WO2012023360A1 - Method for manufacturing position input devices and device for manufacturing position input devices - Google Patents

Method for manufacturing position input devices and device for manufacturing position input devices Download PDF

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Abstract

Disclosed are a method for manufacturing position input devices and a device for manufacturing position input devices, allowing improvements such as reductions in cost, weight, and thickness. Said method for manufacturing touch panels (position input devices) (12) includes: a primary reinforcement step in which a primary reinforcing layer (21) is formed on the surface of a glass-substrate base material (16M) from which a plurality of glass substrates (16) can be produced; a pattern-formation step in which pattern layers (17 and 18) for detecting position input are layered outside the primary reinforcing layer (21) on the glass-substrate base material (16M); a segmentation step in which the glass-substrate base material (16M) is segmented, producing a plurality of glass substrates (16); and a secondary reinforcement step in which a chemical strengthening process using ion exchange is performed multiple times, with intervals therebetween, on the edge surfaces (16b) of the produced glass substrates (16) in order to form secondary reinforcing layers (22).

Description

位置入力装置の製造方法、及び位置入力装置の製造装置Method for manufacturing position input device, and apparatus for manufacturing position input device
　本発明は、位置入力装置の製造方法、及び位置入力装置の製造装置に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a position input device and a device for manufacturing a position input device.
　近年、携帯型情報端末や携帯電話などの電子機器において、操作性及びユーザビリティを高めることを目的として、タッチパネルを用いた液晶表示装置の搭載が進められている。この種の液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネルと、液晶パネルにおける表示面側に配されるタッチパネルとを対向状に貼り合わせてなる、表示モジュールを備えている。タッチパネルは、透光性を有するとともに、例えば指やタッチペンにより触れることで、液晶パネルの表示面の面内における位置情報を入力することができる。これにより、使用者に液晶パネルに表示された画像に直接触れるような、直感的な操作を可能としている。 In recent years, in electronic devices such as portable information terminals and mobile phones, mounting of liquid crystal display devices using touch panels has been promoted for the purpose of improving operability and usability. This type of liquid crystal display device includes a display module in which a liquid crystal panel for displaying an image and a touch panel disposed on the display surface side of the liquid crystal panel are bonded to each other in an opposing manner. The touch panel has translucency and can input position information within the display surface of the liquid crystal panel by touching it with a finger or a touch pen, for example. As a result, an intuitive operation is possible in which the user directly touches the image displayed on the liquid crystal panel.
　ところで、携帯型情報端末や携帯電話などの電子機器は、主に持ち運んで様々な場所にて使用される用途に供されるものであるため、高所から落下させられたり、硬質なものが突き当てられる可能性があり、その場合にタッチパネルの表面が露出しているとタッチパネルが損傷を受けるおそれがある。そこで、タッチパネルを表側から覆うような形でカバーガラスを設ける構成を採用する場合があり、その場合にはカバーガラスとして化学強化処理などを施した強化ガラスが用いられる。なお、強化ガラスをタッチパネルのカバーガラスとして用いたものの一例として、下記特許文献１に記載されたものが知られている。 By the way, electronic devices such as portable information terminals and mobile phones are mainly carried and used for various places, so they can be dropped from high places or hard ones can be used. In this case, if the surface of the touch panel is exposed, the touch panel may be damaged. Therefore, a configuration in which a cover glass is provided so as to cover the touch panel from the front side may be employed, and in that case, tempered glass subjected to chemical tempering treatment or the like is used as the cover glass. In addition, what was described in the following patent document 1 is known as an example of what used tempered glass as a cover glass of a touchscreen.
特開２０１０－３０８７６号公報JP 2010-30876 A
（発明が解決しようとする課題）
　上記した特許文献１に記載されたものでは、タッチパネルに加えて別部品のカバーガラスを用いていたため、部品点数が多くなりがちとなり、低コスト化、軽量化、薄型化などを図る上で限界があった。 (Problems to be solved by the invention)
In the above-described patent document 1, since a cover glass as a separate part is used in addition to the touch panel, the number of parts tends to increase, and there is a limit in achieving cost reduction, weight reduction, thickness reduction, and the like. there were.
　本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる位置入力装置の製造方法及び位置入力装置の製造装置を提供することを目的とする。 The present invention has been completed based on the above circumstances, and provides a position input device manufacturing method and a position input device manufacturing apparatus that can be reduced in cost, weight, and thickness. For the purpose.
（課題を解決するための手段）
　本発明の位置入力装置の製造方法は、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化工程と、前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成工程と、前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割工程と、取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化工程とを備えている。 (Means for solving problems)
The manufacturing method of the position input device of the present invention includes a primary strengthening step of forming a primary strengthening layer on the surface of a glass substrate base material from which a plurality of glass substrates can be taken out, and the primary strengthening layer of the glass substrate base material. On the other hand, a pattern forming step of forming a pattern layer for detecting the input position on the outside, a dividing step of dividing the glass substrate base material and taking out the plurality of glass substrates, and the taken out And a secondary strengthening step of forming a secondary strengthening layer on the end face of the glass substrate by performing chemical strengthening treatment by ion exchange a plurality of times at intervals.
　このような位置入力装置の製造方法によると、パターン形成工程では、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、仮に分割工程を行った後に個々のガラス基板にそれぞれ個別にパターン層を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化工程にてガラス基板母材に一次強化層を形成してから、パターン形成工程にてガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、一次強化層を形成する上で作用し得る高温などがパターン層に作用するのを回避することができ、もってパターン層がダメージを受けるのを防ぐことができる。 According to the manufacturing method of such a position input device, in the pattern forming process, the pattern layer is formed on the glass substrate base material from which a plurality of glass substrates can be taken out. Compared with the case where the pattern layers are individually formed on the individual glass substrates, efficient processing can be performed and the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, since the primary strengthening layer is first formed on the glass substrate base material in the primary strengthening step, the pattern layer is formed on the glass substrate base material in the pattern forming step, so the primary strengthening layer is formed. Therefore, it is possible to avoid the high temperature that can act on the pattern layer from acting on the pattern layer, thereby preventing the pattern layer from being damaged.
　上記のようにガラス基板母材に先に一次強化層を形成してからパターン層を形成し、その後に個々のガラス基板を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板の端面には一次強化層が存しなくなる可能性があるものの、本発明では二次強化工程にてガラス基板の端面に二次強化層を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化工程では、ガラス基板の端面にイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板全体を加熱する必要がなく、またガラス基板を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板に形成されたパターン層にダメージを与えることなく、二次強化層を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板の端面にコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。 As described above, when the manufacturing is performed according to the procedure in which the primary reinforcing layer is first formed on the glass substrate base material and then the pattern layer is formed, and then the individual glass substrates are divided, the individual steps are accompanied with the dividing step. Although there is a possibility that the primary reinforcing layer does not exist on the end surface of the glass substrate, in the present invention, since the secondary reinforcing layer is formed on the end surface of the glass substrate in the secondary strengthening step, the strength is reduced. Therefore, a sufficiently high strength can be ensured. In addition, in the secondary strengthening step, a secondary strengthening layer is formed by performing chemical strengthening treatment by ion exchange on the end face of the glass substrate. The secondary reinforcing layer can be formed without heating and without heating the glass substrate until the softening point is reached. Thereby, it is possible to form the secondary reinforcing layer without damaging the pattern layer formed on the glass substrate. In addition, compared with the case where strengthening is achieved by forming a coating layer on the end face of the glass substrate, the secondary reinforcing layer formed by the chemical strengthening treatment is not lost due to friction or the like, and has a high strength over time. Can be maintained.
　そして、二次強化工程では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板の端面が急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板に熱歪みを生じさせ、その結果端面に元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板の端面を急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化工程にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板の端面を急冷することなく十分な厚みを持った二次強化層を形成することが可能となる。これにより、二次強化工程においてガラス基板に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板の強度を十分に高くすることができる。 In the secondary strengthening step, the chemical strengthening process by ion exchange is performed a plurality of times at intervals, so that the following actions and effects can be obtained. In other words, if the chemical strengthening process is performed at once without any interval, the end face of the glass substrate may be rapidly cooled along with the chemical strengthening process. There is a possibility that the glass substrate is cracked by promoting the growth of slight scratches and cracks existing from the beginning. However, if the chemical strengthening treatment is performed so as not to rapidly cool the end face of the glass substrate, the thickness of the formed secondary reinforcing layer becomes insufficient, and the strength may be insufficient. In that respect, by performing chemical strengthening treatment by ion exchange multiple times at intervals in the secondary strengthening step as described above, the thickness of the glass substrate having a sufficient thickness without rapidly cooling the end face of the glass substrate. The next reinforcing layer can be formed. Thereby, it is possible to avoid the occurrence of cracks and the like in the glass substrate in the secondary strengthening step and to sufficiently increase the strength of the glass substrate.
　以上のようにパターン層を形成したガラス基板の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板からなる位置入力装置とは別途に強化ガラスを用いてその位置入力装置の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。 Since the strength of the glass substrate on which the pattern layer is formed as described above can be made sufficiently high, the tempered glass is provided separately from the position input device made of a glass substrate that does not have each tempered layer as in the past. Compared with the case where the position input device is protected by using the device, the number of parts can be reduced, so that the cost, weight, thickness, etc. can be reduced.
　本発明に係る位置入力装置の製造方法の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記二次強化工程には、前記ガラス基板の端面を加熱する加熱工程と、加熱された前記ガラス基板の端面に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程とが含まれている。このようにすれば、加熱工程にてガラス基板の端面を加熱した上で化学強化処理工程にてガラス基板の端面に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることで、ガラス基板の端面において効率的にイオン交換を生じさせて化学強化を図ることができる。 As an embodiment of the method for manufacturing the position input device according to the present invention, the following configuration is preferable.
(1) In the secondary strengthening step, a heating step of heating the end face of the glass substrate and a chemical strengthening treatment step of attaching a chemical strengthening treatment liquid to the end face of the heated glass substrate at a plurality of intervals with intervals. And are included. If it does in this way, after heating the end surface of a glass substrate in a heating process, it will leave a space | interval in the end surface of a glass substrate in a chemical strengthening treatment process, and will attach a chemical strengthening processing liquid over a plurality of times, Chemical reinforcement can be achieved by efficiently generating ion exchange at the end face.
（２）前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面に対してレーザ光を照射するようにしている。このようにすれば、ガラス基板のうち端面を局所的に且つ効率的に加熱することができる。 (2) In the heating step, the end surface of the glass substrate is irradiated with laser light. If it does in this way, an end surface among glass substrates can be heated locally and efficiently.
（３）前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面の加熱温度を、前記ガラス基板の軟化点よりも低いものとしている。このようにすれば、仮に加熱温度をガラス基板の軟化点と同じまたはそれよりも高くした場合には、ガラス基板の板面に形成されたパターン層にまで伝熱してパターン層がダメージを受ける可能性があるが、本発明によれば、そのような問題を生じ難くすることができる。 (3) In the heating step, the heating temperature of the end face of the glass substrate is lower than the softening point of the glass substrate. In this way, if the heating temperature is the same as or higher than the softening point of the glass substrate, heat can be transferred to the pattern layer formed on the plate surface of the glass substrate and the pattern layer can be damaged. However, according to the present invention, such a problem can be made difficult to occur.
（４）前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって加熱しており、前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって化学強化処理するようにしている。このようにすれば、二次強化層をガラス基板の端面の全周にわたって形成することができるから、ガラス基板の強度を一層向上させることができる。 (4) In the heating step, the end surface of the glass substrate is heated over the entire circumference, and in the chemical strengthening treatment step, the end surface of the glass substrate is chemically strengthened over the entire circumference. In this way, since the secondary reinforcing layer can be formed over the entire circumference of the end surface of the glass substrate, the strength of the glass substrate can be further improved.
（５）前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板のうち端面に対して局所的に且つ効率的に化学強化処理液を付着させることができる。 (5) In the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed on an end surface of the glass substrate. If it does in this way, a chemical strengthening process liquid can be made to adhere locally and efficiently with respect to an end surface among glass substrates.
（６）前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板をその板面に沿う方向に搬送するとともにその搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置された複数のノズルから前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板を搬送しつつその端面に対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。 (6) In the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening is performed with respect to the end surface from a plurality of nozzles arranged in parallel along the transport direction while transporting the glass substrate in a direction along the plate surface. The treatment liquid is sprayed. If it does in this way, since a chemical strengthening process liquid can be made to adhere several times at intervals with respect to the end surface, conveying a glass substrate, it is excellent in manufacturing efficiency.
（７）前記加熱工程では、前記化学強化処理工程に係る前記複数のノズルに対して前記ガラス基板の搬送方向における上流側に配した加熱装置により前記ガラス基板の端面を加熱するようにしている。このようにすれば、ガラス基板を搬送しつつ端面を加熱した後に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に一層優れる。 (7) In the heating step, the end surface of the glass substrate is heated by a heating device disposed on the upstream side in the transport direction of the glass substrate with respect to the plurality of nozzles related to the chemical strengthening treatment step. If it does in this way, since an end surface is heated, conveying a glass substrate, a chemical strengthening process liquid can be made to adhere several times at intervals, and it is further excellent in manufacturing efficiency.
（８）前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板を挟んだ両側から前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板の端面に対して効率的に化学強化処理液を付着させることができ、製造効率に優れる。 (8) In the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed to the end face from both sides of the glass substrate. If it does in this way, a chemical strengthening processing liquid can be made to adhere efficiently to the end face of a glass substrate, and it is excellent in manufacturing efficiency.
（９）前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液を霧状にして前記ガラス基板の端面に対して吹き付けるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板の端面に対して均一な濃度でもって万遍なく付着させることができ、もって均一な厚さの二次強化層を形成することができる。 (9) In the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment solution is sprayed onto the end surface of the glass substrate in the form of a mist. If it does in this way, a chemical strengthening processing liquid can be uniformly attached with the uniform density | concentration with respect to the end surface of a glass substrate, and can thereby form the secondary reinforcement layer of uniform thickness.
（１０）前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液として、アルカリ金属イオンを含有する溶融塩を用いるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板の端面に付着させると、化学強化処理液をなす溶融塩に含有されるアルカリ金属イオンがガラス基板の表面に存するアルカリ金属イオンと交換されることで、ガラス基板の端面に圧縮応力が残留した圧縮層からなる二次強化層が形成される。 (10) In the chemical strengthening treatment step, a molten salt containing alkali metal ions is used as the chemical strengthening treatment liquid. In this way, when the chemical strengthening treatment liquid is attached to the end surface of the glass substrate, the alkali metal ions contained in the molten salt forming the chemical strengthening treatment liquid are exchanged with the alkali metal ions present on the surface of the glass substrate. Thus, a secondary reinforcing layer made of a compressed layer in which compressive stress remains on the end face of the glass substrate is formed.
（１１）前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面に化学強化処理または風冷強化処理を施すことで、前記一次強化層として圧縮層を形成している。このようにすれば、一次強化工程にてガラス基板の表面に一次強化層として圧縮層を形成することで、ガラス基板の強度を十分に高いものとすることができる。 (11) In the primary strengthening step, the surface of the glass substrate is subjected to a chemical strengthening process or an air cooling strengthening process to form a compressed layer as the primary strengthening layer. If it does in this way, the intensity | strength of a glass substrate can be made high enough by forming a compression layer as a primary reinforcement layer in the surface of a glass substrate at a primary reinforcement | strengthening process.
（１２）前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面にイオン交換による化学強化処理を施すようにしている。このようにすれば、ガラス基板の強度をさらに高いものとすることができる。 (12) In the primary strengthening step, a chemical strengthening process by ion exchange is performed on the surface of the glass substrate. If it does in this way, the intensity | strength of a glass substrate can be made still higher.
（１３）前記分割工程と前記二次強化工程との間に、前記ガラス基板の端部を加工して外形を整える端部加工工程を備える。このようにすれば、端部加工工程にてガラス基板の端部を加工して外形を整えた後に、二次強化工程にてガラス基板の端面に二次強化層を形成することができる。 (13) Between the said division | segmentation process and the said secondary reinforcement | strengthening process, the edge part process process which processes the edge part of the said glass substrate and arranges an external shape is provided. If it does in this way, after processing the edge part of a glass substrate in an edge part process process and adjusting the external shape, a secondary reinforcement layer can be formed in the end surface of a glass substrate in a secondary reinforcement process.
　次に、上記課題を解決するために、本発明の位置入力装置の製造装置は、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化装置と、前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成装置と、前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割装置と、取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化装置とを備えている。 Next, in order to solve the above-described problem, the position input device manufacturing apparatus of the present invention includes a primary strengthening device that forms a primary strengthening layer on the surface of a glass substrate base material from which a plurality of glass substrates can be taken out, and A pattern forming apparatus that forms a pattern layer for detecting an input position on the outside of the primary reinforcing layer of the glass substrate base material, and a plurality of the glasses by dividing the glass substrate base material A splitting device for taking out the substrate, and a secondary strengthening device for forming a secondary strengthening layer by performing chemical strengthening treatment by ion exchange a plurality of times at intervals on the end face of the taken-out glass substrate are provided. .
　このような位置入力装置の製造装置によると、パターン形成装置では、複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、仮に分割装置による分割を行った後に個々のガラス基板にそれぞれ個別にパターン層を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化装置にてガラス基板母材に一次強化層を形成してから、パターン形成装置にてガラス基板母材にパターン層を形成するようにしているので、一次強化層を形成する上で作用し得る高温などがパターン層に作用するのを回避することができ、もってパターン層がダメージを受けるのを防ぐことができる。 According to such a position input device manufacturing apparatus, in the pattern forming apparatus, the pattern layer is formed on the glass substrate base material from which a plurality of glass substrates can be taken out. Then, compared with the case where the pattern layers are individually formed on the individual glass substrates, efficient processing can be performed, and the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, since the primary strengthening layer is first formed on the glass substrate base material with the primary strengthening device, the pattern layer is formed on the glass substrate base material with the pattern forming device, so the primary strengthening layer is formed. Therefore, it is possible to avoid the high temperature that can act on the pattern layer from acting on the pattern layer, thereby preventing the pattern layer from being damaged.
　上記のようにガラス基板母材に先に一次強化層を形成してからパターン層を形成し、その後に個々のガラス基板を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板の端面には一次強化層が存しなくなる可能性があるものの、本発明では二次強化装置にてガラス基板の端面に二次強化層を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化装置では、ガラス基板の端面にイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板全体を加熱する必要がなく、またガラス基板を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板に形成されたパターン層にダメージを与えることなく、二次強化層を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板の端面にコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。 As described above, when the manufacturing is performed according to the procedure of forming the pattern layer after forming the primary reinforcing layer on the glass substrate base material first, and then dividing the individual glass substrates, Although there is a possibility that the primary reinforcing layer does not exist on the end surface of the glass substrate, in the present invention, since the secondary reinforcing layer is formed on the end surface of the glass substrate by the secondary strengthening device, the strength is reduced. Therefore, a sufficiently high strength can be ensured. In addition, in the secondary strengthening apparatus, since the secondary strengthening layer is formed by performing chemical strengthening treatment by ion exchange on the end surface of the glass substrate, for example, the entire glass substrate is made like air cooling strengthening treatment. The secondary reinforcing layer can be formed without heating and without heating the glass substrate until the softening point is reached. Thereby, it is possible to form the secondary reinforcing layer without damaging the pattern layer formed on the glass substrate. In addition, compared with the case where strengthening is achieved by forming a coating layer on the end face of the glass substrate, the secondary reinforcing layer formed by the chemical strengthening treatment is not lost due to friction or the like, and has a high strength over time. Can be maintained.
　そして、二次強化装置では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板の端面が急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板に熱歪みを生じさせ、その結果端面に元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板の端面を急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化装置にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板の端面を急冷することなく十分な厚みを持った二次強化層を形成することが可能となる。これにより、二次強化層を形成する際にガラス基板に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板の強度を十分に高くすることができる。 And in the secondary strengthening apparatus, the chemical strengthening process by ion exchange is performed a plurality of times at intervals, so that the following actions and effects can be obtained. In other words, if the chemical strengthening process is performed at once without any interval, the end face of the glass substrate may be rapidly cooled along with the chemical strengthening process. There is a possibility that the glass substrate is cracked by promoting the growth of slight scratches and cracks existing from the beginning. However, if the chemical strengthening treatment is performed so as not to rapidly cool the end face of the glass substrate, the thickness of the formed secondary reinforcing layer becomes insufficient, and the strength may be insufficient. In that respect, by performing the chemical strengthening process by ion exchange multiple times at intervals with the secondary strengthening device as described above, the end surface of the glass substrate has a sufficient thickness without quenching. The next reinforcing layer can be formed. Thereby, when forming a secondary reinforcement layer, it can avoid that a crack etc. arise in a glass substrate, and the intensity | strength of a glass substrate can fully be made high.
　以上のようにパターン層を形成したガラス基板の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板からなる位置入力装置とは別途に強化ガラスを用いてその位置入力装置の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。 Since the strength of the glass substrate on which the pattern layer is formed as described above can be made sufficiently high, the tempered glass is provided separately from the position input device made of a glass substrate that does not have each tempered layer as in the past. Compared with the case where the position input device is protected by using the device, the number of parts can be reduced, so that the cost, weight, thickness, etc. can be reduced.
　本発明に係る位置入力装置の製造装置の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記二次強化装置は、前記ガラス基板をその板面に沿って搬送する搬送装置と、前記搬送装置による前記ガラス基板の搬送方向について相対的に上流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面を加熱する加熱装置と、前記搬送方向について相対的に下流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面に化学強化処理液を吹き付ける化学強化処理装置とを備え、前記化学強化処理装置は、前記化学強化処理液を噴射可能とされるとともに前記ガラス基板の搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置される複数のノズルを有するものとされる。このようにすれば、搬送装置によりガラス基板を搬送しつつ、加熱装置によりガラス基板の端面を加熱した後、化学強化処理装置が有する複数のノズルから化学強化処理液を噴射することでガラス基板の端面に対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。 As an embodiment of the position input device manufacturing apparatus according to the present invention, the following configuration is preferable.
(1) The secondary strengthening device is arranged on the upstream side with respect to a conveying device that conveys the glass substrate along a plate surface thereof, and a conveying direction of the glass substrate by the conveying device, and the glass substrate. A heating device that heats the end surface of the glass substrate, and a chemical strengthening treatment device that is disposed relatively downstream with respect to the transport direction and that sprays a chemical strengthening treatment liquid onto the end surface of the glass substrate. The chemical strengthening treatment liquid can be sprayed and has a plurality of nozzles arranged in parallel at intervals along the conveyance direction of the glass substrate. If it does in this way, after conveying a glass substrate with a conveyance device, after heating an end surface of a glass substrate with a heating device, a chemical strengthening processing liquid is ejected from a plurality of nozzles which a chemical strengthening processing device has, and glass substrate Since a chemical strengthening process liquid can be made to adhere several times at intervals with respect to an end surface, it is excellent in manufacturing efficiency.
（２）前記ノズルは、前記搬送装置を前記搬送方向と交差する方向から挟む形で一対を一組として、前記搬送方向に沿って間隔をあけて複数組ずつ並列して配されている。このようにすれば、組をなす一対のノズルから化学強化処理液を噴射することで、一対のノズルに挟まれたガラス基板における一対の端面に対して化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。 (2) The nozzles are arranged in parallel with each other with a pair along the transport direction, with a pair of the nozzles sandwiching the transport device from a direction intersecting the transport direction. In this way, the chemical strengthening treatment liquid can be attached to the pair of end surfaces of the glass substrate sandwiched between the pair of nozzles by ejecting the chemical strengthening treatment liquid from the pair of nozzles forming a pair. Excellent production efficiency.
（３）前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第１搬送装置と、前記ガラス基板をその板面に沿い且つ前記第１搬送装置による搬送方向と直交する方向に搬送する第２搬送装置とから構成されるのに対し、前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第１搬送装置に対応する第１加熱装置及び第１化学強化処理装置と、前記第２搬送装置に対応する第２加熱装置及び第２化学強化処理装置とから構成される。このようにすれば、第１搬送装置によりガラス基板を搬送しつつ端面に対して第１加熱装置及び第１化学強化処理装置により化学強化処理を施した後、第２搬送装置によってガラス基板を第１搬送装置による搬送方向とは直交する方向に搬送するとともに、第１加熱装置及び第１化学強化処理装置による化学強化処理が施された端面とは異なる端面に対して第２加熱装置及び第２化学強化処理装置により化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板の各端面に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。 (3) The conveyance device includes a first conveyance device that conveys the glass substrate in one direction along the plate surface, and a direction that is along the plate surface and orthogonal to the conveyance direction by the first conveyance device. And the second heating device and the chemical strengthening treatment device, respectively, the first heating device and the first chemical strengthening treatment device corresponding to the first transport device, It is comprised from the 2nd heating apparatus and 2nd chemical strengthening processing apparatus corresponding to a 2nd conveying apparatus. According to this configuration, after the glass substrate is transported by the first transport device, the end surface is subjected to the chemical strengthening process by the first heating device and the first chemical strengthening processing device, and then the glass substrate is moved by the second transport device. The second heating device and the second heating device are transported in a direction orthogonal to the transporting direction by the first transporting device, and the second heating device and the second second end surface are different from the end surface subjected to the chemical strengthening treatment by the first heating device and the first chemical strengthening processing device. A chemical strengthening process can be performed by a chemical strengthening apparatus. As described above, since the chemical strengthening treatment can be continuously performed on each end face of the glass substrate, the production efficiency is further improved.
（４）前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第１搬送装置と、前記ガラス基板を前記第１搬送装置と同じ方向に搬送する第２搬送装置と、前記第１搬送装置と前記第２搬送装置との間に配されるとともに前記ガラス基板をその板面に沿って回動させる姿勢変換装置とから構成されるのに対し、前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第１搬送装置に対応する第１加熱装置及び第１化学強化処理装置と、前記第２搬送装置に対応する第２加熱装置及び第２化学強化処理装置とから構成される。このようにすれば、第１搬送装置によりガラス基板を搬送しつつ端面に対して第１加熱装置及び第１化学強化処理装置により化学強化処理を施した後、姿勢変換装置によりガラス基板をその板面に沿って回動させてガラス基板の姿勢を変換する。そして、姿勢が変換されたガラス基板を第２搬送装置によって第１搬送装置と同じ方向に搬送するとともに、第１加熱装置及び第１化学強化処理装置による化学強化処理が施された端面とは異なる端面に対して第２加熱装置及び第２化学強化処理装置により化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板の各端面に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。 (4) The transport device includes: a first transport device that transports the glass substrate in one direction along the plate surface; a second transport device that transports the glass substrate in the same direction as the first transport device; The heating device and the chemical strengthening are arranged between a first transfer device and a second transfer device and an attitude conversion device that rotates the glass substrate along its plate surface. The processing apparatus includes a first heating device and a first chemical strengthening processing device corresponding to the first transport device, and a second heating device and a second chemical strengthening processing device corresponding to the second transport device, respectively. . According to this configuration, after the glass substrate is transferred by the first transfer device, the end surface is subjected to the chemical strengthening treatment by the first heating device and the first chemical strengthening processing device, and then the glass substrate is moved to the plate by the posture changing device. The posture of the glass substrate is changed by rotating along the surface. And while the glass substrate in which the attitude | position was changed is conveyed in the same direction as a 1st conveying apparatus by a 2nd conveying apparatus, it differs from the end surface to which the chemical strengthening process by the 1st heating apparatus and the 1st chemical strengthening processing apparatus was performed The chemical strengthening treatment can be performed on the end face by the second heating device and the second chemical strengthening treatment device. As described above, since the chemical strengthening treatment can be continuously performed on each end face of the glass substrate, the production efficiency is further improved.
（発明の効果）
　本発明によれば、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる位置入力装置の製造方法及び位置入力装置の製造装置を提供することができる。 (The invention's effect)
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the position input device which can achieve cost reduction, weight reduction, thickness reduction, etc., and the manufacturing apparatus of a position input device can be provided.
本発明の実施形態１に係る液晶表示装置の概略構成を示す断面図Sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device which concerns on Embodiment 1 of this invention. 液晶表示装置の平面図Plan view of liquid crystal display device 液晶表示装置に備わるタッチパネルにおけるパターン層の平面構成を概略的に示す平面図The top view which shows roughly the planar structure of the pattern layer in the touchscreen with which a liquid crystal display device is equipped 図３のiv-iv線断面図Sectional view taken along line iv-iv in FIG. 図３のv-v線断面図V-v sectional view of FIG. タッチパネルの製造装置の概略構成を表す側面図Side view showing schematic configuration of touch panel manufacturing equipment 一次強化工程を行う前のガラス基板母材の平面図Plan view of glass substrate base material before primary strengthening process 一次強化工程を経てガラス基板母材の表面に一次強化層を形成した状態を示す平面図The top view which shows the state which formed the primary reinforcement layer in the surface of the glass substrate base material through the primary reinforcement | strengthening process 図８のix-ix線断面図Sectional view taken along line ix-ix in FIG. パターン形成工程を経てガラス基板母材にパターン層及び絶縁層を形成した状態を示す平面図The top view which shows the state which formed the pattern layer and the insulating layer in the glass substrate base material through the pattern formation process 分割工程を経てガラス基板母材を分割して複数のガラス基板を取り出した状態を示す平面図The top view which shows the state which divided | segmented the glass substrate base material through the division | segmentation process, and took out the several glass substrate 端部加工工程を経て各ガラス基板の角部を丸めた状態を示す平面図The top view which shows the state which rounded the corner | angular part of each glass substrate through the edge part process process 分割工程または端部加工工程を経たガラス基板における端部を拡大した断面図Sectional drawing which expanded the edge part in the glass substrate which passed through the division process or edge part processing process タッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図The top view showing schematic structure of the secondary strengthening apparatus with which the manufacturing apparatus of a touch panel is equipped 二次強化工程に含まれる加熱工程にてガラス基板の端面にレーザ光を照射した状態を示す拡大断面図The expanded sectional view which shows the state which irradiated the laser beam to the end surface of the glass substrate in the heating process included in the secondary strengthening process 二次強化工程に含まれる化学強化処理工程にてガラス基板の端面に第１ノズルから化学強化処理液を噴射した状態を示す拡大断面図The expanded sectional view which shows the state which injected the chemical strengthening process liquid from the 1st nozzle to the end surface of the glass substrate in the chemical strengthening process included in a secondary strengthening process. 二次強化工程に含まれる化学強化処理工程にてガラス基板の端面に第３ノズルから化学強化処理液を噴射した状態を示す拡大断面図The expanded sectional view which shows the state which injected the chemical strengthening process liquid from the 3rd nozzle to the end surface of a glass substrate in the chemical strengthening process included in a secondary strengthening process. 二次強化工程に含まれる化学強化処理工程にてガラス基板の端面に第５ノズルから化学強化処理液を噴射した状態を示す拡大断面図The expanded sectional view which shows the state which injected the chemical strengthening process liquid from the 5th nozzle to the end surface of a glass substrate in the chemical strengthening process included in a secondary strengthening process. 二次強化工程を経てガラス基板の端面に二次強化層を形成した状態を示す平面図The top view which shows the state which formed the secondary reinforcement layer in the end surface of a glass substrate through the secondary reinforcement process ガラス基板を図１９のxx-xx線に沿って切断したものであって、端部の拡大断面図A glass substrate cut along line xx-xx in FIG. 本発明の実施形態２に係るタッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図The top view showing schematic structure of the secondary strengthening apparatus with which the manufacturing apparatus of the touchscreen which concerns on Embodiment 2 of this invention is equipped. 本発明の実施形態３に係るタッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図The top view showing schematic structure of the secondary strengthening apparatus with which the manufacturing apparatus of the touchscreen which concerns on Embodiment 3 of this invention is equipped. 本発明の実施形態４に係るタッチパネルの製造装置に備えられる二次強化装置の概略構成を表す平面図The top view showing schematic structure of the secondary strengthening apparatus with which the manufacturing apparatus of the touchscreen which concerns on Embodiment 4 of this invention is equipped. 本発明の実施形態５に係る液晶表示装置の概略構成を示す断面図Sectional drawing which shows schematic structure of the liquid crystal display device which concerns on Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施形態６に係るタッチパネルをＸ軸方向に沿って切断した断面図Sectional drawing which cut | disconnected the touch panel which concerns on Embodiment 6 of this invention along the X-axis direction. タッチパネルをＹ軸方向に沿って切断した断面図Sectional drawing which cut | disconnected the touchscreen along the Y-axis direction 本発明の実施形態７に係るタッチパネルの平面図The top view of the touchscreen which concerns on Embodiment 7 of this invention. タッチパネルをＸ軸方向に沿って切断した断面図Sectional drawing which cut | disconnected the touchscreen along the X-axis direction 本発明の実施形態８に係るタッチパネルをＸ軸方向に沿って切断した断面図Sectional drawing which cut | disconnected the touchscreen which concerns on Embodiment 8 of this invention along the X-axis direction. タッチパネルをＹ軸方向に沿って切断した断面図Sectional drawing which cut | disconnected the touchscreen along the Y-axis direction
　＜実施形態１＞
　本発明の実施形態１を図１から図２０によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置１０に備えられるタッチパネル１２の製造方法及び製造装置５０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、上下方向については、図１を基準とし、且つ同図上側を表側とするとともに同図下側を裏側とする。 <Embodiment 1>
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, the manufacturing method and the manufacturing apparatus 50 of the touch panel 12 provided in the liquid crystal display device 10 are illustrated. In addition, a part of each drawing shows an X axis, a Y axis, and a Z axis, and each axis direction is drawn to be a direction shown in each drawing. As for the vertical direction, FIG. 1 is used as a reference, and the upper side of the figure is the front side and the lower side of the figure is the back side.
　まず、液晶表示装置１０の構成について説明する。液晶表示装置１０は、図１及び図２に示すように、全体として縦長な方形状をなしており、画像を表示する表示パネルである液晶パネル１１と、液晶パネル１１の表示面ＤＳの面内における位置情報を入力するためのタッチパネル（位置入力装置）１２と、液晶パネル１１に光を供給する外部光源であるバックライト装置１３（照明装置）とを備えている。このうち、タッチパネル１２は、液晶パネル１１の表側（表示面ＤＳ側、光出射側）に積層する形で配されるとともに接着剤層ＢＬを介して一体化されている。さらに液晶表示装置１０は、液晶パネル１１と一体化されたタッチパネル１２を保持（挟持）するベゼル１４と、ベゼル１４が取り付けられるとともに液晶パネル１１及びバックライト装置１２を収容する筐体１５とを備えている。本実施形態に係る液晶表示装置１０は、携帯型情報端末（電子ブックなどを含む）、携帯電話（スマートフォンなどを含む）、ノートパソコン、携帯型ゲーム機などの各種電子機器（図示せず）に用いられるものである。このため、液晶表示装置１０を構成する液晶パネル１１及びタッチパネル１２の画面サイズは、数インチ～１０数インチ程度とされ、一般的には小型または中小型に分類される大きさとされている。 First, the configuration of the liquid crystal display device 10 will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal display device 10 has a vertically long rectangular shape as a whole. A touch panel (position input device) 12 for inputting position information in the above and a backlight device 13 (illumination device) as an external light source for supplying light to the liquid crystal panel 11 are provided. Among these, the touch panel 12 is arranged on the front side (display surface DS side, light emission side) of the liquid crystal panel 11 and integrated with the adhesive layer BL. The liquid crystal display device 10 further includes a bezel 14 that holds (clamps) the touch panel 12 that is integrated with the liquid crystal panel 11, and a housing 15 that is attached to the bezel 14 and accommodates the liquid crystal panel 11 and the backlight device 12. ing. The liquid crystal display device 10 according to the present embodiment is used in various electronic devices (not shown) such as portable information terminals (including electronic books), mobile phones (including smartphones), notebook computers, and portable game machines. It is used. For this reason, the screen sizes of the liquid crystal panel 11 and the touch panel 12 constituting the liquid crystal display device 10 are about several inches to several tens of inches, and are generally classified as small or medium-sized.
　液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、縦長な方形状をなす一対の透明な（透光性を有する）ガラス製の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間に介在し、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（図示せず）とを備え、両基板１１ａ，１１ｂが液晶層の厚さ分のギャップを維持した状態で図示しないシール剤によって貼り合わせられている。なお、液晶パネル１１における長辺方向がＸ軸方向と一致し、短辺方向がＹ軸方向と一致している。 The liquid crystal panel 11 will be described. The liquid crystal panel 11 is interposed between a pair of transparent (translucent) glass substrates 11a and 11b having a vertically long rectangular shape, and both the substrates 11a and 11b, and its optical characteristics change as an electric field is applied. And a liquid crystal layer (not shown) containing liquid crystal molecules as a material to be bonded, and both substrates 11a and 11b are bonded together with a sealing agent (not shown) while maintaining a gap corresponding to the thickness of the liquid crystal layer. Note that the long side direction of the liquid crystal panel 11 coincides with the X-axis direction, and the short side direction coincides with the Y-axis direction.
　両基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板１１ｂとされる。アレイ基板１１ｂにおける内面側（液晶層側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）には、スイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）及び画素電極が多数個並んで設けられるとともに、これらＴＦＴ及び画素電極の周りには、格子状をなすゲート配線及びソース配線が取り囲むようにして配設されている。各配線には、図示しない制御回路から所定の画像信号が供給されるようになっている。画素電極は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウム錫）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide：酸化亜鉛）といった透明電極からなる。 Among the substrates 11a and 11b, the front side (front side) is the CF substrate 11a, and the back side (back side) is the array substrate 11b. On the inner surface side (the liquid crystal layer side, the surface facing the CF substrate 11a) of the array substrate 11b, a number of TFTs (Thin Film Transistors) and pixel electrodes, which are switching elements, are provided side by side. A gate wiring and a source wiring having a lattice shape are disposed around the gate. A predetermined image signal is supplied to each wiring from a control circuit (not shown). The pixel electrode is made of a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) or ZnO (Zinc Oxide).
　一方、ＣＦ基板１１ａには、各画素に対応した位置に多数個のカラーフィルタが並んで設けられている。カラーフィルタは、Ｒ，Ｇ，Ｂの三色が交互に並ぶ配置とされる。各カラーフィルタ間には、混色を防ぐための遮光層（ブラックマトリクス）が形成されている。カラーフィルタ及び遮光層の表面には、アレイ基板１１ｂ側の画素電極と対向する対向電極が設けられている。このＣＦ基板１１ａは、アレイ基板１１ｂよりも一回り小さい大きさとされる。また、両基板１１ａ，１１ｂの内面側には、液晶層に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜がそれぞれ形成されている。なお、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ偏光板が貼り付けられている。 On the other hand, on the CF substrate 11a, a large number of color filters are arranged side by side at positions corresponding to the respective pixels. The color filter is arranged so that three colors of R, G, and B are alternately arranged. A light shielding layer (black matrix) for preventing color mixture is formed between the color filters. On the surface of the color filter and the light shielding layer, a counter electrode facing the pixel electrode on the array substrate 11b side is provided. The CF substrate 11a is slightly smaller than the array substrate 11b. An alignment film for aligning liquid crystal molecules contained in the liquid crystal layer is formed on the inner surfaces of both the substrates 11a and 11b. A polarizing plate is attached to each of the outer surfaces of the substrates 11a and 11b.
　タッチパネル１２に先じてバックライト装置１３について簡単に説明する。バックライト装置１３は、いわゆるエッジライト型（サイドライト型）とされており、光源と、表側（液晶パネル１１側、光出射側）に開口するとともに光源を収容する略箱型のシャーシと、光源が端部に対向状に配されるとともに光源からの光を導光してシャーシの開口部に向けて出射させる導光部材と、シャーシの開口部を覆うようにして配される光学部材とを備える。光源から発せられた光は、導光部材の端部に入射してから導光部材内を伝播してシャーシの開口部へ向けて出射された後、光学部材によって面内の輝度分布が均一な面状の光に変換されてから、液晶パネル１１に照射されるようになっている。そして、液晶パネル１１が有するＴＦＴの駆動によって液晶パネル１１に対する光の透過率が表示面ＤＳの面内において選択的に制御されることで、表示面ＤＳに所定の画像を表示させることができる。なお、光源、シャーシ、導光部材及び光学部材について詳しい図示を省略するものとする。 The backlight device 13 will be briefly described prior to the touch panel 12. The backlight device 13 is a so-called edge light type (side light type), and has a light source, a substantially box-shaped chassis that opens on the front side (the liquid crystal panel 11 side, the light emission side) and accommodates the light source, and a light source. A light guide member that is arranged opposite to the end portion, guides light from the light source, and emits the light toward the opening portion of the chassis, and an optical member arranged to cover the opening portion of the chassis. Prepare. The light emitted from the light source is incident on the end of the light guide member, then propagates through the light guide member and is emitted toward the opening of the chassis, and then the in-plane luminance distribution is uniform by the optical member. The liquid crystal panel 11 is irradiated after being converted into planar light. Then, by driving the TFT included in the liquid crystal panel 11, the light transmittance with respect to the liquid crystal panel 11 is selectively controlled within the surface of the display surface DS, whereby a predetermined image can be displayed on the display surface DS. Detailed illustrations of the light source, chassis, light guide member, and optical member are omitted.
　続いて、タッチパネル１２について詳しく説明する。本実施形態に係るタッチパネル１２は、いわゆる投影型静電容量方式とされており、大まかには、ガラス基板１６上に入力位置を検出するためのパターン層１７，１８を形成してなるとともに、全体として液晶パネル１１に表示された画像の目視を妨げない程度の十分な透明性を有している。ガラス基板１６は、その材料としてソーダライムガラスが用いられており、ソーダライムガラスは、ケイ砂(SiO2)、炭酸ナトリウム(Na2CO3)、炭酸カルシウム(CaCO3) を混合して融解することにより得られるものとされ、その軟化点は例えば７２０度～７４０度の範囲であって、７３０度程度とされている。ガラス基板１６は、高い透明性を有するとともに液晶パネル１１と同様に平面に視て縦長の方形状をなしており、その平面に視た大きさは液晶パネル１１をなす基板１１ａ，１１ｂよりも一回り大きなものとされる。既述したようにこのタッチパネル１２の画面サイズは、一般的に小型または中小型に分類される大きさとされているため、その製造に際しては、生産効率の高さや生産設備に係るコストなどを考慮して大型のガラス基板母材（マザーガラス）１６Ｍを用いるようにしており、具体的には１枚のガラス基板母材１６Ｍから合計９枚のガラス基板１６を取り出すようにしている（図１０及び図１１参照）。なお、この点は液晶パネル１１を構成する基板１１ａ，１１ｂに関しても同様である。また、タッチパネル１２を構成するガラス基板１６は、図２に示すように、四隅に配された角部がそれぞれ平面に視て丸められていて、Ｒ形状とされている。タッチパネル１２を保持するベゼル１４についても同様に四隅の角部が丸みを帯びた形状とされている。 Subsequently, the touch panel 12 will be described in detail. The touch panel 12 according to the present embodiment is of a so-called projected capacitance type, and roughly includes pattern layers 17 and 18 for detecting an input position formed on a glass substrate 16, and the whole. As shown in FIG. 4, the liquid crystal panel 11 has sufficient transparency so as not to hinder the visual observation of the image. The glass substrate 16 uses soda lime glass as its material, and the soda lime glass is obtained by mixing and melting silica sand (SiO 2), sodium carbonate (Na 2 CO 3), and calcium carbonate (CaCO 3). The softening point is, for example, in the range of 720 degrees to 740 degrees and about 730 degrees. The glass substrate 16 has high transparency and has a vertically long rectangular shape as viewed in a plane like the liquid crystal panel 11, and the size viewed in the plane is one smaller than the substrates 11 a and 11 b forming the liquid crystal panel 11. It is supposed to be big. As described above, the screen size of the touch panel 12 is generally classified into a small size and a medium size. Therefore, in manufacturing, the high production efficiency and the cost for the production equipment are taken into consideration. The large glass substrate base material (mother glass) 16M is used, and specifically, nine glass substrates 16 in total are taken out from one glass substrate base material 16M (FIGS. 10 and 10). 11). This also applies to the substrates 11a and 11b constituting the liquid crystal panel 11. Moreover, as shown in FIG. 2, the glass substrate 16 which comprises the touch panel 12 is rounded by the corner | angular part distribute | arranged to four corners seeing in a plane, respectively, and is made into R shape. Similarly, the bezel 14 that holds the touch panel 12 has rounded corners at the four corners.
　パターン層１７，１８は、図３に示すように、ガラス基板１６の板面１６ａ上に積層する形で配されており、Ｘ軸方向に沿って延在する複数列の第１パターン層１７と、Ｙ軸方向（Ｘ軸方向と直交（交差）する方向）に沿って延在する複数列の第２パターン層１８とからなり、互いに直交（交差）する両パターン層１７，１８が平面に視てマトリクス状（格子状）をなしている。第１パターン層１７及び第２パターン層１８は、相互の交差部位に囲まれた領域にそれぞれ平面に視て菱形形状をなす電極パッド部１７ａ，１８ａを有しており、これら第１電極パッド部１７ａと第２電極パッド部１８ａとが平面に視て隣り合う形（平面に視て交互に並ぶ形）となるよう複数ずつ行列状に並列して配されている。逆に言うと、Ｘ軸方向に沿って並列する複数の第１電極パッド部１７ａが相互に接続されることで、１列の第１パターン層１７が構成されており、同様にＹ軸方向に沿って並列する複数の第２電極パッド部１８ａが相互に接続されることで、１列の第２パターン層１７が構成されている。 As shown in FIG. 3, the pattern layers 17 and 18 are arranged in a stacked manner on the plate surface 16 a of the glass substrate 16, and are arranged in a plurality of rows of the first pattern layers 17 extending along the X-axis direction. , And a plurality of rows of second pattern layers 18 extending along the Y-axis direction (direction orthogonal to (intersects with) the X-axis direction). In the form of a matrix (lattice). The first pattern layer 17 and the second pattern layer 18 have electrode pad portions 17a and 18a each having a rhombus shape in a plan view in a region surrounded by a crossing portion, and these first electrode pad portions. A plurality of 17a and second electrode pad portions 18a are arranged in parallel in a matrix form so as to be adjacent to each other in a plan view (a shape alternately arranged in a plan view). In other words, a plurality of first electrode pad portions 17a arranged in parallel along the X-axis direction are connected to each other, so that one row of the first pattern layer 17 is configured, and similarly in the Y-axis direction. A plurality of second electrode pad portions 18a arranged in parallel along each other are connected to each other, so that one row of the second pattern layer 17 is configured.
　第１パターン層１７は、図４及び図５に示すように、ガラス基板１６のうち表側を向いた板面（使用者によって操作される側の板面、液晶パネル１１側とは反対側の板面）１６ａの外側に積層する形で配されており、さらにその外側には第１絶縁層１９が積層して配されている。第２パターン層１８は、上記した第１絶縁層１９の外側に積層する形で配されることで第１パターン層１７に対して絶縁状態に保たれており、さらにその外側には第２絶縁層２０が積層して配されることで第２パターン層１８が外部に露出することが避けられている。つまり、パターン層１７，１８は、共にガラス基板１６の表裏両板面１６ａのうち使用者によって操作される表側の板面１６ａ（片面）のみに配されている。なお、図４には、第２パターン層１８のうち隣り合う第２電極パッド部１８ａを繋ぐ部分が図示されており、同様に図５には、第１パターン層１７のうち隣り合う第１電極パッド部１７ａを繋ぐ部分が図示されている。 As shown in FIGS. 4 and 5, the first pattern layer 17 is a plate surface facing the front side of the glass substrate 16 (a plate surface on the side operated by the user, a plate on the side opposite to the liquid crystal panel 11 side). The first insulating layer 19 is laminated on the outer side of the outer surface 16a. The second pattern layer 18 is arranged so as to be laminated on the outside of the first insulating layer 19 described above, so that the second pattern layer 18 is kept in an insulated state with respect to the first pattern layer 17. It is avoided that the second pattern layer 18 is exposed to the outside by the layer 20 being laminated. That is, the pattern layers 17 and 18 are both arranged only on the front surface 16a (one surface) which is operated by the user among the front and back both surfaces 16a of the glass substrate 16. 4 shows a portion connecting the second electrode pad portions 18a adjacent to each other in the second pattern layer 18, and FIG. 5 similarly shows the first electrodes adjacent to each other in the first pattern layer 17. The part which connects the pad part 17a is shown in figure.
　これらのパターン層１７，１８は、透明導電材料であるＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウム錫）からなるものとされており、使用者からは殆ど視認できない程度の高い透明性を有するとともに、図示しない検出回路に接続されている。そして、複数列の第１パターン層１７及び複数列の第２パターン層１８に順次に電圧を印加した状態で、タッチパネル１２の操作面に導電体である使用者の指が接触または接近すると、いずれかのパターン層１７，１８と使用者の指との間で容量が生じるため、そのパターン層１７，１８における静電容量値は、他のパターン層１７，１８における静電容量値とは異なるものとなる。この静電容量の差が生じたパターン層１７，１８を検出回路により検出することで、そのパターン層１７，１８の交点の座標が、使用者による操作位置の二次元の位置情報として入力されるようになっている。従って、このタッチパネル１２では、使用者が操作面の面内における複数箇所に同時に位置入力した場合の多点検出（マルチタッチ）が可能とされている。これらのパターン層１７，１８は、タッチパネル１２の製造過程において、生産効率の高さや生産設備に係るコストなどを考慮して、複数のガラス基板１６が取り出される大型のガラス基板母材１６Ｍにおける各パターン形成領域に一括して形成されるようになっている。 These pattern layers 17 and 18 are made of ITO (Indium Tin Oxide), which is a transparent conductive material, and have high transparency that is almost invisible to the user, and are not shown. Connected to the detection circuit. When a finger of a user who is a conductor touches or approaches the operation surface of the touch panel 12 in a state where voltages are sequentially applied to the first pattern layers 17 and the second pattern layers 18 of the plurality of rows, Since capacitance is generated between the pattern layers 17 and 18 and the user's finger, the capacitance values of the pattern layers 17 and 18 are different from the capacitance values of the other pattern layers 17 and 18. It becomes. By detecting the pattern layers 17 and 18 in which the difference in capacitance occurs with the detection circuit, the coordinates of the intersection of the pattern layers 17 and 18 are input as two-dimensional position information of the operation position by the user. It is like that. Therefore, this touch panel 12 can perform multipoint detection (multitouch) when the user simultaneously inputs a position at a plurality of locations in the operation surface. These pattern layers 17 and 18 are formed in the large-sized glass substrate base material 16M from which a plurality of glass substrates 16 are taken in consideration of high production efficiency and costs related to production equipment in the manufacturing process of the touch panel 12. It is formed in a lump in the formation region.
　ところで、上記したガラス基板１６における少なくとも表裏両側の板面（表示面ＤＳに沿った面）１６ａには、図４及び図５に示すように、それぞれ一次強化層２１が形成されており、それによりガラス基板１６の強度が高められている。一次強化層２１は、ガラス基板１６（直接的にはガラス基板母材１６Ｍ）に化学強化処理を施すことで形成されるものであり、圧縮応力が残留した圧縮層（圧縮応力層）とされる。ここでいう化学強化処理とは、ガラス基板１６を構成するアルカリ金属イオンを、それよりもイオン半径が大きいアルカリ金属イオンとイオン交換により置換することで、ガラス基板１６の強化を図る処理をいう。具体的には、本実施形態に係る圧縮層は、ガラス基板１６の表面に存在するナトリウムイオンをそれよりもイオン半径が大きな原子であるカリウムイオンに置換することで形成されるイオン交換層とされる。この一次強化層（圧縮層、イオン交換層）２１は、その深さ寸法（厚さ寸法）が数１０μｍ程度とされ、仮に風冷強化処理によって一次強化層を形成した場合に比べると、相対的に浅い（薄い）ものとされるが、強度の点では風冷強化処理による場合の２倍以上が得られる。この一次強化層２１に対して外側に積層する形で上記したパターン層１７，１８及び絶縁層１９，２０が形成されている。 By the way, as shown in FIGS. 4 and 5, primary reinforcing layers 21 are respectively formed on at least the front and back plate surfaces (surfaces along the display surface DS) 16 a of the glass substrate 16. The strength of the glass substrate 16 is increased. The primary strengthening layer 21 is formed by subjecting the glass substrate 16 (directly the glass substrate base material 16M) to chemical strengthening treatment, and is a compression layer (compression stress layer) in which compressive stress remains. . The chemical strengthening treatment here refers to a treatment for strengthening the glass substrate 16 by replacing alkali metal ions constituting the glass substrate 16 with alkali metal ions having an ion radius larger than that by ion exchange. Specifically, the compressed layer according to the present embodiment is an ion exchange layer formed by replacing sodium ions existing on the surface of the glass substrate 16 with potassium ions having an ion radius larger than that. The The primary reinforcing layer (compressed layer, ion-exchange layer) 21 has a depth dimension (thickness dimension) of about several tens of μm, which is relatively smaller than the case where the primary reinforcing layer is formed by air cooling strengthening. However, in terms of strength, at least twice as much as in the case of the air cooling strengthening process can be obtained. The pattern layers 17 and 18 and the insulating layers 19 and 20 are formed so as to be laminated on the outer side of the primary reinforcing layer 21.
　上記した一次強化層２１は、タッチパネル１２を製造する過程において、大型のガラス基板母材１６Ｍの全体を、硝酸カリウムを含有した溶融塩（化学強化処理液）中に浸漬する、いわば浸漬式（全体浸漬式）の化学強化処理を施すことで形成されている。従って、ガラス基板母材１６Ｍの表面には、表裏の両板面１６ａ及び端面（外周端面）１６ｂを含む、外周面の全域にわたって万遍なく一次強化層２１が形成されることになる。ところが、製造過程では、一次強化されたガラス基板母材１６Ｍを分割することで、個々のガラス基板１６が取り出されるようになっているため、取り出された個々のガラス基板１６のうち、表裏の両板面１６ａには一次強化層２１が残されるものの、端面１６ｂには一次強化層２１が残されなくなる場合がある（図１３）。仮に、ガラス基板の端面が非強化面のまま露出すると、その非強化面において強度が局所的に低くなるため、ガラス基板に損傷などが生じ易くなるおそれがある。そこで、本実施形態では、個々のガラス基板１６における端面１６ｂに対して二次強化層２２をそれぞれ形成するようにしている。以下、二次強化層２２について詳しく説明する。 In the process of manufacturing the touch panel 12, the primary reinforcing layer 21 described above is immersed in a molten salt (chemical strengthening treatment solution) containing potassium nitrate in a so-called immersion type (overall immersion). It is formed by performing chemical strengthening treatment of the formula. Accordingly, the primary reinforcing layer 21 is uniformly formed over the entire outer peripheral surface including both the front and back plate surfaces 16a and the end surface (outer peripheral end surface) 16b on the surface of the glass substrate base material 16M. However, in the manufacturing process, the glass substrate base material 16M that has been primarily strengthened is divided so that the individual glass substrates 16 are taken out. Although the primary reinforcing layer 21 remains on the plate surface 16a, the primary reinforcing layer 21 may not remain on the end surface 16b (FIG. 13). If the end surface of the glass substrate is exposed as a non-strengthened surface, the strength is locally lowered on the non-strengthened surface, which may cause damage to the glass substrate. Therefore, in the present embodiment, the secondary reinforcing layers 22 are formed on the end surfaces 16b of the individual glass substrates 16, respectively. Hereinafter, the secondary reinforcing layer 22 will be described in detail.
　二次強化層２２は、図２０に示すように、ガラス基板１６の端面１６ｂに対してイオン交換による化学強化処理を施すことで形成されている。詳しくは、二次強化層２２は、ガラス基板母材１６Ｍから取り出した各ガラス基板１６の端面１６ｂに対して選択的にイオン交換による化学強化処理を施すことで、同端面１６ｂのみに選択的に形成されている。二次強化層２２は、ガラス基板１６の端面１６ｂの表面に存在するナトリウムイオンをそれよりもイオン半径が大きな原子であるカリウムイオンに置換する化学強化処理を行うことで形成される圧縮層（イオン交換層）により構成されており、構成上は上記した一次強化層２１と同様である。ところが、この二次強化層２２は、各ガラス基板１６に対して個別に化学強化処理を施すことで形成されている点を含めた形成方法に関して一次強化層２１とは異なっている。具体的には、二次強化層２２は、ガラス基板１６の端面１６ｂを局所的に加熱した上で、そこに少なくとも硝酸カリウムを含有した溶融塩（化学強化処理液）を局所的に吹き付けて付着させることで形成されている。つまり、この二次強化層２２は、各ガラス基板１６に対して、いわば局所吹付式の化学強化処理を施すことで選択的な範囲（端面１６ｂ）にのみ形成されている。この二次強化層２２は、ガラス基板１６における端面１６ｂの全周・全幅にわたって途切れなく形成されている。このように、ガラス基板１６の板面１６ａ及び端面１６ｂにそれぞれ一次強化層２１及び二次強化層２２が形成されており、しかも一次強化層２１及び二次強化層２２が共に化学強化処理による圧縮層からなるものであるため、位置情報入力機能を備えたタッチパネル１２の強度を極めて高いものとすることができる。これにより、従来のようにカバーガラスを用いる必要がなくなるから、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。 As shown in FIG. 20, the secondary reinforcing layer 22 is formed by subjecting the end surface 16 b of the glass substrate 16 to a chemical strengthening process by ion exchange. Specifically, the secondary reinforcing layer 22 is selectively applied only to the end surface 16b by performing chemical strengthening treatment by ion exchange selectively on the end surface 16b of each glass substrate 16 taken out from the glass substrate base material 16M. Is formed. The secondary strengthening layer 22 is formed by performing a chemical strengthening treatment that replaces sodium ions existing on the surface of the end surface 16b of the glass substrate 16 with potassium ions that are atoms having a larger ion radius than that of the compressed layer (ion Exchange layer), and is similar in structure to the primary reinforcing layer 21 described above. However, the secondary reinforcing layer 22 is different from the primary reinforcing layer 21 with respect to a forming method including the point that the glass substrate 16 is formed by performing chemical strengthening treatment individually. Specifically, the secondary strengthening layer 22 locally heats the end face 16b of the glass substrate 16, and then locally adheres a molten salt (chemical strengthening treatment liquid) containing at least potassium nitrate thereto. It is formed by that. That is, the secondary reinforcing layer 22 is formed only in a selective range (end face 16b) by performing a so-called local spraying type chemical strengthening process on each glass substrate 16. The secondary reinforcing layer 22 is formed without interruption over the entire circumference and width of the end surface 16 b of the glass substrate 16. As described above, the primary reinforcing layer 21 and the secondary reinforcing layer 22 are formed on the plate surface 16a and the end surface 16b of the glass substrate 16, respectively, and both the primary reinforcing layer 21 and the secondary reinforcing layer 22 are compressed by chemical strengthening treatment. Since it consists of layers, the strength of the touch panel 12 having the position information input function can be made extremely high. As a result, there is no need to use a cover glass as in the conventional case, so that cost reduction, weight reduction, thickness reduction, and the like can be achieved.
　上記したような構造とされる液晶表示装置１０の製造方法について説明する。液晶表示装置１０は、それぞれ別途に製造された液晶パネル１１及びタッチパネル１２のいずれか一方または両方に接着剤を塗布するとともに相互を板面に沿った方向（Ｘ軸方向及びＹ軸方向）について位置合わせしつつ貼り合わせることで、接着剤層ＢＬを介して液晶パネル１１とタッチパネル１２とが位置決め状態で一体化される。続いて、タッチパネル１２の外周端部をベゼル１４により保持（挟持）させる作業を行う一方、筐体１５内にバックライト装置１３を収容しておく。そして、ベゼル１４を筐体１５に取り付けることで、図１に示すように、タッチパネル１２に一体化された液晶パネル１１が筐体１５内に収容されるとともに、液晶パネル１１に対してバックライト装置１３における光出射面が対向状に配され、もって液晶表示装置１０が得られる。以下では、液晶表示装置１０の構成部品のうち、特にタッチパネル１１の製造方法について詳しく説明するとともにタッチパネル１１の製造装置５０についても詳しく説明する。 A method for manufacturing the liquid crystal display device 10 having the above-described structure will be described. The liquid crystal display device 10 applies an adhesive to one or both of the separately manufactured liquid crystal panel 11 and the touch panel 12, and positions each other in the direction along the plate surface (X-axis direction and Y-axis direction). By bonding together, the liquid crystal panel 11 and the touch panel 12 are integrated in a positioned state via the adhesive layer BL. Subsequently, the operation of holding (holding) the outer peripheral end portion of the touch panel 12 by the bezel 14 is performed, while the backlight device 13 is accommodated in the housing 15. Then, by attaching the bezel 14 to the housing 15, the liquid crystal panel 11 integrated with the touch panel 12 is accommodated in the housing 15 as shown in FIG. The light emitting surfaces at 13 are arranged in opposition to obtain the liquid crystal display device 10. Below, among the components of the liquid crystal display device 10, the manufacturing method of the touch panel 11 is demonstrated in detail, and the manufacturing apparatus 50 of the touch panel 11 is also described in detail.
　タッチパネル１２は、大まかには、大型のガラス基板母材１６Ｍの表面に一次強化層２１を形成する一次強化工程と、ガラス基板母材１６Ｍの一次強化層２１に対して外側に積層する形でパターン層１７，１８及び絶縁層１９，２０を形成するパターン形成工程と、ガラス基板母材１６Ｍを分割して複数のガラス基板１６を取り出す分割工程と、取り出されたガラス基板１６の端部に加工を施す端部加工工程と、ガラス基板１６の端面１６ｂに二次強化層２２を形成する二次強化工程とを順次に経て製造されるようになっている。上記のような工程を経てタッチパネル１２を製造するための製造装置５０は、図６に示すように、ガラス基板母材１６Ｍの表面に一次強化層２１を形成する一次強化装置５１と、ガラス基板母材１６Ｍの一次強化層２１に対して外側に積層する形でパターン層１７，１８及び絶縁層１９，２０を形成するパターン形成装置５２と、ガラス基板母材１６Ｍを分割して複数のガラス基板１６を取り出す分割装置５３と、取り出されたガラス基板１６の端部に加工を施す端部加工装置５４と、ガラス基板１６の端面１６ｂに二次強化層２２を形成する二次強化装置５５とを備えている。 The touch panel 12 is roughly patterned in such a manner that a primary strengthening step of forming a primary strengthening layer 21 on the surface of a large glass substrate base material 16M and a layer laminated on the outside of the primary strengthening layer 21 of the glass substrate base material 16M. A pattern forming step for forming the layers 17 and 18 and the insulating layers 19 and 20; a dividing step for dividing the glass substrate base material 16M to take out a plurality of glass substrates 16; and processing the edge of the glass substrate 16 taken out. It is manufactured through an end processing step to be performed and a secondary strengthening step for forming the secondary reinforcing layer 22 on the end surface 16b of the glass substrate 16 in sequence. As shown in FIG. 6, the manufacturing apparatus 50 for manufacturing the touch panel 12 through the steps as described above includes a primary strengthening apparatus 51 that forms a primary reinforcing layer 21 on the surface of a glass substrate base material 16M, and a glass substrate base. A pattern forming apparatus 52 for forming the pattern layers 17 and 18 and the insulating layers 19 and 20 in a form of being laminated on the outer side of the primary reinforcing layer 21 of the material 16M, and a plurality of glass substrates 16 by dividing the glass substrate base material 16M. A splitting device 53 for taking out the glass, an end processing device 54 for processing the end of the glass substrate 16 taken out, and a secondary strengthening device 55 for forming the secondary reinforcing layer 22 on the end surface 16b of the glass substrate 16. ing.
　まず、一次強化工程では、図６に示す一次強化装置５１を用いて、図７に示すガラス基板母材１６Ｍの表面にイオン交換による浸漬式の化学強化処理を施すようにしている。詳しくは、一次強化装置５１は、硝酸カリウムを含有する溶融塩からなる化学強化処理液で満たした化学強化処理槽（図示せず）を備えるものであり、一次強化工程では、この化学強化処理槽内にガラス基板母材１６Ｍを投入して化学強化処理液中に全体的に浸漬し、数時間から１０数時間の間、３８０度～４５０度の温度環境下に保つようにする。この過程では、ガラス基板母材１６Ｍの表面に存在するナトリウムイオンと、化学強化処理液中に存在するカリウムイオンとが交換され、カリウムイオンがガラス基板母材１６Ｍの表面に進入していき、それによりイオン交換層が形成される。そして、このカリウムイオンは、ナトリウムイオンよりもイオン半径が大きい原子であるため、ガラス基板母材１６Ｍの表面に形成されたイオン交換層は、圧縮応力が残存した圧縮層となっている。これにより、ガラス基板母材１６Ｍの表面には、図８及び図９に示すように、全周にわたって圧縮層である一次強化層２１が万遍なく形成される。このように一次強化工程では、化学強化法を用いてガラス基板母材１６Ｍの一次強化を図るようにしているので、仮に風冷強化法を用いた場合に比べると、２倍以上の強度を得ることができる。 First, in the primary strengthening step, the surface of the glass substrate base material 16M shown in FIG. 7 is subjected to immersion type chemical strengthening treatment by ion exchange using the primary strengthening device 51 shown in FIG. Specifically, the primary strengthening device 51 includes a chemical strengthening treatment tank (not shown) filled with a chemical strengthening treatment liquid made of a molten salt containing potassium nitrate. In the primary strengthening process, The glass substrate base material 16M is introduced into the glass substrate and immersed in the chemical strengthening treatment solution as a whole, and maintained in a temperature environment of 380 to 450 degrees for several hours to several tens of hours. In this process, sodium ions present on the surface of the glass substrate base material 16M are exchanged with potassium ions present in the chemical strengthening treatment liquid, and potassium ions enter the surface of the glass substrate base material 16M. Thus, an ion exchange layer is formed. And since this potassium ion is an atom with an ion radius larger than a sodium ion, the ion exchange layer formed in the surface of the glass substrate base material 16M is a compression layer with which the compressive stress remained. Thereby, as shown in FIG.8 and FIG.9, the primary reinforcement layer 21 which is a compression layer is uniformly formed in the surface of the glass substrate base material 16M over the perimeter. As described above, in the primary strengthening step, the glass substrate base material 16M is primarily strengthened using the chemical strengthening method. Therefore, the strength is twice or more as compared with the case where the air cooling strengthening method is used. be able to.
　次に、パターン形成工程では、図６に示すパターン形成装置５２を用いて、ガラス基板母材１６Ｍの板面（一次強化層２１の外面）のうち、取り出される予定の９枚のガラス基板１６に対応した９つのパターン形成領域に既知のフォトリソグラフィ法によりパターン層１７，１８及び絶縁層１９，２０を順次に積層形成する。詳しくは、パターン形成装置５２は、ガラス基板母材１６Ｍにマスクを用いて露光する露光装置と、露光したガラス基板母材１６Ｍを現像する現像装置とからなり、パターン形成工程では、このパターン形成装置５２を用いて、ガラス基板母材１６Ｍの両板面のうち、片側の板面に対して第１パターン層１７、第１絶縁層１９、第２パターン層１８、第２絶縁層２０の順でそれぞれパターニングしていく。これにより、ガラス基板母材１６Ｍには、図１０に示すように、取り出される予定の９枚のガラス基板１６におけるパターン層１７，１８及び絶縁層１９，２０が全て一括して形成されることになる。従って、仮に枚葉式の処理装置を用いて個々のガラス基板１６に対してパターン層１７，１８及び絶縁層１９，２０を形成した場合に比べると、生産効率が極めて高いものとされるのに加えて、生産設備に係るコストの面でも優れ、もって低コストでの生産が可能とされる。その上、一次強化工程を経たガラス基板母材１６Ｍに対してパターン形成工程を行うようにしているので、例えばパターン形成工程を経てから一次強化工程を行った場合のように、パターン層１７，１８が高温環境下に曝されることがなく、また硝酸カリウムを含む溶融塩中に曝されることもないので、パターン層１７，１８がダメージを受けるのを回避することができる。 Next, in the pattern forming step, the nine glass substrates 16 to be taken out of the plate surface of the glass substrate base material 16M (the outer surface of the primary reinforcing layer 21) are used by using the pattern forming apparatus 52 shown in FIG. Pattern layers 17 and 18 and insulating layers 19 and 20 are sequentially stacked and formed on the corresponding nine pattern formation regions by a known photolithography method. Specifically, the pattern forming device 52 includes an exposure device that exposes the glass substrate base material 16M using a mask and a developing device that develops the exposed glass substrate base material 16M. In the pattern forming step, the pattern forming device 52 52, the first pattern layer 17, the first insulating layer 19, the second pattern layer 18, and the second insulating layer 20 in this order with respect to the plate surface on one side of the two plate surfaces of the glass substrate base material 16M. Pattern each one. Thereby, as shown in FIG. 10, the pattern layers 17 and 18 and the insulating layers 19 and 20 of the nine glass substrates 16 to be taken out are all formed on the glass substrate base material 16M in a lump. Become. Accordingly, if the pattern layers 17 and 18 and the insulating layers 19 and 20 are formed on the individual glass substrates 16 using a single wafer processing apparatus, the production efficiency is extremely high. In addition, the cost of the production equipment is excellent, and production at a low cost is possible. In addition, since the pattern forming process is performed on the glass substrate base material 16M that has undergone the primary strengthening process, the pattern layers 17 and 18 are subjected to the primary strengthening process after the pattern forming process, for example. Is not exposed to a high temperature environment and is not exposed to a molten salt containing potassium nitrate, so that the pattern layers 17 and 18 can be prevented from being damaged.
　続いて、分割工程では、図６に示す分割装置５３を用いて、図１１に示すように、ガラス基板母材１６Ｍを格子状に分割して９枚のガラス基板１６を取り出すようにしている。詳しくは、分割装置５３は、例えば炭酸ガスレーザ等のレーザ光を発振して照射するレーザ装置と、水ないしは圧縮空気を噴射する冷却装置とからなり、分割工程では、この分割装置５３を用いて、ガラス基板母材１６Ｍの分断予定ラインにレーザ光を照射して加熱してから、水ないしは圧縮空気を噴射して強制冷却することで、ガラス基板母材１６Ｍ中に生じさせる熱歪みをトリガーとしてガラス基板母材１６Ｍを分断予定ラインに沿って分断することができる。 Subsequently, in the dividing step, the glass substrate base material 16M is divided into a lattice shape and the nine glass substrates 16 are taken out using the dividing device 53 shown in FIG. 6, as shown in FIG. Specifically, the dividing device 53 includes a laser device that oscillates and emits laser light such as a carbon dioxide laser and a cooling device that jets water or compressed air. In the dividing process, the dividing device 53 is used. The glass substrate base material 16M is irradiated with laser light and heated, and then forcedly cooled by jetting water or compressed air, and the glass substrate base material 16M is subjected to thermal strain generated in the glass as a trigger. Substrate base material 16M can be divided along the planned division line.
　分割工程を経て分割された個々のガラス基板１６は、図１３に示すように、表裏の両板面１６ａには、一次強化層２１がほぼ全域にわたって残存しているものの、端面１６ｂには、上記した分割に伴って一次強化層２１が残存しなくなっている。このため、仮にガラス基板の端面が非強化面のままとされると、その非強化面において強度が局所的に低くなるため、ガラス基板に損傷などが生じ易くなるおそれがある。 As shown in FIG. 13, the glass substrate 16 divided through the dividing step has the primary reinforcing layer 21 remaining on almost the entire area on both the front and back plate surfaces 16a. As a result of the division, the primary reinforcing layer 21 does not remain. For this reason, if the end surface of the glass substrate is left as a non-strengthened surface, the strength is locally lowered on the non-strengthened surface, and thus the glass substrate may be easily damaged.
　次に、端部加工工程では、図６に示す端部加工装置５４を用いて、図１２に示すように、分割された各ガラス基板１６の端部のうち、四隅の角部を加工して平面形状を丸めるようにする。詳しくは、端部加工装置５４は、例えばグラインダーを有しており、端部加工工程では、グラインダーによってガラス基板１６の各角部を研削加工するようにしている。なお、この端部加工工程を経た後でも、ガラス基板１６のうち一次強化層２１が形成されていない端面１６ｂは、依然として非強化面のままとされる（図１３）。 Next, in the edge processing step, the corners at the four corners are processed using the edge processing device 54 shown in FIG. 6, as shown in FIG. 12, among the edges of each of the divided glass substrates 16. Round the planar shape. Specifically, the end processing device 54 has, for example, a grinder, and in the end processing step, each corner of the glass substrate 16 is ground by the grinder. Even after this end processing step, the end surface 16b of the glass substrate 16 where the primary reinforcing layer 21 is not formed is still left as a non-reinforced surface (FIG. 13).
　そして、二次強化工程では、図６に示す二次強化装置５５を用いてイオン交換による局所吹付式の化学強化処理を行うようにしている。詳しくは、二次強化装置５５は、図１４に示すように、ガラス基板１６を同図矢線方向（図１４に示す右方）へ向けて搬送する搬送装置５６と、搬送されるガラス基板１６の端面１６ｂを加熱する加熱装置５７と、搬送されるガラス基板１６の端面１６ｂに硝酸カリウムを含有した溶融塩（化学強化処理液）を付着させる化学強化処理装置５８とから構成されている。この二次強化装置５５を用いて行われる二次強化工程は、ガラス基板１６の端面１６ｂを加熱する加熱工程（図１５）と、加熱されたガラス基板１６の端面１６ｂに硝酸カリウムを含有した溶融塩（化学強化処理液）を付着させる化学強化処理工程（図１６から図１８）とを順次に行うようにしている。以下、二次強化装置５５を構成する各装置５６～５８の具体的な構成、及び二次強化工程を構成する各工程の具体的な内容について説明する。 In the secondary strengthening step, a local spraying type chemical strengthening process by ion exchange is performed using the secondary strengthening device 55 shown in FIG. Specifically, as shown in FIG. 14, the secondary strengthening device 55 includes a transport device 56 that transports the glass substrate 16 in the direction of the arrow in FIG. The heating device 57 that heats the end surface 16b of the glass substrate and the chemical strengthening processing device 58 that adheres a molten salt (chemical strengthening processing solution) containing potassium nitrate to the end surface 16b of the glass substrate 16 being conveyed. The secondary strengthening step performed using the secondary strengthening device 55 includes a heating step (FIG. 15) for heating the end surface 16b of the glass substrate 16, and a molten salt containing potassium nitrate on the end surface 16b of the heated glass substrate 16. A chemical strengthening treatment step (FIGS. 16 to 18) for attaching (chemical strengthening treatment liquid) is sequentially performed. Hereinafter, a specific configuration of each of the devices 56 to 58 constituting the secondary strengthening device 55 and a specific content of each process constituting the secondary strengthening step will be described.
　まず、搬送装置５６は、図１４に示すように、ガラス基板１６をその板面１６ａに沿う一方向（Ｘ軸方向、図１４ではガラス基板１６の短辺に沿う方向）に向けて直線的に搬送することが可能なベルトコンベアを備えており、その搬送速度はほぼ一定とされる。加熱装置５７は、次述する化学強化処理装置５８に対して相対的に搬送装置５６によるガラス基板１６の搬送方向の上流側（図１４に示す左側）に配されており、例えば炭酸ガスレーザやＹＡＧレーザ等のレーザ光を発振するレーザ発振装置（図示せず）と、レーザ光を照射するレーザヘッド５７ａとを備えている。このうち、レーザヘッド５７ａは、搬送装置５６（搬送されるガラス基板１６）をその搬送方向と直交する方向（Ｙ軸方向）から挟み込むようにして両側に一対、対向状に配されている。そして、加熱工程では、搬送装置５６により搬送されるガラス基板１６のうち、搬送方向（Ｘ軸方向）に沿った両端面１６ｂ（搬送方向と直交する方向について外側を向いた両端面１６ｂ）に対して、対をなすレーザヘッド５７ａからそれぞれレーザ光が照射される。すると、図１４及び図１５に示すように、ガラス基板１６の両端面１６ｂにおけるレーザ光の照射位置が局所的に且つ効率的に加熱され、それにより同端面１６ｂの表面温度が引き続き行われる化学強化処理に適したものとされる。なお、図１４及び図１５ではレーザ光の照射範囲を一点鎖線にて図示している。 First, as shown in FIG. 14, the transfer device 56 linearly moves the glass substrate 16 in one direction along the plate surface 16a (the X-axis direction, the direction along the short side of the glass substrate 16 in FIG. 14). A belt conveyor that can be transported is provided, and the transport speed is substantially constant. The heating device 57 is arranged on the upstream side (left side shown in FIG. 14) in the transport direction of the glass substrate 16 by the transport device 56 relative to the chemical strengthening processing device 58 described below. For example, the carbon dioxide laser or YAG A laser oscillation device (not shown) that oscillates a laser beam such as a laser and a laser head 57a that irradiates the laser beam are provided. Among them, the laser heads 57a are arranged in a pair and opposed to each other so as to sandwich the conveying device 56 (the glass substrate 16 to be conveyed) from a direction (Y-axis direction) orthogonal to the conveying direction. And in a heating process, with respect to the glass substrate 16 conveyed by the conveying apparatus 56, it is with respect to the both end surfaces 16b along the conveyance direction (X-axis direction) (both end surfaces 16b which faced the outer side about the direction orthogonal to a conveyance direction). Thus, laser beams are irradiated from the paired laser heads 57a. Then, as shown in FIG. 14 and FIG. 15, the chemical strengthening in which the irradiation position of the laser beam on the both end faces 16b of the glass substrate 16 is locally and efficiently heated, and thereby the surface temperature of the end face 16b is continuously performed. Appropriate for processing. 14 and 15, the irradiation range of the laser beam is illustrated by a one-dot chain line.
　このとき、ガラス基板１６のうち端面１６ｂのみにレーザ光が照射されて選択的に加熱されるのに対して、ガラス基板１６のうち板面１６ａ及びそこに形成された各パターン層１７，１８には、レーザ光が照射されることがなく、これらが直接加熱される事態が回避されている。しかも、レーザ光によるガラス基板１６の端面１６ｂの加熱温度は、ガラス基板１６の軟化点よりも十分に低い程度とされているので、レーザ光により直接加熱された端面１６ｂから、板面１６ａや各パターン層１７，１８へと伝熱が生じても、各パターン層１７，１８はダメージを受けるほどの高温状態には至ることが殆どないものとされる。レーザ光によるガラス基板１６の端面１６ｂの具体的な加熱温度は、例えば３８０度～４５０度の範囲とされるのが好ましく、それにより各パターン層１７，１８を劣化させるようなダメージを殆ど与えることなく、且つ続いて行われる化学強化処理工程でのイオン交換を効率的に促進させることが可能とされる。この加熱工程では、ガラス基板１６は、搬送装置５６によって搬送されることで、レーザ光を照射するレーザヘッド５７ａに対して一定の速度で相対移動されるので、レーザ光をガラス基板１６の端面１６ｂに対してその延在方向（Ｘ軸方向またはＹ軸方向）に沿って走査させることができる。そして、レーザ光をガラス基板１６の端面１６ｂに対して全周・全幅にわたって照射することで、ガラス基板１６の端面１６ｂが全域にわたって加熱される。 At this time, only the end surface 16b of the glass substrate 16 is irradiated with laser light and selectively heated, whereas the plate surface 16a of the glass substrate 16 and the pattern layers 17 and 18 formed thereon are applied. Are not irradiated with laser light, and the situation where they are directly heated is avoided. Moreover, since the heating temperature of the end surface 16b of the glass substrate 16 by the laser beam is sufficiently lower than the softening point of the glass substrate 16, from the end surface 16b directly heated by the laser beam, the plate surface 16a and each Even if heat transfer occurs to the pattern layers 17 and 18, the pattern layers 17 and 18 are rarely brought into a high temperature state so as to be damaged. The specific heating temperature of the end face 16b of the glass substrate 16 by the laser light is preferably in the range of, for example, 380 to 450 degrees, thereby almost causing damage that deteriorates the pattern layers 17 and 18. It is possible to efficiently promote ion exchange in the subsequent chemical strengthening treatment step. In this heating process, since the glass substrate 16 is transported by the transport device 56, it is relatively moved at a constant speed with respect to the laser head 57a that irradiates the laser light. Can be scanned along the extending direction (X-axis direction or Y-axis direction). And the end surface 16b of the glass substrate 16 is heated over the whole region by irradiating the end surface 16b of the glass substrate 16 over the entire circumference and width.
　化学強化処理装置５８は、図１４に示すように、加熱装置５７に対して相対的に搬送装置５６によるガラス基板１６の搬送方向の下流側（図１４に示す右側）に配されており、化学強化処理液（硝酸カリウムを含有した溶融塩）を噴射可能な複数のノズル５８ａ～５８ｅを備えている。具体的には、ノズル５８ａ～５８ｅは、搬送装置５６によるガラス基板１６の搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って空間的な間隔をあけて５つが並列して配されており、上流側から順に第１ノズル５８ａ、第２ノズル５８ｂ、第３ノズル５８ｃ、第４ノズル５８ｄ、第５ノズル５８ｅとされる。上記搬送方向について隣り合う各ノズル５８ａ～５８ｅの空間的な間隔、つまり各ノズル５８ａ～５８ｅの配列ピッチＰＴは、ほぼ等しいもの（等間隔）とされている。各ノズル５８ａ～５８ｅは、レーザヘッド５７ａと同様に、搬送装置５６（搬送されるガラス基板１６）をその搬送方向と直交する方向（Ｙ軸方向）から挟み込むようにして両側に一対ずつ、それぞれ対向状に配されている。各ノズル５８ａ～５８ｅからは、化学強化処理液を霧状にして吹き付けることが可能とされており、それによりガラス基板１６の端面１６ｂに対して極力均一な濃度でもって万遍なく化学強化処理液を付着させることができる。 As shown in FIG. 14, the chemical strengthening treatment device 58 is disposed on the downstream side (right side shown in FIG. 14) in the conveyance direction of the glass substrate 16 by the conveyance device 56 relative to the heating device 57. A plurality of nozzles 58a to 58e capable of injecting the strengthening treatment liquid (molten salt containing potassium nitrate) are provided. Specifically, five nozzles 58a to 58e are arranged in parallel at a spatial interval along the transport direction (X-axis direction) of the glass substrate 16 by the transport device 56, and sequentially from the upstream side. The first nozzle 58a, the second nozzle 58b, the third nozzle 58c, the fourth nozzle 58d, and the fifth nozzle 58e. Spatial intervals between the adjacent nozzles 58a to 58e in the transport direction, that is, the arrangement pitch PT of the nozzles 58a to 58e are substantially equal (equal intervals). As with the laser head 57a, the nozzles 58a to 58e are opposed to each other in pairs on both sides so as to sandwich the transport device 56 (the glass substrate 16 to be transported) from the direction orthogonal to the transport direction (Y-axis direction). It is arranged in a shape. From each of the nozzles 58a to 58e, the chemical strengthening treatment liquid can be sprayed in the form of a mist so that the chemical strengthening treatment liquid is uniformly applied to the end face 16b of the glass substrate 16 with a uniform concentration as much as possible. Can be attached.
　化学強化処理工程では、図１４に示すように、搬送装置５６により搬送されるガラス基板１６のうち、搬送方向（Ｘ軸方向）に沿った両端面１６ｂ（搬送方向と直交する方向について外側を向いた両端面１６ｂ）に対して、対をなす各ノズル５８ａ～５８ｅから化学強化処理液が所定の時間的な間隔をあけて５回にわたって間欠的に吹き付けられるものとされる。詳しくは、加熱工程にてレーザヘッド５７ａによって化学強化処理に適した表面温度にまで加熱されたガラス基板１６が第１ノズル５８ａによる処理位置にまで搬送装置５６により搬送されると、図１４及び図１６に示すように、両端面１６ｂには対向する一対の第１ノズル５８ａから化学強化処理液が霧状にして吹き付けられるとともに所定量が付着する。それからガラス基板１６が次の第２ノズル５８ｂによる処理位置にまで搬送装置５６により搬送されるまでの間は、化学強化処理がなされることがなく、いわば非処理期間が設けられている。そして、ガラス基板１６は、第２ノズル５８ｂによる処理位置に至ると、両端面１６ｂが一対の第２ノズル５８ｂにより化学強化処理され、その後再び非処理期間を経て第３ノズル５８ｃによる化学強化処理（図１７）がなされ、その後再び非処理期間を経て第４ノズル５８ｄによる化学強化処理がなされ、再び非処理期間を経て第５ノズル５８ｅによる化学強化処理（図１８）がなされる。なお、図１４，図１６，図１７及び図１８では化学強化処理液の吹き付け範囲を一点鎖線にて図示している。 In the chemical strengthening treatment step, as shown in FIG. 14, among the glass substrates 16 transported by the transport device 56, both end surfaces 16b along the transport direction (X-axis direction) are directed outward in the direction orthogonal to the transport direction. The chemical strengthening treatment liquid is intermittently sprayed five times at predetermined time intervals from the paired nozzles 58a to 58e to the both end faces 16b). Specifically, when the glass substrate 16 heated to the surface temperature suitable for the chemical strengthening process by the laser head 57a in the heating process is transported by the transport device 56 to the processing position by the first nozzle 58a, FIGS. As shown in FIG. 16, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed in a mist form from a pair of opposed first nozzles 58 a to both end surfaces 16 b and a predetermined amount adheres. Then, until the glass substrate 16 is transported to the processing position by the second nozzle 58b by the transport device 56, the chemical strengthening process is not performed, so that a non-processing period is provided. Then, when the glass substrate 16 reaches the processing position by the second nozzle 58b, both end surfaces 16b are chemically strengthened by the pair of second nozzles 58b, and then after the non-processing period again, the chemical strengthening processing by the third nozzle 58c ( 17) is performed, and then the chemical strengthening process by the fourth nozzle 58d is performed again after a non-processing period, and the chemical strengthening process (FIG. 18) by the fifth nozzle 58e is performed again after a non-processing period. In addition, in FIG.14, FIG.16, FIG.17 and FIG. 18, the spraying range of a chemical strengthening process liquid is illustrated with the dashed-dotted line.
　このように、ガラス基板１６は、化学強化処理が行われる処理期間と、化学強化処理が行われない非処理期間とを交互に経て、端面１６ｂに対して少量ずつの化学強化処理液が供給されることで、二次強化層２２が徐々に厚み（深さ）を増すよう、成長形成される。ここで、仮に化学強化処理を非処理期間を設けることなく一度に行った場合には、短時間で相対的に大量の化学強化処理液が端面に吹き付けられるため、化学強化処理液によってガラス基板の端面が急冷されるおそれがあり、そうなると分割工程にて説明したのと同様の原理でもってガラス基板に熱歪みを生じさせるとともに端面に元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してしまい、ガラス基板を割断させるおそれがある。そうかといってガラス基板の端面を急冷しないよう化学強化処理時に吹き付ける化学強化処理液の量を単に少量にしたのでは、形成される二次強化層の厚みが不十分なものとなって、得られる強度が不足するおそれがある。その点、本実施形態では、上記のように化学強化処理を時間的な間隔をあけて５回に分けて繰り返し間欠的に行う、いわばインターバル式の化学強化処理を行うようにし、少量ずつの化学強化処理液を時間をかけてガラス基板１６の端面１６ｂに付着させることで二次強化層２２を徐々に成長形成させているから、ガラス基板１６の端面１６ｂを急冷することがなく、且つ十分な厚み（深さ）を持った二次強化層２２を形成することができる。これにより、ガラス基板１６に割断が生じるのを回避できるとともにガラス基板１６の強度を十分に高めることができる。また、５回の処理期間の間に挿入される４回の非処理期間（時間的な間隔）は、隣り合う各ノズル５８ａ～５８ｅの配列ピッチ（空間的な間隔）ＰＴに準ずるものであるから、互いにほぼ等しいものとされる。 As described above, the glass substrate 16 is supplied with the chemical strengthening treatment liquid in small amounts to the end face 16b through the processing period in which the chemical strengthening process is performed and the non-processing period in which the chemical strengthening process is not performed alternately. Thus, the secondary reinforcing layer 22 is grown and formed so as to gradually increase the thickness (depth). Here, if the chemical strengthening treatment is performed at once without providing a non-treatment period, a relatively large amount of the chemical strengthening treatment liquid is sprayed on the end face in a short time. There is a possibility that the end face may be rapidly cooled, and in this case, the glass substrate is thermally strained by the same principle as explained in the dividing step and promotes the growth of slight scratches and cracks originally existing on the end face. There is a risk of breaking the glass substrate. However, if the amount of the chemical strengthening treatment liquid sprayed during the chemical strengthening treatment is simply reduced so as not to rapidly cool the end face of the glass substrate, the thickness of the secondary strengthening layer to be formed becomes insufficient. There is a risk of insufficient strength. In this respect, in the present embodiment, the chemical strengthening process is repeated intermittently in five steps with a time interval as described above, that is, the so-called interval-type chemical strengthening process is performed. Since the secondary reinforcing layer 22 is gradually grown and formed by adhering the tempering treatment liquid to the end surface 16b of the glass substrate 16 over time, the end surface 16b of the glass substrate 16 is not rapidly cooled and sufficient. A secondary reinforcing layer 22 having a thickness (depth) can be formed. Thereby, it is possible to avoid cleaving the glass substrate 16 and sufficiently increase the strength of the glass substrate 16. In addition, the four non-processing periods (temporal intervals) inserted between the five processing periods conform to the arrangement pitch (spatial interval) PT of the adjacent nozzles 58a to 58e. Are substantially equal to each other.
　また、この化学強化処理工程では、ガラス基板１６は、搬送装置５６によって搬送されることで、化学強化処理液を吹き付ける各ノズル５８ａ～５８ｅに対して一定の速度で相対移動されるので、化学強化処理液をガラス基板１６の端面１６ｂに対してその延在方向（Ｘ軸方向またはＹ軸方向）に沿って連続的に付着させることができる。そして、化学強化処理液をガラス基板１６の端面１６ｂに対して全周・全幅にわたって付着させることで、図１９及び図２０に示すように、ガラス基板１６の端面１６ｂの全域にわたって二次強化層２２が形成される。なお、化学強化処理では、ガラス基板１６の端面１６ｂにおける表面に存在するナトリウムイオンと、化学強化処理液中に存在するカリウムイオンとが効率的に交換され、カリウムイオンがガラス基板１６の端面１６ｂにおける表面に進入していき、それによりイオン交換層が形成されている。このカリウムイオンは、ナトリウムイオンよりもイオン半径が大きい原子であるため、ガラス基板１６の端面１６ｂにおける表面に形成されたイオン交換層は、圧縮応力が残存した圧縮層とされる。 Further, in this chemical strengthening process, the glass substrate 16 is transported by the transport device 56, so that the glass substrate 16 is relatively moved at a constant speed with respect to the nozzles 58a to 58e spraying the chemical strengthening process liquid. The treatment liquid can be continuously attached to the end surface 16b of the glass substrate 16 along the extending direction (X-axis direction or Y-axis direction). Then, by attaching the chemical strengthening treatment liquid to the end surface 16b of the glass substrate 16 over the entire circumference and width, as shown in FIGS. 19 and 20, the secondary reinforcing layer 22 is spread over the entire end surface 16b of the glass substrate 16. Is formed. In the chemical strengthening treatment, sodium ions present on the surface of the end surface 16b of the glass substrate 16 and potassium ions present in the chemical strengthening treatment liquid are efficiently exchanged, so that potassium ions are present on the end surface 16b of the glass substrate 16. The ion exchange layer is formed by entering the surface. Since this potassium ion is an atom having an ionic radius larger than that of sodium ion, the ion exchange layer formed on the surface of the end face 16b of the glass substrate 16 is a compressed layer in which compressive stress remains.
　このようにして形成された二次強化層２２は、化学強化処理によってガラス基板１６の端面１６ｂに形成されたものであるから、例えばガラス基板の端面に強化のためのコーティング層を形成した場合に比べると、例えば液晶表示装置１０を持ち運んで使用するのに伴う摩擦などによって欠損が生じるようなことが避けられ、もって経時的に高い強度を維持することができる。しかも、この二次強化層２２は、局所吹付式の化学強化処理によってガラス基板１６の端面１６ｂに形成されているので、仮にパターン層を形成したガラス基板に風冷強化処理や浸漬式の化学強化処理などを行うことで端面に二次強化層を形成した場合に比べると、ガラス基板１６全体が高温状態になることがないので、板面１６ａに形成したパターン層１７，１８に熱的または化学的なダメージが及ぶのを避けることができる。さらには、二次強化層２２は、局所吹付式の化学強化処理によって形成されているので、仮にガラス基板の端面にレーザ光を照射して軟化点まで加熱することで端面を局所的に溶融させて平滑層を形成することで強化を図った場合に比べると、処理温度が相対的に低いものとされるので、パターン層１７，１８に熱的なダメージが及び難くなっている。 Since the secondary reinforcing layer 22 formed in this way is formed on the end surface 16b of the glass substrate 16 by chemical strengthening treatment, for example, when a reinforcing coating layer is formed on the end surface of the glass substrate. In comparison, for example, the occurrence of defects due to friction or the like associated with carrying and using the liquid crystal display device 10 is avoided, so that high strength can be maintained over time. In addition, since the secondary reinforcing layer 22 is formed on the end surface 16b of the glass substrate 16 by a local spraying type chemical strengthening process, an air cooling strengthening process or an immersion type chemical strengthening is performed on the glass substrate on which the pattern layer is temporarily formed. Compared to the case where the secondary reinforcing layer is formed on the end face by performing the treatment or the like, the entire glass substrate 16 does not reach a high temperature state, so that the pattern layers 17 and 18 formed on the plate face 16a are thermally or chemically treated. To avoid damaging damage. Furthermore, since the secondary reinforcing layer 22 is formed by a local spraying type chemical strengthening process, the end face is locally melted by irradiating the end face of the glass substrate with a laser beam and heating it to the softening point. Compared with the case where the reinforcement is achieved by forming a smooth layer, the processing temperature is relatively low, so that the pattern layers 17 and 18 are hardly damaged by heat.
　以上のようにガラス基板１６のうち板面１６ａに一次強化層２１が形成されるとともに端面１６ｂに二次強化層２２が形成され、しかもこれら一次強化層２１及び二次強化層２２が共に化学強化処理によって形成された圧縮層（イオン交換層）とされているから、ガラス基板１６の外周面が全域にわたってムラなく強化されており、もって極めて高い強度を備えたタッチパネル１２を得ることができる。従って、従来のようなカバーガラスを用いてタッチパネル１２の保護を図るようにした場合に比べると、低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。 As described above, the primary reinforcing layer 21 is formed on the plate surface 16a of the glass substrate 16 and the secondary reinforcing layer 22 is formed on the end surface 16b, and both the primary reinforcing layer 21 and the secondary reinforcing layer 22 are chemically strengthened. Since the compressed layer (ion exchange layer) formed by the treatment is used, the outer peripheral surface of the glass substrate 16 is uniformly reinforced throughout the entire area, and thus the touch panel 12 having extremely high strength can be obtained. Therefore, compared with the case where the touch panel 12 is protected using a conventional cover glass, cost reduction, weight reduction, thickness reduction, and the like can be achieved.
　以上説明したように本実施形態のタッチパネル（位置入力装置）１２の製造方法は、複数のガラス基板１６を取り出すことが可能なガラス基板母材１６Ｍの表面に一次強化層２１を形成する一次強化工程と、ガラス基板母材１６Ｍの一次強化層２１に対して、入力位置を検出するためのパターン層１７，１８を外側に積層する形で形成するパターン形成工程と、ガラス基板母材１６Ｍを分割して複数のガラス基板１６を取り出す分割工程と、取り出されたガラス基板１６の端面１６ｂに、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層２２を形成する二次強化工程とを備えている。 As described above, in the manufacturing method of the touch panel (position input device) 12 according to the present embodiment, the primary reinforcing step of forming the primary reinforcing layer 21 on the surface of the glass substrate base material 16M from which the plurality of glass substrates 16 can be taken out. And a pattern forming step of forming the pattern layers 17 and 18 for detecting the input position on the outside of the primary reinforcing layer 21 of the glass substrate base material 16M, and the glass substrate base material 16M. The secondary step of forming the secondary reinforcing layer 22 by performing a chemical strengthening process by ion exchange on the end surface 16b of the glass substrate 16 that has been taken out and a plurality of times at intervals with a plurality of separation steps. And a strengthening process.
　このようなタッチパネル１２の製造方法によると、パターン形成工程では、複数のガラス基板１６を取り出すことが可能なガラス基板母材１６Ｍにパターン層１７，１８を形成するようにしているので、仮に分割工程を行った後に個々のガラス基板１６にそれぞれ個別にパターン層を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化工程にてガラス基板母材１６Ｍに一次強化層２１を形成してから、パターン形成工程にてガラス基板母材１６Ｍにパターン層１７，１８を形成するようにしているので、一次強化層２１を形成する上で作用し得る高温などがパターン層１７，１８に作用するのを回避することができ、もってパターン層１７，１８がダメージを受けるのを防ぐことができる。 According to such a manufacturing method of the touch panel 12, since the pattern layers 17 and 18 are formed on the glass substrate base material 16M from which the plurality of glass substrates 16 can be taken out in the pattern forming step, the dividing step is temporarily performed. Compared with the case where the pattern layers are individually formed on the individual glass substrates 16 after performing the above, efficient processing can be performed and the manufacturing cost can be reduced. Furthermore, since the primary reinforcement layer 21 is first formed on the glass substrate base material 16M in the primary strengthening step, the pattern layers 17 and 18 are formed on the glass substrate base material 16M in the pattern formation step. Further, it is possible to avoid the high temperature that can act on the formation of the primary reinforcing layer 21 from acting on the pattern layers 17 and 18, thereby preventing the pattern layers 17 and 18 from being damaged.
　上記のようにガラス基板母材１６Ｍに先に一次強化層２１を形成してからパターン層１７，１８を形成し、その後に個々のガラス基板１６を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板１６の端面１６ｂには一次強化層２１が存しなくなる可能性があるものの、本実施形態では二次強化工程にてガラス基板１６の端面１６ｂに二次強化層２２を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化工程では、ガラス基板１６の端面１６ｂにイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層２２を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板１６全体を加熱する必要がなく、またガラス基板１６を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層２２を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板１６に形成されたパターン層１７，１８にダメージを与えることなく、二次強化層２２を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板１６の端面１６ｂにコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層２２は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。 As described above, when the manufacturing is performed according to the procedure in which the primary reinforcing layer 21 is first formed on the glass substrate base material 16M, the pattern layers 17 and 18 are formed, and then the individual glass substrates 16 are divided. Although there is a possibility that the primary reinforcing layer 21 does not exist on the end surface 16b of each glass substrate 16 in accordance with the dividing step, in this embodiment, the secondary reinforcing layer is formed on the end surface 16b of the glass substrate 16 in the secondary strengthening step. 22 is formed, it is possible to suppress a decrease in strength, and to ensure a sufficiently high strength. In addition, in the secondary strengthening step, the end face 16b of the glass substrate 16 is subjected to a chemical strengthening process by ion exchange to form the secondary strengthening layer 22; It is not necessary to heat the entire substrate 16, and the secondary reinforcing layer 22 can be formed without heating the glass substrate 16 until the softening point is reached. Thereby, the secondary reinforcing layer 22 can be formed without damaging the pattern layers 17 and 18 formed on the glass substrate 16. Moreover, compared with the case where reinforcement | strengthening is aimed at by forming the coating layer in the end surface 16b of the glass substrate 16, the secondary reinforcement | strengthening layer 22 formed by the chemical strengthening process does not lose | delete by friction etc., and is high The strength can be maintained over time.
　そして、二次強化工程では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板１６の端面１６ｂが急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板１６に熱歪みを生じさせ、その結果端面１６ｂに元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板１６に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板１６の端面１６ｂを急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層２２の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化工程にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板１６の端面１６ｂを急冷することなく十分な厚み（深さ）を持った二次強化層２２を形成することが可能となる。これにより、二次強化工程においてガラス基板１６に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板１６の強度を十分に高くすることができる。 And in the secondary strengthening step, the chemical strengthening process by ion exchange is performed a plurality of times at intervals, so that the following actions and effects can be obtained. That is, if the chemical strengthening process is performed at once without an interval, the end face 16b of the glass substrate 16 may be rapidly cooled along with the chemical strengthening process, which causes thermal distortion in the glass substrate 16, and as a result. There is a possibility that the glass substrate 16 is cracked by promoting the growth of slight scratches and cracks originally present on the end face 16b. However, if the chemical strengthening process is suppressed so as not to rapidly cool the end face 16b of the glass substrate 16, the thickness of the formed secondary reinforcing layer 22 becomes insufficient, and the strength may be insufficient. In that respect, by performing the chemical strengthening process by ion exchange a plurality of times at intervals in the secondary strengthening step as described above, the end surface 16b of the glass substrate 16 has a sufficient thickness (depth) without quenching. It is possible to form the secondary reinforcing layer 22 with Thereby, it can avoid that a crack etc. arise in the glass substrate 16 in a secondary strengthening process, and the intensity | strength of the glass substrate 16 can fully be made high.
　以上のようにパターン層１７，１８を形成したガラス基板１６の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板１６からなるタッチパネル１２とは別途に強化ガラスを用いてそのタッチパネル１２の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。 Since the strength of the glass substrate 16 on which the pattern layers 17 and 18 are formed as described above can be made sufficiently high, what is the touch panel 12 made of the glass substrate 16 that does not have each reinforcing layer as in the prior art? The number of parts can be reduced as compared with the case where the tempered glass is separately used to protect the touch panel 12, and thus the cost, weight, and thickness can be reduced.
　また、二次強化工程には、ガラス基板１６の端面１６ｂを加熱する加熱工程と、加熱されたガラス基板１６の端面１６ｂに間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程とが含まれている。このようにすれば、加熱工程にてガラス基板１６の端面１６ｂを加熱した上で化学強化処理工程にてガラス基板１６の端面１６ｂに間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることで、ガラス基板１６の端面１６ｂにおいて効率的にイオン交換を生じさせて化学強化を図ることができる。 The secondary strengthening process includes a heating process for heating the end face 16b of the glass substrate 16 and a chemical strengthening process process for attaching the chemical strengthening treatment liquid to the end face 16b of the heated glass substrate 16 at a plurality of intervals at intervals. And are included. If it does in this way, after heating the end surface 16b of the glass substrate 16 in a heating process, a chemical strengthening process liquid is made to adhere to the end surface 16b of the glass substrate 16 in multiple steps at intervals in a chemical strengthening process. The chemical strengthening can be achieved by efficiently generating ion exchange on the end surface 16b of the glass substrate 16.
　また、加熱工程では、ガラス基板１６の端面１６ｂに対してレーザ光を照射するようにしている。このようにすれば、ガラス基板１６のうち端面１６ｂを局所的に且つ効率的に加熱することができる。 In the heating process, the end surface 16b of the glass substrate 16 is irradiated with laser light. If it does in this way, end face 16b among glass substrates 16 can be heated locally and efficiently.
　また、加熱工程では、ガラス基板１６の端面１６ｂの加熱温度を、ガラス基板１６の軟化点よりも低いものとしている。このようにすれば、仮に加熱温度をガラス基板１６の軟化点と同じまたはそれよりも高くした場合には、ガラス基板１６の板面１６ａに形成されたパターン層１７，１８にまで伝熱してパターン層１７，１８がダメージを受ける可能性があるが、本実施形態によれば、そのような問題を生じ難くすることができる。 Further, in the heating process, the heating temperature of the end surface 16 b of the glass substrate 16 is set lower than the softening point of the glass substrate 16. In this way, if the heating temperature is the same as or higher than the softening point of the glass substrate 16, heat is transferred to the pattern layers 17 and 18 formed on the plate surface 16 a of the glass substrate 16. Although the layers 17 and 18 may be damaged, according to the present embodiment, such a problem can be made difficult to occur.
　また、加熱工程では、ガラス基板１６の端面１６ｂを全周にわたって加熱しており、化学強化処理工程では、ガラス基板１６の端面１６ｂを全周にわたって化学強化処理するようにしている。このようにすれば、二次強化層２２をガラス基板１６の端面１６ｂの全周にわたって形成することができるから、ガラス基板１６の強度を一層向上させることができる。 In the heating process, the end face 16b of the glass substrate 16 is heated over the entire circumference, and in the chemical strengthening process, the end face 16b of the glass substrate 16 is chemically strengthened over the entire circumference. In this way, since the secondary reinforcing layer 22 can be formed over the entire circumference of the end surface 16b of the glass substrate 16, the strength of the glass substrate 16 can be further improved.
　また、化学強化処理工程では、ガラス基板１６の端面１６ｂに対して化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板１６のうち端面１６ｂに対して局所的に且つ効率的に化学強化処理液を付着させることができる。 Further, in the chemical strengthening treatment process, a chemical strengthening treatment liquid is sprayed on the end face 16b of the glass substrate 16. If it does in this way, a chemical strengthening process liquid can be locally and efficiently made to adhere to end face 16b among glass substrates 16.
　また、化学強化処理工程では、ガラス基板１６をその板面１６ａに沿う方向に搬送するとともにその搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置された複数のノズル５８ａ～５８ｅから端面１６ｂに対して化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板１６を搬送しつつその端面１６ｂに対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。 In the chemical strengthening process, the glass substrate 16 is transported in the direction along the plate surface 16a, and the end surface 16b is chemically treated from a plurality of nozzles 58a to 58e arranged in parallel at intervals along the transport direction. The strengthening treatment liquid is sprayed. In this way, since the chemical strengthening treatment liquid can be adhered to the end surface 16b at intervals with respect to the end surface 16b while the glass substrate 16 is being conveyed, the manufacturing efficiency is excellent.
　また、加熱工程では、化学強化処理工程に係る複数のノズル５８ａ～５８ｅに対してガラス基板１６の搬送方向における上流側に配した加熱装置５７によりガラス基板１６の端面１６ｂを加熱するようにしている。このようにすれば、ガラス基板１６を搬送しつつ端面１６ｂを加熱した後に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に一層優れる。 In the heating process, the end surface 16b of the glass substrate 16 is heated by the heating device 57 disposed on the upstream side in the transport direction of the glass substrate 16 with respect to the plurality of nozzles 58a to 58e in the chemical strengthening process. . If it does in this way, since the end face 16b is heated while conveying the glass substrate 16 and a chemical strengthening process liquid can be made to adhere several times at intervals, it is further excellent in manufacturing efficiency.
　また、化学強化処理工程では、ガラス基板１６を挟んだ両側から端面１６ｂに対して化学強化処理液を吹き付けるようにしている。このようにすれば、ガラス基板１６の端面１６ｂに対して効率的に化学強化処理液を付着させることができ、製造効率に優れる。 Further, in the chemical strengthening treatment process, a chemical strengthening treatment liquid is sprayed on the end face 16b from both sides of the glass substrate 16. If it does in this way, a chemical strengthening processing liquid can be efficiently made to adhere to end face 16b of glass substrate 16, and it is excellent in manufacturing efficiency.
　また、化学強化処理工程では、化学強化処理液を霧状にしてガラス基板１６の端面１６ｂに対して吹き付けるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板１６の端面１６ｂに対して均一な濃度でもって万遍なく付着させることができ、もって均一な厚さの二次強化層２２を形成することができる。 Further, in the chemical strengthening treatment process, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed onto the end surface 16b of the glass substrate 16 in a mist form. In this way, the chemical strengthening treatment liquid can be uniformly applied to the end surface 16b of the glass substrate 16 with a uniform concentration, and thus the secondary strengthening layer 22 having a uniform thickness can be formed. it can.
　また、化学強化処理工程では、化学強化処理液として、アルカリ金属イオンを含有する溶融塩を用いるようにしている。このようにすれば、化学強化処理液をガラス基板１６の端面１６ｂに付着させると、化学強化処理液をなす溶融塩に含有されるアルカリ金属イオンがガラス基板１６の表面に存するアルカリ金属イオンと交換されることで、ガラス基板１６の端面１６ｂに圧縮応力が残留した圧縮層からなる二次強化層２２が形成される。 Further, in the chemical strengthening treatment step, a molten salt containing alkali metal ions is used as the chemical strengthening treatment liquid. In this way, when the chemical strengthening treatment liquid is attached to the end face 16b of the glass substrate 16, the alkali metal ions contained in the molten salt forming the chemical strengthening treatment liquid are exchanged with the alkali metal ions present on the surface of the glass substrate 16. As a result, the secondary reinforcing layer 22 made of a compressed layer in which compressive stress remains on the end surface 16 b of the glass substrate 16 is formed.
　また、一次強化工程では、ガラス基板１６の表面に化学強化処理または風冷強化処理を施すことで、一次強化層２１として圧縮層を形成している。このようにすれば、一次強化工程にてガラス基板１６の表面に一次強化層２１として圧縮層を形成することで、ガラス基板１６の強度を十分に高いものとすることができる。 In the primary strengthening step, the surface of the glass substrate 16 is subjected to a chemical strengthening process or an air cooling strengthening process to form a compression layer as the primary strengthening layer 21. If it does in this way, the intensity | strength of the glass substrate 16 can be made high enough by forming a compression layer as the primary reinforcement layer 21 in the surface of the glass substrate 16 at a primary reinforcement | strengthening process.
　また、一次強化工程では、ガラス基板１６の表面にイオン交換による化学強化処理を施すようにしている。このようにすれば、ガラス基板１６の強度をさらに高いものとすることができる。 In the primary strengthening step, the surface of the glass substrate 16 is subjected to chemical strengthening treatment by ion exchange. In this way, the strength of the glass substrate 16 can be further increased.
　また、分割工程と二次強化工程との間に、ガラス基板１６の端部を加工して外形を整える端部加工工程を備える。このようにすれば、端部加工工程にてガラス基板１６の端部を加工して外形を整えた後に、二次強化工程にてガラス基板１６の端面１６ｂに二次強化層２２を形成することができる。 Also, an end processing step is provided between the dividing step and the secondary strengthening step to process the end portion of the glass substrate 16 to adjust the outer shape. If it does in this way, after processing the edge part of the glass substrate 16 in an edge part process process and adjusting the external shape, the secondary reinforcement layer 22 will be formed in the end surface 16b of the glass substrate 16 in a secondary reinforcement process. Can do.
　しかも、本実施形態に係るタッチパネル１２の製造装置５０は、複数のガラス基板１６を取り出すことが可能なガラス基板母材１６Ｍの表面に一次強化層２１を形成する一次強化装置５１と、ガラス基板母材１６Ｍの一次強化層２１に対して、入力位置を検出するためのパターン層１７，１８を外側に積層する形で形成するパターン形成装置５２と、ガラス基板母材１６Ｍを分割して複数のガラス基板１６を取り出す分割装置５３と、取り出されたガラス基板１６の端面１６ｂに、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層２２を形成する二次強化装置５５とを備えている。 Moreover, the manufacturing apparatus 50 for the touch panel 12 according to the present embodiment includes a primary strengthening device 51 that forms the primary strengthening layer 21 on the surface of the glass substrate base material 16M from which a plurality of glass substrates 16 can be taken out, and a glass substrate base. A pattern forming apparatus 52 for forming the pattern layers 17 and 18 for detecting the input position on the outer side of the primary reinforcing layer 21 of the material 16M and a plurality of glasses by dividing the glass substrate base material 16M. The splitting device 53 for taking out the substrate 16 and the secondary strengthening device 55 for forming the secondary strengthening layer 22 by performing chemical strengthening treatment by ion exchange a plurality of times on the end face 16b of the taken glass substrate 16 at intervals. And has.
　このようなタッチパネル１２の製造装置５０によると、パターン形成装置５２では、複数のガラス基板１６を取り出すことが可能なガラス基板母材１６Ｍにパターン層１７，１８を形成するようにしているので、仮に分割装置５３による分割を行った後に個々のガラス基板１６にそれぞれ個別にパターン層１７，１８を形成した場合に比べると、効率的な処理を行うことができて製造コストの低廉化が可能となる。さらには、先に一次強化装置５１にてガラス基板母材１６Ｍに一次強化層２１を形成してから、パターン形成装置５２にてガラス基板母材１６Ｍにパターン層１７，１８を形成するようにしているので、一次強化層２１を形成する上で作用し得る高温などがパターン層１７，１８に作用するのを回避することができ、もってパターン層１７，１８がダメージを受けるのを防ぐことができる。 According to the manufacturing apparatus 50 of such a touch panel 12, in the pattern forming apparatus 52, the pattern layers 17 and 18 are formed on the glass substrate base material 16M from which a plurality of glass substrates 16 can be taken out. Compared with the case where the pattern layers 17 and 18 are individually formed on the individual glass substrates 16 after being divided by the dividing device 53, efficient processing can be performed and the manufacturing cost can be reduced. . Further, the primary strengthening layer 21 is first formed on the glass substrate base material 16M by the primary strengthening device 51, and then the pattern layers 17 and 18 are formed on the glass substrate base material 16M by the pattern forming device 52. Therefore, it is possible to avoid a high temperature or the like that can act on the formation of the primary reinforcing layer 21 from acting on the pattern layers 17 and 18, thereby preventing the pattern layers 17 and 18 from being damaged. .
　上記のようにガラス基板母材１６Ｍに先に一次強化層２１を形成してからパターン層１７，１８を形成し、その後に個々のガラス基板１６を分割する、といった手順での製造を行うと、分割工程に伴って個々のガラス基板１６の端面１６ｂには一次強化層２１が存しなくなる可能性があるものの、本実施形態では二次強化装置５５にてガラス基板１６の端面１６ｂに二次強化層２２を形成するようにしているので、強度低下を抑制することができ、もって十分に高い強度を確保することができる。その上で、二次強化装置５５では、ガラス基板１６の端面１６ｂにイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層２２を形成するようにしているから、例えば風冷強化処理のようにガラス基板１６全体を加熱する必要がなく、またガラス基板１６を軟化点に達するまで加熱せずとも二次強化層２２を形成することが可能とされる。これにより、ガラス基板１６に形成されたパターン層１７，１８にダメージを与えることなく、二次強化層２２を形成することが可能とされる。また、仮にガラス基板１６の端面１６ｂにコーティング層を形成することで強化を図った場合に比べると、化学強化処理によって形成された二次強化層２２は、摩擦などによって欠損することがなく、高い強度を経時的に維持することができる。 As described above, when the manufacturing is performed according to the procedure in which the primary reinforcing layer 21 is first formed on the glass substrate base material 16M, the pattern layers 17 and 18 are formed, and then the individual glass substrates 16 are divided. Although there is a possibility that the primary reinforcing layer 21 does not exist on the end surface 16b of each glass substrate 16 in accordance with the dividing step, in the present embodiment, the secondary reinforcing device 55 performs secondary strengthening on the end surface 16b of the glass substrate 16. Since the layer 22 is formed, strength reduction can be suppressed, and thus sufficiently high strength can be ensured. In addition, in the secondary strengthening device 55, since the secondary strengthening layer 22 is formed by performing chemical strengthening processing by ion exchange on the end surface 16b of the glass substrate 16, for example, as in air cooling strengthening processing. It is not necessary to heat the entire glass substrate 16, and the secondary reinforcing layer 22 can be formed without heating the glass substrate 16 until the softening point is reached. Thereby, the secondary reinforcing layer 22 can be formed without damaging the pattern layers 17 and 18 formed on the glass substrate 16. Moreover, compared with the case where reinforcement | strengthening is aimed at by forming the coating layer in the end surface 16b of the glass substrate 16, the secondary reinforcement | strengthening layer 22 formed by the chemical strengthening process does not lose | delete by friction etc., and is high The strength can be maintained over time.
　そして、二次強化装置５５では、イオン交換による化学強化処理を、間隔をあけて複数回にわたって行うようにしているので、以下の作用及び効果を得ることができる。すなわち、仮に化学強化処理を間隔をあけずに一度に行うと、化学強化処理に伴ってガラス基板１６の端面１６ｂが急冷されるおそれがあり、そうなるとガラス基板１６に熱歪みを生じさせ、その結果端面１６ｂに元来から存在する僅かな傷やクラックの成長を促してガラス基板１６に割れなどを生じさせる可能性がある。そうかといってガラス基板１６の端面１６ｂを急冷しないよう化学強化処理を抑制して行うと、形成される二次強化層２２の厚みが十分でなくなり、強度不足となる可能性がある。その点、上記のように二次強化装置５５にて間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を行うようにすることで、ガラス基板１６の端面１６ｂを急冷することなく十分な厚み（深さ）を持った二次強化層２２を形成することが可能となる。これにより、二次強化層２２を形成する際にガラス基板１６に割れなどが生じるのを回避することができるとともにガラス基板１６の強度を十分に高くすることができる。 In the secondary strengthening device 55, the chemical strengthening process by ion exchange is performed a plurality of times at intervals, so that the following actions and effects can be obtained. That is, if the chemical strengthening process is performed at once without an interval, the end face 16b of the glass substrate 16 may be rapidly cooled along with the chemical strengthening process, which causes thermal distortion in the glass substrate 16, and as a result. There is a possibility that the glass substrate 16 is cracked by promoting the growth of slight scratches and cracks originally present on the end face 16b. However, if the chemical strengthening process is suppressed so as not to rapidly cool the end face 16b of the glass substrate 16, the thickness of the formed secondary reinforcing layer 22 becomes insufficient, and the strength may be insufficient. In that respect, by performing the chemical strengthening process by ion exchange several times at intervals in the secondary strengthening device 55 as described above, a sufficient thickness (without quenching the end face 16b of the glass substrate 16) ( The secondary reinforcing layer 22 having a depth) can be formed. Thereby, when forming the secondary reinforcement layer 22, it can avoid that a crack etc. arise in the glass substrate 16, and the intensity | strength of the glass substrate 16 can be made high enough.
　以上のようにパターン層１７，１８を形成したガラス基板１６の強度を十分に高いものとすることができるから、従来のように、各強化層を有さないガラス基板１６からなるタッチパネル１２とは別途に強化ガラスを用いてそのタッチパネル１２の保護を図る場合に比べると、部品点数を削減することができ、もって低コスト化、軽量化、薄型化などを図ることができる。 Since the strength of the glass substrate 16 on which the pattern layers 17 and 18 are formed as described above can be made sufficiently high, what is the touch panel 12 made of the glass substrate 16 that does not have each reinforcing layer as in the prior art? The number of parts can be reduced as compared with the case where the tempered glass is separately used to protect the touch panel 12, and thus the cost, weight, and thickness can be reduced.
　また、二次強化装置５５は、ガラス基板１６をその板面１６ａに沿って搬送する搬送装置５６と、搬送装置５６によるガラス基板１６の搬送方向について相対的に上流側に配されるとともにガラス基板１６の端面１６ｂを加熱する加熱装置５７と、搬送方向について相対的に下流側に配されるとともにガラス基板１６の端面１６ｂに化学強化処理液を吹き付ける化学強化処理装置５８とを備え、化学強化処理装置５８は、化学強化処理液を噴射可能とされるとともにガラス基板１６の搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置される複数のノズル５８ａ～５８ｅを有するものとされる。このようにすれば、搬送装置５６によりガラス基板１６を搬送しつつ、加熱装置５７によりガラス基板１６の端面１６ｂを加熱した後、化学強化処理装置５８が有する複数のノズル５８ａ～５８ｅから化学強化処理液を噴射することでガラス基板１６の端面１６ｂに対して間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。 Further, the secondary strengthening device 55 is disposed on the upstream side with respect to the transport device 56 for transporting the glass substrate 16 along the plate surface 16a, and the transport direction of the glass substrate 16 by the transport device 56, and the glass substrate. A heating device 57 that heats the end surface 16b of 16 and a chemical strengthening processing device 58 that is disposed relatively downstream in the transport direction and sprays a chemical strengthening treatment liquid onto the end surface 16b of the glass substrate 16; The apparatus 58 includes a plurality of nozzles 58a to 58e that are capable of injecting the chemical strengthening treatment liquid and that are arranged in parallel at intervals along the conveyance direction of the glass substrate 16. In this way, after the glass substrate 16 is transported by the transport device 56 and the end surface 16b of the glass substrate 16 is heated by the heating device 57, the chemical strengthening process is performed from the plurality of nozzles 58a to 58e of the chemical strengthening processing device 58. By injecting the liquid, the chemical strengthening treatment liquid can be adhered to the end surface 16b of the glass substrate 16 at a plurality of times with an interval therebetween, so that the manufacturing efficiency is excellent.
　また、ノズル５８ａ～５８ｅは、搬送装置５６を搬送方向と交差する方向から挟む形で一対を一組として、搬送方向に沿って間隔をあけて複数組ずつ並列して配されている。このようにすれば、組をなす一対のノズル５８ａ～５８ｅから化学強化処理液を噴射することで、一対のノズル５８ａ～５８ｅに挟まれたガラス基板１６における一対の端面１６ｂに対して化学強化処理液を付着させることができるので、製造効率に優れる。 Further, the nozzles 58a to 58e are arranged in parallel with each other with a pair along the transport direction, with a pair of nozzles 58a to 58e sandwiching the transport device 56 from the direction intersecting the transport direction. In this way, the chemical strengthening treatment is performed on the pair of end surfaces 16b of the glass substrate 16 sandwiched between the pair of nozzles 58a to 58e by injecting the chemical strengthening treatment liquid from the pair of nozzles 58a to 58e. Since the liquid can be adhered, the production efficiency is excellent.
　＜実施形態２＞
　本発明の実施形態２を図２１によって説明する。この実施形態２では、タッチパネルの製造装置のうち二次強化装置１５５の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Embodiment 2>
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this Embodiment 2, what changed the structure of the secondary reinforcement | strengthening apparatus 155 among the manufacturing apparatuses of a touch panel is shown. In addition, the overlapping description about the same structure, an effect | action, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係る二次強化装置１５５を構成する搬送装置１５６は、図２１に示すように、平面に視て方形状をなすガラス基板１６をその短辺に沿う方向（Ｘ軸方向）に搬送する第１搬送装置１５６Ａと、ガラス基板１６をその長辺に沿う方向（Ｙ軸方向）、つまり第１搬送装置１５６Ａによる搬送方向と直交する方向に搬送する第２搬送装置１５６Ｂとから構成され、全体として平面に視てＬ字型をなしている。これに対応して、加熱装置１５７及び化学強化処理装置１５８は、それぞれ第１搬送装置１５６Ａに沿って配される第１加熱装置１５７Ａ及び第１化学強化処理装置１５８Ａと、第２搬送装置１５６Ｂに沿って配される第２加熱装置１５７Ｂ及び第２化学強化処理装置１５８Ｂとから構成されている。詳しくは、この搬送装置１５６は、ガラス基板１６を一定の姿勢（短辺がＸ軸方向に並行し且つ長辺がＹ軸方向に並行する姿勢）のまま搬送するものであり、第１搬送装置１５６Ａの最下流部と、第２搬送装置１５６Ｂの最上流部とが互いに接続されることで、ガラス基板１６を互いに直交する２方向に順次に搬送することが可能とされる。第１加熱装置１５７Ａのレーザヘッド１５７Ａａ及び第１化学強化処理装置１５８Ａの各ノズル１５８Ａａ～１５８Ａｅは、第１搬送装置１５６Ａによるガラス基板１６の搬送方向に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第１搬送装置１５６Ａをその搬送方向と直交する方向（Ｙ軸方向）から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、搬送されるガラス基板１６における短辺側の両端面１６ｂ１に対して対向状をなす。同様に第２加熱装置１５７Ｂのレーザヘッド１５７Ｂａ及び第２化学強化処理装置１５８Ｂの各ノズル１５８Ｂａ～１５８Ｂｅは、第２搬送装置１５６Ｂによるガラス基板１６の搬送方向に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第２搬送装置１５６Ｂをその搬送方向と直交する方向（Ｘ軸方向）から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、搬送されるガラス基板１６における長辺側の両端面１６ｂ２に対して対向状をなす。 As shown in FIG. 21, the transport device 156 constituting the secondary strengthening device 155 according to the present embodiment transports a glass substrate 16 having a square shape when viewed in a plane in a direction along the short side (X-axis direction). The first transport device 156A and the second transport device 156B that transports the glass substrate 16 in the direction along the long side (Y-axis direction), that is, in the direction orthogonal to the transport direction by the first transport device 156A, It is L-shaped as a whole when viewed in plan. Correspondingly, the heating device 157 and the chemical strengthening processing device 158 are respectively connected to the first heating device 157A and the first chemical strengthening processing device 158A and the second transporting device 156B arranged along the first transporting device 156A. It is comprised from the 2nd heating apparatus 157B and 2nd chemical strengthening processing apparatus 158B which are arranged along. Specifically, the transport device 156 transports the glass substrate 16 in a fixed posture (a posture in which the short side is parallel to the X-axis direction and the long side is parallel to the Y-axis direction). By connecting the most downstream portion of 156A and the most upstream portion of the second transfer device 156B to each other, the glass substrate 16 can be sequentially transferred in two directions orthogonal to each other. The laser head 157Aa of the first heating device 157A and the nozzles 158Aa to 158Ae of the first chemical strengthening processing device 158A are arranged in parallel at a spatial interval along the transport direction of the glass substrate 16 by the first transport device 156A. A pair of the first conveying device 156A is disposed on both sides in a direction sandwiching from the direction (Y-axis direction) orthogonal to the conveying direction, and the both ends 16b1 on the short side of the glass substrate 16 to be conveyed are arranged. Opposing to the other. Similarly, the laser head 157Ba of the second heating device 157B and the nozzles 158Ba to 158Be of the second chemical strengthening processing device 158B are arranged in parallel at a spatial interval along the transport direction of the glass substrate 16 by the second transport device 156B. And a pair of both sides of the second transport device 156B sandwiched from the direction (X-axis direction) orthogonal to the transport direction, and both end surfaces on the long side of the glass substrate 16 being transported It is opposed to 16b2.
　二次強化工程では、第１搬送装置１５６Ａによってガラス基板１６をその短辺に沿う方向に搬送するとともにその短辺側の両端面１６ｂ１に対して第１加熱装置１５７Ａをなす一対のレーザヘッド１５７Ａａからレーザ光が照射されることで、短辺側の両端面１６ｂ１が加熱され、引き続いて第１化学強化処理装置１５８Ａをなす一対ずつの各ノズル１５８Ａａ～１５８Ａｅによって時間的な間隔をあけて５回にわたって間欠的に化学強化処理が行われることで、短辺側の両端面１６ｂ１に二次強化層２２が形成される（図２０を参照）。第１搬送装置１５６Ａから第２搬送装置１５６Ｂへとガラス基板１６が受け渡されると、第２搬送装置１５６Ｂによりガラス基板１６は、その長辺に沿う方向に搬送される。搬送されるガラス基板１６のうち、長辺側の両端面１６ｂ２には、先に第２加熱装置１５７Ｂをなす一対のレーザヘッド１５７Ｂａからレーザ光が照射されることで、長辺側の両端面１６ｂ２が加熱され、引き続いて第２化学強化処理装置１５８Ｂをなす一対ずつの各ノズル１５８Ｂａ～１５８Ｂｅによって時間的な間隔をあけて５回にわたって間欠的に化学強化処理が行われることで、長辺側の両端面１６ｂ２に二次強化層２２が形成される。以上により、平面に視て方形状をなすガラス基板１６における４辺の各端面１６ｂ１，１６ｂ２に対して連続的に且つ効率的に二次強化層２２を形成することができる。 In the secondary strengthening step, the glass substrate 16 is transported in the direction along the short side by the first transport device 156A and the pair of laser heads 157Aa forming the first heating device 157A with respect to both end surfaces 16b1 on the short side. By irradiating the laser beam, both end surfaces 16b1 on the short side are heated, and subsequently, five times with a time interval by each of the pair of nozzles 158Aa to 158Ae forming the first chemical strengthening treatment device 158A. By performing the chemical strengthening process intermittently, the secondary strengthening layer 22 is formed on both end faces 16b1 on the short side (see FIG. 20). When the glass substrate 16 is transferred from the first transport device 156A to the second transport device 156B, the glass substrate 16 is transported in the direction along the long side by the second transport device 156B. Of the glass substrate 16 to be conveyed, both end surfaces 16b2 on the long side are irradiated with laser light from the pair of laser heads 157Ba that form the second heating device 157B first, so that both end surfaces 16b2 on the long side. Is heated, and then the chemical strengthening treatment is intermittently performed five times at a time interval by each of the pair of nozzles 158Ba to 158Be constituting the second chemical strengthening treatment device 158B. Secondary reinforcing layers 22 are formed on both end faces 16b2. As described above, the secondary reinforcing layer 22 can be continuously and efficiently formed on each of the four end faces 16b1 and 16b2 of the glass substrate 16 having a square shape when viewed in plan.
　以上説明したように本実施形態によれば、搬送装置１５６は、ガラス基板１６をその板面１６ａに沿う一方向に搬送する第１搬送装置１５６Ａと、ガラス基板１６をその板面１６ａに沿い且つ第１搬送装置１５６による搬送方向と直交する方向に搬送する第２搬送装置１５６Ｂとから構成されるのに対し、加熱装置１５７及び化学強化処理装置１５８は、それぞれ第１搬送装置１５６Ａに対応する第１加熱装置１５７Ａ及び第１化学強化処理装置１５８Ａと、第２搬送装置１５６Ｂに対応する第２加熱装置１５７Ｂ及び第２化学強化処理装置１５８Ｂとから構成される。このようにすれば、第１搬送装置１５６Ａによりガラス基板１６を搬送しつつ端面１６ｂ１に対して第１加熱装置１５７Ａ及び第１化学強化処理装置１５８Ａにより化学強化処理を施した後、第２搬送装置１５６Ｂによってガラス基板１６を第１搬送装置１５６Ａによる搬送方向とは直交する方向に搬送するとともに、第１加熱装置１５７Ａ及び第１化学強化処理装置１５８Ａによる化学強化処理が施された端面１６ｂ１とは異なる端面１６ｂ２に対して第２加熱装置１５７Ｂ及び第２化学強化処理装置１５８Ｂにより化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板１６の各端面１６ｂ１，１６ｂ２に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。 As described above, according to the present embodiment, the transport device 156 includes the first transport device 156A that transports the glass substrate 16 in one direction along the plate surface 16a, and the glass substrate 16 along the plate surface 16a. The heating device 157 and the chemical strengthening processing device 158 are respectively corresponding to the first transport device 156A, whereas the second transport device 156B transports in a direction orthogonal to the transport direction by the first transport device 156. The first heating device 157A and the first chemical strengthening processing device 158A, and the second heating device 157B and the second chemical strengthening processing device 158B corresponding to the second transport device 156B are configured. In this way, after the glass substrate 16 is transported by the first transport device 156A, the end surface 16b1 is subjected to the chemical strengthening treatment by the first heating device 157A and the first chemical strengthening processing device 158A, and then the second transport device. The glass substrate 16 is conveyed by 156B in a direction orthogonal to the conveying direction by the first conveying device 156A, and is different from the end face 16b1 subjected to the chemical strengthening treatment by the first heating device 157A and the first chemical strengthening treatment device 158A. The end face 16b2 can be subjected to chemical strengthening treatment by the second heating device 157B and the second chemical strengthening treatment device 158B. Thus, since each chemical strengthening process can be continuously performed with respect to each end surface 16b1, 16b2 of the glass substrate 16, it is further excellent in manufacturing efficiency.
　＜実施形態３＞
　本発明の実施形態３を図２２によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態２から二次強化装置２５５の構成をさらに変更したものを示す。なお、上記した実施形態１，２と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Embodiment 3>
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this Embodiment 3, what changed further the structure of the secondary reinforcement | strengthening apparatus 255 from above-mentioned Embodiment 2 is shown. In addition, the overlapping description about the same structure, operation | movement, and effect as above-mentioned Embodiment 1, 2 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係る二次強化装置２５５を構成する搬送装置２５６は、図２２に示すように、ガラス基板１６をＸ軸方向に沿って搬送する第１搬送装置２５６Ａと、ガラス基板１６をＸ軸方向、つまり第１搬送装置２５６Ａによる搬送方向と同じ方向に搬送する第２搬送装置２５６Ｂと、第１搬送装置２５６Ａと第２搬送装置２５６Ｂとの間に介在する形で配されるとともにガラス基板１６をその板面１６ａに沿って約９０度の角度範囲で回転（回動）させることが可能なターンテーブル（姿勢変換装置）５９とから構成されている。詳しくは、ターンテーブル５９は、第１搬送装置２５６Ａの最下流部と、第２搬送装置２５６Ｂの最上流部とに対してそれぞれ接続されることで、第１搬送装置２５６Ａによって搬送されたガラス基板１６の姿勢を、約９０度回転させた姿勢に変換した上で、第２搬送装置２５６Ｂに受け渡すことができるものとされる。具体的には、第１搬送装置２５６Ａによるガラス基板１６の搬送姿勢は、短辺をＸ軸方向に並行させ且つ長辺をＹ軸方向に並行させた第１の姿勢とされるのに対し、第２搬送装置２５６Ｂによるガラス基板１６の搬送姿勢は、ターンテーブル５９による姿勢変換を経ることで、短辺をＹ軸方向に並行させ且つ長辺をＸ軸方向に並行させた第２の姿勢とされる。なお、図２２では、ターンテーブル５９上に配されたガラス基板１６について、回転前の第１の姿勢を実線にて示しているのに対し、回転後の第２の姿勢を二点鎖線にて示している。 As shown in FIG. 22, the transport device 256 constituting the secondary strengthening device 255 according to this embodiment includes a first transport device 256 </ b> A that transports the glass substrate 16 along the X-axis direction, and the glass substrate 16 as the X-axis. The glass substrate 16 is arranged in such a manner as to be interposed between the first transfer device 256B and the second transfer device 256B, and the second transfer device 256B for transferring in the same direction as the transfer direction by the first transfer device 256A. Is constituted by a turntable (posture changer) 59 that can be rotated (rotated) along an angle range of about 90 degrees along the plate surface 16a. Specifically, the turntable 59 is connected to the most downstream portion of the first transfer device 256A and the most upstream portion of the second transfer device 256B, so that the glass substrate transferred by the first transfer device 256A. 16 postures can be transferred to the second transport device 256B after being converted into a posture rotated by about 90 degrees. Specifically, the transport posture of the glass substrate 16 by the first transport device 256A is a first posture in which the short side is parallel to the X-axis direction and the long side is parallel to the Y-axis direction. The transport posture of the glass substrate 16 by the second transport device 256B is the second posture in which the short side is parallel to the Y-axis direction and the long side is parallel to the X-axis direction by undergoing posture conversion by the turntable 59. Is done. In FIG. 22, for the glass substrate 16 arranged on the turntable 59, the first posture before rotation is indicated by a solid line, whereas the second posture after rotation is indicated by a two-dot chain line. Show.
　これに対し、加熱装置２５７及び化学強化処理装置２５８は、それぞれ第１搬送装置２５６Ａに沿って配される第１加熱装置２５７Ａ及び第１化学強化処理装置２５８Ａと、第２搬送装置２５６Ｂに沿って配される第２加熱装置２５７Ｂ及び第２化学強化処理装置２５８Ｂとから構成されている。第１加熱装置２５７Ａのレーザヘッド２５７Ａａ及び第１化学強化処理装置２５８Ａの各ノズル２５８Ａａ～２５８Ａｅは、第１搬送装置２５６Ａによるガラス基板１６の搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第１搬送装置２５６Ａをその搬送方向と直交する方向（Ｙ軸方向）から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、第１の姿勢で搬送されるガラス基板１６における短辺側の両端面１６ｂ１に対して対向状をなす。同様に第２加熱装置２５７Ｂのレーザヘッド２５７Ｂａ及び第２化学強化処理装置２５８Ｂの各ノズル２５８Ｂａ～２５８Ｂｅは、第２搬送装置２５６Ｂによるガラス基板１６の搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って空間的な間隔をあけて並列して配されるとともに第２搬送装置２５６Ｂをその搬送方向と直交する方向（Ｙ軸方向）から挟み込む形で両側に一対ずつ配されるとともに、第２の姿勢で搬送されるガラス基板１６における長辺側の両端面１６ｂ２に対して対向状をなす。 On the other hand, the heating device 257 and the chemical strengthening processing device 258 are respectively along the first heating device 257A and the first chemical strengthening processing device 258A and the second transporting device 256B arranged along the first transporting device 256A. The second heating device 257B and the second chemical strengthening treatment device 258B are arranged. The laser head 257Aa of the first heating device 257A and the nozzles 258Aa to 258Ae of the first chemical strengthening treatment device 258A are spaced apart along the transport direction (X-axis direction) of the glass substrate 16 by the first transport device 256A. A pair of glass substrates that are arranged in parallel with each other and are arranged in pairs on both sides so as to sandwich the first conveying device 256A from a direction (Y-axis direction) orthogonal to the conveying direction, and are conveyed in a first posture. 16 is opposed to both end surfaces 16b1 on the short side. Similarly, the laser head 257Ba of the second heating device 257B and the nozzles 258Ba to 258Be of the second chemical strengthening processing device 258B are spatially along the transport direction (X-axis direction) of the glass substrate 16 by the second transport device 256B. A pair is arranged on both sides in such a manner that the second conveying device 256B is sandwiched from a direction (Y-axis direction) perpendicular to the conveying direction, and is conveyed in a second posture. The glass substrate 16 is opposed to both end surfaces 16b2 on the long side.
　二次強化工程では、第１の姿勢としたガラス基板１６を、第１搬送装置２５６Ａによって短辺に沿う方向（Ｘ軸方向）に搬送するとともにその短辺側の両端面１６ｂ１に対して第１加熱装置２５７Ａをなす一対のレーザヘッド２５７Ａａからレーザ光が照射されることで、短辺側の両端面１６ｂ１が加熱され、引き続いて第１化学強化処理装置２５８Ａをなす一対ずつの各ノズル２５８Ａａ～２５８Ａｅによって時間的な間隔をあけて５回にわたって間欠的に化学強化処理を行うことで、短辺側の両端面１６ｂ１に二次強化層２２が形成される（図２０を参照）。第１搬送装置２５６Ａの最下流部に達したガラス基板１６は、ターンテーブル５９に載せられてから約９０度回転されることで、第２の姿勢とされ、その状態で第２搬送装置２５６Ｂの最上流部に受け渡される。第２の姿勢とされたガラス基板１６は、第２搬送装置２５６Ｂにより長辺に沿う方向（Ｘ軸方向）に搬送される。搬送されるガラス基板１６のうち、長辺側の両端面１６ｂ２には、先に第２加熱装置２５７Ｂをなす一対のレーザヘッド２５７Ｂａからレーザ光が照射されることで、長辺側の両端面１６ｂ２が加熱され、引き続いて第２化学強化処理装置２５８Ｂをなす一対ずつの各ノズル２５８Ｂａ～２５８Ｂｅによって時間的な間隔をあけて５回にわたって間欠的に化学強化処理を行うことで、長辺側の両端面１６ｂ２に二次強化層２２が形成される。以上により、平面に視て方形状をなすガラス基板１６における４辺の各端面１６ｂ１，１６ｂ２に対して連続的に且つ効率的に二次強化層２２を形成することができる。 In the secondary strengthening step, the glass substrate 16 in the first posture is transported in the direction along the short side (X-axis direction) by the first transport device 256A and the first side with respect to both end surfaces 16b1 on the short side. By irradiating laser light from the pair of laser heads 257Aa forming the heating device 257A, the both end surfaces 16b1 on the short side are heated, and then the pair of nozzles 258Aa to 258Ae forming the first chemical strengthening treatment device 258A. Thus, the secondary strengthening layer 22 is formed on the short-side end faces 16b1 by intermittently performing the chemical strengthening process five times with a time interval (see FIG. 20). The glass substrate 16 that has reached the most downstream portion of the first transport device 256A is placed in the second posture by being rotated about 90 degrees after being placed on the turntable 59. In this state, the glass substrate 16 of the second transport device 256B Passed to the most upstream part. The glass substrate 16 in the second posture is transported in the direction along the long side (X-axis direction) by the second transport device 256B. Of the glass substrate 16 to be conveyed, both end surfaces 16b2 on the long side are irradiated with laser light from the pair of laser heads 257Ba that form the second heating device 257B first, whereby both end surfaces 16b2 on the long side. Is heated, and then the chemical strengthening treatment is intermittently performed five times at a time interval by each of the pair of nozzles 258Ba to 258Be constituting the second chemical strengthening treatment device 258B. The secondary reinforcing layer 22 is formed on the surface 16b2. As described above, the secondary reinforcing layer 22 can be continuously and efficiently formed on each of the four end faces 16b1 and 16b2 of the glass substrate 16 having a square shape when viewed in plan.
　以上説明したように本実施形態によれば、搬送装置２５６は、ガラス基板１６をその板面１６ａに沿う一方向に搬送する第１搬送装置２５６Ａと、ガラス基板１６を第１搬送装置２５６Ａと同じ方向に搬送する第２搬送装置２５６Ｂと、第１搬送装置２５６Ａと第２搬送装置２５６Ｂとの間に配されるとともにガラス基板１６をその板面１６ａに沿って回動させるターンテーブル（姿勢変換装置）５９とから構成されるのに対し、加熱装置２５７及び化学強化処理装置２５８は、それぞれ第１搬送装置２５６Ａに対応する第１加熱装置２５７Ａ及び第１化学強化処理装置２５８Ａと、第２搬送装置２５６Ｂに対応する第２加熱装置２５７Ｂ及び第２化学強化処理装置２５８Ｂとから構成される。このようにすれば、第１搬送装置２５６Ａによりガラス基板１６を搬送しつつ端面１６ｂ１に対して第１加熱装置２５７Ａ及び第１化学強化処理装置２５８Ａにより化学強化処理を施した後、ターンテーブル５９によりガラス基板１６をその板面１６ａに沿って回動させてガラス基板１６の姿勢を変換する。そして、姿勢が変換されたガラス基板１６を第２搬送装置２５６Ｂによって第１搬送装置２５６Ａと同じ方向に搬送するとともに、第１加熱装置２５７Ａ及び第１化学強化処理装置２５８Ａによる化学強化処理が施された端面１６ｂ１とは異なる端面１６ｂ２に対して第２加熱装置２５７Ｂ及び第２化学強化処理装置２５８Ｂにより化学強化処理を施すことができる。このようにガラス基板１６の各端面１６ｂ１，１６ｂ２に対して連続的に化学強化処理を施すことができるので、製造効率に一層優れる。 As described above, according to this embodiment, the transport device 256 is the same as the first transport device 256A that transports the glass substrate 16 in one direction along the plate surface 16a, and the first transport device 256A. A turntable (posture changer) disposed between the second transfer device 256B for transferring in the direction, the first transfer device 256A and the second transfer device 256B and rotating the glass substrate 16 along its plate surface 16a. 59), the heating device 257 and the chemical strengthening treatment device 258 are respectively a first heating device 257A and a first chemical strengthening treatment device 258A corresponding to the first transport device 256A, and a second transporting device. The second heating device 257B and the second chemical strengthening processing device 258B corresponding to 256B are configured. In this manner, the end surface 16b1 is subjected to the chemical strengthening treatment by the first heating device 257A and the first chemical strengthening treatment device 258A while the glass substrate 16 is being transported by the first transport device 256A, and then the turntable 59 is used. The glass substrate 16 is rotated along the plate surface 16a to change the posture of the glass substrate 16. Then, the glass substrate 16 whose posture has been changed is transported in the same direction as the first transport device 256A by the second transport device 256B, and chemical strengthening processing is performed by the first heating device 257A and the first chemical strengthening processing device 258A. The end face 16b2 different from the end face 16b1 can be subjected to chemical strengthening treatment by the second heating device 257B and the second chemical strengthening treatment device 258B. Thus, since each chemical strengthening process can be continuously performed with respect to each end surface 16b1, 16b2 of the glass substrate 16, it is further excellent in manufacturing efficiency.
　＜実施形態４＞
　本発明の実施形態４を図２３によって説明する。この実施形態４では、上記した実施形態１から二次強化装置３５５を構成する化学強化処理装置３５８における各ノズル３５８ａ～３５８ｅの配列ピッチＰＴ１～ＰＴ４を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Embodiment 4>
A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment, the arrangement pitches PT1 to PT4 of the nozzles 358a to 358e in the chemical strengthening processing apparatus 358 constituting the secondary strengthening apparatus 355 from the first embodiment are changed. In addition, the overlapping description about the same structure, an effect | action, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係る化学強化処理装置３５８が有する各ノズル３５８ａ～３５８ｅの配列ピッチＰＴ１～ＰＴ４は、図２３に示すように、搬送装置３５６によるガラス基板１６の搬送方向における上流側から下流側に行くに従って次第に狭くなる設定とされている。詳しくは、各ノズル３５８ａ～３５８ｅのうち、最上流位置に配される第１ノズル３５８ａとその下流側に隣り合う第２ノズル３５８ｂとの間の配列ピッチＰＴ１が最大となるのに対し、第２ノズル３５８ｂとその下流側に隣り合う第３ノズル３５８ｃとの間の配列ピッチＰＴ２が２番目の大きさとされ、第３ノズル３５８ｃとその下流側に隣り合う第４ノズル３５８ｄとの間の配列ピッチＰＴ３が３番目の大きさとされ、第４ノズル３５８ｄとその下流側に隣り合い且つ最下流位置に配される第５ノズル３５８ｅとの間の配列ピッチＰＴ４が最小となっている。 As shown in FIG. 23, the arrangement pitches PT1 to PT4 of the nozzles 358a to 358e of the chemical strengthening processing apparatus 358 according to the present embodiment go from the upstream side to the downstream side in the conveyance direction of the glass substrate 16 by the conveyance apparatus 356. According to the setting, the setting is gradually narrowed. Specifically, among the nozzles 358a to 358e, the arrangement pitch PT1 between the first nozzle 358a arranged at the most upstream position and the second nozzle 358b adjacent on the downstream side is maximized, whereas the second The arrangement pitch PT2 between the nozzle 358b and the third nozzle 358c adjacent to the downstream side is the second size, and the arrangement pitch PT3 between the third nozzle 358c and the fourth nozzle 358d adjacent to the downstream side thereof. Is the third size, and the arrangement pitch PT4 between the fourth nozzle 358d and the fifth nozzle 358e adjacent to and downstream of the fourth nozzle 358d is the smallest.
　そして、各ノズル３５８ａ～３５８ｅによってガラス基板１６に対して化学強化処理がなされる５回の処理期間の間に挿入される４回の非処理期間（時間的な間隔）は、隣り合う各ノズル３５８ａ～３５８ｅの配列ピッチ（空間的な間隔）ＰＴ１～ＰＴ４に準ずるものであるから、二次強化工程が進行するに連れて次第に短くなる傾向とされる。具体的には、第１ノズル３５８ａによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板１６が第２ノズル３５８ｂによる処理位置へと搬送装置３５６によって搬送されるまでの間が、化学強化処理がなされない第１の非処理期間とされるが、この第１の非処理期間が配列ピッチＰＴ１の大きさに準じて最長とされる。第２ノズル３５８ｂによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板１６が第３ノズル３５８ｃによる処理位置へと搬送されるまでの間の第２の非処理期間は、配列ピッチＰＴ２の大きさに準じて２番目の長さとされる。同様に、第３ノズル３５８ｃによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板１６が第４ノズル３５８ｄによる処理位置へと搬送されるまでの間の第３の非処理期間は、配列ピッチＰＴ３の大きさに準じて３番目の長さとされる。それから、第４ノズル３５８ｄによる化学強化処理がなされてから、ガラス基板１６が第５ノズル３５８ｅによる処理位置へと搬送されるまでの間の第４の非処理期間は、配列ピッチＰＴ４の大きさに準じて最短とされる。このようにすることで、例えば加熱工程にて加熱装置３５７のレーザヘッド３５７ａによって加熱されたガラス基板１６の表面温度が搬送の進行に伴って経時的に低下した場合であっても、その温度低下に合わせて、適切なタイミングでもって化学強化処理装置３５８の各ノズル３５８ａ～３５８ｅによって化学強化処理を施すことができる。 The four non-treatment periods (temporal intervals) inserted between the five treatment periods in which the glass substrate 16 is chemically strengthened by the nozzles 358a to 358e are adjacent to each nozzle 358a. Since it corresponds to the arrangement pitch (spatial interval) PT1 to PT4 of ˜358e, it tends to become gradually shorter as the secondary strengthening process proceeds. Specifically, after the chemical strengthening process by the first nozzle 358a is performed, the chemical strengthening process is not performed until the glass substrate 16 is transported by the transport device 356 to the processing position by the second nozzle 358b. The first non-processing period is the longest according to the size of the array pitch PT1. The second non-processing period after the chemical strengthening process by the second nozzle 358b until the glass substrate 16 is transported to the processing position by the third nozzle 358c is in accordance with the size of the arrangement pitch PT2. It is the second length. Similarly, the third non-processing period from when the chemical strengthening process is performed by the third nozzle 358c to when the glass substrate 16 is transferred to the processing position by the fourth nozzle 358d is the size of the arrangement pitch PT3. According to the third length. Then, after the chemical strengthening process by the fourth nozzle 358d is performed, the fourth non-processing period from when the glass substrate 16 is transferred to the processing position by the fifth nozzle 358e is the size of the arrangement pitch PT4. Accordingly, it is the shortest. By doing so, for example, even when the surface temperature of the glass substrate 16 heated by the laser head 357a of the heating device 357 in the heating process decreases with time as the conveyance proceeds, the temperature decrease Accordingly, the chemical strengthening treatment can be performed by the nozzles 358a to 358e of the chemical strengthening treatment device 358 at an appropriate timing.
　＜実施形態５＞
　本発明の実施形態５を図２４によって説明する。この実施形態５では、上記した実施形態１にて示したベゼル１４を省略した液晶表示装置４１０を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Embodiment 5>
Embodiment 5 of the present invention will be described with reference to FIG. The fifth embodiment shows a liquid crystal display device 410 in which the bezel 14 shown in the first embodiment is omitted. In addition, the overlapping description about the same structure, an effect | action, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係る液晶表示装置４１０では、図２４に示すように、タッチパネル４１２を筐体４１５に対して直接取り付けることで、実施形態１のようなベゼル１４を用いない、ベゼルレス構造となっている。詳しくは、タッチパネル４１２は、その外周端部の裏面側が筐体４１５の受け部４１５ａに対して直接載せられるとともに接着剤や両面テープなどの固着層ＦＬを介して固着されている。このようなベゼルレス構造では、タッチパネル４１２を構成するガラス基板４１６の外周端部が外部に露出することになる。そこで、本実施形態では、ガラス基板４１６の外周端部のうち、表側、つまり使用者による操作側のエッジ部分に面取り部ＣＰを形成している。この面取り部ＣＰは、タッチパネル４１２の製造工程のうち、端部加工工程において、ガラス基板４１６の端部のうち、四隅の角部を丸める加工を行うのに加えて、表側のエッジ部分に面取り加工を施すことで形成されている。このようにガラス基板４１６の外周端部における表側のエッジ部分に面取り部ＣＰを形成することで、外部に露出したガラス基板４１６の外周端部に使用者の手指が触れた場合における安全性を担保することができる。 As shown in FIG. 24, the liquid crystal display device 410 according to the present embodiment has a bezelless structure in which the bezel 14 is not used as in the first embodiment by directly attaching the touch panel 412 to the housing 415. . Specifically, the back surface side of the outer peripheral edge of the touch panel 412 is directly placed on the receiving portion 415a of the housing 415, and is fixed through an adhesive layer FL such as an adhesive or a double-sided tape. In such a bezelless structure, the outer peripheral end of the glass substrate 416 constituting the touch panel 412 is exposed to the outside. Therefore, in the present embodiment, the chamfered portion CP is formed on the front side, that is, the edge portion on the operation side by the user, of the outer peripheral end portion of the glass substrate 416. The chamfered portion CP is chamfered at the edge portion on the front side in addition to performing the processing of rounding the corners of the four corners of the end portion of the glass substrate 416 in the edge processing step in the manufacturing process of the touch panel 412. It is formed by applying. In this way, by forming the chamfered portion CP at the front edge portion at the outer peripheral end portion of the glass substrate 416, safety is ensured when the user's fingers touch the outer peripheral end portion of the glass substrate 416 exposed to the outside. can do.
　＜実施形態６＞
　本発明の実施形態６を図２５または図２６によって説明する。この実施形態６では、パターン層５１７，５１８及び絶縁層５１９，５２０の配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Embodiment 6>
A sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 25 or FIG. In the sixth embodiment, the arrangement of the pattern layers 517 and 518 and the insulating layers 519 and 520 is changed. In addition, the overlapping description about the same structure, an effect | action, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係るタッチパネル５１２では、図２５及び図２６に示すように、ガラス基板５１６の一次強化層５２１が形成された表裏両板面５１６ａのうち、表側（一方）の板面５１６ａに第１パターン層５１７及び第１絶縁層５１９が積層して形成されているのに対し、裏側（他方）の板面５１６ａに第２パターン層５１８及び第２絶縁層５２０が積層して形成されている。 In the touch panel 512 according to the present embodiment, as shown in FIGS. 25 and 26, the front side (one side) plate surface 516 a has a first surface 516 a out of the front and back plate surfaces 516 a on which the primary reinforcing layer 521 of the glass substrate 516 is formed. Whereas the pattern layer 517 and the first insulating layer 519 are stacked, the second pattern layer 518 and the second insulating layer 520 are stacked on the back (the other) plate surface 516a.
　＜実施形態７＞
　本発明の実施形態７を図２７または図２８によって説明する。この実施形態７では、タッチパネル６１２として表面型静電容量方式のものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Embodiment 7>
A seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 27 or FIG. In the seventh embodiment, the touch panel 612 is a surface capacitive type. In addition, the overlapping description about the same structure, an effect | action, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係るタッチパネル６１２では、図２７及び図２８に示すように、ガラス基板６１６の一次強化層６２１が形成された表裏両板面６１６ａのうち、表側（一方）の板面６１６ａにパターン層２３及び絶縁層２４が積層して形成されているのに加え、４つの電極部２５が形成されている。パターン層２３は、透明導電材料であるＩＴＯからなるとともに、ガラス基板６１６の板面６１６ａにおいて中央側の使用者による操作領域の全域にわたる面状のベタパターンとされており、平面に視て縦長の方形状をなしている。絶縁層２４は、パターン層２３の外側に積層する形で形成されている。電極部２５は、パターン層２３における平面に視た四隅の角位置にそれぞれ配されている。そして、パターン層２３に対してその面内において均一な電界を発生させておき、その状態で使用者の指がタッチパネル６１２の操作面に接触または接近すると、パターン層２３と指との間に容量が生じて静電容量値が変化するため、パターン層２３の四隅に配された各電極部２５には、上記指までの距離に比例した電流が流れる。これにより、タッチパネル６１２の操作面に対する使用者による二次元の入力位置を検出することができる。 In the touch panel 612 according to the present embodiment, as shown in FIG. 27 and FIG. 28, the pattern layer is formed on the front (one) plate surface 616 a out of the front and back plate surfaces 616 a on which the primary reinforcing layer 621 of the glass substrate 616 is formed. 23 and the insulating layer 24 are stacked, and in addition, four electrode portions 25 are formed. The pattern layer 23 is made of ITO, which is a transparent conductive material, and is a planar solid pattern that covers the entire operation area of the user on the center side on the plate surface 616a of the glass substrate 616. It has a square shape. The insulating layer 24 is formed so as to be laminated outside the pattern layer 23. The electrode portions 25 are respectively disposed at the corner positions of the four corners viewed in a plane in the pattern layer 23. When a uniform electric field is generated in the plane of the pattern layer 23 and the user's finger contacts or approaches the operation surface of the touch panel 612 in this state, a capacitance is generated between the pattern layer 23 and the finger. Occurs, and the capacitance value changes. Therefore, a current proportional to the distance to the finger flows through each of the electrode portions 25 arranged at the four corners of the pattern layer 23. Thereby, the two-dimensional input position by the user with respect to the operation surface of the touch panel 612 can be detected.
　＜実施形態８＞
　本発明の実施形態８を図２９または図３０によって説明する。この実施形態８では、タッチパネル７１２として抵抗膜方式のものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。 <Eighth embodiment>
An eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 29 or FIG. In the eighth embodiment, the touch panel 712 is a resistive film type. In addition, the overlapping description about the same structure, an effect | action, and effect as above-mentioned Embodiment 1 is abbreviate | omitted.
　本実施形態に係るタッチパネル７１２では、図２９及び図３０に示すように、ガラス基板７１６の一次強化層７２１が形成された表裏両板面７１６ａのうち、表側（一方）の板面７１６ａに、基板側パターン層２６が積層して形成されているのに加え、その基板側パターン層２６のさらに表側にフィルム側パターン層２７を備えたフィルム２８が対向状に配されている。基板側パターン層２６は、Ｘ軸方向に沿って延在するよう複数列が形成されている。これに対し、フィルム側パターン層２７は、Ｙ軸方向（Ｘ軸方向と直交（交差）する方向）に沿って延在するよう複数列が形成されている。従って、基板側パターン層２６及びフィルム側パターン層２７は、互いに直交（交差）するとともに平面に視てマトリクス状（格子状）をなしている。また、基板側パターン層２６及びフィルム側パターン層２７は、共に透明導電材料であるＩＴＯからなる。フィルム２８は、透明性に優れるとともに可撓性を有する合成樹脂製とされており、図示しないスペーサを介してガラス基板７１６の表側の板面７１６ａに対して所定の隙間を維持した状態で貼り付けられている。そして、複数列ずつの基板側パターン層２６及びフィルム側パターン層２７に電圧を印加した状態で、使用者の指またはタッチペンがタッチパネル７１２におけるフィルム２８を押圧すると、その圧力によってフィルム２８が撓むとともに操作位置に存するフィルム側パターン層２７が対向する基板側パターン層２６に接触することで、電流が流れる。これにより、タッチパネル７１２の操作面に対する使用者による二次元の入力位置を検出することができる。 In the touch panel 712 according to the present embodiment, as shown in FIG. 29 and FIG. In addition to the side pattern layer 26 being laminated, a film 28 having a film side pattern layer 27 on the front side of the substrate side pattern layer 26 is arranged in an opposing manner. The substrate-side pattern layer 26 is formed in a plurality of rows so as to extend along the X-axis direction. On the other hand, the film-side pattern layer 27 is formed with a plurality of rows so as to extend along the Y-axis direction (direction perpendicular to (crossing) the X-axis direction). Accordingly, the substrate-side pattern layer 26 and the film-side pattern layer 27 are orthogonal (intersect) with each other and have a matrix shape (lattice shape) when viewed in plan. The substrate side pattern layer 26 and the film side pattern layer 27 are both made of ITO, which is a transparent conductive material. The film 28 is made of a synthetic resin having excellent transparency and flexibility, and is pasted in a state where a predetermined gap is maintained with respect to the front surface 716a of the glass substrate 716 through a spacer (not shown). It has been. When a user's finger or touch pen presses the film 28 on the touch panel 712 with a voltage applied to the substrate-side pattern layer 26 and the film-side pattern layer 27 for each of the plurality of rows, the film 28 is bent and operated by the pressure. A current flows when the film-side pattern layer 27 located at the position contacts the opposing substrate-side pattern layer 26. Thereby, the two-dimensional input position by the user with respect to the operation surface of the touch panel 712 can be detected.
　＜他の実施形態＞
　本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
　（１）上記した各実施形態では、化学強化処理装置のノズルが搬送装置によるガラス基板の搬送方向について５つ並んで配されるものを例示したが、上記搬送方向について並んで配されるノズルの数については少なくとも２つあればよく、２つ～４つの間であっても、６つ以上であっても構わない。 <Other embodiments>
The present invention is not limited to the embodiments described with reference to the above description and drawings. For example, the following embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
(1) In each embodiment described above, the example in which the nozzles of the chemical strengthening treatment apparatus are arranged side by side in the conveyance direction of the glass substrate by the conveyance apparatus is illustrated, but the nozzles arranged in line in the conveyance direction are exemplified. The number may be at least two, and may be between two or four, or may be six or more.
　（２）上記した各実施形態では、化学強化処理装置のノズルが搬送装置を挟んだ両側に一対ずつ配されるものを例示したが、ノズルが搬送装置の片側のみに配されるものも本発明に含まれる。 (2) In each of the above-described embodiments, the chemical strengthening treatment apparatus is exemplified in which the nozzles are arranged in pairs on both sides of the conveyance apparatus. However, the present invention also includes the nozzles arranged on only one side of the conveyance apparatus. include.
　（３）上記した各実施形態では、化学強化処理装置における対をなすノズルが搬送装置を挟んで正対する配置とした場合を図示したが、対をなすノズルが正対することがなく、搬送装置によるガラス基板の搬送方向についてオフセットした配置とされたものも本発明に含まれる。このような配置は、加熱装置における対をなすレーザヘッドに関しても同様に適用可能である。 (3) In each of the above-described embodiments, the case where the paired nozzles in the chemical strengthening treatment apparatus are arranged so as to face each other across the transport apparatus is illustrated. However, the paired nozzles do not face each other and depend on the transport apparatus. What was set as the arrangement | positioning offset about the conveyance direction of the glass substrate is also contained in this invention. Such an arrangement can be similarly applied to a pair of laser heads in the heating device.
　（４）上記した実施形態１，４では、搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をＸ軸方向に並行させ且つ長辺をＹ軸方向に並行させた姿勢とされた場合を図示したが、短辺をＹ軸方向に並行させ且つ長辺をＸ軸方向に並行させた姿勢でガラス基板を搬送装置により搬送するようにしても勿論構わない。 (4) In the first and fourth embodiments described above, the posture of the glass substrate transported by the transport device is a posture in which the short side is parallel to the X-axis direction and the long side is parallel to the Y-axis direction. Although illustrated, it is needless to say that the glass substrate may be transported by the transport device in a posture in which the short side is parallel to the Y-axis direction and the long side is parallel to the X-axis direction.
　（５）上記した実施形態２では、第１搬送装置及び第２搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をＸ軸方向に並行させ且つ長辺をＹ軸方向に並行させた姿勢とされた場合を図示したが、短辺をＹ軸方向に並行させ且つ長辺をＸ軸方向に並行させた姿勢でガラス基板を第１搬送装置及び第２搬送装置により搬送するようにしても勿論構わない。 (5) In Embodiment 2 described above, the posture of the glass substrate transported by the first transport device and the second transport device is such that the short side is parallel to the X-axis direction and the long side is parallel to the Y-axis direction. However, the glass substrate may be transported by the first transport device and the second transport device in a posture in which the short side is parallel to the Y-axis direction and the long side is parallel to the X-axis direction. Of course.
　（６）上記した実施形態３では、第１搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をＸ軸方向に並行させ且つ長辺をＹ軸方向に並行させた第１の姿勢とされる一方、第２搬送装置によって搬送されるガラス基板の姿勢が、短辺をＹ軸方向に並行させ且つ長辺をＸ軸方向に並行させた第２の姿勢とされた場合を図示したが、第１搬送装置によってガラス基板を上記した第２の姿勢で搬送するとともに、第２搬送装置によってガラス基板を上記した第１の姿勢で搬送するようにしても構わない。 (6) In Embodiment 3 described above, the posture of the glass substrate transported by the first transport device is the first posture in which the short side is parallel to the X-axis direction and the long side is parallel to the Y-axis direction. On the other hand, although the posture of the glass substrate conveyed by the second conveying device is illustrated as a second posture in which the short side is parallel to the Y-axis direction and the long side is parallel to the X-axis direction, The glass substrate may be transported in the above-described second posture by the first transport device, and the glass substrate may be transported in the above-described first posture by the second transport device.
　（７）上記した実施形態３では、ターンテーブルによってガラス基板を約９０度の角度範囲で回転させるようにしたものを示したが、ターンテーブルによるガラス基板の具体的な回転角度範囲は、９０度以外にも適宜に変更可能である。 (7) In Embodiment 3 described above, the glass substrate is rotated by an angle range of about 90 degrees by the turntable. However, the specific rotation angle range of the glass substrate by the turntable is 90 degrees. Other than these, it can be changed as appropriate.
　（８）上記した実施形態４では、化学強化処理装置を構成するとともに搬送装置によるガラス基板の搬送方向について隣り合う各ノズルの配列ピッチが全て異なるものを例示したが、各ノズルの配列ピッチに等しくなるものが一部存在していても構わない。 (8) In the above-described fourth embodiment, the chemical strengthening processing apparatus is configured and the arrangement pitches of the adjacent nozzles are all different in the conveyance direction of the glass substrate by the conveyance apparatus, but is equal to the arrangement pitch of the nozzles. There may be a part of
　（９）上記した実施形態４では、化学強化処理装置を構成するとともに搬送装置によるガラス基板の搬送方向について隣り合う各ノズルの配列ピッチが、上流側から下流側に向けて次第に狭くなる傾向のものを例示したが、それとは逆に、各ノズルの配列ピッチが上流側から下流側に向けて次第に広くなる傾向としたものも本発明に含まれる。 (9) In Embodiment 4 described above, the chemical strengthening apparatus is configured and the arrangement pitch of the adjacent nozzles in the transport direction of the glass substrate by the transport device tends to gradually narrow from the upstream side toward the downstream side. However, on the contrary, the arrangement pitch of each nozzle tends to gradually increase from the upstream side toward the downstream side is also included in the present invention.
　（１０）上記した実施形態４では、化学強化処理装置を構成するとともに搬送装置によるガラス基板の搬送方向について隣り合う各ノズルの配列ピッチが、上流側から下流側に向けて次第に狭くなる傾向のものを示したが、この構成を実施形態１～３，５～８に記載したものに適用することも勿論可能である。 (10) In Embodiment 4 described above, the chemical strengthening apparatus is configured, and the arrangement pitch of the adjacent nozzles in the transport direction of the glass substrate by the transport device tends to gradually narrow from the upstream side toward the downstream side. However, it is of course possible to apply this configuration to those described in the first to third embodiments and the fifth to eighth embodiments.
　（１１）上記した各実施形態では、化学強化処理装置として化学強化処理液を吹き付けるノズルを備えたものを用いるとともに、二次強化工程において局所吹付式の化学強化処理を施すことでガラス基板の端面に二次強化層を形成した場合を示したが、例えば、化学強化処理装置として化学強化処理液で満たした化学強化処理槽を備えたものを用いるとともに、二次強化工程においてガラス基板の端面をレーザ光などにより局所的に加熱した（加熱工程）後、上記した化学強化処理槽中の化学強化処理液に対してガラス基板の端面のみを浸漬させる（化学強化処理工程）ことで、ガラス基板の端面のみを選択的に化学強化処理して二次強化層を形成する、いわば局所浸漬式の化学強化処理を施すようにしても構わない。その場合、ガラス基板を化学強化処理槽内に入れて端面を化学強化処理液に浸漬する処理期間と、ガラス基板を化学強化処理槽外に取り出す非処理期間とを交互に繰り返し行うことで、インターバル式の化学強化処理を施すことが可能とされる。 (11) In each of the above-described embodiments, the end face of the glass substrate is obtained by using a chemical strengthening treatment apparatus equipped with a nozzle for spraying a chemical strengthening treatment liquid and performing a local spraying type chemical strengthening treatment in the secondary strengthening step In the secondary strengthening step, for example, the end face of the glass substrate is used as a chemical strengthening treatment apparatus having a chemical strengthening treatment tank filled with a chemical strengthening treatment liquid. After locally heating with a laser beam or the like (heating step), only the end surface of the glass substrate is immersed in the chemical strengthening treatment liquid in the chemical strengthening treatment tank (chemical strengthening treatment step). Only the end face may be selectively chemically strengthened to form a secondary reinforcing layer, that is, a local immersion chemical strengthening process may be performed. In that case, by repeatedly repeating the treatment period in which the glass substrate is placed in the chemical strengthening treatment tank and the end face is immersed in the chemical strengthening treatment liquid and the non-treatment period in which the glass substrate is taken out of the chemical strengthening treatment tank, It is possible to perform chemical strengthening treatment of the formula.
　（１２）上記した各実施形態では、加熱装置を構成するレーザヘッドが搬送装置によるガラス基板の搬送方向について１つのみ配されたものを例示したが、レーザヘッドを上記搬送方向について複数配することも勿論可能である。 (12) In each of the above embodiments, only one laser head constituting the heating device is arranged in the conveyance direction of the glass substrate by the conveyance device, but a plurality of laser heads are arranged in the conveyance direction. Of course it is possible.
　（１３）上記した各実施形態では、加熱装置としてレーザ光を照射するレーザヘッドを備えるものを用いることで、加熱工程においてガラス基板の端面を局所的に加熱するようにしたものを示したが、加熱装置としてレーザ光以外の加熱手段を備えるものを用いることも可能である。 (13) In each of the above-described embodiments, the one provided with a laser head that emits laser light as a heating device is used to locally heat the end surface of the glass substrate in the heating process. It is also possible to use a heating device provided with heating means other than laser light.
　（１４）上記した各実施形態では、二次強化工程においてガラス基板の端面を全周にわたって加熱した（加熱工程）上で化学強化処理液を付着させる（化学強化処理工程）ことで、ガラス基板の端面の全周にわたって二次強化層を形成した場合を示したが、例えば二次強化工程においてガラス基板の端面を部分的に加熱した上でその加熱部分に化学強化処理液を付着させることで、ガラス基板の端面における一部に二次強化層を形成したものも本発明に含まれる。なお、二次強化工程においてガラス基板の端面を全周にわたって加熱した上で部分的に化学強化処理液を付着させることで、部分的に二次強化層を形成することも可能である。 (14) In each of the above-described embodiments, the end face of the glass substrate is heated over the entire circumference in the secondary strengthening process (heating process), and then the chemical strengthening treatment liquid is adhered (chemical strengthening process process). Although the case where the secondary strengthening layer was formed over the entire circumference of the end face was shown, for example, by partially heating the end face of the glass substrate in the secondary strengthening step and then attaching the chemical strengthening treatment liquid to the heated part, What formed the secondary reinforcement layer in a part in the end surface of a glass substrate is also contained in this invention. In addition, it is also possible to form a secondary reinforcement layer partially by heating the end surface of a glass substrate over a perimeter in a secondary strengthening process, and making a chemical strengthening process liquid adhere partially.
　（１５）上記した各実施形態では、製造装置を構成する分割装置として、レーザ式のものを例示したが、分割装置として機械式のものを用いることも可能である。機械式の分割装置は、例えばダイヤモンドチップや炭化物切断ホイール等の溝きり刃を備えており、分割工程では、ガラス基板母材の分断予定ラインに、溝きり刃を用いて溝きり（スクライビング）をして表面に線状クラックを入れてから、この線状クラックに沿ってガラス基板母材を機械的に割断させるようにすればよい。 (15) In each of the embodiments described above, the laser type is exemplified as the dividing device constituting the manufacturing apparatus, but a mechanical type can also be used as the dividing device. The mechanical dividing device is provided with a grooving blade such as a diamond chip or a carbide cutting wheel, for example, and in the dividing process, the grooving (scribing) is performed on the planned dividing line of the glass substrate base material using the grooving blade. Then, after forming a linear crack on the surface, the glass substrate base material may be mechanically cleaved along the linear crack.
　（１６）上記した各実施形態では、一次強化工程及び二次強化工程においてガラス基板（ガラス基板母材）の表面に存在するナトリウムイオンと、化学強化処理液である溶融塩中に存在するカリウムイオンとを交換させることで、イオン交換による化学強化処理を行うようにした場合を示したが、一次強化工程及び二次強化工程において例えばガラス基板の材料として表面にリチウムイオンが存在するものを用いるとともに、化学強化処理液としてナトリウムを含有する溶融塩を用いるようにし、ガラス基板のリチウムイオンと、化学強化処理液のナトリウムイオンとを交換させることで、イオン交換による化学強化処理を行うようにしても構わない。 (16) In each embodiment described above, sodium ions present on the surface of the glass substrate (glass substrate base material) in the primary strengthening step and the secondary strengthening step, and potassium ions present in the molten salt that is the chemical strengthening treatment liquid In the primary strengthening step and the secondary strengthening step, for example, a material having a lithium ion on the surface is used as the material of the glass substrate in the primary strengthening step and the secondary strengthening step. Further, a molten salt containing sodium is used as the chemical strengthening treatment liquid, and the chemical strengthening treatment by ion exchange is performed by exchanging lithium ions of the glass substrate and sodium ions of the chemical strengthening treatment liquid. I do not care.
　（１７）上記した各実施形態では、分割工程においてガラス基板母材から９枚のガラス基板を取り出すようにしたものを示したが、ガラス基板母材から取り出すガラス基板の具体的な枚数は、８枚以下でも１０枚以上であってもよく、任意に変更することが可能である。 (17) In each of the above embodiments, nine glass substrates are taken out from the glass substrate base material in the dividing step, but the specific number of glass substrates taken out from the glass substrate base material is 8 It may be less than 10 or 10 or more, and can be arbitrarily changed.
　（１８）上記した各実施形態では、端部加工工程によりガラス基板の角部を丸めるようにした場合を示したが、端部加工工程を省略することも可能である。その場合、平面に視て角部が丸みを帯びない形状のガラス基板を得ることができる。 (18) In each of the above-described embodiments, the case where the corner portion of the glass substrate is rounded by the end portion processing step is shown, but the end portion processing step can be omitted. In that case, a glass substrate having a shape in which corners are not rounded when viewed in a plane can be obtained.
　（１９）上記した各実施形態では、一次強化工程において化学強化法を用いることで、ガラス基板母材の表面に一次強化層である圧縮層（圧縮応力層）を形成した場合を示したが、それ以外にも、例えば風冷強化法（物理強化法）により一次強化層である圧縮層を形成するようにしても構わない。風冷強化法では、ガラス基板母材を７００度程度まで加熱した後、その表面に空気を吹き付けて表面を急激に且つ均一に冷却することで、表面に圧縮層を形成するようにしている。 (19) In each of the above-described embodiments, the case where a compression layer (compression stress layer), which is a primary strengthening layer, is formed on the surface of the glass substrate base material by using a chemical strengthening method in the primary strengthening step. In addition, a compressed layer which is a primary reinforcing layer may be formed by, for example, an air cooling strengthening method (physical strengthening method). In the air-cooling strengthening method, a glass substrate base material is heated to about 700 degrees, and then air is blown onto the surface to rapidly and uniformly cool the surface, thereby forming a compressed layer on the surface.
　（２０）上記した各実施形態では、パターン層に用いる透明導電材料としてＩＴＯを例示したが、透明導電材料としてＺｎＯ（Zinc Oxide：酸化亜鉛）を用いることも勿論可能である。 (20) In each of the above embodiments, ITO is exemplified as the transparent conductive material used for the pattern layer, but it is of course possible to use ZnO (Zinc Oxide) as the transparent conductive material.
　（２１）上記した実施形態１では、投影型静電容量方式のタッチパネルにおいて１枚のガラス基板に第１パターン層及び第２パターン層を形成した場合を示したが、２枚のガラス基板を貼り合わせて用いるようにし、一方のガラス基板における他方のガラス基板との対向面に第１パターン層を、他方のガラス基板における一方のガラス基板との対向面に第２パターン層をそれぞれ形成するようにしても構わない。 (21) In the first embodiment described above, the case where the first pattern layer and the second pattern layer are formed on one glass substrate in the projected capacitive touch panel is shown. The first pattern layer is formed on the surface of the one glass substrate facing the other glass substrate, and the second pattern layer is formed on the surface of the other glass substrate facing the one glass substrate. It doesn't matter.
　（２２）上記した各実施形態では、タッチパネルとして投影型静電容量方式、表面型静電容量方式、抵抗膜方式のものをそれぞれ例示したが、要はガラス基板の板面にパターン層が積層して形成されるものであればよく、例えば電磁誘導方式のタッチパネルにも本発明は適用可能である。 (22) In each of the above-described embodiments, the projected capacitive type, the surface capacitive type, and the resistive film type are exemplified as the touch panel, but the pattern layer is laminated on the plate surface of the glass substrate. For example, the present invention can be applied to an electromagnetic induction type touch panel.
　（２３）上記した各実施形態では、タッチパネルに液晶パネルのみを一体化した液晶表示装置を示したが、タッチパネルに液晶パネル及びバックライト装置を共に一体化することも可能である。その場合、例えば予め液晶パネルに対してバックライト装置を一体化しておき、その液晶パネルをタッチパネルに一体化するようにして製造すればよい。 (23) In each of the above-described embodiments, the liquid crystal display device in which only the liquid crystal panel is integrated with the touch panel is shown. However, the liquid crystal panel and the backlight device can be integrated with the touch panel. In that case, for example, the backlight device may be integrated with the liquid crystal panel in advance, and the liquid crystal panel may be integrated with the touch panel.
　（２４）上記した各実施形態では、液晶表示装置が備えるバックライト装置としてエッジライト型のものを例示したが、直下型のバックライト装置を用いるようにしたものも本発明に含まれる。 (24) In each of the above-described embodiments, the edge light type is exemplified as the backlight device included in the liquid crystal display device, but the present invention includes a backlight device of a direct type.
　（２５）上記した各実施形態では、表示画面が縦長なタイプの液晶表示装置を例示したが、表示画面が横長なタイプの液晶表示装置についても本発明に含まれる。また、表示画面が正方形とされる液晶表示装置も本発明に含まれる。 (25) In each of the above-described embodiments, a liquid crystal display device having a vertically long display screen is exemplified, but a liquid crystal display device having a horizontally long display screen is also included in the present invention. A liquid crystal display device having a square display screen is also included in the present invention.
　（２６）上記した各実施形態では、液晶表示装置のスイッチング素子としてＴＦＴを用いたが、ＴＦＴ以外のスイッチング素子（例えば薄膜ダイオード（ＴＦＤ））を用いた液晶表示装置にも適用可能であり、カラー表示する液晶表示装置以外にも、白黒表示する液晶表示装置にも適用可能である。 (26) In each of the embodiments described above, a TFT is used as a switching element of a liquid crystal display device. However, the present invention can also be applied to a liquid crystal display device using a switching element other than TFT (for example, a thin film diode (TFD)). In addition to the liquid crystal display device for display, the present invention can also be applied to a liquid crystal display device for monochrome display.
　（２７）上記した各実施形態では、表示パネルとして液晶パネルを用いた液晶表示装置を例示したが、他の種類の表示パネル（ＰＤＰや有機ＥＬパネルなど）を用いた表示装置にも本発明は適用可能である。その場合、バックライト装置を省略することも可能である。 (27) In each of the above-described embodiments, the liquid crystal display device using a liquid crystal panel as the display panel has been exemplified. However, the present invention is applicable to a display device using another type of display panel (such as a PDP or an organic EL panel). Applicable. In that case, the backlight device can be omitted.
　１２，４１２，５１２，６１２，７１２…タッチパネル（位置入力装置）、１６，４１６，５１６，６１６，７１６…ガラス基板、１６ａ，２１６ａ，５１６ａ，６１６ａ，７１６ａ…板面、１６ｂ，１６ｂ１，１６ｂ２…端面、１６Ｍ…ガラス基板母材、１７，２１７，５１７…第１パターン層（パターン層）、１８，５１８…第２パターン層（パターン層）、２１，５２１，６２１，７２１…一次強化層（圧縮層、イオン交換層）、２２…二次強化層、２３…パターン層、２６…基板側パターン層（パターン層）、２７…フィルム側パターン層（パターン層）、５０…製造装置、５１…一次強化装置、５２…パターン形成装置、５３…分割装置、５４…加工装置、５５，１５５，２５５，３５５…二次強化装置、５６，１５６，２５６，３５６…搬送装置、５７，１５７，２５７，３５７…加熱装置、５８，１５８，２５８，３５８…化学強化処理装置、５８ａ～５８ｅ，１５８ａ～１５８ｅ，２５８ａ～２５８ｅ，３５８ａ～３５８ｅ…ノズル、５９…ターンテーブル（姿勢変換装置）、１５６Ａ，２５６Ａ…第１搬送装置、１５６Ｂ，２５６Ｂ…第２搬送装置、１５７Ａ，２５７Ａ…第１加熱装置、１５７Ｂ，２５７Ｂ…第２加熱装置、１５８Ａ，２５８Ａ…第１化学強化処理装置、１５８Ｂ，２５８Ｂ…第２化学強化処理装置 12, 412, 512, 612, 712 ... touch panel (position input device), 16,416, 516, 616, 716 ... glass substrate, 16a, 216a, 516a, 616a, 716a ... plate surface, 16b, 16b1, 16b2 ... end face , 16M ... Glass substrate base material, 17, 217, 517 ... First pattern layer (pattern layer), 18, 518 ... Second pattern layer (pattern layer), 21, 521, 621, 721 ... Primary reinforcement layer (compressed layer) , Ion exchange layer), 22 ... secondary reinforcing layer, 23 ... pattern layer, 26 ... substrate side pattern layer (pattern layer), 27 ... film side pattern layer (pattern layer), 50 ... manufacturing device, 51 ... primary strengthening device 52 ... Pattern forming device 53 ... Dividing device 54 ... Processing device 55, 155, 255, 355 ... Secondary strengthening device 56, 156, 256 356... Transport device, 57, 157, 257, 357... Heating device, 58, 158, 258, 358... Chemical strengthening treatment device, 58a to 58e, 158a to 158e, 258a to 258e, 358a to 358e. Table (posture changer), 156A, 256A ... first transfer device, 156B, 256B ... second transfer device, 157A, 257A ... first heating device, 157B, 257B ... second heating device, 158A, 258A ... first chemistry Strengthening treatment device, 158B, 258B ... second chemical strengthening treatment device

Claims (19)

  1. 　複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化工程と、
    　前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成工程と、
    　前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割工程と、
    　取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化工程とを備えている位置入力装置の製造方法。     A primary strengthening step of forming a primary strengthening layer on the surface of the glass substrate base material capable of taking out a plurality of glass substrates;
    A pattern forming step of forming a pattern layer for detecting an input position on the outside of the primary reinforcing layer of the glass substrate base material,
    A dividing step of dividing the glass substrate base material and taking out the plurality of glass substrates;
    A method of manufacturing a position input device, comprising: a secondary strengthening step of forming a secondary strengthening layer by performing chemical strengthening treatment by ion exchange a plurality of times at intervals on the end face of the glass substrate that has been taken out.
  2. 　前記二次強化工程には、前記ガラス基板の端面を加熱する加熱工程と、加熱された前記ガラス基板の端面に間隔をあけて複数回にわたって化学強化処理液を付着させる化学強化処理工程とが含まれている請求項１記載の位置入力装置の製造方法。 The secondary strengthening step includes a heating step of heating the end face of the glass substrate and a chemical strengthening treatment step of attaching the chemical strengthening treatment liquid to the end face of the heated glass substrate at intervals with multiple intervals. The method for manufacturing a position input device according to claim 1.
  3. 　前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面に対してレーザ光を照射するようにしている請求項２記載の位置入力装置の製造方法。 The method for manufacturing a position input device according to claim 2, wherein, in the heating step, a laser beam is irradiated to an end face of the glass substrate.
  4. 　前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面の加熱温度を、前記ガラス基板の軟化点よりも低いものとしている請求項２または請求項３記載の位置入力装置の製造方法。 The method for manufacturing a position input device according to claim 2 or 3, wherein, in the heating step, a heating temperature of an end face of the glass substrate is lower than a softening point of the glass substrate.
  5. 　前記加熱工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって加熱しており、前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面を全周にわたって化学強化処理するようにしている請求項２から請求項４のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 The end face of the glass substrate is heated over the entire circumference in the heating step, and the end face of the glass substrate is chemically strengthened over the entire circumference in the chemical strengthening treatment step. The manufacturing method of the position input device of any one of these.
  6. 　前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板の端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている請求項２から請求項５のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 The method for manufacturing a position input device according to any one of claims 2 to 5, wherein in the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed on an end surface of the glass substrate.
  7. 　前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板をその板面に沿う方向に搬送するとともにその搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置された複数のノズルから前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている請求項６記載の位置入力装置の製造方法。 In the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment liquid is transported to the end surface from a plurality of nozzles arranged in parallel at intervals along the transport direction while transporting the glass substrate in a direction along the plate surface. The method for manufacturing a position input device according to claim 6, wherein spraying is performed.
  8. 　前記加熱工程では、前記化学強化処理工程に係る前記複数のノズルに対して前記ガラス基板の搬送方向における上流側に配した加熱装置により前記ガラス基板の端面を加熱するようにしている請求項７記載の位置入力装置の製造方法。 The end face of the glass substrate is heated in the heating step by a heating device arranged on the upstream side in the transport direction of the glass substrate with respect to the plurality of nozzles related to the chemical strengthening treatment step. Manufacturing method of the position input device.
  9. 　前記化学強化処理工程では、前記ガラス基板を挟んだ両側から前記端面に対して前記化学強化処理液を吹き付けるようにしている請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 9. The position input device according to claim 6, wherein, in the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed on the end surface from both sides of the glass substrate. Production method.
  10. 　前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液を霧状にして前記ガラス基板の端面に対して吹き付けるようにしている請求項６から請求項９のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 10. The position input device according to claim 6, wherein, in the chemical strengthening treatment step, the chemical strengthening treatment liquid is sprayed onto an end surface of the glass substrate in a mist form. 11. Method.
  11. 　前記化学強化処理工程では、前記化学強化処理液として、アルカリ金属イオンを含有する溶融塩を用いるようにしている請求項２から請求項１０のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 The method for manufacturing a position input device according to any one of claims 2 to 10, wherein in the chemical strengthening treatment step, a molten salt containing alkali metal ions is used as the chemical strengthening treatment liquid.
  12. 　前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面に化学強化処理または風冷強化処理を施すことで、前記一次強化層として圧縮層を形成している請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 The said primary reinforcement | strengthening process WHEREIN: The compression layer is formed as said primary reinforcement layer by performing the chemical strengthening process or the air-cooling strengthening process on the surface of the said glass substrate. The manufacturing method of the position input device of description.
  13. 　前記一次強化工程では、前記ガラス基板の表面にイオン交換による化学強化処理を施すようにしている請求項１２記載の位置入力装置の製造方法。 13. The position input device manufacturing method according to claim 12, wherein in the primary strengthening step, a chemical strengthening treatment by ion exchange is performed on a surface of the glass substrate.
  14. 　前記分割工程と前記二次強化工程との間に、前記ガラス基板の端部を加工して外形を整える端部加工工程を備える請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の位置入力装置の製造方法。 The position input according to any one of claims 1 to 13, further comprising an end processing step of processing an end portion of the glass substrate to adjust an outer shape between the dividing step and the secondary strengthening step. Device manufacturing method.
  15. 　複数のガラス基板を取り出すことが可能なガラス基板母材の表面に一次強化層を形成する一次強化装置と、
    　前記ガラス基板母材の前記一次強化層に対して、入力位置を検出するためのパターン層を外側に積層する形で形成するパターン形成装置と、
    　前記ガラス基板母材を分割して複数の前記ガラス基板を取り出す分割装置と、
    　取り出された前記ガラス基板の端面に、間隔をあけて複数回にわたってイオン交換による化学強化処理を施すことで二次強化層を形成する二次強化装置とを備えている位置入力装置の製造装置。     A primary strengthening device for forming a primary strengthening layer on the surface of a glass substrate base material capable of taking out a plurality of glass substrates;
    A pattern forming apparatus for forming a pattern layer for detecting an input position on the outside of the primary reinforcing layer of the glass substrate base material,
    A dividing device for dividing the glass substrate base material and taking out the plurality of glass substrates;
    An apparatus for manufacturing a position input device, comprising: a secondary strengthening device that forms a secondary strengthening layer by performing chemical strengthening treatment by ion exchange a plurality of times at intervals on an end face of the glass substrate that has been taken out.
  16. 　前記二次強化装置は、前記ガラス基板をその板面に沿って搬送する搬送装置と、前記搬送装置による前記ガラス基板の搬送方向について相対的に上流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面を加熱する加熱装置と、前記搬送方向について相対的に下流側に配されるとともに前記ガラス基板の端面に化学強化処理液を吹き付ける化学強化処理装置とを備え、
    　前記化学強化処理装置は、前記化学強化処理液を噴射可能とされるとともに前記ガラス基板の搬送方向に沿って間隔をあけて並列配置される複数のノズルを有するものとされる請求項１５記載の位置入力装置の製造装置。     The secondary strengthening device is disposed on the upstream side with respect to the transport direction of the glass substrate by the transport device and a transport device that transports the glass substrate along the plate surface, and the end surface of the glass substrate A heating device that heats, and a chemical strengthening treatment device that is disposed on the relatively downstream side in the transport direction and sprays a chemical strengthening treatment liquid on an end surface of the glass substrate,
    The said chemical strengthening processing apparatus shall have a several nozzle arrange | positioned in parallel at intervals along the conveyance direction of the said glass substrate while being able to inject the said chemical strengthening processing liquid. Manufacturing equipment for position input devices.
  17. 　前記ノズルは、前記搬送装置を前記搬送方向と交差する方向から挟む形で一対を一組として、前記搬送方向に沿って間隔をあけて複数組ずつ並列して配されている請求項１６記載の位置入力装置の製造装置。 17. The nozzle according to claim 16, wherein the nozzles are arranged in parallel with each other at intervals along the transport direction, with a pair of the nozzles sandwiching the transport device from a direction intersecting the transport direction. Manufacturing equipment for position input devices.
  18. 　前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第１搬送装置と、前記ガラス基板をその板面に沿い且つ前記第１搬送装置による搬送方向と直交する方向に搬送する第２搬送装置とから構成されるのに対し、
    　前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第１搬送装置に対応する第１加熱装置及び第１化学強化処理装置と、前記第２搬送装置に対応する第２加熱装置及び第２化学強化処理装置とから構成される請求項１６または請求項１７記載の位置入力装置の製造装置。     The transport device transports the glass substrate in one direction along the plate surface, and transports the glass substrate along the plate surface in a direction perpendicular to the transport direction by the first transport device. In contrast to the second transport device,
    The heating device and the chemical strengthening processing device are respectively a first heating device and a first chemical strengthening processing device corresponding to the first transport device, and a second heating device and a second chemical strengthening corresponding to the second transport device. The position input device manufacturing apparatus according to claim 16 or 17, comprising a processing device.
  19. 　前記搬送装置は、前記ガラス基板をその板面に沿う一方向に搬送する第１搬送装置と、前記ガラス基板を前記第１搬送装置と同じ方向に搬送する第２搬送装置と、前記第１搬送装置と前記第２搬送装置との間に配されるとともに前記ガラス基板をその板面に沿って回動させる姿勢変換装置とから構成されるのに対し、
    　前記加熱装置及び前記化学強化処理装置は、それぞれ前記第１搬送装置に対応する第１加熱装置及び第１化学強化処理装置と、前記第２搬送装置に対応する第２加熱装置及び第２化学強化処理装置とから構成される請求項１６または請求項１７記載の位置入力装置の製造装置。     The transport device includes a first transport device that transports the glass substrate in one direction along the plate surface, a second transport device that transports the glass substrate in the same direction as the first transport device, and the first transport. It is arranged between a device and the second transport device and is composed of a posture changing device that rotates the glass substrate along its plate surface,
    The heating device and the chemical strengthening processing device are respectively a first heating device and a first chemical strengthening processing device corresponding to the first transport device, and a second heating device and a second chemical strengthening corresponding to the second transport device. The position input device manufacturing apparatus according to claim 16 or 17, comprising a processing device.
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