WO2017160127A1 - 적층시트 연마방법 및 이를 수행하는 적층시트 연마장치 - Google Patents

적층시트 연마방법 및 이를 수행하는 적층시트 연마장치 Download PDF

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WO2017160127A1
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polishing
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polishing target
unit
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윤진국
강흥석
박명진
이종화
심민석
안덕근
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(주)이티에스
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Definitions

  • the present invention relates to a lamination sheet polishing method and a lamination sheet polishing apparatus for performing the same, and more particularly, to a lamination method for laminating and polishing a plurality of polishing target sheet and a lamination sheet polishing apparatus performing the same.
  • electronic devices such as smart phones, laptops and PDAs are equipped with a small camera and a touch sensor.
  • Small cameras and touch sensors provided in electronic devices are easily damaged by shock, and thin glass is used as a cover glass to prevent them.
  • Thin-film glass has to be polished to its outer sides and edges in order to be applied to the product.
  • the polishing process uses a method in which a person polishes thin film individually one by one. Such individual polishing method has a problem in that productivity decreases and labor costs increase.
  • An object of the present invention is to solve a problem as described above, by laminating the side of the polishing block in which the plurality of polishing target sheets are laminated, laminating sheet polishing method and apparatus for automatically polishing each side of the plurality of polishing target sheets simultaneously To provide.
  • the jig portion 240 is fixed to the polishing target block 40 located in the second supply position (S2) is moved to the machining position;
  • Laminated sheet characterized in that it comprises a side processing unit 250 for processing the side of the plurality of polishing target sheet 30 included in the polishing target block 200 fixed by the jig unit 240 by relative rotation
  • a polishing apparatus Disclosed is a polishing apparatus.
  • the laminated sheet polishing apparatus includes: a polishing target block stacker 210 which sequentially supplies the polishing target block 40 to a predetermined loading position L by loading a plurality of polishing target blocks 40; A polishing object block loading part 220 for moving the polishing object block 40 from the loading position L to the first supply position S1; The polishing object block supply unit 230 for moving the polishing object block 40 located at the first supply position S1 to the second supply position S2 may be further included.
  • the polishing object block loading part 220 includes: a loading part body member 224 having a polishing object block support area 222 for supporting the polishing object block 40 supplied from the loading position L;
  • the loading unit body member 224 may include a loading unit moving member for moving the polishing target block support area 222 from the loading position L to the first supply position S1.
  • the abrasive block supply unit 230 includes: a supply unit body member 234 having a gripper 232 provided at one end to grip and fix the abrasive block 40 at the first supply position S1;
  • the supply unit body member 234 may be moved to include a supply unit moving member for positioning the gripper 232 from the first supply position S1 to the second supply position S2.
  • the jig unit 240 may move the polishing target block 40 completed at the machining position to the second supply position S2.
  • the laminated sheet polishing apparatus may further include a polishing target block collecting unit 270 for collecting the polishing target block 40 moved to the second supply position S2 after the processing is completed.
  • the grinding target block loading unit 230 is configured to move the grinding target block collecting unit 500 from the second supply position S2 before the gripper 232 is positioned at the second supply position S2.
  • the polishing target block 40 may further include a polishing target block removing member 237 for moving the completed polishing target block 40 to remove the polishing target block 40 at the second supply position S2.
  • the grinding target block loading unit 230 further includes a gripping detection unit 238 for detecting whether the gripper 232 grips the grinding target block 40 at the first supply position S1. It may include.
  • the abrasive block supply unit 230 includes: a polishing target block support unit 233 having a support surface 231 at one end thereof for supporting the supplied polishing target block 40;
  • the polishing target block support part 233 may include a supply part moving part which moves the first supply position S1 from the first supply position S1 to the second supply position S2.
  • the polishing target block support part 233 may have a deviation preventing part 235 protruding upward from at least a portion of the edge of the support surface 231 to prevent the polishing block 40 from being separated.
  • the laminated sheet polishing apparatus may further include a side pressure control unit 260 coupled to the jig unit 240 to control the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 40. have.
  • the side pressure control unit 260 may maintain the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 40 at a preset set pressure.
  • the side pressure control unit 260 may maintain the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 40 within a preset set pressure range.
  • the side processing unit 250 is formed in a cylindrical shape, the bite member 252 for processing the side surface of the plurality of polishing target sheet 30 included in the polishing target block 40 is rotated in the longitudinal axis of the longitudinal axis of rotation (40) It may include.
  • the polishing target block 40 may include a protective sheet 10 for protecting the polishing target sheet 30 at the top and bottom of the polishing target block 40 based on the stacking direction of the polishing target block 40.
  • the side processing unit 250 may further include a processing guide member 254 installed at a position corresponding to the protective sheet 10 during processing by the bite member 252.
  • the processing guide member 420 may be integrally formed.
  • a lamination sheet polishing method of a lamination sheet polishing apparatus comprising: a first moving step of sequentially supplying a plurality of loaded polishing target blocks 40 to a loading position L; A second moving step of moving the polishing target block 40 from the loading position L to the first supply position S1; A third moving step of moving the polishing target block 40 located at the first supply position S1 to a second supply position S2; A fourth moving step of fixing the polishing target block 40 moved to the second supply position S2 by the polishing target block supply unit 230 and moving to the machining position; Disclosed is a lamination sheet polishing method including a side processing step of processing side surfaces of a plurality of polishing target sheets 30 included in the fixed polishing target block 200 by relative rotation.
  • Laminated sheet polishing method and laminating sheet polishing apparatus by polishing the side surface of the polishing target block laminated a plurality of polishing target sheet can be polished the side surface of the plurality of polishing target sheet at a time, the productivity is improved have.
  • the laminated sheet polishing method and the laminated sheet polishing apparatus according to the present invention has the advantage that the production cost is reduced by reducing the labor cost by automating the machining process for polishing the side of the polishing target block.
  • FIG. 1 is a schematic plan view showing a lamination sheet polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • 2A to 2C are plan views illustrating the operation of the polishing target block loading unit of the laminated sheet polishing apparatus of FIG. 1.
  • 3A and 3B are cross-sectional views illustrating the operation of the polishing target block loading unit of the laminated sheet polishing apparatus of FIG. 1.
  • 4A and 4B are front views showing the operation of the polishing target block supply unit of the laminated sheet polishing apparatus of FIG.
  • FIG. 5 is a front view showing the operation of the jig portion of the laminated sheet polishing apparatus of FIG.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a block to be polished of the laminated sheet polishing apparatus of FIG. 1.
  • FIG. 7 is a plan view showing a laminated sheet polishing apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 8A to 8C are views for explaining the movement path from the loading position of the polishing target block to the machining position in the lamination sheet polishing apparatus of FIG.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view in the I-I direction of the laminated sheet polishing apparatus of FIG. 7.
  • FIG. 10 is a sectional view taken along the II-II direction of the laminated sheet polishing apparatus of FIG. 7.
  • FIG. 11 is a view showing a laminated sheet constituting a block to be polished.
  • 12A and 12B are a plan view and a perspective view showing a form in which the laminated sheet of FIG. 11 is cut.
  • FIG. 13 is a perspective view illustrating a polishing target block formed by cutting the lamination sheet of FIG. 11.
  • FIG. 14 is a perspective view showing a polishing target block processed in the laminated sheet polishing apparatus of the present invention.
  • FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a state in which a polishing target block is processed in the lamination sheet polishing apparatus of FIG. 1.
  • Laminated sheet polishing apparatus is a device for polishing the side surface of the polishing target block 40 in which a plurality of polishing target sheet 30 is laminated, where the polishing is a polishing target, such as roughing, finishing, drawing and chamfering It includes all the processes necessary for processing the sheet 30, and is not limited to a specific processing process.
  • the polishing by the laminated sheet polishing apparatus is a process of removing the sharp portion by polishing the edge, that is, the corner portion of the sheet to be polished 30, and may be represented by a so-called chamfering process.
  • the polishing target block 40 may be formed by cutting the laminated sheet 1 to be described later using cutting means such as a rotary cutter.
  • the polishing target block 40 may be a unit of a polishing process having a cube having a length, a width, and a height in which a plurality of polishing target sheets 30 are stacked.
  • the polishing target block 40 may be subjected to an external machining process on an outer circumferential surface perpendicular to the stacking direction of the polishing target block 40 before the chamfering process according to the use of the polishing target sheet 30.
  • the outer peripheral side surface of the polishing target block 40 that has undergone the external processing may be roundly polished in the stacking direction of the polishing target sheet 30.
  • the laminated sheet 1 may include a protective sheet 10, a thin film 20, and a polishing target sheet 30.
  • the laminated sheet 1 may be formed in a structure in which the thin film 20 and the polishing target sheet 30 are alternately stacked.
  • the thin film 20 and the polishing target sheet 30 may be bonded to each other through an adhesive.
  • the laminated sheet 1 used a method of laminating a separate glass for processing between the polishing target sheets 30, and thus, the overall laminated sheet 1 had a thick thickness and a nonuniform layer spacing, resulting in poor polishing efficiency. I have a problem.
  • the present invention by using a thin film 20 instead of glass for processing the laminated sheet 1 to form a thin thickness of the laminated sheet 1 and to form a uniform layer spacing can improve the polishing efficiency have.
  • the laminated sheet 1 may form a sandwich structure by sandwiching the laminated thin film 20 and the polishing target sheet 30 between two upper and lower protective sheets 10. That is, the laminated sheet 1 may include a protective sheet 10 at the top and bottom of the stack.
  • the polishing target sheet 30 may be a protective glass (cover glass) such as tempered glass for protecting a lens, a touch screen, or the like of the camera module, and a sheet requiring a finishing process to remove sharp parts on the side surface. All members can be the object.
  • cover glass such as tempered glass for protecting a lens, a touch screen, or the like of the camera module, and a sheet requiring a finishing process to remove sharp parts on the side surface. All members can be the object.
  • the polishing target sheet 30 is useful for processing thin sheets having a thickness of 0.3 mm or less.
  • the side surfaces of the polishing target sheet 30 can be processed at a time by stacking a plurality of polishing target sheets 30, the time required for processing can be significantly shortened.
  • the laminated sheet polishing apparatus to fix the polishing target block 40 located in the second predetermined supply position (S2) to the machining position
  • the jig unit 240 is moved; It may include a side processing unit 250 for processing the side of the plurality of polishing target sheet 30 included in the polishing target block 200 fixed by the jig unit 240 by relative rotation.
  • the laminated sheet polishing apparatus in order to automate the supply or recovery of the polishing target block 40, a plurality of polishing target block 40 is loaded to the polishing target block 40 to a predetermined loading position (L).
  • a polishing target block stacker 210 for supplying sequentially;
  • a polishing object block loading part 220 for moving the polishing object block 40 from the loading position L to the first supply position S1;
  • the polishing object block supply unit 230 for moving the polishing object block 40 located at the first supply position S1 to the second supply position S2 may be further included.
  • the first supply position (S1) and the second supply position (S2), the grinding target block 40 is loaded between the loading position (L) and the grinding target block 40 is processed between the grinding target position It can be set at various positions depending on the configuration and arrangement of the laminated sheet polishing apparatus to a predetermined intermediate point for moving the block 40.
  • the polishing target block stacker 210 may be configured in a variety of configurations in which a plurality of polishing target blocks 40 are stacked and sequentially supply the polishing target block 40 to the loading position L. FIG.
  • the polishing target block stacking unit 210 includes a plurality of polishing target blocks 40 sequentially stacked in the stacking direction of the polishing target block 40.
  • a discharge port 212 discharged downward (-Z direction) may be formed on the lower side.
  • the stacking direction of the plurality of polishing target blocks 40 loaded on the polishing target block stacking unit 210 and the stacking direction of each polishing target block may be disposed to be parallel to the vertical direction.
  • the outlet 212 is preferably formed in a predetermined loading position (L) to be supplied with the polishing target block 40 in sequence.
  • the polishing target block loading unit 220 is configured to move the polishing target block 40 from the loading position (L) to the first supply position (S1) is possible in various configurations.
  • the polishing target block loading part 220 is installed at a position corresponding to the outlet 212 formed at the lower side of the polishing target block loading part 210 as shown in FIGS. 1 to 3B.
  • the polishing target block 210 positioned at the loading position L discharged from the 212 may be moved to the first supply position S1.
  • the abrasive block loading unit 220, and the loading unit body member 224 is formed with a polishing target block support area 222 for supporting the polishing target block 40 supplied from the loading position (L) ;
  • the loading unit body member 224 may include a loading unit moving member for moving the polishing target block support area 222 from the loading position L to the first supply position S1.
  • the loading unit body member 224 is a polishing target block support area 222 positioned at a loading position L corresponding to the outlet 212 of the polishing target block loading part 210 when the polishing target block 40 is loaded.
  • Various configurations are possible with the configuration formed on this surface.
  • the loading unit moving member moves the loading unit body member 224 to remove the polishing target block support area 222 from the loading position L, which supports the polishing target block 40 at the loading position L.
  • FIG. Various configurations are possible by the configuration of the position at one supply position (S1).
  • the loading unit moving member moves the loading unit body member 224 in a reciprocating linear manner to move the polishing target block support region 222 from the loading position L to the first supply position S1 or the first supply position S1. ) Can be placed in the loading position (L).
  • the loading unit moving member may linearly move the loading unit body member 224 and may correspond to a linear driving unit for linearly moving the loading unit body member 224.
  • the loading unit moving member may be configured as a pressure cylinder that can be linearly driven by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • the polishing target block supply unit 230 may be configured to move the polishing target block 40 located at the first supply position S1 to the second supply position S2.
  • the polishing object block supply unit 230 the supply unit body member 234 is provided with a gripper 232 at one end to grip and fix the polishing object block 40 at the first supply position (S1);
  • the supply unit body member 234 may be moved to include a supply unit moving member for positioning the gripper 232 from the first supply position S1 to the second supply position S2.
  • the supply unit body member 234 may be provided at one end with a gripper 232 for gripping and fixing the polishing target block 40 at the first supply position S1.
  • the gripper 232 may be configured to grip a side surface of the polishing target block 40 supported on the polishing target block support region 222 at the first supply position S1.
  • the grinding target block 40 is moved to the first supply position S1 in a state where the bottom surface is supported in the polishing target block support region 222 (parallel direction and vertical direction are parallel), so that the gripper 232 ) Is configured to grip the side to be processed of the polishing target block 40.
  • the gripper 232 may be composed of a pair of grip members 232a and 232b facing each other and having an adjustable gap.
  • the pair of grip members 232a and 232b may be fixed by gripping the side surfaces of the object to be polished 40 by adjusting an interval at the first supply position S1.
  • the gripping detection unit 238 detects an interval between the pair of grip members 232a and 232b, and when the interval between the pair of grip members 232a and 232b is less than a predetermined interval, the pair. It can be determined that the grinding target block 40 is not gripped between the grip members 232a and 232b.
  • the predetermined interval may correspond to the length of the horizontal or vertical of the cross section perpendicular to the stacking direction of the polishing target block 40.
  • the supply part moving member reciprocates linearly the supply part body member 234 to move the gripper 232 from the first supply position S1 to the second supply position S2 or from the second supply position S2 to the first. It can be located at the supply position (S1).
  • the supply unit moving member may linearly move the supply unit body member 234 and correspond to a linear driving unit which linearly moves the loading unit body member 224.
  • the supply unit moving member may be configured as a pressure cylinder that can be linearly driven by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • a base plate 280 for temporarily supporting the polishing target block moved by the gripper 232 may be installed in the second supply position S2.
  • the jig unit 240 is moved to the second supply position S2 by the polishing target block supply unit 230 to fix the polishing target block 40 supported on the base plate 280 to the machining position.
  • Various configurations are possible with the configuration to make it possible.
  • the jig unit 240 is disposed to fix the upper and lower surfaces of the polishing target block 40 fixed to the gripper 232 at the second supply position S2 in the vertical direction (Z direction).
  • the pair of jig members 240a and 240b may be included.
  • the pair of jig members 240a and 240b are disposed in an up and down direction (Z direction) and moved up and down (Z direction) to supply a second supply of the base plate 280.
  • the polishing target block 40 located at the position S2 may be fixed.
  • At least one of the pair of jig members 240a and 240b may be configured to move in the vertical direction to fix the polishing target block 40.
  • the jig unit 240 may fix the polishing target block 40 at the second supply position S2, and then move the polishing target block 40 to a processing position at which machining is performed.
  • the jig unit moving member may linearly move the jig unit 240 and correspond to a linear driving unit linearly moving the jig unit 240.
  • the jig portion moving member may be configured as a pressure cylinder that can be linearly driven by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • the base plate 280, the cutting region 282 for the vertical movement of the pair of jig member (240a, 240b) and the movement between the second supply position (S2) and the processing position can be formed have.
  • the cutout area 282 penetrates up and down (Z direction) for vertical movement of the pair of jig members 240a and 240b, and a second supply position S2 of the jig members 240a and 240b. It may be formed to extend to one side of the base plate 280 for movement between the processing areas.
  • the width of the cutout region 282 is greater than the diameter of the pair of jig members 240a and 240b.
  • the cutout area 282 is preferably formed at a position corresponding to the virtual extension line connecting the second supply position (S2) and the processing position.
  • the jig unit 240 may move the polishing target block 40 completed at the machining position to the second supply position S2 to be positioned on the base plate 280.
  • the finished polishing target block 40 positioned at the second supply position S2 of the base plate 280. It needs to be removed at this second supply position S2.
  • the laminated sheet polishing apparatus may further include a polishing target block collecting unit 270 for collecting the polishing target block 40 moved to the second supply position S2 after the processing is completed.
  • the polishing target block collecting unit 270 may be configured in a variety of configurations in which the processed polishing target block 40 is moved and received from the second supply position S2.
  • the polishing object block collecting unit 270 may be coupled to one side of the base plate 280 to move the finished polishing object block 40 supported by the base plate 280.
  • a guide member 272 for guiding the movement of the polishing target block 40 may be installed at a coupling portion between the polishing target block collecting unit 270 and the base plate 280.
  • the grinding object block loading unit 230 processes the second block from the second supply position S2 to the polishing block collecting unit 500.
  • the completed polishing object block 40 may further include a polishing object block removing member 237 for removing the polishing object block 40 completed at the second supply position S2.
  • the polishing target block removing member 237 is installed at one end of the loading unit body member 234 so as to reach the second supply position S2 before the gripper 232. It may be formed extending toward the front longer than the gripper 232 in the direction toward the second supply position (S2).
  • the polishing target block removing member 237 may be formed of the finished polishing target block 40 positioned at the second supply position S2 such that the polishing target block 40 can be moved to the polishing target block collecting unit 270.
  • Various configurations are possible with the push-out of the side.
  • the polishing target block removing member 237 may include an extension region 237a extending in a direction from the first supply position S1 toward the second supply position S2, and It may include a push area (237b) to abut the polishing object block 40 in contact with the polishing object block 40 in the second supply position (S2).
  • the extension area 237a and the push area 237b may have a predetermined angle according to the arrangement of the polishing target block 40 at the second supply position S2 and the second supply position S2.
  • the extension area 237a and the push area 237b are perpendicular to each other, and may have a planar (X-Y plane) shape having a L shape.
  • the side processing unit 250 may be configured in a variety of configurations by processing the side of the plurality of polishing target sheet 30 included in the polishing target block 200 fixed by the jig unit 240 by relative rotation. .
  • the side processing part 250 is formed in a cylindrical shape, rotated about a rotation axis C1 passing through a central axis in the longitudinal direction of the plurality of polishing target sheets 30 included in the polishing target block 40. It may include a bite member 252 for processing the side.
  • the pair of jig members 240a and 240b of the jig part 240 may be contacted with the motor (not shown) to sequentially contact the bite member 253 with the polishing target block 40 along the circumferential direction. It may be connected to rotate about the vertical axis (Z direction) rotation axis (C2).
  • the polishing target block 40 fixed through the pair of jig members 240a and 240b may be rotated coaxially and at the same speed as the jig part 240 when the jig part 240 rotates.
  • the bite member 252 may include an unevenness 256 that can simultaneously process each of the polishing target sheets 30 included in the polishing target block 40, but is not essential.
  • the irregularities 256 may be formed around a horizontal circumferential surface of the bite member 252.
  • the vertical cross section of the side processing part 250 may be formed in a zigzag shape due to the unevenness 526 formed around the side of the side processing part 520.
  • the irregularities 256 may be various shapes as long as the irregularities 256 can simultaneously process each of the polishing target sheets 30 included in the polishing target block 40.
  • the side processing unit 250, the concave-convex 526 is formed on the side contact with the side of the polishing target sheet 30 according to the type of the side processing performed in the laminated sheet polishing apparatus or the type of the polishing target sheet 30. Of course, it can be formed as a smooth surface without.
  • the side processing part 250 may further include a processing guide member 254 installed at a position corresponding to the protective sheet 10 during processing by the bite member 252.
  • the processing guide member 254 corresponds to the protective sheet 10 disposed on the uppermost and lowermost portion of the object to be polished 40 to guide the processing depth of the side of the object to be polished 40. Do.
  • the upper portion 254a of the processing guide member 254 and the lowermost portion of the polishing target block 40 corresponding to the protective sheet 10 disposed on the uppermost portion of the polishing target block 40 are disposed.
  • the lower portion 254b of the processing guide member 254 corresponding to the protective sheet 10 is formed and combined in a separate configuration, the degree of processing of the side surface of the block 40 to be polished due to the arrangement error occurring in the bonding process There is a problem that is not made constantly.
  • the processing guide member 254 as shown in Figure 6, the upper portion 254a of the processing guide member 254 and the protective sheet 10 disposed at the bottom of the polishing target block 40 and The lower portion 254b of the corresponding processing guide member 254 is preferably integrally formed.
  • the polishing target block 40 is processed in a state fixed to the jig unit 240, the side processing portion by the polishing target block 40 to adjust the degree of processing for the side of the polishing target block 40
  • the pressure applied to 250 needs to be controlled.
  • the laminated sheet polishing apparatus may further include a side pressure control unit 260 coupled to the jig unit 240 to control the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 40. .
  • the side pressure control unit 260 may be coupled to the jig unit 240 to control the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 200.
  • the side pressure control unit 260 may be configured as a pressure cylinder using pneumatic or hydraulic pressure to drive the jig unit 240 forward and backward along an extension line connecting the second supply position (S2) and the processing position.
  • various pressurization systems can be used without being limited.
  • the side pressure control unit 260 may move the jig unit 240 back and forth toward the side processing unit 250 by adjusting the flow and amount of gas or fluid inside the pressure cylinder.
  • the pressure cylinder may control the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 40 by generating a restoring force through pneumatic pressure or hydraulic pressure.
  • the side pressure control unit 260 may maintain the pressure applied to the side processing unit 250 by the polishing target block 40 to a predetermined set pressure. In another embodiment, the side pressure control unit 260 may maintain the pressure applied to the side processing unit 520 by the polishing target block 40 within a preset set pressure range.
  • Reference numeral 500 which is not described above, shows an abrasive supply line for supplying grinding materials such as water or particles to the processing portion of the block 40 to be polished during processing.
  • the laminated sheet polishing apparatus according to the present invention, as shown in Figs. 7 to 10, by fixing the polishing target block 40 located in the second predetermined supply position (S2) machining position
  • the jig unit 240 is moved to; It may include a side processing unit 250 for processing the side of the plurality of polishing target sheet 30 included in the polishing target block 200 fixed by the jig unit 240 by relative rotation.
  • the laminated sheet polishing apparatus in order to automate the supply or recovery of the polishing target block 40, a plurality of polishing target block 40 is loaded to the polishing target block 40 to a predetermined loading position (L).
  • a polishing target block stacker 210 for supplying sequentially;
  • a polishing object block loading part 220 for moving the polishing object block 40 from the loading position L to the first supply position S1;
  • the polishing object block supply unit 230 for moving the polishing object block 40 located at the first supply position S1 to the second supply position S2 may be further included.
  • the lamination sheet polishing apparatus shown in Figs. 1 to 6 can of course perform a different type of side processing process than the lamination sheet polishing apparatus described in Figs.
  • the polishing target block loading portion 210 is configured to discharge a plurality of polishing target blocks 40 sequentially in order to continuously supply the polishing target block 40 to the loading position (L). It is possible.
  • the polishing target block loading portion 210 accommodates a plurality of polishing target blocks 40 therein, and the polishing target block discharge portion sequentially discharges at least one of the received polishing target blocks 40. 213 may include.
  • the polishing target block loading portion 210 is preferably configured to load the polishing target block 40 in a plurality of rows in the vertical direction.
  • the polishing target block loading portion 210 may be provided with two through holes 211a and 211b to discharge two polishing target blocks 40 at a time.
  • the through holes 211a and 211b are formed adjacent to each other in the vertical direction so that the polishing target blocks 40 may be stacked in a line in the vertical direction.
  • the stacking direction of the polishing target block 40 and the loading direction of the polishing target block 40 is preferably perpendicular to each other. Do.
  • the polishing target block loading portion 210 may discharge the polishing target block 40 in each row, and thus, the polishing target block 40 may be processed at a time.
  • the polishing target block loading portion 210 may be configured such that the polishing target block 40 is stacked in two rows in the vertical direction.
  • the discharge part 213 is configured to discharge the plurality of polishing target blocks 40 in sequence to be placed in the loading position (L) can be a variety of configurations.
  • the discharge part 213 is preferably formed in the lower portion of the polishing target block loading portion 210 so that the polishing target block 40 falls in the vertical direction due to its own weight.
  • the discharge part 213 may be disposed above the loading position (L).
  • the laminated sheet polishing apparatus the path guide member 126 for guiding the moving path from the loading position (L) of the polishing target block 40 discharged from the discharge portion 213 to the second supply position (S2) 136) may be further provided.
  • the path guide members 126 and 136 may be configured to form a moving path of the object to be polished 40, and may be configured in various ways according to the arrangement and size of the device.
  • the polishing target block loading unit 220 is configured to move the polishing target block 40 from the loading position (L) to the first supply position (S1) is possible in a variety of configurations.
  • the first supply position S1 may be set to a single position, but may be set step by step to a plurality of positions for compact arrangement of the device.
  • the first supply position S1 may be set to a position of two stages as the first sub supply position S11 and the second sub supply position S12.
  • a virtual straight line connecting the first sub supply position S11 and the second sub supply position S12 and the first sub supply position ( S11) and the virtual straight line connecting the loading position (L) is preferably configured to cross perpendicular to each other.
  • the second sub supply position S12 may be set at an appropriate position as an intermediate point between the first sub supply position S11 and the second supply position S2.
  • the polishing target block loading unit 220 may include a first loading unit for moving the polishing target block 40 from the loading position L to the first sub supply position S11. 220a and a second loading part 220b for moving the polishing target block 40 from the first sub supply position S12 to the second supply position S2.
  • the first loading part 220a and the second loading part 220b may push the polishing target block 40 to move along the path guide members 126 and 136. 121).
  • the push member 121 may correspond to a piston in which one end of the piston pushes the polishing target block 40 by reciprocating by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • the first loading part 220a and the second loading part 220b may include a linear driving part for linearly moving the push member 121.
  • the linear driving unit may be configured as a pressure cylinder linearly driven by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • the first loading unit 220a may push each polishing target block 40. For this reason, it is preferable to include a pair of push members 121.
  • the polishing target block 40 is moved to the first supply position S1 (specifically, the second sub supply position S12) by the second loading part 220b.
  • the polishing object block supply unit 230 moves the polishing object block 40 located at the first supply position S1 (specifically, the second sub supply position S12) to the second supply position S2.
  • first supply position S1 specifically, the second sub supply position S12
  • second supply position S2 A variety of configurations are possible.
  • the polishing object block supply unit 230 includes: an polishing object block support part 233 having a support surface 231 at one end thereof for supporting the polishing object block 40 supplied at the first supply position S1;
  • the polishing target block support part 233 may include a supply part moving part for moving from the first supply position S1 to the second supply position S2.
  • the polishing target block support unit 233 may be configured in various ways to support the polishing target block 40 from the bottom.
  • the polishing target block support part 233 may be formed at one end of the support surface 231 for supporting the polishing target block 40 in contact with the side surface of the polishing target block 40.
  • polishing target block supporting portion 233 at least a portion of the edge of the support surface 231 is preferably formed a deviation preventing portion 235 protruding upward to prevent the separation of the polishing target block 40.
  • the supply unit moving unit may be configured to linearly move the polishing target block support unit 233 from the first supply position (S1, S12) to the second supply position (S2).
  • the supply unit moving unit may be configured as a pressure cylinder that can be linearly driven by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • the abrasive block supply unit 230 may further include a guide unit 236 coupled to the supply unit moving unit to guide linear movement of the abrasive block support unit 233.
  • the guide part 236 may be provided with a linear guide 236a for guiding linear movement of the linear moving part 220.
  • the jig unit 240 may be variously configured in such a manner that the polishing target block 40 moved to the second supply position S2 by the polishing target block supply unit 230 is moved to a processing position.
  • the jig unit 240 horizontally faces a pair of opposing surfaces of the polishing target block 40 supported by the support surface 231 of the polishing target block support 233 at the second supply position S2. It may include a pair of jig member 242 disposed to be fixed in the (XY direction).
  • the pair of jig members 242 may be disposed in a horizontal direction and moved in a horizontal direction to fix the polishing target block 40 located at the second supply position S2.
  • the jig unit 240 may fix the polishing target block 40 at the second supply position S2, and then move the polishing target block 40 to a processing position at which machining is performed.
  • the jig unit 240 the jig unit moving member for moving the pair of jig member 242 from the second supply position (S2) to the machining position or from the machining position to the second supply position (S2) ( Not shown).
  • the jig unit moving member may linearly move the jig unit 240 and correspond to a linear driving unit linearly moving the jig unit 240.
  • the jig portion moving member may be configured as a pressure cylinder that can be linearly driven by pneumatic or hydraulic pressure, but is not limited thereto.
  • the side processing unit 250 may be configured in a variety of configurations by processing the side of the plurality of polishing target sheet 30 included in the polishing target block 200 fixed by the jig unit 240 by relative rotation. .
  • the side processing part 250 is formed in a cylindrical shape, rotated about a rotation axis C3 passing through a central axis in the longitudinal direction, and the side surfaces of the plurality of polishing target sheets 30 included in the polishing target block 40. It may include a byte member 252 for processing.
  • the bite member 252 is formed with a smooth surface without irregularities on the side contact with the side of the polishing target sheet 30 according to the type of side processing or the type of the soft target sheet 30 to be performed in the lamination sheet polishing apparatus. Can be.
  • the pair of jig members 242 of the jig part 240 is connected to the motor 244 in order to contact the bite member 252 with the polishing target block 40 in the circumferential direction in a vertical direction. (Z direction) can be rotated about the rotation axis (C4).
  • the polishing target block 40 fixed through the pair of jig members 242 may be rotated without slipping at the coaxial and the same speed with the jig part 240 when the jig part 240 rotates.
  • the laminated sheet polishing method of the laminated sheet polishing apparatus having the above configuration comprises: a first moving step of sequentially supplying a plurality of loaded polishing target blocks 40 to a loading position (L); A second moving step of moving the polishing target block 40 from the loading position L to the first supply position S1; A third moving step of moving the polishing target block 40 located at the first supply position S1 to a second supply position S2; A fourth moving step of fixing the polishing target block 40 moved to the second supply position S2 by the polishing target block supply unit 230 and moving to the machining position; It may include a side processing step of processing the side of the plurality of polishing target sheet 30 included in the fixed polishing target block 200 by relative rotation.
  • the side processing step may include a pressure control step of controlling the pressure applied to the polishing target block 40 to adjust the degree of processing of the polishing target block 40 during processing.

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Abstract

본 발명은 적층시트 연마방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 연마대상시트를 적층하여 연마하는 연마방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 미리 설정된 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 지그부(240)와; 상기 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공부(250)을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치를 개시한다.

Description

적층시트 연마방법 및 이를 수행하는 적층시트 연마장치
본 발명은 적층시트 연마방법 및 이를 수행하는 적층시트 연마장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 복수의 연마대상시트를 적층하여 연마하는 연마방법 및 이를 수행하는 적층시트 연마장치에 관한 것이다.
일반적으로 스마트폰, 노트북 및 PDA 등의 전자기기들은 소형 카메라 및 터치 센서 등을 구비하고 있다. 전자기기들에 구비된 소형 카메라 및 터치 센서 등은 충격에 파손되기 쉬워 이를 방지하기 위해 커버글라스로 박막유리가 사용된다.
박막유리는 제품에 적용되기 위해서 외측의 측면 및 모서리에 대한 연마공정을 거쳐야 한다. 종래, 연마공정은 사람이 박막유리를 개별적으로 하나씩 연마하는 방식을 사용하는데 이러한 개별적 연마방식은 생산성이 떨어지고 인건비가 상승하는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 복수의 연마대상시트가 적층된 연마대상블록의 측면을 연마함으로써 복수의 연마대상시트들의 측면 각각을 동시에 자동으로 연마하는 적층시트 연마 방법 및 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명은, 미리 설정된 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 지그부(240)와; 상기 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공부(250)을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치를 개시한다.
상기 적층시트 연마장치는, 복수의 연마대상블록(40)들이 적재되어 미리 설정된 로딩위치(L)로 연마대상블록(40)을 순차적으로 공급하는 연마대상블록 적재부(210)와; 상기 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 연마대상블록 로딩부(220)와; 상기 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 상기 제2공급위치(S2)로 이동시키는 연마대상블록 공급부(230)를 더 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록 로딩부(220)는, 상기 로딩위치(L)에서 공급된 연마대상블록(40)을 지지하는 연마대상블록지지영역(222)이 형성된 로딩부본체부재(224)와; 상기 로딩부본체부재(224)를 이동시켜 상기 연마대상블록지지영역(222)을 상기 로딩위치(L)로부터 상기 제1공급위치(S1)에 위치시키는 로딩부이동부재를 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록 공급부(230)는, 상기 제1공급위치(S1)에서 연마대상블록(40)을 그리핑하여 고정하는 그리퍼(232)가 일단에 설치된 공급부본체부재(234)와; 상기 공급부본체부재(234)를 이동시켜 상기 그리퍼(232)를 상기 제1공급위치(S1)로부터 상기 제2공급위치(S2)에 위치시키는 공급부이동부재를 포함할 수 있다.
상기 지그부(240)는, 상기 가공위치에서 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 상기 제2공급위치(S2)로 이동시킬 수 있다.
상기 적층시트 연마장치는, 상기 가공이 완료어 상기 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 수거하는 연마대상블록 수거부(270)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록 로딩부(230)는, 상기 그리퍼(232)가 상기 제2공급위치(S2)에 위치되기 전에, 상기 제2공급위치(S2)로부터 상기 연마대상블록 수거부(500)까지 상기 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 이동시켜 제2공급위치(S2)에서 상기 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 제거하는 연마대상블록제거부재(237)을 추가로 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록 로딩부(230)는, 상기 제1공급위치(S1)에서 상기 그리퍼(232)가 연마대상블록(40)을 그리핑하였는지 여부를 감지하는 그리핑감지부(238)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록 공급부(230)는, 상기 공급된 연마대상블록(40)을 지지하는 지지면(231)이 일단에 형성된 연마대상블록지지부(233)와; 상기 연마대상블록지지부(233)를 상기 제1공급위치(S1)로부터 상기 제2공급위치(S2)로 이동시키는 공급부이동부를 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록지지부(233)는, 상기 지지면(231)의 가장자리의 적어도 일부에 연마대상블록(40)의 이탈을 방지하기 위하여 상부로 돌출된 일탈방지부(235)가 형성될 수 있다.
상기 적층시트 연마장치는, 상기 지그부(240)와 결합되어 상기 연마대상블록(40)에 의하여 상기 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 제어하는 측면압력제어부(260)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 측면압력제어부(260)는, 상기 연마대상블록(40)에 의하여 상기 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 미리 설정된 설정압력으로 유지할 수 있다.
상기 측면압력제어부(260)는, 상기 연마대상블록(40)에 의하여 상기 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 미리 설정된 설정압력 범위 내로 유지할 수 있다.
상기 측면가공부(250)는, 원기둥형상으로 이루어지며, 길이방향 중심축을 회전축으로 회전되어 상기 연마대상블록(40)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 가공하는 바이트부재(252)를 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록(40)은, 상기 연마대상블록(40)의 적층방향을 기준으로 최상부 및 최하부에 상기 연마대상시트(30)를 보호하기 위한 보호시트(10)를 포함할 수 있다.
상기 측면가공부(250)는, 상기 바이트부재(252)에 의한 가공시 상기 보호시트(10)와 대응되는 위치에 설치되는 가공가이드부재(254)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가공가이드부재(420)는, 일체로 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 적층시트 연마장치의 적층시트 연마방법으로서, 적재된 복수의 연마대상블록(40)들을 로딩위치(L)로 순차적으로 공급하는 제1이동단계와; 상기 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 제2이동단계와; 상기 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 제3이동단계와; 상기 연마대상블록 공급부(230)에 의하여 상기 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 제4이동단계와; 상기 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공단계를 포함하는 적층시트 연마방법을 개시한다.
본 발명에 따른 적층시트 연마방법 및 적층시트 연마장치는, 복수의 연마대상시트를 적층한 연마대상블록의 측면을 연마함으로써 복수의 연마대상시트들의 측면을 한번에 연마할 수 있어 생산성이 향상되는 이점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 적층시트 연마방법 및 적층시트 연마장치는 연마대상블록의 측면을 연마하는 가공공정을 자동화하여 인건비를 절감함으로써 생산비용이 절감되는 이점이 있다.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 적층시트 연마장치를 보여주는 평면 모식도이다.
도 2a 내지 도 2c는, 도 1의 적층시트 연마장치의 연마대상블록 로딩부의 작동을 보여주는 평면도이다.
도 3a 및 도 3b는, 도 1의 적층시트 연마장치의 연마대상블록 로딩부의 작동을 보여주는 단면도이다.
도 4a 및 도 4b는, 도 1의 적층시트 연마장치의 연마대상블록 공급부의 작동을 보여주는 정면도이다.
도 5는, 도 1의 적층시트 연마장치의 지그부의 작동을 보여주는 정면도이다.
도 6은, 도 1의 적층시트 연마장치의 연마대상블록 수거부를 보여주는 단면도이다.
도 7은, 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 적층시트 연마장치를 보여주는 평면도이다.
도 8a 내지 도 8c는, 도 7의 적층시트 연마장치에서 연마대상블록의 로딩위치에서 가공위치까지의 이동경로를 설명하는 도면이다.
도 9는, 도 7의 적층시트 연마장치의 Ⅰ-Ⅰ 방향 단면도이다.
도 10은, 도 7의 적층시트 연마장치의 Ⅱ-Ⅱ 방향 단면도이다.
도 11은, 연마대상블록을 구성하는 적층시트를 보여주는 도면이다.
도 12a 및 도 12b는, 도 11의 적층시트가 절단된 형태를 보여주는 평면도 및 사시도이다.
도 13은, 도 11의 적층시트가 절단되어 형성된 연마대상블록을 보여주는 사시도이다.
도 14는, 본 발명의 적층시트 연마장치에서 가공된 연마대상블록을 보여주는 사시도이다.
도 15는, 도 1의 적층시트 연마장치에서 연마대상블록이 가공되는 모습을 보여주는 단면도이다.
이하 본 발명에 따른 적층시트 연마장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 적층시트 연마장치는, 복수의 연마대상시트(30)가 적층된 연마대상블록(40)의 측면을 연마하는 장치로, 여기서, 연마가공은 황삭, 정삭, 연상 및 면취 등 연마대상시트(30)를 가공하기 위해 필요한 공정을 모두 포함하는 것으로, 특정한 가공 공정에 한정되지 않는다.
예로서, 상기 적층시트 연마장치에 의한 연마는, 연마대상시트(30)의 가장자리, 즉 모서리 부분을 연마하여 날카로운 부분을 제거하는 공정으로서, 소위 면취공정으로 표현될 수 있다.
상기 연마대상블록(40)은, 도 12a 및 도 12b에 도시된 바와 같이, 후술하는 적층시트(1)를 회전절삭기 등의 절삭수단을 이용하여 재단하여 형성될 수 있다.
예로서, 상기 연마대상블록(40)은, 도 13에 도시된 바와 같이, 복수의 연마대상시트(30)가 적층된 길이, 폭 및 높이를 가지는 육면체로 연마가공의 단위가 될 수 있다.
상기 연마대상블록(40)은, 연마대상시트(30)의 용도에 따라 면취 공정 전에 연마대상블록(40)의 적층 방향에 수직한 외주면에 대해 외형가공 공정을 거칠 수 있다.
상기 외형가공 공정을 거친 연마대상블록(40)은, 도 10에 도시된 바와 같이, 연마대상시트(30)의 적층방향에 대한 외주측면이 둥글게 연마될 수 있다.
상기 적층시트(1)는, 도 11에 도시된 바와 같이, 보호시트(10), 박막 필름(20) 및 연마대상시트(30)를 포함할 수 있다.
상기 적층시트(1)는, 박막 필름(20)과 연마대상시트(30)가 교대로 층층이 쌓아 올려진 구조로 형성될 수 있다. 이때, 상기 박막 필름(20)과 연마대상시트(30)는, 접착제를 통해 상호 접착될 수 있다.
종래 적층시트(1)는, 연마대상시트(30) 사이마다 별도의 가공용 유리를 적층하는 방식을 사용하였고, 이에 따라 전체 적층시트(1)의 두께가 두껍고 층간격이 불균일해 연마 효율이 떨어진다는 문제점을 가진다. 이에 반해, 본 발명은, 적층시트(1)에 가공용 유리 대신 박막 필름(20)을 사용하여 적층시트(1)의 두께를 얇게 형성하고 층간격을 균일하게 형성할 수 있어 연마효율을 향상시킬 수 있다.
상기 적층시트(1)는, 적층된 박막 필름(20)과 연마대상시트(30)를 상하 두 개의 보호시트(10) 사이에 끼워 샌드위치 구조를 형성할 수 있다. 즉, 상기 적층시트(1)는, 적층의 최상부 및 최하부에 보호시트(10)를 포함할 수 있다.
상기 연마대상시트(30)는, 카메라모듈의 렌즈, 터치스크린 등을 보호하기 위한 강화유리 등과 같은 보호유리(커버글라스)가 될 수 있으며, 측면에 날카로운 부분을 제거하기 위한 마무리 공정을 요하는 시트부재들이면 모두 그 대상이 될 수 있다.
특히 상기 연마대상시트(30)는, 그 두께가 0.3mm이하의 박형의 시트의 가공에 유용하다.
본 발명은, 복수의 연마대상시트(30)을 적층하여 한번에 연마대상시트(30)의 측면을 가공할 수 있으므로, 가공에 소요되는 시간을 현저히 단축시킬 수 있다.
일 실시예에서, 본 발명에 따른 적층시트 연마장치는, 도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 지그부(240)와; 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공부(250)을 포함할 수 있다.
이때, 상기 적층시트 연마장치는, 연마대상블록(40)의 공급 또는 회수를 자동화 하기 위하여, 복수의 연마대상블록(40)들이 적재되어 미리 설정된 로딩위치(L)로 연마대상블록(40)을 순차적으로 공급하는 연마대상블록 적재부(210)와; 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 연마대상블록 로딩부(220)와; 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 연마대상블록 공급부(230)를 추가로 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제1공급위치(S1) 및 제2공급위치(S2)는, 연마대상블록(40)이 로딩되는 로딩위치(L)와 연마대상블록(40)이 가공되는 가공위치 사이에서 연마대상블록(40)을 이동시키기 위해 미리 설정되는 중간지점으로 적층시트 연마장치의 구성 및 배치에 따라 다양한 위치에 설정될 수 있다.
상기 연마대상블록 적재부(210)는, 복수의 연마대상블록(40)들이 적재되어 로딩위치(L)로 연마대상블록(40)을 순차적으로 공급하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록 적재부(210)는, 도 3a 및 도 3b에 도시된 바와 같이, 연마대상블록(40)의 적층방향으로 일렬로 적재된 복수의 연마대상블록(40)이 순차적으로 하측(-Z방향)으로 배출되는 배출구(212)가 하측에 형성될 수 있다.
이때, 상기 연마대상블록 적재부(210)에 적재된 복수의 연마대상블록(40)들의 적재방향 및 각 연마대상블록의 적층방향은 연직방향과 평행을 이루도록 배치됨이 바람직하다.
이때, 상기 배출구(212)는, 연마대상블록(40)이 순차적으로 공급되는 기 설정된 로딩위치(L)에 형성됨이 바람직하다.
상기 연마대상블록 로딩부(220)는, 상기 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록 로딩부(220)는, 도 1 내지 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 연마대상블록 적재부(210)의 하측에 형성된 배출구(212)에 대응되는 위치에 설치되어 배출구(212)에서 배출되 로딩위치(L)에 위치된 연마대상블록(210)을 제1공급위치(S1)로 이동시킬 수 있다.
구체적으로, 상기 연마대상블록 로딩부(220)는, 상기 로딩위치(L)에서 공급된 연마대상블록(40)을 지지하는 연마대상블록지지영역(222)이 형성된 로딩부본체부재(224)와; 상기 로딩부본체부재(224)를 이동시켜 상기 연마대상블록지지영역(222)을 상기 로딩위치(L)로부터 상기 제1공급위치(S1)에 위치시키는 로딩부이동부재를 포함할 수 있다.
상기 로딩부본체부재(224)는, 연마대상블록(40) 로딩시 연마대상블록 적재부(210)의 배출구(212)에 대응되는 로딩위치(L)에 위치되는 연마대상블록지지영역(222)이 일면에 형성되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
상기 로딩부이동부재는, 상기 로딩부본체부재(224)를 이동시켜 상기 로딩위치(L)에서 연마대상블록(40)을 지지하는 연마대상블록 지지영역(222)을 로딩위치(L)로부터 제1공급위치(S1)에 위치시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
상기 로딩부이동부재는, 로딩부본체부재(224)를 왕복 선형이동시켜 상기 연마대상블록지지영역(222)를 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 또는 제1공급위치(S1)에서 로딩위치(L)로 위치시킬 수 있다.
예로서, 상기 로딩부이동부재는, 상기 로딩부본체부재(224)를 선형이동시킬 수 있으며, 상기 로딩부본체부재(224)를 선형이동시키는 선형구동부에 해당될 수 있다.
구체적으로, 상기 로딩부이동부재는, 공압 또는 유압에 의해 선형구동될 수 있는 압력실린더로 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 연마대상블록 공급부(230)는, 상기 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
구체적으로, 상기 연마대상블록 공급부(230)는, 상기 제1공급위치(S1)에서 연마대상블록(40)을 그리핑하여 고정하는 그리퍼(232)가 일단에 설치된 공급부본체부재(234)와; 상기 공급부본체부재(234)를 이동시켜 상기 그리퍼(232)를 상기 제1공급위치(S1)로부터 상기 제2공급위치(S2)에 위치시키는 공급부이동부재를 포함할 수 있다.
상기 공급부본체부재(234)는, 상기 제1공급위치(S1)에서 연마대상블록(40)을 그리핑하여 고정하는 그리퍼(232)가 일단에 설치될 수 있다.
상기 그리퍼(232)는, 제1공급위치(S1)에서 연마대상블록지지영역(222) 상에 지지된 연마대상블록(40)의 측면을 그리핑하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
여기서, 상기 연마대상블록(40)은, 연마대상블록지지영역(222)에 저면이 지지된 상태(적층방향과 연직방향이 평행)로 제1공급위치(S1)로 이동되므로, 상기 그리퍼(232)는, 연마대상블록(40)의 가공대상이 되는 측면을 그리핑 하도록 구성된다.
상기 그리퍼(232)는, 서로 대향하며 간격조절 가능한 한 쌍의 그립부재(232a, 232b)로 구성될 수 있다.
상기 한 쌍의 그립부재(232a, 232b)는, 도 2b에 도시된 바와 같이, 제1공급위치(S1)에서 간격이 조절되어 연마대상블록(40)의 측면을 그리핑하여 고정할 수 있다.
한편, 상기 연마대상블록 로딩부(230)는, 상기 제1공급위치(S1)에서 상기 그리퍼(232)가 연마대상블록(40)을 그리핑하였는지 여부를 감지하는 그리핑감지부(238)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 그리핑감지부(238)는, 상기 한 쌍의 그립부재(232a, 232b) 사이의 간격을 감지하여, 한 쌍의 그립부재(232a, 232b) 사이의 간격이 기설정된 간격 미만인 경우 상기 한 쌍의 그립부재(232a, 232b) 사이에 연마대상블록(40)이 그리핑되지 않은 것으로 판단할 수 있다.
이때, 상기 기설정된 간격은, 상기 연마대상블록(40)의 적층방향에 수직한 단면의 가로 또는 세로의 길이에 해당될 수 있다.
상기 공급부이동부재는, 공급부본체부재(234)를 왕복 선형이동시켜 상기 그리퍼(232)를 제1공급위치(S1)에서 제2공급위치(S2)로 또는 제2공급위치(S2)에서 제1공급위치(S1)로 위치시킬 수 있다.
상기 공급부이동부재는, 상기 공급부본체부재(234)를 선형이동시킬 수 있으며, 상기 로딩부본체부재(224)를 선형이동시키는 선형구동부에 해당될 수 있다.
구체적으로, 상기 공급부이동부재는, 공압 또는 유압에 의해 선형구동될 수 있는 압력실린더로 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이때, 상기 제2공급위치(S2)에는, 상기 그리퍼(232)에 의해 이동된 연마대상블록을 임시적으로 지지하는 베이스플레이트(280)가 설치될 수 있다.
상기 지그부(240)는, 상기 연마대상블록 공급부(230)에 의하여 상기 제2공급위치(S2)로 이동되어 베이스플레이트(280)에 지지된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되도록 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
구체적으로, 상기 지그부(240)는, 제2공급위치(S2)에서 상기 그리퍼(232)에 고정된 연마대상블록(40)의 상면 및 저면을 상하방향(Z방향)으로 고정하도록 배치된 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)를 포함할 수 있다.
상기 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)는, 도 4a 내지 도 4b에 도시된 바와 같이, 상하방향(Z방향) 배치되며 상하방향(Z방향) 이동되어 상기 베이스플레이트(280)의 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정할 수 있다.
상기 한 쌍의 지그부재(240a, 240b) 중 적어도 하나는, 상하방향으로 이동되어 연마대상블록(40)을 고정하도록 구성될 수 있다.
상기 지그부(240)는, 제2공급위치(S2)에서 연마대상블록(40)을 고정한 후 가공이 이루어지는 가공위치로 연마대상블록(40)을 이동시킬 수 있다.
구체적으로, 상기 지그부(240)는, 상기 지그부(240)의 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)를 제2공급위치(S2)에서 가공위치로 또는 가공위치에서 제2공급위치(S2)로 이동시키는 지그부이동부재(미도시)를 포함할 수 있다.
상기 지그부이동부재는, 상기 지그부(240)를 선형이동시킬 수 있으며, 상기 지그부(240)를 선형이동시키는 선형구동부에 해당될 수 있다.
구체적으로, 상기 지그부이동부재는, 공압 또는 유압에 의해 선형구동될 수 있는 압력실린더로 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이때, 상기 베이스플레이트(280)에는, 상기 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)의 상하방향 이동 및 제2공급위치(S2) 및 가공위치사이의 이동을 위한 절개영역(282)이 형성될 수 있다.
상기 절개영역(282)은, 상기 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)의 상하방향 이동을 위해 상하(Z방향)로 관통되며, 지그부재(240a, 240b)의 제2공급위치(S2) 및 가공영역 사이의 이동을 위해 베이스플레이트(280)의 일측면까지 연장되어 형성될 수 있다.
상기 절개영역(282)의 폭은, 상기 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)의 직경보다 크게 형성된다.
이때, 상기 절개영역(282)는, 제2공급위치(S2) 및 가공위치를 연결하는 가상의 연장선에 대응되는 위치에 형성됨이 바람직하다.
상기 지그부(240)는, 상기 가공위치에서 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 상기 제2공급위치(S2)로 이동시켜 베이스플레이트(280)에 위치시킬 수 있다.
따라서, 다음으로 연마대상블록 적재부(210)에서 공급된 연마대상블록(40)을 가공하기 위해서는, 베이스플레이트(280)의 제2공급위치(S2)에 위치된 가공 완료된 연마대상블록(40)이 제2공급위치(S2)에서 제거될 필요가 있다.
이에, 상기 적층시트 연마장치는, 상기 가공이 완료어 상기 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 수거하는 연마대상블록 수거부(270)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록 수거부(270)는, 가공 완료된 연마대상블록(40)들이 제2공급위치(S2)로부터 이동되어 수용되는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록 수거부(270)는, 가공 완료된 연마대상블록(40)이 상기 베이스플레이트(280)에 지지된 상태로 이동되기 위하여 베이스플레이트(280)의 일측과 결합될 수 있다.
상기 연마대상블록 수거부(270)와 베이스플레이트(280) 사이의 결합부분에는 연마대상블록(40)의 이동을 가이드하는 가이드부재(272)가 설치될 수 있다.
이때, 상기 연마대상블록 로딩부(230)에는, 상기 그리퍼(232)가 상기 제2공급위치(S2)에 위치되기 전에, 제2공급위치(S2)로부터 연마대상블록 수거부(500)까지 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 이동시켜 제2공급위치(S2)에서 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 제거하는 연마대상블록제거부재(237)을 추가로 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록제거부재(237)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 로딩부본체부재(234)의 일단에 설치되며 그리퍼(232) 보다 먼저 제2공급위치(S2)에 도달할 수 있도록 제2공급위치(S2)를 향하는 방향으로 그리퍼(232)보다 길게 전방을 향하여 연장되어 형성될 수 있다.
상기 연마대상블록제거부재(237)는, 연마대상블록(40)이 연마대상블록 수거부(270)로 이동될 수 있도록 제2공급위치(S2)에 위치된 가공 완료된 연마대상블록(40)의 측면을 푸쉬하여 밀어내는 구성으로 다양한 형상이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록제거부재(237)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1공급위치(S1)에서 제2공급위치(S2)를 향하는 방향으로 연장된 연장영역(237a)과, 제2공급위치(S2)에서 연마대상블록(40)과 맞닿아 연마대상블록(40)을 밀어 이동시키는 푸쉬영역(237b)을 포함할 수 있다.
상기 연장영역(237a) 및 푸쉬영역(237b)은, 제2공급위치(S2)와 제2공급위치(S2)에서의 연마대상블록(40)의 배치에 따라, 기 설정된 각도를 이룰 수 있다.
일 실시예에서, 상기 연장영역(237a) 및 푸쉬영역(237b)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 서로 직각을 이루어 평면(X-Y평면) 형상이 ㄱ자 형태로 형성될 수 있다.
상기 측면가공부(250)는, 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 측면가공부(250)는, 원기둥형상으로 이루어지며, 길이방향 중심축을 지나는 회전축(C1)을 중심으로 회전되어 상기 연마대상블록(40)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 가공하는 바이트부재(252)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 지그부(240)의 한 쌍의 지그부재(240a, 240b)는, 상기 바이트부재(253)에 연마대상블록(40)을 둘레방향을 따라 차례로 접촉시키기 위하여, 모터(미도시)와 연결되어 수직방향(Z방향) 회전축(C2)을 중심으로 회전될 수 있다. 상기 한 쌍의 지그부재(240a, 240b) 통해 고정된 연마대상블록(40)은, 상기 지그부(240)가 회전하면 상기 지그부(240)와 동축 및 동속도로 미끄러짐 없이 회전될 수 있다.
상기 바이트부재(252)는, 연마대상블록(40)에 포함된 연마대상시트(30) 각각을 동시에 가공할 수 있는 요철(256)을 포함할 수 있으나 필수적인 것은 아니다.
상기 요철(256)은, 바이트부재(252)의 수평방향 원주면 둘레에 형성될 수 있다.
이때, 측면가공부(250)의 수직 단면은, 도 11에 도시된 바와 같이, 상기 측면가공부(520)의 측면 둘레에 형성된 요철(526)로 인하여 지그재그 형상으로 형성될 수 있다.
상기 요철(256)은, 연마대상블록(40)에 포함된 연마대상시트(30) 각각을 동시에 가공할 수 있는 형상이라면 다양한 형상이 가능하다.
한편, 상기 측면가공부(250)는, 적층시트 연마장치에서 수행되는 측면가공의 종류 또는 연마대상시트(30)의 종류에 따라 연마대상시트(30)의 측면과 접하는 측면에 요철(526)이 형성되지 않고 매끄러운 면으로 형성될 수 있음은 물론이다.
한편, 상기 측면가공부(250)는, 상기 바이트부재(252)에 의한 가공시 상기 보호시트(10)와 대응되는 위치에 설치되는 가공가이드부재(254)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가공가이드부재(254)는, 연마대상블록(40)의 최상부 및 최하부에 배치된 보호시트(10)에 대응되어 상기 연마대상블록(40)의 측면 가공 깊이를 가이드하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
그러나, 가공시, 상기 연마대상블록(40)의 최상부에 배치된 보호시트(10)와 대응되는 가공가이드부재(254)의 상부부분(254a) 및 상기 연마대상블록(40)의 최하부에 배치된 보호시트(10)와 대응되는 가공가이드부재(254)의 하부부분(254b)이 개별적인 구성으로 형성되어 결합되는 경우, 결합과정에서 발생하는 배치의 오차에 의해 연마대상블록(40)의 측면 가공정도가 일정하게 이루어지지 않는 문제점이 있다.
따라서, 상기 가공가이드부재(254)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 가공가이드부재(254)의 상부부분(254a) 및 상기 연마대상블록(40)의 최하부에 배치된 보호시트(10)와 대응되는 가공가이드부재(254)의 하부부분(254b)이 일체로 형성됨이 바람직하다.
한편, 연마대상블록(40)이 지그부(240)에 고정된 상태에서 가공되는 경우, 연마대상블록(40)의 측면에 대한 가공정도를 조절하기 위해 상기 연마대상블록(40)에 의하여 측면가공부(250)에 가해지는 압력이 제어될 필요가 있다.
이에, 상기 적층시트 연마장치는, 지그부(240)와 결합되어 연마대상블록(40)에 의하여 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 제어하는 측면압력제어부(260)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 측면압력제어부(260)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 지그부(240)와 결합되어 연마대상블록(200)에 의하여 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 제어할 수 있다.
이때, 상기 측면압력제어부(260)는, 지그부(240)을 제2공급위치(S2)와 가공위치를 연결하는 연장선을 따라 전후진 구동하는 공압 또는 유압을 이용한 압력실린더로 구성될 수 있으나 이에 한정되지 않고 다양한 가압시스템이 사용될 수 있음은 물론이다.
예로서, 상기 측면압력제어부(260)는, 압력실린더의 내부의 기체 또는 유체의 흐름 및 양을 조절하여 지그부(240)를 측면가공부(250)을 향해 전후진 이동시킬 수 있다.
상기 압력실린더는 공압 또는 유압 등을 통해 복원력을 발생시킴으로써 연마대상블록(40)에 의하여 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 제어할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 측면압력제어부(260)는, 연마대상블록(40)에 의하여 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 미리 설정된 설정압력으로 유지할 수 있다. 다른 일 실시예에서, 상기 측면압력제어부(260)는, 연마대상블록(40)에 의하여 측면가공부(520)에 가해지는 압력을 미리 설정된 설정압력 범위 내로 유지할 수 있다.
상기에서 설명되지 않은 도면번호 500은, 가공시 연마대상블록(40)의 가공부위에 물 또는 입자등의 연삭재, 탁마재 등을 공급하는 연마재공급라인을 도시한다.
다른 일 실시예에서, 본 발명에 따른 적층시트 연마장치는, 도 7 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 지그부(240)와; 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공부(250)을 포함할 수 있다.
이때, 상기 적층시트 연마장치는, 연마대상블록(40)의 공급 또는 회수를 자동화 하기 위하여, 복수의 연마대상블록(40)들이 적재되어 미리 설정된 로딩위치(L)로 연마대상블록(40)을 순차적으로 공급하는 연마대상블록 적재부(210)와; 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 연마대상블록 로딩부(220)와; 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 연마대상블록 공급부(230)를 추가로 포함할 수 있다.
이하, 도 1 내지 도 6에서 설명된 적층시트 연마장치와 중복되는 범위에서 설명을 생략하고 차이점을 중심으로 다른 일 실시예에 따른 적층시트 연마장치를 자세히 설명한다.
도 7 내지 도 10에 도시된 적층시트 연마장치는, 도 1 내지 도 6에서 설명된 적층시트 연마장치와 다른 종류의 측면가공공정을 수행할 수 있음은 물론이다.
상기 연마대상블록적재부(210)는, 로딩위치(L)로 연마대상블록(40)을 계속적으로 공급하기 위하여 복수의 연마대상블록(40)들을 수용하연서 순차적으로 배출하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록적재부(210)는, 내부에 복수의 연마대상블록(40)을 수용하며, 수용된 복수의 연마대상블록(40) 중 적어도 하나를 순차적으로 배출하는 연마대상블록 배출부(213)를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 연마대상블록적재부(210)는, 연마대상블록(40)을 연직방향 복수의 열로 적재하도록 구성됨이 바람직하다.
즉, 상기 연마대상블록적재부(210)는, 한번에 두 개의 연마대상블록(40)를 배출할 수 있도록 두 개의 관통구(211a, 211b)가 구비될 수 있다.
상기 관통구(211a, 211b)는, 각각 연직방향으로 인접 형성되어 연마대상블록(40)이 연직방향으로 일렬로 적재될 수 있다.
여기서, 상기 연마대상블록(40)은, 도 1의 실시예와 달리, 장치구성의 편의를 위하여 연마대상블록(40)의 적층방향과 연마대상블록(40)들의 적재방향이 수직을 이룸이 바람직하다.
이러한 경우, 상기 연마대상블록적재부(210)는, 각 열에서 연마대상블록(40)을 배출할 수 있어 한 번에 복수의 연마대상블록(40)을 처리할 수 있는 이점이 있다.
예로서, 상기 연마대상블록적재부(210)는, 도 연마대상블록(40)이 연직방향의 2열로 적재되도록 구성될 수 있다.
상기 배출부(213)은, 적재된 복수의 연마대상블록(40)을 순차적으로 배출하여 로딩위치(L)에 위치시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
상기 배출부(213)는, 연마대상블록(40)이 자중에 의해 연직방향으로 떨어지도록 연마대상블록적재부(210)의 하부에 형성됨이 바람직하다.
상기 배출부(213)는, 로딩위치(L)의 상부에 배치될 수 있다.
상기 배출부(213)에서 배출된 2 개의 연마대상블록(40)은, 도 6a에 도시된 바와 같이, 연마대상블록(40)의 측면이 로딩위치(L)에서 지지된다.
한편, 상기 적층시트 연마장치는, 배출부(213)에서 배출된 연마대상블록(40)의 로딩위치(L)에서 제2공급위치(S2)까지의 이동경로를 가이드하는 경로가이드부재(126, 136)을 추가로 구비할 수 있다.
상기 경로가이드부재(126, 136)는, 연마대상블록(40)의 이동경로를 형성하는 구성으로 장치의 배치 및 크기에 따라 다양한 구성이 가능하다.
상기 연마대상블록로딩부(220)는, 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
여기서 제1공급위치(S1)는, 단일 위치로 설정될 수 있으나, 장치의 컴팩트한 배치를 위한 복수의 위치로 단계별로 설정될 수 있음은 물론이다.
예를들어, 상기 제1공급위치(S1)는, 제1서브공급위치(S11)과 제2서브공급위치(S12)로 2 단계의 위치로 설정될 수 있다.
이때, 장치 전체의 부피를 최소화 하기 위해서, 도 7에 도시된 바와 같이, 제1서브공급위치(S11)와 제2서브공급위치(S12)를 연결한 가상의 직선과, 제1서브공급위치(S11)와 로딩위치(L)를 연결한 가상의 직선은 서로 수직으로 교차하도록 구성됨이 바람직하다.
상기 제2서브공급위치(S12)는, 제1서브공급위치(S11)과 제2공급위치(S2) 사이의 중간지점으로 적절한 위치에 설정될 수 있다.
예로서, 상기 연마대상블록로딩부(220)는, 도 7에 도시된 바와 같이, 연마대상블록(40)을 로딩위치(L)에서 제1서브공급위치(S11)로 이동시키는 제1로딩부(220a)와, 연마대상블록(40)을 제1서브공급위치(S12)에서 제2공급위치(S2)로 이동시키는 제2로딩부(220b)를 포함할 수 있다.
상기 제1로딩부(220a) 및 제2로딩부(220b)는, 도 7에 도시된 바와 같이, 연마대상블록(40)을 푸쉬하여 경로가이드부재(126, 136)를 따라 이동시키는 푸쉬부재(121)를 포함할 수 있다.
예로서, 상기 푸쉬부재(121)는, 공압 또는 유압에 의해 왕복 운동하여 피스톤의 일단이 연마대상블록(40)을 푸쉬 하는 피스톤에 해당할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
예로서, 상기 제1로딩부(220a) 및 제2로딩부(220b)는, 푸쉬부재(121)를 선형이동시키는 선형구동부를 포함하여 구성될 있다.
구체적으로, 상기 선형구동부는, 공압 또는 유압에 의해 선형구동되는 압력실린더로 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
도 7에 도시된 바와 같이, 2 개의 연마대상블록(40)이 한번에 배출되어 로딩위치(L)에 안착되는 경우, 제1로딩부(220a)는, 각각의 연마대상블록(40)을 푸쉬하기 위해 한 쌍의 푸쉬부재(121)를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 제2로딩부(220b)에 의해 연마대상블록(40)은 제1공급위치(S1)(구체적으로는, 제2서브공급위치(S12))로 이동된다.
상기 연마대상블록 공급부(230)는, 제1공급위치(S1) (구체적으로는, 제2서브공급위치(S12))에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록 공급부(230)는, 제1공급위치(S1)에서 공급된 연마대상블록(40)을 지지하는 지지면(231)이 일단에 형성된 연마대상블록지지부(233)와; 연마대상블록지지부(233)를 제1공급위치(S1)로부터 제2공급위치(S2)로 이동시키는 공급부이동부를 포함할 수 있다.
상기 연마대상블록지지부(233)는, 연마대상블록(40)을 하부에서 지지하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 연마대상블록지지부(233)는, 연마대상블록(40)의 측면과 접하여 연마대상블록(40)을 지지하는 지지면(231)이 일단에 형성될 수 있다.
또한, 상기 연마대상블록지지부(233)는, 지지면(231)의 가장자리의 적어도 일부에 연마대상블록(40)의 이탈을 방지하기 위하여 상부로 돌출된 일탈방지부(235)가 형성됨이 바람직하다.
상기 공급부이동부는, 제1공급위치(S1, S12)에서 제2공급위치(S2)까지 연마대상블록지지부(233)를 선형이동 시키는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 공급부이동부는, 공압 또는 유압에 의해 선형구동될 수 있는 압력실린더로 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 연마대상블록 공급부(230)는, 공급부이동부와 결합되어 연마대상블록지지부(233)의 선형이동을 가이드하는 가이드부(236)를 더 포함할 수 있다.
상기 가이드부(236)는, 도 7에 도시된 바와 같이, 선형이동부(220)의 선형이동을 가이드하기 위한 리니어가이드(236a)가 구비될 수 있다.
상기 지그부(240)는, 연마대상블록 공급부(230)에 의하여 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되도록 하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
구체적으로, 상기 지그부(240)는, 제2공급위치(S2)에서 연마대상블록지지부(233)의 지지면(231)에 지지된 연마대상블록(40)의 한 쌍의 대향면을 수평방향(X-Y방향)으로 고정하도록 배치된 한 쌍의 지그부재(242)를 포함할 수 있다.
상기 한 쌍의 지그부재(242)는, 수평방향으로 배치되며 수평방향 이동되어 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정할 수 있다.
상기 지그부(240)는, 제2공급위치(S2)에서 연마대상블록(40)을 고정한 후 가공이 이루어지는 가공위치로 연마대상블록(40)을 이동시킬 수 있다.
구체적으로, 상기 지그부(240)는, 한 쌍의 지그부재(242)를 제2공급위치(S2)에서 가공위치로 또는 가공위치에서 제2공급위치(S2)로 이동시키는 지그부이동부재(미도시)를 포함할 수 있다.
상기 지그부이동부재는, 지그부(240)를 선형이동시킬 수 있으며, 상기 지그부(240)를 선형이동시키는 선형구동부에 해당될 수 있다.
구체적으로, 상기 지그부이동부재는, 공압 또는 유압에 의해 선형구동될 수 있는 압력실린더로 구성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 측면가공부(250)는, 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 구성으로 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 측면가공부(250)는, 원기둥형상으로 이루어지며, 길이방향 중심축을 지나는 회전축(C3)을 중심으로 회전되어 연마대상블록(40)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 가공하는 바이트부재(252)를 포함할 수 있다.
이때, 상기 바이트부재(252)는, 적층시트 연마장치에서 수행되는 측면가공의 종류 또는 연대상시트(30)의 종류에 따라 연마대상시트(30)의 측면과 접하는 측면에 요철 없이 매끄러운 면으로 형성될 수 있다.
이때, 상기 지그부(240)의 한 쌍의 지그부재(242)는, 바이트부재(252)에 연마대상블록(40)을 둘레방향을 따라 차례로 접촉시키기 위하여, 모터(244)와 연결되어 수직방향(Z방향) 회전축(C4)을 중심으로 회전될 수 있다. 상기 한 쌍의 지그부재(242) 통해 고정된 연마대상블록(40)은, 지그부(240)가 회전하면 지그부(240)와 동축 및 동속도로 미끄러짐 없이 회전될 수 있다.
한편, 상기와 같은 구성을 가지는 적층시트 연마장치의 적층시트 연마방법은, 적재된 복수의 연마대상블록(40)들을 로딩위치(L)로 순차적으로 공급하는 제1이동단계와; 상기 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 제2이동단계와; 상기 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 제3이동단계와; 상기 연마대상블록 공급부(230)에 의하여 상기 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 제4이동단계와; 상기 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공단계를 포함할 수 있다.
상기 측면가공단계는, 가공시 상기 연마대상블록(40)의 가공정도를 조절하기위해 연마대상블록(40)에 가해지는 압력을 제어하는 압력제어단계를 포함할 수 있다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.

Claims (15)

  1. 미리 설정된 제2공급위치(S2)에 위치된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 지그부(240)와;
    상기 지그부(240)에 의하여 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공부(250)을 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    복수의 연마대상블록(40)들이 적재되어 미리 설정된 로딩위치(L)로 연마대상블록(40)을 순차적으로 공급하는 연마대상블록 적재부(210)와;
    상기 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 연마대상블록 로딩부(220)와;
    상기 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 상기 제2공급위치(S2)로 이동시키는 연마대상블록 공급부(230)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 연마대상블록 로딩부(220)는,
    상기 로딩위치(L)에서 공급된 연마대상블록(40)을 지지하는 연마대상블록지지영역(222)이 형성된 로딩부본체부재(224)와;
    상기 로딩부본체부재(224)를 이동시켜 상기 연마대상블록지지영역(222)을 상기 로딩위치(L)로부터 상기 제1공급위치(S1)에 위치시키는 로딩부이동부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 연마대상블록 공급부(230)는,
    상기 제1공급위치(S1)에서 연마대상블록(40)을 그리핑하여 고정하는 그리퍼(232)가 일단에 설치된 공급부본체부재(234)와;
    상기 공급부본체부재(234)를 이동시켜 상기 그리퍼(232)를 상기 제1공급위치(S1)로부터 상기 제2공급위치(S2)에 위치시키는 공급부이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 지그부(240)는, 상기 가공위치에서 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 상기 제2공급위치(S2)로 이동시키며,
    상기 적층시트 연마장치는, 상기 가공이 완료어 상기 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 수거하는 연마대상블록 수거부(270)를 추가로 포함하며,
    상기 연마대상블록 로딩부(230)는,
    상기 그리퍼(232)가 상기 제2공급위치(S2)에 위치되기 전에, 상기 제2공급위치(S2)로부터 상기 연마대상블록 수거부(500)까지 상기 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 이동시켜 제2공급위치(S2)에서 상기 가공이 완료된 연마대상블록(40)을 제거하는 연마대상블록제거부재(237)을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 연마대상블록 로딩부(230)는,
    상기 제1공급위치(S1)에서 상기 그리퍼(232)가 연마대상블록(40)을 그리핑하였는지 여부를 감지하는 그리핑감지부(238)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  7. 청구항 2에 있어서,
    상기 연마대상블록 공급부(230)는,
    상기 공급된 연마대상블록(40)을 지지하는 지지면(231)이 일단에 형성된 연마대상블록지지부(233)와;
    상기 연마대상블록지지부(233)를 상기 제1공급위치(S1)로부터 상기 제2공급위치(S2)로 이동시키는 공급부이동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 연마대상블록지지부(233)는,
    상기 지지면(231)의 가장자리의 적어도 일부에 연마대상블록(40)의 이탈을 방지하기 위하여 상부로 돌출된 일탈방지부(235)가 형성된 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 지그부(240)와 결합되어 상기 연마대상블록(40)에 의하여 상기 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 제어하는 측면압력제어부(260)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 측면압력제어부(260)는,
    상기 연마대상블록(40)에 의하여 상기 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 미리 설정된 설정압력으로 유지하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 측면압력제어부(260)는,
    상기 연마대상블록(40)에 의하여 상기 측면가공부(250)에 가해지는 압력을 미리 설정된 설정압력 범위 내로 유지하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  12. 청구항 1에 있어서,
    상기 측면가공부(250)는,
    원기둥형상으로 이루어지며, 길이방향 중심축을 회전축으로 회전되어 상기 연마대상블록(40)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 가공 하는 바이트부재(252)를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 연마대상블록(40)은,
    상기 연마대상블록(40)의 적층방향을 기준으로 최상부 및 최하부에 상기 연마대상시트(30)를 보호하기 위한 보호시트(10)를 포함하며,
    상기 측면가공부(250)는,
    상기 바이트부재(252)에 의한 가공시 상기 보호시트(10)와 대응되는 위치에 설치되는 가공가이드부재(254)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 가공가이드부재(420)는, 일체로 형성되는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마장치.
  15. 청구항 1 내지 청구항 14 중 어느 하나의 항에 따른 적층시트 연마장치의 적층시트 연마방법으로서,
    적재된 복수의 연마대상블록(40)들을 로딩위치(L)로 순차적으로 공급하는 제1이동단계와;
    상기 로딩위치(L)에서 제1공급위치(S1)로 연마대상블록(40)을 이동시키는 제2이동단계와;
    상기 제1공급위치(S1)에 위치된 연마대상블록(40)을 제2공급위치(S2)로 이동시키는 제3이동단계와;
    상기 연마대상블록 공급부(230)에 의하여 상기 제2공급위치(S2)로 이동된 연마대상블록(40)을 고정하여 가공위치로 이동되는 제4이동단계와;
    상기 고정된 연마대상블록(200)에 포함된 복수의 연마대상시트(30)들의 측면을 상대회전에 의하여 가공하는 측면가공단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 적층시트 연마방법.
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