WO2015011312A1 - Conjunto de implante y pilar transepitelial - Google Patents

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WO2015011312A1 PCT/ES2014/070466 ES2014070466W WO2015011312A1 WO 2015011312 A1 WO2015011312 A1 WO 2015011312A1 ES 2014070466 W ES2014070466 W ES 2014070466W WO 2015011312 A1 WO2015011312 A1 WO 2015011312A1
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implant
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abutment
transepithelial
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Joan PI URGELL
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Pi Urgell Joan
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    • A61C8/0018Means to be fixed to the jaw-bone for consolidating natural teeth or for fixing dental prostheses thereon; Dental implants; Implanting tools characterised by the shape
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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    • A61C8/005Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
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    • A61C8/005Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers
    • A61C8/0069Connecting devices for joining an upper structure with an implant member, e.g. spacers tapered or conical connection

Definitions

  • the present invention relates to a transepithelial implant and abutment assembly comprising features that decrease the possibility of periimplantitis.
  • the implant and transepithelial abutment assemblies are known, in which the abutment comprises a first section of threading in the implant, a second section intended to be in contact with the subepithelial connective tissue, and a third section of union with a prosthesis.
  • EP2002799, WO2008138644, WO2001 12096 or EP2108330 describe single-piece implants having an intermediate cavity.
  • the pillars are known which comprise an intermediate section provided with a concavity in the form of a half bull, intended for the accommodation of part of the peri-implant bone.
  • the object of the present invention is to provide a solution to the shortcomings of the state of the art by means of an implant and transepithelial abutment assembly, in which the abutment comprises a first section of threading in the implant, a second section intended for being in contact with the subepithelial connective tissue, and a third section of union with a prosthesis, which is characterized by the fact that the second section is a surface of cylindrical symmetry and concave section, so that a housing volume is defined of subepithelial connective tissue. Therefore, unlike the assemblies described in the prior art, said concavity is intended to accommodate the epithelial connective tissue instead of the perimplantar bone.
  • the concave section is a curve.
  • the upper edge of the implant is of conical section, so that a beveled surface is defined.
  • the implant comprises a first lower section, a second central section, and a third upper section, in which the first lower section is conical section, the second section is cylindrical section and the third section is cylindrical section, comprising the first and second sections a continuous filleted surface.
  • the first and second sections of the implant are etched with acid and the third section is provided with mechanized microspieces.
  • the height of the second section (2B) of the transepithelial abutment is between 1, 4 and 1, 6 mm or between 2.4 and 2.6 mm.
  • the upper radius of the second section is between 4.7 and 4.9 mm and the lower radius between 3.2 and 3.4 mm.
  • Figures 1 and 3 are elevations of two embodiments of transepithelial abutment according to the invention.
  • Figures 2 and 4 are the plan views from above the pillars of Figures 1 and 3.
  • Figures 5 and 7 are elevations of two implant embodiments according to the invention.
  • Figures 6 and 8 are the plan views from above the implants of Figures 5 and 7.
  • Figure 9 shows a mounted implant and transepithelial abutment assembly according to the present invention.
  • Figures 10 and 1 1 show the bone retraction in an implant according to the state of the art.
  • Figure 12 shows the assembly according to the invention and the relative arrangement of the tissues. It is emphasized that figures 1 to 8 are all to scale. Description of a preferred embodiment
  • the invention relates to an implant assembly 1 and transepithelial abutment 2, in which the abutment 2 comprises a first threaded section 2A in the implant 1, a second section 2B intended to be in contact with the TCS subepithelial connective tissue, and a third section 2C of junction with a prosthesis.
  • the second section 2B is a surface of cylindrical symmetry 3 and of concave section, so that a housing volume of the subepithelial connective tissue TCS is defined. Therefore, the peri-implant bone H and the subepithelial connective tissue TCS are arranged, in relation to the assembly according to the invention, as shown in Figure 12.
  • said concave section is a curve, so that a housing is configured in a semitoroidal shape.
  • the upper edge of the implant 1 is of conical section, so that a beveled surface 4 and the cylindrical symmetry surface 3 and this beveled surface 4 are defined are tangent at the level of the circle of union between both surfaces.
  • this comprises, as can be seen in Figure 5, a first lower section 1A, a second central section 1 B, and a third upper section 1 C, in which the first lower section 1A is of conical section, the second section 1 B is of cylindrical section and the third section 1C is of cylindrical section, the first sections 1A and second 1 B comprising a continuous threaded surface.
  • the first and second sections of the implant are etched with acid and the third section is provided with mechanized microspipes.
  • the height of the second section 2B of the transepithelial abutment is between 1, 4 and 1.6 mm.
  • the height of the second section 2B of the transepithelial abutment is between 2.4 and 2.6 mm, so that the radius of curvature is greater than that of the first variant.
  • the upper radius of the second section 2B is between 4.7 and 4.9 mm and the lower radius between 3.2 and 3.4 mm.
  • the upper radius should be understood as the radius at the height of the horizontal dashed line of Figure 1 that delimits the concave surface superiorly, and the lower one is that of the horizontal line of this same figure that delimits this surface inferiorly.
  • the pillar and implant assembly provides a space to house the subepithelial connective tissue, a very important factor for the maintenance of peri-implant bone and thus preventing the development of a Periimplantitis, one of the biggest problems that They can affect the survival of the implants.
  • transepithelial implant and abutment assembly is susceptible of numerous variations and modifications, and that all the mentioned details can be substituted. by others technically equivalent, without departing from the scope of protection defined by the appended claims.

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Abstract

Conjunto de implante (1) y pilar transepitelial (2), en el que el pilar (2) comprende un primer tramo (2A) de roscado en el implante (1), un segundo tramo (2B) destinado a estar en contacto con el tejido conectivo subepitelial (TCS), y un tercer tramo (2C) de unión con una prótesis, en el que el segundo tramo (2B) es una superficie de simetría cilíndrica (3) y de sección cóncava, de modo que se define un volumen de alojamiento del tejido conectivo subepitelial (TCS).

Description

CONJUNTO DE IMPLANTE Y PILAR TRANSEPITELIAL
La presente invención se refiere a un conjunto de implante y pilar transepitelial que comprende características que disminuyen la posibilidad de periimplantitis .
Antecedentes de la invención
Son conocidos los conjuntos de implante y pilar transepitelial, en el que el pilar comprende un primer tramo de roscado en el implante, un segundo tramo destinado a estar en contacto con el tejido conectivo subepitelial, y un tercer tramo de unión con una prótesis.
Son ejemplos de estos conjuntos los que se describen en el documento FR 2 922 752.
En los documentos EP2002799, WO2008138644, WO2001 12096 o EP2108330 se describen implantes de una sola pieza que presentan una cavidad intermedia.
Por otro lado, son conocidos los pilares que comprenden un tramo intermedio provisto de una concavidad en forma de medio toro, destinado al alojamiento de parte del hueso periimplantario.
El inventor ha podido comprobar que en estos pilares, concebidos para que el hueso se aloje en dicha concavidad, el hueso periimplantario se remodela por debajo de la concavidad, tal como se ilustra mediante las figuras 9 y 10, que ilustran un implante del estado de la técnica, hasta dejar de cubrir la concavidad del implante.
Esta situación da lugar a un mayor riesgo de sufrir periimplantitis por parte del paciente. Descripción de la invención La presente invención tiene por objeto dar una solución a las carencias del estado de la técnica mediante un conjunto de implante y pilar transepitelial, en el que el pilar comprende un primer tramo de roscado en el implante, un segundo tramo destinado a estar en contacto con el tejido conectivo subepitelial, y un tercer tramo de unión con una prótesis, que se caracteriza por el hecho de que el segundo tramo es una superficie de simetría cilindrica y de sección cóncava, de modo que se define un volumen de alojamiento del tejido conectivo subepitelial. Por lo tanto, a diferencia de los conjuntos descritos en el estado de la técnica, la mencionada concavidad está destinada a alojar el tejido conectivo epitelial en lugar del hueso perimplantario.
Según diversas características opcionales de la invención:
- la sección cóncava es una curva. - el borde superior del implante es de sección cónica, de modo que se define una superficie biselada.
- la superficie de simetría cilindrica y la superficie biselada son tangentes al nivel del círculo de unión entre ambas superficies.
- el implante comprende un primer tramo inferior, un segundo tramo central, y un tercer tramo superior, en el que el primer tramo inferior es de sección cónica, el segundo tramo es de sección cilindrica y el tercer tramo es de sección cilindrica, comprendiendo los tramos primero y segundo una superficie fileteada continua.
- los tramos primero y segundo del implante están grabados al ácido y el tercer tramo está provisto de microespiras mecanizadas.
- la altura del segundo tramo (2B) del pilar transepitelial está comprendida entre 1 ,4 y 1 ,6 mm o bien entre 2,4 y 2,6 mm.
Finalmente, el radio superior del segundo tramo está comprendido entre 4,7 y 4,9 mm y el radio inferior entre 3,2 y 3,4 mm. Breve descripción de las figuras
Para mejor comprensión de cuanto se ha expuesto se acompañan unos dibujos en los que, esquemáticamente y tan sólo a título de ejemplo no limitativo, se representan unos casos prácticos de realización.
Las figuras 1 y 3 son alzados de dos realizaciones de pilar transepitelial según la invención. Las figuras 2 y 4 son las vistas en plantas desde encima de los pilares de las figuras 1 y 3. Las figuras 5 y 7 son alzados de dos realizaciones de implante según la invención.
Las figuras 6 y 8 son las vistas en plantas desde encima de los implantes de las figuras 5 y 7.
La figura 9 muestra un conjunto montado de implante y pilar transepitelial según la presente invención.
Las figuras 10 y 1 1 muestran el retraimiento del hueso en un implante según el estado de la técnica. La figura 12 muestra el conjunto según la invención y la disposición relativa de los tejidos. Se destaca que las figuras 1 a 8 están todas a escala. Descripción de una realización preferida
Tal como puede apreciarse en las figuras 1 a 9 y 12, la invención se refiere a un conjunto de implante 1 y pilar transepitelial 2, en el que el pilar 2 comprende un primer tramo 2A de roscado en el implante 1 , un segundo tramo 2B destinado a estar en contacto con el tejido conectivo subepitelial TCS, y un tercer tramo 2C de unión con una prótesis.
Siendo estas características conocidas, según la presente invención, el segundo tramo 2B es una superficie de simetría cilindrica 3 y de sección cóncava, de modo que se define un volumen de alojamiento del tejido conectivo subepitelial TCS. Por lo tanto, el hueso periimplantario H y el tejido conectivo subepitelial TCS se disponen, en relación con el conjunto según la invención, tal como se muestra en la figura 12.
Tal como puede apreciarse en las vistas en alzado, dicha sección cóncava es una curva, de modo que se configura un alojamiento en forma semitoroidal.
Tal como puede apreciarse en las figuras 5 y 7, el borde superior del implante 1 es de sección cónica, de modo que se define una superficie biselada 4 y la superficie de simetría cilindrica 3 y esta superficie biselada 4 son tangentes al nivel del círculo de unión entre ambas superficies. En lo que se refiere al implante, este comprende, tal como puede apreciarse en la figura 5, un primer tramo inferior 1A, un segundo tramo central 1 B, y un tercer tramo superior 1 C, en el que el primer tramo inferior 1A es de sección cónica, el segundo tramo 1 B es de sección cilindrica y el tercer tramo 1C es de sección cilindrica, comprendiendo los tramos primero 1A y segundo 1 B una superficie fileteada continua.
Los tramos primero y segundo del implante están grabados al ácido y el tercer tramo está provisto de microespiras mecanizadas.
Según una primera variante del pilar, representada en la figura 1 , la altura del segundo tramo 2B del pilar transepitelial está comprendida entre 1 ,4 y 1 ,6 mm.
Según una segunda variante, representada en la figura 3, la altura del segundo tramo 2B del pilar transepitelial está comprendida entre 2,4 y 2,6 mm, de modo que el radio de curvatura es mayor que el de la primera variante.
En ambos casos, el radio superior del segundo tramo 2B está comprendido entre 4,7 y 4,9 mm y el radio inferior entre 3,2 y 3,4 mm. Por radio superior debe entenderse el radio a la altura de la línea horizontal a trazos de la figura 1 que delimita superiormente la superficie cóncava, y el inferior es el de la línea horizontal de esta misma figura que delimita inferiormente esta superficie.
En resumen, el conjunto de pilar e implante según la invención proporciona un espacio para alojar el tejido conectivo subepitelial, factor muy importante para la manutención del hueso periimplantario y que permite evitar de este modo el desarrollo de una Periimplantitis, uno de los mayores problemas que pueden afectar a la supervivencia de los implantes.
A pesar de que se ha hecho referencia a una realización concreta de la invención, es evidente para un experto en la materia que el conjunto de implante y pilar transepitelial descrito es susceptible de numerosas variaciones y modificaciones, y que todos los detalles mencionados pueden ser substituidos por otros técnicamente equivalentes, sin apartarse del ámbito de protección definido por las reivindicaciones adjuntas.

Claims

REIVINDICACIONES
1. Conjunto de implante (1) y pilar transepitelial (2), en el que el pilar (2) comprende un primer tramo (2A) de roscado en el implante (1), un segundo tramo (2B) destinado a estar en contacto con el tejido conectivo subepitelial (TCS), y un tercer tramo (2C) de unión con una prótesis, caracterizado por el hecho de que el segundo tramo (2B) es una superficie de simetría cilindrica (3) y de sección cóncava, de modo que se define un volumen de alojamiento del tejido conectivo subepitelial (TCS).
2. Conjunto según la reivindicación anterior, en el que dicha sección cóncava es una curva.
3. Conjunto según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el borde superior del implante (1) es de sección cónica, de modo que se define una superficie biselada (4).
4. Conjunto según la reivindicación anterior, en el que la superficie de simetría cilindrica (3) y la superficie biselada (4) son tangentes al nivel del círculo de unión entre ambas superficies.
5. Conjunto según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que el implante comprende un primer tramo inferior (1A), un segundo tramo central (1 B), y un tercer tramo superior (1 C), en el que el primer tramo inferior (1A) es de sección cónica, el segundo tramo (1 B) es de sección cilindrica y el tercer tramo (1 C) es de sección cilindrica, comprendiendo los tramos primero (1A) y segundo (1 B) una superficie fileteada continua.
6. Conjunto según la reivindicación anterior, en el que los tramos primero y segundo del implante están grabados al ácido y el tercer tramo está provisto de microespiras mecanizadas.
7. Conjunto según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en el que la altura del segundo tramo (2B) del pilar transepitelial está comprendida entre 1 ,4 y 1 ,6 mm.
8. Conjunto según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en el que la altura del segundo tramo (2B) del pilar transepitelial está comprendida entre 2,4 y 2,6 mm.
9. Conjunto según la reivindicación 7 o la 8, en el que el radio superior del segundo tramo (2B) está comprendido entre 4,7 y 4,9 mm y el radio inferior entre 3,2 y 3,4 mm.
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