WO2012073196A1 - Conveying roller - Google Patents

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WO2012073196A1
WO2012073196A1 PCT/IB2011/055375 IB2011055375W WO2012073196A1 WO 2012073196 A1 WO2012073196 A1 WO 2012073196A1 IB 2011055375 W IB2011055375 W IB 2011055375W WO 2012073196 A1 WO2012073196 A1 WO 2012073196A1
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WO
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transport roller
substrate
transport
guide region
roller according
Prior art date
Application number
PCT/IB2011/055375
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German (de)
French (fr)
Inventor
Mirko Meyer
Steffen Frigge
Mirko Staude
Original Assignee
Roth & Rau Ag
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Publication date
Application filed by Roth & Rau Ag filed Critical Roth & Rau Ag
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Publication of WO2012073196A1 publication Critical patent/WO2012073196A1/en

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G39/00—Rollers, e.g. drive rollers, or arrangements thereof incorporated in roller-ways or other types of mechanical conveyors 
    • B65G39/02—Adaptations of individual rollers and supports therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt

Definitions

  • the invention relates to a transport roller of a roller transport system for the transport of at least one planar silicon substrate through a tempered process chamber of a photovoltaic substrate processing plant, in which the silicon substrate is processed during its passage through the process chamber.
  • Transport rollers of this type are widely used in the prior art.
  • the transport rollers are usually cylinders, on the lateral surface of which the silicon substrates rest.
  • a disadvantage of such cylindrical transport rollers is that the silicon substrates on the transport rollers are relatively easy to move in the transport plane and therefore sometimes deviations from the desired transport direction occur.
  • Another disadvantage of such cylindrical transport rollers arises when used in high-temperature furnaces, when the surface of the transport rollers is dirty. Such contamination can be caused, for example, by the abrasion of metal pastes with which the silicon substrates used in the photovoltaic industry can be coated. Since the lateral surface of cylindrical transport rollers is in large-area contact with the silicon substrates transported thereon, contamination, for example metal contamination, can be transmitted to the silicon substrates. This can damage the silicon substrates.
  • a transport roller of the aforementioned type wherein the transport roller is profiled to form at least one substrate guide region formed integrally with the transport roller, the at least one substrate guide region having lateral end regions on which the silicon substrate rests and which have a larger diameter than that between the two Having lying end portions intermediate regions of the substrate guide region, so that contact of the support side of the silicon substrate with the transport roller is prevented or minimized in this intermediate region, without the transport roller has an interruption for this purpose.
  • This transport roller thus has, for each silicon substrate to be transported on it, a substrate guide region on which the transport of the silicon substrates takes place.
  • the transport roller has a larger diameter at the edges or the end regions of this substrate guide region than in the middle or the intermediate regions of the substrate guide region. It is thereby achieved that the silicon substrates rest only with their edges on the end regions of the substrate guide regions and the center of the silicon substrate has no contact with the transport roller due to the smaller diameter of the transport roller in the center of the substrate guide region.
  • the smaller diameter in the center or in the intermediate regions of the substrate guide region serves to avoid friction between the silicon substrate and the transport roller in this region.
  • this intermediate region can be used to transport substrate fragments which are less likely to occur.
  • the transport roller has at least two substrate guide regions, each separated by at least one region of increased diameter, for forming at least two parallel substrate guide tracks of the roller transport system through the process chamber.
  • the transport roller has at least two substrate guide regions next to one another, at least two silicon substrates can be transported and processed simultaneously at the same time.
  • a higher number of substrate guide regions on a transport roller a higher number of silicon substrates can accordingly be transported and processed side by side on this transport roller.
  • the number and size of the substrate guide regions on the transport rollers can be adapted to the silicon substrates used and to the process chamber to be used.
  • the lateral end regions of the at least one substrate guide region each have an outwardly diameter-increasing slope or concave curvature.
  • the concave curvature has a larger increase in diameter at the edge of the substrate guide area than the inner area of the concave curvature.
  • the slope extends at an angle of inclination between 3 ° and 45 ° to the axis of rotation of the transport roller. Tilt angles below 3 ° have been found to be ineffective experimentally, and angles of tilt in excess of 45 ° have proven to be too great a burden on the edges of the silicon substrates.
  • the slope runs at an angle of inclination of 6 ° to the axis of rotation of the transport roller.
  • An inclination angle of 6 ° has proven to be the optimum angle for the support of the silicon substrates.
  • a secure substrate transport takes place at this angle, on the other hand no particle formation is observed.
  • the lateral end regions of the at least one substrate guide region each have a diameter which increases in a stepwise outward direction for supporting silicon substrates of different widths.
  • the transport roller can be used for transporting different widths of substrate types. As a result, retooling in a manufacturing environment with two different substrate sizes can be avoided.
  • the intermediate regions of the at least one substrate guide region lying between the end regions each have a constant diameter.
  • the intermediate region lying between the end regions of a substrate guide region has a mechanical function in the storage of the rolls. Furthermore, this intermediate region serves in the event of a substrate fracture to transport the substrate fragments.
  • this intermediate region with a constant diameter as a cylinder the production of the transport roller is particularly simple.
  • the intermediate regions of the at least one substrate guide region lying between the end regions each have a diameter which decreases towards the center of the substrate guide region.
  • the silicon substrates are processed on the transport roller lying in a tempered process chamber.
  • the processing results of the silicon substrates are thus usually temperature-dependent.
  • various effects occur.
  • At the support of the silicon substrates there is a lower heat transfer resistance than in the center or in the middle of the substrate guide region, where the silicon substrates are hollow and where the heat transfer resistance increases with the distance between the silicon substrate and the transport roller.
  • an energy input on silicon substrates and transport rollers for example by heating lamps or by plasmas, occurs during the processing.
  • the processing result on the silicon substrates is then dependent on the location on the silicon substrate and on the temporal temperature profile at this location. Due to the reduced diameter of the center of the substrate guide region, the homogeneity of the processing result, for example a deposited layer thickness, can be optimized. In this way, then, for example, a same deposited Layer thickness in the substrate center and the substrate edge on which the silicon substrate rests reachable.
  • the silicon substrate is a 156 mm silicon substrate and the transport roller has a maximum substrate support width of 156.4 mm to 157.2 mm. In a preferred embodiment of this transport roller, the maximum substrate support is 156.8 mm.
  • the transport roller is formed of ceramic at least in the tempered region of the process chamber. Ceramics are dimensionally stable and durable materials that are well suited to the formation of the transport roller.
  • the transport roller is formed of a heat-resistant material of at least 300 ° C.
  • Many tempered process chambers have temperatures above 300 ° C and require correspondingly heat-resistant transport rollers. Therefore, the transport rollers are preferably formed of the proposed refractory material, and then they can be arbitrarily used at high or low temperatures.
  • the transport roller is formed of a metal contamination-free material at least in the section of the transport roller which is provided in the tempered process chamber.
  • metal diffusion is observable, that is, metal atoms migrate from one place to another.
  • metal atoms could diffuse across the supports of the silicon substrates into the silicon substrates, and the metal atoms in the silicon substrates could cause damage, such as changes in electronic properties.
  • materials are used which do not emanate metal atom diffusion.
  • the lateral end regions of the at least one substrate guide region have a Non-stick coating and / or a roughening on.
  • a non-stick coating and / or by roughening the adhesion of particles to the transport rollers is avoided or greatly reduced, whereby the probability of the occurrence of particles on the silicon substrates with the cause in the roller transport system is reduced.
  • This option is of interest, for example, if the silicon substrates have a non-abradable coating in the support area.
  • the transport roller has a minimum diameter of 22 mm. At this diameter, the transport roller has sufficient mechanical stability.
  • Figure 1 schematically an embodiment of an inventive
  • Figure 2 schematically shows a section of a further embodiment of a transport roller according to the invention in cross section.
  • FIG. 1 schematically shows an example of a transport roller 1 according to the invention in a perspective view.
  • the transport roller 1 is a profiled transport roller having regions of different diameters but no interruption.
  • the transport roller 1 shown has a substrate guide region 2.
  • the transport roller 1 according to the invention can also have two or more substrate guide regions 2.
  • the substrate guide region 2 has two lateral end regions 3, which have a larger diameter than the intermediate region 4 located between the end regions 3.
  • the support of a silicon substrate 8, as shown in Figure 2 is provided.
  • a distance is provided between the transport roller lateral surface in the intermediate region 4 and the silicon substrate 8.
  • the transport roller 1 can au ßer the Substrat Adjusts Scheme 2 even more elements, such as bearings, have.
  • the illustrated transport roller 1 is formed of a ceramic and has a temperature resistance above 300 ° C.
  • the transport roller 1 shown is in various process chambers, for example in a used in the photovoltaic industry process chamber for a PECVD Si 3 N coating at 400 ° C, in a process chamber used in the photovoltaic industry for baking metal pastes to produce metallic interconnects at temperatures of up to 900 ° C or in doping chambers used in the photovoltaic industry can also be used at temperatures up to 900 ° C.
  • the use of the transport roller 1 according to the invention is not limited to these process chambers listed by way of example. It can, however, be used in any roller transport systems.
  • FIG. 2 shows a section of a transport roller 1 according to the invention in cross section.
  • This section comprises a substrate guide region 2 described above.
  • the substrate guide region 2 is delimited by two end regions 3, which in the illustrated embodiment consist of two sections 3a, 3b and have a diameter increasing toward the edge of the substrate guide region 2.
  • the support of a silicon substrate 8 is provided on the end regions 3 and especially on the section 3a.
  • the diameter of the transport roller 1 in the portion 3 a of the end portion 3 outward Shen towards in the form of a slope, the inclination angle 5 to the rotation axis R of the transport roller is 6 °.
  • the portion 3b of the end portion 3 has a larger slope, that is, a greater inclination angle to the rotation axis R.
  • the slope in the end region may increase in more than two stages or the end portion 3 may have a concave curvature.
  • the silicon substrate 8 rests only with its outer edges or edges on the transport roller 1 in the substrate guide region 2.
  • the mechanical strength of the silicon substrate 8 decreases and it is also possible for the silicon substrate 8 to bend and thus slightly increase the contact area.
  • a distance between the transport roller 1 and the silicon substrate 8 is ensured.
  • the distance between the silicon substrate 8 and the transport roller 4 avoids abrasion of the silicon substrate 8.
  • aluminum pastes on the side facing the transport roller 1 side of the silicon substrate 8 tend to wear because of their low temperature resistance. Silicon substrates 8 with aluminum pastes outside the end regions of the silicon substrate 8 can therefore be transported safely on the transport roller 1 according to the invention in the illustrated substrate guide region 2.
  • the transport roller 1 consists in the illustrated embodiment of a ceramic, while the silicon substrate 8 is made of silicon, which has a larger thermal expansion coefficient than the ceramic.
  • the substrate guide region 2 and the silicon substrate 8 are heated, therefore, the length of the silicon substrate 8 increases more than the length of the substrate guide region 2. Therefore, for a silicon substrate 156 mm wide, the substrate support width 6 is preferably 156.8 mm.
  • the aspect ratios of the transport roller 1 according to the invention are not to scale, but shown schematically for easy recognition.
  • undesired abrasion from the silicon substrates 8 can occur and the abrasion on the transport rollers 1 can adhere to it.
  • Such problems can be counteracted by a non-stick coating on the transport rollers 1 at least in the end region 3 and / or by roughening in this area.

Abstract

The invention relates to a conveying roller of a roller conveying system for conveying at least one planar silicon substrate through a temperature-controlled process chamber of a photovoltaic substrate processing system, in which the silicon substrate is processed as the silicon substrate passes the through the process chamber. The aim of the present invention is to present a conveying roller suitable for conveying silicon substrates in the photovoltaic industry, for which conveying roller the silicon substrates are safety conveyed in a desired conveying direction and abrasion of the silicon substrates due to friction on the conveying roller is avoided or reduced to an uncritical amount, and which conveying roller is suitable for use at high temperatures. The aim is achieved by a conveying roller of the mentioned type, wherein the conveying roller is profiled so as to form at least one substrate guiding region integrated with the conveying roller as a single piece, wherein the at least one substrate guiding region has lateral end regions, on which the silicon substrate rests and which have a larger diameter than the intermediate regions of the substrate guiding region lying between the end regions, so that contact of the resting side of the silicon substrate with the conveying roller in said intermediate region is prevented or minimized without the conveying roller having an interruption therefor.

Description

Transportrolle  transport roller
Die Erfindung betrifft eine Transportrolle eines Rollentransportsystems für den Transport von wenigstens einem flächigen Siliziumsubstrat durch eine temperierte Prozesskammer einer Photovoltaik-Substratbearbeitungsanlage, in welcher das Siliziumsubstrat während seines Durchlaufs durch die Prozesskammer bearbeitet wird. The invention relates to a transport roller of a roller transport system for the transport of at least one planar silicon substrate through a tempered process chamber of a photovoltaic substrate processing plant, in which the silicon substrate is processed during its passage through the process chamber.
Transportrollen dieser Gattung werden im Stand der Technik vielfältig eingesetzt. Dabei sind die Transportrollen üblicherweise Zylinder, auf deren Mantelfläche die Siliziumsubstrate aufliegen. Ein Nachteil solcher zylindrischer Transportrollen ist, dass die Siliziumsubstrate auf den Transportrollen relativ leicht in der Transportebene beweglich sind und daher mitunter Abweichungen von der gewünschten Transportrichtung auftreten. Ein weiterer Nachteil solcher zylindrischer Transportrollen ergibt sich bei dem Einsatz in Hochtemperaturöfen, wenn die Oberfläche der Transportrollen verschmutzt ist. Eine solche Verschmutzung kann beispielsweise durch den Abrieb von Metallpasten entstehen, mit welchen die in der Photovoltaik-Industrie verwendeten Siliziumsubstrate beschichtet sein können. Da die Mantelfläche von zylindrischen Transportrollen großflächig in Kontakt mit den darauf transportierten Siliziumsubstraten steht, kann eine Verschmutzung, beispielsweise eine Metallkontamination, auf die Siliziumsubstrate übertragen werden. Dadurch können die Siliziumsubstrate beschädigt werden. Transport rollers of this type are widely used in the prior art. The transport rollers are usually cylinders, on the lateral surface of which the silicon substrates rest. A disadvantage of such cylindrical transport rollers is that the silicon substrates on the transport rollers are relatively easy to move in the transport plane and therefore sometimes deviations from the desired transport direction occur. Another disadvantage of such cylindrical transport rollers arises when used in high-temperature furnaces, when the surface of the transport rollers is dirty. Such contamination can be caused, for example, by the abrasion of metal pastes with which the silicon substrates used in the photovoltaic industry can be coated. Since the lateral surface of cylindrical transport rollers is in large-area contact with the silicon substrates transported thereon, contamination, for example metal contamination, can be transmitted to the silicon substrates. This can damage the silicon substrates.
Aus der Druckschrift WO 2010/101702 sind auch Transportrollen bekannt, auf welche konisch geformte Übergangsrollen montiert sind. Die Übergangsrollen sind auf den Transportrollen durch den Einsatz von Lagern leicht drehbar. Es treten nur geringe Reibungskräfte auf. Die Übergangsrollen sorgen durch ihre konische Form für eine definierte Lage von Siliziumsubstraten auf den Transportrollen und ermöglichen dadurch eine sichere Übergabe von Siliziumsubstraten zwischen verschieden schnell laufenden Förderbändern. Die Transportrollen sind durch ihren komplizierten Aufbau teure Komponenten. Au ßerdem ist der Einsatz solcher Rollen durch die eingesetzten Lager bei höheren Temperaturen problematisch. From the document WO 2010/101702 also transport rollers are known, on which conically shaped transfer rollers are mounted. The transfer rollers are easily rotatable on the transport rollers through the use of bearings. There are only low frictional forces. Due to their conical shape, the transition rollers ensure a defined position of silicon substrates on the transport rollers and thus enable reliable transfer of silicon substrates between conveyor belts of different speeds. The transport rollers are due to their complicated structure expensive components. For putting in the use of such roles is problematic by the bearings used at higher temperatures.
1 Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine in der Photovoltaik-Industrie zum Transport von Siliziumsubstraten geeignete Transportrolle aufzuzeigen, bei der ein sicherer Transport der Siliziumsubstrate in einer gewünschten Transportrichtung erfolgt, bei der ein Abrieb von den Siliziumsubstraten durch Reibung an der Transportrolle vermieden bzw. auf ein unkritisches Maß reduziert wird und die für den Einsatz bei hohen Temperaturen geeignet ist. 1 It is therefore the object of the present invention to provide a transport roller suitable for transporting silicon substrates in the photovoltaic industry, in which a secure transport of the silicon substrates takes place in a desired transport direction in which abrasion of the silicon substrates by friction on the transport roller is avoided or avoided It is reduced to a non-critical level and is suitable for use at high temperatures.
Die Aufgabe wird durch eine Transportrolle der genannten Gattung gelöst, wobei die Transportrolle unter Ausbildung wenigstens eines einstückig mit der Transportrolle ausgebildeten Substratführungsbereiches profiliert ist, wobei der wenigstens eine Substratführungsbereich seitliche Endbereiche aufweist, auf welchen das Siliziumsubstrat aufliegt und welche einen größeren Durchmesser als die zwischen den Endbereichen liegenden Zwischenbereiche des Substratführungsbereiches aufweisen, sodass ein Kontakt der Auflageseite des Siliziumsubstrates mit der Transportrolle in diesem Zwischenbereich verhindert oder minimiert wird, ohne dass die Transportrolle hierfür eine Unterbrechung aufweist. The object is achieved by a transport roller of the aforementioned type, wherein the transport roller is profiled to form at least one substrate guide region formed integrally with the transport roller, the at least one substrate guide region having lateral end regions on which the silicon substrate rests and which have a larger diameter than that between the two Having lying end portions intermediate regions of the substrate guide region, so that contact of the support side of the silicon substrate with the transport roller is prevented or minimized in this intermediate region, without the transport roller has an interruption for this purpose.
Diese Transportrolle weist also für jedes Siliziumsubstrat, das auf ihr transportiert werden soll, einen Substratführungsbereich auf, auf dem der Transport der Siliziumsubstrate erfolgt. Die Transportrolle weist an den Rändern bzw. den Endbereichen dieses Substratführungsbereiches einen größeren Durchmesser auf als in der Mitte bzw. den Zwischenbereichen des Substratführungsbereiches. Dadurch wird erreicht, dass die Siliziumsubstrate nur mit ihren Rändern bzw. Kanten auf den Endbereichen der Substratführungsbereiche aufliegen und das Zentrum des Siliziumsubstrates durch den geringeren Durchmesser der Transportrolle im Zentrum des Substratführungsbereiches keinen Kontakt zur Transportrolle hat. Durch diese Substratführung wird ein sicherer Transport der Siliziumsubstrate erreicht, bei dem ein Verrutschen oder Verdrehen der Siliziumsubstrate vermieden wird. Der geringere Durchmesser im Zentrum bzw. in den Zwischenbereichen des Substratführungsbereiches dient der Vermeidung von Reibung zwischen Siliziumsubstrat und Transportrolle in diesem Bereich. Des Weiteren kann dieser Zwischenbereich zum Transport von Substratbruchstücken, die mit geringer Wahrscheinlichkeit auftreten, benutzt werden. In einer Weiterbildung der erfindungsgemäßen Transportrolle weist die Transportrolle wenigstens zwei, jeweils durch wenigstens einen Bereich mit vergrößertem Durchmesser getrennte Substratführungsbereiche zur Ausbildung von wenigstens zwei parallelen Substratführungsspuren des Rollentransportsystems durch die Prozesskammer auf. Durch das Vorsehen von wenigstens zwei Substratführungsbereichen nebeneinander können wenigstens zwei Siliziumsubstrate zeitgleich nebeneinander transportiert und bearbeitet werden. Bei einer höheren Anzahl von Substratführungsbereichen auf einer Transportrolle kann auf dieser Transportrolle entsprechend eine höhere Anzahl von Siliziumsubstraten nebeneinander transportiert und bearbeitet werden. Dabei ist die Anzahl und Größe der Substratführungsbereiche auf den Transportrollen an die verwendeten Siliziumsubstrate und an die zu verwendende Prozesskammer anpassbar. This transport roller thus has, for each silicon substrate to be transported on it, a substrate guide region on which the transport of the silicon substrates takes place. The transport roller has a larger diameter at the edges or the end regions of this substrate guide region than in the middle or the intermediate regions of the substrate guide region. It is thereby achieved that the silicon substrates rest only with their edges on the end regions of the substrate guide regions and the center of the silicon substrate has no contact with the transport roller due to the smaller diameter of the transport roller in the center of the substrate guide region. Through this substrate guide, a secure transport of the silicon substrates is achieved, in which slipping or twisting of the silicon substrates is avoided. The smaller diameter in the center or in the intermediate regions of the substrate guide region serves to avoid friction between the silicon substrate and the transport roller in this region. Furthermore, this intermediate region can be used to transport substrate fragments which are less likely to occur. In a development of the transport roller according to the invention, the transport roller has at least two substrate guide regions, each separated by at least one region of increased diameter, for forming at least two parallel substrate guide tracks of the roller transport system through the process chamber. By providing at least two substrate guide regions next to one another, at least two silicon substrates can be transported and processed simultaneously at the same time. With a higher number of substrate guide regions on a transport roller, a higher number of silicon substrates can accordingly be transported and processed side by side on this transport roller. The number and size of the substrate guide regions on the transport rollers can be adapted to the silicon substrates used and to the process chamber to be used.
In einer bevorzugten Ausbildung der erfindungsgemäßen Transportrolle weisen die seitlichen Endbereiche des wenigstens einen Substratführungsbereiches jeweils eine sich nach außen im Durchmesser vergrößernde Schräge oder konkave Wölbung auf. Die konkave Wölbung weist am Rand des Substratführungsbereiches eine stärkere Zunahme des Durchmessers auf als der innere Bereich der konkaven Wölbung. Hierdurch wird erreicht, dass eine Randlage der Siliziumsubstrate im Substratführungsbereich energetisch ungünstiger ist als eine zentrale Lage. Dadurch werden die Siliziumsubstrate von der Schwerkraft sanft in die zentrale Lage innerhalb des Substratführungsbereiches gezwungen. In a preferred embodiment of the transport roller according to the invention, the lateral end regions of the at least one substrate guide region each have an outwardly diameter-increasing slope or concave curvature. The concave curvature has a larger increase in diameter at the edge of the substrate guide area than the inner area of the concave curvature. This ensures that a peripheral position of the silicon substrates in the substrate guide region is energetically less favorable than a central position. As a result, the silicon substrates are forced by gravity gently into the central position within the Substratführungsbereiches.
In einer vorteilhaften Ausbildung der erfindungsgemäßen Transportrolle verläuft die Schräge in einem Neigungswinkel zwischen 3 ° und 45° zu der Rotationsachse der Transportrolle. Neigungswinkel unter 3° wurden experimentell als wirkungslos ermittelt und Neigungswinkel über 45 ° haben sich als zu große Belastung für die Ränder der Siliziumsubstrate erwiesen. In an advantageous embodiment of the transport roller according to the invention, the slope extends at an angle of inclination between 3 ° and 45 ° to the axis of rotation of the transport roller. Tilt angles below 3 ° have been found to be ineffective experimentally, and angles of tilt in excess of 45 ° have proven to be too great a burden on the edges of the silicon substrates.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Transportrolle verläuft die Schräge in einem Neigungswinkel von 6 ° zu der Rotationsachse der Transportrolle. Ein Neigungswinkel von 6 ° hat sich als optimaler Winkel für die Auflage der Siliziumsubstrate herausgestellt. Bei diesem Winkel erfolgt einerseits ein sicherer Substrattransport, andererseits wird keine Partikelentstehung beobachtet. In einer Weiterbildung der Erfindung weisen die seitlichen Endbereiche des wenigstens einen Substratführungsbereiches jeweils einen sich stufenförmig nach außen vergrößernden Durchmesser zur Auflage unterschiedlich breiter Siliziumsubstrate auf. In dieser Ausbildung kann die Transportrolle zum Transportieren unterschiedlich breiter Substrattypen eingesetzt werden. Dadurch können Umrüstarbeiten in einer Fertigungsumgebung mit zwei verschiedenen Substratgrößen vermieden werden. In a particularly preferred embodiment of the transport roller according to the invention, the slope runs at an angle of inclination of 6 ° to the axis of rotation of the transport roller. An inclination angle of 6 ° has proven to be the optimum angle for the support of the silicon substrates. On the one hand, a secure substrate transport takes place at this angle, on the other hand no particle formation is observed. In a further development of the invention, the lateral end regions of the at least one substrate guide region each have a diameter which increases in a stepwise outward direction for supporting silicon substrates of different widths. In this embodiment, the transport roller can be used for transporting different widths of substrate types. As a result, retooling in a manufacturing environment with two different substrate sizes can be avoided.
In einer einfachen Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Transportrolle weisen die jeweils zwischen den Endbereichen liegenden Zwischenbereiche des wenigstens einen Substratführungsbereiches einen konstanten Durchmesser auf. Der zwischen den Endbereichen eines Substratführungsbereiches liegende Zwischenbereich hat eine mechanische Funktion bei der Lagerung der Rollen. Des Weiteren dient dieser Zwischenbereich in dem Havariefall eines Substratbruches zum Transport der Substratbruchstücke. Bei einer Ausbildung dieses Zwischenbereiches mit einem konstanten Durchmesser als Zylinder ist die Herstellung der Transportrolle besonders einfach. In a simple embodiment of the transport roller according to the invention, the intermediate regions of the at least one substrate guide region lying between the end regions each have a constant diameter. The intermediate region lying between the end regions of a substrate guide region has a mechanical function in the storage of the rolls. Furthermore, this intermediate region serves in the event of a substrate fracture to transport the substrate fragments. In an embodiment of this intermediate region with a constant diameter as a cylinder, the production of the transport roller is particularly simple.
In einer Weiterbildung der erfindungsgemäßen Transportrolle weisen die jeweils zwischen den Endbereichen liegenden Zwischenbereiche des wenigstens einen Substratführungsbereiches einen sich zur Mitte des Substratführungsbereiches hin verringernden Durchmesser auf. Die Siliziumsubstrate werden auf der Transportrolle aufliegend in einer temperierten Prozesskammer bearbeitet. Die Bearbeitungsergebnisse der Siliziumsubstrate sind somit in aller Regel temperaturabhängig. Bei der Einstellung der Temperatur der Siliziumsubstrate treten verschiedene Effekte auf. An der Auflage der Siliziumsubstrate liegt ein niedrigerer Wärmeübergangswiderstand vor als im Zentrum bzw. in der Mitte des Substratführungsbereiches, wo die Siliziumsubstrate hohl aufliegen und wo der Wärmeübergangswiderstand mit dem Abstand zwischen Siliziumsubstrat und Transportrolle zunimmt. Des Weiteren findet während der Prozesssierung ein Energieeintrag auf Siliziumsubstrate und Transportrollen beispielsweise durch Heizlampen oder durch Plasmen auf. Das Prozessierungsergebnis auf den Siliziumsubstraten ist dann von dem Ort auf dem Siliziumsubstrat und vom zeitlichen Temperaturverlauf an diesem Ort abhängig. Durch den verringerten Durchmesser der Mitte des Substratführungsbereiches kann die Homogenität des Prozessierungsergebnisses, beispielsweise einer abgeschiedenen Schichtdicke, optimiert werden. Auf diese Weise wird dann beispielsweise eine gleiche abgeschiedene Schichtdicke im Substratzentrum und am Substratrand, an dem das Siliziumsubstrat aufliegt, erreichbar. In a further development of the transport roller according to the invention, the intermediate regions of the at least one substrate guide region lying between the end regions each have a diameter which decreases towards the center of the substrate guide region. The silicon substrates are processed on the transport roller lying in a tempered process chamber. The processing results of the silicon substrates are thus usually temperature-dependent. When adjusting the temperature of the silicon substrates, various effects occur. At the support of the silicon substrates there is a lower heat transfer resistance than in the center or in the middle of the substrate guide region, where the silicon substrates are hollow and where the heat transfer resistance increases with the distance between the silicon substrate and the transport roller. Furthermore, an energy input on silicon substrates and transport rollers, for example by heating lamps or by plasmas, occurs during the processing. The processing result on the silicon substrates is then dependent on the location on the silicon substrate and on the temporal temperature profile at this location. Due to the reduced diameter of the center of the substrate guide region, the homogeneity of the processing result, for example a deposited layer thickness, can be optimized. In this way, then, for example, a same deposited Layer thickness in the substrate center and the substrate edge on which the silicon substrate rests reachable.
In einem vorteilhaften Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Transportrolle ist das Siliziumsubstrat ein 156 mm-Siliziumsubstrat und die Transportrolle weist eine maximale Substratauflagebreite von 156,4 mm bis 157,2 mm auf. Bei einer bevorzugten Ausbildung dieser Transportrolle beträgt die maximale Substratauflage 156,8 mm. In an advantageous embodiment of the transport roller according to the invention, the silicon substrate is a 156 mm silicon substrate and the transport roller has a maximum substrate support width of 156.4 mm to 157.2 mm. In a preferred embodiment of this transport roller, the maximum substrate support is 156.8 mm.
In einer weiteren Variante der Erfindung ist die Transportrolle zumindest in dem temperierten Bereich der Prozesskammer aus Keramik ausgebildet. Keramiken sind formstabile und dauerhafte Werkstoffe, die zur Ausbildung der Transportrolle gut geeignet sind. In a further variant of the invention, the transport roller is formed of ceramic at least in the tempered region of the process chamber. Ceramics are dimensionally stable and durable materials that are well suited to the formation of the transport roller.
In einer bevorzugten Ausbildung der Erfindung ist die Transportrolle aus einem wenigstens bis 300 °C hitzebeständigen Material ausgebildet. Viele temperierte Prozesskammern weisen Temperaturen über 300 °C auf und benötigen entsprechend hitzebeständige Transportrollen. Deshalb werden die Transportrollen bevorzugt aus dem vorgeschlagenen hitzebeständigen Material ausgebildet, wobei sie dann beliebig bei hohen oder niedrigen Temperaturen eingesetzt werden können. In a preferred embodiment of the invention, the transport roller is formed of a heat-resistant material of at least 300 ° C. Many tempered process chambers have temperatures above 300 ° C and require correspondingly heat-resistant transport rollers. Therefore, the transport rollers are preferably formed of the proposed refractory material, and then they can be arbitrarily used at high or low temperatures.
In einem vorteilhaften Beispiel der Erfindung ist die Transportrolle wenigstens in dem Abschnitt der Transportrolle, der in der temperierten Prozesskammer vorgesehen ist, aus einem metallkontaminationsfreien Material ausgebildet. Insbesondere bei hohen Temperaturen ist der Effekt der Metalldiffusion beobachtbar, das hei ßt, dass Metallatome von einem Ort zu einem anderen Ort wandern. Bei Verwendung von Transportrollen aus Metall könnten beispielsweise Metallatome über die Auflagen der Siliziumsubstrate in die Siliziumsubstrate diffundieren, wobei die Metallatome in den Siliziumsubstraten Schäden, beispielsweise Änderungen der elektronischen Eigenschaften, hervorrufen könnten. Als Quelle für eine Metalldiffusion kommen nicht nur metallische Transportrollen in Frage, sondern auch Materialien, in denen Metalle nur als Teilbestandteile oder gar als Spuren vorliegen. Vorzugsweise werden daher Materialien eingesetzt, von denen keine Metallatomdiffusion ausgeht. In an advantageous example of the invention, the transport roller is formed of a metal contamination-free material at least in the section of the transport roller which is provided in the tempered process chamber. Especially at high temperatures, the effect of metal diffusion is observable, that is, metal atoms migrate from one place to another. For example, using metal transport rollers, metal atoms could diffuse across the supports of the silicon substrates into the silicon substrates, and the metal atoms in the silicon substrates could cause damage, such as changes in electronic properties. As a source of metal diffusion not only metallic transport rollers come into question, but also materials in which metals are present only as partial components or even as traces. Preferably, therefore, materials are used which do not emanate metal atom diffusion.
In einer günstigen Weiterbildung der erfindungsgemäßen Transportrolle weisen die seitlichen Endbereiche des wenigstens einen Substratführungsbereiches eine Antihaftbeschichtung und/oder eine Aufrauhung auf. Durch eine Antihaftbeschichtung und/oder durch Aufrauhung wird das Anhaften von Partikeln an den Transportrollen vermieden bzw. stark verringert, womit die Wahrscheinlichkeit des Auftretens von Partikeln auf den Siliziumsubstraten mit der Ursache im Rollentransportsystem reduziert wird. Diese Option ist beispielsweise dann von Interesse, wenn die Siliziumsubstrate im Auflagebereich eine nicht abreibbare Beschichtung aufweisen. In a favorable development of the transport roller according to the invention, the lateral end regions of the at least one substrate guide region have a Non-stick coating and / or a roughening on. By a non-stick coating and / or by roughening the adhesion of particles to the transport rollers is avoided or greatly reduced, whereby the probability of the occurrence of particles on the silicon substrates with the cause in the roller transport system is reduced. This option is of interest, for example, if the silicon substrates have a non-abradable coating in the support area.
In einer bevorzugten Ausbildung der Erfindung weist die Transportrolle einen Mindestdurchmesser von 22 mm auf. Bei diesem Durchmesser weist die Transportrolle eine ausreichende mechanische Stabilität auf. In a preferred embodiment of the invention, the transport roller has a minimum diameter of 22 mm. At this diameter, the transport roller has sufficient mechanical stability.
Bevorzugte Ausgestaltungen der vorliegenden Erfindung sollen im Folgenden anhand von Figuren näher erläutert werden, wobei Preferred embodiments of the present invention will be explained in more detail below with reference to figures, wherein
Figur 1 schematisch eine Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Figure 1 schematically an embodiment of an inventive
Transportrolle in einer perspektivischen Ansicht zeigt; und  Transport role in a perspective view shows; and
Figur 2 schematisch einen Ausschnitt aus einer weiteren Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Transportrolle im Querschnitt zeigt. Figure 2 schematically shows a section of a further embodiment of a transport roller according to the invention in cross section.
Figur 1 zeigt schematisch ein Beispiel einer erfindungsgemäßen Transportrolle 1 in einer perspektivischen Ansicht. Die Transportrolle 1 ist eine profilierte bzw. strukturierte Transportrolle, die Bereiche mit unterschiedlichen Durchmessern, aber keine Unterbrechung aufweist. Die gezeigte Transportrolle 1 weist einen Substratführungsbereich 2 auf. In anderen, nicht dargestellten Ausbildungen kann die erfindungsgemäße Transportrolle 1 auch zwei oder mehr Substratführungsbereiche 2 aufweisen. Der Substratführungsbereich 2 weist zwei seitliche Endbereiche 3 auf, die einen größeren Durchmesser als der zwischen den Endbereichen 3 liegende Zwischenbereich 4 aufweisen. Auf den Endbereichen 3 ist die Auflage eines Siliziumsubstrates 8, wie in Figur 2 gezeigt, vorgesehen. Zwischen der Transportrollenmantelfläche in dem Zwischenbereich 4 und dem Siliziumsubstrat 8 ist hingegen ein Abstand vorgesehen. Die Transportrolle 1 kann au ßer dem Substratführungsbereich 2 noch weitere Elemente, wie beispielsweise Lager, aufweisen. Die dargestellte Transportrolle 1 ist aus einer Keramik ausgebildet und weist eine Temperaturbeständigkeit über 300 °C auf. Die gezeigte Transportrolle 1 ist in verschiedenen Prozesskammern, beispielsweise in einer in der Photovoltaik-Industrie eingesetzten Prozesskammer für eine PECVD-Si3N -Beschichtung bei 400 °C, in einer in der Photovoltaik-Industrie verwendeten Prozesskammer zum Einbrennen von Metallpasten zur Erzeugung metallischer Leitbahnen bei bis zu 900°C oder auch in in der Photovoltaik-Industrie verwendeten Dotierkammern ebenfalls bei Temperaturen bis zu 900 °C einsetzbar. Der Einsatz der erfindungsgemäßen Transportrolle 1 ist aber nicht auf diese beispielhaft aufgeführten Prozesskammern beschränkt. Sie kann hingegen in beliebigen Rollentransportsystemen zum Einsatz kommen. FIG. 1 schematically shows an example of a transport roller 1 according to the invention in a perspective view. The transport roller 1 is a profiled transport roller having regions of different diameters but no interruption. The transport roller 1 shown has a substrate guide region 2. In other embodiments, not shown, the transport roller 1 according to the invention can also have two or more substrate guide regions 2. The substrate guide region 2 has two lateral end regions 3, which have a larger diameter than the intermediate region 4 located between the end regions 3. On the end regions 3, the support of a silicon substrate 8, as shown in Figure 2, is provided. In contrast, a distance is provided between the transport roller lateral surface in the intermediate region 4 and the silicon substrate 8. The transport roller 1 can au ßer the Substratführungsbereich 2 even more elements, such as bearings, have. The illustrated transport roller 1 is formed of a ceramic and has a temperature resistance above 300 ° C. The transport roller 1 shown is in various process chambers, for example in a used in the photovoltaic industry process chamber for a PECVD Si 3 N coating at 400 ° C, in a process chamber used in the photovoltaic industry for baking metal pastes to produce metallic interconnects at temperatures of up to 900 ° C or in doping chambers used in the photovoltaic industry can also be used at temperatures up to 900 ° C. However, the use of the transport roller 1 according to the invention is not limited to these process chambers listed by way of example. It can, however, be used in any roller transport systems.
In Figur 2 ist ein Ausschnitt aus einer erfindungsgemäßen Transportrolle 1 im Querschnitt dargestellt. Dieser Ausschnitt umfasst einen oben beschriebenen Substratführungsbereich 2. Der Substratführungsbereich 2 wird von zwei Endbereichen 3 begrenzt, die in dem dargestellten Ausführungsbeispiel aus zwei Abschnitten 3a, 3b bestehen und einen zum Rand des Substratführungsbereiches 2 zunehmenden Durchmesser aufweisen. Auf den Endbereichen 3 und speziell auf dem Abschnitt 3a ist die Auflage eines Siliziumsubstrates 8 vorgesehen. FIG. 2 shows a section of a transport roller 1 according to the invention in cross section. This section comprises a substrate guide region 2 described above. The substrate guide region 2 is delimited by two end regions 3, which in the illustrated embodiment consist of two sections 3a, 3b and have a diameter increasing toward the edge of the substrate guide region 2. On the end regions 3 and especially on the section 3a, the support of a silicon substrate 8 is provided.
In dem in Figur 2 dargestellten Ausführungsbeispiel nimmt der Durchmesser der Transportrolle 1 in dem Abschnitt 3a des Endbereiches 3 nach au ßen hin in Form einer Schräge zu, deren Neigungswinkel 5 zu der Rotationsachse R der Transportrolle 6° beträgt. Der Abschnitt 3b des Endbereiches 3 weist eine größere Schräge, das hei ßt einen größeren Neigungswinkel zur Rotationsachse R auf. In anderen, nicht dargestellten Ausbildungen von erfindungsgemäßen Transportrollen 1 kann auch die Schräge in dem Endbereich in mehr als zwei Stufen zunehmen oder der Endbereich 3 kann eine konkave Wölbung aufweisen. Das Siliziumsubstrat 8 liegt nur mit seinen Au ßenkanten bzw. Rändern auf der Transportrolle 1 in dem Substratführungsbereich 2 auf. Je nach Temperatur lässt die mechanische Festigkeit des Siliziumsubstrates 8 nach und es ist auch möglich, dass sich das Siliziumsubstrat 8 durchbiegt und sich der Auflagebereich dadurch etwas vergrößert. In dem Zwischenbereich 4 zwischen den Endbereichen 3 ist aber ein Abstand zwischen der Transportrolle 1 und dem Siliziumsubstrat 8 gewährleistet. Durch den Abstand zwischen Siliziumsubstrat 8 und Transportrolle 4 wird ein Abrieb von dem Siliziumsubstrat 8 vermieden. Beispielsweise neigen Aluminiumpasten auf der der Transportrolle 1 zugewandten Seite des Siliziumsubstrates 8 wegen ihrer geringen Temperaturbeständigkeit zum Abrieb. Siliziumsubstrate 8 mit Aluminiumpasten au ßerhalb der Endbereiche des Siliziumsubstrates 8 können daher auf der erfindungsgemäßen Transportrolle 1 in dem dargestellten Substratführungsbereich 2 sicher transportiert werden. In the embodiment shown in Figure 2, the diameter of the transport roller 1 in the portion 3 a of the end portion 3 outward Shen towards in the form of a slope, the inclination angle 5 to the rotation axis R of the transport roller is 6 °. The portion 3b of the end portion 3 has a larger slope, that is, a greater inclination angle to the rotation axis R. In other, not shown embodiments of transport rollers 1 according to the invention, the slope in the end region may increase in more than two stages or the end portion 3 may have a concave curvature. The silicon substrate 8 rests only with its outer edges or edges on the transport roller 1 in the substrate guide region 2. Depending on the temperature, the mechanical strength of the silicon substrate 8 decreases and it is also possible for the silicon substrate 8 to bend and thus slightly increase the contact area. In the intermediate region 4 between the end regions 3, however, a distance between the transport roller 1 and the silicon substrate 8 is ensured. The distance between the silicon substrate 8 and the transport roller 4 avoids abrasion of the silicon substrate 8. For example, aluminum pastes on the side facing the transport roller 1 side of the silicon substrate 8 tend to wear because of their low temperature resistance. Silicon substrates 8 with aluminum pastes outside the end regions of the silicon substrate 8 can therefore be transported safely on the transport roller 1 according to the invention in the illustrated substrate guide region 2.
Die Transportrolle 1 besteht in dem dargestellten Ausführungsbeispiel aus einer Keramik, während das Siliziumsubstrat 8 aus Silizium besteht, welches einen größeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten als die Keramik aufweist. Bei einer Erwärmung von Substratführungsbereich 2 und Siliziumsubstrat 8 nimmt daher die Länge des Siliziumsubstrates 8 stärker zu als die Länge des Substratführungsbereiches 2. Für ein Siliziumsubstrat mit 156 mm Breite beträgt daher die Substratauflagebreite 6 vorzugsweise 156,8 mm. The transport roller 1 consists in the illustrated embodiment of a ceramic, while the silicon substrate 8 is made of silicon, which has a larger thermal expansion coefficient than the ceramic. When the substrate guide region 2 and the silicon substrate 8 are heated, therefore, the length of the silicon substrate 8 increases more than the length of the substrate guide region 2. Therefore, for a silicon substrate 156 mm wide, the substrate support width 6 is preferably 156.8 mm.
In Figur 2 sind die Längenverhältnisse der erfindungsgemäßen Transportrolle 1 nicht maßstäblich, sondern schematisch zur guten Erkennbarkeit dargestellt. Je nach verwendeten Siliziumsubstraten 8 und vorhandener Beschichtung im Auflagebereich der Siliziumsubstrate 8 auf den Endbereichen 3 kann ein unerwünschter Abrieb von den Siliziumsubstraten 8 auftreten, und es kann zu einem Anhaften des Abriebs an den Transportrollen 1 kommen. Derartigen Problemen kann durch eine Antihaftbeschichtung auf den Transportrollen 1 wenigstens im Endbereich 3 und/oder durch Aufrauhungen in diesem Bereich entgegengewirkt werden. In Figure 2, the aspect ratios of the transport roller 1 according to the invention are not to scale, but shown schematically for easy recognition. Depending on the silicon substrates 8 used and the coating present in the support region of the silicon substrates 8 on the end regions 3, undesired abrasion from the silicon substrates 8 can occur and the abrasion on the transport rollers 1 can adhere to it. Such problems can be counteracted by a non-stick coating on the transport rollers 1 at least in the end region 3 and / or by roughening in this area.

Claims

Patentansprüche claims
1 . Transportrolle (1 ) eines Rollentransportsystems für den Transport von wenigstens einem flächigen Siliziumsubstrat (8) durch eine temperierte Prozesskammer einer Photovoltaik-Substratbearbeitungsanlage, in welcher das Siliziumsubstrat (8) während seines Durchlaufs durch die Prozesskammer bearbeitet wird, 1 . Transport roller (1) of a roller transport system for the transport of at least one planar silicon substrate (8) through a tempered process chamber of a photovoltaic substrate processing plant, in which the silicon substrate (8) is processed during its passage through the process chamber,
dadurch gekennzeichnet,  characterized,
dass die Transportrolle (1 ) unter Ausbildung wenigstens eines einstückig mit der Transportrolle (1 ) ausgebildeten Substratführungsbereiches (2) profiliert ist, wobei der wenigstens eine Substratführungsbereich (2) seitliche Endbereiche (3) aufweist, auf welchen das Siliziumsubstrat (8) aufliegt und welche einen größeren Durchmesser als die zwischen den Endbereichen (3) liegenden Zwischenbereiche (4) des Substratführungsbereiches (2) aufweisen, sodass ein Kontakt der Auflageseite des Siliziumsubstrates (8) mit der Transportrolle (1 ) in diesen Zwischenbereichen (4) verhindert oder minimiert wird, ohne dass die Transportrolle (1 ) hierfür eine Unterbrechung aufweist.  in that the transport roller (1) is profiled to form at least one substrate guide region (2) formed integrally with the transport roller (1), the at least one substrate guide region (2) having lateral end regions (3) on which the silicon substrate (8) rests and which a larger diameter than the between the end regions (3) lying intermediate regions (4) of the substrate guide region (2), so that contact of the support side of the silicon substrate (8) with the transport roller (1) in these intermediate regions (4) is prevented or minimized, without the transport roller (1) having an interruption for this purpose.
2. Transportrolle nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die Transportrolle (1 ) wenigstens zwei, jeweils durch wenigstens einen Bereich mit vergrößertem Durchmesser getrennte Substratführungsbereiche (2) zur Ausbildung von wenigstens zwei parallelen Substratführungsspuren des Rollentransportsystems durch die Prozesskammer aufweist. 2. Transport roller according to claim 1, characterized in that the transport roller (1) at least two, each separated by at least one region of enlarged diameter substrate guide regions (2) for forming at least two parallel substrate guide tracks of the roller transport system through the process chamber.
3. Transportrolle nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die seitlichen Endbereiche (3) des wenigstens einen Substratführungsbereiches (2) jeweils eine sich nach außen im Durchmesser vergrößernde Schräge oder konkave Wölbung aufweisen. 3. Transport roller according to claim 1 or 2, characterized in that the lateral end regions (3) of the at least one substrate guide region (2) each have an outwardly diameter-increasing bevel or concave curvature.
4. Transportrolle nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Schräge in einem Neigungswinkel (5) zwischen 3° und 45 ° zu der Rotationsachse der Transportrolle (1 ) verläuft. 4. Transport roller according to claim 3, characterized in that the slope in an inclination angle (5) between 3 ° and 45 ° to the axis of rotation of the transport roller (1).
5. Transportrolle nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schräge in einem Neigungswinkel (5) von 6° zu der Rotationsachse der Transportrolle (1 ) verläuft. 5. Transport roller according to claim 4, characterized in that the slope in an inclination angle (5) of 6 ° to the axis of rotation of the transport roller (1).
6. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die seitlichen Endbereiche (3) des wenigstens einen Substratführungsbereiches (2) jeweils einen sich stufenförmig nach außen vergrößernden Durchmesser zur Auflage unterschiedlich breiter Siliziumsubstrate (8) aufweisen. 6. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that the lateral end regions (3) of the at least one substrate guide region (2) each have a stepwise outwardly increasing diameter for supporting different width silicon substrates (8).
7. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die jeweils zwischen den Endbereichen (3) liegenden Zwischenbereiche (4) des wenigstens einen Substratführungsbereiches (2) einen konstanten Durchmesser aufweisen. 7. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that each between the end regions (3) lying intermediate regions (4) of the at least one substrate guide region (2) have a constant diameter.
8. Transportrolle nach wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die jeweils zwischen den Endbereichen (3) liegenden Zwischenbereiche (4) des wenigstens einen Substratführungsbereiches (2) einen sich zur Mitte des Substratführungsbereiches (2) hin verringernden Durchmesser aufweisen. 8. Transport roller according to at least one of claims 1 to 6, characterized in that each between the end regions (3) lying intermediate regions (4) of the at least one substrate guide region (2) to the center of the substrate guide region (2) towards reducing diameter.
9. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Siliziumsubstrat (8) ein 156 mm-Siliziumsubstrat ist und die Transportrolle (1 ) eine maximale Substratauflagebreite (6) von 156,4 mm bis 157,2 mm aufweist. 9. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that the silicon substrate (8) is a 156 mm silicon substrate and the transport roller (1) has a maximum substrate support width (6) of 156.4 mm to 157.2 mm.
10. Transportrolle nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die maximale Substratauflagebreite (6) 156,8 mm beträgt. 10. Transport roller according to claim 9, characterized in that the maximum substrate support width (6) is 156.8 mm.
1 1 . Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportrolle (1 ) zumindest in dem temperierten Bereich der Prozesskammer aus Keramik ausgebildet ist. 1 1. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that the transport roller (1) is formed at least in the tempered region of the process chamber made of ceramic.
12. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportolle (1 ) aus einem wenigstens bis 300 °C hitzebeständigen Material ausgebildet ist. 12. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that the transport roller (1) is formed from a heat-resistant material to at least 300 ° C.
13. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportrolle (1 ) wenigstens in dem Abschnitt der Transportrolle (1 ), der in der temperierten Prozesskammer vorgesehen ist, aus einem metallkontaminationsfreien Material ausgebildet ist. 13. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that the transport roller (1) is formed at least in the portion of the transport roller (1), which is provided in the tempered process chamber, from a metallkontaminationsfreien material.
14. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest die seitlichen Endbereiche (3) des wenigstens einen Substratführungsbereiches (2) eine Antihaftbeschichtung und/oder eine Aufrauhung aufweisen. 14. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that at least the lateral end regions (3) of the at least one substrate guide region (2) have a non-stick coating and / or a roughening.
15. Transportrolle nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportrolle (1 ) einen Mindestdurchmesser von 22 mm aufweist. 15. Transport roller according to at least one of the preceding claims, characterized in that the transport roller (1) has a minimum diameter of 22 mm.
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