WO2018176270A1 - 完美吸收体 - Google Patents

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张昭宇
韩谞
何克波
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/003—Light absorbing elements

Definitions

  • the invention belongs to the technical field of electromagnetic wave absorption structures, and particularly relates to a perfect absorber.
  • An electromagnetic wave absorbing structure based on synthetic materials whose electromagnetic wave parameters and electromagnetic parameters of the surrounding environment can achieve impedance matching, and the absorption rate at a specific wavelength band is 100%, so that the electromagnetic wave absorbing structure is called perfect Absorber.
  • the existing perfect absorber is used for the front end of a solar cell, which can convert the spectral solar energy into heat energy, and the converted heat energy can be transmitted to the back end emitter and radiate a narrow band radiation spectrum matched by the battery band gap, so that the solar energy Get a greater use.
  • Existing single-cell solar cells are limited by the Shockley-Queze limit and can achieve a maximum efficiency of no more than 41% of the theoretical single cell.
  • a single battery can only be converted into light with more energy than its band gap energy. For more energy photons, the energy of the high energy band gap is dissipated as heat, thus greatly reducing the sun. The full spectrum of light is utilized.
  • the existing perfect absorber has a defect sensitive to polarization due to its complicated structure. Therefore, it is necessary to propose a new perfect absorber.
  • the present invention provides a perfect absorber for the problems of polarization-sensitive defects existing in the perfect absorber, poor absorption of visible light and near-infrared light, especially 0.5 ⁇ to 1.8 ⁇ .
  • a perfect absorber comprising a substrate layer having two opposite surfaces and a metal layer, a dielectric layer stacked one on another from a surface of the substrate layer, and further comprising a layer stacked on the surface of the dielectric layer Metal nano-array;
  • the metal nano-array is any one of a cylindrical array, a 3D spiral array, a prism array, and a positive prism array.
  • the perfect absorber provided by the invention is a metal-dielectric layer-metal three-layer structure, which realizes the absorption of spectral solar energy, and the periodic arrangement of the cylindrical array, the 3D spiral array, the prism array, and the positive prism array
  • Surface plasmon resonance can be excited between the top layer and the air layer.
  • the intermediate medium layer can form magnetic resonance with a localized electromagnetic field, and coupled magnetic resonance can be generated between adjacent units to realize a spectrum of 0.5 ⁇ 1.8 ⁇ . Absorption reaches 90% and above, greatly improving the utilization of solar energy.
  • FIG. 1 is a perspective view of a perfect absorber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a front view of a perfect absorber according to an embodiment of the present invention.
  • FIG 3 is a top view of a perfect absorber according to an embodiment of the present invention.
  • an embodiment of the present invention provides a perfect absorber.
  • the perfect absorber includes a substrate layer 1 having two opposite surfaces, and a metal layer 2 and a dielectric layer 3 which are sequentially stacked outward from a surface of the substrate layer 1. Further, the dielectric layer 3 is stacked on the surface of the dielectric layer 3.
  • the metal nano-array 4 is any one of a cylindrical array, a 3D spiral array, a prism array, and a positive prism array.
  • the substrate 1 is any one of quartz, silicon wafer, nickel, copper, and tungsten, and the substrate 1 functions to provide a space for growing a thin film.
  • the substrate layer 1 needs to be cleaned to ensure that the surface of the substrate layer 1 is clean, and impurities are not adhered to the surface to adversely affect the performance of the absorber.
  • the metal used for the metal layer 2 is tungsten. Since the melting point of tungsten is the highest among all metals, when tungsten is used in the manufacture of a perfect absorber, if other manufacturing methods are used, the tungsten will melt the photoresist during the evaporation process, so that the pattern formed by the photoresist is Destruction, resulting in difficulty in stripping the photoresist, and peeling Distortion of the pattern of the rear metal tungsten results in a decrease in the absorption efficiency of the perfect absorber. Moreover, when other metal ruthenium is used, the melting point of other metals is not as high as that of tungsten metal, so the perfect absorber made of other metals is not as effective as the perfect absorber made of tungsten metal.
  • the thickness of the metal layer 2 is 200 nm or more, and specifically, a method of fabricating the perfect absorber. Still more preferably, the metal layer 2 has a thickness of 200 to 300 nm.
  • the material of the dielectric layer 3 is any one of silicon dioxide, silicon nitride, MgF 2 , and A1 2 0 3 .
  • the dielectric layer 3 is a prerequisite for generating magnetic resonance.
  • the thickness is 60-80 nm, and the thickness can make the upper and lower free electrons in the metal layer interact with each other, that is, they are coupled to each other. Below or above this thickness interval, the effect is too strong or too weak to be A resonance peak is generated.
  • the metal nano-array 4 of the perfect absorber is a tungsten metal array
  • the metal nano-array has a period of 450 to 500 nm
  • the metal nano-array has a height of 100 to 140 nm.
  • the metal nano-array 4 is a cylindrical array
  • the diameter of the cylinder is 280 ⁇ 3 20 nm
  • the height of the cylinder is 100-140 nm
  • the cylinder is within the size range
  • Surface plasmon resonance can be excited between the metal nano-array 4 and the air, and coupled magnetic resonance can be generated between adjacent cells.
  • the perfect absorber is placed on the front end of the solar cell, the spectral absorption of 0.5 ⁇ 1.8 ⁇ reaches 90%. And above.
  • the cylinder has a diameter of 300 nm and a height of 100 nm, and the cylinder period in the array is 500 nm.
  • the metal nano-array 4 is a 3D spiral array
  • the spiral has a median diameter of 250-350 nm, a diameter of 40-60 nm, and a height of 100-140 nm.
  • the 3D spiral array of this size range has an absorption of 0.3% ⁇ to 1.8 ⁇ m ⁇ of 93% and above.
  • the perfect absorber provided by the above embodiments of the present invention is a metal-dielectric layer-metal three-layer structure, which has no polarization-sensitive defects, and realizes absorption of spectral solar energy, and a cylindrical array, a 3D spiral array, a prism array, and a positive
  • the periodic arrangement of the prism array can excite surface plasmon resonance between the top layer and the air layer.
  • the intermediate graft layer can form magnetic resonance with a localized electromagnetic field, and coupled magnetic resonance can be generated between adjacent units. Thereby, the spectral absorption of 0.5 ⁇ 1.8 ⁇ is 90% or more, which greatly improves the utilization of solar energy.

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Abstract

一种完美吸收体，包括具有两相对表面的基材层以及自所述基材层一表面向外依次叠设的金属层、介质层，还包括叠设于所述介质层表面的金属纳米阵列；其中，所述金属纳米阵列为圆柱体阵列、3D螺旋阵列、棱柱阵列、正棱台阵列中的任一种。这种完美吸收体无偏振敏感缺陷，实现了对光谱太阳能的广谱吸收，且实现对0.5μm~1.8μm光谱的吸收达到90%及以上，极大的提高了对太阳能的利用率。

Description

完美吸收体 技术领域
[0001] 本发明属于电磁波吸收结构技术领域， 特别涉及一种完美吸收体。
背景技术
[0002] 基于人工合成材料的一种电磁波吸收结构， 它的电磁波参数和周围环境的电磁 参数可实现阻抗匹配， 在特定波段下的吸收率为 100%， 因此人们称这种电磁波 吸收结构为完美吸收体。
[0003] 现有完美吸收体用于太阳能电池前端吋， 可以将光谱太阳能转化为热能， 转化 的热能可以被传导给后端的发射体并辐射出于电池带隙相匹配的窄带辐射谱， 使太阳能得到较大限度的利用。 现有的单节太阳能电池因为受到肖克利-奎色极 限的限制， 其所能实现的最大效率不会超过理论单节电池最大效率的 41%。 单节 电池只能转化为太阳光中能量大于其带隙能量的光， 而对于能量更大的光子， 高能带隙的能量又会以热的形式耗散掉， 从而极大的降低了对太阳光的全光谱 利用。 同吋， 现有的完美吸收体由于结构复杂， 存在对偏振敏感的缺陷。 因此 ， 有必要提出一种新的完美吸收体。
技术问题
[0004] 针对目前完美吸收体存在的偏振敏感缺陷、 对可见光和近红外光尤其是 0.5μηι~ 1.8μηι吸收效果差等问题， 本发明提供一种完美吸收体。
问题的解决方案
技术解决方案
[0005] 为了实现上述发明目的， 本发明的技术方案如下：
[0006] 一种完美吸收体， 包括具有两相对表面的基材层以及自所述基材层一表面向外 依次叠设的金属层、 介质层， 还包括叠设于所述介质层表面的金属纳米阵列；
[0007] 其中， 所述金属纳米阵列为圆柱体阵列、 3D螺旋阵列、 棱柱阵列、 正棱台阵列 中的任一种。
发明的有益效果 有益效果
[0008] 本发明提供的完美吸收体为金属 -介质层-金属三层结构， 实现了对光谱太阳能 的吸收， 而圆柱体阵列、 3D螺旋阵列、 棱柱阵列、 正棱台阵列的周期性排布， 可在顶层和空气层之间激发表面等离子体共振， 中间介质层可以局域很强的电 磁场形成磁共振， 相邻单元之间又可以产生耦合磁共振， 从而实现 0.5μηι~1.8μιη 的光谱吸收达到 90%及以上， 极大的提高了对太阳能的利用率。
对附图的简要说明
附图说明
[0009] 图 1为本发明实施例提供的完美吸收体立体图；
[0010] 图 2为本发明实施例提供的完美吸收体正视图；
[0011] 图 3为本发明实施例提供的完美吸收体俯视图。
本发明的实施方式
[0012] 为了使本发明要解决的技术问题、 技术方案及有益效果更加清楚明白， 以下结 合实施例， 对本发明进行进一步详细说明。 应当理解， 此处所描述的具体实施 例仅仅用以解释本发明， 并不用于限定本发明。
[0013] 如图 1、 2、 3所示， 本发明实施例提供一种完美吸收体。 该完美吸收体包括具 有两相对表面的基材层 1以及自所述基材层 1一表面向外依次叠设的金属层 2、 介 质层 3， 还包括叠设于所述介质层 3表面的金属纳米阵列 4;
[0014] 其中， 所述金属纳米阵列 4为圆柱体阵列、 3D螺旋阵列、 棱柱阵列、 正棱台阵 列中的任一种。
[0015] 在任一实施例中， 基材 1为石英、 硅片、 镍、 铜、 钨中的任一种， 所述基材 1起 提供生长薄膜的空间的作用。 在基材层 1表面进行沉积处理前， 需要对基材层 1 进行清洗处理， 确保基材层 1的表面洁净， 避免表面附着有杂质而可完美吸收体 性能产生不利影响。
[0016] 优选地， 金属层 2所使用的金属为钨。 由于钨的熔点在所有金属中最高， 当将 钨用于完美吸收体的制造吋， 如果采用其他制造方法， 则钨在蒸镀过程中， 会 熔化光刻胶， 使得光刻胶形成的图形被破坏， 导致不容易剥离光刻胶， 而且剥 离后金属钨的图形发生失真， 会使完美吸收体吸收效率降低。 而且当采用其他 金属吋， 其他金属的熔点由于没有钨金属的高， 因此， 采用其他金属制造的完 美吸收体的效果不如采用钨金属制造的完美吸收体。
[0017] 进一步优选地， 金属层 2的厚度在 200nm以上， 具体见完美吸收体的制作方法 。 更进一步优选地， 金属层 2的厚度为 200~300nm。
[0018] 优选地， 介质层 3的材料为二氧化硅、 氮化硅、 MgF 2、 A1 20 3中的任一种。 介 质层 3是产生磁共振的前提。 优选厚度为 60~80nm， 该厚度下可以使得其上和其 下金属层中的自由电子产生相互作用， 也就是互相耦合， 低于或者高于这个厚 度区间会使作用太强或太弱， 不能产生谐振峰。
[0019] 优选地， 上述完美吸收体的金属纳米阵列 4为钨金属阵列， 所述金属纳米阵列 的周期为 450~500nm， 所述金属纳米阵列的高度为 100~140nm。
[0020] 进一步优选地， 当金属纳米阵列 4为圆柱体阵列吋， 所述圆柱体的直径为 280~3 20nm， 所述圆柱体的高度为 100~140nm， 圆柱体在该尺寸范围内， 而且可以在 金属纳米阵列 4和空气之间激发表面等离子体共振， 相邻单元间又可以产生耦合 磁共振， 当将完美吸收体放置于太阳能电池前端吋， 0.5μηι~1.8μιη的光谱吸收达 到 90%及以上。
[0021] 在最优选的方案中， 圆柱体的直径为 300nm， 高度为 100nm， 阵列中圆柱体周 期为 500nm。
[0022] 优选地， 当金属纳米阵列 4为 3D螺旋阵列吋， 所述 3D螺旋阵列中， 螺旋体的中 径为 250~350nm， 直径为 40~60nm， 高度为 100~140nm。 该尺寸范围的 3D螺旋阵 列， 对 0.5μηι~1.8μιη光谱的吸收达到 93%及以上。
[0023] 本发明上述实施例提供的完美吸收体为金属 -介质层-金属三层结构， 无偏振敏 感缺陷， 实现了对光谱太阳能的吸收， 而圆柱体阵列、 3D螺旋阵列、 棱柱阵列 、 正棱台阵列的周期性排布， 可在顶层和空气层之间激发表面等离子体共振， 中间接枝层可以局域很强的电磁场形成磁共振， 相邻单元之间又可以产生耦合 磁共振， 从而实现 0.5μηι~1.8μιη的光谱吸收达到 90%及以上， 极大的提高了对太 阳能的利用率。
[0024] 以上所述仅为本发明的较佳实施例而已， 并不用以限制本发明， 凡在本发明的 精神和原则之内所作的任何修改、 等同替换和改进等， 均应包含在本发明的保 护范围之内。

Claims

权利要求书
[权利要求 1] 一种完美吸收体， 其特征在于： 包括具有两相对表面的基材层以及自 所述基材层一表面向外依次叠设的金属层、 介质层， 还包括叠设于所 述介质层表面的金属纳米阵列；
其中， 所述金属纳米阵列为圆柱体阵列、 3D螺旋阵列、 棱柱阵列、 正棱台阵列中的任一种。
[权利要求 2] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述金属纳米阵列的 阵列周期为 450~500nm， 所述金属纳米阵列的高度为 100~140nm。
[权利要求 3] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述圆柱体的直径为 2
80~320nm, 所述圆柱体的高度为 100~140nm。
[权利要求 4] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述 3D螺旋阵列中， 螺旋体的中径为 250~350nm， 直径为 40~60nm， 高度为 100~140nm。
[权利要求 5] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述金属层为钨层； 所述金属纳米阵列为钨金属阵列， 所述介质层为二氧化硅层或氮化硅 层。
[权利要求 6] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述金属纳米阵列的 阵列周期为 500nm， 所述圆柱体的直径为 300nm， 所述圆柱体的高度 为 100nm。
[权利要求 7] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述金属层的厚度为 2
OOnm以上， 所述介质层的厚度为 60~80nm。
[权利要求 8] 如权利要求 1所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述基材层为石英、 硅片、 镍、 铜、 钨中的任一种。
[权利要求 9] 如权利要求 8所述的完美吸收体， 其特征在于： 所述基材层的厚度为 5
00~1000μηι。
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