WO2015125395A1 - Système de contrôle radiographique par rayons x, procédé de commande, programme de commande et dispositif de commande - Google Patents
Système de contrôle radiographique par rayons x, procédé de commande, programme de commande et dispositif de commande Download PDFInfo
- Publication number
- WO2015125395A1 WO2015125395A1 PCT/JP2014/083726 JP2014083726W WO2015125395A1 WO 2015125395 A1 WO2015125395 A1 WO 2015125395A1 JP 2014083726 W JP2014083726 W JP 2014083726W WO 2015125395 A1 WO2015125395 A1 WO 2015125395A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- ray
- irradiation
- electron beam
- image
- unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/04—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K7/00—Gamma- or X-ray microscopes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/112—Non-rotating anodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/153—Spot position control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/10—Measuring as part of the manufacturing process
- H01L22/12—Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2235/00—X-ray tubes
- H01J2235/08—Targets (anodes) and X-ray converters
- H01J2235/081—Target material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
- H01J35/18—Windows
- H01J35/186—Windows used as targets or X-ray converters
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Immunology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
Un mode de réalisation de la présente invention concerne un système (10) de contrôle radiographique par rayons X qui comprend un dispositif (100) de contrôle radiographique par rayons X et un dispositif de commande (200). Le dispositif de commande (200) comprend les éléments suivants : une unité de mémoire de fonction de transformation qui mémorise une mise en correspondance entre un paramètre de forme représentant une forme et les fonctions de transformation ; une unité de génération d'image (231) qui, en fonction des informations radiographiques obtenues par le dispositif (100) de contrôle radiographique par rayons X, génère une première image radiographique et une seconde image radiographique qui est la première image radiographique avec une résolution plus élevée ; une première unité de calcul de forme (232) qui, à l'aide d'une fonction de transformation donnée destinée à calculer un paramètre de forme à partir de données d'image, calcule un paramètre de forme qui représente la forme d'un sujet de contrôle dans la première image radiographique générée par l'unité de génération d'image (231) ; et une seconde unité de calcul de forme (233) qui utilise le paramètre de forme calculé par la première unité de calcul de forme (232) pour sélectionner une fonction de transformation mémorisée dans l'unité de mémoire de fonction de transformation et utilise la fonction de transformation sélectionnée pour calculer un paramètre de forme à partir de la seconde image radiographique.
Applications Claiming Priority (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014033107 | 2014-02-24 | ||
JP2014033106 | 2014-02-24 | ||
JP2014-033256 | 2014-02-24 | ||
JP2014033257 | 2014-02-24 | ||
JP2014-033257 | 2014-02-24 | ||
JP2014-033106 | 2014-02-24 | ||
JP2014-033107 | 2014-02-24 | ||
JP2014033256 | 2014-02-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2015125395A1 true WO2015125395A1 (fr) | 2015-08-27 |
Family
ID=53877924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2014/083726 WO2015125395A1 (fr) | 2014-02-24 | 2014-12-19 | Système de contrôle radiographique par rayons x, procédé de commande, programme de commande et dispositif de commande |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
WO (1) | WO2015125395A1 (fr) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018073375A1 (fr) * | 2016-10-21 | 2018-04-26 | Excillum Ab | Cible à rayons x structurée |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5148462A (en) * | 1991-04-08 | 1992-09-15 | Moltech Corporation | High efficiency X-ray anode sources |
JP2011071101A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-04-07 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生装置 |
JP2011077027A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-04-14 | Tokyo Electron Ltd | X線発生用ターゲット、x線発生装置、及びx線発生用ターゲットの製造方法 |
JP2012088170A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Seiko Precision Inc | X線位置計測装置、x線位置計測装置の位置計測方法、及びx線位置計測装置の位置計測用プログラム |
JP2013231700A (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Tokyo Electron Ltd | X線検査方法及びx線検査装置 |
JP2015002112A (ja) * | 2013-06-17 | 2015-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
-
2014
- 2014-12-19 WO PCT/JP2014/083726 patent/WO2015125395A1/fr active Application Filing
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5148462A (en) * | 1991-04-08 | 1992-09-15 | Moltech Corporation | High efficiency X-ray anode sources |
JP2011071101A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-04-07 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生装置 |
JP2011077027A (ja) * | 2009-09-04 | 2011-04-14 | Tokyo Electron Ltd | X線発生用ターゲット、x線発生装置、及びx線発生用ターゲットの製造方法 |
JP2012088170A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Seiko Precision Inc | X線位置計測装置、x線位置計測装置の位置計測方法、及びx線位置計測装置の位置計測用プログラム |
JP2013231700A (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Tokyo Electron Ltd | X線検査方法及びx線検査装置 |
JP2015002112A (ja) * | 2013-06-17 | 2015-01-05 | 浜松ホトニクス株式会社 | X線発生装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018073375A1 (fr) * | 2016-10-21 | 2018-04-26 | Excillum Ab | Cible à rayons x structurée |
US10784069B2 (en) | 2016-10-21 | 2020-09-22 | Excillum Ab | Structured x-ray target |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3951590B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP4553889B2 (ja) | 粒子光学レンズの収差関数における収差係数の決定方法 | |
TWI776085B (zh) | 用於監測束輪廓及功率的方法及設備 | |
JP5727564B2 (ja) | 荷電粒子レンズ系における収差を調査及び補正する方法 | |
WO2015015985A1 (fr) | Dispositif à faisceau de particules chargées et procédé de mesure d'aberration dans un dispositif à faisceau de particules chargées | |
JPWO2011152303A1 (ja) | 自動収差補正法を備えた荷電粒子線装置 | |
JP2020149767A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US9396907B2 (en) | Method of calibrating a scanning transmission charged-particle microscope | |
WO2015125395A1 (fr) | Système de contrôle radiographique par rayons x, procédé de commande, programme de commande et dispositif de commande | |
JP6163063B2 (ja) | 走査透過電子顕微鏡及びその収差測定方法 | |
TWI827955B (zh) | 使用帶電粒子束裝置對樣品成像的方法、校準帶電粒子束裝置的方法及帶電粒子束裝置 | |
JP5397060B2 (ja) | 荷電粒子顕微鏡及び解析方法 | |
JP5777984B2 (ja) | 多極子測定装置 | |
JP6207893B2 (ja) | 試料観察装置用のテンプレート作成装置 | |
JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
TWI836541B (zh) | 非暫時性電腦可讀媒體及用於監測檢測系統中之束的系統 | |
WO2015178228A1 (fr) | Cible de génération de rayons x, système d'examen, dispositif de commande, procédé de commande, et programme de commande | |
US20230162944A1 (en) | Image enhancement based on charge accumulation reduction in charged-particle beam inspection | |
TWI826833B (zh) | 檢測設備及非暫時性電腦可讀媒體 | |
JP2019020270A (ja) | 表面分析装置および試料の高さ合わせ方法 | |
TW202331772A (zh) | 決定聚焦帶電粒子束的束匯聚度的方法及帶電粒子束系統 | |
WO2021180473A1 (fr) | Capteur de nivellement dans une inspection de faisceaux de particules chargées multiples | |
US20190066968A1 (en) | Aberration measurement method and electron microscope | |
JP2011238400A (ja) | 走査電子顕微鏡及び走査電子顕微鏡による試料検査方法 | |
JP2010016007A (ja) | 荷電粒子線調整方法及び荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 14883223 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 14883223 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: JP |