WO2015190012A1 - レーザシステム - Google Patents

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discharge
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博 梅田
武志 浅山
若林　理
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    • H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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    • H01S3/1305—Feedback control systems
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    • H01S3/22—Gases
    • H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
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    • H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA

Definitions

  • This disclosure relates to a laser system.
  • the laser annealing apparatus irradiates an amorphous (non-crystalline) silicon film formed on a substrate with a pulsed laser beam having a wavelength in the ultraviolet region output from a laser system such as an excimer laser, and modifies it to a polysilicon film.
  • a laser system such as an excimer laser
  • a TFT thin film transistor
  • This TFT is used for a relatively large liquid crystal display.
  • a laser system receives a trigger signal, a first delay signal indicating that a first delay time has elapsed from the time when the trigger signal is received, and a time when the trigger signal is received
  • a delay circuit unit that outputs a second delay signal indicating that the second delay time has elapsed; a first correction time from the time when the first delay signal is received and the first delay signal is received;
  • a first trigger correction unit that outputs a first switch signal indicating that a period of time elapses, a second delay signal is received, and a second correction time has elapsed since the second delay signal was received
  • a second trigger correction unit that outputs a second switch signal indicating a first laser device, a first capacitor, a first charger that applies a voltage to the first capacitor, 1 switch signal and receiving power from the first capacitor.
  • a first switch for generating a pulse; a first magnetic compression circuit for compressing a current pulse from a first capacitor; a first chamber containing a laser gas; and a first chamber disposed in the first chamber, A first pair of discharge electrodes connected to the magnetic compression circuit, a first discharge timing detector for detecting a discharge between the first pair of discharge electrodes and outputting a first discharge detection signal; A second laser device, a second capacitor, a second charger for applying a voltage to the second capacitor, and a second switch signal for receiving the second switch signal.
  • a second switch for generating a current pulse from the second capacitor, a second magnetic compression circuit for compressing the current pulse from the second capacitor, a second chamber containing a laser gas, and a second chamber Arranged and said second A second pair of discharge electrodes connected to the magnetic compression circuit, and a second discharge timing detector that detects a discharge between the second pair of discharge electrodes and outputs a second discharge detection signal.
  • a clock generator that generates a clock signal common to the second laser device, the delay circuit unit, the first trigger correction unit, and the second trigger correction unit. The unit receives the first discharge detection signal, and sets the first elapsed time from the reception of the first delay signal to the reception of the first discharge detection signal so that the first elapsed time approaches the first target value.
  • a laser system is a first laser apparatus that receives a trigger signal and indicates that a first delay time has elapsed since the trigger signal was received.
  • a first delay circuit unit that outputs a signal, and a first switch signal that indicates that a first correction time has elapsed since receiving the first delay signal and receiving the first delay signal.
  • a first clock generator that generates a common clock signal for the first trigger correction unit that outputs, the first delay circuit unit, and the first trigger correction unit; a first capacitor; A first charger for applying a voltage to the first capacitor; a first switch for receiving the first switch signal and generating a current pulse from the first capacitor; and from the first capacitor The first magnet that compresses the current pulse of A compression circuit; a first chamber containing laser gas; a first pair of discharge electrodes disposed in the first chamber and connected to the first magnetic compression circuit; and the first pair of discharges.
  • a first discharge timing detector for detecting a discharge between electrodes and outputting a first discharge detection signal; and a second laser apparatus, wherein the trigger signal is A second delay circuit unit for outputting a second delay signal indicating that a second delay time has elapsed since the reception of the trigger signal; and receiving the second delay signal; A second trigger correction unit that outputs a second switch signal indicating that a second correction time has elapsed since the reception of the second delay signal, the second delay circuit unit, and the second trigger And a second clock that generates a clock signal common to the correction unit.
  • a second magnetic compression circuit for compressing a current pulse from the second capacitor, a second chamber containing a laser gas, and the second magnetic compression circuit disposed in the second chamber.
  • a second pair of discharge electrodes connected to each other, and a second discharge timing detector that detects a discharge between the second pair of discharge electrodes and outputs a second discharge detection signal.
  • a second laser device wherein the first trigger correction unit receives the first discharge detection signal, receives the first delay signal, and then receives the first discharge detection signal. The first elapsed time until the first target value The first correction time is set so as to approach the first discharge time, and the second trigger correction unit receives the second discharge detection signal, receives the second delay signal, and then receives the second discharge.
  • the second correction time may be set so that the second elapsed time until the detection signal is received approaches the second target value.
  • FIG. 1 schematically shows a configuration of a laser annealing apparatus including a laser system according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 shows a configuration example of the laser apparatus shown in FIG.
  • FIG. 3 shows the configuration of the pulse power module shown in FIG. 2 and the internal configuration of the laser chamber as viewed from a direction substantially parallel to the traveling direction of the laser beam.
  • FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the synchronization control unit shown in FIG. 1 and its surroundings.
  • FIG. 5 is a timing chart in the laser system shown in FIG.
  • FIG. 6 is a timing chart of the first and second trigger correction units shown in FIG. FIG.
  • FIG. 7 is a timing chart showing a specific correction method in the nth trigger correction unit.
  • FIG. 8 is a flowchart showing processing of the laser system control unit shown in FIG.
  • FIG. 9 is a flowchart showing processing of the laser control unit shown in FIG.
  • FIG. 10 is a flowchart showing the processing of the nth trigger correction unit shown in FIG.
  • FIG. 11 illustrates a configuration example of a laser apparatus included in the laser system according to the second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 12 is a block diagram illustrating a configuration of the synchronization control unit and its periphery in the second embodiment.
  • FIG. 13 is a timing chart showing a specific correction method in the nth trigger correction unit of the second embodiment.
  • FIG. 14A is a flowchart illustrating processing of the nth trigger correction unit in the second embodiment.
  • FIG. 14B is a flowchart illustrating the processing of the nth trigger correction unit in the second embodiment.
  • FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration of a laser system according to the third embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 16 is a block diagram illustrating a configuration of a laser system according to the fourth embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 17 schematically illustrates a configuration of a laser annealing apparatus 1 including a laser system 5 according to the fifth embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 18 shows a specific configuration of the pulse waveform measuring instrument 6 shown in FIG.
  • FIG. 19 is a flowchart showing the processing of the laser system control unit 20 shown in FIG. FIG.
  • FIG. 20 is a flowchart showing details of processing for measuring and controlling the n-th pulse laser beam shown in FIG.
  • FIG. 21 is a flowchart showing details of a process for measuring the pulse waveform of the entire first to Nmaxth pulse laser beams shown in FIG.
  • FIG. 22 schematically illustrates the configuration of the optical path length adjuster illustrated in FIGS. 1 and 17.
  • FIG. 23 shows still another example of the beam forming device.
  • FIG. 24 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the control unit.
  • Laser annealing apparatus including a synchronization control unit (first embodiment) 2.1 Overview of Laser Device 2.2 Beam Luminator 2.3 Exposure Device 2.4 Controller 2.5 Details of Laser Device 2.6 Details of Synchronous Controller 2.7 Timing Chart 2.8 Flowchart 2.8 .1 Processing of laser system control unit 2.8.2 Processing of laser control unit 2.8.3 Processing of nth trigger correction unit Laser system including an amplifier (second embodiment) 3.1 Configuration of Laser Device 3.2 Details of Synchronization Control Unit 3.3 Timing Chart 3.4 Processing of nth Trigger Correction Unit Laser system in which each laser apparatus includes a trigger correction unit 4.1 Third Embodiment 4.2 Fourth Embodiment 5.
  • Laser system including pulse waveform measuring instrument (fifth embodiment) 5.1 Configuration 5.2 Pulse waveform measuring instrument 5.3 Control operation Others 6.1 Optical path length adjuster 6.2 Light flux generator using plane mirror 6.3 Configuration of control unit
  • Outline A laser annealing apparatus may perform laser annealing by irradiating an amorphous silicon film on a glass substrate with pulsed laser light at a predetermined energy density.
  • an increasingly large liquid crystal display is manufactured as in recent years, it may be required to increase the energy per pulse of the pulsed laser light in order to increase the irradiation area at a predetermined energy density.
  • the pulse laser beams respectively output from a plurality of laser devices may be converted into light fluxes.
  • the amorphous silicon film may be irradiated with a luminous laser beam that has been converted into a luminous flux.
  • the first trigger correction unit includes a first switch signal indicating that the first correction time Td (1) has elapsed since the reception of the first delay signal TR (1).
  • S (1) may be output.
  • the first required time from when the first switch signal S (1) is received to when the first pulse laser beam is generated may vary.
  • the first trigger correction unit sets the first correction time Td (1) so that the total time of the first correction time Td (1) and the first required time approaches the target value TRdt. May be.
  • the second trigger correction unit outputs a second switch signal S (2) indicating that the second correction time Td (2) has elapsed since the reception of the second delay signal TR (2). Also good.
  • the second required time from the time when the second switch signal S (2) is received to the time when the second pulsed laser beam is generated varies separately from the first required time. May be.
  • the second trigger correction unit sets the second correction time Td (2) so that the total time of the second correction time Td (2) and the second required time approaches the target value TRdt. May be.
  • FIG. 1 schematically shows a configuration of a laser annealing apparatus including a laser system according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the laser annealing apparatus 1 may include a laser system 5 and an exposure apparatus 4.
  • the laser system 5 includes first to fifth laser devices 2a to 2e, high reflection mirrors 30a to 30e, high reflection mirrors 35a to 35e, first to fifth optical path length adjusters 7a to 7e, a light beam
  • the conversion apparatus 3 may be included.
  • Each of the first to fifth laser devices 2a to 2e may be an excimer laser device using, for example, XeF, XeCl, KrF, or ArF as a laser medium.
  • the first to fifth laser devices 2a to 2e may have substantially the same configuration.
  • the first to fifth laser devices 2a to 2e may output the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e, respectively.
  • the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e may have an ultraviolet wavelength region.
  • the first to fifth optical path length adjusters 7a to 7e may be arranged in the optical paths of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e, respectively.
  • the first to fifth optical path length adjusters 7a to 7e are the first to fifth pulse laser beams from the output positions of the first to fifth laser devices 2a to 2e to the emission position of the beam splitter 3, respectively.
  • Each optical path length may be adjusted so that the optical path lengths of 21a to 21e are equal to each other.
  • the high reflection mirrors 30a to 30e and the high reflection mirrors 35a to 35e may be disposed in the optical paths of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e, respectively.
  • the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e may be guided to the beam splitter 3.
  • five laser devices are illustrated, but the number of laser devices is not particularly limited, and may be any number of two or more.
  • the luminous device 3 may include an incident optical system 33 and a beam combiner 34.
  • the incident optical system 33 includes a secondary light source optical system 31 and a condenser optical system 32, and may be designed to constitute Koehler illumination.
  • the secondary light source optical system 31 may include first to fifth concave lenses 31a to 31e.
  • the first concave lens 31a is an optical path of the first pulse laser beam 21a, and may be disposed between the first optical path length adjuster 7a and the condenser optical system 32.
  • the first concave lens 31a may expand the beam width of the first pulse laser beam 21a when transmitting the first pulse laser beam 21a toward the condenser optical system 32.
  • the first to fifth concave lenses 31a to 31e may have substantially the same configuration.
  • the second concave lens 31b may be disposed in the optical path of the second pulse laser beam 21b.
  • the third concave lens 31c may be disposed in the optical path of the third pulse laser beam 21c.
  • the fourth concave lens 31d may be disposed in the optical path of the fourth pulse laser beam 21d.
  • the fifth concave lens 31e may be disposed in the optical path of the fifth pulse laser beam 21e.
  • the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e incident on the first to fifth concave lenses 31a to 31e are laser beams having substantially the same beam shape and substantially the same beam divergence. May be.
  • the optical path axes of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e transmitted through the first to fifth concave lenses 31a to 31e may be substantially parallel to each other.
  • the “optical path axis” of the pulse laser beam means the central axis of the optical path of the pulse laser beam.
  • the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e are incident on substantially the same region on the incident surface of the beam combiner 34, and at respective predetermined incident angles. You may arrange
  • the condenser optical system 32 may be an area extending over the optical paths of the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e, and may be disposed at a position between the secondary light source optical system 31 and the beam combiner 34.
  • the condenser optical system 32 can transmit the first to fifth pulse laser beams 21 a to 21 e toward the beam combiner 34. At this time, the condenser optical system 32 can change the directions of the optical path axes of the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e to respective predetermined directions.
  • the condenser optical system 32 may be arranged so that the position of the front focal plane of the condenser optical system 32 substantially coincides with the position of the focal point of each of the first to fifth concave lenses 31a to 31e. Accordingly, the condenser optical system 32 can collimate the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e transmitted through the first to fifth concave lenses 31a to 31e, respectively, so as to be substantially parallel beams.
  • the condenser optical system 32 may be arranged so that the position of the rear focal plane of the condenser optical system 32 substantially coincides with the position of the incident side surface of the beam combiner 34. Accordingly, the condenser optical system 32 can cause the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e to be incident on substantially the same region of the beam combiner 34 at respective predetermined incident angles.
  • the condenser optical system 32 is illustrated as including one convex lens, but may include a combination with another convex lens or a concave lens (not illustrated), a concave mirror, or the like.
  • the beam combiner 34 may include a diffractive optical element (DOE).
  • DOE diffractive optical element
  • This diffractive optical element may be one in which grooves having a predetermined shape are formed at predetermined intervals on a substrate that transmits ultraviolet light, such as a synthetic quartz or calcium fluoride substrate.
  • the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e whose optical path axes are changed in a predetermined direction by the condenser optical system 32 can enter the beam combiner 34.
  • the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e incident on the beam combiner 34 can be emitted from the beam combiner 34 in substantially the same direction. That is, the predetermined direction described above may be a direction in which the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e are coupled by the beam combiner 34.
  • a beam combiner 34 for example, a diffractive optical element disclosed in US Patent Application Publication No. 2009/0285076 may be used.
  • the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e emitted from the beam combiner 34 may enter the exposure apparatus 4 through substantially the same optical path.
  • the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e may be converted into a light beam by the light beam generator 3.
  • a pulse laser beam in which a plurality of pulse laser beams are bundled may be referred to as a light beam laser beam 21.
  • the luminous laser beam 21 may have a pulse energy about five times that of the pulse laser beam output from one laser device.
  • “Making the plurality of pulsed laser beams into a luminous flux” may include superposing optical paths of the plurality of pulsed laser beams.
  • “pluralizing” a plurality of pulse laser beams may include emitting a plurality of pulse laser beams in close proximity to an optical path, as will be described later with reference to FIG.
  • the exposure apparatus 4 may include a high reflection mirror 41, an illumination optical system 42, a mask 43, and a transfer optical system 44.
  • the exposure apparatus 4 may form the light beam laser beam 21 emitted from the laser system 5 into a predetermined mask pattern and irradiate the irradiated object P.
  • the high reflection mirror 41 may be disposed in the optical path of the light beam laser beam 21 emitted from the laser system 5.
  • the high reflection mirror 41 may reflect the light beam laser beam 21 and make it incident on the illumination optical system 42.
  • the luminous laser beam 21 incident on the illumination optical system 42 may be substantially parallel light.
  • the illumination optical system 42 is an optical path of the light beam laser beam 21 and may be disposed between the high reflection mirror 41 and the mask 43.
  • the illumination optical system 42 includes a fly-eye lens 421 and a condenser optical system 422, and may be designed to constitute Koehler illumination.
  • the fly-eye lens 421 is an optical path of the light beam laser beam 21 and may be disposed between the high reflection mirror 41 and the condenser optical system 422.
  • the fly-eye lens 421 may include a plurality of lenses arranged along the cross section of the light beam laser beam 21. Each of the plurality of lenses may enlarge the beam width of each part of the light flux laser beam 21 when passing the part toward the condenser optical system 422.
  • the condenser optical system 422 is an optical path of the light beam laser beam 21 and may be disposed between the fly-eye lens 421 and the mask 43.
  • the condenser optical system 422 may illuminate the light beam laser beam 21 emitted from the fly-eye lens 421 toward the mask 43.
  • the condenser optical system 422 may be arranged so that the position of the rear focal plane of the condenser optical system 422 substantially coincides with the position of the mask 43. Therefore, the condenser optical system 422 can make the luminous laser beams 21 transmitted through each of the plurality of lenses included in the fly-eye lens 421 enter substantially the same region of the mask 43.
  • the condenser optical system 422 is illustrated as including one convex lens, but may include a combination with another convex lens or a concave lens (not illustrated), a concave mirror, or the like.
  • the illumination optical system 42 may reduce variations in the light intensity distribution in the beam cross section of the light beam laser beam 21 irradiated on the mask 43.
  • the mask 43 may be a slit in which a rectangular opening is formed.
  • the opening shape of the slit can constitute a mask pattern of the mask 43.
  • the mask pattern of the mask 43 is not limited to a rectangular shape, and may be a pattern having a desired shape.
  • the transfer optical system 44 is an optical path of the light beam laser beam 21 and may be disposed between the mask 43 and the irradiated object P.
  • the transfer optical system 44 may be arranged so that the position of the image of the mask 43 formed by the transfer optical system 44 substantially coincides with the irradiated position of the irradiated object P. Thereby, the transfer optical system 44 may transfer the mask pattern of the mask 43 irradiated with the light beam laser beam 21 to the irradiated object P.
  • the transfer optical system 44 may include one or a plurality of convex lenses.
  • the transfer optical system 44 is not limited to one or a plurality of convex lenses, and may include, for example, a combination of a convex lens and a concave lens, a concave mirror, or the like.
  • the transfer optical system 44 may be configured by a cylindrical lens that transfers only the short direction of the rectangular mask pattern to the irradiation object P.
  • the laser system 5 can output the luminous laser beam 21 having higher pulse energy than the pulse laser beam output from one laser device.
  • the laser annealing apparatus 1 can irradiate the irradiated object P with the luminous laser beam 21 with a predetermined pulse energy density required for annealing and a wide irradiation area. And it may be possible to efficiently manufacture a large area liquid crystal display.
  • the exposure apparatus 4 may include an exposure apparatus control unit 40.
  • the exposure apparatus control unit 40 may perform control such as movement of a stage (not shown) for holding the irradiation object P and replacement of the irradiation object P and the mask 43.
  • the exposure apparatus control unit 40 may output a trigger signal TR to the laser system control unit 20.
  • the laser system 5 may include a laser system control unit 20 and a synchronization control unit 22.
  • the laser system control unit 20 may transmit the trigger signal TR received from the exposure apparatus control unit 40 to the synchronization control unit 22.
  • the synchronization control unit 22 Based on the trigger signal TR received from the laser system control unit 20, the synchronization control unit 22 sends the first to fifth switch signals S (1) to S (5) to the first to fifth laser devices 2a to 2a, respectively. 2e may be transmitted.
  • the first to fifth laser devices 2a to 2e may output pulsed laser light based on the respective switch signals received from the synchronization control unit 22.
  • FIG. 2 shows a configuration example of the laser device shown in FIG.
  • the first laser device 2a may include a laser chamber 10, a pair of discharge electrodes 11a and 11b, a charger 12, and a pulse power module (PPM) 13.
  • the first laser device 2a may further include a high reflection mirror 14, an output coupling mirror 15, a pulse energy measurement unit 17, and a laser control unit 19.
  • the configurations of the second to fifth laser devices 2b to 2e may be the same.
  • FIG. 2 shows the internal configuration of the laser chamber 10 as viewed from the direction perpendicular to both the traveling direction of the pulsed laser light 21a and the discharge direction between the pair of discharge electrodes 11a and 11b.
  • the laser chamber 10 may be a chamber in which a laser gas as a laser medium containing, for example, argon, krypton, or xenon as a rare gas, neon or helium as a buffer gas, chlorine, fluorine, or the like as a halogen gas is enclosed.
  • the pair of electrodes 11a and 11b may be disposed in the laser chamber 10 as electrodes for exciting the laser medium by discharge.
  • An opening may be formed in the laser chamber 10, and the opening may be closed by the electrical insulating portion 29.
  • the electrode 11a may be supported by the electrical insulating portion 29, and the electrode 11b may be supported by the return plate 10d.
  • the return plate 10d may be connected to the inner surface of the laser chamber 10 by wirings 10e and 10f described later with reference to FIG.
  • the electrically insulating portion 29 may be embedded with a conductive portion 29a.
  • the conductive part 29a may apply a high voltage supplied from the pulse power module 13 to the electrode 11a.
  • the charger 12 may be a DC power supply that charges a charging capacitor C0 (described later) in the pulse power module 13 with a predetermined voltage.
  • the pulse power module 13 may include a switch 13 a controlled by the laser control unit 19. When the switch 13a is turned from OFF to ON, the pulse power module 13 generates a pulsed high voltage from the electric energy held in the charging capacitor C0, and applies this high voltage between the pair of electrodes 11a and 11b. Also good.
  • Windows 10 a and 10 b may be provided at both ends of the laser chamber 10.
  • the light generated in the laser chamber 10 can be emitted to the outside of the laser chamber 10 through the windows 10a and 10b.
  • the high reflection mirror 14 may reflect the light emitted from the window 10 a of the laser chamber 10 with a high reflectance and return it to the laser chamber 10.
  • the output coupling mirror 15 may transmit a part of the light output from the window 10 b of the laser chamber 10 and output it, and may reflect the other part and return it to the laser chamber 10.
  • an optical resonator can be configured by the high reflection mirror 14 and the output coupling mirror 15.
  • the light emitted from the laser chamber 10 reciprocates between the high reflection mirror 14 and the output coupling mirror 15 and can be amplified every time it passes through the laser gain space between the electrode 11a and the electrode 11b. A part of the amplified light can be output as pulsed laser light 21 a via the output coupling mirror 15.
  • the pulse energy measuring unit 17 may be disposed in the optical path of the pulsed laser light 21a output via the output coupling mirror 15.
  • the pulse energy measurement unit 17 may include a beam splitter 17a, a condensing optical system 17b, and an optical sensor 17c.
  • the beam splitter 17a may transmit the pulse laser beam 21a with a high transmittance and reflect a part of the pulse laser beam 21a toward the condensing optical system 17b.
  • the condensing optical system 17b may condense the pulse laser beam reflected by the beam splitter 17a on the light receiving surface of the optical sensor 17c.
  • the optical sensor 17 c may detect the pulse energy of the pulsed laser light focused on the light receiving surface and output data of the detected pulse energy to the laser control unit 19.
  • the laser control unit 19 may send and receive various signals to and from the laser system control unit 20 described above.
  • the laser control unit 19 may receive a trigger signal, target pulse energy data, and the like from the laser system control unit 20. Further, the laser control unit 19 may receive pulse energy data from the pulse energy measurement unit 17.
  • the laser control unit 19 controls the set value of the charging voltage of the charger 12 with reference to the target pulse energy data received from the laser system control unit 20 and the pulse energy data received from the pulse energy measurement unit 17. May be.
  • the pulse energy of the laser beam may be controlled by controlling the charging voltage of the charger 12.
  • FIG. 3 shows the configuration of the pulse power module shown in FIG. 2 and the internal configuration of the laser chamber as viewed from a direction substantially parallel to the traveling direction of the laser beam.
  • the conductive member including the wall surface of the laser chamber 10 may be connected to a ground potential.
  • the electrode 11b may be connected to the ground potential via the return plate 10d, the wirings 10e and 10f, and the wall surface of the laser chamber 10.
  • the first laser device 2 a may include a discharge sensor 18.
  • the discharge sensor 18 may include a window 10 c attached to the laser chamber 10, a condensing optical system 181, and an optical sensor 182.
  • the discharge sensor 18 may correspond to a discharge timing detector.
  • the window 10c may transmit light generated by the discharge between the pair of electrodes 11a and 11b.
  • the condensing optical system 181 may condense the light transmitted through the window 10 c on the light receiving surface of the optical sensor 182.
  • the optical sensor 182 may include a photodiode or a phototube.
  • the optical sensor 182 may transmit a discharge detection signal to the synchronization control unit 22 by detecting light generated by the discharge between the pair of electrodes 11a and 11b.
  • the pulse power module 13 includes a charging capacitor C0, a switch 13a, a step-up transformer TC1 as a magnetic compression circuit, a plurality of magnetic switches Sr1 to Sr3, and a plurality of capacitors C1, C2, and C3. Also good.
  • any of the magnetic switches Sr1 to Sr3 may include a saturable reactor.
  • Each of the magnetic switches Sr1 to Sr3 may have a low impedance when the time integration value of the voltage applied to both ends thereof reaches a predetermined value determined by the characteristics of each magnetic switch.
  • the charging voltage V (n) may be set in the charger 12 by the laser control unit 19.
  • the charger 12 may charge the charging capacitor C0 based on the set charging voltage V (n).
  • a switch signal may be input to the switch 13 a of the pulse power module 13 by the synchronization control unit 22. When the switch signal is input to the switch 13a, the switch 13a may be turned on. When the switch 13a is turned on, a current can flow from the charging capacitor C0 to the primary side of the step-up transformer TC1.
  • the magnetic switch Sr1 When the time integral value of the voltage applied to the magnetic switch Sr1 reaches a threshold value, the magnetic switch Sr1 becomes magnetically saturated and the magnetic switch Sr1 can be closed. When the magnetic switch Sr1 is closed, a current flows from the secondary side of the step-up transformer TC1 to the capacitor C1, and the capacitor C1 can be charged.
  • the magnetic switch Sr2 When the capacitor C1 is charged, the magnetic switch Sr2 eventually becomes magnetically saturated and the magnetic switch Sr2 can be closed. When the magnetic switch Sr2 is closed, a current flows from the capacitor C1 to the capacitor C2, and the capacitor C2 can be charged. At this time, the capacitor C2 may be charged with a pulse width shorter than the pulse width of the current when the capacitor C1 is charged.
  • the magnetic switch Sr3 When the capacitor C2 is charged, the magnetic switch Sr3 eventually becomes magnetically saturated and the magnetic switch Sr3 can be closed. When the magnetic switch Sr3 is closed, a current flows from the capacitor C2 to the capacitor C3, and the capacitor C3 can be charged. At this time, the capacitor C3 may be charged with a pulse width shorter than the pulse width of the current when the capacitor C2 is charged.
  • the pulse width of the current can be compressed by sequentially flowing the current from the capacitor C1 to the capacitor C2 and from the capacitor C2 to the capacitor C3.
  • the pulse laser beam may be output at a predetermined oscillation frequency.
  • an ammeter 18b that detects a discharge current may be used. This ammeter 18b is a current probe, and may detect the timing of discharge.
  • an output signal of pulse laser light from the pulse energy measuring unit 17 may be used. The timing signal of the discharge sensor or the output signal of the pulse laser beam may be input to the synchronization control unit 22 described later as a discharge detection signal.
  • FIG. 4 is a block diagram showing the configuration of the synchronization control unit shown in FIG. 1 and its surroundings.
  • the synchronization control unit 22 may include first to fifth trigger correction units 22a to 22e, a clock generator 23, and a delay circuit unit 24.
  • Each of the first to fifth trigger correction units 22a to 22e may include a processing unit 25, a delay circuit 26, and a timer 27.
  • FIG. 4 shows the configuration of the first and second trigger correction units 22a and 22b, and the description of the third to fifth trigger correction units 22c to 22e is omitted as appropriate. It's okay.
  • each of the first to fifth laser devices 2a to 2e includes a pair of discharge electrodes 11, a charger 12, a pulse power module 13, a discharge sensor 18, and a laser control unit 19. And may be included.
  • the configurations of the first and second laser devices 2a and 2b are shown, and the description of the third to fifth laser devices 2c to 2e is omitted as appropriate, but these may be the same. .
  • the synchronization control unit 22 receives data of the first delay time TRd (1) of the first delay signal TR (1) from the laser system control unit 20 and the second delay of the second delay signal TR (2). Data of time TRd (2) may be received.
  • the clock generator 23 may generate a clock signal common to the first to fifth trigger correction units 22 a to 22 e and the delay circuit unit 24.
  • the delay circuit unit 24 may receive the trigger signal TR output from the laser system control unit 20.
  • the delay circuit unit 24 receives the first delay signal TR (1) indicating that the first delay time TRd (1) (see FIGS. 5 and 6) has elapsed since the reception of the trigger signal TR. May be output to the delay circuit 26 and the timer 27 of the trigger correction unit 22a.
  • the delay circuit unit 24 receives the second delay signal TR (2) indicating that the second delay time TRd (2) (see FIGS. 5 and 6) has elapsed since the reception of the trigger signal TR. May be output to the delay circuit 26 and the timer 27 of the trigger correction unit 22b.
  • the delay circuit 26 of the first trigger correction unit 22a is a first that indicates that the first correction time Td (1) (see FIG. 6) has elapsed since the reception of the first delay signal TR (1).
  • the switch signal S (1) may be output to the pulse power module 13 of the first laser device 2a.
  • the first correction time Td (1) may be set by the processing unit 25 of the first trigger correction unit 22a.
  • the delay circuit 26 of the second trigger correction unit 22b is a second that indicates that the second correction time Td (2) (see FIG. 6) has elapsed since the second delay signal TR (2) was received.
  • the switch signal S (2) may be output to the pulse power module 13 of the second laser device 2b.
  • the second correction time Td (2) may be set by the processing unit 25 of the second trigger correction unit 22b.
  • the laser control unit 19 may receive target pulse energy data from the laser system control unit 20.
  • the laser control unit 19 may calculate a set value of the charging voltage based on the target pulse energy data.
  • the laser control unit 19 may transmit the set value of the charging voltage to the charger 12 and the processing unit 25 of the corresponding trigger correction unit.
  • the charger 12 may charge the charging capacitor C0 in the pulse power module 13 according to the set value of the charging voltage.
  • the pulse power module 13 may be configured to include the magnetic compression circuit described with reference to FIG.
  • the pulse power modules 13 of the first and second laser devices 2a and 2b may receive the first and second switch signals S (1) and S (2) output from the delay circuit 26, respectively. .
  • the switch 13a of the pulse power module 13 of the first and second laser devices 2a and 2b may be switched from OFF to ON by switch signals S (1) and S (2), respectively.
  • the pulse power module 13 may generate a pulsed high voltage from the electric energy held in the charging capacitor C0. This high voltage may be applied to the pair of discharge electrodes 11.
  • the pair of discharge electrodes 11 When a high voltage is applied to the pair of discharge electrodes 11, the pair of discharge electrodes 11 is broken down and discharge may occur.
  • the light emitted from the laser medium excited by the energy of the discharge is reciprocated by the above-described optical resonator, whereby pulse laser light can be generated.
  • the discharge sensors 18 of the first and second laser devices 2a and 2b detect discharges generated between the pair of discharge electrodes 11, and first and second discharge detection signals DS (1) and DS (2), respectively. May be output.
  • the first and second discharge detection signals DS (1) and DS (2) may be input to the timers 27 of the first and second trigger correction units 22a and 22b, respectively.
  • the timer 27 of the first trigger correction unit 22a receives a first elapsed time TRdm (from the time when the first delay signal TR (1) is received until the time when the first discharge detection signal DS (1) is received. 1) may be measured and transmitted to the processing unit 25.
  • the timer 27 of the second trigger correction unit 22b receives a second elapsed time TRdm (from when the second delay signal TR (2) is received until when the second discharge detection signal DS (2) is received. 2) may be measured and transmitted to the processing unit 25.
  • the processing unit 25 of the first trigger correction unit 22a includes the set value of the charging voltage transmitted from the laser control unit 19 of the first laser device 2a and the first elapsed time TRdm (1) transmitted from the timer 27. Based on the above, the first correction time Td (1) may be set.
  • the processing unit 25 of the second trigger correction unit 22b includes the set value of the charging voltage transmitted from the laser control unit 19 of the second laser apparatus 2b and the second elapsed time TRdm (2) transmitted from the timer 27. Based on the above, the second correction time Td (2) may be set.
  • FIG. 5 is a timing chart in the laser system shown in FIG.
  • the laser system control unit 20 may transmit the trigger signal TR received from the exposure apparatus control unit 40 to the synchronization control unit 22.
  • the delay circuit unit 24 of the synchronization control unit 22 may output the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5) to the first to fifth trigger correction units 22a to 22e, respectively.
  • the first to fifth delay signals may each indicate that different first to fifth delay times TRd (1) to TRd (5) have elapsed since the trigger signal TR was received.
  • the time from the output timing of the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5) to the output timing of the first to fifth discharge detection signals DS (1) to DS (5) is almost equal to each other. It is desirable to be controlled to be equal.
  • the first to fifth discharge detection signals DS (1) to DS (5) are output with substantially the same time difference as the time difference between the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5). Can be done.
  • the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e may be output from the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively.
  • the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e are substantially the same timing as the first to fifth discharge detection signals DS (1) to DS (5), respectively, or the first to fifth discharge detection signals.
  • the signals may be output at timing slightly delayed from DS (1) to DS (5).
  • the optical path lengths from the respective output positions of the first to fifth laser devices 2a to 2e to the emission position of the beam forming device 3 may be adjusted to be substantially equal to each other as described above.
  • the laser beam 21 emitted from the beam splitter 3 has the first to fifth pulses having the same time difference as the time difference between the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5).
  • the laser beams 21a to 21e may be combined. By controlling the timing of the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5), the pulse waveform of the light beam laser beam 21 can be adjusted.
  • FIG. 6 is a timing chart of the first and second trigger correction units shown in FIG.
  • the third to fifth delay signals TR (3) to TR (5) output from the third to fifth trigger correction units 22c to 22e and the third to fifth laser devices 2c to 2e are output.
  • the third to fifth discharge detection signals DS (3) to DS (5) output by are not shown.
  • the first delay signal TR (1) and the second delay signal TR (2) may have a predetermined time difference.
  • the first required time from the time when the first laser device 2a receives the first switch signal S (1) to the time when the first pulse laser beam is generated is the first laser device 2a. It may vary depending on the charging voltage of the charger 12.
  • the second required time from the time when the second laser device 2b receives the second switch signal S (2) to the time when the second pulse laser beam is generated is the charger 12 of the second laser device 2b.
  • the charging voltage may vary. These charging voltages can be controlled separately by the first laser device 2a and the second laser device 2b. Accordingly, the first required time and the second required time can vary separately from each other. In addition, the first required time and the second required time can vary depending on the temperature of the magnetic compression circuit included in each pulse power module 13.
  • the first elapsed time TRdm (1) from the time when the timer 27 receives the first delay signal TR (1) to the time when the first discharge detection signal DS (1) is received is the first correction time. It may correspond to the total time of Td (1) and the first required time.
  • the second elapsed time TRdm (2) from the time when the timer 27 receives the second delay signal TR (2) to the time when the second discharge detection signal DS (2) is received is the second correction time. It may correspond to the total time of Td (2) and the second required time.
  • the first pulsed laser beam 21a and the second pulsed laser beam 21b can be generated with substantially the same time difference.
  • FIG. 7 is a timing chart showing a specific correction method in the nth trigger correction unit.
  • each of the first to fifth trigger correction units 22a to 22e may be referred to as an nth trigger correction unit 22n.
  • the signal input or output by the nth trigger correction unit 22n is indicated with (n), or the time set in the nth trigger correction unit 22n is indicated with (n). is there.
  • the nth correction time Td (n) may be calculated by the following equation.
  • Td (n) Td0 (n) + ⁇ TV (n)
  • Td0 (n) may be the first correction element
  • ⁇ TV (n) may be the second correction element.
  • the initial value of the first correction element Td0 (n) may be set by the following equation.
  • Initial value of Td0 (n) TRdt ⁇ F (V0 (n))
  • TRdt may be a target value of the nth elapsed time TRdm (n).
  • the nth elapsed time TRdm (n) is an elapsed time from when the timer 27 receives the nth delay signal TR (n) to when the timer 27 receives the nth discharge detection signal DS (n). Also good.
  • the target value TRdt of the nth elapsed time TRdm (n) is a value common to the first to fifth trigger correction units 22a to 22e will be described, but different target values are set. You may do it.
  • F (V0 (n)) is the nth switch signal S (when the value of the charging voltage set in the nth laser device 2n is a predetermined reference voltage value V0 (n). It may be a calculated value of the required time from the input of n) to the output of the nth discharge detection signal DS (n).
  • the charging voltage V and the nth switch signal S (n) are input to the switch 13a.
  • the product of the required time T until the pulsed high voltage is applied between the discharge electrodes 11 can be a substantially constant value K. Accordingly, the calculation of F (V0 (n)) may be performed by the following equation.
  • F (V0 (n)) K / V0 (n) V0 (n) may be a reference voltage value.
  • the second correction element ⁇ TV (n) F (V0 (n)) ⁇ F (V (n))
  • F (V (n)) is the number from the input of the nth switch signal S (n) when the voltage value of the charging voltage set in the nth laser device 2n is V (n). It may be a calculated value of the time required until n discharge detection signals DS (n) are output.
  • the calculation of F (V (n)) may be performed by the following equation.
  • F (V (n)) K / V (n)
  • the timing control of the nth switch signal S (n) is performed at high speed. Can do.
  • the processing unit 25 of the nth trigger correction unit 22n receives the nth discharge detection signal DS (n) from when the timer 27 receives the nth delay signal TR (n).
  • the difference ⁇ TRd (n) from the target value TRdt may be calculated.
  • the first correction element Td0 (n) may be updated by the following equation.
  • Td0 (n) Td0 (n) ⁇ TRd (n)
  • the timing control of the nth switch signal S (n) can be performed with high accuracy.
  • a change in discharge timing due to a change in temperature of the magnetic compression circuit, a change in gas pressure in the laser chamber, or the like is defined as “drift change”.
  • FIG. 8 is a flowchart showing processing of the laser system control unit shown in FIG.
  • the laser system control unit 20 performs the following processing on the target pulse energy Et (n) and the nth delay for each of the nth pulse laser beams 21n output from the first to fifth laser apparatuses 2a to 2e.
  • the time TRd (n) may be calculated.
  • the laser system control unit 20 receives the target pulse waveform data of the light beam laser beam 21 and the target pulse energy data of the light beam laser beam 21 from the exposure device control unit 40 of the exposure apparatus 4. May be.
  • the laser system control unit 20 may calculate the target pulse energy Et (n) and the nth delay time TRd (n) for each of the nth pulsed laser beams 21n. For example, when the target pulse waveform of the light beam laser beam 21 has a short pulse width, each of the nth delay times TRd (n) may be a value close to each other.
  • the target pulse energy Et (n) of the n-th pulse laser beam 21n is adjusted so that the total of the target pulse energy Et (n) of the n-th pulse laser beam 21n approaches the target pulse energy of the light beam laser beam 21. n) may be determined.
  • the laser system control unit 20 may transmit the respective values to the laser control unit 19 of the corresponding laser device. After calculating the nth delay time TRd (n) for each of the nth pulse laser beams 21n, the laser system control unit 20 may transmit these values to the delay circuit unit 24 of the synchronization control unit 22. .
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not to change the target pulse waveform of the luminous laser beam 21 and the target pulse energy of the luminous laser beam 21. When changing these values (S113; YES), the laser system control unit 20 may return the process to S102 described above. When not changing (S113; NO), the laser system control part 20 may advance a process to S114.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not to stop the control of the pulse waveform.
  • the laser system control unit 20 may return the process to S113 described above.
  • the laser system control unit 20 may end the process of this flowchart.
  • the laser system control unit 20 may calculate the target pulse energy Et (n) and the nth delay time TRd (n).
  • FIG. 9 is a flowchart showing processing of the laser control unit shown in FIG.
  • the laser control unit 19 included in each of the first to fifth laser devices 2a to 2e may calculate the set value V (n) of the charging voltage based on the target pulse energy Et (n) by the following process. Good.
  • the laser control unit 19 may set the setting value V (n) of the charging voltage of the laser device 2n to an initial value.
  • the initial value of the setting value of the charging voltage may be the above-described reference voltage value V0 (n).
  • the laser control unit 19 may read the target pulse energy Et (n) of the laser device 2 (n) from the laser system control unit 20.
  • the laser control unit 19 may determine whether or not the laser device 2 (n) oscillates. When the laser device 2 (n) does not oscillate (S203; NO), the laser control unit 19 may stand by until laser oscillation occurs. When the laser apparatus 2 (n) performs laser oscillation (S203; YES), the laser control unit 19 may advance the process to S204.
  • the laser control unit 19 may detect the pulse energy E (n) of the pulsed laser light 21n output from the laser device 2n.
  • the pulse energy E (n) may be detected by the pulse energy measuring unit 17.
  • the laser control unit 19 may calculate a difference ⁇ E (n) between the detected pulse energy E (n) and the target pulse energy Et (n) by the following equation.
  • ⁇ E (n) E (n) ⁇ Et (n)
  • the laser control unit 19 may calculate the change amount ⁇ V (n) of the set value of the charging voltage based on the difference ⁇ E (n) from the target pulse energy by the following equation.
  • ⁇ V (n) H ⁇ ⁇ E (n)
  • H may be a proportionality constant.
  • the change amount ⁇ V (n) of the set value of the charging voltage may indicate how much the set value of the next charging voltage should be changed.
  • the laser control unit 19 may calculate the set value V (n) of the next charging voltage using the following equation.
  • V (n) V (n) + ⁇ V (n)
  • the laser control unit 19 may transmit the set value V (n) of the next charging voltage to the charger 12 and the processing unit 25 of the nth trigger correction unit 22n.
  • the laser control unit 19 may determine whether or not to change the target pulse energy Et (n).
  • the laser control unit may return the process to S202 described above.
  • the target pulse energy Et (n) is not changed (S208; NO)
  • the laser control unit may return the process to S203 described above.
  • the laser control unit 19 may calculate the set value V (n) of the charging voltage.
  • FIG. 10 is a flowchart showing processing of the nth trigger correction unit shown in FIG.
  • the nth trigger correction unit 22n may calculate the first correction element Td0 (n) and the second correction element ⁇ TV (n) constituting the nth correction time Td (n) by the following process. Good.
  • J may be a counter for counting the number of oscillation pulses.
  • TRdmsum (n) is an nth elapsed time TRdm (n) from the time when the timer 27 receives the nth delay signal TR (n) to the time when the nth discharge detection signal DS (n) is received. It may be a total value of TRdm (n) for calculating an average value.
  • Td0 (n) may be a first correction element
  • TRdt-F (V0 (n)) may be an initial value of the first correction element described above.
  • the nth trigger correction unit 22n may read the set value V (n) of the charging voltage from the laser control unit 19.
  • the nth trigger correction unit 22n may calculate the second correction element ⁇ TV (n) by the following equation based on the set value V (n) of the charging voltage.
  • ⁇ TV (n) F (V0 (n)) ⁇ F (V (n))
  • the nth trigger correction unit 22n may calculate the nth correction time Td (n) by the following equation.
  • Td (n) Td0 (n) + ⁇ TV (n)
  • Td0 (n) may be a first correction element
  • ⁇ TV (n) may be a second correction element.
  • the nth trigger correction unit 22n may determine whether or not the nth laser device 2n has oscillated. Whether or not the nth laser device 2n has oscillated may be determined based on whether or not the timer 27 has received the discharge detection signal DS (n) from the discharge sensor 18.
  • the nth trigger correction unit 22n may advance the process to S307.
  • the n-th trigger correction unit 22n may stand by until the n-th laser device 2n oscillates.
  • the nth trigger correction unit 22n may update the value of J by adding 1 to the current value of the counter J.
  • the nth trigger correction unit 22n performs the operation from the time when the timer 27 receives the nth delay signal TR (n) to the time when the nth discharge detection signal DS (n) is received.
  • the elapsed time TRdm (n) of n may be read from the timer 27.
  • the nth trigger correction unit 22n may update the total value TRdmsum (n) of TRdm (n) by the following equation.
  • TRdmsum (n) TRdmsum (n) + TRdm (n)
  • the nth trigger correction unit 22n may determine whether or not the value of the counter J has reached a predetermined number of samples Jmax. When the value of the counter J has not reached the predetermined number of samples Jmax (S312; NO), the nth trigger correction unit 22n may return the process to S302 described above. When the value of the counter J reaches the predetermined number of samples Jmax (S312; YES), the nth trigger correction unit 22n may advance the process to S313.
  • the nth trigger correction unit 22n may calculate a difference ⁇ TRd (n) between the average value of TRdm (n) and the target value TRdt.
  • the nth trigger correction unit 22n may update the first correction element Td0 (n) by the following equation.
  • Td0 (n) Td0 (n) ⁇ TRd (n)
  • the nth trigger correction unit 22n may return the process to S302 described above.
  • the nth trigger correction unit 22n calculates the nth correction time Td (n) while updating the first correction element Td0 (n) and the second correction element ⁇ TV (n). May be.
  • the second correction element ⁇ TV (n) may be updated for each pulse oscillation as described above.
  • the first correction element Td0 (n) may be updated for each pulse oscillation of the predetermined number of samples Jmax.
  • the predetermined number of samples Jmax may be, for example, 200 to 10,000 times.
  • the frequency of the setting process for setting the nth correction time Td (n) by updating the first correction element Td0 (n) is the nth correction by updating the second correction element ⁇ TV (n). It may be smaller than the frequency of the setting process for setting the time Td (n).
  • the nth trigger correction unit 22n corrects the nth correction time Td (n) according to the fluctuation of the nth required time, whereby the nth elapsed time TRdm ( n) can be brought close to the target value TRdt. Specifically, it is possible to control the correction time based on the charging voltage of the charger 12 and to control the correction time according to the fluctuation of the nth required time due to the drift change. Thereby, the discharge timing of each laser device can be stabilized, and the pulse waveform of the light beam laser beam can be stabilized.
  • the delay circuit unit 24 controls the pulse waveform of the light beam laser beam by controlling the nth delay time TRd (n), the control is performed separately from the control by the nth trigger correction unit 22n. Can do.
  • the clock generator 23 generates a clock signal common to the first to fifth trigger correction units 22 (1) to 22 (5) and the delay circuit unit 24. is doing. Thereby, the mutual error of each delay time TRd (n) or correction time Td (n) can be reduced.
  • the electrical signal can be delayed by 1 / c. c may be the speed of light. Therefore, the delay of the signal may be corrected from the length of the electric wire of each switch signal S (n) and the timing signal of each discharge sensor. Further, even if communication is performed using an optical fiber instead of wiring, a similar delay may occur, and this correction may be performed.
  • the pulse waveform of the light beam laser beam is controlled by the delay circuit unit 24 controlling the nth delay time TRd (n).
  • the present invention is limited to this embodiment.
  • the following configuration may be used.
  • a distributor that distributes the trigger signal TR from the exposure apparatus control unit 40 without delay is disposed, and different target values TRdt (n) are respectively provided in the trigger correction units 22n corresponding to the laser devices. ) May be set to control the timing of the pulse laser beam output from each laser device.
  • the laser system control unit 20, the synchronization control unit 22, and the laser control unit 19 of each laser device control the laser device, but the present disclosure is not limited to this.
  • the exposure apparatus control unit 40 included in the exposure apparatus 4 may perform various controls.
  • FIG. 11 illustrates a configuration example of a laser device included in a laser system according to the second embodiment of the present disclosure.
  • the overall configuration of the laser annealing apparatus 1 may be the same as that shown in FIG.
  • the first laser device 2a may include a master oscillator MO and an amplifier PA.
  • the configurations of the second to fifth laser devices 2b to 2e may be the same.
  • the master oscillator MO may include a laser chamber 10mo, a pair of electrodes 11a and 11b, a charger 12mo, and a pulse power module 13mo.
  • the master oscillator MO may further include a high reflection mirror 14, an output coupling mirror 15, and a discharge sensor 18mo.
  • the amplifier PA may be disposed in the optical path of the pulsed laser beam output from the master oscillator MO through the output coupling mirror 15.
  • the amplifier PA may include a laser chamber 10pa, a pair of electrodes 11a and 11b, a charger 12pa, a pulse power module 13pa, and a discharge sensor 18pa. These configurations may be the same as those included in the master oscillator MO.
  • the amplifier PA may not include the high reflection mirror 14 or the output coupling mirror 15.
  • the pulsed laser light incident on the window 10a of the amplifier PA may pass through the laser gain space between the electrode 11a and the electrode 11b once and output from the window 10b.
  • the laser controller 19 may control the setting value of the charging voltage of the charger 12mo of the master oscillator MO and the setting value of the charging voltage of the charger 12pa of the amplifier PA.
  • the pulse energy of the laser beam may be controlled by controlling these charging voltages.
  • FIG. 12 is a block diagram showing the configuration of the synchronization control unit and its periphery in the second embodiment.
  • the configuration of the first trigger correction unit 22a is shown as the nth trigger correction unit 22n, and description of the second to fifth trigger correction units 22b to 22e is omitted as appropriate. It may be the same.
  • the nth trigger correction unit 22n may set the timing of the switch signal for each of the master oscillator MO and the amplifier PA of the nth laser device 2n.
  • the delay circuit 26 of the nth trigger correction unit 22n may output the nth switch signal S (n) to the pulse power module 13mo of the master oscillator MO of the nth laser device 2n.
  • the nth switch signal S (n) output to the master oscillator MO may be the same as the nth switch signal S (n) described in the first embodiment.
  • the delay circuit 26 of the n-th trigger correction unit 22n is supplied to the pulse power module 13pa of the amplifier PA of the n-th laser device 2n, and is different from the n-th switch signal S (n) output to the master oscillator MO.
  • Amplifier switch signal Spa (n) may be output.
  • the nth amplifier switch signal Spa (n) output to the amplifier PA has passed the nth set time Tdpa (n) since the nth trigger correction unit 22n received the nth delay signal TR (n). It may be a signal indicating that it has been performed.
  • the laser control unit 19 may receive target pulse energy data from the laser system control unit 20.
  • the laser control unit 19 may calculate a set value of the charging voltage based on the target pulse energy data.
  • the laser control unit 19 may transmit the set value of the charging voltage to the charger 12mo, the charger 12pa, and the processing unit 25 of the nth trigger correction unit 22n.
  • the setting value of the charging voltage transmitted to the charger 12mo and the charger 12pa is described as being the same value, but may be different from each other.
  • the charger 12mo and the charger 12pa may charge the charging capacitor C0 in the pulse power modules 13mo and 13pa, respectively, according to the set value of the charging voltage.
  • Each of the pulse power modules 13mo and 13pa may include the magnetic compression circuit described with reference to FIG.
  • the pulse power modules 13mo and 13pa of the nth laser apparatus 2n may receive the nth switch signal S (n) and the nth amplifier switch signal Spa (n) output from the delay circuit 26, respectively. .
  • Each switch 13a of the pulse power modules 13mo and 13pa may be turned from OFF to ON by these switch signals.
  • the pulse power modules 13mo and 13pa may generate respective pulsed high voltages from the electrical energy held in the respective charging capacitors C0 when the respective switches 13a are turned from OFF to ON. A high voltage can be applied between the discharge electrodes 11mo and 11pa, respectively.
  • the discharge sensor 18mo of the master oscillator MO may detect a discharge generated between the discharge electrodes 11 of the master oscillator MO and output a discharge detection signal DS (n).
  • the discharge sensor 18pa of the amplifier PA may detect a discharge generated between the discharge electrodes 11 of the amplifier PA and output an amplifier discharge detection signal DSpa (n).
  • the discharge detection signal DS (n) from the master oscillator MO and the amplifier discharge detection signal DSpa (n) from the amplifier PA may be input to the timer 27.
  • the timer 27 of the nth trigger correction unit 22n receives the nth elapsed time from when the nth delay signal TR (n) is received to when the discharge detection signal DS (n) is received from the master oscillator MO.
  • TRdm (n) may be measured and transmitted to the processing unit 25.
  • the timer 27 of the nth trigger correction unit 22n has a timing difference from when the discharge detection signal DS (n) is received from the master oscillator MO to when the amplifier discharge detection signal DSpa (n) is received from the amplifier PA. Dm (n) may be measured and transmitted to the processing unit 25.
  • the processing unit 25 outputs the nth switch to be output to the master oscillator MO based on the set value of the charging voltage transmitted from the laser control unit 19 and the nth elapsed time TRdm (n) transmitted from the timer 27.
  • An nth correction time of the signal S (n) may be set.
  • the processing unit 25 sets the nth set time Tdpa (n) of the nth amplifier switch signal Spa (n) to be output to the amplifier PA. Also good.
  • FIG. 13 is a timing chart showing a specific correction method in the nth trigger correction unit of the second embodiment. Control of the nth switch signal S (n) output to the master oscillator MO may be the same as that described with reference to FIG. 7 in the first embodiment.
  • the nth set time Tdpa (n) of the nth amplifier switch signal Spa (n) output to the amplifier PA may be calculated by the following equation.
  • Tdpa (n) Td (n) + D (n)
  • Td (n) may be the nth correction time of the nth switch signal S (n) output to the master oscillator MO.
  • D (n) may be a time difference between the switch signals of the master oscillator MO and the amplifier PA. That is, D (n) is a time difference from the output timing of the nth switch signal S (n) output to the master oscillator MO to the output timing of the nth amplifier switch signal Spa (n) output to the amplifier PA. There may be.
  • the timer 27 of the nth trigger correction unit 22n has a timing difference from when the discharge detection signal DS (n) is received from the master oscillator MO to when the amplifier discharge detection signal DSpa (n) is received from the amplifier PA. Dm (n) may be output to the processing unit 25.
  • the processing unit 25 of the nth trigger correction unit 22n may calculate a difference ⁇ D (n) from the target value Dt (n).
  • the difference ⁇ D (n) may be calculated by the following equation.
  • ⁇ D (n) AVG (Dm (n)) ⁇ Dt (n)
  • AVG (Dm (n)) may be an average value of the timing difference Dm (n) when the timing difference Dm (n) is measured a plurality of times.
  • the target value Dt (n) of the timing difference Dm (n) may be a different value in the first to fifth trigger correction units 22a to 22e.
  • the target value Dt (n) may be a value that increases the amplification efficiency in the amplifier PA.
  • the time difference D (n) between the switch signals of the master oscillator MO and the amplifier PA may be updated by the following equation.
  • D (n) D (n) ⁇ D (n)
  • the timing control of the nth amplifier switch signal Spa (n) output to the amplifier PA can be performed with high accuracy.
  • FIGS. 14A and 14B are flowcharts showing processing of the nth trigger correction unit in the second embodiment.
  • the n-th trigger correction unit 22n performs the following processing, the n-th correction time Td (n) of the n-th switch signal S (n) output to the master oscillator MO, and the switch signal of the master oscillator MO and the amplifier PA.
  • the time difference D (n) may be calculated.
  • J, TRdmsum (n), and Td0 (n) may be the same as those described in the first embodiment.
  • Dsum (n) is a timing difference Dm (n) from when the timer 27 receives the discharge detection signal DS (n) from the master oscillator MO to when it receives the amplifier discharge detection signal DSpa (n) from the amplifier PA.
  • D (n) may be a time difference between the switch signals of the master oscillator MO and the amplifier PA.
  • Dt (n) may be a target value for the timing difference Dm (n).
  • the nth trigger correction unit 22n may determine whether or not the nth laser device 2n has oscillated.
  • the n-th trigger correction unit 22n may update the value of J by adding 1 to the current value of the counter J. .
  • the nth trigger correction unit 22n starts the discharge detection signal DS from the master oscillator MO from when the timer 27 receives the nth delay signal TR (n).
  • the nth elapsed time TRdm (n) until the time (n) is received may be read from the timer 27.
  • the nth trigger correction unit 22n may update the total value TRdmsum (n) of TRdm (n) by the following equation.
  • TRdmsum (n) TRdmsum (n) + TRdm (n)
  • the nth trigger correction unit 22n receives the amplifier discharge detection signal DSpa (n) from the amplifier PA after the timer 27 receives the discharge detection signal DS (n) from the master oscillator MO.
  • the timing difference Dm (n) up to this time may be read from the timer 27.
  • the nth trigger correction unit 22n may determine whether or not the value of the counter J has reached a predetermined number of samples Jmax. When the value of the counter J has not reached the predetermined number of samples Jmax (S312; NO), the nth trigger correction unit 22n may return the process to S302 described above. When the value of the counter J reaches the predetermined number of samples Jmax (S312; YES), the nth trigger correction unit 22n may advance the process to S313.
  • the processing in S313 and the subsequent S314 may be the same as in the first embodiment.
  • the nth trigger correction unit 22n may calculate a difference ⁇ D (n) between the average value of the timing differences Dm (n) and the target value Dt (n).
  • the nth trigger correction unit 22n may update the time difference D (n) between the switch signals of the master oscillator MO and the amplifier PA by the following equation.
  • D (n) D (n) ⁇ D (n)
  • the nth trigger correction unit 22n may return the process to S302 described above.
  • the nth trigger correction unit 22n performs the nth correction time Td (n) of the nth switch signal S (n) to be output to the master oscillator MO, and switches between the master oscillator MO and the amplifier PA.
  • the signal time difference D (n) may be calculated.
  • one laser device is not limited to the case where one laser device includes one master oscillator MO and one amplifier PA, and one laser device may include one master oscillator MO and a plurality of amplifiers PA.
  • FIG. 15 is a block diagram illustrating a configuration of a laser system according to a third embodiment of the present disclosure.
  • the first to fifth trigger correction units 22a to 22e may be included in the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively.
  • the laser system 5 may include a distributor 28 instead of the synchronization control unit 22.
  • the first to fifth laser devices 2a to 2e may include clock generators 23a to 23e, respectively.
  • the clock generators 23c to 23e are not shown.
  • the delay circuit unit 24 included in the synchronization control unit 22 the first to fifth laser devices 2a to 2e may include delay circuit units 24a to 24e, respectively. However, illustration of the delay circuit units 24c to 24e is omitted.
  • the delay circuit units 24a to 24e included in the first to fifth laser devices 2a to 2e respectively include the delay times TRd (1) to TRd (1) to TR (5) of the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5).
  • the data of TRd (5) may be received from the laser system control unit 20.
  • the distributor 28 receives the trigger signal TR from the laser system control unit 20, and transmits the trigger signal TR to the delay circuit units 24a to 24e included in the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively. Good.
  • the delay circuit units 24a to 24e may generate the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5) and send them to the first to fifth trigger correction units 22a to 22e, respectively.
  • the clock generators 23a to 23e may generate clock signals in the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively.
  • the clock signal may be common to the trigger correction unit and the delay circuit unit. Other points may be the same as those in the first embodiment.
  • the trigger correction units 22a to 22e and the delay circuit units 24a to 24e are included in the respective laser devices, the wiring distance between the trigger correction unit 22 and the pulse power module 13 is short. Therefore, signal delay due to wiring length can be suppressed.
  • the trigger correction units 22a to 22e and the delay circuit units 24a to 24e are included in the respective laser devices is shown, but the present invention is not limited to this example.
  • the delay circuit units 24a to 24e are eliminated, and the trigger correction units 22a to 22e are set with different target values TRdt (n), thereby controlling the timing of the pulsed laser light output from each laser device. Also good.
  • FIG. 16 is a block diagram illustrating a configuration of a laser system according to a fourth embodiment of the present disclosure.
  • the first to fifth trigger correction units 22a to 22e may be included in the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively.
  • the laser system 5 may include a distributor 28 instead of the synchronization control unit 22.
  • the first to fifth laser devices 2a to 2e may include clock generators 23a to 23e, respectively.
  • the clock generators 23b to 23e are not shown.
  • the delay circuit unit 24 included in the synchronization control unit 22 the first to fifth laser devices 2a to 2e may include delay circuit units 24a to 24e, respectively. However, illustration of the delay circuit units 24b to 24e is omitted.
  • the delay circuit units 24a to 24e included in the first to fifth laser devices 2a to 2e respectively include the delay times TRd (1) to TRd (1) to TR (5) of the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5).
  • the data of TRd (5) may be received from the laser system control unit 20.
  • the distributor 28 receives the trigger signal TR from the laser system control unit 20, and transmits the trigger signal TR to the delay circuit units 24a to 24e included in the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively. Good.
  • the delay circuit units 24a to 24e may generate the first to fifth delay signals TR (1) to TR (5) and send them to the first to fifth trigger correction units 22a to 22e, respectively.
  • the clock generators 23a to 23e may generate clock signals in the first to fifth laser devices 2a to 2e, respectively.
  • the clock signal may be common to the trigger correction unit and the delay circuit unit. Other points may be the same as in the second embodiment.
  • the trigger correction units 22a to 22e and the delay circuit units 24a to 24e are included in the respective laser devices, so the trigger correction unit 22 and the pulse power module 13 are included. Since the distance between the wirings becomes short, signal delay due to the wiring length can be suppressed.
  • the trigger correction units 22a to 22e and the delay circuit units 24a to 24e are included in the respective laser devices is shown, but the present invention is not limited to this example.
  • the delay circuit units 24a to 24e are eliminated, and the trigger correction units 22a to 22e are set with different target values TRdt (n), thereby controlling the timing of the pulsed laser light output from each laser device. Also good.
  • FIG. 17 schematically illustrates a configuration of a laser annealing apparatus 1 including a laser system 5 according to the fifth embodiment of the present disclosure.
  • the laser system 5 may include a pulse waveform measuring instrument 6 and a shutter 36.
  • the pulse waveform measuring device 6 is disposed across the output positions of the first to fifth laser devices 2a to 2e and the optical paths of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e between the beam forming device 3. It may be.
  • the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e incident on the pulse waveform measuring instrument 6 may be substantially parallel to each other.
  • the shutter 36 may be disposed in the vicinity of the optical path of the light beam laser beam 21 output from the light beam generating device 3.
  • the shutter 36 may include a shielding plate 36a and an actuator 36b.
  • the actuator 36 b may move the shielding plate 36 a in the optical path of the luminous laser beam 21, or retract the shielding plate 36 a from the optical path of the luminous laser beam 21.
  • Other points may be the same as those in the first to fourth embodiments.
  • FIG. 18 shows a specific configuration of the pulse waveform measuring instrument 6 shown in FIG.
  • the pulse waveform measuring instrument 6 may include a beam splitter 61, a condensing optical system 63, an optical sensor 64, and a beam selection mechanism 67.
  • the beam splitter 61 may be disposed in the optical path of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e.
  • the beam splitter 61 may transmit the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e with high transmittance and reflect a part of each of the first to fifth pulsed laser beams 21a to 21e.
  • the beam selection mechanism 67 may include a slit plate 68 and a moving mechanism 69.
  • the beam selection mechanism 67 may be positioned in the optical path of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e reflected by the beam splitter 61.
  • the moving mechanism 69 may move the slit plate 68 so that the slit plate 68 crosses the optical path axes of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e.
  • the slit plate 68 may be formed with a gap having a width that allows only one of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e to pass therethrough.
  • all of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e or 1 to 5 included in the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e can be selected and passed through the beam selection mechanism 67.
  • the condensing optical system 63 can condense all or individual pulse laser beams of the first to fifth pulse laser beams 21 a to 21 e that have passed through the beam selection mechanism 67 on the light receiving surface of the optical sensor 64.
  • the optical sensor 64 may be disposed at the position of the focal plane of the condensing optical system 63.
  • the photosensor 64 may be a fast response photodiode or phototube.
  • the optical sensor 64 may receive the whole of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e or individual pulse laser beams collected by the condensing optical system 63.
  • the optical sensor 64 may output the pulse waveform data and the pulse passage timing data of the entire first to fifth pulse laser beams 21a to 21e or individual pulse laser beams to the laser system controller 20. By measuring the entirety of the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e, the data may be handled in the same way as the measurement data of the light beam laser beam.
  • FIG. 19 is a flowchart showing processing of the laser system control unit 20 shown in FIG.
  • the number of laser devices included in the laser system 5 is Nmax.
  • the laser system control unit 20 determines the target pulse energy Et (n) of each pulse laser beam and the nth delay time TRd based on the pulse energy and the pulse passing timing for each of the first to Nmaxth pulse laser beams. The correction (n) may be performed. Further, the laser system controller 20 corrects the target pulse energy Et (n) and the nth delay time TRd (n) of each pulsed laser beam based on the pulse waveforms of the entire first to Nmaxth pulsed laser beams. May be performed.
  • the laser system control unit 20 may close the shutter 36 and stop the output of the light beam laser beam 21 to the exposure apparatus 4.
  • the laser system control unit 20 receives the target pulse waveform data of the light beam laser beam 21 and the target pulse energy data of the light beam laser beam 21 from the exposure device control unit 40 of the exposure device 4. You may receive it. This may be the same as that described with reference to FIG.
  • the laser system control unit 20 may calculate the target pulse energy Et (n) and the nth delay time TRd (n) for each of the nth pulsed laser beams 21n. This point may be the same as that described with reference to FIG.
  • the laser system control unit 20 may set the value of n to 1.
  • the laser system control unit 20 may measure and control the n-th pulse laser beam 21n. For example, when the value of n is 1, measurement and control of the first pulsed laser light 21a may be performed. Details of the process of S105 will be described later with reference to FIG.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not the value of n has reached Nmax. If the value of n has not reached Nmax (S106; NO), the laser system control unit 20 adds 1 to the value of n to update the value of n in S107, and returns the process to S105 described above. May be. When the value of n reaches Nmax (S106; YES), the laser system control unit 20 may advance the process to S108.
  • the laser system controller 20 may measure the pulse waveform of the entire first to Nmaxth pulse laser beams. Details of the processing of S108 will be described later with reference to FIG.
  • the laser system control unit 20 determines whether or not the difference between the pulse waveform of the first to Nmaxth pulse laser beams and the target pulse waveform of the luminous laser beam is within an allowable range. Also good. When the difference from the target pulse waveform is not within the allowable range (S109; NO), the laser system control unit 20 may advance the process to S110. When the difference from the target pulse waveform is within the allowable range (S109; YES), the laser system control unit 20 may advance the process to S112.
  • the laser system control unit 20 may close the shutter 36 and stop the output of the light beam laser beam 21 to the exposure apparatus 4. If the shutter 36 has already been closed, the process of S110 may not be executed.
  • the laser system control unit 20 may correct the target pulse energy Et (n) and the nth delay time TRd (n) for each of the nth pulsed laser beams 21n. For example, based on the data of the individual pulse laser beams measured in S105, the target pulse energy Et (n) and the nth pulse so that the pulse waveforms of the first to Nmaxth pulse laser beams approach the target pulse waveform. The delay time TRd (n) may be corrected.
  • the laser system control unit 20 may return the process to the above-described S104, and perform measurement and control of each pulse laser beam again.
  • the laser system control unit 20 may open the shutter 36 and start output of the light beam laser beam 21 to the exposure apparatus 4.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not to change the target pulse waveform of the light beam laser beam 21 and the target pulse energy of the beam beam laser beam 21. When these values are changed (S113; YES), the laser system control unit 20 may return the process to S101 described above. When not changing (S113; NO), the laser system control part 20 may advance a process to S114.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not to stop the control of the pulse waveform.
  • the laser system control unit 20 may return the process to S104 described above.
  • the laser system control unit 20 may end the process of this flowchart.
  • FIG. 20 is a flowchart showing details of processing for measuring and controlling the n-th pulse laser beam shown in FIG.
  • the process shown in FIG. 20 may be performed by the laser system control unit 20 as a subroutine of S105 shown in FIG.
  • the laser system control unit 20 may control the beam selection mechanism 67 of the pulse waveform measuring instrument 6 so that the nth pulse laser beam is selected. Thereby, the pulse waveform measuring device 6 may start measuring the pulse waveform of the nth pulse laser beam.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not pulse waveform data of k pulses has been acquired. When acquisition of pulse waveform data of k pulses has not been completed (S502; NO), the laser system control unit 20 may wait until acquisition is completed. When the acquisition of the pulse waveform data of k pulses is completed (S502; YES), the laser system control unit 20 may advance the process to S503.
  • k is an arbitrary constant for obtaining the average pulse waveform of the nth pulse laser beam.
  • the laser system control unit 20 may acquire the average pulse waveform of the nth pulse laser beam from the k pulse waveforms.
  • the average pulse waveform may be calculated by calculating the average value of the light intensity at the same time for each time. With the same time, for example, the time when the pulse of the laser beam rises or the peak time of the pulse waveform may be calculated as the same time.
  • the laser system control unit 20 may calculate the pulse energy Em (n) of the nth pulse laser beam by integrating the average pulse waveform.
  • the laser system control unit 20 may calculate the pulse timing T (n) of the average pulse waveform. For example, an average value of two timings that are half the peak of the average pulse waveform may be set as the pulse timing T (n).
  • the laser system control unit 20 may update the nth delay time TRd (n) of the nth pulse laser beam 21n as follows.
  • TRd (n) TRd (n) + ⁇ T (n)
  • the laser system control unit 20 may advance the process to S511.
  • FIG. 21 is a flowchart showing details of a process for measuring the pulse waveform of the entire first to Nmax pulse laser beams shown in FIG.
  • the process shown in FIG. 21 may be performed by the laser system control unit 20 as a subroutine of S108 shown in FIG.
  • the laser system control unit 20 may control the pulse waveform measuring instrument 6 so that all the first to Nmaxth pulse laser beams are selected. Thereby, the pulse waveform measuring device 6 may start measuring the pulse waveforms of the entire first to Nmaxth pulse laser beams.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not the pulse waveform data of k pulses has been acquired. When the acquisition of the pulse waveform data of k pulses has not been completed (S802; NO), the laser system control unit 20 may wait until the acquisition is completed. When the acquisition of the pulse waveform data of k pulses is completed (S802; YES), the laser system control unit 20 may advance the process to S803.
  • k is an arbitrary constant for obtaining the average pulse waveform of the entire first to Nmaxth pulse laser beams, and may be the same as or different from k used in S502.
  • the laser system control unit 20 may acquire an average pulse waveform from k pulse waveforms.
  • the average pulse waveform may be calculated by calculating the average value of the light intensity at the same time for each time. With the same time, for example, the time when the pulse of the laser beam rises or the peak time of the pulse waveform may be calculated as the same time.
  • the laser system control unit 20 may integrate the absolute value of the difference between the average pulse waveform and the target pulse waveform.
  • the integral value S may be calculated by calculating the absolute value of the difference in light intensity at the same time for each time and calculating the sum of these absolute values.
  • the laser system control unit 20 may determine whether or not the integral value S is within an allowable range using the following equation.
  • S ⁇ S0 S0 may be a threshold value for determining whether or not it is within an allowable range. If the integral value S is equal to or less than the threshold value S0, it may be determined that it is within the allowable range. When it is within the allowable range (S805; YES), the laser system control unit 20 may advance the process to S806. When the integral value S exceeds the threshold value S0, it may be determined that it is not within the allowable range. If not within the allowable range (S805; NO), the laser system control unit 20 may advance the process to S807.
  • the laser system control unit 20 may set the flag F to a value 1 indicating that it is within the allowable range. In S807, the laser system control unit 20 may set the flag F to a value 0 indicating that it is not within the allowable range. After S806 or S807, the laser system control unit 20 may end the process of this flowchart and shift the process to S109 of FIG. The value of the flag F may be used in the determination of S109 shown in FIG.
  • the laser system control unit 20 performs the target pulse energy Et (n) and the pulse energy of each pulse laser beam based on the pulse energy and the pulse passing timing for each of the first to Nmaxth pulse laser beams.
  • the nth delay time TRd (n) may be corrected.
  • the laser system controller 20 corrects the target pulse energy Et (n) and the nth delay time TRd (n) of each pulsed laser beam based on the pulse waveforms of the entire first to Nmaxth pulsed laser beams. May be performed. Thereby, the pulse waveform of the light beam laser beam can be controlled with high accuracy.
  • the pulse waveform measuring device 6 includes the beam selection mechanism 67
  • the present disclosure is not limited thereto.
  • only the nth pulse laser beam 21n is measured, only the nth laser device 2n may oscillate.
  • FIG. 22 schematically illustrates the configuration of the optical path length adjuster illustrated in FIGS. 1 and 17.
  • the first optical path length adjuster 7a may be a device that can change the optical path length of the first pulse laser beam 21a by bypassing the optical path of the first pulse laser beam 21a.
  • the first to fifth optical path length adjusters 7a to 7e may adjust the respective optical path lengths so that the optical path lengths from the respective laser devices to the exit of the laser system 5 substantially coincide with each other.
  • the first optical path length adjuster 7a may include a right-angle prism 711, two high reflection mirrors 712 and 713, a plate 714, a plate 715, and a uniaxial stage 716.
  • the first surface 701 and the second surface 702 that are orthogonal to the right-angle prism 711 may be coated with a highly reflective film.
  • the right-angle prism 711 may be held by a holder 717, and the holder 717 may be fixed to the plate 714.
  • the right-angle prism 711 may be located in the optical path of the first pulse laser beam 21a.
  • the two high reflection mirrors 712 and 713 may be held by the holder 718 so that their reflection surfaces are orthogonal to each other, and the holder 718 may be fixed to the plate 715.
  • the plate 715 may be fixed to the uniaxial stage 716.
  • the uniaxial stage 716 may be able to move the two highly reflective mirrors 712 and 713 in parallel with the optical path axis of the first pulse laser beam 21a reflected by the first surface 701 of the right-angle prism 711. .
  • the first pulsed laser light 21 a reflected by the first surface 701 of the right-angle prism 711 may be reflected by the two high reflection mirrors 712 and 713 and may enter the second surface 702 of the right-angle prism 711. .
  • the first pulse laser beam 21a incident on the second surface 702 of the right-angle prism 711 is an optical path axis that is substantially on the extension line of the optical path axis of the first pulse laser beam 21a incident on the first surface 701 of the right-angle prism 711. , And may exit from the second surface 702 of the right-angle prism 711.
  • the laser system control unit 20 may move the two high reflection mirrors 712 and 713 by driving the motor 719 of the single-axis stage 716.
  • the optical path length of the first pulse laser beam 21a may be changed by 2X by moving the two high reflection mirrors 712 and 713 by the distance X.
  • FIG. 23 shows another example of the light fluxing device.
  • the fly-eye lens 421 in the exposure apparatus 4 is also shown, but the high reflection mirror 41 in the exposure apparatus 4 is not shown.
  • the beam splitter 37 may include a first right-angle prism 371, a second right-angle prism 372, and a trapezoidal prism 373.
  • the first right-angle prism 371 may be formed in a triangular prism shape whose bottom surface, which is a plane parallel to the paper surface, is a right-angle triangle. High reflection films may be coated on two side surfaces of the first right-angle prism 371 forming a right angle. Two side surfaces forming a right angle of the first right-angle prism 371 may constitute a first reflection surface 371a and a second reflection surface 371b, respectively.
  • the first right-angle prism 371 may be arranged such that the first reflection surface 371a of the first right-angle prism 371 is parallel to a first reflection surface 373a described later of the trapezoidal prism 373.
  • the first right-angle prism 371 may be arranged such that the first reflection surface 371a of the first right-angle prism 371 intersects with the optical path axis of the first pulse laser beam 21a at an angle of 45 °.
  • the first right-angle prism 371 may be arranged such that the second reflecting surface 371b of the first right-angle prism 371 intersects with the optical path axis of the second pulse laser beam 21b at an angle of 45 °.
  • the second right-angle prism 372 may be formed in a triangular prism shape whose bottom surface, which is a plane parallel to the paper surface, is a right-angle triangle. High reflection films may be coated on two side surfaces of the second right-angle prism 372 forming a right angle. Two side surfaces forming a right angle of the second right-angle prism 372 may constitute a first reflection surface 372a and a second reflection surface 372b, respectively.
  • the second right-angle prism 372 may be arranged such that the first reflection surface 372a of the second right-angle prism 372 is parallel to a second reflection surface 373b described later of the trapezoidal prism 373.
  • the second right-angle prism 372 may be arranged such that the first reflecting surface 372a of the second right-angle prism 372 intersects with the optical path axis of the fourth pulse laser beam 21d at an angle of 45 °.
  • the second right-angle prism 372 may be arranged such that the second reflecting surface 372b of the second right-angle prism 372 intersects with the optical path axis of the fifth pulse laser beam 21e at an angle of 45 °.
  • the trapezoidal prism 373 may be formed using a material that transmits ultraviolet rays, such as synthetic quartz or calcium fluoride.
  • the trapezoidal prism 373 may be formed in a quadrangular prism shape having a quadrangular bottom surface that is a plane parallel to the paper surface.
  • the bottom surface of the trapezoidal prism 373 may be formed in an isosceles trapezoidal shape in which an angle formed by two legs is a right angle.
  • Two opposing side surfaces of the trapezoidal prism 373 that are not parallel to each other may be coated with a highly reflective film.
  • Two opposing side surfaces of the trapezoidal prism 373 that are not parallel to each other may constitute a first reflecting surface 373a and a second reflecting surface 373b, respectively.
  • Two opposing side surfaces of the trapezoidal prism 373 that are parallel to each other may be coated with an antireflection film.
  • Two opposite side surfaces of the trapezoidal prism 373 that are parallel to each other may constitute a first irradiation surface 373c and a second irradiation surface 373d.
  • the trapezoidal prism 373 may be arranged so that the second irradiation surface 373d of the trapezoidal prism 373 is orthogonal to the optical path axis of the third pulse laser beam 21c.
  • the first pulse laser beam 21a output from the first laser device 2a may be reflected by the first reflecting surface 371a of the first right-angle prism 371. Further, the first pulsed laser light 21 a may be reflected by the first reflecting surface 373 a of the trapezoidal prism 373 and incident perpendicularly on the incident side surface of the fly-eye lens 421.
  • the second pulse laser beam 21b output from the second laser device 2b may be reflected by the second reflecting surface 371b of the first right-angle prism 371. Further, the second pulse laser beam 21 b may be reflected by the first reflecting surface 373 a of the trapezoidal prism 373 and incident perpendicularly on the incident-side surface of the fly-eye lens 421.
  • the third pulse laser beam 21c output from the third laser device 2c may be incident on the second irradiation surface 373d of the trapezoidal prism 373 and go straight inside.
  • the third pulse laser beam 21c that travels straight inside the trapezoidal prism 373 may be emitted from the first irradiation surface 373c and perpendicularly incident on the incident-side surface of the fly-eye lens 421.
  • the fourth pulse laser beam 21d output from the fourth laser device 2d may be reflected by the first reflecting surface 372a of the second right-angle prism 372. Further, the fourth pulse laser beam 21 d may be reflected by the second reflecting surface 373 b of the trapezoidal prism 373 and incident perpendicularly on the incident side surface of the fly-eye lens 421.
  • the fifth pulse laser beam 21e output from the fifth laser device 2e may be reflected by the second reflecting surface 372b of the second right-angle prism 372. Further, the fifth pulsed laser light 21e may be reflected by the second reflecting surface 373b of the trapezoidal prism 373 and incident perpendicularly on the incident-side surface of the fly-eye lens 421.
  • the light beam generating device 37 may emit the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e as the light beam laser beam 21 so that their optical path axes are parallel to each other. Then, the light beam laser beam 21 emitted from the light beam irradiation device 37 may enter the fly-eye lens 421. That is, the beam splitter 37 may not superimpose the first to fifth pulse laser beams 21a to 21e.
  • the pulse waveform measuring device 6 including the beam selection mechanism 67 described with reference to FIG. 18 is provided in the optical path of the beam forming laser beam 21 output from the beam forming device 37. You may arrange.
  • FIG. 24 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the control unit.
  • Control units such as the laser system control unit 20 and the synchronization control unit 22 in the above-described embodiments may be configured by general-purpose control devices such as a computer and a programmable controller. For example, it may be configured as follows.
  • the control unit includes a processing unit 1000, a storage memory 1005, a user interface 1010, a parallel I / O controller 1020, a serial I / O controller 1030, A / D, and D / A connected to the processing unit 1000. And a converter 1040. Further, the processing unit 1000 may include a CPU 1001, a memory 1002 connected to the CPU 1001, a timer 1003, and a GPU 1004.
  • the processing unit 1000 may read a program stored in the storage memory 1005.
  • the processing unit 1000 may execute the read program, read data from the storage memory 1005 in accordance with execution of the program, or store data in the storage memory 1005.
  • the parallel I / O controller 1020 may be connected to devices 1021 to 102x that can communicate with each other via a parallel I / O port.
  • the parallel I / O controller 1020 may control communication using a digital signal via a parallel I / O port that is performed in the process in which the processing unit 1000 executes a program.
  • the serial I / O controller 1030 may be connected to devices 1031 to 103x that can communicate with each other via a serial I / O port.
  • the serial I / O controller 1030 may control communication using a digital signal via a serial I / O port that is performed in a process in which the processing unit 1000 executes a program.
  • the A / D and D / A converter 1040 may be connected to devices 1041 to 104x that can communicate with each other via an analog port.
  • the A / D and D / A converter 1040 may control communication using an analog signal via an analog port that is performed in the process in which the processing unit 1000 executes a program.
  • the user interface 1010 may be configured such that the operator displays the execution process of the program by the processing unit 1000, or causes the processing unit 1000 to stop the program execution by the operator or perform interrupt processing.
  • the CPU 1001 of the processing unit 1000 may perform arithmetic processing of a program.
  • the memory 1002 may temporarily store a program during the course of execution of the program by the CPU 1001 or temporarily store data during a calculation process.
  • the timer 1003 may measure time and elapsed time, and output the time and elapsed time to the CPU 1001 according to execution of the program.
  • the GPU 1004 may process the image data according to the execution of the program and output the result to the CPU 1001.
  • Devices 1021 to 102x that are connected to the parallel I / O controller 1020 and can communicate via the parallel I / O port include first to fifth laser devices 2a to 2e, an exposure device control unit 40, and other control units. For example, it may be used for transmission / reception of an oscillation trigger signal or a signal indicating timing.
  • the devices 1031 to 103x that are connected to the serial I / O controller 1030 and can communicate via the serial I / O port include first to fifth laser devices 2a to 2e, an exposure device control unit 40, and other control units. It may be used for data transmission / reception.
  • the devices 1041 to 104x connected to the A / D and D / A converter 1040 and capable of communicating via analog ports may be various sensors such as the pulse waveform measuring device 6 and the pulse energy measuring unit 17. With the configuration as described above, the control unit may be able to realize the operation shown in each embodiment.

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Abstract

このレーザシステムは、トリガ信号を受信し、トリガ信号を受信した時から第１の遅延時間が経過したことを示す第１の遅延信号と、トリガ信号を受信した時から第２の遅延時間が経過したことを示す第２の遅延信号と、を出力する遅延回路部と、第１の遅延信号を受信し、第１の遅延信号を受信した時から第１の補正時間が経過したことを示す第１のスイッチ信号を出力する第１のトリガ補正部と、第２の遅延信号を受信し、第２の遅延信号を受信した時から第２の補正時間が経過したことを示す第２のスイッチ信号を出力する第２のトリガ補正部と、遅延回路部と、第１のトリガ補正部と、第２のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成するクロック生成器と、を備えてもよい。

Description

レーザシステム
　本開示は、レーザシステムに関する。
　レーザアニール装置は、基板上に成膜されたアモルファス（非結晶）シリコン膜にエキシマレーザ等のレーザシステムから出力された紫外線領域の波長を有するパルスレーザ光を照射し、ポリシリコン膜に改質する装置である。アモルファスシリコン膜をポリシリコン膜に改質することにより、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を作製することができる。このＴＦＴは、比較的大きな液晶ディスプレイに使用されている。
特開２００４－３４２９６４号公報 米国特許第８２３８４００号明細書 米国特許第６８６５２１０号明細書
概要
　本開示の１つの観点に係るレーザシステムは、トリガ信号を受信し、トリガ信号を受信した時から第１の遅延時間が経過したことを示す第１の遅延信号と、トリガ信号を受信した時から第２の遅延時間が経過したことを示す第２の遅延信号と、を出力する遅延回路部と、第１の遅延信号を受信し、第１の遅延信号を受信した時から第１の補正時間が経過したことを示す第１のスイッチ信号を出力する第１のトリガ補正部と、第２の遅延信号を受信し、第２の遅延信号を受信した時から第２の補正時間が経過したことを示す第２のスイッチ信号を出力する第２のトリガ補正部と、第１のレーザ装置であって、第１のコンデンサと、第１のコンデンサに電圧を印加する第１の充電器と、第１のスイッチ信号を受信して前記第１のコンデンサから電流パルスを生成させる第１のスイッチと、第１のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第１の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第１のチャンバと、第１のチャンバ内に配置され、前記第１の磁気圧縮回路に接続された第１の一対の放電電極と、第１の一対の放電電極間での放電を検出して第１の放電検出信号を出力する第１の放電タイミング検出器と、を含む第１のレーザ装置と、第２のレーザ装置であって、第２のコンデンサと、第２のコンデンサに電圧を印加する第２の充電器と、第２のスイッチ信号を受信して前記第２のコンデンサから電流パルスを生成させる第２のスイッチと、第２のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第２の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第２のチャンバと、第２のチャンバ内に配置され、前記第２の磁気圧縮回路に接続された第２の一対の放電電極と、第２の一対の放電電極間での放電を検出して第２の放電検出信号を出力する第２の放電タイミング検出器と、を含む第２のレーザ装置と、遅延回路部と、第１のトリガ補正部と、第２のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成するクロック生成器と、を備え、第１のトリガ補正部は、第１の放電検出信号を受信し、第１の遅延信号を受信してから第１の放電検出信号を受信するまでの第１の経過時間が第１の目標値に近づくように第１の補正時間を設定し、第２のトリガ補正部は、第２の放電検出信号を受信し、第２の遅延信号を受信してから第２の放電検出信号を受信するまでの第２の経過時間が第２の目標値に近づくように第２の補正時間を設定してもよい。
　本開示の別の観点に係るレーザシステムは、第１のレーザ装置であって、トリガ信号を受信し、前記トリガ信号を受信した時から第１の遅延時間が経過したことを示す第１の遅延信号を出力する第１の遅延回路部と、前記第１の遅延信号を受信し、前記第１の遅延信号を受信した時から第１の補正時間が経過したことを示す第１のスイッチ信号を出力する第１のトリガ補正部と、前記第１の遅延回路部と、前記第１のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成する第１のクロック生成器と、第１のコンデンサと、前記第１のコンデンサに電圧を印加する第１の充電器と、前記第１のスイッチ信号を受信して前記第１のコンデンサから電流パルスを生成させる第１のスイッチと、前記第１のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第１の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第１のチャンバと、前記第１のチャンバ内に配置され、前記第１の磁気圧縮回路に接続された第１の一対の放電電極と、前記第１の一対の放電電極間での放電を検出して第１の放電検出信号を出力する第１の放電タイミング検出器と、を含む前記第１のレーザ装置と、第２のレーザ装置であって、前記トリガ信号を受信し、前記トリガ信号を受信した時から第２の遅延時間が経過したことを示す第２の遅延信号を出力する第２の遅延回路部と、前記第２の遅延信号を受信し、前記第２の遅延信号を受信した時から第２の補正時間が経過したことを示す第２のスイッチ信号を出力する第２のトリガ補正部と、前記第２の遅延回路部と、前記第２のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成する第２のクロック生成器と、第２のコンデンサと、前記第２のコンデンサに電圧を印加する第２の充電器と、前記第２のスイッチ信号を受信して前記第２のコンデンサから電流パルスを生成させる第２のスイッチと、前記第２のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第２の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第２のチャンバと、前記第２のチャンバ内に配置され、前記第２の磁気圧縮回路に接続された第２の一対の放電電極と、前記第２の一対の放電電極間での放電を検出して第２の放電検出信号を出力する第２の放電タイミング検出器と、を含む前記第２のレーザ装置と、を備え、前記第１のトリガ補正部は、前記第１の放電検出信号を受信し、前記第１の遅延信号を受信してから前記第１の放電検出信号を受信するまでの第１の経過時間が第１の目標値に近づくように前記第１の補正時間を設定し、前記第２のトリガ補正部は、前記第２の放電検出信号を受信し、前記第２の遅延信号を受信してから前記第２の放電検出信号を受信するまでの第２の経過時間が第２の目標値に近づくように前記第２の補正時間を設定してもよい。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、本開示の第１の実施形態に係るレーザシステムを含むレーザアニール装置の構成を概略的に示す。 図２は、図１に示されるレーザ装置の構成例を示す。 図３は、図２に示されるパルスパワーモジュールの構成と、レーザ光の進行方向に略平行な方向からみたレーザチャンバの内部構成を示す。 図４は、図１に示される同期制御部及びその周辺の構成を示すブロック図である。 図５は、図１に示されるレーザシステムにおけるタイミングチャートである。 図６は、図４に示される第１及び第２のトリガ補正部におけるタイミングチャートである。 図７は、第ｎのトリガ補正部における具体的な補正方法を示すタイミングチャートである。 図８は、図１に示されるレーザシステム制御部の処理を示すフローチャートである。 図９は、図４に示されるレーザ制御部の処理を示すフローチャートである。 図１０は、図４に示される第ｎのトリガ補正部の処理を示すフローチャートである。 図１１は、本開示の第２の実施形態に係るレーザシステムに含まれるレーザ装置の構成例を示す。 図１２は、第２の実施形態における同期制御部及びその周辺の構成を示すブロック図である。 図１３は、第２の実施形態の第ｎのトリガ補正部における具体的な補正方法を示すタイミングチャートである。 図１４Ａは、第２の実施形態における第ｎのトリガ補正部の処理を示すフローチャートである。 図１４Ｂは、第２の実施形態における第ｎのトリガ補正部の処理を示すフローチャートである。 図１５は、本開示の第３の実施形態に係るレーザシステムの構成を示すブロック図である。 図１６は、本開示の第４の実施形態に係るレーザシステムの構成を示すブロック図である。 図１７は、本開示の第５の実施形態に係るレーザシステム５を含むレーザアニール装置１の構成を概略的に示す。 図１８は、図１７に示されるパルス波形計測器６の具体的構成を示す。 図１９は、図１７に示されるレーザシステム制御部２０の処理を示すフローチャートである。 図２０は、図１９に示される第ｎのパルスレーザ光を計測及び制御する処理の詳細を示すフローチャートである。 図２１は、図１９に示される第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形を計測する処理の詳細を示すフローチャートである。 図２２は、図１及び図１７に示された光路長調節器の構成を概略的に示す。 図２３は、光束化装置のさらに別の例を示す。 図２４は、制御部の概略構成を示すブロック図である。
実施形態
＜内容＞
１．概要
２．同期制御部を含むレーザアニール装置（第１の実施形態）
　２．１　レーザ装置の概要
　２．２　光束化装置
　２．３　露光装置
　２．４　制御部
　２．５　レーザ装置の詳細
　２．６　同期制御部の詳細
　２．７　タイミングチャート
　２．８　フローチャート
　　２．８．１　レーザシステム制御部の処理
　　２．８．２　レーザ制御部の処理
　　２．８．３　第ｎのトリガ補正部の処理
３．増幅器を含むレーザシステム（第２の実施形態）
　３．１　レーザ装置の構成
　３．２　同期制御部の詳細
　３．３　タイミングチャート
　３．４　第ｎのトリガ補正部の処理
４．各レーザ装置がトリガ補正部を含むレーザシステム
　４．１　第３の実施形態
　４．２　第４の実施形態
５．パルス波形計測器を含むレーザシステム（第５の実施形態）
　５．１　構成
　５．２　パルス波形計測器
　５．３　制御動作
６．その他
　６．１　光路長調節器
　６．２　平面鏡を用いた光束化装置
　６．３　制御部の構成
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．概要
　レーザアニール装置は、ガラス基板上のアモルファスシリコン膜にパルスレーザ光を所定のエネルギー密度で照射することによって、レーザアニールを行ってもよい。近年のようにますます大きな液晶ディスプレイが製造されるようになると、所定のエネルギー密度での照射面積を広げるために、パルスレーザ光の１つのパルスあたりのエネルギーを増加させることが求められ得る。１つのパルスあたりのエネルギーを増加させるために、複数台のレーザ装置からそれぞれ出力されたパルスレーザ光を光束化してもよい。光束化された光束化レーザ光を、アモルファスシリコン膜に照射してもよい。
　複数台のレーザ装置からそれぞれ出力されるパルスレーザ光のエネルギーを安定化させるには、それぞれのレーザ装置の充電器による充電電圧を、互いに独立に制御する必要があり得る。しかしながら、これらのレーザ装置における放電タイミングは、充電器による充電電圧によって変動し得る。このため、複数台のレーザ装置からそれぞれ出力されて光束化された光束化レーザ光のパルス波形を安定化させることが困難となっていた。光束化レーザ光のパルス波形が不安定となると、アニールの品質が低下する可能性があった。
　本開示の１つの観点において、第１のトリガ補正部は、第１の遅延信号ＴＲ（１）を受信した時から第１の補正時間Ｔｄ（１）が経過したことを示す第１のスイッチ信号Ｓ（１）を出力してもよい。第１のレーザ装置においては、第１のスイッチ信号Ｓ（１）を受信した時から第１のパルスレーザ光を生成する時までの第１の所要時間が変動してもよい。第１のトリガ補正部は、第１の補正時間Ｔｄ（１）と、第１の所要時間と、の合計時間が目標値ＴＲｄｔに近づくように、第１の補正時間Ｔｄ（１）を設定してもよい。
　第２のトリガ補正部は、第２の遅延信号ＴＲ（２）を受信した時から第２の補正時間Ｔｄ（２）が経過したことを示す第２のスイッチ信号Ｓ（２）を出力してもよい。第２のレーザ装置においては、第２のスイッチ信号Ｓ（２）を受信した時から第２のパルスレーザ光を生成する時までの第２の所要時間が、第１の所要時間とは別に変動してもよい。第２のトリガ補正部は、第２の補正時間Ｔｄ（２）と、第２の所要時間と、の合計時間が目標値ＴＲｄｔに近づくように、第２の補正時間Ｔｄ（２）を設定してもよい。
２．同期制御部を含むレーザアニール装置（第１の実施形態）
　図１は、本開示の第１の実施形態に係るレーザシステムを含むレーザアニール装置の構成を概略的に示す。レーザアニール装置１は、レーザシステム５と、露光装置４とを備えてもよい。レーザシステム５は、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅと、高反射ミラー３０ａ～３０ｅと、高反射ミラー３５ａ～３５ｅと、第１～第５の光路長調節器７ａ～７ｅと、光束化装置３と、を含んでもよい。
　２．１　レーザ装置の概要
　第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅのそれぞれは、例えば、ＸｅＦ、ＸｅＣｌ、ＫｒＦ、又はＡｒＦをレーザ媒質とするエキシマレーザ装置であってもよい。第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅのそれぞれは、互いに実質的に同一の構成を有してもよい。第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅは、それぞれ第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを出力してもよい。第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、紫外線の波長領域を有してもよい。
　第１～第５の光路長調節器７ａ～７ｅが、それぞれ第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路に配置されてもよい。第１～第５の光路長調節器７ａ～７ｅは、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅのそれぞれの出力位置から光束化装置３の出射位置までの第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路長が互いに等しくなるように、それぞれの光路長を調節してもよい。高反射ミラー３０ａ～３０ｅと、高反射ミラー３５ａ～３５ｅとが、それぞれ第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路に配置されてもよい。第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、光束化装置３に導かれてもよい。図１においては５台のレーザ装置を図示しているが、レーザ装置の台数は特に限定されず、２以上の任意の台数であってもよい。
　２．２　光束化装置
　光束化装置３は、入射光学系３３と、ビームコンバイナ３４と、を備えてもよい。
　入射光学系３３は、二次光源光学系３１と、コンデンサ光学系３２とを含み、ケーラー照明を構成するように設計されてもよい。
　二次光源光学系３１は、第１～第５凹レンズ３１ａ～３１ｅを含んでもよい。
　第１凹レンズ３１ａは、第１のパルスレーザ光２１ａの光路であって、第１の光路長調節器７ａと、コンデンサ光学系３２との間に配置されてもよい。第１凹レンズ３１ａは、第１のパルスレーザ光２１ａをコンデンサ光学系３２に向けて透過させるときに、第１のパルスレーザ光２１ａのビーム幅を拡大させてもよい。
　第１～第５凹レンズ３１ａ～３１ｅは、互いに実質的に同一の構成を有していてもよい。
　第２凹レンズ３１ｂは、第２のパルスレーザ光２１ｂの光路に配置されてもよい。
　第３凹レンズ３１ｃは、第３のパルスレーザ光２１ｃの光路に配置されてもよい。
　第４凹レンズ３１ｄは、第４のパルスレーザ光２１ｄの光路に配置されてもよい。
　第５凹レンズ３１ｅは、第５のパルスレーザ光２１ｅの光路に配置されてもよい。
　第１～第５凹レンズ３１ａ～３１ｅにそれぞれ入射する第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、いずれも略同じ大きさのビーム形状であって、略同じビームダイバージェンスを有するレーザ光であってもよい。
　第１～第５凹レンズ３１ａ～３１ｅをそれぞれ透過した第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路軸は、互いにほぼ平行であってもよい。本明細書では、パルスレーザ光の「光路軸」は、パルスレーザ光の光路の中心軸を意味する。
　コンデンサ光学系３２は、以下に説明するように、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅが、ビームコンバイナ３４の入射面において略同じ領域に入射し、かつ、それぞれの所定の入射角度で入射するように、配置されてもよい。
　コンデンサ光学系３２は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路にまたがる領域であって、二次光源光学系３１とビームコンバイナ３４との間の位置に配置されてもよい。コンデンサ光学系３２は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを、ビームコンバイナ３４に向けて透過させ得る。このとき、コンデンサ光学系３２は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路軸の方向を、それぞれの所定方向に変化させ得る。
　コンデンサ光学系３２は、当該コンデンサ光学系３２の前側焦点面の位置が、第１～第５凹レンズ３１ａ～３１ｅのそれぞれの焦点の位置とほぼ一致するように、配置されてもよい。従って、コンデンサ光学系３２は、第１～第５凹レンズ３１ａ～３１ｅをそれぞれ透過した第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを、それぞれほぼ平行光となるように、コリメートし得る。
　コンデンサ光学系３２は、当該コンデンサ光学系３２の後側焦点面の位置がビームコンバイナ３４の入射側の面の位置とほぼ一致するように配置されてもよい。従って、コンデンサ光学系３２は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを、ビームコンバイナ３４の互いにほぼ同じ領域に、それぞれの所定の入射角度で入射させ得る。
　図１において、コンデンサ光学系３２は１つの凸レンズを含むものとして図示したが、図示しない他の凸レンズ又は凹レンズとの組み合わせや、凹面ミラー等を含んでもよい。
　ビームコンバイナ３４は、回折光学素子（Diffractive Optical Element：ＤＯＥ）を含んでもよい。この回折光学素子は、例えば合成石英やフッ化カルシウム基板等の紫外線を透過させる基板上に、所定形状の溝が所定間隔で形成されたものでもよい。
　コンデンサ光学系３２によって所定方向に光路軸を変化させられた第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅが、ビームコンバイナ３４に入射し得る。ビームコンバイナ３４に入射した第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、ほぼ同一の方向にビームコンバイナ３４から出射し得る。すなわち、上述した所定方向は、ビームコンバイナ３４によって第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅが結合されるような方向であってもよい。このようなビームコンバイナ３４として、例えば、米国特許出願公開第２００９／０２８５０７６号明細書に開示された回折光学素子が用いられてもよい。
　ビームコンバイナ３４から出射した第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、ほぼ同一の光路を通って露光装置４に入射してもよい。
　このようにして、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅが光束化装置３によって光束化されてもよい。以下の説明において、複数のパルスレーザ光が束ねられたパルスレーザ光を、光束化レーザ光２１と称することがある。光束化レーザ光２１は、１台のレーザ装置から出力されたパルスレーザ光に対して約５倍のパルスエネルギーを有してもよい。
　複数のパルスレーザ光を「光束化」するとは、複数のパルスレーザ光の光路を重ね合わせることを含んでもよい。あるいは、複数のパルスレーザ光を「光束化」するとは、図２３を参照しながら後述するように、複数のパルスレーザ光と光路を近接させて出射することを含んでもよい。
　２．３　露光装置
　露光装置４は、高反射ミラー４１と、照明光学系４２と、マスク４３と、転写光学系４４とを備えてもよい。露光装置４は、レーザシステム５から出射された光束化レーザ光２１を所定のマスクパターンに成形し、被照射物Ｐに照射してもよい。
　高反射ミラー４１は、レーザシステム５から出射された光束化レーザ光２１の光路に配置されてもよい。高反射ミラー４１は、光束化レーザ光２１を反射して照明光学系４２に入射させてもよい。照明光学系４２に入射する光束化レーザ光２１は、ほぼ平行光であってもよい。
　照明光学系４２は、光束化レーザ光２１の光路であって、高反射ミラー４１とマスク４３との間に配置されてもよい。照明光学系４２は、フライアイレンズ４２１と、コンデンサ光学系４２２とを含み、ケーラー照明を構成するように設計されてもよい。
　フライアイレンズ４２１は、光束化レーザ光２１の光路であって、高反射ミラー４１とコンデンサ光学系４２２との間に配置されてもよい。フライアイレンズ４２１は、光束化レーザ光２１の断面に沿って配列された複数のレンズを含んでもよい。当該複数のレンズのそれぞれは、光束化レーザ光２１の各一部をコンデンサ光学系４２２に向けて透過させるときに、当該各一部のビーム幅を拡大させてもよい。
　コンデンサ光学系４２２は、光束化レーザ光２１の光路であって、フライアイレンズ４２１とマスク４３との間に配置されてもよい。コンデンサ光学系４２２は、フライアイレンズ４２１から出射された光束化レーザ光２１をマスク４３に向けて照明してもよい。
　コンデンサ光学系４２２は、当該コンデンサ光学系４２２の後側焦点面の位置がマスク４３の位置とほぼ一致するように配置されてもよい。従って、コンデンサ光学系４２２は、フライアイレンズ４２１に含まれる複数のレンズのそれぞれを透過した光束化レーザ光２１を、マスク４３の互いにほぼ同じ領域に入射させ得る。
　図１において、コンデンサ光学系４２２は１つの凸レンズを含むものとして図示したが、図示しない他の凸レンズ又は凹レンズとの組み合わせや、凹面ミラー等を含んでもよい。
　以上の構成により、照明光学系４２は、マスク４３に照射される光束化レーザ光２１のビーム断面における光強度分布のばらつきを低減してもよい。
　マスク４３は、長方形形状の開口が形成されたスリットであってもよい。当該スリットの開口形状は、マスク４３のマスクパターンを構成し得る。マスク４３のマスクパターンは、長方形形状に限定されず、所望形状のパターンであってもよい。
　転写光学系４４は、光束化レーザ光２１の光路であって、マスク４３と被照射物Ｐとの間に配置されてもよい。転写光学系４４は、当該転写光学系４４によって結像されるマスク４３の像の位置が被照射物Ｐの被照射位置とほぼ一致するように配置されてもよい。これにより、転写光学系４４は、光束化レーザ光２１が照射されたマスク４３のマスクパターンを被照射物Ｐに転写してもよい。
　転写光学系４４は、１つ又は複数の凸レンズを含んでもよい。転写光学系４４は、１つ又は複数の凸レンズに限定されず、例えば凸レンズと凹レンズの組み合わせや、凹面ミラー等を含んでもよい。転写光学系４４は、長方形形状のマスクパターンの短手方向だけを被照射物Ｐに転写するシリンドリカルレンズによって構成されてもよい。
　以上のように、レーザシステム５は、１台のレーザ装置から出力されたパルスレーザ光よりもパルスエネルギーの高い光束化レーザ光２１を出力し得る。その結果、レーザアニール装置１は、アニールに必要な所定のパルスエネルギー密度で、且つ、広い照射面積で、光束化レーザ光２１を被照射物Ｐに照射し得る。そして、大面積の液晶ディスプレイの効率的な製造が可能となり得る。
　２．４　制御部
　露光装置４は、露光装置制御部４０を含んでいてもよい。露光装置制御部４０は、被照射物Ｐを保持するための図示しないステージの移動、被照射物Ｐやマスク４３の交換などの制御を行ってもよい。露光装置制御部４０は、レーザシステム制御部２０に対し、トリガ信号ＴＲを出力してもよい。
　レーザシステム５は、レーザシステム制御部２０と、同期制御部２２とを含んでいてもよい。レーザシステム制御部２０は、露光装置制御部４０から受信したトリガ信号ＴＲを、同期制御部２２に送信してもよい。同期制御部２２は、レーザシステム制御部２０から受信したトリガ信号ＴＲに基づいて、第１～第５のスイッチ信号Ｓ（１）～Ｓ（５）をそれぞれ第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅに送信してもよい。第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅは、同期制御部２２から受信したそれぞれのスイッチ信号に基づいて、パルスレーザ光を出力してもよい。
　２．５　レーザ装置の詳細
　図２は、図１に示されるレーザ装置の構成例を示す。例えば、第１のレーザ装置２ａは、レーザチャンバ１０と、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂと、充電器１２と、パルスパワーモジュール（ＰＰＭ）１３と、を含んでもよい。第１のレーザ装置２ａは、さらに、高反射ミラー１４と、出力結合ミラー１５と、パルスエネルギー計測部１７と、レーザ制御部１９と、を含んでもよい。第２～第５のレーザ装置２ｂ～２ｅの構成も同様でもよい。図２においては、パルスレーザ光２１ａの進行方向と一対の放電電極１１ａ及び１１ｂ間の放電方向との両方に垂直な方向からみたレーザチャンバ１０の内部構成が示されている。
　レーザチャンバ１０は、例えばレアガスとしてアルゴンまたはクリプトンまたはキセノン、バッファガスとしてネオンまたはヘリューム、ハロゲンガスとして塩素またはフッ素等を含む、レーザ媒質としてのレーザガスが封入されるチャンバでもよい。一対の電極１１ａ及び１１ｂは、レーザ媒質を放電により励起するための電極として、レーザチャンバ１０内に配置されてもよい。レーザチャンバ１０には開口が形成され、この開口を電気絶縁部２９が塞いでいてもよい。電極１１ａは電気絶縁部２９に支持され、電極１１ｂはリターンプレート１０ｄに支持されていてもよい。このリターンプレート１０ｄは図３を参照しながら後述する配線１０ｅ及び１０ｆによってレーザチャンバ１０の内面と接続されてもよい。電気絶縁部２９には、導電部２９ａが埋め込まれていてもよい。導電部２９ａは、パルスパワーモジュール１３から供給される高電圧を電極１１ａに印加するものであってもよい。
　充電器１２は、パルスパワーモジュール１３の中の後述する充電コンデンサＣ０に所定の電圧で充電する直流電源装置であってもよい。パルスパワーモジュール１３は、レーザ制御部１９によって制御されるスイッチ１３ａを含んでもよい。スイッチ１３ａがＯＦＦからＯＮになると、パルスパワーモジュール１３は、充電コンデンサＣ０に保持されていた電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を一対の電極１１ａ及び１１ｂ間に印加してもよい。
　一対の電極１１ａ及び１１ｂ間に高電圧が印加されると、一対の電極１１ａ及び１１ｂ間が絶縁破壊され、放電が起こり得る。この放電のエネルギーにより、レーザチャンバ１０内のレーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行し得る。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた光を放出し得る。
　レーザチャンバ１０の両端にはウインドウ１０ａ及び１０ｂが設けられてもよい。レーザチャンバ１０内で発生した光は、ウインドウ１０ａ及び１０ｂを介してレーザチャンバ１０の外部に出射し得る。
　高反射ミラー１４は、レーザチャンバ１０のウインドウ１０ａから出射された光を高い反射率で反射してレーザチャンバ１０に戻してもよい。
　出力結合ミラー１５は、レーザチャンバ１０のウインドウ１０ｂから出力される光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてレーザチャンバ１０内に戻してもよい。
　従って、高反射ミラー１４と出力結合ミラー１５とで、光共振器が構成され得る。レーザチャンバ１０から出射した光は、高反射ミラー１４と出力結合ミラー１５との間で往復し、電極１１ａと電極１１ｂとの間のレーザゲイン空間を通過する度に増幅され得る。増幅された光の一部が、出力結合ミラー１５を介して、パルスレーザ光２１ａとして出力され得る。
　パルスエネルギー計測部１７は、出力結合ミラー１５を介して出力されたパルスレーザ光２１ａの光路に配置されていてもよい。パルスエネルギー計測部１７は、ビームスプリッタ１７ａと、集光光学系１７ｂと、光センサ１７ｃとを含んでもよい。
　ビームスプリッタ１７ａは、パルスレーザ光２１ａを高い透過率で透過させるとともに、パルスレーザ光２１ａの一部を集光光学系１７ｂに向けて反射してもよい。集光光学系１７ｂは、ビームスプリッタ１７ａによって反射されたパルスレーザ光を光センサ１７ｃの受光面に集光してもよい。光センサ１７ｃは、受光面に集光されたパルスレーザ光のパルスエネルギーを検出し、検出されたパルスエネルギーのデータをレーザ制御部１９に出力してもよい。
　レーザ制御部１９は、上述のレーザシステム制御部２０との間で各種信号を送受信してもよい。例えば、レーザ制御部１９は、レーザシステム制御部２０から、トリガ信号、目標パルスエネルギーのデータ等を受信してもよい。また、レーザ制御部１９は、パルスエネルギー計測部１７からパルスエネルギーのデータを受信してもよい。
　レーザ制御部１９は、レーザシステム制御部２０から受信した目標パルスエネルギーのデータと、パルスエネルギー計測部１７から受信したパルスエネルギーのデータと、を参照して充電器１２の充電電圧の設定値を制御してもよい。充電器１２の充電電圧を制御することにより、レーザ光のパルスエネルギーが制御されてもよい。
　図３は、図２に示されるパルスパワーモジュールの構成と、レーザ光の進行方向に略平行な方向からみたレーザチャンバの内部構成を示す。レーザチャンバ１０の壁面を含む導電性部材は、接地電位に接続されてもよい。電極１１ｂは、リターンプレート１０ｄと配線１０ｅ及び１０ｆとレーザチャンバ１０の壁面を介して接地電位に接続されていてもよい。
　第１のレーザ装置２ａは、放電センサ１８を含んでいてもよい。放電センサ１８は、レーザチャンバ１０に取り付けられたウインドウ１０ｃと、集光光学系１８１と、光センサ１８２と、を含んでもよい。放電センサ１８は、放電タイミング検出器に相当し得る。
　ウインドウ１０ｃは、一対の電極１１ａ及び１１ｂの間の放電によって発生した光を透過させてもよい。集光光学系１８１は、ウインドウ１０ｃを透過した光を光センサ１８２の受光面に集光してもよい。光センサ１８２は、フォトダイオード又は光電管を含んでもよい。光センサ１８２は、一対の電極１１ａ及び１１ｂの間の放電によって発生した光を検出することにより、放電検出信号を同期制御部２２に送信してもよい。
　パルスパワーモジュール１３は、充電コンデンサＣ０と、スイッチ１３ａと、磁気圧縮回路としての昇圧トランスＴＣ１と、複数の磁気スイッチＳｒ１～Ｓｒ３と、複数のコンデンサＣ１、Ｃ２、Ｃ３と、を含んで構成されてもよい。
　磁気スイッチＳｒ１～Ｓｒ３は、いずれも、可飽和リアクトルを含んでもよい。磁気スイッチＳｒ１～Ｓｒ３の各々は、その両端に印加された電圧の時間積分値が、各磁気スイッチの特性で決まる所定の値になったときに、低インピーダンスになるようにしもよい。
　充電器１２には、レーザ制御部１９により充電電圧Ｖ（ｎ）が設定されてもよい。充電器１２は、設定された充電電圧Ｖ（ｎ）に基づいて、充電コンデンサＣ０を充電してもよい。
　パルスパワーモジュール１３のスイッチ１３ａには、同期制御部２２によりスイッチ信号が入力されてもよい。スイッチ信号がスイッチ１３ａに入力されると、スイッチ１３ａがＯＮになってもよい。スイッチ１３ａがＯＮになると、充電コンデンサＣ０から昇圧トランスＴＣ１の１次側に電流が流れ得る。
　昇圧トランスＴＣ１の１次側に電流が流れると、電磁誘導によって昇圧トランスＴＣ１の２次側に逆方向の電流が流れ得る。昇圧トランスＴＣ１の２次側に電流が流れると、やがて磁気スイッチＳｒ１に印加される電圧の時間積分値が閾値に達し得る。
　磁気スイッチＳｒ１に印加される電圧の時間積分値が閾値に達すると、磁気スイッチＳｒ１は磁気飽和した状態となり、磁気スイッチＳｒ１は閉じ得る。
　磁気スイッチＳｒ１が閉じると、昇圧トランスＴＣ１の２次側からコンデンサＣ１に電流が流れ、コンデンサＣ１が充電され得る。
　コンデンサＣ１が充電されることにより、やがて磁気スイッチＳｒ２は磁気飽和した状態となり、磁気スイッチＳｒ２は閉じ得る。
　磁気スイッチＳｒ２が閉じると、コンデンサＣ１からコンデンサＣ２に電流が流れ、コンデンサＣ２が充電され得る。このとき、コンデンサＣ１を充電する際の電流のパルス幅よりも短いパルス幅で、コンデンサＣ２が充電されてもよい。
　コンデンサＣ２が充電されることにより、やがて磁気スイッチＳｒ３は磁気飽和した状態となり、磁気スイッチＳｒ３は閉じ得る。
　磁気スイッチＳｒ３が閉じると、コンデンサＣ２からコンデンサＣ３に電流が流れ、コンデンサＣ３が充電され得る。このとき、コンデンサＣ２を充電する際の電流のパルス幅よりも短いパルス幅で、コンデンサＣ３が充電されてもよい。
　このように、コンデンサＣ１からコンデンサＣ２、コンデンサＣ２からコンデンサＣ３へと電流が順次流れることにより、当該電流のパルス幅は圧縮され得る。
　コンデンサＣ３の電圧がレーザガスのブレークダウン電圧に達したときに、一対の電極１１ａ及び１１ｂ間のレーザガスに絶縁破壊が生じてもよい。これにより、レーザガスが励起され、レーザ発振して、パルスレーザ光が出力され得る。このような放電動作が、スイッチ１３ａのスイッチング動作によって繰り返されることにより、所定の発振周波数で、パルスレーザ光が出力されてもよい。放電タイミング検出器として、放電電流を検出する電流計１８ｂが用いられてもよい。この電流計１８ｂは電流プローブであって、放電のタイミングを検出してもよい。
　また、放電センサの代わりの放電タイミング検出器として、パルスエネルギー計測部１７のパルスレーザ光の出力信号を使用してもよい。放電センサのタイミング信号またはパルスレーザ光の出力信号は、放電検出信号として、後述する同期制御部２２に入力されてもよい。
　２．６　同期制御部の詳細
　図４は、図１に示される同期制御部及びその周辺の構成を示すブロック図である。同期制御部２２は、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅと、クロック生成器２３と、遅延回路部２４と、を含んでもよい。第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅの各々は、処理部２５と、遅延回路２６と、タイマー２７とを含んでもよい。図４においては、第１及び第２のトリガ補正部２２ａ及び２２ｂの構成を示し、第３～第５のトリガ補正部２２ｃ～２２ｅについての説明を適宜省略するが、これらはいずれも同様であってよい。
　図４に示されるように、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅの各々は、一対の放電電極１１と、充電器１２と、パルスパワーモジュール１３と、放電センサ１８と、レーザ制御部１９と、を含んでもよい。図４においては、第１及び第２のレーザ装置２ａ及び２ｂの構成を示し、第３～第５のレーザ装置２ｃ～２ｅについての説明を適宜省略するが、これらはいずれも同様であってよい。
　同期制御部２２は、レーザシステム制御部２０から第１の遅延信号ＴＲ（１）の第１の遅延時間ＴＲｄ（１）のデータと、と第２の遅延信号ＴＲ（２）の第２の遅延時間ＴＲｄ（２）のデータと、を受信してもよい。
　同期制御部２２において、クロック生成器２３は、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅと、遅延回路部２４と、に共通のクロック信号を生成してもよい。遅延回路部２４は、レーザシステム制御部２０から出力されたトリガ信号ＴＲを受信してもよい。遅延回路部２４は、トリガ信号ＴＲを受信した時から第１の遅延時間ＴＲｄ（１）（図５、図６参照）が経過したことを示す第１の遅延信号ＴＲ（１）を、第１のトリガ補正部２２ａの遅延回路２６及びタイマー２７に出力してもよい。遅延回路部２４は、トリガ信号ＴＲを受信した時から第２の遅延時間ＴＲｄ（２）（図５、図６参照）が経過したことを示す第２の遅延信号ＴＲ（２）を、第２のトリガ補正部２２ｂの遅延回路２６及びタイマー２７に出力してもよい。
　第１のトリガ補正部２２ａの遅延回路２６は、第１の遅延信号ＴＲ（１）を受信した時から第１の補正時間Ｔｄ（１）（図６参照）が経過したことを示す第１のスイッチ信号Ｓ（１）を、第１のレーザ装置２ａのパルスパワーモジュール１３に出力してもよい。第１の補正時間Ｔｄ（１）は、第１のトリガ補正部２２ａの処理部２５によって設定されてもよい。第２のトリガ補正部２２ｂの遅延回路２６は、第２の遅延信号ＴＲ（２）を受信した時から第２の補正時間Ｔｄ（２）（図６参照）が経過したことを示す第２のスイッチ信号Ｓ（２）を、第２のレーザ装置２ｂのパルスパワーモジュール１３に出力してもよい。第２の補正時間Ｔｄ（２）は、第２のトリガ補正部２２ｂの処理部２５によって設定されてもよい。
　第１及び第２のレーザ装置２ａ及び２ｂの各々において、レーザ制御部１９は、レーザシステム制御部２０から目標パルスエネルギーのデータを受信してもよい。レーザ制御部１９は、目標パルスエネルギーのデータに基づいて、充電電圧の設定値を算出してもよい。レーザ制御部１９は、充電電圧の設定値を、充電器１２と、対応するトリガ補正部の処理部２５と、に送信してもよい。充電器１２は、充電電圧の設定値に従い、パルスパワーモジュール１３の中の充電コンデンサＣ０を充電してもよい。パルスパワーモジュール１３は、図３を参照しながら説明した磁気圧縮回路を含んで構成されてもよい。
　第１及び第２のレーザ装置２ａ及び２ｂのパルスパワーモジュール１３は、それぞれ、遅延回路２６から出力された第１及び第２のスイッチ信号Ｓ（１）及びＳ（２）を受信してもよい。第１及び第２のレーザ装置２ａ及び２ｂのパルスパワーモジュール１３のスイッチ１３ａは、それぞれスイッチ信号Ｓ（１）及びＳ（２）によってＯＦＦからＯＮになってもよい。スイッチ１３ａがＯＦＦからＯＮになると、パルスパワーモジュール１３は、充電コンデンサＣ０に保持されていた電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成してもよい。この高電圧は、一対の放電電極１１に印加されてもよい。
　一対の放電電極１１に高電圧が印加されると、一対の放電電極１１間が絶縁破壊され、放電が起こり得る。この放電のエネルギーにより励起されたレーザ媒質から放出された光が、上述の光共振器によって往復させられることにより、パルスレーザ光が生成され得る。
　第１及び第２のレーザ装置２ａ及び２ｂの放電センサ１８は、一対の放電電極１１間に発生した放電を検出し、それぞれ第１及び第２の放電検出信号ＤＳ（１）及びＤＳ（２）を出力してもよい。第１及び第２の放電検出信号ＤＳ（１）及びＤＳ（２）は、それぞれ第１及び第２のトリガ補正部２２ａ及び２２ｂのタイマー２７に入力されてもよい。
　第１のトリガ補正部２２ａのタイマー２７は、第１の遅延信号ＴＲ（１）を受信した時から、第１の放電検出信号ＤＳ（１）を受信した時までの第１の経過時間ＴＲｄｍ（１）を計測し、処理部２５に送信してもよい。第２のトリガ補正部２２ｂのタイマー２７は、第２の遅延信号ＴＲ（２）を受信した時から、第２の放電検出信号ＤＳ（２）を受信した時までの第２の経過時間ＴＲｄｍ（２）を計測し、処理部２５に送信してもよい。
　第１のトリガ補正部２２ａの処理部２５は、第１のレーザ装置２ａのレーザ制御部１９から送信された充電電圧の設定値と、タイマー２７から送信された第１の経過時間ＴＲｄｍ（１）とに基づいて、第１の補正時間Ｔｄ（１）を設定してもよい。
　第２のトリガ補正部２２ｂの処理部２５は、第２のレーザ装置２ｂのレーザ制御部１９から送信された充電電圧の設定値と、タイマー２７から送信された第２の経過時間ＴＲｄｍ（２）とに基づいて、第２の補正時間Ｔｄ（２）を設定してもよい。
　２．７　タイミングチャート
　図５は、図１に示されるレーザシステムにおけるタイミングチャートである。レーザシステム制御部２０は、露光装置制御部４０から受信したトリガ信号ＴＲを、同期制御部２２に送信してもよい。
　同期制御部２２の遅延回路部２４は、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅに対し、それぞれ第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）を出力してもよい。第１～第５の遅延信号は、それぞれ、トリガ信号ＴＲを受信した時から互いに異なる第１～第５の遅延時間ＴＲｄ（１）～ＴＲｄ（５）が経過したことを示すものでもよい。
　第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）の出力タイミングから、第１～第５の放電検出信号ＤＳ（１）～ＤＳ（５）の出力タイミングまでの時間は、互いにほぼ等しくなるように制御されることが望ましい。その場合、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）の間の時間差とほぼ同じ時間差で、第１～第５の放電検出信号ＤＳ（１）～ＤＳ（５）が出力され得る。
　第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅからは第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅがそれぞれ出力されてもよい。第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、第１～第５の放電検出信号ＤＳ（１）～ＤＳ（５）とそれぞれほぼ同じタイミングで、あるいは、第１～第５の放電検出信号ＤＳ（１）～ＤＳ（５）からそれぞれわずかに遅れたタイミングで、出力されてもよい。
　第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅのそれぞれの出力位置から光束化装置３の出射位置までの光路長は、上述の通り、互いにほぼ等しくなるように調節されてもよい。その場合、光束化装置３から出射される光束化レーザ光２１は、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）の時間差とほぼ同じ時間差を有する第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅが、組み合わされたものでもよい。第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）のタイミングを制御することにより、光束化レーザ光２１のパルス波形を調節することができる。
　第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅのそれぞれの出力位置から光束化装置３の出射位置までの光路長が互いに異なる場合には、その光路長差を光速で除算した値を用いて、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）のタイミングを補正してもよい。
　図６は、図４に示される第１及び第２のトリガ補正部におけるタイミングチャートである。
　図６においては、第３～第５のトリガ補正部２２ｃ～２２ｅが出力する第３～第５の遅延信号ＴＲ（３）～ＴＲ（５）や、第３～第５のレーザ装置２ｃ～２ｅが出力する第３～第５の放電検出信号ＤＳ（３）～ＤＳ（５）の図示は省略されている。
　図６に示されるように、第１の遅延信号ＴＲ（１）と第２の遅延信号ＴＲ（２）とは所定の時間差を有してもよい。ここで、第１のレーザ装置２ａが第１のスイッチ信号Ｓ（１）を受信した時から第１のパルスレーザ光を生成する時までの第１の所要時間は、第１のレーザ装置２ａの充電器１２の充電電圧によって変動し得る。第２のレーザ装置２ｂが第２のスイッチ信号Ｓ（２）を受信した時から第２のパルスレーザ光を生成する時までの第２の所要時間は、第２のレーザ装置２ｂの充電器１２の充電電圧によって変動し得る。そして、これらの充電電圧は、第１のレーザ装置２ａと第２のレーザ装置２ｂとで互いに別々に制御され得る。従って、第１の所要時間と第２の所要時間とは、互いに別々に変動し得る。また、第１の所要時間及び第２の所要時間は、それぞれのパルスパワーモジュール１３に含まれる磁気圧縮回路の温度によっても、変動し得る。
　タイマー２７が第１の遅延信号ＴＲ（１）を受信した時から、第１の放電検出信号ＤＳ（１）を受信した時までの第１の経過時間ＴＲｄｍ（１）は、第１の補正時間Ｔｄ（１）と、第１の所要時間と、の合計時間に相当してもよい。タイマー２７が第２の遅延信号ＴＲ（２）を受信した時から、第２の放電検出信号ＤＳ（２）を受信した時までの第２の経過時間ＴＲｄｍ（２）は、第２の補正時間Ｔｄ（２）と、第２の所要時間と、の合計時間に相当してもよい。
　第１の経過時間ＴＲｄｍ（１）を目標値に近づけるためには、第１の所要時間の変動に応じて、第１の補正時間Ｔｄ（１）を変更する必要があり得る。第２の経過時間ＴＲｄｍ（２）を目標値に近づけるためには、第２の所要時間の変動に応じて、第２の補正時間Ｔｄ（２）を変更する必要があり得る。
　第１の経過時間ＴＲｄｍ（１）及び第２の経過時間ＴＲｄｍ（２）を目標値に近づけることにより、第１の遅延信号ＴＲ（１）と第２の遅延信号ＴＲ（２）との時間差とほぼ等しい時間差で、第１のパルスレーザ光２１ａ及び第２のパルスレーザ光２１ｂを生成することができる。
　図７は、第ｎのトリガ補正部における具体的な補正方法を示すタイミングチャートである。以下の説明において、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅの各々を第ｎのトリガ補正部２２ｎとすることがある。また、第ｎのトリガ補正部２２ｎが入力又は出力する信号に（ｎ）を付して示し、あるいは、第ｎのトリガ補正部２２ｎに設定される時間に（ｎ）を付して示すことがある。
　第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）は、以下の式で算出されるものでもよい。
　　　Ｔｄ（ｎ）＝Ｔｄ０（ｎ）＋ΔＴＶ（ｎ）
　ここで、Ｔｄ０（ｎ）を第１の補正要素とし、ΔＴＶ（ｎ）を第２の補正要素としてもよい。
　第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）の初期値は、以下の式で設定されてもよい。
　　　Ｔｄ０（ｎ）の初期値
　　＝ＴＲｄｔ－Ｆ（Ｖ０（ｎ））
　ここで、ＴＲｄｔは、第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）の目標値であってもよい。第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）は、タイマー２７が第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から、第ｎの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時までの経過時間であってもよい。ここでは、第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）の目標値ＴＲｄｔが、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅに共通の値である場合について説明するが、別々の目標値が設定されるようにしてもよい。
　上記の式において、Ｆ（Ｖ０（ｎ））は、第ｎのレーザ装置２ｎにおいて設定される充電電圧の値が所定の基準電圧値Ｖ０（ｎ）である場合の、第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の入力から第ｎの放電検出信号ＤＳ（ｎ）の出力までの所要時間の計算値であってもよい。パルスパワーモジュール１３に含まれる磁気圧縮回路において、充電器１２による充電電圧Ｖのみが変更された場合には、この充電電圧Ｖと、第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）がスイッチ１３ａに入力されてからパルス状の高電圧が放電電極１１間に印加されるまでの所要時間Ｔと、の積がほぼ一定値Ｋとなり得る。従って、Ｆ（Ｖ０（ｎ））の計算は、以下の式で行われてもよい。
　　　Ｆ（Ｖ０（ｎ））＝Ｋ／Ｖ０（ｎ）
　Ｖ０（ｎ）は、基準電圧値でもよい。
　第ｎのレーザ装置２ｎにおいて設定される充電電圧の値が所定の基準電圧値Ｖ０（ｎ）と異なる電圧値Ｖ（ｎ）である場合に、第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）が、以下の式で算出されてもよい。
　　　ΔＴＶ（ｎ）＝Ｆ（Ｖ０（ｎ））－Ｆ（Ｖ（ｎ））
　ここで、Ｆ（Ｖ（ｎ））は、第ｎのレーザ装置２ｎにおいて設定される充電電圧の電圧値をＶ（ｎ）とした場合の、第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の入力から第ｎの放電検出信号ＤＳ（ｎ）の出力までの所要時間の計算値であってもよい。Ｆ（Ｖ（ｎ））の計算は、以下の式で行われてもよい。
　　　Ｆ（Ｖ（ｎ））＝Ｋ／Ｖ（ｎ）
　以上のように、充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）に基づいて、第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）を算出することにより、第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）のタイミング制御を高速で行うことができる。
　第ｎのトリガ補正部２２ｎの処理部２５は、タイマー２７が第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から、第ｎの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時までの第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）を受信した場合に、目標値ＴＲｄｔとの差ΔＴＲｄ（ｎ）を算出してもよい。差ΔＴＲｄ（ｎ）は、以下の式により算出されてもよい。
　　　ΔＴＲｄ（ｎ）＝ＡＶＧ（ＴＲｄｍ（ｎ））－ＴＲｄｔ
　ＡＶＧ（ＴＲｄｍ（ｎ））は、ＴＲｄｍ（ｎ）を複数回にわたって計測した場合のＴＲｄｍ（ｎ）の平均値であってもよい。
　こうして算出された差ΔＴＲｄ（ｎ）に基づいて、第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）が、以下の式により更新されてもよい。
　　　Ｔｄ０（ｎ）＝Ｔｄ０（ｎ）－ΔＴＲｄ（ｎ）
　以上のように、第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）の平均値と目標値ＴＲｄｔとの差ΔＴＲｄ（ｎ）に基づいて、第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）を更新することにより、例えば、磁気圧縮回路の温度変化やレーザチャンバのガス圧の変化等による第ｎの所要時間の変動に応じた補正が可能となる。これにより、第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）のタイミング制御を精度よく行うことができる。本明細書では、磁気圧縮回路の温度変化やレーザチャンバのガス圧の変化等による放電タイミングの変化を「ドリフト変化」と定義する。
　２．８　フローチャート
　　２．８．１　レーザシステム制御部の処理
　図８は、図１に示されるレーザシステム制御部の処理を示すフローチャートである。レーザシステム制御部２０は、以下の処理により、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅから出力される第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々について、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を算出してもよい。
　まず、Ｓ１０２において、レーザシステム制御部２０は、露光装置４の露光装置制御部４０から、光束化レーザ光２１の目標パルス波形のデータと、光束化レーザ光２１の目標パルスエネルギーのデータとを受信してもよい。
　次に、Ｓ１０３において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々について、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を算出してもよい。例えば、光束化レーザ光２１の目標パルス波形が短いパルス幅を有するものである場合には、第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）の各々を互いに近接した値としてもよい。また、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）の合計が、光束化レーザ光２１の目標パルスエネルギーに近づくように、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々の目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）が決められてもよい。
　第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々について、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）を算出したら、レーザシステム制御部２０は、それぞれの値を対応するレーザ装置のレーザ制御部１９に送信してもよい。
　第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々について、第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を算出したら、レーザシステム制御部２０は、これらの値を同期制御部２２の遅延回路部２４に送信してもよい。
　次に、Ｓ１１３において、レーザシステム制御部２０は、光束化レーザ光２１の目標パルス波形と、光束化レーザ光２１の目標パルスエネルギーを変更するか否かを判定してもよい。これらの値を変更する場合（Ｓ１１３；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理を上述のＳ１０２に戻してもよい。変更しない場合（Ｓ１１３；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ１１４に進めてもよい。
　次に、Ｓ１１４において、レーザシステム制御部２０は、パルス波形の制御を停止するか否かを判定してもよい。パルス波形の制御を停止しない場合（Ｓ１１４；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、処理を上述のＳ１１３に戻してもよい。パルス波形の制御を停止する場合（Ｓ１１４；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、本フローチャートの処理を終了してもよい。
　以上のようにして、レーザシステム制御部２０は、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を算出してもよい。
　　２．８．２　レーザ制御部の処理
　図９は、図４に示されるレーザ制御部の処理を示すフローチャートである。第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ含まれるレーザ制御部１９は、以下の処理により、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）に基づいて充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）を算出してもよい。
　まず、Ｓ２０１において、レーザ制御部１９は、当該レーザ装置２ｎの充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）を、初期値に設定してもよい。充電電圧の設定値の初期値は、上述の基準電圧値Ｖ０（ｎ）であってもよい。
　次に、Ｓ２０２において、レーザ制御部１９は、レーザシステム制御部２０から、当該レーザ装置２（ｎ）の目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）を読出してもよい。
　次に、Ｓ２０３において、レーザ制御部１９は、当該レーザ装置２（ｎ）がレーザ発振したか否かを判定してもよい。当該レーザ装置２（ｎ）がレーザ発振していない場合（Ｓ２０３；ＮＯ）、レーザ制御部１９は、レーザ発振するまで待機してもよい。当該レーザ装置２（ｎ）がレーザ発振した場合（Ｓ２０３；ＹＥＳ）、レーザ制御部１９は、処理をＳ２０４に進めてもよい。
　Ｓ２０４において、レーザ制御部１９は、当該レーザ装置２ｎから出力されたパルスレーザ光２１ｎのパルスエネルギーＥ（ｎ）を検出してもよい。パルスエネルギーＥ（ｎ）は、パルスエネルギー計測部１７によって検出されてもよい。
　次に、Ｓ２０５において、レーザ制御部１９は、検出されたパルスエネルギーＥ（ｎ）と、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）との差ΔＥ（ｎ）を、以下の式により算出してもよい。
　　　ΔＥ（ｎ）＝Ｅ（ｎ）－Ｅｔ（ｎ）
　次に、Ｓ２０６において、レーザ制御部１９は、目標パルスエネルギーとの差ΔＥ（ｎ）に基づいて、充電電圧の設定値の変化量ΔＶ（ｎ）を以下の式により算出してもよい。
　　　ΔＶ（ｎ）＝Ｈ・ΔＥ（ｎ）
　ここで、Ｈは比例定数であってもよい。充電電圧の設定値の変化量ΔＶ（ｎ）は、次の充電電圧の設定値をどのくらい変化させればよいかを示していてもよい。レーザ制御部１９は、次の充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）を以下の式により算出してもよい。
　　　Ｖ（ｎ）＝Ｖ（ｎ）＋ΔＶ（ｎ）
　次に、Ｓ２０７において、レーザ制御部１９は、充電器１２と、第ｎのトリガ補正部２２ｎの処理部２５と、に次の充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）を送信してもよい。
　次に、Ｓ２０８において、レーザ制御部１９は、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）を変更するか否かを判定してもよい。目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）を変更する場合（Ｓ２０８；ＹＥＳ）、レーザ制御部は、処理を上述のＳ２０２に戻してもよい。目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）を変更しない場合（Ｓ２０８；ＮＯ）、レーザ制御部は、処理を上述のＳ２０３に戻してもよい。
　以上のようにして、レーザ制御部１９は、充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）を算出してもよい。
　　２．８．３　第ｎのトリガ補正部の処理
　図１０は、図４に示される第ｎのトリガ補正部の処理を示すフローチャートである。第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下の処理により、第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を構成する第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）及び第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）を算出してもよい。
　まず、Ｓ３０１において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下のように、いくつかの変数を初期値に設定してもよい。
　　　Ｊ＝０
　　　ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）＝０
　　　Ｔｄ０（ｎ）＝ＴＲｄｔ－Ｆ（Ｖ０（ｎ））
　ここで、Ｊは発振パルス数を数えるためのカウンタでもよい。ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）は、タイマー２７が第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から、第ｎの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時までの第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）の平均値を算出するための、ＴＲｄｍ（ｎ）の合計値であってもよい。Ｔｄ０（ｎ）は、第１の補正要素であって、ＴＲｄｔ－Ｆ（Ｖ０（ｎ））は、上述した第１の補正要素の初期値であってもよい。
　次に、Ｓ３０２において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、レーザ制御部１９から、充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）を読出してもよい。
　次に、Ｓ３０３において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、充電電圧の設定値Ｖ（ｎ）に基づいて、第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）を以下の式により算出してもよい。
　　　ΔＴＶ（ｎ）＝Ｆ（Ｖ０（ｎ））－Ｆ（Ｖ（ｎ））
　次に、Ｓ３０４において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を以下の式により算出してもよい。
　　　Ｔｄ（ｎ）＝Ｔｄ０（ｎ）＋ΔＴＶ（ｎ）
　ここで、Ｔｄ０（ｎ）は第１の補正要素であり、ΔＴＶ（ｎ）は第２の補正要素であってもよい。
　次に、Ｓ３０６において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振したか否かを判定してもよい。第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振したか否かは、放電センサ１８からの放電検出信号ＤＳ（ｎ）をタイマー２７が受信したか否かによって判定されてもよい。第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振した場合（Ｓ３０６；ＹＥＳ）、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理をＳ３０７に進めてもよい。第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振していない場合（Ｓ３０６；ＮＯ）、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振するまで待機してもよい。
　Ｓ３０７において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、現在のカウンタＪの値に１を加算してＪの値を更新してもよい。
　次に、Ｓ３０８において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、タイマー２７が第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から、第ｎの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時までの第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）を、タイマー２７から読出してもよい。
　次に、Ｓ３０９において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下の式により、ＴＲｄｍ（ｎ）の合計値ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）を更新してもよい。
　　　ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）＝ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）＋ＴＲｄｍ（ｎ）
　次に、Ｓ３１２において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、カウンタＪの値が所定のサンプル数Ｊｍａｘに達したか否かを判定してもよい。カウンタＪの値が所定のサンプル数Ｊｍａｘに達していない場合（Ｓ３１２；ＮＯ）、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理を上述のＳ３０２に戻してもよい。カウンタＪの値が所定のサンプル数Ｊｍａｘに達した場合（Ｓ３１２；ＹＥＳ）、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理をＳ３１３に進めてもよい。
　Ｓ３１３において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、ＴＲｄｍ（ｎ）の平均値と、目標値ＴＲｄｔとの差ΔＴＲｄ（ｎ）を算出してもよい。差ΔＴＲｄ（ｎ）は、以下の式により算出されてもよい。
　　　ΔＴＲｄ（ｎ）＝ＡＶＧ（ＴＲｄｍ（ｎ））－ＴＲｄｔ
　　　　　　　　　　＝ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）／Ｊｍａｘ－ＴＲｄｔ
　次に、Ｓ３１４において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）を、以下の式により更新してもよい。
　　　Ｔｄ０（ｎ）＝Ｔｄ０（ｎ）－ΔＴＲｄ（ｎ）
　第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）を更新したら、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理を上述のＳ３０２に戻してもよい。
　以上のようにして、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）及び第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）を更新しながら、第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を算出してもよい。第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）は、上述のように、１回のパルス発振ごとに更新されてもよい。第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）は、上述のように、所定のサンプル数Ｊｍａｘのパルス発振ごとに更新されてもよい。所定のサンプル数Ｊｍａｘは、例えば２００回～１００００回であってもよい。このように、第１の補正要素Ｔｄ０（ｎ）の更新により第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を設定する設定処理の頻度は、第２の補正要素ΔＴＶ（ｎ）の更新により第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を設定する設定処理の頻度より小さくてもよい。
　第１の実施形態によれば、第ｎのトリガ補正部２２ｎが、第ｎの所要時間の変動に応じて第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を補正することにより、第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）を目標値ＴＲｄｔに近づけることができる。具体的には、充電器１２の充電電圧に基づく補正時間の制御と、ドリフト変化による第ｎの所要時間の変動に応じた補正時間の制御と、が可能となる。これにより、各レーザ装置の放電タイミングを安定化させ、光束化レーザ光のパルス波形を安定化し得る。
　光束化レーザ光のパルス波形の制御は、遅延回路部２４が第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を制御することにより実現されるので、第ｎのトリガ補正部２２ｎによる制御とは別々に行うことができる。
　また、第１の実施形態によれば、クロック生成器２３が、第１～第５のトリガ補正部２２（１）～２２（５）と、遅延回路部２４と、に共通のクロック信号を生成している。これにより、それぞれの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）あるいは補正時間Ｔｄ（ｎ）の相互の誤差を低減することができる。
　なお、同期制御部２２と各レーザ装置との配線が長い場合には、配線の長さをｌとすると電気信号はｌ／ｃ遅れ得る。ｃは光速でもよい。そこで、それぞれのスイッチ信号Ｓ（ｎ）とそれぞれの放電センサのタイミング信号の電線の長さから信号の遅れ分を補正してもよい。また、配線の代わりに光ファイバによる通信を行ったとしても同様の遅れが発生し得るので、この補正を行ってもよい。
　また、本実施形態では、光束化レーザ光のパルス波形の制御は、遅延回路部２４が、第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を制御することにより実現しているが、この実施形態に限定されることなく、以下の構成であってもよい。遅延回路部２４の代わりに露光装置制御部４０からのトリガ信号ＴＲを遅延することなく分配する分配器を配置し、各レーザ装置に対応するトリガ補正部２２ｎに、それぞれ、異なる目標値ＴＲｄｔ（ｎ）を設定することによって、各レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のタイミングを制御してもよい。
　上述の説明においては、レーザシステム制御部２０、同期制御部２２及び各レーザ装置のレーザ制御部１９がレーザ装置の制御を行ったが、本開示はこれに限定されない。露光装置４に含まれる露光装置制御部４０が、各種制御を行ってもよい。
３．増幅器を含むレーザシステム（第２の実施形態）
　３．１　レーザ装置の構成
　図１１は、本開示の第２の実施形態に係るレーザシステムに含まれるレーザ装置の構成例を示す。レーザアニール装置１の全体的な構成は、図１と同様でよい。
　第２の実施形態において、例えば、第１のレーザ装置２ａは、マスターオシレータＭＯと、増幅器ＰＡと、を含んでもよい。第２～第５のレーザ装置２ｂ～２ｅの構成も同様でもよい。
　マスターオシレータＭＯは、レーザチャンバ１０ｍｏと、一対の電極１１ａ及び１１ｂと、充電器１２ｍｏと、パルスパワーモジュール１３ｍｏと、を含んでもよい。マスターオシレータＭＯは、さらに、高反射ミラー１４と、出力結合ミラー１５と、放電センサ１８ｍｏと、を含んでもよい。これらの構成及び機能は、図２を参照しながら説明したものと同様でよい。
　増幅器ＰＡは、マスターオシレータＭＯから出力結合ミラー１５を介して出力されたパルスレーザ光の光路に配置されてもよい。増幅器ＰＡは、マスターオシレータＭＯと同様に、レーザチャンバ１０ｐａと、一対の電極１１ａ及び１１ｂと、充電器１２ｐａと、パルスパワーモジュール１３ｐａと、放電センサ１８ｐａと、を含んでもよい。これらの構成は、マスターオシレータＭＯに含まれているものと同様でもよい。増幅器ＰＡは、高反射ミラー１４又は出力結合ミラー１５を含まなくてもよい。増幅器ＰＡのウインドウ１０ａに入射したパルスレーザ光は、電極１１ａと電極１１ｂとの間のレーザゲイン空間を１回通過して、ウインドウ１０ｂから出力されてもよい。
　レーザ制御部１９は、マスターオシレータＭＯの充電器１２ｍｏの充電電圧の設定値と、増幅器ＰＡの充電器１２ｐａの充電電圧の設定値と、を制御してもよい。これらの充電電圧を制御することにより、レーザ光のパルスエネルギーが制御されてもよい。
　３．２　同期制御部の詳細
　図１２は、第２の実施形態における同期制御部及びその周辺の構成を示すブロック図である。図１２においては、第１のトリガ補正部２２ａの構成を第ｎのトリガ補正部２２ｎとして示し、第２～第５のトリガ補正部２２ｂ～２２ｅについての説明を適宜省略するが、これらはいずれも同様であってよい。第２の実施形態において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第ｎのレーザ装置２ｎのマスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡとのそれぞれについてスイッチ信号のタイミングを設定してもよい。
　第ｎのトリガ補正部２２ｎの遅延回路２６は、第ｎのレーザ装置２ｎのマスターオシレータＭＯのパルスパワーモジュール１３ｍｏに、第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）を出力してもよい。マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）は、第１の実施形態において説明した第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）と同様でよい。第ｎのトリガ補正部２２ｎの遅延回路２６は、第ｎのレーザ装置２ｎの増幅器ＰＡのパルスパワーモジュール１３ｐａに、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）とは別の第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）を出力してもよい。増幅器ＰＡに出力する第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）は、第ｎのトリガ補正部２２ｎが第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から第ｎの設定時間Ｔｄｐａ（ｎ）が経過したことを示す信号であってもよい。
　第ｎのレーザ装置２ｎにおいて、レーザ制御部１９は、レーザシステム制御部２０から目標パルスエネルギーのデータを受信してもよい。レーザ制御部１９は、目標パルスエネルギーのデータに基づいて、充電電圧の設定値を算出してもよい。レーザ制御部１９は、充電電圧の設定値を、充電器１２ｍｏと、充電器１２ｐａと、第ｎのトリガ補正部２２ｎの処理部２５と、に送信してもよい。ここでは、充電器１２ｍｏ及び充電器１２ｐａに送信される充電電圧の設定値は、同じ値である場合について説明するが、互いに異なる値であってもよい。充電器１２ｍｏ及び充電器１２ｐａは、充電電圧の設定値に従い、それぞれ、パルスパワーモジュール１３ｍｏ及び１３ｐａの中の充電コンデンサＣ０を充電してもよい。パルスパワーモジュール１３ｍｏ及び１３ｐａの各々は、図３を参照しながら説明した磁気圧縮回路を含んで構成されてもよい。
　第ｎのレーザ装置２ｎのパルスパワーモジュール１３ｍｏ及び１３ｐａは、それぞれ、遅延回路２６から出力された第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）及び第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）を受信してもよい。パルスパワーモジュール１３ｍｏ及び１３ｐａのそれぞれのスイッチ１３ａは、これらのスイッチ信号によって、ＯＦＦからＯＮになってもよい。パルスパワーモジュール１３ｍｏ及び１３ｐａは、それぞれのスイッチ１３ａがＯＦＦからＯＮになると、それぞれの充電コンデンサＣ０に保持されていた電気エネルギーからそれぞれのパルス状の高電圧を生成してもよい。それぞれの放電電極１１ｍｏ及び１１ｐａ間にそれぞれ高電圧が印加され得る。
　マスターオシレータＭＯの放電センサ１８ｍｏは、マスターオシレータＭＯの放電電極１１間に生成した放電を検出し、放電検出信号ＤＳ（ｎ）を出力してもよい。増幅器ＰＡの放電センサ１８ｐａは、増幅器ＰＡの放電電極１１間に生成した放電を検出し、増幅器放電検出信号ＤＳｐａ（ｎ）を出力してもよい。マスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）及び増幅器ＰＡからの増幅器放電検出信号ＤＳｐａ（ｎ）は、タイマー２７に入力されてもよい。
　第ｎのトリガ補正部２２ｎのタイマー２７は、第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から、マスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時までの第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）を計測し、処理部２５に送信してもよい。第ｎのトリガ補正部２２ｎのタイマー２７は、マスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時から、増幅器ＰＡからの増幅器放電検出信号ＤＳｐａ（ｎ）を受信した時までのタイミング差Ｄｍ（ｎ）を計測し、処理部２５に送信してもよい。
　処理部２５は、レーザ制御部１９から送信された充電電圧の設定値と、タイマー２７から送信された第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）とに基づいて、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の第ｎの補正時間を設定してもよい。
　処理部２５は、タイマー２７から送信されたタイミング差Ｄｍ（ｎ）に基づいて、増幅器ＰＡに出力する第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）の第ｎの設定時間Ｔｄｐａ（ｎ）を設定してもよい。
　３．３　タイミングチャート
　図１３は、第２の実施形態の第ｎのトリガ補正部における具体的な補正方法を示すタイミングチャートである。
　マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の制御については、第１の実施形態において図７を参照しながら説明したものと同様でよい。
　増幅器ＰＡに出力する第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）の第ｎの設定時間Ｔｄｐａ（ｎ）は、以下の式で算出されるものでもよい。
　　　Ｔｄｐａ（ｎ）＝Ｔｄ（ｎ）＋Ｄ（ｎ）
　ここで、Ｔｄ（ｎ）は、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の第ｎの補正時間であってもよい。Ｄ（ｎ）は、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差であってもよい。すなわち、Ｄ（ｎ）は、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の出力タイミングから、増幅器ＰＡに出力する第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）の出力タイミングまでの時間差であってもよい。
　第ｎのトリガ補正部２２ｎのタイマー２７は、マスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時から、増幅器ＰＡからの増幅器放電検出信号ＤＳｐａ（ｎ）を受信した時までのタイミング差Ｄｍ（ｎ）を、処理部２５に出力してもよい。
　第ｎのトリガ補正部２２ｎの処理部２５は、タイマー２７からタイミング差Ｄｍ（ｎ）を受信した場合に、目標値Ｄｔ（ｎ）との差ΔＤ（ｎ）を算出してもよい。差ΔＤ（ｎ）は、以下の式により算出されてもよい。
　　　ΔＤ（ｎ）＝ＡＶＧ（Ｄｍ（ｎ））－Ｄｔ（ｎ）
　ＡＶＧ（Ｄｍ（ｎ））は、タイミング差Ｄｍ（ｎ）を複数回にわたって計測した場合のタイミング差Ｄｍ（ｎ）の平均値であってもよい。
　タイミング差Ｄｍ（ｎ）の目標値Ｄｔ（ｎ）は、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅにおいて別々の値であってもよい。目標値Ｄｔ（ｎ）は、増幅器ＰＡにおける増幅効率が高くなるような値であってもよい。
　こうして算出された差ΔＤ（ｎ）に基づいて、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差Ｄ（ｎ）が、以下の式により更新されてもよい。
　　　Ｄ（ｎ）＝Ｄ（ｎ）－ΔＤ（ｎ）
　以上のように、タイミング差Ｄｍ（ｎ）と目標値Ｄｔ（ｎ）との差ΔＤ（ｎ）に基づいて、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差Ｄ（ｎ）を更新することにより、増幅器ＰＡに出力する第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）のタイミング制御を精度よく行うことができる。
　３．４　第ｎのトリガ補正部の処理
　図１４Ａ及び図１４Ｂは、第２の実施形態における第ｎのトリガ補正部の処理を示すフローチャートである。第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下の処理により、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）と、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差Ｄ（ｎ）と、を算出してもよい。
　まず、図１４Ａに示されるように、Ｓ３０１において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下のように、いくつかの変数を初期値に設定してもよい。
　　　Ｊ＝０
　　　ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）＝０
　　　Ｔｄ０（ｎ）＝ＴＲｄｔ－Ｆ（Ｖ０（ｎ））
　　　Ｄｓｕｍ（ｎ）＝０
　　　Ｄ（ｎ）＝Ｄｔ（ｎ）
　ここで、Ｊと、ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）と、Ｔｄ０（ｎ）とは、第１の実施形態において説明したものと同様でよい。
　Ｄｓｕｍ（ｎ）は、タイマー２７がマスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時から増幅器ＰＡからの増幅器放電検出信号ＤＳｐａ（ｎ）を受信した時までのタイミング差Ｄｍ（ｎ）の平均値を算出するための、タイミング差Ｄｍ（ｎ）の合計値であってもよい。Ｄ（ｎ）は、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差であってもよい。Ｄｔ（ｎ）は、タイミング差Ｄｍ（ｎ）の目標値であってもよい。
　次のＳ３０２及びＳ３０３の処理は、第１の実施形態におけるものと同様でよい。
　次に、Ｓ３０４において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）を以下の式により算出してもよい。
　　　Ｔｄ（ｎ）＝Ｔｄ０（ｎ）＋ΔＴＶ（ｎ）
　この処理も、第１の実施形態におけるものと同様でよい。
　次に、Ｓ３０５において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、増幅器ＰＡに出力する第ｎの増幅器スイッチ信号Ｓｐａ（ｎ）の第ｎの設定時間Ｔｄｐａ（ｎ）を以下の式により算出してもよい。
　　　Ｔｄｐａ（ｎ）＝Ｔｄ（ｎ）＋Ｄ（ｎ）
　次に、Ｓ３０６において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振したか否かを判定してもよい。第ｎのレーザ装置２ｎがレーザ発振した場合（Ｓ３０６；ＹＥＳ）、Ｓ３０７において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、現在のカウンタＪの値に１を加算してＪの値を更新してもよい。これらの処理は、第１の実施形態におけるものと同様でよい。
　次に、図１４Ｂに示されるように、Ｓ３０８において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、タイマー２７が第ｎの遅延信号ＴＲ（ｎ）を受信した時から、マスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時までの第ｎの経過時間ＴＲｄｍ（ｎ）を、タイマー２７から読出してもよい。
　次に、Ｓ３０９において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下の式により、ＴＲｄｍ（ｎ）の合計値ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）を更新してもよい。
　　　ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）＝ＴＲｄｍｓｕｍ（ｎ）＋ＴＲｄｍ（ｎ）
　これらの処理も、第１の実施形態におけるものと同様でよい。
　次に、Ｓ３１０において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、タイマー２７がマスターオシレータＭＯからの放電検出信号ＤＳ（ｎ）を受信した時から、増幅器ＰＡからの増幅器放電検出信号ＤＳｐａ（ｎ）を受信した時までのタイミング差Ｄｍ（ｎ）を、タイマー２７から読出してもよい。
　次に、Ｓ３１１において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、以下の式により、タイミング差Ｄｍ（ｎ）の合計値Ｄｓｕｍ（ｎ）を更新してもよい。
　　　Ｄｓｕｍ（ｎ）＝Ｄｓｕｍ（ｎ）＋Ｄｍ（ｎ）
　次に、Ｓ３１２において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、カウンタＪの値が所定のサンプル数Ｊｍａｘに達したか否かを判定してもよい。カウンタＪの値が所定のサンプル数Ｊｍａｘに達していない場合（Ｓ３１２；ＮＯ）、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理を上述のＳ３０２に戻してもよい。カウンタＪの値が所定のサンプル数Ｊｍａｘに達した場合（Ｓ３１２；ＹＥＳ）、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理をＳ３１３に進めてもよい。
　Ｓ３１３及びその次のＳ３１４の処理は、第１の実施形態におけるものと同様でよい。
　次に、Ｓ３１５において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、タイミング差Ｄｍ（ｎ）の平均値と、目標値Ｄｔ（ｎ）との差ΔＤ（ｎ）を算出してもよい。差ΔＤ（ｎ）は、以下の式により算出されてもよい。
　　　ΔＤ（ｎ）＝ＡＶＧ（Ｄｍ（ｎ））－Ｄｔ（ｎ）
　　　　　　　　＝Ｄｓｕｍ（ｎ）／Ｊｍａｘ－Ｄｔ（ｎ）
　次に、Ｓ３１６において、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差Ｄ（ｎ）を、以下の式により更新してもよい。
　　　Ｄ（ｎ）＝Ｄ（ｎ）－ΔＤ（ｎ）
　マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差Ｄ（ｎ）を更新したら、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、処理を上述のＳ３０２に戻してもよい。
　以上のようにして、第ｎのトリガ補正部２２ｎは、マスターオシレータＭＯに出力する第ｎのスイッチ信号Ｓ（ｎ）の第ｎの補正時間Ｔｄ（ｎ）と、マスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡのスイッチ信号の時間差Ｄ（ｎ）と、を算出してもよい。
　第２の実施形態によれば、レーザ装置がマスターオシレータＭＯと増幅器ＰＡとを含む場合にも、適切なタイミング制御が可能となる。その結果、各レーザ装置の放電タイミングを安定化させ、光束化レーザ光のパルス波形を安定化し得る。
　他の点については、第１の実施形態と同様でよい。なお、１つのレーザ装置が１つのマスターオシレータＭＯと１つの増幅器ＰＡとを含む場合に限らず、１つのレーザ装置が１つのマスターオシレータＭＯと複数の増幅器ＰＡとを含んでもよい。
４．各レーザ装置がトリガ補正部を含むレーザシステム
　４．１　第３の実施形態
　図１５は、本開示の第３の実施形態に係るレーザシステムの構成を示すブロック図である。第３の実施形態において、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅは、それぞれ第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅに含まれていてもよい。レーザシステム５は、同期制御部２２の代わりに、分配器２８を含んでもよい。同期制御部２２に含まれていたクロック生成器２３の代わりに、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれクロック生成器２３ａ～２３ｅが含まれてもよい。但し、クロック生成器２３ｃ～２３ｅについては図示を省略している。同期制御部２２に含まれていた遅延回路部２４の代わりに、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ遅延回路部２４ａ～２４ｅが含まれてもよい。但し、遅延回路部２４ｃ～２４ｅについては図示を省略している。
　第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ含まれる遅延回路部２４ａ～２４ｅは、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）のそれぞれの遅延時間ＴＲｄ（１）～ＴＲｄ（５）のデータを、レーザシステム制御部２０から受信してもよい。
　分配器２８は、レーザシステム制御部２０からトリガ信号ＴＲを受信し、このトリガ信号ＴＲを、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ含まれる遅延回路部２４ａ～２４ｅに送信してもよい。遅延回路部２４ａ～２４ｅは、それぞれ、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）を生成し、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅに送信してもよい。クロック生成器２３ａ～２３ｅは、それぞれ、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにおいてクロック信号を生成してもよい。第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅの各々において、クロック信号はトリガ補正部と遅延回路部とに共通であってもよい。
　他の点については第１の実施形態と同様でよい。
　第３の実施形態では、トリガ補正部２２ａ～２２ｅと遅延回路部２４ａ～２４ｅとがそれぞれのレーザ装置に含まれているので、トリガ補正部２２とパルスパワーモジュール１３の間の配線の距離が短くなるので、配線の長さによる信号の遅れを抑制し得る。
　なお、第３の実施形態では、トリガ補正部２２ａ～２２ｅと遅延回路部２４ａ～２４ｅとがそれぞれのレーザ装置に含まれている場合の例を示したがこの例に限定されることなく、たとえば、遅延回路部２４ａ～２４ｅをなくして、トリガ補正部２２ａ～２２ｅに、それぞれ、異なる目標値ＴＲｄｔ（ｎ）を設定することによって、各レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のタイミングを制御してもよい。
　４．２　第４の実施形態
　図１６は、本開示の第４の実施形態に係るレーザシステムの構成を示すブロック図である。第４の実施形態において、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅは、それぞれ第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅに含まれていてもよい。レーザシステム５は、同期制御部２２の代わりに、分配器２８を含んでもよい。同期制御部２２に含まれていたクロック生成器２３の代わりに、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれクロック生成器２３ａ～２３ｅが含まれてもよい。但し、クロック生成器２３ｂ～２３ｅについては図示を省略している。同期制御部２２に含まれていた遅延回路部２４の代わりに、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ遅延回路部２４ａ～２４ｅが含まれてもよい。但し、遅延回路部２４ｂ～２４ｅについては図示を省略している。
　第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ含まれる遅延回路部２４ａ～２４ｅは、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）のそれぞれの遅延時間ＴＲｄ（１）～ＴＲｄ（５）のデータを、レーザシステム制御部２０から受信してもよい。
　分配器２８は、レーザシステム制御部２０からトリガ信号ＴＲを受信し、このトリガ信号ＴＲを、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにそれぞれ含まれる遅延回路部２４ａ～２４ｅに送信してもよい。遅延回路部２４ａ～２４ｅは、それぞれ、第１～第５の遅延信号ＴＲ（１）～ＴＲ（５）を生成し、第１～第５のトリガ補正部２２ａ～２２ｅに送信してもよい。クロック生成器２３ａ～２３ｅは、それぞれ、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅにおいてクロック信号を生成してもよい。第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅの各々において、クロック信号はトリガ補正部と遅延回路部とに共通であってもよい。
　他の点については第２の実施形態と同様でよい。
　第３の実施形態と同様に第４の実施形態では、トリガ補正部２２ａ～２２ｅと遅延回路部２４ａ～２４ｅとがそれぞれのレーザ装置に含まれているので、トリガ補正部２２とパルスパワーモジュール１３の間の配線の距離が短くなるので、配線の長さによる信号の遅れを抑制し得る。
　なお、第４の実施形態では、トリガ補正部２２ａ～２２ｅと遅延回路部２４ａ～２４ｅとがそれぞれのレーザ装置に含まれている場合の例を示したがこの例に限定されることなく、たとえば、遅延回路部２４ａ～２４ｅをなくして、トリガ補正部２２ａ～２２ｅに、それぞれ、異なる目標値ＴＲｄｔ（ｎ）を設定することによって、各レーザ装置から出力されるパルスレーザ光のタイミングを制御してもよい。
５．パルス波形計測器を含むレーザシステム（第５の実施形態）
　５．１　構成
　図１７は、本開示の第５の実施形態に係るレーザシステム５を含むレーザアニール装置１の構成を概略的に示す。第５の実施形態において、レーザシステム５は、パルス波形計測器６と、シャッタ３６と、を含んでもよい。
　パルス波形計測器６は、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅの出力位置と、光束化装置３との間の第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路にまたがって配置されていてもよい。パルス波形計測器６に入射する第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅは、互いにほぼ平行であってもよい。
　シャッタ３６は、光束化装置３から出力された光束化レーザ光２１の光路の近傍に配置されてもよい。シャッタ３６は、遮蔽板３６ａと、アクチュエータ３６ｂとを含んでもよい。アクチュエータ３６ｂによって、光束化レーザ光２１の光路に遮蔽板３６ａを移動させ、あるいは光束化レーザ光２１の光路から遮蔽板３６ａを退避させることができてもよい。
　他の点については、第１～第４の実施形態と同様でよい。
　５．２　パルス波形計測器
　図１８は、図１７に示されるパルス波形計測器６の具体的構成を示す。
　パルス波形計測器６は、ビームスプリッタ６１と、集光光学系６３と、光センサ６４と、ビーム選択機構６７と、を含んでもよい。
　ビームスプリッタ６１は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路に配置されていてもよい。ビームスプリッタ６１は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを高い透過率で透過させるとともに、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの各一部を反射してもよい。
　ビーム選択機構６７は、スリット板６８と、移動機構６９とを含んでもよい。ビーム選択機構６７は、ビームスプリッタ６１によって反射された第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路に位置してもよい。移動機構６９は、スリット板６８が第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの光路軸を横切るように、スリット板６８を移動させてもよい。スリット板６８には、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅのうちの１つのパルスレーザ光のみを通過させることのできる幅を有する隙間が形成されていてもよい。移動機構６９を制御して、スリット板６８の位置を調整することにより、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅのすべて又は第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅに含まれる１つのパルスレーザ光を選択して、ビーム選択機構６７を通過させ得る。
　集光光学系６３は、ビーム選択機構６７を通過した第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの全体又は個々のパルスレーザ光を、光センサ６４の受光面に集光し得る。
　光センサ６４は、集光光学系６３の焦点面の位置に配置されてもよい。光センサ６４は、高速応答のフォトダイオード又は光電管であってもよい。光センサ６４は、集光光学系６３によって集光された、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの全体又は個々のパルスレーザ光を受光してもよい。光センサ６４は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの全体又は個々のパルスレーザ光のパルス波形のデータ及びパルスの通過タイミングのデータをレーザシステム制御部２０に出力してもよい。第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅの全体を計測することにより、そのデータは光束化レーザ光の計測データと同等に扱われてもよい。
　５．３　制御動作
　図１９は、図１７に示されるレーザシステム制御部２０の処理を示すフローチャートである。以下の説明において、レーザシステム５に含まれる複数のレーザ装置の数をＮｍａｘとする。レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光のそれぞれについてのパルスエネルギーとパルスの通過タイミングに基づいて、各パルスレーザ光の目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）の補正を行ってもよい。また、レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形に基づいて、各パルスレーザ光の目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）の補正を行ってもよい。
　まず、Ｓ１０１において、レーザシステム制御部２０は、シャッタ３６を閉じて露光装置４への光束化レーザ光２１の出力を中止してもよい。
　次に、Ｓ１０２において、レーザシステム制御部２０は、露光装置４の露光装置制御部４０から、光束化レーザ光２１の目標パルス波形のデータと、光束化レーザ光２１の目標パルスエネルギーのデータとを受信してもよい。この点については、図８を参照しながら説明したものと同様でよい。
　次に、Ｓ１０３において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々について、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を算出してもよい。この点についても、図８を参照しながら説明したものと同様でよい。
　次に、Ｓ１０４において、レーザシステム制御部２０は、ｎの値を１にセットしてもよい。
　次に、Ｓ１０５において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの計測及び制御を行ってもよい。例えば、ｎの値が１である場合、第１のパルスレーザ光２１ａの計測及び制御が行われてもよい。Ｓ１０５の処理の詳細については、図２０を参照しながら後述する。
　次に、Ｓ１０６において、レーザシステム制御部２０は、ｎの値がＮｍａｘに達したか否かを判定してもよい。ｎの値がＮｍａｘに達していない場合（Ｓ１０６；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、Ｓ１０７において、ｎの値に１を加えてｎの値を更新し、さらに、処理を上述のＳ１０５に戻してもよい。ｎの値がＮｍａｘに達した場合（Ｓ１０６；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ１０８に進めてもよい。
　Ｓ１０８において、レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形を計測してもよい。Ｓ１０８の処理の詳細については、図２１を参照しながら後述する。
　次に、Ｓ１０９において、レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形と、光束化レーザ光の目標パルス波形との差が許容範囲内か否かを判定してもよい。目標パルス波形との差が許容範囲内ではない場合（Ｓ１０９；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ１１０に進めてもよい。目標パルス波形との差が許容範囲内である場合（Ｓ１０９；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ１１２に進めてもよい。
　Ｓ１１０において、レーザシステム制御部２０は、シャッタ３６を閉じて露光装置４への光束化レーザ光２１の出力を中止してもよい。すでにシャッタ３６が閉じられている場合、Ｓ１１０の処理は実行されなくてもよい。次に、Ｓ１１１において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの各々について、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を補正してもよい。例えば、Ｓ１０５において計測された個々のパルスレーザ光のデータに基づいて、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形が目標パルス波形に近づくように、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を補正してもよい。Ｓ１１１の後、レーザシステム制御部２０は、処理を上述のＳ１０４に戻して、個々のパルスレーザ光の計測及び制御をやり直してもよい。
　Ｓ１１２において、レーザシステム制御部２０は、シャッタ３６を開いて、露光装置４への光束化レーザ光２１の出力を開始してもよい。
　次に、Ｓ１１３において、レーザシステム制御部２０は、光束化レーザ光２１の目標パルス波形と、光束化レーザ光２１の目標パルスエネルギーを変更するか否かを判定してもよい。これらの値を変更する場合（Ｓ１１３；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理を上述のＳ１０１に戻してもよい。変更しない場合（Ｓ１１３；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ１１４に進めてもよい。
　次に、Ｓ１１４において、レーザシステム制御部２０は、パルス波形の制御を停止するか否かを判定してもよい。パルス波形の制御を停止しない場合（Ｓ１１４；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、処理を上述のＳ１０４に戻してもよい。パルス波形の制御を停止する場合（Ｓ１１４；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、本フローチャートの処理を終了してもよい。
　図２０は、図１９に示される第ｎのパルスレーザ光を計測及び制御する処理の詳細を示すフローチャートである。図２０に示される処理は、図１９に示されるＳ１０５のサブルーチンとして、レーザシステム制御部２０によって行われてもよい。
　まず、Ｓ５０１において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光が選択されるように、パルス波形計測器６のビーム選択機構６７を制御してもよい。これにより、パルス波形計測器６が第ｎのパルスレーザ光のパルス波形の計測を開始してもよい。
　次に、Ｓ５０２において、レーザシステム制御部２０は、ｋ個のパルスのパルス波形データを取得したか否かを判定してもよい。ｋ個のパルスのパルス波形データの取得が完了していない場合（Ｓ５０２；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、取得が完了するまで待機してもよい。ｋ個のパルスのパルス波形データの取得が完了した場合（Ｓ５０２；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ５０３に進めてもよい。ｋは、第ｎのパルスレーザ光の平均パルス波形を取得するための任意の定数である。
　Ｓ５０３において、レーザシステム制御部２０は、ｋ個のパルス波形から、第ｎのパルスレーザ光の平均パルス波形を取得してもよい。例えば、同一の時間における光強度の平均値を時間ごとに算出することにより、平均パルス波形が計算されてもよい。同一時間とは、たとえば、レーザ光のパルスが立ち上がる時間や、パルス波形のピークの時間を同じ時間として計算してもよい。
　次に、Ｓ５０４において、レーザシステム制御部２０は、平均パルス波形を積分することにより、第ｎのパルスレーザ光のパルスエネルギーＥｍ（ｎ）を算出してもよい。
　次に、Ｓ５０５において、レーザシステム制御部２０は、算出されたパルスエネルギーＥｍ（ｎ）とパルスエネルギーの目標値Ｅｔ（ｎ）との差ΔＥｍ（ｎ）を、以下の式により算出してもよい。
　　　ΔＥｍ（ｎ）＝Ｅｍ（ｎ）－Ｅｔ（ｎ）
　次に、Ｓ５０６において、レーザシステム制御部２０は、平均パルス波形のパルスタイミングＴ（ｎ）を算出してもよい。例えば、平均パルス波形のピークの半値となる２つのタイミングの平均値を、パルスタイミングＴ（ｎ）としてもよい。
　次に、Ｓ５０７において、レーザシステム制御部２０は、ｎの値が２以上であるか否かを判定してもよい。ｎの値が２以上である場合（Ｓ５０７；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、Ｓ５０８～Ｓ５１０の処理を行ってもよい。ｎ＝１である場合（Ｓ５０７；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、Ｓ５０８～Ｓ５１０をとばして、処理をＳ５１１に進めてもよい。
　Ｓ５０８において、レーザシステム制御部２０は、第１のパルスレーザ光２１ａのタイミングＴ（１）と第ｎのパルスレーザ光２１ｎのタイミングＴ（ｎ）との差ΔＴ（ｎ）を、以下の式により算出してもよい。
　　　ΔＴ（ｎ）＝Ｔ（ｎ）－Ｔ（１）
　Ｓ５０８の次に、Ｓ５０９において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）の補正量ΔΔＴ（ｎ）を、以下の式により算出してもよい。
　　　ΔΔＴ（ｎ）＝ＴＲｄ（ｎ）－ＴＲｄ（１）－ΔＴ（ｎ）
　Ｓ５０９の次に、Ｓ５１０において、レーザシステム制御部２０は、第ｎのパルスレーザ光２１ｎの第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）を以下の通り更新してもよい。
　　　ＴＲｄ（ｎ）＝ＴＲｄ（ｎ）＋ΔΔＴ（ｎ）
　Ｓ５１０の後、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ５１１に進めてもよい。
　Ｓ５１１において、レーザシステム制御部２０は、目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）を以下の通り更新してもよい。
　　　Ｅｔ（ｎ）＝Ｅｔ（ｎ）＋ΔＥｍ（ｎ）
　Ｓ５１１の後、レーザシステム制御部２０は、本フローチャートの処理を終了して、図１９のＳ１０６に処理を移行してもよい。
　図２１は、図１９に示される第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形を計測する処理の詳細を示すフローチャートである。図２１に示される処理は、図１９に示されるＳ１０８のサブルーチンとして、レーザシステム制御部２０によって行われてもよい。
　まず、Ｓ８０１において、レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光がすべて選択されるように、パルス波形計測器６を制御してもよい。これにより、パルス波形計測器６が第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形の計測を開始してもよい。
　次に、Ｓ８０２において、レーザシステム制御部２０は、ｋ個のパルスのパルス波形データを取得したか否かを判定してもよい。ｋ個のパルスのパルス波形データの取得が完了していない場合（Ｓ８０２；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、取得が完了するまで待機してもよい。ｋ個のパルスのパルス波形データの取得が完了した場合（Ｓ８０２；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ８０３に進めてもよい。ｋは、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体の平均パルス波形を取得するための任意の定数であり、Ｓ５０２で用いられたｋと同じであってもよいし異なっていてもよい。
　Ｓ８０３において、レーザシステム制御部２０は、ｋ個のパルス波形から、平均パルス波形を取得してもよい。例えば、同一の時間における光強度の平均値を時間ごとに算出することにより、平均パルス波形が計算されてもよい。同一時間とは、たとえば、レーザ光のパルスが立ち上がる時間や、パルス波形のピークの時間を同じ時間として計算してもよい。
　次に、Ｓ８０４において、レーザシステム制御部２０は、平均パルス波形と目標パルス波形との差分の絶対値を積分してもよい。例えば、同一の時間における光強度の差分の絶対値を時間ごとに算出し、これらの絶対値の総和を算出することにより、積分値Ｓが計算されてもよい。
　次に、Ｓ８０５において、レーザシステム制御部２０は、積分値Ｓが許容範囲内か否かを以下の式により判定してもよい。
　　　Ｓ≦Ｓ０
　Ｓ０は、許容範囲内か否かを判定するための閾値でよい。積分値Ｓが閾値Ｓ０以下であれば、許容範囲内であると判定されてもよい。許容範囲内である場合（Ｓ８０５；ＹＥＳ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ８０６に進めてもよい。積分値Ｓが閾値Ｓ０を超えている場合、許容範囲内ではないと判定されてもよい。許容範囲内ではない場合（Ｓ８０５；ＮＯ）、レーザシステム制御部２０は、処理をＳ８０７に進めてもよい。
　Ｓ８０６において、レーザシステム制御部２０は、フラグＦを、許容範囲内であることを示す値１にセットしてもよい。
　Ｓ８０７において、レーザシステム制御部２０は、フラグＦを、許容範囲内ではないことを示す値０にセットしてもよい。
　Ｓ８０６又はＳ８０７の後、レーザシステム制御部２０は、本フローチャートの処理を終了して、図１９のＳ１０９に処理を移行してもよい。上記のフラグＦの値は、図１９に示されるＳ１０９の判定において用いられてもよい。
　以上のようにして、レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光のそれぞれについてのパルスエネルギーとパルスの通過タイミングに基づいて、各パルスレーザ光の目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）の補正を行ってもよい。また、レーザシステム制御部２０は、第１～第Ｎｍａｘのパルスレーザ光全体のパルス波形に基づいて、各パルスレーザ光の目標パルスエネルギーＥｔ（ｎ）及び第ｎの遅延時間ＴＲｄ（ｎ）の補正を行ってもよい。これにより、光束化レーザ光のパルス波形を高精度に制御し得る。
　第５の実施形態においては、パルス波形計測器６がビーム選択機構６７を備える場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、第ｎのパルスレーザ光２１ｎだけを計測する場合に、第ｎのレーザ装置２ｎだけをレーザ発振するようにしてもよい。
６．その他
　６．１　光路長調節器
　図２２は、図１及び図１７に示された光路長調節器の構成を概略的に示す。例えば、第１の光路長調節器７ａは、第１のパルスレーザ光２１ａの光路を迂回させて、第１のパルスレーザ光２１ａの光路長を変更できる装置でもよい。
　第２～第５の光路長調節器７ｂ～７ｅも、同様でよい。第１～第５の光路長調節器７ａ～７ｅは、それぞれのレーザ装置からレーザシステム５の出口までの光路長が略一致するようにそれぞれの光路長を調節してもよい。
　第１の光路長調節器７ａは、直角プリズム７１１と、２枚の高反射ミラー７１２、７１３と、プレート７１４と、プレート７１５と、１軸ステージ７１６と、を含んでもよい。
　直角プリズム７１１の直交する第１の面７０１と第２の面７０２には、高反射膜がコートされていてもよい。直角プリズム７１１は、ホルダー７１７に保持され、ホルダー７１７は、プレート７１４に固定されていてもよい。直角プリズム７１１は、第１のパルスレーザ光２１ａの光路に位置していてもよい。
　２枚の高反射ミラー７１２、７１３は、これらの反射面が直交するようにホルダー７１８に保持され、ホルダー７１８は、プレート７１５に固定されていてもよい。プレート７１５は、１軸ステージ７１６に固定されていてもよい。１軸ステージ７１６は、直角プリズム７１１の第１の面７０１によって反射された第１のパルスレーザ光２１ａの光路軸と平行に、２枚の高反射ミラー７１２、７１３を移動可能であってもよい。
　直角プリズム７１１の第１の面７０１によって反射された第１のパルスレーザ光２１ａは、２枚の高反射ミラー７１２、７１３によって反射され、直角プリズム７１１の第２の面７０２に入射してもよい。直角プリズム７１１の第２の面７０２に入射した第１のパルスレーザ光２１ａは、直角プリズム７１１の第１の面７０１に入射した第１のパルスレーザ光２１ａの光路軸のほぼ延長線上にあたる光路軸に沿って、直角プリズム７１１の第２の面７０２から出射してもよい。
　レーザシステム制御部２０は、１軸ステージ７１６のモータ７１９を駆動することにより、２枚の高反射ミラー７１２、７１３を移動させてもよい。２枚の高反射ミラー７１２、７１３を距離Ｘ移動させることにより、第１のパルスレーザ光２１ａの光路長を２Ｘ変化させてもよい。
　６．２　平面鏡を用いた光束化装置
　図２３は、光束化装置の別の例を示す。なお、図２３においては、露光装置４にあるフライアイレンズ４２１も示しているが、露光装置４にある高反射ミラー４１の図示は省略している。光束化装置３７は、第１直角プリズム３７１と、第２直角プリズム３７２と、台形プリズム３７３とを含んでもよい。
　第１直角プリズム３７１は、紙面に平行な面である底面が直角三角形である三角柱形状に形成されてもよい。第１直角プリズム３７１の直角を成す２つの側面には、高反射膜がコートされてもよい。第１直角プリズム３７１の直角を成す２つの側面は、それぞれ第１反射面３７１ａ及び第２反射面３７１ｂを構成し得る。
　第１直角プリズム３７１は、当該第１直角プリズム３７１の第１反射面３７１ａが、台形プリズム３７３の後述する第１反射面３７３ａと平行となるように配置されてもよい。第１直角プリズム３７１は、当該第１直角プリズム３７１の第１反射面３７１ａが、第１のパルスレーザ光２１ａの光路軸と４５°の角度を成して交差するように配置されてもよい。第１直角プリズム３７１は、当該第１直角プリズム３７１の第２反射面３７１ｂが、第２のパルスレーザ光２１ｂの光路軸と４５°の角度を成して交差するように配置されてもよい。
　第２直角プリズム３７２は、紙面に平行な面である底面が直角三角形である三角柱形状に形成されてもよい。第２直角プリズム３７２の直角を成す２つの側面には、高反射膜がコートされてもよい。第２直角プリズム３７２の直角を成す２つの側面は、それぞれ第１反射面３７２ａ及び第２反射面３７２ｂを構成し得る。
　第２直角プリズム３７２は、当該第２直角プリズム３７２の第１反射面３７２ａが、台形プリズム３７３の後述する第２反射面３７３ｂと平行となるように配置されてもよい。第２直角プリズム３７２は、当該第２直角プリズム３７２の第１反射面３７２ａが、第４のパルスレーザ光２１ｄの光路軸と４５°の角度を成して交差するように配置されてもよい。第２直角プリズム３７２は、当該第２直角プリズム３７２の第２反射面３７２ｂが、第５のパルスレーザ光２１ｅの光路軸と４５°の角度を成して交差するように配置されてもよい。
　台形プリズム３７３は、例えば合成石英やフッ化カルシウム等の紫外線を透過させる材料を用いて形成されてもよい。台形プリズム３７３は、紙面に平行な面である底面が四角形である四角柱形状に形成されてもよい。台形プリズム３７３の底面は、２つの脚の成す角度が直角である等脚台形形状に形成されてもよい。台形プリズム３７３の対向する２側面であって、互いに平行でない２側面には、高反射膜がコートされてもよい。台形プリズム３７３の対向する２側面であって、互いに平行でない２側面は、それぞれ第１反射面３７３ａ及び第２反射面３７３ｂを構成し得る。台形プリズム３７３の対向する２側面であって、互いに平行な２側面には、反射防止膜がコートされてもよい。台形プリズム３７３の対向する２側面であって、互いに平行な２側面は、第１照射面３７３ｃ及び第２照射面３７３ｄを構成し得る。
　台形プリズム３７３は、当該台形プリズム３７３の第２照射面３７３ｄが、第３のパルスレーザ光２１ｃの光路軸と直交するように配置されてもよい。
　第１のレーザ装置２ａから出力された第１のパルスレーザ光２１ａは、第１直角プリズム３７１の第１反射面３７１ａで反射されてもよい。さらに、第１のパルスレーザ光２１ａは、台形プリズム３７３の第１反射面３７３ａで反射され、フライアイレンズ４２１の入射側の面に垂直に入射してもよい。
　第２のレーザ装置２ｂから出力された第２のパルスレーザ光２１ｂは、第１直角プリズム３７１の第２反射面３７１ｂで反射されてもよい。さらに、第２のパルスレーザ光２１ｂは、台形プリズム３７３の第１反射面３７３ａで反射され、フライアイレンズ４２１の入射側の面に垂直に入射してもよい。
　第３のレーザ装置２ｃから出力された第３のパルスレーザ光２１ｃは、台形プリズム３７３の第２照射面３７３ｄに入射し、内部を直進してもよい。台形プリズム３７３の内部を直進した第３のパルスレーザ光２１ｃは、第１照射面３７３ｃから出射されて、フライアイレンズ４２１の入射側の面に垂直に入射してもよい。
　第４のレーザ装置２ｄから出力された第４のパルスレーザ光２１ｄは、第２直角プリズム３７２の第１反射面３７２ａで反射されてもよい。さらに、第４のパルスレーザ光２１ｄは、台形プリズム３７３の第２反射面３７３ｂで反射され、フライアイレンズ４２１の入射側の面に垂直に入射してもよい。
　第５のレーザ装置２ｅから出力された第５のパルスレーザ光２１ｅは、第２直角プリズム３７２の第２反射面３７２ｂで反射されてもよい。さらに、第５のパルスレーザ光２１ｅは、台形プリズム３７３の第２反射面３７３ｂで反射され、フライアイレンズ４２１の入射側の面に垂直に入射してもよい。
　このように、光束化装置３７は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを、それらの光路軸が互いに平行となるようにして、光束化レーザ光２１として出射させてもよい。そして、光束化装置３７から出射した光束化レーザ光２１はフライアイレンズ４２１に入射してもよい。すなわち、光束化装置３７は、第１～第５のパルスレーザ光２１ａ～２１ｅを重ね合わせなくてもよい。
　このような光束化装置３７を用いる場合には、図１８を参照しながら説明したビーム選択機構６７を含むパルス波形計測器６を、光束化装置３７から出力された光束化レーザ光２１の光路に配置してもよい。
　６．３　制御部の構成
　図２４は、制御部の概略構成を示すブロック図である。
　上述した実施の形態におけるレーザシステム制御部２０、同期制御部２２等の制御部は、コンピュータやプログラマブルコントローラ等汎用の制御機器によって構成されてもよい。例えば、以下のように構成されてもよい。
（構成）
　制御部は、処理部１０００と、処理部１０００に接続される、ストレージメモリ１００５と、ユーザインターフェイス１０１０と、パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０と、シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０と、Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０とによって構成されてもよい。また、処理部１０００は、ＣＰＵ１００１と、ＣＰＵ１００１に接続された、メモリ１００２と、タイマー１００３と、ＧＰＵ１００４とから構成されてもよい。
（動作）
　処理部１０００は、ストレージメモリ１００５に記憶されたプログラムを読出してもよい。また、処理部１０００は、読出したプログラムを実行したり、プログラムの実行に従ってストレージメモリ１００５からデータを読出したり、ストレージメモリ１００５にデータを記憶させたりしてもよい。
　パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０は、パラレルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０２１～１０２ｘに接続されてもよい。パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０は、処理部１０００がプログラムを実行する過程で行うパラレルＩ／Ｏポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
　シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０は、シリアルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０３１～１０３ｘに接続されてもよい。シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０は、処理部１０００がプログラムを実行する過程で行うシリアルＩ／Ｏポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
　Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０は、アナログポートを介して通信可能な機器１０４１～１０４ｘに接続されてもよい。Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０は、処理部１０００がプログラムを実行する過程で行うアナログポートを介した、アナログ信号による通信を制御してもよい。
　ユーザインターフェイス１０１０は、オペレータが処理部１０００によるプログラムの実行過程を表示したり、オペレータによるプログラム実行の中止や割り込み処理を処理部１０００に行わせたりするよう構成されてもよい。
　処理部１０００のＣＰＵ１００１はプログラムの演算処理を行ってもよい。メモリ１００２は、ＣＰＵ１００１がプログラムを実行する過程で、プログラムの一時記憶や、演算過程でのデータの一時記憶を行ってもよい。タイマー１００３は、時刻や経過時間を計測し、プログラムの実行に従ってＣＰＵ１００１に時刻や経過時間を出力してもよい。ＧＰＵ１００４は、処理部１０００に画像データが入力された際、プログラムの実行に従って画像データを処理し、その結果をＣＰＵ１００１に出力してもよい。
　パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０に接続される、パラレルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０２１～１０２ｘは、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅ、露光装置制御部４０、他の制御部等の発振トリガ信号やタイミングを示す信号の受送信に使用してもよい。
　シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０に接続される、シリアルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０３１～１０３ｘは、第１～第５のレーザ装置２ａ～２ｅ、露光装置制御部４０、他の制御部等のデータの受送信に使用してもよい。Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０に接続される、アナログポートを介して通信可能な機器１０４１～１０４ｘは、パルス波形計測器６や、パルスエネルギー計測部１７等の各種センサであってもよい。
　以上のように構成されることで、制御部は各実施形態に示された動作を実現可能であってよい。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
　本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。

Claims (9)

  1. 　トリガ信号を受信し、前記トリガ信号を受信した時から第１の遅延時間が経過したことを示す第１の遅延信号と、前記トリガ信号を受信した時から第２の遅延時間が経過したことを示す第２の遅延信号と、を出力する遅延回路部と、
    　前記第１の遅延信号を受信し、前記第１の遅延信号を受信した時から第１の補正時間が経過したことを示す第１のスイッチ信号を出力する第１のトリガ補正部と、
    　前記第２の遅延信号を受信し、前記第２の遅延信号を受信した時から第２の補正時間が経過したことを示す第２のスイッチ信号を出力する第２のトリガ補正部と、
    　第１のレーザ装置であって、第１のコンデンサと、前記第１のコンデンサに電圧を印加する第１の充電器と、前記第１のスイッチ信号を受信して前記第１のコンデンサから電流パルスを生成させる第１のスイッチと、前記第１のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第１の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第１のチャンバと、前記第１のチャンバ内に配置され、前記第１の磁気圧縮回路に接続された第１の一対の放電電極と、前記第１の一対の放電電極間での放電を検出して第１の放電検出信号を出力する第１の放電タイミング検出器と、を含む前記第１のレーザ装置と、
    　第２のレーザ装置であって、第２のコンデンサと、前記第２のコンデンサに電圧を印加する第２の充電器と、前記第２のスイッチ信号を受信して前記第２のコンデンサから電流パルスを生成させる第２のスイッチと、前記第２のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第２の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第２のチャンバと、前記第２のチャンバ内に配置され、前記第２の磁気圧縮回路に接続された第２の一対の放電電極と、前記第２の一対の放電電極間での放電を検出して第２の放電検出信号を出力する第２の放電タイミング検出器と、を含む前記第２のレーザ装置と、
    　前記遅延回路部と、前記第１のトリガ補正部と、前記第２のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成するクロック生成器と、
    を備え、
    　前記第１のトリガ補正部は、前記第１の放電検出信号を受信し、前記第１の遅延信号を受信してから前記第１の放電検出信号を受信するまでの第１の経過時間が第１の目標値に近づくように前記第１の補正時間を設定し、
    　前記第２のトリガ補正部は、前記第２の放電検出信号を受信し、前記第２の遅延信号を受信してから前記第２の放電検出信号を受信するまでの第２の経過時間が第２の目標値に近づくように前記第２の補正時間を設定する、
    レーザシステム。
  2. 　前記第１のトリガ補正部は、
    　前記第１の充電器により前記第１のコンデンサに印加される電圧の設定値をさらに受信し、
    　前記電圧の設定値に基づいて前記第１の補正時間を設定する第１の設定処理と、
    　前記第１の経過時間に基づいて前記第１の補正時間を設定する第２の設定処理と、を行う、
    請求項１記載のレーザシステム。
  3. 　前記第１のトリガ補正部は、
    　前記第１の設定処理を、第１の頻度で行い、
    　前記第２の設定処理を、前記第１の頻度より小さい第２の頻度で行う、
    請求項２記載のレーザシステム。
  4. 　前記第１のレーザ装置は、前記第１のスイッチ信号を受信して第１のパルスレーザ光を生成する第１の発振器と、前記第１のパルスレーザ光を増幅して出力する第１の増幅器と、を含み、
    　前記第２のレーザ装置は、前記第２のスイッチ信号を受信して第２のパルスレーザ光を生成する第２の発振器と、前記第２のパルスレーザ光を増幅して出力する第２の増幅器と、を含む、
    請求項１記載のレーザシステム。
  5. 　前記第１のトリガ補正部は、前記第１の遅延信号を受信した時から第１の設定時間が経過したことを示す第１の増幅器スイッチ信号をさらに出力し、
    　前記第１の発振器は、前記第１のコンデンサと、前記第１の充電器と、前記第１のスイッチと、前記第１の磁気圧縮回路と、前記第１のチャンバと、前記第１の一対の放電電極と、前記第１の放電タイミング検出器と、を含み、
    　前記第１の増幅器は、第３のコンデンサと、前記第３のコンデンサに電圧を印加する第３の充電器と、前記第１の増幅器スイッチ信号を受信して前記第３のコンデンサから電流パルスを生成させる第３のスイッチと、前記第３のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第３の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第３のチャンバと、前記第３のチャンバ内に配置され、前記第３の磁気圧縮回路に接続された第３の一対の放電電極と、前記第３の一対の放電電極間での放電を検出して第１の増幅器放電検出信号を出力する第３の放電タイミング検出器と、を含み、
    　前記第１のトリガ補正部は、前記第１の放電検出信号と前記第１の増幅器放電検出信号とを受信し、前記第１の放電検出信号を受信してから前記第１の増幅器放電検出信号を受信するまでのタイミング差が第３の目標値に近づくように前記第１の設定時間を設定する、
    請求項４記載のレーザシステム。
  6. 　第１のレーザ装置であって、
    トリガ信号を受信し、前記トリガ信号を受信した時から第１の遅延時間が経過したことを示す第１の遅延信号を出力する第１の遅延回路部と、
    前記第１の遅延信号を受信し、前記第１の遅延信号を受信した時から第１の補正時間が経過したことを示す第１のスイッチ信号を出力する第１のトリガ補正部と、
    前記第１の遅延回路部と、前記第１のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成する第１のクロック生成器と、
    第１のコンデンサと、前記第１のコンデンサに電圧を印加する第１の充電器と、前記第１のスイッチ信号を受信して前記第１のコンデンサから電流パルスを生成させる第１のスイッチと、前記第１のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第１の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第１のチャンバと、前記第１のチャンバ内に配置され、前記第１の磁気圧縮回路に接続された第１の一対の放電電極と、前記第１の一対の放電電極間での放電を検出して第１の放電検出信号を出力する第１の放電タイミング検出器と、
    を含む前記第１のレーザ装置と、
    　第２のレーザ装置であって、
    前記トリガ信号を受信し、前記トリガ信号を受信した時から第２の遅延時間が経過したことを示す第２の遅延信号を出力する第２の遅延回路部と、
    前記第２の遅延信号を受信し、前記第２の遅延信号を受信した時から第２の補正時間が経過したことを示す第２のスイッチ信号を出力する第２のトリガ補正部と、
    前記第２の遅延回路部と、前記第２のトリガ補正部と、に共通のクロック信号を生成する第２のクロック生成器と、
    第２のコンデンサと、前記第２のコンデンサに電圧を印加する第２の充電器と、前記第２のスイッチ信号を受信して前記第２のコンデンサから電流パルスを生成させる第２のスイッチと、前記第２のコンデンサからの電流パルスを圧縮する第２の磁気圧縮回路と、レーザガスを含む第２のチャンバと、前記第２のチャンバ内に配置され、前記第２の磁気圧縮回路に接続された第２の一対の放電電極と、前記第２の一対の放電電極間での放電を検出して第２の放電検出信号を出力する第２の放電タイミング検出器と、
    を含む前記第２のレーザ装置と、
    を備え、
    　前記第１のトリガ補正部は、前記第１の放電検出信号を受信し、前記第１の遅延信号を受信してから前記第１の放電検出信号を受信するまでの第１の経過時間が第１の目標値に近づくように前記第１の補正時間を設定し、
    　前記第２のトリガ補正部は、前記第２の放電検出信号を受信し、前記第２の遅延信号を受信してから前記第２の放電検出信号を受信するまでの第２の経過時間が第２の目標値に近づくように前記第２の補正時間を設定する、
    レーザシステム。
  7. 　前記第１のレーザ装置から出力されたパルスレーザ光と前記第２のレーザ装置から出力されたパルスレーザ光とを束ねて、光束化レーザ光を出射する光束化装置と、
    　前記光束化レーザ光のパルス波形を計測するパルス波形計測器と、
    をさらに備える、
    請求項１記載のレーザシステム。
  8. 　前記遅延回路部は、前記パルス波形計測器によって計測されたパルス波形に基づいて、前記第１の遅延時間及び前記第２の遅延時間を設定する、
    請求項７記載のレーザシステム。
  9. 　前記第１のレーザ装置の出力位置から前記光束化装置の出射位置までの第１の光路長と、前記第２のレーザ装置の出力位置から前記光束化装置の出射位置までの第２の光路長との差が小さくなるように前記第１の光路長と前記第２の光路長とを調節する光路長調節器をさらに備え、
    　前記第１の目標値と前記第２の目標値とが実質的に等しい、
    請求項８記載のレーザシステム。
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