WO2017149765A1 - エネルギー制御装置及びエネルギー処置具 - Google Patents

エネルギー制御装置及びエネルギー処置具 Download PDF

Info

Publication number
WO2017149765A1
WO2017149765A1 PCT/JP2016/056816 JP2016056816W WO2017149765A1 WO 2017149765 A1 WO2017149765 A1 WO 2017149765A1 JP 2016056816 W JP2016056816 W JP 2016056816W WO 2017149765 A1 WO2017149765 A1 WO 2017149765A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
heater
energy
output
phase difference
impedance
Prior art date
Application number
PCT/JP2016/056816
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
本田　吉隆
典弘 山田
Original Assignee
オリンパス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by オリンパス株式会社 filed Critical オリンパス株式会社
Priority to JP2018502483A priority Critical patent/JPWO2017149765A1/ja
Priority to PCT/JP2016/056816 priority patent/WO2017149765A1/ja
Priority to US15/261,139 priority patent/US20170252094A1/en
Publication of WO2017149765A1 publication Critical patent/WO2017149765A1/ja

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B18/04—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating
    • A61B18/12—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating by passing a current through the tissue to be heated, e.g. high-frequency current
    • A61B18/14—Probes or electrodes therefor
    • A61B18/1442—Probes having pivoting end effectors, e.g. forceps
    • A61B18/1445—Probes having pivoting end effectors, e.g. forceps at the distal end of a shaft, e.g. forceps or scissors at the end of a rigid rod
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B18/04—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating
    • A61B18/08—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by heating by means of electrically-heated probes
    • A61B18/082—Probes or electrodes therefor
    • A61B18/085—Forceps, scissors
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B1/00—Details of electric heating devices
    • H05B1/02—Automatic switching arrangements specially adapted to apparatus ; Control of heating devices
    • H05B1/0227—Applications
    • H05B1/023—Industrial applications
    • H05B1/025—For medical applications
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B17/00—Surgical instruments, devices or methods, e.g. tourniquets
    • A61B2017/00681—Aspects not otherwise provided for
    • A61B2017/00734—Aspects not otherwise provided for battery operated
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B2018/00571—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body for achieving a particular surgical effect
    • A61B2018/00607—Coagulation and cutting with the same instrument
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B2018/00571—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body for achieving a particular surgical effect
    • A61B2018/0063—Sealing
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B2018/00636—Sensing and controlling the application of energy
    • A61B2018/00696—Controlled or regulated parameters
    • A61B2018/00702—Power or energy
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
    • A61B2018/00636—Sensing and controlling the application of energy
    • A61B2018/00773—Sensed parameters
    • A61B2018/00875—Resistance or impedance

Definitions

  • the present invention relates to an energy control device that supplies electric energy to a heater provided in an energy treatment device, and an energy treatment device that is used together with the energy control device.
  • the heater temperature is estimated based on the resistance value of the heater, and the heater temperature control is performed. is there.
  • the magnitude of the AC electric energy supplied to the heater is controlled based on the resistance value of the heater, and the temperature of the heater is adjusted.
  • a liquid such as a body fluid may enter the installation surface (in the vicinity of the heater) on which the heater is installed, and the liquid may cause a short circuit in the heater or a capacitive component of the liquid.
  • a phase difference occurs between the current and voltage output to the heater, particularly due to the liquid volume component.
  • the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to prevent the resistance of the heater without being affected by the intrusion of liquid into the installation surface (in the vicinity of the heater) where the heater is installed.
  • An object of the present invention is to provide an energy control device and an energy treatment device that appropriately perform temperature control of a heater based on a value.
  • an aspect of the present invention provides an energy control apparatus that is used with an energy treatment device that treats a treatment target using heat generated by a heater, and includes AC electric energy supplied to the heater.
  • An energy output source that outputs a current and a voltage that is output from the energy output source to the heater in a state in which the AC electrical energy is output from the energy output source, and the detector
  • a processor that calculates a phase difference between the current and the voltage based on the detection result and controls the supply of the AC electric energy to the heater based on the phase difference.
  • Another aspect of the present invention is an energy control device that is used together with an energy treatment device that treats a treatment target using heat generated by a heater, and that outputs an AC electric energy supplied to the heater.
  • a detector for detecting an impedance between a pair of electrodes provided on an installation surface on which the heater is installed, or an impedance between an electrode provided on the installation surface and the heater, and the detector
  • a processor for controlling the supply of the AC electric energy to the heater based on the detected impedance between the electrodes or the impedance between the electrodes and the heater.
  • An energy treatment device includes a heater that generates heat when AC electric energy is supplied, an installation surface on which the heater is installed, and the heat generated by the heater is the installation surface. And a treatment surface that imparts the transmitted heat to the treatment target, provided on the installation surface, and a pair of impedances that change each other in response to a state change on the installation surface An electrode or an electrode provided on the installation surface, the impedance of which changes with the heater corresponding to the state change on the installation surface is further provided.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a treatment system according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a block diagram schematically showing a configuration for supplying energy from the energy control apparatus according to the first embodiment to the energy treatment device.
  • FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example of a heater according to the first embodiment.
  • FIG. 4 is a flowchart showing the process of the energy control device in the treatment using the heat generated by the heater in the first embodiment.
  • FIG. 5 is a schematic diagram illustrating an example of a path of RF electric energy in a state where liquid has entered the vicinity of the heater.
  • FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a state in which a phase difference has occurred between the current and voltage output to the heater.
  • FIG. 1 is a schematic view showing a treatment system according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a block diagram schematically showing a configuration for supplying energy from the energy control apparatus according to the first embodiment to the energy treatment device.
  • FIG. 3 is a schematic diagram illustrating an example
  • FIG. 7 is a block diagram schematically showing a configuration for supplying energy from the energy control device according to the first modification of the first embodiment to the energy treatment device.
  • FIG. 8 is a schematic diagram illustrating an example of a matching circuit according to a first modification of the first embodiment in a state where a resistance component and a capacitance component due to liquid are generated in the heater.
  • FIG. 9 is a flowchart showing the process of the energy control device in the treatment using the heat generated by the heater in the second modification of the first embodiment.
  • FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration of an installation surface on which a heater is installed and an energy control device in the second embodiment.
  • FIG. 11 is a flowchart illustrating processing of the energy control device in the treatment using heat generated by the heater in the second embodiment.
  • FIG. 12 is a schematic diagram illustrating a configuration of an installation surface on which a heater is installed in the first modification of the second embodiment.
  • FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a configuration of an installation surface on which a heater is installed and an energy control device in a second modification of the second embodiment.
  • FIG. 1 is a diagram showing a treatment system 1 of the present embodiment.
  • the treatment system 1 includes an energy treatment device 2 and an energy control device 3 that controls supply of energy to the energy treatment device 2.
  • the energy treatment device 2 has a longitudinal axis C.
  • one side in the direction along the longitudinal axis C is defined as the distal end side (arrow C1 side), and the opposite side to the distal end side is defined as the proximal end side (arrow C2 side).
  • the energy treatment device 2 includes a housing 5 that can be held, a shaft 6 that is coupled to the distal end side of the housing 5, and an end effector 7 that is provided at the distal end of the shaft 6.
  • a grip 11 is provided on the housing 5 and a handle 12 is rotatably attached. When the handle 12 is rotated with respect to the housing 5, the handle 12 is opened or closed with respect to the grip 11.
  • the end effector 7 includes a first grip piece 15 and a second grip piece 16.
  • a treatment target such as a blood vessel (biological tissue) can be gripped between the pair of gripping pieces 15 and 16.
  • FIG. 1 the opening / closing direction of the end effector 7 is indicated by arrows Y1 and Y2.
  • the first grip piece 15 is provided with a first facing surface (treatment surface) 17 that faces the second grip piece 16, and the second grip piece 16 has a first grip piece 15 ( A second facing surface (treatment surface) 18 is provided opposite to the first facing surface 17).
  • a first back surface 19 facing the opposite side of the first facing surface 17 in the opening / closing direction of the end effector 7 is provided on the outer surface of the first gripping piece 15.
  • a second back surface 20 is provided that faces away from the second facing surface 18 in the opening / closing direction of the end effector 7.
  • One end of a cable 13 is connected to the housing 5.
  • the other end of the cable 13 is detachably connected to the energy control device 3.
  • the treatment system 1 is provided with a foot switch 8 as an energy operation input unit.
  • a foot switch 8 an operation for outputting energy from the energy control device 3 to the energy treatment tool 2 is input.
  • an operation button or the like attached to the housing 5 of the energy treatment device 2 may be provided as an energy operation input unit.
  • FIG. 2 is a diagram showing a configuration for supplying energy from the energy control device 3 to the energy treatment device 2.
  • the energy control device 3 includes a processor 21 that controls the entire treatment system, and a storage medium 22.
  • the processor (control unit) 21 is formed of an integrated circuit including a CPU (Central Processing Unit), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), or an FPGA (Field Programmable Gate Array).
  • the processor 21 may be formed from one integrated circuit or may be formed from a plurality of integrated circuits. Processing in the processor 21 is performed according to a program stored in the processor 21 or the storage medium 22.
  • the storage medium 22 stores processing programs used by the processor 21, parameters and tables used in computations by the processor 21, and the like.
  • the processor 21 includes a phase difference calculation unit 23, an output control unit 25, and a PLL (Phase Lock Loop) control unit 26.
  • the phase difference calculation unit 23, the output control unit 25, and the PLL control unit 26 function as part of the processor 21 and perform part of the processing performed by the processor 21.
  • the energy control device 3 includes an energy output source 27 that outputs RF (Radio Frequency) electric energy that is AC power.
  • the energy output source 27 includes a waveform generator, a conversion circuit, a transformer, and the like (all not shown).
  • electric power from a power source such as a battery or an outlet is converted into RF electric energy (AC electric energy), and the converted RF electric energy is output.
  • the output control unit 25 of the processor 21 detects the presence / absence of an operation input in the energy operation input unit such as the foot switch 8 and the RF output from the energy output source 27 based on the operation input performed by the foot switch 8 or the like. Output electrical energy.
  • the output control unit 25 controls the driving of the energy output source 27 and controls the output state of the RF electric energy from the energy output source 27.
  • the PLL control unit 26 adjusts the frequency f in the output of RF electric energy.
  • the energy treatment tool 2 is provided with a heater (heating element) 31.
  • the end effector 7 is provided with a heater 31 on at least one of the gripping pieces 15 and 16.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of the heater 31. As shown in FIG. 3, in one embodiment, a heater 31 is provided on at least one of the gripping pieces 15, 16, and each of the gripping pieces (15; 16; 15, 16) provided with the heater 31 has an installation surface 28. A heater 31 is disposed on the top. In each of the gripping pieces (15; 16; 15, 16) provided with the heater 31, the installation surface 28 is provided inside and is opposed to the opposing surface (one corresponding to 17 and 18) in the opening / closing direction of the end effector 7.
  • the heater 31 has connection ends E1 and E2, and the heater 31 extends, for example, in a substantially U shape between the connection ends E1 and E2.
  • the heater 31 is electrically connected to the energy output source 27 via the supply path 32.
  • the RF electrical energy (RF power) output from the energy output source 27 is supplied to the heater 31 via the supply path 32.
  • RF electrical energy RF power
  • a potential difference is generated between the connection ends E ⁇ b> 1 and E ⁇ b> 2 in the heater 31, and a current flows through the heater 31.
  • heat is generated in the heater 31.
  • the heat generated by the heater 31 is transmitted through the installation surface 28 to an opposing surface (a corresponding one of 17 and 18) that is a treatment surface.
  • a detector 33 is provided in the supply path 32 from the energy output source 27 to the heater 31.
  • the detector 33 includes, for example, a current detection circuit and a voltage detection circuit provided in the energy control device 3.
  • the detector 33 detects the current I and voltage V output from the energy output source 27 to the heater 31. Thereby, changes with time of the current I and the voltage V are detected.
  • Information on the current I and voltage V detected by the detector 33 is converted from an analog signal to a digital signal by an A / D converter (not shown) or the like, and transmitted to the processor 21.
  • the output control unit 25 calculates the resistance value R of the heater 31 based on the detection result of the current I and the voltage V by the detector 33. Thereby, a change with time of the resistance value R of the heater 31 is detected. Here, the resistance value R of the heater 31 changes corresponding to the temperature T of the heater 31. Therefore, the output control unit 25 estimates the temperature T of the heater 31 based on the relationship between the resistance value R of the heater 31 and the resistance value R stored in the storage medium 22 and the temperature T. Then, based on the estimated temperature T of the heater 31, the output control unit 25 controls the output state of the RF electric energy from the energy output source 27 to control the temperature of the heater 31.
  • the constant temperature control that keeps the temperature T of the heater 31 constant over time at the target temperature T0. Is done. As described above, in the present embodiment, the temperature control of the heater 31 based on the resistance value R of the heater 31 is performed.
  • the phase difference calculation unit 23 of the processor 21 calculates the phase information of the current I output to the heater 31 and the phase information of the voltage V output to the heater 31 based on the detection result of the detector 33. Then, based on the phase information of each of the current I and the voltage V, the phase difference calculation unit 23 calculates the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V. Thereby, a change with time of the phase difference ⁇ is detected.
  • the output control unit 25 of the processor 21 controls the output state of the RF electric energy from the energy output source 27 based on the phase difference ⁇ , and controls the supply of the RF electric energy to the heater 31. Further, the PLL control unit 26 adjusts the frequency f of the output of RF electric energy (RF power) by adjusting the frequency of the current I or the voltage V based on the phase difference ⁇ .
  • the end effector 7 is inserted into a body cavity such as the abdominal cavity, and a treatment target (biological tissue) such as a blood vessel is disposed between the grasping pieces 15 and 16. Then, the handle 12 is closed with respect to the grip 11, and the space between the gripping pieces 15 and 16 is closed. Thereby, the treatment target is gripped between the gripping pieces 15 and 16, and the opposing surfaces 17 and 18 come into contact with the treatment target.
  • RF electric energy RF power
  • the output RF electrical energy is supplied to the heater 31, and heat is generated in the heater 31.
  • heat generated by the heater 31 is applied to the treatment target gripped from the opposing surface (one corresponding one of 17, 18). .
  • the treatment target is coagulated simultaneously with the incision, and the treatment target is treated using the heat generated by the heater 31.
  • FIG. 4 is a flowchart showing the process of the energy control device 3 in the treatment using the heat generated by the heater 31.
  • the processor 21 determines whether or not an operation input has been performed on the foot switch (energy operation input unit) 8 (that is, whether the operation input is ON or OFF). (Step S101). If no operation input has been performed (step S101—No), the process returns to step S101. That is, the processor (control unit) 21 stands by until an operation input is performed by the foot switch 8. When an operation input is performed (step S101—Yes), the processor 21 (output control unit 25) starts outputting RF electrical energy from the energy output source 27 (step S102).
  • the detector 33 detects the current I and the voltage V output from the energy output source 27 to the heater 31 (step S103). Then, the processor 21 (output control unit 25) calculates the resistance value R of the heater 31 based on the detection result of the current I and the voltage V (step S104). Then, the processor 21 (output control unit 25) controls the output state of the RF electric energy from the energy output source 27 based on the calculated resistance value R, and controls the temperature of the heater 31 (step S105).
  • the processor 21 calculates the phase information of the current I and the voltage V, and calculates the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V. (Step S106). Then, the processor 21 (phase difference calculation unit 23) determines whether or not the calculated phase difference ⁇ is equal to or smaller than a predetermined threshold value ⁇ th (whether ⁇ ⁇ ⁇ th is satisfied) (step S107). When the phase difference ⁇ is equal to or smaller than the predetermined threshold ⁇ th (step S107—Yes), the processor 21 (PLL control unit 26) maintains the frequency f in the output of RF electric energy (step S108).
  • step S107—No when the phase difference ⁇ is larger than the predetermined threshold ⁇ th (step S107—No), the processor 21 (PLL control unit 26) changes the frequency f in the output of RF electric energy by PLL control (step S109).
  • the phase difference ⁇ is decreased (step S110). That is, the processor 21 performs control to reduce the phase difference ⁇ by adjusting the frequency f. For example, when the phase difference ⁇ is larger than a predetermined threshold value ⁇ th, the frequency f at the output of RF electric energy is lowered to reduce the phase difference ⁇ .
  • step S111 determines whether or not the operation input is maintained in the ON state by the foot switch 8 (step S111). As long as the operation input is maintained in the ON state (step S111—No), the process returns to step S103, and the processes after step S103 are sequentially performed.
  • step S111—Yes the processor 21 (output control unit 25) stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 (step S112).
  • FIG. 5 is a diagram illustrating an example of a path of RF electric energy output from the energy output source 27 in a state where liquid has entered the vicinity of the heater 31 (installation surface 28).
  • the liquid resistance component R ′, the liquid capacitance component C ′, etc. Will occur.
  • FIG. 6 shows a state in which a phase difference has occurred between the current I and the voltage V.
  • the horizontal axis indicates time t
  • the vertical axis indicates current I and voltage V.
  • the change with time of the current I is indicated by a solid line
  • the change with time of the voltage V is indicated by a broken line.
  • the phase difference ⁇ is calculated by the process of step S106, and whether the phase difference ⁇ is equal to or smaller than the predetermined threshold value ⁇ th by the process of step S107 (whether ⁇ ⁇ ⁇ th is satisfied). No) is determined.
  • the processes of steps S109 and S110 are performed by PLL control. That is, processing (control) is performed in which the frequency f in the output of RF electrical energy is changed to reduce the phase difference ⁇ .
  • the process of reducing the phase difference ⁇ by changing the frequency f is repeatedly performed over time until the phase difference ⁇ becomes equal to or less than a predetermined threshold value ⁇ th.
  • the predetermined threshold ⁇ th is set to a minute value such that the phase difference ⁇ hardly affects the calculation of the resistance value R of the heater 31 based on the current I and the voltage V.
  • the threshold value ⁇ th may be set to 0.
  • the processor 21 when the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V increases, the frequency f at the output of the RF electrical energy is changed to reduce the phase difference ⁇ . For this reason, the influence of the phase difference ⁇ is reduced, and the processor 21 appropriately calculates the resistance value R of the heater 31 based on the current I and the voltage V. As a result, the processor 21 appropriately controls the output state of the RF electrical energy from the energy output source 27 based on the resistance value R of the heater 31, and the temperature control of the heater 31 based on the resistance value R is accurate and stable. Done. Therefore, the temperature control of the heater 31 based on the resistance value R of the heater 31 is appropriately performed without being affected by the intrusion of liquid into the installation surface 28 on which the heater 31 is installed (state change on the installation surface 28). .
  • FIG. 7 is a diagram showing a configuration for supplying energy from the energy control device 3 to the energy treatment device 2 in the present modification.
  • the processor 21 includes a circuit control unit 36 that controls the driving of the matching circuit 35.
  • the circuit control unit 36 forms part of the processor 21 and performs part of the processing performed by the processor 21.
  • the circuit control unit 36 controls driving of the matching circuit 35 based on the phase difference ⁇ . Further, in the present modification, the PLL control described in the first embodiment is not performed.
  • FIG. 8 shows an example of the matching circuit 35 in a state where a resistance component R ′ and a capacitance component C ′ due to liquid are generated in the heater 31.
  • a variable coil 37 is disposed in parallel with the heater 31 (heater resistance).
  • the variable coil 37 can change the inductance La.
  • the circuit control unit 36 adjusts the inductance La of the variable coil 37 in the matching circuit 35 based on the phase difference ⁇ .
  • the detector 33 detects the current I and the voltage V output to the heater 31 in a state where RF electric energy is output from the energy output source 27 to the heater 31.
  • the processor 21 calculates the resistance value R of the heater 31 (step S104 in FIG. 4), and controls the temperature of the heater 31 based on the resistance value R ( Step S105 in FIG.
  • the processor 21 calculates the phase difference ⁇ (step S106 in FIG. 4), and determines whether or not the phase difference ⁇ is equal to or smaller than a predetermined threshold value ⁇ th ( Step S107 in FIG.
  • step S107 when the phase difference ⁇ is equal to or smaller than the predetermined threshold ⁇ th (step S107—Yes), the processor 21 (circuit control unit 36) maintains the inductance La of the variable coil 37 in step S108.
  • the processor 21 when the phase difference ⁇ is larger than the predetermined threshold ⁇ th (step S107-No), the processor 21 (circuit control unit 36) controls the driving of the matching circuit 35 in step S109, thereby controlling the variable coil 37.
  • the inductance La is changed.
  • the processor 21 decreases the phase difference ⁇ (step S110 in FIG. 4). That is, the processor 21 performs control to reduce the phase difference ⁇ by adjusting the inductance La of the variable coil 37.
  • phase difference ⁇ when the phase difference ⁇ is larger than a predetermined threshold value ⁇ th, the inductance La of the variable coil 37 is decreased to decrease the phase difference ⁇ .
  • control is performed to maintain the phase difference ⁇ below a predetermined threshold ⁇ th in a state where RF electrical energy is output.
  • the present modification when the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V increases, the inductance La of the variable coil 37 is changed to reduce the phase difference ⁇ .
  • the present modification also has the same effect as that of the first embodiment.
  • the variable coil 37 is provided in parallel with the heater 31 in the matching circuit 35.
  • the matching circuit 35 may be provided with a variable capacitor whose capacitance can be changed instead of or in addition to the variable coil 37.
  • the processor 21 (circuit control unit 36) controls the driving of the matching circuit 35 in step S109, thereby changing the variable capacitor. Change the capacity. Thereby, the processor 21 decreases the phase difference ⁇ (step S110).
  • a variable coil and / or a variable capacitor may be arranged in series with the heater 31. Also in this case, the processor 21 adjusts the inductance of the variable coil and / or the capacity of the variable capacitor based on the phase difference ⁇ .
  • both the adjustment of the frequency f in the output of RF electric energy and the drive control of the matching circuit 35 based on the phase difference ⁇ may be performed by the processor 21.
  • the processor 21 changes the frequency f in the output of the RF electric energy in step S109 and the matching circuit 35 changes the variable coil.
  • the inductance (La) of (37) and / or the capacitance of the variable capacitor is changed. Thereby, the processor 21 decreases the phase difference ⁇ (step S110).
  • the processor 21 determines that the phase difference ⁇ is larger when the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V is larger than a predetermined threshold value ⁇ th. Control to reduce the. That is, control for maintaining the phase difference ⁇ at a predetermined threshold value ⁇ th or less is performed.
  • FIG. 9 is a flowchart showing the process of the energy control device 3 in the treatment using the heat generated by the heater 31 in the present modification.
  • the processes of steps S101 to S107 are performed in the same manner as in the first embodiment.
  • the processor 21 turns on the operation input with the foot switch 8. It is determined whether or not the state is maintained (step S111).
  • step S111—No the process returns to step S103, and the processes after step S103 are performed again. Further, when the operation input is switched to the OFF state (step S111—Yes), the processor 21 (output control unit 25) stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 (step S112).
  • step S107-No when the phase difference ⁇ is larger than the predetermined threshold value ⁇ th (step S107-No), the processor 21 forcibly stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 (step S113). That is, the processor 21 stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 based on the fact that the phase difference ⁇ is larger than the predetermined threshold value ⁇ th.
  • the energy control device (3) includes an energy output source (27) that outputs RF electric energy (AC electric energy) supplied to the heater (31), and an energy output source ( 27) A detector (33) for detecting current (I) and voltage (V) output from the energy output source (27) to the heater (31) in a state where RF electric energy (AC electric energy) is output from And).
  • the energy control device (3) calculates a phase difference ( ⁇ ) between the current (I) output to the heater (31) and the voltage (V) based on the detection result of the detector (33), and the phase difference
  • a processor (21) for controlling the supply of RF electric energy to the heater (31) based on ( ⁇ ) is provided.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating the configuration of the installation surface 28 (in the vicinity of the heater 31) on which the heater 31 of the present embodiment is installed and the energy control device 3.
  • a pair of electrodes 41 ⁇ / b> A and 41 ⁇ / b> B are provided on the installation surface 28 on which the heater 31 is installed.
  • a crossing direction (directions of arrows W1 and W2) intersecting the longitudinal axis C is defined.
  • the intersecting direction intersects, for example, the longitudinal axis C (substantially perpendicular) and intersects (substantially perpendicular) the opening / closing direction of the end effector 7 (directions of arrows Y1 and Y2 in FIG. 1). .
  • the electrode 41A surrounds the heater 31 from the front end side (arrow C1 side) and one side in the crossing direction (arrow W1 side) on the installation surface 28. Further, the electrode 41B surrounds the heater 31 from the tip side (arrow C1 side) and the other side (arrow W2 side) in the crossing direction on the installation surface 28. On the installation surface 28, each of the electrodes 41 ⁇ / b> A and 41 ⁇ / b> B is disposed outside the heater 31.
  • the energy control device 3 includes a processor 21, a storage medium 22, and an energy output source 27.
  • the energy output source 27 is electrically connected to the heater 31 via the supply path 32.
  • RF electric energy AC electric energy
  • the treatment target is treated using the heat generated by the heater 31.
  • a detector 33 that detects a current I and a voltage V output from the energy output source 27 to the heater 31 is provided.
  • the processor 21 calculates the resistance value R of the heater 31 based on the detection result of the current I and the voltage V by the detector 33. Then, the processor 21 (the output control unit 25) estimates the temperature T of the heater 31 based on the calculated resistance value R, and controls the temperature of the heater 31.
  • the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V is not calculated.
  • the energy control device 3 includes an impedance detector (detector) 42 that detects the impedance Za between the electrodes 41A and 41B.
  • the impedance detector 42 is electrically connected to the electrodes 41A and 41B via the measurement path 43.
  • the impedance detector 42 includes a conversion circuit, a transformer, an integrated circuit and the like (all not shown), and the integrated circuit includes a detection circuit and an arithmetic circuit.
  • the integrated circuit provided in the impedance detector 42 may function as a part of the processor 21.
  • the impedance detector 42 converts electric power from a power source (not shown) into electric energy for measurement (electric power for measurement) that is electric energy different from RF electric energy, and outputs the converted electric energy for measurement.
  • the output electrical energy for measurement is supplied to the electrodes 41A and 41B via the measurement path 43. By supplying measurement electric energy to the electrodes 41A and 41B, a potential difference is generated between the electrodes 41A and 41B.
  • the power source that supplies power to the impedance detector 42 may be the same as or different from the power source of the energy output source 27. Further, the output of the electrical energy for measurement from the impedance detector 42 is controlled by the processor 21.
  • the impedance detector 42 measures, for example, a current flowing through the measurement path 43 and a potential difference between the pair of electrodes 41A and 41B. Then, based on the measurement result, the impedance detector 42 detects (calculates) the impedance Za between the electrodes 41A and 41B. Thereby, the change with time of the impedance Za is detected, and the in-piece Za is monitored.
  • the output state of the RF electric energy from the energy output source 27 is controlled based on the detection result of the impedance Za by the impedance detector 42. Then, the supply of RF electric energy to the heater 31 is controlled.
  • FIG. 11 is a flowchart showing processing of the energy control device 3 in the treatment using heat generated by the heater 31 in the present embodiment. As shown in FIG. 11, the processing in steps S101 to S105 is performed in this embodiment as well as in the first embodiment. However, in the present embodiment, the calculation of the phase difference ⁇ between the current I and the voltage V (step S106) is not performed, and the determination based on the phase difference ⁇ (step S107) is not performed.
  • the processor 21 causes the impedance detector 42 to output measurement electric energy to the pair of electrodes 41A and 41B, and the electrode 41A. , 41B is generated (step S114).
  • the impedance detector (detector) 42 detects the impedance Za between the electrodes 41A and 41B based on the potential difference between the electrodes 31A and 41B, the current flowing through the measurement path 43, and the like (step S115).
  • the processor 21 determines whether or not the impedance Za detected by the impedance detector 42 is equal to or greater than a predetermined threshold value Zath (whether Za ⁇ Zath) (step S116).
  • a predetermined threshold value Zath whether Za ⁇ Zath
  • the processor 21 determines whether or not the operation input is maintained in the ON state by the foot switch 8 (step S111). As long as the operation input is maintained in the ON state (step S111—No), the process returns to step S103, and the processes after step S103 are performed again. Further, when the operation input is switched to the OFF state (step S111—Yes), the processor 21 (output control unit 25) stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 (step S112).
  • the processor 21 forcibly stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 (step S113). That is, the processor 21 stops the output of the RF electrical energy from the energy output source 27 based on the fact that the impedance Za is smaller than the predetermined threshold value Zath.
  • a liquid such as a body fluid may enter the installation surface 28 (in the vicinity of the heater 31) on which the heater 31 is installed.
  • the state on the installation surface 28 changes, and a short circuit may occur in the heater 31 or a capacitive component of the liquid may occur.
  • a phase difference ⁇ is generated between the current I output to the heater 31 and the voltage V.
  • the electrodes 41A and 41B when a liquid enters the installation surface 28, the electrodes 41A and 41B are electrically connected via the penetrated liquid.
  • the impedance Za between the electrodes 41A and 41B is reduced. That is, the impedance Za between the electrodes 41 ⁇ / b> A and 41 ⁇ / b> B changes in response to a change in the liquid intrusion state on the installation surface 28 (that is, a state change on the installation surface 28).
  • the impedance Za is calculated by the process of step S115, and it is determined by the process of step S116 whether or not the impedance Za is equal to or greater than a predetermined threshold value Zath.
  • the impedance Za is smaller than the predetermined threshold value Zath, the output of the RF electric energy from the energy output source 27 is forcibly stopped by the process of step S113.
  • the control is performed as described above, in this embodiment, when the liquid enters the installation surface 28 and a short circuit occurs in the heater 31 or a volume component of the liquid is generated, the output of the RF electric energy is appropriately stopped. . Therefore, in the present embodiment, similarly to the first embodiment, the temperature control of the heater 31 based on the resistance value R of the heater 31 is performed without being affected by the intrusion of liquid into the installation surface 28 on which the heater 31 is installed. Done properly.
  • positioning of electrode 41A, 41B on the installation surface 28 is not restricted to arrangement
  • the electrode 41A has a crossing direction (arrow W1) that intersects the distal end side (arrow C1 side) and the longitudinal axis C. And the direction of the arrow W2), the heater 31 is surrounded from both sides.
  • the other electrode 41B surrounds the electrode 41A from both sides with respect to the distal end side and the crossing direction.
  • the energy control device 3 performs the same process (see FIG. 11) as in the second embodiment in the treatment using the heat generated by the heater 31.
  • step S116 when a liquid enters the installation surface 28, before the short circuit due to the liquid or the capacitive component of the liquid occurs in the heater 31, The electrodes 41A and 41B are electrically connected by liquid. For this reason, before a short circuit or a liquid capacitive component occurs in the heater 31, it is determined in step S116 that the impedance Za is smaller than the predetermined threshold value Zath, and the process of step S113 causes the RF electric energy from the energy output source 27 to be reduced. Output is stopped. That is, in this modification, when liquid enters the installation surface 28 (in the vicinity of the heater 31), the liquid intrusion is detected quickly and accurately, and the detection accuracy is improved.
  • the pair of electrodes 41A and 41B are arranged on the installation surface 28, but the present invention is not limited to this.
  • the heater 31 surrounds the electrode 41 from both sides in the intersecting direction (the direction of the arrow W1 and the arrow W2) intersecting the front end side (arrow C1 side) and the longitudinal axis C. For this reason, the heater 31 is disposed outside the electrode 41 on the installation surface 28.
  • the impedance detector 42 is electrically connected to the heater 31 and the electrode 41 via the measurement path 43. For this reason, in this modification, a part of the supply path 32 is shared as the measurement path 43. In this modification, no electrical energy for measurement is output from the impedance detector 42, and RF electrical energy is output from the energy output source 27 to the heater 31, thereby generating a potential difference between the heater 31 and the electrode 41. .
  • the electrode 41 has substantially the same potential as one connection end E1 of the heater 31, and the heater 31 has the maximum potential difference with the electrode 41 at the other connection end E2.
  • the impedance detector 42 measures, for example, the current flowing in the measurement path 43 and the potential difference between the electrode 41 and the heater 31. Based on the measurement result, the impedance detector 42 detects (calculates) the impedance Zb between the electrode 41 and the heater 31. Thereby, a change with time of the impedance Zb is detected, and the impedance Zb is monitored. And in this modification, in the state where RF electric energy is output from the energy output source 27, the output state of the RF electric energy from the energy output source 27 based on the detection result of the impedance Zb by the impedance detector 42. And the supply of RF electric energy to the heater 31 is controlled.
  • the processing of steps S101 to S105 is performed (see FIG. 11).
  • the processor 21 generates a potential difference between the electrode 41 and the heater 31 in step S114.
  • the impedance detector (detector) 42 detects the impedance Zb between the electrode 41 and the heater 31 in step S115.
  • step S116 the processor 21 determines whether or not the impedance Zb detected by the impedance detector 42 is equal to or greater than a predetermined threshold value Zbth (whether Zb ⁇ Zbth). If the impedance Zb is equal to or greater than the predetermined threshold value Zbth (step S116—Yes), the process proceeds to step S111. On the other hand, when the impedance Zb is smaller than the predetermined threshold value Zbth (step S116-No), the process proceeds to step S113, and the processor 21 forcibly stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27. That is, the processor 21 stops the output of the RF electric energy from the energy output source 27 based on the fact that the impedance Zb is smaller than the predetermined threshold value Zbth.
  • the electrode 41 is disposed inside the heater 31.
  • the electrode 41 may be disposed outside the heater 31.
  • the output of RF energy is stopped when the impedance Za is smaller than the predetermined threshold value Za or when the impedance Zb is smaller than the predetermined threshold value Zb.
  • the frequency f at the output of the RF electric energy may be changed by the PLL control described above.
  • a matching circuit (35) may be provided in the supply path 32.
  • the inductance (La) and / or variable of the variable coil (37) in the matching circuit (35). Change the capacitance of the capacitor.
  • the energy control device (3) includes an energy output source (27) that outputs RF electric energy (AC electric energy) supplied to the heater (31), and a heater (31).
  • the energy control device (3) is based on the impedance (Za) between the electrodes (41A, 41B) detected by the detector (42) or the impedance (Zb) between the electrode (41) and the heater (31).
  • a processor (21) for controlling the supply of RF electrical energy to the heater (31).
  • RF electric energy is supplied to the heater 31, but the present invention is not limited to this.
  • the above-described control can be applied.
  • each of the grasping pieces 15 and 16 is provided with a treatment electrode (not shown), and RF electric energy different from the RF electric energy supplied to the heater 31 is supplied to each of the treatment electrodes.
  • RF electric energy is supplied to each of the treatment electrodes while the treatment target is gripped, whereby an RF current flows through the treatment target between the treatment electrodes, and the RF current is applied to the treatment target.
  • ultrasonic vibration is applied to the treatment target to be grasped.
  • the energy treatment instrument 2 is provided with an ultrasonic transducer (not shown), and the electrical energy different from the RF electrical energy supplied to the heater 31 (for example, AC power whose output has a predetermined frequency) is super high. Supplied to the sonic transducer. Thereby, ultrasonic vibration is generated by the ultrasonic transducer, and the generated ultrasonic vibration is transmitted to one of the gripping pieces 15 and 16. By transmitting ultrasonic vibration to one of the gripping pieces 15 and 16 while the treatment target is gripped, the transmitted ultrasonic vibration is applied to the treatment target.
  • the end effector 7 includes the pair of gripping pieces 15 and 16, but is not limited thereto.
  • the end effector 7 is formed in a hook shape, a spatula shape, a blade shape, or the like.
  • the end effector 7 in the treatment, the end effector 7 is brought into contact with the treatment target, and the heat generated by the heater 31 is applied to the treatment target.
  • the ultrasonic vibration may be transmitted to the end effector 7 and the ultrasonic vibration may be applied to the treatment target in addition to the heat generated by the heater 31.
  • an RF current may be passed through the treatment target between the treatment electrode provided on the end effector 7 and a counter electrode plate disposed outside the body. In this case, an RF current is applied to the treatment target in addition to the heat generated by the heater 31.

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Otolaryngology (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Surgical Instruments (AREA)

Abstract

エネルギー制御装置は、ヒータに供給される交流電気エネルギーを出力するエネルギー出力源と、前記エネルギー出力源から前記交流電気エネルギーが出力されている状態において、前記エネルギー出力源から前記ヒータに出力される電流及び電圧を経時的に検出する検出器と、を備える。前記エネルギー制御装置は、前記検出器での検出結果に基づいて前記ヒータに出力される前記電流と前記電圧との位相差を経時的に算出し、前記位相差に基づいて前記ヒータへの前記交流電気エネルギーの供給を制御するプロセッサを備える。

Description

エネルギー制御装置及びエネルギー処置具
　本発明は、エネルギー処置具に設けられるヒータに電気エネルギーを供給するエネルギー制御装置、及び、そのエネルギー制御装置とともに用いられるエネルギー処置具に関する。
　国際公開第２０１１／０８９７１７号公報には、エネルギー処置具に設けられるヒータにエネルギー制御装置からＲＦ（Radio Frequency）電気エネルギー（交流電気エネルギー）が供給される処置システムが開示されている。この処置システムでは、ヒータにＲＦ電気エネルギーが供給されることにより、ヒータにおいて熱が発生する。そして、ヒータで発生した熱が、生体組織等の処置対象に付与される。
　国際公開第２０１１／０８９７１７号公報のようにヒータに発生する熱を用いて処置対象を処置する構成では、ヒータの抵抗値に基づいてヒータの温度を推定し、ヒータの温度制御が行われることがある。この場合、ヒータの抵抗値に基づいて、ヒータに供給される交流電気エネルギーの大きさが制御され、ヒータの温度が調整される。ここで、処置において、ヒータが設置される設置面（ヒータの近傍）に体液等の液体が侵入し、液体によってヒータにおいて短絡が発生したり、液体の容量成分が発生したりすることがある。この場合、特に液体の容量成分等により、ヒータへ出力される電流と電圧との間に位相差が発生する。電流と電圧との間の位相差が大きくなると、ヒータの抵抗値に基づくヒータの温度制御への影響が大きくなる。
　本発明は前記課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、ヒータが設置される設置面（ヒータの近傍）への液体の侵入の影響を受けることなく、ヒータの抵抗値に基づくヒータの温度制御が適切に行われるエネルギー制御装置及びエネルギー処置具を提供することにある。
　前記目的を達成するために、本発明のある態様は、ヒータで発生した熱を用いて処置対象を処置するエネルギー処置具とともに用いられるエネルギー制御装置であって、前記ヒータに供給される交流電気エネルギー を出力するエネルギー出力源と、前記エネルギー出力源から前記交流電気エネルギーが出力されている状態において、前記エネルギー出力源から前記ヒータに出力される電流及び電圧を検出する検出器と、前記検出器での検出結果に基づいて前記電流と前記電圧との位相差を算出し、前記位相差に基づいて前記ヒータへの前記交流電気エネルギーの供給を制御するプロセッサと、を備える。
　本発明の別のある態様は、ヒータで発生した熱を用いて処置対象を処置するエネルギー処置具とともに用いられるエネルギー制御装置であって、前記ヒータに供給される交流電気エネルギーを出力するエネルギー出力源と、前記ヒータが設置される設置面上に設けられる 一対の電極間のインピーダンス、又は、前記設置面上に設けられる電極と前記ヒータとの間のインピーダンスを検出する検出器と、前記検出器で検出された前記電極間の前記インピーダンス又は前記電極と前記ヒータとの間のインピーダンスに基づいて、前記ヒータへの前記交流電気エネルギーの供給を制御するプロセッサと、を備える。
　本発明の別のある態様のエネルギー処置具は、交流電気エネルギーが供給されることにより熱を発生するヒータと、前記ヒータが設置される設置面と、前記ヒータで発生した前記熱が前記設置面から伝達され 、伝達された熱を処置対象に付与する処置面と、を備え、前記設置面上に設けられ、前記設置面上の状態変化に対応して互いの間のインピーダンスが変化する一対の電極、又は、前記設置面上に設けられ、前記設置面上の前記状態変化に対応して前記ヒータとの間のインピーダンスが変化する電極、をさらに備える。
図１は、第１の実施形態に係る処置システムを示す概略図である。 図２は、第１の実施形態に係るエネルギー制御装置からエネルギー処置具にエネルギーを供給する構成を概略的に示すブロック図である。 図３は、第１の実施形態に係るヒータの一例を示す概略図である。 図４は、第１の実施形態において、ヒータで発生した熱を用いた処置でのエネルギー制御装置の処理を示すフローチャートである。 図５は、ヒータの近傍に液体が侵入した状態での、ＲＦ電気エネルギーの経路の一例を示す概略図である。 図６は、ヒータに出力される電流と電圧との間に位相差が発生した状態を示す概略図である。 図７は、第１の実施形態の第１の変形例に係るエネルギー制御装置からエネルギー処置具にエネルギーを供給する構成を概略的に示すブロック図である。 図８は、第１の実施形態の第１の変形例に係るマッチング回路の一例を、ヒータにおいて液体による抵抗成分及び容量成分が発生した状態で示す概略図である。 図９は、第１の実施形態の第２の変形例において、ヒータで発生した熱を用いた処置でのエネルギー制御装置の処理を示すフローチャートである。 図１０は、第２の実施形態において、ヒータが設置される設置面及びエネルギー制御装置の構成を示す概略図である。 図１１は、第２の実施形態において、ヒータで発生した熱を用いた処置でのエネルギー制御装置の処理を示すフローチャートである。 図１２は、第２の実施形態の第１の変形例において、ヒータが設置される設置面の構成を示す概略図である。 図１３は、第２の実施形態の第２の変形例において、ヒータが設置される設置面及びエネルギー制御装置の構成を示す概略図である。
（第１の実施形態）　
　本発明の第１の実施形態について、図１乃至図６を参照して説明する。
　図１は、本実施形態の処置システム１を示す図である。図１に示すように、処置システム１は、エネルギー処置具２と、エネルギー処置具２へのエネルギーの供給を制御するエネルギー制御装置３と、を備える。エネルギー処置具２は、長手軸Ｃを有する。ここで、長手軸Ｃに沿う方向の一方側を先端側（矢印Ｃ１側）とし、先端側とは反対側を基端側（矢印Ｃ２側）とする。
　エネルギー処置具２は、保持可能なハウジング５と、ハウジング５の先端側に連結されるシャフト６と、シャフト６の先端部に設けられるエンドエフェクタ７と、を備える。ハウジング５には、グリップ１１が設けられるとともに、ハンドル１２が回動可能に取付けられている。ハンドル１２がハウジング５に対して回動することにより、ハンドル１２がグリップ１１に対して開く又は閉じる。
　エンドエフェクタ７は、第１の把持片１５及び第２の把持片１６を備える。ハンドル１２をグリップ１１に対して開く又は閉じることにより、一対の把持片１５，１６の間が開く又は閉じる。これにより、一対の把持片１５，１６の間で血管（生体組織）等の処置対象を把持可能となる。なお、図１では、エンドエフェクタ７の開閉方向を矢印Ｙ１及び矢印Ｙ２で示している。また、第１の把持片１５には、第２の把持片１６に対向する第１の対向面（処置面）１７が設けられ、第２の把持片１６には、第１の把持片１５（第１の対向面１７）に対向する第２の対向面（処置面）１８が設けられる。把持片１５，１６の間で処置対象が把持された状態では、対向面１７，１８が処置対象に接触する。また、第１の把持片１５の外表面には、エンドエフェクタ７の開閉方向について第１の対向面１７とは反対側を向く第１の背面１９が設けられ、第２の把持片１６の外表面には、エンドエフェクタ７の開閉方向について第２の対向面１８とは反対側を向く第２の背面２０が設けられる。
　ハウジング５には、ケーブル１３の一端が接続されている。ケーブル１３の他端は、エネルギー制御装置３に分離可能に接続される。また、処置システム１には、エネルギー操作入力部としてフットスイッチ８が設けられている。フットスイッチ８では、エネルギー制御装置３からエネルギー処置具２へエネルギーを出力させる操作が入力される。なお、フットスイッチ８の代わりに又は加えて、エネルギー処置具２のハウジング５に取付けられる操作ボタン等が、エネルギー操作入力部として設けられてもよい。
　図２は、エネルギー制御装置３からエネルギー処置具２にエネルギーを供給する構成を示す図である。図２に示すように、エネルギー制御装置３は、処置システム全体を制御するプロセッサ２１と、記憶媒体２２と、を備える。プロセッサ（制御部）２１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）又はＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Array）等を含む集積回路から形成されている。プロセッサ２１は、１つの集積回路から形成されてもよく、複数の集積回路から形成されてもよい。プロセッサ２１での処理は、プロセッサ２１又は記憶媒体２２に記憶されたプログラムに従って行われる。また、記憶媒体２２には、プロセッサ２１で用いられる処理プログラム、及び、プロセッサ２１での演算で用いられるパラメータ及びテーブル等が記憶されている。プロセッサ２１は、位相差算出部２３、出力制御部２５及びＰＬＬ（Phase Lock Loop）制御部２６を備える。位相差算出部２３、出力制御部２５及びＰＬＬ制御部２６は、プロセッサ２１の一部として機能し、プロセッサ２１によって行われる処理の一部を行う。
　また、エネルギー制御装置３は、交流電力であるＲＦ（Radio Frequency）電気エネルギーを出力するエネルギー出力源２７を備える。エネルギー出力源２７は、波形生成器、変換回路及び変圧器等（いずれも図示しない）を備える。エネルギー出力源２７では、バッテリー又はコンセント等の電源（図示しない）からの電力がＲＦ電気エネルギー（交流電気エネルギー）に変換され、変換されたＲＦ電気エネルギーが出力される。プロセッサ２１の出力制御部２５は、フットスイッチ８等のエネルギー操作入力部での操作入力の有無を検出し、フットスイッチ８等で操作入力が行われたことに基づいて、エネルギー出力源２７からＲＦ電気エネルギーを出力させる。また、出力制御部２５は、エネルギー出力源２７の駆動を制御し、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御する。さらに、ＰＬＬ制御部２６は、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを調整する。
　エネルギー処置具２には、ヒータ（発熱体）３１が設けられる。ある実施例では、エンドエフェクタ７において、把持片１５，１６の少なくとも一方にヒータ３１が設けられる。図３は、ヒータ３１の一例を示す図である。図３に示すように、ある実施例では、把持片１５，１６の少なくとも一方にヒータ３１が設けられ、ヒータ３１が設けられる把持片（１５；１６；１５，１６）のそれぞれでは、設置面２８上にヒータ３１が配置される。ヒータ３１が設けられる把持片（１５；１６；１５，１６）のそれぞれでは、設置面２８は、内部に設けられ、エンドエフェクタ７の開閉方向について対向面（１７，１８の対応する１つ）と背面（１９，２０の対応する１つ）との間に位置している。すなわち、ヒータ３１が設けられる把持片（１５；１６；１５，１６）のそれぞれでは、設置面２８は、対向面（１７，１８の対応する１つ）に対してエンドエフェクタ７が開く側に位置する。ヒータ３１は、接続端Ｅ１,Ｅ２を有し、ヒータ３１は、接続端Ｅ１，Ｅ２の間において、例えば略Ｕ字状に延設される。
　図２に示すように、ヒータ３１は、供給経路３２を介してエネルギー出力源２７と電気的に接続されている。エネルギー出力源２７から出力されたＲＦ電気エネルギー（ＲＦ電力）は、供給経路３２を介してヒータ３１に供給される。ヒータ３１にＲＦ電気エネルギーが供給されている際には、ヒータ３１において接続端Ｅ１，Ｅ２の間に電位差が発生し、ヒータ３１に電流が流れる。これにより、ヒータ３１で熱が発生する。ヒータ３１が設けられる把持片のそれぞれでは、ヒータ３１で発生した熱は、設置面２８を通して処置面である対向面（１７，１８の対応する１つ）に伝達される。そして、処置対象が把持される状態では、ヒータ３１の熱が伝達された対向面（１７；１８；１７，１８）から、熱が処置対象に付与される。把持片１５，１６の少なくとも一方にヒータ３１が設けられることにより、対向面１７，１８の少なくとも一方から、ヒータ３１で発生した熱が処置対象に付与される。
　また、エネルギー出力源２７からヒータ３１への供給経路３２には、検出器３３が設けられている。検出器３３は、例えばエネルギー制御装置３に設けられる電流検知回路及び電圧検知回路等から構成される。エネルギー出力源２７からＲＦ電気エネルギーが出力されている状態において、検出器３３は、エネルギー出力源２７からヒータ３１へ出力される電流Ｉ及び電圧Ｖを検出する。これにより、電流Ｉ及び電圧Ｖの経時的な変化が検出される。検出器３３で検出された電流Ｉ及び電圧Ｖに関する情報は、Ａ／Ｄ変換器（図示しない）等でアナログ信号からデジタル信号に変換され、プロセッサ２１に伝達される。
　出力制御部２５は、検出器３３での電流Ｉ及び電圧Ｖの検出結果に基づいて、ヒータ３１の抵抗値Ｒを算出する。これにより、ヒータ３１の抵抗値Ｒの経時的な変化が検出される。ここで、ヒータ３１の抵抗値Ｒは、ヒータ３１の温度Ｔに対応して変化する。このため、出力制御部２５は、ヒータ３１の抵抗値Ｒ及び記憶媒体２２等に記憶される抵抗値Ｒと温度Ｔとの関係に基づき、ヒータ３１の温度Ｔを推定する。そして、推定されたヒータ３１の温度Ｔに基づいて、出力制御部２５は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御し、ヒータ３１の温度制御を行う。例えば、ある実施例では、抵抗値Ｒに基づいてエネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御することにより、ヒータ３１の温度Ｔを目標温度Ｔ０で経時的に一定に保つ定温度制御が行われる。前述のようにして、本実施形態では、ヒータ３１の抵抗値Ｒに基づくヒータ３１の温度制御が行われる。
　プロセッサ２１の位相差算出部２３は、検出器３３での検出結果に基づいて、ヒータ３１へ出力される電流Ｉの位相情報、及び、ヒータ３１へ出力される電圧Ｖの位相情報を算出する。そして、電流Ｉ及び電圧Ｖのそれぞれの位相情報に基づいて、位相差算出部２３は、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθを算出する。これにより、位相差Δθの経時的な変化が検出される。プロセッサ２１の出力制御部２５は、位相差Δθに基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御し、ヒータ３１へのＲＦ電気エネルギーの供給を制御する。また、ＰＬＬ制御部２６は、位相差Δθに基づいて、電流Ｉ又は電圧Ｖの周波数を調整し、ＲＦ電気エネルギー（ＲＦ電力）の出力における周波数ｆを調整する。
　次に、本実施形態のエネルギー処置具２及びエネルギー制御装置３の作用及び効果について説明する。処置システム１を用いて処置を行う際には、腹腔等の体腔にエンドエフェクタ７を挿入し、把持片１５，１６の間に血管等の処置対象（生体組織）を配置する。そして、グリップ１１に対してハンドル１２を閉じ、把持片１５，１６の間を閉じる。これにより、把持片１５，１６の間で処置対象が把持され、対向面１７，１８が処置対象に接触する。この状態で、フットスイッチ８等のエネルギー操作入力部で操作入力が行われることにより、エネルギー出力源２７からＲＦ電気エネルギー（ＲＦ電力）が出力される。そして、出力されたＲＦ電気エネルギーがヒータ３１に供給され、ヒータ３１で熱が発生する。ヒータ３１が設けられる把持片（１５；１６；１５，１６）のそれぞれでは、ヒータ３１で発生した熱が、対向面（１７，１８の対応する１つ）から把持される処置対象に付与される。ヒータ３１で発生した熱が処置対象に付与されることにより、例えば処置対象が切開と同時に凝固され、ヒータ３１で発生した熱を用いて処置対象が処置される。
　図４は、ヒータ３１で発生した熱を用いた処置におけるエネルギー制御装置３の処理を示すフローチャートである。図４に示すように、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、フットスイッチ（エネルギー操作入力部）８での操作入力が行われたか否か（すなわち、操作入力がＯＮかＯＦＦか）を判断する（ステップＳ１０１）。操作入力が行われていない場合は（ステップＳ１０１－Ｎｏ）、ステップＳ１０１に戻る。すなわち、プロセッサ（制御部）２１は、フットスイッチ８で操作入力が行われるまで、待機する。操作入力が行われると（ステップＳ１０１－Ｙｅｓ）、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を開始する（ステップＳ１０２）。
　ＲＦ電気エネルギーの出力が開始されると、検出器３３は、エネルギー出力源２７からヒータ３１へ出力される電流Ｉ及び電圧Ｖを検出する（ステップＳ１０３）。そして、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、電流Ｉ及び電圧Ｖの検知結果に基づいて、ヒータ３１の抵抗値Ｒを算出する（ステップＳ１０４）。そして、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、算出された抵抗値Ｒに基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御し、ヒータ３１の温度制御を行う（ステップＳ１０５）。
　また、ＲＦ電気エネルギーの出力が開始されると、プロセッサ２１（位相差算出部２３）は、電流Ｉ及び電圧Ｖのそれぞれの位相情報を算出し、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθを算出する（ステップＳ１０６）。そして、プロセッサ２１（位相差算出部２３）は、算出された位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下であるか否か（Δθ≦Δθｔｈであるか否か）を判断する（ステップＳ１０７）。位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下の場合は（ステップＳ１０７－Ｙｅｓ）、プロセッサ２１（ＰＬＬ制御部２６）は、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを維持する（ステップＳ１０８）。
　一方、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合は（ステップＳ１０７－Ｎｏ）、プロセッサ２１（ＰＬＬ制御部２６）は、ＰＬＬ制御によって、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを変化させ（ステップＳ１０９）、位相差Δθを減少させる（ステップＳ１１０）。すなわち、プロセッサ２１では、周波数ｆを調整することにより、位相差Δθを減少させる制御が行われる。例えば、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合は、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを低くして、位相差Δθを減少させる。
　ステップＳ１０８の処理又はステップＳ１１０の処理が行われると、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、フットスイッチ８で操作入力がＯＮの状態で維持されているか否かを判断する（ステップＳ１１１）。操作入力がＯＮの状態で維持されている限り（ステップＳ１１１－Ｎｏ）、処理は、ステップＳ１０３に戻り、ステップＳ１０３以降の処理が、順次行われる。操作入力がＯＦＦの状態に切替わった場合は（ステップＳ１１１－Ｙｅｓ）、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を停止する（ステップＳ１１２）。前述のように処理が行われることにより、本実施形態では、ＲＦ電気エネルギーが出力されている状態において、位相差Δθを所定の閾値Δθｔｈ以下で維持する制御が行われる。
　処置においては、ヒータ３１が設置される設置面２８（ヒータ３１の近傍）に体液等の液体が侵入し、設置面２８上の状態が変化することがある。この場合、設置面２８上に侵入した液体によって、ヒータ３１において短絡が発生したり、液体の容量成分が発生したりすることがある。図５は、ヒータ３１の近傍（設置面２８）に液体が侵入した状態での、エネルギー出力源２７から出力されるＲＦ電気エネルギーの経路の一例を示す図である。図５に示すように、ヒータ３１近傍に液体が侵入すると、エネルギー出力源２７から出力されるＲＦ電気エネルギーの回路（供給経路３２）において、液体の抵抗成分Ｒ´及び液体の容量成分Ｃ´等が発生する。この場合、特に液体の容量成分Ｃ´に起因して、ヒータ３１へ出力される電流Ｉと電圧Ｖとの間に位相差Δθが発生する。図６は、電流Ｉと電圧Ｖとの間に位相差が発生した状態を示している。図６では、横軸は時間ｔを示し、縦軸は電流Ｉ及び電圧Ｖを示している。また、図６では、電流Ｉの経時的な変化を実線で、電圧Ｖの経時的な変化を破線で示している。位相差Δθが大きくなると、電流Ｉ及び電圧Ｖに基づくヒータ３１の抵抗値Ｒの算出への影響も大きくなり、抵抗値Ｒに基づく温度制御への影響も大きくなる。
　本実施形態では、前述のように、ステップＳ１０６の処理によって、位相差Δθが算出され、ステップＳ１０７の処理によって、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下であるか否か（Δθ≦Δθｔｈであるか否か）が判断される。そして、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合は、ＰＬＬ制御によって、ステップＳ１０９及びＳ１１０の処理が行われる。すなわち、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを変化させ、位相差Δθを減少させる処理（制御）が行われる。周波数ｆの変化によって位相差Δθを減少させる処理は、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下になるまで経時的に繰り返し行われる。なお、所定の閾値Δθｔｈは、例えば、電流Ｉ及び電圧Ｖに基づくヒータ３１の抵抗値Ｒの算出へ位相差Δθがほとんど影響を与えない程度の微小値に設定され、ある実施例では、所定の閾値Δθｔｈが０に設定されてもよい。所定の閾値Δθｔｈが０の場合、電流Ｉ及び電圧Ｖが互いに対して同位相になるまで、ステップＳ１０９及びＳ１１０の処理が行われる。
　前述のように本実施形態では、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθが大きくなると、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを変化させ、位相差Δθを減少させる。このため、位相差Δθの影響が小さくなり、プロセッサ２１では、電流Ｉ及び電圧Ｖに基づいて適切にヒータ３１の抵抗値Ｒを算出される。これにより、プロセッサ２１は、ヒータ３１の抵抗値Ｒに基づいてエネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を適切に制御し、抵抗値Ｒに基づくヒータ３１の温度制御が正確かつ安定して行われる。したがって、ヒータ３１が設置される設置面２８への液体の侵入（設置面２８上の状態変化）の影響を受けることなく、ヒータ３１の抵抗値Ｒに基づくヒータ３１の温度制御が適切に行われる。
　（第１の実施形態の変形例）　
　なお、第１の実施形態では、周波数ｆを変化させることによって位相差Δθｔｈを減少させているが、これに限るものではない。例えば、第１の実施形態の第１の変形例として図７及び図８に示すように、エネルギー出力源２７からヒータ３１へのＲＦ電気エネルギーの供給経路３２にマッチング回路３５が設けられてもよい。図７は、本変形例において、エネルギー制御装置３からエネルギー処置具２にエネルギーを供給する構成を示す図である。図７に示すように、本変形例では、プロセッサ２１は、マッチング回路３５の駆動を制御する回路制御部３６を備える。回路制御部３６は、プロセッサ２１の一部を形成し、プロセッサ２１が行う処理の一部を行う。回路制御部３６は、位相差Δθに基づいて、マッチング回路３５の駆動を制御する。また、本変形例では、第１の実施形態で前述したＰＬＬ制御は行われない。
　図８は、マッチング回路３５の一例をヒータ３１において液体による抵抗成分Ｒ´及び容量成分Ｃ´が発生した状態で示している。図８の実施例では、マッチング回路３５では、ヒータ３１（ヒータ抵抗）に対して電気的に並列に可変コイル３７が配置される。可変コイル３７は、インダクタンスＬａが変化可能である。図８の実施例では、回路制御部３６は、位相差Δθに基づいて、マッチング回路３５において可変コイル３７のインダクタンスＬａを調整する。
　本変形例でも第１の実施形態と同様に、エネルギー出力源２７からヒータ３１へＲＦ電気エネルギーが出力されている状態において、検出器３３は、ヒータ３１へ出力される電流Ｉ及び電圧Ｖを検出する（図４のステップＳ１０３）。また、本変形例でも第１の実施形態と同様に、プロセッサ２１は、ヒータ３１の抵抗値Ｒを算出し（図４のステップＳ１０４）、抵抗値Ｒに基づいてヒータ３１の温度制御を行う（図４のステップＳ１０５）。さらに、本変形例でも第１の実施形態と同様に、プロセッサ２１は、位相差Δθを算出し（図４のステップＳ１０６）、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下であるか否か判断する（図４のステップＳ１０７）。
　ただし、本変形例では、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下の場合は（ステップＳ１０７－Ｙｅｓ）、ステップＳ１０８において、プロセッサ２１（回路制御部３６）は、可変コイル３７のインダクタンスＬａを維持する。一方、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合は（ステップＳ１０７－Ｎｏ）、プロセッサ２１（回路制御部３６）は、ステップＳ１０９において、マッチング回路３５の駆動を制御することにより、可変コイル３７のインダクタンスＬａを変化させる。これにより、プロセッサ２１は、位相差Δθを減少させる（図４のステップＳ１１０）。すなわち、プロセッサ２１では、可変コイル３７のインダクタンスＬａを調整することにより、位相差Δθを減少させる制御が行われる。例えば、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合は、可変コイル３７のインダクタンスＬａを減少させて、位相差Δθを減少させる。前述のような処理が行われることにより、本変形例でも、ＲＦ電気エネルギーが出力されている状態において、位相差Δθを所定の閾値Δθｔｈ以下で維持する制御が行われる。
　前述のように本変形例では、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθが大きくなると、可変コイル３７のインダクタンスＬａを変化させ、位相差Δθを減少させる。位相差Δθを減少させる制御が行われることにより、本変形例でも第１の実施形態と同様の効果を奏する。
　なお、図７及び図８の変形例では、マッチング回路３５において、ヒータ３１に対して電気的に並列に可変コイル３７が設けられているが、これに限るものではない。例えば、ある変形例では、マッチング回路３５に、可変コイル３７の代わりに又は加えて、容量が変化可能な可変コンデンサが設けられてもよい。この変形例では、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きくなると（ステップＳ１０７－Ｎｏ）、プロセッサ２１（回路制御部３６）は、ステップＳ１０９において、マッチング回路３５の駆動を制御することにより、可変コンデンサの容量を変化させる。これにより、プロセッサ２１は、位相差Δθを減少させる（ステップＳ１１０）。また、ある変形例では、マッチング回路３５において、可変コイル及び／又は可変コンデンサが、ヒータ３１に対して電気的に直列に配置されてもよい。この場合も、プロセッサ２１は、位相差Δθに基づいて、可変コイルのインダクタンス及び／又は可変コンデンサの容量を調整する。
　また、ある変形例では、位相差Δθに基づいてＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆの調整及びマッチング回路３５の駆動制御の両方が、プロセッサ２１によって行われてもよい。この変形例では、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きくなると（ステップＳ１０７－Ｎｏ）、プロセッサ２１は、ステップＳ１０９において、ＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを変化させるとともに、マッチング回路３５において可変コイル（３７）のインダクタンス（Ｌａ）及び／又は可変コンデンサの容量を変化させる。これにより、プロセッサ２１は、位相差Δθを減少させる（ステップＳ１１０）。
　第１の実施形態及びその第１の変形例を含む前述の実施形態等では、プロセッサ２１は、電流Ｉと電圧Ｖとの間の位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合において、位相差Δθを減少させる制御を行う。すなわち、位相差Δθを所定の閾値Δθｔｈ以下で維持する制御が行われる。
　また、図９に示す第１の実施形態の第２の変形例では、位相差Δθを減少させる制御が行われない。図９は、本変形例での、ヒータ３１で発生した熱を用いた処置におけるエネルギー制御装置３の処理を示すフローチャートである。図９に示すように、本変形例でも第１の実施形態と同様にしてステップＳ１０１～Ｓ１０７の処理が行われる。ただし、本変形例では、ステップＳ１０７の判断が行われた後において、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈ以下の場合（ステップＳ１０７－Ｙｅｓ）のみ、プロセッサ２１は、フットスイッチ８で操作入力がＯＮの状態で維持されているか否かを判断する（ステップＳ１１１）。操作入力がＯＮの状態で維持されている限り（ステップＳ１１１－Ｎｏ）、処理はステップＳ１０３に戻り、ステップＳ１０３以降の処理が再び行われる。また、操作入力がＯＦＦの状態に切替わった場合は（ステップＳ１１１－Ｙｅｓ）、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を停止する（ステップＳ１１２）。
　一方、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きい場合は（ステップＳ１０７－Ｎｏ）、プロセッサ２１は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を強制的に停止する（ステップＳ１１３）。すなわち、プロセッサ２１は、位相差Δθが所定の閾値Δθｔｈより大きいことに基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を停止する。
　前述のように本変形例では、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθが大きくなると、ＲＦ電気エネルギーの出力が停止される。これにより、設置面２８上（ヒータ３１の近傍）に液体が侵入すると、ＲＦ電気エネルギーの出力が停止される。したがって、第１の実施形態と同様に、ヒータ３１が設置される設置面２８への液体の侵入の影響を受けることなく、ヒータ３１の抵抗値Ｒに基づくヒータ３１の温度制御が適切に行われる。
　第１の実施形態及びその変形例では、エネルギー制御装置（３）は、ヒータ（３１）に供給されるＲＦ電気エネルギー（交流電気エネルギー）を出力するエネルギー出力源（２７）と、エネルギー出力源（２７）からＲＦ電気エネルギー（交流電気エネルギー）が出力されている状態において、エネルギー出力源（２７）からヒータ（３１）に出力される電流（Ｉ）及び電圧（Ｖ）を検出する検出器（３３）と、を備える。エネルギー制御装置（３）は、検出器（３３）での検出結果に基づいてヒータ（３１）に出力される電流（Ｉ）と電圧（Ｖ）との位相差（Δθ）を算出し、位相差（Δθ）に基づいてヒータ（３１）へのＲＦ電気エネルギーの供給を制御するプロセッサ（２１）を備える。
　（第２の実施形態）　
　次に、本発明の第２の実施形態について、図１０及び図１１を参照して、説明する。第２の実施形態は、第１の実施形態の構成を次の通り変形したものである。なお、第１の実施形態と同一の部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。
　図１０は、本実施形態のヒータ３１が設置される設置面２８（ヒータ３１の近傍）及びエネルギー制御装置３の構成を示す図である。図１０に示すように、本変実施形態では、ヒータ３１が設置される設置面２８上に、一対の電極４１Ａ，４１Ｂが設けられる。ここで、長手軸Ｃに対して交差する交差方向（矢印Ｗ１及び矢印Ｗ２の方向）を規定する。交差方向は、例えば長手軸Ｃに対して交差し（略垂直で）、かつ、エンドエフェクタ７の開閉方向（図１の矢印Ｙ１及び矢印Ｙ２の方向）に対して交差する（略垂直である）。電極４１Ａは、設置面２８において先端側（矢印Ｃ１側）及び交差方向の一方側（矢印Ｗ１側）からヒータ３１を囲む。また、電極４１Ｂは、設置面２８において先端側（矢印Ｃ１側）及び交差方向の他方側（矢印Ｗ２側）からヒータ３１を囲む。そして、設置面２８上では、電極４１Ａ，４１Ｂのそれぞれは、ヒータ３１に対して外側に配置される。
　本実施形態でも第１の実施形態と同様に、エネルギー制御装置３は、プロセッサ２１、記憶媒体２２及びエネルギー出力源２７を備える。そして、エネルギー出力源２７は、供給経路３２を介してヒータ３１に電気的に接続されている。本実施形態でも、エネルギー出力源２７からヒータ３１にＲＦ電気エネルギー（交流電気エネルギー）が供給され、ヒータ３１で熱が発生する。そして、ヒータ３１で発生した熱を用いて、処置対象が処置される。また、エネルギー出力源２７からヒータ３１に出力される電流Ｉ及び電圧Ｖを検出する検出器３３が設けられる。
　本実施形態でも、検出器３３での電流Ｉ及び電圧Ｖの検出結果に基づいて、プロセッサ２１は、ヒータ３１の抵抗値Ｒを算出する。そして、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、算出された抵抗値Ｒに基づいて、ヒータ３１の温度Ｔを推定し、ヒータ３１の温度制御を行う。ただし、本実施形態では、第１の実施形態とは異なり、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθの算出は行われない。
　本実施形態では、エネルギー制御装置３に、電極４１Ａ，４１Ｂ間のインピーダンスＺａを検出するインピーダンス検出器（検出器）４２を備える。インピーダンス検出器４２は、測定用経路４３を介して電極４１Ａ，４１Ｂに電気的に接続されている。インピーダンス検出器４２は、変換回路、変圧器及び集積回路等（いずれも図示しない）を備え、集積回路は検出回路及び演算回路等を含む。ここで、インピーダンス検出器４２に設けられる集積回路は、プロセッサ２１の一部として機能してもよい。
　インピーダンス検出器４２では、電源（図示しない）からの電力をＲＦ電気エネルギーとは別の電気エネルギーである測定用電気エネルギー（測定用電力）に変換し、変換された測定用電気エネルギーを出力する。出力された測定用電気エネルギーは、測定用経路４３を介して電極４１Ａ，４１Ｂに供給される。測定用電気エネルギーが電極４１Ａ，４１Ｂに供給されることにより、電極４１Ａ，４１Ｂ間に電位差が発生する。なお、インピーダンス検出器４２に電力を供給する電源は、エネルギー出力源２７の電源と、同一であってもよく、別個であってもよい。また、インピーダンス検出器４２からの測定用電気エネルギーの出力は、プロセッサ２１によって制御される。
　インピーダンス検出器４２は、例えば測定用経路４３に流れる電流及び一対の電極４１Ａ，４１Ｂ間の電位差を測定する。そして、測定結果に基づいて、インピーダンス検出器４２は、電極４１Ａ，４１Ｂ間のインピーダンスＺａを検出する（算出する）。これにより、インピーダンスＺａの経時的な変化が検出され、インピースＺａがモニタリングされる。本実施形態では、エネルギー出力源２７からＲＦ電気エネルギーが出力されている状態において、インピーダンス検出器４２でのインピーダンスＺａの検出結果に基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御し、ヒータ３１へのＲＦ電気エネルギーの供給を制御する。
　図１１は、本実施形態での、ヒータ３１で発生した熱を用いた処置におけるエネルギー制御装置３の処理を示すフローチャートである。図１１に示すように、本実施形態でも第１の実施形態と同様にして、ステップＳ１０１～Ｓ１０５の処理が行われる。ただし、本実施形態では、電流Ｉと電圧Ｖとの位相差Δθの算出（ステップＳ１０６）は、行われず、位相差Δθに基づく判断（ステップＳ１０７）も行われない。
　本実施形態では、エネルギー出力源２７からＲＦ電気エネルギーがヒータ３１に出力されている状態において、プロセッサ２１は、インピーダンス検出器４２から一対の電極４１Ａ，４１Ｂに測定用電気エネルギーを出力させ、電極４１Ａ，４１Ｂ間に電位差を発生させる（ステップＳ１１４）。そして、インピーダンス検出器（検出器）４２は、電極３１Ａ，４１Ｂ間の電位差及び測定用経路４３に流れる電流等に基づいて、電極４１Ａ，４１Ｂ間のインピーダンスＺａを検出する（ステップＳ１１５）。
　そして、プロセッサ２１は、インピーダンス検出器４２で検出されたインピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈ以上であるか否か（Ｚａ≧Ｚａｔｈであるか否か）を判断する（ステップＳ１１６）。インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈ以上の場合は（ステップＳ１１６－Ｙｅｓ）、プロセッサ２１は、フットスイッチ８で操作入力がＯＮの状態で維持されているか否かを判断する（ステップＳ１１１）。そして、操作入力がＯＮの状態で維持されている限り（ステップＳ１１１－Ｎｏ）、処理は、ステップＳ１０３に戻り、ステップＳ１０３以降の処理が再び行われる。また、操作入力がＯＦＦの状態に切替わった場合は（ステップＳ１１１－Ｙｅｓ）、プロセッサ２１（出力制御部２５）は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を停止する（ステップＳ１１２）。
　一方、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈより小さい場合は（ステップＳ１１６－Ｎｏ）、プロセッサ２１は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を強制的に停止する（ステップＳ１１３）。すなわち、プロセッサ２１は、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈより小さいことに基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を停止する。
　本実施形態においても第１の実施形態と同様に、ヒータ３１が設置される設置面２８（ヒータ３１の近傍）に体液等の液体が侵入することがある。液体が侵入すると、設置面２８上の状態が変化し、ヒータ３１において短絡が発生したり、液体の容量成分が発生したりすることがある。この場合、第１の実施形態と同様に、ヒータ３１へ出力される電流Ｉと電圧Ｖとの間に位相差Δθが発生する。
　また、本実施形態では、設置面２８上に液体が侵入すると、電極４１Ａ，４１Ｂの間が侵入した液体を介して電気的に導通する。電極４１Ａ，４１Ｂの間が電気的に導通することにより、電極４１Ａ，４１Ｂ間のインピーダンスＺａが小さくなる。すなわち、電極４１Ａ，４１Ｂ間のインピーダンスＺａは、設置面２８上への液体の侵入状態の変化（すなわち、設置面２８上の状態変化）に対応して、変化する。
　本実施形態では、前述のように、ステップＳ１１５の処理によって、インピーダンスＺａが算出され、ステップＳ１１６の処理によって、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈ以上であるか否かが判断される。そして、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈより小さい場合は、ステップＳ１１３の処理によって、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力が強制的に停止される。
　前述のように制御が行われるため、本実施形態では、設置面２８上に液体が侵入し、ヒータ３１において短絡又は液体の容量成分等が発生すると、ＲＦ電気エネルギーの出力が適切に停止される。したがって、本実施形態でも第１の実施形態と同様に、ヒータ３１が設置される設置面２８への液体の侵入の影響を受けることなく、ヒータ３１の抵抗値Ｒに基づくヒータ３１の温度制御が適切に行われる。
　（第２の実施形態の変形例）　
　なお、設置面２８上での電極４１Ａ，４１Ｂの配置は、第２の実施形態の配置に限るものではない。例えば、図１２に示す第２の実施形態の第１の変形例では、設置面２８上において、電極４１Ａは、先端側（矢印Ｃ１側）及び長手軸Ｃに対して交差する交差方向（矢印Ｗ１及び矢印Ｗ２の方向）について両側から、ヒータ３１を囲む。そして、他方の電極４１Ｂは、先端側及び交差方向について両側から、電極４１Ａを囲む。このため、設置面２８上では、電極４１Ａは、ヒータ３１に対して外側に配置され、電極４１Ｂは、ヒータ３１及び電極４１Ａに対して外側に配置される。本変形例は、ヒータ３１で発生した熱を用いた処置において、エネルギー制御装置３は、第２の実施形態と同様の処理（図１１参照）を行う。
　前述のように電極４１Ａ，４１Ｂが配置されることにより、本変形例では、設置面２８上に液体が侵入した際に、ヒータ３１において液体による短絡又は液体の容量成分等が発生する前に、電極４１Ａ，４１Ｂの間が液体によって電気的に導通する。このため、ヒータ３１において短絡又は液体の容量成分等が発生する前に、ステップＳ１１６においてインピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａｔｈより小さいと判断され、ステップＳ１１３の処理によってエネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力が停止される。すなわち、本変形例では、設置面２８上（ヒータ３１の近傍）に液体が侵入すると、迅速かつ正確に液体の侵入が検出され、検出精度が向上する。
　また、第２の実施形態及びその第１の変形例では、設置面２８上に一対の電極４１Ａ，４１Ｂが配置されているが、これに限るものではない。例えば、図１３に示す第２の実施形態の第２の変形例では、設置面２８上において、電極４１が１つのみ設けられている。本変形例では、設置面２８において、ヒータ３１が、先端側（矢印Ｃ１側）及び長手軸Ｃに対して交差する交差方向（矢印Ｗ１及び矢印Ｗ２の方向）について両側から、電極４１を囲む。このため、設置面２８上では、ヒータ３１は、電極４１に対して外側に配置される。
　本変形例では、インピーダンス検出器４２は、測定用経路４３を介してヒータ３１及び電極４１と電気的に接続されている。このため、本変形例は、供給経路３２の一部が測定用経路４３として共用される。本変形例では、インピーダンス検出器４２から測定用電気エネルギーは出力されず、エネルギー出力源２７からヒータ３１へＲＦ電気エネルギーが出力されることにより、ヒータ３１と電極４１との間に電位差が発生する。この際、ある実施例では、電極４１は、ヒータ３１の一方の接続端Ｅ１と略同一の電位となり、ヒータ３１では、他方の接続端Ｅ２において電極４１との電位差が最大になる。
　本変形例では、インピーダンス検出器４２は、例えば測定用経路４３に流れる電流及び電極４１とヒータ３１との間の電位差を測定する。そして、測定結果に基づいて、インピーダンス検出器４２は、電極４１とヒータ３１との間のインピーダンスＺｂを検出する（算出する）。これにより、インピーダンスＺｂの経時的な変化が検出され、インピーダンスＺｂがモニタリングされる。そして、本変形例では、エネルギー出力源２７からＲＦ電気エネルギーが出力されている状態において、インピーダンス検出器４２でのインピーダンスＺｂの検出結果に基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力状態を制御し、ヒータ３１へのＲＦ電気エネルギーの供給を制御する。
　本変形例でも第２の実施形態と同様にして、ステップＳ１０１～Ｓ１０５の処理が行われる（図１１参照）。ただし、本変形例では、ステップＳ１１４において、プロセッサ２１は、電極４１とヒータ３１との間に電位差を発生させる。そして、インピーダンス検出器（検出器）４２は、ステップＳ１１５において、電極４１とヒータ３１との間のインピーダンスＺｂを検出する。
　さらに、本変形例では、ステップＳ１１６において、プロセッサ２１は、インピーダンス検出器４２で検出されたインピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂｔｈ以上であるか否か（Ｚｂ≧Ｚｂｔｈであるか否か）を判断する。そして、インピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂｔｈ以上の場合は（ステップＳ１１６－Ｙｅｓ）、ステップＳ１１１に進む。一方、　一方、インピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂｔｈより小さい場合は（ステップＳ１１６－Ｎｏ）、ステップＳ１１３に進み、プロセッサ２１は、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を強制的に停止する。すなわち、プロセッサ２１は、インピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂｔｈより小さいことに基づいて、エネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力を停止する。
　本変形例では、前述のように電極４１及びヒータ３１が配置されることにより、設置面２８上に液体が侵入した際に、ヒータ３１において液体による短絡又は液体の容量成分等が発生する前に、電極４１とヒータ３１との間が液体によって電気的に導通する。このため、ヒータ３１において短絡又は液体の容量成分等が発生する前に、ステップＳ１１６においてインピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂｔｈより小さいと判断され、ステップＳ１１３の処理によってエネルギー出力源２７からのＲＦ電気エネルギーの出力が停止される。すなわち、本変形例では、設置面２８上（ヒータ３１の近傍）に液体が侵入すると、迅速かつ正確に液体の侵入が検出され、検出精度が向上する。
　なお、図１１の変形例では、ヒータ３１に対して電極４１が内側に配置されているが、ある変形例では、ヒータ３１に対して電極４１が外側に配置されてもよい。
　また、前述の第２の実施形態及びその変形例では、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａより小さい場合、又は、インピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂより小さい場合において、ＲＦエネルギーの出力が停止されるが、これに限るものではない。例えば、ある変形例では、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａより小さい場合、又は、インピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂより小さい場合において、前述のＰＬＬ制御によってＲＦ電気エネルギーの出力における周波数ｆを変化させてもよい。また、別のある変形例では、供給経路３２にマッチング回路（３５）が設けられてもよい。この変形例では、インピーダンスＺａが所定の閾値Ｚａより小さい場合、又は、インピーダンスＺｂが所定の閾値Ｚｂより小さい場合は、マッチング回路（３５）において可変コイル（３７）のインダクタンス（Ｌａ）及び／又は可変コンデンサの容量を変化させる。
　第２の実施形態及びその変形例では、エネルギー制御装置（３）は、ヒータ（３１）に供給されるＲＦ電気エネルギー（交流電気エネルギー）を出力するエネルギー出力源（２７）と、ヒータ（３１）が設置される設置面（２８）上に設けられる一対の電極（４１Ａ，４１Ｂ）間のインピーダンス（Ｚａ）、又は、設置面（２８）上に設けられる電極（４１）とヒータ（３１）との間のインピーダンス（Ｚｂ）を検出する検出器（４２）と、を備える。エネルギー制御装置（３）は、検出器（４２）で検出された電極（４１Ａ，４１Ｂ）間のインピーダンス（Ｚａ）又は電極（４１）とヒータ（３１）との間のインピーダンス（Ｚｂ）に基づいて、ヒータ（３１）へのＲＦ電気エネルギーの供給を制御するプロセッサ（２１）を備える。
　（その他の変形例）　
　なお、前述の実施形態等では、ヒータ３１にＲＦ電気エネルギーが供給されるが、これに限るものではない。例えば、交流電気エネルギーとして低周波電気エネルギーがヒータ３１に供給される場合でも、前述の制御を適用可能である。
　また、前述の実施形態等では、ヒータ３１で発生した熱のみが処置対象に付与されるが、これに限るものではない。例えばある変形例では、ヒータ３１で発生した熱に加えてＲＦ電流が把持される処置対象に付与される。この変形例では、把持片１５，１６のそれぞれに処置用電極（図示しない）が設けられ、ヒータ３１に供給されるＲＦ電気エネルギーとは別のＲＦ電気エネルギーが、処置用電極のそれぞれに供給される。処置においては、処置用電極のそれぞれが、把持される処置対象に接触する。このため、処置対象が把持されている状態で処置用電極のそれぞれにＲＦ電気エネルギーが供給されることにより、処置電極の間で処置対象を通してＲＦ電流が流れ、ＲＦ電流が処置対象に付与される。
　また、別のある変形例では、ヒータ３１で発生した熱に加えて超音波振動が把持される処置対象に付与される。この変形例では、エネルギー処置具２に超音波トランスデューサ（図示しない）が設けられ、ヒータ３１に供給されるＲＦ電気エネルギーとは別の電気エネルギー（例えば出力が所定の周波数になる交流電力）が超音波トランスデューサに供給される。これにより、超音波トランスデューサで超音波振動が発生し、発生した超音波振動が把持片１５，１６の一方に伝達される。処置対象が把持されている状態で把持片１５，１６の一方に超音波振動が伝達されることにより、伝達された超音波振動が処置対象に付与される。
　また、前述の実施形態等では、エンドエフェクタ７は一対の把持片１５，１６を備えるが、これに限るものではない。ある変形例では、エンドエフェクタ７は、フック状、ヘラ状又はブレード状等に形成される。この場合も、処置において、エンドエフェクタ７を処置対象に接触させ、ヒータ３１で発生した熱を処置対象に付与する。この際、エンドエフェクタ７に超音波振動が伝達され、ヒータ３１で発生した熱に加えて超音波振動が処置対象に付与されてもよい。また、エンドエフェクタ７に設けられる処置用電極と体外に配置される対極板との間で、処置対象を通してＲＦ電流を流してもよい。この場合、ヒータ３１で発生した熱に加えてＲＦ電流が処置対象に付与される。
　以上、本発明の実施形態等について説明したが、本発明は前述の実施形態等に限るものではなく、発明の趣旨を逸脱することなく種々の変形ができることは、もちろんである。

Claims (9)

  1. 　ヒータで発生した熱を用いて処置対象を処置するエネルギー処置具とともに用いられるエネルギー制御装置であって、
    　前記ヒータに供給される交流電気エネルギーを出力するエネルギー出力源と、
    　前記エネルギー出力源から前記交流電気エネルギーが出力されている状態において、前記エネルギー出力源から前記ヒータに出力される電流及び電圧を検出する検出器と、
    　前記検出器での検出結果に基づいて前記電流と前記電圧との位相差を算出し、前記位相差に基づいて前記ヒータへの前記交流電気エネルギーの供給を制御するプロセッサと、
    　を具備するエネルギー制御装置。
  2. 　前記プロセッサは、前記位相差が所定の閾値より大きい場合において、前記位相差を減少させる制御を行う、請求項１のエネルギー制御装置。
  3. 　前記プロセッサは、前記位相差が前記所定の閾値より大きい場合において、前記エネルギー出力源での前記交流電気エネルギーの出力における周波数を変化させることにより、前記位相差を減少させる、請求項２のエネルギー制御装置。
  4. 　可変コイル及び可変コンデンサの少なくとも一方を備え、前記エネルギー出力源から前記ヒータへの前記交流電気エネルギーの供給経路に設けられるマッチング回路をさらに具備し、
    　前記プロセッサは、前記位相差が前記所定の閾値より大きい場合において、前記マッチング回路での前記可変コイルのインダクタンス及び／又は前記可変コンデンサの容量を変化させることにより、前記位相差を減少させる、請求項２のエネルギー制御装置。
  5. 　前記プロセッサは、前記位相差が所定の閾値より大きいことに基づいて、前記エネルギー出力源からの前記交流電気エネルギーの出力を停止する、請求項１のエネルギー制御装置。
  6. 　ヒータで発生した熱を用いて処置対象を処置するエネルギー処置具とともに用いられるエネルギー制御装置であって、
    　前記ヒータに供給される交流電気エネルギーを出力するエネルギー出力源と、
    　前記ヒータが設置される設置面上に設けられる一対の電極間のインピーダンス、又は、前記設置面上に設けられる電極と前記ヒータとの間のインピーダンスを検出する検出器と、
    　前記検出器で検出された前記電極間の前記インピーダンス又は前記電極と前記ヒータとの間のインピーダンスに基づいて、前記ヒータへの前記交流電気エネルギーの供給を制御するプロセッサと、
    　を具備するエネルギー制御装置。
  7. 　前記プロセッサは、前記一対の電極間の前記インピーダンス又は前記電極と前記ヒータとの間の前記インピーダンスが所定の閾値より小さいことに基づいて、前記エネルギー出力源からの前記交流電気エネルギーの出力を停止する、請求項６のエネルギー制御装置。
  8. 　交流電気エネルギーが供給されることにより熱を発生するヒータと、
    　前記ヒータが設置される設置面と、
    　前記ヒータで発生した前記熱が前記設置面から伝達され、伝達された熱を処置対象に付与する処置面と、
    　を具備し、
    　前記設置面上に設けられ、前記設置面上の状態変化に対応して互いの間のインピーダンスが変化する一対の電極、又は、
    　前記設置面上に設けられ、前記設置面上の前記状態変化に対応して前記ヒータとの間のインピーダンスが変化する電極、
    　をさらに具備するエネルギー処置具。
  9. 　前記一対の電極のそれぞれは、前記設置面上において前記ヒータに対して外側に位置する、請求項８のエネルギー処置具。
PCT/JP2016/056816 2016-03-04 2016-03-04 エネルギー制御装置及びエネルギー処置具 WO2017149765A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018502483A JPWO2017149765A1 (ja) 2016-03-04 2016-03-04 エネルギー制御装置及びエネルギー処置具
PCT/JP2016/056816 WO2017149765A1 (ja) 2016-03-04 2016-03-04 エネルギー制御装置及びエネルギー処置具
US15/261,139 US20170252094A1 (en) 2016-03-04 2016-09-09 Heating energy treatment system and control device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2016/056816 WO2017149765A1 (ja) 2016-03-04 2016-03-04 エネルギー制御装置及びエネルギー処置具

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/261,139 Continuation US20170252094A1 (en) 2016-03-04 2016-09-09 Heating energy treatment system and control device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017149765A1 true WO2017149765A1 (ja) 2017-09-08

Family

ID=59722527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2016/056816 WO2017149765A1 (ja) 2016-03-04 2016-03-04 エネルギー制御装置及びエネルギー処置具

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20170252094A1 (ja)
JP (1) JPWO2017149765A1 (ja)
WO (1) WO2017149765A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10225462A (ja) * 1996-07-29 1998-08-25 Olympus Optical Co Ltd 電気手術装置
JP2014121341A (ja) * 2011-03-30 2014-07-03 Olympus Medical Systems Corp 処置システム
JP2014226152A (ja) * 2013-05-17 2014-12-08 オリンパス株式会社 処置具、処置システム、及び処置システムの制御方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005348820A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Olympus Corp 発熱素子、それを用いた医療用処置具、処置装置
US8685016B2 (en) * 2006-01-24 2014-04-01 Covidien Ag System and method for tissue sealing
US7799020B2 (en) * 2006-10-02 2010-09-21 Conmed Corporation Near-instantaneous responsive closed loop control electrosurgical generator and method
US20090048595A1 (en) * 2007-08-14 2009-02-19 Takashi Mihori Electric processing system
US9642669B2 (en) * 2008-04-01 2017-05-09 Olympus Corporation Treatment system, and treatment method for living tissue using energy

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10225462A (ja) * 1996-07-29 1998-08-25 Olympus Optical Co Ltd 電気手術装置
JP2014121341A (ja) * 2011-03-30 2014-07-03 Olympus Medical Systems Corp 処置システム
JP2014226152A (ja) * 2013-05-17 2014-12-08 オリンパス株式会社 処置具、処置システム、及び処置システムの制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20170252094A1 (en) 2017-09-07
JPWO2017149765A1 (ja) 2018-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9750523B2 (en) Ultrasonic treatment apparatus
JP6665299B2 (ja) エネルギー制御装置、処置システム及びエネルギー制御装置の作動方法
US9808305B2 (en) Energy treatment apparatus
US9597106B2 (en) Ultrasonic treatment apparatus
EP3108838B1 (en) Holding treatment device
EP2499983A1 (en) Isolated current sensor
US10045815B2 (en) Energy treatment device and energy control device
WO2018025374A1 (ja) 制御装置
US11129671B2 (en) Energy control device, treatment system and actuating method of energy control device
CN109862836B (zh) 能量处置系统
JP6072394B1 (ja) エネルギー処置システム及びエネルギー制御装置
WO2017149765A1 (ja) エネルギー制御装置及びエネルギー処置具
US20190150974A1 (en) Energy control device, treatment system, and actuating method of energy control device
EP3205300A1 (en) Vibration-generating unit, vibrating body unit, and ultrasonic treatment tool
CN108135650B (zh) 能量处置器具、处置系统和控制装置
WO2021064846A1 (ja) 処置システム及び制御装置
US20190209202A1 (en) Energy control device and treatment system
CN108135651B (zh) 能量处置器具、处置系统和控制装置
US20210128225A1 (en) Controller, treatment system, and method for actuating controller
WO2018163329A1 (ja) エネルギー源装置
WO2017187528A1 (ja) エネルギー処置具、処置システム及び制御装置
WO2018167877A1 (ja) エネルギー源装置

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2018502483

Country of ref document: JP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 16892605

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 16892605

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1