lower surface of the second hard coat layer 6 and an upper surface of the second transparent conductive layer 8 between the second hard coat layer 6 and the second transparent conductive layer 8. It is arranged to come into contact.
　第２光学調整層７は、光学調整組成物から形成されている。光学調整組成物としては、第１光学調整層４で上記したものと同様のものが挙げられる。 The second optical adjustment layer 7 is formed from an optical adjustment composition. Examples of the optical adjustment composition include those similar to those described above for the first optical adjustment layer 4.
　第２光学調整層７の屈折率は、第１光学調整層４の屈折率よりも低く、例えば、１．７０以下であり、好ましくは、１．６５未満、さらに好ましくは、１．６４以下である。また、下限については、例えば、１．５５以上、好ましくは、１．６０以上である。第２光学調整層７の屈折率が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の光透過性をより一層良好にすることができる。 The refractive index of the second optical adjustment layer 7 is lower than the refractive index of the first optical adjustment layer 4, for example, 1.70 or less, preferably less than 1.65, more preferably 1.64 or less. is there. The lower limit is, for example, 1.55 or more, preferably 1.60 or more. If the refractive index of the 2nd optical adjustment layer 7 is the said range, the light transmittance of the transparent conductive film 1 can be made still more favorable.
　第２光学調整層７と第１光学調整層４との屈折率の差は、例えば、０．０１以上、好ましくは、０．０５以上であり、また、例えば、０．２０以下、好ましくは、０．１５以下である。屈折率の差が上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の透過性を良好にしたり、色相をニュートラルにできる。 The difference in refractive index between the second optical adjustment layer 7 and the first optical adjustment layer 4 is, for example, 0.01 or more, preferably 0.05 or more, and for example, 0.20 or less, preferably 0.15 or less. If the difference in refractive index is within the above range, the transparency of the transparent conductive film 1 can be improved and the hue can be neutral.
　第２光学調整層７の厚みは、例えば、１５０ｎｍ以下、好ましくは、１００ｎｍ以下、より好ましくは、８５ｎｍ以下であり、また、例えば、１０ｎｍ以上、好ましくは、２０ｎｍ以上である。第２光学調整層７の厚みが上記上限以下であれば、色相をより確実にニュートラルにできる。 The thickness of the second optical adjustment layer 7 is, for example, 150 nm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 85 nm or less, and for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more. If the thickness of the second optical adjustment layer 7 is less than or equal to the above upper limit, the hue can be more neutralized.
　（第２透明導電層）
　第２透明導電層８は、エッチングなどの後工程で、所定のパターン（例えば、電極パターン）に形成するための透明な導電層である。 (Second transparent conductive layer)
The second transparent conductive layer 8 is a transparent conductive layer for forming a predetermined pattern (for example, an electrode pattern) in a subsequent process such as etching.
　第２透明導電層８は、透明導電性フィルム１の最下層であり、フィルム形状を有しており、第２光学調整層７の下面全面に、第２光学調整層７の下面と接触するように、配置されている。 The second transparent conductive layer 8 is the lowermost layer of the transparent conductive film 1, has a film shape, and is in contact with the lower surface of the second optical adjustment layer 7 on the entire lower surface of the second optical adjustment layer 7. Is arranged.
　第２透明導電層８を構成する材料としては、第１透明導電層５で上記したものと同様のものが挙げられる。好ましくは、ＩＴＯである。また、第２透明導電層８は、結晶質および非晶質のいずれであってもよいが、好ましくは、結晶質からなり、より具体的には、結晶質ＩＴＯ層である。 Examples of the material constituting the second transparent conductive layer 8 include the same materials as those described above for the first transparent conductive layer 5. ITO is preferable. The second transparent conductive layer 8 may be crystalline or amorphous, but is preferably made of a crystalline material, more specifically, a crystalline ITO layer.
　第２透明導電層８の表面抵抗値は、第１透明導電層５の表面抵抗値よりも高く、具体的には、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下である。好ましくは、６０Ω／□以上、より好ましくは、７０Ω／□以上、さらに好ましくは、１００Ω／□以上であり、また、好ましくは、１２０Ω／□以下である。第２透明導電層８の表面抵抗値が上記範囲であれば、第２透明導電層８の厚みを薄くすることができ、透明導電性フィルム１の光透過性を良好にすることができる。 The surface resistance value of the second transparent conductive layer 8 is higher than the surface resistance value of the first transparent conductive layer 5, specifically, 50Ω / □ or more and 150Ω / □ or less. Preferably, it is 60Ω / □ or more, more preferably 70Ω / □ or more, still more preferably 100Ω / □ or more, and preferably 120Ω / □ or less. If the surface resistance value of the 2nd transparent conductive layer 8 is the said range, the thickness of the 2nd transparent conductive layer 8 can be made thin, and the light transmittance of the transparent conductive film 1 can be made favorable.
　第１透明導電層５と第２透明導電層８の表面抵抗値の差は、例えば、１０Ω／□以上、好ましくは、２０Ω／□以上、より好ましくは、４０Ω／□以上であり、また、例えば、１００Ω／□以下、好ましくは、７０Ω／□以下である。 The difference in the surface resistance value between the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8 is, for example, 10Ω / □ or more, preferably 20Ω / □ or more, more preferably 40Ω / □ or more. 100Ω / □ or less, preferably 70Ω / □ or less.
　第２透明導電層８の厚みは、好ましくは、第１透明導電層５の厚みよりも薄く、例えば、３５ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以下であり、また、例えば、１ｎｍ以上、好ましくは、１０ｎｍ以上である。第２透明導電層８の厚みが上記範囲であれば、透明導電性フィルム１の光透過性をより一層良好にすることができる。 The thickness of the second transparent conductive layer 8 is preferably thinner than the thickness of the first transparent conductive layer 5, for example, 35 nm or less, preferably 30 nm or less, and for example, 1 nm or more, preferably 10 nm or more. It is. If the thickness of the 2nd transparent conductive layer 8 is the said range, the light transmittance of the transparent conductive film 1 can be made still more favorable.
　２．透明導電性フィルムの製造方法
　透明導電性フィルム１を製造するには、まず、透明基材２を用意し、続いて、透明基材２の両面に、ハードコート層（第１ハードコート層３および第２ハードコート層６）、光学調整層（第１光学調整層４および第２光学調整層７）および透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）を順に設ける。 2. Production method of transparent conductive film In order to produce the transparent conductive film 1, first, a transparent substrate 2 is prepared, and then a hard coat layer (first hard coat layer 3 and Second hard coat layer 6), optical adjustment layer (first optical adjustment layer 4 and second optical adjustment layer 7) and transparent conductive layer (first transparent conductive layer 5 and second transparent conductive layer 8) are provided in this order.
　例えば、まず、第１ハードコート層３または第２ハードコート層６を形成するハードコート組成物を溶媒で希釈した希釈液を調製する。続いて、その希釈液を透明基材２の上面または下面に塗布して、各希釈液を乾燥して、必要に応じてハードコート組成物を硬化させる。これにより、透明基材２の上面に第１ハードコート層３を設け、透明基材２の下面に第２ハードコート層６を設ける。 For example, first, a diluted solution is prepared by diluting a hard coat composition for forming the first hard coat layer 3 or the second hard coat layer 6 with a solvent. Subsequently, the diluted solution is applied to the upper or lower surface of the transparent substrate 2, each diluted solution is dried, and the hard coat composition is cured as necessary. As a result, the first hard coat layer 3 is provided on the upper surface of the transparent substrate 2, and the second hard coat layer 6 is provided on the lower surface of the transparent substrate 2.
　次いで、第１光学調整層４または第２光学調整層７を形成する光学調整組成物を溶媒で希釈した希釈液を調製する。続いて、その希釈液を第１ハードコート層３の上面または第２ハードコート層６の下面に塗布して、各希釈液を乾燥して、必要に応じて光学調整組成物を硬化させる。これにより、第１ハードコート層３の上面に第１光学調整層４を設け、第２ハードコート層６の下面に第２光学調整層７を設ける。すなわち、第２光学調整層７／第２ハードコート層６／透明基材２／第１ハードコート層３／第１光学調整層４の積層体を得る。 Next, a diluted solution is prepared by diluting the optical adjustment composition forming the first optical adjustment layer 4 or the second optical adjustment layer 7 with a solvent. Subsequently, the diluted solution is applied to the upper surface of the first hard coat layer 3 or the lower surface of the second hard coat layer 6, each diluted solution is dried, and the optical adjustment composition is cured as necessary. Thus, the first optical adjustment layer 4 is provided on the upper surface of the first hard coat layer 3, and the second optical adjustment layer 7 is provided on the lower surface of the second hard coat layer 6. That is, a laminate of the second optical adjustment layer 7 / second hard coat layer 6 / transparent substrate 2 / first hard coat layer 3 / first optical adjustment layer 4 is obtained.
　次いで、乾式法により、上記積層体の両面に第１透明導電層５および第２透明導電層８を順次形成する。 Next, the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8 are sequentially formed on both surfaces of the laminate by a dry method.
　乾式方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などが挙げられる。好ましくは、スパッタリング法が挙げられる。この方法によって薄膜の透明導電層を形成することができる。 Examples of the dry method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method. Preferably, a sputtering method is used. A thin transparent conductive layer can be formed by this method.
　スパッタリング法としては、例えば、２極スパッタリング法、ＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）スパッタリング法、マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタリング法などが挙げられる。好ましくは、マグネトロンスパッタリング法が挙げられる。 Examples of the sputtering method include a bipolar sputtering method, an ECR (electron cyclotron resonance) sputtering method, a magnetron sputtering method, and an ion beam sputtering method. A magnetron sputtering method is preferable.
　スパッタリング法を採用する場合、ターゲット材料としては、透明導電層を構成する上述の金属酸化物などが挙げられ、好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。ＩＴＯの酸化スズ濃度は、ＩＴＯ層の耐久性、結晶化などの観点から、例えば、０．５質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、１５質量％以下、好ましくは、１３質量％以下である。 When employing the sputtering method, examples of the target material include the above-described metal oxides constituting the transparent conductive layer, and preferably ITO. The tin oxide concentration of ITO is, for example, 0.5% by mass or more, preferably 3% by mass or more, and, for example, 15% by mass or less, preferably from the viewpoint of durability and crystallization of the ITO layer. 13 mass% or less.
　ガスとしては、例えば、Ａｒなどの不活性ガスが挙げられる。また、必要に応じて、酸素ガスなどの反応性ガスを併用することができる。反応性ガスを併用する場合において、反応性ガスの流量比（ｓｃｃｍ）は特に限定しないが、スパッタガスおよび反応性ガスの合計流量比に対して、例えば、０．１流量％以上５流量％以下である。 Examples of the gas include an inert gas such as Ar. Moreover, reactive gas, such as oxygen gas, can be used together as needed. When the reactive gas is used in combination, the flow rate ratio (sccm) of the reactive gas is not particularly limited. For example, the flow rate ratio of the sputtering gas and the reactive gas is, for example, 0.1 flow% or more and 5 flow% or less. It is.
　スパッタリング時の気圧は、スパッタリングレートの低下抑制、放電安定性などの観点から、例えば、１Ｐａ以下であり、好ましくは、０．１Ｐａ以上０．７Ｐａ以下である。 The atmospheric pressure during sputtering is, for example, 1 Pa or less, preferably 0.1 Pa or more and 0.7 Pa or less, from the viewpoint of suppressing a decrease in sputtering rate, discharge stability, or the like.
　電源は、例えば、ＤＣ電源、ＡＣ電源、ＭＦ電源およびＲＦ電源のいずれであってもよく、また、これらの組み合わせであってもよい。 The power source may be, for example, any of a DC power source, an AC power source, an MF power source, and an RF power source, or a combination thereof.
　この際、例えば、積層体に設けられる第１透明導電層５および第２透明導電層８の厚みをそれぞれ別個に調整することにより、各透明導電層の表面抵抗値を調整することができる。すなわち、透明導電層の厚みを厚くすることにより、その表面抵抗値を低くし、逆に、透明導電層の厚みを薄くすることにより、その表面抵抗値を高くすることができる。本発明では、好ましくは、第２透明導電層８の厚みを、第１透明導電層５の厚みよりも薄くなるように、各透明導電層の形成を調整する。 At this time, for example, the surface resistance value of each transparent conductive layer can be adjusted by separately adjusting the thicknesses of the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8 provided in the laminate. That is, by increasing the thickness of the transparent conductive layer, the surface resistance value can be lowered, and conversely, by reducing the thickness of the transparent conductive layer, the surface resistance value can be increased. In the present invention, preferably, the formation of each transparent conductive layer is adjusted so that the thickness of the second transparent conductive layer 8 is thinner than the thickness of the first transparent conductive layer 5.
　これにより、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４および第１透明導電層５をこの順で備える透明導電性フィルム１が得られる。 Thus, the second transparent conductive layer 8, the second optical adjustment layer 7, the second hard coat layer 6, the transparent substrate 2, the first hard coat layer 3, the first optical adjustment layer 4 and the first transparent conductive layer 5 are formed. The transparent conductive film 1 provided in this order is obtained.
　必要に応じて、次いで、透明導電性フィルム１に大気下で加熱処理を実施する。 If necessary, the transparent conductive film 1 is then heat-treated in the atmosphere.
　加熱処理は、例えば、赤外線ヒーター、オーブンなどを用いて実施することができる。 The heat treatment can be performed using, for example, an infrared heater or an oven.
　加熱温度は、例えば、１００℃以上、好ましくは、１２０℃以上であり、また、例えば、２００℃以下、好ましくは、１６０℃以下である。 The heating temperature is, for example, 100 ° C. or higher, preferably 120 ° C. or higher, and for example, 200 ° C. or lower, preferably 160 ° C. or lower.
　加熱時間は、加熱温度に応じて適宜決定されるが、例えば、１０分以上、好ましくは、３０分以上であり、また、例えば、５時間以下、好ましくは、３時間以下である。 The heating time is appropriately determined according to the heating temperature, and is, for example, 10 minutes or more, preferably 30 minutes or more, and for example, 5 hours or less, preferably 3 hours or less.
　この加熱処理により、各透明導電層を結晶化でき、所望の表面抵抗値にすることができる。 By this heat treatment, each transparent conductive layer can be crystallized to obtain a desired surface resistance value.
　また、この製造方法では、各層を、例えば、ロールトゥロール方式で、透明基材２に対して設けることができ、または、これらの層の一部または全部をバッチ方式（枚葉方式）で設けることもできる。 Moreover, in this manufacturing method, each layer can be provided with respect to the transparent base material 2, for example by a roll-to-roll system, or a part or all of these layers is provided by a batch system (single-wafer system). You can also
　透明導電性フィルム１の光透過率（視感度平均透過率）は、例えば、８６．０％以上、好ましくは、８６．５％以上である。光透過率が上記範囲であれば、透明の透明導電性フィルム１を確実に得ることができる。 The light transmittance (visual sensitivity average transmittance) of the transparent conductive film 1 is, for example, 86.0% or more, and preferably 86.5% or more. If the light transmittance is in the above range, a transparent transparent conductive film 1 can be obtained reliably.
　透明導電性フィルム１の色相Ｌａ＊は、例えば、－１．５以上、好ましくは、－１．０以上であり、また、例えば、好ましくは、１．５以下、好ましくは、０．５以下である。色相Ｌｂ＊は、例えば、－４．０以上、好ましくは、－０．５以上であり、また、例えば、好ましくは、４．０以下、好ましくは、１．０以下である。色相が上記範囲であれば、無色透明の透明導電性フィルム１を確実に得ることができる。 The hue La * of the transparent conductive film 1 is, for example, −1.5 or more, preferably −1.0 or more, and for example, preferably 1.5 or less, preferably 0.5 or less. is there. The hue Lb * is, for example, −4.0 or more, preferably −0.5 or more, and for example, preferably 4.0 or less, preferably 1.0 or less. If a hue is the said range, the colorless and transparent transparent conductive film 1 can be obtained reliably.
　この透明導電性フィルム１は、例えば、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などのタッチパネル用フィルムとして使用できる。特に、静電容量方式（具体的には、投影型静電容量方式）のタッチパネル用フィルムとして好適に使用できる。 The transparent conductive film 1 can be used as a film for a touch panel such as an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, and a resistance film method. In particular, it can be suitably used as a film for a touch panel of a capacitance type (specifically, a projection type capacitance type).
　３．タッチパネル用フィルム
　次いで、透明導電性フィルム１の一実施形態であるタッチパネル用フィルム１ａについて、説明する。 3. Next, the film 1a for touch panels which is one Embodiment of the transparent conductive film 1 is demonstrated.
　タッチパネル用フィルム１ａは、図２に示すように、透明基材２と、透明基材２の上面に配置される第１ハードコート層３と、第１ハードコート層３の上面に配置される第１光学調整層４と、第１光学調整層４の上面に配置されるパターニング第１透明導電層５ａと、透明基材２の下面に配置される第２ハードコート層６と、第２ハードコート層６の下面に配置される第２光学調整層７と、第２光学調整層７の下面に配置されるパターニング第２透明導電層８ａとを備える。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、パターニング第２透明導電層８ａ、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４、および、パターニング第１透明導電層５ａを備える。タッチパネル用フィルム１ａは、好ましくは、パターニング第２透明導電層８ａ、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４およびパターニング第１透明導電層５ａからなる。 As shown in FIG. 2, the touch panel film 1 a includes a transparent substrate 2, a first hard coat layer 3 disposed on the upper surface of the transparent substrate 2, and a first hard coat layer 3 disposed on the upper surface of the first hard coat layer 3. 1 optical adjustment layer 4, patterned first transparent conductive layer 5 a disposed on the upper surface of the first optical adjustment layer 4, second hard coat layer 6 disposed on the lower surface of the transparent substrate 2, and second hard coat The second optical adjustment layer 7 disposed on the lower surface of the layer 6 and the patterned second transparent conductive layer 8a disposed on the lower surface of the second optical adjustment layer 7 are provided. That is, the transparent conductive film 1 includes, in order from the bottom, the patterned second transparent conductive layer 8a, the second optical adjustment layer 7, the second hard coat layer 6, the transparent substrate 2, the first hard coat layer 3, and the first optical. The adjustment layer 4 and the patterning 1st transparent conductive layer 5a are provided. The touch panel film 1a is preferably formed by patterning the second transparent conductive layer 8a, the second optical adjustment layer 7, the second hard coat layer 6, the transparent substrate 2, the first hard coat layer 3, the first optical adjustment layer 4, and It consists of a patterned first transparent conductive layer 5a.
　タッチパネル用フィルム１ａは、図３Ａ～図３Ｂに示すように、左右方向（一方向、長辺方向）に長く、前後方向（他方向、短辺方向）に短い平面視略長方形状を有する。 As shown in FIGS. 3A to 3B, the touch panel film 1a has a substantially rectangular shape in plan view that is long in the left-right direction (one direction, long side direction) and short in the front-rear direction (other direction, short side direction).
　タッチパネル用フィルム１ａは、上記した透明導電性フィルム１の透明導電層（第１透明導電層５および第２透明導電層８）をパターン化（パターニング）することにより得られるパターニング透明導電性フィルムである。よって、タッチパネル用フィルム１ａの第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３および第１光学調整層４は、上記した透明導電性フィルム１の各層と同様である。 The touch panel film 1a is a patterned transparent conductive film obtained by patterning (patterning) the transparent conductive layer (the first transparent conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8) of the transparent conductive film 1 described above. . Therefore, the second optical adjustment layer 7, the second hard coat layer 6, the transparent substrate 2, the first hard coat layer 3, and the first optical adjustment layer 4 of the touch panel film 1 a are the layers of the transparent conductive film 1 described above. It is the same.
　パターニング第１透明導電層５ａは、図３Ａに示すように、平面視略中央部に、第１パターンの一例として、左右方向に長く延びる第１長方形状パターン１１を備えている。具体的には、パターニング第１透明導電層５ａは、前後方向に互いに間隔を隔てて配置される第１長方形状パターン１１を複数備えている。また、第１長方形状パターン１１を集積回路（図示せず）に電気的に接続するための配線１２が、第１長方形状パターン１１の右端に一体的に接続されている。 The patterning 1st transparent conductive layer 5a is provided with the 1st rectangular pattern 11 extended in the left-right direction as an example of a 1st pattern as an example of a 1st pattern in planar view substantially center part, as shown to FIG. 3A. Specifically, the patterned first transparent conductive layer 5a includes a plurality of first rectangular patterns 11 that are spaced apart from each other in the front-rear direction. A wiring 12 for electrically connecting the first rectangular pattern 11 to an integrated circuit (not shown) is integrally connected to the right end of the first rectangular pattern 11.
　パターニング第２透明導電層８ａは、図３Ｂに示すように、底面視略中央部に、第２パターンの一例として、前後方向（左右方向に直交する直交方向）に長く延びる第２長方形状パターン１３を備えている。具体的には、パターニング第２透明導電層８ａは、左右方向に互いに間隔を隔てて配置される第２長方形状パターン１３を複数備えている。また、第２長方形状パターン１３を集積回路（図示せず）に電気的に接続するための配線１２が、前端または後端に一体的に接続されている。 As shown in FIG. 3B, the patterning second transparent conductive layer 8a has, as an example of the second pattern, a second rectangular pattern 13 that extends long in the front-rear direction (orthogonal direction orthogonal to the left-right direction) at the substantially central portion when viewed from the bottom. It has. Specifically, the patterning second transparent conductive layer 8a includes a plurality of second rectangular patterns 13 arranged at intervals in the left-right direction. Further, a wiring 12 for electrically connecting the second rectangular pattern 13 to an integrated circuit (not shown) is integrally connected to the front end or the rear end.
　パターニング第１透明導電層５ａの第１長方形状パターン１１と、パターニング第２透明導電層８ａの第２長方形状パターン１３とは、厚み方向（上下方向）に投影したときに、互いに直交するように配置されている。 The first rectangular pattern 11 of the patterned first transparent conductive layer 5a and the second rectangular pattern 13 of the patterned second transparent conductive layer 8a are orthogonal to each other when projected in the thickness direction (vertical direction). Has been placed.
　パターニング第１透明導電層５ａの第１長方形状パターン１１の左右方向長さ（長辺長さ）は、パターニング第２透明導電層８ａの第２長方形状パターン１３の前後方向長さ（長辺長さ）よりも長い。これにより、電流の移動距離が長いパターニング第１透明導電層５ａの表面抵抗値を低減することができるため、パターニング第１透明導電層５ａの電流の伝達速度を向上させたり、ノイズを低減することができる。その結果、画像表示装置２０の大型化を図ることができる。 The length (long side length) of the first rectangular pattern 11 of the patterned first transparent conductive layer 5a is the length (long side length) of the second rectangular pattern 13 of the patterning second transparent conductive layer 8a. Is longer than Thereby, since the surface resistance value of the patterning 1st transparent conductive layer 5a with a long electric current moving distance can be reduced, the current transmission speed of the patterning 1st transparent conductive layer 5a can be improved, or noise can be reduced. Can do. As a result, the size of the image display device 20 can be increased.
　パターニング方法としては、例えば、電極パターンを形成するためのマスクによって各透明導電層を被覆して、エッチング液により各透明導電層をエッチングすることにより実施される。エッチング液としては、酸が好適に用いられる。酸としては、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。 As the patterning method, for example, each transparent conductive layer is covered with a mask for forming an electrode pattern, and each transparent conductive layer is etched with an etching solution. An acid is preferably used as the etching solution. Examples of the acid include inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof.
　４．作用効果
　この透明導電性フィルム１は、第１透明導電層５、第１光学調整層４、透明基材２、第２光学調整層７および第２透明導電層８を順に備えるため、第１透明導電層５および第２透明導電層８がパターニングされた場合に、パターニング第１透明導電層５ａおよびパターニング第２透明導電層８ａ（例えば、電極パターン）の視認を抑制することができる。 4). This transparent conductive film 1 includes the first transparent conductive layer 5, the first optical adjustment layer 4, the transparent substrate 2, the second optical adjustment layer 7, and the second transparent conductive layer 8 in this order, and thus the first transparent conductive layer 1 When the conductive layer 5 and the second transparent conductive layer 8 are patterned, the visibility of the patterned first transparent conductive layer 5a and the patterned second transparent conductive layer 8a (for example, an electrode pattern) can be suppressed.
　また、第１透明導電層５の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であるため、透明導電性フィルム１は、表面抵抗値が小さい第１透明導電層５を片面に備える。このため、この透明導電性フィルム１は、表面抵抗値が高い透明導電層を両面に備える透明導電性フィルムよりも相対的に、良好な電磁波シールド性を発現することができる。 Further, since the surface resistance value of the first transparent conductive layer 5 is 10Ω / □ or more and 70Ω / □ or less, the transparent conductive film 1 includes the first transparent conductive layer 5 having a small surface resistance value on one side. For this reason, this transparent conductive film 1 can express a favorable electromagnetic wave shielding property relatively than a transparent conductive film provided with a transparent conductive layer with a high surface resistance on both sides.
　また、第２透明導電層８の表面抵抗値は、第１透明導電層５の表面抵抗値よりも大きく、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であるため、第２透明導電層８を、第１透明導電層５よりも相対的に薄膜化できる。また、第２光学調整層７の屈折率は、第１光学調整層４の屈折率よりも低い。これらの表面抵抗値および屈折率によって、透明導電性フィルム１の光透過性を向上させることができる。 Further, the surface resistance value of the second transparent conductive layer 8 is larger than the surface resistance value of the first transparent conductive layer 5 and is 50Ω / □ or more and 150Ω / □ or less. It can be made thinner than the transparent conductive layer 5. The refractive index of the second optical adjustment layer 7 is lower than the refractive index of the first optical adjustment layer 4. The light transmittance of the transparent conductive film 1 can be improved by these surface resistance value and refractive index.
　また、この透明導電性フィルム１の各透明導電層がともにパターニングされているタッチパネル用フィルム１ａでは、パターニング第１透明導電層５ａが、左右方向に長い第１長方形状パターン１１を備え、パターニング第２透明導電層８ａは、前後方向に長い第２長方形状パターン１３を備えている。また、第１長方形状パターン１１の左右方向長さは、前記第２パターンの前後方向長さよりも長い。そのため、電流の移動距離が長いパターニング第１透明導電層５ａの表面抵抗値を低減することができるため、パターニング第１透明導電層５ａの電流の伝達速度を向上させたり、ノイズを低減することができる。その結果、透明導電性フィルム１全体としての電流速度の向上、ノイズの低減を達成できるため、画像表示装置２０の大型化を図ることができる。 Moreover, in the film 1a for touch panels in which each transparent conductive layer of this transparent conductive film 1 is patterned, the patterning 1st transparent conductive layer 5a is provided with the 1st rectangular pattern 11 long in the left-right direction, and patterning 2nd The transparent conductive layer 8a includes a second rectangular pattern 13 that is long in the front-rear direction. Further, the length in the left-right direction of the first rectangular pattern 11 is longer than the length in the front-rear direction of the second pattern. Therefore, since the surface resistance value of the patterned first transparent conductive layer 5a having a long current moving distance can be reduced, the current transmission speed of the patterned first transparent conductive layer 5a can be improved or noise can be reduced. it can. As a result, an improvement in current speed and a reduction in noise as the transparent conductive film 1 as a whole can be achieved, so that the size of the image display device 20 can be increased.
　＜画像表示装置＞
　次いで、画像表示装置２０の一実施形態について、説明する。画像表示装置２０の一実施形態は、図４に示すように、透明保護板２１と、第１透明粘着剤層２２と、タッチパネル用フィルム１ａと、第２透明粘着剤層２３と、画像表示素子２４とを順に備えている。なお、図４では、上側が素子側であり、下側が視認側である。 <Image display device>
Next, an embodiment of the image display device 20 will be described. As shown in FIG. 4, one embodiment of the image display device 20 includes a transparent protective plate 21, a first transparent adhesive layer 22, a touch panel film 1 a, a second transparent adhesive layer 23, and an image display element. 24 in order. In FIG. 4, the upper side is the element side, and the lower side is the viewing side.
　透明保護板２１は、外部からの衝撃や汚れに対して、画像表示素子２４などの画像表示装置２０の内部部材を保護するための層である。 The transparent protective plate 21 is a layer for protecting internal members of the image display device 20 such as the image display element 24 against external impacts and dirt.
　透明保護板２１としては、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの硬質性樹脂からなる樹脂板、例えば、ガラス板などが挙げられる。 Examples of the transparent protective plate 21 include a resin plate made of a hard resin such as an acrylic resin or a polycarbonate resin, such as a glass plate.
　透明保護板２１の厚みは、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、５００μｍ以上であり、また、例えば、１０ｍｍ以下、より好ましくは、５ｍｍ以下である。 The thickness of the transparent protective plate 21 is, for example, 10 μm or more, preferably 500 μm or more, and for example, 10 mm or less, more preferably 5 mm or less.
　第１透明粘着剤層２２は、透明保護板２１とタッチパネル用フィルム１ａとを接着するための層である。第１透明粘着剤層２２は、フィルム形状を有しており、透明保護板２１の上に配置されている。より具体的には、第１透明粘着剤層２２は、透明保護板２１およびタッチパネル用フィルム１ａの間に、透明保護板２１の上面およびタッチパネル用フィルム１ａの下面（パターニング第２透明導電８ａ）と接触するように、配置されている。 The first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22 is a layer for bonding the transparent protective plate 21 and the touch panel film 1a. The first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22 has a film shape and is disposed on the transparent protective plate 21. More specifically, the first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22 includes an upper surface of the transparent protective plate 21 and a lower surface of the touch panel film 1a (patterning second transparent conductive 8a) between the transparent protective plate 21 and the touch panel film 1a. It is arranged to come into contact.
　第１透明粘着剤層２２は、透明な粘着剤組成物から形成されている。粘着性組成物の組成は限定されないが、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤（ブチルゴムなど）、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリウレタン系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、フッ素樹脂系粘着剤などが挙げられる。 The first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22 is formed from a transparent pressure-sensitive adhesive composition. The composition of the pressure-sensitive adhesive composition is not limited. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive (such as butyl rubber), a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a polyester-based pressure-sensitive adhesive, a polyurethane-based pressure-sensitive adhesive, a polyamide-based pressure-sensitive adhesive, and an epoxy-based pressure-sensitive adhesive Agents, vinyl alkyl ether adhesives, fluororesin adhesives, and the like.
　第１透明粘着剤層２２の厚み（透明保護板２１の上面からパターニング第２透明導電８ａの下面までの距離）は、例えば、１μｍ以上、好ましくは、５μｍ以上であり、また、例えば、３００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下、より好ましくは、５０μｍ以下である。 The thickness of the first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22 (distance from the upper surface of the transparent protective plate 21 to the lower surface of the patterned second transparent conductor 8a) is, for example, 1 μm or more, preferably 5 μm or more, and, for example, 300 μm or less. The thickness is preferably 150 μm or less, more preferably 50 μm or less.
　タッチパネル用フィルム１ａは、上側にパターニング第１透明導電層５ａが位置し、下側にパターニング第２透明導電層８ａが位置するように、第１透明粘着剤層２２の上に配置されている。より具体的には、タッチパネル用フィルム１ａは、第１透明粘着剤層２２および第２透明粘着剤層２３の間に、パターニング第２透明導電層８ａが第１透明粘着剤層２２に接触し、パターニング第１透明導電層５ａが第２透明粘着剤層２３に接触するように、配置されている。 The touch panel film 1a is disposed on the first transparent adhesive layer 22 so that the patterned first transparent conductive layer 5a is located on the upper side and the patterned second transparent conductive layer 8a is located on the lower side. More specifically, in the touch panel film 1a, the patterning second transparent conductive layer 8a is in contact with the first transparent adhesive layer 22 between the first transparent adhesive layer 22 and the second transparent adhesive layer 23. It arrange | positions so that the patterning 1st transparent conductive layer 5a may contact the 2nd transparent adhesive layer 23. FIG.
　また、タッチパネル用フィルム１ａの上面において、パターニング第１透明導電層５ａの第１長方形状パターン１１の上面および側面、ならびに、パターニング第１透明導電層５ａから露出する第１光学調整層４の上面が、第１透明粘着剤層２２に接触している。タッチパネル用フィルム１ａの下面において、パターニング透明導電層第２８ａの第２長方形状パターン１３の下面および側面、ならびに、パターニング第２透明導電層８ａから露出する第２光学調整層７の上面が、第２透明粘着剤層２３に接触している。 Further, on the upper surface of the touch panel film 1a, the upper surface and the side surface of the first rectangular pattern 11 of the patterning first transparent conductive layer 5a and the upper surface of the first optical adjustment layer 4 exposed from the patterning first transparent conductive layer 5a are as follows. In contact with the first transparent adhesive layer 22. On the bottom surface of the touch panel film 1a, the bottom surface and the side surface of the second rectangular pattern 13 of the patterned transparent conductive layer 28a and the top surface of the second optical adjustment layer 7 exposed from the patterned second transparent conductive layer 8a are the second. The transparent adhesive layer 23 is in contact.
　第２透明粘着剤層２３は、画像表示素子２４とタッチパネル用フィルム１ａとを接着するための層である。第２透明粘着剤層２３は、フィルム形状を有しており、タッチパネル用フィルム１ａの上に配置されている。より具体的には、第２透明粘着剤層２３は、タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示素子２４の間に、タッチパネル用フィルム１ａの上面および画像表示素子２４の下面と接触するように、配置されている。 The second transparent pressure-sensitive adhesive layer 23 is a layer for bonding the image display element 24 and the touch panel film 1a. The 2nd transparent adhesive layer 23 has a film shape, and is arrange | positioned on the film 1a for touchscreens. More specifically, the 2nd transparent adhesive layer 23 is arrange | positioned so that the upper surface of the film 1a for touch panels and the lower surface of the image display element 24 may be contacted between the film 1a for touch panels, and the image display element 24. Yes.
　第２透明粘着剤層２３は、第１透明粘着剤層２２と同様の粘着剤組成物から形成されている。第２透明粘着剤層２３の厚みは、第１透明粘着剤層２２の厚みと同様である。 The second transparent pressure-sensitive adhesive layer 23 is formed from the same pressure-sensitive adhesive composition as the first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22. The thickness of the second transparent pressure-sensitive adhesive layer 23 is the same as the thickness of the first transparent pressure-sensitive adhesive layer 22.
　画像表示素子２４は、第２透明粘着剤層２３の上に配置されている。より具体的には、画像表示素子２４は、画像表示面２５が下側となり、かつ、画像表示面２５が第２透明粘着剤層２３の上面に接触するように、第２透明粘着剤層２３の上面に配置されている。 The image display element 24 is disposed on the second transparent adhesive layer 23. More specifically, the image display element 24 has the second transparent adhesive layer 23 such that the image display surface 25 is on the lower side and the image display surface 25 is in contact with the upper surface of the second transparent adhesive layer 23. It is arrange | positioned on the upper surface of.
　画像表示素子２４としては、例えば、液晶セル、有機ＥＬなどが挙げられる。 Examples of the image display element 24 include a liquid crystal cell and an organic EL.
　この画像表示装置２０は、タッチパネル用フィルム１ａを備えるため、電磁波シールド効果を備え、パターニング第１透明導電層５ａおよびパターニング第２透明導電層８ａ（電極パターン）の視認を抑制しながら、良好な光透過性を備える。よって、大画面化を図ることができる。 Since the image display device 20 includes the touch panel film 1a, the image display device 20 has an electromagnetic wave shielding effect, and suppresses the visual recognition of the patterning first transparent conductive layer 5a and the patterning second transparent conductive layer 8a (electrode pattern), and provides good light. Provide transparency. Therefore, a large screen can be achieved.
　また、画像表示装置２０では、画像表示素子２４が、パターニング第１透明導電層５ａ側（上側）に配置されている。このため、電磁波シールド効果が強いパターニング第１透明導電層５ａ（第１透明導電層５）と、電磁波を発生する画像表示素子２４との距離を縮めている。よって、画像表示素子２４の電磁波をより確実に吸収でき、画像表示装置２０としての電磁波シールド効果が優れる。 In the image display device 20, the image display element 24 is disposed on the patterning first transparent conductive layer 5a side (upper side). For this reason, the distance between the patterned first transparent conductive layer 5a (first transparent conductive layer 5) having a strong electromagnetic shielding effect and the image display element 24 that generates electromagnetic waves is shortened. Therefore, the electromagnetic wave of the image display element 24 can be absorbed more reliably, and the electromagnetic wave shielding effect as the image display device 20 is excellent.
　＜変形例＞
　（１）図１に示す実施形態では、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層８、第２光学調整層７、第２ハードコート層６、透明基材２、第１ハードコート層３、第１光学調整層４、第１透明導電層５を備えるが、例えば、図示しないが、第２ハードコート層６および第１ハードコート層３を備えなくてもよい。すなわち、透明導電性フィルム１は、下から順に、第２透明導電層８、第２光学調整層７、透明基材２、第１光学調整層４、および、第１透明導電層５からなる。 <Modification>
(1) In the embodiment shown in FIG. 1, the transparent conductive film 1 includes, in order from the bottom, the second transparent conductive layer 8, the second optical adjustment layer 7, the second hard coat layer 6, the transparent substrate 2, and the first. Although the hard coat layer 3, the first optical adjustment layer 4, and the first transparent conductive layer 5 are provided, for example, although not shown, the second hard coat layer 6 and the first hard coat layer 3 may not be provided. That is, the transparent conductive film 1 includes a second transparent conductive layer 8, a second optical adjustment layer 7, a transparent substrate 2, a first optical adjustment layer 4, and a first transparent conductive layer 5 in order from the bottom.
　好ましくは、擦傷性の観点から、図１に示す実施形態が挙げられる。タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示装置２０についても上記と同様である。 Preferably, from the viewpoint of scratch resistance, the embodiment shown in FIG. The same applies to the touch panel film 1 a and the image display device 20.
　（２）図３Ａ～Ｂに示す実施形態では、パターニング第１透明導電層５ａが、左右方向に長い第１長方形状パターン１１を備え、パターニング第２透明導電層８ａが、前後方向に長い第２長方形状パターン１３を備えているが、例えば、図示しないが、パターニング第２透明導電層８ａが、左右方向に長い第１長方形状パターン１１を備え、パターニング第１透明導電層５ａが、前後方向に長い第２長方形状パターン１３を備えることもできる。 (2) In the embodiment shown in FIGS. 3A and 3B, the patterned first transparent conductive layer 5a includes a first rectangular pattern 11 that is long in the left-right direction, and the patterned second transparent conductive layer 8a is long in the front-rear direction. Although the rectangular pattern 13 is provided, for example, although not illustrated, the patterning second transparent conductive layer 8a includes the first rectangular pattern 11 that is long in the left-right direction, and the patterning first transparent conductive layer 5a is provided in the front-rear direction. A long second rectangular pattern 13 can also be provided.
　この実施形態では、パターニング第２透明導電層８ａの第１長方形状パターン１１の左右方向長さは、パターニング第１透明導電層５ａの第２長方形状パターン１３の前後方向長さよりも長い。 In this embodiment, the lateral length of the first rectangular pattern 11 of the patterned second transparent conductive layer 8a is longer than the longitudinal length of the second rectangular pattern 13 of the patterned first transparent conductive layer 5a.
　好ましくは、電極パターン長さが長い透明導電層の電流速度やノイズを向上させることができる点から、図３Ａ～Ｂに示す実施形態が挙げられる。 Preferably, the embodiment shown in FIGS. 3A and 3B can be mentioned because the current speed and noise of the transparent conductive layer having a long electrode pattern length can be improved.
　（３）図３Ａ～Ｂに示す実施形態では、第１パターンの一例として左右方向に延びる第１長方形状パターン１１、第２パターンの一例として前後方向に延びる第２長方形状パターン１３としているが、例えば、図５Ａ～Ｂに示すように、第１パターンの一例として複数の矩形パターンが左右方向に連続する第１連続矩形状パターン１４とし、第２パターンの一例として複数の矩形パターンが前後方向に連続する第２連続矩形状パターン１５とすることもできる。 (3) In the embodiment shown in FIGS. 3A and 3B, the first rectangular pattern 11 extending in the left-right direction is an example of the first pattern, and the second rectangular pattern 13 extending in the front-rear direction is an example of the second pattern. For example, as shown in FIGS. 5A and 5B, a first continuous rectangular pattern 14 in which a plurality of rectangular patterns are continuous in the left-right direction is used as an example of the first pattern, and a plurality of rectangular patterns are used in the front-rear direction as an example of the second pattern. The second continuous rectangular pattern 15 may be continuous.
　すなわち、図５Ａ～Ｂに示す実施形態では、パターニング第１透明導電層５ａは、左右方向に互いに間隔を隔てて配置される第１連続矩形状パターン１４を複数備えている。第１連続矩形状パターン１４において、複数の略矩形パターンは、それらの対角線が左右方向に沿うように、一直線上に配置されている。 That is, in the embodiment shown in FIGS. 5A and 5B, the patterned first transparent conductive layer 5a includes a plurality of first continuous rectangular patterns 14 arranged at intervals in the left-right direction. In the first continuous rectangular pattern 14, the plurality of substantially rectangular patterns are arranged on a straight line such that their diagonal lines are along the left-right direction.
　パターニング第２透明導電層８ａは、前後方向に互いに間隔を隔てて配置される第２連続矩形状パターン１５を複数備えている。第２連続矩形状パターン１５において、複数の略矩形パターンは、それらの対角線が前後方向に沿うように、一直線上に配置されている。 The patterned second transparent conductive layer 8a includes a plurality of second continuous rectangular patterns 15 that are spaced apart from each other in the front-rear direction. In the second continuous rectangular pattern 15, the plurality of substantially rectangular patterns are arranged on a straight line such that their diagonal lines are along the front-rear direction.
　パターニング第１透明導電層５ａの第１連続矩形状パターン１４と、パターニング第２透明導電層８ａの第２連続矩形状パターン１５とは、厚み方向に投影したときに、互いに直交するように配置されている。また、厚み方向に投影したときに、第１連続矩形状パターン１４を構成する矩形状パターンが、第２連続矩形状パターン１５を構成する矩形状パターンと重複しないように、第１連続矩形状パターン１４および第２連続矩形状パターン１５は配置されている。また、厚み方向に投影したときに、第１連続矩形状パターン１４および第２連続矩形状パターン１５を合わせたパターンが、タッチパネル用フィルム１ａの略中央部の全面を覆うように、第１連続矩形状パターン１４および第２連続矩形状パターン１５は配置されている。 The first continuous rectangular pattern 14 of the patterned first transparent conductive layer 5a and the second continuous rectangular pattern 15 of the patterned second transparent conductive layer 8a are arranged to be orthogonal to each other when projected in the thickness direction. ing. Further, the first continuous rectangular pattern so that the rectangular pattern constituting the first continuous rectangular pattern 14 does not overlap with the rectangular pattern constituting the second continuous rectangular pattern 15 when projected in the thickness direction. 14 and the second continuous rectangular pattern 15 are arranged. Further, when projected in the thickness direction, the first continuous rectangular pattern 14 and the second continuous rectangular pattern 15 are combined so that the pattern of the first continuous rectangular pattern 15 covers the entire surface of the substantially central portion of the touch panel film 1a. The shape pattern 14 and the second continuous rectangular pattern 15 are arranged.
　（４）図４に示す画像表示装置２０では、パターニング第１透明導電層５ａ側に画像表示素子２４が位置するように、タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示素子２４が配置されているが、例えば、図示しないが、パターニング第２透明導電層８ａ側に画像表示素子２４が位置するように、タッチパネル用フィルム１ａおよび画像表示素子２４が配置することもできる。すなわち、画像表示装置２０は、パターニング第１透明導電層５ａが下側となり、パターニング第２透明導電層８ａが上側となるように、透明保護板２１と、第１透明粘着剤層２２と、タッチパネル用フィルム１ａと、第２透明粘着剤層２３と、画像表示素子２４とを下側から順に備えることもできる。 (4) In the image display device 20 shown in FIG. 4, the touch panel film 1 a and the image display element 24 are arranged so that the image display element 24 is positioned on the patterning first transparent conductive layer 5 a side. Although not shown, the touch panel film 1a and the image display element 24 may be arranged so that the image display element 24 is positioned on the patterning second transparent conductive layer 8a side. That is, the image display device 20 includes the transparent protective plate 21, the first transparent adhesive layer 22, and the touch panel so that the patterning first transparent conductive layer 5a is on the lower side and the patterning second transparent conductive layer 8a is on the upper side. The film 1a, the second transparent pressure-sensitive adhesive layer 23, and the image display element 24 can be provided in order from the lower side.
　好ましくは、画像表示装置２０全体としての電磁波シールド効果の観点から、図４に示す実施形態が挙げられる。 Preferably, from the viewpoint of the electromagnetic wave shielding effect of the image display device 20 as a whole, the embodiment shown in FIG.
　以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited to an Example and a comparative example at all. In addition, specific numerical values such as a blending ratio (content ratio), physical property values, and parameters used in the following description are described in the above-mentioned “Mode for Carrying Out the Invention”, and a blending ratio corresponding to them ( Substituting the upper limit value (numerical value defined as “less than” or “less than”) or the lower limit value (number defined as “greater than” or “exceeded”) such as content ratio), physical property values, parameters, etc. be able to.
　（実施例１）
　透明基材（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、商品名「ゼオノアＺＦ－１６」、厚さ１００μｍ）の両面に、ハードコート組成物（アクリル系紫外線硬化性樹脂、ＤＩＣ社製、「ユニディックＲＳ２９－１２０」）の希釈液を、グラビアコーターを用いて塗布し、８０℃で１分間加熱乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射して、第１および第２ハードコート層（各厚さ１．０μｍ、各屈折率１．５３）を形成した。これにより、第１ハードコート層、透明基材および第２ハードコート層の積層体を得た。 Example 1
On both sides of a transparent substrate (COP film, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name “Zeonor ZF-16”, thickness 100 μm), a hard coat composition (acrylic UV curable resin, manufactured by DIC Corporation, “Unidic RS29- 120 ”) was applied using a gravure coater and dried by heating at 80 ° C. for 1 minute. Then, the 1st and 2nd hard-coat layer (each thickness 1.0micrometer, each refractive index 1.53) was formed by irradiating an ultraviolet-ray using a high pressure mercury lamp. Thereby, the laminated body of the 1st hard coat layer, the transparent base material, and the 2nd hard coat layer was obtained.
　次いで、積層体の第１ハードコート層表面に、屈折率が１．７０となる光学調整組成物の希釈液を、グラビアコーターを用いて塗布し、６０℃で１分間加熱乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射して、第１光学調整層（屈折率１．７０、厚さ８０ｎｍ）を形成した。また、屈折率が１．６４となる光学調整組成物を用いた以外は上記と同様にして、第２ハードコート層表面に、第２光学調整層（屈折率１．６４、厚さ８０ｎｍ）を形成した。これにより、第１光学調整層、第１ハードコート層、透明基材および第２ハードコート層および第１光学調整層の積層体を得た。 Next, a diluted solution of the optical adjustment composition having a refractive index of 1.70 was applied to the surface of the first hard coat layer of the laminate using a gravure coater, and dried by heating at 60 ° C. for 1 minute. Then, the 1st optical adjustment layer (refractive index 1.70, thickness 80nm) was formed by irradiating an ultraviolet-ray using a high pressure mercury lamp. Further, a second optical adjustment layer (refractive index 1.64, thickness 80 nm) was formed on the surface of the second hard coat layer in the same manner as described above except that the optical adjustment composition having a refractive index of 1.64 was used. Formed. Thereby, the laminated body of the 1st optical adjustment layer, the 1st hard coat layer, the transparent base material, the 2nd hard coat layer, and the 1st optical adjustment layer was obtained.
　なお、各光学調整組成物は、屈折率１．６０の屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、「オプスター」）と、屈折率１．７４の屈折率調整剤（ＪＳＲ社製、「オプスターＫＺ６７３４」）とを適宜混合することにより、調製した。 Each optical adjustment composition includes a refractive index adjusting agent having a refractive index of 1.60 (manufactured by JSR, “OPSTAR”) and a refractive index adjusting agent having a refractive index of 1.74 (manufactured by JSR, “OPSTAR KZ6734”). And were appropriately mixed.
　次いで、得られた積層体をスパッタ装置に投入し、積層体の両面に、インジウム・スズ酸化物層（ＩＴＯ層）を積層した。ガスとして、アルゴンガス９８％と酸素２％とからなる混合ガスを用い、雰囲気の圧力を０．４Ｐａとした。また、スパッタリングのターゲットとして、酸化インジウム９０質量％－酸化スズ１０質量％からなる焼結体を用いた。また、第１光学調整層側に積層される第１透明導電層の厚みを４０ｎｍ、第２光学調整層側に積層される第２透明導電層の厚みを３０ｎｍとなるように調整した。 Next, the obtained laminate was put into a sputtering apparatus, and indium tin oxide layers (ITO layers) were laminated on both sides of the laminate. As the gas, a mixed gas composed of 98% argon gas and 2% oxygen was used, and the pressure of the atmosphere was 0.4 Pa. As a sputtering target, a sintered body composed of 90% by mass of indium oxide and 10% by mass of tin oxide was used. Further, the thickness of the first transparent conductive layer laminated on the first optical adjustment layer side was adjusted to 40 nm, and the thickness of the second transparent conductive layer laminated on the second optical adjustment layer side was adjusted to 30 nm.
　これにより、第１透明導電層、第１光学調整層、第１ハードコート層、透明基材および第２ハードコート層、第１光学調整層および第２透明導電層からなる透明導電性フィルムを得た。 Thereby, the transparent conductive film which consists of a 1st transparent conductive layer, a 1st optical adjustment layer, a 1st hard coat layer, a transparent base material and a 2nd hard coat layer, a 1st optical adjustment layer, and a 2nd transparent conductive layer is obtained. It was.
　次いで、この透明導電性フィルムを１４０℃のオーブンで９０分間加熱することにより、第１および第２透明導電層を結晶化させて、実施例１の両面透明導電性フィルムを製造した。 Next, this transparent conductive film was heated in an oven at 140 ° C. for 90 minutes to crystallize the first and second transparent conductive layers, and the double-sided transparent conductive film of Example 1 was produced.
　（実施例２～９および比較例１～５）
　光学調整層の厚みおよび屈折率、ならびに、透明導電層の厚みおよび表面抵抗値を、表１に記載の光学調整層の厚みおよび屈折率、ならびに、透明導電層の厚みおよび表面抵抗値に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、透明導電性フィルムを製造した。 (Examples 2 to 9 and Comparative Examples 1 to 5)
The thickness and refractive index of the optical adjustment layer, and the thickness and surface resistance value of the transparent conductive layer were changed to the thickness and refractive index of the optical adjustment layer shown in Table 1, and the thickness and surface resistance value of the transparent conductive layer. Except for the above, a transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1.
　（比較例６）
　第１光学調整層および第２光学調整層を設けなかった以外は、実施例１と同様の方法で、透明導電性フィルムを製造した。 (Comparative Example 6)
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the first optical adjustment layer and the second optical adjustment layer were not provided.
　各実施例および各比較例の透明導電性フィルムについて、下記の測定を実施し、その結果を表１に示す。 The following measurements were performed on the transparent conductive films of each Example and each Comparative Example, and the results are shown in Table 1.
　＜表面抵抗＞
　４端子法を用いて、各実施例および各比較例の透明導電性フィルムの各透明導電層の表面抵抗（Ω／□）を測定した。 <Surface resistance>
Using the 4-terminal method, the surface resistance (Ω / □) of each transparent conductive layer of the transparent conductive film of each Example and each Comparative Example was measured.
　＜層の厚み＞
　各ハードコート層および各光学調整層の厚みは、瞬間マルチ測光システム（大塚電子社製、「ＭＣＰＤ２０００」）を用い、干渉スペクトルよりの波形を基礎に算出した。 <Layer thickness>
The thickness of each hard coat layer and each optical adjustment layer was calculated based on the waveform from the interference spectrum using an instantaneous multi-photometry system (“MCPD2000” manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).
　各透明導電層の厚みは、透明導電性フィルムを切断した断面図を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することにより、測定した。 The thickness of each transparent conductive layer was measured by observing a cross-sectional view of the transparent conductive film with a transmission electron microscope (TEM).
　＜屈折率＞
　透明フィルム（ＣＯＰフィルム、日本ゼオン社製、「ゼオノアＺＦ－１６」）上に、測定対象であるハードコート層のみを製膜し、分光エリプソメーター（ジェーエーウーラム社製、型番ＦＱＴＨ－１００）を用いて屈折率を測定した。 <Refractive index>
On the transparent film (COP film, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., “ZEONOR ZF-16”), only the hard coat layer to be measured is formed, and a spectroscopic ellipsometer (manufactured by JA Woollam, model number FQTH-100) Was used to measure the refractive index.
　また、透明フィルム（上記と同様）上に、測定対象である光学調整層のみを製膜し、分光エリプソメーター（上記と同様）を用いて屈折率を測定した。 In addition, on the transparent film (same as above), only the optical adjustment layer to be measured was formed, and the refractive index was measured using a spectroscopic ellipsometer (same as above).
　なお、透明フィルムと、ハードコート層または光学調整層との密着性が、不良である場合は、コロナ処理などの表面改質を適宜実施した。 In addition, when the adhesion between the transparent film and the hard coat layer or the optical adjustment layer was poor, surface modification such as corona treatment was appropriately performed.
　＜透過率、色相＞
　各実施例および各比較例の透明導電性フィルムの両面に、透明なアクリル系粘着剤（日東電工製、型番Ｎｏ．７、厚み２５μｍ）を介して、透明フィルム（日本ゼオン製、「ゼオノアＺＦ－１４」、厚み１００μｍ）を貼り合わせた。これにより、透過率測定用のサンプル（透明フィルム／粘着剤／透明導電性フィルム／粘着剤／透明フィルム）を得た。このサンプルを、分光光度計（村上色彩社製、型番「Ｄｏｔ－３」）を用いて、波長３８０～７００ｎｍにおける視感度平均透過率、および、色相ａ＊、ｂ＊を測定した。結果を表１に示す。 <Transmittance, hue>
A transparent film (manufactured by ZEON Corporation, “ZEONOR ZF-”) is provided on both sides of the transparent conductive film of each example and each comparative example via a transparent acrylic adhesive (manufactured by Nitto Denko, model No. 7, thickness 25 μm). 14 ”and a thickness of 100 μm). Thus, a sample for measuring transmittance (transparent film / adhesive / transparent conductive film / adhesive / transparent film) was obtained. Using this spectrophotometer (manufactured by Murakami Color Co., Ltd., model number “Dot-3”), the average transmittance of luminosity at wavelengths of 380 to 700 nm and hues a * and b * were measured. The results are shown in Table 1.
　＜電極パターンの視認性＞
　各実施例および各比較例の透明導電性フィルムにおいて、第１透明導電層および第２透明導電層を、エッチング液を用いてエッチングして、図３Ａ～Ｂの電極パターンにパターンニングした。パターニングした透明導電性フィルムを斜め上方から視認した。電極パターンが明確に視認された場合を×と評価し、電極パターンがほとんど視認されなかった場合を○と評価した。結果を表１に示す。 <Visibility of electrode pattern>
In the transparent conductive film of each example and each comparative example, the first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer were etched using an etching solution and patterned into the electrode patterns of FIGS. 3A and 3B. The patterned transparent conductive film was viewed from obliquely above. The case where the electrode pattern was clearly visually recognized was evaluated as x, and the case where the electrode pattern was hardly visually recognized was evaluated as ◯. The results are shown in Table 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記請求の範囲に含まれる。 Although the above invention has been provided as an exemplary embodiment of the present invention, this is merely an example and should not be interpreted in a limited manner. Variations of the present invention that are apparent to one of ordinary skill in the art are within the scope of the following claims.
本発明の透明導電性フィルムおよび画像表示装置は、各種の工業製品に適用することができ、例えば、本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルを備える画像表示装置などに好適に用いられる。 The transparent conductive film and the image display device of the present invention can be applied to various industrial products. For example, the transparent conductive film of the present invention is suitably used for an image display device including a touch panel.
１　透明導電性フィルム
２　透明基材
４　第１光学調整層
５　第１透明導電層
７　第２光学調整層
８　第２透明導電層
１１　第１長方形状パターン
１３　第２長方形状パターン
２０　画像表示装置
２４　画像表示素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive film 2 Transparent base material 4 1st optical adjustment layer 5 1st transparent conductive layer 7 2nd optical adjustment layer 8 2nd transparent conductive layer 11 1st rectangular pattern 13 2nd rectangular pattern 20 Image display apparatus 24 Image display element

Claims (6)

  1. 　第１透明導電層、第１光学調整層、透明基材、第２光学調整層および第２透明導電層を順に備え、
    　前記第２透明導電層の表面抵抗値は、前記第１透明導電層の表面抵抗値よりも大きく、
    　前記第１透明導電層の表面抵抗値は、１０Ω／□以上、７０Ω／□以下であり、
    　前記第２透明導電層の表面抵抗値は、５０Ω／□以上、１５０Ω／□以下であり、
    　前記第２光学調整層の屈折率は、前記第１光学調整層の屈折率よりも低いことを特徴とする、透明導電性フィルム。     A first transparent conductive layer, a first optical adjustment layer, a transparent substrate, a second optical adjustment layer, and a second transparent conductive layer are sequentially provided,
    The surface resistance value of the second transparent conductive layer is larger than the surface resistance value of the first transparent conductive layer,
    The surface resistance value of the first transparent conductive layer is 10Ω / □ or more and 70Ω / □ or less,
    The surface resistance value of the second transparent conductive layer is 50Ω / □ or more and 150Ω / □ or less,
    A transparent conductive film, wherein the refractive index of the second optical adjustment layer is lower than the refractive index of the first optical adjustment layer.
  2. 　前記第２透明導電層の厚さは、前記第１透明導電層の厚さよりも薄いことを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。 The transparent conductive film according to claim 1, wherein the thickness of the second transparent conductive layer is thinner than the thickness of the first transparent conductive layer.
  3. 　前記第１光学調整層の屈折率は、１．６５以上、１．７５以下であり、
    　前記第２光学調整層の屈折率は、１．６０以上、１．７０以下であることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。     The refractive index of the first optical adjustment layer is 1.65 or more and 1.75 or less,
    The transparent conductive film according to claim 1, wherein a refractive index of the second optical adjustment layer is 1.60 or more and 1.70 or less.
  4. 　前記第１光学調整層および前記第２光学調整層の厚さは、ともに、１００ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。 2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the first optical adjustment layer and the second optical adjustment layer both have a thickness of 100 nm or less.
  5. 　前記第１透明導電層および前記第２透明導電層は、ともにパターニングされており、
    　前記第１透明導電層は、一方向に長い第１パターンを備え、
    　前記第２透明導電層は、前記一方向と直交する直交方向に長い第２パターンを備え、
    　前記第１パターンの一方向長さは、前記第２パターンの直交方向長さよりも長いことを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性フィルム。     The first transparent conductive layer and the second transparent conductive layer are both patterned,
    The first transparent conductive layer includes a first pattern that is long in one direction,
    The second transparent conductive layer includes a second pattern that is long in an orthogonal direction orthogonal to the one direction,
    2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein a length of the first pattern in one direction is longer than a length of the second pattern in the orthogonal direction.
  6. 　請求項１に記載の透明導電性フィルムと、
    　前記透明導電性フィルムの前記第１透明導電層側に配置される画像表示素子と
    を備えることを特徴とする、画像表示装置。     The transparent conductive film according to claim 1;
    An image display device comprising: an image display element disposed on the first transparent conductive layer side of the transparent conductive film.
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