WO2012091330A3 - 실리콘 질화막의 선택적 연마를 위한 cmp 슬러리 조성물 및 이를 이용한 실리콘 질화막의 연마 방법 - Google Patents

실리콘 질화막의 선택적 연마를 위한 cmp 슬러리 조성물 및 이를 이용한 실리콘 질화막의 연마 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 실리콘 질화막의 선택적 연마를 위한 CMP 슬러리 조성물 및 이를 이용한 실리콘 질화막의 연마 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 (메타)아크릴레이트계 공중합체와 피리딘계 화합물을 함께 포함하여, 실리콘 산화막 및/또는 폴리실리콘 대비 실리콘 질화막의 연마 속도를 높임으로써, 실리콘 질화막을 선택적으로 연마할 수 있는 CMP 슬러리 조성물 및 이를 이용한 실리콘 질화막의 연마 방법을 제공하였다.
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