WO2015072253A1 - 導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに配線の視認性の評価方法 - Google Patents

導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに配線の視認性の評価方法 Download PDF

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WO2015072253A1
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wiring
conductive film
value
visibility
wiring pattern
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PCT/JP2014/077087
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山口　義隆
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富士フイルム株式会社
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    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
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    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a conductive film, a touch panel and a display device including the conductive film, and a method for evaluating the visibility of the wiring of the conductive film.
  • a conductive film installed on a display unit of a display device there is a conductive film provided with a fine conductive pattern (wiring) on a transparent film, such as a touch panel sensor or an electromagnetic wave shield.
  • a transparent film such as a touch panel sensor or an electromagnetic wave shield.
  • Applications are listed. (For example, refer to Patent Document 1).
  • the conductive film has a wiring conductive pattern (wiring pattern) formed by wiring with a thin metal wire or the like, so that the wiring itself can be seen.
  • the visibility of the wiring which is visible when it is turned on and becomes a granular noise for the user, is a problem, and depending on the degree, the image quality is hindered.
  • Patent Document 1 in a touch screen sensor in which two conductive micropatterns that are electrically insulated from each other are superposed, each including a linear trace that defines a cell-shaped open mesh, both linear The trace has at least one part that is not parallel to each other, part that is different from each other in cell shape, and part that is different from each other in cell size, and depends on the observation distance with respect to the spatial contrast of the wiring. It has been proposed to obtain a low visibility of the conductive pattern of the touch screen sensor by providing a threshold.
  • Patent Document 1 discloses a conductive pattern condition for obtaining low visibility when used as a touch screen sensor.
  • Patent Document 1 discloses an antenna, an EMI shield, and a touch screen sensor. It also uses conductive films such as pattern substrates, and only proposes a combination of conductive films that reduces regularity with respect to the combination of two conductive micropatterns that are superposed.
  • there is a problem that the visibility of the wiring of the actual sample of the touch panel display device in which the touch screen sensor is installed on the display unit of the display device cannot be evaluated as a quantitative value.
  • the model disclosed in Patent Document 1 is a quantification model that takes into account the reflection intensity of the entire wiring pattern and human visual sensitivity. However, if various samples with different reflection intensity are mixed in the wiring pattern, the entire wiring pattern However, the quantification model disclosed in Patent Document 1 that takes into account the reflection intensity and human visual sensitivity has a problem in that not all samples can be expressed.
  • the capacitance type conductive film has a top wiring and a bottom wiring, and the characteristics of the wiring change depending on the prescription (wiring manufacturing method).
  • a transparent substrate PET
  • the reflection characteristics of the wiring change due to changes in the thickness, material, and the process of fixing a metal such as silver as a wiring to the transparent substrate, resulting in a difference in reflection intensity between the background and the wiring or between the top and bottom wiring.
  • a phenomenon occurs. Therefore, in the sample of the same prescription, since the reflection intensity of the wiring pattern does not locally differ between samples, it can be quantitatively evaluated even with the quantification model disclosed in Patent Document 1, that is, correspondence with visual observation.
  • the reflection intensity of the wiring pattern varies locally between samples, and the conventional model cannot be compared with visual observation, and wiring visibility is evaluated as a quantitative value. There was a problem that I could not.
  • the present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and even when the conductive pattern (wiring pattern) of the conductive film is used, for example, when the conductive film installed on the display unit is used for a touch panel sensor or the like.
  • the wiring itself is not visible, especially when the display unit is not lit.
  • An object of the present invention is to provide a wiring visibility evaluation method capable of quantitatively evaluating the wiring visibility of a conductive film installed thereon, in particular, even when the display unit is not lit. To do.
  • the present inventors obtained the sum of the peaks in the frequency space of the wiring and the VTF (human visual sensitivity) from an image obtained by imaging the wiring pattern of the conductive film. Quantitative value is calculated by weighting by function), and the visibility of the wiring of the conductive film is quantitatively evaluated, and a technology to provide a conductive film with excellent visibility, a touch panel including the same, and a display device is proposed. ing.
  • this technology is also a quantification model that takes into account the reflection intensity of the entire wiring pattern and human visual sensitivity, this technique also creates a patent that arises when various samples with different reflection intensity are mixed in the wiring pattern.
  • the conductive film according to the first aspect of the present invention is a conductive film having a transparent base and a conductive portion formed on at least one surface of the transparent base and made of a plurality of fine metal wires.
  • the part has a wiring pattern formed by a plurality of fine metal wires in a mesh shape and made of a wiring in which a plurality of openings are arranged. In a dark room environment, the part is irradiated with light at an incident angle of 45 °, and becomes a reference black from the front.
  • the signal value per unit exposure time obtained by dividing the signal value when the image is taken by the exposure time is set to a predetermined standard value, and light is applied to the conductive film at an incident angle of 45 ° in a dark room environment and imaged from the front.
  • the sum of the second peak intensities (at the second peak frequency) obtained by the action and the pixel value of the captured image of the wiring of the wiring pattern are binarized and separated into the wiring pixel value and the background pixel value
  • the area ratio of the wiring area consisting of the pixel values of the wiring at the time of the entire wiring pattern image, the average value of all the pixel values in the wiring area, and the average value of all the pixel values in the remaining background area consisting of the background A quantitative value of the visibility of the wiring obtained from the difference in strength
  • the touch panel according to the second aspect of the present invention includes the conductive film according to the first aspect and a detection control unit that detects a contact position or a proximity position from the surface side of the conductive film.
  • the conductive film and the detection control unit function as a touch panel sensor.
  • a display device includes a display unit and the conductive film according to the first aspect that is installed on the display unit.
  • the detection control part which detects the contact position from the surface side of a conductive film, or a proximity position, and it is preferable that a conductive film and a detection control part function as a touch panel sensor.
  • a method for evaluating the visibility of a conductive wiring according to a fourth aspect of the present invention is a wiring pattern of a wiring in which a plurality of openings are arranged and formed in a mesh shape with a plurality of fine metal wires.
  • the pixel value of the picked-up image of the wiring pattern wiring is standardized by shining light on the conductive film at an incident angle of 45 ° in a dark room environment and imaging from the front.
  • two-dimensional Fourier transform is performed on the pixel value of the captured image of the wiring of the obtained wiring pattern, and a plurality of spectral peaks (first peak) of the two-dimensional Fourier spectrum of the pixel value of the captured image of the wiring are obtained.
  • the first peak intensity (in number) is calculated, and the human visual response characteristic is applied to the first peak intensity (in the first peak frequency) of the wiring pattern thus calculated in accordance with the observation distance (in each case)
  • the second peak intensity (at the second peak frequency) is calculated, and thus the sum of the second peak intensity (at the second peak frequency) is obtained, and the pixel value of the wiring image of the wiring pattern is binarized and wiring is performed.
  • the pixel area value and the background pixel value are separated, the area ratio of the wiring area consisting of the separated wiring pixel values to the entire wiring pattern image is obtained, and the average value of all the pixel values in the wiring area and the background are obtained.
  • the average value of all the pixel values in the remaining background area is obtained, and the difference in intensity between the wiring and the background is obtained as the difference between the two average values thus obtained.
  • the total sum of the second peak intensities thus obtained and the wiring Patter The quantitative value of wiring visibility is obtained as a linear sum from the area ratio of the wiring area to the entire image and the strength difference between the wiring and the background, and the conductive visibility thus determined is below a predetermined threshold value. It is characterized by evaluating the visibility of the wiring of the conductive film.
  • E c 1 ⁇ x 1 + c 2 ⁇ x 2 + c 3 ⁇ x 3 ) + C (1)
  • c 1, c 2, and c 3 are coefficients
  • C is a constant.
  • the reference black is a black whose luminous reflectance Y of the XYZ color system is 3.1%, the predetermined standard value is 4/3 [I / ms], and the pixel value of the wiring is When the signal value of the wiring is divided by the exposure time, 64/45 [I / ms] is normalized so as to be 1.0.
  • c 1 259
  • c When 2 73.0
  • c 3 ⁇ 140
  • C ⁇ 13.0
  • the predetermined threshold value is 6.0
  • the quantitative value E of wiring visibility is 6.0 or less.
  • the predetermined threshold is 4.2
  • the quantitative value of the visibility of the wiring is 4.2 or less.
  • a conductive film is installed on the display unit of a display apparatus, and the wiring pattern is superimposed on the display unit.
  • the second peak intensity is preferably obtained by weighting the visual transfer function as a visual response characteristic by convolution integration.
  • the visual transfer function is preferably an evaluation function in which a correction function for the brightness component is introduced into a Dooley-Shaw function.
  • the visual transfer function is preferably represented by a function VTF given by the following formula (2).
  • u is a spatial frequency (cycle / deg).
  • the feature amount reflecting the difference in the reflection intensity in the pattern (the feature amount in the frequency space) reflecting the reflection intensity of the entire wiring pattern and the human visual sensitivity (the feature amount in the frequency space)
  • the conductive pattern (wiring pattern) of the conductive film for example, the conductive film installed on the display unit can be Even in the case of use, even in the final product form installed on the display unit, for example, in the form of an actual sample used as a touch panel sensor on the display unit, the wiring itself is not visible. Wiring is not visible even when lit, image quality problems can be prevented or reduced, and wiring visibility is improved or improved.
  • the visibility of the conductive film is quantitatively evaluated, particularly even when the display unit is not lit. Can do.
  • FIG. 1 It is a top view which shows typically an example of the electroconductive film which concerns on the 1st Embodiment of this invention. It is a typical fragmentary sectional view of the electroconductive film shown in FIG. It is a typical fragmentary sectional view which shows the principal part of an example of the electroconductive film which concerns on another embodiment of this invention. It is a typical fragmentary sectional view which shows an example of the electroconductive film which concerns on another embodiment of this invention. It is a schematic explanatory drawing showing an example of the one part pixel arrangement pattern of the display unit to which the electroconductive film which concerns on this invention is applied. It is a schematic sectional drawing of one Example of the display apparatus incorporating the conductive film shown in FIG.
  • the conductive film which concerns on this invention, a touch panel and display apparatus provided with this, and the evaluation method of the visibility of the wiring of a conductive film are demonstrated in detail with reference to suitable embodiment shown to attached drawing.
  • the conductive film which concerns on this invention, a touch panel provided with this, and a display apparatus the conductive film used for the use of the touch panel sensor installed in the display unit of a display apparatus, and this conductive film are installed on a display unit.
  • the present invention is not limited to this, and any liquid crystal display (LCD) may be used as long as the conductive film is used in a state of being integrally installed on the display unit.
  • LCD liquid crystal display
  • a conductive film installed on a display unit of a display device such as a liquid crystal display (PDP), a plasma display panel (PDP), an organic EL display (OELD), an inorganic EL display, and the like, and the conductive film A display device installed on the display unit.
  • a display device such as a liquid crystal display (PDP), a plasma display panel (PDP), an organic EL display (OELD), an inorganic EL display, and the like
  • the conductive film A display device installed on the display unit any type may be used as long as it is, for example, a conductive film for electromagnetic wave shielding and a display device in which this is integrally installed on a display unit.
  • the electroconductive film of this invention is not limited to what is installed on the display unit of a display apparatus, You may be used independently.
  • FIG.1 and FIG.2 is the top view which shows typically an example of the electroconductive film which concerns on the 1st Embodiment of this invention, respectively, and its typical fragmentary sectional view.
  • the conductive film 10 of the present embodiment is installed on a display unit of a display device, for example, and is displayed on the display unit in a state of being integrally installed on the display unit.
  • the conductive film has a wiring pattern that is optimized in terms of wiring visibility.
  • the conductive film 10 of this embodiment includes a transparent substrate 12 and a plurality of metal thin wires (hereinafter referred to as metal thin wires) 14, and both surfaces of the transparent substrate 12 (upper surface and lower surface in FIG. 2).
  • the first and second conductive portions 16a and 16b (collectively referred to as the conductive portion 16) and the thin conductive wires 16a and 16b, respectively, are formed on the substantially entire surfaces of the first and second conductive portions 16a and 16b.
  • Two first and second protective layers 20a and 20b (collectively referred to as protective layer 20) bonded via two adhesive layers 18a and 18b (collectively referred to as adhesive layer 18).
  • the transparent substrate 12 is made of a material having insulating properties and high translucency, and examples thereof include materials such as resin, glass, and silicon.
  • the resin include PET (Polyethylene Terephthalate), PMMA (Polymethyl methacrylate), PP (polypropylene), PS (polystyrene) and the like.
  • the conductive portion 16 (16a, 16b) has a wiring layer having a fine metal wire 14 and a mesh-like wiring pattern 24 (first and second wiring patterns 24a, 24b) formed by openings 22 between adjacent fine metal wires 14. 28 (first and second wiring layers 28a, 28b) are formed. Specifically, in the conductive film 10, the first conductive portion 16 a is formed on one surface (the upper side in FIG. 2) of the transparent substrate 12 as a wiring layer 28 a having a wiring pattern 24 a composed of a plurality of fine metal wires 14. Similarly, the second conductive portion 16b is formed on the other surface (lower side in FIG. 2) of the transparent substrate 12 as a wiring layer 28b having a wiring pattern 24b made of a plurality of fine metal wires 14. Yes.
  • the metal thin wire 14 is not particularly limited as long as it is a metal thin wire having high conductivity, and examples thereof include a wire made of gold (Au), silver (Ag), or copper (Cu).
  • the line width of the fine metal wire 14 is preferably narrower from the viewpoint of visibility, but may be, for example, 30 ⁇ m or less. In the touch panel application, the line width of the fine metal wire 14 is preferably 0.1 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or more and 9 ⁇ m or less, and further preferably 2 ⁇ m or more and 7 ⁇ m or less.
  • the wiring pattern 24a of the first conductive portion 16a in the upper layer and the wiring pattern 24b of the second conductive portion 16b in the lower layer are the same or similar wiring patterns, and the wiring pattern 24a in the upper layer is replaced with the wiring pattern 24b in the lower layer.
  • the upper layer wiring pattern 24a is arranged with a half (1/2) pitch shift from the wiring pattern 24b.
  • a lower wiring pattern 24b is formed between two adjacent metal thin wires 14 of the first conductive portion 16a constituting the upper wiring pattern 24a, preferably at the center thereof. It arrange
  • such an arrangement state of the thin metal wires 14 of the wiring patterns 24a and 24b is said that the upper first conductive portion 16a is nested with respect to the lower second conductive portion 16b.
  • the upper wiring pattern 24a is arranged out of phase with respect to the lower wiring pattern 24b and is nested.
  • the conductive portion 16 has the wiring pattern 24 made of wiring in which a plurality of fine metal wires 14 are arranged in a mesh shape.
  • the mesh shape of the opening 22 is a rhombus (see FIG. 1 and FIG. 10A described later).
  • the present invention is not limited to this, and the display unit has a display surface as described later.
  • the wiring pattern 24 with optimized wiring visibility can be configured, it may be any polygonal shape having at least three sides, and may have the same mesh shape or different mesh shapes.
  • triangles such as regular triangles and isosceles triangles, squares (square lattice: see FIG.
  • rectangles such as rectangles, pentagons, hexagons (regular hexagons: described later)
  • Examples include the same or different polygons such as FIG. 10B, and these polygons may be inclined at a predetermined angle.
  • the rhombus shown in FIG. 1 and FIG. 10 (A) is not inclined, the rhombus shown in FIG. 10 (A) is rotated by an angle ⁇ (see FIG. 10 (D)) to incline, thereby forming parallelograms. It can also be shaped. That is, as long as the wiring pattern is optimized for the wiring of a predetermined display unit, even a wiring pattern constituted by an array of openings 22 having regularity may be changed by the arrangement of openings 22 having different shapes. A randomized wiring pattern may be used.
  • the first protective layer 20a is bonded to substantially the entire surface of the first conductive portion 16a (wiring layer 28a) by the first adhesive layer 18a so as to cover the wiring made of the fine metal wires 14 of the first conductive portion 16a.
  • the second protective layer 20b is adhered to substantially the entire surface of the second conductive portion 16b (wiring layer 28b) by the second adhesive layer 18b so as to cover the fine metal wires 14 of the second conductive portion 16b.
  • examples of the material of the first adhesive layer 18a and the second adhesive layer 18b include a wet laminate adhesive, a dry laminate adhesive, and a hot melt adhesive.
  • the materials of the first and second adhesive layers 18a and 18b may be the same or different.
  • the 1st protective layer 20a and the 2nd protective layer 20b consist of material with high translucency containing resin, glass, and silicon
  • FIG. The material of the first protective layer 20a and the material of the second protective layer 20b may be the same or different.
  • the refractive index n1 of the first protective layer 20a and the refractive index n2 of the second protective layer 20b are both preferably equal to or close to the refractive index n0 of the transparent substrate 12.
  • the relative refractive indexes nr1 and nr2 of the transparent substrate 12 with respect to the first and second protective layers 20a and 20b are both close to 1.
  • the refractive index in this specification means a refractive index in light having a wavelength of 589.3 nm (sodium D-line).
  • ISO 14782: 1999 (corresponding to JIS K 7105) is an international standard.
  • nr1 (n1 / n0)
  • nr2 (n2 / n0)
  • both the relative refractive index nr1 and the relative refractive index nr2 may be in the range of 0.86 to 1.15, and more preferably 0.91 to 1.08.
  • the range of relative refractive index nr1 and relative refractive index nr2 is limited to this range, and the light transmittance between members of the transparent substrate 12 and the protective layers 20a and 20b is controlled, thereby improving the visibility of the wiring. It can be improved and improved.
  • the metal wires 14 of the second conductive portion 16b constituting the lower wiring pattern 24b on the lower side of the transparent substrate 12 are preferably disposed in the center of the transparent substrate 12.
  • the present invention is not limited to this. Instead, the fine metal wires 14 constituting the wiring patterns 24a and 24b of the first and second conductive portions 16a and 16b on both surfaces of the transparent substrate 12 may be located at positions corresponding to each other.
  • the plurality of fine metal wires 14 of the wiring pattern 24b of the second conductive portion 16b may be arranged at positions corresponding to the plurality of fine metal wires 14 of the wiring pattern 24a of the first conductive portion 16a.
  • the wiring pattern 24a of the wiring layer 28a and the wiring pattern 24b of the wiring layer 28b can be made the same, and the electrode visibility can be further improved.
  • the wiring layer 28 a and the wiring layer 28 b have the same wiring pattern 24 and overlap each other without forming a single wiring pattern 24 (24 a, 24 b).
  • the wiring patterns of the wiring layer 28a and the wiring layer 28b satisfy the evaluation criteria of the present invention, they may be overlapped at different positions, or the wiring patterns themselves may be different.
  • the conductive film 10 of the first embodiment described above includes wiring layers 28a and 28b each having first and second wiring patterns 24a and 24b made of fine metal wires 14 on both surfaces of the transparent substrate 12 in the same manner.
  • the first and second conductive portions 16a and 16b are formed, the present invention is not limited to this, and the wiring layers 28a and 28b on both surfaces of the transparent substrate 12 are part of at least one wiring layer. May be formed by the dummy electrode portion, and the rest may be formed by the first and second conductive portions 16a and 16b. That is, the wiring layer 28a is formed by the first conductive portion 16a and the dummy electrode portion, or the wiring layer 28b is formed by the second conductive portion 16b and the dummy electrode portion, or both. .
  • the dummy electrode portion is formed on at least one surface (at least one of the upper side and the lower side in FIG. 2) of the transparent substrate 12, similarly to the first and second conductive portions 16 a and 16 b shown in FIG. 2.
  • the dummy electrode has the same or similar wiring pattern as the first wiring pattern 24a of the first conductive portion 16a, or has the same or similar wiring pattern as the second wiring pattern 24b of the second conductive portion 16b. It is preferable to have it.
  • the dummy electrode portion when the dummy electrode portion is formed on a part of the wiring layer 28a on the upper side of the transparent substrate 12, it is separated from the first conductive portion 16a formed on the remaining portion of the wiring layer 28a by a predetermined distance.
  • the first conductive portion 16a is electrically insulated from the first conductive portion 16a and formed on a part of the wiring layer 28b on the lower side of the transparent substrate 12,
  • the second conductive portion 16b formed in the remaining portion of the wiring layer 28b is spaced apart from the second conductive portion 16b by a predetermined distance and is in a state of being electrically insulated from the second conductive portion 16b.
  • the transparent electrode 12 is transparent. Scattering by the fine metal wires on one surface of the substrate 12 can be controlled, and the visibility of the electrode wiring can be improved.
  • the fine metal wires constituting the wiring patterns 24a and 24b are shifted by a half pitch and are nested with each other.
  • the present invention is not limited to this, and in the wiring layer 28a or 28b, a conductive portion or a dummy electrode portion is not formed in a part thereof, that is, the thin metal wire 14 is not formed. A blank area may be provided.
  • the first transparent base 12a has first and second conductive portions 16a and 16b on both sides, and the second transparent base 12b is disposed below the second conductive portion 16b.
  • the second conductive portion 16b is formed on the upper surface of the second transparent substrate 12b, the second conductive portion 16b is formed on the upper surface of the second transparent substrate 12b, and the lower surface of the second transparent substrate 12b is formed. It may be composed of a multilayer wiring in which the third conductive portion 16c is formed.
  • the first protective layer 20a is bonded to the upper side of the first conductive portion 16a via the first adhesive layer 18a, and the third conductive portion.
  • a second protective layer 20b is bonded to the lower side of 16c through a second adhesive layer 18b.
  • the first transparent substrate 12a and the second transparent substrate 12b can be the same as the transparent substrate 12 shown in FIG.
  • the third conductive portion 16c is provided with a wiring pattern 24c composed of a plurality of fine metal wires 14 in the same manner as the first wiring layer 28a of the first conductive portion 16a and the first wiring layer 28b of the first conductive portion 16b.
  • the third wiring layer 28c is formed on one surface (the lower side in FIG. 2) of the transparent substrate 12b.
  • the wiring pattern 24c preferably has a wiring pattern similar to the wiring patterns 24a and 24b, but may have a different wiring pattern.
  • the conductive film 10a shown in FIG. 3 is composed of a three-layer wiring having the first, second, and third wiring layers 28a, 28b, and 28c, but the present invention is not limited to this and has four or more layers. It may consist of a multilayer wiring having a wiring layer.
  • the conductive portion 16 is provided only on one surface of the transparent substrate 12, and the protective layer 20 is disposed above the conductive portion 16 with an adhesive layer 18 interposed therebetween. May be bonded.
  • the conductive portion 16 forms a wiring layer 28 composed of the wiring pattern 24.
  • the above-described conductive film 10 according to the first embodiment of the present invention and the conductive films 10, 10a and 10b according to another embodiment are, for example, the display unit 30 (display unit) schematically shown in part in FIG.
  • the wiring pattern optimized for the visibility of the wiring with respect to a predetermined display unit is a wiring pattern (thin metal wire) or wiring pattern that is singly or installed on the display unit. A group of one or more wiring patterns not perceived by human vision.
  • an order from the least perceived wiring pattern to the hard to perceive wiring pattern can be assigned. It is also possible to determine one wiring pattern for the unit, in particular, when the display unit 30 is lit up, as well as when the display unit 30 is not lit up. The evaluation and optimization of the wiring visibility of the wiring pattern will be described later.
  • the conductive film of the present invention is basically configured as described above.
  • FIG. 5 is a schematic explanatory view schematically showing an example of a partial pixel arrangement pattern of a display unit to which the conductive film of the present invention is applied.
  • the display unit 30 includes a plurality of pixels 32 arranged in a matrix to form a predetermined pixel arrangement pattern.
  • One pixel 32 includes three subpixels (a red subpixel 32r, a green subpixel 32g, and a blue subpixel 32b) arranged in the horizontal direction.
  • One sub-pixel has a rectangular shape that is vertically long in the vertical direction, and the three sub-pixels 32r, 32g, and 32b have any or the same rectangular shape.
  • the horizontal arrangement pitch of pixels 32 (horizontal pixel pitch Ph) and the vertical arrangement pitch of pixels 32 (vertical pixel pitch Pv) are substantially the same. That is, a shape (see a region 36 shown by shading) configured by one pixel 32 and a black matrix (BM) 34 (pattern material) surrounding the one pixel 32 is a square. Also, the aspect ratio of one pixel 32 is not 1, but the length in the horizontal direction (horizontal)> the length in the vertical direction (vertical).
  • the shape of one subpixel is a rectangular shape, but the present invention is not limited to this.
  • the shape is a rectangular shape with a notch at the end.
  • it may be a vertically elongated belt that is bent or bent at a predetermined angle, or may be a vertically elongated belt that is curved, or may have a notch at the end, or the cut.
  • the shape of the notch may be any shape, and may be any shape as long as it is a conventionally known pixel shape.
  • the pixel pitch horizontal and vertical pixel pitches Ph and Pv
  • the pixel arrangement pattern constituted by the sub-pixels 32r, 32g and 32b of each of the plurality of pixels 32 is defined by the BM pattern 38 of the BM 34 surrounding the sub-pixels 32r, 32g and 32b, respectively.
  • the BM pattern 38 is an inverted pattern of the pixel array pattern, but here, it is treated as representing the same pattern.
  • the wiring pattern 24 of the conductive film 10 has a BM (pixel array) pattern 38. Since the display panel 30 of the display unit 30 is optimized in terms of wiring visibility, scattering from the fine metal wires 14 of the conductive film 10 is hardly visible, and granular noise is generated. Will be suppressed.
  • the display unit 30 illustrated in FIG. 5 may be configured of a display panel such as a liquid crystal panel, a plasma panel, an organic EL panel, or an inorganic EL panel.
  • the display device 40 includes a display unit 30 (see FIG. 3) capable of displaying a color image and / or a monochrome image, and a touch panel that detects a contact position from the input surface 42 (arrow Z1 direction side). 44 and a housing 46 that accommodates the display unit 30 and the touch panel 44. The user can access the touch panel 44 through a large opening provided on one surface of the housing 46 (arrow Z1 direction side).
  • the touch panel 44 is electrically connected to the conductive film 10 via the cover member 48 laminated on one surface (arrow Z1 direction side) of the conductive film 10 and the cable 50.
  • Connected flexible substrate 52 and detection control unit 54 disposed on flexible substrate 52.
  • the conductive film 10 is bonded to one surface (arrow Z1 direction side) of the display unit 30 via an adhesive layer 56.
  • the conductive film 10 is disposed on the display screen with the other main surface side (second conductive portion 16b side) facing the display unit 30.
  • the cover member 48 exhibits a function as the input surface 42 by covering one surface of the conductive film 10.
  • the material of the cover member 48 may be glass or a resin film, for example. You may make it closely_contact
  • the flexible substrate 52 is an electronic substrate having flexibility. In the illustrated example, it is fixed to the inner wall of the side surface of the housing 46, but the arrangement position may be variously changed.
  • the detection control unit 54 captures a change in electrostatic capacitance between the contact body 58 and the conductive film 10 when the contact body 58 that is a conductor contacts (or approaches) the input surface 42, and the contact position An electronic circuit for detecting (or a proximity position) is configured.
  • the display device to which the conductive film of the present invention is applied is basically configured as described above.
  • FIG. 7 is a flowchart showing an example of a method for evaluating wiring visibility of a wiring pattern of a conductive film installed on a display unit of the present invention.
  • FIG. 8 is a flowchart showing details of steps of the method for evaluating the visibility of the wiring pattern of the conductive film shown in FIG.
  • processing conditions white balance, image dynamic range, imaging signal value normalization conditions, etc.
  • the imaging signal value of the reflection image of the wiring is obtained by imaging the wiring pattern of the conductive film, preferably the wiring pattern of the conductive film installed on the predetermined display unit of the display device. Is obtained as image data (normalized pixel values), and quantification of the image, that is, frequency analysis using fast Fourier transform (FFT) is performed on the image data of the captured image of the wiring.
  • FFT fast Fourier transform
  • feature value 1 Intensity (feature value 1) is obtained, and then binarization is performed on the image data of the captured image of the wiring to divide it into a wiring area and a background area, and the (area) ratio (feature) of the wiring area in the real space Quantity 2) and arrangement
  • feature quantity 3 The difference between the average values of the image data of the area and the background area is obtained as a difference between the intensity of the background and the wiring in the real space (feature quantity 3), and the linear sum of these three feature quantities 1, 2 and 3 is obtained.
  • a predetermined condition predetermined threshold value or less
  • the intensity in the frequency space (feature value 1) is calculated as the first peak intensity at the first peak frequency of the spectrum peak obtained by frequency analysis using FFT on the image data of the captured image of the wiring. Then, a human visual response characteristic is applied to the calculated first peak intensity at the first peak frequency with respect to a predetermined observation distance to obtain a second peak intensity at the weighted second peak frequency. , By obtaining the sum of the second peak intensities at all the obtained second peak frequencies.
  • FFT is generally used for the spectrum peak, but depending on the method of use, the frequency / intensity of the object changes greatly, so the following procedure is defined.
  • the present invention not only the frequency characteristics in the frequency space of the wiring pattern of the conductive film but also the reflection intensity (reflectance) in the real space of the wiring of the conductive film is reflected to image the wiring of the conductive film.
  • both the real sample and the wiring visibility can be quantified. Therefore, in the present invention, it is possible to quantify the conductive film alone or the final product installed on the touch panel module or display in which the conductive film is combined with the peripheral member. Specifically, these quantifications are performed by capturing an image of a conductive film wiring under a predetermined condition, obtaining the normalized pixel value as image data of the captured image of the wiring, and applying FFT to the image data.
  • the frequency characteristic obtained by using the human visual sensitivity function (VTF) to obtain the intensity (feature value 1) in the frequency space, while the wiring area and the background area are determined based on the image data.
  • the feature amount is obtained in the real space of the background area and the wiring strength difference (feature amount 3) as the difference between the area ratio of the wiring region (feature amount 2) and the average value of both regions. This is realized by calculating a quantitative value of the visibility of the wiring using the feature amounts 2 and 3 in the real space in addition to the feature amount 1.
  • the area ratio of the wiring area of the feature quantity 2 in the real space and the strength difference between the wiring of the feature quantity 3 in the real space and the background are used in the prior art.
  • the difference is different between the samples. If they are almost the same, the visual correspondence can be taken and the evaluation can be made with only the feature quantity 1 in the frequency space.
  • the reflection intensity of the wiring pattern differs locally between samples, for example, the reflection intensity of the background and the wiring If the difference in the difference in reflection intensity between the top wiring and the bottom wiring varies between samples, it cannot be matched with visual observation. Therefore, accurate evaluation cannot be performed only with the feature value 1 in the frequency space, and the visibility of the conductive film is not possible. Accurate evaluation of In addition to the characteristic quantity 1 of the frequency space, it is necessary feature amount reflecting the difference in reflection intensity of the wiring pattern, it is necessary to add a feature quantity 2 and 3 in the real space.
  • the area ratio of the wiring area indicating how many areas have high reflection intensity are used as the feature quantity 2 in the real space, and the background indicating the reflection intensity of the wiring is used as the feature quantity 2 in the real space.
  • the difference in wiring strength (the difference between the average values of both areas) is used.
  • step 1 first, as shown in FIG. 7, the wiring pattern 24 of the conductive film 10 is prepared, and imaging is performed in step S10 to obtain the captured image PI of the wiring of the wiring pattern 24. .
  • step S10 the conductive film 10 is placed in a dark room environment, an image of the wiring pattern 24 of the conductive film 10 is taken, and an imaging signal value is acquired.
  • the captured image (image data (normalized pixel value)) PI of the wiring is acquired by normalization. For example, in a dark room environment, the conductive film 10 placed (overlapped) on the display unit 30 of the display device 40 shown in FIG.
  • the wiring (metal fine wires 14) of the wiring pattern 24 of the conductive film 10 ) (See FIG. 3) is taken to obtain a captured image PI of the wiring.
  • the display unit 30 on which the conductive film 10 is installed needs to be unlit.
  • the wiring pattern 24 of the conductive film 10 installed on the display unit 30 should have excellent wiring visibility even when the display unit 30 is turned on.
  • the photographing sample 62 when the conductive film 10 placed in a dark room environment, preferably the conductive film 10 superimposed on the display unit 30 is used as the photographing sample 62, Light from the light source is applied to the photographing sample 62 at an incident angle of 45 °, and the light reflected from the photographing sample 62 is received by the camera 64 from the front by the photographing optical system 60 in which the camera 64 is disposed in front. Is photographed by the camera 64 from the front.
  • a light source (not shown), a camera 64 and a lens (not shown: built in the camera 64) constituting the photographing optical system 60 used in the present invention are necessary for calculating a quantitative value of the visibility of the wiring. Any device can be used as long as an image of the wiring can be taken, but the following devices are preferably used.
  • a monochrome camera having a resolution of 1392 ⁇ 1040.
  • Monochrome QICAM Cooled manufactured by Nippon Roper can be used.
  • a lens used in the present invention for example, a telecentric lens having a real field of view of 35.2 mm and a depth of field of ⁇ 16 mm at F10 is preferably used.
  • a telecentric lens 0.18X manufactured by Edmond is used. it can.
  • the light source used in the present invention for example, a halogen light source or the like can be used, and a halogen light source with a feedback capable of maintaining a constant light amount is preferably used.
  • LA-150FBU manufactured by Hayashi Watch Industry Co., Ltd. is used. Can do.
  • the aperture and focus of the lens As a photographing environment used in the present invention, it is necessary to evaluate the visibility of the wiring (metal thin wire 14) of the wiring pattern 24 of the conductive film 10 even when the display unit 30 on which the conductive film 10 is installed is not lit. Therefore, it is preferable to use a dark room environment, and it is better to pick up an image from the front by applying light at an incident angle of 45 ° from the light source in the dark room environment. Further, as the shooting conditions used in the present invention, it is preferable to adjust the aperture and focus of the lens. For example, the aperture and focus of the lens are adjusted using a depth meter so that the depth of field is 10 mm. Is good.
  • a preliminary step of adjusting the white balance and setting the dynamic range of the image for capturing Prior to capturing the wiring image in step S10, it is preferable to perform a preliminary step of adjusting the white balance and setting the dynamic range of the image for capturing.
  • a value (signal intensity (value) per unit exposure time) Ib / Exb obtained by dividing the camera signal value Ib at the time of black photography as a reference thus obtained by the exposure time Exb at the time of black photography as a reference is a predetermined standard value.
  • the camera is set so that 4/3 [I / ms] (for example, the signal value I when the exposure time at the time of black photographing as a reference is 180 ms is 240) and the photographing sample is imaged.
  • Set the dynamic range of the captured image Note that the imaging signal value of the wiring pattern acquired by the camera in which the dynamic range of the photographed image is set as described above, that is, the pixel value of the captured image is obtained by dividing the signal value Ib by the exposure time Exb (unit exposure time).
  • a predetermined signal value for example, 64/45 [I / ms] is normalized so as to be 1.0. In this way, image data (normalized pixel values) of the captured image of the wiring of the wiring pattern is obtained.
  • the wiring pattern 24 of the conductive film 10 is, for example, a rhombus pattern in which the fine metal wires 14 to be wired are inclined at a predetermined angle with respect to the horizontal line, as shown in FIGS. 1 and 10A.
  • the shape of the opening of the wiring pattern may be any shape, the rhombus pattern itself may be inclined by a predetermined angle, and, for example, FIG. B) and a square hexagon as shown in FIG. 10C may be used, and the square lattice may be a square lattice inclined at a predetermined angle.
  • step S12 the feature amount 1 is calculated in the frequency space in step S12, and the feature amount 2 is calculated in the real space in step S14.
  • step S16 the feature amount 3 in the real space is calculated. That is, as shown in FIG. 8, as the procedure 2, the feature amounts 1 and 2 in the frequency space and the real space for evaluating the visibility of the wiring are obtained from the image data of the wiring image of the wiring pattern 24 acquired in the procedure 1. And 3 are calculated.
  • the order in which steps S12, S14, and S16 are performed is not particularly limited. Either one may be performed first and the remaining one may be performed later. If possible, simultaneous processing is performed. Is preferable. Below, step S12, S14, S16 is demonstrated in this order.
  • step S12 to calculate the intensity x 1 in the frequency space is a feature quantity 1 in the frequency space.
  • step S12 as shown in FIG. 8, two-dimensional fast Fourier transform (2DFFT) is performed on the image data of the wiring image of the wiring pattern 24 acquired in step 1 (imaging step S10) in the sub-step S22.
  • 2DFFT processing is performed on the image data of the wiring image of the wiring pattern 24 obtained in step S10, and the two-dimensional Fourier of the image data of the wiring image of the wiring pattern 24 is obtained.
  • a first peak frequency and a first peak intensity of a plurality of spectral peaks of the spectrum are calculated.
  • the peak intensity is handled as an absolute value.
  • the position on the two-dimensional frequency coordinate of the spectrum peak representing the intensity characteristic of the two-dimensional Fourier spectrum of the image data of the wiring image of the wiring pattern 24, that is, the peak position represents the peak frequency, and the two-dimensional Fourier at the peak position.
  • the intensity of the spectrum becomes the peak intensity.
  • the peak frequency and intensity of each spectrum peak of the wiring pattern 24 are calculated and acquired as follows.
  • the peak is calculated by obtaining the frequency peak from the basic frequency of the wiring pattern 24.
  • the frequency peak position can be expressed based on an independent two-dimensional basic frequency vector component (for example, two frequency vector components in the fx direction and the fy direction when the frequency coordinate is fxfy coordinate). Therefore, as a matter of course, the obtained peak positions are in a lattice shape.
  • the position of the spectral peak of the wiring pattern 24 on the frequency coordinate fxfy that is, the peak position is given as the position of the lattice point on the frequency coordinate fxfy having the reciprocal of the pattern pitch (1 / p (pitch) as the lattice spacing. .
  • the peak position is obtained in the acquisition of the above peak frequency, so the intensity (absolute value) of the two-dimensional Fourier spectrum possessed by the peak position is acquired.
  • the spectral intensity of the plurality of pixels in the area including the plurality of pixels around the peak position has a plurality of points from the top, for example, pixels in the area of 7 ⁇ 7 pixels.
  • the peak intensity is the sum of the five intensities (absolute values) from the top of the spectrum intensity.
  • the obtained peak intensity is preferably normalized by the image area (image size). In the example described above, it is preferable to standardize 8192 ⁇ 8192 (Perseval's theorem).
  • the human visual response characteristic is applied to the first peak intensity at the first peak frequency.
  • the human visual response characteristic is predetermined-observed with respect to the first peak intensity at the first peak frequency of the two-dimensional Fourier spectrum of the wiring pattern 24 calculated in the sub-step S22.
  • the second peak intensity at the second peak frequency weighted with respect to the observation distance is calculated by acting on the distance, that is, by performing convolution integration and weighting. That is, a visual transfer function (VTF: Visual Transfer Function) representing an example of the human visual response characteristic represented by the following formula (2) is convolved with the first peak frequency / intensity.
  • VTF Visual Transfer Function
  • u is a spatial frequency (cycle / deg).
  • L is an observation distance.
  • (Mm) may be converted by the following conversion formula (3).
  • the above equation (3) is a conversion equation for converting the spatial frequency fr (cycle / mm) defined by the length into the spatial frequency u (cycle / deg) defined by the solid angle, and L is an observation Distance (mm).
  • the human visual transfer function uses the VTF proposed by Dooley et al.
  • the VTF equation proposed by Dooley et al. Can be found in Reference (1) (RP Dooley, R. Shaw: Noise Perception in Electrophotography, J. Appl. Photogr. Eng., 5, 4 (1979), pp. 190- 196.).
  • the above formula (2) proposed by Dooley et al. Is obtained from reference (2) (image evaluation technology by color electrophotographic system simulation, http://www.konicaminolta.jp/about/research). /technology_report/2008/pdf/introduce_003.pdf).
  • the visual transfer function when the visual transfer function is convolved, convolution integration is performed with the observation distance L set to a predetermined distance.
  • the spatial frequency fr (cycle / mm).
  • the above expression (3) which is a conversion expression from the spatial frequency u (cycle / deg), can be expressed as the following expression (4).
  • u 300 ⁇ ⁇ ⁇ fr / 180 (4)
  • VTF human visual transfer function
  • step S12 is completed.
  • step S14 to calculate the percentage (area ratio) x 2 of the wiring region which is a characteristic quantity 2 in the real space.
  • the captured image of the wiring of the wiring pattern 24 acquired in step 1 is binarized, that is, image data of the captured image of the wiring.
  • a binarization process is performed on the image to separate the entire captured image into a wiring area and a background area.
  • the binarization method performed in sub-step S28 is not particularly limited, and a known binarization method can be applied. For example, a general discriminant analysis method or the like can be used.
  • the binarization method using the discriminant analysis method described in this document uses the histogram of the captured image, and the variance within the class (the extent of the spread of the histogram within each class) is minimal.
  • the threshold is determined at the position where the variance (the extent of spread between classes) is maximized.
  • the binarization threshold changes each time.
  • the average value of all pixels is ⁇ 0, and the variance of classes 1 and 2 when divided into classes 1 and 2 with a certain threshold t is ⁇ 1 2 and ⁇ 2 2, and class
  • the average value of 1 and 2 is ⁇ 1 and ⁇ 2
  • the number of pixels of class 1 and 2 is n 1 and n 2
  • the interclass variance is ⁇ B 2
  • the intraclass variance is ⁇ W 2
  • the value of t that maximizes the ratio of the inter-class variance ⁇ B 2 / the intra-class variance ⁇ W 2 may be determined as a binarization threshold. it can.
  • Intraclass variance ⁇ W 2 (n 1 ⁇ ⁇ 1 2 + n 2 ⁇ ⁇ 2 2 ) / (n 1 + n 2 )
  • Interclass variance ⁇ B 2 (n 1 ⁇ ( ⁇ 1 - ⁇ 0 ) 2 + n 2 ⁇ ( ⁇ 2 - ⁇ 0 ) 2 ) / (n 1 + n 2 )
  • sub-step S30 it calculates the ratio x 2 of the wiring area for the entire captured image. That is, specifically, in sub-step S30, obtains the area of the wiring region separated in sub-step S28, calculates the area ratio x 2 of the wiring region to the area of the entire captured image.
  • the ratio x 2 of the wiring region in the real space which is a characteristic quantity 2 in the real space of the wiring pattern 24 of the conductive film 10.
  • step S16 calculates the intensity difference x 3 between the background and the wiring in the real space, which is a characteristic quantity 3 in the real space.
  • step S16 as shown in FIG. 8, the average value of the image data (pixel value) is obtained in the wiring region and the background region divided in sub-step S28 of step S14, and the difference between the average values is calculated between the background and the wiring. It is calculated as intensity difference x 3 in.
  • step S16 is performed earlier than step S14
  • sub-step S28 may be performed as a sub-step of step S16.
  • steps S14 and S14 When simultaneous processing is performed, sub-step S28 is replaced with steps S14 and S14. It is preferable to carry out each as a sub-step of step S16.
  • the quantitative value E of the visibility of the wiring of the wiring pattern 24 of the conductive film 10 can be calculated.
  • step S20 the wiring visibility is evaluated using the wiring visibility quantitative value E calculated in step S18. That is, as shown in FIG. 8, in step S20, as procedure 4, the wiring visibility quantitative value E calculated in step S18 of procedure 3 is equal to or less than a predetermined threshold, preferably 6.0 or less, and more preferably 4. It is evaluated that the visibility of the wiring of the conductive film 10 that is .2 or less is appropriate. That is, if the quantitative value of the wiring visibility of the wiring pattern 24 thus obtained is not more than a predetermined value, preferably not more than 6.0, more preferably not more than 4.2, the wiring pattern 24 is electrically conductive.
  • a predetermined threshold preferably 6.0 or less
  • the conductive film 10 is installed on the display unit 30 of the display device, and even if the display unit 30 is not lit, the wiring itself is not visually recognized. It can be evaluated as the optimized wiring pattern 24, and can be evaluated as the optimized wiring pattern 24 for the display unit 30 alone or as the conductive film 10 of the present invention. .
  • the numerical value of the visibility value of the wiring required in the present invention is the case of the same conductive film 10, for example, the case of the same conductive film 10 installed on the same display unit 30. Also, it changes depending on the setting of the imaging signal value per unit time obtained by photographing the reference black to a predetermined standard value (setting of the dynamic range of the image) and the standardization of the imaging signal value (pixel value) However, if these settings and standardization are made the same, and if the numerical value of the visibility value of the wiring in the case of the same conductive film 10 is the same, these settings and standardization, Any method may be used as long as it does not depart from the spirit of the evaluation method of the present invention described above.
  • the predetermined standard value for setting the imaging signal value per unit time obtained by photographing the reference black is 4 / 3 [I / ms], and normalize the imaging signal value (pixel value) of the wiring pattern of the conductive film set and photographed in this way on the axis of the imaging signal value per unit exposure time.
  • the predetermined signal value (pixel value) at which the normalized value becomes 1.0 is 64/45 [I / ms]
  • the quantitative value of the visibility of the wiring is preferably 6.0 or less More preferably, it is 4.2 or less.
  • a plurality of optimized wiring patterns 24 can be obtained.
  • a wiring pattern with a small quantitative value of wiring visibility is the best wiring pattern 24, and the plurality of optimized wiring patterns 24 can be ordered. .
  • the wiring evaluation method for the conductive film of the present invention is completed, and the wiring can be performed even when the conductive film alone or superimposed on the BM pattern of the display unit of the display device or when the display unit is not lit.
  • the conductive film of the present invention having an optimized wiring pattern with excellent wiring visibility can be produced for display devices having different resolutions.
  • the conductive film of the present invention described above has a mesh-like wiring pattern made of continuous fine metal wires
  • the present invention is not limited to this, and satisfies the evaluation criteria of the present invention as described above. Any conductive film having a mesh-like wiring pattern of any pattern shape may be used.
  • a real sample of the conductive film 10 having wiring patterns 24 having different pitches and different prescriptions (wiring manufacturing methods) is photographed to obtain a quantitative value of the visibility of the wiring.
  • the visibility of the wiring of the wiring pattern 24 was visually evaluated using a five-step degradation scale.
  • LA-150FBU manufactured by Hayashi Watch Industry Co., Ltd. is used as the light source
  • Monochrom QICAM Cooled manufactured by Nippon Roper is used as the camera
  • Telecentric lens 0.18X manufactured by Edmond Co. is used as the lens
  • depth Using a meter, the aperture and focus of the lens were adjusted so that the depth of field would be 10 mm, and a real sample was placed in a dark room environment and photographed with the photographing optical system 60 shown in FIG.
  • the signal value of the captured image is normalized so that 64/45 [I / ms] is 1.0 on the axis of the signal value per unit exposure time, and the image data (pixel value) of the captured image is obtained. did.
  • the intensity x 1 in the frequency space, the ratio x 2 of the wiring area, and the intensity difference x 3 between the background and the wiring are obtained.
  • the quantitative value E of the visibility of the wiring was obtained.
  • Table 1 the range of the real sample was as follows.
  • Table 1 also shows the difference in reflection intensity between the top (Top) wiring and the bottom (Bot) wiring of the actual sample of the conductive film.
  • the range of the reflection intensity difference was 0.00 to 0.09.
  • the difference in reflection intensity was calculated by extracting the peak values of the top (Top) wiring and the bottom (Bot) wiring from the pixel histogram of the wiring pattern of the actual sample of the conductive film, and calculating the difference between them. Note that the peak value is extracted manually, and the value is 0 when there is no peak value.
  • the value of the reflection intensity of the wiring is a value when normalized so that 64/45 [I / ms] becomes 1.0 as described above.
  • the sensory evaluation is performed by observing from the front by applying light at an incident angle of 45 ° in a dark room environment, and visually evaluating on the same condition as the imaging, using a degradation scale of the visibility of the wiring. It was carried out in five stages of scale 1-5.
  • the degradation scale for sensory evaluation was the average of 5 researchers.
  • the degradation scale was as follows. In the degradation scale 1, the wiring is not visually recognized. If the degradation scale 2 is not pointed out, the wiring cannot be visually recognized, and even if the wiring is known, it does not matter.
  • the degradation scale 3 can slightly visually recognize the wiring even if not pointed out, but it does not get in the way even if the wiring is known. In the degradation scale 4, the wiring is visually recognized and gets in the way.
  • the degradation scale 5 is very disturbing because the wiring is clearly visible.
  • the wiring and granular noise are It is a visual sensory evaluation that is less than 3 degradation scale 3 that is not visually recognized. If it is more than 4.2 and 6.0 or less, it is degradation scale 3 or more and less than 3.6 that hardly disturbs even if wiring and granular noise are visually recognized.
  • the visual evaluation sensory value is a degradation scale of 3.6 or more which is in the way of visual recognition of wiring and granular noise.
  • the sensory evaluation deterioration scale shown in Table 1 is compared with the quantitative value, the sensory evaluation deterioration scale is taken on the x-axis, the quantitative value is taken on the y-axis, and plotted on two-dimensional coordinates, as shown in FIG.
  • the conductive film of the present invention having a wiring pattern satisfying the above range has a quantitative value of the visibility of the wiring, it may be installed alone or on the surface of the display, and the surface characteristics of the display may be different.
  • the visibility of wiring and granular noise can be prevented or suppressed, and the visibility can be greatly improved. From the above, the effect of the present invention is clear.
  • wiring patterns having various pattern shapes are prepared in advance, and a conductive film having a wiring pattern optimized by the evaluation method of the present invention is determined.
  • the image data of the wiring image of the wiring pattern is converted into the image data of the wiring image of the new wiring pattern.
  • the conductive film having the optimized wiring pattern can also be determined by updating and repeatedly obtaining the quantitative value of the visibility of the wiring by applying the evaluation method of the present invention described above.
  • the new wiring pattern to be updated may be prepared in advance or may be newly created.
  • any one or more of the rotation angle, pitch, and pattern width of the image data of the wiring pattern wiring image may be changed, and the shape and size of the opening portion of the wiring pattern May be changed. Further, they may be given randomness.
  • the conductive film according to the present invention has been described with reference to various embodiments and examples.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples.
  • various improvements and design changes may be made without departing from the scope of the present invention.

Abstract

本発明の導電性フィルムは、導電性フィルムの配線の撮影画像の画素値の２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルのピーク強度に人間の視覚応答特性を作用させて得られた全ピーク強度の総和と、配線の撮影画像の画素値を配線領域と背景領域に分けた時の配線領域の面積割合と、両領域の画素値の平均値の差である配線と背景との強度差とから求められる配線の視認性の定量値が、所定閾値以下である。

Description

導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに配線の視認性の評価方法
　本発明は、導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに導電性フィルムの配線の視認性の評価方法に関する。
　表示装置（以下、ディスプレイともいう）の表示ユニット上に設置される導電性フィルムとして、透明フィルム上に微細な導電性パターン(配線)を付与した導電性フィルムがあり、タッチパネルセンサや電磁波シールド等の用途が挙げられる。（例えば、特許文献１参照）。
　導電性フィルムをタッチパネルセンサの用途に用いる場合、導電性フィルムには、金属細線等による配線によって形成される配線導電性パターン(配線パターン)があるため、配線そのものが見え、特に、表示ユニットの非点灯時に配線が見え、使用者に対して粒状ノイズとなるという配線の視認性が課題となり、その度合いによっては画質障害となる。
　このため、特許文献１では、それぞれ繰り返しセル形状のオープンメッシュを画定する線状トレースを含む、互いに電気的に絶縁された２つの導電性微小パターンを重ね合わせたタッチスクリーンセンサにおいて、両者の線状トレースが互いに非平行な一部分、両者のセル形状が互いに異なる一部分、及び両者のセル寸法が互いに異なる一部分を少なくとも１つを有するようにした上で、配線の空間コントラストに対して観察距離に応じた閾値を設けて、タッチスクリーンセンサの導電性パターンの低視認性を得ることを提案している。
特表２０１２－５１９３２９号公報（ＷＯ　２０１０／０９９１３２　Ａ２）
　しかしながら、特許文献１には、タッチスクリーンセンサとして用いる際の低視認性を得るための導電性パターンの条件が開示されているが、特許文献１は、タッチスクリーンセンサの他、アンテナ、ＥＭＩシールド及びパターン基材等の導電性フィルムをも用途とするものであり、導電性フィルムの、重ね合わせる２つの２つの導電性微小パターンの組み合わせに対して規則性を減少させる組み合わせを提案しているに過ぎず、タッチスクリーンセンサを表示装置の表示ユニット上に設置したタッチパネル表示装置の実物サンプルの配線の視認性を定量値として評価することはできないという問題があった。
　また、特許文献１に開示のモデルは、配線パターン全体の反射強度と人の視覚感度を考慮する定量化モデルであるが、配線パターン内で反射強度が変わるサンプルが様々に混ざると、配線パターン全体の反射強度と人の視覚感度を考慮する特許文献１に開示の定量化モデルでは、全てのサンプルを表現できないという問題があった。
　なお、静電容量方式の導電性フィルムでは、トップ（Top）配線とボトム（Bottom）配線があり、処方(配線の製造方法)によって配線の特性もそれぞれ変わるため、例えば、透明基体（ＰＥＴ）の厚みや材質、銀等の金属を配線として透明基体に定着させるプロセス等が変わることで配線の反射特性が変わるため、背景と配線との間や、トップ－ボトム配線間に反射強度差が生まれるという現象が起こる。
　そのため、同一の処方のサンプルでは、サンプル間で配線パターンの反射強度が局所的に異なることがないので、特許文献１に開示の定量化モデルでも定量評価することができる、即ち、目視との対応がとれるが、処方違いのサンプルも含めると、サンプル間で配線パターンの反射強度が局所的に異なることになり、従来のモデルでは目視との対応がつかず、配線視認性を定量値として評価することができないという問題があった。
　本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、導電性フィルムの導電性パターン（配線パターン）でも、例えば、表示ユニット上に設置された導電性フィルムをタッチパネルセンサ等の用途に用いた場合にも、表示ユニット上に設置された最終製品形態、例えば表示ユニット上のタッチパネルセンサとして使用される実サンプルの形態でも、配線そのものが見えることがなく、特に、表示ユニットの非点灯時においても配線が見えることがなく、画質障害を防止または低減でき、配線の視認性を改善、若しくは向上させ、その結果、表示ユニットの表示画面上に配置された場合にも、その視認性を大幅に向上させることができる導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置を提供し、また、導電性フィルム、例えば、表示ユニット上に設置された導電性フィルムの配線の視認性を定量的に、特に、表示ユニットの非点灯時においても定量的に評価することができる配線の視認性の評価方法を提供することを目的とする。
　上記目的を達成するために、本発明者らは、特願２０１３－１８１１２３号において、導電性フィルムの配線パターンを撮像した画像から、配線の周波数空間でのピークの総和とＶＴＦ(人の視覚感度関数)による重み付けにより定量値を算出して、導電性フィルムの配線の視認性を定量的に評価し、視認性に優れた導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置を提供する技術を提案している。
　しかしながら、この技術も、配線パターン全体の反射強度と人の視覚感度を考慮する定量化モデルであることから、この技術によっても、配線パターン内で反射強度が変わるサンプルが様々に混ざることによって生じる特許文献１に開示の従来技術の問題点は、解消できないことを知見した。
　このため、本発明者らは、これらの従来技術の問題点を解消するために、鋭意研究を重ねた結果、配線パターン全体の反射強度と人の視覚感度を反映した特徴量(周波数空間の特徴量)に、パターン内の反射強度の差を反映した特徴量(実空間の特徴量)を加えて配線の視認性を定量化することにより、導電性フィルムの配線の視認性を定量的に評価することができ、配線の視認性を向上させることができる導電性フィルムを提供することができることを知見し、本発明に至ったものである。
　即ち、本発明の第１の態様の導電性フィルムは、透明基体と、透明基体の少なくとも一方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部と、を有する導電性フィルムであって、導電部は、複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線からなる配線パターンを有し、暗室環境下で入射角度４５°で光を当てて正面から基準となる黒を撮像した時の信号値を露光時間で割った単位露光時間当たりの信号値を所定規格値に設定して、暗室環境下で導電性フィルムに入射角度４５°で光を当てて正面から撮像して得られた、規格値としての配線パターンの配線の撮像画像の画素値の２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの（第１のピーク周波数における）第１のピーク強度に、人間の視覚応答特性を作用させて得られた（第２のピーク周波数における）第２のピーク強度の総和と、配線パターンの配線の撮像画像の画素値を２値化して配線の画素値と背景の画素値とに分離した時の配線の画素値からなる配線領域の、配線パターンの画像全体に対する面積割合と、配線領域内の全画素値の平均値と背景からなる残りの背景領域内の全画素値の平均値との差として求められる配線と背景との強度差とから求められる配線の視認性の定量値が、所定閾値以下であることを特徴とする。
　上記目的を達成するために、本発明の第２の態様のタッチパネルは、第１の態様の導電性フィルムと、この導電フィルムの表面側からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部とを備え、導電フィルムと検出制御部が、タッチパネルセンサとして機能することを特徴とする。
　また、目的を達成するために、本発明の第３の態様の表示装置は、表示ユニットと、この表示ユニット上に設置される、第１の態様の導電性フィルムとを備えることを特徴とする。
　ここで、第３の態様において、さらに、導電フィルムの表面側からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部とを備え、導電フィルムと検出制御部が、タッチパネルセンサとして機能することが好ましい。
　上記目的を達成するために、本発明の第４の態様の導電性配線の視認性の評価方法は、複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線の配線パターンを有する導電性フィルムの配線の視認性の評価方法であって、暗室環境下で入射角度４５°で光を当てて正面から基準となる黒を撮像した時の信号値を露光時間で割った単位露光時間当たりの信号値が所定規格値となる撮影条件で、暗室環境下で導電性フィルムに入射角度４５°で光を当てて正面から撮像して配線パターンの配線の撮像画像の画素値を規格値として求め、得られた配線パターンの配線の撮像画像の画素値に対して２次元フーリエ変換を行い、配線の撮像画像の画素値の２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの（第１のピーク周波数における）第１のピーク強度を算出し、こうして算出された配線パターンの（第１のピーク周波数における）第１のピーク強度に、人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させてそれぞれ（第２のピーク周波数における）第２のピーク強度を算出し、こうして（第２のピーク周波数における）第２のピーク強度の総和を求め、配線パターンの配線の画像の画素値を２値化して配線の画素値と背景の画素値とに分離し、分離された配線の画素値からなる配線領域の、配線パターンの画像全体に対する面積割合を求め、配線領域内の全画素値の平均値と背景からなる残りの背景領域内の全画素値の平均値とを求め、こうして求められた両平均値の差として配線と背景との強度差を求め、こうして得られた第２のピーク強度の総和、配線パターンの画像全体に対する配線領域の面積割合、及び配線と背景との強度差から配線の視認性の定量値を線型和として求め、こうして求めた配線の視認性の定量値が所定閾値以下である導電性フィルムの配線の視認性を評価することを特徴とする。
　ここで、各態様において、第２のピーク強度の総和をｘ１、配線領域の面積割合をｘ２、配線と背景との強度差をｘ３、配線の視認性の定量値をＥとする時、定量値Ｅは、下記式（１）によって示される線型和として求められることが好ましい。
　Ｅ＝ｃ１×ｘ１＋ｃ２×ｘ２＋ｃ３×ｘ３）＋Ｃ　　　　　　　　　……（１）
　但し、ｃ１、ｃ２、及びｃ３は、係数であり、Ｃは、定数である。
　また、基準となる黒は、ＸＹＺ表色系の視感反射率Ｙが３．１％である黒であり、所定規格値は、４／３［Ｉ／ｍｓ］であり、配線の画素値は、配線の信号値を露光時間で割った時に、６４／４５［Ｉ／ｍｓ］が１．０となるように正規化されたものであり、上記式（１）において、ｃ１＝２５９、ｃ２＝７３．０、ｃ３＝－１４０、Ｃ＝－１３．０とする時、所定閾値は、６．０であり、配線の視認性の定量値Ｅは、６．０以下であることが好ましく、より好ましくは、所定閾値は、４．２であり、配線の視認性の定量値が、４．２以下である。
　また、導電性フィルムは、表示装置の表示ユニット上に設置されるものであり、配線パターンは、表示ユニットに重畳されていることが好ましい。
　また、第２のピーク強度は、視覚応答特性として視覚伝達関数を畳み込み積分で重み付けを行うことによって求められることが好ましい。
　また、視覚伝達関数は、ドゥーリー・ショー（Ｄｏｏｌｙ－Ｓｈａｗ）関数に明度成分に対する補正関数を導入した評価関数でであることが好ましい。
　また、視覚伝達関数は、下記式（２）で与えられる関数ＶＴＦで表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　ここで、ｕは、空間周波数（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）である。
　以上説明したように、本発明によれば、配線パターン全体の反射強度と人の視覚感度を反映した特徴量(周波数空間の特徴量)に、パターン内の反射強度の差を反映した特徴量(実空間の特徴量)を加えて配線の視認性を定量化することにより、導電性フィルムの導電性パターン（配線パターン）でも、例えば、表示ユニット上に設置された導電性フィルムをタッチパネルセンサ等の用途に用いた場合にも、表示ユニット上に設置された最終製品形態、例えば表示ユニット上のタッチパネルセンサとして使用される実サンプルの形態でも、配線そのものが見えることがなく、特に、表示ユニットの非点灯時においても配線が見えることがなく、画質障害を防止または低減でき、配線の視認性を改善、若しくは向上させ、その結果、表示ユニットの表示画面上に配置された場合にも、その視認性を大幅に向上させることができる。
　また、本発明によれば、導電性フィルム、例えば、表示ユニット上に設置された導電性フィルムの配線の視認性を定量的に、特に、表示ユニットの非点灯時においても定量的に評価することができる。
本発明の第１の実施形態に係る導電性フィルムの一例を模式的に示す平面図である。 図１に示す導電性フィルムの模式的部分断面図である。 本発明の別の実施形態に係る導電性フィルムの一例の要部を示す模式的部分断面図である。 本発明の別の実施形態に係る導電性フィルムの一例を示す模式的部分断面図である。 本発明に係る導電性フィルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を表す概略説明図である。 図３に示す導電性フィルムを組み込んだ表示装置の一実施例の概略断面図である。 本発明の導電性フィルムの配線パターンの配線の視認性の評価方法の一例を示すフローチャートである。 図７に示す導電性フィルムの配線パターンの配線の視認性の評価方法のステップの詳細を示すフローチャートである。 本発明において用いられる撮影光学系を説明する説明図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ本発明の実施例において用いられる菱形及び六角形配線パターン、並びに（Ｃ）は、本発明に用いられる格子配線パターンの一例を示す概略説明図であり、（Ｄ）、（Ｅ）及び（Ｆ）は、それぞれ（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す配線パターンを説明するための部分拡大図である。 実施例において用いられる配線サンプルの定量値と官能評価との関係及びそれらの回帰式を示すグラフである。
　以下に、本発明に係る導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに導電性フィルムの配線の視認性の評価方法を添付の図面に示す好適な実施形態を参照して詳細に説明する。
　以下では、本発明に係る導電性フィルム及びこれを備えるタッチパネル及び表示装置について、表示装置の表示ユニットに設置されたタッチパネルセンサの用途に用いられる導電性フィルム及びこの導電性フィルムが表示ユニット上に設置されたタッチパネル表示装置を代表例として説明するが、本発明は、これに限定されず、導電性フィルムが表示ユニット上に一体として設置された状態で用いられるものであれば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）や有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Ｏrganic ＥlectroＬuminescence Ｄisplay）や無機ＥＬディスプレイ等の表示装置の表示ユニット上に設置される導電性フィルム及びこの導電性フィルムが表示ユニット上に設置された表示装置であれば、どのようなものでも良く、例えば、電磁波シールド用の導電性フィルム及びこれが表示ユニット上に一体として設置された表示装置等であっても良いのは勿論である。なお、本発明の導電性フィルムは、表示装置の表示ユニット上に設置されるものに限定されず、単独で用いられるものであっても良い。
　図１及び図２は、それぞれ本発明の第１の実施形態に係る導電性フィルムの一例を模式的に示す平面図及びその模式的部分断面図である。
　これらの図に示すように、本実施形態の導電性フィルム１０は、例えば、表示装置の表示ユニット上に設置されるもので、表示ユニット上に一体的に設置された状態で、表示ユニットの表示面の観察時に、表示ユニットの点灯時には勿論、特に、表示ユニットの非点灯時にも、配線による反射が視認されず、配線の視認性の点で優れた配線パターン、配線そのものが見たり、粒状ノイズとして視認されることが無く、配線の視認性の点で最適化された配線パターンを持つ導電性フィルムである。
　本実施形態の導電性フィルム１０は、透明基体１２と、複数の金属製の細線（以下、金属細線という）１４からなり、透明基体１２の両面（図２中上側の面及び下側の面）にそれぞれ形成される第１及び第２導電部１６ａ及び１６ｂ（総称して導電部１６という）と、金属細線１４を被覆するように、導電部１６ａ及び１６ｂの略全面に、それぞれ第１及び第２接着層１８ａ及び１８ｂ（総称して接着層１８という）を介して接着された第１及び第２保護層２０ａ及び２０ｂ（総称して保護層２０という）とを有する。
　透明基体１２は、絶縁性を有し、かつ透光性が高い材料からなり、例えば、樹脂、ガラス、シリコン等の材料を挙げることができる。樹脂としては、例えば、ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）、ＰＭＭＡ（Polymethyl methacrylate）、ＰＰ（polypropylene）、ＰＳ（polystyrene）等が挙げられる。
　導電部１６（１６ａ，１６ｂ）は、金属細線１４と、隣接する金属細線１４間の開口部２２とによるメッシュ形状の配線パターン２４（第１及び第２配線パターン２４ａ，２４ｂ）とを有する配線層２８（第１及び第２配線層２８ａ，２８ｂ）を形成する。
　詳しくは、導電性フィルム１０においては、第１導電部１６ａは、複数の金属細線１４の配線からなる配線パターン２４ａを有する配線層２８ａとして、透明基体１２の一方（図２の上側）の面に形成され、第２導電部１６ｂは、同様に、複数の金属細線１４の配線からなる配線パターン２４ｂを有する配線層２８ｂとして、透明基体１２の他方（図２の下側）の面に形成されている。
　金属細線１４は、導電性の高い金属製の細線であれば特に制限的ではなく、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）又は銅（Ｃｕ）の線材等からなるものを挙げることができる。金属細線１４の線幅は、視認性の点からは細い方が好ましいが、例えば、３０μｍ以下であれば良い。なお、タッチパネル用途では、金属細線１４の線幅は０．１μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、１μｍ以上９μｍ以下がより好ましく、２μｍ以上７μｍ以下がさらに好ましい。
　ここで、上層の第１導電部１６ａの配線パターン２４ａと下層の第２導電部１６ｂの配線パターン２４ｂとは、同じ又は同様の配線パターンであり、上層の配線パターン２４ａが、下層の配線パターン２４ｂに対して位相をずらして配置されている。例えば、図示例においては、上層の配線パターン２４ａは、配線パターン２４ｂに対してハーフ（１／２）ピッチずらして配置されている。具体的には、図２に示すように、上層の配線パターン２４ａを構成する第１導電部１６ａの隣接する２本の金属細線１４間、好ましくはその中心に、下層の配線パターン２４ｂを構成する第２導電部１６ｂの金属細線１４が位置するように配置されている。本明細書では、このような配線パターン２４ａ及び２４ｂの金属細線14の配置状態を、上層の第１導電部１６ａが下層の第２導電部１６ｂに対して入れ子の状態になっているという。すなわち、上層の配線パターン２４ａは、下層の配線パターン２４ｂに対して、位相をずらして配置されており、入れ子になっているという。
　上述したように、導電部１６は、複数の金属細線１４をメッシュ状を配列した配線からなる配線パターン２４を有する。図示例においては、開口部２２のメッシュ形状は菱形（図１及び後述する図１０（Ａ）参照）であるが、本発明はこれに限定されず、後述するように、表示ユニットの表示面に対して配線の視認性が最適化された配線パターン２４を構成できれば、少なくとも３辺を有する多角形状であれば如何なるものでも良く、また、同一メッシュ形状であっても、異なるメッシュ形状であっても良く、例えば、正三角形、二等辺三角形等の三角形や、正方形（正方格子：後述する図１０（Ｃ）参照）、長方形等の四角形（矩形）や、五角形や、六角形（正六角形：後述する図１０（Ｂ）参照）等の、同一又は異なる多角形等を挙げることができるし、これらの多角形は所定角度傾斜していても良い。例えば、図１及び図１０（Ａ）に示す菱形は傾斜していないが、図１０（Ａ）に示す菱形を角度θ（図１０（Ｄ)参照）だけ回転させて傾斜させることにより、平行四辺形とすることもできる。即ち、所定の表示ユニットに対して配線の視認性が最適化された配線パターンであれば、規則性のある開口部２２の配列によって構成される配線パターンでも、異なる形状の開口部２２の配列によってランダム化された配線パターンでも良い。
　第１保護層２０ａは、第１導電部１６ａの金属細線１４からなる配線を被覆するように、第１接着層１８ａによって第１導電部１６ａ（配線層２８ａ）の略全面に接着されている。
　また、第２保護層２０ｂは、第２導電部１６ｂの金属細線１４を被覆するように、第２接着層１８ｂによって第２導電部１６ｂ（配線層２８ｂ）の略全面に接着されている。
　ここで、第１接着層１８ａ及び第２接着層１８ｂの材料としては、ウェットラミネート接着剤、ドライラミネート接着剤、又はホットメルト接着剤等が挙げられる。なお、第１及び第２接着層１８ａ及び１８ｂの材料は、同一であってもよいし、異なってもよい。
　また、第１保護層２０ａ及び第２保護層２０ｂは、透明基体１２と同様に、樹脂、ガラス、シリコンを含む透光性が高い材料からなる。なお、第１保護層２０ａの材質と第２保護層２０ｂの材質とは、同一であってもよいし、異なってもよい。
　第１保護層２０ａの屈折率ｎ１及び第２保護層２０ｂの屈折率ｎ２は、いずれも、透明基体１２の屈折率ｎ０に等しいか、これに近い値であるのが好ましい。この場合、第１及び第２保護層２０ａ及び２０ｂに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ１及びｎｒ２は、共に１に近い値となる。
　ここで、本明細書における屈折率は、波長５８９．３ｎｍ（ナトリウムのＤ線）の光における屈折率を意味し、例えば樹脂では、国際標準規格であるＩＳＯ　１４７８２：１９９９（ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に対応）で定義される。
　したがって、第１保護層２０ａに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ１は、ｎｒ１＝（ｎ１／ｎ０）で定義され、第２保護層２０ｂに対する透明基体１２の相対屈折率ｎｒ２は、ｎｒ２＝（ｎ２／ｎ０）で定義される。ここで、相対屈折率ｎｒ１及び相対屈折率ｎｒ２は、共に、０．８６以上１．１５以下の範囲にあればよく、より好ましくは、０．９１以上１．０８以下である。
　なお、相対屈折率ｎｒ１及び相対屈折率ｎｒ２の範囲をこの範囲に限定して、透明基体１２と保護層２０ａ、２０ｂとの部材間の光の透過率を制御することにより、配線の視認性をより向上させ、改善することができる。
　上述した第１の実施形態の導電性フィルム１０においては、図２に示すように、透明基体１２の上側の上層の配線パターン２４ａを構成する第１導電部１６ａの隣接する２本の金属細線１４間、好ましくはその中心に、透明基体１２の下側の下層の配線パターン２４ｂを構成する第２導電部１６ｂの金属細線１４が位置するように配置されているが、本発明は、これに限定されず、透明基体１２の両面の第１及び第２導電部１６ａ及び１６ｂの配線パターン２４ａ及び２４ｂを構成する金属細線１４が互いに対応する位置に位置するものであっても良い。即ち、第２導電部１６ｂの配線パターン２４ｂの複数の金属細線１４は、第１導電部１６ａの配線パターン２４ａの複数の金属細線１４に対応する位置に配置されるものであっても良い。
　なお、この場合には、配線層２８ａの配線パターン２４ａと配線層２８ｂの配線パターン２４ｂとを、同一のものとすることができ、電極視認性を更に改善することができる。
　また、図２に示す例では、配線層２８ａと配線層２８ｂとは、同一の配線パターン２４を持ち、ずれることなく重なり合って１つの配線パターン２４（２４ａ、２４ｂ）を形成しているが、両配線層２８ａ及び配線層２８ｂのそれぞれの配線パターンは、本発明の評価基準を満たすものであれば、ずれた位置に重ね合わされていても良いし、それぞれの配線パターン自体が異なっていても良い。
　また、上述した第１の実施形態の導電性フィルム１０は、透明基体１２の両方の面に同様に金属細線１４からなる第１及び第２配線パターン２４ａ及び２４ｂをそれぞれ有する配線層２８ａ及び２８ｂを形成する第１及び第２導電部１６ａ，１６ｂを有するものであるが、本発明は、これに限定されず、透明基体１２の両面の配線層２８ａ及び２８ｂは、少なくとも一方の配線層の一部がダミー電極部によって形成され、残りが第１及び第２導電部１６ａ及び１６ｂによって形成されるものであっても良い。即ち、配線層２８ａが、第１導電部１６ａ及びダミー電極部によって形成されるか、配線層２８ｂが、第２導電部１６ｂ及びダミー電極部によって形成されるかのいずれか、又は、両方である。
　ここで、ダミー電極部は、図２に示す第１及び第２導電部１６ａ及び１６ｂと同様に、透明基体１２の少なくとも一方（図２の上側及び下側の少なくとも一方）の面に形成されるが、ダミー電極は、第１導電部１６ａの第１配線パターン２４ａと同じ又は同様の配線パターンを有するものであるか、第２導電部１６ｂの第２配線パターン２４ｂと同じ又は同様の配線パターンを有するものであるのが好ましい。
　また、ダミー電極部は、透明基体１２の上側の配線層２８ａの一部に形成されている場合には、配線層２８ａの残りの部分に形成されている第１導電部１６ａと所定間隔だけ離間して配置されており、第１導電部１６ａと電気的に絶縁された状態下にあるものであり、また、透明基体１２の下側の配線層２８ｂの一部に形成されている場合には、配線層２８ｂの残りの部分に形成されている第２導電部１６ｂと所定間隔だけ離間して配置されており、第２導電部１６ｂと電気的に絶縁された状態下にあるものである。
　例えば、ダミー電極部が、透明基体１２の一方の面に形成されている第２導電部１６ｂの複数の金属細線１４に対応する位置に形成された複数の金属細線１４からなる場合には、透明基体１２の一方の面での金属細線による散乱を制御することができ、電極配線の視認性を改善することができる。
　なお、上述の図２に示す本発明の導電性フィルム１０の例では、配線層２８ａ及び配線層２８ｂにおいては、配線パターン２４ａ及び２４ｂを構成する金属細線は、半ピッチずらされており、互いに入れ子の状態となっているが、本発明はこれに限定されず、配線層２８ａ又は２８ｂにおいて、その一部に導電部又はダミー電極部が形成されていない、即ち、金属細線１４が形成されていない空白の領域を設けても良い。
　また、上述の図２に示す導電性フィルム１０では、透明基体１２の両面に第１及び第２導電部１６ａ及び１６ｂを有するものであるが、本発明は、これに限定されず、図３に示す導電性フィルム１０ａのように、第１透明基体１２ａの両面に第１及び第２導電部１６ａ及び１６ｂを有し、第２導電部１６ｂの下側に第２透明基体１２ｂを配置し、即ち、第２透明基体１２ｂの上側の面に第２導電部１６ｂが形成され、第２透明基体１２ｂの上側の面に第２導電部１６ｂが形成され、第２透明基体１２ｂの下側の面に第３導電部１６ｃが形成される多層配線からなるものであっても良い。
　導電性フィルム１０ａにおいても、図２に示す導電性フィルム１０の場合と同様に、第１導電部１６ａの上側には第１接着層１８ａを介して第保護層２０ａが接着され、第３導電部１６ｃの下側には第２接着層１８ｂを介して第２保護層２０ｂが接着される。
　なお、第１透明基体１２ａ及び第２透明基体１２ｂには、図２に示す透明基体１２と同様なものを用いることができる。
　ここで、第３導電部１６ｃは、第１導電部１６ａの第１配線層２８ａ及び第１導電部１６ｂの第１配線層２８ｂと同様に、複数の金属細線１４の配線からなる配線パターン２４ｃを有する第３配線層２８ｃとして、透明基体１２ｂの一方（図２の下側）の面に形成されている。配線パターン２４ｃは、配線パターン２４ａ及び２４ｂと同様な配線パターンを有するものであるのが好ましいが、異なる配線パターンを有するものであっても良い。
　図３に示す導電性フィルム１０ａは、第１、第２及び第３配線層２８ａ、２８ｂ及び２８ｃを有する３層配線からなるものであるが、本発明はこれに限定されず、４層以上の配線層を有する多層配線からなるものであっても良い。
　また、図４に示すように、図３に示す導電性フィルム１０ｂのように、透明基体１２の片面のみに導電部１６を有し、導電部１６の上側に接着層１８を介して保護層２０が接着されるものであっても良い。導電部１６は、配線パターン２４からなる配線層２８を形成する。
　上述した本発明の第１の実施形態の導電性フィルム１０及び別の実施形態の導電性フィルム１０、１０ａ及び１０ｂは、例えば、図５に一部を模式的に示す表示ユニット３０（表示部）のタッチパネルに適用されるが、表示ユニット３０の表面（特に、表面の反射）に対して、表示ユニット３０の点灯時にも、非点灯時にも、配線の視認性の点で最適化された配線パターンを持つものである。なお、本発明では、所定の表示ユニットに対して配線の視認性の点で最適化された配線パターンとは、単独で、又は表示ユニット上に設置した状態で配線（金属細線）や配線パターンが人間の視覚に知覚されない１又は２以上の１群の配線パターンを言う。なお、本発明では、所定の表示ユニットに対して最適化された２以上の１群の配線パターンにおいても、最も知覚されない配線パターンから知覚されにくい配線パターンまで序列を付けることができ、所定の表示ユニットに対して、特に、表示ユニット３０の点灯時には勿論、非点灯時にも最も配線が知覚されない１つの配線パターンを決定することもできる。
　なお、配線パターンの配線の視認性の評価及び最適化については、後述する。
　本発明の導電性フィルムは、基本的に以上のように構成される。
　図５は、本発明の導電性フィルムが適用される表示ユニットの一部の画素配列パターンの一例を模式的に表す概略説明図である。
　図５にその一部を示すように、表示ユニット３０には、複数の画素３２がマトリクス状に配列されて所定の画素配列パターンが構成されている。１つの画素３２は、３つの副画素（赤色副画素３２ｒ、緑色副画素３２ｇ及び青色副画素３２ｂ）が水平方向に配列されて構成されている。１つの副画素は、垂直方向に縦長とされた長方形状とされており、３つの副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂは、どういつ、もしくは同様の長方形状とされている。画素３２の水平方向の配列ピッチ（水平画素ピッチＰｈ）と画素３２の垂直方向の配列ピッチ（垂直画素ピッチＰｖ）は略同じとされている。つまり、１つの画素３２とこの１つの画素３２を囲むブラックマトリクス（ＢＭ）３４（パターン材）にて構成される形状（網掛けにて示す領域３６を参照）は正方形となっている。また、１つの画素３２のアスペクト比は１ではなく、水平方向（横）の長さ＞垂直方向（縦）の長さとなっている。
　なお、図示例では、１つの副画素（３２ｒ、３２ｇ、３２ｂ）の形状は、長方形状であるが、本発明はこれに限定されず、例えば、端部に切り欠きのある長方形状であっても良いし、所定角度で屈曲した、又は折れ曲がった縦長の帯状であっても良く、若しくは湾曲した縦長の帯状であっても良く、また、端部に切り欠きがあっても良いし、その切り欠きの形状もどのような形状であっても良く、従来公知の画素形状であればどのような形状でも良い。
　また、画素ピッチ（水平及び垂直画素ピッチＰｈ、Ｐｖ）も、表示ユニット３０の解像度に応じたピッチであれば、如何なるピッチでも良く、例えば、８４μｍ～２６４μｍの範囲内のピッチを上げることができる。
　図５から明らかなように、複数の画素３２の各々の副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂによって構成される画素配列パターンは、これらの副画素３２ｒ、３２ｇ及び３２ｂをそれぞれ囲むＢＭ３４のＢＭパターン３８によって規定されるが、厳密には、ＢＭパターン３８は、画素配列パターンの反転パターンであるが、ここでは、同様のパターンを表すものとして扱う。
　上記したＢＭ３４によって構成されるＢＭパターン３８を有する表示ユニット３０の表示パネル上に、例えば、導電性フィルム１０を配置する場合、導電性フィルム１０の配線パターン２４は、ＢＭ（画素配列）パターン３８を有する表示ユニット３０の表示パネルに対して配線の視認性の点で最適化されているので、導電性フィルム１０の金属細線１４からの散乱等は殆ど視認されることが無く、粒状ノイズの発生が抑制されることになる。
　なお、図５に示す表示ユニット３０は、液晶パネル、プラズマパネル、有機ＥＬパネル、無機ＥＬパネル等の表示パネルで構成されてもよい。
　次に、本発明の導電性フィルムを一体的に組み込んだ表示装置について、図６を参照しながら説明する。図６では、表示装置４０として、本発明の第２の実施の形態に係る導電性フィルム１０を組み込んだ投影型静電容量方式のタッチパネルを代表例に挙げて説明するが、本発明はこれに限定さないことは言うまでもない。
　図６に示すように、表示装置４０は、カラー画像及び／又はモノクロ画像を表示可能な表示ユニット３０（図３参照）と、入力面４２（矢印Ｚ１方向側）からの接触位置を検出するタッチパネル４４と、表示ユニット３０及びタッチパネル４４を収容する筐体４６とを有する。筐体４６の一面（矢印Ｚ１方向側）に設けられた大きな開口部を介して、ユーザは、タッチパネル４４にアクセス可能である。
　タッチパネル４４は、上記した導電性フィルム１０（図２参照）の他、導電性フィルム１０の一面（矢印Ｚ１方向側）に積層されたカバー部材４８と、ケーブル５０を介して導電性フィルム１０に電気的に接続されたフレキシブル基板５２と、フレキシブル基板５２上に配置された検出制御部５４とを備える。
　表示ユニット３０の一面（矢印Ｚ１方向側）には、接着層５６を介して、導電性フィルム１０が接着されている。導電性フィルム１０は、他方の主面側（第２導電部１６ｂ側）を表示ユニット３０に対向させて、表示画面上に配置されている。
　カバー部材４８は、導電性フィルム１０の一面を被覆することで、入力面４２としての機能を発揮する。また、接触体５８（例えば、指やスタイラスペン）による直接的な接触を防止することで、擦り傷の発生や、塵埃の付着等を抑止可能であり、導電性フィルム１０の導電性を安定させることができる。
　カバー部材４８の材質は、例えば、ガラス、樹脂フィルムであってもよい。カバー部材４８の一面（矢印Ｚ２方向側）を酸化珪素等でコートした状態で、導電性フィルム１０の一面（矢印Ｚ１方向側）に密着させてもよい。また、擦れ等による損傷を防止するため、導電性フィルム１０及びカバー部材４８を貼り合わせて構成してもよい。
　フレキシブル基板５２は、可撓性を備える電子基板である。本図示例では、筐体４６の側面内壁に固定されているが、配設位置は種々変更してもよい。検出制御部５４は、導体である接触体５８を入力面４２に接触する（又は近づける）際、接触体５８と導電性フィルム１０との間での静電容量の変化を捉えて、その接触位置（又は近接位置）を検出する電子回路を構成する。
　本発明の導電性フィルムが適用される表示装置は、基本的に以上のように構成される。
　次に、本発明において、表示装置のＢＭパターンを持つ所定の表示ユニット上に設置された導電性フィルムの配線パターンの配線の視認性の評価及び最適化の手順について説明する。即ち、本発明の導電性フィルムにおいて、表示装置の所定の表示ユニットに対して、点灯時は勿論、非点灯時にも、配線自体や配線に基づく粒状ノイズが人間の視覚に知覚されないように最適化された表示ユニットに重畳された配線パターンを評価して決定する手順について説明する。
　図７は、本発明の表示ユニット上に設置された導電性フィルムの配線パターンの配線の視認性の評価方法の一例を示すフローチャートである。図８は、図７に示す導電性フィルムの配線パターンの配線の視認性の評価方法のステップの詳細を示すフローチャートである。
　本発明の配線の視認性の評価方法は、予め、定量化のための撮像に適した撮像信号値の処理条件（ホワイトバランス、画像のダイナミックレンジ、撮像信号値の正規化条件等）を設定しておき、導電性フィルムの配線パターンを、好ましくは、表示装置の所定の表示ユニット上に設置された導電性フィルムの配線パターンを撮像して配線の反射画像の（反射率を表す）撮像信号値を画像データ（正規化された画素値）として取得し、画像の定量化、即ち、配線の撮像画像の画像データに対して高速フーリエ変換（ＦＦＴ）を用いた周波数解析を行い、周波数空間での強度（特徴量１）を求め、次に、配線の撮像画像の画像データに対して２値化を行い、配線領域と背景領域とに分け、実空間での配線領域の（面積）割合（特徴量２）及び配線領域及び背景領域のそれぞれの画像データの平均値の差である実空間での背景と配線の強度差（特徴量３）を求め、これらの３つの特徴量１、２及び３の線型和を求めて、配線の視認性の評価をするための配線の視認性の定量値として算出し、算出された定量値が予め設定された条件（所定閾値以下）を満たす配線パターンを、特に、表示ユニットの非点灯時にも、表示ユニット上に設置された導電性フィルムの配線が視認されないように最適化された配線パターンとして評価し、決定するものである。
　なお、周波数空間での強度（特徴量１）は、配線の撮像画像の画像データに対してＦＦＴを用いた周波数解析により得られたスペクトルピークの第１のピーク周波数における第１のピーク強度を算出し、算出された第１のピーク周波数における第１のピーク強度に人間の視覚応答特性を所定の観察距離に対して作用させてそれぞれ重み付けされた第２のピーク周波数における第２のピーク強度を得、得られた全ての第２のピーク周波数における第２のピーク強度の総和を求めることによって得られる。
　この本発明法では、スペクトルピークについては一般的にＦＦＴが利用されるが、利用方法によっては、対象物の周波数／強度が大きく変化するため、以下の手順を規定している。
　即ち、本発明においては、導電性フィルムの配線パターンの周波数空間における周波数特性のみならず、導電性フィルムの配線の実空間における反射強度（反射率）を反映させ、導電性フィルムの配線を撮像した画像を入力とすることで、実物サンプルでも配線視認性も定量化することができる。したがって、本発明においては、導電性フィルム単独でも、導電性フィルムを周辺部材と組み合わせたタッチパネルモジュールやディスプレイ上に設置された最終製品形態でも定量化が可能である。
　具体的には、これらの定量化は、導電性フィルムの配線の画像を所定条件の下に撮像し、正規化された画素値として配線の撮像画像の画像データとして求め、この画像データにＦＦＴを用いて得られた周波数特性（ピーク周波数および強度）に人間の視覚感度関数（ＶＴＦ）を使って周波数空間での強度（特徴量１）を求める一方、画像データに基づいて配線領域と背景領域とに分けられた中で、配線領域の面積割合（特徴量２）及び両領域の平均値の差として背景と配線の強度差（特徴量３）の実空間で特徴量を求め、周波数空間での特徴量１に加えて、実空間での特徴量２及び３を用いて、配線の視認性の定量値を算出することで実現している。
　本発明において、周波数空間の特徴量１に加えて、実空間の特徴量２の配線領域の面積割合と、実空間の特徴量３の配線と背景との強度差を用いるのは、従来技術で述べたように、複数の導電性フィルムサンプル間で配線パターンの反射強度が局所的に異なることがなければ、また、トップ配線とボトム配線とで反射強度差があってもその差がサンプル間でほぼ同じならば、目視との対応がとれ、周波数空間の特徴量１のみで評価することができるが、サンプル間で配線パターンの反射強度が局所的に異なると、例えば、背景と配線の反射強度差、トップ配線とボトム配線の反射強度差等がサンプル間で変化すると、目視との対応がつかないため、周波数空間の特徴量１のみでは、正確な評価ができず、導電性フィルムの視認性の正確な評価には、周波数空間の特徴量１に加えて、配線パターン内の反射強度の差を反映する特徴量が必要であり、実空間の特徴量２及び３を加える必要があるからである。
　このため、本発明では、実空間の特徴量２として、反射強度の高い領域がどれほどあるかを示す配線領域の面積割合を用い、実空間の特徴量２として、配線の反射強度を示す背景と配線の強度差（両領域の平均値の差）を用いているのである。
　本発明法においては、まず、手順１として、図７に示すように、導電性フィルム１０の配線パターン２４を準備し、ステップＳ１０において撮像を行い、配線パターン２４の配線の撮像画像ＰＩを取得する。詳しくは、図８に示すように、ステップＳ１０において、暗室環境下に導電性フィルム１０を配置し、導電性フィルム１０の配線パターン２４の配線の画像を撮影し、撮像信号値を取得して、正規化して配線の撮像画像（画像データ（正規化された画素値））ＰＩを取得する。例えば、暗室環境下において、図６に示す表示装置４０の表示ユニット３０上に設置（重畳）された導電性フィルム１０を撮影して、即ち導電性フィルム１０の配線パターン２４の配線（金属細線１４）（図３参照）の画像を撮影して配線の撮像画像ＰＩを取得する。この際、導電性フィルム１０が設置された表示ユニット３０は、非点灯にしておく必要がある。なお、表示ユニット３０上に設置された導電性フィルム１０の配線パターン２４は、表示ユニット３０の点灯時にも、配線の視認性に優れているのが良いのは勿論である。
　この時、本発明においては、図９に示すように、暗室環境下に配置された導電性フィルム１０、好ましくは、表示ユニット３０上に重畳された導電性フィルム１０を撮影サンプル６２とする時、撮影サンプル６２に対して入射角度４５°で光源からの光を当て、正面にカメラ６４を配置する撮影光学系６０によって、撮影サンプル６２から反射する光を正面からカメラ６４で受光し、撮影サンプル６２を正面からカメラ６４で撮影する。
　本発明において用いられる撮影光学系６０を構成する光源（図示せず）、カメラ６４及びレンズ（図示せず：カメラ６４に内蔵）は、配線の視認性の定量値を算出するのに必要となる配線の画像を撮影できれば、どのようなものであっても良いが、以下のようなものを用いるのが好ましい。
　本発明に用いられるカメラとしては、例えば、解像度１３９２×１０４０のモノクロカメラを用いるを用いるのが好ましく、例えば、日本ローパー社製のＭｏｎｏｃｈｒｏｍｅ　ＱＩＣＡＭ　Ｃｏｏｌｅｄなどを用いることができる。
　本発明に用いられるレンズとしては、例えば、実視野３５．２ｍｍ、被写界深度±１６ｍｍ　ａｔ　Ｆ１０のテレセンレンズを用いるのが好ましく、例えば、エドモンド社製のテレセントリックレンズ０．１８Ｘなどを用いることができる。
　本発明に用いられる光源としては、例えば、ハロゲン光源等を用いることができ、一定光量を維持できるフィードバック付ハロゲン光源を用いるのが好ましく、例えば、林時計工業社製のＬＡ－１５０ＦＢＵなどを用いることができる。
　本発明において用いられる撮影環境としては、導電性フィルム１０が設置された表示ユニット３０の非点灯時にも、導電性フィルム１０の配線パターン２４の配線（金属細線１４）の視認性を評価する必要があるので、暗室環境とするのが好ましく、暗室環境で光源から入射角度４５°で光を当てて正面から撮像するのが良い。
　また、本発明において用いられる撮影条件としては、レンズの絞りとピントを調整するのが好ましく、例えば、深度計を使用して被写界深度が１０ｍｍとなるようにレンズの絞りとピントを調整するのが良い。
　なお、ステップＳ１０の配線の画像の撮影に先立って、ホワイトバランスの調整及び撮影のための画像のダイナミックレンジの設定の事前ステップを行っておくのが好ましい。
　この事前ステップにおいては、まず、基準となる黒として、マクベスチャート、例えば、Ｘ－ｒｉｔｅ社のカラーチェッカー(ColorChecker)等の黒（Black：ＸＹＺ表色系の視感反射率Ｙ＝３．１％）等を撮像し、カメラの信号値Ｉｂと露光時間Ｅｘｂとを取得する。こうして得られる基準となる黒撮影時のカメラの信号値Ｉｂを基準となる黒撮影時の露光時間Ｅｘｂで割った値（単位露光時間当たりの信号強度（値））Ｉｂ／Ｅｘｂが、所定規格値、例えば、４／３［Ｉ／ｍｓ］（例えば、基準となる黒撮影時の露光時間が１８０ｍｓである時の信号値Ｉが２４０）となるように設定して撮影サンプルを撮像するようにカメラの撮影の画像のダイナミックレンジを設定しておく。
　なお、このように撮影画像のダイナミックレンジが設定されたカメラで取得された配線パターンの撮像信号値、即ち、撮像画像の画素値を、信号値Ｉｂを露光時間Ｅｘｂで割った値（単位露光時間当たりの信号値）の軸において、所定信号値（画素値）、例えば６４／４５［Ｉ／ｍｓ］が、１．０となるように正規化する。こうして、配線パターンの配線の撮像画像の画像データ（正規化された画素値）が得られる。
　ここで、導電性フィルム１０の配線パターン２４は、例えば、図１及び図１０（Ａ)に示すように、配線となる金属細線１４が水平線に対して所定角度の角度傾いた菱形パターンとすることができるが、上述したように、配線パターンの開口の形状は、どのようなものであっても良く、菱形パターン自体が所定角度傾斜していても良いし、また、例えば、後述する図１０（Ｂ）及び図１０（Ｃ）に示すような正六角形や正方格子であっても良く、正方格子も、所定角度傾いた正方格子であっても良いのはもちろんである。
　次に、図７に示すように、撮像ステップＳ１０において取得された撮像画像ＰＩから、ステップＳ１２において、周波数空間での特徴量１の算出、ステップＳ１４において、実空間での特徴量２の算出、ステップＳ１６において、実空間での特徴量３の算出を行う。
　即ち、図８に示すように、手順２として、手順1で取得した配線パターン２４の配線の画像の画像データから、配線の視認性評価のための周波数空間及び実空間での特徴量１、２及び３を算出する。なお、ここで、ステップＳ１２、Ｓ１４、Ｓ１６を行う順序は、特に制限はなく、いずれかを先にやって残りのいずれかを後でやるようにしても良いし、可能であれば、同時処理とするのが好ましい。
　以下では、ステップＳ１２、Ｓ１４、Ｓ１６をこの順番で説明する。
　まず、図７及び図８に示すように、ステップＳ１２において、周波数空間における特徴量１である周波数空間での強度ｘ１を算出する。
　ステップＳ１２では、図８に示すように、そのサブステップＳ２２において、手順1（撮像ステップＳ１０）で取得した配線パターン２４の配線の画像の画像データに対して、２次元高速フーリエ変換（２ＤＦＦＴ）を行う。即ち、具体的には、サブステップＳ２２において、ステップＳ１０で得られた配線パターン２４の配線の画像の画像データに対して２ＤＦＦＴ処理を行い、配線パターン２４の配線の画像の画像データの２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの第１のピーク周波数及び第１のピーク強度を算出する。ここでは、ピーク強度は、絶対値として取り扱う。
　ここで、配線パターン２４の配線の画像の画像データの２次元フーリエスペクトルの強度特性を表すスペクトルピークの２次元周波数座標上の位置、即ちピーク位置がピーク周波数を表し、そのピーク位置における２次元フーリエスペクトルの強度がピーク強度となる。
　ここでは、配線パターン２４の各スペクトルピークのピークの周波数及び強度は、以下のようにして算出して取得する。
　まず、ピーク周波数の取得において、ピークの算出には、配線パターン２４の基本周波数から周波数ピークを求める。これは、２ＤＦＦＴ処理を行う配線の画像の画像データは離散値であるため、ピーク周波数が、画像サイズの逆数に依存してしまうからである。周波数ピーク位置は、独立した２次元基本周波数ベクトル成分（例えば、周波数座標をｆｘｆｙ座標とすると、ｆｘ方向及びｆｙ方向の２つのベクトル成分）を元に組み合わせて表すことができる。したがって、当然ながら、得られるピーク位置は格子状となる。即ち、配線パターン２４のスペクトルピークの周波数座標ｆｘｆｙ上の位置、即ちピーク位置は、パターンピッチの逆数（１／ｐ（ｐｉｔｃｈ）を格子間隔とする周波数座標ｆｘｆｙ上の格子状点の位置として与えられる。
　一方、ピーク強度の取得においては、上記のピーク周波数の取得においてピーク位置が求まるため、ピーク位置が持つ２次元フーリエスペクトルの強度（絶対値）を取得する。その際、デジタルデータをＦＦＴ処理しているので、ピーク位置が複数の画素（ピクセル）に跨るケースがある。したがって、ピーク位置に存在する強度を取得する際には、ピーク位置周辺の複数の画素を含む領域内の複数の画素のスペクトル強度が上位から複数点、例えば、７×７画素の領域内の画素のスペクトル強度が上位から５点の強度（絶対値）の合計値をピーク強度とするのが好ましい。
　ここで、得られたピーク強度は、画像面積（画像サイズ）で規格化するのが好ましい。上述した例では、８１９２×８１９２で規格化しておくのが好ましい（パーセバルの定理）。
　次に、図８に示すように、サブステップＳ２４において、第１のピーク周波数における第１のピーク強度に対して人間の視覚応答特性を作用させる。即ち、具体的には、サブステップＳ２４において、サブステップＳ２２で算出した配線パターン２４の２次元フーリエスペクトルの第１のピーク周波数における第１のピーク強度に対して人間の視覚応答特性を所定の観察距離で作用させて、即ち畳み込み積分を行って重み付けを行い、観察距離に対して重み付けされた第２のピーク周波数における第２のピーク強度を算出する。即ち、第１のピーク周波数・強度に、下記式（２）で示す人間の視覚応答特性の一例を表す視覚伝達関数（ＶＴＦ；Visual Transfer Function）を畳み込む。なお、ここでも、第１及び第２のピーク強度は、絶対値として取り扱う。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
　ここで、ｕは、空間周波数（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）である。
　上記式（２）では、空間周波数ｕ（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）は、立体角で定義されているので、長さで定義される空間周波数ｆｒ（ｃｙｃｌｅ／ｍｍ）を変換するには、Ｌを観察距離（ｍｍ）として、下記変換式（３）によって変換すれば良い。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
　なお、上記式（３）は、長さで定義される空間周波数ｆｒ（ｃｙｃｌｅ／ｍｍ）を、立体角で定義される空間周波数ｕ（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）に変換する変換式であり、Ｌは観察距離（ｍｍ）である。
　即ち、本発明においては、人間の視覚伝達関数（ＶＴＦ）は、Ｄｏｏｌｅｙらが提案するＶＴＦを使用している。なお、Ｄｏｏｌｅｙらの提案するＶＴＦの式は、参考文献（１）（R. P. Dooley, R .Shaw: Noise Perception in Electrophotography, J.Appl.Photogr.Eng., 5, 4 (1979), pp.190-196.）に記載されている。
　ここで、具体的には、Ｄｏｏｌｅｙらの提案する上記式（２）は、参考文献（２）（カラー電子写真システムのシミュレーションによる画像評価技術、http://www.konicaminolta.jp/about/research/technology_report/2008/pdf/introduce_003.pdf）等を参照することができる。
　なお、本発明において、視覚伝達関数を畳み込む場合、観察距離Ｌを所定距離にして畳み込み積分を行うが、例えば、観察距離Ｌを３００ｍｍで定量化する場合には、空間周波数ｆｒ（ｃｙｃｌｅ／ｍｍ）から空間周波数ｕ（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）への変換式である上記式（３）は、下記式（４）として表すことができる。
　　ｕ＝３００・π・ｆｒ／１８０　　　　　　　　　　　　…（４）
　こうして、サブステップＳ２４では、サブステップＳ２２で得られた第１のピーク周波数及び第１のピーク強度に上記式（２）に示す人間の視覚伝達関数（ＶＴＦ）を畳み込むことにより、重み付けされた第２のピーク周波数及び第２のピーク強度を算出することができる。
　次に、図８に示すように、サブステップＳ２６において、サブステップＳ２４で算出された全ての第２のピーク周波数における第２のピーク強度を加算して総和を求め、導電性フィルム１０の配線パターン２４の周波数空間における特徴量１である周波数空間での強度ｘ１を算出する。
　こうして、ステップＳ１２を終了する。
　次に、図７及び図８に示すように、ステップＳ１４において、実空間における特徴量２である配線領域の割合（面積割合）ｘ２を算出する。
　ステップＳ１４では、図８に示すように、そのサブステップＳ２８において、手順1（撮像ステップＳ１０）で取得した配線パターン２４の配線の撮像画像を２値化して、即ち、配線の撮像画像の画像データに対して２値化処理を行い、撮像画像全体を配線領域と背景領域とに分離する。
　サブステップＳ２８で行う２値化の方法としては、特に制限的ではなく、公知の２値化方法が適用可能であるが、例えば、一般的な判別分析法等を用いることができる。一般的な判別分析法としては、例えば、参考文献（３）（Otsu, N, "A Threshold Selection Method from Gray-Level Histograms," IEEE Transaction on Systems, Man, and Cybernetics, Vol. 9, No. 1, 1979, pp. 62-66.）等を参照することができる。
　この文献に記載された判別分析法を使用した２値化の方法は、要約すると、撮像画像のヒストグラムを用いて、クラス内分散(各クラス内でのヒストグラムの広がり具合)が最小で、クラス間分散(クラス間の広がり具合)が最大となる位置で閾値を決めている。ここで、撮像画像サンプル毎にヒストグラムは異なるので、２値化の閾値は、その都度変わる。
　例えば、撮像画像サンプルのヒストグラムにおいて、全画素の平均値をμ０とし、ある閾値tでクラス１及び２に分けた時のクラス１及び２の分散を、σ１ ２及びσ２ ２とし、クラス１及び２の平均値を、μ１及びμ２とし、クラス１及び２の画素数をｎ１及びｎ２とし、クラス間分散をσＢ ２とし、クラス内分散をσＷ ２とし、クラス間分散σＢ ２及びクラス内分散σＷ ２を下記式で表すとき、クラス間分散σＢ ２／クラス内分散σＷ ２の比が最大となるｔの値を２値化の閾値と決めることができる。
　クラス内分散　σＷ ２＝（ｎ１・σ１ ２＋ｎ２・σ２ ２）／（ｎ１＋ｎ２）
　クラス間分散　σＢ ２＝（ｎ１・（μ１－μ０）２＋ｎ２・（μ２－μ０）２）／（ｎ１＋ｎ２）
　次に、図８に示すように、サブステップＳ３０において、撮像画像全体に対する配線領域の割合ｘ２を算出する。即ち、具体的には、サブステップＳ３０において、サブステップＳ２８で分離した配線領域の面積を求め、撮像画像全体の面積に対する配線領域の面積割合ｘ２を算出する。
　こうして、導電性フィルム１０の配線パターン２４の実空間における特徴量２である実空間での配線領域の割合ｘ２を算出して、ステップＳ１４を終了する。
　次に、図７及び図８に示すように、ステップＳ１６において、実空間における特徴量３である実空間での背景と配線との強度差ｘ３を算出する。
　ステップＳ１６では、図８に示すように、ステップＳ１４のサブステップＳ２８で分けた配線領域と背景領域とにおいて、画像データ（画素値）の平均値を求め、その平均値の差を背景と配線との強度差ｘ３として算出する。
　なお、ステップＳ１４より、ステップＳ１６を先に行う場合には、サブステップＳ２８を、ステップＳ１６のサブステップとして行うようにすれば良く、同時処理を行う場合には、サブステップＳ２８を、ステップＳ１４及びステップＳ１６のサブステップとしてそれぞれにおいて行うのが好ましい。
　こうして、導電性フィルム１０の配線パターン２４の実空間における特徴量３である実空間での背景と配線との強度差ｘ３を算出して、ステップＳ１６を終了する。
　次に、図７及び図８に示すように、ステップＳ１８において、ステップＳ１２、Ｓ１４、及びＳ１６において算出された特徴量１、２及び３から、配線の視認性の定量値Ｅを算出する。
　即ち、図８に示すように、ステップＳ１８において、手順３として、手順２のステップＳ１２において算出された周波数空間での強度ｘ１と、ステップＳ１４において算出された実空間での配線領域の割合ｘ２と、ステップＳ１６において算出された実空間での背景と配線との強度差ｘ３との線型和を下記式（１）に基づいて算出し、算出された線型和を配線の視認性の定量値Ｅとする。
　　　Ｅ＝ｃ１×ｘ１＋ｃ２×ｘ２＋ｃ３×ｘ３＋Ｃ　　　　　　　　……（１）
　上記式（１）において、係数ｃ１、係数ｃ２、係数ｃ３、及び定数Ｃは、例えば、以下のような値とすることができる。即ち、係数ｃ１＝２５９（２５９．４６５０６）、係数ｃ２＝７３．０（７３．０４９１３）、係数ｃ３＝－１４０（－１３９．５９９７５）、定数Ｃ＝－１３．０（－１２．９７５４４）とすることができる。
　こうして、ステップＳ１８で、導電性フィルム１０の配線パターン２４の配線の視認性の定量値Ｅを算出することができる。
　次に、図７及び図８に示すように、ステップＳ２０において、ステップＳ１８で算出された配線の視認性の定量値Ｅを用いて、配線の視認性の評価を行う。
　即ち、図８に示すように、ステップＳ２０において、手順４として、手順３のステップＳ１８において算出された配線の視認性の定量値Ｅが所定閾値以下、好ましくは６．０以下、より好ましくは４．２以下である導電性フィルム１０の配線の視認性を適切であると評価する。即ち、こうして求められた当該配線パターン２４の配線の視認性の定量値が、所定値以下、好ましくは６．０以下、より好ましくは４．２以下であれば、当該配線パターン２４は、導電性フィルム１０単独でも、導電性フィルム１０が表示装置の表示ユニット３０上に設置されて、表示ユニット３０が非点灯であっても、配線自体が視認されることの無い本発明の導電性フィルム１０の最適化された配線パターン２４であると評価し、単独でも、表示ユニット３０に対しても、最適化された配線パターン２４として設定し、本発明の導電性フィルム１０であるとして評価することができる。
　なお、本発明において求められる配線の視認性の定量値の数値は、同一の導電性フィルム１０の場合、例えば、同一の表示ユニット３０上に設置された同一の導電性フィルム１０の場合であっても、基準となる黒を撮影して得られる単位時間当たりの撮像信号値の所定規格値への設定（画像のダイナミックレンジの設定）、及び撮像信号値（画素値）の規格化に応じて変わるが、これらの設定及び規格化が同一に行われた場合に、同一の導電性フィルム１０の場合の配線の視認性の定量値の数値が同一なるのであれば、これらの設定及び規格化は、上述の本発明の評価方法の趣旨を逸脱しない限り、どのように行っても良い。
　上述した本発明の評価方法の実施形態における如く、基準となる黒（視感反射率３．１％）を撮影して得られる単位時間当たりの撮像信号値が設定される所定規格値が、４／３［Ｉ／ｍｓ］であり、このようにして設定して撮影された導電性フィルムの配線パターンの撮像信号値（画素値）を、単位露光時間当たりの撮像信号値の軸において正規化する時の、正規化値が１．０となる所定信号値（画素値）が、６４／４５［Ｉ／ｍｓ］である場合には、配線の視認性の定量値は、６．０以下が好ましく、より好ましくは４．２以下である。
　もちろん、配線パターン２４の金属細線１４の線幅や、開口部２２の形状やそのサイズ（ピッチや角度）や、２つの配線層の配線パターンの位相角（回転角、ズレ角）等の応じて、複数の最適化された配線パターン２４が得られるが、配線の視認性の定量値が小さいものが最良の配線パターン２４となり、複数の最適化された配線パターン２４には序列を付けることもできる。
　こうして、本発明の導電性フィルムの配線評価方法は終了し、導電性フィルム単独でも、表示装置の表示ユニットのＢＭパターンに重畳しても、また、表示ユニットの非点灯時であっても、配線の視認が防止又は抑止され、異なる解像度の表示装置に対しても、また、配線の視認性に優れた、最適化された配線パターンを持つ本発明の導電性フィルムを作製することができる。
　また、上述した本発明の導電性フィルムは、連続した金属細線からなるメッシュ状配線パターンを持つものであるが、本発明はこれに限定されず、上述したように、本発明の評価基準を満たすものであれば、如何なるパターン形状のメッシュ状配線パターンを持つ導電性フィルムであっても良い。
　以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
　ピッチおよび処方(配線の製造方法)の異なる配線パターン２４を持つ導電性フィルム１０の実物サンプルを撮影して、配線の視認性の定量値を求めると共に、５名の研究員が、導電性フィルム１０の配線パターン２４の配線の視認性を目視で５段階劣化尺度を用いて官能評価した。
　本実施例においては、光源として林時計工業社製のＬＡ－１５０ＦＢＵを用い、カメラとして、日本ローパー社製のＭｏｎｏｃｈｒｏｍｅ　ＱＩＣＡＭ　Ｃｏｏｌｅｄを用い、レンズとして、エドモンド社製のテレセントリックレンズ０．１８Ｘを用い、深度計を使用して被写界深度が１０ｍｍとなるようにレンズの絞りとピントを調整して、実物サンプルを暗室環境下に設置し、図９に示す撮影光学系６０によって撮影した。
　なお、カメラは、マクベスチャート(x-rite社のColorChecker)のBlack(ＸＹＺ表色系の視感反射率Ｙ＝３．１％)を撮像した時に単位露光時間当たりの信号値が４／３［Ｉ／ｍｓ］となる条件で撮像するように設定した。また、撮像画像の信号値を、単位露光時間当たりの信号値の軸において、６４／４５［Ｉ／ｍｓ］が１．０となるように正規化して、撮像画像の画像データ（画素値）とした。
　こうして得られた撮像画像の画像データを用て、図７及び図８に示すフローに従って、周波数空間での強度ｘ１、配線領域の割合ｘ２、及び背景と配線の強度差ｘ３を求め、上記式（１）に従って、配線の視認性の定量値Ｅを求めた。
　その結果を表１に示す。
　なお、実物サンプルの範囲は以下であった。
　・ピッチ[μｍ]：１７５～２５０
　・周波数空間での強度（ｘ１）：０．０２６～０．１０６
　・配線領域の割合（ｘ２）：０．２２５～０．３６６
　・背景と配線の強度差（ｘ３）：０．０５５～０．１７４
　また、表１には、導電性フィルムの実物サンプルのトップ（Ｔｏｐ）配線とボトム（Ｂｏｔ）配線の反射強度差も求めた。その反射強度差の範囲は、０．００～０．０９であった。なお、反射強度差は、導電性フィルムの実物サンプルの配線パターンの画素ヒストグラムからトップ（Ｔｏｐ）配線及びボトム（Ｂｏｔ）配線のピーク値をそれぞれ抽出し、それらの差をとることにより算出した。なお、ピーク値の抽出は手動で行っており、ピーク値がないときは値を０としている。なお、配線の反射強度の値は、上述したように、６４／４５［Ｉ／ｍｓ］が１．０となるように正規化したときの値である。
　ここで、官能評価は、暗室環境で入射角度45°で光を当てて正面から観察して、撮像と同じ条件で目視により、配線の視認性の劣化尺度で評価し、官能評価結果は、劣化尺度１～５の５段階で行った。官能評価の劣化尺度は研究員５名の平均をとった。劣化尺度は、以下の通りであった。
　劣化尺度１は、配線が視認されない。
　劣化尺度２は、指摘されないと配線を視認することができず、配線が判っても気にならない。
　劣化尺度３は、指摘されなくても配線をわずかに視認することができるが、配線が判っても邪魔にならない。
　劣化尺度４は、配線が視認され、邪魔になる。
　劣化尺度５は、配線がはっきりと視認され、非常に邪魔になる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　以上の表１から、配線パターンがどのようなパターン、すなわちその金属細線の線幅や、開口部の形状やそのサイズ（ピッチ）等がどのようなものであっても、また、トップ（Ｔｏｐ）配線とボトム（Ｂｏｔ）配線の反射強度差の有無に関わらず、配線の視認性の定量値Ｅが、４．２以下であれば、いずれの本発明の実施例においても、配線や粒状ノイズが視認されない劣化尺度３未満である目視官能評価であり、４．２超、６．０以下であれば、配線や粒状ノイズが視認されても殆ど邪魔にならない劣化尺度３以上３．６未満である目視官能評価であり、６．０超では、配線や粒状ノイズが視認され、邪魔になる劣化尺度３．６以上である目視評官能価であることが分かる。
　また、表１に示す官能評価の劣化尺度と定量値を比較し、ｘ軸に官能評価の劣化尺度を取り、ｙ軸に定量値を取り、２次元座標上にプロットした結果、図１１に示すように、回帰式ｙ＝２．９８６５ｘ－４．７４５１で表すことができ、その決定係数Ｒ２は、０．９４０２（Ｒ２＝０．９４０２）であり、１．０に近いので、良く相関がとれており、定量化できていることが分かる。
　以上から、上記の配線の視認性の定量値が、上記範囲を満足する配線パターンを持つ本発明の導電性フィルムは、単独でも、ディスプレイの表面に設置され、ディスプレイの表面特性が異なっていても、配線や粒状ノイズの視認を防止、又は抑止でき、視認性を大幅に向上させることができる。
　以上から、本発明の効果は明らかである。
　なお、本発明では、上述した実施例のように、予め、種々のパターン形状の配線パターンを準備しておいて、本発明の評価方法によって最適化された配線パターンを持つ導電性フィルムを決定することができるが、１つの配線パターンの配線の視認性の定量値が、所定値以上である場合には、配線パターンの配線の画像の画像データを新たな配線パターンの配線の画像の画像データに更新して、上述した本発明の評価方法を適用して配線の視認性の定量値を求めることを繰り返して、最適化された配線パターンを持つ導電性フィルムを決定することもできる。
　ここで、更新される新たな配線パターンは、予め準備されたものであっても、新たに作成されたものであっても良い。なお、新たに作成され場合には、配線パターンの配線の画像の画像データの回転角度、ピッチ、パターン幅のいずれか１つ以上を変化させても良いし、配線パターンの開口部の形状やサイズを変更するようにしても良い。更には、これらにランダム性を持たせても良い。
　以上に、本発明に係る導電性フィルム、それを備える表示装置及び導電性フィルムの評価方法について種々の実施形態及び実施例を挙げて説明したが、本発明は、上述の実施形態及び実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しないかぎり、種々の改良や設計の変更を行っても良いことはもちろんである。
１０、１０ａ、１０ｂ　導電性フィルム
１２　透明支持体
１４　金属製の細線（金属細線）
１６、１６ａ、１６ｂ　導電部
１８、１８ａ、１８ｂ　接着層
２０、２０ａ、２０ｂ　保護層
２２　開口部
２４、２４ａ、２４ｂ　配線パターン
２８、２８ａ、２８ｂ　配線層
３０　表示ユニット
３２、３２ｒ、３２ｇ、３２ｂ　画素
３４　ブラックマトリクス（ＢＭ）
３８　ＢＭパターン
４０　表示装置
４４　タッチパネル
５２　フレキシブル基板
５４　検出制御部
６０　撮影光学系
６２　撮影サンプル
６４　カメラ

Claims (16)

  1. 　透明基体と、該透明基体の両方の面に形成され、複数の金属細線からなる導電部と、を有する導電性フィルムであって、
    　前記導電部は、前記複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線からなる配線パターンを有し、
    　暗室環境下で入射角度４５°で光を当てて正面から基準となる黒を撮像した時の信号値を露光時間で割った単位露光時間当たりの信号値を所定規格値に設定して、前記暗室環境下で前記導電性フィルムに入射角度４５°で光を当てて正面から撮像して得られた、規格値としての前記配線パターンの前記配線の撮像画像の画素値の２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの第１のピーク強度に、人間の視覚応答特性を作用させて得られた第２のピーク強度の総和と、前記配線パターンの前記配線の撮像画像の画素値を２値化して前記配線の画素値と背景の画素値とに分離した時の前記配線の画素値からなる配線領域の、前記配線パターンの画像全体に対する面積割合と、前記配線領域内の全画素値の平均値と前記背景からなる残りの背景領域内の全画素値の平均値との差として求められる前記配線と前記背景との強度差とから求められる前記配線の視認性の定量値が、所定閾値以下であることを特徴とする導電性フィルム。
  2. 　前記第２のピーク強度の総和をｘ１、前記配線領域の面積割合をｘ２、前記配線と前記背景との強度差をｘ３、前記配線の視認性の定量値をＥとする時、前記定量値Ｅは、下記式（１）によって示される線型和として求められる請求項１に記載の導電性フィルム。
    　Ｅ＝ｃ１×ｘ１＋ｃ２×ｘ２＋ｃ３×ｘ３＋Ｃ　　　　　　……（１）
    　但し、ｃ１、ｃ２、及びｃ３は、係数であり、Ｃは、定数である。
  3. 　前記基準となる黒は、ＸＹＺ表色系の視感反射率Ｙが３．１％である黒であり、
    　前記所定規格値は、４／３［Ｉ／ｍｓ］であり、
    　前記配線の画素値は、前記配線の信号値を前記露光時間で割った時に、６４／４５［Ｉ／ｍｓ］が１．０となるように正規化されたものであり、
    　上記式（１）において、ｃ１＝２５９、ｃ２＝７３．０、ｃ３＝－１４０、Ｃ＝－１３．０とする時、前記所定閾値は、６．０であり、
    　前記配線の視認性の定量値Ｅは、６．０以下である請求項２に記載の導電性フィルム。
  4. 　前記所定閾値は、４．２であり、前記配線の視認性の定量値が、４．２以下である請求項３に記載の導電性フィルム。
  5. 　前記導電性フィルムは、表示装置の表示ユニット上に設置されるものであり、
    　前記配線パターンは、前記表示ユニットに重畳されている請求項１～４のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
  6. 　前記第２のピーク強度は、前記視覚応答特性として視覚伝達関数を畳み込み積分で重み付けを行うことによって求められる請求項１～５のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
  7. 　前記視覚伝達関数は、ドゥーリー・ショー（Ｄｏｏｌｙ－Ｓｈａｗ）関数に明度成分に対する補正関数を導入した評価関数である請求項６に記載の導電性フィルム。
  8. 　前記視覚伝達関数は、下記式（２）で与えられる関数ＶＴＦで表される請求項７に記載の導電性フィルム。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
    　ここで、ｕは、空間周波数（ｃｙｃｌｅ／ｄｅｇ）である。
  9. 　請求項１～８のいずれか１項に記載の導電性フィルムと、
    　前記導電フィルムの表面側からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部とを備え、前記導電フィルムと前記検出制御部が、タッチパネルセンサとして機能することを特徴とするタッチパネル。
  10. 　表示ユニットと、
    　この表示ユニット上に設置される、請求項１～８のいずれか１項に記載の導電性フィルムとを備えることを特徴とする表示装置。
  11. 　さらに、前記導電フィルムの表面側からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部とを備え、
    　前記導電フィルムと前記検出制御部が、タッチパネルセンサとして機能する請求項１０に記載の表示装置。
  12. 　複数の金属細線によりメッシュ状に形成された、複数の開口部を配列した配線の配線パターンを有する導電性フィルムの配線の視認性の評価方法であって、
    　暗室環境下で入射角度４５°で光を当てて正面から基準となる黒を撮像した時の信号値を露光時間で割った単位露光時間当たりの信号値が所定規格値となる撮影条件で、前記暗室環境下で前記導電性フィルムに入射角度４５°で光を当てて正面から撮像して前記配線パターンの前記配線の撮像画像の画素値を規格値として求め、
    　得られた前記配線パターンの前記配線の前記撮像画像の画素値に対して２次元フーリエ変換を行い、前記配線の前記撮像画像の画素値の２次元フーリエスペクトルの複数のスペクトルピークの第１のピーク強度を算出し、
    　こうして算出された前記配線パターンの前記第１のピーク強度に、人間の視覚応答特性を観察距離に応じて作用させてそれぞれ第２のピーク強度を算出し、
    　こうして得られた第２のピーク強度の総和を求め、
    　前記配線パターンの前記配線の画像の画素値を２値化して前記配線の画素値と背景の画素値とに分離し、分離された前記配線の画素値からなる配線領域の、前記配線パターンの画像全体に対する面積割合を求め、
    　前記配線領域内の全画素値の平均値と前記背景からなる残りの背景領域内の全画素値の平均値とを求め、こうして求められた両平均値の差として前記配線と前記背景との強度差を求め、
    　こうして得られた前記第２のピーク強度の総和、前記配線パターンの画像全体に対する前記配線領域の面積割合、及び前記配線と前記背景との強度差から前記配線の視認性の定量値を線型和として求め、
    　こうして求めた前記配線の視認性の定量値が所定閾値以下である前記導電性フィルムの前記配線の視認性を評価することを特徴とする配線の視認性の評価方法。
  13. 　前記第２のピーク強度の総和をｘ１、前記配線領域の面積割合をｘ２、前記配線と前記背景との強度差をｘ３、前記配線の視認性の定量値をＥとする時、前記定量値Ｅは、下記式（１）によって示される線型和として求められる請求項１２に記載の配線の視認性の評価方法。
    　Ｅ＝ｃ１×ｘ１＋ｃ２×ｘ２＋ｃ３×ｘ３）＋Ｃ　　　　　……（１）
    　但し、ｃ１、ｃ２、及びｃ３は、係数であり、Ｃは、定数である。
  14. 　前記基準となる黒は、ＸＹＺ表色系の視感反射率Ｙが３．１％である黒であり、
    　前記撮影条件は、前記所定規格値が４／３［Ｉ／ｍｓ］であり、
    　前記配線の画素値は、前記配線の信号値を前記露光時間で割った時に、６４／４５［Ｉ／ｍｓ］が１．０となるように規格化されたものであり、
    　上記式（１）において、ｃ１＝２５９、ｃ２＝７３．０、ｃ３＝－１４０、Ｃ＝－１３．０とする時、前記所定閾値は、６．０であり、
    　前記配線の視認性の定量値Ｅは、６．０以下である請求項１３に記載の配線の視認性の評価方法。
  15. 　前記所定閾値は、４．２であり、前記配線の視認性の定量値が、４．２以下である請求項１４に記載の配線の視認性の評価方法。
  16. 　前記導電性フィルムは、表示装置の表示ユニット上に設置されるものであり、
    　前記配線パターンは、前記表示ユニットに重畳されているものである請求項１２～１５のいずれか１項に記載の配線の視認性の評価方法。
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