WO2012096524A2 - 패턴된 위상지연 필름의 제조 방법 - Google Patents

패턴된 위상지연 필름의 제조 방법 Download PDF

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WO2012096524A2
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    • G02F1/133631—Birefringent elements, e.g. for optical compensation with a spatial distribution of the retardation value

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a patterned phase retardation film, and more particularly, using a substrate for retarding the phase of light, and forming a photocurable monomer composition layer at regular intervals and curing to produce a patterned phase retardation film. And a patterned phase delay film produced by the method.
  • the liquid crystal display is a flat panel display which is widely used for various purposes.
  • various technical advances have been made in order to serve as a screen display device in various fields, and the goal is to realize high quality images while maintaining the characteristics of light weight, thinness, and low power consumption.
  • Edo is also developing technology.
  • the liquid crystal display includes a twisted nematic (TN) liquid crystal display, a vertically aligned liquid crystal display (VA), an in-plane switching (IPS) liquid crystal display, an optically compensated bend (OCB) liquid crystal display, depending on the arrangement and driving method of the liquid crystal.
  • TN twisted nematic
  • VA vertically aligned liquid crystal display
  • IPS in-plane switching
  • OBC optically compensated bend
  • the liquid crystals initially form a predetermined array due to the influence of the alignment layer or the properties of the liquid crystal itself, but when the electric field is applied, the arrangement of the liquid crystals changes. Due to the optical anisotropy of the liquid crystals, polarization of light passing through the liquid crystals The image is displayed by changing the state depending on the arrangement state of the liquid crystal and making it appear as a difference in the amount of transmitted light using the polarizing plate.
  • phase delay films have been developed as optical compensation for STN-specific interference colors (coloring) called blue mode or yellow mode caused by elliptical polarization.
  • color film As a color compensation film is unnecessary.
  • various phase retardation films have been laminated for the purpose of expanding the viewing angle and improving image quality, and a phase retardation film having various functions has been required.
  • phase delay film As the manufacturing technique of the phase delay film, there are a stretching technique and an alignment technique, and in particular, an alignment technique is necessary to consider all of polarization, reflection, refraction, interference, diffraction, and scattering.
  • a mask As a technique for manufacturing a patterned phase delay film or a liquid crystal panel alignment direction, a mask is used and rubbed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 194-082784, Korean Patent No. 10-0243039, and Korean Patent Publication No. 10-2003-0083700. And a technique such as use of light irradiation twice, there is a problem that the process is complicated and inferior in precision.
  • the alignment agent layer forming step Since the number of times can be reduced, the process can be simplified, and it has been confirmed that the present invention can produce a phase delay film having a fine pattern.
  • the present invention relates to a method for producing a patterned phase retardation film, and more particularly, using a substrate for retarding the phase of light, and forming a photocurable monomer composition layer at regular intervals and curing to produce a patterned phase retardation film. And a patterned phase delay film produced by the method.
  • the alignment agent layer formation and the formation of the alignment property in the alignment agent layer are performed only once. Since the aligned orientation can be formed, there is an effect that the manufacturing process is significantly shortened. In addition, there is an advantage to reduce the cost accordingly, it is possible to manufacture a phase delay film formed with a more sophisticated pattern. In addition, when forming the orientation by rubbing directly on the substrate itself that can be phase delay, it is not necessary to form the alignment agent layer can further shorten the manufacturing process, reducing the height difference between the photocurable monomer composition layer and the substrate Can be.
  • FIG. 1 shows a manufacturing process of a patterned phase delay film according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 2 shows the manufacturing process of the patterned phase delay film according to another embodiment of the present invention.
  • Figure 3 shows a process for producing a patterned phase delay film according to another embodiment of the present invention.
  • Figure 4 shows the manufacturing process of the patterned phase delay film according to another embodiment of the present invention.
  • Figure 5 shows the manufacturing process of the patterned phase delay film according to another embodiment of the present invention.
  • the present invention in one aspect, (a) forming an alignment agent layer on a substrate to retard the phase of light; (b) forming alignment in the alignment layer in one direction; And (c) forming and curing the photocurable monomer composition layer on the substrate on which the alignment is formed at regular intervals.
  • the substrate is characterized in that the substrate that can delay the phase of the light.
  • a process of forming an alignment layer on a substrate and forming alignment through rubbing or light irradiation was performed twice, but in the present invention, the phase of light may be delayed.
  • the alignment agent layer formation and the step of forming the alignment property in the alignment agent layer may be performed only once to form a finely patterned phase delay film.
  • phase delay substrate of the prior art, and preferably, a cyclo olefin polymer (COP) or polycarbonate (PC) film may be used.
  • the films may be fabricated using a technique for stretching an optical material having a specific phase retardation value, and may also be fabricated using a surface orientation technique (e.g., a liquid crystal alignment technique in a liquid crystal display device) on the film.
  • the phase delay value may be realized by applying an optical material having an upper portion thereof. Most of these films are applied to optical compensation films to improve the viewing angle of liquid crystal display devices.
  • Phase delay substrates delay the phase of light, and when the phase delay is ⁇ / 4, linear polarization is changed to circular polarization. Can be. Therefore, in the present invention, the substrate may be characterized by delaying the phase of light by ⁇ / 4. [Lambda] in the magnitude of the phase delay is a sign indicating a wavelength of light whose phase is to be delayed.
  • phase delay substrate Using a phase delay substrate according to the prior art, an alignment agent layer is formed on the substrate. Formation of the alignment agent layer is performed through processes such as spin, comma, gravure, dip, slot die, silk screen, inkjet printing, and the like. Can be performed. In the case of polyimide, it is dissolved in a solvent such as ⁇ -Butyrolactone (GBL), 1,2-butylene carbonate (BC) and NMethyl-pyrrolidone (NMP), and the first rotation is performed at 500 to 700 rpm for 20 to 25 seconds.
  • GBL ⁇ -Butyrolactone
  • BC 1,2-butylene carbonate
  • NMP NMethyl-pyrrolidone
  • the spin coating By rotating the spin coating at 2500 to 3500 rpm for 70 to 80 seconds to form an alignment layer having a thickness of 0.5 to 1.3 ⁇ m.
  • the mixture After spin coating, in order to remove the solvent of the alignment film and to cure the alignment film, the mixture is left at 75 to 85 ° C. for 1 to 5 minutes and left at 210 to 230 ° C. for 15 to 30 minutes. Conditions for removing the solvent and curing the alignment layer may vary depending on the boiling point and volatility of the solvent used.
  • the rubbing process is performed to the board
  • the orientation is preferably formed in a direction different from the optical axis of the phase delay substrate.
  • the rubbing process may be performed at a rotational speed of the rubbing roll at 600 rpm, and if the impurities in the alignment material remain after the rubbing process, it may cause a defect. Therefore, the cleaning process should be performed. It can be carried out by soaking the substrate sufficiently soaked or immersing the substrate itself in the cleaning agent for 10 seconds to 5 minutes.
  • the cleaning agent may be performed using an alkali solution, deionized water, and propane-2-ol.
  • the substrate has both the phase delay direction of the substrate itself and the alignment direction of the alignment agent layer.
  • the photocurable monomer composition layer is formed and cured at regular intervals on the substrate.
  • the photocurable monomer composition (RM) layer is formed and cured, the phase of light can be delayed according to the alignment direction of the alignment agent layer. Since the photocurable monomer composition layer is formed at regular intervals, the photocurable The portion where the monomer composition layer is not formed may still follow the phase delay direction of the substrate to obtain a patterned phase retardation film.
  • the phase delay effect of the photocurable monomer composition may depend on the film thickness, the alignment state of the alignment layer, and the composition of the RM material, and changing these parameters may change the structure of the optical film, for example, the inclination angle and the change thereof. You can control the degree.
  • the photocurable monomer composition (RM) is a liquid crystalline compound having a polymerizable group, and in particular, may have an acrylic group, a vinyl ether group, or an epoxide functional group, and the composition mixture of RM is used to increase the crosslinking of the polymer.
  • the above polymerizable functional groups such as polymerizable mesogenic compounds having monoreactive to direactive and / or nonpolar to polar compounds may be mixed and used to change the alignment profile by changing the compositional ratio.
  • the curing conditions of the RM can be changed by the reactivity of the RM material, the thickness of the coating layer, the polymerization initiator, and the output of the UV lamp.
  • the photopolymerization initiator may be appropriately selected according to the RM, and in the case of polymerization using UV light, a radical-producing photoinitiator which decomposes by UV irradiation and initiates a polymerization reaction, for example, a commercially available photoinitiator Irgacure 651 may be used.
  • a cationic photoinitiator may be used which photocures using a cation instead of a radical.
  • the formation of the photocurable monomer composition layer is made of a thickness of 40 ⁇ 1000 ⁇ m intervals and 0.5 ⁇ 1.3 ⁇ m, the thickness can be adjusted according to the viscosity and printing speed of the RM layer, constant intervals and thickness It is important to print with.
  • the solvent solvent
  • the solvent is removed and left for 1 to 5 minutes at 75 ⁇ 85 °C to cure the RM layer, and is left for 15 to 30 minutes at 210 ⁇ 230 °C.
  • Conditions for removing the solvent and curing the RM layer may vary depending on the boiling point and volatility of the solvent used.
  • the photocurable monomer composition layer may be formed by using a printing process such as ink jet, silk-screen, micro-gravure, and the like, in addition to the printing process. It is possible to use photolithography and to use other methods to form the RM layers at regular intervals and thicknesses.
  • the thickness of the photocurable monomer layer By controlling the thickness of the photocurable monomer layer, it is possible to control the phase delay size, and when the magnitude of the phase delay is ⁇ / 2, the direction of circularly polarized light can be reversed.
  • the linearly polarized light when the substrate delays the phase of light by ⁇ / 4, the linearly polarized light is changed to circularly polarized light, and when the photocurable monomer composition layer delays the phase of light by ⁇ / 2, light is lighted by the substrate and the light. After passing through all of the curable monomer composition layers, the linearly polarized light is changed into circularly polarized light, and the direction of circularly polarized light (in the case of left circularly polarized light is changed to right circularly polarized light) once more.
  • the alignment direction of the alignment agent layer is formed such that the substrate is perpendicular to the axis of the phase delay direction, the phase delay size of the substrate is ⁇ / 4, and the photocurable monomer layer has a ⁇ / 2 phase delay effect.
  • the patterned phase delay film to be produced has a portion for converting linearly polarized light into left circularly polarized light and a portion for converting to right circularly polarized light at regular intervals.
  • the phase delay film thus prepared is mounted on a panel display that separates the left eye image and the right eye image, and a 3D stereoscopic image can be realized by using polarized glasses separating the left circular polarization and the right circular polarization.
  • the said orientation agent layer can form orientation by a rubbing process, and can also form orientation by light irradiation.
  • the alignment agent is a polyimide, a polyimide compound, a polyvinyl alcohol, a polyamic acid, a polystylene, a polyamide And it may be characterized in that it is selected from the group consisting of polyoxyethylene (polyoxyethylene) compound.
  • the alignment agent layer may be formed to a thickness of 0.5 to 1.3 ⁇ m, and the thickness may be adjusted according to the viscosity and the formation speed of the alignment material.
  • the alignment agent may use a polymer material having an alignment force through at least one reaction of photoisomerization, photolysis, and photocuring.
  • Usable aligning agents include polyimide, polyamic acid, polynorbornene, phenylmaleimide copolymer, polyvinylcinamate, polyazobenzene, Polyethyleneimide, Polyvinylalcohol, Polyamide, Polyethylene, Polystylene, Polyphenylenephthalamide, Polyester, CMPI (chloromethylated polyimide) , Polyvinylcinnamate (PVC) and polymethyl methacrylate (polymethyl methacrylate).
  • DMF dimethylformamide
  • NMP NMethyl-pyrrolidone
  • chloroform CHCl 3
  • Coating of the alignment layer is made of a thickness of 0.5 ⁇ 1.3 ⁇ m, the thickness can be adjusted according to the viscosity and printing speed of the alignment agent.
  • the mixture is left at 75 to 85 ° C. for 1 to 5 minutes and left at 210 to 230 ° C. for 15 to 30 minutes.
  • Conditions for removing the solvent and curing the alignment layer may vary depending on the boiling point and volatility of the solvent used.
  • the polarization direction set according to the alignment agent is different, and in the case of CMPI, since the alignment is formed in the direction orthogonal to the polarization direction, the light is polarized in a direction parallel to the rubbing direction, and 10 to 50 mW /
  • the alignment process may be performed by irradiating the cm 2 polarized ultraviolet ray in a few tens of seconds (10 to 30 seconds) for a long time (5 to 15 minutes).
  • the wavelength and the irradiation time of the irradiated light vary depending on the alignment agent, and may be classified according to the kind of mechanism of photoalignment (photodegradation, photoduplexing, photoisomerization).
  • a light alignment process is performed by irradiating light having a wavelength of 200 to 250 nm with light of 15 to 25 mW / cm 2 for 1 to 10 minutes.
  • Figure 2 shows the manufacturing process of the patterned phase delay film comprising the step of forming the orientation of the alignment agent layer by light irradiation.
  • step (a) may be characterized in that to form an alignment agent layer at a predetermined interval.
  • FIG. 3 and 4 illustrate the manufacturing process of the patterned phase delay film including the step of forming the alignment agent layer at regular intervals.
  • the alignment layer is formed by a rubbing process.
  • the alignment layer is formed by irradiation with light.
  • a method for forming an orientation by rubbing a substrate for retarding a phase of light in a direction different from a phase delay direction of the substrate And (b) forming and curing the photocurable monomer composition layer on the substrate on which the alignment is formed at regular intervals.
  • step (a) may be characterized in that directly rubbing without forming the alignment agent layer on the substrate. That is, in the prior art, a step of forming an alignment layer must be included in order to form an alignment on the substrate, but in the present invention, a method of directly forming an alignment on the substrate through a process of directly rubbing without forming the alignment layer on the substrate is used. It was.
  • the substrate is preferably composed of COP (cyclo olefin polymer) or PC (polycarbonate), even if the orientation is formed through the rubbing process is a material that does not lose the phase delay function of the substrate itself More preferred.
  • the step (a) may be formed to form an orientation in a direction perpendicular to the axis of the phase delay direction of the substrate.
  • the photocurable monomer composition layers may be formed and cured at regular intervals to form an additional phase delay layer on the substrate.
  • the axis of the phase retardation direction of the photocurable monomer composition layer depends on the rubbing direction of the substrate.
  • the prepared patterned phase delay film Has a portion that converts linearly polarized light into left circularly polarized light and a portion that converts right circularly polarized light at regular intervals.
  • the phase delay film thus prepared is mounted on a panel display that separates the left eye image and the right eye image, and a 3D stereoscopic image can be realized by using polarized glasses separating the left circular polarization and the right circular polarization.
  • a PC film (WRS148, Teijin), which is a transparent base film having a phase delay value of ⁇ / 4 in one direction, and disperse the polyimide, a rubbing alignment agent, in a NMP solvent as a solvent, add 2 ml dropwise, and rotate for 23 seconds at 600 rpm.
  • a PI alignment layer (first alignment layer) having a thickness of 1 ⁇ m was formed through a spin coating process of rotating 70 seconds at 3000 rpm. In order to evaporate and harden the solvent of the first alignment layer, the solvent was placed at 80 ° C. for 1 minute and at 220 ° C. for 20 minutes. Then, the rubbing roll was rotated at 600 rpm to perform a rubbing process in one direction. After the rubbing process, impurities remaining in the alignment material remained in the washing process.
  • the photocurable monomer composition (RMS03-013C, Merck) layers were formed at regular intervals over the rubbed alignment agent layer. Formation of the photocurable monomer composition layer was printed at a speed of 20mm / min to form a RM layer of 3 ⁇ m thickness at a interval of 400 ⁇ m, RM through 1 minute drying at 60 °C and 1 minute ultraviolet irradiation at 20mW / cm 2 The layer was cured to produce a patterned phase delay film.
  • Photocurable monomer composition (RMS03-013C, Merck) layers were formed on the rubbed substrate at regular intervals. Formation of the photocurable monomer composition layer was printed at a speed of 20mm / min to form a RM layer of 3 ⁇ m thickness at a interval of 400 ⁇ m, RM through 1 minute drying at 60 °C and 1 minute ultraviolet irradiation at 20mW / cm 2 The layer was cured to produce a patterned phase delay film.
  • the alignment agent layer formation and the formation of the alignment property in the alignment agent layer are performed only once. Since the aligned orientation can be formed, there is an effect that the manufacturing process is significantly shortened. In addition, there is an advantage to reduce the cost accordingly, it is possible to manufacture a phase delay film formed with a more sophisticated pattern. In addition, when forming the orientation by rubbing directly on the substrate itself that can be phase delay, it is not necessary to form the alignment agent layer can further shorten the manufacturing process, reducing the height difference between the photocurable monomer composition layer and the substrate Can be.

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Abstract

본 발명은 패턴된 위상 지연 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 빛의 위상을 지연시키는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하여 패턴된 위상지연 필름을 제조하는 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 패턴된 위상지연 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 이미 위상지연을 할 수 있는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물 층을 일정 간격으로 형성하고 경화함으로써, 배향제층 형성 및 배향제층에 배향성을 형성하는 공정을 단 1회만 실시하여 패턴된 배향성을 형성할 수 있으므로, 제조공정이 획기적으로 단축되는 효과가 있다. 또한, 그에 따라 비용을 절감할 수 있는 이점이 있으며, 더욱 정교한 패턴이 형성된 위상지연 필름을 제조할 수 있다. 또한, 위상지연을 할 수 있는 기판 자체에 직접 러빙하여 배향성을 형성시키는 경우, 배향제층을 형성할 필요가 없어 제조공정을 더욱 단축시킬 수 있으며, 광경화성 단량체 조성물층과 기판 사이의 높이 차이를 줄일 수 있다.

Description

패턴된 위상지연 필름의 제조 방법
본 발명은 패턴된 위상 지연 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 빛의 위상을 지연시키는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하여 패턴된 위상지연 필름을 제조하는 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 패턴된 위상지연 필름에 관한 것이다.
정보화 사회가 발전함에 따라 표시장치에 대한 요구도 다양한 형태로 점증하고 있으며, 현재 다양한 종류의 평판 표시 장치가 개발되어 사용되고 있다. 그 중에서도 액정 표시 장치는 가장 다양한 용도로 널리 사용되는 평판 표시 장치이다. 이와 같이 액정표시장치가 여러 분야에서 화면 표시장치로서의 역할을 하기 위해 여러 가지 기술적인 발전이 이루어졌으며, 경량, 박형, 저 소비전력의 특징을 유지하면서도 고 품위화상을 얼마나 구현할 수 있는가를 목표에 두고 현재에도 기술 개발이 이루어지고 있다. 액정 표시 장치에는 액정의 배열 상태와 구동 방식에 따라 TN(Twisted Nematic) 액정 표시 장치, VA(Vertically Aligned) 액정 표시 장치, IPS(In Plane Switching) 액정 표시 장치, OCB(Optically Compensated Bend) 액정 표시 장치 등이 있다. 이들 액정 표시 장치들은 배향막의 영향이나 액정 자체의 성질에 의해 액정이 초기에 소정의 배열을 이루고 있다가 전계가 인가되면 액정의 배열이 바뀌게 되는데, 액정의 광학적 이방성으로 인해 액정을 통과하는 빛의 편광 상태가 액정의 배열 상태에 따라 달라지고 이를 편광판을 이용하여 투과 광량의 차이로 나타나도록 함으로써 화상을 표시한다.
복굴절성을 이용한 STN-LCD에서는 셀 자체에 복굴절성이 있기 때문에 액정 셀을 투과해 왔던 빛에 위상지연(빛의 일그러짐)이 생긴다. 이 때문에 STN 패널에서는 위상지연 필름이 색 보상용 필름으로써 병행하여 사용되고 있다. 위상지연 필름은 타원 편광에 의해 생기는 blue mode 혹은 yellow mode라고 불리우는 STN 특유의 간섭색(착색)을 광학적으로 색 보상하는 역할로써 당초 개발되어 왔으며, TFT-LCD의 경우 색 보상 필름으로써의 위상 필름은 불필요 하지만, 최근 들어 시야각의 확대나 화질 향상을 목적으로 각종 위상지연 필름이 적층되고 있고, 보다 다양한 기능의 위상지연 필름이 요구되고 있다. 또한, 3D 입체영상 재현 기술의 발전과 더불어 패턴된 위상지연 필름을 사용하여 좌안 영상과 우안 영상의 편광 방향을 다르게 만들어 주는 기술이 발전하고 있다. 위상지연 필름의 제조 기술로는 연신기술과 배향기술이 있으며, 특히 편광, 반사, 굴절, 간섭, 회절, 산란에 대하여 모두 고려하기 위해서는 배향기술이 필요하다.
패턴된 위상지연 필름 또는 액정 패널 배향방향을 제조하기 위한 기술로는 일본공개특허 제1994-082784호, 한국등록특허 제10-0243039호, 한국공개특허 제10-2003-0083700호 등에서 마스크 이용, 러빙 및 광조사 2회 사용 등의 기술을 개시하고 있지만, 공정이 복잡하고 정교성이 떨어지는 문제가 있다.
본 발명에서는 상기 문제점을 해결하기 위하여 예의 노력한 결과 빛의 위상을 지연시키는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하여 패턴된 위상지연 필름을 제조하는 경우, 배향제층 형성 단계의 횟수를 줄일 수 있어 공정을 단순화시킬 수 있으며, 정교한 패턴을 형성한 위상지연 필름을 제조할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하게 되었다.
발명의 요약
본 발명은 패턴된 위상 지연 필름의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 빛의 위상을 지연시키는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하여 패턴된 위상지연 필름을 제조하는 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 패턴된 위상지연 필름에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 이미 위상지연을 할 수 있는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물 층을 일정 간격으로 형성하고 경화함으로써, 배향제층 형성 및 배향제층에 배향성을 형성하는 공정을 단 1회만 실시하여 패턴된 배향성을 형성할 수 있으므로, 제조공정이 획기적으로 단축되는 효과가 있다. 또한, 그에 따라 비용을 절감할 수 있는 이점이 있으며, 더욱 정교한 패턴이 형성된 위상지연 필름을 제조할 수 있다. 또한, 위상지연을 할 수 있는 기판 자체에 직접 러빙하여 배향성을 형성시키는 경우, 배향제층을 형성할 필요가 없어 제조공정을 더욱 단축시킬 수 있으며, 광경화성 단량체 조성물층과 기판 사이의 높이 차이를 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 패턴된 위상지연 필름의 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 다른 구현예에 따른 패턴된 위상지연 필름의 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 다른 구현예에 따른 패턴된 위상지연 필름의 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 4은 본 발명의 다른 구현예에 따른 패턴된 위상지연 필름의 제조 공정을 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 다른 구현예에 따른 패턴된 위상지연 필름의 제조 공정을 나타낸 것이다.
발명의 상세한 설명 및 구체적인 구현예
달리 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 숙련된 전문가에 의해서 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 일반적으로, 본 명세서에서 사용된 명명법 및 이하에 기술하는 실험 방법은 본 기술 분야에서 잘 알려져 있고 통상적으로 사용되는 것이다.
본 발명은 일 관점에서, (a) 빛의 위상을 지연시키는 기판 상에 배향제층을 형성하는 단계; (b) 상기 배향제층에 한쪽 방향으로 배향성을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 배향성이 형성된 기판에 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하는 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름(patterned phase retardation film)의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 있어서, 상기 기판은 빛의 위상을 지연시킬 수 있는 기판인 것을 특징으로 한다. 종래 기술에서는 패턴된 위상지연 필름을 제조하기 위해서 기판 상에 배향제층을 형성하고 러빙 또는 광 조사를 통하여 배향성을 형성시키는 공정을 각각 2회 실시하여야 했지만, 본 발명에서는 빛의 위상을 지연시킬 수 있는 기판을 사용하여, 배향제층 형성 및 상기 배향제층에 배향성을 형성하는 공정을 단 1회만 실시하여 정교하게 패턴된 위상지연 필름을 만들 수 있다.
이러한 공정을 만족시키기 위해서, 상기 기판은 종래 기술의 위상지연 기판을 사용하는 것이 가능하며, 바람직하게는 COP(cyclo olefin polymer) 또는 PC(polycarbonate) 필름을 사용할 수 있다. 상기 필름들은 특정 위상 지연 값을 갖는 광학 소재를 연신하는 기술을 이용하여 제작될 수 있으며 또한, 필름에 표면 배향 기술(예를 들면, 액정 디스플레이 소자에서의 액정 배향 기술)을 이용하여 특정 위상 지연 값을 갖는 광학 재료를 상부에 도포하여 위상 지연 값을 구현할 수 있다. 이러한 필름들은 대부분 액정 디스플레이 소자의 시야각 향상을 위해 광학 보상 필름에 적용되고 있다 위상지연 기판은 빛의 위상을 지연시키는 기능을 하며, 위상지연의 크기가 λ/4인 경우 선편광을 원편광으로 바꾸어 줄 수 있다. 따라서, 본 발명에 있어서, 상기 기판은 빛의 위상을 λ/4 만큼 지연시키는 것을 특징으로 할 수 있다. 상기 위상 지연의 크기에서 λ는 위상이 지연될 빛의 파장을 나타내는 부호이다.
도 1 은 본 발명의 일 구현예에 따른, 패턴된 위상지연 필름의 제조공정을 나타낸 것이다. 종래기술에 의한 위상지연 기판을 사용하여, 기판 상에 배향제층을 형성시킨다. 배향제층의 형성은 스핀(spin), 콤마(comma), 그라비아(gravure), 딥(dip), 슬롯 다이(slot die), 실크 스크린(silk screen), 잉크젯 프린팅(inkjet printing) 등의 공정을 통하여 수행될 수 있다. 폴리이미드(polyimide)의 경우, GBL(γ-Butyrolactone), BC(1,2-butylene carbonate), NMP(NMethyl-pyrrolidone)와 같은 용매에 용해시켜 500 ~ 700rpm으로 20 ~ 25초 동안 1차 회전시키고, 2500 ~ 3500rpm에서 70 ~ 80초 동안 회전시키는 방법으로 스핀 코팅하는 방법으로 두께 0.5 ~ 1.3㎛의 배향막을 형성할 수 있다. 스핀 코팅 후, 배향막의 용매(solvent)를 제거하고 배향막을 경화시키기 위하여 75 ~ 85℃에서 1 ~ 5분간 방치하고, 210 ~ 230℃에서 15 ~ 30분간 놓아둔다. 상기 용매를 제거하고 배향막을 경화시키는 조건은 사용되는 용매의 끓는점 및 휘발성에 의하여 달라질 수 있다.
상기 배향제층이 형성된 기판에 러빙 공정을 하여 한쪽 방향으로 배향성을 형성시킨다. 배향성은 위상지연 기판의 광축과 다른 방향으로 형성하는 것이 바람직하다. 러빙 공정은 러빙롤의 회전 속도를 600rpm으로 하여 수행될 수 있으며, 러빙 공정 후 배향 재료의 불순물들이 남아 있을 경우 불량을 일으킬 수 있으므로 세척 공정을 실시하여야 하며 세척 공정은 러빙 공정을 거친 기판을 세정제가 기판에 흐를 수 있도록 하여 충분히 적시거나 기판 자체를 세정제에 10초 ~ 5분 정도 담그는 방법으로 수행될 수 있다. 예를 들면, 세정제의 경우 알칼리(alkali)용액, 탈이온화 물 및 프로판(propane)-2-올(ol)을 이용하여 수행될 수 있다.
배향제층에 배향성이 형성되면, 기판은 기판 자체의 위상지연방향과 배향제층의 배향방향을 모두 가지고 있게 된다. 이러한 기판 위에 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성시키고 경화한다. 광 경화성 단량체 조성물(reactive mesogen; RM)층이 형성 및 경화되면, 배향제층의 배향 방향에 따라 빛의 위상을 지연시킬 수 있게 되는데, 광 경화성 단량체 조성물층은 일정 간격으로 형성되어 있기 때문에, 광 경화성 단량체 조성물층이 형성되지 않은 부분은 여전히 기판의 위상지연 방향을 따르게 되어 패턴된 위상 지연 필름을 얻을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 광경화성 단량체 조성물의 위상지연효과는 필름두께, 배향막의 정렬상태 및 RM물질의 조성에 좌우될 수 있으며, 이들 변수를 변화시키면 광학필름의 구조, 예를 들면 경사각 및 그의 변화 정도를 제어할 수 있다. 광경화성 단량체 조성물(RM)은 중합성기를 가지는 액정성 화합물로 특히, 아크릴기, 비닐에테르기, 또는 에폭사이드의 관능기를 가질 수 있으며, RM의 조성혼합물은 중합체의 가교결합을 증가시키기 위해 2개 이상의 중합성 작용기, 예를 들면 일반응성 대 이반응성 화합물 및/또는 비극성 대 극성 화합물을 갖는 중합성 메소겐 화합물을 혼합하여 사용할 수 있고, 그들이 조성비를 변화시킴으로써 정렬 프로필을 변경시킬 수도 있다. RM의 경화조건은 RM물질의 반응성, 코팅층의 두께, 중합개시제, 및 UV램프의 출력에 의해 변화시킬 수 있다. 광중합 개시제는 RM에 따라 적절하게 선택할 수 있으며, UV광을 이용하여 중합하는 경우, UV조사에 의해 분해되어 중합반응을 개시하는 라디칼 생성 광개시제, 예를 들면 일반적으로 시판되는 광개시제 이르카큐어 (Irgacure) 651를 사용할 수 있다. 반면 비닐 및 에폭사이드 중합성 기를 가진 경우는 라디칼 대신 양이온을 이용하여 광경화시키는 양이온성 광개시제를 사용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 광경화성 단량체 조성물 층의 형성은 40 ~ 1000㎛의 간격 및 0.5 ~ 1.3㎛의 두께로 이루어지며, RM 층의 점도 및 프린팅 속도에 따라 두께를 조절할 수 있고, 일정한 간격 및 두께로 프린팅 하는 것이 중요하다. 프린팅 공정이 끝난 후, 용매(solvent)를 제거하고 RM 층을 경화시키기 위하여 75 ~ 85℃에서 1 ~ 5분간 방치하고, 210 ~ 230℃에서 15 ~ 30분간 놓아둔다. 상기 용매를 제거하고 RM 층을 경화시키는 조건은 사용되는 용매의 끓는점 및 휘발성에 의하여 달라질 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 광경화성 단량체 조성물 층의 형성은 잉크젯(ink jet), 실크스크린(silk-screen), 마이크로 그라비아(micro-gravure) 등의 프린팅 공정을 사용하는 것이 가능하며, 프린팅 공정 이외에도 포토리소그래피(photolithography)방식을 사용할 수 있고, RM 층을 일정 간격 및 두께로 형성시킬 수 있는 다른 방법을 사용하는 것이 가능하다.
광 경화성 단량체 층의 두께를 조절하면 위상 지연 크기를 조절할 수는 것이 가능하며, 위상지연의 크기가 λ/2인 경우 원편광의 방향을 반대로 바꾸어 줄 수 있다. 본 발명에서 상기 기판이 빛의 위상을 λ/4 만큼 지연시키는 경우 선 편광이 원편광으로 바뀌게 되고, 상기 광 경화성 단량체 조성물층이 빛의 위상을 λ/2 만큼 지연시키는 경우, 빛이 기판과 광 경화성 단량체 조성물층을 모두 통과하게 되면 선편광이 원편광으로 바뀐 후 원편광의 방향(좌원편광의 경우 우원편광으로)이 한번 더 바뀌게 된다.
본 발명에 있어서, 상기 배향제층의 배향방향을 기판을 위상지연 방향의 축과 수직이 되도록 형성하고, 기판의 위상지연 크기가 λ/4이며, 광 경화성 단량체 층이 λ/2 위상 지연 효과를 가지도록 일정 간격으로 형성 및 경화되면, 제조되는 패턴된 위상지연 필름은 선편광된 빛을 좌원편광으로 바꾸는 부분과 우원편광으로 바꾸는 부분을 일정 간격으로 가지게 된다. 이렇게 제조된 위상지연 필름을 좌안 화상과 우안 화상을 분리한 패널 디스플레이에 장착하고, 좌원편광과 우원편광을 분리하는 편광안경을 사용하여 3D 입체영상을 구현하는 것이 가능하다.
본 발명에 있어서, 상기 배향제층은 러빙공정에 의하여 배향성을 형성시키는 것이 가능하며, 또한, 광 조사에 의하여 배향성을 형성시키는 것이 가능하다. 러빙공정에 의하여 배향성을 형성시키는 경우, 배향제는 폴리이미드(polyimide), 폴리이미드계 화합물, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol), 폴리아믹산(polyamic acid), 폴리스타일렌(polystylene), 폴리아미드(polyamide) 및 폴리옥시에틸렌(polyoxyethylene) 화합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 할 수 있다. 배향제층의 형성은 0.5 ~ 1.3㎛의 두께로 이루어질 수 있으며, 배향 재료의 점도 및 형성 속도에 따라 두께를 조절할 수 있다.
또한, 광 조사에 의하여 배향성을 형성시키는 경우에, 배향제는 광이성화, 광분해, 광경화 중의 적어도 하나의 반응을 통하여 배향력을 가지는 고분자 물질을 사용할 수 있다. 사용가능한 배향제로는 폴리이미드(polyimide), 폴리아믹에시드(polyamic acid), 폴리노보넨(polynorbornene), 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer), 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimide), 폴리비닐알콜(polyvinylalcohol), 폴리아미드(polyimide), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리스타일렌(polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(polyester), CMPI(chloromethylated polyimide), PVCI(polyvinylcinnamate) 및 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl methacrylate)로 구성된 군에서 선택될 수 있으며, CMPI를 사용할 경우 용매(solvent)로 싸이클로헥산(cyclohexane), DMSO(dimethyl sulfoxide), THF(tetrahydrofuran), DMF(dimethylformamide), NMP(NMethyl-pyrrolidone), 클로로포름(CHCl3)을 사용할 수 있다. 배향막의 코팅은 0.5 ~ 1.3㎛의 두께로 이루어지며, 배향제의 점도 및 프린팅 속도에 따라 두께를 조절할 수 있다. 코팅 공정 이후에 배향막의 용매(solvent)를 제거하고 배향막을 경화시키기 위하여 75 ~ 85℃에서 1 ~ 5분간 방치하고, 210 ~ 230℃에서 15 ~ 30분간 놓아둔다. 상기 용매를 제거하고 배향막을 경화시키는 조건은 사용되는 용매의 끓는점 및 휘발성에 의하여 달라질 수 있다.
배향성 형성을 위한 광 조사는 배향제에 따라 설정되는 편광 방향이 달라지고, CMPI의 경우 편광 방향에 직교 방향으로 배향이 형성되므로 러빙 방향과 평행한 방향으로 편광된 광을 조사하며, 10 ~ 50mW/cm2의 편광된 자외선을 짧게는 수십 초(10 ~ 30초)에서 길게는 수분(5 ~ 15분) 조사하여 배향 공정을 수행할 수 있다. 또한, 조사되는 광의 파장 및 조사 시간은 배향제에 따라 다르며, 특히 광배향의 메커니즘(광분해, 광이중화, 광이성질화)의 종류에 따라 크게 분류가 될 수 있다. 광분해 방식일 경우, 200 ~ 250nm의 파장의 광을 15 ~ 25mW/cm2의 편광된 자외선을 1 ~ 10분 조사하여 광배향 공정을 수행한다.
도 2는 광 조사에 의해서 배향제층의 배향성을 형성시키는 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름의 제조공정을 나타낸 것이다.
본 발명은 또한, 상기 (a) 단계는 일정 간격으로 배향제층을 형성하는 것을 특징으로 할 수 있다. 위상지연 기판 상에 배향제층을 일정 간격으로 형성하고, 배향제층이 형성된 부분에만 광 경화성 단량체 조성물층을 형성함으로써, 더욱 정교하게 패턴된 위상 지연 필름을 제조할 수 있다.
도 3 및 4는 배향제층을 일정 간격으로 형성하는 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름의 제조 공정을 나타낸 것이다. 도 3에서는 배향제층을 러빙 공정에 의하여 배향성을 형성시키는 단계를 포함하며, 도 4에서는 광 조사에 의해 배향제층에 배향성을 형성시키는 단계를 포함한다.
본 발명은 다른 관점에서, (a) 빛의 위상을 지연시키는 기판을 기판의 위상지연 방향과 다른 방향으로 러빙하여 배향성을 형성시키는 단계; 및 (b) 상기 배향성이 형성된 기판에 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하는 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 있어서, 상기 (a) 단계는 기판 상에 배향제층을 형성하지 않고 직접 러빙하는 것을 특징으로 할 수 있다. 즉, 종래 기술에서는 기판에 배향성을 형성시키기 위하여 반드시 배향막을 형성시키는 단계를 포함하여야 했지만, 본 발명에서는 기판 상에 배향막을 형성시키지 않고 바로 러빙하는 공정을 통하여 직접 기판에 배향성을 형성시키는 방법을 사용하였다. 이러한 공정을 만족시키기 위해서, 상기 기판은 COP(cyclo olefin polymer) 또는 PC(polycarbonate)로 구성되는 것이 바람직하며, 상기 러빙 공정을 통하여 배향성이 형성되더라도 기판 자체가 가지고 있던 위상지연 기능을 잃지 않는 재료인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 (a) 단계는 상기 기판의 위상지연 방향의 축과 수직을 이루는 방향으로 배향성을 형성시키는 것을 특징으로 할 수 있다.
위상지연 기능을 유지하고 있는 기판 상에 배향성이 형성되면, 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하여, 기판 상에 추가적으로 위상지연층을 형성할 수 있다. 광 경화성 단량체 조성물층의 위상 지연 방향의 축은 기판의 러빙 방향에 의존한다. 이러한 공정에 의하여, 기판 자체의 기능에 의하여 빛의 위상이 지연되는 부분과 광 경화성 단량체 조성물층에 의하여 빛의 위상이 지연되는 부분이 일정 간격으로 형성되는 패턴된 위상지연 필름을 제조할 수 있다.
상기 기판의 위상지연 크기가 λ/4이고, 기판에 러빙하는 방향이 기판 자체의 광축 방향과 수직이며, 광 경화성 단량체 조성물층의 위상지연 크기가 λ/2인 경우, 제조된 패턴된 위상지연 필름은 선편광된 빛을 좌원편광으로 바꾸는 부분과 우원편광으로 바꾸는 부분을 일정 간격으로 가지게 된다. 이렇게 제조된 위상지연 필름을 좌안 화상과 우안 화상을 분리한 패널 디스플레이에 장착하고, 좌원편광과 우원편광을 분리하는 편광안경을 사용하여 3D 입체영상을 구현하는 것이 가능하다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세히 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 예시하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것으로 해석되지 않는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명할 것이다.
실시예 1 위상지연 기능을 가지는 기판을 사용하는 패턴된 위상지연 필름의 제조
한 방향으로 λ/4의 위상지연 값을 가지며 투명한 기재 필름인 PC 필름(WRS148, 테이진)을 준비하고, 러빙 배향제인 polyimide를 solvent인 NMP 용매에 분산시켜 2ml 적하하고, 600rpm으로 23초 회전 및 3000rpm으로 70초를 회전시키는 스핀 코팅 공정을 통하여 두께가 1㎛인 PI배향막(제1배향막)을 형성하였다. 제1배향막의 solvent를 증발시키고 경화시키기 위해 80 ℃에서 1분, 220℃에서 20분 동안 놓아둔 후, 러빙 롤의 회전 속도를 600rpm으로하여 한쪽 방향으로 러빙 공정을 수행하였다. 러빙 공정 이후 배향 재료의 불순물이 남아있는 것을 세척공정으로 제거하였다.
러빙된 배향제층 위로 광 경화성 단량체 조성물(RMS03-013C, Merck)층을 일정 간격으로 형성하였다. 광경화성 단량체 조성물층의 형성은 20mm/min의 속도로 프린팅하여 400㎛의 간격으로 3㎛ 두께의 RM 층을 형성하였으며, 60℃에서 1분 건조 및 20mW/cm2에서 1분 자외선 조사를 통하여 RM층을 경화시켜, 패턴된 위상지연 필름을 제조하였다.
실시예 2 위상지연 기판에 직접 러빙하는 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름의 제조
한 방향으로 λ/4의 위상지연 값을 가지며 투명한 기재 필름인 PC 필름(WRS148, 테이진)을 준비하고, 러빙 롤의 회전 속도를 600rpm으로하여 위상 지연 기판의 광축 방향과 수직을 이루는 방향으로 러빙 공정을 수행하였다. 러빙 공정 이후 불순물이 남아있는 것을 세척공정으로 제거하였다.
러빙된 기판 상에 광 경화성 단량체 조성물(RMS03-013C, Merck)층을 일정 간격으로 형성하였다. 광경화성 단량체 조성물층의 형성은 20mm/min의 속도로 프린팅하여 400㎛의 간격으로 3㎛ 두께의 RM 층을 형성하였으며, 60℃에서 1분 건조 및 20mW/cm2에서 1분 자외선 조사를 통하여 RM층을 경화시켜, 패턴된 위상지연 필름을 제조하였다.
본 발명에 따르면, 이미 위상지연을 할 수 있는 기판을 사용하고, 광 경화성 단량체 조성물 층을 일정 간격으로 형성하고 경화함으로써, 배향제층 형성 및 배향제층에 배향성을 형성하는 공정을 단 1회만 실시하여 패턴된 배향성을 형성할 수 있으므로, 제조공정이 획기적으로 단축되는 효과가 있다. 또한, 그에 따라 비용을 절감할 수 있는 이점이 있으며, 더욱 정교한 패턴이 형성된 위상지연 필름을 제조할 수 있다. 또한, 위상지연을 할 수 있는 기판 자체에 직접 러빙하여 배향성을 형성시키는 경우, 배향제층을 형성할 필요가 없어 제조공정을 더욱 단축시킬 수 있으며, 광경화성 단량체 조성물층과 기판 사이의 높이 차이를 줄일 수 있다.

Claims (22)

  1. 다음의 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름(patterned phase retardation film)의 제조방법:
    (a) 빛의 위상을 지연시키는 기판 상에 배향제층을 형성하는 단계;
    (b) 상기 배향제층에 한쪽 방향으로 배향성을 형성하는 단계; 및
    (c) 상기 배향성이 형성된 기판에 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하는 단계.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 빛의 위상을 λ/4 만큼 지연시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 기판의 위상 지연 방향의 축과 다른 방향으로 배향성을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 기판의 위상 지연 방향의 축과 수직 방향으로 배향성을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 (c) 단계의 광경화성 단량체 조성물층은 λ/2의 위상을 지연시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 광 경화성 단량체 조성물층은 아크릴기, 비닐에테르기 또는 에폭사이드의 관능기를 가지는 액정성 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 배향제층이 형성된 기판을 러빙하여 배향성을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 배향제는 폴리이미드(polyimide), 폴리이미드계 화합물, 폴리비닐알코올(poly vinyl alcohol), 폴리아믹산(polyamicacid), 폴리스타일렌
    (polystylene), 폴리아미드(polyamide) 및 폴리옥시에틸렌 (polyoxyethylene) 화합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 (b) 단계는 배향제층에 광을 조사하여 배향성을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 광은 10 내지 50mW/cm2로 편광된 자외선인 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제 9 항에 있어서, 상기 배향제는 폴리이미드(polyimide), 폴리아믹에시드(polyamic acid), 폴리노보넨(polynorbornene), 페닐말레이미드 공중합체(phenylmaleimide copolymer), 폴리비닐신나메이트(polyvinylcinamate), 폴리아조벤젠(polyazobenzene), 폴리에틸렌이민(polyethyleneimide), 폴리비닐알콜(polyvinyl alcohol), 폴리아미드(polyimide), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리스타일렌(polystylene), 폴리페닐렌프탈아미드(polyphenylenephthalamide), 폴리에스테르(polyester), CMPI(chloromethylatedpoly imide), PVCI (poly-vinylcinnamate) 및 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate) 로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제 1 항에 있어서, 상기 (c) 단계의 광 경화성 단량체 조성물층은 잉크젯(ink jet), 실크스크린(silk-screen), 마이크로 그라비아(micro-gravure) 또는 포토리소그래피(photolithography) 방식에 의하여 일정 간격으로 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제 1 항에 있어서, 상기 (a) 단계는 일정 간격으로 배향제층을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 배향제층은 잉크젯(ink jet), 실크스크린(silk-screen), 마이크로 그라비아(micro-gravure) 또는 포토리소그래피(photolithography) 방식에 의하여 일정 간격으로 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 다음의 단계를 포함하는 패턴된 위상지연 필름(patterned phase retardation film)의 제조방법:
    (a) 빛의 위상을 지연시키는 기판을 기판의 위상지연 방향과 다른 방향으로 러빙하여 배향성을 형성시키는 단계; 및
    (b) 상기 배향성이 형성된 기판에 광 경화성 단량체 조성물층을 일정 간격으로 형성하고 경화하는 단계.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 (a) 단계는 기판 상에 배향제층을 형성하지 않고 직접 러빙하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 15 항에 있어서, 상기 (a) 단계는 상기 기판의 위상지연 방향과 수직을 이루는 방향으로 배향성을 형성시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 기판은 빛의 위상을 λ/4 만큼 지연시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  19. 제 15 항에 있어서, 상기 (c) 단계의 광경화성 단량체 조성물층은 λ/2의 위상을 지연시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  20. 제 1 항에 있어서, 상기 광 경화성 단량체 조성물층은 아크릴기, 비닐에테르기 또는 에폭사이드의 관능기를 가지는 액정성 화합물인 것을 특징으로 하는 방법.
  21. 제 1 항에 있어서, 상기 (c) 단계의 광 경화성 단량체 조성물층은 잉크젯(ink jet), 실크스크린(silk-screen), 마이크로 그라비아(micro-gravure) 또는 포토리소그래피(photolithography) 방식에 의하여 일정 간격으로 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  22. 제 1 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항의 방법으로 제조되는 패턴된 위상지연 필름(patterned phase retardation film).
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