WO2015100742A1 - 一种保护片、保护片的制作方法及电子设备 - Google Patents
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Classifications
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
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- G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes
Definitions
- a transparent protective sheet made of glass, plastic or resin is installed at a position corresponding to the camera of the electronic device to form a protective window for pre-protection of the camera optical system and the chip.
- an anti-reflection film (AR film) is generally applied to the inner and outer surfaces of the protective sheet. Based on the anti-fingerprint requirements, an anti-finger film (AF film) is also applied to the outer surface of the protective sheet.
- the anti-reflection film and the anti-fingerprint film are usually formed by vacuum evaporation or sputtering.
- the vacuum evaporation process is relatively simple, easy to operate, and the film formation speed is fast and the efficiency is high.
- the film deposited by the sputtering method has good adhesion and the film structure is dense.
- a film formed by vapor deposition or sputtering is expensive. This is because: First, the manufacturing equipment for vapor deposition and sputtering methods, maintenance costs, and film costs are high. Second, if the coating is defective, not only the film will be lost, but also the base glass will be scrapped, which increases the processing cost. Secondly, the protective sheet requires double-sided coating, which requires at least two coating processes and is inefficient in production. Further, due to the inconsistent thickness of the film deposited in different directions during the evaporation and sputtering processes, the composition of the layers placed at different positions in the same coating chamber is not uniform, which makes the performance of the same batch of products different. Summary of the invention
- the technical problem to be solved by the embodiments of the present invention is to provide a protection sheet, a method for manufacturing the protection sheet, and an electronic device, wherein the method for manufacturing the protection sheet can reduce the manufacturing cost of the protection sheet, and The production efficiency of the protective sheet.
- a protective sheet is provided.
- a protective sheet for protecting a camera module of the electronic device and transmitting light comprising a substrate, a first bonding layer, a first transparent film and a first anti-reflective layer, wherein the first bonding layer is bonded to Between the substrate and the first transparent film, the first anti-reflection film is formed on a surface of the first transparent film away from the first bonding layer, the substrate, the first bonding layer, the first transparent film, and The first anti-reflection film is made of a light-transmitting material, and the first anti-reflection film is used to reduce reflected light when the light is transmitted through the protective sheet.
- the first anti-reflection film is a single layer film, and the first anti-reflection film is a magnesium fluoride single layer film, a porous silicon dioxide film or a moth eye film. .
- the first anti-reflection film is composed of a multilayer film
- the first anti-reflection film is a multilayer film composed of a silicon dioxide film and a silicon nitride film, a multilayer film composed of a silicon dioxide film and an aluminum oxide film, a multilayer film composed of a silicon dioxide film and a tantalum pentoxide film, a multilayer film composed of a silicon dioxide film and a titanium dioxide film, and a hafnium oxide film and A multilayer film composed of a film of aluminum oxide or a multilayer film composed of a ceria film and a silicon dioxide film.
- the material of the first anti-reflection film is zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, antimony pentoxide, antimony pentoxide, antimony oxide, chromium oxide, and oxidation.
- the substrate includes an opposite inner surface and an outer surface, and the first adhesive layer, the first transparent film, and the first anti-reflective layer are formed on the substrate One side of the inner surface.
- the protection sheet further includes an anti-fingerprint film formed on an outer surface of the substrate.
- the protection sheet further includes a second bonding layer, a second transparent film, and a second anti-reflection film, the second The adhesive layer is bonded between the outer surface of the substrate and the second transparent film, and the second anti-reflective film is formed on the surface of the second transparent film away from the side of the second adhesive layer, the second bonding The layer, the second transparent film and the second anti-reflection film are both made of a light-transmitting material.
- the protection sheet further includes an anti-fingerprint film, and the anti-fingerprint film is formed on the second anti-reflection film away from the second The surface of the transparent film.
- the first transparent film is made of polyethylene terephthalate, decyl acrylate or cellulose triacetate, the first The bonding layer is made of optical glue, pressure sensitive adhesive or silicone.
- a method of making a protective sheet is provided.
- a method for manufacturing a protective sheet for preparing the protective sheet comprising the steps of: providing a transparent film and a substrate; forming a subtractive anti-film on one side surface of the transparent film by wet coating; and forming an anti-reflection film by cutting a transparent film such that the transparent film shape corresponds to the substrate; and the cut transparent film and the anti-reflection film are bonded to at least one side surface of the substrate by using an adhesive layer.
- the first anti-reflection film is a porous silicon dioxide film
- the forming the first anti-reflection film comprises: formulating a silica sol-gel; A silica sol-gel is coated on one side surface of the transparent film; and a silica sol-gel on the surface of the transparent film is dried to form a subtractive antireflection film.
- the silica sol-gel is coated on the surface of the transparent film by a gel method, a dip coating, a spray Coating, flow coating, spin coating, capillary coating or rolling/gravure gravure coating.
- the anti-reflection film has a moth-eye structure
- the forming the anti-reflection film includes the steps of: forming a photoresist layer on the surface of the transparent film.
- the photoresist layer is embossed by using an imprint template to form a moth-eye structure on a surface side of the photoresist layer; and a photoresist layer formed with a moth-eye structure is cured to form an anti-reflection film.
- the anti-reflection film is a multi-layer film
- forming the anti-reflection film comprises sequentially forming a multi-layer film on a surface of the transparent film, wherein the multi-layer film is common Forms an anti-reflection film.
- an electronic device is provided.
- the electronic device includes an electronic device body, a housing, and various protective sheets.
- the device body is disposed in the housing, the device body includes a camera module, and the housing is formed at a position opposite to the image side of the camera module.
- the anti-reflection film is formed on the surface of the transparent film by wet coating, and then the anti-reflection film is attached to the surface of the substrate to form a protection by cutting and pasting. sheet. Since the anti-reflection film is formed by wet coating, compared to evaporation and sputtering, The cost and process requirements of the equipment are low, which can reduce the production cost of the protective sheet. Further, since the anti-reflection film is bonded to the substrate by lamination, when the anti-reflection film is defective in production, it does not affect the substrate.
- the anti-reflection film can be cut and laminated after being produced in a large area, the thickness of the anti-reflection film of the plurality of products produced in the same batch can be ensured to be the same, and the film system has the same composition and stable performance.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a protective sheet according to a first preferred embodiment of the first technical solution of the present invention
- FIG. 2 is a cross-sectional view of a protective sheet according to a second preferred embodiment of the first technical solution of the present invention
- FIG. 3 is a flow chart of a method for fabricating a protective sheet according to a first preferred embodiment of the second technical solution of the present invention
- FIG. 4 is a flow chart showing a method of fabricating a protective sheet according to a second preferred embodiment of the second technical solution of the present invention
- Figure 5 is a flow chart showing a method of fabricating a protective sheet according to a third preferred embodiment of the second aspect of the present invention.
- FIG. 6 is a schematic diagram of an electronic device provided by a third technical solution of the present invention. detailed description
- FIG. 1 is a protection sheet 100 according to a first preferred embodiment of the first technical solution of the present invention.
- the protection sheet 100 can be used to protect a camera built in an electronic device.
- the protective sheet 100 includes a substrate 110, a first bonding layer 120, a first transparent film 130, a first anti-reflection film 140, and a second paste.
- the junction layer 150, the second transparent film 160, and the second anti-reflection film 170 is a substrate 110, a first bonding layer 120, a first transparent film 130, a first anti-reflection film 140, and a second paste.
- the substrate 110 is in the form of a sheet and is made of a material having good light transmittance such as glass or plastic.
- the substrate 110 has opposing inner and outer surfaces 111, 112.
- the first bonding layer 120, the first transparent film 130, and the first anti-reflection film 140 are formed on one side of the inner surface 111.
- the second bonding layer 150, the second transparent film 160, and the third anti-reflection film 170 are formed on the outer surface 112 side.
- the first bonding layer 120 is used to bond the first transparent film 130 and the first subtraction film 140 to the substrate 110.
- the first bonding layer 120 is formed on the inner surface 111, and is made of optical adhesive having good light transmittance.
- the material of the first bonding layer 120 is optical glue, pressure sensitive adhesive or silica gel.
- the first transparent film 130 is used to carry the first anti-reflection film 140.
- the first transparent film 130 may be made of a flexible organic material, specifically polyethylene terephthalate (PET), phthalic acid acrylate (PMMA), cellulose triacetate (TAC). Or COP (Japan Ryeon, 1420R) and so on.
- the first subtraction emission film 140 serves to reduce reflection of light.
- the first anti-reflection film 140 is formed by wet coating.
- the refractive index of the first anti-reflection film 140 should be smaller than the refractive index of the substrate 110 to function as an anti-reflection.
- the material of the first anti-reflection film 140 may be inorganic materials such as zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, antimony pentoxide, antimony pentoxide, antimony oxide, chromium oxide, antimony oxide, aluminum oxide, silicon monoxide.
- the material of the first anti-reflection film 140 may also be an organic material, such as silicon dioxide, magnesium fluoride or metal.
- the first anti-reflection film 140 may be a single layer film such as a magnesium fluoride single layer film, a porous silicon oxide film or a moth eye film or the like.
- the first anti-reflection film 140 may also be composed of a multilayer film, such as a multilayer film composed of a silicon oxide film and a silicon nitride film, a multilayer film composed of a silicon dioxide film and an aluminum oxide film, and a dioxide film.
- a multilayer film such as a multilayer film composed of a silicon oxide film and a silicon nitride film, a multilayer film composed of a silicon dioxide film and an aluminum oxide film, and a dioxide film.
- Multilayer film composed of silicon film and tantalum pentoxide film, multilayer film composed of silicon dioxide film and titanium dioxide film, multilayer film composed of ruthenium dioxide film and aluminum oxide film or ruthenium dioxide film and dioxide A multilayer film composed of a silicon film or the like.
- the material and structure of the second bonding layer 150 may be the same as the material and structure of the first bonding layer 120.
- the material and structure of the second transparent film 160 may be the same as the material and structure of the first transparent film 130.
- the material and structure of the second anti-reflection film 170 may be the same as the material and structure of the first anti-reflection film 140.
- the second bonding layer 150 is used to bond the second transparent film 160 and the second subtractive emission film 170 to the substrate 110.
- the second bonding layer 150 is formed on the outer surface 112, which is made of optical glue having good light transmittance.
- the material of the second bonding layer 150 is optical glue, pressure sensitive adhesive or silica gel.
- the second transparent film 160 is used to carry the second anti-reflection film 170.
- the second transparent film 160 can be adopted Made of flexible organic material, specifically polyethylene terephthalate (PET), phthalic acid acrylate (PMMA), cellulose triacetate (TAC) or COP (Japan Rion, 1420R) Wait.
- the second subtraction emission film 170 is for reducing reflection of light.
- the second anti-reflection film 170 is formed by wet coating.
- the refractive index of the second anti-reflection film 170 should be smaller than the refractive index of the substrate 110 to function as an anti-reflection.
- the material of the second anti-reflection film 170 may be inorganic materials such as zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, antimony pentoxide, antimony pentoxide, antimony oxide, chromium oxide, antimony oxide, aluminum oxide, silicon monoxide.
- the material of the second anti-reflection film 170 may also be an organic material, such as silicon dioxide, magnesium fluoride or metal.
- the second anti-reflection film 170 may be a single layer film such as a magnesium fluoride single layer film, a porous silicon oxide film or a moth eye film or the like.
- the second anti-reflection film 170 may also be composed of a multilayer film, such as a multilayer film composed of a silicon dioxide film and a tantalum pentoxide film, a multilayer film composed of a silicon dioxide film and a titanium dioxide film, and a hafnium oxide film.
- the protective sheet 100 may also form an anti-reflection film on only one side. That is, the protective sheet 100 may include only the substrate 110, the first adhesive layer 120, the first transparent film 130, and the first anti-reflection film 140, and does not include the second adhesive layer 150, the second transparent film 160, and the first Two anti-reflection film 170.
- a protective sheet 200 according to a second preferred embodiment of the first technical solution of the present invention is provided.
- the structure of the protective sheet 200 is similar to that of the protective sheet 100 provided by the first preferred embodiment.
- the protective sheet 200 also includes a substrate 210, a first adhesive layer 220, a first transparent film 230, and a first anti-reflection.
- the protective sheet 200 further includes an anti-fingerprint film 280.
- the anti-fingerprint film 280 is formed on the surface of the second anti-reflection film 270 on the outer surface side of the substrate 210.
- the anti-fingerprint film 280 is for preventing a fingerprint from being left on the surface of the protective sheet 200 after the person touches the protective sheet 200.
- the protective sheet 200 may also form an anti-reflection film on only one side. That is, the protective sheet 200 may include only the substrate 210, the first adhesive layer 220, the first transparent film 230, the first anti-reflection film 240, and the anti-fingerprint film 280, and the anti-fingerprint film 280 may be directly formed on the The outer surface 212 of the substrate 210.
- the protective sheet 200 may also include only the substrate 210, the second adhesive layer 250, the second transparent film 260, the second anti-reflection film 270, and the anti-finger film 280.
- a second technical solution of the present invention provides a method for fabricating a protective sheet. Please refer to FIG. 3 , which illustrates a method for fabricating a protective sheet according to a first preferred embodiment of the second technical solution of the present invention.
- the protective sheet 100 provided in the first embodiment of the first technical solution is taken as an example to describe the preparation of the protective sheet.
- the law specifically includes:
- Step S101 providing a transparent film and a substrate 110.
- Step S102 an anti-reflection film is formed on one surface of the transparent film by a wet coating method, and the anti-reflection film is a single-layer film.
- the anti-reflection film can be formed by a sol-gel method.
- a porous silicon dioxide reflective film will be described as an example.
- a silica sol-gel is formulated.
- the silica sol-gel is applied to one side surface of the transparent film.
- Coating the silica sol-gel on the transparent film may be carried out by a tannin method, a dip coating, a spray coating, a flow coating, a spin coating, a capillary coating, a rolling/photogravure coating, or the like.
- the silica sol-gel on the surface of the transparent film is dried to form an anti-reflection film.
- the transparent film may be in the form of a reel, and the antireflection film may be formed on one side surface of the transparent film in a roll-to-roll manner.
- the anti-reflection film can also be made of magnesium fluoride.
- Step S103 cutting a transparent film formed with an anti-reflection film such that the shape of the transparent film corresponds to the substrate 110.
- Step S104 the cut transparent film and the anti-reflection film are bonded to the surface of the substrate 110 by using an adhesive layer to form a protective sheet 100.
- the adhesive layer, the transparent film, and the anti-reflection film bonded to the inner surface 111 of the substrate 110 correspond to the first adhesive layer 120, the first transparent film 130, and the first anti-reflection film 140.
- the adhesive layer, the transparent film, and the anti-reflection film bonded to the outer surface 112 of the substrate 110 correspond to the second adhesive layer 150, the second transparent film 160, and the second anti-reflection film 170.
- the cut transparent film and the anti-reflection film may be attached only to the inner surface 111 or the outer surface 112 of the substrate 110.
- the anti-finger film may be formed on the surface of the anti-reflection film by applying an anti-fingerprint coating after the anti-reflection film is formed in step S102, and then the steps are performed. S103.
- a second preferred embodiment of the second technical solution of the present invention provides a method for manufacturing a protective sheet.
- the method for fabricating the protective sheet 100 according to the first embodiment of the first technical solution is as follows:
- Step S201 providing a transparent film and a substrate 110.
- Step S202 an anti-reflection film is formed on one surface of the transparent film by wet coating, and the anti-reflection film has a moth-eye structure.
- the anti-reflection film may also be an anti-reflection film having a moth-eye structure.
- the antireflection film having a moth eye structure can be formed by the following method: First, a photoresist coated on the surface of the transparent film forms a photoresist layer.
- the photoresist can be an ultraviolet sensitive photoresist.
- the photoresist layer is embossed using an imprint template to form a moth eye structure on the surface side of the photoresist layer.
- the embossed surface of the imprint template has a hundred nanometer-scale tapered hole corresponding to the moth-eye structure.
- a photoresist layer having a moth-eye structure 24 is formed to form an anti-reflection film.
- the photoresist layer may be irradiated with ultraviolet light to cause the photoresist to undergo a chemical reaction to be cured.
- Step S203 the transparent film formed with the anti-reflection film is cut so that the shape of the transparent film corresponds to the shape of the substrate 110.
- Step S204 the cut transparent film and the anti-reflection film are bonded to the surface of the substrate 110 by using an adhesive layer to form a protective sheet 100.
- the adhesive layer, the transparent film, and the anti-reflection film bonded to the inner surface 111 of the substrate 110 correspond to the first adhesive layer 120, the first transparent film 130, and the first anti-reflection film 140.
- the adhesive layer, the transparent film, and the anti-reflection film bonded to the outer surface 112 of the substrate 110 correspond to the second adhesive layer 150, the second transparent film 160, and the second anti-reflection film 170.
- the cut transparent film and the anti-reflection film may be adhered only to the inner surface 111 or the outer surface of the substrate 110.
- the anti-fingerprint film may be formed on the surface of the anti-reflective film by applying an anti-fingerprint coating after forming the anti-reflection film in step S202, and then proceeding to step S203.
- a third preferred embodiment of the second technical solution of the present invention provides a method for manufacturing a protective sheet.
- the method for fabricating the protective sheet 100 according to the first embodiment of the first technical solution is as follows:
- Step S301 providing a transparent film and a substrate 110.
- Step S302 a light-reducing anti-film 20 is formed on one surface of the transparent film by a wet coating method, and the anti-reflection film is a multilayer film.
- the anti-reflection film can be formed by the following method:
- a first film layer is formed on the surface of the transparent film.
- the first film layer may be formed by a sol-gel method. The description will be made by taking the case where the first film layer is made of silicon dioxide.
- a silica sol-gel is first formulated. The silica sol-gel is then applied to one side surface of the transparent film. The silica sol-gel is applied to the transparent film, and specifically, a tantalum method, a immersion plating, a spray coating, a flow coating, a spin coating, a capillary coating, a rolling/photogravure coating, or the like may be used. .
- the silica sol-gel on the surface of the transparent film is then dried to form a first film layer of the antireflection film.
- a second film layer is formed on the surface of the first film layer.
- the material of the second film layer may be titanium dioxide or tantalum pentoxide or the like.
- the method of forming the second film layer may be the same as the method of forming the first film layer.
- the third film layer, the fourth film layer, and the like are continuously formed on the surface of the second film layer, and a multilayer film is sequentially formed.
- the multilayer film constitutes an anti-reflection film.
- the multilayer film is a multilayer film in which a silicon dioxide film layer and a titanium dioxide film layer are alternately laminated.
- the multilayer film may also be a multilayer film composed of a ruthenium dioxide film and an aluminum oxide film or a multilayer film composed of a ruthenium dioxide film and a silicon dioxide film.
- Step S303 the transparent film formed with the anti-reflection film is cut so that the shape of the transparent film corresponds to the shape of the substrate 110.
- Step S304 the cut transparent film and the anti-reflection film are bonded to the inner surface 111 and the outer surface 112 of the substrate 110 by using an adhesive layer to form a protective sheet 100.
- the adhesive layer, the transparent film, and the anti-reflection film bonded to the inner surface 111 of the substrate 110 correspond to the first adhesive layer 120, the first transparent film 130, and the first anti-reflection film 140.
- the adhesive layer, the transparent film, and the anti-reflection film bonded to the outer surface 112 of the substrate 110 correspond to the second adhesive layer 150, the second transparent film 160, and the second anti-reflection film 170.
- the cut transparent film and the anti-reflection film may be adhered only to the inner surface 111 or the outer surface of the substrate 110.
- the anti-fingerprint film may be formed on the surface of the anti-reflective film by applying an anti-fingerprint coating after the anti-reflection film is formed in step S302, and then step S303 is performed.
- the anti-reflection film is formed on the surface of the transparent film by wet coating, and then the anti-reflection film is attached to the surface of the substrate to form a protection by cutting and pasting. sheet. Since the anti-reflection film is formed by wet coating, compared to evaporation and sputtering, The cost and process requirements of the manufacturing equipment are low, and the production cost of the protective sheet can be reduced. Further, since the anti-reflection film is bonded to the substrate by lamination, when the anti-reflection film is defective in production, it does not affect the substrate.
- the anti-reflection film can be cut and laminated after being produced in a large area, the thickness of the anti-reflection film of the plurality of products produced in the same batch can be ensured to be the same, and the film system has the same composition and stable performance.
- an electronic device according to a preferred embodiment of the third technical solution of the present invention is provided.
- the electronic device 40 includes a housing 41, an electronic device body (not shown), and a protection sheet 100.
- the electronic device may be a camera-enabled electronic device such as a mobile phone, a camera, and a tablet computer.
- the electronic device body is housed in the housing 41.
- the electronic device body includes a camera module.
- a window 411 is formed at a position of the housing 41 opposite to the camera module.
- the protective sheet 100 is mounted on the window 411 for transmitting light and protecting the camera module.
Landscapes
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Abstract
本发明提供了一种保护片，用于保护电子设备的相机模组并透射光线，所述保护片包括基底、第一粘结层、第一透明膜及第一减反射层，所述第一粘结层粘结于所述基底与第一透明膜之间，所述第一减反射膜形成于第一透明膜远离第一粘结层一侧的表面，所述基底、第一粘结层、第一透明膜及第一减反射膜均采用透光材料制成，所述第一减反射膜用于减少光线透射所述保护片时产生反射光。本发明还提供所述保护片的制作方法及包括所述保护片的电子设备。本发明提供的保护片制作方法能够降低保护片的生产成本，提高保护片的生产效率。
Description
一种保护片、 保护片的制作方法及电子设备
技术领域 背景技术
随着电子设备如手机、平板电脑等智能化发展，相机功能已经是各种电子 设备一项必不可少的附加功能， 其使用量越来越大， 用户对相机功能和拍照效 果的要求也越来越高。现有技术中，在电子设备的外壳对应摄像头的位置会安 装一块玻璃、塑胶或树脂等材质的透明保护片形成保护窗， 用于对摄像头光学 系统及芯片的前置保护。
然而， 所述透明保护片与摄像头之间通常具有一定空气间隙 （空气层）。 因为空气层的存在， 光线通过保护片的内、 外表面都会部分的光线被反射。 反 射光消弱了入射光的强度， 使得光通量降低， 入射光利用率下降。 导致图像清 晰度下降， 画质暗沉， 逆光拍摄时产生眩光。 目前， 为了减弱光反射的影响， 一般会在保护片的内、 外表面会镀制减反射膜（AR膜）。 基于防指纹的要求， 还会在保护片的外表面加镀防指纹膜 ( AF膜）。所述减反射膜及防指纹膜通常 采用真空蒸镀或溅射镀法形成。 真空蒸镀工艺比较简单， 容易操作， 成膜速度 快， 效率高。 溅射法镀制的薄膜附着力好， 膜层结构致密。
但是， 采用蒸镀或者溅镀的方法形成镀膜存在着如下不足:首先， 采用蒸 镀、 溅镀方法镀制的薄膜成本高。 这是因为： 第一， 蒸镀、 溅镀方法的制造设 备、 维修费用以及膜材成本较高。 第二， 如果镀膜出现不良， 损失的不仅是膜 材， 基底玻璃也将报废， 从而增加了加工成本。 其次， 保护片需要双面镀膜， 至少需要两次镀膜过程， 生产效率低。 进一步地， 由于蒸镀、 溅镀过程中不同 方向的膜材沉积厚度不一致，导致同一镀膜室内的不同位置放置的膜层组成不 一致， 使得同一批次的产品性能不一。 发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种保护片、保护片的制作 方法及电子设备， 所述保护片的制作方法能够降低保护片的制作成本， 并且提
升保护片的生产效率。
第一方面， 提供了一种保护片。
保护片，用于保护电子设备的相机模组并透射光线，所述保护片包括基底、 第一粘结层、第一透明膜及第一减反射层， 所述第一粘结层粘结于所述基底与 第一透明膜之间，所述第一减反射膜形成于第一透明膜远离第一粘结层一侧的 表面， 所述基底、 第一粘结层、 第一透明膜及第一减反射膜均采用透光材料制 成， 所述第一减反射膜用于减少光线透射所述保护片时产生反射光。
在第一方面的第一种可能的实现方式中， 所述第一减反射膜为单层膜， 所 述第一减反射膜为氟化镁单层膜、 多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜。
在第一方面的第二种可能的实现方式中， 所述第一减反射膜由多层膜组 成， 所述第一减反射膜为二氧化硅膜与氮化硅膜组成的多层膜、二氧化硅膜与 三氧化二铝膜组成的多层膜、二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧 化硅膜与二氧化钛膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜 或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜。
在第一方面的第三种可能的实现方式中，所述第一减反射膜的材料为氧化 锌、 氧化锆、 氧化钛、 五氧化二钽、 五氧化二铌、 氧化铈、 氧化铬、 氧化铪、 氧化铝、 一氧化硅、 二氧化硅或氟化镁。
在第一方面的第四种可能的实现方式中，所述基底包括相对的内表面和外 表面， 所述第一粘结层、第一透明膜及第一减反射层形成于所述基底的内表面 一侧。
结合第一方面的第四种可能的实现方式，在第五种可能的实现方式中， 所 述保护片还包括防指纹膜， 所述防指纹膜形成于所述基底的外表面。
结合第一方面的第四种可能的实现方式，在第六种可能的实现方式中， 所 述保护片还包括第二粘结层、第二透明膜及第二减反射膜， 所述第二粘结层粘 结于所述基底的外表面与第二透明膜之间，所述第二减反射膜形成于第二透明 膜远离第二粘结层一侧的表面， 所述第二粘结层、第二透明膜及第二减反射膜 均采用透光材料制成。
结合第一方面的第六种可能的实现方式，在第七种可能的实现方式中， 所 述保护片还包括防指纹膜 ,所述防指纹膜形成于所述第二减反射膜远离第二透 明膜的表面。
在第一方面的第八种可能的实现方式中，所述第一透明膜采用聚对苯二曱 酸乙二醇酯、聚曱基丙烯酸曱酯或三醋酸纤维素制成， 所述第一粘结层采用光 学胶、 压敏胶或者硅胶制成。
第二方面， 提供一种保护片的制作方法。
保护片的制作方法，用于制作所述保护片 , 包括步骤：提供透明膜及基底； 采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减射反膜；裁切形成有减反射膜 的透明膜，使得所述透明膜形状与所述基底相对应； 以及采用粘结层将裁切后 的透明膜及减反射膜贴合于所述基底至少一侧表面。
在第二方面的第一种可能的实现方式中，所述第一减反射膜为多孔二氧化 硅膜，形成所述第一减反射膜包括:配制二氧化硅溶胶-凝胶;将所述二氧化硅溶 胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面； 以及将所述透明膜表面的二氧化硅溶 胶-凝胶烘干形成减射反膜。
结合第二方面的第一种可能的实现方式，在第二种可能的实现方式中， 将 所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜表面采用甩胶法、 浸镀、 喷雾涂层、 流动涂镀、 自旋涂镀、 毛细管涂镀或滚动 /照相凹版涂镀方法。
在第二方面的第三种可能的实现方式中， 所述减反射膜为具有蛾眼结构， 形成所述减反射膜包括步骤:在透明膜的表面涂覆的光刻胶形成光刻胶层;采用 压印模板对光刻胶层进行压印， 从而在所述光刻胶层的表面一侧形成蛾眼结 构； 以及固化形成有蛾眼结构的光刻胶层， 形成减反射膜。
在第二方面的第四种可能的实现方式中， 所述减反射膜为多层膜， 形成所 述减反射膜包括依次在所述透明膜的表面形成多层膜，所述多层膜共同构成减 反射膜。
第三方面， 提供一种电子设备。
电子设备包括电子设备主体、 壳体及以上各种保护片， 所述设备主体设置 于所述壳体内， 所述设备主体包括相机模组， 所述壳体与相机模组像侧相对的 位置形成有窗口， 所述保护片设置于所述窗口内， 所述保护片用于保护所述相 机模组并透射光线。
本发明提供的保护片及其制作方法，所述减反射膜通过湿法涂布的方式形 成于透明膜的表面，然后再进行裁切和粘贴的方式将减反射膜贴合至基底表面 形成保护片。 由于减反射膜采用湿法涂布的方式形成， 相对于蒸镀及溅镀， 制
造设备的成本、 工艺要求均较低， 可以降低保护片的生产成本。 另外， 由于减 反射膜通过贴合的方式与基底连接， 当减反射膜制作出现不良时， 不会对基底 产生影响。 进一步的， 由于减反射膜可以大面积制作后再进行裁切贴合， 可以 保证同批生产的多个产品的减反射膜厚度一致， 膜系组成相同， 性能稳定。 附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施 例中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图仅仅是 本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的 前提下， 还可以根据这些附图获得其他的附图。
图 1 是本发明第一技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片的剖面示 意图；
图 2是本发明第一技术方案的第二较佳实施方式提供的保护片的剖面示 意图；
图 3 是本发明第二技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片的制作方 法的流程图；
图 4是本发明第二技术方案的第二较佳实施方式提供的保护片的制作方 法的流程图；
图 5 是本发明第二技术方案的第三较佳实施方式提供的保护片的制作方 法的流程图；
图 6是本发明第三技术方案提供的电子设备的示意图。 具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清 楚、 完整地描述， 显然， 所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例， 而不是 全部的实施例。基于本发明中的实施例， 本领域普通技术人员在没有作出创造 性劳动前提下所获得的所有其他实施例， 都属于本发明保护的范围。
请参阅图 1 , 为本发明第一技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片 100, 所述保护片 100可以用于保护电子设备内置的摄像头。 所述保护片 100 包括基底 110、 第一粘结层 120、 第一透明膜 130、 第一减反射膜 140、 第二粘
结层 150、 第二透明膜 160及第二减反射膜 170。
所述基底 110为片状， 由透光性良好的材料制成， 如玻璃或者塑料等。 所 述基底 110具有相对的内表面 111和外表面 112。 所述第一粘结层 120、 第一 透明膜 130及第一减反射膜 140形成于所述内表面 111一侧。所述第二粘结层 150、 第二透明膜 160及第三减反射膜 170形成于所述外表面 112—侧。
所述第一粘结层 120用于将第一透明膜 130和第一减发射膜 140粘结于基 底 110。 所述第一粘结层 120形成于所述内表面 111 , 其采用透光性良好的光 学胶制成。 所述第一粘结层 120的材料为光学胶、 压敏胶或者硅胶等。 所述第 一透明膜 130用于承载所述第一减反射膜 140。 所述第一透明膜 130可以采用 柔性的有机材料制成， 具体可以为聚对苯二曱酸乙二醇酯（PET ) 、 聚曱基丙 烯酸曱酯 (PMMA)、 三醋酸纤维素 (TAC)或者 COP (日本瑞翁， 1420R )等。 所述第一减发射膜 140用于减少光线的反射。所述第一减反射膜 140采用湿法 涂覆的方式形成。所述第一减反射膜 140的折射率应小于所述基底 110的折射 率， 以起到减反射的作用。 所述第一减反射膜 140的材料可以为无机物， 如氧 化锌、 氧化锆、 氧化钛、 五氧化二钽、 五氧化二铌、 氧化铈、 氧化铬、 氧化铪、 氧化铝、 一氧化硅、 二氧化硅、 氟化镁或金属等， 所述第一减反射膜 140的材 料也可以为有机物。 所述第一减反射膜 140可以为单层膜， 如氟化镁单层膜、 多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜等。所述第一减反射膜 140也可以采用多层膜组 成，如二氧化硅膜与氮化硅膜组成的多层膜、二氧化硅膜与三氧化二铝膜组成 的多层膜、二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧化硅膜与二氧化钛 膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二 氧化硅膜组成的多层膜等。
所述第二粘结层 150的材料和结构可以与第一粘结层 120的材料及结构相 同。所述第二透明膜 160的材料和结构可以与第一透明膜 130的材料及结构相 同。所述第二减反射膜 170的材料和结构可以与第一减反射膜 140的材料及结 构相同。
所述第二粘结层 150用于将第二透明膜 160和第二减发射膜 170粘结于基 底 110。 所述第二粘结层 150形成于所述外表面 112, 其采用透光性良好的光 学胶制成。 所述第二粘结层 150的材料为光学胶、 压敏胶或者硅胶等。 所述第 二透明膜 160用于承载所述第二减反射膜 170。 所述第二透明膜 160可以采用
柔性的有机材料制成， 具体可以为聚对苯二曱酸乙二醇酯（PET ) 、 聚曱基丙 烯酸曱酯 (PMMA)、 三醋酸纤维素 (TAC)或者 COP (日本瑞翁， 1420R )等。 所述第二减发射膜 170用于减少光线的反射。所述第二减反射膜 170采用湿法 涂覆的方式形成。所述第二减反射膜 170的折射率应小于所述基底 110的折射 率， 以起到减反射的作用。 所述第二减反射膜 170的材料可以为无机物， 如氧 化锌、 氧化锆、 氧化钛、 五氧化二钽、 五氧化二铌、 氧化铈、 氧化铬、 氧化铪、 氧化铝、 一氧化硅、 二氧化硅、 氟化镁或金属等， 所述第二减反射膜 170的材 料也可以为有机物。 所述第二减反射膜 170可以为单层膜， 如氟化镁单层膜、 多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜等。所述第二减反射膜 170也可以采用多层膜组 成，如二氧化硅膜与五氧化二铌膜组成的多层膜、二氧化硅膜与二氧化钛膜组 成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化铈膜与二氧化 硅膜组成的多层膜等。
可以理解的是， 所述保护片 100也可以仅在一侧形成减反射膜。 即， 所述 保护片 100可以仅包括基底 110、 第一粘结层 120、 第一透明膜 130及第一减 反射膜 140, 而不包括第二粘结层 150、 第二透明膜 160及第二减反射膜 170。
请参阅图 2, 为本发明第一技术方案的第二较佳实施方式提供的保护片 200。 所述保护片 200的结构与第一较佳实施方式提供的保护片 100的结构相 近， 所述保护片 200也包括基底 210、 第一粘结层 220、 第一透明膜 230、 第 一减反射膜 240、 第二粘结层 250、 第二透明膜 260及第二减反射膜 270。 不 同之处在于， 所述保护片 200还包括防指纹膜 280。 所述防指纹膜 280形成于 所述基底 210的外表面一侧的第二减反射膜 270的表面。 所述防指纹膜 280 用于防止人触碰所述保护片 200后在保护片 200表面留下指纹。
可以理解的是， 所述保护片 200也可以仅在一侧形成减反射膜。 即， 所述 保护片 200可以仅包括基底 210、 第一粘结层 220、 第一透明膜 230及第一减 反射膜 240及防指纹膜 280, 所述防指纹膜 280可以直接形成于所述基底 210 的外表面 212。 所述保护片 200也可以仅包括基底 210、 第二粘结层 250、 第 二透明膜 260及第二减反射膜 270及防指纹膜 280。
本发明第二技术方案提供一种保护片的制作方法。 请参阅图 3 , 为本发明 第二技术方案的第一较佳实施方式提供的保护片的制作方法。 下面， 以制作第 一技术方案第一实施方式提供的保护片 100 为例来说明所述保护片的制作方
法， 具体包括：
步骤 S101 , 提供透明膜及基底 110。
步骤 S102, 采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减反射膜， 所 述减反射膜为单层膜。
所述减反射膜可以采用溶胶-凝胶法形成。 本实施方式中， 以制作多孔二 氧化硅反射膜为例来进行说明。 首先， 配制二氧化硅溶胶-凝胶。 然后， 将所 述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面。 将二氧化硅溶胶-凝胶涂 布于所述透明膜具体可以采用甩胶法、浸镀、喷雾涂层、流动涂镀、 自旋涂镀、 毛细管涂镀、 滚动 /照相凹版涂镀等方法。 最后， 将所述透明膜表面的二氧化 硅溶胶 -凝胶烘干形成减反射膜。
可以理解的是， 为了提高生产效率， 所述透明膜可以是卷轴状的， 在透明 膜的一侧表面形成减反射膜可以采用卷对卷的方式。
所述减反射膜也可以采用氟化镁制成。
步骤 S103 , 裁切形成有减反射膜的透明膜， 使得所述透明膜的形状与基 底 110相对应。
步骤 S104,采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底 110 的表面， 形成保护片 100。
贴合于基底 110的内表面 111的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第一 粘结层 120、 第一透明膜 130及第一减反射膜 140。 贴合于基底 110的外表面 112的粘结层、 透明膜及减反射膜对应成为第二粘结层 150、 第二透明膜 160 及第二减反射膜 170。
可以理解的是， 当仅需在基底 110的一侧形成减反射膜时， 所述裁切后的 透明膜及减反射膜可以仅贴合于基底 110的内表面 111或者外表面 112。
可以理解的是，当需要保护片 100需要形成防指纹膜时，可以在步骤 S102 形成减反射膜之后，在减反射膜的表面通过涂布防指纹涂料的方式形成防指纹 膜， 之后再进行步骤 S103。
请参阅图 4, 本发明第二技术方案第二较佳实施方式提供一种保护片的制 作方法。 下面， 以制作第一技术方案第一实施方式提供的保护片 100为例来说 明所述保护片的制作方法， 具体包括：
步骤 S201 , 提供透明膜及基底 110。
步骤 S202, 采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减反射膜， 所 述减反射膜具有蛾眼结构。
所述减反射膜也可以为具有蛾眼结构的减反射膜。所述具有蛾眼结构的减 反射膜可以采用如下方法形成： 首先，在透明膜的表面涂覆的光刻胶形成光刻 胶层。 所述光刻胶可以为紫外敏感光刻胶。 然后， 采用压印模板对光刻胶层进 行压印，从而在所述光刻胶层的表面一侧形成蛾眼结构。 所述压印模板的压印 面具有与蛾眼结构对应的百纳米级圓锥孔。 最后， 固化形成有蛾眼结构 24的 光刻胶层，形成减反射膜。本实施方式中，可以采用紫外光照射所述光刻胶层， 使得光刻胶发生化学反应而固化。
步骤 S203 ,裁切形成有减反射膜的透明膜，使得透明膜的形状与基底 110 的形状相对应。
步骤 S204,采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底 110 的表面， 形成保护片 100。
贴合于基底 110的内表面 111的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第一 粘结层 120、 第一透明膜 130及第一减反射膜 140。 贴合于基底 110的外表面 112的粘结层、 透明膜及减反射膜对应成为第二粘结层 150、 第二透明膜 160 及第二减反射膜 170。
可以理解的是，本实施方式中，当仅需在基底 110的一侧形成减反射膜时， 所述裁切后的透明膜及减反射膜可以仅贴合于基底 110的内表面 111或者外表 面 112。 当需要保护片 100需要形成防指纹膜时， 可以在步骤 S202形成减反 射膜之后，在减反射膜的表面通过涂布防指纹涂料的方式形成防指纹膜，之后 再进行步骤 S203。
请参阅图 5 , 本发明第二技术方案第三较佳实施方式提供一种保护片的制 作方法。 下面， 以制作第一技术方案第一实施方式提供的保护片 100为例来说 明所述保护片的制作方法， 具体包括：
步骤 S301 , 提供透明膜及基底 110。
步骤 S302, 采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减射反膜 20, 所述减反射膜为多层膜。
所述减反射膜可以采用如下方法形成：
首先， 在透明膜的表面形成第一膜层。
所述第一膜层可以采用溶胶-凝胶法形成。 以制作第一膜层为二氧化硅为 例来进行说明。 先配制二氧化硅溶胶-凝胶。 再将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布 于所述透明膜的一侧表面。 将二氧化硅溶胶 -凝胶涂布于所述透明膜具体可以 采用甩胶法、 浸镀、 喷雾涂层、 流动涂镀、 自旋涂镀、 毛细管涂镀、 滚动 /照 相凹版涂镀等方法。 后将所述透明膜表面的二氧化硅溶胶 -凝胶烘干形成减射 反膜的第一膜层。
然后， 在第一膜层表面形成第二膜层。
所述第二膜层的材料可以为二氧化钛或者五氧化二铌等。所述第二膜层的 形成方法可以与第一膜层的形成方法相同。
接着，按照相同的方法，继续在第二膜层表面形成第三膜层、第四膜层等， 依次形成多层膜。 所述多层膜构成减反射膜。 本实施例中， 所述多层膜为二氧 化硅膜层与二氧化钛膜层交替层叠的多层膜。
所述多层膜也可以为二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多层膜或二氧化 铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜等。
步骤 S303 ,裁切形成有减反射膜的透明膜，使得透明膜的形状与基底 110 形状相对应。
步骤 S304,采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底 110 的内表面 111和外表面 112, 形成保护片 100。
贴合于基底 110的内表面 111的粘结层、透明膜及减反射膜对应成为第一 粘结层 120、 第一透明膜 130及第一减反射膜 140。 贴合于基底 110的外表面 112的粘结层、 透明膜及减反射膜对应成为第二粘结层 150、 第二透明膜 160 及第二减反射膜 170。
可以理解的是，本实施方式中，当仅需在基底 110的一侧形成减反射膜时， 所述裁切后的透明膜及减反射膜可以仅贴合于基底 110的内表面 111或者外表 面 112。 当需要保护片 100需要形成防指纹膜时， 可以在步骤 S302形成减反 射膜之后，在减反射膜的表面通过涂布防指纹涂料的方式形成防指纹膜，之后 再进行步骤 S303。
本技术方案提供的保护片的制作方法，所述减反射膜通过湿法涂布的方式 形成于透明膜的表面，然后再进行裁切和粘贴的方式将减反射膜贴合至基底表 面形成保护片。 由于减反射膜采用湿法涂布的方式形成， 相对于蒸镀及溅镀，
制造设备的成本、 工艺要求均较低， 可以降低保护片的生产成本。 另外， 由于 减反射膜通过贴合的方式与基底连接， 当减反射膜制作出现不良时， 不会对基 底产生影响。 进一步的， 由于减反射膜可以大面积制作后再进行裁切贴合， 可 以保证同批生产的多个产品的减反射膜厚度一致， 膜系组成相同， 性能稳定。
请参阅图 6, 本发明第三技术方案一个较佳实施方式提供的一种电子设备
40, 所述电子设备 40包括壳体 41、 电子设备主体（图未示）及保护片 100。 所述电子设备可以为手机、相机及平板电脑等具有相机功能的电子设备。 所述 电子设备主体收容于所述壳体 41 内。 所述电子设备主体包括相机模组。 所述 壳体 41与所述相机模组相对的位置形成有窗口 411。 所述保护片 100安装于 所述窗口 411 , 用于透射光线并保护所述相机模组。
最后应说明的是： 以上实施例仅用以说明本发明的技术方案， 而非对其限 制； 尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明， 本领域的普通技术人员 应当理解： 本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员 在本发明揭露的技术范围内， 可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的 保护范围之内。 因此， 本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims
1、 一种保护片， 用于保护电子设备的相机模组并透射光线， 所述保护片 包括基底、 第一粘结层、 第一透明膜及第一减反射层， 所述第一粘结层粘结于 所述基底与第一透明膜之间，所述第一减反射膜形成于第一透明膜远离第一粘 结层一侧的表面， 所述基底、 第一粘结层、 第一透明膜及第一减反射膜均采用 透光材料制成， 所述第一减反射膜用于减少光线透射所述保护片时产生反射 光。
2、 如权利要求 1所述的保护片， 其特征在于， 所述第一减反射膜为单层 膜， 所述第一减反射膜为氟化镁单层膜、 多孔二氧化硅薄膜或者蛾眼膜。
3、 如权利要求 1所述的保护片， 其特征在于， 所述第一减反射膜由多层 膜组成， 所述第一减反射膜为二氧化硅膜与氮化硅膜组成的多层膜、二氧化硅 膜与三氧化二铝膜组成的多层膜、 二氧化硅膜与五氧化二银膜组成的多层膜、 二氧化硅膜与二氧化钛膜组成的多层膜、二氧化铈膜与三氧化二铝膜组成的多 层膜或二氧化铈膜与二氧化硅膜组成的多层膜。
4、 如权利要求 1所述的保护片， 其特征在于， 所述第一减反射膜的材料 为氧化锌、 氧化锆、 氧化钛、 五氧化二钽、 五氧化二铌、 氧化铈、 氧化铬、 氧 化铪、 氧化铝、 一氧化硅、 二氧化硅或氟化镁。
5、 如权利要求 1所述的保护片， 其特征在于， 所述基底包括相对的内表 面和外表面， 所述第一粘结层、第一透明膜及第一减反射层形成于所述基底的 内表面一侧。
6、 如权利要求 5所述的保护片， 其特征在于， 所述保护片还包括防指纹 膜， 所述防指纹膜形成于所述基底的外表面。
7、 如权利要求 5所述的保护片， 其特征在于， 所述保护片还包括第二粘 结层、第二透明膜及第二减反射膜， 所述第二粘结层粘结于所述基底的外表面 与第二透明膜之间 ,所述第二减反射膜形成于第二透明膜远离第二粘结层一侧 的表面， 所述第二粘结层、 第二透明膜及第二减反射膜均采用透光材料制成。
8、 如权利要求 7所述的保护片， 其特征在于， 所述保护片还包括防指纹 膜， 所述防指纹膜形成于所述第二减反射膜远离第二透明膜的表面。
9、 如权利要求 1所述的保护片， 其特征在于， 所述第一透明膜采用聚对
苯二曱酸乙二醇酯、聚曱基丙烯酸曱酯或三醋酸纤维素制成， 所述第一粘结层 采用光学胶、 压敏胶或者硅胶制成。
10、 一种保护片的制作方法， 用于制作如权利要求 1所述的保护片， 包括 步骤：
提供透明膜及基底；
采用湿法涂覆的方式在透明膜的一侧表面形成减射反膜；
裁切形成有减反射膜的透明膜， 使得所述透明膜形状与所述基底相对应； 以及
采用粘结层将裁切后的透明膜及减反射膜贴合于所述基底至少一侧表面。
11、 如权利要求 10所述的保护片的制作方法， 其特征在于， 所述第一减 反射膜为多孔二氧化硅膜， 形成所述第一减反射膜包括步骤：
配制二氧化硅溶胶-凝胶；
将所述二氧化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜的一侧表面； 以及
将所述透明膜表面的二氧化硅溶胶 -凝胶烘干形成减射反膜。
12、 如权利要求 11所述的保护片的制作方法， 其特征在于， 将所述二氧 化硅溶胶-凝胶涂布于所述透明膜表面采用甩胶法、 浸镀、 喷雾涂层、 流动涂 镀、 自旋涂镀、 毛细管涂镀或滚动 /照相凹版涂镀方法。
13、 如权利要求 10所述的保护片的制作方法， 其特征在于， 所述减反射 膜为具有蛾眼结构， 形成所述减反射膜包括步骤：
在透明膜的表面涂覆的光刻胶形成光刻胶层；
采用压印模板对光刻胶层进行压印，从而在所述光刻胶层的表面一侧形成 蛾眼结构； 以及
固化形成有蛾眼结构的光刻胶层， 形成减反射膜。
14、 如权利要求 10所述的保护片的制作方法， 其特征在于， 所述减反射 膜为多层膜， 形成所述减反射膜包括依次在所述透明膜的表面形成多层膜， 所 述多层膜共同构成减反射膜。
15、 一种电子设备， 其包括电子设备主体、 壳体及如权利要求 1至 9任一 项所述的保护片， 所述设备主体设置于所述壳体内， 所述设备主体包括相机模 组， 所述壳体与相机模组相对的位置形成有窗口， 所述保护片设置于所述窗口 内， 所述保护片用于保护所述相机模组并透射光线。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105568227A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-05-11 | 清华大学 | 一种同质双层氧化铪减反膜及其制备方法 |
| CN105611009A (zh) * | 2016-03-10 | 2016-05-25 | 东莞市富饶光电有限公司 | 防爆摄像头护镜 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114335392B (zh) * | 2021-12-31 | 2023-06-16 | 西南科技大学 | 一种oled柔性显示用减反射膜的制备工艺 |
| CN114725223B (zh) * | 2022-03-21 | 2022-12-16 | 中山德华芯片技术有限公司 | 一种太阳电池减反膜及其制备方法与应用 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020176158A1 (en) * | 2001-04-10 | 2002-11-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Infrared transparent optical element and infrared imaging camera using the same |
| CN1809764A (zh) * | 2003-06-18 | 2006-07-26 | 旭化成株式会社 | 抗反射膜 |
| CN202794794U (zh) * | 2012-08-23 | 2013-03-13 | 烟台亿杰五金制品有限公司 | 一种摄像头保护盖 |
| CN202889425U (zh) * | 2012-10-31 | 2013-04-17 | 惠州Tcl移动通信有限公司 | 一种摄像头密封装置及移动通信装置 |
| CN103364850A (zh) * | 2012-04-10 | 2013-10-23 | 精工爱普生株式会社 | 光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2841894B1 (fr) * | 2002-07-03 | 2006-03-10 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
| JP2006091859A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止フィルム、並びにそれを用いた偏光板及び画像表示装置 |
| KR20100127954A (ko) * | 2009-05-27 | 2010-12-07 | 도레이첨단소재 주식회사 | 반사방지필름 및 이를 포함하는 편광판 |
| JP6230233B2 (ja) * | 2012-04-23 | 2017-11-15 | 日東電工株式会社 | 表面保護フィルム |
| CN102998723B (zh) * | 2012-11-29 | 2016-03-16 | 法国圣戈班玻璃公司 | 减反光学组件及制造方法 |
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020176158A1 (en) * | 2001-04-10 | 2002-11-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Infrared transparent optical element and infrared imaging camera using the same |
| CN1809764A (zh) * | 2003-06-18 | 2006-07-26 | 旭化成株式会社 | 抗反射膜 |
| CN103364850A (zh) * | 2012-04-10 | 2013-10-23 | 精工爱普生株式会社 | 光学元件、摄像装置、电子设备以及光学元件的制造方法 |
| CN202794794U (zh) * | 2012-08-23 | 2013-03-13 | 烟台亿杰五金制品有限公司 | 一种摄像头保护盖 |
| CN202889425U (zh) * | 2012-10-31 | 2013-04-17 | 惠州Tcl移动通信有限公司 | 一种摄像头密封装置及移动通信装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105568227A (zh) * | 2016-01-20 | 2016-05-11 | 清华大学 | 一种同质双层氧化铪减反膜及其制备方法 |
| CN105611009A (zh) * | 2016-03-10 | 2016-05-25 | 东莞市富饶光电有限公司 | 防爆摄像头护镜 |
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