WO2017204553A1 - Fine-wiring flexible circuit board and manufacturing method therefor - Google Patents

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WO2017204553A1
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wiring
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wiring layer
flexible substrate
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박광수
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(주) 화인켐
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    • H05K2201/0137Materials
    • H05K2201/0154Polyimide

Definitions

  • the present invention relates to a flexible circuit board for microwiring and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a flexible circuit board for microwiring and a method of manufacturing the same.
  • FPCBs flexible printed circuit boards
  • insulating layer such as polyimide
  • vias are formed. After connecting the wirings on both sides, the copper foil layers were formed by etching the respective copper layers.
  • Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2004-0005404 a plurality of through holes are continuously drilled in a dynamic layer plate by a roll-to-roll method using a UV laser drill in a dynamic layer plate, and the through holes are formed through metal plating.
  • the dry film is adhered to the upper and lower surfaces of the dynamic layer plate by using a roll-to-roll method, and the necessary circuit patterns are formed by exposing, developing and etching the dynamic layer plate by the roll-to-roll method.
  • a method for manufacturing a circuit board is described.
  • coverlay layer comprising layer (7) is flexible By adhering to both surfaces of the copper plating layer on a board
  • the copper foil layers 2 and 2 'and the plating layer 4 formed thereon are etched using a photoresist such as DFR ( Since the desired wiring pattern is formed by FIG. 1 e), a large loss of the pattern is generated, and thus, a width between the upper and lower portions of the wiring layer is not constant or a finer pattern is not formed. There is a problem in precise wiring formation.
  • the present invention corresponds to the integration of electronic components, and enables wiring patterns to be formed at a high density, and enables formation of fine wiring patterns. It is an object of the present invention to provide a flexible circuit board for fine wiring and a method of manufacturing the same.
  • the present invention provides a flexible circuit board for fine wiring for forming double-sided wiring on upper and lower portions of the following flexible substrate insulating layer, comprising: a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer, wherein the second wiring layer penetrates
  • the present invention also provides a flexible circuit board for fine wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, the second copper foil layer for supporting the following first wiring layer;
  • a coverlay adhesive layer A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material;
  • It provides a flexible circuit board for micro-wiring comprising at
  • the thickness of the coverlay adhesive layer may be in the range of 5 to 50 um
  • the flexible substrate insulating layer has a thickness of 5 um to 100 um
  • polyimide polyimide
  • polyester polyphenylene sulfate
  • polyester It may include any material selected from sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, polyamide.
  • the flexible substrate insulating layer and the first copper foil layer may include an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating in a thickness of 0.05 to 5 um.
  • the first copper foil layer may be formed by electroless plating or electroplating in a thickness of 0.5 to 25 um.
  • the release layers to the second wiring layers may be sequentially formed below the substrate sheet layer made of the polymer material or the metal material so as to be symmetric with the upper structure of the substrate sheet layer. Can be formed.
  • the present invention is a flexible circuit board for micro-wiring in which an upper wiring layer is formed on an upper portion of the flexible substrate insulating layer and a lower wiring layer is formed on a lower portion of the flexible substrate.
  • a lower wiring layer formed thereon; is formed on the lower wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the lower wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure Coverlay adhesive layer;
  • a flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material;
  • an upper wiring layer on which the wiring according to a predetermined pattern is formed on the flexible substrate insulating layer, wherein at least one via penetrates through the flexible substrate insulating layer and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the upper wiring layer and the lower wiring layer.
  • the present invention provides a method for producing a flexible circuit board for micro wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, a) a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And at least one via hole penetrating through the first copper foil layer, the flexible substrate insulation layer, and the coverlay adhesive layer, the first copper foil layer formed by plat
  • a coverlay film layer as a; may further include.
  • the present invention includes at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, and an acrylic resin on each outer surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer, and the wiring layer on the substrate to be processed.
  • a coverlay adhesive layer wrapped around the coverlay adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure;
  • a flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And bonding the two flexible copper foil coverlay films to the coverlay adhesive layer and each of the wiring layers, the copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
  • the present invention provides a flexible circuit board for micro-wiring manufactured by the method for producing a flexible circuit board for micro-wiring.
  • the flexible circuit board for a fine wiring according to the present invention has the above-mentioned process even though the unit process is more complicated than the double-sided wiring forming process according to the prior art in the case of forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer in the flexible wiring board for the micro-wiring
  • the wiring pattern can be formed at a high density to sufficiently cover the complexity of the microstructure, and there is an advantage in that the formation of the fine wiring pattern is possible.
  • the wiring layer to be processed forms an embedded pattern structure by the coverlay adhesive layer, whereby the wiring is an insulating process for forming the fine wiring layer. It can proceed in the state buried in, there is an advantage in the manufacture of fine patterns of the flexible printed circuit board.
  • FIG. 1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a flexible printed circuit board (FPCB) according to the prior art.
  • FIG. 2 is a view showing a cross-section of the flexible copper foil coverlay film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a cross section of a double-sided flexible circuit board obtained by using a flexible copper foil coverlay film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating an embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film in a double-sided flexible circuit board.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film in a double-sided flexible circuit board as a step following FIG. 4 according to the present invention.
  • FIG. 6 is a diagram illustrating a method of using a flexible copper foil coverlay film for a double-sided flexible circuit board according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a view showing another embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film for a double-sided flexible circuit board as a subsequent step of FIG. 6 according to the present invention.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating a method of manufacturing a double-sided flexible circuit board having a multilayer structure according to another embodiment of the present invention.
  • the present invention provides a flexible copper foil coverlay film for forming double-sided wiring on the top and bottom of the flexible substrate insulating layer.
  • a coverlay film is used for the purpose of protecting a wiring part, and is formed by laminating
  • a coverlay film can be covered by touching the adhesive layer side of the coverlay film to the wiring portion of the circuit board using a method such as a hot press to cover the wiring portion of the printed circuit board.
  • the adhesive layer is required to have high adhesion to both the circuit wiring patterns such as copper wiring and the film material for coverlay, and in the case of the film material for copper lay, polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone Insulation materials, such as polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, and polyamide, may be used.
  • the flexible copper foil coverlay film used in the present invention is characterized by including a first copper foil layer formed by plating on top of an insulating material such as polyimide, which is an upper layer in a conventional coverlay film.
  • FIG. 1 The structure of the flexible copper foil coverlay film which concerns on this invention is shown in FIG.
  • the flexible copper foil coverlay film according to the present invention includes at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, and an acrylic resin, and the wiring layer on the substrate to be treated is applied to the following coverlay adhesive layer.
  • a coverlay adhesive layer 11 wrapped and insulated to form an embedded pattern structure;
  • a flexible substrate insulating layer 10 formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material;
  • a first copper foil layer 12 formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
  • a desired wiring layer may be formed on the upper and lower portions of the flexible copper foil coverlay film based on the flexible substrate insulating layer 10, and in FIG. 3, a double-sided flexible circuit finally obtained by using the flexible copper foil coverlay film.
  • the cross section of the substrate is shown.
  • the upper wiring layer 31 derived from the first copper foil layer (described later) and the wiring layer formed on the first copper foil layer on the flexible substrate insulating layer 10. ) Is formed, and the cover layer adhesive layer 11 and the second copper foil layer (described later) and the second copper foil layer formed on the lower portion of the cover layer adhesive layer below the flexible substrate insulating layer 10
  • a lower wiring layer 32 derived from one wiring layer is formed, and conventional coverlay films 16, 16 ', 17, and 17' are laminated on each outer side of the upper wiring layer and the lower wiring layer to manufacture a double-sided flexible circuit board. Can be.
  • the coverlay adhesive layer 11 of the flexible copper foil coverlay film according to the present invention is a portion which is directly bonded to a metal wiring layer, which is a circuit surface of a flexible circuit board, through a press, and is bonded. It is insulated while enclosing the circuit and serves as an embedded. With this feature, it is possible to eliminate the loss of the width of the wiring layer in the subsequent etching process.
  • the term 'embedded' refers to a state in which a part, an element, or a wiring is embedded in a specific device, wherein the circuit of the metal wiring layer in the printed circuit board is applied to the flow of the adhesive in the coverlay adhesive layer in a subsequent process such as a pressing process. Insulation by wrapping means to be built.
  • the double-sided flexible circuit board obtained by using the copper foil coverlay film according to the present invention is a wiring layer to be processed in proceeding an etching process rather than a method of forming a wiring layer through etching or the like according to the prior art.
  • the etching process for forming the fine wiring layer can be performed while the wiring is buried in the insulating layer, which is advantageous in forming the fine pattern of the flexible printed circuit board. have.
  • the coverlay adhesive layer may have a thickness in the range of 5 to 50 um.
  • it may include at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin.
  • the coverlay adhesive layer may include a thermosetting resin having a crosslinkable functional group so as to function to be cured through crosslinking between molecules after pressing, and for this purpose, an epoxy polymer resin or an acrylic polymer is generally included in a polyimide film. It may comprise a resin.
  • the epoxy resin may include at least one of bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, and phenol novolac type epoxy.
  • thermoplastic resins capable of controlling flow such as acrylonitrile-butadiene copolymer, and the like, and bromine-based flame retardants or phosphorus-based flame retardants may be added to have a level of flame retardance that must be satisfied as an electronic component. Can lose.
  • the adhesive layer may include a filler and a curing agent
  • the filler may include at least one of an inorganic filler and an phosphine type filler
  • the hardener may be an amine type curing agent. at least one of a type hardener, a phenol type hardener, and an acid anhydride type hardener.
  • 100 to 250 parts by weight of the thermoplastic resin may include 100 to 250 parts by weight of epoxy resin, 40 to 100 parts by weight of filler, 20 to 50 parts by weight of the curing agent.
  • the flexible substrate insulating layer 10 formed on the upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material has a thickness of 5 um to 100 um, polyimide, polyester, polyphenylene sulphate, polyester sulfone, and polyethylenol. It may include any material selected from ketones, aramids, polycarbonates, polyarylates, polyamideimides, polyamides, and preferably polyimides may be used.
  • the flexible substrate insulating layer may be subjected to surface treatment such as hydrolysis, corona discharge, low temperature plasma, physical surface irregularities treatment, and easily adhesive coating treatment, if necessary.
  • the first copper foil layer 12 formed on the flexible substrate insulating layer 10 may be formed by plating.
  • the first copper foil layer may be formed by electroplating or electroless plating, and, when directly formed on the flexible substrate insulating layer, is formed by electroless plating.
  • an electroless nickel plating layer (not shown) formed between the flexible substrate insulating layer and the first copper foil layer by electroless nickel plating has a thickness of 0.05 to 5 um, preferably 0.05 to 3 um. It may include.
  • the adhesion with the electroplating layer to be formed on the electroless plated layer may be reduced, and when the thickness is greater than .5 um, the ductility decreases due to warpage. Since cracks may have disadvantages, it is desirable to have a thickness within the above-described range.
  • the first copper foil layer formed on the nickel plating layer may be formed by electrolytic plating or electroless plating, and preferably, when the nickel electroless plating layer is formed, 1
  • the copper foil layer may be formed by electroplating.
  • the electroless nickel plating layer may be a pretreatment step of forming a roughness of the insulation layer by immersing or spraying a flexible substrate insulation layer under basic conditions including a metal salt, and for nickel electroless plating after the pretreatment step.
  • the method may include forming a seed layer, and forming an electroless nickel plating layer on the insulating layer on which the seed layer is formed.
  • the surface area of the flexible substrate may be increased by immersion or spraying in an alkaline aqueous solution including at least one selected from NH 3, KOH, NaOH, and an organic amine, and then drying. And it can enhance the adhesion with the plating layer, wherein the alkaline aqueous solution used may be an aqueous solution of 0.01 ⁇ 1 M concentration.
  • an aqueous solution of a transition metal salt or any one of metal salts selected from Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, and Bi may be used.
  • the metal salt may be any one selected from a transition metal or any one metal halide, metal sulfate, or metal acetate selected from Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, and Bi.
  • Immersion time of the flexible substrate in the basic aqueous solution containing the metal salt may have a range of 10 seconds to 30 minutes, preferably 30 seconds to 10 minutes.
  • the temperature of the aqueous solution to be immersed may have a range of 0 degrees to 40 degrees, preferably immersed at room temperature (25 degrees).
  • the adhesion between the electroless nickel plated layer and the substrate is more improved than the method of forming the seed layer without performing the pretreatment step to form the electroless nickel plated layer. Can be.
  • the seed layer forming step for nickel electroless plating may be formed to quickly form an electroless nickel plating layer on the flexible substrate insulating layer, and to form a suitable strength with the flexible substrate insulating layer to help combine it.
  • the component of the seed layer may include any one metal component selected from Au, Ag, Pt, Cu, Ni, Fe, Pd, Co or their alloys, preferably as the seed metal layer Palladium salt can be used. In this case, it may further contain other transition metal components other than palladium which is the seed metal component.
  • the forming of the seed layer may be performed by selectively converting the flexible substrate insulating layer subjected to the pretreatment step into any one metal salt selected from Au, Ag, Pt, Cu, Ni, Fe, Pd, Co, or an alloy thereof. , Immersing in an aqueous solution containing a reducing agent for reducing the metal salt.
  • the immersion time of the flexible substrate in the aqueous solution may have a range of 10 seconds to 30 minutes, preferably 30 seconds to 10 minutes.
  • the temperature of the aqueous solution to be immersed may have a range of 0 degrees to 40 degrees, preferably immersed at room temperature (25 degrees).
  • the pretreatment step for forming the seed layer on the flexible substrate, or the step of forming the seed layer is by immersing the substrate in an aqueous solution and then applying an ultrasonic wave to the immersed substrate, thereby promoting a reaction and adhesion to the plating layer Can be improved.
  • the electroless nickel plating layer may be formed using a nickel salt, a reducing agent, a complex, or the like, to form an electroless plating layer on the substrate.
  • the electroless plating may be performed by reducing nickel ions with a reducing agent by reducing and depositing nickel on a substrate or the like using a plating solution in which a compound containing nickel ions and a reducing agent are mixed.
  • the electroless plating is performed for 1 to 60 minutes so that an electroless plating layer having a thickness required to be immersed in a plating bath containing a plating solution including a reducing agent, an additive, and a stabilizer is plated on the flexible substrate insulating layer.
  • a plating solution including a reducing agent, an additive, and a stabilizer.
  • Non-limiting examples include formaldehyde, hydrazine or salts thereof, cobalt sulfate (II), formalin, glucose, glyoxylic acid, hydroxyalkylsulfonic acid or salts thereof, hypophosphoric acid or salts thereof, boron hydride compounds, dialkyls Amine borane and the like, in addition to the various reducing agents may be used depending on the type of metal.
  • the electroless plating solution may include a complexing agent for preventing the solution containing nickel salt from being reduced in the liquid phase and a pH adjusting agent for maintaining the electroless plating solution at an appropriate pH so that the reducing agent is oxidized.
  • a complexing agent for preventing the solution containing nickel salt from being reduced in the liquid phase
  • a pH adjusting agent for maintaining the electroless plating solution at an appropriate pH so that the reducing agent is oxidized.
  • an insulating film (5 to 100 ⁇ m) / adhesive layer (5 to 50 ⁇ m) / electrostatic such as a polyimide film or an aramid film Sea nickel plating layer (0.05 to 5 ⁇ m) / the first copper foil layer (0.5 to 25 ⁇ m) may have a range.
  • the flexible copper foil coverlay film may further include a release film or a release paper as a protective film to protect the coverlay adhesive layer 11, can be used immediately in the field by removing the protective film immediately before actual use. .
  • the flexible copper foil coverlay film according to the present invention can be applied to the manufacture of a double-sided flexible printed circuit board having a fine pattern of higher density.
  • FIG. 4 is a view showing an embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film according to the present invention for a double-sided flexible circuit board, and forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer in the flexible copper foil coverlay film. It can be used in the manufacture of a flexible circuit board (Fig. 4d) for fine wiring.
  • the microcircuit flexible circuit board shown in FIG. 4D may further include a substrate sheet layer 20 made of a polymer material or a metal material; A release layer 21 formed on the upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer 22 formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer 24 having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure Coverlay adhesive layer 11; A flexible substrate insulating layer 10 formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And a first copper foil layer 12 formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
  • the flexible circuit board for microwiring shown in FIG. 4D may be manufactured by steps a) to d) described below.
  • a) preparing a flexible copper foil coverlay film according to the present invention which comprises a) at least one polymer material selected from a) a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, as described above, A coverlay adhesive layer in which the first wiring layer is wrapped around the coverlay adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure; A flexible substrate insulating layer 10 formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And preparing a flexible copper foil coverlay film comprising a first copper foil layer 12 formed on the flexible substrate insulating layer by plating.
  • step a) has been described above, and the substrate sheet in step b) will be described in detail.
  • FIG. 4a The configuration of the substrate sheet in step b) is shown in Figure 4a, which includes a substrate sheet layer 20; Release layer 21; And a second copper foil layer 22.
  • the substrate sheet layer 20 may include a polymer material having an insulating property such as polyester, polyamide, polyimide, FR-4, or the like, in which a copper foil or the like is attached to the insulating material,
  • the material is made of a material in which copper foil (Cu Foil) is attached to the polymer material or the safe molecule material, and may have a thickness in a range of 20 to 2000 um, but is not limited thereto.
  • the substrate sheet layer 20 is used to fabricate a flexible double-sided printed circuit board, but finally corresponds to a component that is removed together with the release layer 21.
  • the release layer 21 is formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer, in order to be removed together with the substrate sheet layer 20, the adhesive strength with the substrate sheet layer 20 side of the second copper foil layer 22 It should be made to be stronger than the adhesive strength with the side, the bonding surface of the release layer and the second copper foil layer may be surface-treated or release agent for easy separation in the future.
  • the release layer may be made through a surface treatment of a release polymer or a metal layer or chemicals, the thickness may have a range of 0.1 to 100 um, preferably may have a range of 0.3 to 30 um.
  • the second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer has a thickness of 0.3 to 8 um, preferably has a range of 0.5 to 5 um.
  • the second copper foil layer 22 may be formed by electroless plating or electroplating, and preferably, may be formed by electroless plating.
  • the second copper foil layer 22 supports a first wiring layer 24 to be formed later to form a predetermined wiring, and corresponds to a metal layer that is energized with the first wiring layer.
  • the thickness to be removed in the etching process of removing the second copper foil layer 22 in a subsequent process may be increased. Therefore, by using the thickness of the second copper foil layer 22 as a copper foil layer that is thinner than or equal to the release layer, the second copper foil layer 22 is made thin, and the second copper foil layer ( The productivity increase can be realized by shortening the process of eliminating 22).
  • step c the step of forming the first wiring layer 24 to form a predetermined wiring on the second copper foil layer, which is the step c), will be described with reference to FIGS. 4B and 4C.
  • FIG. 4B is a diagram showing the formation of a resist pattern 23 to form the first wiring layer 24 on the substrate sheet in step b).
  • a dry resist film layer is formed on the second copper foil layer, and a resist pattern 23 desired is formed through a lithography process including exposure and development.
  • the first wiring layer 24 can be formed.
  • a deposition process such as sputtering may be introduced instead of copper plating, but it is advantageous to use a plating method in consideration of process economics.
  • the micro wiring layer In the case of forming the micro wiring layer according to the prior art, it is possible to form the micro wiring layer by etching the copper foil layer using a photoresist method, but in this case, the selective etching of the copper layer is quite difficult and the etching of the fine pattern is performed.
  • the first wiring layer 24 is formed by a plating method or a deposition method so as to have a finer line width.
  • the first wiring layer 24 may be copper plated or deposited to form a finer circuit pattern in a more precise shape.
  • step d) as a final step for manufacturing the flexible wiring board for the fine wiring is performed by attaching the cover film adhesive layer to the flexible copper foil coverlay film prepared in step a) above the first wiring layer 24 formed in step c). 11) and bonding the first wiring layer 24 to face each other, which is illustrated in FIG. 4D.
  • the first wiring layer serves to embed the circuit while covering the circuit through the flow of the appropriate coverlay adhesive layer 11 in the coverlay press process.
  • the wiring layer since the wiring layer is buried in the insulating layer, the wiring layer has a characteristic of eliminating the loss of the wiring width of the wiring layer in the subsequent etching process.
  • the coverlay adhesive layer 11 in the flexible circuit board for fine wiring obtained according to the present invention may have a thickness in the range of 5 to 50 um, the flexible substrate insulating layer 10 has a thickness of 5 um to 100 um, It may include any one material selected from polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, polyamide, the flexible substrate
  • the insulating layer 10 and the first copper foil layer 12 may include an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating in a thickness of 0.5 to 5 um.
  • the flexible circuit board for fine wiring of the present invention as shown in FIG. 4D may be used as a double-sided flexible printed circuit board in a subsequent process.
  • the flexible circuit board for fine wiring may additionally include at least one via hole, which is illustrated in FIG. 4E.
  • the via hole refers to a hole processed for electrical conduction between layers in a printed circuit board.
  • the via hole is formed to connect circuit wirings formed on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer 10, respectively.
  • a via hole connected to the first wiring layer 24 may be formed through the copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer.
  • Such via holes may be formed by mechanical drilling or laser drilling, and for example, the via holes may be formed by etching by UV or CO 2 laser.
  • the flexible circuit board for fine wiring including the via hole may be used to manufacture a double-sided flexible printed circuit board through an additional process, which is illustrated in FIG. 5.
  • FIG. 5 is a view showing an embodiment of a method for manufacturing a double-sided flexible circuit board using a flexible circuit board for fine wiring including a flexible copper foil coverlay film according to the present invention.
  • the microcircuit flexible circuit board having a structure of Figure 5c comprises a) a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And a first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulation layer, wherein the first copper foil layer, at least one via penetrates the flexible substrate insulation
  • a) is a step of forming a resist pattern 28 in FIG. 5A using the flexible circuit board having the structure of FIG. 4E, and filling the second wiring layer 29 and via holes in FIG. 5B using the same. Performing a step).
  • the resist pattern 28 is formed to form the second wiring layer 29 on the first copper foil layer 12 having the via holes formed by the same process as in FIG. 4B. .
  • a photoresist film layer is formed on the first copper foil layer 12 on which the via holes are formed, as in FIG. 4B, and a desired lithography process is performed through lithography including exposure and development. 2
  • the resist pattern 28 necessary for forming a wiring layer is formed.
  • the second wiring layer 29 is formed using the resist pattern 28, and the resist pattern 28 is removed.
  • this is a flexible circuit board for micro-wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the following flexible substrate insulating layer, a substrate sheet made of a polymer material or a metal material layer; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having pre
  • the second wiring layer 29 may be formed on the first copper foil layer.
  • metal vias are formed in the via holes by plating or deposition.
  • the second wiring layer 29 according to the present invention is preferably plated in consideration of process advantages and economical efficiency, and similarly to the first wiring layer 24, the wiring layer by an etching process using a photoresist method of the copper foil layer according to the prior art. It has the advantage of having a finer line width.
  • step b) in the method for manufacturing a flexible circuit board for microwiring of the present invention is a step of separating between the release layer and the second copper foil layer, the second wiring layer 29 is formed, the via hole is filled After the vias are formed, the substrate sheet layer 20 and the release layer 21 are removed.
  • the release layer 21 and the second layer may be fabricated to manufacture a double-sided flexible circuit including a second wiring layer 29 and a first copper foil layer 12, a first wiring layer 24, and a second copper foil layer 22.
  • the step of separating the substrate sheet layer and the release layer by separating the two copper foil layers 22 is illustrated.
  • the flexible circuit board for fine wiring shown in FIG. 5C includes a second copper foil layer for supporting the first wiring layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer, wherein the second wiring layer penetrates through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer. Corresponding to the flexible circuit board for micro-wiring comprising at least one or more via holes.
  • the release layer 21 and the second copper foil layer 22 in FIG. 5C By separating between the release layer 21 and the second copper foil layer 22 in FIG. 5C, the release layer is desorbed, but the second copper foil layer 22 existing under the first wiring layer 24 remains. . In this case, the second copper foil layer 22 may be removed together with a portion of the second wiring layer 29 and the first copper foil layer 12 by etching in a later process.
  • the etching process may be formed by dry or wet etching, preferably a wet method may be used, through which the second copper foil layer 22, the second wiring layer 29, and the first copper foil layer 12 are formed. By removing the portion where the second wiring layer is not formed, the upper wiring layer 31 and the lower wiring layer 32 can be formed on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer 10.
  • FIG. 5D illustrates a double-sided flexible circuit board with a portion of the second copper foil layer 22, the second wiring layer 29, and the first copper foil layer 12 removed in accordance with the etching process.
  • An upper wiring layer 31 is formed by etching the first copper foil layer 12 and the second wiring layer 29 formed on the first copper foil layer on the upper portion of the flexible substrate insulating layer 10.
  • the lower wiring layer 32 is formed by etching the second copper foil layer 22 formed at the bottom of the substrate.
  • the flexible wiring board for microwiring according to FIG. 5D is a flexible wiring board for microwiring in which an upper wiring layer is formed on an upper portion of the flexible substrate insulating layer and a lower wiring layer is formed on a lower portion of the flexible wiring board.
  • a flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material;
  • an upper wiring layer on which the wiring according to a predetermined pattern is formed on the flexible substrate insulating layer, wherein at least one via penetrates through the flexible substrate insulating layer and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the upper wiring layer and the lower wiring layer. It characterized by including.
  • the upper wiring layer 31 is derived from the first copper foil layer 12 and the second wiring layer 29 formed on the first copper foil layer, and the second wiring layer in the first copper foil layer 12 is formed. It is important to completely remove the portion that is not formed so that the upper wiring layer 31 forms a circuit according to the pattern of the second wiring layer 29.
  • the lower wiring layer 32 originates from the 1st wiring layer 24 and the 2nd copper foil layer 22, a circuit is formed according to the pattern of the 1st wiring layer 24 by removing the 2nd copper foil layer 22 substantially. To be.
  • the said 1st copper foil layer 12 and the 2nd copper foil layer 22 in this invention can have the same thickness, considering that it removes by an etching process.
  • the present invention is a step of forming a coverlay film layer as a protective layer on each outer surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer, the double-sided flexible circuit board formed with the upper wiring layer 31 and the lower wiring layer 32 according to Figure 5e It may further include;
  • coverlay film layer used for use as a protective layer may attach a coverlay film that is commonly used.
  • 5E shows a coverlay film having a conventional structure including an adhesive layer 16 and an insulating layer 17 on the upper wiring layer 31 and the lower wiring layer 32, respectively, by closely contacting both sides of the wiring layer on the flexible printed circuit board.
  • 2 shows a double-sided flexible circuit board in which both surfaces are insulated by the coverlay layer.
  • the present invention can provide a flexible circuit board for microwiring obtained by the method for producing a double-sided flexible circuit board described above.
  • the flexible circuit board for fine wiring containing the flexible copper foil coverlay film in this invention can improve manufacturing efficiency by forming the same structure not only in the upper part of the board
  • the present invention in the flexible circuit board for micro-wiring according to Figure 5b, the substrate sheet layer 20 made of the polymer material or metal material; at the bottom of the additional structure to be symmetrical with the upper structure of the substrate sheet layer
  • the release layer 21 'to the second wiring layer 29' may be formed in order, and a flexible circuit board (structure of FIG. 7B) for fine wiring with via holes formed may be provided.
  • FIGS. 6 and 7 illustrate steps for forming an additional double-sided micro-wiring flexible circuit board at the bottom of the substrate sheet layer 20.
  • FIG. 6 the release layer 21 ′ to the first copper foil layer 12 ′ are further formed under the substrate sheet layer 20 so as to be symmetric to the upper structure of the substrate sheet layer.
  • the structure of the flexible circuit board for wiring is illustrated, and FIG. 7 illustrates a method of manufacturing a plurality of double-sided flexible printed circuit boards using the flexible circuit board for microwiring according to FIG. 6.
  • FIGS. 6 and 7 are the same as the description of the processes illustrated in FIGS. 4 and 6, and thus, a person skilled in the art may appropriately select and apply the processes. .
  • the double-sided flexible circuit board for micro-wiring of the present invention may additionally include a plurality of wiring layers each of the wiring on both sides through the stack.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating a method of manufacturing a double-sided flexible circuit board having a multilayer structure according to another embodiment of the present invention, wherein each of the upper and lower wiring layers of the double-sided flexible circuit board having the structure of FIG. Adhering the flexible copper foil coverlay film according to the present invention to the outer surface (FIG. 8A), forming a via hole thereto (FIG. 8B), and the copper foil layer 12 positioned outside of each flexible copper foil coverlay film 12 ') to form resist patterns 33 and 33' (FIG. 8C), after which the third and fourth wiring layers 34 and 34 'are formed using the resist patterns 33 and 33'.
  • the forming step FIG.
  • the copper foil layer 12 is removed from the portion where the third wiring layer 34 and the third wiring layer are not formed, and the fourth wiring layer 34 ′ and the fourth wiring layer are not formed.
  • the second upper wiring layer 41 and the second lower wiring layer 42 are formed by removing the copper foil layer 12 'of the portion. Forming step (FIG. 8E).
  • the double-sided flexible printed circuit board having the structure of FIG. 8A has an upper wiring layer 31 and a lower wiring layer 32 formed on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, and then each outer side surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer.
  • a coverlay adhesive layer comprising at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, and an acrylic resin, wherein the wiring layer on the substrate to be treated is wrapped in the following coverlay adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure ;
  • a flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And bonding the coverlay adhesive layer and the respective wiring layer to the two flexible copper foil coverlay films including; and a copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
  • FIG. 8A Detailed steps of the method for manufacturing a double-sided flexible circuit board having the structure of FIG. 8A are the same as those described above in the manufacture of the flexible circuit board having the structure of FIG. 4D or 6D, and the structure of FIGS. 8B to 8E will be described later. Manufacturing of the flexible circuit board having the same as described in the process described in Figures 6 and 7 described above will correspond to a method that can be applied by those skilled in the art as appropriate.
  • the present invention relates to a flexible circuit board for microwiring and a method of manufacturing the same.

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Abstract

The present invention relates to a fine-wiring flexible circuit board for forming double-sided wiring on both a top part and a bottom part of an insulation layer of a flexible board, and a manufacturing method therefor.

Description

미세배선용 연성 회로 기판 및 이의 제조방법Microcircuit flexible circuit board and manufacturing method thereof
본 발명은 미세배선용 연성 회로 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 보다 미세한 패턴을 형성할 수 있는 미세배선용 연성 회로 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible circuit board for microwiring and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a flexible circuit board for microwiring and a method of manufacturing the same.
전자 산업 기술 분야에서 집적도의 급속한 발전으로 소형 칩과 그 부품을 직접 탑재하는 표면 실장 기술의 발전에 의해 전자 부품들의 두께가 얇아지고 크기가 축소됨에 따라 보다 복잡하고 협소한 공간에서도 내장이 용이하도록 하는 것을 필요로 하고 있다.The rapid development of integration in the electronics industry has led to the development of surface mount technology that directly mounts small chips and their components, resulting in thinner and smaller electronic components, making them easier to embed in more complex and narrow spaces. I need something.
이러한 요구에 부응하여 연성 인쇄회로기판(FPCB)이 개발되고 있으며, 종래 기술에 따른 양면 연성 인쇄회로기판(FPCB)이 경우, 폴리이미드 등의 절연층 양면에 각각 동박층을 형성하고 이를 비아를 형성하여 양면의 배선을 연결한 후 상기 동박층을 에칭에 의해 각각 배선층을 형성하고 있다.In response to these demands, flexible printed circuit boards (FPCBs) have been developed. In the case of a double-sided flexible printed circuit board (FPCB) according to the prior art, copper foil layers are formed on both sides of an insulating layer such as polyimide, respectively, and vias are formed. After connecting the wirings on both sides, the copper foil layers were formed by etching the respective copper layers.
이에 관한 종래기술로서, 공개특허공보 제10-2004-0005404호에서는 동적층판을 UV 레이저드릴을 사용하여 롤투롤 방식으로 다수의 관통홀을 연속적으로 동적층판에 천공하고, 이를 금속도금을 통해 관통홀에 도전성을 부여하여 상,하 동박을 연결한 후, 동적층판의 상하면에 롤투롤 방식으로 드라이필름을 접착시키고 동적층판을 롤투롤 방식으로 노광, 현상 및 에칭하여 필요한 회로 패턴을 형성함으로써 양면 연성 인쇄회로기판을 제조하는 방법에 관해 기재되어 있다. As a related art, in Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2004-0005404, a plurality of through holes are continuously drilled in a dynamic layer plate by a roll-to-roll method using a UV laser drill in a dynamic layer plate, and the through holes are formed through metal plating. After connecting the upper and lower copper foils by applying conductivity to the upper and lower surfaces of the dynamic layer plate, the dry film is adhered to the upper and lower surfaces of the dynamic layer plate by using a roll-to-roll method, and the necessary circuit patterns are formed by exposing, developing and etching the dynamic layer plate by the roll-to-roll method. A method for manufacturing a circuit board is described.
앞서 기재된 선행문헌을 포함하는 종래기술을 도 1을 통해 보다 상세히 설명하면, 도 1a)에서는 폴리이미드(1)의 상부와 하부에 양면의 동박층(2, 2')이 형성된 연성 기판상에 드릴링을 하여 비아홀(3)을 형성하고, 도 1b)에서는 전해 도금 또는 무전해도금을 통해 상기 동박층의 상부 및 비아홀의 표면에 동 도금층(4)를 형성한 후, 도 1c)에서는 상기 동 도금층 상부 및 하부에 DFR 등의 포토레지스트 층(5)을 형성하고, 도 1 d)에서는 상기 포토레지스트층을 현상하여 패턴화하고, 이를 이용하여 도 1 e)에서는 패턴화된 포토레지스트층을 이용하여 상기 동박층(2, 2') 및 동 도금층(4)을 에칭을 통하여 원하고자 하는 배선형태로 패턴화한 이후에, 도 1 f)에서는 통상적으로 사용되는 커버레이층으로서 접착층(6) 및 폴리이미드층(7)을 포함하는 커버레이층을 상기 연성기판상의 동 도금층의 양면에 밀착시킴으로써, 커버레이층에 의해 양면이 절연된 양면 연성 인쇄회로기판을 형성할 수 있다. Referring to the prior art, including the prior art described above in more detail with reference to Figure 1, in Figure 1a) drilling on a flexible substrate formed on both sides of the copper foil layer (2, 2 ') on the top and bottom of the polyimide (1) The via hole 3 is formed, and in FIG. 1B), the copper plating layer 4 is formed on the upper surface of the copper foil layer and the surface of the via hole through electroplating or electroless plating. In FIG. 1C, the upper copper plating layer is formed. And forming a photoresist layer 5 such as DFR on the bottom, and developing and patterning the photoresist layer in FIG. 1 d), and using the patterned photoresist layer in FIG. 1 e). After patterning the copper foil layers 2, 2 'and the copper plating layer 4 to the desired wiring form through etching, the adhesive layer 6 and the polyimide are commonly used as coverlay layers in FIG. 1F). The coverlay layer comprising layer (7) is flexible By adhering to both surfaces of the copper plating layer on a board | substrate, the double-sided flexible printed circuit board in which both surfaces were insulated by the coverlay layer can be formed.
그러나, 이와 같은 종래 기술에 따른 양면 연성 인쇄회로기판의 경우에, 배선회로로서, 동박층(2, 2') 및 이의 상부에 형성되는 도금층(4)을 DFR 등의 포토레지스트를 이용한 에칭 공정(도 1 e)에 의해 원하고자 하는 배선 패턴을 형성하게 됨으로써, 패턴의 손실이 크게 발생하여 배선층의 상부와 하부간의 폭이 일정하지 않거나 또는 보다 미세한 패턴형성이 이루어지지 않는 단점을 가져, 보다 고밀도의 정밀한 배선형성에 있어 문제점을 가지고 있다. However, in the case of such a double-sided flexible printed circuit board according to the related art, as the wiring circuit, the copper foil layers 2 and 2 'and the plating layer 4 formed thereon are etched using a photoresist such as DFR ( Since the desired wiring pattern is formed by FIG. 1 e), a large loss of the pattern is generated, and thus, a width between the upper and lower portions of the wiring layer is not constant or a finer pattern is not formed. There is a problem in precise wiring formation.
따라서, 전자 부품의 고도 집적화에 대응하여, 연성 회로기판에 있어서도 배선 패턴에서의 보다 고밀도화가 가능한 미세배선용 연성 회로 기판에 관한 연구개발의 필요성은 지속적으로 요구되고 있는 실정이다. Therefore, in order to cope with the high integration of electronic components, the necessity of research and development on the flexible circuit board for micro wiring, which can be further increased in the wiring pattern even in the flexible circuit board, is continuously required.
따라서 상기 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 전자 부품의 집적화에 대응하여, 배선 패턴을 고밀도로 형성이 가능하며, 미세 배선 패턴의 형성이 가능한, 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세 배선용 연성 회로 기판 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 발명의 목적으로 한다. Accordingly, in order to solve the above problems, the present invention corresponds to the integration of electronic components, and enables wiring patterns to be formed at a high density, and enables formation of fine wiring patterns. It is an object of the present invention to provide a flexible circuit board for fine wiring and a method of manufacturing the same.
본 발명은 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판으로서, 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층; 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층; 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층; 및 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 포함하며, 상기 제1 배선층과 제2 배선층의 통전을 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판을 제공한다.The present invention provides a flexible circuit board for fine wiring for forming double-sided wiring on upper and lower portions of the following flexible substrate insulating layer, comprising: a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer, wherein the second wiring layer penetrates through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer. It provides a flexible circuit board for micro-wiring comprising at least one or more vias.
본 발명은 또한, 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판으로서, 하기 제1 배선층을 지지하는 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층; 및 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 포함하며, 상기 제1 배선층과 제2 배선층의 통전을 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판을 제공한다. The present invention also provides a flexible circuit board for fine wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, the second copper foil layer for supporting the following first wiring layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer, wherein the second wiring layer penetrates through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer. It provides a flexible circuit board for micro-wiring comprising at least one or more vias.
일 실시예로서, 상기 커버레이 접착층의 두께는 5 내지 50 um 의 범위일 수 있고, 상기 연성 기판 절연층은 두께가 5 um 내지 100 um 이고, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리아미드 중에서 선택되는 어느 하나의 재료를 포함할 수 있다. In one embodiment, the thickness of the coverlay adhesive layer may be in the range of 5 to 50 um, the flexible substrate insulating layer has a thickness of 5 um to 100 um, polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester It may include any material selected from sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, polyamide.
일 실시예로서, 상기 연성 기판 절연층과 제1 동박층 사이에는 두께 0.05 내지 5 um 의 범위로 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도금층을 포함할 수 있다. In one embodiment, the flexible substrate insulating layer and the first copper foil layer may include an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating in a thickness of 0.05 to 5 um.
일 실시예로서, 상기 제1 동박층은 두께 0.5 내지 25 um 의 범위로 무전해 도금 또는 전해도금에 의해 형성될 수 있다.In one embodiment, the first copper foil layer may be formed by electroless plating or electroplating in a thickness of 0.5 to 25 um.
일 실시예로서, 상기 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층;의 하부에 상기 기판 시트층의 상부 구조와 대칭으로 되도록 추가적으로, 상기 이형층 내지 제2 배선층이 순서대로 형성되어 있으며, 또한 비아가 형성될 수 있다. In an embodiment, the release layers to the second wiring layers may be sequentially formed below the substrate sheet layer made of the polymer material or the metal material so as to be symmetric with the upper structure of the substrate sheet layer. Can be formed.
또한, 본 발명은 하기 연성 기판 절연층의 상부에 상부 배선층이 형성되고 하부에는 하부 배선층이 각각 형성된 미세배선용 연성 회로 기판으로서, 하기 연성 기판 절연층과 커버레이 접착층의 하부에 미리 설정된 패턴에 따른 배선이 형성된 하부 배선층; 상기 하부 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 하부 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 미리 설정된 패턴에 따른 배선이 형성된 상부 배선층;을 포함하며, 상기 상부 배선층과 하부 배선층의 통전을 위해 상기 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판을 제공한다. In addition, the present invention is a flexible circuit board for micro-wiring in which an upper wiring layer is formed on an upper portion of the flexible substrate insulating layer and a lower wiring layer is formed on a lower portion of the flexible substrate. A lower wiring layer formed thereon; Is formed on the lower wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the lower wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure Coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And an upper wiring layer on which the wiring according to a predetermined pattern is formed on the flexible substrate insulating layer, wherein at least one via penetrates through the flexible substrate insulating layer and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the upper wiring layer and the lower wiring layer. It provides a flexible circuit board for micro-wiring comprising a.
또한, 본 발명은 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법으로서, a) 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층; 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층; 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층;을 포함하며, 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아홀;을 포함하는 연성 회로 기판의 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 형성하며, 상기 비아홀을 동도금하여 충진하는 단계; 및 b) 상기 제2 배선층 및 충진된 비아홀을 포함하는 연성 회로 기판에서 이형층과 제2 동박층사이를 분리하여, 상기 기판 시트층 및 이형층을 나머지 부분으로부터 탈착시키는 단계;를 포함하는 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention provides a method for producing a flexible circuit board for micro wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, a) a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And at least one via hole penetrating through the first copper foil layer, the flexible substrate insulation layer, and the coverlay adhesive layer, the first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulation layer. Forming a second wiring layer having a predetermined wiring formed on the first copper foil layer of the copper foil; and filling and filling the via hole with copper; And b) separating between the release layer and the second copper foil layer in the flexible circuit board including the second wiring layer and the filled via hole, and detaching the substrate sheet layer and the release layer from the remaining portions. Provided is a method of manufacturing a flexible circuit board.
또한 본 발명의 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법은 상기 b) 단계 이후에, c) 상기 제2 동박층과, 제2 배선층 및 제1 동박층에서의 제2 배선층이 형성되지 않은 부분을 제거함으로써, 연성기판 절연층의 상부와 하부에 상부 배선층 및 하부 배선층을 형성하는 단계;를 추가적으로 포함할 수 있고, 상기 c) 단계 이후에, d) 상기 상부 배선층 및 하부 배선층의 각각의 외측면에 보호층으로서 커버레이 필름층을 형성시키는 단계;를 추가적으로 포함할 수 있다.In addition, in the method of manufacturing a flexible circuit board for microwiring according to the present invention, after the step b), c) the second copper foil layer, the second wiring layer, and the second wiring layer in the first copper foil layer are removed. And forming an upper wiring layer and a lower wiring layer on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, and after the c), d) a protective layer on each outer surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer. Forming a coverlay film layer as a; may further include.
또한 본 발명은 상기 c) 단계 이후에, 상기 상부 배선층 및 하부 배선층의 각각의 외측면에, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 처리하고자 하는 기판상의 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 동박층;을 포함하는 2개의 연성 동박 커버레이 필름을 상기 커버레이 접착층과 각각의 배선층을 접착시키는 단계;를 추가적으로 포함할 수 있다. In addition, after the step c), the present invention includes at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, and an acrylic resin on each outer surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer, and the wiring layer on the substrate to be processed. A coverlay adhesive layer wrapped around the coverlay adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And bonding the two flexible copper foil coverlay films to the coverlay adhesive layer and each of the wiring layers, the copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
또한 본 발명은 상기 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법에 의해 제조되는 미세배선용 연성 회로 기판을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a flexible circuit board for micro-wiring manufactured by the method for producing a flexible circuit board for micro-wiring.
본 발명에 따른 미세 배선용 연성 회로 기판은 미세 배선용 연성 회로 기판내 연성기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선을 형성하는 경우에 종래 기술에 따른 양면 배선형성공정보다 단위 공정이 복잡함에도 불구하고 상기 공정의 복잡함을 충분히 커버할 수 있을 정도로 배선 패턴을 고밀도로 형성이 가능하며, 미세 배선 패턴의 형성이 가능한 장점이 있다. The flexible circuit board for a fine wiring according to the present invention has the above-mentioned process even though the unit process is more complicated than the double-sided wiring forming process according to the prior art in the case of forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer in the flexible wiring board for the micro-wiring The wiring pattern can be formed at a high density to sufficiently cover the complexity of the microstructure, and there is an advantage in that the formation of the fine wiring pattern is possible.
또한, 본 발명에 따른 미세 배선용 연성 회로 기판은 에칭공정을 진행하는데 있어, 처리하고자 하는 배선층이 커버레이 접착층에 의한 임베디드된 패턴 구조를 형성함으로써, 미세 배선층을 형성하기 위한 에칭공정을 배선이 절연층에 묻혀 있는 상태에서 진행할 수 있어, 연성 인쇄회로기판의 미세 패턴 제조에 유리한 장점이 있다. Further, in the flexible circuit board for fine wiring according to the present invention, in the etching process, the wiring layer to be processed forms an embedded pattern structure by the coverlay adhesive layer, whereby the wiring is an insulating process for forming the fine wiring layer. It can proceed in the state buried in, there is an advantage in the manufacture of fine patterns of the flexible printed circuit board.
도 1은 종래 기술에 따른 연성 인쇄회로기판(FPCB)의 제조방법을 도시한 그림이다.1 is a diagram illustrating a method of manufacturing a flexible printed circuit board (FPCB) according to the prior art.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 연성 동박 커버레이 필름의 단면을 나타낸 그림이다.2 is a view showing a cross-section of the flexible copper foil coverlay film according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 연성 동박 커버레이 필름을 이용하여 얻어지는 양면 연성 회로기판의 단면을 도시한 그림이다.3 is a diagram illustrating a cross section of a double-sided flexible circuit board obtained by using a flexible copper foil coverlay film according to an embodiment of the present invention.
도 4는 연성 동박 커버레이 필름을 양면 연성 회로기판에 이용하는 방법의 일 실시예를 도시한 그림이다. 4 is a diagram illustrating an embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film in a double-sided flexible circuit board.
도 5는 본 발명에 따른 도 4에 이어지는 단계로서, 연성 동박 커버레이 필름을 양면 연성 회로기판에 이용하는 방법의 일 실시예를 도시한 그림이다. 5 is a diagram illustrating an embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film in a double-sided flexible circuit board as a step following FIG. 4 according to the present invention.
도 6은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 의한 연성 동박 커버레이 필름을 양면 연성 회로기판에 이용하는 방법을 도시한 그림이다. 6 is a diagram illustrating a method of using a flexible copper foil coverlay film for a double-sided flexible circuit board according to another embodiment of the present invention.
도 7는 본 발명에 따른 도6의 이어지는 단계로서, 연성 동박 커버레이 필름을 양면 연성 회로기판에 이용하는 방법의 또 다른 일 실시예를 도시한 그림이다.FIG. 7 is a view showing another embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film for a double-sided flexible circuit board as a subsequent step of FIG. 6 according to the present invention.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 의한, 복층 구조를 갖는 양면 연성 회로기판의 제조방법을 도시한 그림이다. 8 is a diagram illustrating a method of manufacturing a double-sided flexible circuit board having a multilayer structure according to another embodiment of the present invention.
*도면을 이해하기 위한 부호의 설명** Explanation of symbols to understand drawings *
10, 10' : 연성기판 절연층 11, 11' : 커버레이 접착층10, 10 ': flexible board insulating layer 11, 11': coverlay adhesive layer
12, 12': 제1 동박층 16, 16' : 커버레이 필름내 접착층 12, 12 ': 1st copper foil layer 16, 16': adhesive layer in a coverlay film
17, 17' : 커버레이 필름내 절연층 20 : 기판 시트층 17, 17 ': insulating layer in coverlay film 20: substrate sheet layer
21, 21' : 이형층 22, 22' : 제2 동박층 21, 21 ': release layer 22, 22': second copper foil layer
23 : 포토레지스트 패턴 24, 24': 제1 배선층 23: photoresist pattern 24, 24 ': first wiring layer
28 : 포토레지스트 패턴 29, 29' : 제2 배선층 28: photoresist pattern 29, 29 ': second wiring layer
31 : 상부 배선층 32: 하부 배선층31: upper wiring layer 32: lower wiring layer
33, 33': 포토레지스트 패턴 34 : 제3 배선층33, 33 ': photoresist pattern 34: third wiring layer
34': 제4 배선층 41 : 제2 상부 배선층34 ': fourth wiring layer 41: second upper wiring layer
42 : 제2 하부 배선층 42: second lower wiring layer
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 양면 연성 동박 연성 회로 기판 및 이의 제조방법을 상세히 설명한다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 본 발명의 설명 과정에서 이용되는 숫자(예를 들어, 제1, 제2 등)는 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위한 식별기호에 불과하다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a double-sided flexible copper foil flexible circuit board and its manufacturing method. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention. Numbers (eg, first, second, etc.) used in the description process of the present invention are merely an identification symbol for distinguishing one component from another component.
본 발명은 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 연성 동박 커버레이 필름을 제공한다. The present invention provides a flexible copper foil coverlay film for forming double-sided wiring on the top and bottom of the flexible substrate insulating layer.
일반적으로 커버레이 필름은 배선 부분을 보호할 목적으로 사용되는 것으로서, 폴리이미드 수지 등의 합성 수지제의 커버레이용 필름재와 접착제층을 적층하여 형성되어 있다. 이러한 커버레이 필름의 경우 인쇄회로기판의 배선부분을 덮기 위해 열 프레스 등의 방법을 이용하여 회로 기판의 배선부에 커버레이용 필름의 접착제층쪽을 닿도록 하여 덮을 수 있다. Generally, a coverlay film is used for the purpose of protecting a wiring part, and is formed by laminating | stacking the film material for coverlays made from synthetic resins, such as a polyimide resin, and an adhesive bond layer. In the case of such a coverlay film can be covered by touching the adhesive layer side of the coverlay film to the wiring portion of the circuit board using a method such as a hot press to cover the wiring portion of the printed circuit board.
여기서, 상기 접착제층은 구리 배선 등의 회로 배선 패턴과 커버레이용 필름재의 양방에 대해 높은 접착성이 요구되며, 커퍼레이용 필름재의 경우에 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리아미드 등의 절연재가 사용될 수 있다. Here, the adhesive layer is required to have high adhesion to both the circuit wiring patterns such as copper wiring and the film material for coverlay, and in the case of the film material for copper lay, polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone Insulation materials, such as polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, and polyamide, may be used.
한편 본 발명에서 사용되는 연성 동박 커버레이 필름의 경우 종래에 사용되는 커버레이 필름에서의 상층인 폴리이미드 등의 절연재의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층을 포함하는 것을 기술적 특징으로 한다. On the other hand, the flexible copper foil coverlay film used in the present invention is characterized by including a first copper foil layer formed by plating on top of an insulating material such as polyimide, which is an upper layer in a conventional coverlay film.
본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름의 구조를 도 2에 도시하였다. The structure of the flexible copper foil coverlay film which concerns on this invention is shown in FIG.
상기 도 2에서 볼 수 있듯이, 본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름은 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 처리하고자 하는 기판상의 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층(11); 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층(10); 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층(12);을 포함한다. As shown in FIG. 2, the flexible copper foil coverlay film according to the present invention includes at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, and an acrylic resin, and the wiring layer on the substrate to be treated is applied to the following coverlay adhesive layer. A coverlay adhesive layer 11 wrapped and insulated to form an embedded pattern structure; A flexible substrate insulating layer 10 formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And a first copper foil layer 12 formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
본 발명에서는 상기 연성 동박 커버레이 필름내 연성기판 절연층(10)을 기준으로 이의 상부와 하부에 원하는 배선층을 형성될 수 있으며, 도 3에서는 연성 동박 커버레이 필름을 이용하여 최종적으로 얻어지는 양면 연성 회로기판의 단면을 도시하였다. In the present invention, a desired wiring layer may be formed on the upper and lower portions of the flexible copper foil coverlay film based on the flexible substrate insulating layer 10, and in FIG. 3, a double-sided flexible circuit finally obtained by using the flexible copper foil coverlay film. The cross section of the substrate is shown.
보다 구체적으로는 도 3에 도시된 바와 같이 상기 연성기판 절연층(10)의 상부에, 제1 동박층(이후에 설명) 및 상기 제1 동박층의 상부에 형성된 배선층으로부터 유래된 상부 배선층(31)이 형성되며, 상기 연성기판 절연층(10)의 하부에 커버레이 접착층(11)과 상기 커버레이 접착층의 하부에 제2 동박층(이후에 설명) 및 상기 제2 동박층의 상부에 형성된 제1 배선층으로부터 유래된 하부 배선층(32)이 형성되고, 상기 상부 배선층과 하부 배선층의 각각의 바깥쪽에 통상적인 커버레이 필름(16, 16', 17, 17')이 적층되어 양면 연성 회로기판이 제조될 수 있다.More specifically, as shown in FIG. 3, the upper wiring layer 31 derived from the first copper foil layer (described later) and the wiring layer formed on the first copper foil layer on the flexible substrate insulating layer 10. ) Is formed, and the cover layer adhesive layer 11 and the second copper foil layer (described later) and the second copper foil layer formed on the lower portion of the cover layer adhesive layer below the flexible substrate insulating layer 10 A lower wiring layer 32 derived from one wiring layer is formed, and conventional coverlay films 16, 16 ', 17, and 17' are laminated on each outer side of the upper wiring layer and the lower wiring layer to manufacture a double-sided flexible circuit board. Can be.
한편, 본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름의 커버레이 접착층(11)은 프레스를 통해 연성 회로 기판의 회로면인 금속 배선층에 직접 만나서 접착되어지는 부분으로써 프레스 공정에서 적당한 접착제의 흐름을 통해 배선층의 회로를 감싸면서 절연되어 임베디드(embeded)를 해주는 역할을 하며, 이러한 특징을 통해 이후 에칭공정에서 배선층의 폭(Width)의 손실을 없앨 수 있다. Meanwhile, the coverlay adhesive layer 11 of the flexible copper foil coverlay film according to the present invention is a portion which is directly bonded to a metal wiring layer, which is a circuit surface of a flexible circuit board, through a press, and is bonded. It is insulated while enclosing the circuit and serves as an embedded. With this feature, it is possible to eliminate the loss of the width of the wiring layer in the subsequent etching process.
여기서 상기 '임베디드'란 부품, 소자 또는 배선 등이 특정한 장치내에 내장된 상태를 의미하며, 여기에서는 상기 인쇄회로기판내 금속 배선층의 회로를 프레스 공정 등의 이후공정에서 커버레이 접착층내 접착제의 흐름에 의해 절연시켜 감싸면서 내장되도록 하는 것을 의미한다. Herein, the term 'embedded' refers to a state in which a part, an element, or a wiring is embedded in a specific device, wherein the circuit of the metal wiring layer in the printed circuit board is applied to the flow of the adhesive in the coverlay adhesive layer in a subsequent process such as a pressing process. Insulation by wrapping means to be built.
이러한 방식에 의한, 본 발명에 따라 동박 커버레이 필름을 이용하여 얻어지는 양면 연성 회로기판은 종래기술에 따라 동박층을 에칭 등을 통해 배선층을 형성하는 방식보다 에칭공정을 진행하는데 있어, 처리하고자 하는 배선층이 커버레이 접착층에 의한 임베디드된 패턴 구조를 형성함으로써, 미세 배선층을 형성하기 위한 에칭공정을 배선이 절연층에 묻혀 있는 상태에서 진행할 수 있어, 연성 인쇄회로기판의 미세 패턴을 형성하는데 있어서 유리한 장점이 있다. According to the present invention, the double-sided flexible circuit board obtained by using the copper foil coverlay film according to the present invention is a wiring layer to be processed in proceeding an etching process rather than a method of forming a wiring layer through etching or the like according to the prior art. By forming the embedded pattern structure by the coverlay adhesive layer, the etching process for forming the fine wiring layer can be performed while the wiring is buried in the insulating layer, which is advantageous in forming the fine pattern of the flexible printed circuit board. have.
이러한 커버레이 접착층은 두께가 5 내지 50 um 의 범위를 가질 수 있다. The coverlay adhesive layer may have a thickness in the range of 5 to 50 um.
또한, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함할 수 있다. In addition, it may include at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin.
보다 구체적으로, 상기 커버레이 접착층은 프레스 후에 분자 간의 가교를 통해 경화되는 기능을 할 수 있도록 가교 가능한 기능기를 가진 열경화성 수지가 포함될 수 있고, 이를 위해 일반적으로는 폴리이미드 필름에 에폭시 고분자 수지 또는 아크릴 고분자 수지를 포함하여 이루어질 수 있다. More specifically, the coverlay adhesive layer may include a thermosetting resin having a crosslinkable functional group so as to function to be cured through crosslinking between molecules after pressing, and for this purpose, an epoxy polymer resin or an acrylic polymer is generally included in a polyimide film. It may comprise a resin.
여기서, 상기 에폭시 수지는 비스페놀 A형 에폭시(bisphenol-A type epoxy), 비스페놀 F형 에폭시(bisphenol-F type epoxy) 및 페놀 노볼락형 에폭시(phenol novolac type epoxy) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. Here, the epoxy resin may include at least one of bisphenol A type epoxy, bisphenol F type epoxy, and phenol novolac type epoxy.
또한 흐름성을 제어할 수 있는 열가소성 수지, 예를 들어 아크릴로니트릴-부타디엔공중합체 등이 포함할 수 있고, 전자 부품으로써 만족되어야 하는 수준의 난연성을 갖도록 하기 위해 브롬계 난연제 또는 인계 난연제가 부가되어 질 수 있다. It may also include thermoplastic resins capable of controlling flow, such as acrylonitrile-butadiene copolymer, and the like, and bromine-based flame retardants or phosphorus-based flame retardants may be added to have a level of flame retardance that must be satisfied as an electronic component. Can lose.
또한 상기 접착층은 필러 및 경화제를 포함할 수 있고, 필러(filler)는 무기계 필러(Inorganic filler) 및 인 타입 필러(phosphine type filler) 중 적어도 하나를 포함하고, 경화제(hardener)는 아민 타입 경화제(amine type hardener), 페놀 타입 경화제(phenol type hardener)및 산무수물 타입 경화제(Anhydride type hardener) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In addition, the adhesive layer may include a filler and a curing agent, the filler may include at least one of an inorganic filler and an phosphine type filler, and the hardener may be an amine type curing agent. at least one of a type hardener, a phenol type hardener, and an acid anhydride type hardener.
상기 접착층의 예시적인 구성으로서, 열가소성 수지 100 중량부에 대하여, 에폭시 수지 100 ~ 250 중량부, 필러 40 ~ 100 중량부, 경화제 20 ~ 50 중 량부를 포함할 수 있다. As an exemplary configuration of the adhesive layer, 100 to 250 parts by weight of the thermoplastic resin, may include 100 to 250 parts by weight of epoxy resin, 40 to 100 parts by weight of filler, 20 to 50 parts by weight of the curing agent.
또한, 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층(10)은 두께가 5 um 내지 100 um 이고, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리아미드 중에서 선택되는 어느 하나의 재료를 포함할 수 있고, 바람직하게는 폴리이미드가 사용될 수 있다.In addition, the flexible substrate insulating layer 10 formed on the upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material has a thickness of 5 um to 100 um, polyimide, polyester, polyphenylene sulphate, polyester sulfone, and polyethylenol. It may include any material selected from ketones, aramids, polycarbonates, polyarylates, polyamideimides, polyamides, and preferably polyimides may be used.
또한, 상기 연성 기판 절연층은 필요에 의해서 가수분해, 코로나 방전, 저온 플라즈마, 물리적 표면 요철 처리, 이접착 코팅 처리 등의 표면 처리를 실시할 수 있다. In addition, the flexible substrate insulating layer may be subjected to surface treatment such as hydrolysis, corona discharge, low temperature plasma, physical surface irregularities treatment, and easily adhesive coating treatment, if necessary.
한편, 상기 연성 기판 절연층(10)의 상부에 형성된 제1 동박층(12)은 도금에 의해 형성될 수 있다. 이 경우에 상기 제1 동박층은 전해도금 또는 무전해도금 방식에 의해 형성가능하며, 연성기판 절연층상에 직접 형성되는 경우에는 무전해 도금에 의해 형성되는 것이 바람직하다. Meanwhile, the first copper foil layer 12 formed on the flexible substrate insulating layer 10 may be formed by plating. In this case, the first copper foil layer may be formed by electroplating or electroless plating, and, when directly formed on the flexible substrate insulating layer, is formed by electroless plating.
한편, 본 발명에서 상기 연성 기판 절연층과 제1 동박층 사이에는 두께 0.05 내지 5 um, 바람직하게는 0.05 내지 3 um 의 범위로 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도금층(미도시)을 포함할 수 있다. Meanwhile, in the present invention, an electroless nickel plating layer (not shown) formed between the flexible substrate insulating layer and the first copper foil layer by electroless nickel plating has a thickness of 0.05 to 5 um, preferably 0.05 to 3 um. It may include.
상기 무전해 니켈 도금층의 경우 두께가 0.05 um이하인 경우에 무전해도금층상에 형성될 전해도금층과의 밀착력이 떨어질 수 있는 단점을 가지며, 또한 두께가 .5 um 이상인 경우에는 연성이 감소하여 휨에 의한 크렉이 발생할 수 있는 단점을 가질 수 있어, 앞서 기재된 범위내의 두께를 가지는 것이 바람직하다. In the case of the electroless nickel plated layer, when the thickness is 0.05 um or less, the adhesion with the electroplating layer to be formed on the electroless plated layer may be reduced, and when the thickness is greater than .5 um, the ductility decreases due to warpage. Since cracks may have disadvantages, it is desirable to have a thickness within the above-described range.
본 발명에서 상기 무전해 니켈 도금층을 형성하게 되면 니켈 도금층의 상부에 형성되는 제1 동박층은 전해 도금 또는 무전해 도금에 의해 형성가능하며, 바람직하게는 상기 니켈 무전해도금층이 형성되는 경우에 제1 동박층은 전해도금에 의해 형성될 수 있다. When the electroless nickel plating layer is formed in the present invention, the first copper foil layer formed on the nickel plating layer may be formed by electrolytic plating or electroless plating, and preferably, when the nickel electroless plating layer is formed, 1 The copper foil layer may be formed by electroplating.
상기 무전해 니켈 도금층은 연성 기판 절연층을, 금속염을 포함하는 염기성 조건하에서 침지 또는 스프레이를 통해 절연층의 미세 조도(roughness)를 형성하는 전처리 단계와, 상기 전처리 단계 이후에 니켈 무전해 도금을 위한 시드층 형성 단계, 및 상기 시드층이 형성된 절연층의 상부에 무전해 니켈도금층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.The electroless nickel plating layer may be a pretreatment step of forming a roughness of the insulation layer by immersing or spraying a flexible substrate insulation layer under basic conditions including a metal salt, and for nickel electroless plating after the pretreatment step. The method may include forming a seed layer, and forming an electroless nickel plating layer on the insulating layer on which the seed layer is formed.
예시적으로, 상기 전처리 단계에서의 염기성 조건하에서의 전처리 단계로서는 NH3, KOH, NaOH, 유기 아민계로부터 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 알카리 수용액에 침지 또는 스프레이한 후 건조함으로써, 연성 기판의 표면적을 증가시키며 도금층과의 밀착력을 강화시켜 줄 수 있고, 이때 사용되는 알카리 수용액은 0.01 ~ 1 M 농도의 수용액일 수 있다. For example, as the pretreatment step under basic conditions in the pretreatment step, the surface area of the flexible substrate may be increased by immersion or spraying in an alkaline aqueous solution including at least one selected from NH 3, KOH, NaOH, and an organic amine, and then drying. And it can enhance the adhesion with the plating layer, wherein the alkaline aqueous solution used may be an aqueous solution of 0.01 ~ 1 M concentration.
상기 전처리 단계에서의 수용액내 포함되는 금속염은 전이금속염 또는 Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, Bi 중에서 선택되는 어느 하나의 금속염의 수용액이 사용가능하다. 이 경우에 상기 금속염은 전이금속 또는 Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, Bi 중에서 선택되는 어느 하나의 금속 할라이드, 금속 설페이트, 금속 아세테이트 중에서 선택되는 어느 하나일 수 있다.As the metal salt contained in the aqueous solution in the pretreatment step, an aqueous solution of a transition metal salt or any one of metal salts selected from Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, and Bi may be used. In this case, the metal salt may be any one selected from a transition metal or any one metal halide, metal sulfate, or metal acetate selected from Ga, Ge, In, Sn, Sb, Pb, and Bi.
상기 금속염을 포함하는 염기성 수용액내 연성기판의 침지시간은 10초 내지 30분의 범위를 가질 수 있고, 바람직하게는 30초 내지 10분의 범위를 가질 수 있다. 이 경우에 침지되는 수용액의 온도는 0 도 내지 40도의 범위를 가질 수 있으며, 바람직하게는 상온(25도)에서 침지할 수 있다.Immersion time of the flexible substrate in the basic aqueous solution containing the metal salt may have a range of 10 seconds to 30 minutes, preferably 30 seconds to 10 minutes. In this case, the temperature of the aqueous solution to be immersed may have a range of 0 degrees to 40 degrees, preferably immersed at room temperature (25 degrees).
본 발명에서 상기 시드층 형성을 위한 전처리 단계를 수행하는 경우에, 상기 전처리 단계를 수행하지 않고 시드층을 형성하여 무전해 니켈 도금층을 형성하는 방법보다 무전해 니켈 도금층과 기판사이의 밀착력이 보다 향상될 수 있다. In the present invention, when the pretreatment step for forming the seed layer is performed, the adhesion between the electroless nickel plated layer and the substrate is more improved than the method of forming the seed layer without performing the pretreatment step to form the electroless nickel plated layer. Can be.
한편, 상기 전처리 단계 이후에 니켈 무전해 도금을 위한 시드층 형성 단계는 연성 기판 절연층에 무전해 니켈 도금층이 신속히 형성되며, 또한 연성 기판 절연층과 적절한 강도를 형성하여 결합될 수 있도록 도와주는 기능을 한다. 이때, 상기 시드층의 성분으로서는 Au, Ag, Pt, Cu, Ni, Fe, Pd, Co 또는 이들의 합금에서 선택되는 어느 하나의 금속 성분을 포함할 수 있고, 바람직하게는 상기 시드 금속층으로서 바람직하게는 팔라듐 염을 사용할 수 있다. 이 경우에 상기 시드 금속 성분인 팔라듐이외의 다른 전이금속성분을 추가로 함유할 수 있다. On the other hand, after the pretreatment step, the seed layer forming step for nickel electroless plating may be formed to quickly form an electroless nickel plating layer on the flexible substrate insulating layer, and to form a suitable strength with the flexible substrate insulating layer to help combine it. Do it. At this time, the component of the seed layer may include any one metal component selected from Au, Ag, Pt, Cu, Ni, Fe, Pd, Co or their alloys, preferably as the seed metal layer Palladium salt can be used. In this case, it may further contain other transition metal components other than palladium which is the seed metal component.
본 발명에서 상기 시드층의 형성 단계는 상기 전처리 단계를 거친 연성 기판절연층을 Au, Ag, Pt, Cu, Ni, Fe, Pd, Co 또는 이들의 합금에서 선택되는 어느 하나의 금속 염과 선택적으로, 상기 금속염을 환원시키기 위한 환원제가 포함된 수용액에 침지하는 것을 포함한다. In the present invention, the forming of the seed layer may be performed by selectively converting the flexible substrate insulating layer subjected to the pretreatment step into any one metal salt selected from Au, Ag, Pt, Cu, Ni, Fe, Pd, Co, or an alloy thereof. , Immersing in an aqueous solution containing a reducing agent for reducing the metal salt.
이때 상기 수용액내 연성기판의 침지시간은 10초 내지 30분의 범위를 가질 수 있고, 바람직하게는 30초 내지 10분의 범위를 가질 수 있다. 이 경우에 침지되는 수용액의 온도는 0 도 내지 40도의 범위를 가질 수 있으며, 바람직하게는 상온(25도)에서 침지할 수 있다.In this case, the immersion time of the flexible substrate in the aqueous solution may have a range of 10 seconds to 30 minutes, preferably 30 seconds to 10 minutes. In this case, the temperature of the aqueous solution to be immersed may have a range of 0 degrees to 40 degrees, preferably immersed at room temperature (25 degrees).
본 발명에서 상기 연성기판에 시드층 형성을 위한 전처리 단계, 또는 시드층을 형성하는 단계는 기판을 수용액에 침지한 이후에 침지된 기판에 초음파를 가함으로써, 반응을 촉진시키고, 도금층과의 밀착성을 향상시킬 수 있다. In the present invention, the pretreatment step for forming the seed layer on the flexible substrate, or the step of forming the seed layer is by immersing the substrate in an aqueous solution and then applying an ultrasonic wave to the immersed substrate, thereby promoting a reaction and adhesion to the plating layer Can be improved.
이후의 무전해 니켈 도금층의 형성은 니켈염, 환원제, 착제 등을 이용하여 상기 기판상에 무전해 도금층을 형성할 수 있다. Subsequently, the electroless nickel plating layer may be formed using a nickel salt, a reducing agent, a complex, or the like, to form an electroless plating layer on the substrate.
상기 무전해 도금은 니켈이온이 포함된 화합물과 환원제가 혼합된 도금액을 사용하여 기판 등에 니켈을 환원 석출시키는 것으로 니켈이온을 환원제에 의해 환원시킴으로써 진행될 수 있다. The electroless plating may be performed by reducing nickel ions with a reducing agent by reducing and depositing nickel on a substrate or the like using a plating solution in which a compound containing nickel ions and a reducing agent are mixed.
상기 무전해 도금은 환원제, 첨가제, 안정화물을 포함하는 도금액이 들어 있는 도금조에 담가 필요한 두께의 무전해 도금층이 상기 연성기판 절연층상에 도금되도록 1 분 내지 60분 동안 도금을 행하며, 이 때 환원제의 비제한적인 예는 포름알데히드, 히드라진 또는 그 염, 황산코발트(Ⅱ), 포르말린, 글루코오즈, 글리옥실산, 히드록시알킬술폰산 또는 그 염, 하이포 포스포러스산 또는 그 염, 수소화붕소화합물, 디알킬아민보란 등이 있으며, 이 이외에도 금속의 종류에 따라 다양한 환원제가 사용될 수 있다.The electroless plating is performed for 1 to 60 minutes so that an electroless plating layer having a thickness required to be immersed in a plating bath containing a plating solution including a reducing agent, an additive, and a stabilizer is plated on the flexible substrate insulating layer. Non-limiting examples include formaldehyde, hydrazine or salts thereof, cobalt sulfate (II), formalin, glucose, glyoxylic acid, hydroxyalkylsulfonic acid or salts thereof, hypophosphoric acid or salts thereof, boron hydride compounds, dialkyls Amine borane and the like, in addition to the various reducing agents may be used depending on the type of metal.
나아가, 상기의 무전해 도금액은 니켈염을 포함하는 용액이 액상에서 환원되어 용액이 불안정하게 되는 것을 방지하기 위한 착화제 및 상기 환원제가 산화되도록 무전해 도금액을 적당한 pH로 유지시키는 pH 조절제를 포함할 수 있다.  Furthermore, the electroless plating solution may include a complexing agent for preventing the solution containing nickel salt from being reduced in the liquid phase and a pH adjusting agent for maintaining the electroless plating solution at an appropriate pH so that the reducing agent is oxidized. Can be.
본 발명에 따른 연성 기판 절연층 및 커버레이 접착층 및 제1 동박층의 예시적인 구성으로서, 폴리이미드 필름 또는 아라미드 필름 등의 절연성 필름(5 내지 100㎛)/접착제 층(5 내지 50㎛)/무전해 니켈 도금층(0.05 내지 5 ㎛))/제1 동박층(0.5 내지 25 ㎛)의 범위를 가질 수 있다. As an exemplary configuration of the flexible substrate insulating layer, the coverlay adhesive layer and the first copper foil layer according to the present invention, an insulating film (5 to 100 μm) / adhesive layer (5 to 50 μm) / electrostatic such as a polyimide film or an aramid film Sea nickel plating layer (0.05 to 5 ㎛) / the first copper foil layer (0.5 to 25 ㎛) may have a range.
한편, 상기 연성 동박 커버레이 필름은 상기 커버레이 접착층(11)을 보호하는 보호 필름으로서 이형필름 또는 이형지를 추가적으로 포함할 수 있고, 실제 사용하기 직전에 상기 보호필름을 제거하여 현장에서 즉시 사용할 수 있다. On the other hand, the flexible copper foil coverlay film may further include a release film or a release paper as a protective film to protect the coverlay adhesive layer 11, can be used immediately in the field by removing the protective film immediately before actual use. .
본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름은 보다 고밀도의 미세패턴을 갖는 양면 연성 인쇄회로기판의 제조에 응용될 수 있다. The flexible copper foil coverlay film according to the present invention can be applied to the manufacture of a double-sided flexible printed circuit board having a fine pattern of higher density.
도 4는 본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름을 양면 연성 회로기판에 이용하는 방법의 일 실시예를 도시한 그림으로서, 상기 연성 동박 커버레이 필름내의 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판(도 4d) 의 제조에 이용될 수 있다. 4 is a view showing an embodiment of a method of using a flexible copper foil coverlay film according to the present invention for a double-sided flexible circuit board, and forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer in the flexible copper foil coverlay film. It can be used in the manufacture of a flexible circuit board (Fig. 4d) for fine wiring.
상기 도 4d로 표시되는 미세배선용 연성 회로 기판은, 보다 상세하게는, 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층(20); 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층(21); 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층(22); 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층(24); 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층(11); 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층(10); 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층(12);을 포함한다. The microcircuit flexible circuit board shown in FIG. 4D may further include a substrate sheet layer 20 made of a polymer material or a metal material; A release layer 21 formed on the upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer 22 formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer 24 having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure Coverlay adhesive layer 11; A flexible substrate insulating layer 10 formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And a first copper foil layer 12 formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
상기 도 4d로 표시되는 미세배선용 연성 회로 기판은 아래에 기재된 a) 내지 d) 단계에 의해 제조될 수 있다. The flexible circuit board for microwiring shown in FIG. 4D may be manufactured by steps a) to d) described below.
이는 보다 구체적으로, a) 본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름을 준비하는 단계로서, 이는 앞서 기재된 바와 같이, a) 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 하기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층;(11); 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층(10); 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층(12);을 포함하는 연성 동박 커버레이 필름을 준비하는 단계; b) 시트층(20); 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층(21); 및 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층(22);을 포함하는 기판 시트를 준비하는 단계; c) 상기 제2 동박층 상에 미리 설정된 배선을 형성하도록 제1 배선층(24)을 형성하는 단계; 및 d) 상기 제1 배선층(24)상에, a) 단계에서 준비된 연성 동박 커버레이 필름을 커버레이 접착층(11)과 제1 배선층(24)을 마주보도록 접착함으로써, 미세배선용 연성 회로 기판을 제조하는 단계;를 포함한다. This is more specifically, a) preparing a flexible copper foil coverlay film according to the present invention, which comprises a) at least one polymer material selected from a) a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, as described above, A coverlay adhesive layer in which the first wiring layer is wrapped around the coverlay adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure; A flexible substrate insulating layer 10 formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And preparing a flexible copper foil coverlay film comprising a first copper foil layer 12 formed on the flexible substrate insulating layer by plating. b) sheet layer 20; A release layer 21 formed on the upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; And a second copper foil layer 22 formed on the entire upper surface of the release layer. c) forming a first wiring layer 24 to form a predetermined wiring on the second copper foil layer; And d) bonding the flexible copper foil coverlay film prepared in step a) to the coverlay adhesive layer 11 and the first wiring layer 24 so as to face the first wiring layer 24 so as to face the first wiring layer 24. It comprises; a.
여기서, 상기 a) 단계는 앞서 상술하였으며, b) 단계에서의 기판시트를 구체적으로 설명한다. Here, step a) has been described above, and the substrate sheet in step b) will be described in detail.
상기 b) 단계에서의 기판시트의 구성을 도 4a에 도시하였으며, 이는 기판 시트층(20); 이형층(21); 및 제2 동박층(22);을 포함하여 이루어진다. The configuration of the substrate sheet in step b) is shown in Figure 4a, which includes a substrate sheet layer 20; Release layer 21; And a second copper foil layer 22.
상기 기판 시트층(20)은 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리이미드, FR-4 등의 절연성을 가지는 고분자 재료 또는 상기 절연성을 가지는 고분자 재료에 구리 호일(Cu Foil)등을 부착한 재료를 포함하며, 바람직하게는 상기 고분자 재료 또는 금고분자 재료에 구리 호일(Cu Foil)등을 부착한 재료로 이루어지고, 두께는 20 내지 2000 um 의 범위를 가질 수 있으나 이에 제한되지는 않는다.The substrate sheet layer 20 may include a polymer material having an insulating property such as polyester, polyamide, polyimide, FR-4, or the like, in which a copper foil or the like is attached to the insulating material, Preferably, the material is made of a material in which copper foil (Cu Foil) is attached to the polymer material or the safe molecule material, and may have a thickness in a range of 20 to 2000 um, but is not limited thereto.
상기 기판 시트층(20)은 연성 양면인쇄회로기판을 제조하기 위하여 사용되지만 최종적으로는 상기 이형층(21)과 함께 제거되는 구성요소에 해당한다. The substrate sheet layer 20 is used to fabricate a flexible double-sided printed circuit board, but finally corresponds to a component that is removed together with the release layer 21.
한편, 상기 이형층(21)은 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층(20)과 함께 제거되기 위하여, 기판 시트층(20)쪽과의 접착강도가 상기 제2 동박층(22)쪽과의 접착강도보다 강하도록 제조되어야 하며, 상기 이형층과 제2 동박층의 접합면은 향후 분리가 용이하도록 표면처리되거나 또는 이형제가 포함될 수 있다. On the other hand, the release layer 21 is formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer, in order to be removed together with the substrate sheet layer 20, the adhesive strength with the substrate sheet layer 20 side of the second copper foil layer 22 It should be made to be stronger than the adhesive strength with the side, the bonding surface of the release layer and the second copper foil layer may be surface-treated or release agent for easy separation in the future.
상기 이형층은 이형성 고분자나 금속층 또는 화학약품 등의 표면처리를 통해 이루어질 수 있으며, 두께는 0.1 내지 100 um 의 범위를 가질 수 있고, 바람직하게는 0.3 내지 30 um의 범위를 가질 수 있다. The release layer may be made through a surface treatment of a release polymer or a metal layer or chemicals, the thickness may have a range of 0.1 to 100 um, preferably may have a range of 0.3 to 30 um.
한편, 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층은 두께 0.3 내지 8 um의 범위를 가지며, 바람직하게는 0.5 내지 5 um의 범위를 가진다. On the other hand, the second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer has a thickness of 0.3 to 8 um, preferably has a range of 0.5 to 5 um.
상기 제2 동박층(22)은 제1 동박층(12)과 마찬가지로 무전해 도금 또는 전해도금에 의해 형성될 수 있으며, 바람직하게는 무전해 도금에 의해 형성될 수 있다. 또한 상기 제2 동박층(22)은 미리 설정된 배선을 형성하도록 이후에 형성될 제1 배선층(24)을 지지하며 상기 제1 배선층과 통전되는 금속층에 해당된다. Like the first copper foil layer 12, the second copper foil layer 22 may be formed by electroless plating or electroplating, and preferably, may be formed by electroless plating. In addition, the second copper foil layer 22 supports a first wiring layer 24 to be formed later to form a predetermined wiring, and corresponds to a metal layer that is energized with the first wiring layer.
본 발명에서의 제2동박층(22)의 두께를 얇게 하지 않는 경우에, 후속공정에서 제2동박층(22)을 제거하는 식각 과정에서 제거될 두께가 커지는 단점이 포함될 수 있다. 따라서, 상기 제2동박층(22)의 두께를 이형층보다 얇거나, 두께가 동일한 동박층으로 사용함으로써, 제2동박층(22)을 얇게 유도하여, 이후 공정에서의 상기 제2동박층(22)을 제거하는 과정을 보다 단축시킴으로써 생산성 증대 효과를 구현할 수 있다. In the case where the thickness of the second copper foil layer 22 in the present invention is not thinned, the thickness to be removed in the etching process of removing the second copper foil layer 22 in a subsequent process may be increased. Therefore, by using the thickness of the second copper foil layer 22 as a copper foil layer that is thinner than or equal to the release layer, the second copper foil layer 22 is made thin, and the second copper foil layer ( The productivity increase can be realized by shortening the process of eliminating 22).
한편, 상기 c) 단계인 제2 동박층 상에 미리 설정된 배선을 형성하도록 제1 배선층(24)을 형성하는 단계는 도 4b와 도 4c를 통해 설명한다. Meanwhile, the step of forming the first wiring layer 24 to form a predetermined wiring on the second copper foil layer, which is the step c), will be described with reference to FIGS. 4B and 4C.
도 4b는 상기 b) 단계에서의 기판시트상에 제1 배선층(24)을 형성하기 위해 레지스트 패턴(23)을 형성하는 것을 도시한 그림이다. 이를 위해 상기 제2 동박층 상부에 건식 레지스트 필름(film)층을 형성하고 이를 노광, 현상을 포함하는 리소그래피(lithography) 과정을 통하여 원하고자 하는 레지스트 패턴(23)을 형성한다.4B is a diagram showing the formation of a resist pattern 23 to form the first wiring layer 24 on the substrate sheet in step b). To this end, a dry resist film layer is formed on the second copper foil layer, and a resist pattern 23 desired is formed through a lithography process including exposure and development.
이후에 상기 레지스트 패턴에 노출된 제2동박층(22) 부분을 동도금한 후, 상기 레지스트 패턴(23)을 스트립(strip) 제거함으로써 도 4c에 도시된 바와 같이 기판시트상의 제2동박층 상부에 제1 배선층(24)을 형성할 수 있다. Subsequently, after copper plating the portion of the second copper foil layer 22 exposed to the resist pattern, stripping the resist pattern 23 is performed on the second copper foil layer on the substrate sheet as shown in FIG. 4C. The first wiring layer 24 can be formed.
이때, 동도금 대신에 스퍼터링과 같은 증착 과정이 도입될 수도 있으나, 공정상의 경제성을 고려하는 경우에 도금 방식을 이용하는 것이 유리하다. In this case, a deposition process such as sputtering may be introduced instead of copper plating, but it is advantageous to use a plating method in consideration of process economics.
종래기술에 따른 미세배선층을 형성하는 경우에 통상적으로 동박층을 포토레지스트 방식을 이용하여 에칭을 통하여 미세배선층을 형성할 수 있으나, 이 경우에 구리층의 선택적 식각이 상당히 어려운 점과 미세 패턴의 에칭의 어려움을 해결하기 위해 본 발명에서는 보다 미세한 선폭을 가질 수 있도록, 상기 제1 배선층(24)을 도금 방식 또는 증착 방식에 의해 형성한다. In the case of forming the micro wiring layer according to the prior art, it is possible to form the micro wiring layer by etching the copper foil layer using a photoresist method, but in this case, the selective etching of the copper layer is quite difficult and the etching of the fine pattern is performed. In order to solve the difficulty of the present invention, the first wiring layer 24 is formed by a plating method or a deposition method so as to have a finer line width.
이를 통해 상기 제1 배선층의 상층부와 하부간의 편차가 없는 고밀도의 미세배선을 형성할 수 있다. As a result, high-density microwiring without deviation between the upper and lower portions of the first wiring layer can be formed.
즉, 상기 c) 단계에서는 상기 레지스트 패턴(23)을 형성한 후 제1 배선층(24)을 동도금 또는 증착함으로써 보다 미세한 크기의 회로 패턴을 보다 정교한 형상으로 형성할 수 있는 장점이 있다.That is, in the step c), after forming the resist pattern 23, the first wiring layer 24 may be copper plated or deposited to form a finer circuit pattern in a more precise shape.
본 발명에서의 미세 배선용 연성 회로 기판을 제조하기 위한 마지막 단계로서의 d) 단계는 c) 단계에서 형성된 제1 배선층(24) 상부에, 앞서 a) 단계에서 준비된 연성 동박 커버레이 필름을 커버레이 접착층(11)과 제1 배선층(24)을 마주보도록 접착하는 단계;를 포함하며, 이는 도 4d에 도시되었다. In the present invention, step d) as a final step for manufacturing the flexible wiring board for the fine wiring is performed by attaching the cover film adhesive layer to the flexible copper foil coverlay film prepared in step a) above the first wiring layer 24 formed in step c). 11) and bonding the first wiring layer 24 to face each other, which is illustrated in FIG. 4D.
본 발명에서는 제1 배선층이 커버레이 프레스 공정에서 적당한 커버레이 접착층(11)의 흐름을 통해 회로를 감싸면서 임베디드(embeded)를 해주는 역할을 한다. 이러한 특징을 통해 배선층이 절연층에 묻혀있기 때문에 이후 에칭공정에서 배선층의 배선 폭(Pattern Width)의 손실을 없앨 수 있는 특징을 가지고 있다.In the present invention, the first wiring layer serves to embed the circuit while covering the circuit through the flow of the appropriate coverlay adhesive layer 11 in the coverlay press process. Through this feature, since the wiring layer is buried in the insulating layer, the wiring layer has a characteristic of eliminating the loss of the wiring width of the wiring layer in the subsequent etching process.
본 발명에 따라 얻어진 미세 배선용 연성 회로 기판에서의 상기 커버레이 접착층(11)은 두께가 5 내지 50 um 의 범위를 가질 수 있고, 연성 기판 절연층(10)은 두께가 5 um 내지 100 um 이고, 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리아미드 중에서 선택되는 어느 하나의 재료를 포함할 수 있으며, 상기 연성 기판 절연층(10)과 제1 동박층(12) 사이에는 두께 0.5 내지 5 um 의 범위로 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도금층을 포함할 수 있다. The coverlay adhesive layer 11 in the flexible circuit board for fine wiring obtained according to the present invention may have a thickness in the range of 5 to 50 um, the flexible substrate insulating layer 10 has a thickness of 5 um to 100 um, It may include any one material selected from polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, polyamide, the flexible substrate The insulating layer 10 and the first copper foil layer 12 may include an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating in a thickness of 0.5 to 5 um.
한편, 상기 도 4d에 도시된 바와 같은 본 발명의 미세 배선용 연성 회로 기판은 후속공정에서 양면 연성 인쇄회로기판으로 사용될 수 있다. 이를 위해 상기 미세 배선용 연성 회로 기판은 추가적으로 비아홀을 적어도 하나이상 포함할 수 있고 이를 도 4e에 도시하였다. Meanwhile, the flexible circuit board for fine wiring of the present invention as shown in FIG. 4D may be used as a double-sided flexible printed circuit board in a subsequent process. To this end, the flexible circuit board for fine wiring may additionally include at least one via hole, which is illustrated in FIG. 4E.
상기 비아홀은 인쇄회로기판에서 층과 층사이의 전기적인 통전을 위해 가공한 구멍을 의미하며, 본 발명에서는 연성 기판 절연층(10)의 상부와 하부에 각각 형성되는 회로배선을 연결하기 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하여 제1 배선층(24)으로 연결되는 비아홀을 형성할 수 있다.The via hole refers to a hole processed for electrical conduction between layers in a printed circuit board. In the present invention, the via hole is formed to connect circuit wirings formed on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer 10, respectively. A via hole connected to the first wiring layer 24 may be formed through the copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer.
이러한 비아홀은 기계적 드릴링 또는 레이저 드릴링에 의해 형성될 수 있고, 예시적으로 상기 비아홀은 UV 또는 CO2 레이저에 의해 식각되어 형성될 수 있다.Such via holes may be formed by mechanical drilling or laser drilling, and for example, the via holes may be formed by etching by UV or CO 2 laser.
상기 비아홀을 포함하는 미세 배선용 연성 회로 기판은 추가적인 공정을 거쳐 양면 연성 인쇄회로기판을 제조하기 위해 사용될 수 있고 이를 도 5에 도시하였다. The flexible circuit board for fine wiring including the via hole may be used to manufacture a double-sided flexible printed circuit board through an additional process, which is illustrated in FIG. 5.
도 5는 도 4에 이어, 본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름을 포함하는 미세 배선용 연성 회로 기판을 이용하여 양면 연성 회로기판을 제조하는 방법의 일 실시예를 도시한 그림이다. FIG. 5 is a view showing an embodiment of a method for manufacturing a double-sided flexible circuit board using a flexible circuit board for fine wiring including a flexible copper foil coverlay film according to the present invention.
이를 통해 본 발명에 따른 양면 연성 회로기판을 제조하는 후속 공정을 보다 상세히 설명하면, 본 발명에 따르는 도 5c의 구조를 갖는 미세배선용 연성 회로기판은 a) 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층; 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층; 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층;을 포함하며, 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 연성 회로 기판의 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 형성하며, 상기 비아홀을 동도금하여 충진하는 단계; 및 b) 상기 제2 배선층 및 충진된 비아홀을 포함하는 연성 회로 기판에서 이형층과 제2 동박층사이를 분리하여, 상기 기판 시트층 및 이형층을 나머지 부분으로부터 탈착시키는 단계;를 포함한다. When the following process for producing a double-sided flexible circuit board according to the present invention in more detail, the microcircuit flexible circuit board having a structure of Figure 5c according to the present invention comprises a) a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And a first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulation layer, wherein the first copper foil layer, at least one via penetrates the flexible substrate insulation layer, and the coverlay adhesive layer. Forming a second wiring layer having a predetermined wiring formed on the first copper foil layer of the copper foil; and filling and filling the via hole with copper; And b) separating between the release layer and the second copper foil layer in the flexible circuit board including the second wiring layer and the filled via hole, and detaching the substrate sheet layer and the release layer from the remaining portions.
여기서 상기 a) 단계는 도 4e의 구조를 갖는 연성 회로기판을 도 5a에서의 레지스트 패턴(28)을 형성하는 단계와 이를 이용하여 도 5b의 제2 배선층(29)과 비아홀의 충진(비아의 형성)을 수행하는 단계를 포함한다. Wherein a) is a step of forming a resist pattern 28 in FIG. 5A using the flexible circuit board having the structure of FIG. 4E, and filling the second wiring layer 29 and via holes in FIG. 5B using the same. Performing a step).
보다 구체적으로, 도 5a에서는 도 4b에서와 동일한 공정에 의해 비아홀이 형성된 제1 동박층(12)상에 제2 배선층(29)을 형성하기 위해 레지스트 패턴(28)을 형성하는 것을 도시한 그림이다. More specifically, in FIG. 5A, the resist pattern 28 is formed to form the second wiring layer 29 on the first copper foil layer 12 having the via holes formed by the same process as in FIG. 4B. .
이를 위해 상기 비아홀이 생성된 상기 제1 동박층(12) 상부에 도 4b에서와 마찬가지로 포토 레지스트 필름(film)층을 형성하고 이를 노광, 현상을 포함하는 리소그래피(lithography) 과정을 통하여 원하고자 하는 제2 배선층을 형성하기 위해 필요한 레지스트 패턴(28)을 형성한다.To this end, a photoresist film layer is formed on the first copper foil layer 12 on which the via holes are formed, as in FIG. 4B, and a desired lithography process is performed through lithography including exposure and development. 2 The resist pattern 28 necessary for forming a wiring layer is formed.
도 5b에서는 상기 레지스트 패턴(28)을 이용하여 제2 배선층(29)를 형성하고, 상기 레지스트 패턴(28)은 제거된 구조를 도시한 그림이다. In FIG. 5B, the second wiring layer 29 is formed using the resist pattern 28, and the resist pattern 28 is removed.
상기 도 5b로 표시되는 미세배선용 연성 회로 기판을 보다 상세히 설명하면, 이는, 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판으로서, 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층; 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층; 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층; 및 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 포함하며,상기 제1 배선층과 제2 배선층의 통전을 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 미세배선용 연성 회로 기판에 해당한다. Referring to the flexible circuit board for micro-wiring shown in FIG. 5b in more detail, this is a flexible circuit board for micro-wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the following flexible substrate insulating layer, a substrate sheet made of a polymer material or a metal material layer; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer, wherein the second wiring layer penetrates through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer. Corresponding to the flexible circuit board for micro-wiring comprising at least one or more vias.
상기 도 5b의 구조를 갖는 미세배선용 연성 회로 기판을 제조하기 위해, 상기 레지스트 패턴(28)이 형성된 상태에서 상기 레지스트 패턴에 노출된 제1 동박층(12) 부분을 동도금 또는 증착한 후, 상기 레지스트 패턴(28)을 스트립(strip) 제거함으로써 상기 제1 동박층 상부에 제2 배선층(29)을 형성할 수 있다. 이때, 상기 비아홀에도 도금 또는 증착에 의해 금속 배선이 형성되게 된다. In order to manufacture the flexible circuit board for the microwiring having the structure of FIG. 5B, after the first copper foil layer 12 exposed to the resist pattern is copper plated or deposited in the state where the resist pattern 28 is formed, the resist By removing strips of the pattern 28, the second wiring layer 29 may be formed on the first copper foil layer. In this case, metal vias are formed in the via holes by plating or deposition.
본 발명에 따른 제2 배선층(29)은 공정상의 잇점과 경제성을 고려하여 도금 방식이 바람직하며, 제1 배선층(24)와 마찬가지로 종래기술에 따른 동박층의 포토레지스트 방식을 이용한 에칭 공정에 의한 배선층보다 미세한 선폭을 가질 수 있는 장점을 가진다. The second wiring layer 29 according to the present invention is preferably plated in consideration of process advantages and economical efficiency, and similarly to the first wiring layer 24, the wiring layer by an etching process using a photoresist method of the copper foil layer according to the prior art. It has the advantage of having a finer line width.
한편, 본 발명의 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법에서의 상기 b) 단계는 상기 이형층과 제2 동박층 사이를 분리하는 단계로서, 상기 제2 배선층(29)이 형성되고, 비아홀이 충진되어 비아가 형성된 이후에 상기 기판 시트층(20)과 이형층(21)은 제거된다. On the other hand, step b) in the method for manufacturing a flexible circuit board for microwiring of the present invention is a step of separating between the release layer and the second copper foil layer, the second wiring layer 29 is formed, the via hole is filled After the vias are formed, the substrate sheet layer 20 and the release layer 21 are removed.
도 5c에서는 제2 배선층(29) 및 제1 동박층(12)과 제1 배선층(24) 및 제2 동박층(22)을 포함하는 양면 연성 회로를 제조하기 위해 상기 이형층(21)과 제2 동박층(22)의 사이를 분리하여 기판시트층과 이형층을 탈착(detatch)하는 단계를 도시하였다.In FIG. 5C, the release layer 21 and the second layer may be fabricated to manufacture a double-sided flexible circuit including a second wiring layer 29 and a first copper foil layer 12, a first wiring layer 24, and a second copper foil layer 22. The step of separating the substrate sheet layer and the release layer by separating the two copper foil layers 22 is illustrated.
상기 도 5c로 표시되는 미세배선용 연성 회로 기판을 보다 상세히 설명하면, 이는, 하기 제1 배선층을 지지하는 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층; 및 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 포함하며, 상기 제1 배선층과 제2 배선층의 통전을 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아홀;을 포함하는 미세배선용 연성 회로 기판에 해당한다. Referring to the flexible circuit board for fine wiring shown in FIG. 5C in more detail, it includes a second copper foil layer for supporting the first wiring layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer, wherein the second wiring layer penetrates through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer. Corresponding to the flexible circuit board for micro-wiring comprising at least one or more via holes.
상기 도 5c에서의 이형층(21)과 제2 동박층(22)의 사이를 분리에 따라 이형층은 탈착되지만 제1 배선층(24) 하부에 존재하는 제2 동박층(22)은 잔류하게 된다. 이때, 상기 제2 동박층(22)은 제2 배선층(29) 및 제1 동박층(12)의 일부분과 함께 이후 공정에서 에칭 등에 의해 제거될 수 있다. By separating between the release layer 21 and the second copper foil layer 22 in FIG. 5C, the release layer is desorbed, but the second copper foil layer 22 existing under the first wiring layer 24 remains. . In this case, the second copper foil layer 22 may be removed together with a portion of the second wiring layer 29 and the first copper foil layer 12 by etching in a later process.
여기서 상기 에칭 공정은 건식 또는 습식 에칭에 의해 형성될 수 있으며, 바람직하게는 습식 방식을 사용할 수 있고, 이를 통해 제2 동박층(22)과, 제2 배선층(29) 및 제1 동박층(12)에서의 제2 배선층이 형성되지 않은 부분을 제거함으로써, 연성기판 절연층(10)의 상부와 하부에 상부 배선층(31) 및 하부 배선층(32)를 형성할 수 있다. Here, the etching process may be formed by dry or wet etching, preferably a wet method may be used, through which the second copper foil layer 22, the second wiring layer 29, and the first copper foil layer 12 are formed. By removing the portion where the second wiring layer is not formed, the upper wiring layer 31 and the lower wiring layer 32 can be formed on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer 10.
도 5d에서는 상기 에칭 공정에 따라 제2 동박층(22), 제2 배선층(29) 및 제1 동박층(12)의 일부가 제거된 양면 연성 회로 기판을 도시한 그림으로서, 상기 연성기판 절연층(10)의 상부에는, 제1 동박층(12) 및 상기 제1 동박층의 상부에 형성된 제2 배선층(29)을 에칭하여 상부 배선층(31)이 형성되며, 상기 연성기판 절연층(10)의 하부에 형성된 제2 동박층(22)을 에칭함으로써, 하부 배선층(32)이 형성된다.FIG. 5D illustrates a double-sided flexible circuit board with a portion of the second copper foil layer 22, the second wiring layer 29, and the first copper foil layer 12 removed in accordance with the etching process. An upper wiring layer 31 is formed by etching the first copper foil layer 12 and the second wiring layer 29 formed on the first copper foil layer on the upper portion of the flexible substrate insulating layer 10. The lower wiring layer 32 is formed by etching the second copper foil layer 22 formed at the bottom of the substrate.
상기 도 5d에 따른 미세배선용 연성 회로 기판은 하기 연성 기판 절연층의 상부에 상부 배선층이 형성되고 하부에는 하부 배선층이 각각 형성된 미세배선용 연성 회로 기판으로서, 하기 연성 기판 절연층과 커버레이 접착층의 하부에 미리 설정된 패턴에 따른 배선이 형성된 하부 배선층; 상기 하부 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 하부 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 미리 설정된 패턴에 따른 배선이 형성된 상부 배선층;을 포함하며, 상기 상부 배선층과 하부 배선층의 통전을 위해 상기 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 한다. The flexible wiring board for microwiring according to FIG. 5D is a flexible wiring board for microwiring in which an upper wiring layer is formed on an upper portion of the flexible substrate insulating layer and a lower wiring layer is formed on a lower portion of the flexible wiring board. A lower wiring layer in which wiring according to a preset pattern is formed; Is formed on the lower wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the lower wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure Coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And an upper wiring layer on which the wiring according to a predetermined pattern is formed on the flexible substrate insulating layer, wherein at least one via penetrates through the flexible substrate insulating layer and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the upper wiring layer and the lower wiring layer. It characterized by including.
즉, 상기 상부 배선층(31)은 제1 동박층(12) 및 상기 제1 동박층의 상부에 형성된 제2 배선층(29)으로부터 유래되며, 상기 제 1 동박층(12)내의 제2 배선층이 형성되지 않은 부분을 완전히 제거하여 상부 배선층(31)이 제2 배선층(29)의 패턴에 따라 회로가 형성되는 것이 중요하다. That is, the upper wiring layer 31 is derived from the first copper foil layer 12 and the second wiring layer 29 formed on the first copper foil layer, and the second wiring layer in the first copper foil layer 12 is formed. It is important to completely remove the portion that is not formed so that the upper wiring layer 31 forms a circuit according to the pattern of the second wiring layer 29.
또한 하부 배선층(32)은 제1 배선층(24) 및 제2 동박층(22)으로부터 유래되지만 실질적으로 제2 동박층(22)을 제거함으로써, 제1 배선층(24)의 패턴에 따라 회로가 형성되게 한다. In addition, although the lower wiring layer 32 originates from the 1st wiring layer 24 and the 2nd copper foil layer 22, a circuit is formed according to the pattern of the 1st wiring layer 24 by removing the 2nd copper foil layer 22 substantially. To be.
한편, 본 발명에서의 상기 제1 동박층(12) 및 제2 동박층(22)은 에칭 공정에 의해 제거되는 것을 감안하면 동일한 두께를 가질 수 있다.In addition, the said 1st copper foil layer 12 and the 2nd copper foil layer 22 in this invention can have the same thickness, considering that it removes by an etching process.
최종적으로, 본 발명은 도 5e에 따라 상부 배선층(31) 및 하부 배선층(32)이 형성된 양면 연성회로기판을 상부 배선층 및 하부 배선층의 각각의 외측면에 보호층으로서 커버레이 필름층을 형성시키는 단계;를 추가적으로 포함할 수 있다. Finally, the present invention is a step of forming a coverlay film layer as a protective layer on each outer surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer, the double-sided flexible circuit board formed with the upper wiring layer 31 and the lower wiring layer 32 according to Figure 5e It may further include;
여기서 보호층으로 이용하기 위해 사용되는 커버레이 필름층은 통상적으로 사용되는 커버레이 필름을 부착할 수 있다. Here, the coverlay film layer used for use as a protective layer may attach a coverlay film that is commonly used.
도 5e는 상기 상부 배선층(31) 및 하부 배선층(32)에 각각 접착층(16) 및 절연층(17)을 포함하는 통상적인 구조의 커버레이 필름을 상기 연성 인쇄회로기판상의 배선층의 양면에 밀착시킴으로써, 커버레이층에 의해 양면이 절연된 양면 연성회로 기판을 도시하였다. 5E shows a coverlay film having a conventional structure including an adhesive layer 16 and an insulating layer 17 on the upper wiring layer 31 and the lower wiring layer 32, respectively, by closely contacting both sides of the wiring layer on the flexible printed circuit board. 2 shows a double-sided flexible circuit board in which both surfaces are insulated by the coverlay layer.
또한, 본 발명은 앞서 기재된 양면 연성 회로기판의 제조 방법에 의해 얻어지는 미세배선용 연성 회로 기판을 제공할 수 있다.In addition, the present invention can provide a flexible circuit board for microwiring obtained by the method for producing a double-sided flexible circuit board described above.
한편, 본 발명에서의 연성 동박 커버레이 필름을 포함하는 미세 배선용 연성 회로 기판은 기판시트층(20) 상부 뿐만 아니라 기판 시트층의 하부에도 동일한 구조를 형성함으로써, 제조상의 효율을 높일 수 있다. On the other hand, the flexible circuit board for fine wiring containing the flexible copper foil coverlay film in this invention can improve manufacturing efficiency by forming the same structure not only in the upper part of the board | substrate sheet layer 20 but also in the lower part of a board | substrate sheet layer.
보다 구체적으로, 본 발명은 상기 도 5b에 따른 미세배선용 연성 회로 기판에 있어, 상기 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층(20);의 하부에 상기 기판 시트층의 상부 구조와 대칭으로 되도록 추가적으로, 이형층(21') 내지 제2 배선층(29')이 순서대로 형성되어 있으며, 또한 비아홀이 형성된 미세배선용 연성 회로 기판(도 7b의 구조)을 제공할 수 있다. More specifically, the present invention, in the flexible circuit board for micro-wiring according to Figure 5b, the substrate sheet layer 20 made of the polymer material or metal material; at the bottom of the additional structure to be symmetrical with the upper structure of the substrate sheet layer In addition, the release layer 21 'to the second wiring layer 29' may be formed in order, and a flexible circuit board (structure of FIG. 7B) for fine wiring with via holes formed may be provided.
이를 도 6 및 도 7을 통해 살펴보면, 도 6 및 도 7에서는 상기 기판 시트층(20);의 하부에 추가의 양면 미세배선용 연성 회로 기판을 형성하기 위한 단계를 도시하였다. 6 and 7 illustrate steps for forming an additional double-sided micro-wiring flexible circuit board at the bottom of the substrate sheet layer 20. Referring to FIGS.
보다 구체적으로, 도 6에서는 상기 기판 시트층(20);의 하부에 상기 기판 시트층의 상부 구조와 대칭으로 되도록 이형층(21') 내지 제1 동박층(12')이 추가적으로 형성되어 있는 미세배선용 연성 회로 기판의 구조를 도시하였고, 도 7에서는 도 6에 따른 미세배선용 연성 회로 기판을 이용하여 양면 연성 인쇄회로 기판을 복수로 제조하는 방법을 도시하였다.More specifically, in FIG. 6, the release layer 21 ′ to the first copper foil layer 12 ′ are further formed under the substrate sheet layer 20 so as to be symmetric to the upper structure of the substrate sheet layer. The structure of the flexible circuit board for wiring is illustrated, and FIG. 7 illustrates a method of manufacturing a plurality of double-sided flexible printed circuit boards using the flexible circuit board for microwiring according to FIG. 6.
상기 도 6 및 도 7에 도시된 각각의 공정들은 도 4 및 도 6에 게재된 공정에 대한 설명에 따른 사항과 동일하여 통상의 기술자가 이를 적절히 선택하여 적용할 수 있는 방법에 해당된 다고 할 것이다. Each of the processes illustrated in FIGS. 6 and 7 is the same as the description of the processes illustrated in FIGS. 4 and 6, and thus, a person skilled in the art may appropriately select and apply the processes. .
한편, 본 발명의 미세배선용 양면 연성 회로 기판은 추가적으로 적층을 통해 양면의 배선을 각각 복수의 배선층을 포함할 수 있다. On the other hand, the double-sided flexible circuit board for micro-wiring of the present invention may additionally include a plurality of wiring layers each of the wiring on both sides through the stack.
이를 도 8을 통해 상세히 설명하기로 한다. This will be described in detail with reference to FIG. 8.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 의한, 복층 구조를 갖는 양면 연성 회로기판의 제조방법을 도시한 그림으로서, 도 5d의 구조를 갖는 양면 연성회로기판의 상부 배선층과 하부 배선층의 각각의 외부면에 본 발명에 따른 연성 동박 커버레이 필름을 각각 접착하는 단계(도 8a), 이에 비아홀을 형성하는 단계(도 8b), 각각의 연성 동박 커버레이 필름의 외부에 위치하는 동박층(12, 12')에 레지스트 패턴(33, 33')을 형성하는 단계(도 8c), 이후에 상기 레지스트 패턴(33, 33')을 이용하여 제3 배선층(34) 및 제4 배선층(34')을 형성하는 단계(도 8d), 최종적으로 상기 제3 배선층(34)과 제3 배선층이 형성되지 않은 부분의 동박층(12)의 제거 및 제4 배선층(34')과 제4 배선층이 형성되지 않은 부분의 동박층(12')의 제거를 통하여 제2 상부 배선층(41) 및 제2 하부 배선층(42)를 생성하는 단계(도 8e)를 포함한다. FIG. 8 is a diagram illustrating a method of manufacturing a double-sided flexible circuit board having a multilayer structure according to another embodiment of the present invention, wherein each of the upper and lower wiring layers of the double-sided flexible circuit board having the structure of FIG. Adhering the flexible copper foil coverlay film according to the present invention to the outer surface (FIG. 8A), forming a via hole thereto (FIG. 8B), and the copper foil layer 12 positioned outside of each flexible copper foil coverlay film 12 ') to form resist patterns 33 and 33' (FIG. 8C), after which the third and fourth wiring layers 34 and 34 'are formed using the resist patterns 33 and 33'. In the forming step (FIG. 8D), finally, the copper foil layer 12 is removed from the portion where the third wiring layer 34 and the third wiring layer are not formed, and the fourth wiring layer 34 ′ and the fourth wiring layer are not formed. The second upper wiring layer 41 and the second lower wiring layer 42 are formed by removing the copper foil layer 12 'of the portion. Forming step (FIG. 8E).
여기서 상기 도 8a의 구조를 갖는 양면 연성 회로기판은 상기 연성기판 절연층의 상부와 하부에 상부 배선층(31) 및 하부 배선층(32)이 형성된 이후에, 상기 상부 배선층 및 하부 배선층의 각각의 외측면에, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 처리하고자 하는 기판상의 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 동박층;을 포함하는 2개의 연성 동박 커버레이 필름을 상기 커버레이 접착층과 각각의 배선층을 접착시키는 단계;를 통하여 얻어질 수 있다. Here, the double-sided flexible printed circuit board having the structure of FIG. 8A has an upper wiring layer 31 and a lower wiring layer 32 formed on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer, and then each outer side surface of the upper wiring layer and the lower wiring layer. A coverlay adhesive layer comprising at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, and an acrylic resin, wherein the wiring layer on the substrate to be treated is wrapped in the following coverlay adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure ; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And bonding the coverlay adhesive layer and the respective wiring layer to the two flexible copper foil coverlay films including; and a copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer.
상기 도 8a의 구조를 갖는 양면 연성 회로기판의 제조방법상의 세부적인 단계는 앞서 도 4d 또는 도 6d의 구조를 갖는 연성 회로 기판의 제조에서 설명한 바와 같으며, 이후의 도 8b 내지 도 8e의 구조를 갖는 연성 회로기판의 제조도 앞서 기재된 도 6 및 도 7에 게재된 공정에서 설명된 사항과 동일하여 통상의 기술자가 이를 적절히 적용할 수 있는 방법에 해당된 다고 할 것이다. Detailed steps of the method for manufacturing a double-sided flexible circuit board having the structure of FIG. 8A are the same as those described above in the manufacture of the flexible circuit board having the structure of FIG. 4D or 6D, and the structure of FIGS. 8B to 8E will be described later. Manufacturing of the flexible circuit board having the same as described in the process described in Figures 6 and 7 described above will correspond to a method that can be applied by those skilled in the art as appropriate.
본 발명은 미세배선용 연성 회로 기판 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 산업상 이용가능성이 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flexible circuit board for microwiring and a method of manufacturing the same.

Claims (12)

  1. 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판으로서, As a flexible circuit board for micro wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer,
    고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층;A substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material;
    상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층;A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer;
    상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층;A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer;
    상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층;A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer;
    상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층;It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer;
    상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material;
    상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층; 및 A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And
    상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 포함하며,And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer.
    상기 제1 배선층과 제2 배선층의 통전을 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. And at least one via penetrating through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer.
  2. 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판으로서, As a flexible circuit board for micro wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer,
    하기 제1 배선층을 지지하는 제2 동박층;A second copper foil layer supporting the following first wiring layer;
    상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층;A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer;
    상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층;It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer;
    상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material;
    상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층; 및 A first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulating layer; And
    상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 포함하며,And a second wiring layer having predetermined wirings formed on the first copper foil layer.
    상기 제1 배선층과 제2 배선층의 통전을 위해 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. And at least one via penetrating through the first copper foil layer, the flexible substrate insulating layer, and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the first wiring layer and the second wiring layer.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2,
    상기 커버레이 접착층의 두께는 5 내지 50 um 의 범위인 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. The thickness of the coverlay adhesive layer is in the range of 5 to 50 um, the flexible circuit board for microwiring.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2,
    상기 연성 기판 절연층은 두께가 5 um 내지 100 um 이고,The flexible substrate insulating layer has a thickness of 5 um to 100 um,
    폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리아미드이미드, 폴리아미드 중에서 선택되는 어느 하나의 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. For microwiring comprising any one material selected from polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, polyamideimide, polyamide Flexible circuit board.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2,
    상기 연성 기판 절연층과 제1 동박층 사이에는 두께 0.05 내지 5 um 의 범위로 무전해 니켈 도금에 의해 형성되는 무전해 니켈 도금층을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. And an electroless nickel plating layer formed by electroless nickel plating in a range of 0.05 to 5 um in thickness between the flexible substrate insulating layer and the first copper foil layer.
  6. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층;의 하부에 상기 기판 시트층의 상부 구조와 대칭으로 되도록 추가적으로, 제1항에서의 이형층 내지 제2 배선층이 순서대로 형성되어 있으며, 또한 비아가 형성된 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. The release layer to the second wiring layer of claim 1 are sequentially formed in the lower portion of the substrate sheet layer made of the polymer material or the metal material so as to be symmetric to the upper structure of the substrate sheet layer, and further, vias are formed. A flexible circuit board for microwiring, characterized in that.
  7. 하기 연성 기판 절연층의 상부에 상부 배선층이 형성되고 하부에는 하부 배선층이 각각 형성된 미세배선용 연성 회로 기판으로서, As a flexible wiring board for micro wiring, an upper wiring layer is formed on an upper portion of a flexible substrate insulating layer, and a lower wiring layer is formed on a lower portion, respectively.
    하기 연성 기판 절연층과 커버레이 접착층의 하부에 미리 설정된 패턴에 따른 배선이 형성된 하부 배선층; A lower wiring layer in which wiring according to a predetermined pattern is formed below the flexible substrate insulating layer and the coverlay adhesive layer;
    상기 하부 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 하부 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층;Is formed on the lower wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the lower wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure Coverlay adhesive layer;
    상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And
    상기 연성 기판 절연층의 상부에 미리 설정된 패턴에 따른 배선이 형성된 상부 배선층;을 포함하며,And an upper wiring layer having wirings formed in a predetermined pattern on the flexible substrate insulating layer.
    상기 상부 배선층과 하부 배선층의 통전을 위해 상기 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아;를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판. And at least one via penetrating through the flexible substrate insulating layer and the coverlay adhesive layer to conduct electricity between the upper wiring layer and the lower wiring layer.
  8. 하기 연성 기판 절연층의 상부와 하부에 양면 배선형성을 위한 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법으로서, As a method of manufacturing a flexible circuit board for micro wiring for forming double-sided wiring on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer,
    a) 고분자 재료 또는 금속재료로 이루어진 기판 시트층; 상기 기판시트층 상부 전면에 형성되며, 기판 시트층쪽과의 접착강도가 하기 제2 동박층쪽과의 접착강도보다 강한 이형층; 상기 이형층 상부 전면에 형성된 제2 동박층; 상기 제2 동박층상에 미리 설정된 배선이 형성된 제1 배선층; 상기 제1 배선층 상에 형성되고, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 상기 제1 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 제1 동박층;을 포함하며, 상기 제1 동박층, 연성기판 절연층과 커버레이 접착층을 관통하는 적어도 하나 이상의 비아홀;을 포함하는 연성 회로 기판의 상기 제1 동박층 상부에 미리 설정된 배선이 형성된 제2 배선층;을 형성하며, 상기 비아홀을 동도금하여 충진하는 단계; 및a) a substrate sheet layer made of a polymer material or a metal material; A release layer formed on the entire upper surface of the substrate sheet layer and having a stronger adhesive strength with the substrate sheet layer than the second copper foil layer; A second copper foil layer formed on the upper surface of the release layer; A first wiring layer having predetermined wirings formed on the second copper foil layer; It is formed on the first wiring layer, and comprises at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the first wiring layer is wrapped in the coverlay adhesive layer to be insulated to form an embedded pattern structure A coverlay adhesive layer; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And at least one via hole penetrating through the first copper foil layer, the flexible substrate insulation layer, and the coverlay adhesive layer, the first copper foil layer formed by plating on the flexible substrate insulation layer. Forming a second wiring layer having a predetermined wiring formed on the first copper foil layer of the copper foil; and filling and filling the via hole with copper; And
    b) 상기 제2 배선층 및 충진된 비아홀을 포함하는 연성 회로 기판에서 이형층과 제2 동박층사이를 분리하여, 상기 기판 시트층 및 이형층을 나머지 부분으로부터 탈착시키는 단계;를 포함하는 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법.b) separating between the release layer and the second copper foil layer in the flexible circuit board including the second wiring layer and the filled via hole, and detaching the substrate sheet layer and the release layer from the remaining portions. Method of manufacturing a circuit board.
  9. 제8항에 있어서,The method of claim 8,
    상기 b) 단계 이후에, After step b) above,
    c) 상기 제2 동박층과, 제2 배선층 및 제1 동박층에서의 제2 배선층이 형성되지 않은 부분을 제거함으로써, 연성기판 절연층의 상부와 하부에 상부 배선층 및 하부 배선층을 형성하는 단계;를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법.c) forming an upper wiring layer and a lower wiring layer on the upper and lower portions of the flexible substrate insulating layer by removing the second copper foil layer and the portion of the second wiring layer and the first wiring layer in which the second wiring layer is not formed; Method of manufacturing a flexible circuit board for microwiring further comprising a.
  10. 제9항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 c) 단계 이후에, After step c),
    d) 상기 상부 배선층 및 하부 배선층의 각각의 외측면에 보호층으로서 커버레이 필름층을 형성시키는 단계;를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법.d) forming a coverlay film layer as a protective layer on each of the outer side surfaces of the upper wiring layer and the lower wiring layer.
  11. 제9항에 있어서,The method of claim 9,
    상기 c) 단계 이후에, 상기 상부 배선층 및 하부 배선층의 각각의 외측면에, 열가소성 수지, 에폭시 수지, 아크릴 수지 중에서 선택되는 적어도 하나의 고분자 재료를 포함하며, 처리하고자 하는 기판상의 배선층이 하기 커버레이 접착층에 감싸여 절연되어 임베디드된 패턴 구조를 형성할 수 있는 커버레이 접착층; 상기 커버레이 접착층의 상부 전면에 형성되며 고분자 재료로 이루어진 연성 기판 절연층; 및 상기 연성 기판 절연층의 상부에 도금에 의해 형성된 동박층;을 포함하는 2개의 연성 동박 커버레이 필름을 상기 커버레이 접착층과 각각의 배선층을 접착시키는 단계;를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 미세배선용 연성 회로 기판의 제조방법. After the step c), the outer surface of each of the upper wiring layer and the lower wiring layer, at least one polymer material selected from a thermoplastic resin, an epoxy resin, an acrylic resin, the wiring layer on the substrate to be treated is the following coverlay A coverlay adhesive layer wrapped around the adhesive layer and insulated to form an embedded pattern structure; A flexible substrate insulating layer formed on an upper front surface of the coverlay adhesive layer and made of a polymer material; And bonding two flexible copper foil coverlay films to the coverlay adhesive layer and each of the wiring layers, the copper foil layer formed by plating on top of the flexible substrate insulating layer. Method of manufacturing a flexible circuit board.
  12. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되는 미세배선용 연성 회로 기판.The flexible circuit board for micro wiring manufactured by the method in any one of Claims 9-11.
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