WO2011151165A3 - Steuer- und/ oder regeleinrichtung, steuerstrecke, computerprogramm, computerlesbares speichermedium und verfahren des herunterladens des computerprogramms - Google Patents

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung, insbesondere für die Herstellung von Dünnschichtsolarmodulen. Die erfindungsgemäße Steuer- und/oder Regeleinrichtung ist für eine Mehrzahl von Elektronenstrahlern zur Bestrahlung von zu erwärmenden Material in einem Tiegel ausgelegt und weist einen maschinenlesbaren Programmcode auf, welcher Steuerbefehle aufweist, die die Steuer- und/oder Regeleinrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zur Herstellung von Gegenständen mit einer mittels Verdampfung aufgebrachten Materialschicht veranlassen. Insbesondere dient dieses Verfahren zur Herstellung von Dünnschicht-Solarmodulen mittels eines Elektronenstrahlverdampfers. Ein solcher Elektronenstrahlverdampfer umfasst zwei oder mehr Elektronenstrahler, die jeweils einen Strahlerzeuger und eine entsprechend einem vorgebbaren Ablenkmuster steuerbar ausgelegte Ablenkeinheit aufweisen, wobei die Ablenkeinheit den Elektronenstrahl in einer Bestrahlungsebene sowohl in x-Richtung, als auch in y-Richtung ablenken kann. Bei dem Herstellungsverfahren werden mehrere Elektronenstrahlen erzeugt und mittels der Elektronenstrahlen wird eine Bestrahlung von zu erwärmenden Material durch Ablenkung der Strahlen in x- und y-Richtung vorgenommen, wobei der Elektronenstrahl wenigstens eines ersten Elektronenstrahlers in y-Richtung derart abgelenkt wird, dass die mit diesem ersten Elektronstrahler erzeugte Bestrahlung an die Bestrahlungsebene eines benachbarten Elektronenstrahlers angrenzt oder diese überlappt, so dass das bestrahlte Material erwärmt wird und zumindest teilweise verdampft und der Dampf dem zu bedampfenden Gegenstand zugeleitet wird. Ergänzt wird die Erfindung durch eine Steuerstrecke, ein Computerprogramm, ein computerlesbares Speichermedium und ein Verfahren des Herunterladens des Computerprogramms.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013104086B3 (de) * 2013-04-23 2014-10-23 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Elektronenstrahl-Verdampfungsanordnung und Verfahren zum Elektronenstrahl-Verdampfen
DE102018131904A1 (de) * 2018-12-12 2020-06-18 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Verdampfungsanordnung und Verfahren

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2018832A (en) * 1978-03-21 1979-10-24 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Method of evaporating melts of alloys of metals having different vapour pressures
DE3639683A1 (de) * 1986-11-20 1988-05-26 Leybold Ag Verdampferanordnung mit einem rechteckigen verdampfertiegel und mehreren elektronenkanonen
WO2011069493A1 (de) * 2009-12-10 2011-06-16 Ferrotec Gmbh Ablenkvorrichtung für elektronenstrahlen, magnetische ablenkeinheit für eine solche ablenkvorrichtung und vorrichtung zum bedampfen eines flächigen substrates mit einer solchen ablenkvorrichtung

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2812311C2 (de) * 1978-03-21 1986-10-09 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren zum gleichzeitigen Vakuumaufdampfen dünner Schichten auf mehrere Substrate mittels Elektronenstrahlen und Anwendung auf die Bedampfung von Turbinenschaufeln
DE19745771B4 (de) * 1997-10-16 2005-12-22 Unaxis Deutschland Holding Gmbh Verfahren für den Betrieb eines Hochleistungs-Elektronenstrahls

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2018832A (en) * 1978-03-21 1979-10-24 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Method of evaporating melts of alloys of metals having different vapour pressures
DE3639683A1 (de) * 1986-11-20 1988-05-26 Leybold Ag Verdampferanordnung mit einem rechteckigen verdampfertiegel und mehreren elektronenkanonen
WO2011069493A1 (de) * 2009-12-10 2011-06-16 Ferrotec Gmbh Ablenkvorrichtung für elektronenstrahlen, magnetische ablenkeinheit für eine solche ablenkvorrichtung und vorrichtung zum bedampfen eines flächigen substrates mit einer solchen ablenkvorrichtung

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