WO2017171590A3 - Устройство для лазерно-плазменного синтеза высокотвердых микро- и наноструктурированных покрытий - Google Patents

Устройство для лазерно-плазменного синтеза высокотвердых микро- и наноструктурированных покрытий Download PDF

Info

Publication number
WO2017171590A3
WO2017171590A3 PCT/RU2017/050021 RU2017050021W WO2017171590A3 WO 2017171590 A3 WO2017171590 A3 WO 2017171590A3 RU 2017050021 W RU2017050021 W RU 2017050021W WO 2017171590 A3 WO2017171590 A3 WO 2017171590A3
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
working gas
reaction chamber
stream
inlet
microstructured
Prior art date
Application number
PCT/RU2017/050021
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2017171590A2 (ru
Inventor
Сергей Николаевич БАГАЕВ
Геннадий Николаевич ГРАЧЕВ
Виктор Николаевич ДЕМИН
Александр Леонидович Смирнов
Павел Юрьевич СМИРНОВ
Тамара Павловна СМИРНОВА
Original Assignee
Общество С Ограниченной Ответственностью "Оптогард Нанотех"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество С Ограниченной Ответственностью "Оптогард Нанотех" filed Critical Общество С Ограниченной Ответственностью "Оптогард Нанотех"
Publication of WO2017171590A2 publication Critical patent/WO2017171590A2/ru
Publication of WO2017171590A3 publication Critical patent/WO2017171590A3/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/48—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Abstract

Изобретение относится к устройству для получения высокотвердых микро- и/или наноструктур ированных защитных покрытий на поверхностях деталей машин и механизмов. Устройство содержит импульсно-периодический лазер, реакционную камеру со средством позиционирования обрабатываемого объекта с управляющим процессором и входом для потока рабочего газа, источник рабочего газа, средство формирования потока рабочего газа в реакционной камере, средство доставки лазерного излучения в реакционную камеру и фокусировки луча и устройство локального подогрева зоны реакции с одновременным охлаждением периферии зоны реакции. Реакционная камера имеет вход для потока рабочего газа и вход для лазерного излучения. Изобретение позволяет расширить технологические возможности за счет обеспечения синтеза износостойких, ударопрочных, химически и коррозионно-устойчивых покрытий, и повысить качество покрытия за счет снижения интенсивности остаточного лазерного излучения.
PCT/RU2017/050021 2016-03-29 2017-03-29 Устройство для лазерно-плазменного синтеза высокотвердых микро- и наноструктурированных покрытий WO2017171590A2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2016111692 2016-03-29
RU2016111692A RU2638610C2 (ru) 2016-03-29 2016-03-29 Устройство для лазерно-плазменного синтеза высокотвердых микро- и наноструктурированных покрытий

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2017171590A2 WO2017171590A2 (ru) 2017-10-05
WO2017171590A3 true WO2017171590A3 (ru) 2017-12-14

Family

ID=59966133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/RU2017/050021 WO2017171590A2 (ru) 2016-03-29 2017-03-29 Устройство для лазерно-плазменного синтеза высокотвердых микро- и наноструктурированных покрытий

Country Status (2)

Country Link
RU (1) RU2638610C2 (ru)
WO (1) WO2017171590A2 (ru)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0543393A (ja) * 1991-08-16 1993-02-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 炭素材料作製方法
WO1998054373A1 (en) * 1997-05-29 1998-12-03 Imperial College Of Science, Technology And Medicine Film or coating deposition on a substrate
RU2425907C2 (ru) * 2009-04-28 2011-08-10 Учреждение Российской Академии Наук Сибирское Отделение Ран Институт Лазерной Физики Способ модификации металлических поверхностей и устройство
RU2561616C2 (ru) * 2014-01-09 2015-08-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт неорганической химии им. А.В. Николаева Сибирского отделения Российской академии наук Способ получения массивов ориентированных углеродных нанотрубок на поверхности подложки

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2732962B1 (fr) * 1995-04-12 1997-07-04 Europ Propulsion Procede pour l'infiltration chimique en phase vapeur d'un materiau compose de carbone et de silicium et/ou bore
JP5043393B2 (ja) * 2006-09-29 2012-10-10 興亜硝子株式会社 収容容器
RU2386732C1 (ru) * 2008-12-18 2010-04-20 Закрытое акционерное общество "СуперОкс" Способ получения двухстороннего сверхпроводника второго поколения

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0543393A (ja) * 1991-08-16 1993-02-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 炭素材料作製方法
WO1998054373A1 (en) * 1997-05-29 1998-12-03 Imperial College Of Science, Technology And Medicine Film or coating deposition on a substrate
RU2425907C2 (ru) * 2009-04-28 2011-08-10 Учреждение Российской Академии Наук Сибирское Отделение Ран Институт Лазерной Физики Способ модификации металлических поверхностей и устройство
RU2561616C2 (ru) * 2014-01-09 2015-08-27 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт неорганической химии им. А.В. Николаева Сибирского отделения Российской академии наук Способ получения массивов ориентированных углеродных нанотрубок на поверхности подложки

Also Published As

Publication number Publication date
RU2016111692A (ru) 2017-10-02
RU2638610C2 (ru) 2017-12-14
WO2017171590A2 (ru) 2017-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PH12018502424A1 (en) Laser cutting and machining method for plated steel plate, laser cut-and-machined product, thermal cutting and machining method, thermal cut-and-machined product, surface-treated steel plate, laser cutting method, and laser machining head
MX2018001587A (es) Metodo para cortar una capa delgada de vidrio.
MY189902A (en) Laser welding apparatus
JP2017510823A5 (ru)
UA87350C2 (ru) Способ холодного газодинамического напыления
MX345375B (es) Método y dispositivo para soldadura conjunta de láminas de metal recubiertas.
WO2006083754A3 (en) Radiantly heated cathode for an electron gun and heating assembly
BR112017002092A2 (pt) dispositivo de soldagem a laser e método de soldagem a laser
MY181868A (en) Thermal processing furnace for workpieces
MX2016014560A (es) Tecnica para el tratamiento multi-pulsos fotodisruptivo de un material.
Plotnikova et al. Perspective of high energy heating implementation for steel surface saturation with carbon
MX2017000407A (es) Rodillo de horno y metodo de fabricacion para el mismo.
FI20070889L (fi) Pinnankäsittelymenetelmä
PH12019500236B1 (en) Painted metal plate and method for manufacturing same
RU2017114635A (ru) Усовершенствованные системы для плазменно-дуговой резки, расходные компоненты и способы работы
ATE503603T1 (de) Verfahren zum laserschneiden eines nichtmetallischen materials
RU2017141568A (ru) Способ предварительной обработки для нанесения покрытия или печати
WO2017087283A3 (en) Plasma based light source having a target material coated on a cylindrically-symmetric element
WO2017171590A3 (ru) Устройство для лазерно-плазменного синтеза высокотвердых микро- и наноструктурированных покрытий
UA111194C2 (uk) Системи і способи для лиття металевих матеріалів
Zhuang et al. Investigation on the peak temperature and surface defects on the carbon steel treated by rotating CW laser
RU2475350C2 (ru) Способ гидроабразивной резки листового металлического материала
MY174246A (en) Painted metal plate and method for manufacturing same
BR112021019991A2 (pt) Sistema de fornecimento de aerossol, método de geração de aerossol, item de consumo, dispositivo de fornecimento de aerossol, meio para fornecimento de aerossol
BR112018067765A2 (pt) método e aparelho para redução de rendimento de fotoelétron e/ou de rendimento de elétron secundário, duração de pulso, e, superfície de cerâmica tratada a laser.

Legal Events

Date Code Title Description
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17775976

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17775976

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2