WO2014129444A1 - 内部発光の取り出し効率の高い発光素子及び発光素子用基板 - Google Patents

内部発光の取り出し効率の高い発光素子及び発光素子用基板 Download PDF

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WO2014129444A1
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WO
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refractive index
electrode
light
light emitting
layer
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PCT/JP2014/053723
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English (en)
French (fr)
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川上 彰二郎
弘 藤本
正幸 八尋
川嶋 貴之
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株式会社フォトニックラティス
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/856Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/858Arrangements for extracting light from the devices comprising refractive means, e.g. lenses

Definitions

  • the present invention relates to a light emitting element (particularly an organic LED) and a light emitting element substrate having a high internal light emission efficiency.
  • Patent Document 1 Japanese Patent No. 5054464 (Patent Document 1) and Japanese Patent No. 4253302 (Patent Document 2) disclose organic EL light-emitting elements.
  • Claim 1 of Patent Document 2 “With the substrate, A light-emitting portion provided on the substrate and having an organic light-emitting layer sandwiched between the first electrode and the second electrode; A substrate provided adjacent to the light-emitting portion, and having a substrate with irregularities formed on the surface, and a diffraction grating portion including a medium deposited by filling the depressions of the irregularities;
  • the unevenness on the surface of the base material constitutes a second region composed of an aggregate of a plurality of first regions, and the unevenness in each of the first regions is two in the substrate parallel direction with a basic translation vector in a predetermined direction. Dimensionally arranged, the directions of the basic translation vectors of the irregularities in each first region are different without matching,
  • the medium is an organic electroluminescence element characterized in that it is a material different from the material of the adjacent electrode.
  • Patent Document 3 discloses an organic LED having an active electroluminescence (EL) layer.
  • Patent Document 3 and Non-Patent Document 1 disclose various elements of an organic LED, and the background art of the present invention, including the references, is disclosed.
  • Non-Patent Document 2 proposes an organic LED in which the shape of each layer including an electrode, a light-emitting layer, and a transparent electrode is waved in order to improve the extraction efficiency of internal light emission.
  • Organic LEDs are important elements for display equipment and lighting equipment, and the magnitude of light output relative to electrical input is important.
  • the generation efficiency of light inside the organic LED with respect to electric input is reaching a sufficiently high range.
  • the efficiency of taking out the light generated inside is not high (for example, 20%).
  • the reason why the light extraction efficiency of the organic LED is not high is arranged as follows for each magnitude of the wave vector of the generated random light.
  • the x and y axes are defined in the organic LED plane.
  • the magnitude of the wave number of the light of interest in the air is k 0.
  • the magnitude of the wave vector in the xy plane is k.
  • the refractive index of the transparent electrode and the organic light emitting layer having the maximum refractive index is n 2
  • the refractive index of the substrate (glass or the like) is n 1 . [1] Components with k / k 0 ⁇ 1 (excluding Fresnel reflection at the interface).
  • a component of n 1 > k / 0 > 1 propagates through the substrate but cannot be emitted into the air due to total reflection at the interface.
  • a component of n 2 > k / k 0 > n 1 ... Becomes a waveguide mode of a waveguide formed of a transparent electrode or an organic light emitting layer, and is transmitted parallel to the xy plane. It is lost due to the loss of the transparent electrode and the loss of the opaque metal reflective electrode (plasmon loss).
  • the light extraction efficiency of the conventional organic LED is mainly due to the following two factors.
  • the first factor is as follows.
  • the refractive index of a transparent electrode or an organic light emitting layer is higher than the refractive index of a glass substrate. For this reason, a waveguide mode for confining light occurs in the surface direction of the transparent electrode or the organic light emitting layer.
  • seales light among the light light-emitted within organic LED is not discharge
  • the second factor is as follows. There are many components of the generated light that are trapped in the substrate glass and cannot be extracted. For this reason, the conventional organic LED has low extraction efficiency of internal light emission. That is, in the conventional organic LED, when light is radiated, total reflection occurs and a certain component of light returns into the organic LED. For this reason, the conventional organic LED has low extraction efficiency of internal light emission.
  • Patent Document 2 and Non-Patent Document 2 have major practical problems along with the above two theoretical problems.
  • the active part disclosed in these documents is not flat.
  • the organic light emitting layer is best formed on a flat surface. Therefore, in order to enhance the light extraction effect, the organic LEDs disclosed in these documents are provided with irregularities and undulations in the light emitting layer, and this structure reduces the light emission efficiency, decreases the manufacturing yield, and shortens the product life.
  • An object of the present invention is to provide a light-emitting element (for example, an organic LED) and a light-emitting element substrate having high internal light emission extraction efficiency.
  • a light-emitting element for example, an organic LED
  • a light-emitting element substrate having high internal light emission extraction efficiency.
  • a high refractive index shaping layer having a higher refractive index than that of the organic light emitting layer or the transparent electrode is provided adjacent to the active portion.
  • the active portion is a portion called an active electroluminescence portion (see Patent Document 3), and refers to a combination of an organic light emitting layer and transparent or opaque electrodes on both sides thereof.
  • the organic light emitting layer means a layer including an electron injection layer, an electron transport layer, a hole injection layer, a hole transport layer, and a light emitting layer in a narrow sense. At least one of the two electrodes (first electrode and second electrode) is transparent.
  • the present invention can solve the light confinement problem that occurs in the active portion.
  • the light emitting device of the present invention preferably has a high refractive index shaping layer in which a two-dimensional periodic structure portion is formed on a surface opposite to the active portion.
  • This two-dimensional periodic structure allows [3] light (components of n 2 > k / k 0 > n 1 ) to be [2] (components of n 1 > k / k 0 > 1) or [1] due to diffraction action.
  • Component of k / k 0 ⁇ 1 has the function of converting the light of [2] into [1] and taking out the light of [1] to the outside.
  • the light in contact with the two-dimensional periodic structure can be efficiently converted to an angle within the critical angle of the emission surface so that the light propagating through the high refractive index shaping layer is emitted into glass or air.
  • this invention can raise luminous efficiency.
  • the 1st aspect of this invention is related with the light emitting element 7 which contains the active part 1, the high refractive index shaping layer 3, and the two-dimensional periodic structure part 5 in this order.
  • An example of the light emitting element is an organic LED.
  • the active part 1 includes a first electrode 11, an organic light emitting layer 13 adjacent to the first electrode, and a second electrode 15 adjacent to the organic light emitting layer 13.
  • the second electrode 15 is a transparent electrode.
  • the high refractive index shaping layer 3 has the same or higher refractive index as that of the second electrode 15 and the light emitting layer 13 having the highest refractive index.
  • a preferred example of the light emitting device of the present invention is a light emitting device in which the first electrode is a transparent electrode.
  • the high refractive index shaping layer of the light emitting element preferably has the same or higher refractive index as the highest refractive index among the first electrode, the second electrode, and the light emitting layer.
  • a preferred example of the light emitting device of the present invention relates to a light emitting device in which the first electrode is an opaque electrode.
  • the two-dimensional periodic structure portion includes irregularities arranged periodically two-dimensionally.
  • the two-dimensional periodic structure part is preferably a two-dimensional periodic diffraction grating.
  • the surface in contact with the active part of the high refractive index shaping layer is preferably a flat surface.
  • the shape is shaped by the high refractive index shaping layer and the flat surface is in contact with the active portion.
  • a preferred example of the light emitting device of the present invention further includes a substrate adjacent to the two-dimensional periodic structure portion.
  • the second aspect of the present invention relates to a substrate for an organic LED.
  • This substrate functions as an organic LED element by forming an active portion thereon.
  • This substrate is provided on a transparent substrate 17 having a two-dimensional periodic structure, a two-dimensional periodic structure portion having a shape reflecting the two-dimensional periodic structure provided on the transparent substrate 17, and a two-dimensional periodic structure portion.
  • a high refractive index shaping layer is provided on a transparent substrate 17 having a two-dimensional periodic structure, a two-dimensional periodic structure portion having a shape reflecting the two-dimensional periodic structure provided on the transparent substrate 17, and a two-dimensional periodic structure portion.
  • a high refractive index shaping layer is an example of the transparent substrate 17 is glass.
  • the two-dimensional periodic structure portion and the high refractive index shaping layer may not be separate layers but may be continuous layers made of the same material.
  • the upper surface of the high refractive index shaping layer is flat.
  • An active part is provided on the upper surface of the high refractive index shaping layer.
  • the active portion includes a first electrode, an organic light emitting layer adjacent to the first electrode, and a second electrode adjacent to the organic light emitting layer and present on the high refractive index shaping layer side.
  • the second electrode is a transparent electrode.
  • the high refractive index shaping layer has the same or higher refractive index as that of the second electrode and the organic light emitting layer having the highest refractive index.
  • the high refractive index shaping layer has the same or higher refractive index as the highest refractive index of the first electrode, the second electrode, and the organic light emitting layer. It is preferable to have it.
  • the two-dimensional periodic structure is a reflecting mirror surface.
  • the present invention can provide a light-emitting element (for example, an organic LED) having high internal light emission efficiency.
  • a light-emitting element for example, an organic LED
  • FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a light emitting element of the present invention.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram showing a light-emitting element according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a two-dimensional periodic structure unit.
  • FIG. 4 is a diagram showing wave numbers in the x direction and y direction of light rays.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram showing a light-emitting element according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a conceptual diagram for explaining the configuration of the organic LED of the present invention.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of an active unit according to the third embodiment.
  • FIG. 8 is a diagram showing the external quantum efficiency of current density versus light output.
  • FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a light emitting element of the present invention.
  • the 1st side surface of this invention is related with the light emitting element 7 containing the active part 1, the high refractive index shaping layer 3, and the two-dimensional periodic structure part 5 in this order.
  • An example of the light emitting element is an organic LED (organic electroluminescent element).
  • the two-dimensional periodic structure portion 5 may be a part of the high refractive index shaping layer 3 or may be another layer.
  • the organic LED has an active part capable of injecting and transporting both positive and negative charges. In the active portion, holes and electrons generated by both positive and negative charges can be recombined in the organic light emitting layer to generate light.
  • the organic LED may further include a material that emits light by receiving light emitted from the light emitting material in the organic light emitting layer.
  • the generated random light is classified into the following three components.
  • FIG. 1 provides that means.
  • the high refractive index shaping layer reduces the loss of the transparent electrode and the opaque electrode by extracting the wave of [3], which was the fundamental mode, to the high refractive index shaping layer.
  • the two-dimensional diffraction grating that forms the boundary between the high refractive index shaping layer and the substrate material is First, the wave [3] is converted into [2] or [1], and the wave [1] is extracted into the air and the wave [2] is extracted into the substrate material. Next, the wave [2] in the substrate material is reflected at the interface with air, and the component diffracted by the two-dimensional diffraction grating and converted into [1] is taken out into the air.
  • a wave that remains in [3] or [2] without being converted is converted into [2] or [1] while being reciprocally reflected in the high refractive index shaping layer or the substrate material. Except for the residual loss of the transparent electrode and the incomplete reflection loss of the reflective electrode, it is taken out into the air sooner or later.
  • the high refractive index shaping layer of the present invention has the effect of minimizing plasmon loss. Plasmon waves, in which light travels along the interface between the metal and the transparent dielectric, are one of the fundamental modes. This plasmon wave is converted into [2] or [1] light by the presence of the high refractive index shaping layer and the diffraction effect (in this case, the mode conversion effect) of the unevenness of the two-dimensional periodic structure, Retrieved effectively.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram showing a light-emitting element according to an embodiment of the present invention.
  • the first electrode and the second electrode are transparent electrodes.
  • An example of the transparent electrode is an ITO electrode.
  • ITO electrodes are known for organic LEDs.
  • an ITO electrode manufactured according to a known method may be appropriately employed.
  • the light emitting element of this aspect has a small movement distance in the xy plane even for light propagating obliquely, so that image blurring is small, and it can be effectively used for a light emitting element with particularly high definition.
  • the high refractive index shaping layer of the light emitting element has the same or higher refractive index as the highest refractive index of the first electrode, the second electrode, and the light emitting layer.
  • the two-dimensional periodic structure portion 5 provided adjacent to the high refractive index shaping layer 3 functions as a reflection layer that reflects light propagated from the high refractive index shaping layer 3 to the two-dimensional periodic structure portion 5.
  • An example of the two-dimensional periodic structure portion 5 that functions as a reflective layer is a metal layer.
  • An example of the metal layer is a layer made of aluminum.
  • the metal layer may be thin.
  • the metal layer may be a metal film. Such a film can be formed, for example, by depositing a metal on a glass substrate having a two-dimensional periodic structure or by using sputtering.
  • an example of the thickness of the metal layer is 10 nm to 500 nm, preferably 20 nm to 300 nm, and more preferably 40 nm to 200 nm.
  • the height difference between the peak portion and the valley portion in the two-dimensional periodic structure is preferably 80 nm or more and 200 nm or less.
  • the two-dimensional periodic structure portion preferably includes irregularities that are periodically arranged two-dimensionally.
  • the two-dimensional periodic structure part is preferably a two-dimensional periodic diffraction grating.
  • the two-dimensional periodic structure part means, for example, a part where a peak part and a valley part periodically exist two-dimensionally.
  • FIG. 3 is a diagram showing an example of a two-dimensional periodic structure part.
  • the example of the two-dimensional periodic structure portion is a layer in which crest portions and trough portions exist in a hexagonal lattice shape.
  • the two-dimensional periodic structure portion may have crest portions and trough portions in a square lattice shape, or may have crest portions and trough portions in a square lattice shape.
  • the crest and trough are preferably formed by smooth undulations.
  • the period (for example, the distance from the mountain part to the mountain part) is the free space wavelength of the light emitted in the active part.
  • is set, 0.5 ⁇ to 2.0 ⁇ is preferable, and 0.7 ⁇ to 1.5 ⁇ is more preferable.
  • a specific example of the one-dimensional period is 430 nm or more and 470 nm or less when blue light is emitted in the light emitting layer, and preferably 550 nm or more and 750 nm or less, and 600 nm or more when red light is emitted in the light emitting layer. It may be 700 nm or less.
  • the high refractive index shaping layer 3 can be formed by depositing or sputtering a substance having a high refractive index on the two-dimensional periodic structure portion.
  • a substance having a high refractive index on the two-dimensional periodic structure portion is tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) or niobium oxide (Nb 2 O 5 ).
  • the high refractive index shaping layer 3 reduces unevenness of the two-dimensional periodic structure portion, and the surface is approximately What is necessary is just to be able to make it flat. For this reason, the high refractive index shaping layer 3 should just be formed so that the trough part of a two-dimensional periodic structure part can be filled.
  • the surface in contact with the active part of the high refractive index shaping layer is preferably a flat surface.
  • the shape is shaped by the high refractive index shaping layer and the flat surface is in contact with the active portion.
  • the undulation of the surface in contact with the active portion of the high refractive index shaping layer is preferably 0.1 h or less, more preferably 0.05 h or less. Preferably, it is more preferable if it is 0.01 h or less. If the surface in contact with the active portion of the high refractive index shaping layer is flat, each layer included in the active portion can be flat. Then, the electron transfer and the hole transfer in the active part are performed smoothly. For this reason, if the surface in contact with the active portion of the high refractive index shaping layer is flat, the light emission efficiency itself can be improved.
  • the active part 1 is formed on the high refractive index shaping layer.
  • the active part 1 includes a first electrode 11, an organic light emitting layer 13 adjacent to the first electrode, and a second electrode 15 adjacent to the organic light emitting layer 13.
  • a known active part may be adopted as appropriate.
  • the second electrode 15 may be formed on the surface of the high refractive index shaping layer.
  • the second electrode 15 is a transparent electrode, and an example of the transparent electrode is an ITO (indium-tin-oxide) electrode.
  • the ITO electrode can be easily formed by using a known sputtering apparatus. Generally, the thickness of the ITO electrode is 50 nm or more and 300 nm or less.
  • the first electrode is a transparent electrode, it can be formed in the same manner as the second electrode. Either the first electrode or the second electrode may be an anode electrode or a cathode electrode.
  • the organic light emitting layer 13 is formed on the second electrode 15, for example.
  • the organic light emitting layer is injected with holes from the anode electrode and electrons from the cathode electrode. And in the organic light emitting layer 13, recombination of a hole and an electron arises and light can be emitted by this.
  • the organic light emitting layer 13 may be a single layer or a number of layers.
  • the organic light emitting layer contains a fluorescent material (or phosphorescent material) that can absorb light generated from organic light emitting molecules and generate another light. Also good.
  • the organic light emitting layer 13 may contain a hole transport material or an electron transport material that can increase the mobility of holes or electrons.
  • the organic light emitting layer may include a hole capturing material or an electron capturing material for capturing holes or electrons in a specific spatial position or reducing transport properties.
  • These organic light emitting molecules, fluorescent materials (or phosphorescent materials), hole transport materials, electron transport materials, hole trap materials, electron trap materials may be contained in the same layer or separated in separate layers. May be. Even when a layer containing these constituent materials is formed by being separated into a plurality of layers, they are collectively referred to as an organic light emitting layer in the present invention.
  • the organic light emitting layer preferably contains an electroluminescent material.
  • electroluminescent materials include various metal complex-type luminescent materials (such as 8-quinolinol, benzoxazole, azomethine, and flavone as ligands; Al, Be, Zn, Ga, Eu, Ru, Pt, etc.
  • Fluorescent dye-based luminescent materials oxadiazole, pyrazoline, distyrylarylene, cyclopentadiene, tetraphenylbutadiene, bisstyrylanthracene, perylene, phenanthrene, oligothiophene, pyrazoloquinoline, thiadiazolopyridine, layered perovskite, p- For example, sexiphenyl, spiro compounds, etc.).
  • fluorescent dye-based luminescent materials oxadiazole, pyrazoline, distyrylarylene, cyclopentadiene, tetraphenylbutadiene, bisstyrylanthracene, perylene, phenanthrene, oligothiophene, pyrazoloquinoline, thiadiazolopyridine, layered perovskite, p- For example, sexiphenyl, spiro compounds, etc.).
  • various polymer materials are used as light emitting materials, or non-light emitting polymer materials (polyethylene, polystyrene, polyoxyethylene, polyvinyl alcohol, polymethyl methacrylate, polyacrylic). It is also possible to mix or copolymerize various light emitting materials or fluorescent materials using a matrix of methyl acid, polyisoprene, polyimide, polycarbonate, etc.).
  • Various organic holes or electron transport materials can also be interposed.
  • various hole or electron injection layers for example, Li, Ca, Mg, Cs, CuPc, etc.
  • materials can be appropriately selected according to the element configuration.
  • organic electroluminescent materials organic compounds having a large transition dipole moment of light emission capable of anisotropic light emission are desirable in the molecular structure, and transitions related to such light emission are also desirable. It is desirable to have a molecular structure that makes it easy to control the orientation state of the molecule or part of the molecular skeleton in the molecular skeleton part itself having a dipole moment, or a part of the molecule other than the molecular skeleton part.
  • the first electrode 11 is formed on the organic light emitting layer 13, for example.
  • the first electrode 11 can be formed in the same manner as the second electrode.
  • the light emitting device of the present invention can be applied to various thin film forming technologies such as spin coating, coating, casting, sputtering, vacuum deposition, molecular beam deposition, liquid phase epitaxy, atomic layer epitaxy, roll method, screen printing. It can be manufactured using a method, an inkjet method, an electropolymerization method, a rubbing method, a spraying method, a water surface development method, or a Langmuir-Blodgett membrane method.
  • the light emitting element of the present invention may have a substrate.
  • substrates include substrates made of inorganic materials such as glass, silicon, gallium arsenide, etc., substrates made of organic materials such as polycarbonate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polymethyl methacrylate, or a composite of both. Can be used.
  • the light-emitting element of the present invention can use various precision processing techniques in order to produce a required optical element structure in the process of forming the element. Examples include precision diamond cutting, laser processing, etching, photolithography, reactive ion etching, and focused ion beam etching. It is also possible to arrange a plurality of preprocessed organic electroluminescent elements, to make them multilayered, to connect them with an optical waveguide, or to seal them in that state.
  • a voltage is applied to the first electrode 11 and the second electrode 15. Then, light emission occurs in the organic light emitting layer 13. The light emitted from the organic light emitting layer 13 is emitted to the space through the first electrode 11. On the other hand, part of the light reaching the first electrode 11 returns to the organic light emitting layer 13. On the other hand, a part of the light generated in the organic light emitting layer 13 propagates to the high refractive index shaping layer through the second electrode 15. The light propagated to the high refractive index shaping layer propagates to the two-dimensional periodic structure part. And diffraction and reflection arise in a two-dimensional periodic structure part.
  • the two-dimensional periodic structure portion After diffraction and reflection occur in the two-dimensional periodic structure, light is emitted to the space via the high refractive index shaping layer, the second electrode, the organic light emitting layer 13 and the first electrode. If the two-dimensional periodic structure portion does not function as a reflective layer, a part of the light reaching the two-dimensional periodic structure portion is emitted from the two-dimensional periodic structure portion. When the two-dimensional periodic structure portion has an adjacent glass substrate, a part of the light is emitted from the two-dimensional periodic structure portion through the glass substrate.
  • the behavior of light in the two-dimensional periodic structure part will be described using the two-dimensional periodic structure part shown in FIG. 3 as an example.
  • irregularities are formed with a hexagonal lattice-like period, and light is reflected by these irregularities.
  • the organic LED has a plurality of films or layers parallel to the xy plane, and the vertical direction is the z direction.
  • FIG. 4 is a diagram showing wave numbers in the x direction and y direction of light rays.
  • the unit wave number in the x-axis direction is k x / k 0
  • the unit wave number in the y-axis direction is k y / k 0 .
  • the hexagonal lattice can be expressed by sinusoidal irregularities.
  • the hexagonal lattice can be expressed using space vectors a, b, and c that form 120 ° with each other and the amplitude A of the sine wave. That is, the hexagonal lattice can be expressed by superposition of Asin (a ⁇ r), Asin (b ⁇ r), and Asin (c ⁇ r).
  • n is the medium refractive index of the space in which the light beam reciprocates.
  • the modulation index defined by (4 ⁇ nA / ⁇ ) is preferably 0.9 or more and 1.3 or less, more preferably 1 or more and 1.2 or less, and when 1.05 or more and 1.15 or less, It can be said that the effect is preferable.
  • Space vectors a, b, and c are vectors representing the period of the two-dimensional periodic structure part. And it is preferable that those magnitude
  • the distance from the peak to the peak in the figure is preferably 2 / (square root of 3) times (about 1.15 times) the period of the sine wave.
  • the height difference from the top of the mountain to the bottom of the valley is (square root of 3) ⁇ 3 times A.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram showing a light-emitting element according to an embodiment of the present invention.
  • a preferred example of the light emitting device of the present invention relates to a light emitting device in which the first electrode is an opaque transparent electrode.
  • the two-dimensional periodic structure portion may be the same composition portion continuous with the high refractive index shaping layer.
  • the two-dimensional periodic structure portion may be a portion reflecting a periodic structure provided on a glass substrate, for example.
  • those in the light-emitting element of the above-described embodiment can be adopted as appropriate.
  • a light extraction surface a surface for visually recognizing light
  • the shape of the back surface of the light emitting element or the substrate is adjusted.
  • a periodic structure that diffracts (or scatters) light in an annular light vector into a circular light vector window is formed.
  • a non-reflective coating so that components in the air vector window can be extracted with high efficiency with respect to air. It is desirable to design the coat so that the components of the output light are reflected at the near end, not the far end, of the components inside the glass window and outside the air window. It is preferable to perform an anti-air anti-reflection coating on the side of the substrate that contacts the air.
  • an antireflection film may be provided on the high refractive index shaping layer.
  • the antireflection film may prevent unnecessary light from leaking out from the high refractive index shaping layer in the light extraction surface direction.
  • the high refractive index shaping layer may be provided on the glass substrate via the antireflection film.
  • the light emitted from the light emitting layer is emitted from the substrate through the high refractive index shaping layer.
  • the light not emitted from the substrate is returned from the substrate to the high refractive index shaping layer.
  • the light returned to the high refractive index shaping layer reaches the reflection layer.
  • the reflective layer since the reflective layer has a periodic structure, the traveling direction of the light changes, and as a result, the light reflected by the reflective layer is efficiently emitted from the substrate.
  • the light-emitting element is preferably an organic LED as described above.
  • a reflecting mirror is provided on a substrate having a two-dimensional corrugated surface, and a high refractive index layer is provided thereon, which has a flat surface.
  • a transparent electrode, an organic light emitting layer, and a transparent electrode are provided thereon.
  • Each of the two electrodes injects positive and negative carriers into the organic light emitting layer.
  • the organic light emitting layer is composed of two or more layers, each of which plays a role of transporting positive and negative charges and a role of emitting light. A structure in which positive charges and negative charges are injected from the electrode on the substrate side, and vice versa are possible.
  • the refractive index of the high refractive index shaping layer is higher than the refractive index of organic materials for organic LEDs (usually 1.7 to 1.9), and is the same as the refractive index of transparent electrodes (about 2.0 to 2.1 for typical electrode material ITO) More than that.
  • the light condensing property of the high refractive index medium can eliminate the effect of trapping most of the light emission by using a transparent electrode as a waveguide in a normal organic LED.
  • Document 2 the light condensing property of the high refractive index medium can eliminate the effect of trapping most of the light emission by using a transparent electrode as a waveguide in a normal organic LED.
  • ⁇ Light emitted from the active part exits from the transparent electrode or returns to the high refractive index layer by total reflection.
  • the light that has not been extracted to the outside is diffracted by the reflecting mirror surface and converted into a component close to the z-axis, which is effectively extracted from the transparent electrode.
  • the ratio of the x-direction wave number k x and the y-direction wave number k y of the light toward the transparent electrode to the free space wave number k 0 is within a small circle as shown in FIG.
  • the light traveling downward in the high refractive index layer 3 in FIG. 8 has a large power density in the ring made of two circles and a small power density in the small circle.
  • the total reflected light is also limited within a large circle (B).
  • the reflection mirror surface acts as a reflection type diffraction grating, and the spatial wave number is added and subtracted vector-wise to produce a scramble effect.
  • the large power part is moved into the small circle and reaches the transparent electrode 1 again, It is taken out. This is because the scrambling effect has an averaging effect.
  • the structure of FIG. 6 has the following effects.
  • the light emitted from the organic LED is radiated without wasting the guided light.
  • k x, k y is the component within a small circle in FIG. 6 is output to the outside through the transparent electrode 1.
  • k x, small circle outside within great circle of k y is 6, i.e. components that are within the circular ring into a small circle by scrambling the action of totally reflected are but two-dimensional reflection grating Many parts move and are taken out. By repeating the above, the light emitted from the active part is efficiently extracted.
  • the absorption loss of the material and the reflection loss of the mirror can be reduced to zero, the entire emission of the organic LED can be extracted to the outside.
  • the above scrambling will be described in more detail.
  • the two-dimensional reflective diffraction grating is a hexagonal grating and its fundamental period is made equal to the wave number of light in the air, the light beam filling the small circle is equally scrambled into the six dotted circles in FIG.
  • the reflected light returns in a uniform distribution within the small circle and ring.
  • Example 1 realizes an organic LED which is a light emitting element as shown in FIG.
  • the two-dimensional periodic structure portion and the shaping layer are continuously manufactured with the same composition.
  • a resist for electron beam exposure (ZEP-520A manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was applied to a quartz substrate having a thickness of 0.5 mm, and a predetermined pattern was drawn with an electron beam. Note that the resist can be applied in the same manner when a glass substrate is used instead of the quartz substrate.
  • the drawing pattern is the pattern shown in FIG. 3, and irregularities were formed in a hexagonal lattice pattern with a pitch of 610 nm each of peaks and peaks and valleys and valleys. This is because it is assumed that the center wavelength of the emitted light is about 530 nm.
  • the surface opposite to the resist patterning surface may be a flat surface or may not be flat.
  • the applied resist was developed. Thereafter, only the quartz portion exposed by dry etching was etched by 115 nm. Etching conditions were CHF 3 40 sccm, O 2 2 sccm, RF power 100 W, and pressure 1 Pa.
  • the step of providing the periodic structure portion on the substrate may be a step using photolithography or nanoimprint. After etching, the remaining resist was removed. In this way, a two-dimensional periodic structure (uneven pattern) was obtained.
  • sputtering was performed to form a SiO 2 layer.
  • the sputtering conditions were such that the pressure in the chamber was 0.2 Pa and the RF power was 800 W. At this time, a lower pressure is preferable because a film is formed up to the inner part of the recess.
  • Etching with argon (Ar) gas was simultaneously performed by applying RF power to the substrate side.
  • the thickness of SiO 2 was 1000 nm, and this sputtering and etching may be performed alternately.
  • the original plate can be prepared in advance having a honeycomb-like undulation
  • a substrate obtained by transferring it to a UV curable resin to obtain a desired curved surface may be used.
  • a high refractive index shaping layer made of tantalum pentoxide and having a thickness of 1000 nm was formed on the SiO 2 layer by sputtering. Since the composition of the high refractive index shaping layer only needs to have a high refractive index, for example, titanium oxide or niobium pentoxide may be used.
  • the film forming method is not limited to sputtering, but may be vapor deposition or CVD.
  • the high refractive index shaping layer When the high refractive index shaping layer is formed, it may be formed while performing etching as appropriate, as in the case of forming the SiO 2 layer. By appropriately performing etching, the high refractive index shaping layer can be flattened.
  • the etching amount be larger than the etching amount applied to the SiO 2 layer.
  • the high refractive index shaping layer may be flattened using chemical mechanical polishing (CMP).
  • the ITO layer is shaped by sputtering.
  • Masking may be provided except for the portion where the ITO layer is formed, and ITO may be formed only in the portion where there is no masking.
  • an organic light emitting layer is formed on the organic LED using a known method.
  • the organic light emitting layer includes a hole transport layer, a light emitting layer, and a charge transport layer.
  • an electrode layer is formed on the organic light emitting layer.
  • the opaque electrode is formed by evaporating aluminum on the organic light emitting layer.
  • an organic LED can be manufactured.
  • High-definition display organic LED Example 2 realizes an organic LED which is a light emitting element as shown in FIG.
  • This organic LED has a two-dimensional periodic structure with a metal reflective layer.
  • a SiO 2 layer was formed.
  • a reflective layer made of 200 nm aluminum was formed on the SiO 2 layer by sputtering.
  • a high refractive index shaping layer having a thickness of 1000 nm made of tantalum pentoxide was formed on the reflective layer by sputtering. After flattening the surface of the high refractive index shaping layer, the active part is formed according to a known method. In this way, an organic LED can be manufactured.
  • the two-dimensional periodic structure was designed. In order to realize the change of direction of the emitted light with a small number of reciprocations, diffraction rather than scattering is advantageous. Furthermore, the following design was made so that the largest possible proportion of the radiated wave in the high refractive index medium can be converted into a propagating wave in the low refractive index medium by one diffraction.
  • the diffraction grating pattern was a two-dimensional diffraction grating (triangular grating) in which basic spatial wavenumber irregularities in three directions were superimposed.
  • the basic spatial frequency was a free space wave number of green (wavelength 530 nm), and the interval between the uneven peaks was 610 nm.
  • the depth of the unevenness is a numerical value that determines the diffraction efficiency. In order to prevent the zero-order diffraction efficiency from exceeding 20% with respect to the normal incident light, the depth of the unevenness was set to 110 nm.
  • the thickness of the high refractive index layer (Ta 2 O 5 ) was selected to be 1 ⁇ m so that the number of TE modes and TM modes was 5-6.
  • the above-mentioned substrate and organic LED were produced. Quartz was used for the substrate, and a concavo-convex pattern was formed on the surface in a triangular lattice pattern by electron beam exposure and reactive ion beam etching. The uneven shape was generally a step shape. On top of this, a SiO 2 layer, which is the same material as the substrate, was formed by bias sputtering to form a gentle concavo-convex pattern structure. Further, a high refractive index layer (Ta 2 O 5 ) was formed thereon by bias sputtering to smooth the surface. Smoothing is an important matter for forming a high-quality organic light emitting layer thereon. For comparison, at the same time, a sample without unevenness having the same film configuration and a simple quartz substrate not including a high refractive index layer (Ta 2 O 5 ) were prepared.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of an active unit according to the third embodiment.
  • FIG. 8 shows a comparison of the external quantum efficiency of the current density versus the optical output, which is the most important characteristic.
  • FIG. 8 is a diagram showing the external quantum efficiency of current density versus light output.
  • A Standard substrate, ie organic LED on quartz substrate
  • B Organic LED on a flat high refractive index layer (Ta 2 O 5 )
  • C Organic LED on a high refractive index layer (Ta 2 O 5 ) with irregularities on the lower surface and a flat upper surface Compared.
  • (a) and (b) were almost equal, and (c), that is, the target structure, light was significantly increased.
  • the output of the structure of (c) was 1.4 times that of the organic LED on the quartz substrate of (a).
  • the present invention can be used in the field of optical equipment.

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Abstract

【課題】 内部発光の取り出し効率の高い有機LED及びその基板を提供する。 【解決手段】 本発明は,基本的には発光面に凹凸を設けるのではなく,裏面に周期性を有する構造を設けることで,内部発光の取り出し効率の高い有機LEDを得ることができるという知見に基づく。本発明の第1の側面は,高屈折率整形層,発光層及び反射層をこの順で有する発光素子であって,反射層が周期的な構造を有する発光素子に関する。この周期的な構造の例は周期的な凹凸や周期的な起伏である。

Description

内部発光の取り出し効率の高い発光素子及び発光素子用基板
 本発明は,内部発光の取り出し効率の高い発光素子(特に有機LED)及び発光素子用基板に関する。
 特許第5054464号公報(特許文献1)及び特許第4253302号公報(特許文献2)には,有機EL発光素子が開示されている。
 特許文献2の請求項1は,
 「基板と,
 前記基板上に設けられ,第一の電極および第二の電極により有機発光層が狭持されてなる発光部と,
 前記発光部に隣接して設けられ,表面に凹凸が形成された基材,およびこの凹凸の凹部を埋めて堆積された媒質を含む回折格子部とを具備し,
 前記基材表面の凹凸は,複数の第一の領域の集合体からなる第二の領域を構成し,第一の領域のそれぞれにおける凹凸は,所定の方向の基本並進ベクトルをもって基板平行方向に二次元周期的に配置され,それぞれの第一の領域内の凹凸の基本並進ベクトルの方向は一致せずに異なり,
 前記媒質は,隣接する前記電極の材料とは異なる材料であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子」である。
 特許文献3にはアクティブエレクトロルミネッセンス(EL)層を有する有機LEDが開示されている。
 特許文献3及び非特許文献1には,有機LEDの様々な要素が開示されており,その参照文献も含めて本発明の背景技術となる。
 非特許文献2には,内部発光の取り出し効率を向上させるため,電極,発光層,透明電極を含む各層の形状を波状にした有機LEDが提案されている。
特許第5054464号公報 特許第4253302号号公報 特開2006-190682号公報
Kanchan Saxena, V. K. Jain, Dalip Singh Mehta A review on the light extraction techniques in organic electroluminescent devices Optical Materials, vol.32,pp.221-233, 2009. Won Hoe Koo et. al Nature Photonics vol.4,April 2010, pp.222-226
 有機LEDは,ディスプレイ機器,照明機器に重要な素子であり,電気入力に対する光出力の大きさが重要である。電気入力に対し有機LED内部での光の発生効率は十分高い域に達しつつある。しかし,内部で発生した光を外部,即ち空気中に取り出す効率は,高くない(例えば20%)という問題がある。
 有機LEDの光取り出し効率が高くない原因は,発生したランダムな光のもつ波数ベクトルの大きさごとに次のように整理される。
(有機LED面内にx,y軸を定義する。着目する光の空気中での波数の大きさをkとする。xy面内波数ベクトルの大きさをkとする)
透明電極,有機発光層のうち屈折率の最大のものの屈折率をnとし,基板(ガラスなど)の屈折率=nとする。
[1] k/k<1の成分・・(界面のフレネル反射を除いて)空気中に取り出される。
[2] n>k/>1の成分・・光は基板中を伝搬するが界面の全反射のため空気中に出られない。
[3] n>k/k>nの成分・・光は透明電極や有機発光層で形成される導波路の導波モードになりxy面に平行に伝わる。透明電極の損失や,不透明金属反射電極における損失(プラズモン損失)によって失われる。
 取り出し効率を高めるためには,[3]の光を[2]又は[1]に,[2]の光を[1]に変換する手段が必要である。しかしながら,以下のように従来の手法はせいぜい部分的改善に留まっていて効果が不十分である。
 従来の有機LEDの光取り出し効率が不十分なのは主に次の二つの要因による。
第一の要因は以下のとおりである。ガラス基板の屈折率に比べて透明電極や有機発光層の屈折率が高い。このため,透明電極や有機発光層の面方向に,光を閉じ込める導波モードが生ずる。透明電極や不透明電極に付随する光損失により消失する成分がある。また,有機LED内で発光した光のうち,光を閉じ込める導波モードと結合した成分は,外部に放出されない。
 第二の要因は以下のとおりである。発生した光のうち基板ガラスに閉じ込められて取り出されない成分も多い。このため,従来の有機LEDは,内部発光の取り出し効率が低い。
 即ち,従来の有機LEDは,光が放射される際に,全反射が起こり光のある成分が有機LED内に戻る。このため,従来の有機LEDは,内部発光の取り出し効率が低い。
 特許文献2や非特許文献2は,理論的な上記二つの課題と並んで,実用上大きな問題がある。それはこれらの文献に開示されたアクティブ部が平坦ではない。一方,有機発光層は平坦な面上に形成するのが最も良い。したがって,光取り出し効果を高める為に,こられの文献に開示された有機LEDは,発光層に凹凸や波打ちを設けており,この構造は発光効率の低下,製造歩留まりの低下及び製品の短寿命化を招く。
 本発明は,内部発光の取り出し効率の高い発光素子(例えば有機LED)及び発光素子用基板を提供することを目的とする。
 本発明は,アクティブ部に隣接して有機発光層や透明電極より屈折率の高い高屈折率整形層を設ける。アクティブ部とは,アクティブエレクトロルミネッセンス部ともよばれる部分であり(特許文献3を参照),有機発光層とその両側の透明ないし不透明な電極を合わせたものを指す。有機発光層は,電子注入層,電子輸送層,正孔注入層,正孔輸送層,狭義の発光層を含む層を意味する。二つの電極(第1の電極及び第2の電極)のうち少なくとも一つは透明である。これにより,アクティブ部で生じた光が多モード導波モードとなり,透明電極付近に局在する最低次モード(TE及びTM)と結合する事態を軽減できる。よって,本発明は,アクティブ部に生ずる光閉じ込め問題を解消できる。導波モードがTE,TMおのおの一つの単一モード導波の場合と比較して,上記した[3]の光(n>k/k>nの成分)がうける透明電極損失,プラズモン損失を大幅に軽減できる。同時に,本発明の発光素子は,高屈折率整形層のうち,アクティブ部と反対に位置する面に2次元周期構造部を形成したものが好ましい。
 この2次元周期構造は,回折作用により[3]の光(n>k/k>nの成分)を[2](n>k/k>1の成分)又は[1](k/k<1の成分)に,[2]の光を[1]に変換して,[1]の光を外部に取り出す作用を有する。即ち,高屈折率整形層を伝播する光がガラスや空気中に放出されるように,2次元周期構造部に接触した光を放出面の臨界角以内の角度に効率よく変換できる。これにより,従来の有機LEDと異なり本発明は,発光効率を高めることができる。
 本発明の第1の側面は,アクティブ部1,高屈折率整形層3,及び2次元周期構造部5をこの順で含む,発光素子7に関する。発光素子の例は,有機LEDである。
 アクティブ部1は,第1の電極11と,第1の電極に隣接した有機発光層13と,有機発光層13に隣接した第2の電極15とを含む。第2の電極15は,透明電極である。高屈折率整形層3は,第2の電極15,及び発光層13のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有する。
 本発明の発光素子の好ましい例は,第1の電極が透明電極の発光素子である。この発光素子の高屈折率整形層は,第1の電極,第2の電極,及び前記発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有するものが好ましい。
 本発明の発光素子の好ましい例は,第1の電極が,不透明電極の発光素子に関する。
 本発明の発光素子の好ましい例は,2次元周期構造部は,2次元的に周期的に配置された凹凸を含むものである。さらに,2次元周期構造部は,2次元周期回折格子であることが好ましい。
 高屈折率整形層のアクティブ部と接する面は,平面であるものが好ましい。このように回折格子が周期的構造を有していても,高屈折率整形層により形状が整形され,平らな面がアクティブ部と接するものが好ましい。
 本発明の発光素子の好ましい例は,2次元周期構造部と隣接した基板を更に有するものである。
 本発明の第2の側面は,有機LED用の基板に関する。この基板は,その上にアクティブ部を形成することで,有機LED素子として機能する。この基板は,2次元周期構造を有する透明基板17と,透明基板17上に設けられた前記2次元周期構造を反映した形状を有する2次元周期構造部と,2次元周期構造部上に設けられた高屈折率整形層とをこの順に有する。透明基板17の例は,ガラスである。2次元周期構造部と高屈折率整形層とは別の層でなく,同一の材質からなる連続した層であっても良い。高屈折率整形層の上面は平坦である。高屈折率整形層の上面にはアクティブ部が設けられる面である。アクティブ部は,第1の電極と,第1の電極に隣接した有機発光層と,前記有機発光層に隣接し,前記高屈折率整形層側に存在する第2の電極とを含む。第2の電極は透明電極である。高屈折率整形層は,第2の電極,及び有機発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有する。もっとも第1の電極が透明電極である場合,高屈折率整形層は,第1の電極,第2の電極,及び有機発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有するものであることが好ましい。
 この側面の基板の好ましい態様は,2次元周期構造部が,反射鏡面である。
 本発明は,内部発光の取り出し効率の高い発光素子(例えば,有機LED)を提供できる。
図1は,本発明の発光素子の基本構成を示す図である。 図2は,本発明のある態様の発光素子を示す概念図である。 図3は,2次元周期構造部の例を示す図である。 図4は,光線のx方向及びy方向の波数を示す図である。 図5は,本発明のある態様の発光素子を示す概念図である。 図6は,本発明の有機LEDの構成を説明するための概念図である。 図7は,実施例3におけるアクティブ部の構成を示す図である。 図8は,電流密度対光出力の外部量子効率を示す図である。
 図1は,本発明の発光素子の基本構成を示す図である。本発明の第1の側面は,アクティブ部1,高屈折率整形層3,及び2次元周期構造部5をこの順で含む,発光素子7に関する。発光素子の例は,有機LED(有機電界発光素子)である。2次元周期構造部5は,高屈折率整形層3の一部分であっても構わないし,別の層であっても構わない。有機LEDは,正負の両電荷の注入,輸送することが可能なアクティブ部を有する。そして,アクティブ部において,正負の両電荷により生成された正孔と電子が有機発光層において,再結合することにより光を発生できる。また,有機LEDは,有機発光層における発光物質から発光される光を受けて発光する物質を更に含んだものであってもよい。
 次に本発明の作用を説明する。先に記したように,発生したランダムな光は,以下の3つの成分に分類される。
[1] k/k<1の成分・・(界面のフレネル反射を除いて)空気中に取り出される
[2] n>k/k>1の成分・・光は基板中を伝搬するが界面の全反射のため空気中に出られない
[3] n>k/k>nの成分・・光は透明電極や有機発光層で形成される導波路の導波モードになりxy面に平行に伝わる。透明電極の損失や,不透明金属反射電極における損失(プラズモン損失)によって失われる。
 光取り出し効率を高めるためには,[3]の光を[2]又は[1]に,[2]の光を[1]に変換する手段が必要である。図1はその手段を提供する。
 高屈折率整形層は,基本モードであった[3]の波を高屈折率整形層部に引き出して透明電極,不透明電極の損失を軽減する。
高屈折率整形層と基板材料部の境をなす2次元回折格子は,
まず[3]の波を[2]又は[1]に変換し,[1]の波を空気中に,[2]の波を基板材料中に取り出す作用をする。
 次に,基板材料中の波[2]は,空気との界面で反射されるほか,2次元回折格子で回折され[1]に変換された成分は空気中に取り出される。
変換されず[3]または[2]に留まった波は,高屈折率整形層または基板材料内を往復反射されるなかで[2],又は[1]に変換される。透明電極の残留損失,反射電極の不完全反射損失による以外は,遅かれ早かれ空気中に取り出される。
 本発明の高屈折率整形層は,プラズモン損失を最小にする効果を有する。金属と透明誘電体とが接する界面に沿って光が伝わるプラズモン波は,基本モードの一つである。そして,このプラズモン波は,高屈折率整形層の存在と2次元周期構造部の凹凸のもつ回折効果(この場合モード変換効果)により[2]又は[1]の光に変換され,空気中に有効に取り出される。
 図2は,本発明のある態様の発光素子を示す概念図である。図2に示される発光素子は,第1の電極及び第2の電極が透明電極である。透明電極の例は,ITO電極である。有機LEDに関してITO電極は公知である。本発明においては,公知の方法に従って製造したITO電極を適宜採用すればよい。この態様の発光素子は,斜めに伝搬する光においてもxy面内移動距離が小さいので像のにじみが小さく,特に精細度の高い発光素子に効果的に利用できる。この発光素子の高屈折率整形層は,第1の電極,第2の電極,及び発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有する。
 この場合,高屈折率整形層3に隣接して設けられる2次元周期構造部5は,高屈折率整形層3から2次元周期構造部5へ伝播した光が反射する反射層として機能するものが好ましい。反射層として機能する2次元周期構造部5の例は,金属層である。金属層の例は,アルミニウムからなる層である。金属層の厚さは薄くてもよい。また,金属層は金属膜であってもよい。このような膜は,例えば2次元周期構造を有するガラス基板上に金属を蒸着させることやスパッタリングを用いることにより形成できる。この場合,金属層の厚さの例は,10nm以上500nm以下であり,20nm以上300nm以下が好ましく,40nm以上200nm以下であれば更に好ましい。この場合,2次元周期構造における山部分と谷部分の高さの差は,80nm以上200nm以下が好ましい。
 2次元周期構造部は,好ましくは,2次元的に周期的に配置された凹凸を含むものである。さらに,2次元周期構造部は,2次元周期回折格子であることが好ましい。2次元周期構造部は,例えば,山部分と谷部分とが2次元的に周期的に存在する部分を意味する。
 図3は,2次元周期構造部の例を示す図である。図3に示されるように,2次元周期構造部の例は,六角格子状に山部分と谷部分とが存在する層である。もっとも,2次元周期構造部は,正方格子状に山部分と谷部分とが存在してもよいし,長方格子状に山部分と谷部分とが存在してもよい。山部分と谷部分とは滑らかな起伏により形成されるものが好ましい。
 2次元周期構造部における2次元周期性が,1次元周期関数の重ね合わせに分解できるとき,その周期(たとえば山部分から山部分までの距離)は,アクティブ部において発光する光の自由空間波長をλとした場合,0.5λ以上2.0λ以下が好ましく,0.7λ以上1.5λ以下がより好ましい。具体的な1次元周期の例は,発光層において青色の光が放出される場合,430nm以上470nm以下であり,発光層において赤色の光が放出される場合,550nm以上750nm以下が好ましく,600nm以上700nm以下でもよい。
 高屈折率整形層3は,2次元周期構造部上に高い屈折率を有する物質を蒸着やスパッタリングすることで形成できる。そのような物質の例は,酸化タンタル(Ta)又は酸化ニオブ(Nb)である,高屈折率整形層3は,2次元周期構造部の凹凸を軽減し,表面をおよそ平坦にすることができればよい。このため,高屈折率整形層3は,2次元周期構造部の谷部分を埋めることができるように形成されていればよい。
 高屈折率整形層のアクティブ部と接する面は,平面であるものが好ましい。このように回折格子が周期的構造を有していても,高屈折率整形層により形状が整形され,平らな面がアクティブ部と接するものが好ましい。2次元周期構造部における谷から山までの平均高さをhとしたときに,高屈折率整形層のアクティブ部と接する面の起伏は0.1h以下が好ましく,0.05h以下であればより好ましく,0.01h以下であれば更に好ましい。高屈折率整形層のアクティブ部と接する面が平坦であれば,アクティブ部に含まれる各層も平坦にすることができる。そうすれば,アクティブ部における電子移送やホール移送がスムーズに行われる。このため,高屈折率整形層のアクティブ部と接する面が平面であれば,発光効率自体を向上させることができる。
 高屈折率整形層上にアクティブ部1が形成される。アクティブ部1は,第1の電極11と,第1の電極に隣接した有機発光層13と,有機発光層13に隣接した第2の電極15とを含むアクティブ部1は,例えば,有機LEDにおける公知のアクティブ部を適宜採用すればよい。
 第2の電極15は,高屈折率整形層の表面上に形成されればよい。第2の電極15は,透明電極であり,透明電極の例はITO(indium tin oxide)電極である。ITO電極は公知のスパッタリング装置を用いることで容易に形成することができる。一般的に,ITO電極の厚さは,50nm以上300nm以下である。第1の電極が透明電極である場合,第2の電極と同様にして作成することができる。第1の電極及び第2の電極はいずれが陽極電極であっても陰極電極であってもよい。
 有機発光層13は,例えば,第2の電極15上に形成される。有機発光層は,陽極電極から正孔を,陰極電極から電子を注入される。そして,有機発光層13において,正孔と電子の再結合が生じ,これによって光を放出できる。有機発光層13は,単層であっても多数の層からなっていてもよい。有機発光層は正孔と電子の再結合により光を放射する有機発光分子以外に,有機発光分子から発生した光を吸収して別の光を発生できる蛍光物質(または燐光物質)を含んでいてもよい。
 有機発光層13は,正孔または電子の易動度を高めることができる正孔輸送物質または電子輸送物質を含んでいてもよい。一方,有機発光層は特定の空間的位置に正孔または電子を補足するまたは輸送性を低下させるための正孔捕捉物質または電子捕捉物質を含んでいてもよい。これら有機発光分子,蛍光物質(または燐光物質),正孔輸送物質,電子輸送物質,正孔捕捉物質,電子捕捉物質は同一の層に含まれていてもよく,または別個の層に分離されていてもよい。複数の層に分離されてこれらの構成物質を含む層が形成されている場合も,本発明においては一括して有機発光層とよぶ。
 上記のとおり,有機発光層は,電界発光材料を含むものが好ましい。電界発光材料の例は,各種金属錯体型発光材料(配位子として8-キノリノール,ベンゾオキサゾール,アゾメチン,フラボン等。中心金属としてはAl,Be,Zn,Ga,Eu,Ru,Pt等)や蛍光色素系発光材料(オキサジアゾール,ピラゾリン,ジスチリルアリレーン,シクロペンタジエン,テトラフェニルブタジエン,ビススチリルアントラセン,ペリレン,フェナントレン,オリゴチオフェン,ピラゾロキノリン,チアジアゾロピリジン,層状ペロプスカイト,p-セキシフェニル,スピロ化合物等)を用いることができる。あるいは各種高分子材料(ポリフェニレンビニレン,ポリビニルカルバゾール,ポリフルオレン,等)を発光材料としたり,または非発光性の高分子材料(ポリエチレン,ポリスチレン,ポリオキシエチレン,ポリビニルアルコール,ポリメタクリル酸メチル,ポリアクリル酸メチル,ポリイソプレン,ポリイミド,ポリカーボネート等)をマトリックスとして,各種発光材料または蛍光材料を混合したり共重合したりすることも可能である。また,各種有機正孔または電子輸送材料(トリフェニルアミン,等)を介在させることもできる。更には,各種正孔または電子注入層(例えばLi,Ca,Mg,Cs,CuPc等)を介在させることも可能であり,素子構成に合わせて適宜材料を選ぶことができる。これら各種の有機電界発光材料の中でも,特にその分子構造の中に,異方的に発光可能な発光の大きな遷移双極子モーメントを持つ有機化合物であることが望ましく,またそのような発光に関わる遷移双極子モーメントを持つ分子骨格部分自身,または該分子骨格部分以外の分子の一部に分子または分子骨格の一部の配向状態を制御することを容易ならしめるような分子構造を有することが望ましい。
 第1の電極11は,例えば,有機発光層13上に形成される。第1の電極11は,第2の電極と同様にして作成できる。
 本発明の発光素子は,各種薄膜形成技術,例えばスピンコート法,塗布法,キャスト法,スパッタ法,真空蒸着法,分子線蒸着法,液相エピタキシャル法,原子層エピタキシャル法,ロール法,スクリーン印刷法,インクジェット法,電界重合法,ラビング法,吹き付け法,水面展開法,又は,ラングミュア・ブロジェット膜法を用いて製造できる。
 本発明の発光素子は,基板を有しても良い。基板の例は,ガラス,シリコン,ガリウム砒素,等の無機物質からなる基板や,ポリカーボネート,ポリエチレン,ポリスチレン,ポリプロピレン,ポリメタクリル酸メチル,等の有機物質からなる基板または両者を複合化させた基板を用いることができる。
 また,本発明の発光素子は,その素子形成の過程で,必要とする光学的素子構造を作製するために,各種精密加工技術を用いることができる。例えば,精密ダイアモンド切断加工,レーザ加工,エッチング加工,フォトリソグラフィ,反応性イオンエッチング,集束イオンビームエッチングが挙げられる。また,あらかじめ加工された有機電界発光素子を複数個配列させたり,多層化したり,またはその間を光導波路で結合したり,またはその状態で封止したりすることもできる。
 この態様の発光素子の動作を説明する。第1の電極11及び第2の電極15に電圧が印加される。すると,有機発光層13において発光が生ずる。有機発光層13において発光した光は,第1の電極11を経て空間に放出される。一方,第1の電極11に到達した光の一部は,有機発光層13へ戻る。一方,有機発光層13において発生した光の一部は,代2の電極15を経て,高屈折率整形層へと伝播する。高屈折率整形層へ伝播した光は,2次元周期構造部へ伝播する。そして,2次元周期構造部にて回折や反射が生じる。2次元周期構造部にて回折や反射が生じた後,光は高屈折率整形層を経由して,第2の電極,有機発光層13及び第1の電極を経て,空間に放出される。なお,2次元周期構造部が反射層として機能しない場合は,2次元周期構造部へ到達した光の一部が,2次元周期構造部から放出される。2次元周期構造部には隣接したガラス基板がある場合は,光の一部は,2次元周期構造部からガラス基板を経て放出される。
 次に,図3に示される2次元周期構造部を例にして,2次元周期構造部における光の挙動について説明する。この2次元周期構造部では,六方格子状の周期にて凹凸が構成されており,この凹凸において光が反射する。以下の説明では,有機LEDが,xy平面に平行な膜又は層を複数有し,垂直方向をz方向とする。
 図4は,光線のx方向及びy方向の波数を示す図である。x軸方向の単位波数は,k/kであり,y軸方向の単位波数は,k/kである。六方格子は正弦状の凹凸で表現することができる。そして,六方格子は,互いに120°を成す空間ベクトルa,b,cと正弦波の振幅Aを用いて表すことができる。すなわち,六方格子は,Asin(a・r),Asin(b・r)及びAsin(c・r)の重ね合わせで表現できる。2次元周期構造部のある点に光が入射した場合,その光は6方向に互いにほぼ等しい一定の割合で回折される。これにより,光路のインターチェンジがなされる。その点に入射した光がほぼ全部(例えば80%以上)回折されると,上記のインターチェンジ効果が極めて高くなる。回折効率は,ベッセル関数を用いて解析できる。このため,nを光線が往復する空間の媒質屈折率とする。すると,(4πnA/λ)で定義される変調指数が,0.9以上1.3以下が好ましく,1以上1.2以下がより好ましく,1.05以上1.15以下の場合に,上記の効果が高まるため好ましいといえる。たとえば,変調指数が1以上1.2以下の場合,80%~90%の成分が回折される。空間ベクトルa,b,cは,2次元周期構造部の周期をあらわすベクトルである。そして,それらの大きさは,光の波長と同程度であることが好ましい。図の凹凸の山から山までの距離は上記正弦波の周期の2/(3の平方根)倍(約1.15倍)が好ましい。また,山の頂から谷底までの高低差はAの(3の平方根)×3倍となる。
 図5は,本発明のある態様の発光素子を示す概念図である。本発明の発光素子の好ましい例は,第1の電極が,不透明透明電極の発光素子に関する。この態様の発光素子は,有機発光層で発光した光が高屈折率整形層を経て放出される。このため,特に2次元周期構造部は,高屈折率整形層と連続した同一の組成部分であってもよい。また,2次元周期構造部は,例えばガラス基板に設けられた周期構造を反映した部分であってもよい。その他の構成は,先に説明した態様の発光素子におけるものを適宜採用することができる。
 先に説明したとおり,たとえば,有機LEDの分野では,光の取り出し面(光を視認する面)に加工を施すものが知られている。本発明は,発光素子又は基板の裏面の形状を調整する。基板の裏面には,たとえば,円環状の光線ベクトル内の光を円形の光線ベクトル窓内に回折(又は散乱)させるような周期構造を形成する。
 出力光のうち,対空気ベクトル窓内部の成分を空気に対して高い効率で取り出せるように無反射コートを行うことが好ましい。出力光のうち対ガラス窓の内部・対空気窓の外側部分の成分を遠端ではなく近端で反射されるようにコートを設計することが望ましい。基板のうち空気に接する側は,対空気無反射コートを行うことが好ましい。
 上記のような特性を達成するために,高屈折率整形層に反射防止膜が設けられても良い。反射防止膜は,高屈折率整形層から光の取り出し面方向に不必要な光が漏れ出すことを防止するものであっても良い。そして,この反射防止膜を介して,たとえば高屈折率整形層は,ガラス基板上に設けられても良い。
 発光層で発光した光の一部は,高屈折率整形層を経て基板から放出される。一方,基板から放出されなかった光は,基板から高屈折率整形層へと戻される。高屈折率整形層へと戻された光は,反射層へ到達する。この際,反射層が周期的な構造を有しているため,光の進行方向が変化し,その結果,反射層で反射した光は,基板から効率的に放出されることとなる。
 次に,図6に示す発光素子について説明する。この発光素子も先に説明したものと同様に好ましいものは,有機LEDである。この発光素子は,2次元波形表面をもつ基板の上に反射鏡が設けられ,その上に高い屈折率層があり,それは平坦な表面をもつ。その上に透明電極,有機発光層,透明電極が設けられる。2つの電極はそれぞれ正負のキャリヤを有機発光層に注入する。有機発光層は二つ以上の層からなり,正負の電荷を輸送する役割,発光する役割などをそれぞれ担う。正の電荷,負の電荷は基板側の電極から注入される構造,その反対の構造,いずれも可能である。
 高屈折率整形層の屈折率は,有機LED用有機材料の屈折率(通常1.7ないし1.9)より高く,透明電極の屈折率(代表的な電極材料であるITOでは2.0から2.1程度)と同等かそれ以上である。
 このような構造では,高屈折率媒質の集光性により,通常の有機LEDで透明電極が導波路となって発光の多くがトラップされる効果を消滅させることができる(トラップ効果は例えば非特許文献2に説明されている)。
 アクティブ部から発した光は透明電極から外部に出るか,高屈折率層まで全反射により戻る。外部に取り出されなかった光は反射鏡面で回折され,z軸に近い成分に変換され,それは透明電極から有効に取り出させる。
 上記の動作について以下説明する。透明電極に向かう光がもつx方向波数kx,y方向波数kyの自由空間波数k0に対する比が図6のAのように小さい円内にあれば外部に取り出される。その結果,図8で高屈折率層3を下向きに進む光は二つの円で作る円環に大きなパワー密度,小円内には小さいパワー密度をもつ。全反射される光も大きい円内に制限されている(B)。反射鏡面は反射型回折格子の作用があり,その空間波数だけベクトル的に加算・減算されてスクランブル効果が生じ,パワーの大きな部分が小円内に移され再び透明電極1に達したとき外部に取り出される。これはスクランブリング効果が平均化作用をもつためである。
 以上を要約すると,図6の構造は,以下の効果を有する。有機LEDから発した光を導波光に空費することなく放射光にする。放射光のうち,kx,kyが図6の小円内にある成分は透明電極1を通り抜けて外部に出力される。放射光のうち,kx,kyが図6の小円外・大円内,即ち円環内にある成分は全反射されるが2次元反射型回折格子のスクランブリング作用により小円内に多くの部分が移動し外部に取り出される。以上の繰り返しによりアクティブ部の発光は効率よく取り出される。材料の吸収損,鏡の反射損をゼロにできれば有機LEDの全発光を外部に取り出すことができる。上のスクランブリングについてより詳しく説明する。2次元の反射型回折格子を六方格子とし,その基本周期を光の空気中の波数と等しくした場合,小円を埋める光線群は図8の六つの点線の円に均分にスクランブルされる。小円内が空,円環部分が充実した光の束が回折格子に入射するとき,反射光は小円,円環内を均した分布となって戻っていく。
 本明細書は,明記された内容のみならず,出願時において公知である全ての技術内容を含むものである。特に,明細書中に引用された文献については,引用することによりその全内容が本明細書に取り込まれるものである。
 大画素系有機LED
 実施例1は,図5に示されるような発光素子である有機LEDを実現するものである。この有機LEDは,2次元周期構造部と整形層とが連続して同一の組成にて製造されたものである。
 厚さ0.5mmの石英の基板に電子ビーム露光用レジスト(日本ゼオン製ZEP-520A)を塗布し所定パターンを電子ビームで描画した。なお,石英基板に替えてガラス基板を用いる場合も同様にレジストを塗布できる。描画パターンは,図3に示されるパターンであり,六方格子状に,山と山,谷と谷のそれぞれ610nmピッチにて,凹凸を形成した。これは,発光する光の中心波長が530nm程度であると想定したためである。なお,基板の面のうち,レジストをパターニングする面と反対の面は平坦な面であっても良いし,平坦でなくてもよい。
 塗布したレジストを現像した。その後,ドライエッチングにより露出した石英部分のみを115nmエッチングした。エッチング条件はCHF40sccm,O2sccm,RF電力100W,圧力1Paとした。基板に周期構造部を設ける工程は,光リソグラフィーやナノインプリントを用いる工程であってもよい。エッチング後,残留したレジストを除去した。このようにして,2次元周期構造(凹凸パターン)を得た。
 次に,スパッタリングを行い,SiO層を成膜した。スパッタリングの条件は,チャンバー内の圧力を0.2Paとし,RF電力を800Wとした。この際,圧力が低い方が,凹部の奥部分まで所為膜されるため好ましい。基板側にもRF電力を印加することで,アルゴン(Ar)ガスによるエッチングを同時に行った。SiOの厚さは1000nmであった,このスパッタリングとエッチングを交互に行っても良い。スパッタリングとエッチングを組み合わせて行うことで,スパッタリングにより形成された凹凸の表面の急激な角度変化を滑らかにし,滑らかな起伏のある曲面を得ることができた。
 なお,あらかじめハチの巣状の起伏を有するに原板を準備できれば,それをUV硬化樹脂に転写して所望の曲面を得たものを基板として用いてもよい。
 SiO層上に五酸化タンタルからなる1000nmの膜厚を有する高屈折率整形層をスパッタリングにより形成した。なお,高屈折率整形層の組成は屈折率が高ければよいため,例えば酸化チタンや五酸化ニオブを用いてもよい。成膜方法は,スパッタ法のみならず,蒸着法又はCVD法でもよい。高屈折率整形層を成膜する際は,SiO層を成膜した際と同様,適宜エッチングを行いながら成膜してもよい。エッチングを適宜行うことで,高屈折率整形層を平坦にすることができる。エッチングを行いつつ高屈折率整形層を成膜する場合,エッチング量をSiO層に施したエッチング量よりも多くすることが好ましい。なお,高屈折率整形層は,化学機械研磨(CMP)を用いて,表面を平坦にしても良い。
 次に,ITO層をスパッタリングにより整形する。ITO層を形成する部分以外にはマスキングを設け,マスキングがない部分のみにITOを形成すればよい。その後,有機LEDに公知の方法を用いて,有機発光層を形成する。有機発光層は,正孔輸送層,発光層及び電荷輸送層を含む。有機発光層を形成した後,有機発光層上に,電極層を形成する。本実施例においては,たとえば,アルミニウムを有機発光体層上に蒸着することで,不透明電極を形成する。このようにして有機LEDを製造できる。
 高精細ディスプレイ系有機LED
 実施例2は,図2に示されるような発光素子である有機LEDを実現するものである。この有機LEDは,2次元周期構造部が金属の反射層のものである。
 実施例1と同様にして,基板に周期構造を形成した後に,SiO層を成膜した。SiO層上に,スパッタリングを用いて200nmのアルミニウムからなる反射層を形成した。反射層上に,五酸化タンタルからなる1000nmの膜厚を有する高屈折率整形層をスパッタリングにより形成した。高屈折率整形層の表面を平坦にした後に,公知の方法に従って,アクティブ部を形成する。このようにして,有機LEDを製造できる。
 はじめに2次元周期構造部の設計をおこなった。放射光の方向転換を少ない往復回数で実現するためには,散乱でなく回折が有利である。さらに1回の回折で高屈折率媒質中の放射波のできるだけ大きな割合を低屈折率媒質中の伝搬波に変換できるよう,以下のように設計した。回折格子パターンを3方向の基本空間波数凹凸の重ね合わせた2次元回折格子(三角格子)とした。基本空間周波数を緑色(波長530nm)の自由空間波数とし,凹凸の山と山の間隔を610nmとした。凹凸の深さは,回折能率を決める数値である。零次回折能率が垂直入射光に対し20%を超えないようにするため,凹凸の深さを110nmとした。高屈折率層(Ta)の厚さを,TEモードとTMモードの数が共に5~6となるよう1μmに選んだ。
 次に上記の基板および有機LEDを作製した。基板には石英を用い,表面に三角格子状に凹凸パターンを電子ビーム露光と反応性イオンビームエッチングで作製した。凹凸形状はおおむねステップ状であった。その上に基板と同じ材料であるSiO層をバイアススパッタリング法で成膜して緩やかな凹凸パターン構造に形成した。さらにその上に高屈折率層(Ta)をバイアススパッタリング法で成膜し,表面を平滑化した。平滑化はその上に良質な有機発光層を形成するための重要な事項である。比較のため,同時に,同じ膜構成の凹凸なし試料,更に高屈折率層(Ta)を含まない単なる石英基板も用意した。
 その3種類の基板上に透明電極・有機発光層・反射電極からなるアクティブ部を形成して有機LEDに仕上げた。図7は,実施例3におけるアクティブ部の構成を示す図である。
 次に作成した有機LEDの評価を行った。最も重要な特性である電流密度対光出力の外部量子効率の比較をしたのが図8である。図8は,電流密度対光出力の外部量子効率を示す図である。広く用いられる基準電流密度(1mA/cm)において,
 (a)標準的な基板,すなわち石英基板上の有機LED
 (b)平坦な高屈折率層(Ta)上の有機LED
 (c)下面に凹凸があり,上面は平坦な高屈折率層(Ta)上の有機LED
を比較した。その結果,(a)及び(b)はほぼ等しく,(c)すなわち目的とする構造は顕著に光が増加した。(a)の石英基板上有機LEDに比べ,(c)の構造の出力は1.4倍という値が得られた。
 更に,石英基板に閉じ込められた光を取り出す目的で,石英基板の外側の面に散乱構造を付加した試料を作製し,同様の測定を行った。その結果,更に約1.2倍の出力向上を得た。標準基板に対する出力向上は1.4倍×1.2倍~1.7倍となり,これは現時点で発表されている取出し効率の最高値である。これは本発明である2次元周期構造の効果を実証したことに他ならない。
  本発明は,光学機器の分野で利用されうる。
  1 アクティブ部  3 高屈折率整形層  5 2次元周期構造部
 7 発光素子
 11 第1の電極  13 有機発光層  15 第2の電極  
 17 透明基板

Claims (7)

  1.  アクティブ部,高屈折率整形層,及び2次元周期構造部をこの順で含む,発光素子であって,
     前記アクティブ部は,第1の電極と,第1の電極に隣接した有機発光層と,前記有機発光層に隣接し,前記高屈折率整形層側に存在する第2の電極とを含み,
     前記第2の電極は透明電極であり,
     前記高屈折率整形層の上面は平坦であり,
     前記高屈折率整形層は,第2の電極,及び前記有機発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有する,
     発光素子。
  2.  請求項1に記載の発光素子であって,第1の電極は,透明電極であり,
     前記高屈折率整形層は,第1の電極,第2の電極,及び前記発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有する,発光素子。
  3.  請求項1に記載の発光素子であって,第1の電極は,不透明電極である発光素子。
  4.  請求項1に記載の発光素子であって,前記2次元周期構造部は,2次元的に周期的に配置された凹凸を含む,発光素子。
  5.  請求項1に記載の発光素子であって,前記2次元周期構造部は,2次元的に周期的に配置された凹凸を含む回折格子である,発光素子。
  6.  2次元周期構造を有する透明基板と,
     前記透明基板上に設けられた前記2次元周期構造を反映した形状を有する2次元周期構造部と,
     前記2次元周期構造部上に設けられた高屈折率整形層と,
     をこの順に有する有機LED用の基板であって,
     前記高屈折率整形層の上面は平坦であり,
     前記高屈折率整形層の上面にはアクティブ部が設けられる面であり,
     前記アクティブ部は,第1の電極と,第1の電極に隣接した有機発光層と,前記有機発光層に隣接し,前記高屈折率整形層側に存在する第2の電極とを含むものであり,
     前記第2の電極は透明電極であり,
     前記高屈折率整形層は,第2の電極,及び前記有機発光層のうち最も屈折率が高いものと同じ又かまたは高い屈折率を有する,
     有機LED用の基板。
  7.  請求項6に記載の有機LED用の基板であって,
     前記2次元周期構造部は,反射鏡面である,
     有機LED用の基板。
     
     
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