WO2012132363A1 - 電磁流量計、電磁流量計測システム及び方法 - Google Patents

電磁流量計、電磁流量計測システム及び方法 Download PDF

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Abstract

液体金属が流れる流路(1)の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石(5a,5b,5c)が設置され、流路(1)の外周面と直交する方向に磁界を形成する励磁部材(5)と、励磁部材(5)の磁石(5a,5b,5c)間に設けられ、磁界を液体金属が横切ることで発生する電圧を計測する電極(6a,6b)と、を備える電磁流量計である。そして、励磁部材(5)にパルス状の励磁電流を供給するパルス励磁電流供給装置(7a)を設けることにより、液体金属の流速が低い場合でも、流路(1)の周方向における流速分布の発生を防止し、流量を正確に計測可能となる。

Description

電磁流量計、電磁流量計測システム及び方法
 本発明は、例えば高速炉の炉心や配管のように大口径の管路を流れる液体金属の流量を計測するための電磁流量計、電磁流量計測システム及び方法に関する。
 従来、環状流路などの多様な形状の流量は、電磁流量計により測定可能である。このような電磁流量計としては、例えば特許文献1に記載された技術がある。この特許文献1に記載された技術は、磁場発生装置を両磁極とも外壁片側に設置するものである。
 具体的には、上記特許文献1に記載された技術は、管路外壁と直交する磁界を形成するための励磁装置と、上記磁界を導電性流体が横切ることにより発生する起電力を計測するための一対の電極とを有し、これらの電極と上記励磁装置の両磁極とが管路外壁の片側に集約して配置されている。
特開2007-47071号公報
 上述した従来の環状流路用の電磁流量計は、環状流路を通過する流体の流速の増加に伴い、電極からの出力電圧も増加する。計測対象の流速が低い場合には、励磁電流を大きくすることで、電極から大きな出力電圧を得る必要がある。
 しかしながら、上記励磁電流が大きいほど、上記励磁装置のコイルから発生する磁場の磁束密度が大きくなり、上記環状流路を通過する流体に局所的に抵抗力として作用するため、上記環状流路の周方向における流速分布が発生する。その結果、従来の環状流路用の電磁流量計では、計測対象の流速が低い場合、正確な流量値が得られないという問題があった。
 因みに、従来の電磁流量計では、励磁電流は上記励磁装置の電磁石に常に供給されており、励磁電流[A]、磁場[T]、電極出力[mV]、及び電磁石近傍のナトリウム(Na)流速[m/s]の経時変化は図10に示す状態となる。図10によれば、励磁電流が供給されて発生した磁場の影響を受けてNa流速が変化し、電極出力に影響を及ぼしている。
 本発明は上述した事情を考慮してなされたものであり、液体金属の流速が低い場合でも、流路の周方向における流速分布の発生を防止し、流量を正確に計測可能な電磁流量計、電磁流量計測システム及び方法を提供することを目的とする。
 上記目的を達成するために、実施形態に係る電磁流量計は、液体金属が流れる流路の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石が設置され、前記流路の外周面と直交する方向に磁界を形成する励磁部材と、前記励磁部材の磁石間に設けられ、前記磁界を前記液体金属が横切ることで発生する電圧を計測する電極と、を備える電磁流量計であって、前記励磁部材にパルス状の励磁電流を供給するパルス励磁電流供給装置を設けたことを特徴とする。
 また、実施形態に係る電磁流量計測システムは、液体金属が流れる流路の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石が設置され、前記流路の外周面と直交する方向に磁界を形成する励磁部材と、前記励磁部材の磁石間に設けられ、前記磁界を前記液体金属が横切ることで発生する電圧を計測する電極と、を備える電磁流量計が前記流路の周方向に互いに間隔をあけて複数設置された電磁流量計測システムであって、前記電磁流量計の励磁部材にパルス状の励磁電流を供給するパルス励磁電流供給装置を設けたことを特徴とする。
 実施形態に係る電磁流量計測方法は、液体金属が流れる流路の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石が設置された励磁部材により前記流路の外周面と直交する方向に磁界を形成する磁界形成ステップと、前記励磁部材の磁石間に設けられ、前記磁界を前記液体金属が横切ることで発生する電圧を電極により計測する電圧計測ステップと、を備える電磁流量計測方法であって、前記磁界形成ステップにおいて前記励磁部材にパルス励磁電流供給装置からパルス状の励磁電流を供給することを特徴とする。
 本発明に係る電磁流量計、電磁流量計測システム及び方法によれば、流路の周方向における流速分布の発生を防止し、流量を正確に計測することができる。
本発明に係る電磁流量計測システムの第1実施形態を示す断面構成図である。 図1の電磁流量計を示す拡大図である。 図1の電磁流量計の励磁電流、磁場、電極出力、ナトリウム流速の経時変化を示すタイミングチャートである。 本発明に係る電磁流量計測システムの第2実施形態を示す断面構成図である。 本発明に係る電磁流量計測システムの第3実施形態を示す断面構成図である。 本発明に係る電磁流量計測システムの第4実施形態を示す断面構成図である。 本発明に係る電磁流量計測システムの第5実施形態を示す断面構成図である。 本発明に係る電磁流量計測システムの第6実施形態を示す断面構成図である。 (a),(b)は流路の変形例を示す断面構成図である。 従来の電磁流量計の励磁電流、磁場、電極出力、ナトリウム流速の経時変化を示すタイミングチャートである。
 以下、本発明に係る電磁流量計測システム及び電磁流量計測方法の各実施形態について、図面を参照して説明する。
 (第1実施形態)
 図1は本発明に係る電磁流量計測システムの第1実施形態を示す断面構成図である。図2は図1の電磁流量計を示す拡大図である。図3は図1の電磁流量計の励磁電流、磁場、電極出力、ナトリウム流速の経時変化を示すタイミングチャートである。
 図1に示すように、環状流路1は、断面形状が円環状の大型(大口径)の管路であり、例えば高速炉の炉心や配管のように計測対象としてナトリウムなどの液体金属が流れている流路である。また、環状流路1は、非磁性体製の内側ダクト2及び外側ダクト3により構成されている。この外側ダクト3の外周面には、6個の電磁流量計4が周方向に互いに一定間隔をあけて設置されている。ここで、外側ダクト3の外周面に設置される電磁流量計4の数は、環状流路1の外周の長さと電磁流量計4の幅との両者の関係によって決定される。本実施形態では、上記のように6個の電磁流量計4が設置されている。
 電磁流量計4は、環状流路1の軸線と直交する方向に磁界を形成するための励磁部材5と、上記磁界を液体金属が横切ることにより発生する電圧を計測するための一対の電極6a,6bとを備えている。この一対の電極6a,6bを介して電圧が外部に取り出され、その電圧の計測値に基づいて液体金属の流量又は流速が求められる。
 励磁部材5は、互いに一定間隔をあけた3個の電磁石5a,5b,5cを有し、それぞれの先端が環状流路1の外周面に接している。中央の電磁石5bの両側には、電極6a,6bが対称的に配置されている。また、電磁石5a,5b,5cの後端は、それぞれ接続部5dにより接続されている。
 これらの電磁石5a,5b,5cには、図2に示すようにそれぞれ励磁コイル15a,15b,15cが巻装されている。これらの励磁コイル15a,15b,15cには、中央の電磁石5bの先端に現れる磁極と、両側の電磁石5a,5cの先端に現れる磁極とで、互いに極性が異なるように電流が流れている。すなわち、電磁石5a,5b,5cは、外側ダクト3の外周面に接する極性がN極とS極とが交互になるように設置されている。
 パルス励磁電流供給装置7aは、電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cにパルス信号状の励磁電流を供給する。この励磁電流は、数msecの短時間だけ供給される。
 次に、本実施形態の作用を説明する。
 各パルス励磁電流供給装置7aから各電磁流量計4の励磁コイル15a,15b,15cにパルス信号状の励磁電流を流した際には、各電磁流量計4において両側の電磁石5a,5cの先端(N極)から中央の電磁石5bの先端(S極)に至る磁束が生じ、中央の電磁石5bの先端近傍に、外側ダクト3と直交する向き(環状流路1の径方向)の合成磁界が形成される。
 その結果、中央の電磁石5bの先端近傍の液体金属には、フレミングの右手の法則により、磁界の向き(環状流路1の径方向)と液体金属の流れる方向(環状流路1の軸方向)の双方に直交する向き(すなわち、両電極6a,6bを結ぶ線分の方向)に、液体金属の流速に応じた起電力(電圧)が生じる。この起電力は、両電極6a,6bを介して外部に取り出され、その計測値に基づいて図示しない流量換算処理回路により液体金属の流量又は流速が求められる。
 ところで、電磁流量計4の電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cに励磁電流を流すと、磁場が発生し、電極出力が発生するまでの時間は、両電極6a,6b間の経路を移動する自由電子の速度に支配されている。この速度は極めて瞬時であることに比べて、磁場の影響を受けた液体金属の流速(Na流速)の変化は緩やかである。
 そのため、本実施形態では、パルス励磁電流供給装置7aから電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cにパルス信号状の励磁電流を供給するようにしている。これにより、図3に示すように、発生する磁場によるNa流速の変化が進展する前に、電極出力を得ることができる。
 ここで、上記液体金属の流量又は流速の計測サンプリングは、原子力発電プラントにおいて例えば24時間おきなどのように一定のタイミングで行われる。
 このように本実施形態によれば、パルス励磁電流供給装置7aから電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cにパルス信号状の励磁電流を供給するようにしたので、液体金属の流速が低い場合でも、環状流路1の周方向における流速分布の発生を防止し、流量を正確に計測することが可能になる。
 なお、本実施形態では、電磁石5a,5b,5cの数を3個、電極6a,6bの数を一対設けるようにしたが、これらの数は、適宜変更可能である。
 また、本実施形態では、液体金属の流量又は流速を求めるため、6個の電磁流量計4を用いたが、これに限らず少なくとも一つの電磁流量計4を用いても、同様の計測結果が得られる。
 (第2実施形態)
 図4は本発明に係る電磁流量計測システムの第2実施形態を示す断面構成図である。
 なお、以下の各実施形態では、前記第1実施形態と同一の構成及び作用効果を省略し、異なる構成及び作用効果を説明する。また、以下の各実施形態における各電磁流量計4の構成及び作用は、前記第1実施形態と同様であるので、同一の部分に同一の符号を付してその説明を省略する。
 図4に示すように、本実施形態は、6個の電磁流量計4がそれぞれ一つのパルス励磁電流供給装置7bに接続されている。このパルス励磁電流供給装置7bは、6個の電磁流量計4のうち、任意の電磁流量計4を選択する機能と、その励磁部材5の励磁コイル15a,15b,15cに短時間のパルス信号状の励磁電流を供給する機能の2つの機能を備えている。
 また、パルス励磁電流供給装置7bには、平均化処理装置8が接続されている。この平均化処理装置8は、パルス励磁電流供給装置7bで順次選択して励磁電流を供給した電磁流量計4の電極6a,6bから発生する出力電圧を随時得て、この出力電圧を平均化処理する。
 次に、本実施形態の作用を説明する。
 パルス励磁電流供給装置7bは、6個の電磁流量計4のうち、任意の電磁流量計4を順次選択してパルス信号状の励磁電流を供給すると、選択された電磁流量計4の電磁石5a,5b,5cから磁場が発生する。この磁場によりフレミングの右手の法則に従い、電極6a,6bから起電圧信号が発生する。そして、パルス励磁電流供給装置7bは、順次選択した電磁流量計4の電極6a,6bから発生する出力電圧を平均化処理装置8に随時印加する。この平均化処理装置8は、順次選択された電磁流量計4の出力電圧を得て、平均化処理する。
 なお、その他の構成及び作用は、前記第1実施形態と同様であるため、その説明を省略する。
 このように本実施形態によれば、パルス励磁電流供給装置7bにより電磁流量計4を順次選択するとともに、励磁コイル15a,15b,15cへの励磁電流の供給を高速で行い、計測した出力電圧を平均化処理装置8により平均化処理して代表値とすることで、前記第1実施形態の効果に加え、個体差の影響を抑制することができる。
 また、本実施形態によれば、パルス励磁電流供給装置7bにより電磁流量計4を順次選択して励磁電流を供給するようにしたので、パルス励磁電流供給装置7bが一つで済み、構造を簡素化することが可能となる。
 (第3実施形態)
 図5は本発明に係る電磁流量計測システムの第3実施形態を示す断面構成図である。
 図5に示すように、本実施形態は、6個の電磁流量計4におけるそれぞれの電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cの全てが順次直列に接続されている。このようにして全てが直列に接続された励磁コイル15a,15b,15cは、パルス励磁電流供給装置7cに接続されている。
 このパルス励磁電流供給装置7cは、直列に接続した6個の電磁流量計4の各励磁コイル15a,15b,15cに、同一の励磁電流値である短時間のパルス状の励磁電流を流すことが可能である。
 次に、本実施形態の作用を説明する。
 パルス励磁電流供給装置7cは、6個の電磁流量計4の励磁コイル15a,15b,15cに同一の励磁電流値であるパルス信号状の励磁電流を供給すると、これらの電磁石5a,5b,5cから磁場が発生する。この磁場によりフレミングの右手の法則に従い、電極6a,6bから起電圧信号が発生する。この起電圧信号は、外部に取り出され、その計測値に基づいて図示しない流量換算処理回路により液体金属の流量又は流速が求められる。
 このように本実施形態によれば、パルス励磁電流供給装置7cから同一の励磁電流値が複数の電磁流量計4に供給されるため、電磁流量計4に個別に励磁電流を供給する場合に比べて、電磁流量計4の出力電圧の個体差を低減することができる。また、パルス励磁電流供給装置7cが一つで済むことから、構造を簡素化することが可能となる。
 (第4実施形態)
 図6は本発明に係る電磁流量計測システムの第4実施形態を示す断面構成図である。
 図6に示すように、本実施形態は、環状流路1を介して互いに対向して配置した電磁流量計4の励磁コイル15a,15b,15cを直列に接続して一対とし、これを3対設け、それぞれ一対の電磁流量計4を一台のパルス励磁電流供給装置7cと接続して1組とし、これらを3組に構成している。
 3台のパルス励磁電流供給装置7cは、前記第3実施形態と同様に、直列接続した一対の電磁流量計4の各励磁コイル15a,15b,15cに同一の励磁電流値である短時間のパルス状の励磁電流を流すことが可能である。
 次に、本実施形態の作用を説明する。
 3台のパルス励磁電流供給装置7cは、それぞれ2個の電磁流量計4の励磁コイル15a,15b,15cに同一の励磁電流値であるパルス信号状の励磁電流を供給すると、これらの電磁石5a,5b,5cから磁場が発生する。この磁場によりフレミングの右手の法則に従い、それぞれの電極6a,6bから起電圧信号が発生する。これらの起電圧信号は、外部に取り出され、その計測値に基づいて図示しない流量換算処理回路により液体金属の流量又は流速が求められる。
 このように本実施形態によれば、パルス励磁電流供給装置7cで一対の電磁流量計4に同一の励磁電流値のパルス信号状の励磁電流を供給し、図示しない3台の流量換算処理回路で各々の起電圧信号を得ることにより、一般の原子力発電プラントにおいて同一3系統から2出力の構成が要求される安全保護系の流量計に適用することが可能となる。
 (第5実施形態)
 図7は本発明に係る電磁流量計測システムの第5実施形態を示す断面構成図である。
 図7に示すように、本実施形態は、図5に示す第3実施形態の構成に加え、6個の電磁流量計4のうち、一つの電磁流量計4の近傍に磁場計測装置としてのサーチコイル9が配置されている。
 具体的には、6個の電磁流量計4におけるそれぞれの電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cの全てが順次直列に接続されている。このようにして全てが直列に接続された励磁コイル15a,15b,15cは、パルス励磁電流供給装置7dに接続されている。
 このパルス励磁電流供給装置7dは、直列に接続した6個の電磁流量計4の各励磁コイルに、同一の励磁電流値である短時間のパルス状の励磁電流を流すことが可能である。
 6個の電磁流量計4のうち、一つの電磁流量計4の片側近傍には、パルス励磁電流供給装置7dに信号伝送可能なサーチコイル9を配置されている。つまり、このサーチコイル9は、電磁流量計4の電磁石5cの片側近傍に配置されている。サーチコイル9は、電磁流量計4に励磁電流が供給された際に電磁石5cから発生する磁場の磁束密度を計測する。そのため、サーチコイル9は、電磁石5cの磁場の範囲内に設置されている。
 次に、本実施形態の作用を説明する。
 パルス励磁電流供給装置7dは、6個の電磁流量計4の励磁コイル15a,15b,15cに同一の励磁電流値であるパルス信号状の励磁電流を供給すると、これらの電磁石5a,5b,5cから磁場が発生する。この磁場によりフレミングの右手の法則に従い、電極6a,6bから起電圧信号が発生する。この起電圧信号は、外部に取り出され、その計測値に基づいて図示しない流量換算処理回路により液体金属の流量又は流速が求められる。
 そして、パルス励磁電流供給装置7dから励磁電流が供給された際、電磁石5cから発生する磁場の磁束密度がサーチコイル9にて計測される。この計測信号がパルス励磁電流供給装置7dに伝送される。これにより、電磁流量計4の磁場の経年変化を監視することができる。
 このように本実施形態によれば、励磁電流が供給された際に電磁石5cから発生する磁場をサーチコイル9にて計測し、この計測信号をパルス励磁電流供給装置7dに伝送することにより、磁場の経年変化を監視することができる。その結果、電磁流量計4の故障や機能劣化を早期に発見するとともに、磁場の経年変化に応じて、所定の出力電圧が得られる励磁電流値に制御することができる。
 なお、本実施形態では、電磁石5cの片側にサーチコイル9を配置した例について説明したが、これに限らず電磁石5aの片側に配置してもよい。また、電磁石5a,5cのそれぞれの片側にサーチコイル9を配置するようにしてもよい。このように電磁石5a,5cのそれぞれにサーチコイル9を配置すれば、磁場の計測精度を高めることができる。
 さらに、本実施形態では、サーチコイル9にて計測した計測信号をパルス励磁電流供給装置7dに伝送するようにしたが、これに限らず監視装置に伝送するようにしてもよい。これは、次の第6実施形態でも同様である。
 (第6実施形態)
 図8は本発明に係る電磁流量計測システムの第6実施形態を示す断面構成図である。
 図8に示すように、本実施形態は、図1に示す第1実施形態の構成に加え、6個の電磁流量計4の片側近傍に、それぞれサーチコイル9が配置されている。つまり、これらのサーチコイル9は、各電磁流量計4の電磁石5cの片側近傍に配置されている。これらのサーチコイル9は、各電磁流量計4に励磁電流が供給された際に電磁石5cから発生する磁場の磁束密度を計測する。したがって、各サーチコイル9は、各電磁石5cの磁場の範囲内に設置されている。
 パルス励磁電流供給装置7aは、前記第1実施形態と同様に電磁石5a,5b,5cの励磁コイル15a,15b,15cにパルス信号状の励磁電流を供給する。
 次に、本実施形態の作用を説明する。
 パルス励磁電流供給装置7aは、6個の電磁流量計4の励磁コイル15a,15b,15cに同一の励磁電流値であるパルス信号状の励磁電流を供給すると、これらの電磁石5a,5b,5cから磁場が発生する。この磁場によりフレミングの右手の法則に従い、電極6a,6bから起電圧信号が発生する。この起電圧信号は、外部に取り出され、その計測値に基づいて図示しない流量換算処理回路により液体金属の流量又は流速が求められる。
 そして、各パルス励磁電流供給装置7aから励磁電流が供給された際、各電磁石5cから発生する磁場の磁束密度がそれぞれのサーチコイル9にて計測される。これらの計測信号が各パルス励磁電流供給装置7aに伝送される。これにより、各電磁流量計4の磁場の経年変化を監視することができる。
 このように本実施形態によれば、6個の電磁流量計4に励磁電流が供給された際に電磁石5cから発生する磁場をそれぞれサーチコイル9にて計測し、これらの計測信号をそれぞれのパルス励磁電流供給装置7aに伝送することにより、磁場の経年変化を監視することができる。その結果、各電磁流量計4の故障や機能劣化を早期に発見するとともに、磁場の経年変化に応じて、所定の出力電圧が得られる励磁電流値に制御することができる。
 また、本実施形態によれば、複数の電磁流量計4に個別に任意の値の励磁電流の供給が可能であり、複数の電磁流量計4にそれぞれサーチコイル9を配置しているため、複数の電磁流量計4の中での単体の故障や機能劣化を発見し、磁場の経年変化に応じて、所定の出力電圧が得られる励磁電流値に制御することができる。
 以上のように本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、単なる例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更することができる。
 例えば、上記各実施形態では、環状流路1の外周面に沿って互いに間隔をあけて6個の電磁流量計4を配置した例について説明したが、これに限らず環状流路1の外周面に少なくとも1つ以上の電磁流量計4を配置しても同様の効果が得られる。
 また、上記各実施形態では、流路として、円環状の断面を有する環状流路1を例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、断面が縦長又は横長の矩形状の流路など、その他の断面形状の流路であってもよい。
 さらに、上記各実施形態において、励磁装置として直流励磁方式の励磁装置が含まれる他、永久磁石方式や交流励磁方式の励磁装置でも実施することができる。
 また、上記各実施形態では、パルス信号状の励磁電流に矩形波を例として説明したが、これ以外に例えば三角波、鋸歯状波などの波形を用いてもよい。加えて、矩形波の励磁電流に限らず、残留磁場の影響をなくすような波形であってもよい。
 これら各実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
 例えば、各実施形態では円環状の流路を用いるものとして説明したが、流路の形状はこれに限られない。電磁流量計の磁石を定常的に励磁すると、その磁束によって流路に流速分布が生じうるような場合に各実施形態の構成を適用することができる。具体的には、例えば流路全体を磁束が通るのではなく、流路の一部に強い磁束が通るような構成であれば、各実施形態の構成を適用することができる。
 言い換えると、環状流路の他の例としては、例えば図9(a),(b)に示すように、流路の軸方向に垂直な断面が円弧状(円環の一部)流路1a、矩形状流路1b等が想定される。あるいは、円管状の流路(流路の軸方向に垂直な断面が円)等で、磁束の影響が局所的でない場合であっても、冷却材の流速が低い条件(例えば、ポンプを使わず自然循環するような場合)であれば、各実施形態の構成を適用することで電磁流量計の励磁による影響を低減するという効果を発揮し得る。
1…環状流路
1a…円弧状流路
1b…矩形状流路
2…内側ダクト
3…外側ダクト
4…電磁流量計
5…励磁部材
5a,5b,5c…電磁石
6a,6b…電極
7…パルス励磁電流供給装置
7a…パルス励磁電流供給装置
7b…パルス励磁電流供給装置
7c…パルス励磁電流供給装置
7d…パルス励磁電流供給装置
8…平均化処理装置
9…サーチコイル(磁場計測装置)
15a,15b,15c…励磁コイル

Claims (10)

  1.  液体金属が流れる流路の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石が設置され、前記流路の外周面と直交する方向に磁界を形成する励磁部材と、
     前記励磁部材の磁石間に設けられ、前記磁界を前記液体金属が横切ることで発生する電圧を計測する電極と、を備える電磁流量計であって、
     前記励磁部材にパルス状の励磁電流を供給するパルス励磁電流供給装置を設けたことを特徴とする電磁流量計。
  2.  前記流路が環状流路であることを特徴とする請求項1に記載の電磁流量計。
  3.  液体金属が流れる流路の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石が設置され、前記流路の外周面と直交する方向に磁界を形成する励磁部材と、
     前記励磁部材の磁石間に設けられ、前記磁界を前記液体金属が横切ることで発生する電圧を計測する電極と、を備える電磁流量計が前記流路の周方向に互いに間隔をあけて複数設置された電磁流量計測システムであって、
     前記電磁流量計の励磁部材にパルス状の励磁電流を供給するパルス励磁電流供給装置を設けたことを特徴とする電磁流量計測システム。
  4.  前記複数の電磁流量計に対応してそれぞれ前記パルス励磁電流供給装置を複数設けたことを特徴とする請求項3に記載の電磁流量計測システム。
  5.  前記複数の電磁流量計のそれぞれに、これらの電磁流量計に励磁電流が供給された際に前記励磁部材から発生する磁場を計測する磁場計測装置を設けたことを請求項4に記載の電磁流量計測システム。
  6.  前記パルス励磁電流供給装置は、1台の装置であって、前記複数の電磁流量計のいずれかを選択してパルス状の励磁電流を供給することを特徴とする請求項3に記載の電磁流量計測システム。
  7.  前記パルス励磁電流供給装置は、1台の装置であって、前記複数の電磁流量計の励磁部材を直列に接続し、これらの励磁部材にパルス状の励磁電流を供給することを特徴とする請求項3に記載の電磁流量計測システム。
  8.  前記複数の電磁流量計のうちの一つに、その電磁流量計に励磁電流が供給された際に前記励磁部材から発生する磁場を計測する磁場計測装置を設けたことを請求項7に記載の電磁流量計測システム。
  9.  前記複数の電磁流量計は、互いに対向する電磁流量計を一対とし、これを複数対設け、それぞれの対毎に前記パルス励磁電流供給装置を設けたことを特徴とする請求項3に記載の電磁流量計測システム。
  10.  液体金属が流れる流路の外周面に沿って互いに間隔をあけて複数の磁石が設置された励磁部材により前記流路の外周面と直交する方向に磁界を形成する磁界形成ステップと、
     前記励磁部材の磁石間に設けられ、前記磁界を前記液体金属が横切ることで発生する電圧を電極により計測する電圧計測ステップと、を備える電磁流量計測方法であって、
     前記磁界形成ステップにおいて前記励磁部材にパルス励磁電流供給装置からパルス状の励磁電流を供給することを特徴とする電磁流量計測方法。
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