WO2016033674A1 - Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности - Google Patents

Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности Download PDF

Info

Publication number
WO2016033674A1
WO2016033674A1 PCT/BY2014/000007 BY2014000007W WO2016033674A1 WO 2016033674 A1 WO2016033674 A1 WO 2016033674A1 BY 2014000007 W BY2014000007 W BY 2014000007W WO 2016033674 A1 WO2016033674 A1 WO 2016033674A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
working fluid
substrates
monolayer
bath
allows
Prior art date
Application number
PCT/BY2014/000007
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Владимир Яковлевич ШИРИПОВ
Геннадий Константинович ЖАВНЕРКО
Original Assignee
Владимир Яковлевич ШИРИПОВ
Геннадий Константинович ЖАВНЕРКО
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Владимир Яковлевич ШИРИПОВ, Геннадий Константинович ЖАВНЕРКО filed Critical Владимир Яковлевич ШИРИПОВ
Priority to JP2017600028U priority Critical patent/JP3212074U/ja
Priority to KR2020177000001U priority patent/KR200488272Y1/ko
Priority to EA201700059A priority patent/EA032214B1/ru
Priority to EP14901322.9A priority patent/EP3189899B1/en
Priority to PCT/BY2014/000007 priority patent/WO2016033674A1/ru
Priority to CN201490001534.XU priority patent/CN207430606U/zh
Publication of WO2016033674A1 publication Critical patent/WO2016033674A1/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • B05D1/20—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping substances to be applied floating on a fluid
    • B05D1/202—Langmuir Blodgett films (LB films)
    • B05D1/206—LB troughs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
    • B05C3/10—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles the articles being moved through the liquid or other fluent material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/18—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping
    • B05D1/20—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by dipping substances to be applied floating on a fluid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds

Definitions

  • the invention relates to devices and apparatuses intended for forming on a solid surface monolayer and multilayer Langmuir-Blodgett films (LB) from surface-active substances (surfactants) used in the high-tech production of electronic products, elements of molecular electronics, products operating on quantum dimensional effects.
  • LB solid surface monolayer and multilayer Langmuir-Blodgett films
  • the device can be used to create functional composite coatings with a given architecture and a controlled number of layers in the manufacture of wear-resistant coatings, photonic crystals, insulating and conductive ultrathin films, passivating and protective coatings, sensor layers, anisotropic optical coatings, interference and polarizing optical filters, etc. .
  • the Langmuir-Blodgett method consists in the fact that a continuous ordered monomolecular layer is formed on the surface of the subphase and transferred to the surface of the substrate.
  • a certain volume of film-forming solution substances in a volatile solvent is applied to the surface of the subphase. After evaporation of the solvent, a discharged monomolecular surfactant film is formed on the surface of the water, the molecules of which are oriented by the process of compression of the barriers to obtain a continuous film with a dense packing of molecules.
  • the separation of monolayers on a substrate (surface modification) in such a device occurs due to the vertical movement of the substrate through the monolayer, while the pressure in the film during the separation process is kept constant due to automatic reduction of the surface with a monolayer by linear barriers by an amount proportional to the area of the modified substrate.
  • the described device does not provide a defect-free modifying layer, which is due to aggregation of the layer substance in the liquid meniscus upon its contact with a vertically oriented substrate, while the choice of surfactants suitable for forming defect-free coatings is limited, and the size of the surface area for modification does not exceed a few tens of square centimeters, due to the size of the immersion zone of the substrate.
  • a device [2] which provides a continuous process of applying a monomolecular surfactant film to a substrate placed on a tape basis.
  • the said device consists of a fluoroplastic cell, a rotating cylindrical barrier dividing the bath into two compartments, two surface tension sensors, an automated dispenser and a tape drive consisting of three pulleys on which fixed a flexible polymer substrate tape type. In this case, one of the pulleys is immersed in a subphase.
  • the principle of operation of the device is that the working fluid is poured into the bath, and surfactants from the dispenser are fed into the compartment that does not contain a tape drive mechanism.
  • the continuity of the monolayer deposition process is achieved by synchronizing the rotation of the cylindrical barrier with the supply of surfactants from the dispenser and the operation of the tape drive, the movements of which are interconnected by surface tension sensors.
  • the disadvantages of the known device are the inability to modify planar solid surfaces larger than hundreds of square centimeters in a continuous process.
  • this device is not implemented automatic extraction of solid substrates at a small angle relative to the liquid level, which also negatively affects the quality of the applied coatings.
  • the closest in technical essence to the claimed invention is a device for producing mono - and multilayer films of amphiphilic compounds [3].
  • the known device is designed according to the block type and contains nodes that allow the formation of coatings on a solid surface both by standard LB technology and by horizontal deposition.
  • the substrate is placed in bath with working fluid on a special holder that allows you to hold it horizontally, and the subphase is drained using special equipment for draining.
  • This device contains a block for activating the surface of the substrates, made in the form of a rotating platform with holders of containers with working solutions for immersing the substrates.
  • the surface of the substrate is activated before the LB film is formed on it by the vertical method by alternating adsorption of oppositely charged compounds from working solutions, such as, for example, polymers, polyelectrolytes, proteins, nanoparticles.
  • Said “device” as _ a "win two sensor surface tension and two linear fluoropolymer barrier formed movably over the surface of the working fluid, an automated pipettor for the application solution of the substance to the surface of the working fluid (subphase), a removable tape drive mechanism performing movement means function substrates, and a rotating cylindrical barrier, which makes it possible to obtain monomolecular films of amphiphile compounds on substrates, as well as form black pouting amfifylnyh layers of different substances.
  • the described device has the following disadvantages: there is no possibility of modifying a planar solid surface of significant dimensions; a rotating cylindrical barrier is fixed, which does not allow you to adjust the level of its immersion when the level of the working fluid. Fixation of the cylindrical barrier is a fundamental disadvantage to ensure a continuous coating process. In its implementation, it is necessary to organize the continuous movement of surfactants from the zone of application of the substance to the water surface in the zone of separation of the monolayer, that is, molecules or composite particles should be adsorbed on the surface of the rotating cylindrical barrier from the side of the application compartment and is easily desorbed again onto the water surface in the separation compartment.
  • the meniscus of the fluid may become negative from the side of the selection compartment.
  • the molecules will “stick” to the rotating barrier, which will lead to additional adsorption of the substance on the surface of the cylindrical barrier and entrainment of the monolayer substance from the side of the separation compartment. In this case, the constancy of the specified properties of the resulting coatings will not be ensured.
  • the task — of the present invention is to develop an installation that provides a continuous technological process for obtaining functional coatings with specified physicochemical characteristics, while ensuring their long-term stability and wear resistance during the operation of the products.
  • a device for producing nanostructured coatings on a solid surface including a technological bath designed to fill with a working fluid, a device for draining at least one automated device for applying a solution of a surfactant to the surface of a working fluid in the form monolayer, means for moving the substrates and removing them through the monolayer at an angle relative to the horizontal plane, two linear barriers, located along opposite sides of the bath to be movable in a horizontal plane and arranged between the linear barriers rotatable cylindrical barrier, whose axis is parallel to the surface of said working fluid and linear barriers, two sensor surface tension block activation substrate surface, the electronic control unit, additionally introduced at least one heat exchanger, a system for cleaning and maintaining a given level of the working fluid, a device for supplying a working fluid; moreover, the cylindrical barrier is mounted to move vertically so that its axis is located below the level of the working fluid.
  • the inner lower surface of the process bath is made with a slope
  • linear barriers are installed with the ability to move vertically.
  • the cylindrical barrier is made of chemically inert materials selected, for example, from the groups of fluoroplastics, polyetherketones, polymethylene oxides.
  • the device for applying a surfactant solution to the surface of the working fluid is made in the form of an aerosol microdoser.
  • the means for moving the substrates can be made in the form of a conveyor belt or in the form of at least two sections of transport rollers, each of the sections having an autonomous stepper motor for rotating the rollers.
  • the activation unit of the surface of the substrates is made in the form of a set of technological elements designed to ensure the activation of the surface of the substrates by physical methods, for example, in a low-temperature plasma, and the system for cleaning and maintaining a given level of liquid in the bath contains a liquid level sensor and an airtight shutter.
  • the claimed device while ensuring high performance, allows to increase the uniformity and uniformity of the resulting coatings, which significantly improves their stability properties and physico-chemical characteristics during operation
  • the essence of the invention is illustrated in the drawing - diagram of the device.
  • the device contains a process bath 1 with a working fluid 2, two linear barriers 3 for cleaning the surface of the working fluid from the monolayer 4, a cylindrical barrier 5 mounted for rotation and movement vertically, under the monolayer a heat exchanger 6 for cooling the working fluid, an automated device 7 for applying surfactant solution on the surface of the working fluid in the form of a monolayer, two sensors 8 for measuring surface tension in a monolayer, a system 9 for cleaning the working fluid and maintaining its predetermined level — in technological bath " means "" 1 " 0 ⁇ for moving the substrates and removing them through the monolayer, the substrate surface activation unit 11, the control electronic unit 12, the device 13, 14 for supplying and discharging the working fluid, respectively, loading modules 15, 16 and unloading the substrates, the zone 17 of unloading the substrates, the sensor 18 of the liquid level, the sealing shutter 19, the substrate 20.
  • Technological bath 1 the inner lower surface of which is sloped, is installed on an anti-vibration basis (not shown in the figure) and the working fluid 2 (subphase) is poured into it.
  • Two linear barriers 3 located along opposite sides of the bathtub are mounted with the possibility of moving in a horizontal plane on the surface of the working fluid for cleaning it, and in a vertical plane for unimpeded removal of the substrates 20 through the monolayer 4.
  • a cylindrical barrier 5 is mounted rotatably between the linear barriers, in the design of which there is no rigid fixation in an upright position. The axis of rotation of the cylindrical barrier is parallel to the surface of the working fluid 2 and the said linear barriers 3.
  • Cylindrical barrier made of chemically inert materials selected, for example, from the classes of fluoroplastics, polyetherketones, polymethylene oxides.
  • Linear and cylindrical barriers divide the work surface in the process bath into three functional zones: automatic substrate loading zone A, substance deposition zone B and monolayer formation and separation zone C.
  • a heat exchanger 6 is located in zone C, which allows cooling the working fluid 2 directly under the monolayer 4.
  • An automated device 7 for applying a surfactant solution to the surface of the working fluid 2 in the form of a monolayer 4 is located in zone B.
  • Two surface tension measuring sensors 8 are located in zones B and C, to record changes in surface tension when applying a solution of a substance and the allocation of a monolayer.
  • the system 9 for cleaning the working fluid and maintaining its predetermined level is connected to the working fluid in the bath by a feedback system through the fluid level sensor 18 and the device 13 for supplying the working fluid and 14 for draining it, which allow maintaining the desired level of the working fluid 2 during immersion and extraction substrates 20.
  • the sealing shutter 19 is designed to maintain a constant level of the working fluid 2 in zones B and C at the time of loading the substrates.
  • System 9 includes a system for pre-treatment of the working fluid, after passing through which the fluid enters the process bath through the device 13 for supplying the working fluid.
  • the controlled means 10 for moving the substrates 20 and removing them through the monolayer 4 allows the substrates 20 to be moved from the loading zone A to the allocation zone C of the monolayer extraction at an angle relative to the horizontal plane.
  • the installation includes a block 1 1 activation of the substrates 20 to give them hydrophilic properties, for example, due to treatment with atmospheric plasma.
  • the control electronic unit 12 with a personal computer and software, in which electronic control is organized using a flexible set of modules, provides the process of loading substrates, the formation and selection of a monolayer, as well as the movement and extraction of modified substrates.
  • the razor “ 10; designed to move the substrates 20 " is made by known solutions and can be, for example, a conveyor belt onto which the substrates are mounted in or without holders, or a sectional system of independent transport rollers that are driven by motors and along which the substrates move in backing holders.
  • the modules 15 and 16 of the loading and unloading of the substrates 20 provide the supply and extraction of the substrates from the process bath to the unloading zone of the substrates 17, from where they are further transported in accordance with the general process flow chart.
  • the device allows to improve the quality of the formed coatings, as the design implements a continuous process of modifying planar surfaces with automated inclined extraction of substrates, which minimally distorts the structure of the monolayer.
  • the design features of the means for moving and the node responsible for the formation of a tightly packed monolayer not only allow more uniform and uniform coatings compared to the prototype, but also make it possible to switch to industrial production and modification of large areas with ordered layers of functional coatings with high performance.
  • the described device operates as follows.
  • Block 1 1 activation of the surface of the substrates consists of a medium-frequency generator, an array of pin electrodes, a flat electrode, a linear system for moving the pin electrodes over the treated surface of the substrate.
  • the substrate is mounted on a flat electrode, an alternating voltage between the flat electrode and the array of pin electrodes is applied from the generator, the DB discharge is ignited, water vapor is supplied to the discharge burning area, the moving system is launched, the array of pin electrodes is moved over the surface being treated, activating it.
  • the surface of the substrates is activated by forming a reactive sublayer of OH groups.
  • Substrates with an activated surface are placed in a substrate holder made in the form of a pallet, and each is fixed at four points.
  • the working fluid 2 ultrapure deionized water — is fed after passing through coarse filters that filter out mechanical impurities, solid particles and biological objects, and a deionization system on ion-exchange materials. Filters and the deionization system are part of the system 9 for cleaning the working fluid and maintaining its predetermined level.
  • Filling out the process bath 1 with the working fluid 2 from the system 9 is carried out through the device 13 for supplying the working fluid to the process bath, which is a system of valves, flow meters, drain and bulk nozzles and is connected to the sensor 18 of the liquid level. Similar in design to the device 13, the device 14 for draining the working fluid is connected with temperature and pH subphase sensors (not shown in the drawing), which are also part of the system 9.
  • the exhaust valves of the device 14 are opened to drain the liquid, and deionized water with a given pH is fed into the process bath 1 instead of it through the device 13. If necessary, the heat exchanger 6, the working fluid is cooled to a predetermined temperature. The circulation of water in the inventive device is continued until the required temperature and pH values are reached.
  • Two linear movable barriers 3 are moved along the water surface before the formation of the monolayer 4 in the zones B and C of the solution of the substance and the allocation of the monolayer, reducing the surface area for its preliminary cleaning. Then the barriers 3 are pushed and raised above the level of the working fluid.
  • a solution of a surfactant is sprayed onto the surface of the working fluid 2 in zone B through microvalves of the four-point distribution system of the automated device 7.
  • a monolayer 4 is formed, which is moved from zone B by a rotating cylindrical barrier 5 to zone C. Since the cylindrical barrier 5 is vertically movable, the optimal height of the part of the barrier protruding above the surface of the working fluid is selected. At this axis
  • the rotation of the cylindrical barrier is always located below the surface of the working fluid, which is fundamental in the continuous process of surface modification.
  • the barrier 5 in the production cycle must continuously move the surfactant from zone B to zone C.
  • surfactant molecules are adsorbed on the side of zone B and are easily desorbed to the water surface in zone C, since it is hydrophilic the surface provides complete wetting of the surface of the cylindrical barrier 5, which leads to the ⁇ disconnection> - molecules from ⁇ in the monolayer separation zone C, where ordering is thus formed on the surface of the working fluid nny layer of functional material - 4 monolayers.
  • the surface-activated substrates 20 are moved from the activation block 11 to the gas-liquid interface into the zone A of the process bath 1.
  • the substrate holder with the substrates is lowered into the working fluid 2 onto the means 10 for moving the substrates, while maintaining the properties of the activated surface at the molecular level.
  • the tool 10 for moving the substrates consists of four separate sections of the transport drive rollers.
  • the rollers in each section are driven by a separate stepper motor, which allows them to change the speed of rotation for each section and, thereby, to carry out a continuous process of moving substrate holders.
  • Zone A is separated from the main volume of the process bath by a shutter 19, which hermetically closes the compartment of zone A at the time of loading the substrates.
  • the displaced working fluid is drained through a device 14 for draining the working fluid and located in the side wall of the process bath in zone A, after which the compartment is opened and the substrates 20 are moved to the monolayer separation zone C.
  • the surface pressure in the monolayer 4 is constantly monitored. After reaching the surface pressure corresponding to the ordered state of the monolayer 4 in zone C, the device receives a signal from the control unit 12 to the means 10 and the substrate holders with substrates are moved through the ordered monolayer.
  • the substrates are removed through the gas-liquid interface to zone C. Removing the substrates is carried out at an angle of 3-30 degrees relative to the horizontal plane, which ensures free flow of liquid from the surface of the substrates with the activated layer and fixing the monolayer deposited on the surface of the substrates due to its interaction with the reactive sublayer.
  • the substrates After removing the substrates from the process bath by the unloading module 16, the substrates are moved to the unloading zone 17, from where they are further transported in accordance with the general process flow chart.
  • a decrease in the level of the working fluid 2 due to the extraction of the substrate holder with the substrates 20 is compensated by its addition to zone B from the system 9 through the device 13 for supplying the working fluid.
  • the continuity of the process of applying the monolayer 4 is carried out by synchronous spraying of surfactants in zone B, continuous transportation monolayer material from zone B to zone C using
  • control electronic unit 12 Using the control electronic unit 12, they coordinate all stages of the modification process: loading / unloading substrates 20, forming and separating a monolayer 4 on the surface of a liquid 2, as well as moving the substrates in the process bath 1 and removing them during the modification.
  • the claimed installation allows obtaining qualitative functional pokrytiy- ⁇ ⁇ zadannymi- with physicochemical characteristics in the continuous modification process of the substrates, while ensuring long-term stability and durability of the coatings in service articles.
  • Patent SU873869 published October 15, 1981.
  • Patent BY JVal 5411 published August 30, 2010

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

Изобретение относится к приборам и аппаратам, предназначенным для формирования на поверхности моно- и мультислойных пленок Ленгмюра- Блоджетт из поверхностно-активных соединений, используемых при высокотехнологичном производстве электронных изделий, элементов молекулярной электроники, изделий, работающих на квантово-размерных эффектах. Задачей настоящего изобретения является разработка установки, обеспечивающей непрерывный технологический процесс получения функциональных покрытий с заданными физико-химическими характеристиками, при обеспечении их долговременной стабильности и износостойкости в процессе эксплуатации изделий. Поставленная задача решена тем, что устройство включает блок, обеспечивающий очищение рабочей жидкости и непрерывный процесс подачи очищенной рабочей жидкости в технологическую ванну, систему формирования монослоя, транспортную систему и дополнительные системы, обеспечивающие автоматическую активацию поверхности подложек и стабилизацию слоев на поверхности за счет химических реакций. Разработанная конструкция установки обеспечивает получение качественных функциональных покрытий в непрерывном техпроцессе модификации подложек.

Description

Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности
Изобретение относится к приборам и аппаратам, предназначенным для формирования на твердой поверхности моно- и мультислойных пленок Ленгмюра-Блоджетт (ЛБ) из поверхностно-активных веществ (ПАВ), используемых при высокотехнологичном производстве электронных изделий, элементов молекулярной электроники, изделий, работающих на квантово-размерных эффектах.
Устройство может быть применимо для создания функциональных композиционных покрытий с заданной архитектурой и контролируемым числом слоев при изготовлении износостойких покрытий, фотонных кристаллов, изолирующих и проводящих ультратонких пленок, пассивирующих и защитных покрытий, сенсорных слоев, анизотропных оптических покрытий, интерференционных и поляризационных светофильтров и т.д.
В настоящее время известны устройства для получения пленок Ленгмюра-Блоджетт, состоящие из емкости, называемой ванной ЛБ, в которой находится жидкость (субфаза), поверхностных линейных барьеров, установленных с возможностью перемещения вдоль краев ванны, датчика, измеряющего поверхностное натяжение (поверхностное давление) в монослое и устройства перемещения подложек [1]. Установка, как правило, располагается на виброзащитном основании.
Метод Ленгмюра-Блоджетт заключается в том, что сплошной упорядоченный мономолекулярный слой формируют на поверхности субфазы и переносят на поверхность подложки.
Для этого определенный объем раствора пленкообразующего вещества в легколетучем растворителе наносится на поверхность субфазы. После испарения растворителя на поверхности воды образуется разряженная мономолекулярная пленка ПАВ, молекулы в которой ориентируется процессом сжатия барьеров до получения сплошной пленки с плотной упаковкой молекул.
Выделение монослоев на подложку (модификация поверхности) в таком устройстве происходит за счет вертикального перемещения подложки сквозь монослой, при этом давление в пленке в процессе выделения поддерживают постоянным за счет автоматического сокращения поверхности с монослоем линейными барьерами на величину, пропорциональную площади модифицированной подложки.
Описанное устройство не обеспечивает бездефектность модифицирующего слоя, что обусловлено агрегацией вещества слоя в мениске жидкости при ее контакте с вертикально ориентированной подложкой, при этом выбор ПАВ, пригодных для формирования бездефектных покрытий, ограничен, а размер площади поверхности для модифицирования не превышает Нескольких десятков квадратных сантиметров, что обусловлено размерами зоны погружения подложки.
Кроме того, с помощью описанного устройства невозможно организовать непрерывный процесс выделения, что связано с цикличностью процесса нанесения на поверхность жидкости новых порций поверхностно-активного вещества для формирования пленки.
Известно также устройство [2], обеспечивающее непрерывный процесс нанесения мономолекулярной пленки ПАВ на подложку, размещенную на ленточной основе.
Упомянутое устройство состоит из фторопластовой кюветы, вращающегося цилиндрического барьера, разделяющего ванну на два отсека, двух датчиков поверхностного натяжения, автоматизированного дозатора и лентопротяжного механизма, состоящего из трех шкивов, на которых закреплена гибкая полимерная подложка ленточного типа. При этом один из шкивов погружен в субфазу.
Принцип работы устройства заключается в том, что в ванну заливают рабочую жидкость, а в отсек, не содержащий лентопротяжный механизм, подают ПАВ из дозатора.
После испарения растворителя с водной поверхности перенос амфифильных молекул в отсек с лентопротяжным механизмом и их организация в монослой осуществляется за счет вращения цилиндрического барьера. После достижения в отсеке нанесения вещества поверхностного давления, соответствующего упорядоченному состоянию моноелоят-автоматичееки-включается-лентопротяжный'механизм, даТощииГ возможность пропускать подложку сквозь слой ПАВ.
Непрерывность процесса нанесения монослоя достигают путем синхронизации вращения цилиндрического барьера с подачей ПАВ из дозатора и работой лентопротяжного механизма, движения которых связаны между собой датчиками поверхностного натяжения.
Недостатками известного устройства являются отсутствие возможности модифицировать планарные твердые поверхности размером свыше сотен квадратных сантиметров в непрерывном техпроцессе. Кроме того, в данном устройстве не реализовано автоматическое извлечение твердых подложек под малым углом относительно уровня жидкости, что также отрицательно влияет на качество наносимых покрытий.
Наиболее близким по технической сущности к заявляемому изобретению является устройство для получения моно- и мультислойных пленок амфифильных соединений [3].
Известное устройство сконструировано по блочному типу и содержит узлы, позволяющие формировать покрытия на твердой поверхности как по стандартной технологии ЛБ, так и методом горизонтального осаждения. В последнем случае подложку располагают в ванне с рабочей жидкостью на специальном держателе, позволяющем удерживать ее горизонтально, и субфаза сливается при помощи специальной оснастки для слива. Данное устройство содержит блок активации поверхности подложек, выполненный в виде вращающейся платформы с держателями емкостей с рабочими растворами для погружения подложек.
Поверхность подложки активируется перед формированием на ней пленки ЛБ вертикальным методом путем чередующейся адсорбции из рабочих растворов противоположно заряженных соединений, таких как, например, полимеры, полиэлектролиты, белки, наночастицы.
Упомянутое"устройство"также_с"одержит два датчика поверхностного натяжения и два линейных фторопластовых барьера, выполненных с возможностью передвижения по поверхности рабочей жидкости, автоматизированный микродозатор для нанесения раствора вещества на поверхность рабочей жидкости (субфазы), съемный лентопротяжный механизм, выполняющий функцию средства перемещения подложек, и вращающийся цилиндрический барьер, что дает возможность получать мономолекулярные пленки амфифйльных соединений на подложках, а также формировать чередующиеся слои различных амфифйльных веществ.
Однако описанное устройство имеет следующие недостатки: отсутствует возможность модификации планарной твердой поверхности значительных размеров; вращающийся цилиндрический барьер зафиксирован, что не позволяет регулировать уровень его погружения при изменении уровня рабочей жидкости. Фиксация цилиндрического барьера является принципиальным недостатком для обеспечения непрерывного технологического процесса нанесения покрытий. При его осуществлении необходимо организовать непрерывное перемещение ПАВ из зоны нанесения вещества на водную поверхность в зону выделения монослоя, то есть молекулы или композиционные частицы должны адсорбироваться на поверхности вращающегося цилиндрического барьера со стороны отсека нанесения и легко десорбироваться снова на водную поверхность в отсеке выделения.
Однако, когда ось вращения цилиндрического барьера располагается выше уровня рабочей жидкости, мениск жидкости может стать отрицательным со стороны отсека выделения. При этом молекулы будут «прилипать» к вращающемуся барьеру, что приведет к дополнительной адсорбции вещества на поверхности цилиндрического барьера и уносу вещества монослоя со стороны отсека выделения. В таком случае не будет обеспечиваться постоянство заданных свойств получаемых покрытий.
Задачей— предлагаемого- изобретения- является разработка установки, обеспечивающей непрерывный технологический процесс получения функциональных покрытий с заданными физико-химическими характеристиками, при обеспечении их долговременной стабильности и износостойкости в процессе эксплуатации изделий.
Поставленная задача достигается тем, что в устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности, включающее технологическую ванну, предназначенную для заполнения рабочей жидкостью, устройство для слива, по меньшей мере, одно автоматизированное устройство для нанесения раствора поверхностно- активного вещества на поверхность рабочей жидкости в виде монослоя, средство для перемещения подложек и их извлечения сквозь монослой под углом относительно горизонтальной плоскости, два линейных барьера, расположенных вдоль противоположных сторон ванны с возможностью перемещения в горизонтальной плоскости и установленный между линейными барьерами с возможностью вращения цилиндрический барьер, ось которого параллельна поверхности рабочей жидкости и упомянутым линейным барьерам, два датчика поверхностного натяжения, блок активации поверхности подложек, электронный блок управления, дополнительно введены, по меньшей мере, один теплообменник, система очистки и поддержания заданного уровня рабочей жидкости, устройство для подачи рабочей жидкости; причем цилиндрический барьер установлен с возможностью перемещения по вертикали так, что его ось расположена ниже уровня рабочей жидкости.
Для обеспечения оптимальной работы установки внутренняя нижняя поверхность технологической ванны выполнена с уклоном, линейные барьеры установлены с возможностью перемещения по вертикали.
Кроме того, цилиндрический барьер выполнен из химически инертных материалов, выбранных, например, из групп фторопластов, полиэфиркетонов,— полиметиленоксидов устройство для нанесения раствора поверхностно-активного вещества на поверхность рабочей жидкости выполнено в виде аэрозольного микродозатора.
При этом средство для перемещения подложек может быть выполнено в виде ленточного конвейера или в виде, по меньшей мере, двух секций транспортных роликов, причем каждая из секций имеет для вращения роликов автономный шаговый двигатель.
В предлагаемом устройстве блок активации поверхности подложек выполнен в виде набора технологических элементов, предназначенных для обеспечения активации поверхности подложек физическими методами, например в низкотемпературной плазме, а система очистки и поддержания заданного уровня жидкости в ванне содержит датчик уровня жидкости и герметичный затвор.
Благодаря разработанной конструкции установки обеспечивается получение качественных функциональных покрытий в непрерывном техпроцессе модификации подложек.
Таким образом, заявляемое устройство при обеспечении высокой производительности, позволяет увеличить равномерность и однородность получаемых покрытий, что существенно улучшает стабильность их свойств и физико-химических характеристик в процессе эксплуатации Сущность изобретения поясняется чертежом - схемой устройства.
Устройство содержит технологическую ванну 1 с рабочей жидкостью 2, два линейных барьера 3 для очистки поверхности рабочей жидкости от монослоя 4, цилиндрический барьер 5, установленный с возможностью вращения и перемещения по вертикали, под монослоем теплообменник 6 для охлаждения рабочей жидкости, автоматизированное устройство 7 для нанесения раствора ПАВ на поверхность рабочей жидкости в виде монослоя, два датчика 8 измерения поверхностного натяжения в монослое, систему 9 для очйстки рабочей жидкости и поддержания ее заданного уровня— в-технологической"ванне средство""1"0~для перемещения подложек и их извлечения сквозь монослой, блок 11 активации поверхности подложек, управляющий электронный блок 12, устройства 13, 14 для подачи и слива рабочей жидкости соответственно, модули 15, 16 соответственно загрузки и выгрузки подложек, зону 17 выгрузки подложек, датчик 18 уровня жидкости, герметизирующий затвор 19, подложки 20.
Технологическая ванна 1, внутренняя нижняя поверхность которой выполнена с уклоном, установлена на антивибрационной основе (на рисунке не показано) и в нее залита рабочая жидкость 2 (субфаза). Два линейных барьера 3, расположенные вдоль противоположных сторон ванны, установлены с возможностью перемещения в горизонтальной плоскости по поверхности рабочей жидкости для ее очистки, и в вертикальной плоскости для беспрепятственного извлечения подложек 20 сквозь монослой 4. Между линейными барьерами установлен с возможностью вращения цилиндрический барьер 5, в конструкции которого отсутствует жесткая фиксация в вертикальном положении. Ось вращения цилиндрического барьера параллельна поверхности рабочей жидкости 2 и упомянутым линейным барьерам 3. Цилиндрический барьер выполнен из химически инертных материалов, выбранных, например, из классов фторопластов, полиэфиркетонов, полиметиленоксидов.
Линейные и цилиндрический барьеры разделяют рабочую поверхность в технологической ванне на три функциональные зоны: зона А автоматической загрузки подложек, зона В нанесения вещества и зона С формирования и выделения монослоя.
В зоне С расположен теплообменник 6, который позволяет охлаждать рабочую жидкость 2 непосредственно под монослоем 4. Автоматизированное устройство 7 для нанесения раствора ПАВ на поверхность рабочей жидкости 2 в виде монослоя 4, расположено в зоне В. Два датчика 8 измерения поверхностного натяжения расположены в зонах В и С, чтобы фиксировать изменения поверхностного натяжения при нанесении раствора вещества и выделении монослоя.
Система 9 очистки рабочей жидкости и поддержания ее заданного уровня связана с рабочей жидкостью в ванне системой обратной связи через датчик уровня жидкости 18 и устройства 13 для подачи рабочей жидкости и 14 для ее слива, которые позволяют поддерживать заданный уровень рабочей жидкости 2 в процессе погружения и извлечения подложек 20.
Герметизирующий затвор 19 предназначен для поддержания постоянным уровня рабочей жидкости 2 в зонах В и С в момент загрузки подложек. Система 9 включает в себя систему предварительной очистки рабочей жидкости, после прохождения которой жидкость поступает в технологическую ванну через устройство 13 для подачи рабочей жидкости.
Управляемое средство 10 для перемещения подложек 20 и их извлечения сквозь монослой 4 позволяет перемещать подложки 20 из зоны загрузки А в зону выделения С выделения монослоя под углом относительно горизонтальной плоскости.
Установка включает блок 1 1 активации подложек 20 для придания им гидрофильных свойств, например, за счет обработки атмосферной плазмой. В блоке 11 можно осуществлять активацию поверхности подложек за счет формирования реакционноспособного слоя из ряда, включающего такие функциональные группы как -ОН, -СНО, -СООН, - NH2, -NHNH2, -N=C=0 и т.д., а также молекулы, например, биотин.
Управляющий электронный блок 12 с персональным компьютером и программным обеспечением, в котором электронное управление организовано с помощью гибкого набора модулей, обеспечивает процесс загрузки подложек, формирование и выделение монослоя, а также перемещение и извлечение модифицированных подложек.
бредство" 10; предназначенное для перемещения подложек 20" выполнено известными решениями и может представлять собой, например, ленточный конвейер, на который устанавливаются подложки в держателях или без них, или секционную систему независимых транспортных роликов, которые приводятся во вращение двигателями и по которым подложки передвигаются в подложкодержателях.
Модули 15 и 16 загрузки и выгрузки подложек 20 обеспечивают подачу и извлечение подложек из технологической ванны в зону выгрузки подложек 17, откуда осуществляют их дальнейшую транспортировку в соответствии со схемой общего технологического процесса.
Устройство позволяет обеспечить повышение качества сформированных покрытий, так как в конструкции реализован непрерывный процесс модификации планарных поверхностей с автоматизированным наклонным извлечением подложек, которое минимально искажает структуру монослоя. А конструктивные особенности средства для перемещения и узла, отвечающего за формирование плотноупакованного монослоя не только позволяют получать более равномерные и однородные по сравнению с прототипом покрытия, но и дают возможность перейти к промышленному производству и модификации больших площадей упорядоченными слоями функциональных покрытий с высокой производительностью.
Описанное устройство работает следующим образом.
Каждую подложку 20 вначале помещают в блок 11 активации поверхности подложек. Активацию проводят в низкотемпературной плазме диэлектрического барьерного разряда (ДБ разряда) при атмосферном давлении. Блок 1 1 активации поверхности подложек состоит из генератора средней частоты, массива штыревых электродов, плоского электрода, системы линейного перемещения штыревых электродов над обрабатываемой поверхностью подложки.
Подложку устанавливают на плоский электрод, от генератора подают переменное напряжение между плоским электродом и массивом штыревых электродов, зажигают ДБ разряд, в область горения разряда подают пары воды, запускают систему перемещения, массив штыревых электродов двигают над обрабатываемой поверхностью, активируя ее. Установка позволяет генерировать ДБ разряд с удельной мощностью Ws = 10 Вт/см при частоте переменного напряжения /= 14 кГц. Таким образом, в блоке 1 1 осуществляют активацию поверхности подложек за счет формирования реакционноспособного подслоя из ОН групп.
Подложки с активированной поверхностью помещают в подложкодержатель, выполненный в виде поддона, и каждую закрепляют в четырех точках.
В зону В технологической ванны 1 рабочую жидкость 2 - ультрачистую деионизованную воду - подают после пропускания через фильтры грубой очистки, которые осуществляют фильтрацию механических примесей, твердых частиц и объектов биологического происхождения, и систему деионизации на ионообменных материалах. Фильтры и система деионизации составляют часть системы 9 очистки рабочей жидкости и поддержания ее заданного уровня. Заполнение технологической ванны 1 рабочей жидкостью 2 из системы 9 осуществляется через устройство 13 для подачи рабочей жидкости в технологическую ванну, которое представляет собой систему клапанов, расходомеров, сливных и наливных патрубков и связано с датчиком 18 уровня жидкости. Аналогичное по конструкции устройству 13 устройство 14 для слива рабочей жидкости связано с датчиками температуры и рН субфазы (на чертеже не показаны), которые также являются частью системы 9.
При выходе показаний датчиков из диапазона, заданного через электронный блок управления 12, выпускные клапана устройства 14 открывают для слива жидкости, а в технологическую ванну 1 вместо нее через устройство 13 подают деионизованную воду с заданным рН. При необходимости теплообменником 6 рабочую жидкость охлаждают до заданной температуры. Циркуляцию воды в заявляемом устройстве продолжают до достижения требуемых показателей температуры и рН.
Два линейных подвижных барьера 3 перемещают по водной поверхности перед процессом формирования монослоя 4 в зонах В и С нанесения раствора вещества и выделения монослоя, сокращая площадь водной поверхности, для ее предварительной очистки. Затем барьеры 3 раздвигают и поднимают выше уровня рабочей жидкости.
Затем на поверхность рабочей жидкости 2 в зоне В через микроклапаны четырехточечной распределительной системы автоматизированного устройства 7 распыляют в виде аэрозоля раствор поверхностно-активного вещества. После испарения растворителя с поверхности рабочей жидкости происходит формирование монослоя 4, который перемещают из зоны В вращающимся цилиндрическим барьером 5 в зону С. Поскольку цилиндрический барьер 5 выполнен с возможностью вертикального перемещения, осуществляют выбор оптимальной высоты части барьера, выступающей над поверхностью рабочей жидкости. При этом ось
вращения цилиндрического барьера располагают всегда ниже поверхности рабочей жидкости, что является принципиальным в непрерывном процессе модификации поверхностей. Барьер 5 в производственном цикле должен непрерывно перемещать ПАВ из зоны В в зону С. При этом на гидрофильной поверхности цилиндрического барьера, выполненного из химически инертного фторопласта, молекулы ПАВ адсорбируются на стороне зоны В и легко десорбируются на водную поверхность в зоне С, так как гидрофильная поверхность обеспечивает полное смачивание поверхности цилиндрического барьера 5, что и приводит к <<отеоединенйю>>-молекул-от^ в зоне С выделения монослоя, где на поверхности рабочей жидкости таким образом формируют упорядоченный слой функционального материала - монослой 4.
С помощью модуля 15 загрузки подложки 20 с активированной поверхностью перемещают из блока 11 активации к границе раздела «газ- жидкость» в зону А технологической ванны 1. Модулем 15 опускают подложко держатель с подложками в рабочую жидкость 2 на средство 10, предназначенное для перемещения подложек, с сохранением свойств активированной поверхности на молекулярном уровне.
Средство 10 для перемещения подложек состоит из четырех отдельных секций транспортных приводных роликов. Ролики в каждой секции приводят во вращение отдельным шаговым двигателем, что позволяет изменять скорость их вращения для каждой секции и, тем самым, осуществлять непрерывный техпроцесс перемещения подложкодержателей.
Зона А отделена от основного объема технологической ванны затвором 19, которым герметически закрывают отсек зоны А в момент загрузки подложек. Вытесненную рабочую жидкость сливают через устройство 14, предназначенное для слива рабочей жидкости и расположенное в боковой стенке технологической ванны в зоне А, после чего отсек открывают и подложки 20 перемещают в зону С выделения монослоя.
С помощью двух датчиков 8 поверхностного натяжения проводят постоянный контроль поверхностного давления в монослое 4. После достижения поверхностного давления, соответствующего упорядоченному состоянию монослоя 4 в зоне С, устройство получает от управляющего блока 12 сигнал на средство 10 и подложкодержатели с подложками перемещают сквозь упорядоченный монослой.
Подложки~пер"емещают~~ пид~тюверхностью границы раздела «газ- жидкость» на расстояния и со скоростью, исключающей возможность появления поверхностной волны, разрушающей структуру монослоя 4. С помощью средства 10 перемещения извлекают подложки через границу раздела «газ-жидкость» в зоне С. Извлечение подложек осуществляют под углом 3-30 градусов, относительно горизонтальной плоскости, что обеспечивает свободное стекание жидкости с поверхности подложек с активированным слоем и фиксацию нанесенного на поверхность подложек монослоя за счет его взаимодействия с реакционноспособным подслоем.
После извлечения подложек из технологической ванны модулем выгрузки 16 подложки перемещают в зону выгрузки 17, откуда осуществляют их дальнейшую транспортировку в соответствии со схемой общего технологического процесса.
В процессе выделения монослоя понижение уровня рабочей жидкости 2 за счет извлечения подложкодержателя с подложками 20 компенсируют ее добавлением в зону В из системы 9 через устройство 13 для подачи рабочей жидкости.
Непрерывность процесса нанесения монослоя 4 осуществляют путем синхронного распыления ПАВ в зоне В, непрерывной транспортировки материала монослоя из зоны В в зону С с помощью
вращающегося цилиндрического барьера 5, сведений о поверхностном натяжении в монослое 4, которые поступают с двух датчиков 8, и работой средства 10 для перемещения подложек.
С помощью управляющего электронного блока 12 обеспечивают координацию всех стадий процесса модифицирования: загрузку/выгрузку подложек 20, формирование и выделение монослоя 4 на поверхности жидкости 2, а также перемещение подложек в технологической ванне 1 и их извлечение в процессе модифицирования.
Таким образом, заявляемая установка позволяет обеспечить получение качественных^ функциональных покрытий- с~ заданными- физико- химическими характеристиками в непрерывном технологическом процессе модификации подложек, при обеспечении долговременной стабильности и износостойкости полученных покрытий в процессе эксплуатации изделий.
Источники информации:
1. Ковальчук М.В., Клечковская В.В., Фейгин Л.А. Молекулярный конструктор Ленгмюра-Блоджетт.//Природа, Nel l . - М.:2003. С.11- 19.
2. Патент SU873869, опубликованный 15.10.1981 г.
3. Патент BY JVal 5411, опубликованный 30.08.2010 г.

Claims

ФОРМУЛА
1. Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности, включающее технологическую ванну для заполнения рабочей жидкостью, устройство для слива, по меньшей мере, одно автоматизированное устройство для нанесения раствора поверхностно-активного вещества на поверхность рабочей жидкости в виде монослоя, средство для перемещения подложек и их извлечения сквозь монослой под углом относительно горизонтальной плоскости, два линейных барьера, расположенных вдоль противоположных сторон ванны с возможностью перемещения в горизонтальной плоскости и установленный между линейными барьерами с возможностью вращения цилиндрический барьер, ось которого параллельна поверхности рабочей жидкости и упомянутым линейным барьерам, два датчика поверхностного натяжения, блок активации поверхности подложек, электронный блок управления, отличающееся тем, что дополнительно введены, по меньшей мере, один теплообменник, система очистки и поддержания заданного уровня рабочей жидкости, устройство для подачи рабочей жидкости; при этом цилиндрический барьер установлен с возможностью перемещения по вертикали так, что его ось расположена ниже уровня рабочей жидкости.
2. Устройство по п. 1 , отличающееся тем, что внутренняя нижняя поверхность технологической ванны выполнена с уклоном.
3. Устройство по п. 1 , отличающееся тем, что линейные барьеры установлены с возможностью перемещения по вертикали.
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что цилиндрический барьер выполнен из химически инертных материалов, выбранных, например, из групп фторопластов, полиэфиркетонов, полиметиленоксидов.
5. Устройство по п.1 , отличающееся тем, что устройство для нанесения раствора поверхностно-активного вещества на поверхность рабочей жидкости выполнено в виде аэрозольного микродозатора.
6. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средство для перемещения подложек выполнено в виде ленточного конвейера.
7. Устройство по п.1 , отличающееся тем, что средство для перемещения подложек выполнено в виде, по меньшей мере, двух секций транспортных роликов, причем каждая из секций имеет автономный шаговый двигатель.
8. Устройство по п.1 , отличающееся тем, что блок активации поверхности подложек выполнен в виде набора технологических элементов, предназначенных для обеспечения активации физическими методами, например в низкотемпературной плазме.
9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что система очистки и поддержания заданного уровня жидкости в ванне содержит датчик уровня жидкости.
10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что система очистки и поддержания заданного уровня жидкости в ванне содержит герметичный затвор.
PCT/BY2014/000007 2014-09-02 2014-09-02 Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности WO2016033674A1 (ru)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017600028U JP3212074U (ja) 2014-09-02 2014-09-02 固体表面上にナノ構造化コーティングを製造する装置
KR2020177000001U KR200488272Y1 (ko) 2014-09-02 2014-09-02 고체 표면에 나노구조의 코팅을 형성하는 장치
EA201700059A EA032214B1 (ru) 2014-09-02 2014-09-02 Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности
EP14901322.9A EP3189899B1 (en) 2014-09-02 2014-09-02 Device for producing nanostructured coatings on a solid surface
PCT/BY2014/000007 WO2016033674A1 (ru) 2014-09-02 2014-09-02 Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности
CN201490001534.XU CN207430606U (zh) 2014-09-02 2014-09-02 用于获得在固体表面上的纳米结构涂层的装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/BY2014/000007 WO2016033674A1 (ru) 2014-09-02 2014-09-02 Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016033674A1 true WO2016033674A1 (ru) 2016-03-10

Family

ID=55438939

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/BY2014/000007 WO2016033674A1 (ru) 2014-09-02 2014-09-02 Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP3189899B1 (ru)
JP (1) JP3212074U (ru)
KR (1) KR200488272Y1 (ru)
CN (1) CN207430606U (ru)
EA (1) EA032214B1 (ru)
WO (1) WO2016033674A1 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111420842B (zh) * 2020-04-24 2021-03-02 郑兰洁 一种汽车车轮平衡块自动浸涂润滑剂设备
DE102020122857B4 (de) 2020-09-01 2022-12-08 Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. (Engl.Leibniz Institute of Photonic Technology) Verfahren zur Herstellung einer ultradünnen freistehenden 2D-Membran mit Poren sowie ihre anwendungsbezogene Modifikation und Verwendung der über dieses Verfahren hergestellten 2D-Membranen
TWI755286B (zh) * 2021-02-23 2022-02-11 歆熾電氣技術股份有限公司 塗佈方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4093757A (en) * 1976-02-11 1978-06-06 Commissariat A L'energie Atomique Method of forming and depositing monomolecular layers of amphiphilic molecules on a substrate
EP0169031A1 (en) * 1984-07-14 1986-01-22 Nima Technology Limited Improvements in and relating to thin film deposition
US4722856A (en) * 1986-01-02 1988-02-02 Molecular Electronics Corporation Method and apparatus for depositing monomolecular layers on a substrate
US5512326A (en) * 1991-06-12 1996-04-30 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for forming monomolecular film or built-up monomolecular film
BY15411C1 (ru) * 2008-12-04 2012-02-28

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU874862A1 (ru) * 1980-02-06 1981-10-23 Специальное Конструкторское Бюро Гидротехнических Стальных Конструкций И Механизмов Устройство дл защиты шлюзовых ворот от навала судов
US4645693A (en) * 1984-11-13 1987-02-24 Vickers Public Limited Company Assembly and method for Langmuir-Blodgett film production
JPH02235936A (ja) * 1989-03-09 1990-09-18 Nanofilm Corp 自己集合性極薄分子フィルム，並びにそれを作製するための，及びそれを表面に施すための装置と方法
EP0583676B1 (de) * 1992-08-19 1996-04-17 Hoechst Aktiengesellschaft Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von ultradünnen Schichten und von Schichtelementen
WO2008006211A1 (en) * 2006-07-12 2008-01-17 Nanometrix Inc. Method and apparatus for thin film/layer fabrication and deposition

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4093757A (en) * 1976-02-11 1978-06-06 Commissariat A L'energie Atomique Method of forming and depositing monomolecular layers of amphiphilic molecules on a substrate
EP0169031A1 (en) * 1984-07-14 1986-01-22 Nima Technology Limited Improvements in and relating to thin film deposition
US4722856A (en) * 1986-01-02 1988-02-02 Molecular Electronics Corporation Method and apparatus for depositing monomolecular layers on a substrate
US5512326A (en) * 1991-06-12 1996-04-30 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for forming monomolecular film or built-up monomolecular film
BY15411C1 (ru) * 2008-12-04 2012-02-28

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3189899A4 *

Also Published As

Publication number Publication date
EP3189899A1 (en) 2017-07-12
EA032214B1 (ru) 2019-04-30
KR200488272Y1 (ko) 2019-01-04
JP3212074U (ja) 2017-08-24
EP3189899A4 (en) 2018-05-02
EP3189899B1 (en) 2020-07-15
KR20170000516U (ko) 2017-02-07
CN207430606U (zh) 2018-06-01
EA201700059A1 (ru) 2017-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5756160B2 (ja) ロールコータ
US20070231498A1 (en) Method and apparatus for two dimensional assembly of particles
US9044775B2 (en) System and process for coating an object
WO2016033674A1 (ru) Устройство для получения наноструктурированных покрытий на твердой поверхности
US5143745A (en) Intermittent film deposition method and system
EP1647334B1 (en) Apparatus for two dimensional assembly of particles
TWI542532B (zh) 用於在固體表面上形成奈米機構的塗層的裝置
EP3744772B1 (en) Method for manufacturing porous compact
AU2015200509B2 (en) Method of forming a film
JP4313979B2 (ja) 交互吸着膜の製造方法および製造装置
EP3017457A1 (en) Method and system for modifying a substrate using a plasma
KR20170120275A (ko) 교호 흡착막 형성을 위한 초음파 분무장치 및 이를 이용한 교호 흡착막의 제조방법
WO2021236819A1 (en) Lazarev reactor 2: continuous production process of films of two-dimensional polymers
Gaikar et al. The Langmuir-Blodgett method for metal oxide nanostructures
JP5007701B2 (ja) 交互吸着膜の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14901322

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2020177000001

Country of ref document: KR

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2017600028

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201700059

Country of ref document: EA

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2014901322

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2014901322

Country of ref document: EP