WO2015040996A1 - 形状測定方法および形状測定装置 - Google Patents

形状測定方法および形状測定装置 Download PDF

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sampling
measurement
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軌行 石井
俊哉 瀧谷
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コニカミノルタ株式会社
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    • GPHYSICS
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    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/0209Low-coherence interferometers

Definitions

  • the present invention relates to a shape measuring method and a shape measuring apparatus capable of measuring the shape or the like of an object to be measured.
  • a scanning white light interferometer is a device that uses non-coherent white light as a light source and can measure the surface shape of a sample in a non-contact manner using a Michelson-type or Mirau-type iso-optical path interferometer. It can be used to measure the surface shape of a wafer or the like.
  • the interference light is recorded with a CCD camera while scanning the distance to the sample.
  • the optical system for projecting light emitted from the light source to the sample is scanned at a constant speed while being driven in the direction of the optical axis, and reflected light from the sample is obtained as a moving image of 30 frames / second, for example.
  • By taking an image it is possible to collect light intensity data for each pixel at a certain time (at a certain scanning position).
  • the position of the maximum peak of the interference waveform is obtained, which is the reference position of “optical path difference 0”. That is, if the reference position is obtained and displayed for all pixels, the surface shape of the sample is obtained.
  • Patent Document 1 in a scanning white interferometer, moving image file data is read out, and the interferometer is located at a position on the time axis using Hilbert transform based on data in the time axis direction at each pixel.
  • a data processing method that can accurately measure the surface shape of a sample with a small number of data by obtaining the position of the maximum peak of the interference waveform corresponding to the scanning distance at which the optical path difference becomes 0 and expressing it in all pixels Has been.
  • Patent Document 1 uses the Hilbert transform for temporally discrete data, there is a problem that the fast Fourier transform must be performed and the calculation becomes complicated.
  • An object of the present invention is to provide a shape measuring method and a shape measuring apparatus capable of measuring the shape of a measurement object with high accuracy while reducing the calculation time by an approach different from that of the prior art.
  • a shape measurement method reflecting one aspect of the present invention includes a white light source that emits white light, the white light that is directed to a reference mirror, and a measurement.
  • Branch means for branching into detection light directed toward the object, distance changing means for changing the distance from the branch means to the measurement object, reflected light from the reference mirror, and reflected light from the measurement compatible substance
  • Combining means for emitting combined light
  • imaging means for receiving the combined light and converting it into an image signal for each pixel
  • processing means for processing the image signal output from the imaging means
  • the processing means performs sampling at 5 or more points on the image signal output from the imaging means within the first detection window set in correspondence with the distance, Furthermore, in the second detection window set at a position different from the first detection window, the image signal output from the imaging means is sampled at 5 points or more, Using the values
  • sampling of the first detection window and sampling of the second detection window are performed at five or more points, so that waveform fitting of a system with five unknowns can be performed. Further, since the waveform fitting is performed using the least square method, the calculation time can be shortened.
  • the first detection window is sampled, the interference waveform is fitted by the least square method, the amplitude value is obtained, and then the second detection window is further sampled, and the interference waveform is obtained by the least square method.
  • the amplitude value may be obtained, or after all sampling of the first detection window and the second detection window is performed, the interference waveform is fitted by the least square method, and the amplitude value is obtained. May be. Further, by fitting the interference waveform continuously with the third detection window, the fourth detection window,..., The entire waveform fitting can be performed.
  • the accuracy when obtaining the peak from the amplitude value is about several hundred to several tens of nm, but the measurement range can be secured up to about 1 mm.
  • the accuracy is several nanometers, but it is not possible to measure a step with a quarter wavelength (several hundred nanometers) or more.
  • the present invention is a technique for measuring the shape measurement range with the accuracy of measuring the surface shape, and by obtaining the peak, it is possible to perform phase analysis near the peak, thereby accurately measuring the surface shape. Is something that can be done.
  • (1) an amplitude value is obtained in a detection window to find a peak position, and (2) a phase analysis is performed at the peak position.
  • Waveform fitting is performed by the method (1). Since the phase is obtained using the coefficient value obtained by performing the above, it is not necessary to perform the calculation again, and the calculation time can be effectively reduced.
  • “White light” means light having a sufficiently broad spectrum distribution, for example, light having a wavelength band of 20 to 30 nm or more.
  • sampling of the first detection window and sampling of the second detection window are performed at even points, so that the sample point sequence can be made symmetric, so that the matrix calculation can be further simplified.
  • sampling of the first detection window and the sampling of the second detection window are performed at 6 points, so that the sample point sequence can be made symmetric without greatly increasing the number of sample points, thereby simplifying the matrix calculation. it can.
  • the shape measuring apparatus includes: a white light source that emits white light; a branching unit that branches the white light into reference light that travels toward a reference mirror; and detection light that travels toward a measurement object; A distance changing means for changing the distance to the object, a combining means for combining the reflected light from the reference mirror and the reflected light from the measurement compatible substance to emit combined light, and receiving the combined light
  • An image pickup means for converting each pixel into an image signal and a processing means for processing the image signal output from the image pickup means are provided, and the above-described shape measurement method is performed.
  • the present invention it is possible to provide a shape measuring method and a shape measuring apparatus capable of measuring the shape of a measurement object with high accuracy while reducing the calculation time by an approach different from the conventional technique.
  • FIG. 10 It is a schematic diagram which shows an example of the interferometer 10 used for the shape measuring apparatus of this embodiment. It is a figure which shows the relationship between the position of the maximum peak in an interference waveform, and optical path difference 0.
  • FIG. It is a figure which shows the interference waveform in xy coordinate system. It is a figure which shows a sampling data point sequence.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an interferometer 10 used in the shape measuring apparatus of the present embodiment.
  • the interferometer 10 is a Mirau interferometer, but is not limited to this type, and may be a Michelson interferometer.
  • White light emitted from the white light source 11 passes through the condenser lens 12 to become parallel light, is reflected by the beam splitter 13, travels toward the object to be measured OBJ, passes further through the objective lens 14, and is a branching unit.
  • the light is incident on the half mirror 15 and branched so that part of the light is transmitted and the rest is reflected.
  • the light beam that has passed through the half mirror 15 enters the object to be measured OBJ, and the remaining light beam reflected by the half mirror 15 enters the reference mirror 16 whose optical path length is known.
  • the reflected light beam from the object to be measured OBJ and the reflected light beam from the reference mirror 16 are combined again by the half mirror 15 that also serves as a combining unit, and the combined light passes through the objective lens 14 and the beam splitter 13 to form the imaging lens 17.
  • an image is formed on the imaging surface of the CCD camera 18 as the imaging means, and converted into an image signal for each pixel.
  • the image signal output from the CCD camera 18 is input to a personal computer PC as processing means.
  • the objective lens 14, the half mirror 15, and the reference mirror 16 are held by a stage 19 that is finely driven in the optical axis direction by a piezo actuator as a distance changing means, and can be moved integrally.
  • the position of the reference mirror 16 is determined and fixed so that the light intensity of the interference fringe becomes maximum (optical path difference 0) in a state where the objective lens 14 is focused on the measurement object OBJ. It is preferable to scan the objective lens 14, the half mirror 15, and the reference mirror 16 held on the stage 19 as one body in order to measure the surface of the measurement object having a large difference in height. This is because the data of the interference waveform including the maximum peak can be always taken in a focused state.
  • the stage 19 is moved in the direction of the optical axis by the piezo actuator, and the light intensity data in the combined light is acquired as a moving image at about 30 frames / second by the CCD camera 18 while scanning. And stored in a memory (not shown).
  • this moving image data is analyzed by a personal computer PC, and is treated as array data in the time axis direction for each pixel, which becomes an interference waveform.
  • data processing is performed using the least square method in the personal computer PC.
  • v [k] y [n / 2] (22)
  • the coefficients a and b can be expressed by the average Ave ⁇ of the number of terms n / 2. That is, by taking the sampling data point sequence symmetrically, the product-sum calculation amount is reduced to about half, and the coefficient calculation is greatly simplified by the diagonalization of the matrix.
  • the waveform fitting described so far has been intended for waveforms having a constant wavelength (frequency).
  • the interference pattern of white light has a waveform with an unknown frequency due to the superposition of multiple wavelengths.
  • simply applying the method of least squares with the frequency as a variable is not preferable because the equation becomes nonlinear and the amount of calculation increases.
  • the approximate frequency of the observation point sequence is known, and a method of performing waveform fitting by expressing a waveform equation in the form of a deviation from the frequency is considered. This expression holds true because the light source in the white interferometer also uses a light source having a broad wavelength band around a certain wavelength.
  • the frequency of the sampling data point sequence is set to w0 + w with respect to the known neighboring frequency w0, and an attempt is made to perform fitting using the following expression based on the sampling data.
  • y A ⁇ cos ((w0 + w) (xs))
  • u and v are set as follows.
  • u A ⁇ cos (w0 ⁇ s) (27)
  • v A ⁇ sin (w0 ⁇ s) (28)
  • the sampling data point sequence may be placed symmetrically. That is, since the average of the odd function is 0, the following expression is obtained.
  • Equation (34) there are five unknowns: a, b, a ', b', and c. Therefore, if the number of sampling data is 5 or more, all unknowns can be obtained. On the other hand, as described above, in order to increase the processing speed, the number of even-numbered sampling data is preferable. Of the number of sampling data satisfying both of these conditions, the smallest number is six. Therefore, the number of sampling data is preferably 6.
  • the maximum value of power P is the peak position of the interference fringes.
  • the first sampling is the sampling in the first detection window DW1
  • the next sampling is the sampling in the second detection window DW2.
  • the 6 point sampling range is called the “detection window”, and the detection window is shifted in the optical axis direction (the first detection window DW1 and the second detection window DW2 are made different).
  • the shape that changes greatly can be measured.
  • a new waveform fitting is performed using the sampling data in the second detection window DW2.
  • Interference fringe waveform fitting is performed for each sampling to obtain power. If the power distribution for each pixel is obtained, the peak position can be known, so that the phase analysis can be performed in the vicinity of the peak to obtain the surface shape of the measurement object with high accuracy. Furthermore, by performing sampling in the third detection window, sampling in the fourth detection window,..., A shape that changes more greatly can be measured.
  • about 700 points are sampled from the end of the waveform, temporarily stored in the memory, and then divided into about 116 groups (detection windows) of 6 points from the end. Performs waveform fitting by multiplication. As a result, amplitude values of approximately 116 points are obtained corresponding to each group, and a peak can be obtained from the amplitude values. Note that waveform fitting may be performed for each sampling.

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Abstract

 従来技術とは異なるアプローチで、計算時間を抑えつつ精度良く測定対象物の形状を測定できる形状測定方法及び形状測定装置を提供する。異なる検出窓で複数のサンプリングを5点以上で行うことで、未知数が5つの系の波形フィッティングを行える。又、最小自乗法を用いて波形フィッティングを行うので、計算時間を短縮できる。

Description

形状測定方法および形状測定装置
 本発明は、測定対象物の形状等を測定できる形状測定方法および形状測定装置に関する。
 走査型白色干渉計は、可干渉性の少ない白色光を光源として用い、マイケルソン型や、ミラウ型などの等光路干渉計を利用して試料の表面形状を非接触三次元測定できる装置であり、ウエハなどの表面形状の測定に用いられ得る。
 この種の走査型白色干渉計において、試料までの距離を走査しながら、干渉光をCCDカメラで記録する。具体的には、光源から出射された光を試料に投射するための光学系を光軸方向に駆動しながら一定の速度で走査し、例えば30フレーム/秒の動画として、試料からの反射光を撮影することで、各画素での一定時間ごと(一定の走査位置ごと)の光の強度データを収集できる。
 ここで、走査位置を横軸に取ったとき、干渉波形の最大ピークの位置を求めると、それが「光路差0」の基準位置である。つまり、基準位置を全画素で求めて表示すれば、試料の表面形状となる。
 しかし、実際の測定時には、走査をしながらある一定の時間間隔でデータを取り、データ収集時間も短くしたいので、走査位置に関してサンプル位置間隔が広い離散的なデータとなることが多い。これに対し、走査速度を遅くすれば、データのサンプル位置間隔が狭くなりピーク位置算出の精度が上がるが、データ収集に時間がかかり、データ数も増すためデータ処理にも時間がかかるという問題がある。
特開2013-19752号公報
 これに対し特許文献1には、走査型白色干渉計において、動画ファイルデータを読み出し、それぞれの画素において時間軸方向のデータに基き、ヒルベルト変換を用いて、時間軸上での位置で、干渉計の光路差が0になる走査距離に対応した干渉波形の最大のピークの位置を求め、それを全画素で表わすことにより、少ないデータ数で精度良く試料の表面形状を測定できるデータ処理方法が開示されている。しかしながら、特許文献1では時間的離散データに対してヒルベルト変換を用いているので、高速フーリエ変換を行わなくてはならず、計算が複雑になるという問題がある。
 本発明の目的は、従来技術とは異なるアプローチで、計算時間を抑えつつ精度良く測定対象物の形状を測定できる形状測定方法及び形状測定装置を提供することである。
 上述した目的のうち少なくとも一つを実現するために、本発明の一側面を反映した形状測定方法は、白色光を出射する白色光源と、前記白色光を、参照ミラーに向かう参照光と、測定対象物に向かう検出光とに分岐する分岐手段と、前記分岐手段から前記測定対象物までの距離を変化させる距離変化手段と、前記参照ミラーからの反射光と、前記測定相性物からの反射光とを合成して合成光を出射する合成手段と、前記合成光を受光して各画素毎に画像信号に変換する撮像手段と、前記撮像手段から出力された画像信号を処理する処理手段とを有する形状測定装置を用いた形状測定方法であって、
 前記距離変化手段により、前記分岐手段から前記測定対象物までの距離を変化させながら、前記撮像手段により前記合成光を撮像し、
 前記処理手段により、前記距離に対応づけて設定された第1の検出窓内において前記撮像手段から出力された画像信号を5点以上でサンプリングを行い、
 更に、前記第1の検出窓とは異なる位置に設定された第2の検出窓内において、前記撮像手段から出力された画像信号を5点以上でサンプリングを行い、
 前記第1の検出窓と前記第2の検出窓のサンプリングにより得られた値を用いて、それれぞれ最小自乗法により前記距離と前記画像信号の強度とから形成される干渉波形をフィッティングし、その振幅値を求め、
 求めた振幅値の最大値を干渉縞のピーク位置として決定し、
 決定されたピーク位置を位相解析することで、前記測定対象物の形状測定を行うことを特徴とする。
 この形状測定方法によれば、前記第1の検出窓のサンプリングと前記第2の検出窓のサンプリングを5点以上で行っているので、未知数が5つの系の波形フィッティングを行える。又、最小自乗法を用いて波形フィッティングを行うので、計算時間を短縮できる。ここで、第1の検出窓のサンプリングを行って、最小自乗法により干渉波形をフィッティングし、その振幅値を求め、その後、更に第2の検出窓のサンプリングを行って、最小自乗法により干渉波形をフィッティングし、その振幅値を求めても良いし、第1の検出窓のサンプリングと第2の検出窓のサンプリングを全て行った後、最小自乗法により干渉波形をフィッティングし、その振幅値を求めても良い。更に、第3の検出窓、第4の検出窓、・・・と連続して干渉波形のフィッティングを行うことで、全体の波形フィッティングを行うことができる。
 ちなみに、上述したごとく振幅値からピークを求める場合の精度は数100~数10nm程度であるが、測定レンジを1mm程度まで確保できる。一方、一般的な位相解析では、精度は数nmであるが、波長の1/4(数100 nm)以上の段差は測定できない。つまり本発明は、形状測定レンジを、表面形状を測定する精度で測定するための手法であり、ピークを求めることで、ピーク付近で位相解析を行うことを可能とし、それにより精度良く表面形状測定を行うことができるものである。又、本発明は、(1)検出窓で振幅値を求めてピーク位置を探し、(2)そのピーク位置で位相解析を行うものであるが、この位相解析では(1)の手法で波形フィッティングを行って求めた係数の値を使って位相を求めるから、改めて計算をし直す必要がなく、計算時間を有効に減らすことができる。尚、「白色光」とは、十分に広がったスペクトル分布を持つ光をいい、例えば20~30nm以上の波長帯域を有する光をいう。
 上記形状測定方法において、前記第1の検出窓のサンプリングと前記第2の検出窓のサンプリングは偶数点で行うことにより、サンプル点列を対称にできるから、行列計算をより簡素化できる。
 また、前記第1の検出窓のサンプリングと前記第2の検出窓のサンプリングは6点で行うことにより、サンプル点数を大幅に増やすことなくサンプル点列を対称にできるから、行列計算をより簡素化できる。
 本形状測定装置は、白色光を出射する白色光源と、前記白色光を、参照ミラーに向かう参照光と、測定対象物に向かう検出光とに分岐する分岐手段と、前記分岐手段から前記測定対象物までの距離を変化させる距離変化手段と、前記参照ミラーからの反射光と、前記測定相性物からの反射光とを合成して合成光を出射する合成手段と、前記合成光を受光して各画素毎に画像信号に変換する撮像手段と、前記撮像手段から出力された画像信号を処理する処理手段とを有し、上述の形状測定方法を実施することを特徴とする。
 本発明によれば、従来技術とは異なるアプローチで、計算時間を抑えつつ精度良く測定対象物の形状を測定できる形状測定方法及び形状測定装置を提供することができる。
本実施形態の形状測定装置に用いる干渉計10の一例を示す模式図である。 干渉波形における最大のピークの位置と光路差0との関係を示す図である。 xy座標系における干渉波形を示す図である。 サンプリングデータ点列を示す図である。
 以下、図面を参照しながら本発明にかかる実施形態について説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲は以下の実施形態及び図示例に限定されるものではない。
 図1は、本実施形態の形状測定装置に用いる干渉計10の一例を示す模式図である。干渉計10はミラウ型干渉計であるが、このタイプに限られず、マイケルソン型干渉計であってもよい。白色光源11から出射された白色光は、コンデンサレンズ12を通過し平行光とされ、ビームスプリッタ13で反射されて、被測定物OBJ側に向かい、更に対物レンズ14を通過し,分岐手段であるハーフミラー15に入射して,一部は透過し,残りが反射するように分岐される。ハーフミラー15を通過した光束は、被測定物OBJに入射し、ハーフミラー15で反射した残りの光束は,光路長が既知である参照ミラー16に入射する。
 被測定物OBJからの反射光束と、参照ミラー16からの反射光束は、合成手段を兼ねるハーフミラー15で再び結合され、その合成光が対物レンズ14、ビームスプリッタ13を通過し、結像レンズ17により,撮像手段であるCCDカメラ18の撮像面に結像されて、画素毎に画像信号に変換される。CCDカメラ18より出力された画像信号は、処理手段としてのパソコンPCに入力される。尚、対物レンズ14,ハーフミラー15,参照ミラー16は、距離変化手段としてのピエゾアクチュエータにより光軸方向に微小駆動されるステージ19に保持され、一体的に移動可能となっている。
 次に、干渉計10を用いた形状測定方法を説明する。まず、測定対象物OBJに対物レンズ14の焦点が合った状態で、干渉縞の光強度が最大(光路差0)に成るように参照ミラー16の位置を決めて固定しておく。ステージ19上に保持された対物レンズ14、ハーフミラー15及び参照ミラー16を一体として走査するのが、高低差が大きい測定対象物の表面を測るには好ましい。その理由は、最大ピークを含む干渉波形のデータが、常に焦点が合った状態で取れるからである。
 ここで、第1のサンプリングとして、ピエゾアクチュエータによりステージ19を光軸方向に移動させ、走査しつつ、CCDカメラ18により30フレーム/秒程度で、合成光における光の強度のデータを動画として取得し、不図示のメモリに保存する。この動画データは後述のようにパソコンPCでデータ解析され、各画素ごとに時間軸方向の配列データとして扱われ、それが干渉波形となる。
 波長帯域が広い白色光を用いた干渉波形の場合、図2に示すように、光路差0からシフトするにつれて波形同士が打ち消し合うので、干渉波形における最大のピークの位置が光路差0の位置となる。しかしながら、図2に実線で示すような干渉波形に対して、実際のサンプリングで得られるデータは黒点Dで示すように離散的であるから、精度良くピーク位置を求めるには、サンプリングデータから実際の波形を精度良く求めなくてはならない。これを波形のフィッティングという。
 しかるに、周波数が未知な(微小変動する)波形のフィッティングを行う場合、フーリエ変換などを用いることも考えられるが,計算に時間がかかる。そこで、本実施形態では、パソコンPC内で最小自乗法を用いてデータ処理を行うこととした。
(単一波長光の干渉縞の波形フィッティング)
 まず、単一波長光を用いた干渉縞の波形フィッティングについて説明する。図3に示すように光軸方向をx、振幅方向をyとした2次元座標の波形データを考えたとき、サンプリングされたk個のデータ点列{xk、yk}に対して、波形の近似式を(1)式のように定義する。
 y=a・cos(w・x)+b・sin(w・x)+c   (1)
 又、誤差式を(2)式のようにおく。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 以上より、最小自乗法によれば、以下の行列式を得る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
 尚、以降、sum[・]は、k=0,1,・・・、n-1の合計を示し、<・>は、k=0,1,・・・、n-1の平均を示す。つまり、<・>=(1/n)sum[・]である。
 ここで、周波数偏差をwとして、以下の関係が成立する。
 <cos(w・xk) cos(w・xk)>=1/2+1/2<cos(2w・xk)>   (4)
 <sin(w・xk) sin(w・xk)>=1/2+1/2<cos(2w・xk)>    (5)
 <cos(w・xk) sin(w・xk)>=1/2<sin(2w・xk)>      (6)
 しかるに、wに対してデータ点列{xk、yk}を適切にとれば、
 <cos(w・xk)>=0   (7)
 <sin(w・xk)>=0   (8)
 <cos(2w・xk)>=0   (9)
 <sin(2w・xk)>=0   (10)
となるので、これを解くと、
 a=2・<yk・cos(w・xk)>   (11)
 b=2・<yk・sin(w・xk)>   (12)
 c=2・<yk>   (13)
が得られる。これにより波形の近似式(1)の係数a、b、cを求めることができる。
 近似式の係数が決まると、
 r=√(a2+b2)   (14)
 a=r・cos(s)   (15)
 b=r・sin(s)   (16)
となるような位相sをとることによって、(1)式は以下のように変形できる。
 y=r・cos(s)cos(w・x)+ r・sin(x)sin(w・x)+c   (17)
これを更に変形して、
 y=r・cos(w・x-s)+ c   (18)
 y=r・cos(w(x-s/w)+ c   (19)
を得る。更に位相は、φ=s/wと表せるから、
 s=tan-1(b/a)   (20)
を得る。よって、波形フィッティングにより係数a,bを求めることで、位相を算出できる。
(処理の高速化)
 更に、本実施形態では、パソコンPC内での処理の高速化を目指した。(3)式に示す行列計算を簡素化するために、解析点をx=0に対して対称にとるようにする。このとき、x=0を含まず、点数を偶数とすることで、サンプリング位置(黒点)を対称に配置する(図4(a)参照)。
 但し、x=0を含み対称な奇数個の点列を選んでも良いが(図4(b)参照)、その場合には、sin成分が0であるため、その点での解析精度への寄与が望めず、サンプリング点数を減らした解析には不向きなため、偶数点での解析が望ましい。
 奇関数の性質上、x=0を含み対称な平均は零となる(<sin(w・xk)>=0)ので、点数nを偶数として、図4(c)に示すような点列を考える。
 ここで、点列u[k], v[k]を以下の様に定義できる。
 u[k]=x[n-1-k]=-x[k]   (21)
 v[k]=y[n/2]   (22)
 尚、以降、sum[・]は、k=0,1,・・・、(n/2)-1の合計を示し、<・>は、k=0,1,・・・、(n/2)-1の平均を示すものとする。ここから、
 cm=<cos(w・xk)>=Ave{cos(w・xk)}   (23)
を得る。
 これを用いて、波形の式の係数a,bを以下のように表すことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
 (24)、(25)式から、係数a,bを項数n/2の平均Ave{・}で表現できることがわかる。つまり、サンプリングデータ点列を対称に取ることにより、積和計算量は約半分となり、係数計算も行列の対角化により大幅に簡素化されるのである。
(白色光の干渉縞の波形フィッティング)
 ここまでで説明した波形フィッティングは、波長(周波数)が一定の波形を対象としていた。しかるに、白色光の干渉縞は多波長の重ね合わせにより、周波数が未知の波形となる。しかし、単純に周波数を変数として最小自乗法を適用すると、方程式が非線形となってしまい、計算量も増大するので好ましくない。一方、観測点列のおおよその周波数は既知であり、その周波数からの偏差という形で波形の式を表現し、波形フィッティングを行う方法を考える。白色干渉計における光源もある波長を中心としてブロードな波長帯域を持つ光源を利用していることから、この表現が成り立つ。ここでは、サンプリングデータ点列の周波数を、その既知の近傍周波数w0に対して、w0 + wとして、サンプリングデータに基づき、以下の式でフィッティングすることを試みる。
 y=A・cos((w0+w)(x-s))   (26)
ここで、u,vを以下のようにおく。
 u=A・cos(w0・s)   (27)
 v=A・sin(w0・s)   (28)
 さらに、周波数偏差wは微小量であるとすると(w→0)、cos(w)→1, sin(w)→0と近似できるから、(26)式を変形すると、
 y=(u+vws)cos(w0・x)-vwx・cos(w0・x)+(v-uws)sin(w0・x)+uwx・sin(w0・x)  (29)
を得る。ここで、a, b, a', b'を
 a=u + vws   (30)
 b=v - uvs   (31)
 a'=uw     (32)
 b'=-vw     (33)
とおくと、(29)式を、以下の様に変形できる。
 y=a・cos(w0・x) +b・sin(w0・x) +a'・cos(w0・x)+b'・sin(w0・x)+c  (34)
よって、サンプリングデータ点列のデータに基づき、係数a, b, a', b', cを求めることで、上式で波形をフィッティングすることができ、その結果、位相sが求まることとなる。
 係数a, b, a', b', cを求める際に,最小自乗法を適用すると、以下の行列式のようになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 但し、C=cos(w0・xk)、S=sin(w0・xk)とする。
 上述したように処理の高速化を図るためには、サンプリングデータ点列の対置を対称的にとれば良い。すなわち、奇関数の平均は0であることから、以下の式を得る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
 (36)式は、以下の2つの式に簡略化できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
 ここで、(34)式において、未知数はa, b, a', b', cの5つである。従って、サンプリングデータ数が5点以上であれば、未知数全てを求めることができる。一方、上述したように処理の高速化を図るためには、偶数点のサンプリングデータ数が好ましい。これら双方の条件を満たすサンプリングデータ数の内、最も小さな数は6である。従って、サンプリングデータ数は6であると好ましい。
 このようにして、干渉縞の波形フィッティングを画素毎に行って、振幅値としてのパワーP=(a2+b2)を求めることができる。パワーPの最大値が、干渉縞のピーク位置である。
 更に、異なる位置で6点のサンプリングを行う。最初のサンプリングを第1の検出窓DW1内のサンプリングとし、次のサンプリングを第2の検出窓DW2内のサンプリングとする。
 6点のサンプリングを行う範囲を「検出窓」といい、検出窓を光軸方向にシフトする(第1の検出窓DW1と第2の検出窓DW2とを異ならせる)ことで、光軸方向に大きく変化する形状を測定できる。第2の検出窓DW2内のサンプリングのデータを用いて、新たに波形フィッティングを行う。サンプリング毎に干渉縞の波形フィッティングを行って、それぞれパワーを求める。各画素毎のパワー分布を求めれば、ピーク位置が分かるので、ピーク付近で位相解析を行って、測定対象物の表面形状を精度良く求めることができる。更に第3の検出窓内のサンプリング、第4の検出窓内のサンプリング、・・・と行うことで、より大きく変化する形状を測定できる。一例としては、波形の端から約700点のサンプリングを行い、これをメモリに一旦記憶し、その後、端から6点ずつの約116個のグループ(検出窓)に振り分け、各グループ毎に最小自乗法による波形フィッティングを行う。これにより各グループに対応して約116点の振幅値が求まることとなるので、この振幅値よりピークを求めることができる。尚、サンプリング毎に波形フィッティングを行っても良い。
 サンプル点を6点、等間隔にx=0を対称にとり、上述にようにして波形フィッティングを行った例を示す。但し、w0=π/2を基準とする。(37)、(38)式は、以下のように表せる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
 これより、6点(x0, x1, x2, x3, x4, x5)について、
 a=√2 / 48 { -3 *( x0 + x6) - 9 * (x1 + x4) + 12 * (x2 + x3)}   (41)
 b=√2 / 48 { 5 * (x0 - x6) -11 * (x1 - x4) - 8 * (x2 - x3)}   (42)
 a, b の導出式(41)、(42)は、上記の様に非常に簡素な形に書き下せる。但し、
 a'=√2 / 8 (- x0 + x1 + x4 - x5)
 b'=√2 / 8 (x0 + x1 - x4 - x5)
とする。
 本発明は、本明細書に記載の実施形態に限定されるものではなく、他の実施形態・変形例を含むことは、本明細書に記載された実施形態や技術思想から本分野の当業者にとって明らかである。
10      干渉計
11      白色光源
12      コンデンサレンズ
13      ビームスプリッタ
14      対物レンズ
15      ハーフミラー
16      参照ミラー
17      結像レンズ
18      カメラ
19      ステージ
OBJ     測定対象物
PC      パソコン

Claims (4)

  1.  白色光を出射する白色光源と、前記白色光を、参照ミラーに向かう参照光と、測定対象物に向かう検出光とに分岐する分岐手段と、前記分岐手段から前記測定対象物までの距離を変化させる距離変化手段と、前記参照ミラーからの反射光と、前記測定相性物からの反射光とを合成して合成光を出射する合成手段と、前記合成光を受光して各画素毎に画像信号に変換する撮像手段と、前記撮像手段から出力された画像信号を処理する処理手段とを有する形状測定装置を用いた形状測定方法であって、
     前記距離変化手段により、前記分岐手段から前記測定対象物までの距離を変化させながら、前記撮像手段により前記合成光を撮像し、
     前記処理手段により、前記距離に対応づけて設定された第1の検出窓内において前記撮像手段から出力された画像信号を5点以上でサンプリングを行い、
     更に、前記第1の検出窓とは異なる位置に設定された第2の検出窓内において、前記撮像手段から出力された画像信号を5点以上でサンプリングを行い、
     前記第1の検出窓と前記第2の検出窓のサンプリングにより得られた値を用いて、それぞれ最小自乗法により前記距離と前記画像信号の強度とから形成される干渉波形をフィッティングし、その振幅値を求め、
     求めた振幅値の最大値を干渉縞のピーク位置として決定し、
     決定されたピーク位置を位相解析することで、前記測定対象物の形状測定を行うことを特徴とする形状測定方法。
  2.  前記第1の検出窓のサンプリングと前記第2の検出窓のサンプリングは偶数点で行うことを特徴とする請求項1に記載の形状測定方法。
  3.  前記第1の検出窓のサンプリングと前記第2の検出窓のサンプリングは6点で行うことを特徴とする請求項1に記載の形状測定方法。
  4.  白色光を出射する白色光源と、前記白色光を、参照ミラーに向かう参照光と、測定対象物に向かう検出光とに分岐する分岐手段と、前記分岐手段から前記測定対象物までの距離を変化させる距離変化手段と、前記参照ミラーからの反射光と、前記測定相性物からの反射光とを合成して合成光を出射する合成手段と、前記合成光を受光して各画素毎に画像信号に変換する撮像手段と、前記撮像手段から出力された画像信号を処理する処理手段とを有し、請求項1~3のいずれかに記載の形状測定方法を実施することを特徴とする形状測定装置。
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