WO2015056606A1 - 真空複層ガラスの製造方法 - Google Patents

真空複層ガラスの製造方法 Download PDF

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WO2015056606A1
WO2015056606A1 PCT/JP2014/076813 JP2014076813W WO2015056606A1 WO 2015056606 A1 WO2015056606 A1 WO 2015056606A1 JP 2014076813 W JP2014076813 W JP 2014076813W WO 2015056606 A1 WO2015056606 A1 WO 2015056606A1
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glass
bonding layer
assembly
vacuum
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PCT/JP2014/076813
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菅野　亮
佳佑 加藤
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旭硝子株式会社
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
    • C03C27/06—Joining glass to glass by processes other than fusing
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    • E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
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    • E—FIXED CONSTRUCTIONS
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    • E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
    • E06B3/677—Evacuating or filling the gap between the panes ; Equilibration of inside and outside pressure; Preventing condensation in the gap between the panes; Cleaning the gap between the panes
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    • Y02B80/00—Architectural or constructional elements improving the thermal performance of buildings
    • Y02B80/22—Glazing, e.g. vaccum glazing

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a vacuum double-glazed glass.
  • a so-called “vacuum double-glazed glass” having a sealed space held in a low-pressure or vacuum state between a pair of glass substrates has an excellent heat insulating effect, and thus, for example, a window glass for buildings such as buildings and houses. Widely used in applications.
  • the conventional vacuum multilayer glass manufacturing method includes the step of reducing the pressure in the sealed space of the assembly using the opening provided in the glass substrate and the step of sealing the opening. It is.
  • This invention is made
  • a method for producing a vacuum double-glazed glass having a reduced pressure sealed space between a first glass substrate and a second glass substrate facing each other (A) A step of forming an assembly having a bonding layer and a spacer material between the first glass substrate and the second glass substrate, wherein the bonding layer includes the first and / or second layers. A step of forming an open space between the two glass substrates by the spacer material, arranged in a frame shape on the glass substrate; (B) introducing the assembly into a vacuum chamber in a reduced pressure environment; (C) a step of melting or softening the spacer material by heating in the vacuum chamber, whereby the spacer material is crushed and the bonding layer comes into contact with the first and second glass substrates. A step of forming a sealed space surrounded by the bonding layer between the first glass substrate and the second glass substrate; (D) evacuating the assembly from the vacuum chamber; The manufacturing method characterized by having is provided.
  • FIG. 5 is a schematic top view of the assembly shown in FIG. 4. It is a top view of the assembly which showed the example of the arrangement form of spacer material typically. It is a top view of the assembly which showed the example of the arrangement form of spacer material typically. It is a top view of the assembly which showed the example of the arrangement form of spacer material typically. It is a top view of the assembly which showed the example of the arrangement form of spacer material typically.
  • FIG. 6 schematically shows a cross section of another assembly that can be used in a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. It is a schematic fragmentary sectional view of the vacuum multilayer glass which has another sealing member. It is the flowchart which showed schematically the manufacturing method of the vacuum double layer glass by another embodiment of this invention. It is the figure which showed typically the 1st glass substrate and 2nd glass substrate which are used for an assembly.
  • FIG. 17 is a schematic top view of the assembly shown in FIG. 16. It is a top view of the assembly which showed another example of arrangement form of a support member typically. It is sectional drawing which showed typically the mode at the time of the support function by a support member being lost by the support release member provided in the vacuum chamber. It is the figure which showed typically the cross section of another assembly which has a different supporting member from the example of FIG. In the assembly shown in FIG. 20, it is the figure which showed typically the mode at the time of the support function by a support member being lost. It is the figure which showed typically the cross section of another assembly which has a different supporting member from the example of FIG. 16 and FIG. In the assembly shown in FIG. 22, it is the figure which showed typically the mode at the time of the support function by a support member being lost.
  • FIG. 1 schematically shows an example of the structure of the vacuum double-glazed glass.
  • the first glass substrate 110 has a first surface 112 and a second surface 114.
  • the first glass substrate 110 is disposed so that the second surface 114 side is the outside.
  • the second glass substrate 120 has a third surface 122 and a fourth surface 124.
  • the second glass substrate 120 is disposed such that the fourth surface 124 side is the outside. Therefore, the sealed space 130 is formed between the first surface 112 of the first glass substrate 110 and the third surface 122 of the second glass substrate 120.
  • the inside of the sealed space 130 is maintained in a vacuum state.
  • the degree of vacuum of the sealed space 130 is not particularly limited, and may be any pressure lower than atmospheric pressure. In general, the pressure in the sealed space 130 is about 0.2 Pa to 0.001 Pa.
  • the vacuum double-glazed glass 100 may have one or more pillars (not shown) in the sealed space 130.
  • the seal member 150 is a member for maintaining the inside of the sealed space 130 in a reduced pressure state, and the seal member 150 is configured over the entire periphery of the sealed space 130.
  • the term “frame shape” means a general term for a shape composed of a “frame” having an outer contour and an inner contour, with the inside of a flat plate shape removed in plan view. That is, it means that it is formed along the periphery of the vacuum double-glazed glass 100.
  • the outer contour and / or inner contour of the “frame-shaped” member is not necessarily limited to a substantially rectangular parallelepiped shape such as a forehead.
  • the shape may be circular, elliptical or substantially elliptical.
  • the outer contour and the inner contour of the “frame-shaped” member are not necessarily similar, and both may be different shapes, for example.
  • the material and configuration of the bonding layer 155 are not particularly limited as long as the first and second glass substrates 110 and 120 can be bonded to each other by heat treatment.
  • the bonding layer 155 may be a vitrified layer (softening point 350 to 600 ° C.).
  • the composition of the glass component contained in the vitrified layer is not particularly limited.
  • the glass component contained in the vitrified layer may be, for example, ZnO—Bi 2 O 3 —B 2 O 3 or ZnO—SnO—P 2 O 5 glass.
  • Table 1 shows an example of the composition of a ZnO—Bi 2 O 3 —B 2 O 3 -based glass that can be used as a glass component contained in the vitrified layer.
  • Table 2 shows an example of the composition of ZnO—SnO—P 2 O 5 based glass that can be used for the glass component contained in the vitrified layer.
  • the bonding layer 155 may include a brazing material or a solder material.
  • the cross section of the bonding layer 155 is shown in a substantially rectangular shape with rounded corners.
  • the cross section of the bonding layer 155 may have other shapes such as a substantially elliptical shape and a substantially trapezoidal shape.
  • FIG. 3 shows a first glass substrate 310 having first and second surfaces 312, 314 and a second glass substrate 320 having third and fourth surfaces 322, 324.
  • a bonding layer 356 is formed on the frame on the first surface 312 of the first glass substrate 310.
  • the prepared paste is applied around the first surface 312 of the first glass substrate 310.
  • the first glass substrate 310 containing the paste is dried.
  • the conditions for the drying treatment are not particularly limited as long as the organic binder in the paste is removed.
  • the drying process may be performed, for example, by holding the first glass substrate 310 at a temperature of 100 ° C. to 200 ° C. for about 30 minutes to 1 hour.
  • a spacer material 375 is disposed between the glass substrates 310 and 320, and thus an open space 329 is formed between the glass substrates 310 and 320.
  • the bonding layer 356 is not in contact with the third surface 322 of the second glass substrate 320.
  • gas communication is possible between a region surrounded by the bonding layer 356 and a region outside the region.
  • the number and the arrangement location of the spacer members 375 are not particularly limited.
  • a plurality of spacer materials 375 may exist.
  • the one or more spacer materials 375 may be disposed on the inner side of the bonding layer 356 when viewed from the Z direction in FIG.
  • FIG. 6 to 9 show examples of other arrangement forms of the spacer material 375.
  • FIG. These figures show a schematic top view of the assembly. Note that the second glass substrate 320 is omitted in these drawings for the sake of clarity as in the case of FIG.
  • the assembly 370b has three spacer members 375-1, 375-2, and 375-3.
  • the two spacer members 375-1 and 375-2 are outside the bonding layer 356 and near both ends of one side 316a of the first glass substrate 310 (two adjacent corner portions). Near).
  • the third spacer member 375-3 is disposed in the vicinity of the side 316c facing the side 316a on which the spacer members 375-1 and 375-2 are disposed, and in the vicinity of the center of the side 316c.
  • the shape of the spacer material 375 is not particularly limited.
  • the spacer member 375 has a substantially circular truncated cone shape, a substantially spherical shape, or a substantially rectangular parallelepiped shape in addition to a substantially cylindrical shape having an extending axis in the height direction (Z direction) as shown in FIGS. Or the like.
  • the spacer material 375 may be larger than the bonding layer 356 in the height direction, and may have a height at which at least the closest bonding layer 356 does not contact the second glass substrate 320.
  • the spacer material 375 in the assembly 370 is melted and softened.
  • the spacer material 375 can no longer support the upper second glass substrate 320, and the height of the spacer material 375 is reduced.
  • the bonding layer 356 comes into contact with the second glass substrate 320 over the entire circumference.
  • the open space 329 of the assembly 370 becomes a sealed space surrounded by the bonding layer 356.
  • the bonding layer 356 in the assembly 370 is melted and softened by heating. Therefore, when the bonding layer 356 is in contact with the second glass substrate 320 over the entire circumference, the first glass substrate 110 and the second glass substrate are bonded by the bonding layer 356 to form the bonded body 372.
  • the bonding layer 356 is also melted and softened. That is, the sealing of the sealed space 330 formed by the first glass substrate 110 and the second glass substrate is completed at the same time when the spacer material 375 is crushed. Therefore, the spacer material 375 may be the same material as the bonding layer 372.
  • the bonding layer 356 when the bonding layer 356 is in contact with the second glass substrate 320 over the entire circumference, the bonding layer 356 does not need to be melted and softened, and then the bonding layer 356 is melted and softened by heating.
  • the first glass substrate 110 and the second glass substrate may be bonded to each other by 356, and the bonded body 372 may be configured.
  • the spacer material 375 is preferably a material having a softening point lower than that of the bonding layer 372.
  • Step S140 Next, the assembly after heat treatment, that is, the joined body 372 is taken out from the vacuum chamber. As a result, the temperature of the bonded body 372 is lowered, and vacuum multilayer glass is obtained. Note that the temperature of the bonded body 372 may be lowered in a vacuum chamber.
  • Step S150 A vacuum double-glazed glass can be manufactured by the process up to step S140.
  • the joined body 372 obtained after step S140 includes a solidified product 377 formed by melting and solidifying the spacer material 375. Such a solidified product 377 may impair the appearance of the vacuum multilayer glass.
  • an optional step of removing the solidified product 377 may be performed on the joined body 372 obtained after step S140.
  • the solidified product 377 is removed by cutting the joined body 372.
  • FIG. 11 schematically shows a process for removing the solidified product 377 from the joined body 372 by cutting the joined body 372.
  • both glass substrates 310 and 320 are stacked while maintaining a reduced pressure space between the first glass substrate 310 and the second glass substrate 320. be able to.
  • the manufacturing method according to an embodiment of the present invention it is not necessary to perform a process of sealing the sealed space as in the conventional method after the decompression process is performed on the sealed space. It becomes possible to manufacture layer glass. Thereby, in the manufacturing method by one Example of this invention, the production efficiency of a vacuum double-glazed glass can be improved.
  • the manufacturing method according to one embodiment of the present invention has been described above by taking the vacuum double-layer glass having the configuration as shown in FIG. 1 as an example.
  • the above description is merely an example, and the manufacturing method according to the present invention is not limited thereto.
  • an assembly 370 as shown in FIGS. 4 and 5 is prepared in step S110.
  • the configuration of the assembly 370 is not limited to this.
  • FIG. 12 schematically shows a cross-sectional view of another assembly that can be used in the manufacturing method according to an embodiment of the present invention.
  • the assembly 470 basically has the same configuration as the assembly 370 shown in FIG. Therefore, in the assembly 470 in FIG. 12, the same reference numerals as those in the assembly 370 shown in FIG.
  • the assembly 470 is characterized in that the metal foil 480 is disposed at a position in contact with the first glass substrate 410 of the spacer material 475.
  • the metal foil 480 is selected from materials that do not adhere to the first glass substrate 410 in step S130.
  • the metal foil 480 is disposed between the spacer material 475 and the first glass substrate 410 as in the assembly 470, the spacer material 475 is melted and softened in the subsequent step S130.
  • the presence of the metal foil 480 prevents the first glass substrate 410 and the spacer material 475 from being fixed. For this reason, the first glass substrate 410 is less likely to be restrained with respect to the second glass substrate 420, and deformation and damage of the assembly 470 can be suppressed.
  • the configuration of the seal member is not limited to this.
  • the seal structure may be composed of a metal member and first and second bonding layers.
  • such a seal structure will be briefly described with reference to FIG.
  • FIG. 13 shows a schematic partial cross-sectional view of another sealing member that can be applied to a vacuum double-glazed glass.
  • this vacuum double-glazed glass 500 includes a first glass substrate 510, a second glass substrate 520, a sealed space 530 formed between both glass substrates 510 and 520, and the sealed And a seal member 550 surrounding the space 530.
  • the first bonding layer 565 is installed in a frame shape around the first glass substrate 510 on the first surface 512 side of the first glass substrate 510.
  • the second bonding layer 567 is provided in a frame shape over the periphery of the second glass substrate 520 on the third surface 522 side of the second glass substrate 520.
  • the metal member 558 has a first surface 561 and a second surface 562, and has a frame shape.
  • the first surface 561 of the metal member 558 is at least partially bonded to the first bonding layer 565, and the second surface 562 of the metal member 558 is bonded at least partially to the second bonding layer 567. Has been.
  • the vacuum multilayer glass sealing member 550 may have such a configuration.
  • the vacuum double-glazed glass 500 having such a sealing member 550 is basically the same by performing the steps shown in FIG. 2 for manufacturing the vacuum double-glazed glass 100 shown in FIG. Can be manufactured.
  • the second manufacturing method is (A) A step of placing an assembly having a bonding layer and an open space between a first glass substrate and a second glass substrate on a transport table, wherein the bonding layer includes the first glass substrate and the second glass substrate.
  • step S210 An open space forming step (step S210);
  • step S220 A vacuum chamber transfer step (step S220) for transferring the assembly into a vacuum chamber under a vacuum environment in which a support release member is installed by the transfer stage;
  • step S220 A vacuum chamber transfer step for transferring the assembly into a vacuum chamber under a vacuum environment in which a support release member is installed by the transfer stage;
  • step S220 A vacuum chamber transfer step for transferring the assembly into a vacuum chamber under a vacuum environment in which a support release member is installed by the transfer stage;
  • step S220 A vacuum chamber transfer step for transferring the assembly into a vacuum chamber under a vacuum environment in which a support release member is installed by the transfer stage;
  • step S220 A vacuum chamber transfer step for transferring the assembly into a vacuum chamber under a vacuum environment in which a support release member is installed by the transfer stage;
  • step S220 A vacuum chamber transfer step for transferring the assembly into a vacuum chamber under a vacuum environment in which a support release member is
  • a sealed space forming step in which a sealed space surrounded by the bonding layer is formed between the first glass substrate and the second glass substrate by contacting with the first glass substrate;
  • a vacuum chamber discharging step step S240 for discharging the assembly from the vacuum chamber by the transfer table;
  • the first glass substrate 1310 containing the paste is dried.
  • the conditions for the drying treatment are not particularly limited as long as the organic binder in the paste is removed.
  • the drying process may be performed, for example, by holding the first glass substrate 1310 at a temperature of 100 ° C. to 200 ° C. for about 30 minutes to 1 hour.
  • FIG. 16 and 17 schematically show a configuration example of the assembly 1370.
  • FIG. FIG. 16 shows a schematic cross-sectional view of assembly 1370
  • FIG. 17 shows a schematic top view of assembly 1370.
  • the second glass substrate 1320 is omitted for the sake of clarity.
  • a support member 1372 is disposed between the glass substrates 1310 and 1320, and thus an open space 1329 is formed between the glass substrates 1310 and 1320.
  • the second glass substrate 1320 is stacked before the second glass substrate 1320 is laminated in this step.
  • a plurality of pillars may be arranged on the first surface 1312 of one glass substrate 1310.
  • the support member 1372 has a base portion 1374 and a support portion 1376, and a slope 1378 is formed on the upper portion of the base portion 1374.
  • the support portion 1376 is formed on the side portion of the base portion 1374 so as to extend in a substantially horizontal direction.
  • the inclined surface 1378 is formed on the upper portion of the base portion 1374 so as to be inclined toward the support portion 1376 (so that the height is reduced).
  • the support member 1372 causes the second glass substrate 1320 to “float” from the first glass substrate 1310 by bringing the upper surface of the support portion 1376 into contact with the third surface 1322 of the second glass substrate 1320. Can be supported.
  • Such an assembly 1370 including the support member 1372 is placed on the carrier 1380.
  • the transfer table 1380 can move in a substantially horizontal direction (direction of arrow F ⁇ b> 1) with respect to the XY plane (installation surface of the assembly 1370). For this reason, the assembly 1370 on the conveyance stand 1380 can also move in the direction of the arrow F1.
  • the transfer table 1380 may extend to the inside of the vacuum chamber, the outlet of the vacuum chamber, and the outside thereof, for example.
  • the assembly 1370 has a single support member 1372, and the base 1374 of the support member 1372 is outside the first glass substrate 1310, and The glass substrate 1310 is disposed in the vicinity of one side 1316a (see FIG. 17). Further, the base 1374 of the support member 1372 is disposed near the center of the side 1316a.
  • the number and arrangement location of the support members 1372 are not particularly limited.
  • a plurality of support members 1372 may exist.
  • FIG. 18 shows an example of another arrangement form of the support member 1372. This figure shows a schematic top view of the assembly. Note that as in FIG. 17, the second glass substrate 1320 is also omitted in FIG. 18 for clarity.
  • the assembly 1370a has two support members 11372-1 and 1372-2.
  • the bases of these support members 11372-1 and 1372-2 are outside the first glass substrate 1310 and in the vicinity of both ends of one side 1316 a of the first glass substrate 1310 (near two adjacent corner portions). ).
  • the shape of the base 1374 of the support member 1372 is not particularly limited.
  • the base 1374 of the support member 1372 may have a stretching axis in the height direction (Z direction) as shown in FIGS.
  • the support portion 1376 of the support member 1372 is installed at a position higher in the height direction than the bonding layer 1356 on the base portion 1374 so that at least the closest bonding layer 1356 portion does not contact the second glass substrate 1320. It only has to be installed.
  • the state of the upper second glass substrate 1320 is unstable, and the position may be shifted during handling.
  • a stop member that restrains the movement of the second glass substrate 1320 may be provided around the second glass substrate 1320.
  • the second glass substrate 1320 may be temporarily fixed to the first glass substrate 1310.
  • stop members and temporary fastening methods are well known in the art and will not be described further here.
  • Step S220 Next, the assembly 1370 configured in the above-described process is transported by the transport base 1380, and the assembly 1370 is inserted into the vacuum chamber.
  • the conveyance speed of the assembly 1370 is not particularly limited.
  • the assembly 1370 may be preheated before being inserted into the vacuum chamber.
  • the inside of the vacuum chamber is maintained in a reduced pressure environment.
  • the pressure in the vacuum chamber may be in the range of 1 ⁇ 10 ⁇ 5 Pa to 10 Pa, for example.
  • the pressure in the vacuum chamber is 0.1 Pa or less.
  • Step S230 The assembly 1370 is heated in a vacuum chamber and decompressed.
  • the inside of the vacuum chamber may be maintained at a high temperature and the entire assembly 1370 may be heated, or the assembly 1370 may be heated while being transported through the vacuum chamber. Further, the entire assembly 1370 may be heated or locally heated, and the heating temperature may be 150 ° C. or higher.
  • the heating temperature may be lower than the lower softening point of the softening point of the first glass substrate 1310 and the softening point of the second glass substrate 1320.
  • the support release member provided in the vacuum chamber, the maintenance of the open space 1329 by the support member 1372 is released. That is, the support release function causes the support member 1372 to lose its support function. As a result, the second glass substrate 1320 falls on the first glass substrate 1310. Accordingly, the bonding layer 1356 comes into contact with the second glass substrate 1320 over the entire circumference. As a result, the open space 1329 of the assembly 1370 becomes a sealed space whose periphery is covered with the bonding layer 1356.
  • the support member 1372 moves by a certain distance or more, the support portion 1376 of the support member 1372 can no longer support the second glass substrate 1320. Therefore, the support of the second glass substrate 1320 by the support member 1372 is released. As a result, the second glass substrate 1320 falls on the first glass substrate 1310.
  • the bonded body 1390 is required. Accordingly, a pressing pressure may be applied from the second glass substrate 1320 side. Accordingly, the bonding layer 1356 is uniformly distributed over the periphery of the bonded body 1390, and better bonding can be obtained between the first glass substrate 1310 and the second glass substrate 1320.
  • the vacuum double-glazed glass 100 as shown in FIG. 1 can be manufactured.
  • a simple support release member installed on the vacuum chamber side such as the rod member 1389, is used without using a complicated drive system, and the first support member 1372 is used.
  • the support of the second glass substrate 1320 can be released. For this reason, the structure of manufacturing equipment can be simplified.
  • the seal member may have a configuration as shown in FIG.
  • the vacuum double-glazed glass 500 having such a sealing member 550 can be basically manufactured in the same manner by performing each step shown in FIG.
  • the rod member 1389 that can be expanded and contracted in the vertical direction is given, and the support member 1372 supports the second glass substrate 1320 by the pressing force from above the rod member 1389.
  • the support member 1372 supports the second glass substrate 1320 by the pressing force from above the rod member 1389.
  • Another configuration may be used as a combination of the support member and the support release member.
  • FIG. 20 schematically shows a cross section of another assembly having a support member different from the example of FIG.
  • FIG. 21 schematically shows a state where the support function of the support member is lost in this other assembly.
  • the assembly 1470 includes a first glass substrate 1410, a second glass substrate 1420, and a support member 1472.
  • the first glass substrate 1410 has a first surface 1412 and a second surface 1414, and the second glass substrate 1420 has a third surface 1422 and a fourth surface 1424.
  • a bonding layer 1456 is formed on the first surface 1412 of the first glass substrate 1410.
  • the support member 1472 includes a base 1474 and a support 1476 extending in the horizontal direction from the side surface of the base 1474.
  • the support portion 1476 has a rotation shaft 1477 that can rotate within the XZ plane when receiving a predetermined load from above.
  • the rotating shaft 1477 extends in a direction (Y direction) perpendicular to the paper surface of FIG.
  • rotation shaft 1477 of the support member 1472 is set so that the support portion 1476 does not rotate with the weight of the second glass substrate 1420.
  • a rod member 1489 is provided as a support releasing member at the upper portion of the vacuum chamber.
  • the rod member 1489 can extend toward the support portion 1476 of the support member 1472.
  • the rod member 1489 descends from the upper part of the vacuum chamber. Thereby, the tip of the rod member 1489 comes into contact with the support portion 1476 of the support member 1472.
  • the support portion 1476 rotates more than a certain angle, the support portion 1476 can no longer support the second glass substrate 1420. Therefore, the support of the second glass substrate 1420 by the support member 1472 is released. Thereby, the second glass substrate 1420 falls on the first glass substrate 1410. Note that the second glass substrate 1420 is supported with a large inclination in the drawing, but this is exaggerated for the sake of explanation. Actually, the second glass substrate 1420 is the first glass. When superposed on the substrate 1410, it is dropped from a height that does not cause misalignment or damage.
  • the open space 1429 of the assembly 1470 is lost, and a sealed space 1430 can be formed between the first glass substrate 1410 and the second glass substrate 1420.
  • 22 and 23 schematically show an example of still another combination of a support member and a support release member.
  • FIG. 22 schematically shows a cross section of still another assembly having a support member different from the examples of FIGS. 16 and 20.
  • FIG. 23 schematically shows a state where the support function by the support member is lost in this assembly.
  • FIG. 23 is a schematic top view of the assembly, but some members are omitted for clarity.
  • the first glass substrate 1510 has a first surface 1512 and a second surface 1514, and the second glass substrate 1520 has a third surface 1522 and a fourth surface 1524.
  • a bonding layer 1556 is formed on the first surface 1512 of the first glass substrate 1510.
  • a rod member 1589 is provided as a support releasing member at the upper portion of the vacuum chamber.
  • the rod member 1589 extends downward from the upper part of the vacuum chamber. The distal end of the rod member 1589 does not reach the transfer table 1580.
  • the rod member 1589 has a fixed position and is non-movable.
  • the assembly 1570 on the carrier 1580 advances in the direction of the arrow F4 (Y direction) in FIG.
  • the support portion 1576 of the support member 1572 contacts the rod member 1589.
  • the assembly 1570 is further advanced in the direction of arrow F4 by the carrier 1580.
  • the support portion 1576 rotates in the direction of the arrow F5 about the rotation shaft 1577 by the force from the rod member 1589.
  • the open space 1529 of the assembly 1570 is lost, and a sealed space can be formed between the first glass substrate 1510 and the second glass substrate 1520.

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Abstract

　第１および第２のガラス基板の間に、接合層およびスペーサ材を有する組立体を構成するステップであって、前記接合層は、第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記スペーサ材により、両ガラス基板の間に開放空間が形成されるステップと、前記組立体を、減圧環境にされた真空チャンバ内に導入するステップと、前記真空チャンバ内で、加熱により前記スペーサ材を溶融または軟化させるステップであって、これにより前記スペーサ材が押し潰され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触し、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、前記組立体を、前記真空チャンバから排出するステップと、を有する真空複層ガラスの製造方法。

Description

真空複層ガラスの製造方法
　本発明は、真空複層ガラスの製造方法に関する。
　一対のガラス基板の間に、低圧または真空状態に保持された密閉空間を有する、いわゆる「真空複層ガラス」は、優れた断熱効果を有するため、例えばビルおよび住宅等の建築物用の窓ガラス用途に広く利用されている。
　真空複層ガラスは、以下のように製造される。まず、第１のガラス基板と、第２のガラス基板とを準備する。一方のガラス基板の表面には、周囲に沿って、接合層が形成されている。次に、第１および第２のガラス基板を、両者が接合層を介して対向するように積層して、組立体を構成する。次に、この組立体を加熱して、接合層を溶融、軟化させ、両ガラス基板を接合する。これにより、両ガラス基板の間に、接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成される。次に、第１のガラス基板に予め設けられていた開口を利用して、密閉空間内が減圧処理される。その後、減圧処理に利用された開口が封止され、真空複層ガラスが製造される（特許文献１）。
特開平１０－２１６１号公報
　前述のように、従来の真空複層ガラスの製造方法では、ガラス基板に設けられた開口を利用して、組立体の密閉空間内を減圧処理する工程、および開口を封止処理する工程が含まれる。
　しかしながら、真空複層ガラスの製造過程にこのような工程が含まれると、真空複層ガラスの生産効率が大きく低下してしまうという問題がある。これは、従来の開口を利用して組立体の密閉空間内を減圧処理し、その後開口を封止処理する工程は、いわゆる「バッチ方式」では実施できるものの、生産ライン等において、流れ作業的に実施することには適していないためである。従って、生産効率の観点から、真空複層ガラスをより効率的に製造する技術に関して、大きな要望がある。
　本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、真空複層ガラスをより効率的に製造することが可能な、真空複層ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
　本発明では、相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、減圧された密閉空間を備える真空複層ガラスの製造方法であって、
　（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層およびスペーサ材を有する組立体を構成するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記スペーサ材により、前記両ガラス基板の間に、開放空間が形成されるステップと、
　（ｂ）前記組立体を、減圧環境にされた真空チャンバ内に導入するステップと、
　（ｃ）前記真空チャンバ内で、加熱により前記スペーサ材を溶融または軟化させるステップであって、これにより前記スペーサ材が押し潰され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触し、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、
　（ｄ）前記組立体を、前記真空チャンバから排出するステップと、
　を有することを特徴とする製造方法が提供される。
　また、本発明では、相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、減圧された密閉空間を備える真空複層ガラスの製造方法であって、
　（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台上に置載するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持されるステップと、
　（ｂ）前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送するステップと、
　（ｃ）前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触することによって、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、
　（ｄ）前記搬送台により、前記組立体を、前記真空チャンバから排出させるステップと、
　を有することを特徴とする真空複層ガラスの製造方法が提供される。
　本発明では、真空複層ガラスをより効率的に製造することが可能な、真空複層ガラスの製造方法を提供することができる。
真空複層ガラスの構成の一例を模式的に示した断面図である。 本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法を概略的に示したフロー図である。 組立体に使用される第１のガラス基板および第２のガラス基板を模式的に示した図である。 組立体の断面を模式的に示した図である。 図４に示した組立体の概略的な上面図である。 スペーサ材の配置形態の例を模式的に示した組立体の上面図である。 スペーサ材の配置形態の例を模式的に示した組立体の上面図である。 スペーサ材の配置形態の例を模式的に示した組立体の上面図である。 スペーサ材の配置形態の例を模式的に示した組立体の上面図である。 組立体の熱処理によって得られる接合体の一構成例を模式的に示した断面図である。 接合体から凝固物を除去する際の切断位置を模式的に示した図である。 本発明の一実施例による製造方法において使用され得る、別の組立体の断面を模式的に示した図である。 別のシール部材を有する真空複層ガラスの概略的な部分断面図である。 本発明の別の実施形態による真空複層ガラスの製造方法を概略的に示したフロー図である。 組立体に使用される第１のガラス基板および第２のガラス基板を模式的に示した図である。 組立体の断面を模式的に示した図である。 図１６に示した組立体の概略的な上面図である。 支持部材の別の配置形態例を模式的に示した組立体の上面図である。 真空チャンバ内に設けられた支持解除部材によって、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示した断面図である。 図１６の例とは異なる支持部材を有する別の組立体の断面を模式的に示した図である。 図２０に示した組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示した図である。 図１６および図２０の例とは異なる支持部材を有する、さらに別の組立体の断面を模式的に示した図である。 図２２に示した組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示した図である。
　以下、図面を参照して、本発明について説明する。
　（真空複層ガラスの構成について）
　まず、図１を参照して、真空複層ガラスの構成の一例について、簡単に説明する。
　図１には、真空複層ガラスの構成の一例を概略的に示す。
　図１に示すように、真空複層ガラス１００は、第１のガラス基板１１０と、第２のガラス基板１２０と、両ガラス基板１１０、１２０の間に構成された密閉空間１３０と、該密閉空間１３０を取り囲むシール部材１５０とを有する。
　第１のガラス基板１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有する。真空複層ガラス１００において、第１のガラス基板１１０は、第２の表面１１４の側が外側となるようにして配置される。同様に、第２のガラス基板１２０は、第３の表面１２２および第４の表面１２４を有する。真空複層ガラス１００において、第２のガラス基板１２０は、第４の表面１２４の側が外側となるようにして配置される。従って、密閉空間１３０は、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２と、第２のガラス基板１２０の第３の表面１２２との間に形成される。
　密閉空間１３０内は、真空状態に維持される。ここで、密閉空間１３０の真空度は、特に限られず、大気圧よりも低いいかなる圧力であっても良い。一般に、密閉空間１３０の圧力は、０．２Ｐａ～０．００１Ｐａ程度である。
　必要な場合、真空複層ガラス１００は、密閉空間１３０内に、１または２以上のピラー（図示されていない）を有しても良い。
　シール部材１５０は、密閉空間１３０内を減圧状態に維持するための部材であり、シール部材１５０は、密閉空間１３０の周囲全体にわたって構成される。
　シール部材１５０の構成としては、従来より各種構造のものが提案されている。例えば、図１の例では、シール部材１５０は、単一の接合層１５５で構成されている。この接合層１５５は、真空複層ガラス１００を厚さ方向（Ｚ方向）から見たとき、第１または第２のガラス基板１１０、１２０の周囲にわたって、「額縁状」に設置されている。
　なお、本願において、「額縁状」という用語は、平面視において、平板形状の内部が取り除かれ、外側輪郭および内側輪郭を有する「枠」で構成された形状の総称を意味する。すなわち、真空複層ガラス１００の周囲に沿って形成されることを意味している。ただし、「額縁状」の部材の外側輪郭および／または内側輪郭は、必ずしも額のような略直方体の形状に限られず、例えば、四角形、略四角形、台形、略台形などの多角形、円形、略円形、楕円形または略楕円形の形状であっても良い。また、「額縁状」の部材の外側輪郭と内側輪郭は、必ずしも相似形である必要はなく、両者は、例えば、異なる形状であっても良い。
　接合層１５５は、熱処理によって、第１および第２のガラス基板１１０、１２０を相互に接合することができるものであれば、その材質および構成は、特に限られない。例えば、接合層１５５は、ガラス固化層（軟化点３５０～６００℃）であっても良い。
　ガラス固化層は、ガラスフリットを含むペーストを焼成することにより形成される。ガラス固化層は、ガラス成分を含むが、さらにセラミック粒子を含んでも良い。
　ガラス固化層に含まれるガラス成分の組成は、特に限られない。ガラス固化層に含まれるガラス成分は、例えば、ＺｎＯ－Ｂｉ２Ｏ３－Ｂ２Ｏ３系またはＺｎＯ－ＳｎＯ－Ｐ２Ｏ５系のガラスであっても良い。
　表１には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ－Ｂｉ２Ｏ３－Ｂ２Ｏ３系のガラスの組成の一例を示す。また、表２には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ－ＳｎＯ－Ｐ２Ｏ５系のガラスの組成の一例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　あるいは、接合層１５５は、ろう材またははんだ材料を含んでも良い。
　さらに、図１の例では、接合層１５５の断面は、コーナー部が丸みを帯びた略矩形状の形状で示されている。しかしながら、これは、単なる一例に過ぎず、接合層１５５の断面は、例えば、略楕円形、略台形など、その他の形状を有しても良い。
　（本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法について）
　以下、図２を参照して、本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法について、詳しく説明する。
　図２には、本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）のフローを概略的に示す。
　図２に示すように、この製造方法は、
　（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層およびスペーサ材を有する組立体を構成するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記スペーサ材により、前記両ガラス基板の間に、開放空間が形成される、開放空間形成ステップ（ステップＳ１１０）と、
　（ｂ）前記組立体を、減圧環境にされた真空チャンバ内に導入する、真空チャンバ導入ステップ（ステップＳ１２０）と、
　（ｃ）前記真空チャンバ内で、加熱により前記スペーサ材を溶融または軟化させるステップであって、これにより前記スペーサ材が押し潰され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触し、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成される、密閉空間形成ステップ（ステップＳ１３０）と、
　（ｄ）前記組立体を、前記真空チャンバから排出する、真空チャンバ排出ステップ（ステップＳ１４０）と、
　（ｅ）前記組立体において、前記スペーサ材が配置された部分を除去する、スペーサ材除去ステップ（ステップＳ１５０）と、
　を有する。
　ただし、ステップＳ１５０は、任意に実施される工程であり、必ずしも必要ではない。以下、各工程について、詳しく説明する。
　（ステップＳ１１０）
　まず、第１のガラス基板および第２のガラス基板が準備される。両ガラス基板の材質および寸法は、特に限られない。例えば、両ガラス基板は、ソーダライムガラスおよび／または無アルカリガラス等であっても良い。なお、両ガラス基板の材質および寸法は、必ずしも同一である必要はない。
　（接合層の形成）
　次に、第１のガラス基板の一方の表面、および／または第２のガラス基板の一方の表面に、周囲にわたって、額縁状に接合層が形成される。以下の例では、第１のガラス基板の一方の表面（第１の表面）にのみ、接合層が形成されるものと仮定する。
　図３には、第１および第２の表面３１２、３１４を有する第１のガラス基板３１０と、第３および第４の表面３２２、３２４を有する第２のガラス基板３２０とを示す。第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２には、接合層３５６が額縁上に形成されている。
　前述のように、接合層３５６の材質は、特に限られないが、ここでは、接合層３５６がガラス固化層で形成される場合を例に、第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２に接合層３５６を形成する方法について説明する。
　第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２の周囲に、ガラス固化層３５６を形成する場合、まず、ガラス固化層用のペーストが調製される。通常、ペーストは、ガラスフリット、セラミック粒子、ポリマー、および有機バインダ等を含む。ただし、セラミック粒子は、省略しても良い。ガラスフリットは、最終的に、ガラス固化層３５６を構成するガラス成分となる。
　調製されたペーストは、第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２の周囲に塗布される。
　次に、ペーストを含む第１のガラス基板３１０が乾燥処理される。乾燥処理の条件は、ペースト中の有機バインダが除去される条件である限り、特に限られない。乾燥処理は、例えば、第１のガラス基板３１０を、１００℃～２００℃の温度に、３０分～１時間程度保持することにより実施されても良い。
　次に、ペーストを仮焼成するため、第１のガラス基板３１０が高温で熱処理される。熱処理の条件は、ペースト中に含まれるポリマーが除去される条件である限り、特に限られない。熱処理は、例えば３００℃～４７０℃の温度範囲に、第１のガラス基板３１０を３０分～１時間程度保持することにより実施しても良い。これにより、ペーストが焼成され、ガラス固化層が形成される。
　（組立体の形成）
　次に、第１のガラス基板３１０および第２のガラス基板３２０の間にスペーサ材が配置され、組立体が構成される。
　図４および図５には、組立体３７０の一構成例を概略的に示す。図４は、組立体３７０の概略的な断面図を示しており、図５は、組立体３７０の概略的な上面図を示している。なお、図５において、第２のガラス基板３２０は、明確化のため省略されている。
　図４および図５に示すように、組立体３７０は、第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２と、第２のガラス基板３２０の第３の表面３２２とが相互に対向するようにして、両ガラス基板３１０、３２０を相互に積層することにより構成される。
　ただし、両ガラス基板３１０、３２０の間には、スペーサ材３７５が配置されており、このため、両ガラス基板３１０、３２０の間には、開放空間３２９が形成される。
　より具体的には、スペーサ材３７５の存在により、接合層３５６の少なくとも一部は、第２のガラス基板３２０の第３の表面３２２と非接触な状態となり、これにより、組立体３７０を上面（図のＺ方向）から見たとき、接合層３５６で取り囲まれた領域と、その外側の領域の間で、気体連通が可能となる。
　また、真空複層ガラス１００として、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０との間隔を保持するピラーを配置する場合、このステップで第２のガラス基板３２０が積層される前に第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２に複数のピラーを配置すると良い。
　なお、図４および図５の例では、組立体３７０は、単一のスペーサ材３７５を有し、このスペーサ材３７５は、接合層３５６の外側であって、第１のガラス基板３１０の一つの辺３１６ａの近傍に配置されている。また、スペーサ材３７５は、辺３１６ａの中央近傍に配置されている。
　しかしながら、これは単なる一例に過ぎない。すなわち、第１および第２のガラス基板３１０、３２０の間に開放空間３２９が形成される限り、スペーサ材３７５の数および配置場所は、特に限られない。例えば、スペーサ材３７５は、複数存在しても良い。また、１または２以上のスペーサ材３７５は、図４のＺ方向から見たとき、接合層３５６よりも内側に配置されても良い。
　図６～図９には、スペーサ材３７５の別の配置形態の例を示す。これらの図は、組立体の概略的な上面図を示したものである。なお、図５の場合と同様、これらの図においても、第２のガラス基板３２０は、明確化のため省略されている。
　図６の例では、組立体３７０ａは、２つのスペーサ材３７５－１、３７５－２を有する。これらのスペーサ材３７５－１、３７５－２は、接合層３５６の外側であって、第１のガラス基板３１０の一つの辺３１６ａの両端近傍（隣接する２つのコーナー部の近傍）に配置されている。
　また、図７の例では、組立体３７０ｂは、３つのスペーサ材３７５－１、３７５－２、３７５－３を有する。２つのスペーサ材３７５－１、３７５－２は、図６の場合と同様、接合層３５６の外側であって、第１のガラス基板３１０の一つの辺３１６ａの両端近傍（隣接する２つのコーナー部の近傍）に配置されている。第３のスペーサ材３７５－３は、スペーサ材３７５－１、３７５－２が配置された辺３１６ａと対向する辺３１６ｃの近傍であって、辺３１６ｃの中央近傍に配置されている。
　また、図８の例では、組立体３７０ｃは、４つのスペーサ材３７５－１、３７５－２、３７５－３、３７５－４を有する。２つのスペーサ材３７５－１、３７５－２は、接合層３５６の外側であって、第１のガラス基板３１０の一つの辺３１６ａの両端近傍（隣接する２つのコーナー部の近傍）に配置されている。残りの２つのスペーサ材３７５－３、３７５－４は、接合層３５６の外側であって、辺３１６ａに対向する辺３１６ｃの両端近傍（隣接する２つのコーナー部の近傍）に配置されている。
　さらに、スペーサ材３７５の形状は、特に限られない。例えば、スペーサ材３７５は、図５～図８に示すような、高さ方向（Ｚ方向）に延伸軸を有する略円柱状の形状の他、略円錐台形状、略球形状、または略直方体状等の形状を有しても良い。スペーサ材３７５は、接合層３５６よりも高さ方向で大きく、少なくとも最近接の接合層３５６部分が第２のガラス基板３２０に接触しない高さを有していれば良い。
　また、例えば、図９の例では、組立体３７０ｄは、単一のスペーサ材３７５－ａを有し、このスペーサ材３７５－ａは、図５の場合と同様の位置に配置されている。ただし、このスペーサ材３７５－ａは、高さ方向（Ｚ方向）に延伸軸を有する略円柱状の形状の代わりに、水平方向（図のＹ方向）に延在する略直方体状の形状を有する。
　この他にも、スペーサ材３７５の数、形状、および配置形態として、様々な態様が考えられる。
　ここで、スペーサ材３７５は、高温環境下で溶融、軟化し、厚さ（高さ）が減少する材料で構成される。例えば、スペーサ材３７５は、ガラス固化層、はんだ、およびろう材等で構成されても良い。
　なお、図４に示したような組立体３７０の構成では、上側の第２のガラス基板３２０の状態が不安定であり、ハンドリング中に位置がずれる可能性がある。そのような場合には、第２のガラス基板３２０の周囲に、第２のガラス基板３２０の動きを拘束するような停止部材を設けても良い。あるいは、第２のガラス基板３２０を第１のガラス基板３１０と仮留めしても良い。そのような停止部材および仮留め方法は、従来から広く知られており、ここではこれ以上説明しない。
　（ステップＳ１２０）
　次に、前述の工程で構成された組立体３７０が真空チャンバ内に設置される。この際には、搬送ベルト等を使用して、組立体３７０を真空チャンバ内に搬送しても良い。また、組立体３７０は、真空チャンバ内に設置する前に、予熱しておいても良い。
　真空チャンバ内は、減圧環境に維持されている。また、真空チャンバ内の圧力は、例えば、１×１０－５Ｐａ～１０Ｐａの範囲であっても良い。好ましくは、真空チャンバ内の圧力は、０．１Ｐａ以下である。
　（ステップＳ１３０）
　真空チャンバ内に導入された組立体３７０は、加熱され減圧処理される。例えば、真空チャンバ内が高温に維持され、組立体３７０全体が加熱されても良く、真空チャンバ内を組立体３７０が搬送されながら加熱されて良い。また、組立体３７０は、全体が加熱されても、局所的に加熱されても良く、加熱温度は、１５０℃以上であって良い。また、加熱温度は、第１のガラス基板３１０の軟化点と、第２のガラス基板３２０の軟化点のうち、低い方の軟化点よりも低い温度であっても良い。
　これにより、組立体３７０中のスペーサ材３７５が溶融、軟化する。その結果、スペーサ材３７５は、上部の第２のガラス基板３２０をもはや支持することができなくなり、スペーサ材３７５の高さが減少する。また、これにより、接合層３５６は、全周にわたって第２のガラス基板３２０と接触するようになる。その結果、組立体３７０の開放空間３２９が、接合層３５６で取り囲まれた密閉空間となる。
　また、組立体３７０中のスペーサ材３７５が溶融、軟化した状態において、真空チャンバ内に設けられた押圧手段によって、第２のガラス基板３２０を下方に押圧して、スペーサ材３７５を押し潰して、スペーサ材３７５の高さを減少させても良い。
　図１０には、組立体３７０の開放空間３２９が失われ、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０の間に、密閉空間３３０が形成された状態を模式的に示す。この状態では、スペーサ材３７５は、高さが減少した溶融物３７５’に変化している。
　ここで、組立体３７０中の接合層３５６は、加熱によって、溶融、軟化した状態にある。このため、接合層３５６が全周にわたって第２のガラス基板３２０と接触した際には、接合層３５６によって、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板が接合され、接合体３７２が構成される。
　スペーサ材３７５が溶融、軟化した状態のときに、接合層３５６も溶融、軟化した状態であることが好ましい。すなわち、スペーサ材３７５が押し潰されたと同時に第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板で形成される密閉空間３３０のシールが完了する。そのため、スペーサ材３７５は接合層３７２と同じ材料であっても良い。
　なお、接合層３５６が全周にわたって第２のガラス基板３２０と接触した際に、接合層３５６が溶融、軟化している必要はなく、その後、加熱より接合層３５６を溶融、軟化させ、接合層３５６によって、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板が接合され、接合体３７２が構成させても良い。その場合、スペーサ材３７５は接合層３７２よりも軟化点の低い材料であることが好ましい。
　また、真空チャンバ内は、減圧環境になっており、このため、第２のガラス基板３２０が接合層３５６と全周にわたって接触する直前には、開放空間３２９は、既に減圧状態となっている。従って、開放空間３２９の周囲が接合層３５６によって取り囲まれて形成される密閉空間３３０も、同様に減圧状態とすることができる。
　（ステップＳ１４０）
　次に、真空チャンバから熱処理後の組立体、すなわち接合体３７２が取り出される。これにより、接合体３７２が降温され、真空複層ガラスが得られる。なお、接合体３７２の降温は、真空チャンバ内で実施しても良い。
　（ステップＳ１５０）
　ステップＳ１４０までの工程により、真空複層ガラスを製造することができる。しかしながら、ステップＳ１４０後に得られる接合体３７２は、スペーサ材３７５が溶融凝固して形成された凝固物３７７を含んでいる。このような凝固物３７７は、真空複層ガラスの見栄えを損なうおそれがある。
　そこで、ステップＳ１４０後に得られた接合体３７２に対して、任意で、凝固物３７７を除去する工程を実施しても良い。
　例えば、凝固物３７７は、接合体３７２を切断することにより除去される。
　図１１には、接合体３７２を切断することにより、接合体３７２から凝固物３７７を除去する際の工程を模式的に示す。
　この工程では、図１１に示すように、接合層３５６と凝固物３７７との間、すなわち直線Ｌに沿って、接合体３７２を厚さ方向に切断することにより、接合体３７２から凝固物３７７を除去することができる。また、これにより、凝固物３７７を有さない接合体３７２、すなわち真空複層ガラスを製造することができる。
　このように、本発明の一実施例による製造方法では、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０の間に、減圧された空間を維持したまま、両ガラス基板３１０、３２０を積層することができる。
　従って、本発明の一実施例による製造方法では、従来のような密閉空間を減圧処理してから、減圧処理用の開口を封止する工程が必要ではなくなり、より効率的な方法で、真空複層ガラスを製造することが可能となる。また、これにより、本発明の一実施例による製造方法では、真空複層ガラスの生産効率を高めることができる。
　以上、図１に示したような構成を有する真空複層ガラスを例に、本発明の一実施例による製造方法について説明した。しかしながら、上記記載は、単なる一例に過ぎず、本発明による製造方法は、これらに限られないことに留意する必要がある。
　例えば、前述の製造方法では、ステップＳ１１０において、図４および図５に示したような組立体３７０が準備される。しかしながら、組立体３７０の構成は、これに限られない。
　図１２には、本発明の一実施例による製造方法において使用され得る、別の組立体の断面図を模式的に示す。
　図１２に示すように、この組立体４７０は、基本的に、前述の図４に示したような組立体３７０と同様の構成を有する。従って、図１２の組立体４７０において、図４に示した組立体３７０と同様の部材には、図４に示した参照符号に１００を加えた参照符号が記されている。
　ただし、この組立体４７０は、スペーサ材４７５の第１のガラス基板４１０と接する位置に、金属箔４８０が配置されているという特徴を有する。金属箔４８０は、ステップＳ１３０において、第１のガラス基板４１０に固着しないような材料から選定される。
　一般に、上下２枚のガラス基板を有する組立体を真空チャンバ内で加熱した場合、両ガラス基板間に温度差が生じ、これにより、両ガラス基板の膨脹の度合いに差異が生じ得る。このような状況の下で、スペーサ材を軟化、溶融させると、ガラス基板同士がスペーサ材によって固定化された際に、一方のガラス基板が他方のガラス基板の膨脹挙動に追随することが難しくなる可能性がある。また、これにより、ステップＳ１３０の際に、組立体４７０の変形や損傷が生じる可能性がある。
　しかしながら、組立体４７０のように、スペーサ材４７５と第１のガラス基板４１０との間に、このような金属箔４８０を配置した場合、その後のステップＳ１３０において、スペーサ材４７５が溶融、軟化しても、金属箔４８０の存在により、第１のガラス基板４１０とスペーサ材４７５とが固着されなくなる。このため、第１のガラス基板４１０は、第２のガラス基板４２０に対して拘束を受け難くなり、組立体４７０の変形や損傷を抑制することが可能になる。
　（シール部材の別の構成について）
　以上の記載では、真空複層ガラスのシール部材として、図１に示したような額縁状の接合層１５５を想定し、本発明の一実施例による製造方法について説明した。
　しかしながら、シール部材の構成は、これに限られるものではない。例えば、シール構造は、金属部材と、第１および第２の接合層とで構成されても良い。以下、図１３を参照して、そのようなシール構造について、簡単に説明する。
　図１３には、真空複層ガラスに適用され得る、別のシール部材の概略的な部分断面図を示す。
　図１３に示すように、この真空複層ガラス５００は、第１のガラス基板５１０と、第２のガラス基板５２０と、両ガラス基板５１０、５２０の間に構成された密閉空間５３０と、該密閉空間５３０を取り囲むシール部材５５０とを有する。
　シール部材５５０は、第１の接合層５６５、金属部材５５８、および第２の接合層５６７を、この順に積層することにより構成される。
　第１の接合層５６５は、第１のガラス基板５１０の第１の表面５１２側に、第１のガラス基板５１０の周囲にわたって、額縁状に設置されている。同様に、第２の接合層５６７は、第２のガラス基板５２０の第３の表面５２２側に、第２のガラス基板５２０の周囲にわたって、額縁状に設置されている。
　また、金属部材５５８は、第１の表面５６１および第２の表面５６２を有し、額縁状の形状を有する。金属部材５５８の第１の表面５６１は、少なくとも一部が第１の接合層５６５と結合されており、金属部材５５８の第２の表面５６２は、少なくとも一部が第２の接合層５６７と結合されている。
　ここで、図１３からは明確ではないが、金属部材５５８の第１の表面５６１は、第１の接合層５６５と結合された結合部分以外の箇所では、他の部材とは結合されておらず、金属部材５５８の第２の表面５６２は、第２の接合層５６７と結合された結合部分以外の箇所では、他の部材とは結合されていない。
　なお、図１３の例では、金属部材５５８は、断面で見たとき、直線的に折れ曲がった輪郭の「段差」形状を有する。しかしながら、金属部材５５８の形状は、特に限られない。例えば、金属部材５５８は、断面で見たとき、曲線的に湾曲した形状、または直線と曲線の組み合わせで構成された輪郭を有しても良い。あるいは、金属部材５５８は、断面で見たとき、略平坦な形状を有しても良い。
　また、図１３の例では、真空複層ガラス５００を上部（厚さ方向：図１３のＺ方向）から見たとき、第１の接合層５６５は、第２の接合層５６７とは設置位置がずれている。しかしながら、これは必ずしも必要ではなく、図１３のＺ方向から見たとき、第１の接合層５６５は、一部または全部が第２の接合層５６７と重なっていても良い。
　真空複層ガラスのシール部材５５０は、このような構成を有しても良い。
　このようなシール部材５５０を有する真空複層ガラス５００も、基本的に、前述の図１に示した真空複層ガラス１００の製造用の、図２に示した各ステップを実施することにより、同様に製造することができる。
　例えば、前述のステップＳ１１０において、まず、第１の表面３１２上に第１の接合層が配置された第１のガラス基板３１０と、第３の表面３２２上に第３の接合層が配置された第２のガラス基板３２０と、を準備する。また、両ガラス基板３１０、３２０の間に、額縁状の金属部材を配置する。また、両ガラス基板３１０、３２０の間に、開放空間３２９が形成されるようにスペーサ材３７５を配置して、組立体を構成する。その後は、前述のステップＳ１２０～ステップＳ１４０を実施することにより、図１３に示したようなシール部材５５０を有する真空複層ガラス５００を製造することができる。
　（本発明の別の実施例による真空複層ガラスの製造方法について）
　以下、図１４を参照して、本発明の別の実施例による真空複層ガラスの製造方法について、詳しく説明する。
　図１４には、本発明の別の実施例による真空複層ガラスの製造方法（以下、「第２の製造方法」と称する）のフローを概略的に示す。
　図１４に示すように、第２の製造方法は、
　（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台上に置載するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持される、開放空間形成ステップ（ステップＳ２１０）と、
　（ｂ）前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送する、真空チャンバ搬送ステップ（ステップＳ２２０）と、
　（ｃ）前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触することによって、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成される、密閉空間形成ステップ（ステップＳ２３０）と、
　（ｄ）前記搬送台により、前記組立体を、前記真空チャンバから排出させる、真空チャンバ排出ステップ（ステップＳ２４０）と、
　を有する。
　以下、各工程について、詳しく説明する。
　（ステップＳ２１０）
　まず、第１のガラス基板および第２のガラス基板が準備される。両ガラス基板の材質および寸法は、特に限られない。例えば、両ガラス基板は、ソーダライムガラスおよび／または無アルカリガラス等であっても良い。なお、両ガラス基板の材質および寸法は、必ずしも同一である必要はない。
　（接合層の形成）
　次に、第１のガラス基板の一方の表面、および／または第２のガラス基板の一方の表面に、周囲にわたって、額縁状に接合層が形成される。以下の例では、第１のガラス基板の一方の表面（第１の表面）にのみ、接合層が形成されるものと仮定する。
　図１５には、第１および第２の表面１３１２、１３１４を有する第１のガラス基板１３１０と、第３および第４の表面１３２２、１３２４を有する第２のガラス基板１３２０とを示す。第１のガラス基板１３１０の第１の表面１３１２には、接合層１３５６が額縁状に形成されている。
　前述のように、接合層１３５６の材質は、特に限られないが、ここでは、接合層１３５６がガラス固化層で形成される場合を例に、第１のガラス基板１３１０の第１の表面１３１２に接合層１３５６を形成する方法について説明する。
　第１のガラス基板１３１０の第１の表面１３１２の周囲に、ガラス固化層１３５６を形成する場合、まず、ガラス固化層用のペーストが調製される。通常、ペーストは、ガラスフリット、セラミック粒子、ポリマー、および有機バインダ等を含む。ただし、セラミック粒子は、省略しても良い。ガラスフリットは、最終的に、ガラス固化層１３５６を構成するガラス成分となる。
　調製されたペーストは、第１のガラス基板１３１０の第１の表面１３１２の周囲に塗布される。
　次に、ペーストを含む第１のガラス基板１３１０が乾燥処理される。乾燥処理の条件は、ペースト中の有機バインダが除去される条件である限り、特に限られない。乾燥処理は、例えば、第１のガラス基板１３１０を、１００℃～２００℃の温度に、３０分～１時間程度保持することにより実施されても良い。
　次に、ペーストを仮焼成するため、第１のガラス基板１３１０が高温で熱処理される。熱処理の条件は、ペースト中に含まれるポリマーが除去される条件である限り、特に限られない。熱処理は、例えば３００℃～４７０℃の温度範囲に、第１のガラス基板１３１０を３０分～１時間程度保持することにより実施しても良い。これにより、ペーストが焼成され、ガラス固化層が形成される。
　（組立体の形成）
　次に、第１のガラス基板１３１０および第２のガラス基板１３２０の間に開放空間を有する組立体が構成される。
　図１６および図１７には、組立体１３７０の一構成例を概略的に示す。図１６は、組立体１３７０の概略的な断面図を示しており、図１７は、組立体１３７０の概略的な上面図を示している。なお、図１７において、第２のガラス基板１３２０は、明確化のため省略されている。
　図１６および図１７に示すように、組立体１３７０は、第１のガラス基板１３１０の第１の表面１３１２と、第２のガラス基板１３２０の第３の表面１３２２とが相互に対向するようにして、両ガラス基板１３１０、１３２０を相互に積層することにより構成される。
　ただし、両ガラス基板１３１０、１３２０の間には、支持部材１３７２が配置されており、このため、両ガラス基板１３１０、１３２０の間には、開放空間１３２９が形成される。
　より具体的には、支持部材１３７２の存在により、接合層１３５６の少なくとも一部は、第２のガラス基板１３２０の第３の表面１３２２と非接触な状態となり、これにより、組立体１３７０を上面（図のＺ方向）から見たとき、接合層１３５６で取り囲まれた領域と、その外側の領域の間で、気体連通が可能となる。
　また、真空複層ガラス１００として、第１のガラス基板１３１０と第２のガラス基板１３２０との間隔を保持するピラーを配置する場合、このステップで第２のガラス基板１３２０が積層される前に第１のガラス基板１３１０の第１の表面１３１２に複数のピラーを配置すると良い。
　支持部材１３７２は、基部１３７４と、支持部１３７６とを有し、基部１３７４の上部には斜面１３７８が形成される。支持部１３７６は、基部１３７４の側部に、略水平な方向に延在するように形成される。また、斜面１３７８は、基部１３７４の上部に、支持部１３７６の方に向かって傾斜するように（高さが減少するように）形成される。
　支持部材１３７２は、支持部１３７６の上面を第２のガラス基板１３２０の第３の表面１３２２と接触させることにより、第２のガラス基板１３２０を、第１のガラス基板１３１０から「浮かした」状態で支持することができる。
　支持部材１３７２を含むこのような組立体１３７０は、搬送台１３８０の上に置載される。
　搬送台１３８０は、図１７に示すように、ＸＹ平面（組立体１３７０の設置面）に対して略水平な方向（矢印Ｆ１の方向）に移動することができる。このため、搬送台１３８０上の組立体１３７０も、矢印Ｆ１の方向に移動することができる。搬送台１３８０は、例えば、真空チャンバの内部、さらには真空チャンバの出口、およびその外側まで延在しても良い。
　なお、図１６および図１７の例では、組立体１３７０は、単一の支持部材１３７２を有し、この支持部材１３７２の基部１３７４は、第１のガラス基板１３１０の外側であって、第１のガラス基板１３１０の一つの辺１３１６ａ（図１７参照）の近傍に配置されている。また、支持部材１３７２の基部１３７４は、辺１３１６ａの中央近傍に配置されている。
　しかしながら、これは単なる一例に過ぎない。すなわち、第１および第２のガラス基板１３１０、１３２０の間に開放空間１３２９が形成される限り、支持部材１３７２の数および配置場所は、特に限られない。例えば、支持部材１３７２は、複数存在しても良い。
　図１８には、支持部材１３７２の別の配置形態の例を示す。この図は、組立体の概略的な上面図を示したものである。なお、図１７の場合と同様、図１８においても、第２のガラス基板１３２０は、明確化のため省略されている。
　図１８の例では、組立体１３７０ａは、２つの支持部材１１３７２―１、１３７２―２を有する。これらの支持部材１１３７２―１、１３７２―２の基部は、第１のガラス基板１３１０の外側であって、第１のガラス基板１３１０の一つの辺１３１６ａの両端近傍（隣接する２つのコーナー部の近傍）に配置されている。
　さらに、支持部材１３７２の基部１３７４の形状は、特に限られない。例えば、支持部材１３７２の基部１３７４は、図１７～図１８に示すような、高さ方向（Ｚ方向）に延伸軸を有し、断面が四角形の他、円形でも良い。また、支持部材１３７２の支持部１３７６は、基部１３７４に接合層１３５６よりも高さ方向で高い位置に設置され、少なくとも最近接の接合層１３５６部分が第２のガラス基板１３２０に接触しない高さに設置されていれば良い。
　この他にも、支持部材１３７２の数、形状、および配置形態として、様々な態様が考えられる。
　なお、図１６に示したような組立体１３７０の構成では、上側の第２のガラス基板１３２０の状態が不安定であり、ハンドリング中に位置がずれる可能性がある。そのような場合には、第２のガラス基板１３２０の周囲に、第２のガラス基板１３２０の動きを拘束するような停止部材を設けても良い。あるいは、第２のガラス基板１３２０を第１のガラス基板１３１０と仮留めしても良い。そのような停止部材および仮留め方法は、従来から広く知られており、ここではこれ以上説明しない。
　（ステップＳ２２０）
　次に、搬送台１３８０により、前述の工程で構成された組立体１３７０が搬送され、組立体１３７０は、真空チャンバ内に挿入される。組立体１３７０の搬送速度は、特に限られない。なお、組立体１３７０は、真空チャンバ内に挿入する前に、予熱しておいても良い。
　真空チャンバ内は、減圧環境に維持されている。また、真空チャンバ内の圧力は、例えば、１×１０－５Ｐａ～１０Ｐａの範囲であっても良い。好ましくは、真空チャンバ内の圧力は、０．１Ｐａ以下である。
　（ステップＳ２３０）
　組立体１３７０は、真空チャンバ内で加熱され、減圧処理される。例えば、真空チャンバ内が高温に維持されていて組立体１３７０全体が加熱されてもよく、真空チャンバ内を組立体１３７０が搬送されながら加熱されていってもよい。また、組立体１３７０全体が加熱されてもよいし、局所的に加熱されてもよく、加熱温度は、１５０℃以上であって良い。また、加熱温度は、第１のガラス基板１３１０の軟化点と、第２のガラス基板１３２０の軟化点のうち、低い方の軟化点よりも低い温度であっても良い。
　次に、真空チャンバ内に設けられた支持解除部材を用いて、支持部材１３７２による開放空間１３２９の維持が解除される。すなわち、支持解除部材により、支持部材１３７２は、支持機能が失われた状態となる。その結果、第１のガラス基板１３１０上に、第２のガラス基板１３２０が落下する。これにより、接合層１３５６は、全周にわたって第２のガラス基板１３２０と接触するようになる。その結果、組立体１３７０の開放空間１３２９は、接合層１３５６によって周囲を覆われた密閉空間となる。
　図１９には、真空チャンバ内に設けられた支持解除部材によって、支持部材１３７２による支持機能が失われる際の様子を示す。
　図１９に示すように、この例では、支持解除部材は、真空チャンバの上部に設けられたロッド部材１３８９である。ロッド部材１３８９は、支持部材１３７２の方に向かって延伸することができる。
　支持部材１３７２による第２のガラス基板１３２０の支持を解除する場合、真空チャンバの上部から、このロッド部材１３８９が下降する。これにより、ロッド部材１３８９の先端は、支持部材１３７２の斜面１３７８と当接する。
　ロッド部材１３８９の先端により、支持部材１３７２の斜面１３７８が押し圧を受けると、支持部材１３７２には、水平方向（図の矢印Ｆ２の方向）に移動する力が生じる。従って、支持部材１３７２は、第２のガラス基板１３２０から遠ざかる方向に移動する。
　ここで、支持部材１３７２が一定距離以上移動すると、支持部材１３７２の支持部１３７６は、もはや第２のガラス基板１３２０を支持することができなくなる。そのため、支持部材１３７２による第２のガラス基板１３２０の支持が解除される。これにより、第１のガラス基板１３１０上に、第２のガラス基板１３２０が落下する。
　その結果、図１９に示すように、組立体１３７０の開放空間１３２９が失われ、第１のガラス基板１３１０と第２のガラス基板１３２０の間に、密閉空間１３３０が形成される。
　一方、組立体１３７０中の接合層１３５６は、真空チャンバ内での加熱により、溶融、軟化した状態にある。このため、第１のガラス基板１３１０の接合層１３５６が、全周にわたって第２のガラス基板１３２０と接触した際には、接合層１３５６によって、第１のガラス基板１３１０と第２のガラス基板１３２０とが接合され、接合体１３９０が構成される。
　ここで、真空チャンバ内は、減圧環境になっており、このため、第２のガラス基板１３２０が落下する直前には、開放空間１３２９は、既に減圧状態となっている。従って、第２のガラス基板１３２０が落下した後に、両ガラス基板１３１０、１３２０の間に形成される密閉空間１３３０は、減圧状態となる。
　なお、支持解除部材の働きにより、支持部材１３７２による支持が解除された後（すなわち第２のガラス基板１３２０が第１のガラス基板１３１０上に落下した後）には、接合体１３９０に、必要に応じて、第２のガラス基板１３２０の側から、押し圧を加えても良い。これにより、接合体１３９０の周囲にわたって、接合層１３５６が均一に分布するようになり、第１のガラス基板１３１０と第２のガラス基板１３２０の間に、より良好な接合を得ることができる。
　（ステップＳ１４０）
　次に、搬送台１３８０により、接合体１３９０、すなわち真空複層ガラスが、真空チャンバから排出される。これにより、接合体１３９０が降温される。なお、接合体１３９０の降温は、真空チャンバ内で実施しても良い。
　以上のような工程を経て、例えば図１に示したような真空複層ガラス１００を製造することができる。
　このような第２の製造方法では、複数の真空複層ガラス１００を、「流れ方式」で連続的に製造することができる。このため、真空複層ガラス１００の生産性が向上する。
　また、このような第２の製造方法では、複雑な駆動系を使用せずに、ロッド部材１３８９のような、真空チャンバ側に設置された簡単な支持解除部材を用いて、支持部材１３７２による第２のガラス基板１３２０の支持を解除することができる。このため、製造設備の構成を簡略化することができる。
　また、第２の製造方法では、油分等の、飛散の原因となる成分が必要な支持部材は、使用されない。このため、真空チャンバ内を汚染することなく、清浄な真空環境下で、接合体１３９０を形成することができる。
　（シール部材の別の構成について）
　以上の第２の製造方法に関する記載では、真空複層ガラスのシール部材として、図１に示したような額縁状の接合層１５５を想定し、本発明の一実施例による製造方法について説明した。
　しかしながら、シール部材は、例えば、前述の図１３に示したような構成を有しても良い。
　このようなシール部材５５０を有する真空複層ガラス５００も、基本的に、図１４に示した各ステップを実施することにより、同様に製造することができる。
　例えば、前述のステップＳ２１０において、まず、第１の表面５１２上に第１の接合層５６５が配置された第１のガラス基板５１０と、第３の表面５２２上に第２の接合層５６７が配置された第２のガラス基板５２０と、を準備する。また、第１のガラス基板５１０の第１の接合層５５６上に、額縁状の金属部材５５８を配置する。
　次に、両ガラス基板５１０、５２０の間に開放空間が形成されるように支持部材を配置して、組立体を構成する。その後は、前述のステップＳ２２０～ステップＳ２４０を実施することにより、図１３に示したようなシール部材５５０を有する真空複層ガラス５００を製造することができる。
　なお、以上の記載では、支持解除部材の一例として、上下方向に伸縮可能なロッド部材１３８９を挙げ、このロッド部材１３８９の上からの押し圧により、支持部材１３７２の第２のガラス基板１３２０の支持を解除する方法について説明した。
　しかしながら、支持部材１３７２の第２のガラス基板１３２０の支持を解除する方法は、これに限られるものではない。例えば、上下方向に伸縮可能なロッド部材１３８９の代わりに、両ガラス基板１３１０、１３２０に沿った横（水平）方向に伸縮可能なロッド部材を用いることにより、支持部材の第２のガラス基板１３２０の支持を解除しても良い。この場合、支持部材は、基部の側面に、ロッド部材と当接する斜面を有するように構成される。
　あるいは、支持部材と支持解除部材の組み合わせとして、別の構成を使用しても良い。
　図２０および図２１には、支持部材と支持解除部材の別の組み合わせの一例を模式的に示す。
　図２０には、図１６の例とは異なる支持部材を有する別の組立体の断面を模式的に示す。また、図２１には、この別の組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示す。
　図２０に示すように、この組立体１４７０は、第１のガラス基板１４１０と、第２のガラス基板１４２０と、支持部材１４７２とを備える。
　第１のガラス基板１４１０は、第１の表面１４１２および第２の表面１４１４を有し、第２のガラス基板１４２０は、第３の表面１４２２および第４の表面１４２４を有する。第１のガラス基板１４１０の第１の表面１４１２には、接合層１４５６が形成されている。
　支持部材１４７２は、基部１４７４と、該基部１４７４の側面から水平方向に延伸する支持部１４７６とを有する。支持部１４７６は、上部から所定の負荷を受けた際に、自身がＸＺ平面内で回転可能な回転軸１４７７を有する。回転軸１４７７は、図２０の紙面と垂直な方向（Ｙ方向）に延伸している。
　支持部材１４７２は、両ガラス基板１４１０および１４２０の間に、開放空間１４２９が形成されるように配置される。より具体的には、支持部材１４７２は、支持部１４７６によって、第２のガラス基板１４２０を第３の表面１４２２で支持しており、これにより、第２のガラス基板１４２０を、第１のガラス基板１４１０から「浮かした」状態にすることができる。
　なお、支持部材１４７２の回転軸１４７７は、第２のガラス基板１４２０の重量程度では、支持部１４７６が回転しないように設定される。
　このような組立体１４７０において、支持部材１４７２による第２のガラス基板１４２０の支持を解除する際には、組立体１４７０を搬送台１４８０上に置載して、組立体１４７０を真空チャンバ内に搬送する。
　図２１に示すように、真空チャンバの上部には、支持解除部材として、ロッド部材１４８９が設けられている。このロッド部材１４８９は、支持部材１４７２の支持部１４７６の方に向かって延伸することができる。
　支持部材１４７２による第２のガラス基板１４２０の支持を解除する場合、真空チャンバの上部から、このロッド部材１４８９が下降する。これにより、ロッド部材１４８９の先端は、支持部材１４７２の支持部１４７６と接触する。
　ロッド部材１４８９の先端により、支持部材１４７２の支持部１４７６が押し圧を受けると、回転軸１４７７を中心として、支持部１４７６が下方に回転する（矢印Ｆ３参照）。
　ここで、支持部１４７６がある角度以上回転すると、支持部１４７６は、もはや第２のガラス基板１４２０を支持することができなくなる。そのため、支持部材１４７２による第２のガラス基板１４２０の支持が解除される。これにより、第１のガラス基板１４１０上に、第２のガラス基板１４２０が落下する。なお、図面上は第２のガラス基板１４２０が大きく傾いて支持されているが、これは説明のために誇張して記載しており、実際には第２のガラス基板１４２０は、第１のガラス基板１４１０と重ね合わせる際に位置ズレや破損が発生しない程度の高さから落下される。
　その結果、図２１に示すように、組立体１４７０の開放空間１４２９が失われ、第１のガラス基板１４１０と第２のガラス基板１４２０の間に、密閉空間１４３０を形成することができる。
　図２２および図２３には、支持部材と支持解除部材のさらに別の組み合わせの一例を模式的に示す。
　図２２には、図１６および図２０の例とは異なる支持部材を有する、さらに別の組立体の断面を模式的に示す。また、図２３には、この組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示す。なお、図２３は、組立体の模式的な上面図であるが、明確化のため、一部の部材は省略されている。
　図２２に示すように、この組立体１５７０は、第１のガラス基板１５１０と、第２のガラス基板１５２０と、支持部材１５７２とを備える。
　第１のガラス基板１５１０は、第１の表面１５１２および第２の表面１５１４を有し、第２のガラス基板１５２０は、第３の表面１５２２および第４の表面１５２４を有する。第１のガラス基板１５１０の第１の表面１５１２には、接合層１５５６が形成されている。
　支持部材１５７２は、基部１５７４と、該基部１４７４の側面から水平方向に延伸する支持部１５７６とを有する。支持部１５７６は、水平方向から所定の負荷を受けた際に、自身がＸＹ平面（組立体１５７０の搬送方向と平行な平面）内で回転可能な回転軸１５７７を有する。回転軸１５７７は、図２２のＺ方向に延伸しており、従って、基部１５７４の延伸方向と一致している。
　支持部材１５７２は、両ガラス基板１５１０および１５２０の間に、開放空間１５２９が形成されるように配置される。より具体的には、支持部材１５７２は、支持部１５７６によって、第２のガラス基板１５２０を第３の表面１５２２で支持しており、これにより、第２のガラス基板１５２０を、第１のガラス基板１５１０から「浮かした」状態にすることができる。
　このような組立体１５７０において、支持部材１５７２による第２のガラス基板１５２０の支持を解除する際には、組立体１５７０を搬送台１５８０上に置載して、組立体１５７０を真空チャンバ内に搬送する。
　図２３の上図（ａ）に示すように、真空チャンバの上部には、支持解除部材として、ロッド部材１５８９が設けられている。ロッド部材１５８９は、真空チャンバの上部から、下方に向かって延在している。ロッド部材１５８９の先端は、搬送台１５８０には達していない。なお、このロッド部材１５８９は、位置が固定されている上、非可動式である。
　真空チャンバ内では、搬送台１５８０上の組立体１５７０は、図２３の矢印Ｆ４の方向（Ｙ方向）に進行する。
　ここで、搬送台１５８０によって、組立体１５７０がロッド部材１５８９の設置位置まで搬送されると、支持部材１５７２の支持部１５７６は、ロッド部材１５８９と当接する。しかしながら、搬送台１５８０によって、組立体１５７０は、さらに矢印Ｆ４の方向に前進する。その結果、図２３の下図（ｂ）に示すように、支持部１５７６は、ロッド部材１５８９からの力によって、回転軸１５７７を中心に、矢印Ｆ５の方向に回転する。
　これにより、支持部材１５７２による第２のガラス基板１５２０の支持が解除され、第１のガラス基板１５１０上に、第２のガラス基板１５２０が落下する。なお、図面上は第２のガラス基板１５２０が大きく傾いて支持されているが、これは説明のために誇張して記載しており、実際には第２のガラス基板１５２０は、第１のガラス基板１５１０と重ね合わせる際に位置ズレや破損が発生しない程度の高さから落下される。
　その結果、組立体１５７０の開放空間１５２９が失われ、第１のガラス基板１５１０と第２のガラス基板１５２０の間に、密閉空間を形成することができる。
　以上、組立体に使用され得る支持部材と、真空チャンバ内に設置される支持解除部材の組み合わせの一例について説明した。しかしながら、上記の組み合わせは、単なる一例に過ぎず、支持部材と支持解除部材の組み合わせとして、その他の組み合わせを適用しても良いことは、当業者には明らかである。
　すなわち、第２の製造方法において重要なことは、組立体に含まれる支持部材によって形成された開放空間が、真空チャンバ内に設けられた支持解除部材によって、真空チャンバ内で密閉空間に変化することであり、これが満たされる限り、支持部材と支持解除部材の組み合わせは、特に限定されないことに留意する必要がある。
　本発明は、建築物の窓ガラス等に使用される真空複層ガラス等に利用することができる。
　また、本願は２０１３年１０月１８日に出願した日本国特許出願２０１３－２１７１８３号、および同日に出願した日本国特許出願２０１３－２１７１８４号に基づく優先権を主張するものであり、両日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
　１００　　真空複層ガラス
　１１０　　第１のガラス基板
　１１２　　第１の表面
　１１４　　第２の表面
　１２０　　第２のガラス基板
　１２２　　第３の表面
　１２４　　第４の表面
　１３０　　密閉空間
　１５０　　シール部材
　１５５　　接合層
　３１０　　第１のガラス基板
　３１２　　第１の表面
　３１４　　第２の表面
　３１６ａ～３１６ｄ　辺
　３２０　　第２のガラス基板
　３２２　　第３の表面
　３２４　　第４の表面
　３２９　　開放空間
　３３０　　密閉空間
　３５６　　接合層
　３７０、３７０ａ、３７０ｂ、３７０ｃ　組立体
　３７２　　接合体
　３７５、３７５－１、３７５－２、３７５－３、３７５－４、３７５－ａ　スペーサ材
　３７５’　溶融物
　３７７　　凝固物
　４１０　　第１のガラス基板
　４１２　　第１の表面
　４１４　　第２の表面
　４２０　　第２のガラス基板
　４２２　　第３の表面
　４２４　　第４の表面
　４２９　　開放空間
　４５６　　接合層
　４７０　　組立体
　４７５　　スペーサ材
　４８０　　金属箔
　５００　　真空複層ガラス
　５１０　　第１のガラス基板
　５１２　　第１の表面
　５２０　　第２のガラス基板
　５２２　　第３の表面
　５３０　　密閉空間
　５５０　　シール部材
　５５８　　金属部材
　５６１　　金属部材の第１の表面
　５６２　　金属部材の第２の表面
　５６５　　第１の接合層
　５６７　　第２の接合層
　１１００　　真空複層ガラス
　１１１０　　第１のガラス基板
　１１１２　　第１の表面
　１１１４　　第２の表面
　１１２０　　第２のガラス基板
　１１２２　　第３の表面
　１１２４　　第４の表面
　１１３０　　密閉空間
　１１５０　　シール部材
　１１５５　　接合層
　１３１０　　第１のガラス基板
　１３１２　　第１の表面
　１３１４　　第２の表面
　１３１６ａ　辺
　１３２０　　第２のガラス基板
　１３２２　　第３の表面
　１３２４　　第４の表面
　１３２９　　開放空間
　１３３０　　密閉空間
　１３５６　　接合層
　１３７０　　組立体
　１３７０ａ　組立体
　１３７２　　支持部材
　１３７２－１、３７２－２　支持部材
　１３７４　　基部
　１３７６　　支持部
　１３７８　　斜面
　１３８０　　搬送台
　１３８９　　ロッド部材
　１３９０　　接合体
　１４１０　　第１のガラス基板
　１４１２　　第１の表面
　１４１４　　第２の表面
　１４２０　　第２のガラス基板
　１４２２　　第３の表面
　１４２４　　第４の表面
　１４２９　　開放空間
　１４３０　　密閉空間
　１４５６　　接合層
　１４７０　　組立体
　１４７２　　支持部材
　１４７４　　基部
　１４７６　　支持部
　１４７７　　回転軸
　１４８０　　搬送台
　１４８９　　ロッド部材
　１５１０　　第１のガラス基板
　１５１２　　第１の表面
　１５１４　　第２の表面
　１５２０　　第２のガラス基板
　１５２２　　第３の表面
　１５２４　　第４の表面
　１５２９　　開放空間
　１５５６　　接合層
　１５７０　　組立体
　１５７２　　支持部材
　１５７４　　基部
　１５７６　　支持部
　１５７７　　回転軸
　１５８０　　搬送台
　１５８９　　ロッド部材
 

Claims (18)

  1. 　相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、減圧された密閉空間を備える真空複層ガラスの製造方法であって、
    　（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層およびスペーサ材を有する組立体を構成するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記スペーサ材により、前記両ガラス基板の間に、開放空間が形成されるステップと、
    　（ｂ）前記組立体を、減圧環境にされた真空チャンバ内に導入するステップと、
    　（ｃ）前記真空チャンバ内で、加熱により前記スペーサ材を溶融または軟化させるステップであって、これにより前記スペーサ材が押し潰され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触し、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、
    　（ｄ）前記組立体を、前記真空チャンバから排出するステップと、
    　を有することを特徴とする真空複層ガラスの製造方法。
  2. 　前記スペーサ材は、前記組立体を厚さ方向から見たとき、前記接合層よりも外側に配置される請求項１に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  3. 　さらに、前記（ｄ）のステップの後、
    　（ｅ）前記組立体において、前記スペーサ材が配置された部分を除去するステップ
    　を有する請求項１または２に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  4. 　前記スペーサ材は、ガラス固化層、ろう材、またははんだで構成される請求項１乃至３のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  5. 　前記スペーサ材は、前記接合層と同じ材料で構成される請求項１乃至４のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  6. 　前記接合層は、ガラス固化層を有する請求項１乃至５のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  7. 　前記真空チャンバ内の圧力は、１×１０－５Ｐａ～１０Ｐａの範囲である請求項１乃至６のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  8. 　前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板の軟化点のうち、低い方の軟化点をＴ１（℃）としたとき、前記（ｃ）のステップにおいて、前記スペーサ材は、１５０℃以上、Ｔ１未満の範囲の温度に加熱される請求項１乃至７のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  9. 　前記（ａ）のステップにおいて、前記組立体は、前記第１および第２のガラス基板の間に、さらに、額縁状の第２の接合層および額縁状の金属部材を有し、前記接合層は、前記第１のガラス基板に配置され、前記第２の接合層は、前記第２のガラス基板に配置され、前記金属部材は、前記接合層と第２の接合層の間に配置され、
    　前記（ｃ）のステップにおいて、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間には、前記接合層、前記金属部材、および前記第２の接合層によって取り囲まれた前記密閉空間が形成される請求項１乃至８のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  10. 　相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、減圧された密閉空間を備える真空複層ガラスの製造方法であって、
    　（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台上に置載するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持されるステップと、
    　（ｂ）前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送するステップと、
    　（ｃ）前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触することによって、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、
    　（ｄ）前記搬送台により、前記組立体を、前記真空チャンバから排出させるステップと、
    　を有することを特徴とする真空複層ガラスの製造方法。
  11. 　前記組立体において、前記第２のガラス基板は、前記第１のガラス基板の上方に配置され、
    　前記支持部材は、第２のガラス基板を支持する支持部と該支持部が設置された基部とを有し、
    　前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記基部を押圧して、前記支持部が前記第２のガラス基板から遠ざかるようにスライドすることにより前記第２のガラス基板が落下し、前記開放空間の維持が解除される請求項１０に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  12. 　前記支持部材は、上部に斜面が形成され、前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記斜面を押圧する請求項１０に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  13. 　前記組立体において、前記第２のガラス基板は、前記第１のガラス基板の上方に配置され、
    　前記支持部材は、第２のガラス基板を支持する支持部と該支持部を回転可能とする基部とを有し、
    　前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記支持部に当接して、前記支持部が回転することにより前記第２のガラス基板が落下し、前記開放空間の維持が解除される請求項１０に記載の真空複層ガラスの製造方法。
  14. 　前記支持解除部材は、前記真空チャンバの上部に取り付けられる請求項１０乃至１３のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  15. 　前記真空チャンバ内の圧力は、１×１０－５Ｐａ～１０Ｐａの範囲である請求項１０乃至１４のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  16. 　前記真空チャンバ内の温度は、１５０℃以上であり、前記第１および第２のガラス基板のうち、低い方の軟化点未満の温度である請求項１０乃至１５のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  17. 　前記接合層は、ガラス固化層を有することを特徴とする請求項１０乃至１６のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
  18. 　前記（ａ）のステップにおいて、前記組立体は、前記第１および第２のガラス基板の間に、さらに、額縁状の第２の接合層および額縁状の金属部材を有し、前記接合層は、前記第１のガラス基板に配置され、前記第２の接合層は、前記第２のガラス基板に配置され、前記金属部材は、前記接合層と第２の接合層の間に配置され、
    　前記（ｃ）のステップにおいて、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間には、前記接合層、前記金属部材、および前記第２の接合層によって取り囲まれた前記密閉空間が形成される請求項１０乃至１７のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
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