WO2017208278A1 - 電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法 - Google Patents

電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法 Download PDF

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WO2017208278A1
WO2017208278A1 PCT/JP2016/002621 JP2016002621W WO2017208278A1 WO 2017208278 A1 WO2017208278 A1 WO 2017208278A1 JP 2016002621 W JP2016002621 W JP 2016002621W WO 2017208278 A1 WO2017208278 A1 WO 2017208278A1
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gripper
electron beam
sterilization
irradiation
preform
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PCT/JP2016/002621
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French (fr)
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水川　憲二
上田　敦士
篤志 津尾
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三菱重工メカトロシステムズ株式会社
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    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08—Radiation
    • A61L2/087—Particle radiation, e.g. electron-beam, alpha or beta radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
    • B65B55/00—Preserving, protecting or purifying packages or package contents in association with packaging
    • B65B55/02—Sterilising, e.g. of complete packages
    • B65B55/04—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging
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    • B65B55/02—Sterilising, e.g. of complete packages
    • B65B55/04—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging
    • B65B55/08—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging by irradiation
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    • A61L2202/00—Aspects relating to methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects
    • A61L2202/20—Targets to be treated
    • A61L2202/23—Containers, e.g. vials, bottles, syringes, mail

Definitions

  • the present invention relates to an electron beam sterilization apparatus and an electron beam sterilization method suitable for sterilizing containers filled with food, beverages, pharmaceuticals, and the like and other sterilization objects with an electron beam.
  • a container preform called a container or a preform Prior to filling a container with a filling such as food, beverage, or pharmaceutical, a container preform called a container or a preform is sterilized.
  • chemical solutions such as peracetic acid and hydrogen peroxide and ultraviolet irradiation are used, but in recent years, sterilization techniques by electron beam irradiation that are superior to ultraviolet rays have been studied.
  • an electron beam is irradiated in the process of transporting the container while being held by a holder or gripper called a gripper, the electron beam is not sufficiently irradiated to the held portion.
  • the neck portion or neck portion to which the cap is attached is usually held by the gripper, so that there is a portion where the dose hidden in the gripper is insufficient or the electron beam is not irradiated.
  • Patent Document 1 proposes to make up for the shortage of dose to the part hidden by the gripper by providing a passage through which the electron beam passes in the gripper.
  • an electron beam is irradiated to the half side surface of the preform by the first outer surface irradiation device (42), and an electron beam is irradiated to the remaining half side surface of the preform by the second outer surface irradiation device (43).
  • the preform is transferred from the region irradiated with the electron beam by the first outer surface irradiation device to the region irradiated with the electron beam by the second outer surface irradiation device, the preform is transferred by the gripper.
  • JP 2013-133111 A (FIG. 3) Japanese Patent Laying-Open No. 2015-030516 (FIGS. 2 and 3)
  • the electron beam dose can be compensated for the range irradiated with the electron beam that has passed through the passage, but the other portions are not irradiated with the electron beam.
  • the proposal of Patent Document 2 uses a rotating body called a star wheel to convey the preform, both the gripper on the delivery side and the gripper on the delivery side have a rotating body. The preform is gripped by the gripper at both ends in the circumferential direction. Therefore, even if the preform is sterilized half by side, the gripping part of the gripper may not reach the electron beam.
  • an object of this invention is to provide the electron beam sterilizer which can eliminate the non-irradiated area
  • the electron beam sterilization apparatus of the present invention receives a sterilization object after receiving the sterilization object after receiving the sterilization object from the first gripper, and a first gripper that conveys the sterilization object to a gripping position.
  • a second gripper that conveys toward the downstream while gripping, and an electron beam irradiation unit that irradiates the sterilization target that passes through the irradiation region including the gripping position and the front and back of the gripping position. It is characterized by.
  • a portion that was not irradiated with an electron beam because it was gripped with a gripper before re-holding can be irradiated with an electron beam after re-holding, resulting in a portion that is not irradiated with an electron beam. I won't let you.
  • the first gripper and the second gripper each transport a linear transport path while gripping a predetermined number of objects to be sterilized.
  • the sterilization target is sterilized by batch processing, and by transporting the linear transport path, the apparatus configuration can be simplified as compared to using a rotary transport device using a star wheel.
  • the apparatus configuration can be simplified as compared to using a rotary transport device using a star wheel.
  • the present invention since it is sufficient to irradiate the electron beam while the preform gripped by the gripper is transported along the linear transport path, it is necessary to provide a mechanism for rotating the preform around the axis. Absent.
  • each of the first gripper and the second gripper holds a predetermined number of sterilization targets arranged in a line, and one or both of the first gripper and the second gripper include a plurality of sterilization targets. It is preferable that the object to be sterilized is re-grown from the first gripper to the second gripper at the re-holding position by being relatively close to the direction orthogonal to the line-up direction. In this way, if the objects to be sterilized arranged in a row are replaced by the first gripper and the second gripper, the objects to be sterilized can be changed compared to the case where the objects to be sterilized are arranged in a plurality of rows. The configuration of the first gripper and the second gripper can be facilitated.
  • a 1st gripper and a 2nd gripper hold
  • the electron beam irradiation area in the electron beam irradiation section is a reduced pressure atmosphere. Since the electron beam is scattered and attenuated in the air, the electron beam may not reach the necessary site. Therefore, by setting the irradiation region to a reduced-pressure atmosphere, for example, the electron beam can reach the bottom of the container to sufficiently enjoy the sterilization effect.
  • the electron beam irradiation unit When the irradiation area is in a reduced pressure atmosphere, the electron beam irradiation unit includes a front chamber including a receiving position for receiving a predetermined number of objects to be sterilized by the first gripper, and a second object to be sterilized conveyed by the first gripper.
  • the rear chamber in which the sterilization target irradiated with the electron beam in the irradiation chamber is conveyed by the second gripper, and the irradiation chamber An electron beam generator that irradiates an electron beam, and the irradiation chamber preferably has a higher degree of vacuum than the front chamber and the rear chamber.
  • the second gripper can expand the pitch for gripping the sterilization target in the process of transporting the sterilization target from the irradiation chamber to the rear chamber or after transporting the sterilization target to the rear chamber.
  • the object to be sterilized is a preform
  • it is formed into a container having a size larger than that of the preform at the point of conveyance from the rear chamber. Increase the pitch to grip the object.
  • a container provided with a mouth part and an accommodation space that is connected to the mouth part and accommodates contents, or a preform of the container can be a sterilization object.
  • the object to be sterilized can be gripped by the first gripper and the second gripper in an upright state in which the mouth portion faces upward in the vertical direction or in an inverted state.
  • the electron beam irradiation unit irradiates the sterilization target with an electron beam from the vertical direction upward to the downward direction, and the sterilization target with respect to the vertical sterilization target from below.
  • the second electron beam generator that irradiates the electron beam upward, the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the container or the preform of the container can be irradiated with the electron beam evenly.
  • the first gripper holds the mouth at three surrounding places, and the second gripper does not interfere with the first gripper.
  • the object to be sterilized can be gripped by supporting at three locations around the.
  • the first gripper and the second gripper both have a three-point support structure, so that the number of parts to hide the sterilization target can be reduced.
  • Such a three-point support structure is difficult to apply to a gripper of a rotary transfer device using a star wheel, but can be easily applied to a gripper moving on a linear transfer path.
  • the present invention also includes a step of conveying the sterilization target object while gripping the sterilization target object by the first gripper after receiving the sterilization target object, and a second gripper after receiving the sterilization target object from the first gripper.
  • An electron beam sterilization method is also provided. In the electron beam sterilization method of the present invention, preferred means in the electron beam sterilization apparatus described above can be applied.
  • a portion that has not been irradiated with an electron beam prior to re-holding can be irradiated with an electron beam after re-holding, so that a portion that is not irradiated with an electron beam is not generated.
  • the blow molding apparatus which concerns on this embodiment is shown, (a) is a top view which shows the schematic structure, (b) is a top view which shows the conveyance path
  • the main structure of the sterilization part in the blow molding apparatus of FIG. 1 is shown, (a) is the figure seen from the conveyance direction F, (b) is the figure seen from the width direction W. It is a figure which shows operation
  • a preferred gripper in the present embodiment is shown, (a) shows a lower gripping type gripper, and (b) shows an upper gripping type gripper. It is a figure which shows the process of re-holding preform PF by the gripper of FIG.
  • the electron beam sterilization apparatus and the electron beam sterilization method according to the present invention are applied to a blow molding apparatus 1 for molding a plastic container B by blow molding a test tubular preform PF continuously conveyed from upstream.
  • a blow molding apparatus 1 for molding a plastic container B by blow molding a test tubular preform PF continuously conveyed from upstream An example will be described.
  • the blow molding device 1 irradiates a carry-in unit 10 for carrying in a preform PF heated to a predetermined temperature for blow molding and an electron beam on the preform PF carried in the carry-in unit 10.
  • the sterilizing unit 20 that is sterilized by performing, the molding unit 40 that molds the preform PF sterilized by the sterilizing unit 20 into the container B, and the control unit 60 that controls the operation of the carry-in unit 10, the sterilizing unit 20, and the molding unit 40.
  • the blow molding apparatus 1 is characterized in that the sterilization unit 20 can irradiate the entire inner peripheral surface and outer peripheral surface of the preform PF with an electron beam without leakage.
  • each structure of the blow molding apparatus 1 is demonstrated. In FIG.
  • the preform PF and the container B are transported along the transport direction F.
  • the upstream U and the downstream L are based on the transport direction F of the preform PF or the container B.
  • a direction orthogonal to the conveyance direction F is referred to as a width direction W.
  • the preform PF is conveyed and processed through the carry-in unit 10, the sterilization unit 20, and the molding unit 40 in an upright state in which the mouth portion (PF1) is arranged on the upper side in the vertical direction as shown in FIG. Shall. The same applies to the container B molded from the preform PF.
  • the carry-in unit 10 carries the preform PF heated to a temperature suitable for molding in the molding unit 40 by a heating device (not shown) into the sterilization unit 20.
  • the carry-in unit 10 includes, for example, a rotating body 11 that is rotated (R) clockwise, one end that is hung around the rotating body 11, and the other end that is hung around a rotating body that is not shown.
  • the transport belt 13 is an endless transport means, and the transport means 15 is configured to receive the preform PF transported to a predetermined position by the transport belt 13 and transport the preform PF to the sterilization unit 20.
  • the heated preform PF is transported by the transport belt 13 by rotating the rotating body 11.
  • the conveying means 15 waits at a predetermined position on the conveying path by the conveying belt 13 and receives a predetermined number of preforms PF from the conveying belt 13 at the predetermined position.
  • the transport means 15 transports the preform PF to the sterilization unit 20 while holding a predetermined number of preforms PF.
  • the transport unit 15 includes a unit (gripper) that grips the preform PF and a transport unit that transports the gripper.
  • the conveying means linearly reciprocates between a position where the preform PF is received from the conveying belt 13 and a position where the preform PF is delivered to the sterilization unit 20.
  • a path on which the transport unit 15 reciprocates and an extension line thereof are defined as a first path L1.
  • the sterilizing unit 20 sterilizes the inner peripheral surface and the outer peripheral surface of the carried preform PF by irradiating the preform PF with an electron beam in an atmosphere depressurized from atmospheric pressure. As shown in FIG. 1, the sterilizing unit 20 is adjacent to the front chamber 21 into which the preform PF is carried in, and on the downstream L side, and is irradiated with an electron beam irradiated to the carried-in preform PF. The chamber 23 and the rear chamber 25 in which the preform PF irradiated with the electron beam in the irradiation chamber 23 is conveyed. Between the front chamber 21, the irradiation chamber 23, and the rear chamber 25, an opening / closing door (not shown) through which the preform PF passes is provided.
  • the front chamber 21, the irradiation chamber 23, and the rear chamber 25 are maintained at a desired degree of vacuum by being depressurized by a vacuum pump (not shown).
  • a vacuum pump not shown.
  • the sterilization unit 20 sterilizes the preform PF
  • the degree of vacuum of the irradiation chamber 23 is high, and the front chamber 21 and the rear chamber 25 are controlled to have a lower degree of vacuum than the irradiation chamber 23.
  • the reason why the sterilization unit 20 includes the front chamber 21, the irradiation chamber 23, and the rear chamber 25 is to shorten the time required for reducing the pressure of the irradiation chamber 23 to a desired degree of vacuum.
  • the irradiation chamber 23 can be opened even if the opening / closing door between the front chamber 21 and the irradiation chamber 23 is opened.
  • the degree of vacuum can be kept at least at the degree of vacuum in the front chamber 21.
  • the pressure is reduced to the desired degree of vacuum compared to reducing the pressure from the atmospheric pressure to the desired degree of vacuum. Time to do can be shortened.
  • irradiating the electron beam in a reduced-pressure atmosphere and providing the front chamber 21, the irradiation chamber 23, and the rear chamber 25 are preferable embodiments of the present invention, but are not elements that limit the present invention.
  • the sterilization unit 20 includes a first transport unit 27 that transports the preform PF, a second transport unit 29, and a third transport unit 31.
  • the first transfer means 27 is provided across the front chamber 21 and the irradiation chamber 23.
  • the first transport unit 27 receives the preform PF from the transport unit 15 of the carry-in unit 10 at the position P ⁇ b> 21 inside the front chamber 21, and the inside of the irradiation chamber 23.
  • the preform PF is conveyed to the position P23.
  • the position P21, the position P23, etc. are shown in FIG.
  • the first conveying means 27 includes a linear guide rail 27A laid between the front chamber 21 and the irradiation chamber 23, and a guide rail 27A, that is, a conveying direction F.
  • a traveling carriage 27B that reciprocates between positions P22 and P23, and a gripper group 27C that reciprocates together with the traveling carriage 27B by being mounted on the traveling carriage 27B.
  • the preform PF gripped by the gripper group 27C is conveyed along the second path L2.
  • grippers G corresponding to the number of preforms PF conveyed at a time are arranged side by side in the conveyance direction F.
  • the form of the gripper G in the present embodiment is arbitrary as long as it can reliably grip any part of the preform PF.
  • the gripper group 27C can move forward and backward in the width direction W with respect to the traveling carriage 27B. This advance / retreat means movement from the second path L2 toward the first path L1, and movement from the first path L1 toward the second path L2.
  • the advancement / retraction of the gripper group 27 ⁇ / b> C is performed for receiving the preform PF from the transport unit 15 and delivering the preform PF to the second transport unit 29 in the irradiation chamber 23.
  • This advance / retreat operation may be performed such that the gripper group 29C moves closer to the gripper group 27C, or both the gripper group 27C and the gripper group 29C move forward and backward.
  • the plurality of preforms PF gripped by the gripper group 27C are arranged in a line on a straight line along the transport direction F, and the plurality of preforms PF are
  • the mouth portion PF1 is gripped by the gripper G and is arranged side by side at the same height in the vertical direction (V) as shown in FIG.
  • the second transport means 29 is provided across the irradiation chamber 23 and the rear chamber 25 as shown in FIGS.
  • the second transport means 29 receives the preform PF from the gripper group 27C of the first transport means 27 at a position P23 inside the irradiation chamber 23 as shown in FIGS.
  • the preform PF is conveyed to an internal position P25.
  • the position P23 corresponds to the repositioning position of the present invention.
  • the second transport means 29 includes a linear guide rail 29A laid across the irradiation chamber 23 and the rear chamber 25, and positions P24 and P25 along the guide rail 29A.
  • the preform PF gripped by the gripper group 29C corresponding to the second gripper of the present invention is transported along the transport direction F along the first path L1.
  • the third conveying means 31 is provided across the rear chamber 25 and the molding part 40 as shown in FIG.
  • the third transport unit 31 receives the preform PF from the gripper group 29 ⁇ / b> C of the second transport unit 29 at the position P ⁇ b> 26 inside the rear chamber 25, and The preform PF is conveyed to the position P41.
  • the third transport unit 31 includes a linear guide rail 31A laid across the rear chamber 25 and the molding portion 40, and positions P26 and P41 along the guide rail 31A.
  • the preform PF gripped by the gripper group 31C is transported along the transport direction F along the second path L2.
  • the second transport unit 29 and the third transport unit 31 are different in position for transporting the preform PF, but operate in the same manner as the first transport unit 27, so the following description is omitted.
  • the sterilization unit 20 includes an electron beam generator 24 inside the irradiation chamber 23.
  • the electron beam generator 24 includes an upper irradiation unit 24A that irradiates the electron beam EB from above the preform PF, a lower irradiation unit 24B that irradiates the electron beam EB from below the preform PF, It has.
  • the upper irradiation unit 24A is provided mainly for the purpose of sterilizing the inner peripheral surface of the preform PF
  • the lower irradiation unit 24B is provided mainly for the purpose of sterilizing the outer peripheral surface of the preform PF.
  • the inside of the irradiation chamber 23 is depressurized to a predetermined degree of vacuum.
  • the upper irradiation unit 24 ⁇ / b> A has an emission surface 124 ⁇ / b> A that irradiates the electron beam EB downward in the vertical direction V and parallel to the horizontal direction H.
  • the emission surface 124B that irradiates the electron beam EB is upward in the vertical direction V and parallel to the horizontal direction H.
  • FIG. 2A shows two preforms PF, which indicate that the preform PF moves in the width direction W from the left side to the right side in the drawing.
  • the upper irradiating unit 24A and the lower irradiating unit 24B may have the same specifications except for the direction in which the electron beam EB is irradiated.
  • the intensity of the electron beam EB emitted from the upper irradiating unit 24A You may have a different specification so that it may become stronger than the lower irradiation part 24B.
  • the region irradiated with the electron beam EB from the upper irradiation unit 24A and the lower irradiation unit 24B is processed at once in the transport direction F of the preform PF. In other words, it is set longer than the distance at which the number of preforms PF to be batch processed are arranged. Therefore, if the preform PF to be batch-processed is aligned and transported to the electron beam irradiation area EA, then the batch processing target can be processed without moving the preform PF or the upper irradiation unit 24A and the lower irradiation unit 24B. All preforms PF can be sterilized.
  • the width direction W of the electron beam irradiation area EA is set longer than the distance at which the preform PF is delivered from the first transport means 27 to the second transport means 29.
  • the preform PF that is batch-processed has the same distance from the exit surface 124A of the upper irradiation unit 24A to each part, as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), and The distances from the emission surface 124A of the lower irradiation unit 24B to each part are equal.
  • the constant distance means that, for example, the distance from the exit surface 124A to each of the mouth portions PF1 of the plurality of preforms PF is equal, and the distance from the exit surface 124B to each of the bottom portions PF2 of the plurality of preforms PF is equal.
  • each part of the preform PF to be batch-processed is uniformly irradiated with the electron beam EB from the electron beam generator 24.
  • the molding unit 40 molds the preform PF that has been sterilized by electron beam irradiation in the sterilization unit 20 into the container B. As shown in FIG. 1A, the molding unit 40 includes a pair of molding dies 41 and a molding die 43 into which a preform PF heated to an appropriate temperature necessary for molding is inserted. The molding unit 40 performs blow molding on the container B by blowing blow molding gas from a supply source (not shown) into the preform PF held by the molding dies 41 and 43.
  • the molding dies 41 and 43 each include mold elements 42 and 44 corresponding to the number of preforms PF or containers B to be processed at one time.
  • the molding dies 41 and 43 perform an advancing and retreating operation that approaches or separates from each other, and stretch blow molding is performed in a close proximity state.
  • the molding unit 40 includes fourth transport means 45.
  • the fourth conveying means 45 is provided over a predetermined region downstream L of the molding unit 40 and the molding unit 40.
  • the fourth transport means 45 receives the container B molded at the position P41 and transports the container B to a position P43 downstream from the molding unit 40.
  • the fourth conveying means 45 is a linear guide rail 45A laid over the forming portion 40 and a position P43 downstream thereof, and travel that reciprocates between the position P42 and the position P43 along the guide rail 45A.
  • a carriage 45B and a gripper group 45C that reciprocates together with the traveling carriage 45B by being mounted on the traveling carriage 45B are provided.
  • the preform PF (FIG. 3A) transported to a predetermined position by the transport belt 13 of the carry-in unit 10 is gripped by the transport unit 15 and transported to the front chamber 21 of the sterilization unit 20.
  • These plurality of preforms PF are set as the first group.
  • the transport means 15 transports the first group of preforms PF to the front of the traveling carriage 27B waiting at the position P21 (FIG. 3B). This conveyance is performed along the first path L1.
  • the gripper group 27C that has been waiting advances toward the conveying means 15, and the gripper group 27C receives the preform PF held by the conveying means 15 (FIG. 3C). .
  • the gripper group 27C When the gripper group 27C receives the preform PF, the first transport means 27 moves back to the original position P22 (FIG. 4 (a)), and then the traveling carriage 27B reaches the position P23 of the irradiation chamber 23. A group of preforms PF is conveyed (FIG. 4B). Since the position P23 is included in the electron beam irradiation area EA irradiated with the electron beam EB from the upper irradiation unit 24A and the lower irradiation unit 24B forming the electron beam generator 24, the preform PF conveyed to the position P23 is At this point, sterilization is already done.
  • the traveling carriage 29B of the second transport means 29 that has been waiting at the position P24 moves forward together with the gripper group 29C toward the preform PF placed on the second path L2. Then, the second transport unit 29 grips the preform PF by operating the gripper group 29C (FIG. 4C).
  • the gripping of the first conveying means 27 by the gripper group 27C is released, the second conveying means 29 moves backward to the original position P24 on the first path L1 while holding the preform PF by the gripper group 29C (FIG. 4). (D)). Since the position P24 is also in the electron beam irradiation area EA, the preform PF conveyed to the position P24 is sterilized by being irradiated with the electron beam while moving from the first path L1 to the second path L2.
  • the traveling carriage 29B of the second transport means 29 moves to the position P25 while holding the first group of preforms PF with the gripper group 29C (FIG. 5A).
  • the distance between the gripper groups 29C is increased. This corresponds to that the preform PF is molded into the container B having a larger diameter in the molding unit 40.
  • This extended interval is determined based on the diameter of the container B so that the adjacent containers B do not interfere with each other.
  • the traveling carriage 31B moves from the position P26 to the position P41 of the molding unit 40 (FIG. 5C). By this movement, the preform PF leaves the rear chamber 25 of the sterilization unit 20 and is subjected to blow molding.
  • the molding die 41 and the molding die 41 are directed toward the preform PF placed on the first path L1.
  • Each of the molding dies 43 moves forward and holds the preform PF in a predetermined state, and then blow molding is performed (FIG. 5D).
  • the traveling carriage 45B of the fourth conveying means 45 moves forward together with the molding die 41, and the preform PF is gripped by the gripper group 45C and the gripper group 31C.
  • the molding die 41 and the molding die 43 are returned to their original positions (FIG. 6A).
  • the traveling carriage 45B that grips the container B transports the container B to the downstream position P43, and then delivers the container B to a transport means (not shown), and then returns to the position P42 in front of the molding die 41. (FIGS. 6B and 6C). In this position, the traveling carriage 45B waits for the subsequent second group of preforms PF to be conveyed to the position P41 (FIG. 6D).
  • the blow molding apparatus 1 conveys the linear conveyance path while each of the gripper group 27C and the gripper group 29C grips a predetermined number of preforms PF.
  • the sterilization unit 20 needs a shielding structure for preventing leakage of the electron beam and X-rays caused by electron beam irradiation to the outside, but the shielding structure is simpler than that of a rotary conveyor using a star wheel. Can be anything.
  • the gripper group 27 ⁇ / b> C and the gripper group 29 ⁇ / b> C grip a predetermined number of preforms PF arranged in a row and relatively approach a direction orthogonal to the direction in which the plurality of preforms PF are arranged in a row.
  • the preform PF is re-grown from the gripper group 27C to the gripper group 29C at the re-gripping position.
  • the conveyance mechanism can be simplified as compared with the use of the rotation type conveyance device using a star wheel.
  • region EA is made into the pressure reduction atmosphere. Therefore, in particular, the electron beam EB irradiated from the upper irradiation portion 24A can enter the inside of the preform PF and reach the inner peripheral surface of the bottom portion PF2, so that the inner peripheral surface of the preform PF is not leaked. Can be sterilized.
  • the gripper group 29 ⁇ / b> C increases the grip pitch of the preform PF in the process of transporting the preform PF from the irradiation chamber 23 to the rear chamber 25. Therefore, since it is not necessary to provide a space for expanding the grip pitch of the preform PF after passing through the sterilization unit 20, according to the present embodiment, the space-saving blow molding apparatus 1 can be realized.
  • the preform PF in the present embodiment is gripped and transported by the gripper group 27C and the gripper group 29C with the mouth portion PF1 facing up in the vertical direction.
  • a gripper G suitable for eliminating a region not irradiated with an electron beam will be described with reference to FIGS.
  • the gripper G constituting the gripper group 27 ⁇ / b> C is the gripper 100
  • the gripper G constituting the gripper group 29 ⁇ / b> C is the gripper 200. That is, the gripper 100 and the gripper 200 make a pair, and the preform PF gripped by the gripper 100 is transferred to the gripper 200 in the sterilization unit 20, whereby the preform PF is re-gripped.
  • the gripper 100 includes a pair of arms 101 and 102 that hold the preform PF below the neck ring PF3 and are spaced from each other.
  • the arms 101 and 102 are provided so as to be able to open and close about the swing shafts 103 and 104, respectively.
  • the arm 101 includes two gripping claws 105 and 106 on the distal end side
  • the arm 102 includes one gripping pawl 107 on the distal end side.
  • the gripper 100 is disposed between the arm 101 and the arm 102 such that the swing shafts 103 and 104 are on the lower side in the vertical direction and the gripping claws 105, 106 and 107 are on the upper side in the vertical direction.
  • this gripping is performed with gripping claws 105, 106 from one side and gripping claws 107 from the other side with reference to the preform PF. To do.
  • the three gripping claws 105, 106, and 107 are arranged at equal angles in the circumferential direction of the preform PF.
  • the gripper 200 includes a pair of arms 201 and 202 that hold the preform PF on the upper side of the neck ring PF3 and are spaced apart from each other.
  • the arms 201 and 202 are bent in the vicinity of the center in the longitudinal direction, and are provided so as to be capable of opening and closing around swinging shafts 203 and 204 provided at the bent portions.
  • the arm 201 has a cam pin 208 fixed to the tip of the upper arm 201 ⁇ / b> A above the swing shaft 203, and a grip claw 205 at the tip of the lower arm 201 ⁇ / b> B below the swing shaft 203. .
  • the arm 202 has an upper arm 202A above the swinging shaft 204 and a cam pin 209 fixed to the tip thereof, and two grips at the tip of the lower arm 202B below the swinging shaft 204. Claws 206 and 207 are provided.
  • the gripper 200 is disposed between the arm 201 and the arm 202 so that the swing shafts 203 and 204 are on the upper side in the vertical direction and the gripping claws 105, 106, and 107 are on the lower side in the vertical direction. Hold the preform PF.
  • the gripper 200 includes a drive cam 211 as shown in FIG.
  • the drive cam 211 moves up and down to grip and release the preform PF through the opening / closing operation of the arm 201 and the arm 202.
  • the drive cam 211 includes a cam plate 212 and a pair of cam grooves 214 and 215 formed in the cam plate 212.
  • the cam plate 212 moves up and down by an actuator (not shown).
  • a cam pin 208 of the upper arm 201A and a cam pin 209 of the lower arm 202B are inserted into the cam grooves 214 and 215, respectively.
  • the preform PF is gripped by the gripping claws 205 of the lower arm 201B and the gripping claws 206, 207 of the lower arm 202B.
  • the grip of the preform PF is released.
  • this gripping is performed with the gripping claws 205 from one side and the gripping claws 206 and 207 from the other side with the preform PF as the center.
  • the three gripping claws 205, 206, and 207 are arranged at equal angles in the circumferential direction of the preform PF.
  • the gripping claws 105 of the gripper 100 and the two gripping claws 205 and 206 of the gripper 200 are disposed on the same side, and the gripping claws 105 are disposed between the gripping claws 205 and 206. Further, the gripping claws 106 and 107 of the gripper 100 and the gripping claws 207 of the gripper 200 are disposed on the same side, and the gripping claws 207 are disposed between the gripping claws 106 and 106. Therefore, as shown in FIG. 8B, the gripping claws 105, 106, and 107 of the gripper 100 and the gripping claws 205, 206, and 207 of the gripper 200 can replace the preform PF without buffering.
  • the grip claws 105, 106, 107 of the gripper 100 and the grip claws 205, 206, 207 of the gripper 200 grip different positions of the preform PF, they do not grip the same position before and after the grip replacement. Therefore, if the gripper 100 and the gripper 200 are used, the part which is not irradiated with an electron beam can be suppressed to the minimum before and after gripping. Further, since each of the gripper 100 and the gripper 200 adopts a three-point support structure, it is possible to reduce the number of parts that hide the preform PF. Such a three-point support structure is difficult to apply to a gripper of a rotary transfer device using a terwheel, but can be easily applied to a gripper moving on a linear transfer path.
  • the application target of the present invention is arbitrary.
  • the present invention can be applied to sterilize a blow-molded container B instead of a preform PF, and is a sterilization target other than the preform PF and the container B, while being gripped by a gripper.
  • the present invention can also be applied to what is conveyed.
  • this embodiment showed the example by which preform PF which is a sterilization target object is conveyed along a linear conveyance path
  • conveyance by a star wheel has an advantage which can increase the number of the sterilization objects which can be processed per unit time.

Abstract

本発明の電子線殺菌装置は、殺菌対象物であるプリフォームＰＦを受け取った後に、掴み換え位置までプリフォームＰＦを把持しながら搬送するグリッパ群２７Ｃと、グリッパ群２７ＣからプリフォームＰＦを受け取った後に、プリフォームＰＦを把持しながら下流に向けて搬送するグリッパ群２９Ｃと、掴み換え位置と掴み換え位置の前後を含む電子線照射領域ＥＡを通過するプリフォームＰＦに電子線ＥＢを照射する電子線の照射部２０と、を備える。

Description

電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法
　本発明は、食品・飲料・医薬品等を充填する容器及びその他の殺菌対象物を電子線により殺菌するのに好適な電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法に関する。
　食品・飲料・医薬品等の充填物を容器に充填するのに先立って、容器又はプリフォームと称される容器の予備成形体の殺菌が行われる。
　容器又はプリフォームの殺菌には、過酢酸・過酸化水素といった薬液や紫外線照射が用いられているが、近年、紫外線よりも殺菌力に勝る電子線照射による殺菌技術が検討されている。
　電線線照射による殺菌を確実に行うには、容器の全体に電子線をむらなく照射することが必要となる。ところが、グリッパと称される保持具またはグリッパで掴んだままで容器を搬送する過程で電子線を照射すると、保持している部分への電子線の照射が不十分になる。容器がプラスチックボトルの場合、通常、キャップが取り付けられるネック部（又は首部）がグリッパで保持されるので、グリッパに隠れる部位の線量が不足し、または、電子線が照射されない部位がある。
　そこで、特許文献１は、グリッパに電子線が通過する通路を設けることにより、グリッパにより隠れる部位への線量の不足を補うことを提案している。
　また、特許文献２は、プリフォームの半側面に第１外面照射装置（４２）により電子線を照射するとともに、プリフォームの残りの半側面に第２外面照射装置（４３）により電子線を照射する。プリフォームは、第１外面照射装置により電子線が照射される領域から第２外面照射装置により電子線が照射される領域に移行する際に、グリッパによるプリフォームの受け渡しがなされる。
特開２０１３－１３３１１１号公報（図３） 特開２０１５－０３０５１６号公報（図２，図３）
　特許文献１の提案によると、通路を通過した電子線が照射される範囲については電子線の線量を補うことができるが、それ以外の部位には電子線が照射されない。
　また、特許文献２の提案は、スターホィールと称される回転体を用いてプリフォームを搬送しているので、受け渡す側のグリッパ、及び、受け渡される側のグリッパの双方において、回転体の周方向の両端においてプリフォームはグリッパに把持される。したがって、プリフォームを半側面ずつ殺菌処理したとしても、グリッパの把持部分には電子線が届かない恐れがある。
　電子線の殺菌対象物である容器を、グリッパに対して軸線周りに回転させれば、グリッパで隠れる部位をなくすことができるが、容器を回転させるための機構が必要になるので、装置のコストアップにつながるとともに、装置の占有スペースが広くなる。
　そこで本発明は、殺菌対象物を回転させる機構を設けることなく、グリッパによる電子線の未照射領域をなくすことのできる電子線殺菌装置を提供することを目的とする。
　本発明の電子線殺菌装置は、殺菌対象物を受け取った後に、掴み換え位置まで殺菌対象物を把持しながら搬送する第一グリッパと、第一グリッパから殺菌対象物を受け取った後に、殺菌対象物を把持しながら下流に向けて搬送する第二グリッパと、掴み換え位置と掴み換え位置の前後を含む照射領域を通過する殺菌対象物に電子線を照射する電子線照射部と、を備える、ことを特徴とする。
　本発明によれば、掴み換えの前にグリッパで把持されていたために電子線が照射されなかった部位にも、掴み換えの後には電子線を照射ができるので、電子線が照射されない部位を生じさせない。
　本発明において、第一グリッパ及び第二グリッパは、それぞれが、所定数の殺菌対象物を把持しながら、直線状の搬送経路を搬送する、ことが好ましい。
　このように、殺菌対象物をバッチ処理により殺菌し、かつ、直線状の搬送路を搬送することにより、スターホイールを用いた回転式の搬送装置を用いるのに比べて、装置構成を簡易にできる。また、この本発明によれば、グリッパにより把持されたプリフォームが直線状の搬送経路を搬送される過程で電子線を照射すれば足りるので、プリフォームを軸線周りに回転させる機構を設ける必要がない。
　また、本発明において、第一グリッパ及び第二グリッパは、それぞれが、一列に並ぶ所定数の殺菌対象物を把持し、第一グリッパ及び第二グリッパの一方又は双方が、複数の殺菌対象物の並ぶ方向と直交する方向に相対的に近づくことで、掴み換え位置において、第一グリッパから第二グリッパに殺菌対象物の掴み換えが行われる、ことが好ましい。
　このように、一列に並べられた殺菌対象物を、第一グリッパ及び第二グリッパにより掴み換えをするものとすれば、殺菌対象物が複数列に並んでいる場合に比べて、掴み換えのための第一グリッパ及び第二グリッパの構成を容易にできる。
　本発明において、第一グリッパと第二グリッパは、互いに異なる位置で殺菌対象物を把持する、ことが好ましい。
　そうすれば、掴み換えの前にグリッパで把持されていたために電子線が照射されなかった部位にも、掴み換えの後には電子線を照射ができるので、掴み換えの前後を通じて電子線が照射されない部位が生じない。
　本発明において、電子線照射部における電子線の照射領域は、減圧雰囲気とされる、ことが好ましい。
　電子線は、空気中で散乱、減衰が生じるために、電子線を必要な部位まで到達させることができないおそれがある。そこで、照射領域を減圧雰囲気にすることで、例えば容器の底まで電子線を到達させて、殺菌の効果を十分に享受する。
　照射領域を減圧雰囲気にする場合には、電子線照射部は、所定数の殺菌対象物を第一グリッパで受け取る受け取り位置を含む前室と、第一グリッパで搬送される殺菌対象物が第二グリッパに掴み換えられる過程で、殺菌対象物に電子線が照射される照射室と、照射室で電子線が照射された殺菌対象物が第二グリッパにより搬送される後室と、照射室において、電子線を照射する電子線発生装置と、を備えることができ、照射室は前室及び後室よりも、真空度が高いことが好ましい。
　第二グリッパは、照射室から後室に殺菌対象物を搬送する過程で、または、後室に殺菌対象物を搬送してから、殺菌対象物を把持するピッチを拡げることができる。
　例えば、殺菌対象物がプリフォームの場合には、後室から搬送された先で、プリフォームよりも寸法の大きい容器に成形されるが、この容器の寸法に合わせて、搬送された時点で殺菌対象物を把持するピッチを拡げる。
　本発明において、口部と、口部に連なり、内容物を収容する収容空間と、を備える容器、または、容器の予備成形体を、殺菌対象物にできる。そして、この殺菌対象物を、口部が鉛直方向の上を向く正立の状態、または、その逆の倒立の状態で、第一グリッパ及び第二グリッパで把持できる。この場合、電子線照射部は、殺菌対象物に対して、鉛直方向の上方から下方に向けて電子線を照射する第一電子線発生装置と、殺菌対象物に対して、鉛直方向の下方から上方に向けて電子線を照射する第二電子線発生装置と、を備えることにより、容器又は容器の予備成形体の外周面及び内周面を、ムラなく電子線を照射できる。
　また、殺菌対象物が容器、または、容器の予備成形体の場合には、第一グリッパは、口部を周囲の三箇所で把持し、第二グリッパは、第一グリッパとは干渉しない口部の周囲の三箇所で支持することで、殺菌対象物を把持する、ことができる。
　このように、第一グリッパ及び第二グリッパともに、言うなれば三点支持の構造にすることにより、殺菌対象物を隠す部位を少なくできる。このような三点支持の構造は、スターホイールを用いた回転式の搬送装置のグリッパに適用するのは困難であるが、直線状の搬送経路を移動するグリッパには容易に適用できる。
　本発明は、また、殺菌対象物を受け取った後に、第一グリッパにより掴み換え位置まで殺菌対象物を把持しながら搬送するステップと、第一グリッパから殺菌対象物を受け取った後に、第二グリッパにより殺菌対象物を把持しながら下流に向けて搬送するステップと、掴み換え位置と掴み換え位置の前後を含む照射領域を通過する殺菌対象物に電子線を照射する電子線照射ステップと、を備える、ことを特徴とする電子線殺菌方法も提供する。
　本発明の電子線殺菌方法において、上述した電子線殺菌装置における好ましい手段を適用できる。
　本発明によれば、掴み換えの前に電子線が照射されなかった部位にも、掴み換えの後には電子線を照射ができるので、電子線が照射されない部位を生じさせない。しかも、グリッパにより把持されたプリフォームが直線状の搬送経路を移動する過程で電子線を照射すれば足りるので、プリフォームを軸線周りに回転させる機構を設ける必要がない。
本実施形態に係るブロー成形装置を示し、（ａ）はその概略構成を示す平面図、（ｂ）はプリフォーム及び容器の搬送経路を（ａ）に対応して示す平面図である。 図１のブロー成形装置における殺菌部の主要構成を示し、（ａ）は搬送方向Ｆから視た図、（ｂ）は幅方向Ｗから視た図である。 図１のブロー成形装置の動作を示す図である。 図３に続くブロー成形装置の動作を示す図である。 図４に続くブロー成形装置の動作を示す図である。 図５に続くブロー成形装置の動作を示す図である。 本実施形態において好ましいグリッパを示し、（ａ）は下把持タイプのグリッパを示し、（ｂ）は上把持タイプのグリッパを示す図である。 図７のグリッパによるプリフォームＰＦの掴み換えの過程を示す図である。
　以下、本発明に係る電子線殺菌装置及び電子線殺菌方法を、上流から連続的に搬送される試験管状のプリフォームＰＦをブロー成形してプラスチック製の容器Ｂを成形するブロー成形装置１に適用する例について説明する。
　ブロー成形装置１は、図１に示すように、ブロー成形のために所定温度に加熱されたプリフォームＰＦを搬入する搬入部１０と、搬入部１０で搬入されたプリフォームＰＦに電子線を照射することにより殺菌する殺菌部２０と、殺菌部２０で殺菌されたプリフォームＰＦを容器Ｂに成形する成形部４０と、搬入部１０、殺菌部２０及び成形部４０の動作を制御する制御部６０と、を備えている。
　ブロー成形装置１は、殺菌部２０においてプリフォームＰＦの内周面及び外周面の全体に電子線を漏れなく照射できるところに特徴を有している。以下、ブロー成形装置１の各構成を説明する。
　なお、図１において、プリフォームＰＦ及び容器Ｂは搬送方向Ｆに沿って搬送され、また、本実施形態において、上流Ｕ及び下流Ｌは、プリフォームＰＦ又は容器Ｂの搬送方向Ｆを基準にして定義される。また、搬送方向Ｆに直交する方向を、幅方向Ｗという。さらに、搬入部１０、殺菌部２０及び成形部４０を通じて、プリフォームＰＦは、図２に示すように、口部（ＰＦ１）が鉛直方向の上側に配置される正立状態で搬送及び処理がなされるものとする。プリフォームＰＦから成形される容器Ｂも同様である。
［搬入部１０］
　搬入部１０は、図示を省略する加熱装置により成形部４０における成形に適した温度に加熱されたプリフォームＰＦを、殺菌部２０に搬入する。
　搬入部１０は、図１に示すように、例えば時計回りに回転（Ｒ）される回転体１１と、一端が回転体１１に掛け回され、他端が図示を省略する回転体に掛け回された無端状の搬送手段である搬送ベルト１３と、搬送ベルト１３で所定位置まで搬送されるプリフォームＰＦを受け取るとともに、殺菌部２０まで搬送する搬送手段１５と、を備えている。
　回転体１１を回転させることにより、加熱されたプリフォームＰＦは搬送ベルト１３により搬送される。搬送手段１５は、搬送ベルト１３による搬送路上の所定位置で待ち受けており、所定位置において、搬送ベルト１３から所定本数のプリフォームＰＦを受け取る。搬送手段１５は、プリフォームＰＦを受け取ると、所定本数のプリフォームＰＦを把持したままで殺菌部２０に搬送する。このように、搬送手段１５は、プリフォームＰＦを把持する手段（グリッパ）と、グリッパを搬送する搬送手段と、を備える。この搬送手段（搬送手段１５）は、搬送ベルト１３からプリフォームＰＦを受け取る位置とプリフォームＰＦを殺菌部２０に受け渡す位置との間を直線的に往復移動する。搬送手段１５が往復移動する径路及びその延長線上を第一径路Ｌ１とする。
［殺菌部２０］
　殺菌部２０は、搬入されたプリフォームＰＦに、大気圧より減圧された雰囲気下において電子線を照射することにより、その内周面及び外周面を殺菌する。
　殺菌部２０は、図１に示すように、プリフォームＰＦが搬入される前室２１と、下流Ｌの側で前室２１に隣接し、搬入されたプリフォームＰＦに電子線が照射される照射室２３と、照射室２３で電子線が照射されたプリフォームＰＦが搬送される後室２５と、を備える。
　前室２１、照射室２３及び後室２５の間には、プリフォームＰＦが通過するための、図示を省略する開閉扉が設けられている。
　前室２１、照射室２３及び後室２５は、図示を省略する真空ポンプにより減圧されることで、それぞれが所望する真空度に維持される。殺菌部２０がプリフォームＰＦの殺菌を行う際に、照射室２３の真空度が高く、前室２１及び後室２５は照射室２３よりも真空度が低く制御される。ここで、殺菌部２０が前室２１、照射室２３及び後室２５と三つの部屋を備えるのは、照射室２３を所望する真空度に減圧するのに要する時間を短くするためである。つまり、照射室２３の上流Ｕの側に前室２１を設けておき、そこをある程度の真空度にしておけば、前室２１と照射室２３の間の開閉扉を開いても、照射室２３の真空度を少なくとも前室２１の真空度に保つことができる。そうすれば、前室２１を設けることなく、照射室２３を大気に開放してプリフォームＰＦを搬入した後に、大気圧から所望する真空度に減圧するのに比べて、所望する真空度に減圧するまでの時間を短縮できる。照射室２３と後室２５についても同様である。もっとも、減圧雰囲気下で電子線を照射すること、及び、前室２１、照射室２３及び後室２５を設けること、は本発明の好ましい実施形態であるものの、本発明を限定する要素ではない。
　殺菌部２０は、図１に示すように、プリフォームＰＦを搬送する第一搬送手段２７と、第二搬送手段２９と、第三搬送手段３１と、を備えている。
　第一搬送手段２７は、前室２１と照射室２３に亘って設けられる。第一搬送手段２７は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、前室２１の内部の位置Ｐ２１において搬入部１０の搬送手段１５からプリフォームＰＦを受け取り、照射室２３の内部の位置Ｐ２３までプリフォームＰＦを搬送する。なお、位置Ｐ２１、位置Ｐ２３などは、図１（ｂ）に示してある。
　第一搬送手段２７は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、前室２１と照射室２３に亘って敷設される直線状のガイドレール２７Ａと、ガイドレール２７Ａ、つまり搬送方向Ｆに沿って、位置Ｐ２２と位置Ｐ２３の間を往復移動する走行台車２７Ｂと、走行台車２７Ｂに搭載されることで走行台車２７Ｂとともに往復移動するグリッパ群２７Ｃと、を備えている。グリッパ群２７Ｃに把持されるプリフォームＰＦは、第二径路Ｌ２を搬送される。
　本発明の第一グリッパに対応するグリッパ群２７Ｃは、一度に搬送されるプリフォームＰＦの数に対応するグリッパＧが、搬送方向Ｆに並んで配置されている。本実施形態におけるグリッパＧは、プリフォームＰＦのいずれかの部位を確実に把持できる限り、その形態は任意である。
　グリッパ群２７Ｃは、走行台車２７Ｂに対して、幅方向Ｗに進退移動することができる。この進退は、第二径路Ｌ２から第一径路Ｌ１に向けた移動、第一径路Ｌ１から第二径路Ｌ２に向けた移動を意味する。グリッパ群２７Ｃの進退は、搬送手段１５からのプリフォームＰＦの受け取り、及び、照射室２３の第二搬送手段２９へのプリフォームＰＦの受け渡しのために行われる。この進退動作は、グリッパ群２９Ｃが進退することでグリッパ群２７Ｃに近づくようにしてもよいし、グリッパ群２７Ｃとグリッパ群２９Ｃの双方が進退して近づくようにしてもよい。
　グリッパ群２７Ｃに把持される複数のプリフォームＰＦは、図１（ｂ）に示すように、搬送方向Ｆに沿って直線上に一列に並んで配列されおり、また、複数のプリフォームＰＦは、口部ＰＦ１がグリッパＧに把持されており、図２に示すように、鉛直方向（Ｖ）の同じ高さに並んで配列されている。
　次に、第二搬送手段２９は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、照射室２３と後室２５に亘って設けられる。第二搬送手段２９は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、照射室２３の内部の位置Ｐ２３において第一搬送手段２７のグリッパ群２７ＣからプリフォームＰＦを受け取り、後室２５の内部の位置Ｐ２５までプリフォームＰＦを搬送する。位置Ｐ２３が、本発明の掴み換えの位置に対応する。
　第二搬送手段２９は、図１（ａ）に示すように、照射室２３と後室２５に亘って敷設される直線状のガイドレール２９Ａと、ガイドレール２９Ａに沿って位置Ｐ２４と位置Ｐ２５の間を往復移動する走行台車２９Ｂと、走行台車２９Ｂに搭載されることで走行台車２９Ｂとともに往復移動するグリッパ群２９Ｃと、を備えている。本発明の第二グリッパに対応するグリッパ群２９Ｃに把持されるプリフォームＰＦは、搬送方向Ｆに沿って第一径路Ｌ１を搬送される。
　次に、第三搬送手段３１は、図１（ａ）に示すように、後室２５と成形部４０に亘って設けられる。第三搬送手段３１は、図１（ａ），（ｂ）に示すように、後室２５の内部の位置Ｐ２６において第二搬送手段２９のグリッパ群２９ＣからプリフォームＰＦを受け取り、成形部４０の位置Ｐ４１までプリフォームＰＦを搬送する。
　第三搬送手段３１は、図１（ａ）に示すように、後室２５と成形部４０に亘って敷設される直線状のガイドレール３１Ａと、ガイドレール３１Ａに沿って位置Ｐ２６と位置Ｐ４１の間を往復移動する走行台車３１Ｂと、走行台車３１Ｂに搭載されることで走行台車３１Ｂとともに往復移動するグリッパ群３１Ｃと、を備えている。グリッパ群３１Ｃに把持されるプリフォームＰＦは、搬送方向Ｆに沿って第二径路Ｌ２を搬送される。
　第二搬送手段２９及び第三搬送手段３１は、プリフォームＰＦを搬送する位置が相違するが、第一搬送手段２７と同様の動作をするので、以下の説明を省略する。
　殺菌部２０は、図１（ａ）に示すよう
に、照射室２３の内部に電子線発生装置２４を備えている。
　電子線発生装置２４は、図２に示すように、プリフォームＰＦの上方から電子線ＥＢを照射する上部照射部２４Ａと、プリフォームＰＦの下方から電子線ＥＢを照射する下部照射部２４Ｂと、を備えている。上部照射部２４Ａは、主にプリフォームＰＦの内周面を殺菌することを目的として設けられ、下部照射部２４Ｂは、主にプリフォームＰＦの外周面を殺菌することを目的として設けられる。上部照射部２４Ａから照射された電子線ＥＢがプリフォームＰＦの内部に進入し、かつ、その底面まで到達できるようにするために、照射室２３の内部は所定の真空度まで減圧される。
　上部照射部２４Ａは、図２（ａ），（ｂ）に示すように、電子線ＥＢを照射する出射面１２４Ａが鉛直方向Ｖの下向きであって、かつ、水平方向Ｈと平行をなしている。また、下部照射部２４Ｂは、電子線ＥＢを照射する出射面１２４Ｂが鉛直方向Ｖの上向きであって、かつ、水平方向Ｈと平行をなしている。なお、図２（ａ）には２本のプリフォームＰＦが示されているが、これはプリフォームＰＦが、図中の左側から右側に向けた幅方向Ｗに移動することを示している。
　上部照射部２４Ａ及び下部照射部２４Ｂは、電子線ＥＢを照射する向きが異なるだけで、同じ仕様を有していてもよいし、例えば、上部照射部２４Ａから出射される電子線ＥＢの強度を下部照射部２４Ｂより強くするというように異なる仕様を有していてもよい。
　上部照射部２４Ａ及び下部照射部２４Ｂから電子線ＥＢが照射される領域（電子線照射領域ＥＡ）は、図２（ｂ）に示すように、プリフォームＰＦの搬送方向Ｆについては、一度に処理される、つまりバッチ処理される本数のプリフォームＰＦが配列される距離よりも長く設定される。したがって、バッチ処理されるプリフォームＰＦを位置合せして電子線照射領域ＥＡに搬送すれば、その後はプリフォームＰＦ又は上部照射部２４Ａ及び下部照射部２４Ｂを移動させなくても、バッチ処理対象の全てのプリフォームＰＦを殺菌できる。
　また、図２（ａ）に示すように、電子線照射領域ＥＡの幅方向Ｗについては、第一搬送手段２７から第二搬送手段２９にプリフォームＰＦの受け渡しがなされる距離よりも長く設定される。
　以上の通りであるから、殺菌部２０によれば、第一搬送手段２７から第二搬送手段２９にプリフォームＰＦが受け渡されるグリッパ群２７Ｃからグリッパ群２９Ｃへの掴み換えの位置及びその前後において、バッチ処理されるプリフォームＰＦに電子線ＥＢを継続して照射することができる。
　また、殺菌部２０において、バッチ処理されるプリフォームＰＦは、図２（ａ），（ｂ）に示すように、上部照射部２４Ａの出射面１２４Ａからの各部位までの距離が等しく、かつ、下部照射部２４Ｂの出射面１２４Ａからの各部位までの距離が等しい。この距離が一定とは、例えば、出射面１２４Ａから複数のプリフォームＰＦのそれぞれ口部ＰＦ１までの距離が等しく、また、出射面１２４Ｂから複数のプリフォームＰＦのそれぞれ底部ＰＦ２までの距離が等しいというように、出射面１２４Ａ又は出射面１２４ＢからプリフォームＰＦの同じ部位までの距離が等しいことを意味する。
　以上のとおりであるから、殺菌部２０において、バッチ処理されるプリフォームＰＦのそれぞれの各部位は、電子線発生装置２４から電子線ＥＢを均等に照射される。
［成形部４０］
　成形部４０は、殺菌部２０で電子線照射による殺菌処理が施されたプリフォームＰＦを容器Ｂに成形する。
　成形部４０は、図１（ａ）に示すように、成形に必要な適正な温度に加熱されているプリフォームＰＦが挿入される一対の成形用金型４１と成形用金型４３を備える。成形部４０は、成形用金型４１，４３に保持されたプリフォームＰＦの内部に、図示を省略する供給源から、ブロー成形用の気体を吹付けて容器Ｂに延伸ブロー成形する。
　成形用金型４１，４３は、それぞれが、一度に処理される数のプリフォームＰＦ又は容器Ｂに対応する金型要素４２，４４を備えている。成形用金型４１，４３は、互いに近づき又は離れる進退動作を行い、近づいた近接状態において、延伸ブロー成形がなされる。
　成形部４０は、図１（ａ）に示すように、第四搬送手段４５を備える。
　第四搬送手段４５は、成形部４０と成形部４０よりも下流Ｌの所定領域に亘って設けられる。第四搬送手段４５は、位置Ｐ４１において成形された容器Ｂを受け取り、成形部４０よりも下流の位置Ｐ４３まで容器Ｂを搬送する。
　第四搬送手段４５は、成形部４０とそれよりも下流の位置Ｐ４３に亘って敷設される直線状のガイドレール４５Ａと、ガイドレール４５Ａに沿って位置Ｐ４２と位置Ｐ４３の間を往復移動する走行台車４５Ｂと、走行台車４５Ｂに搭載されることで走行台車４５Ｂとともに往復移動するグリッパ群４５Ｃと、を備えている。
［ブロー成形装置１の動作］
　次に、図３～図６を参照して、ブロー成形装置１の動作について説明する。
　搬入部１０の搬送ベルト１３により所定位置まで搬送されたプリフォームＰＦ（図３（ａ））は、搬送手段１５に把持されて、殺菌部２０の前室２１に搬送される。これらの複数のプリフォームＰＦを第一群とする。搬送手段１５は、位置Ｐ２１で待機する走行台車２７Ｂの前まで、第一群のプリフォームＰＦを搬送する（図３（ｂ））。この搬送は、第一径路Ｌ１に沿って行われる。
　第一搬送手段２７は、待機していたグリッパ群２７Ｃが搬送手段１５に向けて前進し、かつ、搬送手段１５が保持しているプリフォームＰＦをグリッパ群２７Ｃが受け取る（図３（ｃ））。
　第一搬送手段２７は、グリッパ群２７ＣがプリフォームＰＦを受け取ると、元の位置である位置Ｐ２２まで後退してから（図４（ａ））、走行台車２７Ｂが照射室２３の位置Ｐ２３まで第一群のプリフォームＰＦを搬送する（図４（ｂ））。位置Ｐ２３が電子線発生装置２４をなす上部照射部２４Ａ及び下部照射部２４Ｂからの電子線ＥＢが照射される電子線照射領域ＥＡに含まれるために、位置Ｐ２３まで搬送されたプリフォームＰＦはその時点ですでに殺菌処理がなされる。
　プリフォームＰＦが位置Ｐ２３まで移動すると、位置Ｐ２４で待機していた第二搬送手段２９の走行台車２９Ｂがグリッパ群２９Ｃとともに、第二径路Ｌ２に置かれるプリフォームＰＦに向けて前進する。そうすると第二搬送手段２９は、グリッパ群２９Ｃを動作させることによりプリフォームＰＦを把持する（図４（ｃ））。第一搬送手段２７のグリッパ群２７Ｃによる把持が解れると、第二搬送手段２９はグリッパ群２９ＣによりプリフォームＰＦを把持したままで第一径路Ｌ１上の元の位置Ｐ２４まで後退する（図４（ｄ））。
　位置Ｐ２４も電子線照射領域ＥＡにあるために、位置Ｐ２４まで搬送されたプリフォームＰＦは、第一径路Ｌ１から第二径路Ｌ２に移動する間にわたって、電子線の照射を受けて殺菌処理がなされる。
　次に、第二搬送手段２９の走行台車２９Ｂは、グリッパ群２９Ｃで第一群のプリフォームＰＦを把持したままで、位置Ｐ２５まで移動する（図５（ａ））。この移動の過程で、グリッパ群２９Ｃは、お互いの間隔が拡げられる。これは、成形部４０において、プリフォームＰＦがこれよりも径の大きな容器Ｂに成形されることに対応している。この拡張された間隔は、隣接する容器Ｂが互いに干渉しないように、容器Ｂの径を基準にして定められる。
　走行台車２９Ｂは、位置Ｐ２５まで移動すると、位置Ｐ２６で待機している第三搬送手段３１の走行台車３１Ｂに向けて前進し、グリッパ群２９Ｃから走行台車３１Ｂのグリッパ群３１ＣにプリフォームＰＦを受け渡す（図５（ｂ））。
　走行台車３１Ｂは、グリッパ群３１ＣがプリフォームＰＦを受け取ると、位置Ｐ２６から成形部４０の位置Ｐ４１まで移動する（図５（ｃ））。この移動により、プリフォームＰＦは殺菌部２０の後室２５から退室して、ブロー成形に供される。
　プリフォームＰＦが成形部４０の成形用金型４１及び成形用金型４３の間の位置Ｐ４１に搬送されると、第一径路Ｌ１上に置かれるプリフォームＰＦに向けて成形用金型４１及び成形用金型４３のそれぞれが前進して、プリフォームＰＦを所定の状態で保持してから、ブロー成形が行われる（図５（ｄ））。このとき、第四搬送手段４５の走行台車４５Ｂが成形用金型４１とともに前進し、グリッパ群４５Ｃとグリッパ群３１ＣとでプリフォームＰＦを把持する。
　ブロー成形が終わると、成形用金型４１及び成形用金型４３は、それぞれ元の位置に戻る（図６（ａ））。
　容器Ｂを把持した走行台車４５Ｂは、下流側の位置Ｐ４３まで容器Ｂを搬送してから、図示を省略する搬送手段に容器Ｂを受け渡し、その後、成形用金型４１の前の位置Ｐ４２に戻る（図６（ｂ），（ｃ））。走行台車４５Ｂは、この位置で、後続の第二群のプリフォームＰＦが位置Ｐ４１に搬送されるのを待ち受けている（図６（ｄ））。
［ブロー成形装置１の効果］
　ブロー成形装置１の殺菌部２０は、グリッパ群２７Ｃで把持されていたプリフォームＰＦが、グリッパ群２９Ｃの受け渡しに伴う掴み換えの最中及びその前後において電子線照射領域ＥＡに置かれる。
　したがって、本実施形態によれば、掴み換えの前にグリッパ群２７Ｃで把持されていたために電子線が照射されなかった部位にも、掴み換えの後には電子線を照射ができるので、掴み換えの前後を通じて電子線が照射されない部位を生じさせない。しかも本実施形態は、受け渡しに関わるグリッパ群２７Ｃ及びグリッパ群２９Ｃにより直線上を搬送されるプリフォームＰＦに電子線を照射すればよいので、プリフォームＰＦを軸線周りに回転させる機構を設ける必要がない。
　次に、ブロー成形装置１は、殺菌部２０において、グリッパ群２７Ｃとグリッパ群２９Ｃのそれぞれが、所定数のプリフォームＰＦを把持しながら、直線上の搬送経路を搬送する。
　殺菌部２０は、電子線および電子線の照射によって生じるＸ線の外部への漏洩を防ぐための遮蔽構造が必要であるが、スターホィールによる回転式の搬送装置に比べて、遮蔽の構造を簡易なものにできる。
　次に、ブロー成形装置１は、グリッパ群２７Ｃ及びグリッパ群２９Ｃが、一列に並ぶ所定数のプリフォームＰＦを把持し、複数のプリフォームＰＦが一列に並ぶ方向と直交する方向に相対的に近づくことで、掴み換え位置において、グリッパ群２７Ｃからグリッパ群２９ＣへのプリフォームＰＦの掴み換えが行われる。
　このように、本実施形態は、バッチ式のグリッパ群２７Ｃ，グリッパ群２９Ｃが直線上を移動するので、スターホィールによる回転式の搬送装置を用いるのに比べて、搬送機構を簡易にできる。
　次に、殺菌部２０は、電子線照射領域ＥＡを含む照射室２３は、減圧雰囲気とされている。
　したがって、特に、上部照射部２４Ａから照射される電子線ＥＢは、プリフォームＰＦの内部に進入してその底部ＰＦ２の内周面に達することができるので、プリフォームＰＦの内周面を漏れなく殺菌することができる。
　次に、殺菌部２０において、グリッパ群２９Ｃは、照射室２３から後室２５にプリフォームＰＦを搬送する過程で、プリフォームＰＦの把持ピッチを拡げる。
　したがって、殺菌部２０を通過してからプリフォームＰＦの把持ピッチを拡げるスペースを設ける必要がないので、本実施形態によれば、省スペースなブロー成形装置１を実現できる。
　本実施形態におけるプリフォームＰＦは、口部ＰＦ１が鉛直方向の上を向く正立の状態で、グリッパ群２７Ｃ及びグリッパ群２９Ｃで把持され、かつ搬送され、殺菌部２０において、プリフォームＰＦについて、鉛直方向の上方から下方に向けて電子線ＥＢを照射する上部照射部２４Ａと、プリフォームＰＦに対して、鉛直方向の下方から上方に向けて電子線を照射する下部照射部２４Ｂと、を備える。
　したがって、プリフォームＰＦの外周面及び内周面を、ムラなく電子線を照射できる。なお、プリフォームＰＦの口部が下を向く倒立の状態で処理されたとしても、同様の効果を奏することができる。
　以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施の形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更したりすることが可能である。
　その一例として、電子線が照射されない領域をなくすのに好適なグリッパＧを、図７及び図８を参照して説明する。
　ここで説明するグリッパＧは、図７及び図８に示すように、例えばグリッパ群２７Ｃを構成するグリッパＧをグリッパ１００とし、グリッパ群２９Ｃを構成するグリッパＧをグリッパ２００とする。つまり、グリッパ１００とグリッパ２００は対をなし、殺菌部２０において、グリッパ１００に把持されるプリフォームＰＦはグリッパ２００に受け渡されることで、プリフォームＰＦの掴み換えがなされる。
　グリッパ１００は、図７（ａ）に示すように、プリフォームＰＦをネックリングＰＦ３の下側で把持し、間隔をあけて配置される一対のアーム１０１，１０２を備える。アーム１０１，１０２は、それぞれが揺動軸１０３，１０４を中心にして開閉運動が可能に設けられている。図７（ａ）及び図８（ａ）に示すように、アーム１０１はその先端側に二つの把持爪１０５，１０６を備え、アーム１０２はその先端側に一つの把持爪１０７を備える。
　グリッパ１００は、揺動軸１０３，１０４が鉛直方向の下側に、また、把持爪１０５，１０６，１０７が鉛直方向の上側になるように配置され、アーム１０１とアーム１０２の間に配置されるプリフォームＰＦを把持する。この把持は、図７（ａ）及び図８（ａ）に示すように、プリフォームＰＦを基準にして、一方の側から把持爪１０５，１０６で把持し、他方の側から把持爪１０７で把持する。三つの把持爪１０５，１０６，１０７は、図８（ａ），（ｂ）に示すように、プリフォームＰＦの円周方向に均等な角度をもって配置されている。
　グリッパ２００は、図７（ｂ）に示すように、プリフォームＰＦをネックリングＰＦ３の上側で把持し、間隔をあけて配置される一対のアーム２０１，２０２を備える。アーム２０１，２０２は、長手方向の中央付近で屈曲しており、この屈曲する部分に設けられる揺動軸２０３，２０４を中心にして開閉運動が可能に設けられている。
　アーム２０１は、揺動軸２０３よりも上側の上部アーム２０１Ａに、その先端部にカムピン２０８が固定されており、揺動軸２０３よりも下側の下部アーム２０１Ｂの先端部に把持爪２０５を備える。また、アーム２０２は、揺動軸２０４よりも上側の上部アーム２０２Ａに、その先端部にカムピン２０９が固定されており、揺動軸２０４よりも下側の下部アーム２０２Ｂの先端部に二つの把持爪２０６，２０７を備える。グリッパ２００は、揺動軸２０３，２０４が鉛直方向の上側に、また、把持爪１０５，１０６，１０７が鉛直方向の下側になるように配置され、アーム２０１とアーム２０２の間に配置されるプリフォームＰＦを把持する。
　グリッパ２００は、図７（ｂ）に示すように、駆動カム２１１を備える。駆動カム２１１は、昇降することにより、アーム２０１とアーム２０２の開閉動作を通じて、プリフォームＰＦの把持及び開放を行う。
　駆動カム２１１は、カム板２１２と、カム板２１２に形成される一対のカム溝２１４，２１５を備える。カム板２１２は、図示を省略するアクチュエータにより昇降運動する。カム溝２１４，２１５には、それぞれ、上部アーム２０１Ａのカムピン２０８、下部アーム２０２Ｂのカムピン２０９が挿入されている。
　駆動カム２１１が、最上位（図７（ｂ）の左側）にあるときは、下部アーム２０１Ｂの把持爪２０５と下部アーム２０２Ｂの把持爪２０６，２０７により、プリフォームＰＦを把持し、最下位（図７（ｂ）の右側）にあるときは、プリフォームＰＦの把持が開放される。
　この把持は、図７（ａ）及び図８（ｂ）に示すように、プリフォームＰＦを中心にして、一方の側から把持爪２０５で把持し、他方の側から把持爪２０６，２０７で把持する。三つの把持爪２０５，２０６，２０７は、図８（ｂ），（ｃ）に示すように、プリフォームＰＦの円周方向に均等な角度をもって配置されている。
　プリフォームＰＦを基準にして、グリッパ１００の把持爪１０５とグリッパ２００の二つの把持爪２０５，２０６が同じ側に配置され、かつ、把持爪２０５，２０６の間に把持爪１０５が配置される。また、グリッパ１００の把持爪１０６，１０７とグリッパ２００の把持爪２０７が同じ側に配置され、かつ、把持爪１０６，１０６の間に把持爪２０７が配置される。
　したがって、グリッパ１００の把持爪１０５，１０６，１０７とグリッパ２００の把持爪２０５，２０６，２０７は、図８（ｂ）に示すように、緩衝することなく、プリフォームＰＦの掴み換えを行うことができる。しかも、グリッパ１００の把持爪１０５，１０６，１０７とグリッパ２００の把持爪２０５，２０６，２０７は、プリフォームＰＦの異なる位置を把持するので、掴み換えの前後で同じ位置を把持することがない。よって、グリッパ１００及びグリッパ２００を用いれば、掴み換えの前後を通じて、電子線の照射がなされない部位を最小に抑えることができる。また、グリッパ１００及びグリッパ２００は、それぞれが三点支持の構造を採用するので、プリフォームＰＦを隠す部位を少なくできる。このような三点支持の構造は、ターホイールを用いた回転式の搬送装置のグリッパに適用するのは困難であるが、直線状の搬送経路を移動するグリッパには容易に適用できる。
　本実施形態はプリフォームＰＦをブロー成形して容器Ｂを成形するブロー成形装置１に適用した例を示しているが、本発明の適用対象は任意である。例えば、プリフォームＰＦではなくブロー成形された容器Ｂを殺菌するのに本発明を適用することができるし、また、プリフォームＰＦ、容器Ｂ以外の殺菌対象物であって、グリッパにより把持されながら搬送されるものに本発明を適用することもできる。
　また、本発明は、殺菌対象物グリッパによる掴み換えがなされる領域及びその前後の領域が、電子線の照射下にあればよい。つまり、本実施形態は殺菌対象物であるプリフォームＰＦが直線状の搬送経路に沿って搬送される例を示したが、本発明は、例えばスターホイールと称される回転体により殺菌対象物が搬送されるものに適用することができる。また、本実施形態は、予め定められた本数のプリフォームＰＦごとに殺菌処理するバッチ処理を採用しているが、本発明は、例えばスターホイールにより搬送される殺菌対象物を連続的に殺菌処理するものに適用できる。なお、スターホイールによる搬送は、単位時間当たりに処理できる殺菌対象物の数を多くできる利点がある。
１　　　ブロー成形装置
１０　　搬入部
１１　　回転体
１３　　搬送ベルト
１５　　搬送手段
２０　　殺菌部
２１　　前室
２３　　照射室
２４　　電子線発生装置
２４Ａ　上部照射部
２４Ｂ　下部照射部
１２４Ａ　出射面
１２４Ｂ　出射面
２５　　後室
２７　　第一搬送手段
２７Ａ　ガイドレール
２７Ｂ　走行台車
２７Ｃ　グリッパ群
２９　　第二搬送手段
２９Ａ　ガイドレール
２９Ｂ　走行台車
２９Ｃ　グリッパ群
３１　　第三搬送手段
３１Ａ　ガイドレール
３１Ｂ　走行台車
３１Ｃ　グリッパ群
４０　　成形部
４１，４３　成形用金型
４２，４４　金型要素
４５　　第四搬送手段
４５Ａ　ガイドレール
４５Ｂ　走行台車
４５Ｃ　グリッパ群
６０　　制御部
１００　グリッパ
１０１，１０２　アーム
１０３，１０４　揺動軸
１０５，１０６，１０７　把持爪
２００　グリッパ
２０１，２０２　アーム
２０１Ａ，２０２Ａ　上部アーム
２０１Ｂ，２０２Ｂ　下部アーム
２０３，２０４　揺動軸
２０５，２０６，２０７　把持爪
２０８，２０９　カムピン
２１１　駆動カム
２１２　カム板
２１４，２１５　カム溝
Ｂ　　　容器
ＰＦ　　プリフォーム
ＰＦ１　　口部
ＰＦ２　　底部
ＰＦ３　　ネックリング
ＥＡ　　電子線照射領域
ＥＢ　　電子線
Ｌ１　　第一径路
Ｌ２　　第二径路

Claims (16)

  1. 　殺菌対象物を受け取った後に、掴み換え位置まで前記殺菌対象物を把持しながら搬送する第一グリッパと、
    　前記第一グリッパから前記殺菌対象物を受け取った後に、前記殺菌対象物を把持しながら下流に向けて搬送する第二グリッパと、
    　前記掴み換え位置と前記掴み換え位置の前後を含む照射領域を通過する前記殺菌対象物に電子線を照射する電子線照射部と、
    を備える、
    ことを特徴とする電子線殺菌装置。
  2. 　前記第一グリッパ及び前記第二グリッパは、それぞれが、所定数の前記殺菌対象物を把持しながら、直線状の搬送経路を移動する、
    請求項１に記載の電子線殺菌装置。
  3. 　前記第一グリッパ及び前記第二グリッパは、それぞれが、一列に並ぶ所定数の前記殺菌対象物を把持し、
    　前記第一グリッパ及び前記第二グリッパの一方又は双方が、複数の前記殺菌対象物の並ぶ方向と直交する方向に相対的に近づくことで、前記掴み換え位置において、前記第一グリッパから前記第二グリッパに前記殺菌対象物の掴み換えが行われる、
    請求項１又は請求項２に記載の電子線殺菌装置。
  4. 　前記第一グリッパと前記第二グリッパは、互いに異なる位置で前記殺菌対象物を把持する、
    請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の電子線殺菌装置。
  5. 　前記電子線照射部における前記電子線の前記照射領域は、減圧雰囲気とされる、
    請求項１～請求項４のいずれか一項に記載の電子線殺菌装置。
  6. 　前記電子線照射部は、
    　所定数の前記殺菌対象物を前記第一グリッパで受け取る前室と、
    　前記第一グリッパで搬送される前記殺菌対象物が前記第二グリッパに掴み換えられる過程で、前記殺菌対象物に前記電子線が照射される照射室と、
    　前記照射室で前記電子線が照射された前記殺菌対象物が前記第二グリッパにより搬送される後室と、
    　前記照射室において、前記電子線を照射する電子線発生装置と、を備え、
    　前記照射室は、前記前室及び前記後室よりも、真空度が高い、
    　請求項４に記載の電子線殺菌装置。
  7. 　前記第二グリッパは、
    　前記照射室から前記後室に前記殺菌対象物を搬送する過程で、または、前記後室に前記殺菌対象物を搬送してから、前記殺菌対象物を把持するピッチを拡げる、
    請求項６に記載の電子線殺菌装置。
  8. 　前記殺菌対象物は、
    　口部と、前記口部に連なり、内容物を収容する収容空間と、を備える容器、または、前記容器の予備成形体であり、
    　前記殺菌対象物は、前記口部が鉛直方向の上を向く正立の状態、または、その逆の倒立の状態で、前記第一グリッパ及び前記第二グリッパで把持され、
    　前記電子線照射部は、
    　前記殺菌対象物に対して、鉛直方向の上方から下方に向けて前記電子線を照射する第一電子線発生装置と、
    　前記殺菌対象物に対して、鉛直方向の下方から上方に向けて前記電子線を照射する第二電子線発生装置と、を備える、
    請求項１～請求項７のいずれか一項に記載の電子線殺菌装置。
  9. 　殺菌対象物を受け取った後に、第一グリッパにより掴み換え位置まで前記殺菌対象物を把持しながら搬送するステップと、
    　前記第一グリッパから前記殺菌対象物を受け取った後に、第二グリッパにより前記殺菌対象物を把持しながら下流に向けて搬送するステップと、
    　前記掴み換え位置と前記掴み換え位置の前後を含む照射領域を通過する前記殺菌対象物に電子線を照射する電子線照射ステップと、
    を備える、
    ことを特徴とする電子線殺菌方法。
  10. 　前記第一グリッパ及び前記第二グリッパは、それぞれが、所定数の前記殺菌対象物を把持しながら、直線状の搬送経路を移動する、
    請求項９に記載の電子線殺菌方法。
  11. 　前記第一グリッパ及び前記第二グリッパは、それぞれが、一列に並ぶ所定数の前記殺菌対象物を把持し、
    　前記第一グリッパ及び前記第二グリッパの一方又は双方が、複数の前記殺菌対象物の並ぶ方向と直交する方向に相対的に近づくことで、前記掴み換え位置において、前記第一グリッパから前記第二グリッパに前記殺菌対象物の掴み換えが行われる、
    請求項９又は請求項１０に記載の電子線殺菌方法。
  12. 　前記第一グリッパと前記第二グリッパは、互いに異なる位置で前記殺菌対象物を把持する、
    請求項９～請求項１１のいずれか一項に記載の電子線殺菌方法。
  13. 　前記電子線の前記照射領域は、減圧雰囲気とされる、
    請求項９～請求項１２のいずれか一項に記載の電子線殺菌方法。
  14. 　所定数の前記殺菌対象物を前記第一グリッパで受け取る前室と、
    　前記第一グリッパで搬送される前記殺菌対象物が前記第二グリッパに掴み換えられる過程で、前記殺菌対象物に前記電子線が照射される照射室と、
    　前記照射室で前記電子線が照射された前記殺菌対象物が前記第二グリッパにより搬送される後室と、
    　前記照射室において、前記電子線を照射する電子線発生装置と、を備え、
    　前記照射室は、前記前室及び前記後室よりも、真空度が高い、
    　請求項１２に記載の電子線殺菌方法。
  15. 　前記第二グリッパは、
    　前記照射室から前記後室に前記殺菌対象物を搬送する過程で、または、前記後室に前記殺菌対象物を搬送してから、前記殺菌対象物を把持するピッチを拡げる、
    請求項１４に記載の電子線殺菌方法。
  16. 　前記殺菌対象物は、
    　口部と、前記口部に連なり、内容物を収容する収容空間と、を備える容器、または、前記容器の予備成形体であり、
    　前記殺菌対象物は、前記口部が鉛直方向の上を向く正立の状態、または、その逆の倒立の状態で、前記第一グリッパ及び前記第二グリッパで把持され、
    　前記電子線は、
    　前記殺菌対象物に対して、鉛直方向の上方から下方に向けて照射されるとともに、鉛直方向の下方から上方に向けて照射される、
    請求項９～請求項１５のいずれか一項に記載の電子線殺菌方法。
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