WO2016143083A1 - 光加工ヘッド、光加工装置およびその制御方法ならびに制御プログラム - Google Patents

光加工ヘッド、光加工装置およびその制御方法ならびに制御プログラム Download PDF

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optical
light
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裕司 笹木
佐々木　光夫
小原　隆
和之 益川
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Definitions

  • the present invention relates to an optical processing head, an optical processing apparatus, a control method thereof, and a control program.
  • Patent Document 1 discloses a method using ultrasonic vibration in order to detect contamination of a lens due to fine particles (fume or spatter) generated during processing.
  • the lens slightly vibrates during ultrasonic vibration, and the condensing spot also vibrates accordingly.
  • An object of the present invention is to provide a technique for solving the above-described problems.
  • an optical processing head comprises: An optical processing head for processing by converging light rays from a processing light source on a processing surface, A cylindrical housing surrounding the processing light beam emitted from the processing light source; An inspection light emitting part disposed in the cylindrical housing and out of the path of the processing light beam, A light receiving portion that is disposed inside the cylindrical housing and is disposed outside the path of the processing light beam, and receives the inspection light beam emitted from the inspection light beam emission portion; and With The signal acquired from the light receiving unit is used to inspect the dirt on the inner surface of the cylindrical casing or the concentration of scattered matter flowing into the cylindrical casing.
  • the method according to the present invention comprises: A method of controlling an optical processing apparatus that processes light by converging light from a processing light source on a processing surface
  • the optical processing apparatus includes: A cylindrical housing surrounding the processing light beam emitted from the processing light source; An inspection light emitting part disposed in the cylindrical housing and out of the path of the processing light beam, A light receiving portion that is disposed inside the cylindrical housing and is disposed outside the path of the processing light beam, and receives the inspection light beam emitted from the inspection light beam emission portion; and With an optical processing head with The method of controlling an optical processing apparatus, wherein the amount of purge gas injected to the processing surface is changed based on the signal.
  • a program provides: A control program for an optical processing device for processing by converging light rays from a processing light source on a processing surface
  • the optical processing apparatus includes: A cylindrical housing surrounding the processing light beam emitted from the processing light source; An inspection light emitting part disposed in the cylindrical housing and out of the path of the processing light beam, A light receiving portion that is disposed inside the cylindrical housing and is disposed outside the path of the processing light beam, and receives the inspection light beam emitted from the inspection light beam emission portion; and With an optical processing head with An optical processing apparatus control program causing a computer to execute a step of changing an amount of purge gas injected to the processing surface based on the signal.
  • an optical processing technique capable of detecting in advance a defect of an optical processing head that occurs during optical processing.
  • light includes various electromagnetic waves including ultraviolet light to microwaves, and can be appropriately selected according to a processing target or the like.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view of the optical processing head 100.
  • the optical processing head 100 performs processing by condensing a ray 110 from a light source for processing (not shown) on a processing surface 140.
  • the optical processing head 100 includes a cylindrical casing 101, an inspection light emitting unit 102, and a light receiving unit 103.
  • the cylindrical casing 101 surrounds the processing light beam 110 emitted from the processing light source.
  • the inspection light emitting unit 102 is disposed inside the cylindrical housing 101 and outside the path of the processing light beam 110.
  • the light receiving unit 103 is disposed inside the cylindrical housing 101 and outside the path of the processing light beam 110, and receives the inspection light beam 121 emitted from the inspection light beam emission unit 102.
  • the density 111 of the dirt 111 on the inner surface of the cylindrical casing 101 or the scattered matter 112 flowing into the cylindrical casing 101 is inspected.
  • the inspection light beam 121 is absorbed or scattered by the scattered matter 112.
  • the strength of the signal 104 decreases. That is, since the signal 104 changes with time when the flying object 112 is mixed, it is possible to determine whether or not the flying object 112 flows in.
  • the inspection light beam 121 is absorbed by the dirt 111, so that the signal 104 becomes lower than a predetermined reference value. That is, the degree of contamination on the inner surface can be determined based on a change from the reference value of the signal 104.
  • the defect of the optical processing head that occurs during optical processing can be determined by inspecting the dirt 111 on the inner surface of the cylindrical casing 101 or the concentration of the scattered matter 112 flowing into the cylindrical casing 101.
  • Optical processing technology that can be detected in advance can be provided.
  • casing 101 is not limited to a cylindrical shape, What is necessary is just cylindrical shapes, such as a square tube, and another shape may be sufficient as it.
  • the inspection light emitting unit 102 is not limited to a light source, and may be an exit of a light transmission means such as an optical fiber.
  • FIG. 2 is a diagram for illustrating an internal configuration of the optical processing head 200 to which laser light is applied.
  • the optical processing head 200 includes a condensing optical system device 201, an observation device 202, a nozzle 203, and the like. including.
  • the condensing optical system device 201 includes a collimator lens 216, a condensing lens 217, and a cylindrical housing 211 that holds the collimator lens 216.
  • the collimator lens 216 converts the processing light beam 205 emitted from the incident end 215 into parallel light.
  • the condensing lens 217 condenses the parallel light on the processing surface 260 on the downstream side.
  • the condensing optical system device 201 emits the processing light beam 205 guided from the incident end 215 from the light source (not shown) through the light transmission unit 210 to the processing surface 260.
  • the optical transmission unit 210 is an optical fiber having a core diameter of ⁇ 0.01 to 1 mm, for example, and guides light (for example, laser light) generated by a light source to the optical processing head 200.
  • the processing light beam 205 guided from the incident end 215 to the optical processing head 200 is emitted to the processing surface 260 and forms a molten pool 261 on the processing surface 260.
  • the nozzle 203 receives supply of a processing material and a gas from a material supply device (not shown) via a material supply unit, and injects the material 250 mixed with the gas into the molten pool 261 of the processing surface 260. Thereafter, the molten pool 261 is cooled and solidified to deposit material on the work surface 260. By moving the molten pool 261 on the processing surface 260 and repeating melting, material supply, and cooling, three-dimensional modeling is realized.
  • the observation device 202 is a device for observing the processing status of the condensing optical system device 201 from a viewpoint along the optical axis of the processing light beam 205, and includes an imaging device 221 including an imaging element such as a CCD or CMOS, A semi-transmission mirror (one-way mirror) 222 as an observation mirror provided inside the optical optical system device 201.
  • the semi-transmissive mirror 222 is coated on the surface so as to transmit the processing light beam 205 (wavelength 1060 nm) but reflect visible light (wavelength 450 to 800 nm). Part of the visible light reflected by the processing surface 260 is reflected by the semi-transmissive mirror 222 and guided to the imaging device 221.
  • the machining accuracy can be improved by feedback-controlling the machining parameters according to the machining situation observed in this way.
  • the inspection light emitting part 212 and the light receiving part 213 are arranged on the downstream side of the condenser lens 217.
  • the inspection light beam emitting unit 212 is disposed on the upstream side of the processing light beam 205 from the light receiving unit 213.
  • the inspection light beam 231 emitted from the inspection light emitting unit 212 does not reach the semi-transmissive mirror 222 and is not imaged by the imaging device 221. That is, the light from the inspection light emitting unit 212 does not become noise during imaging. In other words, there is an effect that noise is reduced by disposing the inspection light emitting unit 212 upstream of the light receiving unit 213.
  • a shielding plate 214 is provided around the inspection light beam emitting portion 212 so that the inspection light beam 231 does not become noise in the imaging device 221. As a result, the inspection light beam not directed to the light receiving unit 213 is absorbed and shielded.
  • the optical processing head 200 includes an inspection light emitting unit 212, a light receiving unit 213, a shielding plate 214, and a signal output unit 218 inside the cylindrical housing 211 as an inspection unit 230 for inspecting the influence of the scattered matter 242.
  • the inspection light emitting section 212 is, for example, an LED and has a wavelength of 400 to 450 nm.
  • the present invention is not limited to this, and a halogen lamp, an incandescent lamp, a krypton lamp, or the like may be used.
  • the wavelength may be any as long as it is different from the processing light beam 205 (that is, the wavelength may not be 1060 nm here). Since the wavelengths of the inspection light beam 231 and the processing light beam 205 are different, the light receiving unit 213 does not misrecognize the processing light beam 205 as the inspection light beam 231, so that noise in the detection signal can be reduced.
  • the inspection light emitting section 212 and the light receiving section 213 are arranged opposite to each other outside the path of the processing light beam 205.
  • the light receiving unit 213 receives the inspection light beam 231 emitted from the inspection light beam emission unit 212 and passes a signal corresponding to the received light amount to the signal output unit 218.
  • the scattered object 242 enters the path of the inspection light beam 231, the amount of light received by the light receiving unit 213 temporarily decreases. Further, when the scattered matter 242 adheres to the housing inner surface 211a as the dirt 241, the amount of light received by the light receiving unit 213 continuously decreases.
  • the influence of the scattered object 242 is detected by detecting the presence or absence of a temporal change in the amount of light received by the light receiving unit 213 (temporary fluctuation and / or a continuous decrease of a predetermined amount or more from the reference value).
  • the signal output unit 218 outputs a signal indicating the dirt 241 on the inner surface of the cylindrical housing 211 or the concentration of the scattered matter 242 flowing into the nozzle 203 and the cylindrical housing 211 using the signal acquired from the light receiving unit 213. It is considered that the greater the change in the amount of light, the greater the concentration of scattering. In other words, the concentration of scattered matter can be inspected based on the change in the amount of light.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the optical processing head 200 along a plane passing through the optical axis of the processing light beam 205
  • FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.
  • the AA cross section is a plane that intersects perpendicularly with the optical axis of the processing light beam 205 and passes through the inspection light beam emitting unit 212 and the light receiving unit 213.
  • the housing inner surface 211a draws an ellipse in a cross section that passes through both the inspection light emitting section 212 and the light receiving section 213.
  • the inspection light emitting part 212 and the light receiving part 213 are arranged at two focal positions of the ellipse.
  • the inspection light beam 231 emitted from the inspection light beam emitting section 212 is reflected by the housing inner surface 211 a and gathers almost all at the light receiving section 213.
  • the inclination angle from the optical axis of the processing light beam 205 of the line segment connecting the inspection light beam emitting unit 212 and the light receiving unit 213 is defined as ⁇ .
  • L is the distance (the length of the line segment) between the inspection light emitting unit 212 and the light receiving unit 213.
  • the housing inner surface 211a has a cylindrical shape (cylinder side surface) having the optical axis of the processing light beam 205 as a central axis, and the diameter of the cylinder is D.
  • ⁇ , L, and D defined as described above can arrange the inspection light emitting unit 212 and the light receiving unit 213 at two focal points of an ellipse when the following formula (1) is satisfied.
  • Equation (1) is a condition for disposing the inspection light emitting unit 212 and the light receiving unit 213 at two focal points of an ellipse.
  • the inspection light beam 231 emitted from the inspection light emitting unit 212 arranged so as to satisfy Equation (1) is received by the light receiving unit 213 in theory.
  • the relationship of Expression (1) is not satisfied, there is a light beam that is not received by the light receiving unit 213.
  • Figure 5 shows the relationship of Equation (1).
  • the horizontal axis is the tilt angle ⁇ , and the vertical axis is D / L. This shows that D / L is about 2 when ⁇ is 45 °.
  • the inspection of the concentration of the dirt 241 on the inner surface of the cylindrical casing 211 or the scattered matter 242 flowing into the cylindrical casing 211 can solve the problem of the optical processing head that occurs during optical processing.
  • Optical processing technology that can be detected in advance can be provided.
  • the housing inner surface 211a has a shape corresponding to the cylindrical outer surface, but the present invention is not limited to this. However, at least a part of the casing inner surface 211a of the cylindrical casing 211 is a curved surface so that the inspection light beam 231 is reflected by the casing inner surface 211a of the cylindrical casing 211 and collected on the light receiving unit 213. It is desirable.
  • FIG. 6 is a transparent perspective view for explaining the internal configuration of the optical processing head 600 according to this embodiment
  • FIG. 7 is a partially enlarged view thereof.
  • the optical processing head 600 according to the present embodiment is different from the inspection unit 230 in that the optical processing head 600 includes an inspection unit 630 having an inner surface shape different from that of the inspection unit 230. Since other configurations and operations are the same as those of the second embodiment, the same configurations and operations are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
  • the inspection unit 630 includes a curved surface 631 having a shape along the outer peripheral surface of the spheroid, and the inspection light emitting unit 612 and the light receiving unit 613 are respectively disposed at two focal positions of the spheroid. Yes.
  • a shielding plate may be provided, in which case the noise of the detection signal can be sufficiently reduced.
  • FIG. 8 shows a light ray diagram between the inspection light emitting part 612 and the light receiving part 613 of the optical processing head 600 according to the present embodiment. As can be seen from FIG. 8, all the inspection light beams are received by the light receiving unit 613. In other words, the inspection light beam is effectively used for inspection.
  • the optical processing apparatus 900 includes any of the optical processing heads 100, 200, and 600 described in the above-described embodiments, and melts a material with heat generated by the collected light, thereby obtaining a three-dimensional structure (or meat). This is a device for generating (welding).
  • an optical processing apparatus 900 including the optical processing head 200 will be described.
  • the optical processing device 900 includes a light source 901, an optical transmission unit 210, a refrigerant supply device 903, a refrigerant supply unit 904, a stage 905, a material supply device 906, a material supply unit 907, a gas supply device 908, and a gas.
  • a supply unit 909 and a control unit 930 are provided.
  • the light source 901 may be a laser, LED, halogen lamp, xenon lamp, incandescent bulb, or the like.
  • the wavelength of the light beam is, for example, 1060 nm, but is not limited thereto.
  • the refrigerant supply device 903 stores, for example, water as a refrigerant, and supplies the refrigerant to the optical processing head 200 via the refrigerant supply unit 904 with a pump.
  • the refrigerant supply unit 904 is a resin or metal hose having an inner diameter ⁇ 2-6. By supplying the coolant into the optical processing head 200, circulating it inside, and returning it to the coolant supply device 903, the temperature rise of the optical processing head 200 can be suppressed.
  • the supply amount of the refrigerant is, for example, 1 to 10 L / min.
  • the stage 905 is, for example, an X stage, an XY stage, or an XYZ stage, and can operate each axis (X, Y, Z).
  • the material supply device 906 supplies material to the nozzle 203 via the material supply unit 907.
  • the material is metal particles, resin particles, metal wires, resin wires.
  • the material supply device 906 can also supply a carrier gas at the same time.
  • the material supply unit 907 is, for example, a resin or metal hose, and guides the powder flow in which the material is mixed into the carrier gas to the nozzle 203. However, when the material is a wire, no carrier gas is required.
  • the nozzle 203 injects material toward the processing surface 260.
  • the gas supply device 908 supplies a purge gas to the optical processing head 200 via the gas supply unit 909.
  • the purge gas is, for example, nitrogen, argon, or helium. However, the purge gas is not limited to this, and may be another gas as long as it is an inert gas.
  • the purge gas supplied to the optical processing head 200 is ejected from the nozzle 203 along the light beam described above.
  • the optical processing apparatus 900 includes an attitude control mechanism and a position control mechanism that control the attitude and position of the optical processing head 200.
  • the modeled object 910 is created on the stage 905.
  • the purge gas is injected from the nozzle 203 to the processing surface 260. Therefore, the surrounding environment of the molten pool is purged with the purge gas. By selecting an inert gas that does not contain oxygen as the purge gas, oxidation of the processed surface 260 can be prevented.
  • the optical processing head 200 is cooled by the refrigerant supplied from the refrigerant supply device 903 via the refrigerant supply unit 904, and temperature rise during processing is suppressed.
  • the optical processing head 200 is scanned along the processing surface 260, so that a desired modeling can be performed while depositing materials. That is, overlay welding or three-dimensional modeling can be created by this apparatus.
  • the control unit 930 acquires the status of the scattered matter inside the optical processing head 200 from the inspection unit 230, and controls the gas supply device 908 according to the status to change the amount of purge gas sprayed on the processing surface 260. It also functions as a part.
  • FIG. 10 is a flowchart showing the control flow. This flowchart shows that four stages of control are performed according to the amount of scattered objects by using three threshold values (threshold value C1 ⁇ threshold value C2 ⁇ threshold value C3).
  • step S1001 when a scattered matter (fume) is detected, the process proceeds to step S1002, and the concentration is calculated.
  • step S1003 the calculated density is compared with the threshold value C1. If the density is lower than the threshold value C1, there is no particular problem, and the process returns to step S1001. If the density is higher than the threshold value C1, in step S1004, it is compared with another threshold value C2. If the concentration is lower than the threshold value C2, the process proceeds to step S1005 to increase the purge gas. If the concentration of the flying object is higher than the threshold value C2, the process proceeds to step S1006 and further compared with the threshold value C3.
  • step S1007 the optical processing device 900 is stopped for 1 hour or the processed object is retracted for 1 hour. If the concentration of the flying object becomes higher than the threshold value C3, the process proceeds to step S1008 and an emergency stop is performed.
  • damage to the condensing optical system device 201 or the optical processing head 200 can be reduced.
  • the present invention may be applied to a system composed of a plurality of devices, or may be applied to a single device. Furthermore, the present invention can also be applied to a case where a control program that realizes the functions of the embodiments is supplied directly or remotely to a system or apparatus. Therefore, in order to realize the functions of the present invention on a computer, a program installed on the computer, a medium storing the program, and a WWW (World Wide Web) server that downloads the program are also included in the scope of the present invention. . In particular, at least a non-transitory computer readable medium storing a program for causing a computer to execute the processing steps included in the above-described embodiments is included in the scope of the present invention.

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Abstract

光加工の際に生じる光加工ヘッドの不具合を未然に検知する光加工ヘッドが開示されている。加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工ヘッドであって、加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、筒状筐体内であって、加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、筒状筐体内であって、加工用光線の経路外に配置され、検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、を備え、受光部から取得した信号を用いて、筒状筐体の内面の汚れあるいは前記筒状筐体内に流入する飛散物の濃度を検査する。

Description

光加工ヘッド、光加工装置およびその制御方法ならびに制御プログラム
　本発明は、光加工ヘッド、光加工装置およびその制御方法ならびに制御プログラムに関する。
　上記技術分野において、特許文献１には、加工の際に生じる微粒子（ヒュームやスパッタ）によるレンズの汚れを検知するため、超音波振動を用いる方法が開示されている。
米国特許7705292号公報
　しかしながら、上記文献に記載の技術では、超音波振動の際にレンズが微振動し、それに伴い集光スポットも振動するため、加工精度が低下していた。
　本発明の目的は、上述の課題を解決する技術を提供することにある。
　上記目的を達成するため、本発明に係る光加工ヘッドは、
　加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工ヘッドであって、
　前記加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、
　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、
　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置され、前記検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、
　を備え、
　前記受光部から取得した信号を用いて、前記筒状筐体の内面の汚れあるいは前記筒状筐体内に流入する飛散物の濃度を検査することを特徴とする。
　上記目的を達成するため、本発明に係る方法は、
　加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工装置の制御方法であって、
　前記光加工装置は、
　前記加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、
　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、
　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置され、前記検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、
　を備えた光加工ヘッドを備え、
　前記信号に基づいて、前記加工面に射出するパージガスの量を変化させることを特徴とする光加工装置の制御方法である。
　上記目的を達成するため、本発明に係るプログラムは、
　加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工装置の制御プログラムであって、
　前記光加工装置は、
　前記加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、
　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、
　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置され、前記検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、
　を備えた光加工ヘッドを備え、
　前記信号に基づいて、前記加工面に射出するパージガスの量を変化させるステップをコンピュータに実行させることを特徴とする光加工装置の制御プログラムである。
　本発明によれば、光加工の際に生じる光加工ヘッドの不具合を未然に検知できる光加工技術を提供できる。
本発明の第１実施形態に係る光加工ヘッドの構成を示す図である。 本発明の第２実施形態に係る光加工ヘッドの構成を示す斜視図である。 本発明の第２実施形態に係る光加工ヘッドの構成を示す断面図である。 本発明の第２実施形態に係る検査用光線射出部および受光部の配置およびその間の光線経路を示す断面図である。 本発明の第２実施形態に係る検査用光線射出部および受光部の配置関係を表わす図である。 本発明の第３実施形態に係る光加工ヘッドの構成を示す斜視図である。 本発明の第３実施形態に係る光加工ヘッドの構成を示す断面図である。 本発明の第３実施形態に係る検査用光線射出部および受光部の配置およびその間の光線経路を示す断面図である。 本発明の第４実施形態に係る光加工装置の構成を示す図である。 本発明の第４実施形態に係る光加工装置の制御の流れを示すフローチャートである。
　以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態について例示的に詳しく説明する。ただし、以下の実施の形態に記載されている構成要素はあくまで例示であり、本発明の技術範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。なお、以下の実施形態において、「光」は、紫外光からマイクロ波までを含む様々な電磁波を含み、加工対象等に応じて適宜選択することができるものとする。
　［第１実施形態］
　本発明の第１実施形態としての光加工ヘッド(optical processing head)１００について、図１を用いて説明する。図１は、光加工ヘッド１００の断面図である。この光加工ヘッド１００は、図示しない加工用光源（light source for processing）からの光線(ray)１１０を加工面(process surface)１４０において集光させることにより加工する。
　光加工ヘッド１００は、筒状筐体１０１と、検査用光線射出部１０２と、受光部１０３とを含む。
　筒状筐体１０１は、加工用光源から射出された加工用光線１１０を取り囲む。検査用光線射出部１０２は、筒状筐体１０１の内部であって、加工用光線１１０の経路外に配置されている。受光部１０３は、筒状筐体１０１の内部であって、加工用光線１１０の経路外に配置され、検査用光線射出部１０２から射出される検査用光線１２１を受光する。
　受光部１０３から取得した信号１０４を用いて、筒状筐体１０１の内面の汚れ１１１あるいは筒状筐体１０１内に流入する飛散物１１２の濃度を検査する。筒状筐体１０１内に飛散物１１２が流入した場合、飛散物１１２によって検査用光線１２１は吸収あるいは散乱される。これにより、信号１０４の強度は低下する。つまり、飛散物１１２が混入してくると信号１０４が時間的に変化するため、飛散物１１２の流入の有無を判断することができる。また、筒状筐体１０１の内面に汚れ１１１が付着している場合、検査用光線１２１が汚れ１１１によって吸収されるため、信号１０４が所定の基準値より低くなる。つまり、信号１０４の基準値からの変化により、内面の汚れ具合を判断することができる。
　本実施形態によれば、筒状筐体１０１の内面の汚れ１１１あるいは筒状筐体１０１内に流入する飛散物１１２の濃度を検査することにより、光加工の際に生じる光加工ヘッドの不具合を未然に検知できる光加工技術を提供できる。本発明において筒状筐体１０１は、円筒形状に限定されるものではなく、角筒など、筒状であればよく、他の形状でもよい。また、検査用光線射出部１０２は、光源に限定されず、光ファイバなど光伝達手段の射出口でもよい。
　［第２実施形態］
　本発明の第２実施形態としての光加工ヘッド２００について、図２を用いて説明する。図２は、レーザ光を適用した光加工ヘッド２００の内部構成を示すための図であり、図２に示すとおり、光加工ヘッド２００は、集光光学系装置２０１と観察装置２０２とノズル２０３とを含む。
　（ヘッド全体構成）
　集光光学系装置２０１は、コリメータレンズ２１６および集光レンズ２１７とそれを保持する円筒筐体２１１とで構成される。コリメータレンズ２１６は、入射端２１５より射出された加工用光線２０５を平行光に変換する。集光レンズ２１７は、その平行光を下流側の加工面２６０上において集光する。
　これらの光学系により、集光光学系装置２０１は、不図示の光源から光伝送部２１０を経て入射端２１５から導かれた加工用光線２０５を加工面２６０に対して射出する。光伝送部２１０は、例えばコア径がφ０．０１～１ｍｍの光ファイバであり、光源で発生した光（例えばレーザ光）を光加工ヘッド２００に導く。
　入射端２１５から光加工ヘッド２００に導かれた加工用光線２０５は、加工面２６０に射出され、加工面２６０上に溶融プール２６１を形成する。
　ノズル２０３は、不図示の材料供給装置から、材料供給部を介して、加工材料およびガスの供給を受け、ガスに混合された材料２５０を、加工面２６０の溶融プール２６１に対して射出する。その後、溶融プール２６１が冷却され、固化することで加工面２６０に材料が堆積される。加工面２６０上で溶融プール２６１を移動させ、溶融と材料供給と冷却を繰り返すことにより３次元造形が実現する。
　観察装置２０２は、集光光学系装置２０１による加工状況を加工用光線２０５の光軸に沿った視点から観測するための装置であり、ＣＣＤやＣＭＯＳなどの撮像素子を含む撮像装置２２１と、集光光学系装置２０１の内部に設けられた観察用ミラーとしての半透過ミラー（one-way mirror）２２２とを含む。半透過ミラー２２２は、加工用光線２０５（波長１０６０ｎｍ）は透過するが、可視光（波長４５０～８００ｎｍ）は反射するように表面をコーティングされている。加工面２６０で反射される可視光の一部は、半透過ミラー２２２によって反射され、撮像装置２２１に導かれる。このように観測した加工状況に応じて、加工パラメータをフィードバック制御することにより加工精度を向上させることができる。
　検査用光線射出部２１２および受光部２１３は、集光レンズ２１７よりも下流側に配置される。また、検査用光線射出部２１２は受光部２１３よりも加工用光線２０５の上流側に配置される。これにより、検査用光線射出部２１２から発せられた検査用光線２３１は、半透過ミラー２２２には届かず、撮像装置２２１によって撮像されない。つまり、撮像時に検査用光線射出部２１２からの光はノイズにならない。換言すると、検査用光線射出部２１２を受光部２１３よりも上流に配置することにより、ノイズが低減するという効果がある。また、検査用光線２３１が撮像装置２２１においてノイズとならないように、検査用光線射出部２１２のまわりに遮蔽板２１４が設けられている。これにより、受光部２１３に向かわない検査用光線は吸収され、遮蔽される。
　（検査ユニットの構成）
　加工の際、加工面２６０から飛散するヒューム（fume）やスパッタ（sputter）と呼ばれる飛散物(scattering object)２４２が円筒筐体２１１内部に侵入すると、集光レンズ２１７などの光学系が汚染され、筐体内面２１１ａに汚れ２４１が付着し、光利用効率の低下を引き起こす。そこで、光加工ヘッド２００は、飛散物２４２の影響を検査する検査ユニット２３０として、円筒筐体２１１の内部に、検査用光線射出部２１２、受光部２１３、遮蔽板２１４、および信号出力部２１８を備える。
　検査用光線射出部２１２は例えばＬＥＤであり、波長は４００～４５０ｎｍである。ただしこの限りではなく、ハロゲンランプ、白熱ランプ、クリプトンランプ、などでよい。また、波長は加工用光線２０５と異なればどのようなものでもよい（つまり、ここでは波長１０６０ｎｍでなければよい）。検査用光線２３１と加工用光線２０５の波長が異なることにより、受光部２１３が加工用光線２０５を検査用光線２３１と誤認することがないため、検知信号のノイズを低減できる。
　検査用光線射出部２１２および受光部２１３は、加工用光線２０５の経路外に、対向して配置される。受光部２１３は検査用光線射出部２１２から射出された検査用光線２３１を受光し、受光した光量に応じた信号を信号出力部２１８に渡す。飛散物２４２が検査用光線２３１の経路内に侵入すると、受光部２１３で受光する光量が一時的に低下する。また、飛散物２４２が筐体内面２１１ａに汚れ２４１として付着すると、受光部２１３で受光する光量が継続的に低下する。
　そこで、受光部２１３で受光する光量の時間的な変化（一時的なゆらぎおよび／または基準値からの所定量以上の継続的低下）の有無を検知することにより、飛散物２４２の影響を検知する。信号出力部２１８は、受光部２１３から取得した信号を用いて、円筒筐体２１１の内面の汚れ２４１あるいはノズル２０３および円筒筐体２１１内に流入する飛散物２４２の濃度を示す信号を出力する。光量変化が大きいほど、飛散の濃度が大きいと考えられる。つまり、光量変化の大小によって飛散物の濃度を検査できる。
　このように、円筒筐体２１１の内面の汚れ２４１あるいは円筒筐体２１１内に流入する飛散物２４２の濃度を検査することにより、光加工の際に生じる光加工ヘッドの不具合（集光レンズの汚染による品質低下）を検知できる。例えば、パージを増加し、飛散物の混入を防ぐなどの方法により、光加工ヘッド２００の決定的な品質低下を回避することが可能となる。
　次に、図３～図５を用いて、検査用光線射出部２１２および受光部２１３の配置について詳しく説明する。図３は、光加工ヘッド２００の加工用光線２０５の光軸を通る面における断面図であり、図４は、図３のＡ－Ａ断面図である。Ａ－Ａ断面は、加工用光線２０５の光軸に垂直に交わり、かつ、検査用光線射出部２１２および受光部２１３を通る面である。
　図４からわかるように、検査用光線射出部２１２および受光部２１３の両方を通る断面において、筐体内面２１１ａは、楕円を描く。この楕円の２つの焦点位置に、検査用光線射出部２１２および受光部２１３を配置する。この図４からわかるように、検査用光線射出部２１２から発せられた検査用光線２３１は筐体内面２１１ａによって反射され、受光部２１３にほぼ全て集まる。
　図３に示すように、検査用光線射出部２１２と受光部２１３とを結ぶ線分の、加工用光線２０５の光軸からの傾斜角をΘとする。また、検査用光線射出部２１２と受光部２１３との距離（線分の長さ）をＬとする。さらに本実施形態において、筐体内面２１１ａは、加工用光線２０５の光軸を中心軸とする円柱形状（円柱側面）であり、この円柱の直径をＤとする。
　上記のように定義したΘ、Ｌ、Ｄは、以下の数式（１）が満たされるとき、検査用光線射出部２１２と受光部２１３を楕円の２つの焦点にそれぞれ配置できる。
　Ｄ／Ｌ　＝　２／tanθ・・・（１）
　つまり、数式（１）は楕円の２つの焦点に検査用光線射出部２１２と受光部２１３を配置するための条件である。
　数式（１）を満たすように配置された検査用光線射出部２１２から発せられた検査用光線２３１は、理論上、全て受光部２１３で受光される。一方、式（１）の関係を満たさない場合、受光部２１３で受光されない光線が存在する。
　図５に数式（１）の関係を示す。横軸が傾き角Θであり、縦軸がＤ／Ｌである。これより、Θが４５°では、Ｄ／Ｌが約２となることがわかる。
　以上、本実施形態によれば、円筒筐体２１１の内面の汚れ２４１あるいは円筒筐体２１１内に流入する飛散物２４２の濃度を検査することにより、光加工の際に生じる光加工ヘッドの不具合を未然に検知できる光加工技術を提供できる。
　なお、上記実施形態では筐体内面２１１ａを円柱外面に対応する形状としたが、本発明はこれに限定されるものではない。ただし、検査用光線２３１が円筒筐体２１１の筐体内面２１１ａで反射して受光部２１３に集光されるように、円筒筐体２１１の筐体内面２１１ａの少なくとも一部が湾曲面となっていることが望ましい。
　［第３実施形態］
　次に本発明の第３実施形態に係る光加工ヘッド６００について、図６を用いて説明する。図６は、本実施形態に係る光加工ヘッド６００の内部構成を説明するための透過斜視図であり、図７は、その部分拡大図である。本実施形態に係る光加工ヘッド６００は、上記第２実施形態と比べると、検査ユニット２３０とは内面形状が異なる検査ユニット６３０を有する点で異なる。その他の構成および動作は、第２実施形態と同様であるため、同じ構成および動作については同じ符号を付してその詳しい説明を省略する。
　検査ユニット６３０は、回転楕円体の外周面に沿う形状の椀曲面６３１を内部に有しており、検査用光線射出部６１２および受光部６１３が回転楕円体の２つの焦点位置にそれぞれ配置されている。本実施形態では、検査用光線射出部６１２のまわりに遮蔽板は設ける必要がない。ただし、遮蔽板を設けてもよく、その場合は検知信号のノイズを十分に低減できる。
　図８は、本実施形態に係る光加工ヘッド６００の検査用光線射出部６１２と受光部６１３との間の光線図を示す。図８によれば、検査用光線は全て受光部６１３で受光されることがわかる。つまり、検査光線は、効率よく検査に使われるという効果がある。
　以上の構成で、検査用光線射出部６１２と受光部６１３とを結ぶ線分が光軸に対して直交するような配置を取ることが可能となる。これにより、光軸方向にコンパクトな光加工ヘッド６００を実現できるという効果がある。
　［第４実施形態］
　本発明の第４実施形態としての光加工装置(Optical Processing apparatus)９００について、図９を用いて説明する。光加工装置９００は、上述の実施形態で説明した光加工ヘッド１００、２００、６００のいずれかを含み、集光した光が生み出す熱で材料を溶融することにより三次元的な造形物（あるいは肉盛溶接）を生成する装置である。ここでは一例として、光加工ヘッド２００を備えた光加工装置９００について説明する。
　《装置構成》
　光加工装置９００は、光加工ヘッド２００以外に、光源９０１、光伝送部２１０、冷媒供給装置９０３、冷媒供給部９０４、ステージ９０５、材料供給装置９０６、材料供給部９０７、ガス供給装置９０８、ガス供給部９０９および制御部９３０を備えている。
　光源９０１は、レーザー、ＬＥＤ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、白熱球などでよい。光線の波長は例えば１０６０ｎｍであるが、これに限るものではない。
　冷媒供給装置９０３は、冷媒として例えば水を貯蔵し、ポンプで、冷媒を冷媒供給部９０４を介して光加工ヘッド２００に供給する。
　冷媒供給部９０４は内径φ２～６の樹脂あるいは金属のホースである。冷媒を光加工ヘッド２００内に供給し、その内部で循環させ、冷媒供給装置９０３に戻すことにより、光加工ヘッド２００の昇温を抑えることができる。冷媒の供給量は例えば１～１０L／minである。
　ステージ９０５は、例えばＸステージ、あるいはＸＹステージ、あるいはＸＹＺステージであり、各軸（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を稼動させることが可能である。材料供給装置９０６は、材料供給部９０７を介してノズル２０３に材料を供給する。例えば、材料は金属粒子、樹脂粒子、金属線材、樹脂線材、である。材料供給装置９０６は、キャリアガスも同時に供給できる。
　材料供給部９０７は例えば樹脂あるいは金属のホースであり、キャリアガスに材料を混入させた粉体流をノズル２０３へと導く。ただし、材料が線材の場合、キャリアガスは不要となる。ノズル２０３は、加工面２６０に向けて材料を射出する。
　ガス供給装置９０８は、ガス供給部９０９を介して光加工ヘッド２００にパージガスを供給する。パージガスは例えば窒素、またはアルゴン、またはヘリウム、である。しかし、パージガスはこれに限定されるものではなく、不活性ガスならば他のガスでもよい。光加工ヘッド２００に供給されたパージガスは、上記で述べた光線に沿ってノズル２０３から射出される。
　また図示はしていないが、光加工装置９００は、光加工ヘッド２００の姿勢および位置を制御する、姿勢制御機構および位置制御機構を備えている。
　《装置動作》
　次に、光加工装置９００の動作について説明する。造形物９１０は、ステージ９０５の上で作成される。
　パージガスはノズル２０３から加工面２６０へと射出される。そのため、溶融プールの周辺環境はパージガスによってパージされる。パージガスとして酸素を含まない不活性ガスを選ぶことにより、加工面２６０の酸化を防ぐことができる。
　光加工ヘッド２００は、冷媒供給装置９０３から冷媒供給部９０４を介して供給された冷媒によって冷却され、加工中の昇温が抑えられる。
　以上の一連の動作と同時に、光加工ヘッド２００を加工面２６０に沿って走査することにより、材料を堆積させながら所望の造形を行うことができる。つまり、本装置によって肉盛溶接あるいは三次元造形を作成できる。
　制御部９３０は、検査ユニット２３０から光加工ヘッド２００内部の飛散物の状況を取得し、その状況に応じてガス供給装置９０８を制御して、加工面２６０に吹き付けるパージガスの量を変更するパージ制御部としても機能する。
　図１０は、その制御の流れを示すフローチャートである。このフローチャートでは、３つの閾値（閾値Ｃ１＜閾値Ｃ２＜閾値Ｃ３）を用いることで、飛散物の量に応じて４段階の制御を行なうことを示している。
　まず、ステップＳ１００１において、飛散物（ヒューム）を検知すると、ステップＳ１００２に進み、その濃度を算出する。さらに、ステップＳ１００３において、算出した濃度を閾値Ｃ１と比較する。もし、閾値Ｃ１よりも濃度が低ければ、特に問題はないため、ステップＳ１００１の処理に戻る。閾値Ｃ１よりも高濃度であれば、ステップＳ１００４で、別の閾値Ｃ２と比較する。濃度が閾値Ｃ２より低ければ、ステップＳ１００５に進み、パージガスを増加させて対応する。飛散物の濃度が、閾値Ｃ２より高ければ、ステップＳ１００６に進み、さらに、閾値Ｃ３と比較する。飛散物の濃度が、閾値Ｃ３よりも低ければ、ステップＳ１００７に進み、光加工装置９００を１時間停止させるか、あるいは加工物を１時間待避させる。飛散物の濃度が、閾値Ｃ３よりも高くなれば、ステップＳ１００８に進み、緊急停止を行なう。
　以上、本実施形態によれば、集光光学系装置２０１あるいは光加工ヘッド２００の損傷を低減することができる。
　［他の実施形態］
　以上、実施形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明の技術思想内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。また、それぞれの実施形態に含まれる別々の特徴を如何様に組み合わせたシステムまたは装置も、本発明の範疇に含まれる。
　また、本発明は、複数の機器から構成されるシステムに適用されてもよいし、単体の装置に適用されてもよい。さらに、本発明は、実施形態の機能を実現する制御プログラムが、システムあるいは装置に直接あるいは遠隔から供給される場合にも適用可能である。したがって、本発明の機能をコンピュータで実現するために、コンピュータにインストールされるプログラム、あるいはそのプログラムを格納した媒体、そのプログラムをダウンロードさせるＷＷＷ(World Wide Web)サーバも、本発明の範疇に含まれる。特に、少なくとも、上述した実施形態に含まれる処理ステップをコンピュータに実行させるプログラムを格納した非一時的コンピュータ可読媒体（non-transitory computer readable medium）は本発明の範疇に含まれる。

Claims (13)

  1. 　加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工ヘッドであって、
    　前記加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、
    　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、
    　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置され、前記検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、
    　を備え、
    　前記受光部から取得した信号を用いて、前記筒状筐体の内面の汚れあるいは前記筒状筐体内に流入する飛散物の濃度を検査することを特徴とする光加工ヘッド。
  2. 　前記加工用光線を前記加工面に向けて下流側に集光させる集光レンズをさらに備え、
    　前記検査用光線射出部および前記受光部は前記集光レンズよりも下流に配置されることを特徴とする請求項１に記載の光加工ヘッド。
  3. 　前記集光レンズよりも上流に設けられた観察用ミラーと、
    　前記観察用ミラーの反射を利用して前記加工面を撮像する撮像素子と、
    　をさらに備え、
    　前記受光部を前記検査用光線射出部よりも前記加工面側に配置したことを特徴とする請求項２に記載の光加工ヘッド。
  4. 　前記検査用光線が前記筒状筐体の内面で反射して前記受光部に集光されるように、前記筒状筐体の内面の少なくとも一部を湾曲面としたことを特徴とする請求項１、２または３に記載の光加工ヘッド。
  5. 　前記検査用光線射出部および前記受光部の両方を通る前記湾曲面の断面のうち少なくとも１つは、楕円であることを特徴とする請求項４に記載の光加工ヘッド。
  6. 　前記検査用光線射出部および前記受光部が前記楕円の２つの焦点位置にそれぞれ配置されたことを特徴とする請求項５に記載の光加工ヘッド。
  7. 　前記湾曲面は回転楕円体の外周面に沿う形状であり、
    　前記検査用光線射出部および前記受光部が前記回転楕円体の２つの焦点位置にそれぞれ配置されたことを特徴とする請求項６に記載の光加工ヘッド。
  8. 　前記湾曲面は、前記加工用光線の光軸を中心として直径をＤとする円柱形状であり、
    　前記検査用光線射出部および前記受光部を結ぶ線分と前記光軸との成す角をθとし、
    　前記検査用光線射出部と前記受光部との距離をＬとすると、下記の数式が成り立つことを特徴とする請求項４に記載の光加工ヘッド。
    　Ｄ／Ｌ　＝　２／tanθ
  9. 　前記受光部から取得した信号の時間的変化に基づいて、前記筒状筐体内に流入する飛散物の濃度を検査することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光加工ヘッド。
  10. 　前記受光部から取得した信号の基準値からの変化に基づいて、前記筒状筐体の内面の汚れを検査することを特徴とする請求項１乃至９に記載の光加工ヘッド。
  11. 　請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光加工ヘッドと、
    　前記信号に基づいて、前記加工面に射出するパージガスの量を変化させる、パージ制御部と、
    　を有することを特徴とする光加工装置。
  12. 　加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工装置の制御方法であって、
    　前記光加工装置は、
    　前記加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、
    　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、
    　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置され、前記検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、
    　を備えた光加工ヘッドを備え、
    　前記信号に基づいて、前記加工面に射出するパージガスの量を変化させることを特徴とする光加工装置の制御方法。
  13. 　加工用光源からの光線を加工面において集光させることにより加工する光加工装置の制御プログラムであって、
    　前記光加工装置は、
    　前記加工用光源から射出された加工用光線を取り囲む筒状筐体と、
    　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置された検査用光線射出部と、
    　前記筒状筐体内であって、前記加工用光線の経路外に配置され、前記検査用光線射出部から射出される検査用光線を受光する受光部と、
    　を備えた光加工ヘッドを備え、
    　前記信号に基づいて、前記加工面に射出するパージガスの量を変化させるステップをコンピュータに実行させることを特徴とする光加工装置の制御プログラム。
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