WO2014023633A1 - Halterung für eine vielzahl von scheibenförmigen werkstücken - Google Patents

Halterung für eine vielzahl von scheibenförmigen werkstücken Download PDF

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liquid
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support
impeller
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Walter EDMAIER
Albert KÜHNSTETTER
Carmen Ratz
Gregor REESKE
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Siltronic AG
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Siltronic AG
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    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
    • H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H10P72/0411—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H10P72/0416—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • H—ELECTRICITY
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    • H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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    • H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
    • H10P72/13—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements

Definitions

  • the invention relates to a holder for a plurality of disc-shaped workpieces, with which the workpieces can be held in a cleaning bath during cleaning.
  • silicon wafers which are used, for example, as substrates for the production of microelectronic components, usually silicon wafers, are repeatedly subjected to cleaning in the course of their manufacture, for example after polishing, epitaxial coating or after thermal treatment
  • the aim of the cleaning is, inter alia, on the wafer surface adhering particles as possible
  • EP0856873A2 describes such a bath cleaning process. Cleaning can be assisted by the action of ultra or megasonic. Since the cleaning effect is insufficient at the locations where the wafers are resting on the rollers or rods, and at the locations where the intensity of the megasonic is reduced by shadowing effects, EP0856873A2 provides a rotation of FIG Semiconductor disks in the cleaning bath. In this way, a uniform cleaning of the disc surfaces can be achieved.
  • the support rollers are driven by a motor and set in rotation about its longitudinal axis. The torque generated by the engine is represented by an im
  • EP0856873A2 provides a circulation and filtration of the cleaning fluid.
  • the flow conditions in the bath are optimized to minimize the number of particles from the gears to the
  • a holder for a plurality of disk-shaped workpieces comprising
  • Support rollers are rotatably mounted in the receptacles of the connecting elements and wherein the support rollers along their circumference grooves for receiving the workpieces.
  • the invention also relates to an arrangement
  • liquid pool comprising a holder of the type described above and a Liquid pool, wherein the liquid pool has complementary support and fixing elements, the
  • Liquid pool has means for driving the support rollers.
  • the rotatably supported support rollers are not part of the fluid pool in which the cleaning is performed, but part of a
  • rotatable support rollers are part of the removable holder, the workpieces must be brought into contact with the support rollers only once before the start of cleaning. When inserted into the cleaning bath or in several cleaning baths in succession, the workpieces always remain in the holder with the rotatable
  • Support rollers and do not need to be re-placed on support rollers in each cleaning bath.
  • the workpieces can be transported with the holder from cleaning bath to cleaning bath.
  • the invention therefore leads to a
  • Fig. 1 shows a holder according to the invention for
  • Fig. 2 shows a side view of an inventive
  • Fig. 3 shows a side view of an inventive
  • the holder 10 (FIG. 1) according to the invention for a multiplicity of disk-shaped workpieces 2 comprises two connecting elements 5 arranged in parallel and two or more rotatably mounted support rollers 1 extending between the connecting elements 5.
  • the connecting elements 5 are preferably flat elements, which may have one or more openings. Each of the connecting elements 5 has one of the number of
  • Support rollers 1 corresponding number of recordings, for example in the form of holes.
  • the support rollers 1 are parallel to each other and
  • the ends of the support rollers 1 are rotatably mounted in the receptacles of the two connecting elements 5.
  • the support rollers 1 are mounted in the receptacles by means of rolling bearings made of an abrasion-resistant and resistant to the cleaning liquids used material such as silicon carbide or aluminum oxide.
  • the support rollers 1 have a substantially cylindrical shape. Their lateral surface also has circumferential grooves 6, which can accommodate the disk-shaped workpieces and stabilize laterally.
  • Grooves are preferably designed so that only the outermost edge region of the disk-shaped workpieces 2 rests against the grooves 6 in order to keep the contact and thus the risk of contamination as low as possible.
  • the holder 10 has exactly three support rollers 1, since three support points allow safe storage of workpieces without risk of tipping. More than three
  • the parts of the holder are made of materials that are chemically resistant to the cleaning solutions used.
  • materials such as polytetrafluoroethylene
  • PTFE polyetheretherketone
  • PVDF polyvinylidene fluoride
  • the holder 10 can, as shown in FIGS. 2 and 3, insert into a liquid pool 21.
  • the liquid pool 21 has the shape of the holder 10 and complementary support ⁇ fixing elements 22, which support the holder from below and secure the side, without a fixed connection between the bracket 10 and the liquid pool 22
  • the liquid pool 21 has means for driving the support rollers 1.
  • Liquid pool 21 integrated means for driving the
  • Support rollers 1 are designed to be
  • the holder 10 according to the invention including the
  • the liquid pool 21 also preferably has the known from the prior art features such as supply and
  • the liquid pool 21 can with arbitrary
  • Cleaning fluids are filled according to the prior art. There may also be lines for a circulation of
  • Cleaning liquid possibly with filtration, be provided.
  • impellers 3 which are set in rotation by the supply of a liquid.
  • the holder 10 has in this case at least one impeller 3 per
  • Support roller 1 which is arranged coaxially with the relevant support roller 1 and fixedly connected thereto.
  • An impeller 3 is sufficient to the
  • Support role 1 to power. Therefore, it is preferable to have exactly one impeller 3 for each support roller 1
  • the impeller 3 is arranged at one end of the respective support roller 1 adjacent to one of the connecting elements 5. This is preferably Connecting element 5 between the impeller 3 and the grooved part of the support roller 1, which supports the workpieces. In this way, the greatest possible spatial separation of the drive is ensured by the workpieces. This is advantageous because possibly by the drive of the
  • the integrated into the liquid pool 21 means for
  • Liquid preferably leaves the liquid feed 23 through a nozzle which is oriented so that the
  • Fluid flow hits a portion of the blades of the impeller 3 and thus drives the impeller.
  • Rotation speed can be adjusted via the pressure of the liquid introduced.
  • the direction of rotation can be changed by adjusting the nozzle position.
  • the composition of the liquid supplied for the drive preferably corresponds to the composition of the cleaning liquid.
  • the liquid supplied to the drive is diverted from the supply of the cleaning liquid.
  • the impellers may be modified with bushes (see Fig. 1):
  • each of the impellers 3 is of a coaxially arranged bushing 4 in the form of a hollow cylinder surrounded, the lateral surface of which has a respect to the hollow cylinder along a secant inlet opening 7 and an outlet opening 8.
  • the bushes also have an end face, not shown in FIG. 1, so that the
  • Wheels 3 are completely separated from the cleaning fluid.
  • integrated liquid feeds 23 are preferably arranged complementary to the inlet openings 7 so that they are in the insertion of the holder 10 in the
  • Liquid pool 21 form a releasable, positive connection with the inlet openings 7.
  • liquid discharges 24 integrated in the liquid tank 21 are preferably arranged complementary to the outlet openings 8, so that, when the holder 10 is inserted into the liquid tank 21, they are detachable,
  • Liquid feeds 23 are supplied.
  • Holder in the liquid basin can be used for cleaning
  • Any disc-shaped, preferably round workpieces are used. Particularly preferred is the application for the cleaning of semiconductor wafers, for example consisting of silicon.

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Gegenstand der Erfindung ist eine Halterung (10) für eine Vielzahl von scheibenförmigen Werkstücken (2), umfassend - zwei parallel angeordnete Verbindungselemente (5) mit jeweils wenigstens drei Aufnahmen für eine entsprechende Anzahl an Unterstützungsrollen (1) und - wenigstens drei parallel angeordnete zylindrische Unterstützungsrollen (1), die sich zwischen den Verbindungselementen (5) erstrecken, wobei die Enden der Unterstützungsrollen (1) in den Aufnahmen der Verbindungselemente (5) drehbar gelagert sind und wobei die Unterstützungsrollen (1) entlang ihres Umfangs Rillen (6) zur Aufnahme der Werkstücke (2) aufweisen. Die Erfindung bezieht sich auch auf eine Anordnung umfassend die beschriebene Halterung und ein Flüssigkeitsbecken.

Description

Halterung für eine Vielzahl von scheibenförmigen Werkstücken
Gegenstand der Erfindung ist eine Halterung für eine Vielzahl von scheibenförmigen Werkstücken, mit der die Werkstücke in einem Reinigungsbad während einer Reinigung gehalten werden können .
Halbleiterscheiben, die beispielsweise als Substrate für die Herstellung mikroelektronischer Bauelemente dienen, meist Siliciumscheiben, werden im Laufe ihrer Herstellung mehrfach einer Reinigung unterzogen, beispielsweise nach dem Polieren, epitaktischen Beschichten oder nach thermischen
Behandlungsschritten. Ziel der Reinigung ist es unter anderem, an der Scheibenoberfläche haftende Partikel möglichst
vollständig zu entfernen, bevor die Siliciumscheiben für die Herstellung mikroelektronischer Bauelemente verwendet werden. Wegen der zunehmenden Miniaturisierung der Bauelemente ist es zudem erforderlich, immer kleinere Partikel von den
Scheibenoberflächen zu entfernen. Partikelgrößen, die in der Vergangenheit noch toleriert werden konnten, werden in Zukunft aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung der Bauelemente zunehmend zu Störungen in der Funktion der Bauelemente führen. Damit steigen insbesondere die Anforderungen an die
Leistungsfähigkeit der Reinigungsverfahren.
Es ist bekannt, eine Vielzahl von Scheiben gleichzeitig in einem Bad mit einer Reinigungsflüssigkeit zu behandeln. Die Halbleiterscheiben werden dabei im Reinigungsbad durch mehrere Rollen oder Stangen unterstützt, die in der Regel Rillen aufweisen, die die Halbleiterscheiben seitlich stabilisieren. EP0856873A2 beschreibt ein solches Badreinigungsverfahren. Die Reinigung kann durch die Einwirkung von Ultra- oder Megaschall unterstützt werden. Da die Reinigungswirkung an den Stellen, an denen die Halbleiterscheiben auf den Rollen oder Stangen aufliegen, und an den Stellen, an denen die Intensität des Megaschalls durch Abschattungseffekte reduziert wird, nicht ausreichend ist, sieht EP0856873A2 eine Rotation der Halbleiterscheiben im Reinigungsbad vor. Auf diese Weise kann eine gleichmäßige Reinigung der Scheibenoberflächen erreicht werden. Um die Halbleiterscheiben im Reinigungsbad in Rotation zu versetzen, werden die Unterstützungsrollen von einem Motor angetrieben und in eine Rotation um ihre Längsachse versetzt. Das vom Motor erzeugte Drehmoment wird durch ein im
Reinigungsbad befindliches Zahnradgetriebe auf die
Unterstützungsrollen übertragen. Da durch die Reibung der
Zahnräder Partikel generiert werden, sieht EP0856873A2 eine Zirkulation und Filtration der Reinigungsflüssigkeit vor.
Außerdem werden die Strömungsverhältnisse im Bad optimiert, um möglichst wenige Partikel von den Zahnrädern zu den
Halbleiterscheiben zu transportieren. Trotzdem wird die mit der in EP0856873A2 beschriebenen Vorrichtung erzielte
Reinigungsleistung heutigen Anforderungen an die
Partikelfreiheit von Halbleiterscheiben nicht mehr gerecht.
Es stellte sich daher die Aufgabe, die Reinigungsleistung des oben beschriebenen Reinigungsverfahrens zu verbessern.
Die Aufgabe wird gelöst durch eine Halterung für eine Vielzahl von scheibenförmigen Werkstücken, umfassend
- zwei parallel angeordnete Verbindungselemente mit jeweils wenigstens drei Aufnahmen für eine entsprechende Anzahl an Unterstützungsrollen und
- wenigstens drei parallel angeordnete zylindrische
Unterstützungsrollen, die sich zwischen den
Verbindungselementen erstrecken, wobei die Enden der
Unterstützungsrollen in den Aufnahmen der Verbindungselemente drehbar gelagert sind und wobei die Unterstützungsrollen entlang ihres Umfangs Rillen zur Aufnahme der Werkstücke aufweisen .
Die Erfindung bezieht sich außerdem auf eine Anordnung
umfassend eine Halterung der oben beschriebenen Art und ein Flüssigkeitsbecken, wobei das Flüssigkeitsbecken komplementäre Unterstützungs- und Fixierungselemente aufweist, die die
Halterung von unten unterstützen und seitlich fixieren, ohne eine feste Verbindung zwischen der Halterung und dem
Flüssigkeitsbecken herzustellen, und wobei das
Flüssigkeitsbecken Mittel zum Antrieb der Unterstützungsrollen aufweist .
Im Gegensatz zum Stand der Technik sind die drehbar gelagerten Unterstützungsrollen nicht Teil des Flüssigkeitsbeckens, in dem die Reinigung durchgeführt wird, sondern Teil einer
herausnehmbaren Halterung für die Werkstücke. Gemäß dem Stand der Technik müssen die Werkstücke, beispielsweise
Halbleiterscheiben, beim Einsetzen in das Flüssigkeitsbecken mit den Unterstützungsrollen in Kontakt gebracht werden. Dies birgt die Gefahr, dass an den Kontaktstellen Partikel
entstehen. In mehrstufigen Reinigungsverfahren mit mehreren Reinigungsbädern besteht diese Gefahr bei jedem Einsetzen in eines der Reinigungsbäder.
Da die für eine Rotation der Werkstücke erforderlichen
drehbaren Unterstützungsrollen erfindungsgemäß Teil der herausnehmbaren Halterung sind, müssen die Werkstücke nur einmal vor Beginn der Reinigung mit den Unterstützungsrollen in Kontakt gebracht werden. Beim Einsetzen in das Reinigungsbad oder in mehrere Reinigungsbäder nacheinander verbleiben die Werkstücke immer in der Halterung mit den drehbaren
Unterstützungsrollen und müssen nicht in jedem Reinigungsbad neu auf Unterstützungsrollen aufgesetzt werden. Die Werkstücke können mit der Halterung von Reinigungsbad zu Reinigungsbad transportiert werden. Die Erfindung führt daher zu einer
Verringerung der Gefahr der Partikelentstehung und verbessert daher die Reinigungsleistung der bekannten
Reinigungsvorrichtungen . Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Figuren im Detail beschrieben .
Fig. 1 zeigt eine erfindungsgemäße Halterung für
scheibenförmige Werkstücke.
Fig. 2 zeigt eine Seitenansicht einer erfindungsgemäßen
Anordnung der Halterung in einem Flüssigkeitsbecken mit
Blickrichtung entlang der Längsachse der Anordnung.
Fig. 3 zeigt eine Seitenansicht einer erfindungsgemäßen
Anordnung der Halterung in einem Flüssigkeitsbecken mit
Blickrichtung senkrecht zur Längsachse der Anordnung. Die erfindungsgemäße Halterung 10 (Fig. 1) für eine Vielzahl von scheibenförmigen Werkstücken 2 umfasst zwei parallel angeordnete Verbindungselemente 5 und zwei oder mehr sich zwischen den Verbindungselementen 5 erstreckende, drehbar gelagerte Unterstützungsrollen 1.
Die Verbindungselemente 5 sind vorzugsweise flächige Elemente, die ein oder mehrere Durchbrüche aufweisen können. Jedes der Verbindungselemente 5 weist eine der Anzahl der
Unterstützungsrollen 1 entsprechende Anzahl an Aufnahmen auf, beispielsweise in der Form von Bohrungen.
Die Unterstützungsrollen 1 sind parallel zueinander und
senkrecht zu den Verbindungselementen 5 angeordnet. Sie
befinden sich zwischen den beiden Verbindungselementen 5 und verbinden diese miteinander. Die Enden der Unterstützungsrollen 1 sind in den Aufnahmen der beiden Verbindungselemente 5 drehbar gelagert. Vorzugsweise sind die Unterstützungsrollen 1 in den Aufnahmen mittels Wälzlagern aus einem abriebfesten und gegen die eingesetzten Reinigungsflüssigkeiten beständigen Material wie Siliciumcarbid oder Aluminiumoxid gelagert. Die Unterstützungsrollen 1 weisen eine im Wesentlichen zylindrische Form auf. Ihre Mantelfläche weist zudem umlaufende Rillen 6 auf, die die scheibenförmigen Werkstücke aufnehmen und seitlich stabilisieren können. Das Profil der umlaufenden
Rillen ist vorzugsweise so gestaltet, dass nur der äußerste Kantenbereich der scheibenförmigen Werkstücke 2 an den Rillen 6 anliegt, um den Kontakt und damit die Kontaminationsgefahr so gering wie möglich zu halten. Um runde, scheibenförmige
Werkstücke 2 sicher unterstützen zu können, sind mindestens drei Unterstützungsrollen 1 notwendig. Vorzugsweise weist die Halterung 10 genau drei Unterstützungsrollen 1 auf, da drei Unterstützungspunkte eine sichere Lagerung der Werkstücke ohne Verkippungsgefahr ermöglichen. Mehr als drei
Unterstützungspunkte bringen bei nicht exakt komplanarer
Anordnung die Gefahr erhöhter Reibungskräfte zwischen den
Werkstücken und den Rillen der Unterstützungsrollen mit sich, wenn die Unterstützungsrollen in Rotation versetzt werden. Dies führt wiederum zu einer erhöhten Gefahr der Partikelentstehung.
Die Teile der Halterung bestehen aus Materialien, die gegen die eingesetzten Reinigungslösungen chemisch beständig sind.
Beispielsweise sind Materialien wie Polytetrafluorethylen
(PTFE), Polyetheretherketon (PEEK) , Polyvinylidenfluorid (PVDF) oder Quarzglas gegen die meisten gebräuchlichen Chemikalien beständig .
Die Halterung 10 lässt sich, wie in Fig. 2 und 3 gezeigt, in ein Flüssigkeitsbecken 21 einsetzen. Das Flüssigkeitsbecken 21 weist zur Form der Halterung 10 komplementäre Unterstützungs¬ und Fixierungselemente 22 auf, die die Halterung von unten unterstützen und seitlich fixieren, ohne eine feste Verbindung zwischen der Halterung 10 und dem Flüssigkeitsbecken 22
herzustellen . Zudem weist das Flüssigkeitsbecken 21 Mittel zum Antrieb der Unterstützungsrollen 1 auf. Die Unterstützungsrollen 1, die einen Teil der Halterung 10 darstellen und die in das
Flüssigkeitsbecken 21 integrierten Mittel zum Antrieb der
Unterstützungsrollen 1 sind so gestaltet, dass sie
zusammenwirken können, um die Rotation der Unterstützungsrollen 1 anzutreiben, ohne eine feste Verbindung zu benötigen.
Die erfindungsgemäße Halterung 10 einschließlich der
Unterstützungsrollen 1 und der darauf ruhenden scheibenförmigen Werkstücke 2 kann daher einfach aus dem Flüssigkeitsbecken 21 entnommen und beispielsweise der nächsten Behandlung in einem weiteren Flüssigkeitsbecken zugeführt werden. Das Flüssigkeitsbecken 21 weist zudem vorzugsweise die aus dem Stand der Technik bekannten Merkmale auf wie Zu- und
Ableitungen für Reinigungsflüssigkeit oder ein oder mehrere Megaschall-Systeme zur Unterstützung der Partikelentfernung. Das Flüssigkeitsbecken 21 kann mit beliebigen
Reinigungsflüssigkeiten gemäß dem Stand der Technik befüllt werden. Es können auch Leitungen für eine Zirkulation der
Reinigungsflüssigkeit, ggf. mit Filtration, vorgesehen sein.
Besonders bevorzugt ist ein Antrieb der Unterstützungsrollen 1 mittels Flügelrädern 3 (siehe Fig. 1), die durch die Zuführung einer Flüssigkeit in Rotation versetzt werden. Die Halterung 10 weist in diesem Fall wenigstens ein Flügelrad 3 pro
Unterstützungsrolle 1 auf, das koaxial mit der betreffenden Unterstützungsrolle 1 angeordnet und fest mit dieser verbunden ist. Ein Flügelrad 3 ist ausreichend, um die
Unterstützungsrolle 1 anzutreiben. Daher ist es bevorzugt, genau ein Flügelrad 3 für jede Unterstützungsrolle 1
vorzusehen. Vorzugsweise ist das Flügelrad 3 an einem Ende der betreffenden Unterstützungsrolle 1 benachbart zu einem der Verbindungselemente 5 angeordnet. Vorzugsweise liegt das Verbindungselement 5 zwischen dem Flügelrad 3 und dem rillierten Teil der Unterstützungsrolle 1, der die Werkstücke unterstützt. Auf diese Weise wird für eine größtmögliche räumliche Trennung des Antriebs von den Werkstücken gesorgt. Dies ist vorteilhaft, da sich ggf. durch den Antrieb der
Flügelräder entstehende Verwirbelungen in der
Reinigungsflüssigkeit weniger stark auf die
Strömungsverhältnisse an den Oberflächen der Werkstücke
auswirken .
Wenn die Halterung 10 mit Flügelrädern 3 ausgestattet ist, sind die in das Flüssigkeitsbecken 21 integrierten Mittel zum
Antrieb der Unterstützungsrollen 1 als Flüssigkeitszuführungen 23 (siehe Fig. 2 und 3) ausgeführt, die es ermöglichen, die Flügelräder 3 durch Zuführung von Flüssigkeit in Rotation zu versetzen und damit die dem jeweiligen Flügelrad 3 zugeordnete Unterstützungsrolle 1 anzutreiben. Vorzugsweise ist für jedes Flügelrad 3 eine Flüssigkeitszuführung 23 vorgesehen. Die
Flüssigkeit verlässt die Flüssigkeitszuführung 23 vorzugsweise durch eine Düse, die derart ausgerichtet ist, dass die
Flüssigkeitsströmung auf einen Teil der Flügel des Flügelrades 3 trifft und auf diese Weise das Flügelrad antreibt. Die
Rotationsgeschwindigkeit kann über den Druck der eingeleiteten Flüssigkeit eingestellt werden. Die Rotationsrichtung kann durch eine Verstellung der Düsenposition geändert werden.
Der Vorteil dieses Antriebs ist, dass die Kraftübertragung im Wesentlichen ohne Reibung zwischen zwei festen Körpern
stattfindet und auf diese Weise die Entstehung von Partikeln weitgehend vermieden wird. Im Fall des aus dem Stand der
Technik bekannten Zahnradgetriebes reiben dagegen ständig die Zahnflanken der Zahnräder aneinander, was zur Entstehung von Abrieb führt, der die zu reinigenden Werkstücke mit Partikeln verschmutzen kann. Da sich die zum Antrieb der Flügelräder zugeführte Flüssigkeit - wenn keine weiteren konstruktiven Maßnahmen ergriffen werden, wie unten beschrieben - mit der im Flüssigkeitsbecken
enthaltenen Reinigungsflüssigkeit vermischt, entspricht die Zusammensetzung der für den Antrieb zugeführten Flüssigkeit vorzugsweise der Zusammensetzung der Reinigungsflüssigkeit. Vorzugsweise wird die zum Antrieb zugeführte Flüssigkeit von der Zuführung der Reinigungsflüssigkeit abgezweigt. Um eine Vermischung der Reinigungsflüssigkeit mit der für den Antrieb der Flügelräder verwendeten Flüssigkeit zu vermeiden, können die Flügelräder mit Buchsen modifiziert werden (siehe Fig. 1) : In diesem Fall ist jedes der Flügelräder 3 von einer koaxial angeordneten Buchse 4 in der Form eines Hohlzylinders umgeben, dessen Mantelfläche eine bezüglich des Hohlzylinders entlang einer Sekante angeordnete Einlassöffnung 7 sowie eine Auslassöffnung 8 aufweist. Die Buchsen weisen zudem eine in Fig. 1 nicht dargestellte Stirnfläche auf, sodass die
Flügelräder 3 komplett von der Reinigungsflüssigkeit getrennt sind.
In diesem Fall sind die in das Flüssigkeitsbecken 21
integrierten Flüssigkeitszuführungen 23 (siehe Fig. 2 und 3) vorzugsweise komplementär zu den Einlassöffnungen 7 angeordnet, sodass sie beim Einsetzen der Halterung 10 in das
Flüssigkeitsbecken 21 eine lösbare, formschlüssige Verbindung mit den Einlassöffnungen 7 bilden.
Entsprechend sind die in das Flüssigkeitsbecken 21 integrierten Flüssigkeitsableitungen 24 vorzugsweise komplementär zu den Auslassöffnungen 8 angeordnet, sodass sie beim Einsetzen der Halterung 10 in das Flüssigkeitsbecken 21 eine lösbare,
formschlüssige Verbindung mit den Auslassöffnungen 8 bilden. Auf diese Weise ist es möglich, den Strom der für den Antrieb der Flügelräder 3 verwendeten Flüssigkeit vollständig von der im Flüssigkeitsbecken 21 mit den zu reinigenden Werkstücken 2 in Berührung kommenden Reinigungsflüssigkeit zu trennen.
Unerwünschte Verwirbelungen in der Reinigungsflüssigkeit, die durch die Strömung der zum Antrieb der Flügelräder zugeführten Flüssigkeit entstehen und zu einer unkontrollierten Veränderung der Strömungsverhältnisse an den Oberflächen der Werkstücke und damit zu einer Verringerung der Reinigungsleistung führen würden, können so vermieden werden. Trotzdem bleibt der Vorteil erhalten, dass die Halterung einfach in das Flüssigkeitsbecken eingesetzt und wieder entnommen werden kann.
Falls für den Antrieb die Reinigungsflüssigkeit verwendet wird, kann die durch die Auslassöffnungen 8 zurückströmende
Flüssigkeit mit der aus dem Flüssigkeitsbecken 21 abgeführten Reinigungsflüssigkeit zusammengeführt und ggf. nach Filtration wieder dem Flüssigkeitsbecken 21 und dem Abzweig zu den
Flüssigkeitszuführungen 23 zugeführt werden.
Die erfindungsgemäße Halterung sowie die Anordnung der
Halterung in dem Flüssigkeitsbecken kann zur Reinigung
beliebiger scheibenförmiger, vorzugsweise runder Werkstücke verwendet werden. Besonders bevorzugt ist die Anwendung für die Reinigung von Halbleiterscheiben, beispielsweise bestehend aus Silicium.

Claims

Patentansprüche
1. Halterung (10) für eine Vielzahl von scheibenförmigen
Werkstücken (2), umfassend
- zwei parallel angeordnete Verbindungselemente (5) mit jeweils wenigstens drei Aufnahmen für eine entsprechende Anzahl an Unterstützungsrollen (1) und
- wenigstens drei parallel angeordnete zylindrische
Unterstützungsrollen (1), die sich zwischen den
Verbindungselementen (5) erstrecken, wobei die Enden der
Unterstützungsrollen (1) in den Aufnahmen der
Verbindungselemente (5) drehbar gelagert sind und wobei die Unterstützungsrollen (1) entlang ihres Umfangs Rillen (6) zur Aufnahme der Werkstücke (2) aufweisen.
2. Halterung (10) gemäß Anspruch 1, gekennzeichnet durch jeweils wenigstens ein Flügelrad (3) pro Unterstützungsrolle (1), das koaxial mit der betreffenden Unterstützungsrolle (1) angeordnet und fest mit dieser verbunden ist.
3. Halterung (10) gemäß Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass jeweils ein Flügelrad (3) an einem Ende jeder
Unterstützungsrolle (1) benachbart zu einem der
Verbindungselemente (5) angeordnet ist.
4. Halterung (10) gemäß einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass jedes der Flügelräder (3) von einer koaxial angeordneten Buchse (4) in der Form eines Hohlzylinders umgeben ist, dessen Mantelfläche eine bezüglich des
Hohlzylinders entlang einer Sekante angeordnete Einlassöffnung (7) sowie eine Auslassöffnung (8) aufweist.
5. Anordnung umfassend ein Flüssigkeitsbecken (21) sowie eine Halterung (10) gemäß Anspruch 1, wobei das Flüssigkeitsbecken (21) komplementäre Unterstützungs- und Fixierungselemente (22) aufweist, die die Halterung (10) von unten unterstützen und seitlich fixieren, ohne eine feste Verbindung zwischen der Halterung (10) und dem Flüssigkeitsbecken (21) herzustellen, und wobei das Flüssigkeitsbecken (21) Mittel zum Antrieb der Unterstützungsrollen (1) aufweist.
6. Anordnung gemäß Anspruch 5, wobei die Halterung (10) gemäß Anspruch 2 ausgeführt ist und wobei die Mittel zum Antrieb der Unterstützungsrollen (1) als eine Flüssigkeitszuführung (23) pro Flügelrad (3) ausgeführt sind, die es ermöglicht, das
Flügelrad (3) durch Zuführung von Flüssigkeit in Rotation zu versetzen und damit die dem Flügelrad (3) zugeordnete
Unterstützungsrolle (1) anzutreiben.
7. Anordnung gemäß Anspruch 6, wobei die Halterung (10) gemäß Anspruch 4 ausgeführt ist und wobei die Flüssigkeitszuführungen (23) komplementär zu den Einlassöffnungen (7) angeordnet sind, sodass sie beim Einsetzen der Halterung (10) in das
Flüssigkeitsbecken (21) eine lösbare, formschlüssige Verbindung mit den Einlassöffnungen (7) bilden.
8. Anordnung gemäß Anspruch 7, wobei das Flüssigkeitsbecken (21) zusätzlich eine Flüssigkeitsableitung (24) pro Flügelrad aufweist, wobei die Flüssigkeitsableitungen (24) komplementär zu den Auslassöffnungen (8) angeordnet sind, sodass sie beim Einsetzen der Halterung (10) in das Flüssigkeitsbecken (21) eine lösbare, formschlüssige Verbindung mit den
Auslassöffnungen (8) bilden.
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