WO2012033376A2 - Electrophoretic display device, image sheet, and method for producing the device and the image sheet - Google Patents

Electrophoretic display device, image sheet, and method for producing the device and the image sheet Download PDF

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WO2012033376A2
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display device
viscosity
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조영태
정민영
이창빈
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김철환
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Definitions

  • the present invention relates to display technology, and more particularly, to an electrophoretic display, an image sheet, and a manufacturing method thereof.
  • an electrophoretic display device uses a phenomenon in which charged particles move by an electric field applied between two electrodes.
  • Electrophoretic display devices are common in that they are voltage driven as compared to liquid crystal display devices, but have large differences in terms of manufacturing processes.
  • a liquid crystal injection process is performed in a space between the upper substrate and the lower substrate while the upper substrate and the lower substrate on which the driving element is formed are previously bonded.
  • electrophoretic display device there is a big difference from the liquid crystal display device in that electrophoretic particles are injected before bonding the upper substrate and the lower substrate.
  • the electrophoretic display device in order to manufacture the electrophoretic display device, it is difficult to maintain the airtightness of the pixels themselves as well as the airtightness between the pixels because the upper substrate and the lower substrate must be combined with the electrophoretic particles in the pixel structure.
  • the particles may flow between adjacent pixels during the inter-substrate bonding process, but also particles may flow between adjacent pixels even after the bonding process. Due to the failure of the flow and airtightness of the particles between the pixels, the lifespan and display quality of the electrophoretic display device may be rapidly deteriorated.
  • the technical problem to be achieved by the present invention is to prevent the flow of electrophoretic particles between pixels or sub-pixels in the bonding process between the substrates and the sub-pixels, while maintaining the faithful mechanical strength of the bonding between the upper substrate and the lower substrate can maintain a solid airtight It is to provide an electrophoretic display device.
  • Another technical problem to be solved by the present invention is to provide an image sheet having the aforementioned advantages.
  • Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electrophoretic display device having the above-described advantages.
  • Another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a method for producing an image sheet having the advantages described above.
  • An electrophoretic display device for solving the above technical problem, a plurality of separation members disposed between the opposing substrate; A plurality of electrophoretic particles filled in cavities defined by the plurality of separating members; And a cover layer disposed between the cavities and any one of the substrates to maintain mechanical bonding of the substrates while ensuring airtightness of the cavities, wherein the cover layer has a pencil hardness of 5B to 7H. It includes a binder layer cured to have a.
  • the image sheet according to an embodiment of the present invention for solving the other technical problem, a plurality of separation members disposed between the support substrate facing each other; A plurality of electrophoretic particles filled in cavities defined by the plurality of separating members; And a cover layer disposed between the cavities and a support substrate of any one of the support substrates to maintain mechanical bonding of the substrates while ensuring airtightness of the cavities, wherein the cover layer has a pencil hardness of 5B to 7H. It includes a binder layer cured to have a.
  • a method of manufacturing an electrophoretic display device including: forming a plurality of separation members having sidewalls on a first substrate; Filling a plurality of electrophoretic particles into grooves defined by the plurality of separating members; Forming a cover layer on the second substrate; Bonding the second substrate to the first substrate such that the cover layer adheres to the upper surfaces of the separation members; And curing the cover layer.
  • Coupling the second substrate to the first substrate may be performed when the cover layer has a viscosity of between 1 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.5 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s.
  • bonding the second substrate to the first substrate may be performed when the viscosity of the capping layer has a viscosity between 1.5 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.0 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s. have.
  • Viscosity control of the capping layer increases the viscosity by cooling, solvent evaporation in the capping layer composition, light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof, heating, solvent application, or a combination thereof. By reducing the viscosity.
  • the cover layer may be cured to have a pencil hardness of 5B to 7H.
  • Curing the cover layer may include: cooling; Solvent evaporation; Light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof.
  • the manufacturing method of the image sheet according to an embodiment of the present invention for achieving the another technical problem forming a plurality of separating members each having a side wall on the first support substrate; Filling a plurality of electrophoretic particles into grooves defined by the plurality of separating members; Forming a cover layer on the second support substrate; Coupling the second support substrate to the first support substrate such that the cover layer adheres to the top surfaces of the separation members; And curing the cover layer.
  • Coupling the second support substrate to the first support substrate may be performed when the cover layer has a viscosity between 1 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.5 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s.
  • the step of coupling the second support substrate to the first support substrate may be performed when the cover layer has a viscosity between 1.5 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.0 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s.
  • Viscosity control of the capping layer increases the viscosity by cooling, solvent evaporation in the capping layer composition, light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof, heating, solvent application, or a combination thereof. By reducing the viscosity.
  • the cover layer may be cured to have a pencil hardness of 5B to 7H.
  • Curing the lid layer may include cooling; Solvent evaporation; Light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof.
  • the cover layer is formed on the substrate first to perform the bonding process between the substrate not only to maintain the tightness of the cavity, but also the bonding process between the substrate And airtight process can be achieved simultaneously. Further, when the cover layer has a viscosity between 1 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.5 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s, the second substrate is bonded to the first substrate so as to be in close contact with the upper surface of the partition wall.
  • the bonding of the first substrate and the second substrate maintains the faithful mechanical strength
  • the flow of electrophoretic particles between pixels or sub-pixels in the bonding process between the substrates can be prevented and faithful airtightness can be maintained to ensure lifespan and display device.
  • the display quality deterioration can be reduced or prevented.
  • the electrophoretic display device and the image sheet according to the embodiments of the present invention maintains excellent airtight between the cavities, even in the manufacturing method of the image sheet, when the cover layer has a viscosity of the family range, the bonding process between the substrates This can be done to obtain the advantages described above.
  • FIGS. 1A to 1F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention in a process sequence.
  • FIGS. 2A to 2F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an image sheet according to an embodiment of the present invention in a process sequence.
  • first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, and / or parts, these members, parts, regions, and / or parts should not be limited by these terms. Is self-explanatory. These terms are only used to distinguish one member, part, region or part from another region or part. Thus, the first member, part, region, or portion, which will be described below, may refer to the second member, component, region, or portion without departing from the teachings of the present invention.
  • Electrophoretic display device and manufacturing method thereof are Electrophoretic display device and manufacturing method thereof
  • FIGS. 1A to 1F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an electrophoretic display apparatus 100 according to an embodiment of the present invention in a process sequence.
  • a first substrate 10 (which may be a lower substrate in this figure) is provided.
  • the lower substrate 10 may be, for example, a cellulose resin, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, polycarbonate (PC), poly It may be a resin substrate having flexibility such as terry sulfone (PES), polyether ether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), or polyimide (PI).
  • the lower substrate 10 may be transparent. However, when no image is displayed on the lower substrate 10, the lower substrate 10 may not be transparent.
  • the lower substrate 10 may be made of a crystalline semiconductor substrate such as glass or a silicon wafer.
  • the lower substrate 10 includes an active matrix layer AM that is a driving member.
  • the active matrix layer AM includes data lines (not shown) and gate lines (not shown) including a plurality of rows ⁇ a plurality of columns, and a plurality of MOS transistors 50 disposed in an area where the lines cross each other. It may include.
  • the MOS transistors 50 include a gate electrode 50G, a gate insulating film 50I, a semiconductor layer 50A, an ohmic contact layer 50C, a source electrode 50S, and a drain electrode 50D.
  • the MOS transistor 50 shown in FIG. 1A has an inverted-staggered electrode structure in which the gate electrode 50G is disposed on the lower substrate 10 side, but the MOS thin film transistor 50 has a different structure. For example, it may have a well-known staggered structure.
  • the MOS thin film transistors 50 and the surfaces of the data and gate lines may be electrically insulated by the passivation film 60.
  • the active matrix layer AM is disclosed as a driving member in FIG. 1A, this is exemplary, and the electrophoretic display device of the present invention has a passive matrix wiring structure for dynamic driving on the lower substrate 10, or It should be understood that it may have a segmented wiring structure for static driving.
  • a planarization layer 65 may be further formed on the passivation layer 60.
  • the planarization layer 65 can be obtained by depositing a film having excellent flatness by plasma chemical vapor deposition.
  • the planarization layer 65 may be provided by forming an insulating film to be the planarization layer 65 and performing a chemical mechanical polishing process on the insulating film. Thereafter, a conductive layer is formed on the passivation film 60 or the planarization layer 65 and patterned to form individual electrodes 42 each connected to the drain electrode 50D of the MOS thin film transistors.
  • the individual electrodes 42 may be transparent electrodes.
  • the transparent electrode may include, for example, Indium-Tin-Oxide (ITO), Fluorinated Tin Oxide (FTO), Indium Oxide (IO), and Tin Oxide; It may be formed of any one or a combination of a transparent metal oxide such as SnO 2 ), a transparent conductive resin such as polyacetylene, or a conductive resin containing conductive metal fine particles.
  • an insulating protective film (not shown) may be further formed on the individual electrodes 42.
  • partition walls 30, which are separation members, are formed on the lower substrate 10 on which the passivation layer 60 or the planarization layer 65 is formed.
  • the partitions 30 are formed between the individual electrodes 42, and preferably may be formed on the data lines and the gate lines between the individual electrodes 42.
  • the partition walls 30 are provided with sidewalls of the cavity, which will be described later, which will be a pixel or subpixel to which electrophoretic particles are filled.
  • the grooves RA are defined on the lower substrate 10 by sidewalls of the partition walls 30 and a part of the surface of the lower substrate 10.
  • the partitions 30 may be formed through, for example, lamination and photolithography processes using a dry film photoresist layer.
  • the present invention is not limited thereto, and the partition walls 30 may be formed of various curable properties such as polyethylene, polystyrene, polycarbonate, epoxy resin, silicone resin, melamine resin, acrylic resin, and phenol resin. It may be patterned through an embossing process using a silkscreen or a mold using a polymer material.
  • the partitions 30 form a film made of an insulating inorganic material such as silicon oxide, a metal material coated with an insulating material, or a composition in which two or more of the above materials are mixed, and the dry or wet etching process is performed. It may be formed through.
  • the barrier rib structure having a layer structure having an opening pattern may be arranged on the lower substrate 10 and then attached to the lower substrate 10.
  • the partitions 30 may also be formed by screen printing, drill bits, imprints, softlithography, laser drilling processes, or inkjet printing processes.
  • the electrophoretic particles 72 are filled in the grooves RA.
  • the dielectric solution 71 may be filled with the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, and 72K.
  • the dielectric solution 71 is a fluid having high resistance and low viscosity, and may be a single or a mixture of two or more fluids.
  • specific gravity of dielectric fluid 71 may be made to be substantially equal to specific gravity of electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K.
  • the dielectric fluid 71 may include charge-controlling agents, cationic or anionic surfactants, metal soaps, resin materials, metal-based coupling agents, and Various functional materials can be added, such as stabilizing agents.
  • the dielectric fluid 71 may be colored with transparent or dispersed dyes and / or pigments.
  • the dielectric fluid 71 may have a light absorbing color, for example, to block visible particles 72R, 72G, 72B, 72K that should not move toward the lower substrate 10 when actually driven. It may be colored gray or black.
  • the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K filled in the grooves RA are a single type of particles with uniform color and electrophoretic mobility, or, as shown, color and electrophoretic mobility. May include two or more different types of particles 72R, 72G, 72B; 72K. In addition, different types of particles may be dispersed in each of the grooves RA. For example, some of the particles 72R, 72G, 72B may be colored particles having red, green, and blue, respectively, and the other particles 72K may be black particles. However, this is exemplary, and the color particles 72R, 72G, 72B may have a color of cyan, magenta and yellow, respectively, and the other particles 72K may be white particles. Such a particle system may be appropriately selected according to the color system, and may have only black and white particles in one cavity for monochrome display as described below.
  • the dielectric solution 71 and the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K may be filled in the groove RA by a method such as spraying or dipping with a dispenser. If the type of electrophoretic particles to be filled in each cavity is different, a mask layer (not shown) for selectively opening the grooves is formed, and the process of filling the exposed grooves is repeated several times, so that different electrophoresis in each groove is obtained.
  • the phoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K can be filled.
  • different types of dielectric solutions and / or electrophoretic particles may be filled in the grooves RA by an inkjet method using the nozzles N1, N2, and N3.
  • the nozzles N1, N2, N3 scan the lower substrate 10 in the direction of the arrow A, and the dielectric solution 71 and the corresponding electrophoretic particles 72R in each groove portion RA. , 72G, 72B, 72K).
  • Such an inkjet method has an advantage of omitting a mask forming process.
  • a second substrate 20 (in this figure, the upper substrate) on which the cover layer 80 is formed is provided.
  • the upper substrate 20 may be a transparent substrate.
  • the transparent substrate may be a transparent resin substrate having flexibility as described above.
  • an optical layer such as a barrier layer 21 or an antireflection film 22 may be further formed on the upper substrate 20 to prevent the penetration of oxygen or moisture.
  • it may further comprise a protective layer 23 for surface protection.
  • These layers 21, 22, 23 coat the resin-based material by roll coating, gravure coating, knife coating, air knife coating, silk screen printing, electrostatic printing, thermal printing, dip coating, spin coating, spray coating and inkjet printing. Can be formed.
  • these layers 21, 22, 23 may be provided by laminating corresponding solid films in sequence.
  • curing the layers 21, 22, 23 stacked on the upper substrate 20 by heat treatment or crosslinking may be further performed.
  • the transparent electrode 41 may be further formed before the cover layer 80 is formed.
  • the transparent electrode 41 may be a common electrode for generating an electric field perpendicular to the substrates 10 and 20 opposite the individual electrodes 42.
  • the cover layer 80 formed on the transparent electrode 41 may be electrically insulating, but the present invention is not limited thereto.
  • the cover layer 80 may be conductive, in which case, the resistance of the transparent electrode 41 may be reduced or the transparent electrode 41 may be replaced.
  • the cover layer 80 may be formed by coating on the second substrate 20 using a suitable binder resin material.
  • the binder resin-based material may include, for example, the cover layer 80 may include oligomers and / or monomers, and the cover layer 80 may further include additives such as photoinitiators, crosslinkers, catalysts, and / or surfactants. It may be.
  • the monomers and oligomers urethane acrylate-based or epoxy acrylate-based materials may be used. However, this is exemplary and the present invention is not limited thereto.
  • the cover layer 80 may be used with other aryl, vinyl and silane based materials, for example.
  • the cover layer 80 may be provided in the form of a liquid, a paste, or a solid film, may be formed as a single layer, or may include a plurality of layers.
  • the cover layer 80 may include an elastic layer 81 having elasticity and a viscosity adjusting layer 82 laminated on the elastic layer 81 to provide a suitable viscosity.
  • At least one of these layers, for example the viscosity control layer may be formed of a material that is incompatible with the dielectric fluid (U).
  • the elastic layer 81 may be a known composition used as a general adhesive layer, or may be used including the oligomer, monomer, photoinitiator. In this case, the viscosity control layer 82 may be formed of a material which is incompatible with the particles or the fluid.
  • the cover layer 80 has a viscosity of between 1 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.5 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s
  • the upper substrate 20 is first adhered to closely contact the upper surfaces of the partitions 30.
  • the viscosity of the lid layer 80 in the bonding process between the substrates 10, 20 may preferably be in the range of 1.5 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s to 1.0 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s.
  • the viscosity of the capping layer 80 may be maintained within the aforementioned range while being formed on the second substrate 20, or may be controlled within the aforementioned range for the bonding process between the substrates 10 and 20.
  • Viscosity control of the cover layer 80 may be cooled; Solvent evaporation in the overcoat composition; It may be carried out by a method of increasing the viscosity by crosslinking by light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, or by decreasing the viscosity by heating or applying a suitable solvent.
  • the viscosity of the cover layer 80 is in the range between 1 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.5 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s, the flow of the lower substrate 10 and the upper substrate 20 during the bonding process is possible, The shape of the cover layer 80 is not deformed by the electrophoretic particles or the electrophoretic particles in the groove and the fluid present on the upper surface of the partition 30. As a result, during the bonding process between the substrates 10 and 20, the flow of the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K between adjacent grooves is reduced or prevented, and the composition of the covering layer 80 This separation is suppressed from flowing down into the dielectric solution in the groove portion RA.
  • the viscosity of the actual covering layer 80 is less than 1000 mPa ⁇ s, when the bonding process is performed, the thickness and shape of the covering layer are easily easily locally modified by electrophoretic particles and / or partitions, so that subsequent In the curing process, the resin was cured while being deformed and airtightness was not maintained, or the cover layer 80 did not have sufficient adhesive strength.
  • the viscosity of the cover layer 80 exceeds 1.5 X 10 6 mPa ⁇ s, it is very difficult to handle and insufficient contact surface with the partition wall in the subsequent curing process may fail to secure the airtight between the substrate and the partition wall. have.
  • the cover layer 80 As described above, by forming the cover layer 80 on the upper substrate 20 in advance and performing the bonding process when the cover layer 80 has the aforementioned viscosity range, Inter-cell flow of electrophoretic particles 72R, 72B, 72B, 72K in the bonding process can be prevented and unintentional contamination of the fluid in the groove RA can be prevented during the bonding process.
  • the cover layer 80 by forming the cover layer 80 on the upper substrate 20 in advance to perform the bonding process, it is possible to seal the cavity at the same time as the bonding process, the dielectric solution 71 and the particles (72R, 72G) , 72B, 72K) has the advantage that a separate process for sealing the filled groove portion can be omitted.
  • the density of the composition constituting the sealing layer is smaller than the density of the dielectric solution 71, but in this embodiment, there is less demand on the density of the covering layer 80, so that the wet cell structure as well as the dry cell structure There is an advantage that can be applied.
  • the sealing layer is formed on the dielectric solution 71 and the partition walls 30, the dielectric solution 71 comes out of the groove RA, so that it is difficult to control the viscosity, and the dielectric solution 71 comes out as necessary. It may be required to separately remove the process.
  • the dielectric solution 71 is formed in the groove portion ( RA) coming out can be reduced or suppressed.
  • the hardening process of the lid layer 80 is performed.
  • the hardening process of the cover layer 80 is cooled; Solvent evaporation; Light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof.
  • the curing process of the lid layer 80 is performed such that the hardness of the lid layer 80 has a pencil hardness of 5B to 7H.
  • the hardness of the cover layer 80 is less than 5B, the mechanical strength of the coupling between the partition wall 30 and the upper substrate 20 is weak, so that the partition wall 30 and the upper substrate 20 may be separated by external impact. .
  • the hardness of the cover layer 80 is 7H or more, the bonding between the partition 30, the cover layer 80 and the upper substrate 20 is not good, and local separation occurs. Therefore, when the hardness of the cover layer 80 is in the above-mentioned range, the hardening process of the cover layer 80 is completed.
  • the electrophoretic display apparatus 100 having the structures V1, V2, and V3 defined by the partitions 30 and the upper and lower substrates 10 and 20 may be completed.
  • the partition wall 30 is disclosed as the separating member defining the cavities V1, V2, V3, but this is exemplary and the present invention is not limited thereto.
  • the separating member may have a micro cup structure well known in the art.
  • the bottom of the cavities V1, V2, v3 may be the bottom of the microcup structure, unlike the partition structure described above.
  • the above-described embodiment discloses forming the partition wall 30 on the substrate 10 on which the driving element AM is formed, this is exemplary, and the partition wall 30 is formed on the upper substrate 20. And a cover layer 80 may be formed on the lower substrate 10 on which the driving element AM is formed.
  • the electrodes 41 and 42 for driving the electrophoretic particles 72R, 72G and 72B have a counter electrode configuration, but this is exemplary and the present invention is not limited thereto.
  • known in-plane electrode configurations in which drive electrodes are formed on any of the substrates, or combinations of opposing electrode configurations and in-plane electrode configurations are also within the scope of the present invention.
  • FIGS. 1A to 1F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an image sheet according to an embodiment of the present invention in a process sequence. Descriptions of components having the same reference numerals as those of FIGS. 1A to 1F among the components illustrated below may refer to those disclosed with reference to FIGS. 1A to 1F unless there is a contradiction. , Duplicate descriptions are omitted.
  • a support substrate 15 on which a partition 30 is to be formed is provided.
  • the support substrate 15 unlike the lower substrate 10 disclosed with reference to FIG. 1A, does not include a drive element AM for driving electrophoretic particles.
  • the support substrate 15 may include a separate electrode layer 43 for electrical coupling with the substrate 10 having the drive element described below.
  • the individual electrode layer 43 may include conductive patterns 44 and 45 formed on both main surfaces of the support substrate 15 and conductive vias 46 connecting the conductive patterns 44 and 45.
  • the present invention is not limited thereto, and the individual electrode layers 43 may not be formed on the support substrate 15. In this case, the individual electrodes 42 and the cavity formed on the lower substrate 10 are electrically separated by the supporting substrate 15, and the individual electrodes 42 serve as the individual electrode layers 43.
  • barrier ribs 30 are formed on the support substrate 15.
  • the partitions 30 provide a portion of the outer wall of the cavity that will be the pixel or sub-pixel to which the electrophoretic particles are filled.
  • the grooves RA are defined on the support substrate 15 by sidewalls of the partition walls 30 and a part of the surface of the support substrate 15.
  • the barrier ribs 30 may be formed through a lamination and photolithography process using a dry film photoresist layer, as described above.
  • the present invention is not limited thereto, and the partition walls 30 may be formed of various curable properties such as polyethylene, polystyrene, polycarbonate, epoxy resin, silicone resin, melamine resin, acrylic resin, and phenol resin. It may be formed through an embossing process using a silk screen or a mold using a polymer material.
  • the partitions 30 form a film made of an insulating inorganic material such as silicon oxide, a metal material coated with an insulating material, or a composition in which two or more of the above materials are mixed, and the dry or wet etching process is performed. It may be patterned through.
  • the partitions 30 may also be formed by screen printing, drill bits, imprints, softlithography, laser drilling processes, or inkjet printing processes.
  • the dielectric part 71 and the electrophoretic particles 72 dispersed in the dielectric solution 71 are filled in the groove RA.
  • charge-controlling agents, cationic or anionic surfactants, metal soaps, resin materials, metal-based coupling agents and stabilizing agents Various functional materials such as can be added.
  • the dielectric fluid 71 may be colored with transparent or dispersed dyes and / or pigments. In other embodiments, gas may be used instead of the dielectric solution as the dielectric fluid.
  • Particles 72 filled in each groove include white particles 72W and black particles 72K, but this is exemplary. In another embodiment, as described above with reference to FIG. 1D, different types of particles may be filled in each of the grooves.
  • a second support substrate 20 (which may be an upper substrate in this drawing) having a cover layer 80 is provided.
  • the upper substrate 20 may be a transparent substrate.
  • the transparent substrate may be a transparent resin substrate as described above.
  • the present invention is not limited thereto, and the upper substrate may be a glass substrate.
  • an optical layer such as a barrier layer 21 or an anti-reflection film 22 may be further formed on the upper substrate 20 to prevent the penetration of oxygen or moisture.
  • it may further comprise a protective layer 23 for surface protection.
  • the transparent common electrode 41 may be further formed before the capping layer 80 is formed.
  • the cover layer 80 may be electrically insulating, but the present invention is not limited thereto.
  • the cover layer 80 may be conductive, in which case, the resistance of the transparent electrode 41 may be reduced or the transparent electrode 41 may be replaced.
  • the binder resin-based material may include, for example, oligomers and / or monomers, and the cover layer 80 may further include additives such as photoinitiators, crosslinkers, catalysts, and / or surfactants.
  • the cover layer 80 may be provided in the form of a liquid, a paste, or a solid film.
  • the cover layer 80 may be formed of a single layer or a plurality of layers.
  • the cover layer 80 has a viscosity of between 1 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.5 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s
  • the upper substrate 20 is supported to adhere to the upper surfaces of the partition walls 30.
  • the bonding process of the substrates 15 and 20 may be performed at a viscosity of the lid layer 80 between 1.5 ⁇ 10 3 mPa ⁇ s and 1.0 ⁇ 10 6 mPa ⁇ s.
  • Viscosity control of the cover layer 80 may be cooled; Evaporation of the solvent; It may be carried out by a method of increasing the viscosity by crosslinking by light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, or by decreasing the viscosity by heating or liquid coating.
  • a curing process of the cover layer 80 is performed.
  • the hardening process of the cover layer 80 is cooling; Solvent evaporation; It may be carried out by a crosslinking process by light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure.
  • the curing process of the lid layer 80 is performed such that the hardness of the lid layer 80 has a pencil hardness of 5B to 7H. When the hardness of the cover layer 80 is less than 5B, the mechanical strength of the coupling between the partition wall 30 and the upper substrate 20 is weak, so that the partition wall 30 and the upper substrate 20 may be separated by an external impact. .
  • the hardness of the cover layer 30 is 7H or more, the coupling between the partition wall 30, the cover layer 80, and the upper substrate 20 is not good, and local separation may occur. Therefore, when the hardness of the cover layer 80 is in the above-mentioned range, the hardening process of the cover layer 80 is completed.
  • the image sheet 200 is completed through the above-described processes.
  • the capping layer 80 As described above, by forming the capping layer 80 on the upper substrate 20 in advance and performing the bonding process when the capping layer 80 has the aforementioned viscosity range, the substrates 15, 20 Inter-cell flow of electrophoretic particles 72 in the bonding process can be prevented and unintentional contamination of the fluid in the groove RA can be prevented during the bonding process.
  • the cover layer 80 since the cover layer 80 is formed on the upper substrate 20 in advance, the bonding process may be performed, thereby simultaneously sealing the cavities V1, V2, and V3 at the same time as the bonding process. ) And a separate process for sealing the groove part filled with the particles 72 may be omitted.
  • an electrophoretic display device may be provided as shown in FIG. 1F by combining an image sheet 200 and a lower substrate 10 including a driving element layer such as an active matrix layer AM. . Bonding between the image sheet 200 and the lower substrate 10 may be accomplished by an adhesive layer 85.
  • the adhesive layer 85 may be any suitable resin-based adhesive layer or an anisotropic conductive adhesive layer. When the adhesive layer 85 is an anisotropic conductive adhesive layer, the adhesive layer 85 may extend over the entire area of the image sheet 200 and the lower substrate 10.
  • the partition wall 30 is disclosed as the separating member defining the cavities (V1, V2, V3), but this is exemplary and the present invention is not limited thereto.
  • the separating member may have a micro cup structure well known in the art. In this case, the bottom of the cavity becomes the bottom of the microcup structure, unlike the partition structure described above.
  • electrodes 41 and 44 for driving the electrophoretic particles 72 have opposing electrode configurations in the illustrated embodiment, this is exemplary and the present invention is not limited thereto.
  • known in-plane electrode configurations in which drive electrodes are formed on any of the substrates are within the scope of the present invention.
  • a particle system associated with an electrophoretic display device may be applied to the image sheet and may form separating members 30 on the substrate 20 of the image sheet.
  • the cover layer 80 having the single layer structure shown in FIG. 2D may be applied.

Abstract

The present invention relates to an electrophoretic display device, to an image sheet, and to a method for producing the device and the image sheet. The method for producing the electrophoretic display device according to one embodiment of the present invention comprises the following steps: forming a plurality of separating members on a first substrate, wherein each separating member has a sidewall; filling grooves defined by the plurality of separating members with a plurality of electrophoretic particles; forming a cover layer on a second substrate; coupling the second substrate to the first substrate such that the cover layer tightly contacts the upper surfaces of the sidewalls; and hardening the cover layer.

Description

전기 영동 디스플레이 장치, 이미지 시트 및 이들의 제조 방법Electrophoretic display device, image sheet and manufacturing method thereof
본 발명은 디스플레이 기술에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 전기 영동 디스플레이, 이미지 시트 및 이들의 제조 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to display technology, and more particularly, to an electrophoretic display, an image sheet, and a manufacturing method thereof.
액정 디스플레이 장치를 대체하기 위한 정보 디스플레이 장치로서, 전기 영동 방식(electrophoresis), 통전변색 방식(electro-chromic), 또는 이색 입자 회전 방식(dichroic particles rotary method)과 같은 기술을 이용한 디스플레이 장치가 제안되어 왔다. 이들 기술들은 종이와 같은 통상의 인쇄 매체에 근접한 넓은 시야각, 낮은 소비 전력 및 메모리 효과와 같은 이점들 때문에 액정 디스플레이 장치를 대체할 수 있는 차세대 디스플레이 장치로서 최근 활발히 연구되고 있다.As an information display device for replacing a liquid crystal display device, a display device using a technique such as electrophoresis, electro-chromic, or dichroic particles rotary method has been proposed. . These technologies have recently been actively researched as next generation display devices that can replace liquid crystal display devices due to advantages such as wide viewing angle, low power consumption and memory effect in proximity to conventional print media such as paper.
이들 디스플레이 장치들 중 전기 영동 방식의 디스플레이 장치는 2 개의 전극들 사이에 인가된 전기장에 의해 하전된 입자들이 이동하는 현상을 이용한 장치이다. 전기 영동 디스플레이 장치는 액정 디스플레이 장치와 비교시 전압 구동되는 점에서 공통되지만, 제조 공정의 관점에서 큰 차이를 갖는다. 액정 디스플레이 장치의 경우, 상부 기판과, 구동 소자가 형성된 하부 기판을 미리 결합시킨 상태에서, 상부 기판과 하부 기판 사이의 공간 내에 액정 주입 공정이 수행된다. 그러나, 전기 영동 디스플레이 장치에서는, 상부 기판과 하부 기판을 결합하기 이전에 전기 영동 입자들이 주입되는 점에서 액정 디스플레이 장치와 큰 차이가 있다.Among these display devices, an electrophoretic display device uses a phenomenon in which charged particles move by an electric field applied between two electrodes. Electrophoretic display devices are common in that they are voltage driven as compared to liquid crystal display devices, but have large differences in terms of manufacturing processes. In the case of the liquid crystal display device, a liquid crystal injection process is performed in a space between the upper substrate and the lower substrate while the upper substrate and the lower substrate on which the driving element is formed are previously bonded. However, in the electrophoretic display device, there is a big difference from the liquid crystal display device in that electrophoretic particles are injected before bonding the upper substrate and the lower substrate.
이와 같이, 전기 영동 디스플레이 장치를 제조하기 위해서는, 픽셀 구조 내에 전기 영동 입자들을 채운 상태에서 상부 기판과 하부 기판을 결합하여야 하기 때문에, 픽셀 자체의 기밀은 물론, 픽셀들간 기밀을 유지하는 것이 어렵다. 또한, 기판간 결합 공정 동안에 인접하는 픽셀들 사이에 입자들이 유동이 발생할 수 있을 뿐만 아니라, 상기 결합 공정 이후에도 인접하는 픽셀들 사이에 입자들의 유동이 발생할 수 있다. 이러한 픽셀간 입자들의 유동과 기밀 유지의 실패로 인하여 전기 영동 디스플레이 장치의 수명과 표시 품질은 급격히 열화될 수 있다.As described above, in order to manufacture the electrophoretic display device, it is difficult to maintain the airtightness of the pixels themselves as well as the airtightness between the pixels because the upper substrate and the lower substrate must be combined with the electrophoretic particles in the pixel structure. In addition, not only particles may flow between adjacent pixels during the inter-substrate bonding process, but also particles may flow between adjacent pixels even after the bonding process. Due to the failure of the flow and airtightness of the particles between the pixels, the lifespan and display quality of the electrophoretic display device may be rapidly deteriorated.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 상부 기판과 하부 기판의 결합이 충실한 기계적 강도를 유지하면서도, 상기 기판들 사이의 결합 공정에서 픽셀 또는 서브 픽셀간 전기 영동 입자들의 유동이 방지되고 충실한 기밀을 유지할 수 있는 전기 영동 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to prevent the flow of electrophoretic particles between pixels or sub-pixels in the bonding process between the substrates and the sub-pixels, while maintaining the faithful mechanical strength of the bonding between the upper substrate and the lower substrate can maintain a solid airtight It is to provide an electrophoretic display device.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 전술한 이점을 갖는 이미지 시트를 제공하는 것이다.Another technical problem to be solved by the present invention is to provide an image sheet having the aforementioned advantages.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 전술한 이점을 갖는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electrophoretic display device having the above-described advantages.
또한, 본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 전술한 이점을 갖는 이미지 시트의 제조 방법을 제공하는 것이다.In addition, another technical problem to be achieved by the present invention is to provide a method for producing an image sheet having the advantages described above.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 전기 영동 디스플레이 장치는, 서로 대향하는 기판들 사이에 배치되는 복수의 분리 부재들; 상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 캐비티들 내에 충전되는 복수의 전기 영동 입자들; 및 상기 캐비티들과 상기 기판들 중 어느 하나의 기판 사이에 배치되어 상기 캐비티들의 기밀을 확보하면서 상기 기판들의 기계적 결합을 유지하는 덮개층을 포함할 수 있으며, 상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화된 바인더층을 포함한다. An electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention for solving the above technical problem, a plurality of separation members disposed between the opposing substrate; A plurality of electrophoretic particles filled in cavities defined by the plurality of separating members; And a cover layer disposed between the cavities and any one of the substrates to maintain mechanical bonding of the substrates while ensuring airtightness of the cavities, wherein the cover layer has a pencil hardness of 5B to 7H. It includes a binder layer cured to have a.
상기 다른 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 이미지 시트는, 서로 대향하는 지지 기판들 사이에 배치되는 복수의 분리 부재들; 상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 캐비티들 내에 충전되는 복수의 전기 영동 입자들; 및 상기 캐비티들과 상기 지지 기판들 중 어느 하나의 지지 기판 사이에 배치되어 상기 캐비티들의 기밀을 확보하면서 상기 기판들의 기계적 결합을 유지하는 덮개층을 포함하며, 상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화된 바인더층을 포함한다.The image sheet according to an embodiment of the present invention for solving the other technical problem, a plurality of separation members disposed between the support substrate facing each other; A plurality of electrophoretic particles filled in cavities defined by the plurality of separating members; And a cover layer disposed between the cavities and a support substrate of any one of the support substrates to maintain mechanical bonding of the substrates while ensuring airtightness of the cavities, wherein the cover layer has a pencil hardness of 5B to 7H. It includes a binder layer cured to have a.
상기 또 다른 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법은, 제 1 기판 상에 각각 측벽을 갖는 복수의 분리 부재들을 형성하는 단계; 상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 홈부 내에 복수의 전기 영동 입자들을 충전하는 단계; 제 2 기판 상에 덮개층을 형성하는 단계; 상기 덮개층이 상기 분리 부재들의 상부 표면에 밀착되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하는 단계; 및 상기 덮개층을 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing an electrophoretic display device, including: forming a plurality of separation members having sidewalls on a first substrate; Filling a plurality of electrophoretic particles into grooves defined by the plurality of separating members; Forming a cover layer on the second substrate; Bonding the second substrate to the first substrate such that the cover layer adheres to the upper surfaces of the separation members; And curing the cover layer.
상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에 수행될 수 있다. 일부 실시예에서, 상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층의 점도는 1.5 X 103 mPa·s 내지 1.0 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에 수행될 수도 있다. 상기 덮개층의 점도 제어는 냉각, 덮개층 조성물 내의 용매 증발, 광 조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 증가시키거나, 가열, 용매 도포, 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 감소시키는 것에 의해 달성될 수 있다. Coupling the second substrate to the first substrate may be performed when the cover layer has a viscosity of between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s. In some embodiments, bonding the second substrate to the first substrate may be performed when the viscosity of the capping layer has a viscosity between 1.5 × 10 3 mPa · s and 1.0 × 10 6 mPa · s. have. Viscosity control of the capping layer increases the viscosity by cooling, solvent evaporation in the capping layer composition, light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof, heating, solvent application, or a combination thereof. By reducing the viscosity.
또한, 상기 덮개층을 경화시키는 단계에서, 상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화될 수 있다. 상기 덮개층을 경화시키는 단계는, 냉각; 용매 증발; 광조사, 전자빔 조사, 열, 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 수행될 수 있다. In addition, in the step of curing the cover layer, the cover layer may be cured to have a pencil hardness of 5B to 7H. Curing the cover layer may include: cooling; Solvent evaporation; Light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof.
또한, 상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 이미지 시트의 제조 방법은, 제 1 지지 기판 상에 각각 측벽을 갖는 복수의 분리 부재들을 형성하는 단계; 상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 홈부 내에 복수의 전기 영동 입자들을 충전하는 단계; 제 2 지지 기판 상에 덮개층을 형성하는 단계; 상기 덮개층이 상기 분리 부재들의 상부 표면에 밀착되도록 상기 제 2 지지 기판을 상기 제 1 지지 기판에 결합하는 단계; 및 상기 덮개층을 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.In addition, the manufacturing method of the image sheet according to an embodiment of the present invention for achieving the another technical problem, forming a plurality of separating members each having a side wall on the first support substrate; Filling a plurality of electrophoretic particles into grooves defined by the plurality of separating members; Forming a cover layer on the second support substrate; Coupling the second support substrate to the first support substrate such that the cover layer adheres to the top surfaces of the separation members; And curing the cover layer.
상기 제 2 지지 기판을 상기 제 1 지지 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 수행될 수 있다. 또는, 상기 제 2 지지 기판을 상기 제 1 지지 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층이 1.5 X 103 mPa·s 내지 1.0 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 수행될 수도 있다. 상기 덮개층의 점도 제어는 냉각, 덮개층 조성물 내의 용매 증발, 광 조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 증가시키거나, 가열, 용매 도포, 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 감소시키는 것에 의해 달성될 수 있다.Coupling the second support substrate to the first support substrate may be performed when the cover layer has a viscosity between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s. Alternatively, the step of coupling the second support substrate to the first support substrate may be performed when the cover layer has a viscosity between 1.5 × 10 3 mPa · s and 1.0 × 10 6 mPa · s. Viscosity control of the capping layer increases the viscosity by cooling, solvent evaporation in the capping layer composition, light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof, heating, solvent application, or a combination thereof. By reducing the viscosity.
상기 덮개층을 경화시키는 단계에서, 상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화될 수 있다. 상기 덮개층을 경화시키는 단계는 냉각; 용매 증발; 광조사, 전자빔 조사, 열, 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 수행될 수 있다.In the step of curing the cover layer, the cover layer may be cured to have a pencil hardness of 5B to 7H. Curing the lid layer may include cooling; Solvent evaporation; Light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof.
본 발명의 실시예들에 따른 전기 영동 디스플레이 장치 및 이미지 시트의 제조 방법은, 덮개층을 먼저 기판 상에 형성하여 기판들간 결합 공정을 수행함으로써 캐비티의 기밀을 유지하기 쉬울 뿐만 아니라, 기판들간 결합 공정과 기밀화 공정을 동시에 달성할 수 있다. 또한, 덮개층이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 상기 격벽의 상부 표면에 밀착되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하기 때문에, 제 1 기판과 제 2 기판의 결합이 충실한 기계적 강도를 유지하면서도, 상기 기판들 사이의 결합 공정에서 픽셀 또는 서브 픽셀간 전기 영동 입자들의 유동이 방지되고 충실한 기밀을 유지할 수 있어 수명의 보장과 디스플레이 장치의 표시 품질 열화를 감소시키거나 방지할 수 있다.The electrophoretic display device and the image sheet manufacturing method according to the embodiments of the present invention, the cover layer is formed on the substrate first to perform the bonding process between the substrate not only to maintain the tightness of the cavity, but also the bonding process between the substrate And airtight process can be achieved simultaneously. Further, when the cover layer has a viscosity between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s, the second substrate is bonded to the first substrate so as to be in close contact with the upper surface of the partition wall. While the bonding of the first substrate and the second substrate maintains the faithful mechanical strength, the flow of electrophoretic particles between pixels or sub-pixels in the bonding process between the substrates can be prevented and faithful airtightness can be maintained to ensure lifespan and display device. The display quality deterioration can be reduced or prevented.
또한, 본 발명의 실시예들에 따른 전기 영동 디스플레이 장치 및 이미지 시트는 캐비티간 우수한 기밀을 유지하여 이미지 시트의 제조 방법에 있어서도, 상기 덮개층이 상기 호적 범위의 점도를 가질 때에, 기판들간 결합 공정이 수행되어, 전술한 이점들을 얻을 수 있다. In addition, the electrophoretic display device and the image sheet according to the embodiments of the present invention maintains excellent airtight between the cavities, even in the manufacturing method of the image sheet, when the cover layer has a viscosity of the family range, the bonding process between the substrates This can be done to obtain the advantages described above.
도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 일 실시예에 따른 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도들이다.1A to 1F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an electrophoretic display device according to an embodiment of the present invention in a process sequence.
도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 일 실시예에 따른 이미지 시트의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도들이다.2A to 2F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an image sheet according to an embodiment of the present invention in a process sequence.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following examples can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is It is not limited to an Example. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the inventive concept to those skilled in the art.
또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.In addition, the thickness or size of each layer in the drawings is exaggerated for convenience and clarity, the same reference numerals in the drawings refer to the same elements. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of one or more of the listed items.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" may include the plural forms as well, unless the context clearly indicates otherwise. Also, as used herein, "comprise" and / or "comprising" specifies the presence of the mentioned shapes, numbers, steps, actions, members, elements and / or groups of these. It is not intended to exclude the presence or the addition of one or more other shapes, numbers, acts, members, elements and / or groups.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역 또는 부분을 다른 영역 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, and / or parts, these members, parts, regions, and / or parts should not be limited by these terms. Is self-explanatory. These terms are only used to distinguish one member, part, region or part from another region or part. Thus, the first member, part, region, or portion, which will be described below, may refer to the second member, component, region, or portion without departing from the teachings of the present invention.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 부재들의 크기와 형상은 설명의 편의와 명확성을 위하여 과장될 수 있으며, 실제 구현시, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 된다.Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings, which schematically illustrate ideal embodiments of the present invention. In the drawings, for example, the size and shape of the members may be exaggerated for convenience and clarity of description, and in actual implementation, variations of the illustrated shape may be expected. Accordingly, embodiments of the present invention should not be construed as limited to the specific shapes of the regions shown herein.
캐비티를 정의하는 격벽들과 상기 격벽들에 결합되는 기판들 사이의 양호한 기계적 강도를 얻으면서도 상기 기판들 사이의 결합 공정 동안 픽셀 또는 서브 픽셀간 전기 영동 입자들의 유동을 방지 및 감소시키면서 픽셀들의 충실한 기밀을 유지하는데 있어서, 덮개층의 점도(viscosity)가 덮개층의 조성에 비하여 더 큰 영향을 미치는 것이 확인되었다. 이하에서는 도면들을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들에 관한 특징들 및 이점들이 개시된다. Full airtightness of the pixels while preventing and reducing the flow of electrophoretic particles between pixels or subpixels during the bonding process between the substrates while obtaining good mechanical strength between the partitions defining the cavity and the substrates bonded to the partitions In maintaining, it was confirmed that the viscosity of the covering layer had a greater effect than the composition of the covering layer. DESCRIPTION OF EMBODIMENTS The following describes features and advantages of various embodiments of the present invention with reference to the drawings.
전기 영동 디스플레이 장치 및 그 제조 방법Electrophoretic display device and manufacturing method thereof
도 1a 내지 도 1f는 본 발명의 일 실시예에 따른 전기 영동 디스플레이 장치(100)의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도들이다. 1A to 1F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an electrophoretic display apparatus 100 according to an embodiment of the present invention in a process sequence.
도 1a를 참조하면, 제 1 기판(10; 본 도면에서 하부 기판일 수 있음)이 제공된다. 하부 기판(10)은 예를 들면, 셀룰로오스계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate; PEN), 폴리에틸렌 수지, 염화 폴리비닐 수지, 폴리카보네이트(PC), 폴리에테리 술폰(PES), 폴리에테르 에테르케톤(PEEK), 황화 폴리페닐렌(PPS), 또는 폴리이미드(PI)와 같은 가요성을 갖는 수지계 기판일 수 있다. 또한, 하부 기판(10)은 투명할 수도 있다. 그러나, 하부 기판(10)에 화상이 표시되지 않는 경우, 하부 기판(10)은 투명하지 않을 수 있다. 또한, 하부 기판(10)은 유리, 또는 실리콘 웨이퍼와 같은 결정질 반도체 기판으로 제조될 수도 있다.Referring to FIG. 1A, a first substrate 10 (which may be a lower substrate in this figure) is provided. The lower substrate 10 may be, for example, a cellulose resin, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, polycarbonate (PC), poly It may be a resin substrate having flexibility such as terry sulfone (PES), polyether ether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), or polyimide (PI). In addition, the lower substrate 10 may be transparent. However, when no image is displayed on the lower substrate 10, the lower substrate 10 may not be transparent. In addition, the lower substrate 10 may be made of a crystalline semiconductor substrate such as glass or a silicon wafer.
일부 실시예에서, 하부 기판(10)은 구동 부재인 액티브 매트릭스층(AM)을 포함한다. 액티브 매트릭스층(AM)은 복수의 행들 × 복수의 열들로 이루어진 데이터 라인들(미도시)과 게이트 라인들(미도시), 상기 라인들이 교차되는 영역에 배치되는 복수의 MOS 트랜지스터들(50)을 포함할 수 있다. 상기 MOS 트랜지스터들(50)은 게이트 전극(50G), 게이트 절연막(50I), 반도체층(50A), 오믹 콘택층(50C), 소오스 전극(50S) 및 드레인 전극(50D)을 포함한다. In some embodiments, the lower substrate 10 includes an active matrix layer AM that is a driving member. The active matrix layer AM includes data lines (not shown) and gate lines (not shown) including a plurality of rows × a plurality of columns, and a plurality of MOS transistors 50 disposed in an area where the lines cross each other. It may include. The MOS transistors 50 include a gate electrode 50G, a gate insulating film 50I, a semiconductor layer 50A, an ohmic contact layer 50C, a source electrode 50S, and a drain electrode 50D.
도 1a에 도시된 MOS 트랜지스터(50)는, 게이트 전극(50G)이 하부 기판(10) 쪽에 배치되는 역 스테거드 전극 구조(inverted-staggered electrode structure)를 갖지만, MOS 박막 트랜지스터(50)는 다른 구조, 예를 들면, 공지의 스테거드 구조를 가질 수도 있다. MOS 박막 트랜지스터들(50) 및 상기 데이터 및 게이트 라인들의 표면은 패시베이션막(60)에 의해 전기적으로 절연될 수 있다. The MOS transistor 50 shown in FIG. 1A has an inverted-staggered electrode structure in which the gate electrode 50G is disposed on the lower substrate 10 side, but the MOS thin film transistor 50 has a different structure. For example, it may have a well-known staggered structure. The MOS thin film transistors 50 and the surfaces of the data and gate lines may be electrically insulated by the passivation film 60.
또한, 도 1a에서는 구동 부재로서 액티브 매트릭스층(AM)을 개시하고 있지만, 이는 예시적이며, 본 발명의 전기 영동 디스플레이 장치는 하부 기판(10)에 동적 구동을 위한 수동 매트릭스 방식의 배선 구조, 또는 정적 구동을 위한 세그먼트 방식의 배선 구조를 가질 수도 있음을 이해하여야 한다. In addition, although the active matrix layer AM is disclosed as a driving member in FIG. 1A, this is exemplary, and the electrophoretic display device of the present invention has a passive matrix wiring structure for dynamic driving on the lower substrate 10, or It should be understood that it may have a segmented wiring structure for static driving.
도 1b를 참조하면, 선택적으로는 패시베이션막(60) 상에 평탄화층(65)이 더 형성될 수 있다. 평탄화층(65)은 플라즈마 화학기상증착에 의해 평탄성이 우수한 막을 증착함으로써 얻을 수 있다. 또는, 평탄화층(65)이 될 절연막을 형성하고, 상기 절연막에 대하여 화학기계적 연마공정을 수행함으로써 평탄화층(65)을 제공할 수도 있다. 이후, 패시베이션막(60) 또는 평탄화층(65) 상에 도전층을 형성하고 이를 패터닝하여, MOS 박막 트랜지스터들의 드레인 전극(50D)에 각각 접속된 개별 전극들(42)을 형성한다.Referring to FIG. 1B, a planarization layer 65 may be further formed on the passivation layer 60. The planarization layer 65 can be obtained by depositing a film having excellent flatness by plasma chemical vapor deposition. Alternatively, the planarization layer 65 may be provided by forming an insulating film to be the planarization layer 65 and performing a chemical mechanical polishing process on the insulating film. Thereafter, a conductive layer is formed on the passivation film 60 or the planarization layer 65 and patterned to form individual electrodes 42 each connected to the drain electrode 50D of the MOS thin film transistors.
일부 실시예에서, 개별 전극들(42)은 투명 전극일 수 있다. 상기 투명 전극은, 예를 들면, 인듐-주석-산화물(Indium-Tin-Oxide; ITO), 불화 주석 산화물(Fluorinated tin Oxide; FTO), 인듐 산화물(indium oxide; IO) 및 주석 산화물(tin oxide; SnO2)과 같은 투명한 금속 산화물, 폴리아세틸렌(polyacetylene)과 같은 투명한 도전성 수지, 또는 도전성 금속 미립자를 함유하는 도전성 수지 중 어느 하나 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다. 선택적으로는, 개별 전극들(42) 상에 절연성 보호막(미도시)을 더 형성할 수 있다.In some embodiments, the individual electrodes 42 may be transparent electrodes. The transparent electrode may include, for example, Indium-Tin-Oxide (ITO), Fluorinated Tin Oxide (FTO), Indium Oxide (IO), and Tin Oxide; It may be formed of any one or a combination of a transparent metal oxide such as SnO 2 ), a transparent conductive resin such as polyacetylene, or a conductive resin containing conductive metal fine particles. Optionally, an insulating protective film (not shown) may be further formed on the individual electrodes 42.
도 1c를 참조하면, 패시베이션막(60) 또는 평탄화층(65)이 형성된 하부 기판(10) 상에 분리 부재인 격벽들(30)을 형성한다. 일부 실시예에서, 격벽들(30)은 개별 전극들(42) 사이에 형성되며, 바람직하게는, 개별 전극들(42) 사이의 데이터 라인들과 게이트 라인들 상에 형성될 수 있다. Referring to FIG. 1C, partition walls 30, which are separation members, are formed on the lower substrate 10 on which the passivation layer 60 or the planarization layer 65 is formed. In some embodiments, the partitions 30 are formed between the individual electrodes 42, and preferably may be formed on the data lines and the gate lines between the individual electrodes 42.
격벽들(30)에 의해 전기 영동 입자들이 충전되는 픽셀 또는 서브 픽셀이 될 후술하는 캐비티의 측벽이 제공된다. 하부 기판(10) 상에는 격벽들(30)의 측벽과 하부 기판(10)의 일부 표면에 의해 홈부들(RA)이 정의된다. The partition walls 30 are provided with sidewalls of the cavity, which will be described later, which will be a pixel or subpixel to which electrophoretic particles are filled. The grooves RA are defined on the lower substrate 10 by sidewalls of the partition walls 30 and a part of the surface of the lower substrate 10.
격벽들(30)은, 예를 들면, 건식 필름 포토레지스트(dry film photoresist)층을 이용한 라미네이션 및 포토리소그래피 공정을 통하여 형성될 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 격벽들(30)은, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리스틸렌, 폴리카보네이트, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 아크릴계 수지, 페놀계 수지와 같은 다양한 경화성 고분자 재료를 이용한 실크스크린 또는 몰드를 이용한 엠보싱 공정 등을 통하여 패터닝될 수도 있다. 다른 실시예로서, 격벽들(30)은 실리콘 산화물과 같은 절연성 무기 재료, 절연물질로 코팅된 금속 재료 또는 전술한 재료들 중 2 이상이 혼합된 조성물로 이루어진 막을 형성하고, 건식 또는 습식 식각 공정을 통하여 형성될 수도 있다. The partitions 30 may be formed through, for example, lamination and photolithography processes using a dry film photoresist layer. However, the present invention is not limited thereto, and the partition walls 30 may be formed of various curable properties such as polyethylene, polystyrene, polycarbonate, epoxy resin, silicone resin, melamine resin, acrylic resin, and phenol resin. It may be patterned through an embossing process using a silkscreen or a mold using a polymer material. In another embodiment, the partitions 30 form a film made of an insulating inorganic material such as silicon oxide, a metal material coated with an insulating material, or a composition in which two or more of the above materials are mixed, and the dry or wet etching process is performed. It may be formed through.
또는, 본 출원인의 한국 출원 제2008-97374호의 도 5에 개시된 바와 같이, 개구 패턴을 갖는 층 구조의 격벽 구조물을 하부 기판(10) 상에 정렬한 후, 부착하여 제공될 수도 있다. 또한, 격벽들(30)은 스크린 프린트, 드릴 비트, 임프린트(imprint), 소프트리소그래피(softlithography), 레이저 드릴링 공정 또는 잉크젯 프린팅 공정에 의해서도 형성될 수 있다.Alternatively, as disclosed in FIG. 5 of the applicant 's Korean application 2008-97374, the barrier rib structure having a layer structure having an opening pattern may be arranged on the lower substrate 10 and then attached to the lower substrate 10. The partitions 30 may also be formed by screen printing, drill bits, imprints, softlithography, laser drilling processes, or inkjet printing processes.
도 1d를 참조하면, 각 홈부(RA) 내에 전기 영동 입자들(72)을 충전한다. 습식 디스플레이 장치의 경우, 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)과 함께 유전성 용액(71)을 충전할 수도 있다. 유전성 용액(71)은 고저항을 가지면서 점성이 낮은 유체이며, 단일하거나 2 이상의 유체가 혼합된 것일 수 있다. 일부 실시예에서, 유전성 유체(71)의 비중은 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)의 비중과 실질적으로 동일하도록 제조될 수 있다. 유전성 유체(71) 내에는 입자들(72R, 72G, 72B, 72K) 이외에도, 전하 조절제(charge-controlling agent), 양이온성 또는 음이온성 계면 활성제, 금속 비누, 수지 재료, 금속계 결합제(coupling agent) 및 안정화제(stabilizing agent)와 같은 다양한 기능성 물질들이 첨가될 수 있다. Referring to FIG. 1D, the electrophoretic particles 72 are filled in the grooves RA. In the case of a wet display device, the dielectric solution 71 may be filled with the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, and 72K. The dielectric solution 71 is a fluid having high resistance and low viscosity, and may be a single or a mixture of two or more fluids. In some embodiments, specific gravity of dielectric fluid 71 may be made to be substantially equal to specific gravity of electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K. In addition to the particles 72R, 72G, 72B, 72K, the dielectric fluid 71 may include charge-controlling agents, cationic or anionic surfactants, metal soaps, resin materials, metal-based coupling agents, and Various functional materials can be added, such as stabilizing agents.
유전성 유체(71)는 투명하거나, 분산된 염료 및/또는 안료에 의해 착색될 수 있다. 예를 들면, 유전성 유체(71)는 실제 구동시 하부 기판(10)쪽으로 이동하여 보여서는 안되는 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)이 보이는 것을 차단하기 위하여, 흡광성 색상, 예를 들면, 회색 또는 흑색으로 착색될 수 있다. The dielectric fluid 71 may be colored with transparent or dispersed dyes and / or pigments. For example, the dielectric fluid 71 may have a light absorbing color, for example, to block visible particles 72R, 72G, 72B, 72K that should not move toward the lower substrate 10 when actually driven. It may be colored gray or black.
각 홈부(RA)에 충전된 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)은 컬러 및 전기 영동 이동도가 균일한 단일한 종류의 입자들이거나, 도시된 바와 같이, 컬러 및 전기 영동 이동도가 서로 다른 2 종류 이상의 입자들(72R, 72G, 72B; 72K)을 포함할 수도 있다. 또한, 도시된 바와 같이, 각 홈부(RA)마다 서로 다른 종류의 입자들이 분산될 수도 있다. 예를 들면, 입자들 중 일부의 입자들(72R, 72G, 72B)은 각각 적색, 녹색 및 청색을 갖는 컬러 입자이고, 다른 입자(72K)는 흑색 입자일 수 있다. 그러나, 이는 예시적이며, 컬러 입자들(72R, 72G, 72B)은 각각 시안색, 마젠타색 및 황색의 컬러를 가질 수도 있으며, 다른 입자들(72K)은 백색 입자들일 수도 있다. 이러한 입자 시스템은 컬러 시스템에 따라 적절히 선택될 수 있으며, 후술하는 바와 같이 흑백 표시를 위해, 하나의 캐비티 내에 흑색 및 백색 입자만을 가질 수도 있다.The electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K filled in the grooves RA are a single type of particles with uniform color and electrophoretic mobility, or, as shown, color and electrophoretic mobility. May include two or more different types of particles 72R, 72G, 72B; 72K. In addition, different types of particles may be dispersed in each of the grooves RA. For example, some of the particles 72R, 72G, 72B may be colored particles having red, green, and blue, respectively, and the other particles 72K may be black particles. However, this is exemplary, and the color particles 72R, 72G, 72B may have a color of cyan, magenta and yellow, respectively, and the other particles 72K may be white particles. Such a particle system may be appropriately selected according to the color system, and may have only black and white particles in one cavity for monochrome display as described below.
유전성 용액(71)과 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)은 디스펜서를 이용한 스프레이 공정 또는 침지와 같은 방법에 의해, 홈부(RA) 내에 충전될 수 있다. 각 캐비티마다 충전될 전기 영동 입자들의 종류가 다른 경우, 각 홈부들을 선택적으로 개방시키는 마스크층(미도시)을 형성하고, 노출된 홈부를 채우는 공정을 수회 반복하여, 각 홈부들 내에 서로 다른 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)을 채울 수 있다.The dielectric solution 71 and the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K may be filled in the groove RA by a method such as spraying or dipping with a dispenser. If the type of electrophoretic particles to be filled in each cavity is different, a mask layer (not shown) for selectively opening the grooves is formed, and the process of filling the exposed grooves is repeated several times, so that different electrophoresis in each groove is obtained. The phoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K can be filled.
선택적으로는, 도 1d에 도시한 바와 같이, 노즐들(N1, N2, N3)을 이용한 잉크젯 방식에 의해 각 홈부들(RA)마다 서로 다른 종류의 유전성 용액 및/또는 전기 영동 입자들을 채울 수도 있다. 상기 잉크젯 방식에서, 노즐들(N1, N2, N3)은 화살표(A) 방향으로 하부 기판(10)을 스캐닝하면서, 각 홈부들(RA) 내에 유전성 용액(71)과 해당 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)을 충전한다. 이러한 잉크젯 방식은 마스크 형성 공정을 생략할 수 있는 이점이 있다.Alternatively, as shown in FIG. 1D, different types of dielectric solutions and / or electrophoretic particles may be filled in the grooves RA by an inkjet method using the nozzles N1, N2, and N3. . In the inkjet method, the nozzles N1, N2, N3 scan the lower substrate 10 in the direction of the arrow A, and the dielectric solution 71 and the corresponding electrophoretic particles 72R in each groove portion RA. , 72G, 72B, 72K). Such an inkjet method has an advantage of omitting a mask forming process.
도 1e를 참조하면, 덮개층(80)이 형성된 제 2 기판(20; 본 도면에서는 상부 기판임)이 제공된다. 상부 기판(20)은 투명 기판일 수 있다. 상기 투명 기판은 전술한 바와 같이 가요성을 갖는 투명한 수지계 기판일 수 있다. Referring to FIG. 1E, a second substrate 20 (in this figure, the upper substrate) on which the cover layer 80 is formed is provided. The upper substrate 20 may be a transparent substrate. The transparent substrate may be a transparent resin substrate having flexibility as described above.
일부 실시예에서는, 상부 기판(20) 상에 산소 또는 수분의 침투를 막기 위한 장벽층(21) 또는 반사 방지막(22)과 같은 광학층이 더 형성될 수도 있다. 선택적으로는, 표면 보호를 위한 보호층(23)을 더 포함할 수도 있다. 이들 층들(21, 22, 23)은 롤 코팅, 그라비아 코팅, 나이프 코팅, 에어 나이프 코팅, 실크 스크린 프린팅, 정전기 인쇄, 열 프린팅, 침지 코팅, 스핀 코팅, 분무 코팅 및 잉크젯 프린팅에 의해 수지계 재료를 코팅하여 형성될 수 있다. 다른 실시예에서, 이들 층들(21, 22, 23)은 해당 고형 필름을 순차대로 라미네이팅함으로써 제공될 수도 있다. 선택적으로는, 상부 기판(20) 상에 적층된 이들 층들(21, 22, 23)을 열처리 또는 가교에 의해 경화시키는 단계를 더 수행할 수 있다.In some embodiments, an optical layer such as a barrier layer 21 or an antireflection film 22 may be further formed on the upper substrate 20 to prevent the penetration of oxygen or moisture. Optionally, it may further comprise a protective layer 23 for surface protection. These layers 21, 22, 23 coat the resin-based material by roll coating, gravure coating, knife coating, air knife coating, silk screen printing, electrostatic printing, thermal printing, dip coating, spin coating, spray coating and inkjet printing. Can be formed. In other embodiments, these layers 21, 22, 23 may be provided by laminating corresponding solid films in sequence. Optionally, curing the layers 21, 22, 23 stacked on the upper substrate 20 by heat treatment or crosslinking may be further performed.
또한, 상부 기판(20)의 다른 주면 상에는, 덮개층(80)을 형성하기 이전에 투명 전극(41)이 더 형성될 수도 있다. 투명 전극(41)은 개별 전극들(42)과 대향하여 기판들(10, 20)에 수직하는 전계를 발생시키기 위한 공통 전극일 수 있다. In addition, on the other main surface of the upper substrate 20, the transparent electrode 41 may be further formed before the cover layer 80 is formed. The transparent electrode 41 may be a common electrode for generating an electric field perpendicular to the substrates 10 and 20 opposite the individual electrodes 42.
투명 전극(41) 상에 형성된 덮개층(80)은 전기적으로 절연성일 수 있지만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 덮개층(80)은 전도성을 가질 수 있으며, 이 경우, 투명 전극(41)의 저항을 감소시키거나, 투명 전극(41)을 대체할 수도 있다.The cover layer 80 formed on the transparent electrode 41 may be electrically insulating, but the present invention is not limited thereto. The cover layer 80 may be conductive, in which case, the resistance of the transparent electrode 41 may be reduced or the transparent electrode 41 may be replaced.
덮개층(80)은 제 2 기판(20) 상에 적합한 바인더 수지계 재료를 이용하여 코팅하여 형성될 수 있다. 상기 바인더 수지계 재료는, 예를 들면, 덮개층(80)은 올리고머 및/또는 모노머를 포함할 수 있으며, 덥개층(80)은 광개시제, 가교제, 촉매 및/또는 계면 활성제와 같은 첨가제를 더 포함할 수도 있다. 상기 모노머 및 올리고머로서, 우레탄 아크릴레이트계 또는 에폭시 아크릴레이트계 재료가 사용될 수 있다. 그러나, 이는 예시적이며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 덮개층(80)은 예를 들면, 다른 아릴계, 비닐계 및 실란계 재료가 사용될 수도 있다.The cover layer 80 may be formed by coating on the second substrate 20 using a suitable binder resin material. The binder resin-based material may include, for example, the cover layer 80 may include oligomers and / or monomers, and the cover layer 80 may further include additives such as photoinitiators, crosslinkers, catalysts, and / or surfactants. It may be. As the monomers and oligomers, urethane acrylate-based or epoxy acrylate-based materials may be used. However, this is exemplary and the present invention is not limited thereto. The cover layer 80 may be used with other aryl, vinyl and silane based materials, for example.
덮개층(80)은 액상, 페이스트, 또는 고상 필름의 형태로 제공될 수 있으며, 단일층으로 형성되거나, 복수의 층을 포함할 수도 있다. 예를 들면, 덮개층(80)은 접착력을 가지면서도 탄성을 갖는 탄성층(81)과 탄성층(81) 상에 적층되어 적합한 점도를 제공하는 점도 조절층(82)을 포함할 수도 있다. 이들 이들 층들 중 적어도 어느 하나, 예를 들면, 점도 조절층은 유전성 유체(U)와 상용성이 없는 재료로 형성될 수 있다. 탄성층(81)은 일반 점착층으로 사용되는 공지의 조성물 등이 사용되거나 또는 상기의 올리고머, 모노머, 광개시제를 포함하여 사용될 수도 있다. 이때 점도 조절층(82)은 입자나 유체와 상용성이 없는 재료로 형성될 수 있다.The cover layer 80 may be provided in the form of a liquid, a paste, or a solid film, may be formed as a single layer, or may include a plurality of layers. For example, the cover layer 80 may include an elastic layer 81 having elasticity and a viscosity adjusting layer 82 laminated on the elastic layer 81 to provide a suitable viscosity. At least one of these layers, for example the viscosity control layer, may be formed of a material that is incompatible with the dielectric fluid (U). The elastic layer 81 may be a known composition used as a general adhesive layer, or may be used including the oligomer, monomer, photoinitiator. In this case, the viscosity control layer 82 may be formed of a material which is incompatible with the particles or the fluid.
이후, 덮개층(80)이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 상기 격벽들(30)의 상부 표면에 밀착되도록 상부 기판(20)을 제 1 기판(10)에 결합한다. 기판들(10, 20)간 결합 공정에서의 덮개층(80)의 점도는, 바람직하게는, 1.5 X 103 mPa·s 내지 1.0 X 106 mPa·s 범위 내일 수 있다. 덮개층(80)의 점도는 제 2 기판(20) 상에 형성된 채로 전술한 범위 내에서 유지되거나, 기판들(10, 20)간 결합 공정을 위해 전술한 범위 내로 제어될 수 있다. 덮개층(80)의 점도 제어는 냉각; 덮개층 조성물 내의 용매 증발; 광 조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출에 의한 가교에 의해 점도를 증가시키거나, 가열 또는 적합한 용매 도포 등에 의해 점도를 감소시키는 방법으로 수행될 수 있다. Then, when the cover layer 80 has a viscosity of between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s, the upper substrate 20 is first adhered to closely contact the upper surfaces of the partitions 30. To the substrate 10. The viscosity of the lid layer 80 in the bonding process between the substrates 10, 20 may preferably be in the range of 1.5 × 10 3 mPa · s to 1.0 × 10 6 mPa · s. The viscosity of the capping layer 80 may be maintained within the aforementioned range while being formed on the second substrate 20, or may be controlled within the aforementioned range for the bonding process between the substrates 10 and 20. Viscosity control of the cover layer 80 may be cooled; Solvent evaporation in the overcoat composition; It may be carried out by a method of increasing the viscosity by crosslinking by light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, or by decreasing the viscosity by heating or applying a suitable solvent.
덮개층(80)의 점도가 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 범위 내일 때, 상기 결합 공정 동안 하부 기판(10)과 상부 기판(20)의 유동이 가능하면서도, 격벽(30)의 상부 표면 상에 존재하는 전기 영동 입자들 또는 홈부 내의 전기 영동 입자들 및 유체에 의해 덮개층(80)의 형태가 변형되지 않는다. 그 결과, 기판들(10, 20) 간의 결합 공정 동안, 인접하는 홈부들 사이에서 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)이 유동하는 것이 감소 또는 방지되고, 덮개층(80)의 조성물이 이탈되어 홈부(RA) 내의 유전성 용액으로 흘러 내리는 것이 억제된다. 실제 덮개층(80)의 점도가 1000 mPa·s 미만일 때, 상기 결합 공정이 수행되는 경우에, 전기 영동 입자들 및/또는 격벽들에 의해 덮개층의 두께 및 형태가 국부적으로 쉽게 변형되어, 후속하는 경화 공정에서 변형된 채로 경화되어 기밀이 유지되지 않거나, 덮개층(80)이 충분한 접착 강도를 갖지 못하였다. 또한, 덮개층(80)의 점도가 1.5 X 106 mPa·s를 초과하는 경우, 취급하는 것이 매우 어렵고 후속하는 경화 공정에서 격벽과의 접촉면이 불충분하여 기판과 격벽간 기밀을 확보하는데 실패할 수 있다.When the viscosity of the cover layer 80 is in the range between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s, the flow of the lower substrate 10 and the upper substrate 20 during the bonding process is possible, The shape of the cover layer 80 is not deformed by the electrophoretic particles or the electrophoretic particles in the groove and the fluid present on the upper surface of the partition 30. As a result, during the bonding process between the substrates 10 and 20, the flow of the electrophoretic particles 72R, 72G, 72B, 72K between adjacent grooves is reduced or prevented, and the composition of the covering layer 80 This separation is suppressed from flowing down into the dielectric solution in the groove portion RA. When the viscosity of the actual covering layer 80 is less than 1000 mPa · s, when the bonding process is performed, the thickness and shape of the covering layer are easily easily locally modified by electrophoretic particles and / or partitions, so that subsequent In the curing process, the resin was cured while being deformed and airtightness was not maintained, or the cover layer 80 did not have sufficient adhesive strength. In addition, when the viscosity of the cover layer 80 exceeds 1.5 X 10 6 mPa · s, it is very difficult to handle and insufficient contact surface with the partition wall in the subsequent curing process may fail to secure the airtight between the substrate and the partition wall. have.
전술한 바와 같이, 상부 기판(20) 상에 덮개층(80)을 미리 형성하고, 덮개층(80)이 전술한 점도 범위를 가질 때 상기 결합 공정을 수행함으로써, 기판들(10, 20)의 결합 공정에서 전기 영동 입자들(72R, 72B, 72B, 72K)의 셀간 유동이 방지되고 홈부(RA) 내의 유체가 결합 공정 동안 의도하지 않게 오염되는 것이 방지될 수 있다. 또한, 상부 기판(20) 상에 미리 덮개층(80)을 형성하여 결합 공정을 수행함으로써, 결합 공정과 동시에 캐비티의 밀폐화를 수행할 수 있어, 유전성 용액(71)와 입자들(72R, 72G, 72B, 72K)이 충전된 홈부를 밀폐시키기 위한 별도의 공정이 생략될 수 있는 이점이 있다.As described above, by forming the cover layer 80 on the upper substrate 20 in advance and performing the bonding process when the cover layer 80 has the aforementioned viscosity range, Inter-cell flow of electrophoretic particles 72R, 72B, 72B, 72K in the bonding process can be prevented and unintentional contamination of the fluid in the groove RA can be prevented during the bonding process. In addition, by forming the cover layer 80 on the upper substrate 20 in advance to perform the bonding process, it is possible to seal the cavity at the same time as the bonding process, the dielectric solution 71 and the particles (72R, 72G) , 72B, 72K) has the advantage that a separate process for sealing the filled groove portion can be omitted.
유전성 용액(71)과 입자들이 충전된 홈부(RA)를 밀폐시키기 위해 상부 기판(20)을 결합하기 전에 유전성 용액(71)과 격벽들(30)의 표면 위로 별도의 밀봉층을 형성하는 경우, 밀봉층을 구성하는 조성물의 밀도가 유전성 용액(71)의 밀도보다 작은 것이 바람직하지만, 본 실시예에서는 덮개층(80)의 밀도에 관한 요구가 적고, 그에 따라 습식 셀 구조는 물론 건식 셀 구조에도 적용될 수 있는 이점이 있다. 또한, 유전성 용액(71)과 격벽들(30) 상으로 밀봉층을 형성하는 경우, 유전성 용액(71)이 홈부(RA) 밖으로 나오게 되어 점도 제어가 어려우며, 필요에 따라 밖으로 나온 유전성 용액(71)을 별도로 제거하는 공정이 요구될 수 있다. 그러나, 전술한 바와 같이, 덮개층(80)을 기판(20)에 미리 형성하여, 기판들(10, 20)간 결합 공정과 동시에 홈부(RA)를 밀봉하면, 유전성 용액(71)이 홈부(RA) 밖으로 나오는 것이 감소되거나 억제될 수 있다.In the case where a separate sealing layer is formed on the surface of the dielectric solution 71 and the partition walls 30 before bonding the upper substrate 20 to seal the groove RA filled with the dielectric solution 71 and the particles, It is preferable that the density of the composition constituting the sealing layer is smaller than the density of the dielectric solution 71, but in this embodiment, there is less demand on the density of the covering layer 80, so that the wet cell structure as well as the dry cell structure There is an advantage that can be applied. In addition, when the sealing layer is formed on the dielectric solution 71 and the partition walls 30, the dielectric solution 71 comes out of the groove RA, so that it is difficult to control the viscosity, and the dielectric solution 71 comes out as necessary. It may be required to separately remove the process. However, as described above, when the cover layer 80 is formed in advance on the substrate 20 to seal the groove RA at the same time as the bonding process between the substrates 10 and 20, the dielectric solution 71 is formed in the groove portion ( RA) coming out can be reduced or suppressed.
후속하여, 기판들(10, 20)이 서로 결합된 상태에서, 덮개층(80)의 경화 공정을 수행한다. 상기 덮개층(80)의 경화 공정은 냉각; 용매 증발; 광조사, 전자빔 조사, 열, 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 수행될 수 있다. 덮개층(80)의 경화 공정은 덮개층(80)의 경도가 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 수행된다. 덮개층(80)의 경도가 5B 미만인 경우에는 격벽(30)과 상부 기판(20) 사이의 결합이 갖는 기계적 강도가 약하여 외부 충격이 의해 격벽(30)과 상부 기판(20)이 분리될 수 있다. 또한, 덮개층(80)의 경도가 7H 이상이 되면 격벽(30), 덮개층(80) 및 상부 기판(20) 사이의 결합이 양호하지 않고, 국지적인 분리가 일어난다. 따라서, 덮개층(80)의 경도가 전술한 범위 내일 때, 덮개층(80)의 경화 공정이 완료된다. Subsequently, while the substrates 10 and 20 are bonded to each other, the hardening process of the lid layer 80 is performed. The hardening process of the cover layer 80 is cooled; Solvent evaporation; Light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof. The curing process of the lid layer 80 is performed such that the hardness of the lid layer 80 has a pencil hardness of 5B to 7H. When the hardness of the cover layer 80 is less than 5B, the mechanical strength of the coupling between the partition wall 30 and the upper substrate 20 is weak, so that the partition wall 30 and the upper substrate 20 may be separated by external impact. . In addition, when the hardness of the cover layer 80 is 7H or more, the bonding between the partition 30, the cover layer 80 and the upper substrate 20 is not good, and local separation occurs. Therefore, when the hardness of the cover layer 80 is in the above-mentioned range, the hardening process of the cover layer 80 is completed.
전술한 공정들을 통하여, 격벽들(30), 상부 및 하부 기판(10, 20)에 의해 정의된 캐비티(V1, V2, V3) 구조를 갖는 전기 영동 디스플레이 장치(100)가 완성될 수 있다. 전술한 실시예에서는 캐비티(V1, V2, V3)를 정의하는 분리 부재로서 격벽(30)을 개시하고 있지만, 이는 예시적이며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 분리 부재는, 당해 기술 분야에서 잘 알려진 마이크로 컵 구조를 가질 수도 있다. 이 경우, 캐비티(V1, V2, v3)의 저면은, 전술한 격벽 구조와 달리, 마이크로 컵 구조의 저면이 될 수 있다. Through the above-described processes, the electrophoretic display apparatus 100 having the structures V1, V2, and V3 defined by the partitions 30 and the upper and lower substrates 10 and 20 may be completed. In the above-described embodiment, the partition wall 30 is disclosed as the separating member defining the cavities V1, V2, V3, but this is exemplary and the present invention is not limited thereto. For example, the separating member may have a micro cup structure well known in the art. In this case, the bottom of the cavities V1, V2, v3 may be the bottom of the microcup structure, unlike the partition structure described above.
또한, 전술한 실시예에서는, 구동 소자(AM)가 형성된 기판(10) 상에 격벽(30)을 형성하는 것을 개시하고 있지만, 이는 예시적이며, 상부 기판(20) 상에 격벽(30)을 형성하고, 구동 소자(AM)가 형성된 하부 기판(10) 상에 덮개층(80)을 형성하여 기판간 결합 공정을 수행할 수도 있다. In addition, although the above-described embodiment discloses forming the partition wall 30 on the substrate 10 on which the driving element AM is formed, this is exemplary, and the partition wall 30 is formed on the upper substrate 20. And a cover layer 80 may be formed on the lower substrate 10 on which the driving element AM is formed.
또한, 전술한 실시예에서는 전기 영동 입자들(72R, 72G, 72B)을 구동하기 위한 전극들(41, 42)이 대향 전극 구성을 갖지만, 이는 예시적이며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 구동 전극이 상기 기판들 중 어느 하나의 기판 상에 형성된 공지의 인플레인 전극 구성이나, 대향 전극 구성과 인플레인 전극 구성이 조합된 구성도 본 발명의 범위 내에 있음을 이해하여야 한다.Further, in the above-described embodiment, the electrodes 41 and 42 for driving the electrophoretic particles 72R, 72G and 72B have a counter electrode configuration, but this is exemplary and the present invention is not limited thereto. For example, it is to be understood that known in-plane electrode configurations in which drive electrodes are formed on any of the substrates, or combinations of opposing electrode configurations and in-plane electrode configurations, are also within the scope of the present invention.
이미지 시트 및 이의 제조 방법Image Sheets and Methods for Making the Same
도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 일 실시예에 따른 이미지 시트의 제조 방법을 공정 순서에 따라 도시한 단면도들이다. 이하에서 도시된 구성 부재들 중 도 1a 내지 도 1f에 개시된 구성 부재와 동일한 참조 번호를 갖는 구성 부재들에 관한 설명은 모순되지 않는 한, 도 1a 내지 도 1f를 참조하여 개시된 사항을 참조할 수 있으며, 중복된 설명은 생략한다.2A to 2F are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing an image sheet according to an embodiment of the present invention in a process sequence. Descriptions of components having the same reference numerals as those of FIGS. 1A to 1F among the components illustrated below may refer to those disclosed with reference to FIGS. 1A to 1F unless there is a contradiction. , Duplicate descriptions are omitted.
도 2a를 참조하면, 격벽(30)이 형성될 지지 기판(15)이 제공된다. 지지 기판(15)은, 도 1a를 참조하여 개시된 하부 기판(10)과 달리, 전기 영동 입자들을 구동하기 위한 구동 소자(AM)를 포함하지 않는다. 일부 실시예에서, 지지 기판(15)은 후술하는 구동 소자가 형성된 기판(10)과의 전기적 결합을 위해 개별 전극층(43)을 포함할 수도 있다. 개별 전극층(43)은 지지 기판(15)의 양 주면 상에 형성된 도전성 패턴들(44, 45)과 도전성 패턴들(44, 45)을 접속하는 도전성 비아(46)를 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 지지 기판(15)에는 개별 전극층(43)이 형성되지 않을 수도 있다. 이 경우, 하부 기판(10) 상에 형성된 개별 전극(42)과 캐비티는 지지 기판(15)에 의해 전기적으로 분리되고, 개별 전극(42)이 개별 전극층(43)의 역할을 하게 된다. Referring to FIG. 2A, a support substrate 15 on which a partition 30 is to be formed is provided. The support substrate 15, unlike the lower substrate 10 disclosed with reference to FIG. 1A, does not include a drive element AM for driving electrophoretic particles. In some embodiments, the support substrate 15 may include a separate electrode layer 43 for electrical coupling with the substrate 10 having the drive element described below. The individual electrode layer 43 may include conductive patterns 44 and 45 formed on both main surfaces of the support substrate 15 and conductive vias 46 connecting the conductive patterns 44 and 45. However, the present invention is not limited thereto, and the individual electrode layers 43 may not be formed on the support substrate 15. In this case, the individual electrodes 42 and the cavity formed on the lower substrate 10 are electrically separated by the supporting substrate 15, and the individual electrodes 42 serve as the individual electrode layers 43.
도 2b를 참조하면, 지지 기판(15) 상에 격벽들(30)이 형성된다. 격벽들(30)은 전기 영동 입자들이 충전되는 픽셀 또는 서브 픽셀이 될 캐비티의 외벽 일부를 제공한다. 지지 기판(15) 상에는 격벽들(30)의 측벽과 지지 기판(15)의 일부 표면에 의해 홈부들(RA)이 정의된다.Referring to FIG. 2B, barrier ribs 30 are formed on the support substrate 15. The partitions 30 provide a portion of the outer wall of the cavity that will be the pixel or sub-pixel to which the electrophoretic particles are filled. The grooves RA are defined on the support substrate 15 by sidewalls of the partition walls 30 and a part of the surface of the support substrate 15.
격벽들(30)은, 전술한 바와 같이, 건식 필름 포토레지스트(dry film photoresist)층을 이용한 라미네이션 및 포토리소그래피 공정을 통하여 형성될 수도 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 격벽들(30)은, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리스틸렌, 폴리카보네이트, 에폭시계 수지, 실리콘계 수지, 멜라민계 수지, 아크릴계 수지, 페놀계 수지와 같은 다양한 경화성 고분자 재료를 이용한 실크스크린 또는 몰드를 이용한 엠보싱 공정 등을 통하여 형성될 수도 있다. 다른 실시예로서, 격벽들(30)은 실리콘 산화물과 같은 절연성 무기 재료, 절연물질로 코팅된 금속 재료 또는 전술한 재료들 중 2 이상이 혼합된 조성물로 이루어진 막을 형성하고, 건식 또는 습식 식각 공정을 통하여 패터닝될 수도 있다. 또한, 격벽들(30)은 스크린 프린트, 드릴 비트, 임프린트(imprint), 소프트리소그래피(softlithography), 레이저 드릴링 공정 또는 잉크젯 프린팅 공정에 의해서도 형성될 수 있다.The barrier ribs 30 may be formed through a lamination and photolithography process using a dry film photoresist layer, as described above. However, the present invention is not limited thereto, and the partition walls 30 may be formed of various curable properties such as polyethylene, polystyrene, polycarbonate, epoxy resin, silicone resin, melamine resin, acrylic resin, and phenol resin. It may be formed through an embossing process using a silk screen or a mold using a polymer material. In another embodiment, the partitions 30 form a film made of an insulating inorganic material such as silicon oxide, a metal material coated with an insulating material, or a composition in which two or more of the above materials are mixed, and the dry or wet etching process is performed. It may be patterned through. The partitions 30 may also be formed by screen printing, drill bits, imprints, softlithography, laser drilling processes, or inkjet printing processes.
도 2c를 참조하면, 홈부(RA) 내에 유전성 용액(71)과 유전성 용액(71) 내에 분산된 전기 영동 입자들(72)을 채운다. 유전성 유체(71) 내에는 입자들(72) 이외에도, 전하 조절제(charge-controlling agent), 양이온성 또는 음이온성 계면 활성제, 금속 비누, 수지 재료, 금속계 결합제(coupling agent) 및 안정화제(stabilizing agent)와 같은 다양한 기능성 물질들이 첨가될 수 있다. 유전성 유체(71)는 투명하거나, 분산된 염료 및/또는 안료에 의해 착색될 수 있다. 다른 실시예에서, 유전성 유체로서 유전성 용액 대신에 기체가 사용될 수도 있다. Referring to FIG. 2C, the dielectric part 71 and the electrophoretic particles 72 dispersed in the dielectric solution 71 are filled in the groove RA. In addition to the particles 72 within the dielectric fluid 71, charge-controlling agents, cationic or anionic surfactants, metal soaps, resin materials, metal-based coupling agents and stabilizing agents Various functional materials such as can be added. The dielectric fluid 71 may be colored with transparent or dispersed dyes and / or pigments. In other embodiments, gas may be used instead of the dielectric solution as the dielectric fluid.
각 홈부 내에 충전된 입자들(72)은 백색 입자(72W) 및 흑색 입자(72K)를 포함하지만, 이는 예시적이다. 다른 실시예에서, 도 1d를 참조하여 상술한 바와 같이, 각 홈부들마다 서로 다른 종류의 입자들이 충전될 수도 있다. Particles 72 filled in each groove include white particles 72W and black particles 72K, but this is exemplary. In another embodiment, as described above with reference to FIG. 1D, different types of particles may be filled in each of the grooves.
도 2d를 참조하면, 덮개층(80)이 형성된 제 2 지지 기판(20; 본 도면에서는 상부 기판일 수 있음)이 제공된다. 상부 기판(20)은 투명 기판일 수 있다. 상기 투명 기판은 전술한 바와 같이 투명한 수지계 기판일 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상부 기판은 유리 기판일 수도 있다. 일부 실시예에서는, 상부 기판(20) 상에 산소 또는 수분의 침투를 막는 장벽층(21) 또는 반사 방지막(22)과 같은 광학층이 더 형성될 수도 있다. 선택적으로는, 표면 보호를 위한 보호층(23)을 더 포함할 수도 있다. Referring to FIG. 2D, a second support substrate 20 (which may be an upper substrate in this drawing) having a cover layer 80 is provided. The upper substrate 20 may be a transparent substrate. The transparent substrate may be a transparent resin substrate as described above. However, the present invention is not limited thereto, and the upper substrate may be a glass substrate. In some embodiments, an optical layer such as a barrier layer 21 or an anti-reflection film 22 may be further formed on the upper substrate 20 to prevent the penetration of oxygen or moisture. Optionally, it may further comprise a protective layer 23 for surface protection.
상부 기판(20)의 일 주면 상에는, 덮개층(80)을 형성하기 이전에 투명 공통 전극(41)이 더 형성될 수도 있다. 덮개층(80)은 전기적으로 절연성일 수 있지만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 덮개층(80)은 전도성을 가질 수 있으며, 이 경우, 투명 전극(41)의 저항을 감소시키거나, 투명 전극(41)을 대체할 수도 있다.On one main surface of the upper substrate 20, the transparent common electrode 41 may be further formed before the capping layer 80 is formed. The cover layer 80 may be electrically insulating, but the present invention is not limited thereto. The cover layer 80 may be conductive, in which case, the resistance of the transparent electrode 41 may be reduced or the transparent electrode 41 may be replaced.
상기 바인더 수지계 재료는, 예를 들면, 올리고머 및/또는 모노머를 포함할 수 있으며, 덮개층(80)은 광개시제, 가교제, 촉매 및/또는 계면 활성제와 같은 첨가제를 더 포함할 수도 있다. 덮개층(80)은 액상, 페이스트, 또는 고상 필름의 형태로 제공될 수 있다. 또한, 덮개층(80)이 단일한 층으로 형성되거나, 복수의 층으로 형성될 수 있음은 전술한 바와 같다.The binder resin-based material may include, for example, oligomers and / or monomers, and the cover layer 80 may further include additives such as photoinitiators, crosslinkers, catalysts, and / or surfactants. The cover layer 80 may be provided in the form of a liquid, a paste, or a solid film. In addition, as described above, the cover layer 80 may be formed of a single layer or a plurality of layers.
덮개층(80)이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 격벽들(30)의 상부 표면에 밀착되도록 상부 기판(20)을 지지 기판(15)에 결합한다. 바람직하게는, 기판들(15, 20)의 결합 공정은 덮개층(80)의 점도가 1.5 X 103 mPa·s 내지 1.0 X 106 mPa·s 사이에서 수행될 수 있다. 덮개층(80)의 점도 제어는 냉각; 용매의 증발; 광 조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출에 의한 가교에 의해 점도를 증가시키거나, 가열 또는 액상 도포 등에 의해 점도를 감소시키는 방법으로 수행될 수 있다. When the cover layer 80 has a viscosity of between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s, the upper substrate 20 is supported to adhere to the upper surfaces of the partition walls 30. To combine. Preferably, the bonding process of the substrates 15 and 20 may be performed at a viscosity of the lid layer 80 between 1.5 × 10 3 mPa · s and 1.0 × 10 6 mPa · s. Viscosity control of the cover layer 80 may be cooled; Evaporation of the solvent; It may be carried out by a method of increasing the viscosity by crosslinking by light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, or by decreasing the viscosity by heating or liquid coating.
도 2e를 참조하면, 기판들(15, 20)이 서로 결합된 상태에서, 덮개층(80)의 경화 공정을 수행한다. 덮개층(80)의 경화 공정은 냉각; 용매 증발; 광조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출에 의한 가교 공정에 의해 수행될 수 있다. 덮개층(80)의 경화 공정은 덮개층(80)의 경도가 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 수행된다. 덮개층(80)의 경도가 5B 미만인 경우에는 격벽(30)과 상부 기판(20) 사이의 결합이 갖는 기계적 강도가 약하여 외부 충격에 의해 격벽(30)과 상부 기판(20)이 분리될 수 있다. 또한, 덮개층(30)의 경도가 7H 이상이 되면 격벽(30), 덮개층(80) 및 상부 기판(20) 사이의 결합이 양호하지 않고, 국지적인 분리가 일어날 수 있다. 따라서, 덮개층(80)의 경도가 전술한 범위 내일 때, 덮개층(80)의 경화 공정이 완료된다. 전술한 공정들을 거쳐 이미지 시트(200)가 완성된다. Referring to FIG. 2E, in a state in which the substrates 15 and 20 are bonded to each other, a curing process of the cover layer 80 is performed. The hardening process of the cover layer 80 is cooling; Solvent evaporation; It may be carried out by a crosslinking process by light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure. The curing process of the lid layer 80 is performed such that the hardness of the lid layer 80 has a pencil hardness of 5B to 7H. When the hardness of the cover layer 80 is less than 5B, the mechanical strength of the coupling between the partition wall 30 and the upper substrate 20 is weak, so that the partition wall 30 and the upper substrate 20 may be separated by an external impact. . In addition, when the hardness of the cover layer 30 is 7H or more, the coupling between the partition wall 30, the cover layer 80, and the upper substrate 20 is not good, and local separation may occur. Therefore, when the hardness of the cover layer 80 is in the above-mentioned range, the hardening process of the cover layer 80 is completed. The image sheet 200 is completed through the above-described processes.
전술한 바와 같이, 상부 기판(20) 상에 덮개층(80)을 미리 형성하고, 덮개층(80)이 전술한 점도 범위를 가질 때 상기 결합 공정을 수행함으로써, 기판들(15, 20)의 결합 공정에서 전기 영동 입자들(72)의 셀간 유동이 방지되고 홈부(RA) 내의 유체가 결합 공정 동안 의도하지 않게 오염되는 것이 방지될 수 있다. 또한, 상부 기판(20) 상에 미리 덮개층(80)을 형성하여 결합 공정을 수행하기 때문에, 결합 공정과 동시에 캐비티(V1, V2, V3)의 밀폐화를 수행할 수 있어, 유전성 용액(71)와 입자들(72)이 충전된 홈부를 밀폐시키기 위한 별도의 공정이 생략될 수 있는 이점이 있다.As described above, by forming the capping layer 80 on the upper substrate 20 in advance and performing the bonding process when the capping layer 80 has the aforementioned viscosity range, the substrates 15, 20 Inter-cell flow of electrophoretic particles 72 in the bonding process can be prevented and unintentional contamination of the fluid in the groove RA can be prevented during the bonding process. In addition, since the cover layer 80 is formed on the upper substrate 20 in advance, the bonding process may be performed, thereby simultaneously sealing the cavities V1, V2, and V3 at the same time as the bonding process. ) And a separate process for sealing the groove part filled with the particles 72 may be omitted.
도 2f를 참조하면, 이미지 시트(200)와 액티브매트릭스층(AM)과 같은 구동 소자층을 포함하는 하부 기판(10)을 결합하여 도 1f에 도시된 바와 같이 전기 영동 디스플레이 장치가 제공될 수 있다. 이미지 시트(200)와 하부 기판(10) 사이의 결합은 접착층(85)에 의해 달성될 수 있다. 접착층(85)은 임의의 적합한 수지계 접착층이거나 이방성 도전성 접착층일 수도 있다. 접착층(85)이 이방성 도전성 접착층인 경우, 접착층(85)는 이미지 시트(200)와 하부 기판(10)의 전면적에 걸쳐 연장될 수도 있다.Referring to FIG. 2F, an electrophoretic display device may be provided as shown in FIG. 1F by combining an image sheet 200 and a lower substrate 10 including a driving element layer such as an active matrix layer AM. . Bonding between the image sheet 200 and the lower substrate 10 may be accomplished by an adhesive layer 85. The adhesive layer 85 may be any suitable resin-based adhesive layer or an anisotropic conductive adhesive layer. When the adhesive layer 85 is an anisotropic conductive adhesive layer, the adhesive layer 85 may extend over the entire area of the image sheet 200 and the lower substrate 10.
전술한 이미지 시트(200)에 관한 실시예들에서는 캐비티(V1, V2, V3)를 정의하는 분리 부재로서 격벽(30)을 개시하고 있지만, 이는 예시적이며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 분리 부재는, 당해 기술 분야에서 잘 알려진 마이크로 컵 구조를 가질 수도 있다. 이 경우, 캐비티의 저면은, 전술한 격벽 구조와 달리, 마이크로 컵 구조의 저면이 된다. In the above-described embodiments of the image sheet 200, the partition wall 30 is disclosed as the separating member defining the cavities (V1, V2, V3), but this is exemplary and the present invention is not limited thereto. For example, the separating member may have a micro cup structure well known in the art. In this case, the bottom of the cavity becomes the bottom of the microcup structure, unlike the partition structure described above.
또한, 도시된 실시예에서는 전기 영동 입자들(72)을 구동하기 위한 전극(41, 44)이 대향 전극 구성을 갖지만, 이는 예시적이며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 구동 전극이 상기 기판들 중 어느 하나의 기판 상에 형성된 공지의 인플레인 전극 구성도 본 발명의 범위 내에 있음을 이해하여야 한다.Further, although the electrodes 41 and 44 for driving the electrophoretic particles 72 have opposing electrode configurations in the illustrated embodiment, this is exemplary and the present invention is not limited thereto. For example, it is to be understood that known in-plane electrode configurations in which drive electrodes are formed on any of the substrates are within the scope of the present invention.
전술한 전기 영동 디스플레이 장치 및 이미지 시트에 관하여 개시된 특징들은 모순되지 않는 한, 상호 호환되거나 조합되어 실시될 수 있다. 예를 들면, 전기 영동 디스플레이 장치와 관련된 입자 시스템이 이미지 시트에 적용될 수도 있으며, 이미지 시트의 기판(20) 상에 분리 부재들(30)을 형성할 수도 있다. 또한, 전기 영동 디스플레이 장치의 경우에도, 도 2d에 도시된 단일층 구조를 갖는 덮개층(80)이 적용될 수도 있다.Features disclosed with respect to the electrophoretic display device and image sheet described above can be implemented interchangeably or in combination, unless inconsistent. For example, a particle system associated with an electrophoretic display device may be applied to the image sheet and may form separating members 30 on the substrate 20 of the image sheet. Also, in the case of the electrophoretic display device, the cover layer 80 having the single layer structure shown in FIG. 2D may be applied.
이상에서 설명한 본 발명이 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

Claims (23)

  1. 제 1 기판 상에 각각 측벽을 갖는 복수의 분리 부재들을 형성하는 단계;Forming a plurality of separation members each having sidewalls on the first substrate;
    상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 홈부 내에 복수의 전기 영동 입자들을 충전하는 단계;Filling a plurality of electrophoretic particles into grooves defined by the plurality of separating members;
    제 2 기판 상에 덮개층을 형성하는 단계;Forming a cover layer on the second substrate;
    상기 덮개층이 상기 분리 부재들의 상부 표면에 밀착되도록 상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하는 단계; 및Bonding the second substrate to the first substrate such that the cover layer adheres to the upper surfaces of the separation members; And
    상기 덮개층을 경화시키는 단계를 포함하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.Hardening the cover layer comprises a method of manufacturing an electrophoretic display device.
  2. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1,
    상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에 수행되는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.Coupling the second substrate to the first substrate is performed when the cover layer has a viscosity between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s. Method of preparation.
  3. 제 1 항에서, In claim 1,
    상기 제 2 기판을 상기 제 1 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층의 점도는 1.5 X 103 mPa·s 내지 1.0 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에 수행되는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.Bonding the second substrate to the first substrate is performed when the viscosity of the lid layer has a viscosity between 1.5 × 10 3 mPa · s and 1.0 × 10 6 mPa · s. Method of manufacturing a display device.
  4. 제 1 항에서,In claim 1,
    상기 덮개층의 점도 제어는 냉각, 덮개층 조성물 내의 용매 증발, 광 조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 증가시키거나, 가열, 용매 도포, 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 감소시키는 것에 의해 달성되는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.Viscosity control of the capping layer increases the viscosity by cooling, solvent evaporation in the capping layer composition, light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof, heating, solvent application, or a combination thereof. A method of manufacturing an electrophoretic display device, characterized by reducing the viscosity by
  5. 제 1 항에서, 상기 덮개층을 경화시키는 단계에서, The method of claim 1, wherein in the step of curing the cover layer,
    상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화되는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.The cover layer is a manufacturing method of an electrophoretic display device, characterized in that cured to have a pencil hardness of 5B to 7H.
  6. 제 1 항에서, In claim 1,
    상기 덮개층을 경화시키는 단계는 냉각; 용매 증발; 광조사, 전자빔 조사, 열, 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.Curing the lid layer may include cooling; Solvent evaporation; A method of manufacturing an electrophoretic display device, characterized in that it is carried out by light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking or a combination thereof.
  7. 제 1 항에서, In claim 1,
    상기 분리 부재는 격벽 또는 마이크로컵 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법. The separating member has a partition or microcup structure, characterized in that the manufacturing method of the electrophoretic display device.
  8. 제 1 항에서, In claim 1,
    상기 덮개층은 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.The cover layer is a manufacturing method of an electrophoretic display device, characterized in that the multi-layer structure.
  9. 제 1 항에서, In claim 1,
    상기 덮개층은 액상, 페이스트 또는 고상 필름 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.The cover layer is a manufacturing method of an electrophoretic display device, characterized in that provided in the form of a liquid, paste or solid film.
  10. 제 1 항에서, In claim 1,
    상기 전기 영동 디스플레이 장치는 건식 또는 습식인 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치의 제조 방법.The electrophoretic display device manufacturing method of the electrophoretic display device, characterized in that the dry or wet.
  11. 제 1 지지 기판 상에 각각 측벽을 갖는 복수의 분리 부재들을 형성하는 단계;Forming a plurality of separation members each having side walls on the first support substrate;
    상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 홈부 내에 복수의 전기 영동 입자들을 충전하는 단계;Filling a plurality of electrophoretic particles into grooves defined by the plurality of separating members;
    제 2 지지 기판 상에 덮개층을 형성하는 단계;Forming a cover layer on the second support substrate;
    상기 덮개층이 상기 분리 부재들의 상부 표면에 밀착되도록 상기 제 2 지지 기판을 상기 제 1 지지 기판에 결합하는 단계; 및Coupling the second support substrate to the first support substrate such that the cover layer adheres to the top surfaces of the separation members; And
    상기 덮개층을 경화시키는 단계를 포함하는 이미지 시트의 제조 방법.Hardening the cover layer.
  12. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11,
    상기 제 2 지지 기판을 상기 제 1 지지 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층이 1 X 103 mPa·s 내지 1.5 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 수행되는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.Bonding the second support substrate to the first support substrate is performed when the cover layer has a viscosity between 1 × 10 3 mPa · s and 1.5 × 10 6 mPa · s. Method of manufacturing the sheet.
  13. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11,
    상기 제 2 지지 기판을 상기 제 1 지지 기판에 결합하는 단계는, 상기 덮개층이 1.5 X 103 mPa·s 내지 1.0 X 106 mPa·s 사이의 점도를 가질 때에, 수행되는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.Bonding the second support substrate to the first support substrate is performed when the cover layer has a viscosity between 1.5 × 10 3 mPa · s and 1.0 × 10 6 mPa · s. Method of manufacturing the sheet.
  14. 제 11 항에서,In claim 11,
    상기 덮개층의 점도 제어는 냉각, 덮개층 조성물 내의 용매 증발, 광 조사, 전자빔 조사, 열 또는 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 증가시키거나, 가열, 용매 도포, 또는 이들의 조합에 의해 상기 점도를 감소시키는 것에 의해 달성되는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.Viscosity control of the capping layer increases the viscosity by cooling, solvent evaporation in the capping layer composition, light irradiation, electron beam irradiation, heat or moisture exposure, crosslinking, or a combination thereof, heating, solvent application, or a combination thereof. Achieved by reducing the viscosity by means of a method for producing an image sheet.
  15. 제 11 항에서, 상기 덮개층을 경화시키는 단계에서, The method of claim 11, wherein in the step of curing the cover layer,
    상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화되는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.The cover layer is hardened to have a pencil hardness of 5B to 7H, characterized in that the manufacturing method of the image sheet.
  16. 제 11 항에서, In claim 11,
    상기 덮개층을 경화시키는 단계는 냉각; 용매 증발; 광조사, 전자빔 조사, 열, 습기 노출, 가교 또는 이들의 조합에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.Curing the lid layer may include cooling; Solvent evaporation; A method for producing an image sheet, characterized in that it is carried out by light irradiation, electron beam irradiation, heat, moisture exposure, crosslinking or a combination thereof.
  17. 제 11 항에서, In claim 11,
    상기 분리 부재는 격벽 또는 마이크로컵 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법. And said separating member has a partition or microcup structure.
  18. 제 11 항에서, In claim 11,
    상기 덮개층은 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.The cover layer has a multilayer structure, characterized in that the manufacturing method of the image sheet.
  19. 제 11 항에서, In claim 11,
    상기 덮개층은 액상, 페이스트 또는 고상 필름 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.The cover layer is a manufacturing method of the image sheet, characterized in that provided in the form of a liquid, paste or solid film.
  20. 제 11 항에서, In claim 11,
    상기 이미지 시트는 건식 또는 습식인 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.And the image sheet is dry or wet.
  21. 제 11 항에서, In claim 11,
    상기 지지 기판은 개별 전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 시트의 제조 방법.And said support substrate comprises a separate electrode layer.
  22. 서로 대향하는 기판들 사이에 배치되는 복수의 분리 부재들;A plurality of separating members disposed between the substrates facing each other;
    상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 캐비티들 내에 충전되는 복수의 전기 영동 입자들; 및A plurality of electrophoretic particles filled in cavities defined by the plurality of separating members; And
    상기 캐비티들과 상기 기판들 중 어느 하나의 기판 사이에 배치되어 상기 캐비티들의 기밀을 확보하면서 상기 기판들의 기계적 결합을 유지하는 덮개층을 포함하며,A cover layer disposed between the cavities and one of the substrates to maintain the mechanical bonding of the substrates while ensuring the airtightness of the cavities;
    상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화된 바인더층을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기 영동 디스플레이 장치.The cover layer is an electrophoretic display device comprising a binder layer cured to have a pencil hardness of 5B to 7H.
  23. 서로 대향하는 지지 기판들 사이에 배치되는 복수의 분리 부재들;A plurality of separating members disposed between the supporting substrates facing each other;
    상기 복수의 분리 부재들에 의해 정의되는 캐비티들 내에 충전되는 복수의 전기 영동 입자들; 및A plurality of electrophoretic particles filled in cavities defined by the plurality of separating members; And
    상기 캐비티들과 상기 지지 기판들 중 어느 하나의 지지 기판 사이에 배치되어 상기 캐비티들의 기밀을 확보하면서 상기 기판들의 기계적 결합을 유지하는 덮개층을 포함하며, A cover layer disposed between the cavities and the supporting substrate of any one of the supporting substrates to maintain the mechanical bonding of the substrates while ensuring the airtightness of the cavities;
    상기 덮개층은 5B 내지 7H의 연필 경도를 갖도록 경화된 바인더층을 포함하는 것을 특징으로 하는 이미지 시트.The cover layer is an image sheet, characterized in that it comprises a binder layer cured to have a pencil hardness of 5B to 7H.
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