WO2016034424A1

WO2016034424A1 - Beleuchtungsoptik für die projektionslithografie

Info

Publication number: WO2016034424A1
Application number: PCT/EP2015/069134
Authority: WO
Inventors: Martin Endres
Original assignee: Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority date: 2014-09-03
Filing date: 2015-08-20
Publication date: 2016-03-10
Also published as: US20170160641A1; JP2017527856A; US9977335B2; DE102014217611A1; JP6738323B2

Abstract

Eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie dient zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfelds, in welchem ein Objektfeld (8) einer nachgeordneten abbildenden Optik und ein zu beleuchtendes Objekt anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht (30 einer EUV-Lichtquelle. Die Beleuchtungsoptik hat zwei Facettenspiegel zur reflektierenden, überlagernden Führung von Teilbündeln (3j) eines Bündels des EUV-Beleuchtungslichts über jeweils genau eine Facette eines der beiden Facettenspiegels, der beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet ist. Einzelspiegel des anderen Facettenspiegels, der in oder nahe einer zum Objektfeld (8) konjugierten Feldebene angeordnet ist, können zu gemeinsam verkippbaren Einzelspiegelgruppen gruppiert sein. Die Gruppierung ist derart, dass zumindest eine der Einzelspiegelgruppen, die eines der Teilbündel (30 über genau eine der weiteren Facetten zum Objektfeld (8) führt, aus mehreren, auf den ersten Facettenspiegel nicht zusammenhängenden Einzelspiegel- Untergruppen (33, 34) gebildet ist. Auch ein Verfahren zur Bestimmung von Zuordnungen von Einzelgruppen des ersten Facettenspiegels zu Facetten des weiteren Facettenspiegels der Beleuchtungsoptik ist angegeben. Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, mit der eine große Flexibilität bei der Vorgabe einer Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes erreicht wird.

Description

Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie

Die vorliegende Patentanmeldung nimmt die Priorität der deutschen Patentanmeldung DE 10 2014 217 61 1.5 in Anspruch, deren Inhalt durch Be- zugnahme hierin aufgenommen wird.

Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die Projektionslithogra- fie. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Bestimmung von Zuordnungen von Einzelspiegelgruppen eines ersten Facettenspiegels zu Fa- cetten eines weiteren Facettenspiegels zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes bei Einsatz einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System, ein Verfahren zur Herstellung ei- nes mikro- beziehungsweise nano strukturierten Bauteils sowie ein mit dem Verfahren hergestelltes Bauteil.

Eine Beleuchtungsoptik mit einer Übertragungsoptik und mindestens einem nachgeordneten Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel ist bekannt aus der WO 2010/099807 A 1 und der US 2006/0132747 A 1.

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass eine große Flexibilität bei der Vorgabe einer Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes erreicht wird.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Beleuchtungsoptik mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. Erfmdungsgemäß wurde erkannt, dass Einzelspiegelgruppen des ersten Feld-Facettenspiegels nicht notwendigerweise zusammenhängen müssen, damit das Beleuchtungslicht von der jeweiligen Einzelspiegelgruppe über ein und dieselbe weitere Facette des beabstandet zur Pupillenebene ange- ordneten weiteren Facettenspiegels entsprechend der vorgegebenen Beleuchtung hin zum Objektfeld geführt wird. Insbesondere bei vorgegebenen Beleuchtungswinkelverteilungen, sogenannten Beleuchtungssettings, bei denen Licht aus unterschiedlichen Beleuchtungspolen das Objektfeld erreichen soll, hat es sich als vorteilhaft herausgestellt, Einzelspiegelgruppie- rungen auf dem ersten Facettenspiegel zuzulassen, die aus mehreren, nicht zusammenhängenden Einzelspiegel-Untergruppen aufgebaut sind. Die zur gleichen Einzelspiegelgruppe gehörenden Einzelspiegel-Untergruppen werden dann über ein und dieselbe weitere Facette in verschiedene und regelmäßig räumlich voneinander getrennte Bereiche des Objektfeldes überführt, nämlich insbesondere abgebildet. Es ergibt sich eine verbesserte Nutzbarkeit des weiteren Facettenspiegels. Der weitere Facettenspiegel wird auch als spekularer Reflektor bezeichnet. Die Facetten des weiteren Facettenspiegels werden auch als weitere Facetten oder als Spekularfacet- ten bezeichnet. Diese Facetten des weiteren Facettenspiegels können ihrer- seits jeweils aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln aufgebaut sein, die zusammenwirkend die jeweilige weitere Facette beziehungsweise Speku- larfacette bilden und eine Einzelspiegelgruppe des ersten Facettenspiegels in vorgegebener Weise in das Objektfeld überführen und insbesondere abbilden. Die Gruppierung der Einzelspiegelgruppen kann derart sein, dass mehrere Einzelspiegelgruppen mit jeweils mehreren nicht zusammenhängenden Einzelspiegel-Untergruppen vorliegen. Soweit der weitere Facettenspiegel mehr als 100 weitere Facetten aufweist, können mehr als 1 % der Einzelspiegelgruppen nicht zusammenhängend sein. Auch ein größerer Prozentsatz ist möglich, beispielsweise mehr als 1,5 %, mehr als 2 %, bis zu 10 % oder auch ein noch höherer Prozentsatz. Eine nicht zusammenhängende Einzelspiegelgruppe kann aus zwei, drei oder aus noch mehr Einzelspiegel-Untergruppen gebildet sein. Der zweite, weitere Facettenspiegel, der beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik an- geordnet ist, ist nicht in einer Feldebene oder einer hierzu konjugierten Ebene der Beleuchtungsoptik beziehungsweise einer nachgeordneten Projektionsoptik angeordnet. Eine Gruppierung der Einzelspiegel des ersten Facettenspiegels zu gemeinsam verkippbaren Einzelspiegelgruppen bedeutet, dass die gruppierten Einzelspiegel innerhalb der jeweiligen Gruppe je- weils einen fest vorgegebenen Kippwinkel haben, der aus der funktionalen Gruppenzugehörigkeit folgt. Es muss sich hier nicht um den identischen Kippwinkel handeln; es handelt sich aber regelmäßig um sich allenfalls wenig unterscheidende Kippwinkel. Die gemeinsame Verkippbarkeit der Einzelspiegel innerhalb einer Einzelspiegelgruppe bedeutet nicht oder je- denfalls nicht zwingend, dass diese Einzelspiegel alle mit ein und demselben Aktor verkippt werden. Im Regelfall hat jeder Einzelspiegel innerhalb einer Einzelspiegelgruppe einen eigenen Kippaktor. Die Zuordnung der Einzelspiegel in Einzelspiegelgruppen erfolgt über eine zentrale Steuerung der Beleuchtungsoptik und ist abhängig von den jeweils einzustellenden Beleuchtungsparametern.

Eine Fernfeldabdeckung nach Anspruch 2 führt zu einer besonders effizienten Nutzung des EUV-Beleuchtungslichts. Die Fernfeldabdeckung kann besser sein als 85 %, als 90 % oder kann noch besser sein.

Eine Berücksichtigung von Auswahl-Einzelspiegeln bei der Zuordnung nach Anspruch 3 vergrößert eine Zuordnungsflexibilität, was zur Optimierung des Beleuchtungssettings und/oder auch zur Optimierung einer Belegung des ersten Facettenspiegels mit Einzelspiegelgruppen und/oder zu einer Verringerung einer Thermallast auf den weiteren Facetten genutzt werden kann. Bei einer Verkippung der Auswahl-Einzelspiegel zwischen der ersten und der zweiten Kippstellung ist eine Verkippung der weiteren Facetten nicht erforderlich. Bei den Auswahl-Einzelspiegeln kann es sich um weniger als 50 % aller Einzelspiegel des ersten Facettenspiegels handeln. Auch ein kleinerer Anteil, den die Auswahl-Einzelspiegel an der Gesamtheit der Einzelspiegel des ersten Facettenspiegels haben, ist möglich, beispielsweise höchstens 20 %. Derartige Anteile der Auswahl- Einzelspiegel führen zur Möglichkeit einer flexiblen Belegung des ersten Facettenspiegels mit den Einzelspiegelgruppen, sodass der erste Facettenspiegel mit hoher Fernfeldabdeckung genutzt werden kann. Ein Pupillen- füllgrad der Beleuchtungsoptik, also der Anteil beleuchteter Bereiche einer Eintrittspupille zu einer gesamten Flächenausdehnung der Eintrittspupille, kann niedrig gehalten werden. Zudem ist eine Feinjustage von Beleuch- tungseigenschaften der Beleuchtungsoptik möglich. Auch bei einem größeren Anteil der Einzelspiegel der Einzelspiegelgruppen als 20 % oder 50 % kann es sich um Auswahl-Einzelspiegel handeln. Grundsätzlich können sogar alle Einzelspiegel die Funktion derartiger Auswahl-Einzelspiegel haben.

Eine Vorgabe von nach Anspruch 4 berandeten Einzelspiegelgruppen macht eine scanintegrierte Beleuchtung unempfindlicher insbesondere gegen driftende Normalenvektoren der weiteren Facetten . Eine Belegung des ersten Facettenspiegels mit Einzelspiegelgruppen nach Anspruch 5 verringert den Einfluss von in das Objektfeld abgebildeten Block-Zwischenräumen. Eine Stabilität sowie ein Durchsatz der Beleuchtung sind verbessert. Ein Verfahren nach Anspruch 6 hat sich zur Zuordnung der Einzelspiegelgruppen zu den weiteren Facetten als besonders zweckmäßig herausgestellt. Als Ergebnis des Bestimmungsverfahrens kann jeder der Facetten des weiteren Facettenspiegels genau eine Einzelspiegelgruppe des ersten Facettenspiegels zugeordnet sein. Alternativ ist es möglich, unter den Facetten des weiteren Facettenspiegels eine Auswahl zu treffen, d. h. nicht allen diesen weiteren Facetten eine Einzelspiegelgruppe zuzuordnen. Eine Auswahl der zuzuordnenden weiteren Facetten gibt beispielsweise die im Ausgangsschritt vorgegebene Beleuchtungs-Intensitätsverteilung vor.

Beim Verfahren nach Anspruch 7 wird von der Prämisse abgewichen, jeweils maximal große Einzelspiegelgruppen zu bilden. Dies erhöht die Flexibilität der Belegung des ersten Facettenspiegels mit den Einzelspiegelgruppen, was beispielsweise zu einer Verringerung der Thermallast auf den weiteren Facetten, zu einer Verbesserung einer Fernfeldabdeckung auf dem ersten Facettenspiegel bei der Puzzle-Belegung mit den Einzelspiegelgruppen oder auch zu einer Verringerung einer unerwünschten Abbildung von Block-Zwischenräumen genutzt werden kann. Die Vorteile eines optischen Systems nach Anspruch 8, eines Beleuchtungssystems nach Anspruch 9, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 10, eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 1 1 und eines mikro- beziehungsweise nano strukturierten Bauteils nach Anspruch 12 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Beleuchtungs- optik bereits erläutert wurden. Bei dem hergestellten Bauteil kann es sich um ein Halbleiterelement, besonders um einen Mikrochip, insbesondere um einen Speicherchip handeln. Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:

Fig. 1 stark schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbe- lichtungsanlage für EUV-Mikrolithographie mit einer Lichtquelle, einer Beleuchtungsoptik und einer Projektionsoptik;

Fig. 2 schematisch und ebenfalls im Meridionalschnitt einen Strahlengang ausgewählter Einzelstrahlen von Beleuchtungslicht innerhalb einer Pupillen-Beleuchtungseinheit der Beleuchtungsoptik nach Fig. 1 , ausgehend von einem Zwischenfokus bis hin zu einem in der Objektebene der Projektionsoptik im Bereich eines Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfeldes angeordneten etikel;

Fig. 3 eine Aufsicht auf einen Übertragungs-Facettenspiegel der

Beleuchtungsoptik, der in einer Feldebene angeordnet ist;

Fig. 4 eine Ausschnittsvergrößerung aus Fig. 3, bei der eine Unter- teilung des Übertragungs-Facettenspiegels in Einzelspiegel-

Blöcke dargestellt sowie eine Zuweisung beleuchteter Abschnitte auf dem Übertragungs-Facettenspiegel hervorgehoben ist, die virtuelle Facettengruppen beziehungsweise Einzelspiegelgruppen darstellen, denen Beleuchtungsvorgabe- Facetten eines in der Beleuchtungsoptik nachgeordneten Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels über Ausleuchtungska- näle zugeordnet sind, wobei über die beiden Facettenspiegel ein x-Dipol-Beleuchtungssetting eingestellt ist; eine Aufsicht auf den Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik, der beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik angeordnet ist; eine Pupillen-Intensitätsverteilung für ein x-Dipol- Beleuchtungssetting, aufgetragen über Pupillenkoordinaten σ_χ und σ_γ; in einer zu Fig. 5 ähnlichen Darstellung eine Ausführung des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels, wobei Beleuchtungsvorgabe-Facetten hervorgehoben sind, die mit dem Beleuchtungslicht über jeweils zugeordnete Einzelspiegelgruppen des Übertragungs-Facettenspiegels beaufschlagt werden, wobei die Hervorhebung abhängig davon ist, wie viele Untergruppen zu jeweils einer Einzelspiegelgruppe gehören; entfaltete Strahlengänge des EUV-Beleuchtungslichts zwischen einzelnen Beleuchtungsvorgabe-Facetten und einer im Strahlengang nach der Objektebene angeordneten Eintritts- Pupillenebene der Projektionsoptik; vergrößert einen Schnitt durch den Strahlengang, ausgehend von der mittleren Beleuchtungsvorgabe-Facette nach Fig. 8, in der Objektebene, also ein über diese Beleuchtungsvorgabe- Facette ausgeleuchtetes Teilfeld, in welches die diese Beleuchtungsvorgabe-Facette zugeordnete Einzelspiegelgruppe des Übertragungs-Facettenspiegels abgebildet ist, die zwei Einzelspiegel-Untergruppen aufweist; in einem Histogramm eine Häufigkeitsverteilung der Beleuchtungsvorgabe-Facetten abhängig von der über diese Beleuchtungsvorgabe-Facetten jeweils beleuchteten Teilfeldgröße, aufgetragen relativ zur Fläche des gesamten Objektfelds; ebenfalls in einem Histogramm die Häufigkeitsverteilung der Beleuchtungsvorgabe-Facetten abhängig von einer maximalen Ausdehnung X_TF von jeweils über eine der Beleuchtungsvorgabe-Facetten beleuchteten Teilfeldern, gemessen senkrecht (x) zu einer Objektverlagerungsrichtung y des etikels, aufgetragen relativ zur gesamten Objektfelderstreckung X_0F senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung; in einer zu Fig. 6 ähnlichen Darstellung eine Pupillen- Intensitätsverteilung für ein Hexapol-Beleuchtungssetting; in einer zu Fig. 7 ähnlichen Darstellung eine Beaufschlagung der Beleuchtungsvorgabe-Facetten beim Hexapol-Setting nach Fig. 12; in einer zu Fig. 8 ähnlichen Darstellung Strahlengänge, ausgehend von drei ausgewählten Beleuchtungsvorgabe-Facetten über das Objektfeld bis zur Eintritts-Pupillenebene der Projektionsoptik, beim Hexapol-Beleuchtungssetting nach Fig. 12;

Fig. 15 in einer zu Fig. 9 ähnlichen Darstellung die Beaufschlagung des Objektfeldes mit einem Teilfeld über eine Einzelspiegel- gruppe des Übertragungs-Facettenspiegels, aufweisend drei Einzelspiegel-Untergruppen, beim Hexapol-Beleuchtungs- setting nach Fig. 12; in einer zu Fig. 9 ähnlichen Darstellung die Beaufschlagung des Objektfeldes mit einem Teilfeld über eine Einzelspiegelgruppe des Übertragungs-Facettenspiegels, aufweisend zwei Einzelspiegel-Untergruppen, beim Hexapol-Beleuchtungs- setting nach Fig. 12; in einer zu Fig. 10 ähnlichen Darstellung eine Häufigkeitsverteilung eines Flächenanteils der Teilfelder bei dem Hexapol- Beleuchtungssetting nach Fig. 12; in einer zu Fig. 1 1 ähnlichen Darstellung eine Häufigkeitsverteilung einer relativen maximalen x- Ausdehnung der Teilfelder bei dem Hexapol-Beleuchtungssetting nach Fig. 12; in einer zu Fig. 6 ähnlichen Darstellung eine Pupillen- Intensitätsverteilung für ein Quadrupol-Beleuchtungssetting; in einer zu Fig. 10 ähnlichen Darstellung eine Häufigkeitsverteilung eines Flächenanteils der Teilfelder bei dem Quadrupol-Beleuchtungssetting nach Fig. 19; in einer zu Fig. 1 1 ähnlichen Darstellung eine Häufigkeitsverteilung einer relativen maximalen x- Ausdehnung der Teilfelder bei dem Quadrupol-Beleuchtungssetting nach Fig. 19; und Fig. 22 in einer zu Fig. 4 ähnlichen Darstellung eine Verteilung von Einzelspiegelgruppen auf dem Übertragungs-Facettenspiegel für ein y-Dipol-Beleuchtungssetting.

Eine in der Fig. 1 stark schematisch und im Meridionalschnitt dargestellte Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikrolithographie hat eine Lichtquelle 2 für Beleuchtungslicht 3. Bei der Lichtquelle handelt es sich um eine EUV-Lichtquelle, die Licht in einem Wellenlängenbereich zwischen 5 nm und 30 nm erzeugt. Hierbei kann es sich um eine LPP-(Laser Produced Plasma, lasererzeugtes Plasma) Lichtquelle, um eine DPP-(Discharge Produced Plasma, Plasmaerzeugung mittels Gasentladung) Lichtquelle oder um eine synchrotron-strahlungsbasierte Lichtquelle, beispielsweise um einen Freie-Elektronen-Laser (FEL), handeln.

Zur Führung des Beleuchtungslichts 3, ausgehend von der Lichtquelle 2, dient eine Übertragungsoptik 4. Diese hat einen in der Fig. 1 lediglich hinsichtlich seiner reflektierenden Wirkung dargestellten Kollektor 5, und einen nachfolgend noch näher beschriebenen Übertragungs-Facettenspiegel 6, der auch als erster Facettenspiegel oder als Feldfacettenspiegel bezeichnet ist. Zwischen dem Kollektor 5 und dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 ist ein Zwischenfokus 5a des Beleuchtungslichts 3 angeordnet. Eine numerische Apertur des Beleuchtungslichts 3 im Bereich des Zwischenfokus 5a beträgt beispielsweise NA = 0,182. Dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 und damit der Übertragungsoptik 4 nachgeordnet ist ein Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7, der auch als zweiter oder weiterer Facettenspiegel bezeichnet ist und ebenfalls nachfolgend noch näher erläutert wird. Die optischen Komponenten 5 bis 7 sind Bestandteile einer Beleuchtungsoptik 1 1 der Projektionsbelichtungsanlage 1. Der Übertragungs-Facettenspiegel 6 ist in einer Feldebene der Beleuchtungsoptik 1 1 angeordnet. Der Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 der Beleuchtungsoptik 1 1 ist beabstandet zu Pupillenebenen der Beleuchtungsoptik 1 1 angeordnet. Eine derartige Anordnung wird auch als spekularer Reflektor bezeichnet.

Dem Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 im Strahlengang des Be- leuchtungslichts 3 nachgeordnet ist ein Retikel 12, das in einer Objektebene 9 einer nachgelagerten Projektionsoptik 10 der Projektionsbelichtungs- anlage 1 angeordnet ist. Bei der Projektionsoptik 10 handelt es sich um ein Projektionsobjektiv. Mit der Beleuchtungsoptik 1 1 wird ein Objektfeld 8 auf dem Retikel 12 in der Objektebene 9 definiert ausgeleuchtet. Das Ob- jektfeld 8 stellt gleichzeitig ein Beleuchtungsfeld der Beleuchtungsoptik 1 1 dar. Generell gilt, dass das Beleuchtungsfeld so ausgebildet ist, dass das Objektfeld 8 im Beleuchtungsfeld angeordnet werden kann.

Der Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 ist wie auch der Übertragungs- Facettenspiegel 6 Teil einer Pupillen-Beleuchtungseinheit der Beleuchtungsoptik und dient zur Beleuchtung einer Eintrittspupille 12a in einer Pupillenebene 12b der Projektionsoptik 10 mit dem Beleuchtungslicht 3 mit vorgegebener Pupillen- Intensitätsverteilung. Die Eintrittspupille 12a der Projektionsoptik 10 kann im Beleuchtungsstrahlengang vor dem Ob- jektfeld 8 oder auch nach dem Objektfeld 8 angeordnet sein. Fig. 1 zeigt den Fall, bei dem die Eintrittspupille 12a im Beleuchtungsstrahlengang nach dem Objektfeld 8 angeordnet ist. Zur Erleichterung der Darstellung von Lagebeziehungen wird nachfolgend ein kartesisches xyz-Koordinatensystem verwendet. Die x- ichtung verläuft in der Fig. 1 senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Rich- tung verläuft in die Fig. 1 nach rechts. Die z-Richtung verläuft in die Fig. 1 nach unten. In der Zeichnung verwendete Koordinatensysteme haben jeweils parallel zueinander verlaufende x- Achsen. Der Verlauf einer z- Achse dieser Koordinatensysteme folgt einer jeweiligen Hauptrichtung des Beleuchtungslichts 3 innerhalb der jeweils betrachteten Figur. Das Objektfeld 8 hat eine bogenförmige beziehungsweise teilkreisförmige Form und ist begrenzt von zwei zueinander parallelen Kreisbögen und zwei geraden Seitenkanten, die in y-Richtung mit einer Länge y₀ verlaufen und in x-Richtung einen Abstand xo zueinander haben. Das Aspektverhältnis xo/yo beträgt 13 zu 1. Ein Insert der Fig. 1 zeigt eine nicht maßstabsgerech- te Draufsicht des Objektfeldes 8. Eine Berandungsform 8a ist bogenförmig. Bei einem alternativen und ebenfalls möglichen Objektfelds 8 ist dessen Berandungsform rechteckig, ebenfalls mit Aspektverhältnis xo/yo-

Die Projektionsoptik 10 ist in der Fig. 1 lediglich teilweise und stark sche- matisch angedeutet. Dargestellt ist eine objektfeldseitige numerische Apertur 13 und eine bildfeldseitige numerische Apertur 14 der Projektionsoptik 10. Zwischen angedeuteten optischen Komponenten 15, 16 der Projektionsoptik 10, die beispielsweise als für das EUV-Beleuchtungslicht 3 reflektierende Spiegel ausgeführt sein können, liegen weitere, in der Fig. 1 nicht dargestellte optische Komponenten der Projektionsoptik 10 zur Führung des Beleuchtungslichts 3 zwischen diesen optischen Komponenten 15, 16. Die Projektionsoptik 10 bildet das Objektfeld 8 in ein Bildfeld 17 in einer Bildebene 18 auf einem Wafer 19 ab, der, wie auch das Retikel 12, von einem nicht näher dargestellten Halter getragen wird. Sowohl der Retikel- halter als auch der Waferhalter sind über entsprechende Verlagerungsan- triebe sowohl in der x-Richtung als auch in der y-Richtung verlagerbar. Ein Bauraumbedarf des Waferhalters ist in der Fig. 1 bei 20 als rechteckiger Kasten dargestellt. Der Bauraumbedarf 20 ist rechteckig mit einer von den hierin unterzubringenden Komponenten abhängigen Ausdehnung in x-, y- und z-Richtung. Der Bauraumbedarf 20 hat beispielsweise, ausgehend von der Mitte des Bildfeldes 17, in der x-Richtung und in der y-Richtung eine Erstreckung von 1 m. Auch in der z-Richtung hat der Bauraumbedarf 20, ausgehend von der Bildebene 18, eine Erstreckung von beispielsweise 1 m. Das Beleuchtungslicht 3 muss in der Beleuchtungsoptik 1 1 und der Projektionsoptik 10 so geführt werden, dass es am Bauraumbedarf 20 jeweils vorbeigeführt wird.

Der Übertragungs-Facettenspiegel 6 hat eine Vielzahl von Übertragungs- Facetten 21. Der Übertragungs-Facettenspiegel 6 kann als MEMS- Spiegel ausgeführt sein. Bei den Übertragungs-Facetten 21 handelt es sich um min- destens zwischen zwei Kippstellungen schaltbare Einzelspiegel, die als Mikrospiegel ausgeführt sind. Die Übertragungs-Facetten 21 können als um zwei aufeinander senkrecht stehende Drehachsen angetrieben kippbare Mikrospiegel ausgeführt sein. Von diesen Einzelspiegeln beziehungsweise Übertragungs-Facetten 21 ist im yz-Schnitt nach Fig. 2 schematisch eine Zeile mit insgesamt neun Übertragungs-Facetten 21 dargestellt, die in der Fig. 2 von links nach rechts mit 21₁ bis 21₉ indiziert sind. Tatsächlich weist der Übertragungs- Facettenspiegel 6 eine wesentlich größere Vielzahl der Übertragungs- Facetten 21 auf. Die Übertragungs-Facetten 21 sind in eine Mehrzahl von in der Fig. 2 nicht näher dargestellten Übertragungs-Facettengruppen gruppiert (vgl. hierzu insbesondere die Fig. 4 und 5). Diese Übertragungs- Facettengruppen werden auch als Einzelspiegelgruppen, virtuelle Feldfa- cetten beziehungsweise als virtuelle Facettengruppen bezeichnet.

Jede der Übertragungs-Facettengruppen führt einen Anteil des Beleuchtungslichts 3 über einen Ausleuchtungskanal zur teilweisen oder kompletten Ausleuchtung des Objektfeldes 8. Über diesen Ausleuchtungskanal und ein hierüber geführtes Beleuchtungslicht-Teilbündel 3j (vergleiche z. B.

Fig. 8) ist jeweils einer der Einzelspiegelgruppen beziehungsweise Übertragungs-Facettengruppen genau eine Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 zugeordnet. Grundsätzlich kann jede der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 ihrerseits wiederum aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln aufgebaut sein.

Zu weiteren Details möglicher Ausführungen des Übertragungs-Facetten- spiegels 6 und der Projektionsoptik 10 wird verwiesen auf die

WO 2010/099 807 A.

Zumindest einige der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 leuchten nur ein Teilgebiet beziehungsweise Teilfeld des Objektfeldes 8 aus. Diese Teilfelder sind sehr individuell geformt und hängen zudem von der gewünschten Beleuchtungsrichtungsverteilung (Pupillenform) im Objektfeld 8, also dem Beleuchtungssetting ab. Die Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 werden daher von sehr unterschiedlich geformten virtuellen Feldfacetten beleuchtet, deren Form gerade der Form des jeweiligen auszuleuchtenden Teilfeldes entspricht. Jede Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 trägt zudem abhängig vom Ort im Objektfeld 8 zu unterschiedlichen Bereichen der Pupille bei. Der Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 kann insbesondere dann, wenn jede der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 aus einer Mehrzahl von Einzelspiegeln aufgebaut ist, als MEMS- Spiegel ausgeführt sein. Bei den Be- leuchtungsvorgabe-Facetten 25 handelt es sich um zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbare Mikrospiegel. Die Beleuchtungsvorgabe- Facetten 25 sind als Mikrospiegel ausgeführt, die kontinuierlich und unabhängig um zwei aufeinander senkrecht stehende Kippachsen angetrieben verkippbar sind, also in eine Vielzahl verschiedener Kippstellungen gestellt werden können.

Ein Beispiel für eine vorgegebene Zuordnung einzelner Übertragungs- Facetten 21 zu den Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 ist in der Fig. 2 dargestellt. Die jeweils den Übertragungs-Facetten 21₁ bis 21₉ zugeordneten Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 sind entsprechend dieser Zuordnung indiziert. Die Beleuchtungs-Facetten 25 werden von links nach rechts aufgrund dieser Zuordnung in der Reihenfolge 25₆, 25₈, 25₃, 25₄, 25_{l s} 25₇, 25₅, 25₂ und 25₉ ausgeleuchtet. Zu den Indizes 6, 8 und 3 der Facetten 21, 25 gehören drei Ausleuchtungs- kanäle VI, VIII und III, die drei Objektfeldpunkte OF1, OF2, OF3, die in der Fig. 2 von links nach rechts nummeriert sind, aus einer ersten Beleuchtungsrichtung beleuchten. Die Indizes 4, 1 und 7 der Facetten 21, 25 gehören zu drei weiteren Ausleuchtungskanälen IV, I, VII, die die drei Objekt- feldpunkte OF1 bis OF3 aus einer zweiten Beleuchtungsrichtung beleuchten. Die Indizes 5, 2 und 9 der Facetten 21, 25 gehören zu drei weiteren Ausleuchtungskanälen V, II, IX, die die drei Objektfeldpunkte OF1 bis OF3 aus einer dritten Beleuchtungsrichtung beleuchten. Die Beleuchtungsrichtungen, die den Ausleuchtungskanälen VI, VIII, III,

den Ausleuchtungskanälen IV, I, VII und

- den Ausleuchtungskanälen V, II, IX zugeordnet sind, sind jeweils identisch. Die Zuordnung der Übertragungs- Facetten 21 zu den Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 ist daher derart, dass beim figürlich dargestellten Beleuchtungsbeispiel eine telezentrische Be- leuchtung des Objektfeldes 8 resultiert.

Die Beleuchtung des Objektfeldes 8 über den Übertragungs-Facetten- spiegel 6 und den Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 kann nach Art eines spekularen Reflektors erfolgen. Das Prinzip des spekularen Reflek- tors ist bekannt aus der US 2006/0132747 A 1.

Die Projektionsoptik 10 hat einen Objekt-Bild- Versatz dois von 930 mm. Dieser ist definiert als der Abstand eines Mittelpunktes des Objektfelds 8 von einem Durchstoßpunkt einer Normalen auf den Mittelpunkt des Bild- feldes 17 durch die Objektebene 9. Die Projektionsbelichtungsanlage 1 mit der Projektionsoptik 10 hat einen Zwischenfokus-Bild- Versatz D von 1280 mm. Der Zwischenfokus-Bild- Versatz D ist definiert als der Abstand des Mittelpunktes des Bildfeldes 17 von einem Durchstoßpunkt einer Normalen vom Zwischenfokus 5a auf die Bildebene 18. Die Projektionsbelich- tungsanlage 1 mit der Projektionsoptik 10 hat einen Beleuchtungslichtbündel-Bild-Versatz E von 1250 mm. Der Beleuchtungslichtbündel-Bild- Versatz E ist definiert als der Abstand des Mittelpunkts des Bildfeldes 17 von einem Durchstoßbereich des Beleuchtungslichtbündels 3 durch die Bildebene 18. Fig. 3 zeigt eine Aufsicht auf den Übertragungs-Facettenspiegel 6. Die Anzahl der Übertragungs-Facetten 21 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 ist so groß, dass einzelne Übertragungs-Facetten 21 in der Fig. 3 nicht erkennbar sind. Die Übertragungs-Facetten 21 sind blockweise in zwei nähmngsweise halbkreisförmigen Facettenbereichen 26, 27 angeordnet, die mit einem Fernfeld 27a (vgl. Fig. 1) des Beleuchtungslichts 3 ausgeleuchtet werden. Fig. 4 zeigt in einem Ausschnitt der Fig. 3 eine Unterteilung des Übertra- gungs-Facettenspiegels 6 in eine Mehrzahl von Einzelspiegel-Blöcken 27b, die jeweils eine Randkontur in Form eines Parallelogramms aufweisen. Jeder der Einzelspiegel-Blöcke 27b weist etwa 40 x 40 der Einzelspiegel 21 auf. In der Fig. 4 ist weiterhin hervorgehoben eine Zuweisung der Über- tragungs-Facetten 21 zu den Übertragungs-Facettengruppen 28. Eine

Gruppierung der Übertragungs-Facetten beziehungsweise Einzelspiegel 21 des Übertragungs-Facettenspiegels 6 in die Übertragungs-Facettengruppen beziehungsweise Einzelspiegelgruppen 28 erfolgt durch gemeinsame Verkippung dieser Einzelspiegel 21 in eine vorgegebene Kippstellung. Die Kippstellungen der Einzelspiegel genau einer Einzelspiegelgruppe 28 sind einander in der Regel sehr ähnlich und von den Kippstellungen benachbarter Einzelspiegel 21, die zu anderen Einzelspiegelgruppen 28 gehören, in der Regel stärker verschieden. Die Übertragungs-Facettengruppen 28 werden über den Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 jeweils in das Ob- jektfeld 8 abgebildet. Alle Übertragungs-Facetten 21 jeweils einer der Übertragungs-Facettengruppen 28 beleuchten ein und dieselbe Beleuchtungsvorgabe-Facette 25. Die Belegung des Übertragungs-Facettenspiegels 6 mit Übertragungs- Facettengruppen 28 nach Fig. 4 ist ausgelegt für eine Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 1 1 mit einem x-Dipol-Beleuchtungssetting. In einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 1 1 liegen bei einem solchen Beleuch- tungssetting zwei in einer der x- ichtung entsprechenden Pupillenkoordinate σ_χ voneinander beabstandete, ausgeleuchtete Pupillenbereiche vor, was nachfolgend noch näher erläutert wird.

Bei der Belegung nach Fig. 4 sind die Übertragungs-Facettengruppen 28 überwiegend rechteckig.

Die Einzelspiegelgruppen 28 decken das Fernfeld 27a des EUV-Beleuch- tungslichts 3 am Ort des Übertragungs-Facettenspiegels 6 um mehr als 80 % ab. Abdeckungen um mehr als 85 %, um mehr als 90 % oder sogar noch höhere Abdeckungen sind möglich.

In Fig. 4 haben die Übertragungs-Facetten 21 die Form von Parallelogrammen, welche wie auch die Einzelspiegel-Blöcke 27b senkrecht zur Scanrichtung geschert sind. Die Übertragungs-Facetten 21 sitzen auf Facet- tenträger-Bauelementen, die die Einzelspiegel-Blöcke 27b bilden. Block- Zwischenräume 28a dieser Einzelspiegel-Blöcke 27b sind in Fig. 4 als breite weiße Balken ohne Übertragungs-Facetten 21 in horizontaler und schräger Orientierung zu erkennen. Diese Block-Zwischenräume 28a sind weiter ausgedehnt als Spiegel-Zwischenräume zwischen zwei Einzelspiegeln 21, die benachbart innerhalb eines der Einzelspiegel-Blöcke 27b nebeneinander liegen. Die Übertragungs-Facettengruppen 28 sind durch Berandungs- linien gekennzeichnet, die den Verlauf von Polygonzügen haben. Diese Übertragungs-Facettengruppen 28 erstrecken sich meist über mehrere Ein- zelspiegel-Blöcke 27b hinweg. Die Übertragungs-Facettengruppen 28 sind für das vorliegende x-Dipol-Beleuchtungssetting vorwiegend nahezu rechteckig oder trapezförmig und weisen nur sehr kleine Lücken ungenutzter Einzelspiegel 21 zwischen benachbarten Übertragungs-Facettengruppen 28 auf. Die Lücken zwischen den einzelnen Übertragungs-Facettengruppen 28 sind in Fig. 4 überproportional groß dargestellt. Der Flächenanteil dieser Lücken im Verhältnis zur Fläche der gesamten Facettenträger-Bauelemente ist kleiner als 10 %. Die Übertragungs-Facettengruppen 28 dienen zur Ausleuchtung eines rechteckigen Objektfeldes 8. Die Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 dienen zur reflektierenden, überlagernden Führung von Teilbündeln des Beleuchtungslichts 3 hin zum Objektfeld 8. Eine Lage der jeweiligen Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 auf dem Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 gibt eine Beleuchtungsrichtung für die Feldpunkte des Objektfeldes 8 vor. Eine x-Erstreckung der Übertragungs-Facettengruppen 28 ist so, dass das Bild der jeweiligen Übertragungs-Facettengruppe 28 maximal das gesamte Objektfeld 8 in x- ichtung überdeckt. Entsprechendes gilt für die y-Er- streckung der Übertragungs-Facettengruppen 28. Wie der Ausschnittsver- größerung nach Fig. 4 zu entnehmen ist, existieren viele Übertragungs- Facettengruppen 28, deren x-Erstreckung kleiner ist als eine maximal mögliche x-Erstreckung, so dass ein Bild dieser Übertragungs-Facettengruppen 28 im Objektfeld 8 in der x-Dimension lediglich einen Teil des Objektfeldes 8 ausleuchtet.

Abhängig vom mit der Beleuchtungsoptik 1 1 vorzugebenden Beleuch- tungssetting existiert für jede Beleuchtungsvorgabe-Facette 25, also für jeden Ausleuchtungskanal, ein maximales Teilgebiet beziehungsweise Teilfeld des Objektfeldes 8, welches vom gegebenen Ausleuchtungskanal unter Richtungen ausgeleuchtet werden kann, die im vorzugebenden Be- leuchtungssetting enthalten sind. Diese maximale Teilfeldgröße kann die Größe des gesamten Objektfeldes 8 erreichen, kann aber auch insbesondere in der x-Richtung kleiner sein als die x-Erstreckung des Objektfeldes 8.

Fig. 5 zeigt eine Aufsicht auf den Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7. Die Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 sind rund und auf einem nicht näher dargestellten Träger des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 hexago- nal dicht gepackt angeordnet. Eine Randkontur dieser Anordnung der Be- leuchtungsvorgabe-Facetten 25 auf dem Träger des Beleuchtungsvorgabe- Facettenspiegels 7 weicht von der Kreisform ab und ist beispielsweise sta- dionförmig.

Fig. 6 zeigt eine typische Ausleuchtung einer Beleuchtungspupille 12a der Beleuchtungsoptik 1 1, die mit der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 zusammenfällt, und entsprechend in der Pupillenebene 12b im Strahlengang des Beleuchtungslichts 3 nach dem Objektfeld 8 angeordnet ist (vgl. Fig. 1). Die Pupille 12a ist aufgespannt von Pupillendimensionen σ_χ, σ_γ, die den Objektfelddimensionen x, y zugeordnet sind.

Fig. 6 zeigt ein x-Dipol-Beleuchtungssetting mit Beleuchtungspolen 29, 30. Die Beleuchtungspole 29, 30 haben jeweils einen bikonvex-linsenförmigen Querschnitt mit maximaler a_x-Erstreckung im Bereich einer zentralen σ_γ- Koordinate der Pupille 12a.

Fig. 7 zeigt eine abgesehen von Anordnungsdetails zu den Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 der Fig. 5 entsprechende Ausführung des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7. Die leeren Kreise bezeichnen Beleuch- tungsvorgabe-Facetten 25, die bei der Beleuchtung mit dem x-Dipol- Beleuchtungssetting nach Fig. 6 nicht herangezogen werden. Als Rauten 25₂, 25₃ sind diejenigen Beleuchtungsvorgabe-Facetten eingezeichnet, die jeweils von genau einer zusammenhängenden Einzelspiegelgruppe 28 über einen Ausleuchtungskanal beaufschlagt werden. Eine y-Erstreckung des Bereichs genutzter Beleuchtungsvorgabe-Facetten nach Fig. 7 korreliert mit der a_y-Erstreckung der Beleuchtungspole 29, 30 der x-Dipol-Pupille nach Fig. 6. Im Zentrum des x-Dipol-Beaufschlagungsschemas des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 nach Fig. 7 liegt ein bikonvex-linsenförmiger Bereich von Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25, von denen jede der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 von genau zwei nicht zusammenhängenden Einzelspiegel-Untergruppen, die gemeinsam eine Einzelspiegelgruppe bilden, beaufschlagt werden. Diese, jeweils von zwei Einzelspiegel-Untergruppen beaufschlagten Beleuchtungsvorgabe-Facetten sind in der Fig. 7 durch Quadrate 251 veranschaulicht.

Fig. 8 zeigt Strahlengänge zwischen ausgewählten Beleuchtungsvorgabe- Facetten 25 des Beaufschlagungsschemas nach Fig. 7 und der Pupillenebene 12b in einer entfalteten, schematischen Darstellung, bei der die Reflexion am Retikel 12 in der Objektebene 9 unberücksichtigt bleibt.

Dargestellt ist durchgezogen der Strahlengang ausgehend von einer zentra- len Beleuchtungsvorgabe-Facette 251 , die auch in der Fig. 7 so bezeichnet ist, gestrichelt der Strahlengang ausgehend von einer Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₂, angeordnet im Bereich positiver x- Werte, die auch in der Fig. 7 so bezeichnet ist, und strichpunktiert der Strahlengang ausgehend von einer Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₃ im Bereich negativer x- Werte, die ebenfalls so in der Fig. 7 bezeichnet ist.

Über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₁ werden zwei Teilfeld- Abschnitte 31 und 32 des gesamten Objektfeldes 8 in der Objektebene 9 beleuchtet. Der Strahlengang der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₁ ist im Bereich des in der Fig. 8 oberen Teilfeld- Abschnitts 31 hin zu großen x- Werten begrenzt durch das Objektfeld 8 selbst und hin zu kleinen x- Werten durch den Beleuchtungspol 30. Der dem Teilfeld-Abschnitt 32 zugeordnete Strahlengang ist zu großen x- Werten begrenzt durch den Beleuchtungspol 29 und zu kleinen x- Werten begrenzt durch das Objektfeld 8.

Eine Zuordnung der Einzelspiegelgruppe 28, die zu der Beleuchtungsvorgabe-Facette 251 gehört, erfolgt durch Identifikation von denjenigen Ein- zelspiegeln 21 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6, die über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 251 in die Teilfelder- Abschnitte 31 und 32 abgebildet werden. Dies kann praktisch erfolgen durch Anordnung einer entsprechenden Blendenkonfiguration mit einer Blende in der Objektebene 9 und einer weiteren Blende in der Pupillenebene 12b, die die gewünschte Objektfeldform einerseits und die gewünschte Pupillenform andererseits wiedergibt.

Zugeordnet zu den Facetten 251 , 25₂ und 25₃ sind jeweils die Teilbündel 3_{l 5} 3₂ und 3₃ des Beleuchtungslichts 3, die über diese Beleuchtungsvorgabe- Facetten 251 bis 25₃ geführt sind. Eine Superposition all dieser Teilbündel 3i bis 3₃ sowie aller anderen Teilbündel 3j der sonstigen Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25i ergibt die gewünschte Ausleuchtung des Objektfelds 8 mit dem vorgegebenen Beleuchtungssetting, in diesem Fall also mit einem x-Dipol-Setting. Fig. 9 zeigt das gesamte, bei dieser Ausführung gebogen ausgeführte Objektfeld 8 mit den nicht zusammenhängenden Teilfeld- Abschnitten 31, 32, die über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₁ ausgeleuchtet werden. Den Teilfeld- Abschnitten 31 und 32 sind entsprechende Einzelspiegel- Untergruppen 33, 34 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 durch die abbildende Wirkung der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₁ zugeordnet, deren Bilder in der Fig. 9 innerhalb der Teilfeld-Abschnitten 31, 32 dargestellt sind. Da in der Fig. 9 Bilder der Einzelspiegel 21 wiedergegeben sind, sind diese Bilder in der Fig. 9 mit 21 ' bezeichnet. Zu sehen ist in der Fig. 9 eine um 45° verkippte quadratische Parkettierung der Einzelspiegel 21 , die anstelle der Parallelogramm-Belegung nach Fig. 4 zum Einsatz kommen kann. Durch entsprechende Konstruktionsvorschriften ergeben sich die Strahlengänge, die über die beiden weiteren Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25₂, 25₃ nach Fig. 8 laufen.

Der Strahlengang der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₂ leuchtet ein zu- sammenhängendes Teilfeld 35 im Objektfeld 8 aus, welches zu großen und zu kleinen x- Werten von der Ausdehnung des Beleuchtungspols 29 begrenzt ist. Diesem Teilfeld 35 ist wiederum über die abbildende Wirkung der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₂ eine Einzelspiegelgruppe 28 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 zugeordnet.

Über die dritte in der Fig. 8 dargestellte Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 wird ein zusammenhängendes Teilfeld ausgeleuchtet, welches mit dem Teilfeld- Abschnitt 32 praktisch zusammenfällt. In Bezug auf den Strahlengang der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 ist dieses Teilfeld 32 zu großen x- Werten begrenzt durch die Ausdehnung des Beleuchtungspols 30 und zu kleinen x- Werten wiederum durch das Objektfeld 8. Über die abbildende Wirkung der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₃ kann die wiederum dem Teilfeld 32 zugeordnete Einzelspiegelgruppe 28 auf dem Übertragungs- Facettenspiegel 6 zugeordnet werden.

Auf diese Weise kann jeder Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 zunächst je nach Lage der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 auf dem Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegel 7 genau ein zusammenhängendes Teilfeld oder es können genau zwei Teilfeld- Abschnitte zugeordnet werden und diesen Teilfeldern beziehungsweise Teilfeld- Abschnitten können dann Einzelspiegelgruppen 28 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 zugeordnet werden, die entweder als zusammenhängende Einzelspiegelgruppen gebildet sind oder zwei nicht zusammenhängende Einzelspiegel-Untergruppen nach Art der Einzelspiegel-Untergruppen 33, 34 aufweisen. Über einen Kippwinkel der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 lässt sich die Position der Einzelspiegelgruppen 28 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 noch variieren. Auf diese Weise wird bei der Zuordnung der Einzelspiegelgruppe 28 zu allen Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 ein möglichst vollständi- ges Puzzle von Einzelspiegelgruppen 28 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 erzeugt, wobei ein Ziel ist, die Einzelspiegel 21 des Übertra- gungs-Facettenspiegels 6 möglichst komplett zu nutzen.

Fig. 10 zeigt eine Häufigkeitsverteilung zum Flächenanteil der jeweiligen Teilfelder, beispielsweise der Teilfelder 31, 32, an einer gesamten Fläche des Objektfelds 8. Dargestellt ist in einem Histogramm, wie viele Beleuchtungsvorgabe-Facetten (Anzahl N_F) jeweils einen bestimmten Flächenanteil A_TF der gesamten Objektfeldfläche A_0F ausleuchten. Diese Häufigkeitsverteilung gilt für die x-Dipol-Beleuchtung nach Fig. 6. Ein signifikantes Ma- ximum der Beleuchtungsvorgabe-Facetten leuchtet eine Teilfeldfläche A_TF aus, die etwas mehr als 20 % der gesamten Objektfeldfläche A_0F beträgt. Nur relativ wenige Beleuchtungsvorgabe-Facetten leuchten größere Flächenanteile aus.

Fig. 1 1 zeigt eine Häufigkeitsverteilung der Beleuchtungsvorgabe-Facetten in Bezug auf die maximal unterschiedlichen, ausgeleuchteten x-Koordi- naten auf dem Objektfeld 8. Diese Darstellung ermöglicht eine klare Unterscheidung zwischen den Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25, die über ein- fach zusammenhängende Einzelspiegelgruppen 28 beleuchtet werden, und Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25, die über Einzelspiegelgruppen 28 aus zwei Einzelspiegel-Untergruppen beleuchtet werden, da letztere einen Bereich X_TF zwischen minimaler und maximaler x-Koordinate auf dem Objektfeld 8 ausleuchten, der der gesamten x-Erstreckung X_0F des Objektfel- des 8 praktisch entspricht (X_TF / X_0F - 1)·

Die Fig. 12 bis 18 zeigen vergleichbar zu den Fig. 6 bis 1 1 die entsprechenden Beleuchtungsverhältnisse bei einem Hexapol-Beleuchtungssetting. Fig. 12 zeigt die Beleuchtungs-Intensitätsverteilung des Hexapol-Beleuch- tungssettings in σ_χ, a_y-Koordinaten. In der Pupille 12a liegen insgesamt 6 Beleuchtungspole 35 bis 40 vor, die in der Fig. 12 beginnend mit dem dort obersten Beleuchtungspol 35 im Uhrzeigersinn durchnummeriert sind. Die Beleuchtungspole 35 bis 40 sind in Umfangsrichtung gleich verteilt, also um ein Zentrum Z der Pupille 12a jeweils um 60° in Umfangsrichtung versetzt angeordnet. Fig. 13 zeigt in einer zur Fig. 7 ähnlichen Darstellung ein Beleuchtungsschema des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 für das Hexapol- Beleuchtungssetting. Beleuchtet werden die Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 außerhalb eines zentralen Bandes nicht genutzter Beleuchtungsvorgabe- Facetten 25, das im Bereich einer zentralen y-Koordinate des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 liegt.

Ein überwiegender Anteil der genutzten Beleuchtungsvorgabe-Facetten wird jeweils von einer zusammenhängenden Einzelspiegelgruppe 28 des Übertragungs-Facettenspiegels 6 beaufschlagt, was in der Fig. 13 durch eine Rautenform 25₅, 25₆ der Beleuchtungsvorgabe-Facetten angedeutet ist. Im Bereich jeweils mittlerer genutzter y-Koordinaten liegt ein relativ schmales Band von Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 vor, die über Einzelspiegelgruppen 28 aus drei Einzelspiegel-Untergruppen beleuchtet werden und in der Fig. 13 durch Quadrate 25₄ verdeutlicht sind. Im Bereich zentraler x-Koordinaten und nahe dem zentralen nicht genutzten Bereich des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 liegen zwei Bereiche mit Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 vor, die mit Einzelspiegelgruppen 21 des

Übertragungs-Facettenspiegels 6 beaufschlagt werden, die aus je zwei Ein- zelspiegel-Untergruppen aufgebaut sind. Diese Bereiche sind mit schraffierten runden Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25₅ gekennzeichnet und haben angenähert die in etwa dreieckige Form der Hexapol- Beleuchtungspole. Fig. 14 zeigt beispielhaft Strahlengänge einer Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄, die von drei Einzelspiegel-Untergruppen beaufschlagt wird (durchgezogene Linien), einer Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₅, die von zwei Einzelspiegel-Untergruppen beaufschlagt wird (gestrichelte Linien) und einer Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₆, die von einer einfach zusammenhängen- den Einzelspiegel-Gruppe 28 beaufschlagt wird (strichpunktierte Linien), in einer zu Fig. 8 ähnlichen Darstellung. Die Beleuchtungsvorgabe- Facetten 25₄, 25₅ und 25₆ sind auch in der Fig. 13 so bezeichnet. Die Darstellung in der Fig. 14 ist insofern idealisierend, als für alle Beleuchtungs- pole 35, 36, 40, die dort dargestellt sind, für die Strahlengänge aller Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25₄ bis 25₆ die gleiche x(a_x)-Erstreckung angenommen ist. Tatsächlich ist dies nur dann der Fall, wenn - mehr oder weniger zufällig - die jeweiligen Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25₄ bis 25₆ die vorgegebene Beleuchtungs-Pupille 12a auf gleicher Höhe der σ_γ- Koordinate beleuchten, so dass dann jeweils die gleiche x(a_x)-Erstreckung des jeweiligen Beleuchtungspols 35, 36, 40 resultiert. Tatsächlich hängt, wie in der Zusammenschau mit der Fig. 12 zu erkennen ist, die σ_χ- Erstreckung des jeweiligen Beleuchtungspols 35 bis 40 von der σ_γ- Koordinate ab.

Über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ werden die Teilfeld-Abschnitte 41, 42 und 43 beaufschlagt.

Der Teilfeld- Abschnitt 41 ist kleiner als ein maximal großer Teilfeld- Abschnitt, der durch das Objektfeld beziehungsweise durch den Beleuchtungspol 36 begrenzt wäre. Dies kann zu einer Verringerung einer Thermallast auf der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ oder auch zur Verbesserung einer Fernfeldabdeckung auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 durch bessere Puzzle-Möglichkeit oder auch zur Verringerung einer Abbil- dung von Block-Zwischenräumen 28a auf das Objektfeld 8 genutzt werden. Alternativ kann die Fig. 13 in Bezug auf die Beleuchtungsvorgabe- Facette 25₄ eine Strahlengang-Situation zeigen, bei der der Beleuch- tungspol 36 für diese Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ eine kleinere χ(σ_χ)- Erstreckung hat als für die anderen Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25₅, 25₆.

Der Teilfeld-Abschnitt 42 wird zu beiden Seiten, also zu kleinen und zu großen x- Werten, vom Beleuchtungspol 35 begrenzt.

Der Teilfeld- Abschnitt 43 wird zu kleinen x- Werten vom Objektfeld 8 begrenzt und ist zu großen x- Werten kleiner als ein maximal von der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ beaufschlagbarer Teilfeld- Abschnitt 45. Die Gründe für eine derartige Nutzung eines kleinen Teilfeld- Abschnitts wurden vorstehend in Zusammenhang mit dem Teilfeld- Abschnitt 41 bereits diskutiert.

Den Teilfeld- Abschnitten 41 bis 43 können wiederum Einzelspiegel- Untergruppen der Einzelspiegelgruppe 28 auf dem Übertragungs-Facetten- spiegel 6 zugewiesen werden, die dieser Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ zugeordnet ist.

Diese Unterteilung in die Teilfeld- Abschnitte 41 bis 43 sowie die zugeord- neten Einzelspiegel-Untergruppen 47 bis 49 verdeutlicht die Fig. 15. Die Teilfeld- Abschnitte 41 bis 43 sind den Beleuchtungspolen des Hexapol- Beleuchtungssettings ähnlich. Ränder der Beleuchtungspole des Hexapol- Beleuchtungssettings nach Fig. 12 definieren hierbei die Ränder der Teilfeld-Abschnitte 41 bis 43 bzw. die Ränder der zugeordneten Einzelspiegel- Untergruppen 47 bis 49.

Wie vorstehend bereits erläutert, ist beispielsweise der Teilfeld-Abschnitt 41 weder durch das Objektfeld 8 noch durch den Beleuchtungspol 36 be- grenzt. Entsprechend ist die zugehörige Einzelspiegel-Untergruppe 47 kleiner als eine maximal große Einzelspiegel-Untergruppe, über die ein größeres, maximal ausgedehntes Teilfeld beziehungsweise ein maximal ausgedehnter Teilfeld- Abschnitt über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ beleuchtet werden könnte. Die Bilder 21_A> derartiger weiterer Einzelspiegel 21_A, die ebenfalls zu dieser Beleuchtung eines entsprechend vergrößerten Teilfeld- Abschnitts 41 beitragen können, sind in der Fig. 15 für zwei Einzelspiegel dargestellt. Diese zugehörigen Einzelspiegel 21 _A können als Auswahl-Einzelspiegel genutzt werden und zwischen mehreren Kippstellungen umstellbar sein, wobei sie in einer ersten Kippstellung eine erste Beleuchtungsvorgabe- Facette, beispielsweise eine von der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ räumlich entfernte Beleuchtungsvorgabe-Facette, mit dem Beleuchtungs- licht 3 zur Objektfeldbeleuchtung beaufschlagen, und einer zweiten Kippstellung, in der diese Auswahl-Einzelspiegel 21 _A eine zweite der Beleuchtungsvorgabe-Facetten, beispielsweise die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ mit dem Beleuchtungslicht 3 zur Objektfeldbeleuchtung beaufschlagt. In der zweiten Kippstellung würden die Auswahl-Einzelspiegel 21 _A also zur Einzelspiegel-Untergruppe 47 gehören. In der ersten Kippstellung würden die Auswahl-Einzelspiegel 21 _A zu einer anderen Einzelspiegelgruppe gehören, die einer anderen Beleuchtungsvorgabe-Facette als der Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₄ zugeordnet ist. Diese andere Beleuchtungsvorgabe-Facette hat einen Kippwinkel, der über diese weitere Einzelspiegelgrup- pe, zu der die Auswahl-Einzelspiegel 21 _A in der ersten Kippstellung gehören, fest zugeordnet ist. Beim Wechsel zwischen den verschiedenen Kippstellungen der Auswahl-Einzelspiegel 21_Amuss also keine Verkippung von Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25j erfolgen. Bis zu 20 % der Einzelspiegel 21 des Übertragungs-Facettenspiegels 6 können derartige Auswahl-Einzelspiegel 21 _A sein. Es ergibt sich eine entsprechend vergrößerte Flexibilität bei der Vorgabe des Beleuchtungsset- tings, was insbesondere zur Homogenisierung einer Intensitätsverteilung über das Objektfeld 8 genutzt werden kann. Auch eine Verringerung einer Thermallast auf stark belasteten Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25j ist möglich. Weiterhin kann über die Auswahl-Einzelspiegel 21 _A Einfluss genommen werden auf die Randkontur der Einzelspiegel-Untergruppen. Dies kann genutzt werden, um bei der Belegung des Übertragungs-Facetten- spiegeis 6 gut zueinander passende Einzelspiegel-Untergruppen zu erzeugen, was die Fernfeldabdeckung des Übertragungs-Facettenspiegels 6 positiv beeinflusst. Zudem kann vermieden werden, dass die Einzelspiegel- Untergruppen eine für eine Stabilität der Beleuchtung ungünstige Form einer Randkontur haben. Es ist bevorzugt, wenn die Ränder der Einzelspie- gelgruppen beziehungsweise der Einzelspiegeluntergruppen mit der Objektverlagerungsrichtung y einen Winkel α einschließen, der größer ist als 20°. Dies ist bei den Einzelspiegel-Untergruppen 47 bis 49 beispielsweise der Fall. Beispiele für diesen Winkel sind in der Fig. 15 mit α bezeichnet. Durch den Einsatz von Auswahl-Einzelspiegeln 21 _A ist zudem die Möglichkeit geschaffen, die Einzelspiegelgruppen 28 beziehungsweise die Einzelspiegel-Untergruppen so zu gestalten, dass nach Möglichkeit keine Block-Zwischenräume 28a die Einzelspiegelgruppen 28 beziehungsweise die Einzelspiegel-Untergruppen durchtreten. Es kann die Situation erreicht werden, dass weniger als 80 % aller Block-Zwischenräume 28a im Inneren von Einzelspiegelgruppen 28 beziehungsweise im Inneren von Einzelspiegel-Untergruppen liegen. Über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₅ werden zwei Teilfeld- Abschnitte 44, 45 des Objektfeldes 8 beleuchtet. Der Teilfeld- Abschnitt 44, welcher den Teilfeld- Abschnitt 41 komplett einschließt, ist zu kleinen und zu großen x- Werten vom Beleuchtungspol 36 begrenzt. Der Teilfeld- Abschnitt 45 ist zu kleinen x- Werten vom Objektfeld 8 und zu großen x- Werten vom Beleuchtungspol 40 begrenzt. Auf den Teilfeld- Abschnitten 44, 45 können wiederum Einzelspiegel-Untergruppen der zugeordneten Einzelspiegelgruppe 28 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 zugewiesen werden.

Fig. 16 verdeutlicht die Lage der Teilfeld- Abschnitte 44, 45 und der zugeordneten Einzelspiegel-Untergruppen 50, 51 im Objektfeld 8.

Über die Beleuchtungsvorgabe-Facette 25₆ wird das Teilfeld 46 im Objekt- feld 8 beaufschlagt. Zu kleinen x- Werten ist das Teilfeld 46 begrenzt durch den Beleuchtungspol 40 und zu großen x- Werten durch das Objektfeld 8. Auch dem Teilfeld 46 kann wiederum eine Einzelspiegelgruppe 28 auf dem Übertragungs-Facettenspiegel 6 zugeordnet werden. Die Fig. 17 und 18 zeigen den Fig. 10 und 1 1 entsprechende Häufigkeitsverteilungen.

Die Darstellung aus Fig. 18 erlaubt wiederum eine Zuordnung der Häufigkeiten von Beleuchtungsvorgabe-Facetten, die von einfach zusammenhän- genden Einzelspiegelgruppen, von Einzelspiegelgruppen mit zwei Einzelspiegel-Untergruppen und von Einzelspiegelgruppen mit drei Einzelspiegel-Untergruppen des Übertragungs-Facettenspiegels 6 beaufschlagt werden. Fig. 19 zeigt als weiteres Beispiel für ein Beleuchtungssetting ein Quadru- pol-Beleuchtungssetting mit insgesamt 4 Beleuchtungspolen 52 bis 55, die ausgehend vom in der Fig. 19 obersten Beleuchtungspol 52 im Uhrzeigersinn durchnummeriert sind. In Umfangsrichtung um ein Pupillenzentrum Z gehen benachbarte Beleuchtungspole durch Drehung um 90° ineinander über.

Die Fig. 20 und 21 zeigen entsprechend den Fig. 10 und 1 1 beziehungsweise 17 und 18 wiederum die Häufigkeitsverteilungen der Anzahlen N_F der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 hinsichtlich der Verhältnisse A_TF / A_0F und X_TF / X_OF für das Quadrupol-Beleuchtungssetting nach Fig. 19. Wie der Fig. 21 zu entnehmen ist, liegt auch hier ein Anteil an Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 vor, die über Einzelspiegelgruppen 28 beleuchtet werden, die zwei Einzelspiegel-Untergruppen aufweisen.

Fig. 22 zeigt einen Ausschnitt einer Unterteilung des Übertragungs- Facettenspiegels 6 in Einzelspiegelgruppen beziehungsweise Übertra- gungs-Facettengruppen 28 für ein y-Dipol-Beleuchtungssetting, welches dem x-Dipolsetting nach Fig. 6 mit um ein Zentrum der Pupille 12a um 90° gedrehten, also in y-Richtung voneinander beabstandeten Beleuchtungspolen entspricht. Im Vergleich zur Unterteilung der Übertragungs-Facetten- gruppen 28 nach Fig. 4 liegen bei der Unterteilung nach Fig. 22 deutlich mehr Übertragungs-Facettengruppen 28 vor, deren Bilder im Objektfeld 8 dessen gesamte x-Erstreckung ausfüllen.

Die Fig. 22 zeigt Übertragungs-Facetten 21 quadratischer Form, deren Kanten um 45° gegen die Scanrichtung gedreht sind. Gleiches gilt für die ebenfalls quadratischen Einzelspiegel-Blöcke 27b, deren Ränder wiederum durch dicke, weiße, nun schräg verlaufende Block-Zwischenräume 28a sichtbar sind.

Bei der Belegung des Übertragungs-Facettenspiegels 6 mit Übertragungs- Facettengruppen 28 nach Fig. 4 werden weniger als 7 % aller Übertragungs-Facetten 21 des Übertragungs-Facettenspiegels 6 nicht genutzt, tragen also nicht zur Beleuchtung des nachfolgenden Beleuchtungsvorgabe- Facettenspiegels 7 bei. Dies gilt entsprechend auch für die Belegung nach Fig. 22.

Bei der Belegung nach Fig. 22 liegen etwa halb so viele Übertragungs- Facettengruppen 28 vor, wie bei der Belegung nach Fig. 4.

Bei der Belegung nach Fig. 22 weichen die Übertragungs-Facettengruppen 28 häufiger von der Rechteckform ab.

Zur Bestimmung der Zuordnungen der Einzelspiegelgruppen 28 des Übertragungs-Facettenspiegels 6 zu den Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25 des Beleuchtungsvorgabe-Facettenspiegels 7 zur Beleuchtung des Objekt- feldes 8 wird zunächst eine Beleuchtungsintensitätsverteilung in der Beleuchtungspupille 12a vorgegeben, also ein Beleuchtungssetting. Weiterhin wird einschließlich einer Randkontur die Ausdehnung des Beleuchtungsfeldes vorgegeben, welche regelmäßig mit der Ausdehnung des Objektfeldes 8 übereinstimmt. Es wird dann mit der Auswahl einer ersten Beleuch- tungsvorgabe-Facette 25 begonnen und geprüft, insbesondere mittels einer entsprechenden Blenden-Konstruktion oder mittels einer geometrischen Betrachtung, die vorstehend zum Beispiel anhand der Fig. 8 erläutert wurde, über welche Einzelspiegel 21 des Übertragungs-Facettenspiegels 6 diese Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 des Beleuchtungsvorgabe-Facetten- spiegels 7 zur Ausleuchtung zumindest eines Bereiches beziehungsweise Teils des Objektfeldes 8 mit dem Beleuchtungslicht 3 beaufschlagt werden kann. Anschließend werden die Einzelspiegel 21, bei der die Prüfung eine entsprechende Beleuchtungslösung ergeben hat, zur Einzelspiegelgruppe 28 zugewiesen, die der ausgewählten Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 zugeordnet ist. Diese Auswahl, Prüfung und Zuweisung wird dann für alle Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25, zumindest für alle für das vorgegebene Beleuchtungssetting nutzbaren Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25, wiederholt.

Zur Verringerung einer Thermallast, zur Verbesserung einer Fernfeldabdeckung im Übertragungs-Facettenspiegel oder auch zur Verringerung einer Mitnahme von ansonsten abgebildeten Block- Zwischenräumen kann anstelle einer maximal möglichen Einzelspiegelgruppengröße zumindest bei einigen Einzelspiegelgruppen bei der Zuweisung eine kleinere Einzelspiegelgruppe gebildet werden. Aufgrund der sehr variablen Form der virtuellen Feldfacetten, also der Einzelspiegelgruppen 28 (vgl. z. B. Fig. 4), ist trotz der hohen Packungsdichte von größer 80% nicht zu vermeiden, dass einzelne erste Einzelspiegel 21 keiner Einzelspiegelgruppe zugeordnet werden können und somit nicht über eine Beleuchtungsvorgabe-Facette 25 ins Objektfeld abgebildet werden können. Diese nicht zugeordneten Einzelspiegel 21_D, die in der Fig. 4 nicht von den Berandungslinien der Einzelspiegelgruppen 28 eingeschlossen werden (vgl. beispielsweise Einzelspiegel 21_D in der Fig. 4), liegen sehr gleichmäßig über den Übertragungs- Facettenspiegel 6 verteilt vor. Sie können daher genutzt werden, um während der Belichtung des Wafers 19 die von der Lichtquelle 2 bereitgestellte, zeitlich nicht konstante Lichtleistung zu messen. Über eine Kontrollschleife kann somit die Quellleistung geregelt und für eine zeitlich kontan- te Dosis im Photolack auf dem Wafer 19 gesorgt werden. Dazu wird das Licht dieser Dosis-Einzelspiegel 21_D entweder direkt auf einen oder mehrere Detektoren gelenkt oder aber unter Verwendung weiterer Spiegel, wie z. B. der Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25. Bei Verwendung vieler Detektoren, Detektoren mit räumlicher Auflösung oder einer von der Projektions- belichtung zeitlich getrennten Einkopplung des Lichtes 3 der Dosis- Einzelspiegel 21_D kann zusätzlich zur Gesamtleistung der Lichtquelle 2 auch deren räumliche Emissionsverteilung gemessen werden. Dies kann benutzt werden für eine qualitativ bessere Zuordnung von Einzelspiegelgruppen 28 zu Beleuchtungsvorgabe-Facetten 25. Die Auswahl der Dosis- Einzelspiegel 21 _D ist variabel und wird bei j eder neuen Spiegelzuordnung angepasst.

Zur Herstellung eines mikro strukturierten Bauteils, insbesondere eines hoch integrierten Halbleiterbauelements, beispielsweise eines Speicher- chips, mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 werden zunächst das etikel 12 und der Wafer 19 bereitgestellt. Anschließend wird eine Struktur auf dem Retikel 12 mit der Projektionsoptik der Projektionsbelichtungsanlage 1 auf eine lichtempfindliche Schicht auf dem Wafer 19 projiziert. Durch Entwicklung der lichtempfindlichen Schicht wird dann eine Mikro struktur auf dem Wafer 19 und hieraus das mikro- beziehungsweise nanostrukturierte Bauteil erzeugt.

Claims

Patentansprüche

1. Beleuchtungsoptik (1 1) für die Projektionslithographie zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes, in welchem ein Objektfeld (8) einer nachgeordneten abbildenden Optik (10) und ein zu beleuchtendes Objekt (12) anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht (3) einer EUV-Licht- quelle (2),

mit einem ersten Facettenspiegel (6) mit einer Vielzahl von nebeneinander angeordneten Einzelspiegeln (21), die zur Vorgabe einer vorgegebenen Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes individuell verkippt und zu gemeinsam verkippbaren Einzelspiegelgruppen (28) gruppiert sind,

mit einem weiteren Facettenspiegel (7) mit einer Mehrzahl nebeneinander angeordneter, individuell verkippbarer weiterer Facetten (25),

wobei die beiden Facettenspiegel (6, 7) zur reflektierenden, überlagernden Führung von Teilbündeln (3j) eines Bündels des EUV- Beleuchtungslichts (3) über jeweils genau eine der weiteren Facetten (25i) zum Objektfeld (8) ausgeführt sind,

- wobei der erste Facettenspiegel (6) in oder nahe einer zum Objektfeld (8) konjugierten Feldebene angeordnet ist,

wobei der weitere Facettenspiegel (7) beabstandet zu einer Pupillenebene (12b) der Beleuchtungsoptik (1 1) angeordnet ist, mit einer Gruppierung der Einzelspiegelgruppen (28) derart, dass zumindest eine der Einzelspiegelgruppen (28), die eines der Teilbündel (3i) über genau eine der weiteren Facetten (25j) zum Objektfeld (8) führt, aus mehreren, auf dem ersten Facettenspiegel (6) nicht zusammenhängenden Einzelspiegel-Untergruppen (33, 34; 47 bis 49; 50 bis 59) gebildet ist.

Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Einzelspiegelgruppen (28) ein Fernfeld (27a) des Bündels des EUV-Beleuchtungslichts (3) um mehr als 80 % abdecken.

Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch eine Zuordnung der Einzelspiegelgruppen (28) zu den weiteren Facetten (25 j) derart, dass Auswahl-Einzelspiegel (21_A) mindestens einer dieser Einzelspiegelgruppen (28) verlagerbar sind zwischen

einer ersten Kippstellung, in der die Auswahl-Einzelspiegel (21_A) eine erste der weiteren Facetten (25j) mit Beleuchtungslicht (3) zur Obj ektfeldbeleuchtung beaufschlagt,

einer zweiten Kippstellung, in der die Auswahl-Einzelspiegel (21_A) eine zweite der weiteren Facetten (25j) mit Beleuchtungslicht (3) zur Objektfeldbeleuchtung beaufschlagt,

wobei die erste und/oder die zweite der weiteren Facetten (25j) zusätzlich zum über die Auswahl-Einzelspiegel (21_A) geführten Beleuchtungslicht (3) auch noch Beleuchtungslicht (3) mindestens einer weiteren Einzelspiegelgruppe (28) hin zum Objektfeld (8) führt.

Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch eine Auslegung der Beleuchtungsoptik (1 1) zur Beleuchtung eines Objektes (12), das in einer Objektverlagerungsrichtung (y) verlagerbar ist, wobei die Einzelspiegelgruppen (28) beziehungsweise die Einzelspiegel-Untergruppen (33, 34; 47 bis 49; 50 bis 59) so berandet sind, dass Ränder der Einzelspiegelgruppen (28) beziehungsweise der Einzelspiegel-Untergruppen (33, 34; 47 bis 49; 50 bis 59) mit der Ob- jektverlagemngsrichtung (y) einen Winkel einschließen, der größer ist als 20°.

Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Facettenspiegel (6) eine Mehrzahl von Einzelspiegel-Blöcken (27b) aufweist, wobei zwischen jeweils zwei der Einzelspiegel-Blöcke (27b) ein Block-Zwischenraum (28a) vorliegt, der weiter ausgedehnt ist als ein Spiegel-Zwischenraum zwischen zwei innerhalb eines der Einzelspiegel-Blöcke (27b) benachbarten Einzelspiegeln (21), wobei weniger als 80 % aller Block-Zwischenräume (28a) im Inneren von Einzelspiegelgruppen (28) beziehungsweise Einzelspiegel-Untergruppen (33, 34; 47 bis 49; 50 bis 59) liegen.

Verfahren zum Bestimmen von Zuordnungen von Einzelspiegelgruppen (28) eines ersten Facettenspiegels (6) zu Facetten (25) eines weiteren Facettenspiegels (7) zur Beleuchtung eines Beleuchtungsfeldes (8) bei Einsatz einer Beleuchtungsoptik (1 1) nach einem der Ansprüche 1 bis 5 mit folgenden Schritten:

a) Vorgeben einer Beleuchtungs-Intensitätsverteilung in einer Beleuchtungspupille (12a);

b) Vorgeben einer Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfeldausdehnung einschließlich einer Randkontur des Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfeldes;

c) Auswahl einer ersten (251) der Facetten (25j) des weiteren Facettenspiegels (7);

d) Prüfen, über welche Einzelspiegel (21) des ersten Facettenspiegels (6) diese Facette (251) des weiteren Facettenspiegels (7) zur Ausleuchtung zumindest eines Teils des Beleuchtungs- beziehungs- weise Objektfeldes (8) mit dem Beleuchtungslicht (3) beaufschlagt werden kann;

e) Zuweisen der Einzelspiegel (21), bei der die Prüfung nach d) eine Beleuchtungslösung ergibt, zur Einzelspiegelgruppe (28), die der ausgewählten Facette (251) des weiteren Facettenspiegels (7) zugeordnet ist;

f) Wiederholen der Schritte c) bis e) für alle Facetten (25₂), (25₃), ...) des weiteren Facettenspiegels (7).

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass anstelle einer für die Objektfeldbeleuchtung maximal möglichen Einzelspiegel- gruppengröße zumindest bei einigen Einzelspiegelgruppen (28) eine kleinere Einzelspiegelgruppe gebildet wird.

8. Optisches System mit einer Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 5 und einer Projektionsoptik (10) zur Abbildung des Objektfeldes (8) in ein Bildfeld (17).

9. Beleuchtungssystem mit einer Beleuchtungsoptik nach einem der An- Sprüche 1 bis 5 und einer Lichtquelle (2).

10. Projektionsbelichtungsanlage mit einem optischen System nach Anspruch 8 und einer Lichtquelle (2).

1 1. Verfahren zur Herstellung eines mikro strukturierten Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten:

Bereitstellung eines etikels (12),

Bereitstellung eines Wafers (19) mit einer für das Beleuchtungslicht (3) empfindlichen Beschichtung, Projizieren zumindest eines Abschnitts des Retikels (12) auf den Wafer (19) mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage (1) nach Anspruch 10,

Entwickeln der mit dem Beleuchtungslicht (3) belichteten licht- empfindlichen Schicht auf dem Wafer (19).

12. Bauteil, hergestellt nach einem Verfahren nach Anspruch 1 1.