WO2012161157A1 - 有機溶媒分散シリカゾル - Google Patents
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- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/145—Preparation of hydroorganosols, organosols or dispersions in an organic medium
Definitions
- the present invention relates to an organic solvent-dispersed silica sol using benzyl alcohol as a dispersion medium.
- the organic solvent-dispersed silica sol can be used as a hard coat film formed on the surface of a synthetic resin molding such as a lens, a bottle, a film or a plate, a micro filler for a thin film, an internal resin additive, or the like.
- a synthetic resin molding such as a lens, a bottle, a film or a plate, a micro filler for a thin film, an internal resin additive, or the like.
- the following method is disclosed as a method for producing an organic solvent-dispersed silica sol.
- (1) A method for producing a methanol-dispersed silica sol in which metal ions in an aqueous silica sol are removed by an ion exchange method and then mixed with methanol and then concentrated and dehydrated by an ultrafiltration method (see Patent Document 1).
- Patent Document 2 A method for producing a hydrophobic organosilica sol in which a dispersion composed of hydrophilic colloidal silica, a silylating agent, a hydrophobic organic solvent, water, and alcohol is neutralized, and after heating and aging, the solvent is distilled and replaced.
- Patent Document 3 A method for producing a silica sol using an organic solvent as a dispersion medium, in which a silica sol using water as a dispersion medium and an organic solvent are mixed and then dehydrated by ultrafiltration.
- cresol has the highest solubility in polyamides and exhibits excellent dissolving power in thermosetting resins such as polyesterimide, polyester, and polyurethane. Therefore, phenols such as cresol are widely used as solvents for these heat resistant resins. However, since phenols have odor and toxicity, conversion to other solvents is attempted, and benzyl alcohol having a value close to the SP value (solubility factor) of phenols is a solvent for paints using the above resins. (Refer to Patent Document 4).
- the dispersion medium is the same as the solvent used in the resin coating, or It is required that the resin has high solubility. This is because if a silica sol dispersed in a solvent with low resin solubility is used, the resin may precipitate or phase separate when the organic solvent dispersed sol and the resin are mixed.
- benzyl alcohol is excellent as a solvent for resin coatings from the viewpoint of resin solubility and low toxicity, and silica sol using benzyl alcohol as the main dispersion medium has been strongly demanded.
- silica sol using benzyl alcohol as the main dispersion medium has been reported so far.
- Patent Document 4 discloses an organosilica sol in which silica is dispersed in a mixed solvent containing 5 to 80% by mass of a phenol or benzyl alcohol and 1 to 40% by mass of a monohydric alcohol having 3 to 7 carbon atoms.
- the dispersion medium contains phenols, it has toxicity, and since a solvent other than benzyl alcohol is contained, the solubility of the resin is low.
- An object of the present invention is to solve the above-described problems of the prior art, and to provide a stable organic solvent-dispersed silica sol using benzyl alcohol as a main dispersion medium and a method for producing the organic solvent-dispersed silica sol.
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention that solves the above problems is an organic solvent-dispersed silica sol in which colloidal silica particles are dispersed in a dispersion medium containing an organic solvent, and the benzyl alcohol content in the dispersion medium exceeds 80% by mass. It is an organic solvent-dispersed silica sol that is 100% by mass or less.
- the colloidal silica particles in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention have an average primary particle diameter of 5 to 300 nm.
- colloidal silica particles contained in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention are preferably formed by bonding at least one silane compound having an ether structure on the surface thereof.
- colloidal silica particles contained in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention are bound at a ratio of 0.2 to 5.0 per 1 nm 2 of surface area with at least one silane compound having an ether structure on the surface. It is preferable that
- the silane compound having at least one ether structure is preferably a silane compound having at least one epoxy group or (meth) acryloxy group.
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention includes a step of adding a silane compound having at least one ether structure to a silica sol in which colloidal silica particles are dispersed in a dispersion medium, and a step of replacing the dispersion medium of the silica sol with benzyl alcohol. It can manufacture by the method containing.
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention can be used as a modifier or additive for paints, inks, and the like using benzyl alcohol, and the insulation, heat resistance, and resin of the resin using the organic solvent-dispersed silica sol, Hardness, adhesion, scratch resistance, etc. can be improved. Moreover, according to the method of the present invention, a stable organic solvent-dispersed silica sol having benzyl alcohol as a main dispersion medium can be suitably obtained.
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention has a benzyl alcohol content in the dispersion medium of more than 80% by mass and 100% by mass or less.
- Components other than benzyl alcohol in the dispersion medium can be contained in the dispersion medium in an amount of 0 to 20% by mass, and one kind or two or more kinds of organic solvents can be used. Further, a small amount of water may be contained in the dispersion medium.
- Organic solvents other than benzyl alcohol that can be used in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention include organic solvents such as alcohols, ethers, ketones, esters, hydrocarbons, and epoxides.
- organic solvents such as alcohols, ethers, ketones, esters, hydrocarbons, and epoxides.
- Specific examples of alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, isobutanol, 2-butanol, tert-butanol, ethylene glycol, glycerin, propylene glycol, triethylene glycol, Examples include polyethylene glycol, 1,5-pentanediol, diacetone alcohol and the like.
- ethers include diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Examples include diethylene glycol monobutyl ether.
- esters include ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, methacrylic acid
- esters include methyl, hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane EO-modified triacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, tripropylene glycol diarylate, pentaerythritol triacrylate, glycidyl methacrylate, and the like.
- ketones include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone, and the like.
- hydrocarbons include n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, solvent naphtha, styrene, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and trichloroethylene.
- the epoxide examples include allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene Examples include glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid.
- organic solvents include acetonitrile, acetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
- the colloidal silica particles contained in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention are colloidal silica particles derived from water and / or organic solvent-dispersed silica sol produced by a known method using water glass or silicon alkoxide as a raw material.
- the average primary particle diameter of the colloidal silica particles contained in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention is 5 to 300 nm.
- the colloidal silica particles contained in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention are preferably surface-treated with a silane compound having at least one ether structure, that is, the silane compound is preferably bonded to the surface.
- the dispersion stability of the colloidal silica particles in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention can be improved.
- silane compound having at least one ether structure examples include a silane compound having an epoxy group and a silane compound having a (meth) acryloxy group, and other silane compounds include 1,3-bis (dioxanylethyl). ) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, tetrakis (2-methoxyethoxy) silane and the like.
- the colloidal silica particles contained in the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention are surface-treated with a silane compound having at least one ether structure at a ratio of 0.2 to 5.0 per 1 nm 2 of the surface area (
- the silane compound is preferably bonded to the surface of the colloidal silica particles), more preferably 0.5 to 4.0, more preferably 0.8 to 3.0, per 1 nm 2 of the surface.
- the amount of surface treatment with the silane compound having at least one ether structure that is, the ratio of the silane compound bonded to the colloidal silica particles is less than 0.2 per 1 nm 2 of the surface area of the colloidal silica particles, sufficient surface treatment Thus, the dispersibility of the colloidal silica particles in benzyl alcohol is reduced. Further, when the surface treatment amount of the silane compound exceeds 5.0 per 1 nm 2 of the surface area of the colloidal silica particles, a large amount remains in the organic solvent-dispersed silica sol from which the organosilane compound not bonded to the colloidal silica particles is obtained. For this reason, there are cases where there is an adverse effect on the intended use.
- the silane compound having at least one ether structure is preferably a silane compound having at least one epoxy group or (meth) acryloxy group.
- silane compound having at least one epoxy group or (meth) acryl group examples include alkoxysilane having an epoxy group or (meth) acryl group in the molecule or a dimer to pentamer oligomer of a hydrolyzate thereof, siloxane, etc. Is mentioned.
- alkoxysilane having at least one epoxy group examples include 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl.
- examples thereof include methyldiethoxysilane, dimethylethoxy-3-glycidoxypropylsilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and 5,6-epoxyhexyltriethoxysilane.
- siloxane having at least one epoxy group examples include 1,3-bis (3-glycidoxypropyl) 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and (3-glycidoxypropyl) penta And methyldisiloxane.
- alkoxysilane having at least one (meth) acryl group examples include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-acryloxypropylmethyl.
- silane compounds may be used in combination for the purpose of improving dispersibility in the resin and improving the performance.
- examples of other silane compounds include silazane compounds, siloxane compounds or alkoxysilanes and partial hydrolysates thereof, or oligomers of dimer to pentamer of the partial hydrolysates.
- silazane compound examples include hexamethyldisilazane and hexaethyldisilazane.
- siloxane compound examples include hexamethyldisiloxane, 1,3-dibutyltetramethyldisiloxane, 1,3-diphenyltetramethyldisiloxane, 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, hexaethyldisiloxane, and the like.
- alkoxysilane examples include trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylpropoxysilane, phenyldimethylmethoxysilane, chloropropyldimethylmethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, Tetrabutoxysilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, propyltriethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-octylmethyldiethoxysilane, n- Octadecyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenylmethyldime
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention can be produced by a method including a step of adding at least one silane compound having an ether structure to a silica sol as a raw material, and a step of replacing the dispersion medium of the silica sol with benzyl alcohol. it can.
- the silica sol used as a raw material is a silica sol containing colloidal silica particles having an average primary particle diameter of 5 to 300 nm, and the concentration of the colloidal silica particles is preferably 5 to 70% by mass.
- the silica sol dispersion medium used as a raw material is water or an organic solvent, preferably an organic solvent, and more preferably an organic solvent excellent in compatibility with benzyl alcohol.
- the boiling point of the silica sol dispersion medium used as a raw material is preferably sufficiently lower than the boiling point of benzyl alcohol (205 ° C.). When the boiling point of the dispersion medium is close to 205 ° C., a large amount of benzyl alcohol necessary for solvent replacement is required, and the production efficiency is significantly reduced.
- the boiling point of the dispersion medium is preferably 150 ° C. or lower.
- organic solvents such as alcohols, ethers, ketones, esters and hydrocarbons are preferable.
- alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, isobutyl alcohol, 2-butanol, diacetone alcohol, and the like.
- ethers include diethyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether. And diethylene glycol monobutyl ether.
- esters include ethyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl methacrylate , Glycidyl methacrylate and the like.
- ketones include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone, and the like.
- hydrocarbons include n-hexane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, solvent naphtha, styrene, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and trichloroethylene.
- organic solvents include acetonitrile, acetamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.
- the silane compound is preferably dropped while stirring the silica sol used as a raw material.
- the amount of the silane compound added is such that the number of colloidal silica particles contained in the raw material silica sol per surface area of 1 nm 2 is 0.2 to 5.0.
- the surface treatment is performed by stirring for 0.1 to 100 hours.
- the surface treatment temperature ranges from 0 ° C. to the boiling point temperature of the silica sol dispersion medium used as a raw material.
- the dispersion medium is replaced with benzyl alcohol.
- the method for replacing the dispersion medium with benzyl alcohol is not particularly limited, and any known method may be used.
- the organic solvent substitution can be performed by a known method such as a distillation substitution method or an ultrafiltration method.
- the concentration of colloidal silica particles is 5 to 70% by mass, preferably 10 to 60% by mass.
- the viscosity of the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention is 6 to 300 mPa ⁇ s at 20 ° C. as measured by a B-type viscometer.
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention has good storage stability. For example, even when stored in a sealed container at 50 ° C. for 1 month, viscosity increase and particle aggregation do not occur.
- a method for measuring the physical properties of silica sol is shown below.
- Average primary particle size nitrogen adsorption particle size
- the specific surface area of the dried silica sol powder was measured using a specific surface area measuring device Monosorb MS-16 manufactured by Yuasa Ionics.
- the silica sol was diluted with the dispersion medium and measured with a Coulter N5 (trade name: manufactured by Coulter, USA) using the solvent parameters.
- Example 1 Methanol-dispersed silica sol [MT-ST (trade name), nitrogen adsorption method particle size 12 nm, dynamic light scattering method particle size 20 nm, SiO 2 concentration 30 mass%, methanol concentration 68 mass%, moisture 2 mass%, Nissan Chemical Industries ( Co., Ltd.] 1000 g was charged into a 3 L volume type flask and stirred under atmospheric pressure while 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane [KBM-403 (trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] 27.0 g (1.0 per 1 nm 2 surface area of colloidal silica particles) was added and heated at a bath temperature of 60 ° C. for 5 hours.
- MT-ST nitrogen adsorption method particle size 12 nm, dynamic light scattering method particle size 20 nm, SiO 2 concentration 30 mass%, methanol concentration 68 mass%, moisture 2 mass%, Nissan Chemical Industries ( Co., Ltd.] 1000 g was charged into a 3 L volume type
- benzyl alcohol-dispersed silica sol (SiO 2 concentration 30 mass%, benzyl alcohol concentration 67 mass%). 1000 g of methanol concentration 0.9 mass%, moisture 0.1 mass%, B-type viscosity 25 mPa ⁇ s, dynamic light scattering particle diameter 19 nm).
- this sol was sealed in a glass container and kept in a thermostat at 50 ° C. for 1 month, the B-type viscosity was 25 mPa ⁇ s, the dynamic light scattering particle diameter was 20 nm, and this sol was stable.
- Example 2 In Example 1, 54.0 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane [KBM-403 (trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] (2.0 per 1 nm 2 of surface area of colloidal silica particles) was added.
- the benzyl alcohol-dispersed silica sol SiO 2 concentration 30% by mass, benzyl alcohol concentration 67% by mass, methanol concentration 0.8% by mass, moisture 0.1% by mass, type B
- a viscosity of 23 mPa ⁇ s and a dynamic light scattering particle diameter of 18 nm) were obtained. When this sol was sealed in a glass container and kept in a thermostat at 50 ° C. for 1 month, the B-type viscosity was 23 mPa ⁇ s and the dynamic light scattering particle diameter was 18 nm, and this sol was stable.
- Example 3 Methanol-dispersed silica sol [MA-ST-ZL (trade name), nitrogen adsorption particle diameter 80 nm, dynamic light scattering particle diameter 140 nm, SiO 2 concentration 30 mass%, methanol concentration 68 mass%, moisture 2 mass%, Nissan Chemical [Industrial Co., Ltd.] 1000 g into a 3 L volume flask and stirred under atmospheric pressure, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane [KBM-403 (trade name), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. [Production] 6.0 g (1.5 particles per 1 nm 2 of surface area of colloidal silica particles) was added and heated at a bath temperature of 60 ° C. for 5 hours.
- Example 4 Methanol-dispersed silica sol [MT-ST (trade name), nitrogen adsorption method particle size 12 nm, dynamic light scattering method particle size 20 nm, SiO 2 concentration 30 mass%, methanol concentration 68 mass%, moisture 2 mass%, Nissan Chemical Industries ( Co., Ltd.] 1000 g was charged into a 3 L volume type flask and stirred under atmospheric pressure while stirring 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane [KBM-303 (trade name), Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 37.0 g (1.3 per colloidal silica surface area of 1 nm 2 ) was added and heated at a bath temperature of 60 ° C. for 5 hours.
- benzyl alcohol-dispersed silica sol (SiO 2 concentration 30 mass%, benzyl alcohol concentration 67 mass%). 1010 g of methanol concentration 1.5% by mass, moisture 0.1% by mass, B-type viscosity 25 mPa ⁇ s, dynamic light scattering particle diameter 19 nm).
- this sol was sealed in a glass container and kept in a thermostat at 50 ° C. for 1 month, the B-type viscosity was 22 mPa ⁇ s and the dynamic light scattering particle diameter was 19 nm. This sol was stable.
- Example 5 Methanol-dispersed silica sol [MT-ST (trade name), nitrogen adsorption method particle size 12 nm, dynamic light scattering method particle size 20 nm, SiO 2 concentration 30 mass%, methanol concentration 68 mass%, moisture 2 mass%, Nissan Chemical Industries ( Co., Ltd.] 1000 g was charged into a 3 L inner volume flask and stirred under atmospheric pressure, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane [KBM-503 (trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] 40 0.0 g (1.4 particles per 1 nm 2 of surface area of colloidal silica particles) was added and heated at a bath temperature of 60 ° C. for 5 hours.
- MT-ST nitrogen adsorption method particle size 12 nm, dynamic light scattering method particle size 20 nm, SiO 2 concentration 30 mass%, methanol concentration 68 mass%, moisture 2 mass%, Nissan Chemical Industries ( Co., Ltd.] 1000 g was charged into a 3
- Comparative Example 2 The same procedure as in Example 1 was performed except that 3.0 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (0.1 per 1 nm 2 of colloidal silica particle surface area) was added. As a result, the viscosity of the sol increased rapidly and gelled.
- Comparative Example 3 40.0 g of phenyltrimethoxysilane [KBM-103 (trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] instead of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (1.8 per 1 nm 2 of surface area of colloidal silica particles) Except for the addition, when the same operation as in Example 1 was performed, the viscosity of the sol increased rapidly in the middle of the methanol distillation step, resulting in gelation.
- KBM-103 trade name
- 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 1.8 per 1 nm 2 of surface area of colloidal silica particles
- Comparative Example 4 29.5 g of methyltrimethoxysilane [KBM-13 (trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] instead of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (1.9 per 1 nm 2 of surface area of colloidal silica particles)
- a benzyl alcohol-dispersed silica sol SiO 2 concentration 30% by mass, benzyl alcohol concentration 67% by mass, methanol concentration 1.3% by mass, moisture 0.1% by mass, except for the addition
- B type viscosity 172 mPa ⁇ s, dynamic light scattering particle diameter 19 nm) 1010 g.
- the sol was sealed in a glass container and gelled when kept in a thermostat at 50 ° C. for 1 week.
- the organic solvent-dispersed silica sol of the present invention is useful as a modified filler for resins contained in paints and inks in which benzyl alcohol is used as a solvent.
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Abstract
【課題】 ベンジルアルコールを主分散媒とする安定な有機溶媒分散シリカゾルを提供すること。 【解決手段】 分散媒中のベンジルアルコール含有量が80質量%を超え100質量%以下であることを特徴とする有機溶媒分散シリカゾルであり、有機溶媒分散シリカゾルに分散したコロイダルシリカ粒子が、少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物により表面処理されていること。またコロイダルシリカ粒子が、その表面1nm2当たり0.2~5.0個の割合で少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物により表面処理されていること。
Description
本発明は、ベンジルアルコールを分散媒とする有機溶媒分散シリカゾルに関する。
有機溶媒分散シリカゾルは、レンズ、瓶、フィルムやプレートのような合成樹脂成型体の表面に形成させるハードコート膜や薄膜のマイクロフィラー、樹脂内添剤等として使用できる。有機溶媒分散シリカゾルの製造方法としては、例えば下記の方法が開示されている。
(1)水性シリカゾル中の金属イオンをイオン交換法で除去し、次いでメタノールと混合した後、限外濾過法によって濃縮脱水するメタノール分散シリカゾルの製造方法(特許文献1参照)。
(2)親水性コロイダルシリカ、シリル化剤、疎水性有機溶媒、水、アルコールからなる分散液を中和し、加熱、熟成後、溶媒を蒸留置換する疎水性オルガノシリカゾルの製造方法(特許文献2参照)。
(3)水を分散媒としたシリカゾルと有機溶媒とを混合した後、限外濾過で脱水する、有機溶媒を分散媒とするシリカゾルの製造方法(特許文献3参照)。
(1)水性シリカゾル中の金属イオンをイオン交換法で除去し、次いでメタノールと混合した後、限外濾過法によって濃縮脱水するメタノール分散シリカゾルの製造方法(特許文献1参照)。
(2)親水性コロイダルシリカ、シリル化剤、疎水性有機溶媒、水、アルコールからなる分散液を中和し、加熱、熟成後、溶媒を蒸留置換する疎水性オルガノシリカゾルの製造方法(特許文献2参照)。
(3)水を分散媒としたシリカゾルと有機溶媒とを混合した後、限外濾過で脱水する、有機溶媒を分散媒とするシリカゾルの製造方法(特許文献3参照)。
有機溶媒のうち、クレゾールはポリアミドに対して最も溶解性が高いとともに、ポリエステルイミド、ポリエステル、ポリウレタン等の熱硬化性樹脂に対して優れた溶解力を示す。そこで、これらの耐熱性樹脂の溶剤としては、クレゾールなどのフェノール類が広く使用されている。しかし、フェノール類は、臭気や毒性を有するため、他の溶媒への転換が図られており、フェノール類のSP値(溶解度因子)に近い値を持つベンジルアルコールが上記樹脂を用いた塗料の溶剤として好適に使用されている(特許文献4参照)。
樹脂の絶縁性、耐熱性、硬度、密着性、耐擦傷性などを付与するマイクロフィラーとして有機溶媒分散シリカゾルを用いる場合、その分散媒は、樹脂塗料に使用される溶剤と同じであるか、または、樹脂の溶解性が高いことが求められる。これは、樹脂の溶解性が低い溶媒に分散したシリカゾルを用いると、有機溶媒分散ゾルと樹脂とを混合した際に、樹脂が析出したり分相したりする場合があるためである。
上記の通り、ベンジルアルコールは樹脂の溶解性及びその低毒性の観点から、樹脂塗料用の溶剤として優れており、ベンジルアルコールを主分散媒とするシリカゾルは以前より強く要望されていた。しかしながら、ベンジルアルコールを主分散媒とする安定な有機溶媒分散シリカゾルはこれまで報告されていない。
特許文献4には、フェノール類又はベンジルアルコール5~80質量%と炭素原子数3~7の1価アルコール1~40質量%とを含む混合溶媒にシリカを分散させたことを特徴とするオルガノシリカゾルが記載されているが、分散媒中にフェノール類を含むために毒性を有する、ベンジルアルコール以外の溶媒が含有されているため樹脂の溶解性が低い、などの問題があった。
本発明の課題は、上述の従来技術の問題点を解決することにあり、ベンジルアルコールを主分散媒とする安定な有機溶媒分散シリカゾル及び該有機溶媒分散シリカゾルの製造方法を提供することにある。
上記課題を解決する本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、有機溶媒を含む分散媒中にコロイダルシリカ粒子が分散した有機溶媒分散シリカゾルであって、分散媒中のベンジルアルコール含有量が80質量%を超え100質量%以下である有機溶媒分散シリカゾルである。
また、本発明の有機溶媒分散シリカゾルにおけるコロイダルシリカ粒子は、平均一次粒子径が5~300nmである。
また、本発明の有機溶媒分散シリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子は、その表面に少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物が結合してなるものであることが好ましい。
また、本発明の有機溶媒分散シリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子は、その表面積1nm2当たり0.2~5.0個の割合で、その表面に少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物が結合してなるものであることが好ましい。
また、少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物は、少なくとも1個のエポキシ基又は(メタ)アクリロキシ基を有するシラン化合物であることが好ましい。
そして本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、分散媒中にコロイダルシリカ粒子が分散したシリカゾルに少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物を添加する工程、及び前記シリカゾルの分散媒をベンジルアルコールに置換する工程を含む方法により製造することができる。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、ベンジルアルコールが使用された塗料、インキ等の改質剤、添加剤として使用することができ、該有機溶媒分散シリカゾルが使用された樹脂の絶縁性、耐熱性、硬度、密着性、耐擦傷性などを改善することができる。また、本発明の方法によると、ベンジルアルコールを主な分散媒とする安定な有機溶媒分散シリカゾルを好適に得ることができる。
以下、本発明の有機溶媒分散シリカゾルについて詳述する。本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、その分散媒中のベンジルアルコール含有量が80質量%を超え100質量%以下である。その分散媒中のベンジルアルコール以外の成分は、分散媒中に0~20質量%含有することができ、また、1種類又は2種類以上の有機溶媒を使用することができる。また、分散媒中に少量の水を含有しても良い。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルに使用可能なベンジルアルコール以外の有機溶媒としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、炭化水素、エポキシド等の有機溶媒が挙げられる。アルコール類としては、具体的には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、イソブタノール、2-ブタノール、tert-ブタノール、エチレングリコール、グリセリン、プリピレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,5-ペンタンジオール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
エーテル類としては、具体的には、ジエチルーテル、ジブチルーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
エステル類としては、具体的には、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、メタクリル酸メチル、ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボニルアクリレート、トリプロピレングリコールジアリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
ケトン類としては、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
炭化水素類としては、具体的には、n-ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、スチレン、ハロゲン化炭化水素類としてはジクロロメタン、トリクロロエチレン等が挙げられる。
エポキシドとしては、具体的には、アリルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p-tert-ブチルフェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル-3,4-エポキシシクロヘキサンカルボン酸等が挙げられる。
その他の有機溶媒としては、アセトニトリル、アセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等が挙げられる。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子は、水ガラス又は珪素アルコキシドを原料として公知の方法により製造される、水及び/又は有機溶媒分散シリカゾル由来のコロイダルシリカ粒子である。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子の平均一次粒子径は、5~300nmである。前記平均一次粒子径は、窒素吸着法(BET法)により求めた比表面積S(m2/g)により、D(nm)=2720/Sの式で計算される窒素吸着法粒子径である。コロイダルシリカ粒子の平均一次粒子径が5nm未満では、本発明の有機溶媒分散シリカゾルのシリカ濃度を高くすることができないため好ましくない。また、前記平均一次粒子径が300nmを超えると、シリカゾルを長期保管した場合にコロイダルシリカ粒子が沈降するため好ましくない。
また、本発明の有機溶媒分散シリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子は、少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物により表面処理されている、即ち、表面に該シラン化合物を結合させることが好ましい。この表面処理により、本発明の有機溶媒分散シリカゾルにおけるコロイダルシリカ粒子の分散安定性を向上させることができる。
少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物としては、エポキシ基を有するシラン化合物、(メタ)アクリロキシ基を有するシラン化合物が挙げられ、その他のシラン化合物としては、1,3-ビス(ジオキサニルエチル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、テトラキス(2-メトキシエトキシ)シランなどが挙げられる。
また、本発明の有機溶媒分散シリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子は、その表面積1nm2当たり0.2~5.0個の割合で少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物により表面処理されている(該コロイダルシリカ粒子の表面に該シラン化合物を結合させる)ことが好ましく、その表面1nm2当たり0.5~4.0個がより好ましく、0.8~3.0個が更に好ましい。
少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物による表面処理量、即ちコロイダルシリカ粒子に結合する該シラン化合物の割合が前記コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり0.2個未満であると、十分な表面処理の効果が得られず、ベンジルアルコールへのコロイダルシリカ粒子の分散性が低下する。また、前記シラン化合物の表面処理量が前記コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり5.0個を超えると、コロイダルシリカ粒子に結合していない有機シラン化合物が得られる有機溶媒分散シリカゾル中に多く残存するため、使用される用途において悪影響が出る場合がある。
そして、前記少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物は、少なくとも1個のエポキシ基又は(メタ)アクリロキシ基を有するシラン化合物であることが好ましい。
少なくとも1個のエポキシ基又は(メタ)アクリル基を有するシラン化合物としては、分子内にエポキシ基又は(メタ)アクリル基を有するアルコキシシラン又はその加水分解物の2~5量体のオリゴマー、シロキサン等が挙げられる。
少なくとも1個のエポキシ基を有するアルコキシシランとしては、例えば3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシ-3-グリシドキシプロピルシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、5,6-エポキシヘキシルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また、少なくとも1個のエポキシ基を有するシロキサンとしては、例えば1,3-ビス(3-グリシドキシプロピル)1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン、(3-グリシドキシプロピル)ペンタメチルジシロキサンなどが挙げられる。
少なくとも1個の(メタ)アクリル基を有するアルコキシシランとしては、例えば3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラン等が挙げられる。
また、少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物による表面処理以外に、樹脂への分散性や性能向上を目的として、その他のシラン化合物を併用して使用することもできる。その他のシラン化合物としては、シラザン化合物、シロキサン化合物又はアルコキシシラン並びにその部分加水分解物若しくは前記部分加水分解物の2~5量体のオリゴマーが挙げられる。
シラザン化合物としては、例えばヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザンが挙げられる。
シロキサン化合物としては、例えばヘキサメチルジシロキサン、1,3-ジブチルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジフェニルテトラメチルジシロキサン、1,3-ジビニルテトラメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン等が挙げられる。
アルコキシシランとしては、例えばトリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、フェニルジメチルメトキシシラン、クロロプロピルジメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、n-オクチルメチルジエトキシシラン、n-オクタデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェネチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、n-オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-(アミノプロピル)メチルジメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-(アミノプロピル)トリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-(アミノプロピル)トリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロプロピルトリメトキシシラン、n-デシルトリメトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、ビス(トリエトキシシリル)エタン及びヘキサエトキシジシロキサンが挙げられる。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、原料とするシリカゾルに少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物を添加する工程、及び前記シリカゾルの分散媒をベンジルアルコールに置換する工程を含む方法により製造することができる。
原料とするシリカゾルは、平均一次粒子径5~300nmのコロイダルシリカ粒子を含有するシリカゾルであり、コロイダルシリカ粒子の濃度は5~70質量%であることが好ましい。
また、原料とするシリカゾルの分散媒は水又は有機溶媒であり、有機溶媒であることが好ましく、ベンジルアルコールとの相溶性に優れた有機溶媒であることがより好ましい。そして原料とするシリカゾルの分散媒の沸点は、ベンジルアルコールの沸点(205℃)に対して十分に低いことが好ましい。該分散媒の沸点が205℃に近い場合、溶媒置換に必要なベンジルアルコールが多量に必要となり、製造効率が著しく低下する。該分散媒の沸点としては150℃以下が好ましい。
原料とするシリカゾルの分散媒としては、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、炭化水素等の有機溶媒が好ましい。
アルコール類としては、具体的には、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、イソブチルアルコール、2-ブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
エーテル類としては、具体的には、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
エステル類としては、具体的には、ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、メタクリル酸メチル、メタクリル酸グリシジル等が挙げられる。
ケトン類としては、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、2-ペンタノン、3-ペンタノン、メチルイソブチルケトン、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。
炭化水素類としては、具体的には、n-ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、スチレン、ハロゲン化炭化水素類としてはジクロロメタン、トリクロロエチレン等が挙げられる。
その他の有機溶媒としては、アセトニトリル、アセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等が挙げられる。
原料とするシリカゾルに少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物を添加する工程では、原料とするシリカゾルの撹拌下に該シラン化合物を滴下することが好ましい。
該シラン化合物の添加量は、原料となるシリカゾルに含まれるコロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当りの個数として、0.2~5.0個となる量である。
該シラン化合物を添加した後、撹拌を0.1~100時間続けて表面処理を行う。表面処理を行う温度は、0℃から原料とするシリカゾルの分散媒の沸点温度の範囲である。
前記コロイダルシリカ粒子の表面処理を行った後、分散媒をベンジルアルコールに置換する。分散媒をベンジルアルコールに置換する方法は特に限定されることなく、既知のいずれの方法によって実施してもよい。例えば、有機溶媒置換は蒸留置換法、限外ろ過法等の公知の方法で行うことができる。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、コロイダルシリカ粒子の濃度が5~70質量%であり、好ましくは10~60質量%である。また、本発明の有機溶媒分散シリカゾルの粘度は、B型粘度計の測定値として、20℃で6~300mPa・sである。そして、本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、保存安定性が良好であり、例えば密閉容器中で50℃で1ヶ月間保管しても、粘度の上昇や粒子の凝集が起こらない。
シリカゾルの物性測定方法を以下に示す。
〔平均一次粒子径(窒素吸着法粒子径)〕
シリカゾルの乾燥粉末の比表面積をユアサアイオニクス社製、比表面積測定装置モノソーブMS-16を用いて測定した。平均一次粒子径は、測定された比表面積S(m2/g)より、D(nm)=2720/Sの式で算出した。
〔水分〕
カールフィッシャー滴定法にて求めた。
〔動的光散乱法粒子径〕
シリカゾルをその分散媒で希釈し、溶媒のパラメーターを用いてコルターN5(商品名:米国コルター社製)で測定した。
〔SiO2濃度〕
坩堝中800℃焼成残分によって算出した。
〔有機溶媒含有量〕
ガスクロマトグラフィーにて求めた。
ガスクロマトグラフィー条件:
カラム:3mm×1mガラスカラム、充填剤:ポーラパックQ、カラム温度:130~230℃(昇温8℃/min)、キャリアー:N2 40mL/min、検出器:FID
注入量:1μL、内部標準:アセトニトリルを採用した。
〔B型粘度〕
シリカゾルの20℃における粘度を東機産業(株)製のB型回転粘度計を用いて測定した。
〔平均一次粒子径(窒素吸着法粒子径)〕
シリカゾルの乾燥粉末の比表面積をユアサアイオニクス社製、比表面積測定装置モノソーブMS-16を用いて測定した。平均一次粒子径は、測定された比表面積S(m2/g)より、D(nm)=2720/Sの式で算出した。
〔水分〕
カールフィッシャー滴定法にて求めた。
〔動的光散乱法粒子径〕
シリカゾルをその分散媒で希釈し、溶媒のパラメーターを用いてコルターN5(商品名:米国コルター社製)で測定した。
〔SiO2濃度〕
坩堝中800℃焼成残分によって算出した。
〔有機溶媒含有量〕
ガスクロマトグラフィーにて求めた。
ガスクロマトグラフィー条件:
カラム:3mm×1mガラスカラム、充填剤:ポーラパックQ、カラム温度:130~230℃(昇温8℃/min)、キャリアー:N2 40mL/min、検出器:FID
注入量:1μL、内部標準:アセトニトリルを採用した。
〔B型粘度〕
シリカゾルの20℃における粘度を東機産業(株)製のB型回転粘度計を用いて測定した。
実施例1
メタノール分散シリカゾル[MT-ST(商品名)、窒素吸着法粒子径12nm、動的光散乱法粒子径20nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-403(商品名)、信越化学工業(株)製]27.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.0個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール680gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~50Torr、浴温70℃でメタノールの蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度0.9質量%、水分0.1質量%、B型粘度25mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1000gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度25mPa・s、動的光散乱法粒子径20nmであり、このゾルは安定であった。
メタノール分散シリカゾル[MT-ST(商品名)、窒素吸着法粒子径12nm、動的光散乱法粒子径20nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-403(商品名)、信越化学工業(株)製]27.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.0個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール680gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~50Torr、浴温70℃でメタノールの蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度0.9質量%、水分0.1質量%、B型粘度25mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1000gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度25mPa・s、動的光散乱法粒子径20nmであり、このゾルは安定であった。
実施例2
実施例1において、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-403(商品名)、信越化学工業(株)製]を54.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり2.0個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度0.8質量%、水分0.1質量%、B型粘度23mPa・s、動的光散乱法粒子径18nm)を得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度23mPa・s、動的光散乱法粒子径18nmであり、このゾルは安定であった。
実施例1において、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-403(商品名)、信越化学工業(株)製]を54.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり2.0個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度0.8質量%、水分0.1質量%、B型粘度23mPa・s、動的光散乱法粒子径18nm)を得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度23mPa・s、動的光散乱法粒子径18nmであり、このゾルは安定であった。
実施例3
メタノール分散シリカゾル[MA-ST-ZL(商品名)、窒素吸着法粒子径80nm、動的光散乱法粒子径140nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-403(商品名)、信越化学工業(株)製]6.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.5個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール440gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~50Torr、浴温70℃で溶媒の蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度40質量%、ベンジルアルコール濃度58質量%、メタノール濃度0.8質量%、水分0.1質量%、B型粘度35mPa・s、動的光散乱法粒子径138nm)750gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度34mPa・s、動的光散乱法粒子径139nmであり、このゾルは安定であった。
メタノール分散シリカゾル[MA-ST-ZL(商品名)、窒素吸着法粒子径80nm、動的光散乱法粒子径140nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-403(商品名)、信越化学工業(株)製]6.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.5個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール440gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~50Torr、浴温70℃で溶媒の蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度40質量%、ベンジルアルコール濃度58質量%、メタノール濃度0.8質量%、水分0.1質量%、B型粘度35mPa・s、動的光散乱法粒子径138nm)750gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度34mPa・s、動的光散乱法粒子径139nmであり、このゾルは安定であった。
実施例4
メタノール分散シリカゾル[MT-ST(商品名)、窒素吸着法粒子径12nm、動的光散乱法粒子径20nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、2-(3,4―エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン[KBM-303(商品名)、信越化学工業(株)製]37.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.3個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール680gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~80Torr、浴温70℃でメタノールの蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度1.5質量%、水分0.1質量%、B型粘度25mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1010gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度22mPa・s、動的光散乱法粒子径19nmであり、このゾルは安定であった。
メタノール分散シリカゾル[MT-ST(商品名)、窒素吸着法粒子径12nm、動的光散乱法粒子径20nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、2-(3,4―エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン[KBM-303(商品名)、信越化学工業(株)製]37.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.3個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール680gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~80Torr、浴温70℃でメタノールの蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度1.5質量%、水分0.1質量%、B型粘度25mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1010gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度22mPa・s、動的光散乱法粒子径19nmであり、このゾルは安定であった。
実施例5
メタノール分散シリカゾル[MT-ST(商品名)、窒素吸着法粒子径12nm、動的光散乱法粒子径20nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、3―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-503(商品名)、信越化学工業(株)製]40.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.4個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール680gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~80Torr、浴温70℃でメタノールの蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度1.5質量%、水分0.1質量%、B型粘度22mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1010gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度21mPa・s、動的光散乱法粒子径19nmであり、このゾルは安定であった。
メタノール分散シリカゾル[MT-ST(商品名)、窒素吸着法粒子径12nm、動的光散乱法粒子径20nm、SiO2濃度30質量%、メタノール濃度68質量%、水分2質量%、日産化学工業(株)製]1000gを内容積3Lの茄子型フラスコに仕込み、大気圧下で攪拌しながら、3―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン[KBM-503(商品名)、信越化学工業(株)製]40.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.4個)を添加し、浴温60℃で5時間加熱した。このゾルにベンジルアルコール680gを添加した後、ロータリーエバポレーターにて400~80Torr、浴温70℃でメタノールの蒸発留去を行い、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度1.5質量%、水分0.1質量%、B型粘度22mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1010gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1ヶ月保持した所、B型粘度21mPa・s、動的光散乱法粒子径19nmであり、このゾルは安定であった。
比較例1
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを添加しなかった以外は、実施例1と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを添加しなかった以外は、実施例1と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
比較例2
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを3.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり0.1個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを3.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり0.1個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
比較例3
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにフェニルトリメトキシシラン[KBM-103(商品名)、信越化学工業(株)製]40.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.8個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにフェニルトリメトキシシラン[KBM-103(商品名)、信越化学工業(株)製]40.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.8個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
比較例4
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにメチルトリメトキシシラン[KBM-13(商品名)、信越化学工業(株)製]29.5g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.9個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行った所、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度1.3質量%、水分0.1質量%、B型粘度172mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1010gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1週間保持した所、ゲル化した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにメチルトリメトキシシラン[KBM-13(商品名)、信越化学工業(株)製]29.5g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.9個)添加した以外は、実施例1と同様の操作を行った所、ベンジルアルコール分散シリカゾル(SiO2濃度30質量%、ベンジルアルコール濃度67質量%、メタノール濃度1.3質量%、水分0.1質量%、B型粘度172mPa・s、動的光散乱法粒子径19nm)1010gを得た。このゾルをガラス製容器に密閉し、50℃の恒温槽内で1週間保持した所、ゲル化した。
比較例5
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを添加しなかった以外は、実施例3と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランを添加しなかった以外は、実施例3と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
比較例6
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにフェニルトリメトキシシラン[KBM-103(商品名)、信越化学工業(株)製]6.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.8個)添加した以外は、実施例3と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランの代わりにフェニルトリメトキシシラン[KBM-103(商品名)、信越化学工業(株)製]6.0g(コロイダルシリカ粒子の表面積1nm2当たり1.8個)添加した以外は、実施例3と同様の操作を行った所、メタノール留去工程の途中でゾルの粘度が急激に増大し、ゲル化した。
本発明の有機溶媒分散シリカゾルは、溶剤としてベンジルアルコールが使用される塗料やインキ等に含まれる樹脂の改質フィラーとして有用である。
Claims (6)
- 有機溶媒を含む分散媒中にコロイダルシリカ粒子が分散した有機溶媒分散シリカゾルであって、該分散媒中のベンジルアルコール含有量が80質量%を超え100質量%以下であることを特徴とする有機溶媒分散シリカゾル。
- 前記コロイダルシリカ粒子は、その平均一次粒子径が5~300nmであることを特徴とする請求項1に記載の有機溶媒分散シリカゾル。
- 前記コロイダルシリカ粒子は、その表面に少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物が結合してなることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の有機溶媒分散シリカゾル。
- 前記コロイダルシリカ粒子は、その表面積1nm2当たり0.2~5.0個の割合で、その表面に少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物が結合してなることを特徴とする請求項3に記載の有機溶媒分散シリカゾル。
- 前記少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物が、少なくとも1個のエポキシ基又は(メタ)アクリロキシ基を有するシラン化合物であることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の有機溶媒分散シリカゾル。
- 分散媒中にコロイダルシリカ粒子が分散したシリカゾルに少なくとも1個のエーテル構造を有するシラン化合物を添加する工程、及び前記シリカゾルの分散媒をベンジルアルコールに置換する工程を含むことを特徴とする分散媒中のベンジルアルコール含有量が80質量%を超え100質量%以下である有機溶媒分散シリカゾルの製造方法。
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