WO2013002502A3 - Composition de gravure de texture pour une tranche de silicium cristallin et procédé de gravure de texture de celle-ci - Google Patents
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Abstract
La présente invention concerne une composition de gravure de texture pour une tranche de silicium cristallin et un procédé de gravure de texture de celle-ci, et, plus spécifiquement, une composition de gravure de texture pour une tranche de silicium cristallin, qui est apte à rendre maximimale la quantité absorbée de lumière du soleil par le fait qu'elle comprend la quantité optimale de composés alcalins, de composés cycliques, de polysaccharides et d'eau résiduelle, permettant ainsi d'améliorer l'uniformité de texture selon une position sur la surface de la tranche de silicium cristallin, d'améliorer le rendement optique par réduction de la réflectivité de la lumière, et d'augmenter le nombre de tranches traitées selon la quantité utilisée par unité. L'invention concerne également un procédé de gravure de texture d'une tranche de silicium.
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