WO2011157425A1 - Apparatus for the continuous plasma treatment and/or plasma coating of a piece of material - Google Patents

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WO2011157425A1
WO2011157425A1 PCT/EP2011/002972 EP2011002972W WO2011157425A1 WO 2011157425 A1 WO2011157425 A1 WO 2011157425A1 EP 2011002972 W EP2011002972 W EP 2011002972W WO 2011157425 A1 WO2011157425 A1 WO 2011157425A1
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barrier
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barrier electrode
probe
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PCT/EP2011/002972
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Peter Palm
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WPNLB UG (haftungsbeschränkt) & Co. KG
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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32733Means for moving the material to be treated
    • H01J37/32752Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
    • H01J37/32761Continuous moving
    • H01J37/3277Continuous moving of continuous material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/2406Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/503Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using dc or ac discharges
    • HELECTRICITY
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    • H01J2237/32Processing objects by plasma generation
    • H01J2237/33Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
    • H01J2237/332Coating

Definitions

  • the invention relates to a device for continuous plasma treatment and / or plasma coating of a particular sheet- or plate-shaped piece of material, comprising at least one arranged on one side of the piece of material barrier electrode with an electrically conductive electrode core and a dielectric sheath, and arranged on the other side of the piece of material counter electrode in that a plasma discharge can be generated by means of a high voltage applied between the barrier electrode and the counterelectrode.
  • Such devices for corona treatment of a piece of material are widely known. Due to the dielectric covering of the barrier electrode, a dielectrically impeded discharge (barrier discharge or silent discharge) occurs between the barrier electrode and the counterelectrode, producing a plasma to which a surface of the material piece to be treated is exposed. If, during the operation of such a device, a breakage of the dielectric covering of the barrier electrode occurs, a short circuit may occur in the case of a metallic counterelectrode, which in any case can damage the piece of material to be treated, but in the worst case also the counterelectrode. In the case of a counter-electrode provided with a dielectric barrier, or if the material piece to be treated itself acts as a dielectric, however, there is no short circuit, so that it may take a long time until the
  • CONFIRMATION COPY Fracture of the dielectric cladding is discovered. Since a fraction of the dielectric envelope usually leads to a highly inhomogeneous discharge, the quality of the material piece thus treated is usually insufficient, which can result in significant downtime as a result.
  • the object of the invention is to provide a device in which the described negative effects due to the breakage of the dielectric coating of the barrier electrode can be prevented.
  • the invention achieves this object by the means of independent claim 1.
  • the distance between the barrier electrode and the electrically conductive probe is relatively small, i. sufficiently small to cause a short-circuit discharge between the barrier electrode and the electrically conductive probe according to the invention in the event of breakage of the dielectric sheath.
  • the corresponding short-circuit current, or a corresponding voltage dip can easily be detected by suitable means, in particular can lead to an immediate shutdown of the device.
  • the probe according to the invention is a particularly simple means for detecting a rupture of the dielectric covering of the barrier electrode, since the already existing high voltage is used to trigger the short-circuit current and electrical means for detecting a short circuit are usually also present. Since the probe is arranged on the same side of the material piece as the barrier electrode, the material piece and the counter electrode are advantageously not affected by the short-circuit current.
  • the distance between the probe and the barrier electrode is preferably in the range of the distance between the barrier electrode and the barrier electrode. Rode and the counter electrode and is preferably at most twice, more preferably at most 1.5 times this distance. Preferably, the distance of the probe to the barrier electrode is less than the distance between the barrier electrode and the counter electrode, more preferably at most half as large. In the case of a metallic counterelectrode, this can ensure that no short-circuit discharge takes place to the counterelectrode or to the piece of material to be treated.
  • barrier electrodes are at the same potential, so that only a high-voltage potential has to be generated.
  • an electrically conductive probe is preferably arranged at a sufficiently small distance for each barrier electrode so that a possible break in the dielectric envelope of each barrier electrode can be detected by means of a corresponding short-circuit current.
  • a plurality of electrically conductive probes is provided, it is advantageous if, for the sake of simplicity, they are at the same potential, in particular ground potential.
  • the plasma discharge is a corona discharge.
  • a corona discharge is a plasma discharge that is generated at atmospheric pressure, preferably without protective gas. It differs from a simple field strength in that ne (partial) ionization of the fluid (usually air) takes place and a small current flows.
  • Fig. 1 shows a schematic view of a plasma treatment apparatus in a longitudinal section
  • Fig. 2 shows a schematic, not to scale
  • FIGS. 3, 4 are schematic longitudinal sectional views of plasma processing apparatuses in further embodiments.
  • FIGS. 5-10 show schematic longitudinal sectional views of various electrode arrangements for plasma treatment apparatuses in further embodiments.
  • the plasma treatment apparatus 10 for continuous plasma treatment, in particular corona treatment of a surface 11 of a flat, in particular web or plate-shaped piece of material 12, here a material web, for example a plastic film, comprises at least one on one side 14 of the piece of material 12 arranged, in particular rod-shaped barrier electrode 13 and a the other side 15 of the piece of material 12 arranged electrically conductive, in particular metallic counter electrode 16, which is in particular at ground potential.
  • the distance d between the barrier electrode 13 and the piece of material 12 is greater than zero.
  • a gas-filled free discharge space 20 is formed, in which the plasma or corona discharges are generated.
  • the preferably gap-shaped discharge chamber 20 is in particular free of dielectric materials.
  • the extent d of the discharge space 20 is preferably greater than 0.5 mm, more preferably greater than 1 mm.
  • barrier electrode 13 and piece of material 12, and / or barrier electrode 13 and counter electrode 16 are arranged at a distance from one another.
  • the gas-filled free discharge space 20, or a part thereof may also be arranged between the material web 12 and the counter electrode, ie on the side of the counter electrode 16.
  • the barrier electrode 13 has an electrically conductive, in particular metallic, electrode core 17 and an in particular all-round jacket 18 made of a dielectric material, for example a ceramic.
  • the electrode core 17 forming the actual electrode is placed on a high-voltage potential generated by means of a high-voltage generating device 19.
  • the high voltage may in particular be a high-frequency alternating voltage in the range of, for example, 10 to 50 kHz.
  • the high voltage can also be pulsed.
  • a plasma discharge impeded by the dielectric sheath 18, in particular a corona discharge is generated in the discharge space 20 between the barrier electrode 13 and the counter electrode 16, which is indicated by dashed lines in FIG.
  • the plasma generated in the space 20, the surface 11 of the piece of material 12 is modified and / or coated in the desired manner.
  • the plasma treatment and / or plasma coating can advantageously take place under atmospheric pressure, so that means for generating a Vacuums are dispensable.
  • the barrier electrode 13 preferably extends over the entire width or transverse extent of the piece of material 12.
  • the plasma treatment apparatus 10 has means, not shown, for moving the piece of material 12 in the longitudinal direction between the barrier electrode 13 and the counter-electrode 16 Passing plasma treatment device 10 through or past this, so that optionally a continuous and complete plasma treatment of the surface 11 of the piece of material 12 can be achieved.
  • the continuous delivery of the piece of material 12 is indicated in the figures 1 to 4 by arrows. It may be a translatory conveying or linear conveying, as shown in Figures 1 and 3.
  • the piece of material 12 can be conveyed rotationally past the barrier electrode 13, for example by means of a counter-electrode 16 designed as a roller, as shown in FIG. 4.
  • the piece of material is fixed and instead the electrode arrangement is guided over the piece of material 12 in the longitudinal direction.
  • a not (at least not completely) dielectrically shielded, electrically conductive, in particular metallic probe 21 is arranged.
  • the probe 21 has, at least on the side facing the barrier electrode 13, a region extending expediently over its length, for example a slot-shaped region which is free of a dielectric coating.
  • the entire probe 21 is completely free of a dielectric sheath.
  • the probe 21 preferably extends over the entire width or transverse extent of the material web 12 and is advantageously arranged parallel to the barrier electrode 13, as shown in FIG. 2 can be seen.
  • the probe 21 is plate-shaped, but the probe 21 may also have another suitable shape.
  • Suitable detection means 22 are provided in the high-voltage circuit in order to detect a short circuit current caused by a short circuit discharge or a voltage dip caused thereby and to cause a shutdown of the device 10.
  • the electronic detection means 22 may be active or passive, it may be, for example, a simple backup or an electronic monitoring device.
  • the distance of the probe 21 to the barrier electrode 13 is at most twice, more preferably at most 1.5 times the distance between the barrier electrode 13 and the counter electrode 16.
  • the distance of the probe 21 from the barrier electrode preferably smaller, preferably at most half as large as the distance of the counter electrode 16 of the barrier electrode 13. This may optionally be achieved that advantageously no short-circuit discharge between the barrier electrode 13 and the counter electrode or to be treated piece of material 12 takes place.
  • the counterelectrode 16 has a dielectric barrier 23 on the side facing the barrier electrode 13.
  • the dielectric barrier 23 is added.
  • the electrically conductive probe 21 provides a simple and secure automatic detection "of breakage of the dielectric coating 18 of the barrier electrode 13 because in such a case due to the dielectric barrier 23 can be no short circuit discharge to the counter electrode 16 under normal conditions.
  • a metallic counterelectrode see FIG. 1
  • the material piece 12 to be treated acts as a dielectric and prevents a short-circuit current to the counter electrode 16.
  • FIGS. 5 to 10 make clear that the device 10 is not limited to a barrier electrode 13 and / or to an electrically conductive probe 21.
  • a plurality of barrier electrodes 13 may be provided, whereby the process speed can be increased due to the increased treatment area.
  • FIG. 5 shows an embodiment with a central probe 21 and two barrier electrodes 13 symmetrically arranged relative to the probe 21.
  • FIG. 8 shows a series connection of two electrode arrangements according to FIG. 5; Also, more than two such electrode arrangements are possible.
  • the probe 21 is arranged behind the barrier electrode 13 in the conveying direction.
  • the probe 21 may be arranged in the conveying direction in front of the barrier electrode 13.
  • the embodiment according to FIG. 6 clarifies that in each case an electrically conductive probe 21 can also be arranged in front of and behind the barrier electrode 13; This may be advantageous to detect a break at various locations of the enclosure 18 of the barrier electrode 13 to be able to.
  • a plurality of probes 21 may be associated with a barrier electrode 13. 6 shows an electrode unit consisting of a central barrier electrode 13 and two probes 21 symmetrically arranged relative to the barrier electrode 13.
  • FIG. 10 shows a series connection of two electrode arrangements according to FIG. 6; Also, more than two such electrode arrangements, and / or combinations with electrode arrangements according to Figures 5, 8 are possible.
  • FIGS. 7 and 9 show series arrangements of alternating barrier electrodes 13 and probes 21.
  • At least one electrically conductive probe 21 is arranged at a relatively small distance to each barrier electrode 13 in order to break in the dielectric sheath 18 of each barrier electrode 13 to be able to detect.
  • the probe 12 additionally has the function of a further electrode. In a preferred embodiment, it is a particular rod-shaped metal electrode.

Abstract

An apparatus (10) for the continuous plasma treatment and/or plasma coating of an, in particular, web- or plate-like piece (12) of material comprises at least one barrier electrode (13) which is arranged on one side (14) of the piece (12) of material and has an electrically conductive electrode core (17) and a dielectric casing (18), and a counterelectrode (16) which is arranged on the other side (15) of the piece (12) of material, so that a plasma discharge can be generated by means of a high voltage which is applied between the barrier electrode (13) and the counterelectrode (16). At least one electrically conductive probe (21) is arranged on the same side (14) of the piece (12) of material as the barrier electrode (13), at a relatively short distance from the barrier electrode (13).

Description

Vorrichtung zur kontinuierlichen Plasmabehandlung und/oder Plasmabeschichtung eines Materialstücks  Apparatus for continuous plasma treatment and / or plasma coating of a piece of material
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Plasmabehandlung und/oder Plasmabeschichtung eines insbesondere bahn- oder plattenförmigen Materialstücks, umfassend mindestens eine auf einer Seite des Materialstücks angeordnete Barrierenelektrode mit einem elektrisch leitfähigen Elektrodenkern und einer dielektrischen Umhüllung, und eine auf der anderen Seite des Materialstücks angeordnete Gegenelektrode, so dass mittels einer zwischen der Barrierenelektrode und der Gegenelektrode angelegten Hochspannung eine Plasmaentladung erzeugbar ist . The invention relates to a device for continuous plasma treatment and / or plasma coating of a particular sheet- or plate-shaped piece of material, comprising at least one arranged on one side of the piece of material barrier electrode with an electrically conductive electrode core and a dielectric sheath, and arranged on the other side of the piece of material counter electrode in that a plasma discharge can be generated by means of a high voltage applied between the barrier electrode and the counterelectrode.
Derartige Vorrichtungen zur Koronabehandlung eines Material - Stücks sind vielfach bekannt. Aufgrund der dielektrischen Umhüllung der Barrierenelektrode kommt es zu einer dielektrisch behinderten Entladung (Barriereentladung bzw. stille Entladung) zwischen der Barrierenelektrode und der Gegenelektrode, die ein Plasma erzeugt, dem eine zu behandelnde Oberfläche des Materialstücks ausgesetzt wird. Wenn es im Betrieb einer solchen Vorrichtung zu einem Bruch der dielektrischen Umhüllung der Barrierenelektrode kommt, kann es im Fall einer metallischen Gegenelektrode zu einem Kurzschluss kommen, wodurch jedenfalls das zu behandelnde Materialstück, im schlimmsten Fall aber auch die Gegenelektrode geschädigt werden kann. Im Falle einer mit einer dielektrischen Barriere versehenen Gegenelektrode, oder wenn das zu behandelnde Materialstück selbst als Dielektrikum wirkt, kommt es dagegen nicht zu einem Kurzschluss, so dass unter Umständen lange Zeit vergeht, bis der Such devices for corona treatment of a piece of material are widely known. Due to the dielectric covering of the barrier electrode, a dielectrically impeded discharge (barrier discharge or silent discharge) occurs between the barrier electrode and the counterelectrode, producing a plasma to which a surface of the material piece to be treated is exposed. If, during the operation of such a device, a breakage of the dielectric covering of the barrier electrode occurs, a short circuit may occur in the case of a metallic counterelectrode, which in any case can damage the piece of material to be treated, but in the worst case also the counterelectrode. In the case of a counter-electrode provided with a dielectric barrier, or if the material piece to be treated itself acts as a dielectric, however, there is no short circuit, so that it may take a long time until the
BESTÄTIGUNGSKOPIE Bruch der dielektrischen Umhüllung entdeckt wird. Da ein Bruch der dielektrischen Umhüllung in der Regel zu einer stark inhomogenen Entladung führt, ist die Qualität des so behandelten Materialstücks meist ungenügend, was im Ergebnis zu erheblichen Ausfallzeiten führen kann. CONFIRMATION COPY Fracture of the dielectric cladding is discovered. Since a fraction of the dielectric envelope usually leads to a highly inhomogeneous discharge, the quality of the material piece thus treated is usually insufficient, which can result in significant downtime as a result.
Die Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Vorrichtung bereitzustellen, bei der die geschilderten negativen Auswirkungen infolge des Bruchs der dielektrischen Umhüllung der Barrierenelektrode verhindert werden können. The object of the invention is to provide a device in which the described negative effects due to the breakage of the dielectric coating of the barrier electrode can be prevented.
Die Erfindung löst diese Aufgabe mit den Mitteln des unabhängigen Anspruchs 1. Der Abstand zwischen der Barrierenelektrode und der elektrisch leitfähigen Sonde ist relativ gering, d.h. ausreichend gering, um im Falle eines Bruchs der dielektrischen Umhüllung eine Kurschlussentladung zwischen der Barrierenelektrode und der erfindungsgemäßen elektrisch leitfähigen Sonde herbeizuführen. Der entsprechende Kurzschlussstrom, bzw. ein entsprechender Spannungseinbruch, ist mit geeigneten Mitteln leicht detektierbar kann insbesondere zu einer sofortigen Abschaltung der Vorrichtung führen. Die erfindungsgemäße Sonde ist ein besonders einfaches Mittel, um einen Bruch der dielektrischen Umhüllung der Barrierenelektrode zu detektie- ren, da die ohnehin vorhandene Hochspannung zur Auslösung des Kurzschlussstroms verwendet wird und elektrische Mittel zur Detektierung eines Kurzschlusses üblicherweise ebenfalls vorhanden sind. Da die Sonde auf der gleichen Seite des Material- Stücks angeordnet ist wie die Barrierenelektrode, werden das Materialstück und die Gegenelektrode von dem Kurzschlussstrom vorteilhafterweise nicht beeinträchtigt. The invention achieves this object by the means of independent claim 1. The distance between the barrier electrode and the electrically conductive probe is relatively small, i. sufficiently small to cause a short-circuit discharge between the barrier electrode and the electrically conductive probe according to the invention in the event of breakage of the dielectric sheath. The corresponding short-circuit current, or a corresponding voltage dip, can easily be detected by suitable means, in particular can lead to an immediate shutdown of the device. The probe according to the invention is a particularly simple means for detecting a rupture of the dielectric covering of the barrier electrode, since the already existing high voltage is used to trigger the short-circuit current and electrical means for detecting a short circuit are usually also present. Since the probe is arranged on the same side of the material piece as the barrier electrode, the material piece and the counter electrode are advantageously not affected by the short-circuit current.
Vorzugsweise liegt der Abstand der Sonde zu der Barrierenelektrode im Bereich des Abstands zwischen der Barrierenelekt- rode und der Gegenelektrode und beträgt vorzugsweise höchstens das Doppelte, weiter vorzugsweise höchstens das 1,5-fache dieses Abstands. Vorzugsweise ist Abstand der Sonde zu der Barrierenelektrode geringer als der Abstand zwischen der Barrierenelektrode und der Gegenelektrode, weiter vorzugsweise höchstens halb so groß. Im Falle einer metallischen Gegenelektrode kann dadurch sichergestellt werden, dass keine Kurz- schlussentladung zu der Gegenelektrode bzw. zu dem zu behandelnden Materialstück hin erfolgt. The distance between the probe and the barrier electrode is preferably in the range of the distance between the barrier electrode and the barrier electrode. Rode and the counter electrode and is preferably at most twice, more preferably at most 1.5 times this distance. Preferably, the distance of the probe to the barrier electrode is less than the distance between the barrier electrode and the counter electrode, more preferably at most half as large. In the case of a metallic counterelectrode, this can ensure that no short-circuit discharge takes place to the counterelectrode or to the piece of material to be treated.
Zur Erzeugung des Kurzschlussstromes im Falle der mit der Hochspannung belegten Barrierenelektrode kann die Sonde zweckmäßigerweise einfach geerdet werden. In order to generate the short-circuit current in the case of the barrier electrode occupied by the high voltage, it is expediently easy to earth the probe.
Wenn in einer bevorzugten Ausführungsform eine Mehrzahl von Barrierenelektroden vorgesehen ist, ist es vorteilhaft, wenn diese auf demselben Potential liegen, damit nur ein Hochspannungspotential erzeugt werden muss. In diesem Fall ist vorzugsweise zu jeder Barrierenelektrode in einem ausreichend geringen Abstand eine elektrisch leitfähige Sonde angeordnet, damit ein etwaiger Bruch der dielektrischen Umhüllung jeder Barrierenelektrode mittels eines entsprechenden Kurzschluss- stroms detektierbar ist. If a plurality of barrier electrodes is provided in a preferred embodiment, it is advantageous if they are at the same potential, so that only a high-voltage potential has to be generated. In this case, an electrically conductive probe is preferably arranged at a sufficiently small distance for each barrier electrode so that a possible break in the dielectric envelope of each barrier electrode can be detected by means of a corresponding short-circuit current.
Wenn in einer bevorzugten Ausführungsform eine Mehrzahl von elektrisch leitfähigen Sonden vorgesehen ist, ist es vorteilhaft, wenn diese der Einfachheit halber auf demselben Potential, insbesondere Erdpotential, liegen. If, in a preferred embodiment, a plurality of electrically conductive probes is provided, it is advantageous if, for the sake of simplicity, they are at the same potential, in particular ground potential.
Vorzugsweise ist die Plasmaentladung eine Koronaentladung. Eine Koronaentladung ist eine Plasmaentladung, die bei Atmosphärendruck vorzugsweise ohne Schutzgas erzeugt wird. Sie unterscheidet sich von einer einfachen Feldstärke dadurch, dass ei- ne (Teil-) Ionisierung des Fluids (meist Luft) erfolgt und ein geringer Strom fließt. Preferably, the plasma discharge is a corona discharge. A corona discharge is a plasma discharge that is generated at atmospheric pressure, preferably without protective gas. It differs from a simple field strength in that ne (partial) ionization of the fluid (usually air) takes place and a small current flows.
Die Erfindung wird im Folgenden anhand vorteilhafter Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigefügten Figuren erläutert . The invention will be explained below with reference to advantageous embodiments with reference to the accompanying figures.
Fig. 1 zeigt eine schematische Ansicht einer Plasmabehandlungsvorrichtung in einem Längsschnitt; Fig. 1 shows a schematic view of a plasma treatment apparatus in a longitudinal section;
Fig. 2 zeigt eine schematische, nicht maßstabsgerechte Fig. 2 shows a schematic, not to scale
Draufsicht auf die Plasmabehandlungsvorrichtung aus Fig. 1;  Top view of the plasma treatment apparatus of Fig. 1;
Fig. 3, 4 zeigen schematische Längsschnitt-Ansichten von Plasmabehandlungsvorrichtungen in weiteren Ausführungs- formen; und FIGS. 3, 4 are schematic longitudinal sectional views of plasma processing apparatuses in further embodiments; and
Fig. 5-10 zeigen schematische Längsschnitt-Ansichten verschiedener Elektrodenanordnungen für Plasmabehandlungsvorrichtungen in weiteren Ausführungsformen. FIGS. 5-10 show schematic longitudinal sectional views of various electrode arrangements for plasma treatment apparatuses in further embodiments.
Die Plasmabehandlungsvorrichtung 10 zur kontinuierlichen Plasmabehandlung, insbesondere Koronabehandlung einer Oberfläche 11 eines flächigen, insbesondere bahn- oder plattenförmigen Materialstücks 12, hier einer Materialbahn, beispielsweise einer Kunststofffolie, umfasst mindestens eine auf einer Seite 14 des Materialstücks 12 angeordnete, insbesondere stabförmige Barrierenelektrode 13 und eine auf der anderen Seite 15 des Materialstücks 12 angeordnete elektrisch leitfähige, insbesondere metallische Gegenelektrode 16, die insbesondere auf Erdpotential liegt. Der Abstand d zwischen der Barrierenelektrode 13 und dem Materialstück 12 ist größer als Null. Zwischen der Barrierenelektrode 13 und der Gegenelektrode ist somit ein gasgefüllter freier Entladungsraum 20 gebildet, in dem die Plasma- bzw. Koronaentladungen erzeugt werden. Der vorzugsweise spaltförmige Entladungsraüm 20 ist insbesondere frei von dielektrischen Materialien. Die Ausdehnung d des Entladungs- raums 20 ist vorzugsweise größer als 0.5 mm, weiter bevorzugt größer als 1 mm. Nach dem zuvor Gesagten sind Barrierenelektrode 13 und Materialstück 12, und/oder Barrierenelektrode 13 und Gegenelektrode 16, beabstandet zueinander angeordnet. In einer anderen, nicht gezeigten Ausführungsform kann der gasgefüllte freie Entladungsraum 20, oder ein Teil desselben, auch zwischen der Materialbahn 12 und der Gegenelektrode, d.h. auf der Seite der Gegenelektrode 16 angeordnet sein. The plasma treatment apparatus 10 for continuous plasma treatment, in particular corona treatment of a surface 11 of a flat, in particular web or plate-shaped piece of material 12, here a material web, for example a plastic film, comprises at least one on one side 14 of the piece of material 12 arranged, in particular rod-shaped barrier electrode 13 and a the other side 15 of the piece of material 12 arranged electrically conductive, in particular metallic counter electrode 16, which is in particular at ground potential. The distance d between the barrier electrode 13 and the piece of material 12 is greater than zero. Between the Barrier electrode 13 and the counter electrode thus a gas-filled free discharge space 20 is formed, in which the plasma or corona discharges are generated. The preferably gap-shaped discharge chamber 20 is in particular free of dielectric materials. The extent d of the discharge space 20 is preferably greater than 0.5 mm, more preferably greater than 1 mm. After the above, barrier electrode 13 and piece of material 12, and / or barrier electrode 13 and counter electrode 16 are arranged at a distance from one another. In another embodiment, not shown, the gas-filled free discharge space 20, or a part thereof, may also be arranged between the material web 12 and the counter electrode, ie on the side of the counter electrode 16.
Die Barrierenelektrode 13 weist einen elektrisch leitfähigen, insbesondere metallischen Elektrodenkern 17 und eine insbesondere allseitige Ummantelung 18 aus einem dielektrischen Material, beispielsweise einer Keramik, auf. Der die eigentliche Elektrode bildende Elektrodenkern 17 ist auf ein mittels einer Hochspannungserzeugungseinrichtung 19 erzeugtes Hochspannungs - Potential gelegt. Die Hochspannung kann insbesondere eine hochfrequente Wechselspannung im Bereich von beispielsweise 10 bis 50 kHz sein. Die Hochspannung kann auch gepulst sein. The barrier electrode 13 has an electrically conductive, in particular metallic, electrode core 17 and an in particular all-round jacket 18 made of a dielectric material, for example a ceramic. The electrode core 17 forming the actual electrode is placed on a high-voltage potential generated by means of a high-voltage generating device 19. The high voltage may in particular be a high-frequency alternating voltage in the range of, for example, 10 to 50 kHz. The high voltage can also be pulsed.
Durch eine geeignete Wahl der Hochspannungsparameter wird in dem Entladungsraum 20 zwischen der Barrierenelektrode 13 und der Gegenelektrode 16 eine durch die dielektrische Ummantelung 18 behinderte Plasmaentladung, insbesondere eine Koronaentladung, erzeugt, die in Fig. 1 durch gestrichelte Linien angedeutet ist. Durch das in dem Raum 20 erzeugte Plasma wird die Oberfläche 11 des Materialstücks 12 in gewünschter Weise modifiziert und/oder beschichtet . Die Plasmabehandlung und/oder Plasmabeschichtung kann vorteilhafterweise unter Atmosphärendruck stattfinden, so dass Einrichtungen zur Erzeugung eines Vakuums entbehrlich sind. By a suitable choice of the high-voltage parameters, a plasma discharge impeded by the dielectric sheath 18, in particular a corona discharge, is generated in the discharge space 20 between the barrier electrode 13 and the counter electrode 16, which is indicated by dashed lines in FIG. The plasma generated in the space 20, the surface 11 of the piece of material 12 is modified and / or coated in the desired manner. The plasma treatment and / or plasma coating can advantageously take place under atmospheric pressure, so that means for generating a Vacuums are dispensable.
Wie aus Figur 2 ersichtlich ist, erstreckt sich die Barrierenelektrode 13. vorzugsweise über die gesamte Breite bzw. Querausdehnung des Materialstücks 12. Die Plasmabehandlungsvorrichtung 10 weist nicht gezeigte Einrichtungen auf, um das Materialstück 12 in Längsrichtung zwischen der Barrierenelektrode 13 und der Gegenelektrode 16 durch die Plasmabehandlungs- vorrichtung 10 hindurch bzw. an dieser vorbei zu fördern, so dass gegebenenfalls eine kontinuierliche und vollständige Plasmabehandlung der Oberfläche 11 des Materialstücks 12 erreicht werden kann. Die kontinuierliche Förderung des Materialstücks 12 ist in den Figuren 1 bis 4 durch Pfeile angedeutet. Es kann sich dabei um eine translatorische Förderung bzw. Linearförderung handeln, wie in den Figuren 1 und 3 gezeigt . Alternativ kann das Materialstück 12 beispielsweise mittels einer als Walze ausgeführten Gegenelektrode 16 rotatorisch an der Barrierenelektrode 13 vorbei gefördert werden, wie dies in Fig. 4 gezeigt ist. Anstelle einer Förderung des Material - Stücks 12 ist es auch denkbar, dass das Materialstück fest steht und stattdessen die Elektrodenanordnung in Längsrichtung über das Materialstück 12 geführt wird. As can be seen from FIG. 2, the barrier electrode 13 preferably extends over the entire width or transverse extent of the piece of material 12. The plasma treatment apparatus 10 has means, not shown, for moving the piece of material 12 in the longitudinal direction between the barrier electrode 13 and the counter-electrode 16 Passing plasma treatment device 10 through or past this, so that optionally a continuous and complete plasma treatment of the surface 11 of the piece of material 12 can be achieved. The continuous delivery of the piece of material 12 is indicated in the figures 1 to 4 by arrows. It may be a translatory conveying or linear conveying, as shown in Figures 1 and 3. Alternatively, the piece of material 12 can be conveyed rotationally past the barrier electrode 13, for example by means of a counter-electrode 16 designed as a roller, as shown in FIG. 4. Instead of conveying the material piece 12, it is also conceivable that the piece of material is fixed and instead the electrode arrangement is guided over the piece of material 12 in the longitudinal direction.
In Längsrichtung versetzt zu der Barrierenelektrode 13 ist auf der gleichen Seite 14 des Materialstücks 12 eine nicht (jedenfalls nicht vollständig) dielektrisch abgeschirmte, elektrisch leitfähige, insbesondere metallische Sonde 21 angeordnet. Die Sonde 21 weist mindestens auf der der Barriereelektrode 13 zugewandten Seite einen sich zweckmäßigerweise über deren Länge erstreckenden, beispielsweise schlitzförmigen Bereich auf, der frei von einer dielektrischen Umhüllung ist. Vorzugsweise ist die gesamte Sonde 21 vollständig frei von einer dielektrischen Umhüllung. Die Sonde 21 erstreckt sich vorzugsweise über die gesamte Breite bzw. Querausdehnung der Materialbahn 12 und ist vorteilhafterweise parallel zu der Barrierenelektrode 13 angeordnet, wie aus Fig. 2 ersichtlich ist. In den Figuren ist die Sonde 21 plattenförmig, die Sonde 21 kann aber auch eine andere geeignete Form aufweisen. Wenn nun die Umhüllung 18 der Barrierenelektrode 13 beispielsweise infolge Ermüdung bricht, kann durch die Bruchstelle eine KurzSchlussentladung zu der elektrisch leitfähigen Sonde 21 erfolgen. In dem Hochspannungskreis sind geeignete Detektionsmittel 22 vorgesehen, um einen durch eine Kurzschlussentladung verursachten Kurz- schlussstrom bzw. einen dadurch verursachten Spannungseinbruch zu detektieren und eine Abschaltung der Vorrichtung 10 zu veranlassen. Das elektronische Detektionsmittel 22 kann aktiv oder passiv sein, es kann sich beispielsweise um eine einfache Sicherung oder eine elektronische Überwachungseinrichtung handeln. In the longitudinal direction offset to the barrier electrode 13 is on the same side 14 of the piece of material 12, a not (at least not completely) dielectrically shielded, electrically conductive, in particular metallic probe 21 is arranged. The probe 21 has, at least on the side facing the barrier electrode 13, a region extending expediently over its length, for example a slot-shaped region which is free of a dielectric coating. Preferably, the entire probe 21 is completely free of a dielectric sheath. The probe 21 preferably extends over the entire width or transverse extent of the material web 12 and is advantageously arranged parallel to the barrier electrode 13, as shown in FIG. 2 can be seen. In the figures, the probe 21 is plate-shaped, but the probe 21 may also have another suitable shape. If, for example, the sheath 18 of the barrier electrode 13 breaks due to fatigue, a short-circuit discharge to the electrically conductive probe 21 can take place through the breakage point. Suitable detection means 22 are provided in the high-voltage circuit in order to detect a short circuit current caused by a short circuit discharge or a voltage dip caused thereby and to cause a shutdown of the device 10. The electronic detection means 22 may be active or passive, it may be, for example, a simple backup or an electronic monitoring device.
Vorzugsweise beträgt der Abstand der Sonde 21 zu der Barrierenelektrode 13 höchstens das Doppelte, weiter vorzugsweise höchstens das 1,5-fache des Abstands zwischen der Barrierenelektrode 13 und der Gegenelektrode 16. Wie beispielsweise aus Fig. 1 ersichtlich, ist der Abstand der Sonde 21 von der Barrierenelektrode vorzugsweise kleiner, vorzugsweise höchstens als halb so groß wie der Abstand der Gegenelektrode 16 von der Barrierenelektrode 13. Dadurch kann gegebenenfalls erreicht werden, dass vorteilhafterweise keine Kurzschlussentsladung zwischen der Barrierenelektrode 13 und der Gegenelektrode bzw. dem zu behandelnden Materialstück 12 erfolgt . Preferably, the distance of the probe 21 to the barrier electrode 13 is at most twice, more preferably at most 1.5 times the distance between the barrier electrode 13 and the counter electrode 16. As can be seen from Fig. 1, for example, the distance of the probe 21 from the barrier electrode preferably smaller, preferably at most half as large as the distance of the counter electrode 16 of the barrier electrode 13. This may optionally be achieved that advantageously no short-circuit discharge between the barrier electrode 13 and the counter electrode or to be treated piece of material 12 takes place.
In den Ausführungsformen gemäß Figuren 3 und 4 weist die Gegenelektrode 16 auf der der Barrierenelektrode 13 zugewandten Seite eine dielektrische Barriere 23 auf. In der Ausführungsform gemäß Fig. 4 wird die dielektrische Barriere 23 bei- spielsweise durch eine dielektrische Beschichtung der insbesondere metallischen Walze 16 gebildet. Hier ermöglicht die elektrisch leitfähige Sonde 21 eine einfache und sichere automatische Detektion "eines Bruchs der dielektrischen Ummantelung 18 der Barrierenelektrode 13, weil in einem solchen Fall aufgrund der dielektrischen Barriere 23 unter normalen Bedingungen keine Kurzschlussentladung zu der Gegenelektrode 16 stattfinden kann. Gleiches gilt beispielsweise auch im Fall einer metallischen Gegenelektrode (siehe Figur 1) , wenn das zu behandelnde Materialstück 12 als Dielektrikum wirkt und einen Kurzschlussstrom zu der Gegenelektrode 16 hin verhindert. In the embodiments according to FIGS. 3 and 4, the counterelectrode 16 has a dielectric barrier 23 on the side facing the barrier electrode 13. In the embodiment according to FIG. 4, the dielectric barrier 23 is added. For example, formed by a dielectric coating of the particular metallic roller 16. Here, the electrically conductive probe 21 provides a simple and secure automatic detection "of breakage of the dielectric coating 18 of the barrier electrode 13 because in such a case due to the dielectric barrier 23 can be no short circuit discharge to the counter electrode 16 under normal conditions. The same applies, for example in the case of a metallic counterelectrode (see FIG. 1), if the material piece 12 to be treated acts as a dielectric and prevents a short-circuit current to the counter electrode 16.
Die Ausführungsformen gemäß den Figuren 5 bis 10 verdeutlichen, dass die Vorrichtung 10 nicht auf eine Barrierenelektrode 13 und/oder auf eine elektrisch leitfähige Sonde 21 beschränkt ist . Insbesondere können eine Mehrzahl von Barrierenelektroden 13 vorgesehen sein, wodurch aufgrund der vergrößerten Behandlungsfläche die Prozessgeschwindigkeit gesteigert werden kann. Beispielsweise zeigt Fig. 5 eine Ausführungsform mit einer zentralen Sonde 21 und zwei zu der Sonde 21 symmetrisch angeordneten Barrierenelektroden 13. Figur 8 zeigt eine Hintereinanderschaltung von zwei Elektrodenanordnungen gemäß Figur 5; auch mehr als zwei solcher Elektrodenanordnungen sind möglich. The embodiments according to FIGS. 5 to 10 make clear that the device 10 is not limited to a barrier electrode 13 and / or to an electrically conductive probe 21. In particular, a plurality of barrier electrodes 13 may be provided, whereby the process speed can be increased due to the increased treatment area. For example, FIG. 5 shows an embodiment with a central probe 21 and two barrier electrodes 13 symmetrically arranged relative to the probe 21. FIG. 8 shows a series connection of two electrode arrangements according to FIG. 5; Also, more than two such electrode arrangements are possible.
In den Figuren 1 bis 4 ist die Sonde 21 in Förderrichtung hinter der Barrierenelektrode 13 angeordnet . Alternativ kann die die Sonde 21 in Förderrichtung vor der Barrierenelektrode 13 angeordnet sein. Die Ausführungsform gemäß Figur 6 verdeutlicht, dass auch jeweils eine elektrisch leitfähige Sonde 21 vor und hinter der Barrierenelektrode 13 angeordnet sein kann; dies kann vorteilhaft sein, um einen Bruch an verschiedenen Stellen der Umhüllung 18 der Barrierenelektrode 13 detektieren zu können. Im Allgemeinen kann einer Barrierenelektrode 13 eine Mehrzahl von Sonden 21 zugeordnet sein. Fig. 6 zeigt eine Elektrodeneinheit bestehend aus einer zentralen Barrierenelektrode 13 und zwei zu der Barrierenelektrode 13 symmetrisch angeordnete Sonden 21. Figur 10 zeigt eine Hintereinanderschaltung von zwei Elektrodenanordnungen gemäß Figur 6; auch mehr als zwei solcher Elektrodenanordnungen, und/oder Kombinationen mit Elektrodenanordnungen gemäß Figuren 5, 8 sind möglich. Die Figuren 7 und 9 zeigen Reihenanordnungen von abwechselnden Barrierenelektroden 13 und Sonden 21. In FIGS. 1 to 4, the probe 21 is arranged behind the barrier electrode 13 in the conveying direction. Alternatively, the probe 21 may be arranged in the conveying direction in front of the barrier electrode 13. The embodiment according to FIG. 6 clarifies that in each case an electrically conductive probe 21 can also be arranged in front of and behind the barrier electrode 13; This may be advantageous to detect a break at various locations of the enclosure 18 of the barrier electrode 13 to be able to. In general, a plurality of probes 21 may be associated with a barrier electrode 13. 6 shows an electrode unit consisting of a central barrier electrode 13 and two probes 21 symmetrically arranged relative to the barrier electrode 13. FIG. 10 shows a series connection of two electrode arrangements according to FIG. 6; Also, more than two such electrode arrangements, and / or combinations with electrode arrangements according to Figures 5, 8 are possible. FIGS. 7 and 9 show series arrangements of alternating barrier electrodes 13 and probes 21.
Wie aus den Figuren ersichtlich ist, ist unabhängig von der Zahl der Barrierenelektroden 13 und/oder der Sonden 21 zu jeder Barrierenelektrode 13 mindestens eine elektrisch leitfähige Sonde 21 in einem relativ geringen Abstand angeordnet, um einen Bruch in der dielektrischen Umhüllung 18 einer jeden Barrierenelektrode 13 detektieren zu können. As can be seen from the figures, irrespective of the number of barrier electrodes 13 and / or the probes 21, at least one electrically conductive probe 21 is arranged at a relatively small distance to each barrier electrode 13 in order to break in the dielectric sheath 18 of each barrier electrode 13 to be able to detect.
Es ist weiterhin möglich, dass im regulären Betrieb mit intakter Barrierenelektrode 13 zusätzlich zu der Entladung zwischen der Barriereelektrode 13 und der Gegenelektrode 16 eine Plasmaentladung zwischen der Barrierenelektrode 13 und der Sonde 12 erfolgt. In einer derartigen Ausführungsform hat die Sonde 12 zusätzlich die Funktion einer weiteren Elektrode. In einer bevorzugten Ausführungsform handelt es sich um eine insbesondere stabförmige Metallelektrode. It is also possible that in regular operation with intact barrier electrode 13 in addition to the discharge between the barrier electrode 13 and the counter electrode 16, a plasma discharge between the barrier electrode 13 and the probe 12 takes place. In such an embodiment, the probe 12 additionally has the function of a further electrode. In a preferred embodiment, it is a particular rod-shaped metal electrode.

Claims

Ansprüche : Claims :
1. Vorrichtung (10) zur kontinuierlichen Plasmabehandlung 1. Device (10) for continuous plasma treatment
und/oder Plasmabeschichtung eines insbesondere bahn- oder plattenförmigen Materialstücks (12), umfassend mindestens eine auf einer Seite (14) des Materialstücks (12) angeordnete Barrierenelektrode (13) mit einem elektrisch leitfähigen Elektrodenkern (17) und einer dielektrischen Umhüllung (18) , und eine auf der anderen Seite (15) des Materialstücks (12) angeordnete Gegenelektrode (16) , so dass mittels einer zwischen der Barrierenelektrode (13) und der Gegenelektrode (16) angelegten Hochspannung eine Plasmaentladung erzeugbar ist, dadurch gekennzeichnet, dass auf der gleichen Seite (14) des Materialstücks (12) wie die Barrierenelektrode (13) mindestens eine elektrisch leitfähige Sonde (21) in einem relativ geringen Abstand zu der Barrierenelektrode (13) angeordnet ist.  and / or plasma coating of a particular sheet or plate-shaped piece of material (12) comprising at least one barrier electrode (13) arranged on one side (14) of the piece of material (12) with an electrically conductive electrode core (17) and a dielectric sheath (18), and a counterelectrode (16) arranged on the other side (15) of the piece of material (12), so that a plasma discharge can be generated by means of a high voltage applied between the barrier electrode (13) and the counterelectrode (16), characterized in that on the same Side (14) of the piece of material (12) as the barrier electrode (13) at least one electrically conductive probe (21) is arranged at a relatively small distance from the barrier electrode (13).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei der Abstand der Sonde (21) zu der Barrierenelektrode (13) geringer ist als der Abstand zwischen der Barrierenelektrode (13) und der Gegenelektrode (16) . 2. Device according to claim 1, wherein the distance of the probe (21) to the barrier electrode (13) is smaller than the distance between the barrier electrode (13) and the counter electrode (16).
3. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Sonde (21) geerdet ist. A device according to any one of the preceding claims, wherein the probe (21) is grounded.
4. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei eine Mehrzahl von Barrierenelektroden (13) vorgesehen ist. 4. Device according to one of the preceding claims, wherein a plurality of barrier electrodes (13) is provided.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, wobei sämtliche Barrierenelektroden (13) auf demselben Potential liegen. 5. Apparatus according to claim 4, wherein all the barrier electrodes (13) are at the same potential.
6. Vorrichtung nach Anspruch 4 oder 5, wobei zu jeder Barrie- renelektrode (13) in einem relativ geringen Abstand eine elektrisch leitfähige Sonde (21) angeordnet ist. 6. Device according to claim 4 or 5, wherein at each barrier Ren electrode (13) at a relatively small distance an electrically conductive probe (21) is arranged.
7. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei eine Mehrzahl von elektrisch leitfähigen Sonden (21) vorgesehen ist. 7. Device according to one of the preceding claims, wherein a plurality of electrically conductive probes (21) is provided.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, wobei sämtliche Sonden (21) auf demselben Potential, insbesondere Erdpotential, liegen. 8. Apparatus according to claim 7, wherein all the probes (21) are at the same potential, in particular ground potential.
9. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, umfassend eine Einrichtung (22) zum Detektieren eines elektrischen Kurzschlusses infolge einer Kurzschlussentladung zwischen der Sonde (21) und der Barrierenelektrode (13) . 9. Device according to one of the preceding claims, comprising means (22) for detecting an electrical short circuit due to a short-circuit discharge between the probe (21) and the barrier electrode (13).
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, wobei die Kurzschluss- Detektionseinrichtung (22) zum Abschalten der Vorrichtung (10) infolge des Detektierens eines Kurzschlusses eingerichtet ist. 10. Apparatus according to claim 9, wherein the short circuit detecting means (22) is arranged to turn off the device (10) due to the detection of a short circuit.
11. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei die Gegenelektrode (16) auf der der Barrierenelektrode (13) zugewandten Seite eine dielektrische Barriere (23) aufweist . 11. Device according to one of the preceding claims, wherein the counter electrode (16) on the barrier electrode (13) side facing a dielectric barrier (23).
12. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei zwischen der Barrierenelektrode (13) und der Sonde (12) eine Plasmaentladung erfolgt. 12. Device according to one of the preceding claims, wherein between the barrier electrode (13) and the probe (12) takes place a plasma discharge.
13. Vorrichtung nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmaentladung eine Koronaentladung ist. 13. Device according to one of the preceding claims, characterized in that the plasma discharge is a corona discharge.
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