WO2011151165A3 - Steuer- und/ oder regeleinrichtung, steuerstrecke, computerprogramm, computerlesbares speichermedium und verfahren des herunterladens des computerprogramms - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung, insbesondere für die Herstellung von Dünnschichtsolarmodulen. Die erfindungsgemäße Steuer- und/oder Regeleinrichtung ist für eine Mehrzahl von Elektronenstrahlern zur Bestrahlung von zu erwärmenden Material in einem Tiegel ausgelegt und weist einen maschinenlesbaren Programmcode auf, welcher Steuerbefehle aufweist, die die Steuer- und/oder Regeleinrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zur Herstellung von Gegenständen mit einer mittels Verdampfung aufgebrachten Materialschicht veranlassen. Insbesondere dient dieses Verfahren zur Herstellung von Dünnschicht-Solarmodulen mittels eines Elektronenstrahlverdampfers. Ein solcher Elektronenstrahlverdampfer umfasst zwei oder mehr Elektronenstrahler, die jeweils einen Strahlerzeuger und eine entsprechend einem vorgebbaren Ablenkmuster steuerbar ausgelegte Ablenkeinheit aufweisen, wobei die Ablenkeinheit den Elektronenstrahl in einer Bestrahlungsebene sowohl in x-Richtung, als auch in y-Richtung ablenken kann. Bei dem Herstellungsverfahren werden mehrere Elektronenstrahlen erzeugt und mittels der Elektronenstrahlen wird eine Bestrahlung von zu erwärmenden Material durch Ablenkung der Strahlen in x- und y-Richtung vorgenommen, wobei der Elektronenstrahl wenigstens eines ersten Elektronenstrahlers in y-Richtung derart abgelenkt wird, dass die mit diesem ersten Elektronstrahler erzeugte Bestrahlung an die Bestrahlungsebene eines benachbarten Elektronenstrahlers angrenzt oder diese überlappt, so dass das bestrahlte Material erwärmt wird und zumindest teilweise verdampft und der Dampf dem zu bedampfenden Gegenstand zugeleitet wird. Ergänzt wird die Erfindung durch eine Steuerstrecke, ein Computerprogramm, ein computerlesbares Speichermedium und ein Verfahren des Herunterladens des Computerprogramms.
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---|---|---|---|---|
GB2018832A (en) * | 1978-03-21 | 1979-10-24 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Method of evaporating melts of alloys of metals having different vapour pressures |
DE3639683A1 (de) * | 1986-11-20 | 1988-05-26 | Leybold Ag | Verdampferanordnung mit einem rechteckigen verdampfertiegel und mehreren elektronenkanonen |
WO2011069493A1 (de) * | 2009-12-10 | 2011-06-16 | Ferrotec Gmbh | Ablenkvorrichtung für elektronenstrahlen, magnetische ablenkeinheit für eine solche ablenkvorrichtung und vorrichtung zum bedampfen eines flächigen substrates mit einer solchen ablenkvorrichtung |
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