WO2014038360A1 - 光学素子及び画像表示装置 - Google Patents
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- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/442—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing vinyl polymer sequences
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Definitions
- the present invention relates to an optical element and an image display apparatus.
- an optical element that includes a cell containing two or more kinds of liquids (for example, oil and hydrophilic liquid) that do not mix with each other and that operates (drives) by application of a voltage.
- liquids for example, oil and hydrophilic liquid
- Examples of such an optical element include an optical shutter, a variable focus lens, an optical pickup lens, an image display device (including a 3D image display device), a signage, a light modulation device, a pump system, and the like.
- an optical element utilizing an electrowetting phenomenon attracts attention as the above-mentioned optical element.
- a plurality of pixel units are defined by arranging a first substrate and a second substrate opposed to each other and an opposing surface of the second substrate in a lattice structure.
- An electrowetting display image display apparatus comprising: a second fluid which is an immiscible conductive or polar liquid), the pixel unit including a common signal line provided in a predetermined arrangement, a storage capacity, and a thin film transistor Is known (see, for example, JP-A-2009-86668).
- a display element which switches display according to a change in the amount of light passing through the mask, and is sealed in a space formed between the first and second supports and the first and second supports. It has a first liquid and a conductive or polar second liquid which are not mixed with each other, and application of a voltage to the second liquid causes the first liquid and the second liquid to be mixed.
- a display element which changes the interface shape and adjusts the amount of light passing through the mask (see, for example, JP-A-2000-356750).
- a first base material constituting the lowermost layer of the display device a first electrode provided on the first base material, an insulating layer provided on the first electrode, and an insulating layer provided on the insulating layer
- a display device provided with a third electrode for promoting spherical return of the colored droplet see, for example, JP-A-2004-252444.
- the optical element is disposed on a contact area of a chamber filled with a conductive first liquid and a first surface of an insulating wall of the chamber; A droplet of an insulating second liquid immiscible with the first liquid and having a different refractive index and substantially the same density as the first liquid, the first liquid, and the insulating wall A voltage source configured to apply a voltage between an electrode disposed on the second surface of the liquid crystal, and the alignment of the edge of the droplet while the voltage is applied, and its shape
- a variable-focus lens provided with centering means for control (see, for example, Japanese Patent Application Publication No. 2001-519539).
- a hydrophobic insulating film in contact with the oil is provided on the inner surface of the cell.
- a voltage is applied across the membrane between the hydrophilic liquid and the cell inner surface.
- an electric charge is generated on the surface of the hydrophobic insulating film, and the shape of the interface between the oil and the hydrophilic liquid is changed by the electric charge to drive the optical element.
- fluoropolymers tend to be excellent in water repellency as well as in water repellency, and due to this oil repellency, the wettability of the oil on the hydrophobic insulating film becomes insufficient, which in turn causes the oil to be uniform.
- the drivability of the optical element becomes unstable due to the occurrence of a difference in the film thickness of the oil without spreading due to wetting. Therefore, there is a demand for a material that is more excellent in the ability to spread oil.
- silicon is often used as an element having water repellency. In general, since a material containing silicon is inferior in durability to a material containing fluorine, a means for improving the durability is required.
- the present invention has been made in view of the above, and it is an optical element and image display provided with a hydrophobic insulating film excellent in wettability and spreadability of oil while securing water repellency equivalent to that of a fluoropolymer and excellent in durability. It is an object to provide an apparatus.
- a cell having a crosslinked insulating film having a cross-linked structure derived from a siloxane compound having an unsaturated double bond and a cell having an applied voltage between the hydrophilic liquid and the conductive surface of the first substrate.
- ⁇ 2> The optical element according to ⁇ 1>, wherein a contact area between the oil and the hydrophobic insulating film changes according to the voltage.
- the hydrophobic insulating film is produced by curing a curable composition containing the siloxane compound, and described in ⁇ 1> or ⁇ 2>, which has a crosslinked structure formed by polymerization of the siloxane compound.
- ⁇ 4> The optical element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 3>, wherein the siloxane compound is a compound represented by the general formula (1).
- R 1 to R 4 each independently represent an organic group having 1 to 20 carbon atoms. However, at least one of R 1 , R 3 and R 4 is a group having an unsaturated double bond. When the R 1 ⁇ R 4 there are a plurality, R 1 ⁇ R 4 existing in plural may be the same or different.
- x represents an integer satisfying 1 ⁇ x ⁇ 4
- y represents an integer satisfying 10 ⁇ y ⁇ 500
- z represents an integer satisfying 0 ⁇ z ⁇ 500.
- the site composed of y pieces of -OSi (R 2 ) 2 -and z pieces of -OSi (R 3 ) 2- is a block copolymer even if it is a part formed by random copolymerization. It may be a site formed by polymerization.
- An image display device comprising a pixel having the optical element according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the oil contains a colorant.
- an optical element and an image display device provided with a hydrophobic insulating film which is excellent in the wetting and spreading properties of oil while securing the same water repellency as a fluoropolymer and having excellent durability.
- an image display apparatus can be provided.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view conceptually showing a first embodiment (voltage on state) of the present invention. It is a schematic sectional drawing which shows notionally the 2nd Embodiment (voltage OFF state and voltage ON state) of this invention. It is a schematic sectional drawing which shows notionally the test cell used for the present Example.
- the optical element of the present invention comprises a first substrate in which at least a portion of at least one surface is conductive, a second substrate disposed to face the conductive surface of the first substrate, and the first substrate.
- Non-conductive oil and conductive hydrophilic liquid provided between the conductive surface of the substrate and the second substrate, and provided on at least a part of the conductive surface side of the first substrate
- the shape of the interface between the oil and the hydrophilic liquid changes according to the voltage applied during the period.
- a voltage is applied between the conductive hydrophilic liquid and the conductive surface of the first substrate (that is, via the hydrophobic insulating film).
- the applied voltage exceeds a predetermined threshold, charges are generated on the surface of the hydrophobic insulating film. Due to this charge, the conductive hydrophilic liquid approaches the hydrophobic insulating film (more preferably, the conductive hydrophilic liquid pushes away the oil that was in contact with the hydrophobic insulating film and contacts the hydrophobic insulating film. This changes the shape of the interface between the oil and the hydrophilic liquid, and the optical element operates (drives).
- the conventional optical element also has an optical element driven in the same manner as described above.
- the fluoropolymer used for the water-repellent insulating film tends to be excellent in water repellency and oil repellency as well, and therefore the wettability of the oil on the hydrophobic insulating film is insufficient.
- the oil does not uniformly spread, and the drivability of the optical element may become unstable due to the difference in the film thickness of the oil.
- silicon atoms are often used as materials having water repellency, but generally materials using silicon atoms tend to be inferior in film durability compared to materials using fluorine atoms. It turned out to be.
- the hydrophobic insulating film since the hydrophobic insulating film has a cross-linked structure derived from the siloxane compound having unsaturated double bonds, it is oleophilic while maintaining the same water repellency as the fluoropolymer. Are better. Moreover, since it has an unsaturated double bond, durability which is concerned when using a silicon atom can be ensured by performing photocuring. Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a hydrophobic insulating film that is excellent in the wettability of oil and has excellent durability, while having the same water repellency as that of the conventionally used hydrophobic insulating film containing a fluoropolymer. An optical element provided can be provided.
- the voltage is not particularly limited, but can be arbitrarily set, for example, between 1 V and 25 V (preferably 1 V to 20 V). Further, the drive voltage may be a DC voltage or an AC voltage.
- the optical element of the present invention includes the optical shutter described in JP-A-2000-356792 and the like, JP-A-2001-013306, JP-A-2001-519539, and JP-A 2008-96953 and the like.
- Variable focus lens Optical pickup lens described in JP-A-2007-530997, JP-A-2009-86668, JP-A-10-39800, JP-A-2005-517993, JP-A-2007-531917, Display or signage described in JP-A-2004-252444, JP-A-2004-287008, etc., 3D display described in JP-A-2005-506778, etc., light modulation described in JP-A-2010-79297, etc.
- Apparatus, U.S. Patent 2011/0083964 Preferably it applied to a pump system according to etc..
- the optical element of the present invention is preferably an electrowetting element operated by the electrowetting phenomenon.
- the electrowetting phenomenon is known, the details of which are as described in the above-mentioned publications.
- First Embodiment 1 and 2 are schematic cross-sectional views conceptually showing a first embodiment of an optical element of the present invention.
- the first embodiment is a preferred embodiment when the optical element of the present invention is used as a pixel of an image display device.
- FIG. 1 shows the voltage off state of the optical element 100 (voltage not applied state; the same applies hereinafter), and
- FIG. 2 shows the voltage on state (voltage applied state; the same applies hereinafter) of the same optical element 100. There is. As shown in FIGS.
- the optical element 100 is between the hydrophobic insulating film 20 provided on the substrate 11 (first substrate) and the substrate 12 (second substrate), and the side surface 22 a and the side surface In the area
- each of the side surface 22a and the side surface 22b is configured as, for example, a side surface of a partition wall.
- a closed space is formed by the hydrophobic insulating film 20, the substrate 12 (second substrate), the side surface 22a, and the side surface 22b, but the present invention is not limited to this form.
- a part of the side surface 22a and the side surface 22b may be opened (the same applies to the side surface 122a and the side surface 122b in FIG. 3 described later) .
- the substrate 11 (first substrate) is composed of a substrate 11 a and a conductive film 11 b provided on the substrate 11 a.
- the conductive film 11 b functions as one electrode for applying a voltage between the conductive film 11 b and the hydrophilic liquid 14.
- the hydrophobic insulating film 20 is provided in contact with the conductive film 11b.
- the hydrophobic insulating film 20 has a hydrophobic insulating film crosslinked structure having a crosslinked structure derived from a siloxane compound having an unsaturated double bond.
- the hydrophilic liquid 14 and the oil 16 are immiscible liquids, and are separated from each other at the interface 17A or the interface 17B.
- the interface between the hydrophilic liquid 14 and the oil 16 in the voltage off state is the interface 17A (FIG. 1)
- the interface between the hydrophilic liquid 14 and the oil 16 in the voltage on state is the interface 17B (FIG. 2) ).
- the optical element 100 is provided with a power supply 25 (voltage application means) for applying a voltage between the conductive film 11 b and the hydrophilic liquid 14 and a switch 26 for turning on / off the voltage.
- a power supply 25 voltage application means
- a switch 26 for turning on / off the voltage.
- the application of a voltage (potential) to the hydrophilic liquid 14 is performed by an electrode inserted in the hydrophilic liquid 14.
- the present invention is not limited to this embodiment, and the surface of the substrate 12 (second substrate) in contact with the hydrophilic liquid 14 has conductivity (for example, the hydrophilic liquid 14 of the substrate 12 (second substrate) (A configuration in which a conductive film exists on the side in contact with the conductive film), and a voltage (potential) is applied to the hydrophilic liquid 14 by applying a voltage (potential) to the conductive surface (for example, a conductive film). It is also good.
- a charge is generated on the surface of the hydrophobic insulating film 20 by the application of a voltage as described above, and the charge causes the hydrophilic liquid 14 to displace the oil 16 that was in contact with the hydrophobic insulating film 20 and to cause the hydrophobic insulation This is a phenomenon that occurs due to contact with the membrane 20.
- the optical element 100 returns to the state of FIG. 1 again when the voltage in FIG. 2 is turned off. In the optical element 100, the operations shown in FIG. 1 and FIG.
- the hydrophobic insulating film 20 has a crosslinked structure derived from a siloxane compound having an unsaturated double bond, By adhering to the substrate more strongly, the deterioration of the hydrophobic insulating film 20 excellent in durability is suppressed.
- the present invention is not limited to this embodiment.
- the conductive film 11b is provided over the entire surface of the substrate 11 (first substrate), but the conductive film is provided only on part of the surface of the substrate (first substrate) It may be in the form. Further, as described above, in addition to the presence of the conductive film 11b on the substrate 11 (first substrate), the conductive film may be present on the side of the substrate 12 (second substrate) in contact with the hydrophilic liquid 14 .
- the optical oil is contained by containing at least one kind of coloring material in the oil 16 to color the oil 16 in a desired color (for example, black, red, green, blue, cyan, magenta, yellow, etc.).
- the element 100 can be used as one pixel of an electrowetting image display device (hereinafter, also simply referred to as an “image display device”).
- the oil 16 functions as, for example, an optical shutter that switches the on state and the off state of the pixel.
- the detailed functions are, for example, as described in the above-mentioned respective publications.
- the image display device in this case may be any of transmissive, reflective, and semi-transmissive image display devices.
- the substrate surface can be partitioned by, for example, a grid by partition walls, and one partitioned area can be used as one pixel.
- the conductive film 11 b may be a film patterned independently for each pixel (for example, in the case of an active matrix type image display device), or patterned in a stripe shape spanning a plurality of pixels. It may be a film (for example, in the case of a passive matrix image display device).
- the optical element 100 is one pixel of an image display device
- a substrate having light transparency such as glass or plastic (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.) is used as the substrate 11a and the substrate 12 (second substrate).
- the pixel of the transmissive image display device can be obtained.
- a reflection plate outside the cell in the pixel of this transmission type image display device it can also be made a pixel of a reflection type image display device.
- a film for example, a metal film such as an Al film or an Al alloy film
- a substrate having a function as a reflection plate for example, a substrate 11a
- the pixel of the reflective image display device can be obtained.
- two second substrates may be provided to face the respective surfaces.
- the other configurations of the cell and the image display device are, for example, disclosed in JP-A-2009-86668, JP-A-10-39800 and JP-A-2005-517993.
- JP-A-2004-252444, JP-A-2004-287008, JP-A-2005-506778, JP-A-2007-531917, JP-A-2009-86668, etc. can be used as known structures. Further, reference can be made to the configuration of a known active matrix type or passive matrix type liquid crystal display device.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view conceptually showing a second embodiment of the optical element of the present invention.
- the second embodiment is a preferred embodiment when the optical element of the present invention is used as a variable focus lens.
- the optical element 200 is between the hydrophobic insulating film 120 provided on the substrate 111 (first substrate) and the substrate 112 (second substrate) as in the above-described optical device 100.
- the cell 130 provided with the hydrophilic liquid 114 and the oil 116 is provided.
- a power supply and a switch are connected to the optical element 200 as in the case of the optical element 100.
- the configuration of the optical element 200 is the same as the configuration of the optical element 100 except for the following points. That is, on the surface of the hydrophobic insulating film 120, the outer peripheral portion 120a excluding the central portion (preferably, a circular region) is subjected to hydrophilic processing. As a result, the oil 116 contacts only the central portion (preferably a circular area) of the surface of the hydrophobic insulating film 120, whereby the interface 117A between the oil 116 and the hydrophilic liquid 114 has a curved surface in the voltage off state. It has become a state.
- the substrate 111 (first substrate) is composed of a substrate 111a and a conductive film 111b patterned so that the central portion (preferably, a circular area) of the surface of the substrate 111a is exposed.
- the conductive film 111b is patterned such that the pattern edge is located in the contact region between the oil 116 and the hydrophobic insulating film 120 in the voltage off state when viewed in the direction perpendicular to the surface of the substrate 111a.
- the substrate 111 (first substrate), the hydrophobic insulating film 120, the oil 116, the hydrophilic liquid 114, and the substrate 112 (second substrate) have optical transparency.
- the oil 116 functions as a lens.
- the interface between the oil 116 and the hydrophilic liquid 114 in the voltage-off state is the interface 117A
- the interface between the oil 116 and the hydrophilic liquid 114 in the voltage-on state is the interface 117B.
- the interface between the oil 116 and the hydrophilic liquid 114 already has a predetermined curvature in the voltage off state (interface 117A), but the curvature of the interface is further increased when the voltage is on. (Interface 117B).
- the reason for this is that, as in the first embodiment, when a voltage is applied, charges are generated on the surface of the hydrophobic insulating film 120 (the contact surface with the oil 116).
- the curvature of the interface between the oil 116 and the hydrophilic liquid 114 can be changed by voltage application, and the focal length of the oil 116 as a lens can be changed.
- the hydrophobic insulating film 120 has a crosslinked structure derived from a siloxane compound having an unsaturated double bond, deterioration of the hydrophobic insulating film 120 during repeated driving can be suppressed.
- the optical element 200 is merely an example in the case where the oil 116 is used as a variable focus lens, and various changes can be made to its configuration.
- the outer peripheral portion 120a is not subjected to hydrophilic treatment, the oil 116 is brought into contact with the entire surface of the hydrophobic insulating film 120, and the side surfaces 122a and 122b are provided with a conductive film and a hydrophobic insulating film.
- the contact area between the hydrophobic insulating film 120 and the oil 116 it is possible to change only the shape of the interface between the hydrophilic liquid 114 and the oil 116 (the focal length of the lens).
- the hydrophobic insulating film in the present invention is a film provided on at least a part of the conductive surface side of the first substrate, and is a film in contact with oil.
- the “hydrophobicity” in the present invention is not particularly limited, but refers to, for example, a property having a water contact angle of 60 ° or more (preferably 70 ° or more, more preferably 80 ° or more). As the water contact angle, specifically, the method described in “6. Static drop method” in JIS R 3257 “Wettability test method of substrate glass surface” is applied.
- a contact angle measuring device (contact angle meter CA-A manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) is used to make a drop of 20 memory in size, and drop out of the drop from the needle tip to form a hydrophobic insulation Contact with the membrane to form a water droplet, and after standing for 10 seconds, observe the shape of the water droplet from the observation hole of the contact angle meter, and determine the contact angle ⁇ at 25 ° C.
- the “insulation” in the present invention is not particularly limited, but for example, the property having a specific resistance of 10 7 ⁇ ⁇ cm or more (preferably 10 8 ⁇ ⁇ cm or more, more preferably 10 9 ⁇ ⁇ cm or more) Point to
- the hydrophobic insulating film has a crosslinked structure derived from a siloxane compound having an unsaturated double bond. This makes it possible to perform patterning as compared to the case where the hydrophobic insulating film does not have a cross-linked structure (for example, when only a linear polymer is used as the polymer contained in the hydrophobic insulating film), and hydrophobicity is required only where necessary. Since the insulating film can be formed, the partition wall can be designed to be in close contact with the substrate, and the durability of the EWD cell is excellent.
- the crosslinked structure is suitably formed by polymerizing at least one kind of polyfunctional compound having an unsaturated double bond (optionally together with another monomer).
- the hydrophobic insulating film in the present invention has a crosslinked structure derived from a siloxane compound having an unsaturated double bond.
- the hydrophobic insulating film having the crosslinked structure is formed, for example, by curing a curable composition containing a siloxane compound having an unsaturated double bond (preferably, a polysiloxane compound having an unsaturated double bond). be able to.
- the amount of introduction of the siloxane component can be freely controlled by appropriately adjusting the amount of the siloxane compound having this unsaturated double bond.
- a compound represented by the following general formula (1) hereinafter, also referred to as “a polysiloxane compound represented by the general formula (1)” is preferable.
- R 1 to R 4 each independently represent an organic group having 1 to 20 carbon atoms. However, at least one of R 1 , R 3 and R 4 is a group having an unsaturated double bond.
- R 1 ⁇ R 4 there are a plurality R 1 ⁇ R 4 existing in plural may be the same or different.
- x represents an integer satisfying 1 ⁇ x ⁇ 4
- y represents an integer satisfying 10 ⁇ y ⁇ 500
- z represents an integer satisfying 0 ⁇ z ⁇ 500.
- the site containing y -OSi (R 2 ) 2 -and z sites -OSi (R 3 ) 2- is a block co-site even if it is a site formed by random copolymerization. It may be a site formed by polymerization.
- the group which has a (meth) acryloyl group As a group which has the said unsaturated double bond, the group which has a (meth) acryloyl group, the group which has an allyl group, etc. are mentioned, for example.
- the (meth) acryloyl group represents an acryloyl group or a methacryloyl group.
- the group having the unsaturated double bond is more preferably a (meth) acryloyloxyalkyl group or a (meth) acryloylaminoalkyl group.
- R 2 is a substituted or unsubstituted organic group having 1 to 20 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms), preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg methyl Group, ethyl group, hexyl group etc., fluorinated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group etc.) or aryl group having 6 to 20 carbon atoms (eg phenyl group, naphthyl group etc.) More preferably, it is an alkyl group of 1 to 5 carbon atoms, a fluorinated alkyl group of 1 to 5 carbon atoms or a phenyl group, and particularly preferably a methyl group.
- an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms eg methyl Group, ethyl group, hexyl group etc., fluorinated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (tri
- each of R 1 , R 3 and R 4 independently has 1 to 20 carbon atoms (preferably 1 to 10 carbon atoms) optionally having an unsaturated double bond.
- an unsubstituted organic group preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, hexyl group, etc.), a fluorinated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (trifluoromethyl group, penta) Fluoroethyl group etc., aryl group having 6 to 20 carbon atoms (eg phenyl group, naphthyl group etc.), (meth) acryloyloxyalkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or (meth) acryloylamino group having 1 to 10 carbon atoms
- an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group
- R 1 , R 3 and R 4 is a group having an unsaturated double bond (preferably, a (meth) acryloyloxyalkyl group or a (meth) acryloylaminoalkyl group).
- x represents an integer satisfying 1 ⁇ x ⁇ 4.
- y represents an integer satisfying 10 ⁇ y ⁇ 500, preferably an integer satisfying 50 ⁇ y ⁇ 400, and particularly preferably an integer satisfying 100 ⁇ y ⁇ 300.
- z represents an integer satisfying 0 ⁇ z ⁇ 500, preferably an integer satisfying 0 ⁇ z ⁇ y, and particularly preferably an integer satisfying 0 ⁇ z ⁇ 0.5 y.
- a portion consisting of y siloxane units (ie, -OSi (R 2 ) 2- ) and z siloxane units (ie, -OSi (R 3 ) 2- ) It may be a site formed by random copolymerization of monomers to form a unit, or a site formed by block copolymerization of monomers to form these units. Also, the site may be a site formed by homopolymerization of a monomer forming y siloxane units (ie, -OSi (R 2 ) 2- ) (when z is 0).
- the weight average molecular weight (Mw) of the compound represented by the general formula (1) is preferably 10 3 to 10 6 , more preferably 5 ⁇ 10 3 to 5 ⁇ 10 5 , particularly preferably 10 4 it is ⁇ 10 5.
- the compounds represented by the above general formula (1) are commercially available ones such as “KF-100T”, “X-22-169AS”, “KF-102”, “X-22-3701 IE”, “X -22-164B “,” X-22-5002 “,” X-22-173B “,” X-22-174D “,” X-22-167B “,” X-22-161AS “ ⁇ (trade name) "Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product”; "AK-5”, “AK-30”, “AK-32” ⁇ (trade name), Toa Sogo Co., Ltd.
- hydroxyl group, amino can also be synthesized by a method such as introducing an unsaturated double bond to a polysiloxane compound having a reactive group such as a group or a mercapto group.
- the siloxane compound having an unsaturated double bond (preferably a polysiloxane compound, hereinafter the same) may be polymerized by various polymerization methods, and may be contained in the hydrophobic insulating film as a polymer derived from the siloxane compound.
- the siloxane compound may be homopolymerized or copolymerized, and furthermore, the siloxane compound may be used as a crosslinking agent.
- the polymer contained in the hydrophobic insulating film may be a homopolymer of the compound represented by the general formula (1) Or a copolymer of the compound represented by the general formula (1) and another monomer.
- Methods for initiating polymerization include a method using a polymerization initiator (for example, a radical initiator), a method of irradiating light or radiation, a method of adding an acid, a method of irradiating light after adding a photoacid generator, and the like.
- a polymerization initiator for example, a radical initiator
- a method of irradiating light or radiation for example, a method of adding an acid
- a method of irradiating light after adding a photoacid generator and the like.
- the hydrophobic insulating film in the present invention is suitably produced using a curable composition containing the above-mentioned siloxane compound.
- the number of the siloxane compounds contained in the curable composition may be one or two or more.
- the curable composition may further contain a monofunctional compound.
- a monofunctional compound there is no limitation in particular as a monofunctional compound, A well-known monofunctional monomer can be used.
- a monofunctional monomer can be suitably selected and used from what was illustrated as said other monomer to copolymerize.
- the content (the total content in the case of two or more, the same applies hereinafter) of the polyfunctional compound in the curable composition is not particularly limited, but from the viewpoint of curability, the curable composition 30 mass% or more is preferable with respect to a total solid, 40 mass% or more is more preferable, 50 mass% or more is especially preferable.
- the total solid content refers to all components excluding the solvent.
- the said curable composition contains the polysiloxane compound represented by the said General formula (1) as at least 1 type of the said polysiloxane compound, containing of the polysiloxane compound represented by the said General formula (1)
- the amount is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more based on the total solid content of the curable composition.
- the curable composition preferably further contains at least one solvent.
- the solvent ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, methylene chloride, chloroform, Dichloroethane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam and the like.
- the content (total content in the case of two or more types) of the solvent in the curable composition is preferably 20% by mass to 90% by mass, and 30% by mass with respect to the total mass of the curable composition. -80% by mass is more preferable, and 40% by mass to 80% by mass is particularly preferable.
- the curable composition preferably further contains at least one polymerization initiator.
- the polymerization initiator is preferably a polymerization initiator that generates a radical by the action of at least one of heat and light.
- organic or inorganic peroxides organic azo and diazo compounds can be used.
- organic peroxide examples include benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, and butyl hydroperoxide.
- organic peroxide such as 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-
- suitable diazo compounds include cyclohexane dinitrile and the like, diazoaminobenzene and p-nitrobenzene diazonium.
- hydroxyalkyl phenones As a polymerization initiator which initiates radical polymerization by the action of light, hydroxyalkyl phenones, aminoalkyl phenones, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, There are peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums.
- hydroxyalkyl phenones examples include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) ) -Phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1- ⁇ 4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl ⁇ - Included are 2-methyl-propan-1-one, 1-hydroxydimethyl phenyl ketone, 1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone.
- aminoalkyl phenones examples include 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin-4-ylphenyl) butan-1-one, 2-benzyl-2-dimethyl Amino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one is included.
- acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone and p-dimethylacetophenone.
- benzoins include benzoin benzene sulfonic acid ester, benzoin toluene sulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether.
- benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone.
- phosphine oxides include 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide.
- sensitizing dyes can be used in combination with these polymerization initiators.
- the content of the polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content of the curable composition, and particularly preferably It is 2 to 5% by mass.
- the said curable composition may contain the other component as needed.
- other components include inorganic oxide fine particles, silicone-based or fluorine-based antifouling agents, slip agents, polymerization inhibitors, silane coupling agents, surfactants, thickeners, leveling agents, and the like.
- the content of the other components is preferably in the range of 0 to 30% by mass, more preferably in the range of 0 to 20% by mass, relative to the total solid content of the curable resin composition, and 0 to 10 It is particularly preferable to be in the range of mass%.
- the thickness of the hydrophobic insulating film in the present invention is not particularly limited, but is preferably 50 nm to 10 ⁇ m, and more preferably 100 nm to 1 ⁇ m. It is preferable in the point of the balance of insulation and a drive voltage that the film thickness of the said hydrophobic insulating film is the said range.
- the hydrophobic insulating film in the present invention uses the curable composition containing the above-mentioned siloxane compound on the conductive surface side of the first substrate (for example, at least on the conductive film when the first substrate has the conductive film) It can be suitably produced by a method comprising: a curable layer forming step of forming a curable layer; and a curing step of polymerizing the siloxane compound in the formed curable layer to cure the curable layer.
- a hydrophobic insulating film having a crosslinked structure is produced.
- the formation of the curable layer on the first substrate can be performed by a known coating method or transfer method.
- the curable composition is applied (more preferably, dried) to form a curable layer on the first substrate.
- the coating method is not particularly limited. For example, spin coating, slit coating, dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, wire coating, gravure coating, extrusion coating, etc.
- Known methods such as methods can be used.
- a transfer method a transfer material having a curable layer formed in advance using the curable composition is prepared, and then the curable layer of the transfer material is transferred onto the first substrate, 1) Form a curable layer on a substrate.
- paragraphs 0094 to 0121 of JP-A 2008-202006 and paragraphs 0076 to 0090 of JP-A 2008-139378 can be referred to.
- Curing of the curable layer can be performed, for example, by at least one of irradiation with active energy rays (hereinafter also referred to as “exposure”) and heating.
- active energy rays hereinafter also referred to as “exposure”
- the active energy ray used for the exposure, and ultraviolet rays (g ray, h ray, i ray, etc.), electron beam and X ray are preferably used.
- the exposure may be performed using a known exposure apparatus such as a proximity method, a mirror projection method, or a stepper method.
- exposure amount can be appropriately set in the exposure, for example, be a 10mJ / cm 2 ⁇ 2000mJ / cm 2, 50mJ / cm 2 ⁇ 1000mJ / cm 2 is preferred.
- the heating can be performed by a known method using, for example, a hot plate or a furnace.
- the heating temperature can be set appropriately, for example, can be 100 ° C. to 280 ° C., and preferably 150 ° C. to 250 ° C.
- the heating time can also be set appropriately, but can be, for example, 2 minutes to 120 minutes, preferably 5 minutes to 60 minutes.
- the first substrate in the present invention is a substrate in which at least a part of at least one surface has conductivity.
- the second substrate in the present invention is a substrate disposed to face the conductive surface of the first substrate.
- the optical element according to the present invention for an image display device or a variable focus lens, it is preferable that at least one of the first substrate and the second substrate has optical transparency, specifically,
- the transmittance is preferably 80% or more (more preferably 90% or more) over the entire wavelength range of 380 nm to 770 nm.
- the first substrate is not particularly limited as long as at least a part of at least one surface has conductivity.
- the conductive surface functions as an electrode in the optical element.
- conductivity is not particularly limited as long as it is a property to which a voltage can be applied, but, for example, surface resistance 500 ⁇ / sq or less (preferably 70 ⁇ / sq or less, more preferably 60 ⁇ / s or less, more preferably The property of 50 ⁇ / ⁇ or less is preferred.
- the first substrate may be a conductive substrate (a metal substrate or the like) of a single configuration, or a support substrate and a conductive film provided on the support substrate (a patterned conductive film may be patterned. (A conductive film may be used).
- the configuration of the first substrate is preferably a configuration having a support substrate and a conductive film provided on the support substrate.
- the conductive surface of the first substrate corresponds to the surface of the conductive film.
- a glass substrate for example, non-alkali glass substrate, soda glass substrate, Pyrex (registered trademark) glass substrate, quartz glass substrate, etc.
- a plastic substrate for example, polyethylene naphthalate (PEN) substrate, polyethylene terephthalate (for example)
- PEN polyethylene naphthalate
- PI polyimide
- an aluminum substrate or a stainless steel substrate a semiconductor substrate such as a silicon substrate, or the like
- a glass substrate or a plastic substrate is preferable from the viewpoint of light transmittance.
- a TFT substrate provided with a thin film transistor (TFT) can also be used as the supporting substrate.
- the conductive film is connected to the TFT (that is, the conductive film is a pixel electrode connected to the TFT).
- the conductive film is a pixel electrode connected to the TFT.
- voltages can be applied independently for each pixel, and active driving of the entire image display device becomes possible, as in a known liquid crystal display device provided with a TFT.
- the arrangement of the TFT, various wirings, storage capacity and the like on the TFT substrate can be a known arrangement, and for example, the arrangement described in JP-A-2009-86668 can be referred to.
- the specific resistance of the conductive film is not particularly limited, but may be, for example, 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 ⁇ ⁇ cm or less.
- the transparent conductive film preferably has a transmittance of 80% or more (more preferably 90% or more) over the entire wavelength range of 380 nm to 770 nm.
- indium tin oxide also referred to as ITO (Indium Tin Oxide)
- indium zinc oxide also referred to as IZO (Indium Zinc Oxide)
- tin oxide indium oxide, zirconium oxide
- the film includes at least one of zinc oxide, cadmium oxide, and magnesium oxide.
- the transparent conductive film is preferably a film containing indium tin oxide (ITO) from the viewpoint of light transmittance and conductivity.
- ITO indium tin oxide
- the addition amount of tin oxide in the film containing indium tin oxide (ITO) is preferably in the range of 5 to 15% by mass to reduce the resistance value, and more preferably 8 to 12% by mass.
- substrate illustrated as said support substrate can be used.
- the second substrate as in the first substrate, a substrate in which at least a part of at least one surface has conductivity may be used, and in this case, a preferred embodiment of the second substrate is the first substrate. It is similar to the preferred form of the substrate.
- the conductive film functions as, for example, an electrode for applying a potential to a hydrophilic liquid.
- a common potential across a plurality of pixels is applied to the conductive film of the second substrate while the surface of the conductive film of the first substrate is pixel by pixel.
- an independent potential is applied to each pixel.
- the oil in the present invention is a non-conductive oil.
- the oil may be a single component oil or an oil (oil composition) containing two or more components.
- non-conductive is not particularly limited, but refers to, for example, a property of a specific resistance of 10 6 ⁇ ⁇ cm or more (preferably 10 7 ⁇ ⁇ cm or more).
- the oil preferably has a small relative dielectric constant.
- the relative dielectric constant of the oil is preferably in the range of 10.0 or less, and more preferably in the range of 2.0 to 10.0. Within this range, it is preferable in that the response speed can be driven (operated) faster and at a lower voltage as compared with the case where the relative dielectric constant exceeds 10.0.
- oil is injected into a glass cell with an ITO transparent electrode having a cell gap of 10 ⁇ m, and the electric capacity of the obtained cell is measured using a model 2353 LCR meter (measurement frequency: 1 kHz) manufactured by NF Corporation. It is a value measured at 20 ° C. and 40% RH.
- the viscosity of the oil is preferably 10 mPa ⁇ s or less in dynamic viscosity at 20 ° C.
- the viscosity is preferably 0.01 mPa ⁇ s or more, and more preferably 0.01 mPa ⁇ s or more and 8 mPa ⁇ s or less.
- the viscosity of the oil of 10 mPa ⁇ s or less is preferable in that the response speed can be driven at a lower voltage faster than in the case where the viscosity exceeds 10 mPa ⁇ s.
- the dynamic viscosity is a value measured by adjusting to 20 ° C. using a viscometer (500 type, manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.).
- the oil is preferably substantially immiscible with the below-mentioned hydrophilic liquid.
- the solubility (25 ° C.) of the oil in a hydrophilic liquid is preferably 0.1% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, and particularly preferably 0.001% by mass or less.
- the oil preferably contains at least one nonpolar solvent as a solvent.
- the nonpolar solvent refers to a solvent having a small relative dielectric constant (so-called nonpolar solvent).
- the nonpolar solvent include aliphatic hydrocarbon solvents such as n-hexane, n-decane, dodecane, tetradecane and hexadecane (preferably, aliphatic hydrocarbon solvents having 6 to 30 carbon atoms); Group hydrocarbon solvents are substituted with fluorine (eg, fluorocarbon oil etc.); silicone solvents (eg, silicone oil etc.); and the like. Among them, aliphatic hydrocarbon solvents are preferable.
- 70 mass% or more is preferable with respect to the whole quantity of the solvent contained in oil, as for content of the said nonpolar solvent, 90 mass% or more is more preferable.
- content of the nonpolar solvent being 70% by mass or more, more excellent light shutter characteristics can be exhibited.
- the oil contains a colorant, the solubility of the colorant in the oil can be kept better.
- the oil preferably contains at least one of coloring materials.
- the color material is not particularly limited, and can be arbitrarily selected from dyes having solubility and dispersibility in the nonpolar solvent as long as the effects of the present invention are not impaired.
- the coloring material is preferably a dye or a pigment having solubility in the nonpolar solvent, and more preferably a dye.
- the color material is not particularly limited.
- non-polar solvents among dyes known in the field of color filters for image display devices for example, color filters for liquid crystal display devices, color filters for solid-state imaging devices, etc.
- dissolves can be selected suitably and can be used.
- the dye examples include methine dyes (eg, pyrazolone methine dyes, pyridone methine dyes, isoxazolone methine dyes, isoxazoline methine dyes, etc.), azomethine dyes (eg, pyrazolone azomethine dyes, pyridone dyes) Azomethine dyes, isoxazolone azomethine dyes, pyrrolotriazole azomethine dyes, pyrazolone triazole azomethine dyes, naphthol azomethine dyes, etc., azo dyes (eg, monoazo dyes, bisazo dyes, benzothiazolyl monoazo dyes) , Pyrazole azo dyes, anilino azo dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes), dipyrromethene dyes, anthraquinone dyes, tripheny
- examples of the dye include Oil Blue N (alkylamine-substituted anthraquinone), Solvent Green, Sudan Red, Sudan Black and the like.
- examples of the color material those described in WO 2011/111710 Pamphlet, WO 2008/142086 Pamphlet, JP 2009-138189 A can be preferably used.
- the dye can be synthesized according to a known method.
- the synthesis of the azomethine dye is described in Journal of American Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.), 1957, 79, 583, JP-A-9-100417, JP-A-2011.
- the method can be carried out according to the methods described in JP-A-116898, JP-A-2011-12231, JP-A-2010-260941, JP-A-2007-262165, and the like.
- the synthesis of pyrazolone methine dyes can be carried out according to, for example, JP-A 2008-248123, JP-A 2-3450, JP-A 49-114420, Patent No.
- 2707371, JP-A 5-45789, and the like The method can be carried out according to the method described in JP2009-263517A, JP-A-3-72340 and the like.
- the synthesis of isoxazolone methine dyes may be carried out according to the method described in, for example, Japanese Patent No. 2707371, Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-45789, 2009-263517, and Japanese Patent Laid-Open No. 3-72340. it can.
- the synthesis of monoazo dyes, bisazo dyes, and anthraquinone dyes can be carried out, for example, by Toyo Hosoda "New Dye Chemistry" (published on December 21, 1974 by Tech.
- AVIvashchenko Dichroic Dyes for Liquid Crystal Displays, CRC Press, 1994, Bulletin of the Chemical Society of Japan, 76, 607-612, 2003, Bulletin of the Chemical Society of Japan, 72, 127-132, 1999, etc. It can be performed according to the method. Further, the synthesis of the dipyrromethene dye can be performed, for example, according to the method described in JP-A-2008-292970. In addition, the synthesis of the azo dye is disclosed in Japanese Patent No. 4408380, Japanese Patent No. 4642403, Japanese Patent No. 4357383, Japanese Patent No. 4359541, Japanese Patent No. 2006-91190, Japanese Patent No. 2007-31616, Japanese Patent No. 2007-39478, It can manufacture by the well-known method shown to each gazette of the patent 4597806, Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-371079, and the patent 4666873 grade
- the colorants may be used alone or in combination of two or more.
- the content of the colorant is not particularly limited, and can be prepared at any concentration depending on the purpose.
- the content of the coloring material can be, for example, 0.2% by mass or more with respect to the total mass of the oil, and a solvent (for example, nonpolar) according to the required ⁇ C value ( ⁇ is a light absorption coefficient of the oil) It is used by diluting with solvent).
- the content of the coloring material is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, and still more preferably 40% by mass or more, with respect to the total mass of the oil. Is particularly preferred.
- the said oil may contain various additives, such as an ultraviolet absorber and antioxidant, as needed.
- an ultraviolet absorber and antioxidant such as an ultraviolet absorber and antioxidant
- the content of the additive is not particularly limited, it is usually used at about 20% by mass or less based on the total mass of the oil.
- the hydrophilic liquid in the present invention is a conductive hydrophilic liquid.
- conductivity there is no limitation in particular about "conductivity" here, For example, the property of 10 ⁇ 5 > ohm * cm or less (preferably 10 ⁇ 4 > ohm * cm or less) of resistivity is pointed out.
- the hydrophilic liquid comprises, for example, an electrolyte and an aqueous solvent.
- the electrolyte include salts such as sodium chloride, potassium chloride and tetrabutyl ammonium chloride.
- the concentration of the electrolyte in the hydrophilic liquid is preferably 0.1 to 10 mol / L, and more preferably 0.1 to 5 mol / L.
- the said hydrophilic liquid may contain aqueous solvents other than water as an aqueous solvent.
- aqueous solvents other than water include alcohol solvents such as ethanol.
- the optical element of the present invention preferably has a partition on the first substrate that defines the area of the cell.
- the partition wall may be in contact with the second substrate or may not be in contact with the second substrate as described above.
- the partition wall preferably contains a resin, and can have the same configuration as a known partition wall used for an image display device such as a liquid crystal display device, for example.
- the partition walls can be formed, for example, by a known photolithography method using a photosensitive resist or a photosensitive film.
- the optical element of the present invention further comprises, if necessary, voltage application means (for example, a power supply) for applying a voltage between the hydrophilic liquid and the conductive surface of the first substrate, a cell gap (provided on the first substrate)
- voltage application means for example, a power supply
- the well-known member used for image display apparatuses such as a liquid crystal display device, can be used, for example.
- the cell gap of the cell in the present invention (the distance between the surface of the hydrophobic insulating film provided on the first substrate and the second substrate) is not particularly limited, but may be appropriately set in the range of 3 ⁇ m to 100 ⁇ m, for example. Can.
- the cell area of the cell in the present invention is preferably in the range of 100 ⁇ m 2 to 100 cm 2 , more preferably in the range of 500 ⁇ m 2 to 10 cm 2 , and particularly preferably in the range of 1000 ⁇ m 2 to 1 cm 2 .
- the inside of the cell in the present invention is preferably filled with an oil and a hydrophilic liquid.
- the volume ratio of oil to hydrophilic liquid is preferably 1: 1000 to 1: 0.1, more preferably 1: 100 to 1: 1, and particularly preferably 1:50 to 1: 2
- the image display device of the present invention comprises a pixel having the optical element of the present invention described above, and the oil contains a coloring material.
- the image display device of the present invention is provided with the pixel having the optical element of the present invention described above, so deterioration of the hydrophobic insulating film when voltage on and voltage off are repeated is suppressed, and durability at the time of repeated driving is achieved. Excellent in quality.
- the image display device of the present invention can be configured such that the liquid crystal in the configuration of a known liquid crystal display device is replaced with an oil and a hydrophilic liquid. Thereby, it can drive like the conventional liquid crystal display. That is, in addition to the pixel having the optical element of the present invention, the image display device of the present invention is the same as known liquid crystal display devices such as backlight, spacer for adjusting cell gap, sealing material for sealing, etc. Can be configured to include the
- the oil and the hydrophilic liquid can be provided by, for example, applying the ink jet method to a region partitioned by the partition wall on the first substrate.
- the image display device of the present invention includes, for example, a first substrate preparing step of preparing the first substrate, a step of forming the hydrophobic insulating film on the conductive surface side of the first substrate, and a step of forming the first substrate.
- the adhesion between the first substrate and the second substrate can be performed using a sealant which is usually used for manufacturing a liquid crystal display device.
- a spacer formation step of forming a spacer for cell gap adjustment may be provided after the partition formation step and before the cell formation step.
- P-1 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propan-1-one (manufactured by BASF, Darocur 1173)
- P-2 (2-Dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin-4-ylphenyl) butan-1-one (manufactured by BASF, Irgacure 379 EG)
- FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a test cell used in the present embodiment.
- a glass substrate (1 cm square) 211a on which an indium tin oxide film (ITO film; transparent electrode) 211b having a thickness of 100 nm was formed was prepared.
- any one of the curable compositions A1 to A18 and Pr-1 to Pr-3 obtained above is applied to form a coating layer, and subsequently a VCD
- a vacuum drying apparatus manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
- the composition was prebaked at 120 ° C. for 3 minutes to obtain a curable composition layer.
- the resulting curable composition layer is exposed to a light exposure of 300 mJ / cm 2 using a super-high pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere, thereby polymerizing the polysiloxane compound contained in the curable composition layer and curing the composition.
- composition layer was allowed to cure. Further, the curable composition layer after exposure was subjected to heat treatment at 240 ° C. for 50 minutes. As described above, the hydrophobic insulating film 220 (crosslinked film; film thickness: 100 nm) having a crosslinked structure derived from the polysiloxane compound was formed on the ITO film 211 b.
- a 20 ⁇ m thick photoresist film (trade name Photocast, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is overlaid on the formed hydrophobic insulating film 220, and then a photomask having a lattice pattern (lattice size 200 ⁇ m square, lattice
- the photoresist film was exposed to light through a line width of 20 ⁇ m, and an alkali development treatment was performed to prepare a partition wall (height 20 ⁇ m, width 20 ⁇ m) 223.
- a sealing material 232 As a sealing material 232, a silicone rubber (trade name: Sirius, manufactured by Fuso Rubber Co., Ltd., 40 ⁇ m in thickness and 1 mm in width) was placed.
- the oil (black ink) obtained above is injected as an oil 216 into a region partitioned by the partition 223 by an ink jet method so as to have a thickness of 4 ⁇ m, and a hydrophilic liquid 214 is additionally formed thereon.
- the following electrolyte NaCl aqueous solution with a concentration of 1 mol / L
- the glass substrate 212a (second substrate 212) provided with the ITO film 212b is placed so that the ITO film 212b is on the side of the hydrophilic liquid 214 (electrolyte solution), and the hydrophobic insulating film 220 is provided.
- the first substrate 211 and the second substrate 212 were fixed by silicone rubber (sealing material 232). As described above, the test cell 300 shown in FIG. 4 was manufactured.
- the black ink (oil 216) spreads on the hydrophobic insulating film 220 in a state where a voltage is not applied (voltage off state), and it is in a black state (FIG. 4).
- the upper and lower transparent electrodes (ITO film 212b and ITO film 211b) of the test cell 300 were connected to a signal generator, respectively, and a state where a DC voltage of 15 V was applied was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Table 3 below.
- Comparative Examples 1 to 3 Comparative Composition Pr-1 to Comparative Example Pr-1 except that the type and amount of the polymerizable monomer and the polymerization initiator in the preparation of the curable composition A1 of Example 1 were changed as shown in Table 2 above. Pr-3 was prepared. Furthermore, a test cell is produced in the same manner as in Example 1 except that the curable composition A1 in Example 1 is changed to any one of the comparative compositions Pr-1 to Pr-3, and Example 1 The same evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 3 below.
- Comparative Example 4 In the preparation of the test cell of Example 1, a hydrophobic insulating film prepared using the curable composition A1 was replaced with a hydrophobic insulating film prepared using Teflon (registered trademark) AF-1600 manufactured by DuPont. A test cell was produced in the same manner as in Example 1 except for the change, and the same evaluation as in Example 1 was performed.
- AF-1600 is an amorphous fluoropolymer having no crosslinked structure. The evaluation results are shown in Table 3 below.
- Comparative Example 5 In the preparation of the test cell of Example 1, a hydrophobic insulating film 220 prepared using the curable composition A1 was formed using the hydrophobic insulating film 220 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. using Cytop "CTL-809M". A test cell was produced in the same manner as in Example 1 except that the film was changed, and the same evaluation as in Example 1 was performed.
- Cytop is an amorphous fluoropolymer having no crosslinked structure. The evaluation results are shown in Table 3 below.
- test cells of Examples 1 to 18 using the hydrophobic insulating film having a crosslinked structure derived from the siloxane compound having an unsaturated double bond are compared with the test cells of Comparative Examples 1 to 5. It was excellent in EWD drivability and durability to repeated driving.
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Abstract
光学素子は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第1基板と、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置された第2基板と、前記第1基板の導電性の表面と前記第2基板との間に設けられた、非導電性のオイル及び導電性の親水性液体と、前記第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられ、前記オイルと接触し、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜と、を有するセルを備え、前記親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に印加された電圧に応じ、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状が変化する。
Description
本発明は、光学素子及び画像表示装置に関する。
従来より、互いに混じり合わない2種以上の液体(例えば、オイル及び親水性液体)を含むセルを備え、電圧の印加により動作(駆動)する光学素子に関する検討が行われている。このような光学素子としては、例えば、光シャッター、可変焦点レンズ、光ピックアップレンズ、画像表示装置(3D画像表示装置を含む)、サイネージ、光変調装置、ポンプシステム等が挙げられる。
近年では、上記光学素子として、特に、エレクトロウェッティング現象を利用した光学素子が注目されている。
近年では、上記光学素子として、特に、エレクトロウェッティング現象を利用した光学素子が注目されている。
エレクトロウェッティング現象を利用した光学素子として、例えば、互いに対向配置された第一基板及び第二基板と、前記第二基板の対向面側に格子構造で配置されて、複数の画素ユニットを定義する複数の突起と、隣り合う2つの突起の間の画素ユニットに封入された非導電性な第一流体と、前記第一流体と前記第一基板の間に封入され、且つ前記第一流体と互いに混和しない導電性又は極性液体である第二流体と、を備え、前記画素ユニットが、所定の配置で設けられた共通信号ライン、積蓄容量、及び薄膜トランジスタを含む構成のエレクトロウェッティングディスプレイ(画像表示装置)が知られている(例えば、特開2009-86668号公報参照)。
また、マスクを通過する光量の変化により表示の切り替えを行う表示素子であって、第1と第2の支持体と、前記第1と第2の支持体間に形成された空間内に密閉され互いに混合することのない第1の液体及び導電性または有極性の第2の液体とを有し、該第2の液体への電圧の印加により前記第1の液体と前記第2の液体との界面形状を変化させ、マスクを通過する光量の調節を行う表示素子が知られている(例えば、特開2000-356750号公報参照)。
また、表示装置最下層を構成する第一基材、該第一基材の上に設けられた第一電極、該第一電極の上に設けられた絶縁層、該絶縁層の上に設けられた第二電極、該第二電極を間隔を置いて取り囲むキャビティ仕切り、該キャビティ仕切りの上に設けられた最上層を構成する第二基材と、該キャビティ仕切り内に封入された着色液滴とからなる表示装置において、該着色液滴の球状復帰を促進するための第三電極を設けた表示装置が知られている(例えば、特開2004-252444号公報参照)。
また、マスクを通過する光量の変化により表示の切り替えを行う表示素子であって、第1と第2の支持体と、前記第1と第2の支持体間に形成された空間内に密閉され互いに混合することのない第1の液体及び導電性または有極性の第2の液体とを有し、該第2の液体への電圧の印加により前記第1の液体と前記第2の液体との界面形状を変化させ、マスクを通過する光量の調節を行う表示素子が知られている(例えば、特開2000-356750号公報参照)。
また、表示装置最下層を構成する第一基材、該第一基材の上に設けられた第一電極、該第一電極の上に設けられた絶縁層、該絶縁層の上に設けられた第二電極、該第二電極を間隔を置いて取り囲むキャビティ仕切り、該キャビティ仕切りの上に設けられた最上層を構成する第二基材と、該キャビティ仕切り内に封入された着色液滴とからなる表示装置において、該着色液滴の球状復帰を促進するための第三電極を設けた表示装置が知られている(例えば、特開2004-252444号公報参照)。
また、エレクトロウェッティング現象を利用した光学素子としては、導電性の第1の液体が充填されたチャンバと、該チャンバの絶縁壁の第1の表面の接触域上に配置されており、前記第1の液体と混和せず、かつ該第1の液体と異なる屈折率及び実質的に同じ密度を有している絶縁性の第2の液体の液滴と、前記第1の液体と前記絶縁壁の第2の表面上に配置された電極との間に電圧を印加するように構成された電圧源と電圧が印加される間に前記液滴の縁部の心合わせを維持しかつその形状を制御するための心合わせ手段と、を備えた可変焦点レンズも知られている(例えば、特表2001-519539号公報参照)。
ところで、互いに混じり合わない2種以上の液体(例えばオイル及び親水性液体)を含むセルを備えた光学素子では、セル内面にオイルと接触する疎水性絶縁膜が設けられており、この疎水性絶縁膜を挟んで親水性液体とセル内面との間に電圧が印加される。これにより、疎水性絶縁膜表面に電荷が発生し、この電荷によってオイルと親水性液体との界面の形状が変化して光学素子が駆動する。この際、オイルが疎水性絶縁膜上に均一に存在していることが、セルの生産性および、光学素子の駆動に際して重要な要素である。
これまで、光学素子の疎水性絶縁膜としては線状のフルオロポリマーが用いられていることが記載されている(例えば上記特開2009-86668号公報、特開2000-356750号公報、特開2004-252444号公報、及び特表2001-519539号公報)。
これまで、光学素子の疎水性絶縁膜としては線状のフルオロポリマーが用いられていることが記載されている(例えば上記特開2009-86668号公報、特開2000-356750号公報、特開2004-252444号公報、及び特表2001-519539号公報)。
しかし、一般にフルオロポリマーは撥水性に優れると同時に、撥油性にも優れる傾向があり、この撥油性に起因して疎水性絶縁膜上のオイルの濡れ広がり性が不十分となり、ひいては均一にオイルが濡れ広がらず、オイルの膜厚に差が生じることにより光学素子の駆動性が不安定となる場合があった。そこで、よりオイルの濡れ広がり性に優れた素材が求められている。
また、撥水性を有する元素として、フッ素の他にはケイ素が用いられることが多い。一般に、ケイ素を含む素材は、フッ素を含む素材に比べて耐久性に劣ることから、耐久性を向上させる手段が求められている。
本発明は上記に鑑みなされたものであり、フルオロポリマー同等の撥水性を確保しつつオイルの濡れ広がり性に優れ、かつ、耐久性にも優れた疎水性絶縁膜を備えた光学素子及び画像表示装置を提供することを課題とする。
また、撥水性を有する元素として、フッ素の他にはケイ素が用いられることが多い。一般に、ケイ素を含む素材は、フッ素を含む素材に比べて耐久性に劣ることから、耐久性を向上させる手段が求められている。
本発明は上記に鑑みなされたものであり、フルオロポリマー同等の撥水性を確保しつつオイルの濡れ広がり性に優れ、かつ、耐久性にも優れた疎水性絶縁膜を備えた光学素子及び画像表示装置を提供することを課題とする。
前記課題を達成するための具体的手段は以下の通りである。
<1> 少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第1基板と、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置された第2基板と、前記第1基板の導電性の表面と前記第2基板との間に設けられた、非導電性のオイル及び導電性の親水性液体と、前記第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられ、前記オイルと接触し、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜と、を有するセルを備え、前記親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に印加された電圧に応じ、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状が変化する光学素子である。
<1> 少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第1基板と、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置された第2基板と、前記第1基板の導電性の表面と前記第2基板との間に設けられた、非導電性のオイル及び導電性の親水性液体と、前記第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられ、前記オイルと接触し、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜と、を有するセルを備え、前記親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に印加された電圧に応じ、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状が変化する光学素子である。
<2> 前記電圧に応じ、前記オイルと前記疎水性絶縁膜との接触面積が変化する<1>に記載の光学素子である。
<3> 前記疎水性絶縁膜は、前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることにより作製され、該シロキサン化合物の重合により形成された架橋構造を有する<1>または<2>に記載の光学素子である。
<3> 前記疎水性絶縁膜は、前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることにより作製され、該シロキサン化合物の重合により形成された架橋構造を有する<1>または<2>に記載の光学素子である。
<4> 前記シロキサン化合物が、一般式(1)で表される化合物である<1>~<3>のいずれか1つに記載の光学素子である。
一般式(1)中、R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~20の有機基を表す。但し、R1、R3、及びR4のうち少なくとも1つは、不飽和二重結合を有する基である。R1~R4が複数存在する場合には、複数存在するR1~R4は同一であっても異なっていてもよい。xは1≦x≦4を満たす整数を表し、yは10≦y≦500を満たす整数を表し、zは0≦z≦500を満たす整数を表す。一般式(1)中、y個の-OSi(R2)2-とz個の-OSi(R3)2-とからなる部位は、ランダム共重合により形成された部位であってもブロック共重合により形成された部位であってもよい。
<5> <1>~<4>のいずれか1つに記載の光学素子を有する画素を備え、前記オイルが色材を含有する画像表示装置である。
本発明によれば、フルオロポリマー同等の撥水性を確保しつつオイルの濡れ広がり性に優れ、かつ、耐久性にも優れた疎水性絶縁膜を備えた光学素子及び画像表示装置を提供する光学素子及び画像表示装置を提供することができる。
以下、本発明の光学素子及び画像表示装置について詳細に説明する。
≪光学素子≫
本発明の光学素子は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第1基板と、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置された第2基板と、前記第1基板の導電性の表面と前記第2基板との間に設けられた、非導電性のオイル及び導電性の親水性液体と、前記第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられ、前記オイルと接触し、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜と、を有するセルを備え、前記親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に印加された電圧に応じ、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状が変化する。
本発明の光学素子は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第1基板と、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置された第2基板と、前記第1基板の導電性の表面と前記第2基板との間に設けられた、非導電性のオイル及び導電性の親水性液体と、前記第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられ、前記オイルと接触し、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜と、を有するセルを備え、前記親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に印加された電圧に応じ、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状が変化する。
本発明の光学素子では、導電性の親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に(即ち、疎水性絶縁膜を介して)電圧が印加される。印加された電圧が所定のしきい値を超えると、疎水性絶縁膜の表面に電荷が生じる。この電荷によって、導電性の親水性液体が疎水性絶縁膜に接近し(更に好ましくは、導電性の親水性液体が、疎水性絶縁膜に接していたオイルを押しのけて疎水性絶縁膜に接触し)、これによりオイルと親水性液体との界面の形状が変化し、光学素子が動作(駆動)する。
従来の光学素子でも、上記と同様にして駆動する光学素子があった。
しかしながら、従来の光学素子では、撥水性絶縁膜に用いられるフルオロポリマーは撥水性に優れると同時に、撥油性にも優れる傾向があることから、疎水性絶縁膜上のオイルの濡れ広がり性が不十分となり、ひいては均一にオイルが濡れ広がらず、オイルの膜厚に差が生じることにより光学素子の駆動性が不安定となったりする場合があることが判明した。
また、撥水性を有する素材としてフッ素原子のほかにケイ素原子が用いられることが多いが、一般的にケイ素原子を用いた素材はフッ素原子を用いた素材と比較し、膜耐久性に劣る傾向があることが判明した。
この点に関し本発明の光学素子では、疎水性絶縁膜が不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する構成としているため、フルオロポリマー同等の撥水性を維持しつつ、親油性に優れている。また、不飽和二重結合を有することから、光硬化を行うことにより、ケイ素原子を用いる際に懸念される耐久性を確保することができる。
従って、本発明によれば、フルオロポリマーを含む従来使用の疎水性絶縁膜と同等の撥水性能を有しつつ、オイルの濡れ広がり性に優れ、かつ、耐久性に優れた疎水性絶縁膜を備えた光学素子を提供することが出来る。
しかしながら、従来の光学素子では、撥水性絶縁膜に用いられるフルオロポリマーは撥水性に優れると同時に、撥油性にも優れる傾向があることから、疎水性絶縁膜上のオイルの濡れ広がり性が不十分となり、ひいては均一にオイルが濡れ広がらず、オイルの膜厚に差が生じることにより光学素子の駆動性が不安定となったりする場合があることが判明した。
また、撥水性を有する素材としてフッ素原子のほかにケイ素原子が用いられることが多いが、一般的にケイ素原子を用いた素材はフッ素原子を用いた素材と比較し、膜耐久性に劣る傾向があることが判明した。
この点に関し本発明の光学素子では、疎水性絶縁膜が不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する構成としているため、フルオロポリマー同等の撥水性を維持しつつ、親油性に優れている。また、不飽和二重結合を有することから、光硬化を行うことにより、ケイ素原子を用いる際に懸念される耐久性を確保することができる。
従って、本発明によれば、フルオロポリマーを含む従来使用の疎水性絶縁膜と同等の撥水性能を有しつつ、オイルの濡れ広がり性に優れ、かつ、耐久性に優れた疎水性絶縁膜を備えた光学素子を提供することが出来る。
本発明において、前記界面形状(及び、好ましくは前記オイルと前記疎水性絶縁膜との接触面積)を変化させるために、親水性液体と第1基板の導電性の表面との間に印加される電圧(駆動電圧)には特に限定はないが、例えば、1V~25V(好ましくは1V~20V)の間で任意に設定できる。
また、前記駆動電圧は、直流電圧であってもよいし、交流電圧であってもよい。
また、前記駆動電圧は、直流電圧であってもよいし、交流電圧であってもよい。
本発明の光学素子は上記構成を備えるかぎり、その用途には特に制限はない。
例えば、本発明の光学素子は、特開2000-356792号公報などに記載の光シャッター、特開2001-013306号公報、特表2001-519539号公報、特開2008-96953号公報などに記載の可変焦点レンズ、特表2007-530997号公報に記載の光ピックアップレンズ、特開2009-86668号公報、特開平10-39800号公報、特表2005-517993号公報、特表2007-531917号公報、特開2004-252444号公報、特開2004-287008号公報などに記載のディスプレイやサイネージ、特表2005-506778号公報などに記載の3Dディスプレイ、特開2010-79297号公報などに記載の光変調装置、米国特許第2011/0083964号明細書などに記載のポンプシステムなどに好ましく適用できる。
本発明の光学素子は、エレクトロウェッティング現象によって動作するエレクトロウェッティング素子であることが好ましい。エレクトロウェッティング現象については公知であり、その詳細は、上記の各公報にされているとおりである。
例えば、本発明の光学素子は、特開2000-356792号公報などに記載の光シャッター、特開2001-013306号公報、特表2001-519539号公報、特開2008-96953号公報などに記載の可変焦点レンズ、特表2007-530997号公報に記載の光ピックアップレンズ、特開2009-86668号公報、特開平10-39800号公報、特表2005-517993号公報、特表2007-531917号公報、特開2004-252444号公報、特開2004-287008号公報などに記載のディスプレイやサイネージ、特表2005-506778号公報などに記載の3Dディスプレイ、特開2010-79297号公報などに記載の光変調装置、米国特許第2011/0083964号明細書などに記載のポンプシステムなどに好ましく適用できる。
本発明の光学素子は、エレクトロウェッティング現象によって動作するエレクトロウェッティング素子であることが好ましい。エレクトロウェッティング現象については公知であり、その詳細は、上記の各公報にされているとおりである。
以下、本発明の光学素子の実施形態について、図1~図3を参照しながら説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
<第1の実施形態>
図1及び図2は、本発明の光学素子の第1の実施形態を概念的に示す概略断面図である。この第1の実施形態は、本発明の光学素子を画像表示装置の画素として用いる場合に好適な実施形態である。
図1は、光学素子100の電圧オフ状態(電圧無印加状態。以下同じ。)を示しており、図2は、同じ光学素子100の電圧オン状態(電圧印加状態。以下同じ。)を示している。
図1及び図2に示すように、光学素子100は、基板11(第1基板)に設けられた疎水性絶縁膜20と基板12(第2基板)との間であって、側面22a及び側面22bによって区画された領域内に、親水性液体14及びオイル16が設けられたセル30を有する構成となっている。
ここで、側面22a及び側面22bのそれぞれは、例えば隔壁の側面として構成される。図1及び図2では、疎水性絶縁膜20、基板12(第2基板)、側面22a、及び側面22bによって閉じた空間が形成されているが、本発明はこの形態には限定されない。例えば、側面22a及び側面22bの一部(好ましくは基板12(第2基板)側の一部)が開放されていてもよい(後述の図3中の側面122a及び側面122bについても同様である)。
図1及び図2は、本発明の光学素子の第1の実施形態を概念的に示す概略断面図である。この第1の実施形態は、本発明の光学素子を画像表示装置の画素として用いる場合に好適な実施形態である。
図1は、光学素子100の電圧オフ状態(電圧無印加状態。以下同じ。)を示しており、図2は、同じ光学素子100の電圧オン状態(電圧印加状態。以下同じ。)を示している。
図1及び図2に示すように、光学素子100は、基板11(第1基板)に設けられた疎水性絶縁膜20と基板12(第2基板)との間であって、側面22a及び側面22bによって区画された領域内に、親水性液体14及びオイル16が設けられたセル30を有する構成となっている。
ここで、側面22a及び側面22bのそれぞれは、例えば隔壁の側面として構成される。図1及び図2では、疎水性絶縁膜20、基板12(第2基板)、側面22a、及び側面22bによって閉じた空間が形成されているが、本発明はこの形態には限定されない。例えば、側面22a及び側面22bの一部(好ましくは基板12(第2基板)側の一部)が開放されていてもよい(後述の図3中の側面122a及び側面122bについても同様である)。
基板11(第1基板)は、基板11aと、基板11aに設けられた導電膜11bとからなるものである。この導電膜11bは、導電膜11bと親水性液体14との間に電圧を印加するための一方の電極として機能する。
光学素子100では、この導電膜11bに接するようにして疎水性絶縁膜20が設けられている。この疎水性絶縁膜20は、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜架橋構造を有する。
光学素子100では、この導電膜11bに接するようにして疎水性絶縁膜20が設けられている。この疎水性絶縁膜20は、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜架橋構造を有する。
親水性液体14及びオイル16は互いに混じり合わない液体であり、界面17A又は界面17Bを境に互いに分離している。
図1及び図2では、電圧オフ状態における親水性液体14とオイル16との界面を界面17A(図1)とし、電圧オン状態における親水性液体14とオイル16との界面を界面17B(図2)としている。
図1及び図2では、電圧オフ状態における親水性液体14とオイル16との界面を界面17A(図1)とし、電圧オン状態における親水性液体14とオイル16との界面を界面17B(図2)としている。
更に、この光学素子100には、導電膜11bと親水性液体14との間に電圧を印加するための電源25(電圧印加手段)及びこの電圧をオン/オフするためのスイッチ26が設けられている。
この実施形態では、親水性液体14への電圧(電位)の印加は、親水性液体14中に差し込まれた電極によって行われる。但し本発明はこの形態には限定されず、基板12(第2基板)の親水性液体14に接する側の表面が導電性を有する構成(例えば、基板12(第2基板)の親水性液体14に接する側に導電膜が存在する構成)でもよく、この導電性の表面(例えば導電膜)に電圧(電位)を印加することにより、親水性液体14への電圧(電位)の印加を行ってもよい。
この実施形態では、親水性液体14への電圧(電位)の印加は、親水性液体14中に差し込まれた電極によって行われる。但し本発明はこの形態には限定されず、基板12(第2基板)の親水性液体14に接する側の表面が導電性を有する構成(例えば、基板12(第2基板)の親水性液体14に接する側に導電膜が存在する構成)でもよく、この導電性の表面(例えば導電膜)に電圧(電位)を印加することにより、親水性液体14への電圧(電位)の印加を行ってもよい。
次に、光学素子100の動作(電圧オフ状態及び電圧オン状態)について説明する。
図1に示すように、電圧オフ状態では、疎水性絶縁膜20とオイル16との親和性が高いことから、疎水性絶縁膜20の全面にオイル16が接した状態となっている。
光学素子100に対し電圧が印加されると、親水性液体14とオイル16との界面が、界面17A(図1)から界面17B(図2)のように変形し、疎水性絶縁膜20とオイル16との接触面積が減少し、オイル16がセルの端に移動する。この現象は前述のとおり、電圧印加により疎水性絶縁膜20の表面に電荷が発生し、この電荷によって、親水性液体14が、疎水性絶縁膜20に接していたオイル16を押しのけて疎水性絶縁膜20に接触するために生じる現象である。
光学素子100は、図2における電圧をオフ状態とすると、再び図1の状態に戻る。
光学素子100では、上記図1及び図2に示した動作が繰り返し行われるが、疎水性絶縁膜20が不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有していることから、隔壁の基板へのより強く密着することから、耐久性に優れる疎水性絶縁膜20の劣化が抑制される。
図1に示すように、電圧オフ状態では、疎水性絶縁膜20とオイル16との親和性が高いことから、疎水性絶縁膜20の全面にオイル16が接した状態となっている。
光学素子100に対し電圧が印加されると、親水性液体14とオイル16との界面が、界面17A(図1)から界面17B(図2)のように変形し、疎水性絶縁膜20とオイル16との接触面積が減少し、オイル16がセルの端に移動する。この現象は前述のとおり、電圧印加により疎水性絶縁膜20の表面に電荷が発生し、この電荷によって、親水性液体14が、疎水性絶縁膜20に接していたオイル16を押しのけて疎水性絶縁膜20に接触するために生じる現象である。
光学素子100は、図2における電圧をオフ状態とすると、再び図1の状態に戻る。
光学素子100では、上記図1及び図2に示した動作が繰り返し行われるが、疎水性絶縁膜20が不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有していることから、隔壁の基板へのより強く密着することから、耐久性に優れる疎水性絶縁膜20の劣化が抑制される。
本発明の光学素子の第1の実施形態について図1及び図2を参照して説明したが、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
例えば、図1及び図2では、導電膜11bが基板11(第1基板)表面の全体に渡って設けられているが、導電膜が基板(第1基板)表面の一部にのみ設けられた形態であってもよい。
また、前述のとおり、基板11(第1基板)に導電膜11bが存在することに加え、基板12(第2基板)の親水性液体14に接する側にも導電膜が存在していてもよい。
例えば、図1及び図2では、導電膜11bが基板11(第1基板)表面の全体に渡って設けられているが、導電膜が基板(第1基板)表面の一部にのみ設けられた形態であってもよい。
また、前述のとおり、基板11(第1基板)に導電膜11bが存在することに加え、基板12(第2基板)の親水性液体14に接する側にも導電膜が存在していてもよい。
上記実施形態において、オイル16に色材の少なくとも1種を含有させて該オイル16を所望の色(例えば、黒、赤、緑、青、シアン、マゼンタ、イエロー等)に着色することにより、光学素子100を、エレクトロウェッティング画像表示装置(以下、単に「画像表示装置」ともいう)の一画素として用いることができる。この場合、オイル16が、例えば、画素のオン状態及びオフ状態を切り替える光シャッターとして機能する。詳細な機能については、例えば、既述の各公報に記載されているとおりである。この場合の画像表示装置は、透過型、反射型、半透過型のいずれの方式の画像表示装置であってもよい。
光学素子100を画像表示装置の一画素とする場合、基板表面を隔壁によって例えば格子状に区画し、区画された一領域を一画素とすることができる。このとき、導電膜11bは、一画素ごとに独立してパターニングされた膜であってもよいし(例えば、アクティブマトリクス型の画像表示装置の場合など)、複数画素にまたがるストライプ状にパターニングされた膜であってもよい(例えば、パッシブマトリクス型の画像表示装置の場合など)。
また、光学素子100を画像表示装置の一画素とする場合、側面22a及び22bの基板12(第2基板)側の一部が開放され、疎水性絶縁膜20と基板12(第2基板)との間の空間が、複数画素に渡って連通されていてもよい。
光学素子100を画像表示装置の一画素とする場合、基板表面を隔壁によって例えば格子状に区画し、区画された一領域を一画素とすることができる。このとき、導電膜11bは、一画素ごとに独立してパターニングされた膜であってもよいし(例えば、アクティブマトリクス型の画像表示装置の場合など)、複数画素にまたがるストライプ状にパターニングされた膜であってもよい(例えば、パッシブマトリクス型の画像表示装置の場合など)。
また、光学素子100を画像表示装置の一画素とする場合、側面22a及び22bの基板12(第2基板)側の一部が開放され、疎水性絶縁膜20と基板12(第2基板)との間の空間が、複数画素に渡って連通されていてもよい。
また、光学素子100を画像表示装置の一画素とする場合、基板11a及び基板12(第2基板)として、ガラス、プラスチック(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)等の光透過性を有する基板を用い、かつ、導電膜11b及び疎水性絶縁膜20としても光透過性を有する膜を用いることにより、透過型の画像表示装置の画素とすることができる。この透過型の画像表示装置の画素において、セル外部に反射板を設けることで、反射型の画像表示装置の画素とすることもできる。
また、導電膜11bとして、反射板としての機能を兼ね備えた膜(例えば、Al膜、Al合金膜などの金属膜)を用いたり、基板11aとして、反射板としての機能を兼ね備えた基板(例えば、Al基板、Al合金基板などの金属基板)を用いたりすることで、反射型の画像表示装置の画素とすることもできる。
なお、第1基板の両面に導電性の部分が設けられている場合は、それぞれの面に対向するように2つ第2基板を設けてもよい。
また、導電膜11bとして、反射板としての機能を兼ね備えた膜(例えば、Al膜、Al合金膜などの金属膜)を用いたり、基板11aとして、反射板としての機能を兼ね備えた基板(例えば、Al基板、Al合金基板などの金属基板)を用いたりすることで、反射型の画像表示装置の画素とすることもできる。
なお、第1基板の両面に導電性の部分が設けられている場合は、それぞれの面に対向するように2つ第2基板を設けてもよい。
本実施形態における光学素子100を画像表示装置の一画素として用いる場合、セルや画像表示装置のその他の構成は、例えば特開2009-86668号公報、特開平10-39800、特表2005-517993、特開2004-252444、特開2004-287008、特表2005-506778、特表2007-531917号公報、特開2009-86668号公報等に記載の公知の構成とすることができる。また、公知のアクティブマトリクス型又はパッシブマトリクス型の液晶表示装置の構成も参照することができる。
<第2の実施形態>
図3は、本発明の光学素子の第2の実施形態を概念的に示す概略断面図である。
この第2の実施形態は、本発明の光学素子を可変焦点レンズとして用いる場合に好適な実施形態である。
図3に示すように、光学素子200は、上記光学素子100と同様に、基板111(第1基板)に設けられた疎水性絶縁膜120と基板112(第2基板)との間であって、側面122a及び側面122bによって区画された領域内に、親水性液体114及びオイル116が設けられたセル130を有する構成となっている。図3では図示を省略しているが、光学素子200には、光学素子100と同様に、電源及びスイッチが接続されている。
図3は、本発明の光学素子の第2の実施形態を概念的に示す概略断面図である。
この第2の実施形態は、本発明の光学素子を可変焦点レンズとして用いる場合に好適な実施形態である。
図3に示すように、光学素子200は、上記光学素子100と同様に、基板111(第1基板)に設けられた疎水性絶縁膜120と基板112(第2基板)との間であって、側面122a及び側面122bによって区画された領域内に、親水性液体114及びオイル116が設けられたセル130を有する構成となっている。図3では図示を省略しているが、光学素子200には、光学素子100と同様に、電源及びスイッチが接続されている。
光学素子200の構成は、以下の点を除き、光学素子100の構成と同様である。
即ち、疎水性絶縁膜120の表面は、中央部(好ましくは円形状の領域)を除いた外周部120aに親水性処理が施されている。これにより、オイル116が疎水性絶縁膜120の表面の前記中央部(好ましくは円形状の領域)のみに接触することで、電圧オフ状態において、オイル116と親水性液体114との界面117Aが曲面状となっている。
更に、基板111(第1の基板)は、基板111aと、該基板111aの表面の中央部(好ましくは円形状の領域)が露出するようにパターニングされた導電膜111bとから構成されている。ここで、導電膜111bは、基板111aの表面に対して垂直な方向からみたときに、電圧オフ状態におけるオイル116と疎水性絶縁膜120との接触領域内にパターンエッジが位置するようにパターニングされている。
光学素子200において、基板111(第1基板)、疎水性絶縁膜120、オイル116、親水性液体114、及び基板112(第2基板)は、光透過性を有している。
これにより、オイル116がレンズとして機能する。
即ち、疎水性絶縁膜120の表面は、中央部(好ましくは円形状の領域)を除いた外周部120aに親水性処理が施されている。これにより、オイル116が疎水性絶縁膜120の表面の前記中央部(好ましくは円形状の領域)のみに接触することで、電圧オフ状態において、オイル116と親水性液体114との界面117Aが曲面状となっている。
更に、基板111(第1の基板)は、基板111aと、該基板111aの表面の中央部(好ましくは円形状の領域)が露出するようにパターニングされた導電膜111bとから構成されている。ここで、導電膜111bは、基板111aの表面に対して垂直な方向からみたときに、電圧オフ状態におけるオイル116と疎水性絶縁膜120との接触領域内にパターンエッジが位置するようにパターニングされている。
光学素子200において、基板111(第1基板)、疎水性絶縁膜120、オイル116、親水性液体114、及び基板112(第2基板)は、光透過性を有している。
これにより、オイル116がレンズとして機能する。
図3では、電圧オフ状態におけるオイル116と親水性液体114との界面を界面117Aとし、電圧オン状態におけるオイル116と親水性液体114との界面を界面117Bとしている。
図3に示すように、電圧オフ状態においてオイル116と親水性液体114との界面は既に所定の曲率を有しているが(界面117A)、電圧オン状態となると、界面の曲率が更に大きくなる(界面117B)。この理由は、第1の実施形態と同様に、電圧が印加されると、疎水性絶縁膜120表面(オイル116との接触面)に電荷が発生するためである。
このようにして、電圧印加により、オイル116と親水性液体114との界面の曲率を変化させることができ、レンズとしてのオイル116の焦点距離を変化させることができる。
図3に示すように、電圧オフ状態においてオイル116と親水性液体114との界面は既に所定の曲率を有しているが(界面117A)、電圧オン状態となると、界面の曲率が更に大きくなる(界面117B)。この理由は、第1の実施形態と同様に、電圧が印加されると、疎水性絶縁膜120表面(オイル116との接触面)に電荷が発生するためである。
このようにして、電圧印加により、オイル116と親水性液体114との界面の曲率を変化させることができ、レンズとしてのオイル116の焦点距離を変化させることができる。
光学素子200においても、電圧オン及び電圧オフが繰り返されることにより、疎水性絶縁膜120表面における電荷の発生及び消滅が繰り返される。
ここでも、疎水性絶縁膜120が不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有していることから、繰り返し駆動時の疎水性絶縁膜120の劣化が抑制される。
ここでも、疎水性絶縁膜120が不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有していることから、繰り返し駆動時の疎水性絶縁膜120の劣化が抑制される。
前記光学素子200は、オイル116を可変焦点レンズとして用いる場合の一例に過ぎず、その構成については種々の変更が可能である。例えば、外周部120aに親水性処理を施さず、疎水性絶縁膜120の表面全体にオイル116を接触させ、かつ、側面122a及び122bにも導電膜及び疎水性絶縁膜を設けた形態に変更すれば、疎水性絶縁膜120とオイル116との接触面積を変えずに、親水性液体114とオイル116との界面の形(レンズの焦点距離)のみを変化させることができる。
光学素子を可変焦点レンズとして用いる場合の具体的な構成については、例えば、特許第4154858号公報、特開2001-013306号公報、特表2001-519539号公報、特開2008-96953号公報等に記載の公知の構成を参照することができる。
光学素子を可変焦点レンズとして用いる場合の具体的な構成については、例えば、特許第4154858号公報、特開2001-013306号公報、特表2001-519539号公報、特開2008-96953号公報等に記載の公知の構成を参照することができる。
次に、本発明の光学素子に用いられる各部材や材料について説明する。
<疎水性絶縁膜>
本発明における疎水性絶縁膜は、第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられる膜であり、オイルと接触する膜である。
本発明における「疎水性」には特に限定はないが、例えば水接触角が60°以上(好ましくは70°以上、より好ましくは80°以上)である性質を指す。
前記水接触角は、具体的にはJIS R3257「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「6.静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器(協和界面科学(株)製の接触角計CA-A)を用い、20メモリの大きさの水滴をつくり、針先から水滴を出して、疎水性絶縁膜に接触させて水滴を形成し、10秒静置後、接触角計の覗き穴から水滴の形状を観察し、25℃における接触角θを求める。
本発明における疎水性絶縁膜は、第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられる膜であり、オイルと接触する膜である。
本発明における「疎水性」には特に限定はないが、例えば水接触角が60°以上(好ましくは70°以上、より好ましくは80°以上)である性質を指す。
前記水接触角は、具体的にはJIS R3257「基板ガラス表面のぬれ性試験方法」内の「6.静滴法」に記載された方法が適用される。
より具体的には、接触角測定器(協和界面科学(株)製の接触角計CA-A)を用い、20メモリの大きさの水滴をつくり、針先から水滴を出して、疎水性絶縁膜に接触させて水滴を形成し、10秒静置後、接触角計の覗き穴から水滴の形状を観察し、25℃における接触角θを求める。
また、本発明における「絶縁」には特に限定はないが、例えば、比抵抗が107Ω・cm以上(好ましくは108Ω・cm以上、より好ましくは109Ω・cm以上)である性質を指す。
前記疎水性絶縁膜は、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する。これにより、疎水性絶縁膜が架橋構造を有しない場合(例えば、疎水性絶縁膜に含まれるポリマーとして線状ポリマーのみを用いた場合)と比較して、パターニング可能となり、必要なところのみ疎水性絶縁膜が作成できることから、隔壁が基板に密着できるよう設計でき、EWDセルの耐久性に優れる。
前記架橋構造は、不飽和二重結合を有する多官能性化合物の少なくとも1種を(必要に応じ他のモノマーとともに)重合させることにより好適に形成される。
前記架橋構造は、不飽和二重結合を有する多官能性化合物の少なくとも1種を(必要に応じ他のモノマーとともに)重合させることにより好適に形成される。
(不飽和二重結合を有するシロキサン化合物)
本発明における疎水性絶縁膜は、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する。
この架橋構造を有する疎水性絶縁膜は、例えば、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物(好ましくは不飽和二重結合を有するポリシロキサン化合物)を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成することができる。この不飽和二重結合を有するシロキサン化合物は、添加量を適宜調節することにより、シロキサン成分の導入量を自在に制御することができる。
不飽和二重結合を有するシロキサン化合物としては、下記一般式(1)で表される化合物(以下、「一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物」ともいう)ことが好ましい。
本発明における疎水性絶縁膜は、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する。
この架橋構造を有する疎水性絶縁膜は、例えば、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物(好ましくは不飽和二重結合を有するポリシロキサン化合物)を含有する硬化性組成物を硬化させることによって形成することができる。この不飽和二重結合を有するシロキサン化合物は、添加量を適宜調節することにより、シロキサン成分の導入量を自在に制御することができる。
不飽和二重結合を有するシロキサン化合物としては、下記一般式(1)で表される化合物(以下、「一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物」ともいう)ことが好ましい。
一般式(1)中、R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~20の有機基を表す。但し、R1、R3、及びR4のうち少なくとも1つは、不飽和二重結合を有する基である。R1~R4が複数存在する場合には、複数存在するR1~R4は同一であっても異なっていてもよい。xは1≦x≦4を満たす整数を表し、yは10≦y≦500を満たす整数を表し、zは0≦z≦500を満たす整数を表す。一般式(1)中、y個の-OSi(R2)2-とz個の-OSi(R3)2-とを含む部位は、ランダム共重合により形成された部位であってもブロック共重合により形成された部位であってもよい。
前記不飽和二重結合を有する基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基を有する基、アリル基を有する基等が挙げられる。
ここで、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。
前記不飽和二重結合を有する基として、より好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシアルキル基または(メタ)アクリロイルアミノアルキル基である。
ここで、(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を表す。
前記不飽和二重結合を有する基として、より好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシアルキル基または(メタ)アクリロイルアミノアルキル基である。
一般式(1)において、R2は、炭素数1~20(好ましくは炭素数1~10)の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは、炭素数1~10のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等)、炭素数1~10のフッ素化アルキル基(トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等)又は炭素数6~20のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)であり、より好ましくは炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のフッ素化アルキル基又はフェニル基であり、特に好ましくはメチル基である。
一般式(1)において、R1、R3、及びR4は、それぞれ独立に、不飽和二重結合を有していてもよい炭素数1~20(好ましくは炭素数1~10)の置換又は無置換の有機基であり、好ましくは、炭素数1~10のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等)、炭素数1~10のフッ素化アルキル基(トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等)、炭素数6~20のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基等)、炭素数1~10の(メタ)アクリロイルオキシアルキル基、または炭素数1~10の(メタ)アクリロイルアミノアルキル基であり、より好ましくは炭素数1~5のアルキル基、炭素数1~5のフッ素化アルキル基、フェニル基、炭素数1~10の(メタ)アクリロイルオキシアルキル基、または炭素数1~10の(メタ)アクリロイルアミノアルキル基であり、特に好ましくはメチル基、炭素数1~10の(メタ)アクリロイルオキシアルキル基、または炭素数1~10の(メタ)アクリロイルアミノアルキル基である。
但し、R1、R3、及びR4の少なくとも1つは、不飽和二重結合を有する基(好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシアルキル基又は(メタ)アクリロイルアミノアルキル基)である。
但し、R1、R3、及びR4の少なくとも1つは、不飽和二重結合を有する基(好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシアルキル基又は(メタ)アクリロイルアミノアルキル基)である。
xは1≦x≦4を満たす整数を表す。
yは10≦y≦500を満たす整数を表し、好ましくは50≦y≦400を満たす整数であり、特に好ましくは100≦y≦300を満たす整数である。
zは0≦z≦500を満たす整数を表し、好ましくは0≦z≦yを満たす整数であり、特に好ましくは0≦z≦0.5yを満たす整数である。
yは10≦y≦500を満たす整数を表し、好ましくは50≦y≦400を満たす整数であり、特に好ましくは100≦y≦300を満たす整数である。
zは0≦z≦500を満たす整数を表し、好ましくは0≦z≦yを満たす整数であり、特に好ましくは0≦z≦0.5yを満たす整数である。
一般式(1)中、y個のシロキサン単位(即ち、-OSi(R2)2-)とz個のシロキサン単位(即ち、-OSi(R3)2-)とからなる部位は、これらの単位を形成するためのモノマーのランダム共重合により形成された部位であってもよいし、これらの単位を形成するためのモノマーのブロック共重合により形成された部位であってもよい。また、当該部位は、y個のシロキサン単位(即ち、-OSi(R2)2-)を形成するモノマーの単独重合によって形成された部位であってもよい(zが0の場合)。
一般式(1)で表される化合物の重量平均分子量(Mw)は、103~106であることが好ましく、より好ましくは5×103~5×105であり、特に好ましくは104~105である。
上記一般式(1)で表される化合物は、市販されているもの、例えば“KF-100T”、“X-22-169AS”、“KF-102”、“X-22-3701IE”、“X-22-164B”、“X-22-5002”、“X-22-173B”、“X-22-174D”、“X-22-167B”、“X-22-161AS”{(商品名)、以上信越化学工業(株)製};“AK-5”、“AK-30”、“AK-32”{(商品名)、以上東亜合成(株)製};「サイラプレーンFM0275」、「サイラプレーンFM0721」{(商品名)、以上JNC(株)製}、「TEGO Rad2010」、「TEGO Rad2011」、「TEGO Rad2100」、「TEGO Rad2200N」、「TEGO Rad2250」、「TEGO Rad2300」、「TEGO Rad2500」、「TEGO Rad2600」、「TEGO Rad2700」{(商品名)、以上エボニックデグサジャパン(株)製}等を用いることもでき、 また市販の水酸基、アミノ基、メルカプト基等の反応性基を有するポリシロキサン化合物に対して不飽和二重結合を導入する等の手法によって合成することもできる。
以下に、一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する重合体)
前記不飽和二重結合を有するシロキサン化合物(好ましくはポリシロキサン化合物。以下同じ。)は種々の重合方法により重合させ、該シロキサン化合物に由来する重合体として疎水性絶縁膜に含有させることができる。重合に際しては、該シロキサン化合物を単独重合させても共重合させてもよく、さらには、該シロキサン化合物を架橋剤として用いてもよい。
前記不飽和二重結合を有するシロキサン化合物(好ましくはポリシロキサン化合物。以下同じ。)は種々の重合方法により重合させ、該シロキサン化合物に由来する重合体として疎水性絶縁膜に含有させることができる。重合に際しては、該シロキサン化合物を単独重合させても共重合させてもよく、さらには、該シロキサン化合物を架橋剤として用いてもよい。
前記シロキサン化合物として前記一般式(1)で表される化合物を用いる場合、疎水性絶縁膜に含まれる重合体は、前記一般式(1)で表される化合物の単独重合体であってもよいし、前記一般式(1)で表される化合物と他のモノマーとの共重合体であってもよい。
共重合させる他のモノマーとしては、公知慣用のモノマー類を使用することができるが、特に代表的なモノマーを例示すると、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,3-ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、アリルアルコール、エチルアリルエーテル、α-フルオロアクリル酸メチルエステル、酢酸ビニル、エチルビニルケトン、ブチルビニルケトンなどのラジカル重合性のモノマー類が挙げられる。
ここで、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを表す。
共重合させる他のモノマーとしては、公知慣用のモノマー類を使用することができるが、特に代表的なモノマーを例示すると、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,3-ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H,1H,5H-オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチル(メタ)アクリレート、1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、アリルアルコール、エチルアリルエーテル、α-フルオロアクリル酸メチルエステル、酢酸ビニル、エチルビニルケトン、ブチルビニルケトンなどのラジカル重合性のモノマー類が挙げられる。
ここで、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを表す。
前記シロキサン化合物の重合方法として、好ましくは、塊状重合または溶液重合が挙げられる。
重合の開始方法は、重合開始剤(例えばラジカル開始剤)を用いる方法、光または放射線を照射する方法、酸を加える方法、光酸発生剤を添加した後に光を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二著、「高分子合成方法」改訂版(日刊工業新聞社刊、1971年)や大津隆行・木下雅悦共著、「高分子合成の実験法」、化学同人、昭和47年、124~154頁に記載されている。
重合の開始方法は、重合開始剤(例えばラジカル開始剤)を用いる方法、光または放射線を照射する方法、酸を加える方法、光酸発生剤を添加した後に光を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二著、「高分子合成方法」改訂版(日刊工業新聞社刊、1971年)や大津隆行・木下雅悦共著、「高分子合成の実験法」、化学同人、昭和47年、124~154頁に記載されている。
(硬化性組成物)
本発明における疎水性絶縁膜は、前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を用いて好適に作製される。
前記硬化性組成物に含まれる前記シロキサン化合物は、1種のみであっても2種以上であってもよい。
本発明における疎水性絶縁膜は、前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を用いて好適に作製される。
前記硬化性組成物に含まれる前記シロキサン化合物は、1種のみであっても2種以上であってもよい。
また、前記硬化性組成物は、更に、単官能性化合物を含んでいてもよい。
単官能性化合物としては特に限定はなく、公知の単官能モノマーを用いることができる。例えば、単官能性化合物としては、上述の共重合させる他のモノマーとして例示したものから単官能モノマーを適宜選択して用いることができる。
単官能性化合物としては特に限定はなく、公知の単官能モノマーを用いることができる。例えば、単官能性化合物としては、上述の共重合させる他のモノマーとして例示したものから単官能モノマーを適宜選択して用いることができる。
前記硬化性組成物中における多官能性化合物の含有量(2種以上である場合には総含有量。以下同じ。)は特に制限はないが、硬化性の観点からは、硬化性組成物の全固形分に対し、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、50質量%以上が特に好ましい。ここで、全固形分とは溶剤を除いた全成分を指す。
また、前記硬化性組成物が、前記ポリシロキサン化合物の少なくとも1種として前記一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物を含む場合、前記一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、50質量%以上が特に好ましい。
また、前記硬化性組成物が、前記ポリシロキサン化合物の少なくとも1種として前記一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物を含む場合、前記一般式(1)で表されるポリシロキサン化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、50質量%以上が特に好ましい。
前記硬化性組成物は、更に、溶剤の少なくとも1種を含むことが好ましい。
前記溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタムなどが挙げられる。
前記溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタムなどが挙げられる。
前記硬化性組成物中における溶剤の含有量(2種以上である場合には総含有量)は、前記硬化性組成物の全質量に対し、20質量%~90質量%が好ましく、30質量%~80質量%がより好ましく、40質量%~80質量%が特に好ましい。
前記硬化性組成物は、更に、重合開始剤の少なくとも1種を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、熱及び光の少なくとも一方の作用によりラジカルを発生する重合開始剤が好ましい。
重合開始剤としては、熱及び光の少なくとも一方の作用によりラジカルを発生する重合開始剤が好ましい。
熱の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
前記有機過酸化物としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシドが挙げられる。前記無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、有機アゾ化合物として2-アゾ-ビス-イソブチロニトリル、2-アゾ-ビス-プロピオニトリル、2-アゾ-ビス-シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p-ニトロベンゼンジアゾニウムなどが挙げられる。
前記有機過酸化物としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシドが挙げられる。前記無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、有機アゾ化合物として2-アゾ-ビス-イソブチロニトリル、2-アゾ-ビス-プロピオニトリル、2-アゾ-ビス-シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p-ニトロベンゼンジアゾニウムなどが挙げられる。
光の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、ヒドロキシアルキルフェノン類、アミノアルキルフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類などがある。
前記ヒドロキシアルキルフェノン類の例には、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが含まれる。
前記アミノアルキルフェノン類の例には、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリン-4-イルフェニル)ブタン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オンが含まれる。
前記アセトフェノン類の例には、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4-ジクロロベンゾフェノン、4,4-ジクロロベンゾフェノンおよびp-クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
また、これらの重合開始剤と併用して増感色素を用いることもできる。
前記ヒドロキシアルキルフェノン類の例には、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2-ヒロドキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-プロパン-1-オン、1-ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが含まれる。
前記アミノアルキルフェノン類の例には、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリン-4-イルフェニル)ブタン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタノン-1、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オンが含まれる。
前記アセトフェノン類の例には、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4-ジクロロベンゾフェノン、4,4-ジクロロベンゾフェノンおよびp-クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
また、これらの重合開始剤と併用して増感色素を用いることもできる。
前記重合開始剤の含有量は特に制限されないが、硬化性組成物の全固形分に対して0.1~15質量%が好ましく、より好ましくは0.5~10質量%であり、特に好ましくは2~5質量%である。
前記硬化性組成物は、必要に応じ、その他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、無機酸化物微粒子、シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤等が挙げられる。
その他の成分の含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して0~30質量%の範囲であることが好ましく、0~20質量%の範囲であることがより好ましく、0~10質量%の範囲であることが特に好ましい。
その他の成分としては、無機酸化物微粒子、シリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤等が挙げられる。
その他の成分の含有量は、硬化性樹脂組成物の全固形分に対して0~30質量%の範囲であることが好ましく、0~20質量%の範囲であることがより好ましく、0~10質量%の範囲であることが特に好ましい。
本発明における疎水性絶縁膜の膜厚には特に限定はないが、50nm~10μmが好ましく、より好ましくは100nm~1μmである。前記疎水性絶縁膜の膜厚が上記範囲であると、絶縁性と駆動電圧とのバランスの点で好ましい。
(疎水性絶縁膜の作製方法)
本発明における疎水性絶縁膜は、第1基板の導電性の表面側(例えば、第1基板が導電膜を有する場合には少なくとも導電膜上)に前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を用いて硬化性層を形成する硬化性層形成工程と、形成された硬化性層中のシロキサン化合物を重合させて該硬化性層を硬化させる硬化工程と、を有する方法により好適に作製できる。これにより、架橋構造を有する疎水性絶縁膜が作製される。
本発明における疎水性絶縁膜は、第1基板の導電性の表面側(例えば、第1基板が導電膜を有する場合には少なくとも導電膜上)に前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を用いて硬化性層を形成する硬化性層形成工程と、形成された硬化性層中のシロキサン化合物を重合させて該硬化性層を硬化させる硬化工程と、を有する方法により好適に作製できる。これにより、架橋構造を有する疎水性絶縁膜が作製される。
前記第1基板上への硬化性層の形成は、公知の塗布法又は転写法により行うことができる。
塗布法の場合、第1基板上に硬化性組成物を塗布して(更に、好ましくは乾燥させて)硬化性層を形成する。前記塗布の方法には特に制限はなく、例えば、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の方法を用いることができる。
転写法の場合、予め、前記硬化性組成物を用いて形成された硬化性層を有する転写材料を準備しておき、該転写材料の硬化性層を第1基板上に転写することにより、第1基板上に硬化性層を形成する。転写法の詳細については、例えば、特開2008-202006号公報の段落0094~0121や、特開2008-139378号公報の段落0076~0090を参照することができる。
塗布法の場合、第1基板上に硬化性組成物を塗布して(更に、好ましくは乾燥させて)硬化性層を形成する。前記塗布の方法には特に制限はなく、例えば、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法等の公知の方法を用いることができる。
転写法の場合、予め、前記硬化性組成物を用いて形成された硬化性層を有する転写材料を準備しておき、該転写材料の硬化性層を第1基板上に転写することにより、第1基板上に硬化性層を形成する。転写法の詳細については、例えば、特開2008-202006号公報の段落0094~0121や、特開2008-139378号公報の段落0076~0090を参照することができる。
前記硬化性層の硬化(不飽和二重結合を有するポリシロキサン化合物の重合)は、例えば、活性エネルギー線の照射(以下、「露光」ともいう)及び加熱の少なくとも一方によって行うことができる。
前記露光に用いられる活性エネルギー線としては特に限定はなく、紫外線(g線、h線、i線等)、電子線、X線が好ましく用いられる。前記露光は、プロキシミティ方式、ミラープロジェクション方式、ステッパー方式等の公知の露光装置を用いて行ってもよい。
前記露光における露光量は適宜設定できるが、例えば、10mJ/cm2~2000mJ/cm2とすることができ、50mJ/cm2~1000mJ/cm2が好ましい。
また、前記露光の際、所定のフォトマスクを介して露光し、次いでアルカリ溶液などの現像液を用いて現像することにより、所望とするパターンにパターニングされた疎水性絶縁膜を得ることも可能である。
前記露光に用いられる活性エネルギー線としては特に限定はなく、紫外線(g線、h線、i線等)、電子線、X線が好ましく用いられる。前記露光は、プロキシミティ方式、ミラープロジェクション方式、ステッパー方式等の公知の露光装置を用いて行ってもよい。
前記露光における露光量は適宜設定できるが、例えば、10mJ/cm2~2000mJ/cm2とすることができ、50mJ/cm2~1000mJ/cm2が好ましい。
また、前記露光の際、所定のフォトマスクを介して露光し、次いでアルカリ溶液などの現像液を用いて現像することにより、所望とするパターンにパターニングされた疎水性絶縁膜を得ることも可能である。
前記加熱は、例えばホットプレートや炉を用いた公知の方法により行うことができる。
加熱温度は適宜設定できるが、例えば、100℃~280℃とすることができ、150℃~250℃が好ましい。加熱時間も適宜設定できるが、例えば、2分~120分とすることができ、5分~60分が好ましい。
加熱温度は適宜設定できるが、例えば、100℃~280℃とすることができ、150℃~250℃が好ましい。加熱時間も適宜設定できるが、例えば、2分~120分とすることができ、5分~60分が好ましい。
<第1基板、第2基板>
本発明における第1基板は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性を有する基板である。
本発明における第2基板は、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置される基板である。
本発明における第1基板は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性を有する基板である。
本発明における第2基板は、前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置される基板である。
本発明における光学素子を画像表示装置や可変焦点レンズに用いる観点からは、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方は、光透過性を有していることが好ましく、具体的には、380nm~770nmの波長領域全域に渡り透過率が80%以上(より好ましくは90%以上)であることが好ましい。
(第1基板)
前記第1基板は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性を有していれば特に限定はない。この導電性の表面が、光学素子における電極として機能する。
ここで「導電性」としては電圧を印加できる程度の性質であれば特に制限はないが、例えば、表面抵抗500Ω/□以下(好ましくは70Ω/□以下、より好ましくは60Ω/以下、更に好ましくは50Ω/□以下)の性質が好適である。
前記第1基板は、単一構成の導電性基板(金属基板等)であってもよいし、支持基板と支持基板上に設けられた導電膜(パターニングされた導電膜であってもパターニングされていない導電膜であってもよい)とを有する構成の基板であってもよい。
中でも、本発明における光学素子を画像表示装置や可変焦点レンズに用いる観点からは、第1基板の構成は、支持基板と支持基板上に設けられた導電膜とを有する構成であることが好ましい。この形態では、第1基板における導電性の表面は、導電膜の表面に相当する。
前記第1基板は、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性を有していれば特に限定はない。この導電性の表面が、光学素子における電極として機能する。
ここで「導電性」としては電圧を印加できる程度の性質であれば特に制限はないが、例えば、表面抵抗500Ω/□以下(好ましくは70Ω/□以下、より好ましくは60Ω/以下、更に好ましくは50Ω/□以下)の性質が好適である。
前記第1基板は、単一構成の導電性基板(金属基板等)であってもよいし、支持基板と支持基板上に設けられた導電膜(パターニングされた導電膜であってもパターニングされていない導電膜であってもよい)とを有する構成の基板であってもよい。
中でも、本発明における光学素子を画像表示装置や可変焦点レンズに用いる観点からは、第1基板の構成は、支持基板と支持基板上に設けられた導電膜とを有する構成であることが好ましい。この形態では、第1基板における導電性の表面は、導電膜の表面に相当する。
前記支持基板としては、ガラス基板(例えば、無アルカリガラス基板、ソーダガラス基板、パイレックス(登録商標)ガラス基板、石英ガラス基板等)、プラスチック基板(例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)基板、ポリカーボネート(PC)基板、ポリイミド(PI)基板等)、アルミ基板やステンレス基板等の金属基板、シリコン基板等の半導体基板等を用いることができる。中でも、光透過性の観点から、ガラス基板又はプラスチック基板が好ましい。
また、前記支持基板としては、薄膜トランジスタ(TFT)が設けられたTFT基板を用いることもできる。この場合には、前記導電膜がTFTに接続された形態(即ち、前記導電膜が、TFTに接続された画素電極である形態)が好適である。これにより、画素ごとに独立して電圧を印加できるようになり、TFTを備えた公知の液晶表示装置と同様に、画像表示装置全体のアクティブ駆動が可能となる。
前記TFT基板における、TFT、各種配線、積蓄容量等の配置については、公知の配置とすることができ、例えば、特開2009-86668号公報に記載された配置を参照することができる。
また、前記支持基板としては、薄膜トランジスタ(TFT)が設けられたTFT基板を用いることもできる。この場合には、前記導電膜がTFTに接続された形態(即ち、前記導電膜が、TFTに接続された画素電極である形態)が好適である。これにより、画素ごとに独立して電圧を印加できるようになり、TFTを備えた公知の液晶表示装置と同様に、画像表示装置全体のアクティブ駆動が可能となる。
前記TFT基板における、TFT、各種配線、積蓄容量等の配置については、公知の配置とすることができ、例えば、特開2009-86668号公報に記載された配置を参照することができる。
前記導電膜の比抵抗には特に制限はないが、例えば、1.0×10-3Ω・cm以下とすることができる。
前記導電膜としては、金属膜を用いることもできるが、光透過性の観点からは、透明導電膜が好ましい。
前記透明導電膜は、380nm~770nmの波長領域全域に渡り透過率が80%以上(より好ましくは90%以上)であることが好ましい。
前記透明導電膜としては、酸化インジウムスズ(ITO(Indium Tin Oxide)とも呼ばれている)、酸化インジウム亜鉛(IZO(Indium Zinc Oxide)とも呼ばれている)、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、及び酸化マグネシウムの少なくとも1種を含む膜が挙げられる。
中でも、前記透明導電膜としては、酸化インジウムスズ(ITO)を含む膜であることが、光透過性及び導電性の観点から好ましい。
酸化インジウムスズ(ITO)を含む膜における酸化スズの添加量は、5~15質量%の範囲が、抵抗値を小さくするためには好ましく、8~12質量%がさらに好ましい。
前記透明導電膜は、380nm~770nmの波長領域全域に渡り透過率が80%以上(より好ましくは90%以上)であることが好ましい。
前記透明導電膜としては、酸化インジウムスズ(ITO(Indium Tin Oxide)とも呼ばれている)、酸化インジウム亜鉛(IZO(Indium Zinc Oxide)とも呼ばれている)、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化カドミウム、及び酸化マグネシウムの少なくとも1種を含む膜が挙げられる。
中でも、前記透明導電膜としては、酸化インジウムスズ(ITO)を含む膜であることが、光透過性及び導電性の観点から好ましい。
酸化インジウムスズ(ITO)を含む膜における酸化スズの添加量は、5~15質量%の範囲が、抵抗値を小さくするためには好ましく、8~12質量%がさらに好ましい。
(第2基板)
前記第2基板としては特に限定はなく、例えば、上記支持基板として例示した基板を用いることができる。
また、前記第2基板としては、前記第1基板と同様に、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性を有する基板を用いることもでき、この場合の第2基板の好ましい形態は前記第1基板の好ましい形態と同様である。
前記第2基板としては特に限定はなく、例えば、上記支持基板として例示した基板を用いることができる。
また、前記第2基板としては、前記第1基板と同様に、少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性を有する基板を用いることもでき、この場合の第2基板の好ましい形態は前記第1基板の好ましい形態と同様である。
前記第2基板が導電膜を有する形態では、該導電膜が、例えば、親水性液体に電位を付与するための電極として機能する。
本発明の光学素子を画像表示装置の画素として用いる場合の特に好ましい形態として、第2基板の導電膜に複数画素に渡る共通の電位を付与する一方、第1基板の導電膜表面には画素ごとに独立した電位を付与することで、各画素に独立した電圧を印加する形態である。この形態については、公知の液晶表示装置の形態を参照することができる。
本発明の光学素子を画像表示装置の画素として用いる場合の特に好ましい形態として、第2基板の導電膜に複数画素に渡る共通の電位を付与する一方、第1基板の導電膜表面には画素ごとに独立した電位を付与することで、各画素に独立した電圧を印加する形態である。この形態については、公知の液晶表示装置の形態を参照することができる。
<オイル>
本発明におけるオイルは、非導電性のオイルである。
前記オイルは、単一成分のオイルであってもよいし、二種以上の成分を含むオイル(オイル組成物)であってもよい。
また、「非導電性」については特に限定はないが、例えば比抵抗106Ω・cm以上(好ましくは107Ω・cm以上)の性質を指す。
本発明におけるオイルは、非導電性のオイルである。
前記オイルは、単一成分のオイルであってもよいし、二種以上の成分を含むオイル(オイル組成物)であってもよい。
また、「非導電性」については特に限定はないが、例えば比抵抗106Ω・cm以上(好ましくは107Ω・cm以上)の性質を指す。
また、前記オイルは、比誘電率が小さいことが好ましい。
具体的には、前記オイルの比誘電率は10.0以下の範囲が好ましく、2.0~10.0の範囲であることがより好ましい。この範囲内であると、比誘電率が10.0を超える場合と比較して、応答速度が速くより低い電圧で駆動(動作)させ得る点で好ましい。
ここで、比誘電率は、オイルをセルギャップ10μmのITO透明電極付きガラスセルに注入し、得られたセルの電気容量を、エヌエフ株式会社製の型式2353LCRメーター(測定周波数:1kHz)を用いて20℃、40%RHにて測定される値である。
具体的には、前記オイルの比誘電率は10.0以下の範囲が好ましく、2.0~10.0の範囲であることがより好ましい。この範囲内であると、比誘電率が10.0を超える場合と比較して、応答速度が速くより低い電圧で駆動(動作)させ得る点で好ましい。
ここで、比誘電率は、オイルをセルギャップ10μmのITO透明電極付きガラスセルに注入し、得られたセルの電気容量を、エヌエフ株式会社製の型式2353LCRメーター(測定周波数:1kHz)を用いて20℃、40%RHにて測定される値である。
また、前記オイルの粘度としては、20℃での動的粘度で10mPa・s以下であることが好ましい。中でも、該粘度は、0.01mPa・s以上が好ましく、更には0.01mPa・s以上8mPa・s以下がより好ましい。前記オイルの粘度が10mPa・s以下であることで、粘度が10mPa・sを超える場合と比較して、応答速度が速くより低い電圧で駆動させ得る点で好ましい。
なお、前記動的粘度は、粘度計(500型、東機産業(株)製)を用いて20℃に調整して測定される値である。
なお、前記動的粘度は、粘度計(500型、東機産業(株)製)を用いて20℃に調整して測定される値である。
前記オイルは、実質的に、後述の親水性液体と混ざり合わないことが好ましい。
具体的には、オイルの親水性液体に対する溶解度(25℃)は、0.1質量%以下が好ましく、0.01質量%以下がより好ましく、0.001質量%以下が特に好ましい。
具体的には、オイルの親水性液体に対する溶解度(25℃)は、0.1質量%以下が好ましく、0.01質量%以下がより好ましく、0.001質量%以下が特に好ましい。
前記オイルは、溶媒として、非極性溶媒の少なくとも一種を含有することが好ましい。ここで、非極性溶媒とは、比誘電率の値が小さい溶媒(いわゆる無極性溶媒)をいう。
前記非極性溶媒としては、例えば、n-ヘキサン、n-デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒(好ましくは、炭素数6~30の脂肪族炭化水素系溶媒);前記脂肪族炭化水素系溶媒がフッ素で置換された溶媒(例えばフルオロカーボンオイル等);シリコーン系溶媒(例えばシリコーンオイル等);等が挙げられる。中でも、脂肪族炭化水素系溶媒が好ましい。
前記非極性溶媒の含有量は、オイルに含まれる溶媒の全量に対して、70質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。非極性溶媒の含有量が70質量%以上であることで、より優れた光シャッター特性を発現させることができる。また、オイルが色材を含有する場合には、オイルへの色材の溶解性がより良好に保たれる。
前記非極性溶媒としては、例えば、n-ヘキサン、n-デカン、ドデカン、テトラデカン、ヘキサデカン等の脂肪族炭化水素系溶媒(好ましくは、炭素数6~30の脂肪族炭化水素系溶媒);前記脂肪族炭化水素系溶媒がフッ素で置換された溶媒(例えばフルオロカーボンオイル等);シリコーン系溶媒(例えばシリコーンオイル等);等が挙げられる。中でも、脂肪族炭化水素系溶媒が好ましい。
前記非極性溶媒の含有量は、オイルに含まれる溶媒の全量に対して、70質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。非極性溶媒の含有量が70質量%以上であることで、より優れた光シャッター特性を発現させることができる。また、オイルが色材を含有する場合には、オイルへの色材の溶解性がより良好に保たれる。
(色材)
例えば、本発明の光学素子を画像表示装置の画素として用いる場合には、前記オイルは色材の少なくとも1種を含有することが好ましい。
前記色材としては特に制限はなく、前記非極性溶媒に対して溶解性、分散性を有する色素の中から、本発明の効果を損なわない範囲で任意に選択することができる。
前記色材としては、前記非極性溶媒に対し溶解性を示す染料又は顔料が好ましく、染料がより好ましい。
例えば、本発明の光学素子を画像表示装置の画素として用いる場合には、前記オイルは色材の少なくとも1種を含有することが好ましい。
前記色材としては特に制限はなく、前記非極性溶媒に対して溶解性、分散性を有する色素の中から、本発明の効果を損なわない範囲で任意に選択することができる。
前記色材としては、前記非極性溶媒に対し溶解性を示す染料又は顔料が好ましく、染料がより好ましい。
前記色材としては特に限定はないが、例えば、画像表示装置用カラーフィルタ(例えば、液晶表示装置用カラーフィルタや固体撮像素子用カラーフィルタ等)の分野で公知の色素のうち、非極性溶媒に溶解するものを適宜選択して用いることができる。
前記色素としては、例えば、メチン系色素(例えば、ピラゾロンメチン系色素、ピリドンメチン系色素、イソオキサゾロンメチン系色素、イソオキサゾリンメチン系色素、等)、アゾメチン系色素(例えば、ピラゾロン系アゾメチン色素、ピリドン系アゾメチン色素、イソオキサゾロン系アゾメチン色素、ピロロトリアゾール系アゾメチン色素、ピラゾロントリアゾール系アゾメチン色素、ナフトール系アゾメチン色素、等)、アゾ系色素(例えば、モノアゾ系色素、ビスアゾ系色素、ベンゾチアゾリルモノアゾ系色素、ピラゾールアゾ系色素、アニリノアゾ系色素、ピラゾロトリアゾールアゾ系色素、ピリドンアゾ系色素)、ジピロメテン系色素、アントラキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、アンスラピリドン系色素、ベンジリデン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、フェノチアジン系色素、キサンテン系色素、フタロシアニン系色素、ベンゾピラン系色素、インジゴ系色素、等の各種の色素を挙げることができる。
前記色素として、より具体的には、Oil Blue N(アルキルアミン置換アントラキノン)、Solvent Green、Sudan Red、Sudan Blackなどが挙げられる。
また、前記色材としては、国際公開第2011/111710号パンフレット、国際公開第2008/142086号パンフレット、特開2009-138189号公報に記載の色材も好ましく用いることができる。
前記色素としては、例えば、メチン系色素(例えば、ピラゾロンメチン系色素、ピリドンメチン系色素、イソオキサゾロンメチン系色素、イソオキサゾリンメチン系色素、等)、アゾメチン系色素(例えば、ピラゾロン系アゾメチン色素、ピリドン系アゾメチン色素、イソオキサゾロン系アゾメチン色素、ピロロトリアゾール系アゾメチン色素、ピラゾロントリアゾール系アゾメチン色素、ナフトール系アゾメチン色素、等)、アゾ系色素(例えば、モノアゾ系色素、ビスアゾ系色素、ベンゾチアゾリルモノアゾ系色素、ピラゾールアゾ系色素、アニリノアゾ系色素、ピラゾロトリアゾールアゾ系色素、ピリドンアゾ系色素)、ジピロメテン系色素、アントラキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、アンスラピリドン系色素、ベンジリデン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、フェノチアジン系色素、キサンテン系色素、フタロシアニン系色素、ベンゾピラン系色素、インジゴ系色素、等の各種の色素を挙げることができる。
前記色素として、より具体的には、Oil Blue N(アルキルアミン置換アントラキノン)、Solvent Green、Sudan Red、Sudan Blackなどが挙げられる。
また、前記色材としては、国際公開第2011/111710号パンフレット、国際公開第2008/142086号パンフレット、特開2009-138189号公報に記載の色材も好ましく用いることができる。
前記色素は公知の方法に準じて合成することができる。
例えば、前記アゾメチン系色素の合成は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J.Am.Chem.Soc.),1957年、79巻、583頁、特開平9-100417号公報、特開2011-116898号公報、特開2011-12231号公報、特開2010-260941号公報、特開2007-262165号公報などに記載の方法に準じて行なうことができる。
また、ピラゾロンメチン系色素の合成は、例えば、特開2008-248123号公報、特開平2-3450号公報、特開昭49―114420号公報、特許第2707371号、特開平5-45789号、特開2009-263517号、特開平3-72340号などに記載の方法に準じて行なうことができる。
また、イソオキサゾロンメチン系色素の合成は、例えば、特許第2707371号、特開平5-45789号、特開2009-263517号、および特開平3-72340号、など記載の方法に準じて行なうことができる。
また、モノアゾ系色素、ビスアゾ系色素、及びアントラキノン色素の合成は、例えば、細田豊著「新染料化学」(昭和48年12月21日技報堂発行)、A.V.Ivashchenko著、Dichroic Dyes for Liquid Crystal Displays、CRC Press、1994年、Bulletin of the Chemical Society of Japan, 第76巻、第607-612頁、2003年、Bulletin of the Chemical Society of Japan, 第72巻、第127-132頁、1999年、など記載の方法に準じて行なうことができる。
また、ジピロメテン系色素の合成は、例えば、特開2008-292970号公報に記載の方法に準じて合成することができる。
また、アゾ系色素の合成は、特許第4408380号、特許第4642403号、特許第4357383号、特許第4359541号、特開2006-91190号、特開2007-31616号、特開2007-39478号、特許第4597806号、特開2002-371079号、及び特許第4666873号の各公報などに示す公知の方法で製造することができる。
例えば、前記アゾメチン系色素の合成は、ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ(J.Am.Chem.Soc.),1957年、79巻、583頁、特開平9-100417号公報、特開2011-116898号公報、特開2011-12231号公報、特開2010-260941号公報、特開2007-262165号公報などに記載の方法に準じて行なうことができる。
また、ピラゾロンメチン系色素の合成は、例えば、特開2008-248123号公報、特開平2-3450号公報、特開昭49―114420号公報、特許第2707371号、特開平5-45789号、特開2009-263517号、特開平3-72340号などに記載の方法に準じて行なうことができる。
また、イソオキサゾロンメチン系色素の合成は、例えば、特許第2707371号、特開平5-45789号、特開2009-263517号、および特開平3-72340号、など記載の方法に準じて行なうことができる。
また、モノアゾ系色素、ビスアゾ系色素、及びアントラキノン色素の合成は、例えば、細田豊著「新染料化学」(昭和48年12月21日技報堂発行)、A.V.Ivashchenko著、Dichroic Dyes for Liquid Crystal Displays、CRC Press、1994年、Bulletin of the Chemical Society of Japan, 第76巻、第607-612頁、2003年、Bulletin of the Chemical Society of Japan, 第72巻、第127-132頁、1999年、など記載の方法に準じて行なうことができる。
また、ジピロメテン系色素の合成は、例えば、特開2008-292970号公報に記載の方法に準じて合成することができる。
また、アゾ系色素の合成は、特許第4408380号、特許第4642403号、特許第4357383号、特許第4359541号、特開2006-91190号、特開2007-31616号、特開2007-39478号、特許第4597806号、特開2002-371079号、及び特許第4666873号の各公報などに示す公知の方法で製造することができる。
前記色材は、1種単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。
オイルが色材を含有する場合、色材の含有量は特に制限されるものではなく、その目的に応じて任意の濃度で調製することができる。
前記色材の含有量は、オイル全質量に対して、例えば0.2質量%以上とすることができ、必要とされるεC値(εはオイルの吸光係数)に応じて溶媒(例えば非極性溶媒)により希釈して用いられる。
色相や色濃度の観点から、前記色材の含有量は、オイル全質量に対して、20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が更に好ましく、50質量%以上が特に好ましい。
オイルが色材を含有する場合、色材の含有量は特に制限されるものではなく、その目的に応じて任意の濃度で調製することができる。
前記色材の含有量は、オイル全質量に対して、例えば0.2質量%以上とすることができ、必要とされるεC値(εはオイルの吸光係数)に応じて溶媒(例えば非極性溶媒)により希釈して用いられる。
色相や色濃度の観点から、前記色材の含有量は、オイル全質量に対して、20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、40質量%以上が更に好ましく、50質量%以上が特に好ましい。
前記オイルは、必要に応じ、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。添加剤の含有量に特に制限はないが、通常、オイルの全質量に対して20質量%以下程度で用いられる。
<親水性液体>
本発明における親水性液体は、導電性の親水性液体である。
ここで「導電性」については特に限定はないが、例えば比抵抗105Ω・cm以下(好ましくは104Ω・cm以下)の性質を指す。
本発明における親水性液体は、導電性の親水性液体である。
ここで「導電性」については特に限定はないが、例えば比抵抗105Ω・cm以下(好ましくは104Ω・cm以下)の性質を指す。
前記親水性液体は、例えば、電解質及び水性溶媒を含んで構成される。
前記電解質としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、テトラブチルアンモニウムクロリド等の塩が挙げられる。
親水性液体中における電解質の濃度は、0.1~10mol/Lが好ましく、0.1~5mol/Lがより好ましい。
前記電解質としては、例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、テトラブチルアンモニウムクロリド等の塩が挙げられる。
親水性液体中における電解質の濃度は、0.1~10mol/Lが好ましく、0.1~5mol/Lがより好ましい。
また、前記親水性液体は、水性溶媒として、水以外の水性溶媒を含んでいてもよい。水以外の水性溶媒としては、エタノール等のアルコール系溶媒が挙げられる。
<その他の部材>
本発明の光学素子は、第1基板上に、セルの領域を確定する隔壁を有することが好ましい。この隔壁は、既述のとおり、第2基板に接していてもよいし、第2基板に接していなくてもよい。
前記隔壁は樹脂を含むことが好ましく、例えば、液晶表示装置等の画像表示装置に用いられる公知の隔壁と同様の構成とすることができる。
前記隔壁は、例えば、感光性レジストや感光性フィルムを用いた公知のフォトリソグラフィー法によって形成することができる。
本発明の光学素子は、第1基板上に、セルの領域を確定する隔壁を有することが好ましい。この隔壁は、既述のとおり、第2基板に接していてもよいし、第2基板に接していなくてもよい。
前記隔壁は樹脂を含むことが好ましく、例えば、液晶表示装置等の画像表示装置に用いられる公知の隔壁と同様の構成とすることができる。
前記隔壁は、例えば、感光性レジストや感光性フィルムを用いた公知のフォトリソグラフィー法によって形成することができる。
本発明の光学素子は、更に必要に応じ、親水性液体と第1基板の導電性の表面との間に電圧を印加するための電圧印加手段(例えば電源)、セルギャップ(第1基板に設けられた疎水性絶縁膜表面と第2基板との距離)を確保するためのスペーサー等のその他の部材を有していてもよい。本発明の光学素子に用いられることがあるその他の部材としては、例えば、液晶表示装置等の画像表示装置に用いられる公知の部材を用いることができる。
なお、本発明におけるセルのセルギャップ(第1基板に設けられた疎水性絶縁膜表面と第2基板との距離)には特に制限はないが、例えば、3μm~100μmの範囲で適宜設定することができる。
また、本発明におけるセルのセル面積は、100μm2~100cm2の範囲が好ましく、より好ましくは500μm2~10cm2の範囲であり、特に好ましくは1000μm2~1cm2の範囲である。
また、本発明におけるセル内は、オイルと親水性液体とで満たされていることが好ましい。オイルと親水性液体との体積比率(オイル:親水性液体)は、好ましくは1:1000~1:0.1、より好ましくは1:100~1:1、特に好ましくは1:50~1:2である。
また、本発明におけるセルのセル面積は、100μm2~100cm2の範囲が好ましく、より好ましくは500μm2~10cm2の範囲であり、特に好ましくは1000μm2~1cm2の範囲である。
また、本発明におけるセル内は、オイルと親水性液体とで満たされていることが好ましい。オイルと親水性液体との体積比率(オイル:親水性液体)は、好ましくは1:1000~1:0.1、より好ましくは1:100~1:1、特に好ましくは1:50~1:2である。
≪画像表示装置≫
本発明の画像表示装置は、既述の本発明の光学素子を有する画素を備え、前記オイルが色材を含有する。
本発明の画像表示装置は、既述の本発明の光学素子を有する画素を備えているので、電圧オン及び電圧オフを繰り返したときの疎水性絶縁膜の劣化が抑制され、繰り返し駆動時の耐久性に優れる。
本発明の画像表示装置は、既述の本発明の光学素子を有する画素を備え、前記オイルが色材を含有する。
本発明の画像表示装置は、既述の本発明の光学素子を有する画素を備えているので、電圧オン及び電圧オフを繰り返したときの疎水性絶縁膜の劣化が抑制され、繰り返し駆動時の耐久性に優れる。
本発明の画像表示装置の好ましい形態については前述のとおりである。
より具体的には、本発明の画像表示装置は、公知の液晶表示装置の構成における液晶を、オイル及び親水性液体に置き換えた構成とすることができる。これにより、従来の液晶表示装置と同様に駆動させることができる。
即ち、本発明の画像表示装置は、本発明の光学素子を有する画素に加え、必要に応じ、バックライト、セルギャップ調整用のスペーサー、封止用のシール材等、公知の液晶表示装置と同様の部材を備えて構成することができる。
より具体的には、本発明の画像表示装置は、公知の液晶表示装置の構成における液晶を、オイル及び親水性液体に置き換えた構成とすることができる。これにより、従来の液晶表示装置と同様に駆動させることができる。
即ち、本発明の画像表示装置は、本発明の光学素子を有する画素に加え、必要に応じ、バックライト、セルギャップ調整用のスペーサー、封止用のシール材等、公知の液晶表示装置と同様の部材を備えて構成することができる。
このとき、オイル及び親水性液体は、例えば、第1基板上の隔壁によって区画された領域に、インクジェット法により付与して設けることができる。
本発明の画像表示装置は、例えば、前記第1基板を準備する第1基板準備工程と、前記第1基板の導電性表面側に前記疎水性絶縁膜を形成する工程と、前記第1基板の前記疎水性絶縁膜形成面上を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁により区画された領域に、(例えばインクジェット法により)前記オイル及び前記親水性液体をこの順に付与する付与工程と、前記付与工程後の前記第1基板のオイル及び親水性液体が付与された側に前記第2基板を重ねてセルを形成するセル形成工程と、(更に必要に応じ、第1基板と第2基板とを前記セルの周囲で接着することにより、前記セルを封止する封止工程と、)を有する方法が挙げられる。
第1基板と第2基板との接着は、液晶表示装置の作製に通常用いられるシール材を用いて行うことができる。
また、隔壁形成工程の後であってセル形成工程の前に、セルギャップ調整用のスペーサーを形成するスペーサー形成工程が設けられていてもよい。
本発明の画像表示装置は、例えば、前記第1基板を準備する第1基板準備工程と、前記第1基板の導電性表面側に前記疎水性絶縁膜を形成する工程と、前記第1基板の前記疎水性絶縁膜形成面上を区画する隔壁を形成する隔壁形成工程と、前記隔壁により区画された領域に、(例えばインクジェット法により)前記オイル及び前記親水性液体をこの順に付与する付与工程と、前記付与工程後の前記第1基板のオイル及び親水性液体が付与された側に前記第2基板を重ねてセルを形成するセル形成工程と、(更に必要に応じ、第1基板と第2基板とを前記セルの周囲で接着することにより、前記セルを封止する封止工程と、)を有する方法が挙げられる。
第1基板と第2基板との接着は、液晶表示装置の作製に通常用いられるシール材を用いて行うことができる。
また、隔壁形成工程の後であってセル形成工程の前に、セルギャップ調整用のスペーサーを形成するスペーサー形成工程が設けられていてもよい。
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「%」は質量基準である。
〔実施例1~18〕
<硬化性組成物A1~A18の調製>
下記表1及び表2に示す種類及び量の重合性単量体及び重合開始剤をメチルエチルケトンに溶解させて固形分30%溶液を調製した後、さらに重合禁止剤として4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル(東京化成社製)を重合性単量体に対して200ppm(0.02%)となるように加えた。得られた溶液を0.1μmのテトラフロロエチレン製フィルターでろ過し、硬化性組成物A1~A18をそれぞれ調製した。
<硬化性組成物A1~A18の調製>
下記表1及び表2に示す種類及び量の重合性単量体及び重合開始剤をメチルエチルケトンに溶解させて固形分30%溶液を調製した後、さらに重合禁止剤として4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-1-オキシルフリーラジカル(東京化成社製)を重合性単量体に対して200ppm(0.02%)となるように加えた。得られた溶液を0.1μmのテトラフロロエチレン製フィルターでろ過し、硬化性組成物A1~A18をそれぞれ調製した。
(表1及び表2の説明)
・表1及び表2に示す各成分の数値は質量比である。
・表1及び表2に示す重合性単量体及び開始剤の詳細は以下のとおりである。
・表1及び表2に示す各成分の数値は質量比である。
・表1及び表2に示す重合性単量体及び開始剤の詳細は以下のとおりである。
(重合性単量体)
M-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製)(多官能性化合物)
M-2:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(ATMMT、新中村化学(株)製)(多官能性化合物)
M-3:2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート(V-3F、大阪有機化学工業(株)製)(単官能性化合物)
M-4:ステアリルアクリレート(東京化成工業(株)製)(単官能性化合物)
M-5:エチレングリコールジアクリレート(Aldrich社製)(多官能性化合物)
S-(16):KF-100T(信越化学工業(株)製)
S-(17):TEGO Rad2010(エボニックデグサジャパン(株)製)
M-1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPHA、日本化薬(株)製)(多官能性化合物)
M-2:ペンタエリスリトールテトラアクリレート(ATMMT、新中村化学(株)製)(多官能性化合物)
M-3:2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート(V-3F、大阪有機化学工業(株)製)(単官能性化合物)
M-4:ステアリルアクリレート(東京化成工業(株)製)(単官能性化合物)
M-5:エチレングリコールジアクリレート(Aldrich社製)(多官能性化合物)
S-(16):KF-100T(信越化学工業(株)製)
S-(17):TEGO Rad2010(エボニックデグサジャパン(株)製)
(開始剤(光重合開始剤))
P-1:2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパン-1-オン(BASF社製、Darocur1173)
P-2:(2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリン-4-イルフェニル)ブタン-1-オン(BASF社製、Irgacure379EG)
P-1:2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパン-1-オン(BASF社製、Darocur1173)
P-2:(2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリン-4-イルフェニル)ブタン-1-オン(BASF社製、Irgacure379EG)
<オイルの調製>
下記組成中の成分を混合し、オイルを得た。
得られたオイルは黒色であり、その動的粘度(20℃)を粘度計で測定したところ、7.9mPa・sであった。
以下、オイルを「黒インク」とも称することがある。
下記組成中の成分を混合し、オイルを得た。
得られたオイルは黒色であり、その動的粘度(20℃)を粘度計で測定したところ、7.9mPa・sであった。
以下、オイルを「黒インク」とも称することがある。
-オイル(黒インク)の組成-
下記色素Y1 … 260mg
下記色素M1 … 200mg
下記色素M2 … 160mg
下記色素C1 … 300mg
下記色素C2 … 100mg
n-デカン … 4080mg
下記色素Y1 … 260mg
下記色素M1 … 200mg
下記色素M2 … 160mg
下記色素C1 … 300mg
下記色素C2 … 100mg
n-デカン … 4080mg
<テストセルの作製>
以下のようにして、図4に示す構造の光学素子(テストセル300)を作製した。
図4は、本実施例に用いたテストセルの概略断面図である。
まず、第1基板211として、膜厚100nmの酸化インジウムスズ膜(ITO膜;透明電極)211bが形成されたガラス基板(1cm角)211aを準備した。
このガラス基板211aのITO膜211b上に、上記で得られた硬化性組成物A1~A18及びPr-1~Pr-3のいずれか1つを塗布して塗布層を形成し、引き続き、VCD(真空乾燥装置、東京応化工業社製)で30秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、120℃で3分間プリベーク処理して硬化性組成物層を得た。得られた硬化性組成物層に対し、窒素雰囲気下、超高圧水銀灯を用いて露光量300mJ/cm2で露光することで、硬化性組成物層に含まれるポリシロキサン化合物を重合させて硬化性組成物層を硬化させた。更に、露光後の硬化性組成物層に対し、240℃で50分間加熱処理を施した。
以上により、ITO膜211b上に、ポリシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜220(架橋膜;膜厚100nm)を形成した。
形成された疎水性絶縁膜220上に、厚み20μmのフォトレジストフィルム(日立化成社製、商品名フォトキャスト)を重ねた後、格子状パターンを有するフォトマスク(格子の大きさ200μm角、格子の線幅20μm)を介して上記フォトレジストフィルムを露光し、アルカリ現像処理を行うことで隔壁(高さ20μm、幅20μm)223を作製した。
隔壁形成後のガラス基板の縁に、シール材232として、厚み40μm、幅1mmのシリコンゴム(扶桑ゴム社製、商品名シリウス)を置いた。
次に、隔壁に223よって区画された領域に、オイル216として、上記で得られたオイル(黒インク)を、厚み4μmとなるようにインクジェット法により注入し、その上に、親水性液体214としての電解液(NaClの濃度が1mol/LのNaCl水溶液)を厚み36μmとなるよう注入した。
その上に、ITO膜212bが設けられたガラス基板212a(第2基板212)を、ITO膜212bが親水性液体214(電解液)側となるように置き、疎水性絶縁膜220が設けられた第1基板211と第2基板212とを、シリコンゴム(シール材232)によって固定した。
以上のようにして、図4に示すテストセル300を作製した。
以下のようにして、図4に示す構造の光学素子(テストセル300)を作製した。
図4は、本実施例に用いたテストセルの概略断面図である。
まず、第1基板211として、膜厚100nmの酸化インジウムスズ膜(ITO膜;透明電極)211bが形成されたガラス基板(1cm角)211aを準備した。
このガラス基板211aのITO膜211b上に、上記で得られた硬化性組成物A1~A18及びPr-1~Pr-3のいずれか1つを塗布して塗布層を形成し、引き続き、VCD(真空乾燥装置、東京応化工業社製)で30秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、120℃で3分間プリベーク処理して硬化性組成物層を得た。得られた硬化性組成物層に対し、窒素雰囲気下、超高圧水銀灯を用いて露光量300mJ/cm2で露光することで、硬化性組成物層に含まれるポリシロキサン化合物を重合させて硬化性組成物層を硬化させた。更に、露光後の硬化性組成物層に対し、240℃で50分間加熱処理を施した。
以上により、ITO膜211b上に、ポリシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜220(架橋膜;膜厚100nm)を形成した。
形成された疎水性絶縁膜220上に、厚み20μmのフォトレジストフィルム(日立化成社製、商品名フォトキャスト)を重ねた後、格子状パターンを有するフォトマスク(格子の大きさ200μm角、格子の線幅20μm)を介して上記フォトレジストフィルムを露光し、アルカリ現像処理を行うことで隔壁(高さ20μm、幅20μm)223を作製した。
隔壁形成後のガラス基板の縁に、シール材232として、厚み40μm、幅1mmのシリコンゴム(扶桑ゴム社製、商品名シリウス)を置いた。
次に、隔壁に223よって区画された領域に、オイル216として、上記で得られたオイル(黒インク)を、厚み4μmとなるようにインクジェット法により注入し、その上に、親水性液体214としての電解液(NaClの濃度が1mol/LのNaCl水溶液)を厚み36μmとなるよう注入した。
その上に、ITO膜212bが設けられたガラス基板212a(第2基板212)を、ITO膜212bが親水性液体214(電解液)側となるように置き、疎水性絶縁膜220が設けられた第1基板211と第2基板212とを、シリコンゴム(シール材232)によって固定した。
以上のようにして、図4に示すテストセル300を作製した。
<疎水性撥水膜上におけるEWD駆動の評価>
得られたテストセル300では、電圧を印加しない状態(電圧オフ状態)では、黒インク(オイル216)が疎水性絶縁膜220上に広がっており、黒色の状態であった(図4)。
このテストセル300の上下の透明電極(ITO膜212b及びITO膜211b)をそれぞれ信号発生器に接続して、直流電圧15Vを印加した状態を目視で観察し、下記評価基準に従って評価した。
評価結果を下記表3に示す。
得られたテストセル300では、電圧を印加しない状態(電圧オフ状態)では、黒インク(オイル216)が疎水性絶縁膜220上に広がっており、黒色の状態であった(図4)。
このテストセル300の上下の透明電極(ITO膜212b及びITO膜211b)をそれぞれ信号発生器に接続して、直流電圧15Vを印加した状態を目視で観察し、下記評価基準に従って評価した。
評価結果を下記表3に示す。
-駆動性の評価基準-
A : 電圧印加により、黒インクの収縮が見られた。
B : 電圧印加により、黒インクの収縮は若干見られた。
C : 電圧印加しても、黒インクの形状に変化は見られなかった。
A : 電圧印加により、黒インクの収縮が見られた。
B : 電圧印加により、黒インクの収縮は若干見られた。
C : 電圧印加しても、黒インクの形状に変化は見られなかった。
以上の電圧オン及び電圧オフのサイクル(直流電圧の印加時間30秒、インターバル(電圧無印加の時間)30秒)を500回繰返し行った。
そして、このサイクルを500回繰返し行った後に、電圧オン状態として黒インク(オイル216)を縮ませ、この状態を目視で観察し、下記評価基準に従って評価した。
評価結果を下記表3に示す。
そして、このサイクルを500回繰返し行った後に、電圧オン状態として黒インク(オイル216)を縮ませ、この状態を目視で観察し、下記評価基準に従って評価した。
評価結果を下記表3に示す。
-耐久性の評価基準-
A : 上記サイクルを500回繰返し行った後の黒インクの縮み具合が、サイクル1回目における黒インクの縮み具合と同等であった。
B : 上記サイクルを500回繰返し行った後は黒インクがほとんど縮まず、上記サイクルを500回繰返したことにより、電圧印加に対する応答性が大幅に劣化した
A : 上記サイクルを500回繰返し行った後の黒インクの縮み具合が、サイクル1回目における黒インクの縮み具合と同等であった。
B : 上記サイクルを500回繰返し行った後は黒インクがほとんど縮まず、上記サイクルを500回繰返したことにより、電圧印加に対する応答性が大幅に劣化した
〔比較例1~3〕
実施例1の硬化性組成物A1の調製における重合性単量体及び重合開始剤の種類及び量を、上記表2に示すように変更したこと以外は同様にして、比較組成物Pr-1~Pr-3を調製した。
更に、実施例1における硬化性組成物A1を、比較組成物Pr-1~Pr-3のいずれか1つに変更したこと以外は実施例1と同様にしてテストセルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。
評価結果を下記表3に示す。
実施例1の硬化性組成物A1の調製における重合性単量体及び重合開始剤の種類及び量を、上記表2に示すように変更したこと以外は同様にして、比較組成物Pr-1~Pr-3を調製した。
更に、実施例1における硬化性組成物A1を、比較組成物Pr-1~Pr-3のいずれか1つに変更したこと以外は実施例1と同様にしてテストセルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。
評価結果を下記表3に示す。
〔比較例4〕
実施例1のテストセルの作製において、硬化性組成物A1を用いて作製された疎水性絶縁膜を、デュポン社製のテフロン(登録商標)AF-1600を用いて作製された疎水性絶縁膜に変更したこと以外は実施例1と同様にしてテストセルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。ここで、AF-1600は、架橋構造を有しないアモルファスフルオロポリマーである。
評価結果を下記表3に示す。
実施例1のテストセルの作製において、硬化性組成物A1を用いて作製された疎水性絶縁膜を、デュポン社製のテフロン(登録商標)AF-1600を用いて作製された疎水性絶縁膜に変更したこと以外は実施例1と同様にしてテストセルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。ここで、AF-1600は、架橋構造を有しないアモルファスフルオロポリマーである。
評価結果を下記表3に示す。
〔比較例5〕
実施例1のテストセルの作製において、硬化性組成物A1を用いて作製された疎水性絶縁膜220を、旭硝子(株)製のサイトップ「CTL-809M」を用いて作製された疎水性絶縁膜に変更したこと以外は実施例1と同様にしてテストセルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。ここで、サイトップは、架橋構造を有しないアモルファスフルオロポリマーである。評価結果を下記表3に示す。
実施例1のテストセルの作製において、硬化性組成物A1を用いて作製された疎水性絶縁膜220を、旭硝子(株)製のサイトップ「CTL-809M」を用いて作製された疎水性絶縁膜に変更したこと以外は実施例1と同様にしてテストセルを作製し、実施例1と同様の評価を行った。ここで、サイトップは、架橋構造を有しないアモルファスフルオロポリマーである。評価結果を下記表3に示す。
表3に示すように、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜を用いた実施例1~18のテストセルは、比較例1~5のテストセルと比較して、EWD駆動性、および繰り返し駆動に対する耐久性に優れていた。
日本国特許出願(基礎日本出願の出願番号を書く)2012-197950号の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Claims (5)
- 少なくとも一方の表面の少なくとも一部が導電性である第1基板と、
前記第1基板の導電性の表面に対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板の導電性の表面と前記第2基板との間に設けられた、非導電性のオイル及び導電性の親水性液体と、
前記第1基板の導電性の表面側の少なくとも一部に設けられ、前記オイルと接触し、不飽和二重結合を有するシロキサン化合物に由来する架橋構造を有する疎水性絶縁膜と、を有するセルを備え、
前記親水性液体と前記第1基板の導電性の表面との間に印加された電圧に応じ、前記オイルと前記親水性液体との界面の形状が変化する光学素子。 - 前記電圧に応じ、前記オイルと前記疎水性絶縁膜との接触面積が変化する請求項1に記載の光学素子。
- 前記疎水性絶縁膜は、前記シロキサン化合物を含有する硬化性組成物を硬化させることにより作製され、該シロキサン化合物の重合により形成された架橋構造を有する請求項1または請求項2に記載の光学素子。
- 前記シロキサン化合物が、一般式(1)で表される化合物である請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の光学素子。
〔一般式(1)中、R1~R4は、それぞれ独立に、炭素数1~20の有機基を表す。但し、R1、R3、及びR4のうち少なくとも1つは、不飽和二重結合を有する基である。R1~R4が複数存在する場合には、複数存在するR1~R4は同一であっても異なっていてもよい。xは1≦x≦4を満たす整数を表し、yは10≦y≦500を満たす整数を表し、zは0≦z≦500を満たす整数を表す。一般式(1)中、y個の-OSi(R2)2-とz個の-OSi(R3)2-とからなる部位は、ランダム共重合により形成された部位であってもブロック共重合により形成された部位であってもよい。〕 - 請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の光学素子を有する画素を備え、前記オイルが色材を含有する画像表示装置。
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- 2013-08-13 WO PCT/JP2013/071884 patent/WO2014038360A1/ja active Application Filing
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2015
- 2015-02-18 US US14/624,585 patent/US20150160452A1/en not_active Abandoned
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