WO2011137975A1 - Verfahren zur plasmagestützten behandlung von innenflächen eines hohlkörpers, fluid-separator sowie dessen verwendung - Google Patents

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Definitions

  • the present invention relates to the treatment of
  • Inner surfaces of a hollow body on the inner surfaces of which areas with different surface properties, e.g. with hydrophilic and hydrophobic properties. Furthermore, the invention relates to fluid separators, which are based on these hollow bodies and show areas with different surface properties. Such fluid separators are used in medical technology and analytics, in particular biochemical analysis.
  • the liquid to be separated which is passed into the separator can then be segregated on ⁇ due to different interactions to the tren ⁇ nenden liquid components with the respective surfaces.
  • microfluidic system is ⁇ be known, in which this is composed of different material layers which each have recesses, which are composed in the stacked state to a gene kanalförmi- recess.
  • a method for plasma-assisted treatment of inner surfaces of a hollow body in which a first gas flow and at least a further gas stream is introduced into the hollow body, wherein the gases in the hollow body are not completely mixed, so that a first region of the inner surface substantially from the first
  • Gas stream and at least a further region of the inner surface is substantially surrounded by the at least one further gas stream.
  • a plasma discharge of at least the first gas stream forming first gas is ignited, so that in the first region of the inner surface a surface treatment takes place, which has the consequence that there differs the surface finish of that on the other areas of the inner surface. It is also possible that by the alternating electric field not only one
  • Plasma discharge of the first gas is ignited, but also plasma discharges of the other gases conducted in the hollow body takes place. It is preferred that the gas pressure, i. of the
  • Total gas pressure in the hollow body in the range of 0.8 to 3 bar, in particular from 1.0 to 1.5 bar.
  • the frequencies of the alternating electric field are preferably in the range of 10 Hz to 5.8 GHz, in particular from 1 kHz to 100 kHz. It is also possible that the alternating field is pulsed.
  • the preferred cycle time is in the range of 1 msec to 1,000 sec, more preferably in the range of 100 msec to 10 sec.
  • the plasma discharge is a dielectric barrier discharge.
  • the surface treatment is preferably a coating of the inner surface of the hollow body. Likewise, it is also possible to carry out a surface modification on the inner surface of the hollow body, in particular an oxidation, an activation, a chemical functionalization and / or an etching.
  • Noble gases e.g. Argon
  • molecular gases in particular oxygen, nitrogen, halogens
  • Gases are used. These include, for example, hydrocarbons, hydrofluorocarbons,
  • organosilicon compounds in particular
  • Alkyl silanes, alkyldisilanes, siloxanes, silazanes and silicic acid esters Furthermore, functional oxygen-containing organic compounds, in particular ethers, aldehydes, ketones and carboxylic acids, as well as functional nitrogen-containing organic compounds, in particular amines and nitriles, as well as Heterozyk- len call. It is also possible that mixtures of the above-enumerated gases are used.
  • a further preferred variant provides that the first gas and the at least one further gas have different ignition voltages for the plasma discharge exhibit. In this way, it is possible that upon application of the alternating electric field, only the discharge of a gas is ignited, while the or the other gases due to a higher ignition voltage lead to no plasma discharge.
  • a further variant provides that the first gas and / or the at least one further gas contains at least one precursor.
  • carrier gases can be used, to which precursors are added, which form the compounds only when the plasma is formed, which are then deposited on the surfaces.
  • precursors can be added, which form the compounds only when the plasma is formed, which are then deposited on the surfaces.
  • Precursors are used. When using oxidizing gases within the hollow body can be made of silicon or metal-containing precursors
  • silica or metal oxides With reducing or inert gases, such as noble gases, nitrogen and mixtures thereof with hydrogen as gas within the hollow body, the following layers can be obtained when using the following precursors: hydrocarbons: amorphous hydrocarbon layers (a-C: H),
  • Tetramethylsilane TMS
  • HMDS hexamethyldisilane
  • HMDSO hexamethyldisiloxane
  • HMDSN hexamethyldilazane
  • Methacrylic acid, acrylic acid, allyl, vinyl and other radically polymerizable precursors with suitable functional groups hydroxy, Amino, epoxy, carboxyl, oligo-ethylene oxide
  • laminar gas flows of the first and the further gases are present in the regions in which a plasma discharge takes place in the hollow body.
  • the plasma discharge is a partial cavity discharge in the interior of the hollow body.
  • This can be homogeneous or filamentated.
  • a fluid separator is also provided, which contains a hollow body with at least one channel-shaped branch.
  • the inner surface of the hollow body in this case has a first region and at least one further region.
  • the individual areas differ in terms of their surface properties. At least one of the areas of the inner surface of the hollow body has a coating which was produced by means of a plasma process.
  • the hollow body Due to these different surface properties of the inner surface of the hollow body, it is possible to separate liquid two-phase systems, as used, for example, in drop-based systems in microfluidics. If the hollow body has a hydrophobic and a hydrophilic area of the inner surface, then the hydrophilic phase wets the hydrophilic area of the inner surface and the two-phase system begins to separate and can be separated by the hollow body splitting into a hydrophilic and a hydrophobic area , In particular, offer here V-shaped branches of channels. Particular advantage of the present fluid separator is that here already in the hollow body the Oberflä ⁇ cheneigenschaften can be varied according to, and not after the branch in various
  • the separator according to the invention is significantly easier to manufacture. Furthermore, according to the invention, significantly thinner layers can be realized on the inner surfaces of the hollow body, which allows larger channel diameters in the microfluidic system.
  • the fluid separators according to the invention are used in particular in the field of medical technology and analytics, and in particular biochemical analysis.
  • Coated is a fluid separator with a thickness of 2.8 mm, in which there is a channel K0 with a cross section of 300 pm x 300 m, the V-shaped into two channels VI and V2 with the cross section 250 ⁇ x 250th ⁇ ⁇ splits.
  • argon with 1 vol .-% octafluorocyclobutane (C 4 F 8 ) is fed with a total gas pressure of 1.05 mbar.
  • V2 is used simultaneously with 0.01 1 / min
  • SF 6 Sweat hexafluoride
  • Electrodes are created in the branching area. at an electrode voltage (peak to peak) of 25 kV S s ignites in the perfused by argon gas mixture Be ⁇ rich in the channel L and channel VI discharge, so that the channel VI total and the channel L is coated on one side in the region of the branch.
  • the other side of the channel VO and the channel V2 are protected by the quenching gas SF 6 , which has a higher ignition voltage than the argon mixture.
  • the treatment time is 60 s.
  • channel VI and the adjacent side of channel VO are hydrophobically coated near the branch.
  • the hyd ⁇ rophilen channel surfaces of the channel V2 and the corresponding side of the channel near the junction VO were not coated and after treatment still hydrophilic.
  • Hexadecan enters channel VI and the water flows into channel V2.

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft die Behandlung von Innenflächen eines Hohlkörpers, auf dessen Innenflächen Bereiche mit unterschiedlichen Oberflächeneigenschaften, z.B. mit hydrophilen und hydrophoben Eigenschaften, erzeugt werden. Weiterhin betrifft die Erfindung Fluid-Separatoren, die auf diesen Hohlkörpern basieren und Bereiche mit unterschiedlichen Oberflächeneigenschaften zeigen. Verwendung finden derartige Fluid-Separatoren in der Medizintechnik und der Analytik, insbesondere der biochemischen Analytik.

Description

Verfahren zur plasmagestützten Behandlung von Innenflächen eines Hohlkörpers, Fluid-Separator sowie dessen Verwendung Die vorliegende Erfindung betrifft die Behandlung von
Innenflächen eines Hohlkörpers, auf dessen Innenflächen Bereiche mit unterschiedlichen Oberflächeneigenschaften, z.B. mit hydrophilen und hydrophoben Eigenschaften, erzeugt werden. Weiterhin betrifft die Er- findung Fluid-Separatoren, die auf diesen Hohlkörpern basieren und Bereiche mit unterschiedlichen Oberflächeneigenschaften zeigen. Verwendung finden derartige Fluid-Separatoren in der Medizintechnik und der Analytik, insbesondere der biochemischen Analytik.
Für die Realisierung von Separatoren für mikrofluidische Anwendungen werden in der Regel kanalförmige Systeme eingesetzt, bei denen gegenüberliegende
Oberflächen im Kanal unterschiedliche Oberflächenei- genschaften aufweisen. Die zu trennende Flüssigkeit, die in den Separator geleitet wird, kann dann auf¬ grund unterschiedlicher Wechselwirkungen der zu tren¬ nenden Flüssigkeitskomponenten mit den jeweiligen Oberflächen entmischt werden.
Aus der WO 02/011888 ist ein Mikrofluidik-System be¬ kannt, bei dem dieses aus verschiedenen Materiallagen aufgebaut ist, die jeweils Ausnehmungen aufweisen, die sich im gestapelten Zustand zu einer kanalförmi- gen Ausnehmung zusammensetzen. Hier kann dann durch
Auswahl entsprechender Materialien der einzelnen Lagen die Oberflächeneigenschaft in Bereichen des Ka¬ nals beeinflusst werden. Die US 2009/0282978 beschreibt mikrofluidische Separatoren, bei denen die Separation durch den Einsatz von Membranen in Mikrofluidik-Systemen realisiert wird . Ausgehend hiervon war es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, Fluid-Separatoren bereitzustellen, die eine einfachere Herstellung wie nach dem Stand der Technik ermöglichen und gleichzeitig eine hohe Trennungseffizienz zeigen.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren zur plasmagestützten Behandlung von Innenflächen eines Hohlkörpers mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie durch den Fluid-Separator mit den Merkmalen des Anspruchs 12 gelöst. In Anspruch 16 werden erfindungsgemäße
Verwendungen angegeben. Die weiteren abhängigen Ansprüche zeigen vorteilhafte Weiterbildungen auf.
Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur plasmagestütz- ten Behandlung von Innenflächen eines Hohlkörpers bereitgestellt, bei dem ein erster Gasstrom und mindes- tens ein weiterer Gasstrom in den Hohlkörper eingeleitet wird, wobei die Gase im Hohlkörper nicht vollständig durchmischt sind, so dass ein erster Bereich der Innenfläche im Wesentlichen von dem ersten
Gasstrom und mindestens ein weiterer Bereich der Innenfläche im Wesentlichen von dem mindestens einen weiteren Gasstrom umgeben ist. Durch Anlegen eines elektrischen Wechselfeldes wird eine Plasmaentladung zumindest des den ersten Gasstrom bildenden ersten Gases gezündet, so dass im ersten Bereich der Innenfläche eine Oberflächenbehandlung erfolgt, die zur Folge hat, dass sich dort die Oberflächenbeschaffenheit von derjenigen auf den anderen Bereichen der Innenfläche unterscheidet. Es ist auch möglich, dass durch das elektrische Wechselfeld nicht nur eine
Plasmaentladung des ersten Gases gezündet wird, sondern auch Plasmaentladungen der weiteren in den Hohlkörper geleiteten Gase erfolgt. Es ist dabei bevorzugt, dass der Gasdruck, d.h. der
Gesamtgasdruck, im Hohlkörper im Bereich von 0,8 bis 3 bar, insbesondere von 1,0 bis 1,5 bar liegt.
Die Frequenzen des elektrischen Wechselfeldes liegen vorzugsweise im Bereich von 10 Hz bis 5,8 GHz, insbesondere von 1 kHz bis 100 kHz. Ebenso ist es möglich, dass das Wechselfeld gepulst wird. Die bevorzugte Taktzeit liegt dabei im Bereich von 1 msek bis 1.000 Sek, besonders bevorzugt im Bereich von 100 msek bis 10 Sek. Unter Wechselfeldern sollen im Rahmen der vorliegenden Erfindung nicht nur sinusförmige Spannungsverläufe, sondern auch andere Spannungsverläufe, wie rechteckige Verläufe, uni- oder bipolare Pulse und Mischformen hiervon verstanden werden. Vorzugsweise handelt es sich bei der Plasmaentladung um eine dielektrische Barriereentladung. Die Oberflächenbehandlung ist vorzugsweise eine Be- schichtung der Innenfläche des Hohlkörpers. Ebenso ist es aber auch möglich, eine Oberflächenmodifizierung an der Innenfläche des Hohlkörpers vorzunehmen, insbesondere eine Oxidation, eine Aktivierung, eine chemische Funktionalisierung und/oder eine Ätzung.
Hinsichtlich der einzuleitenden Gase besteht grundsätzlich keine Einschränkung, so lange diese für eine Plasmabehandlung geeignet sind. So können nicht- beschichtende Gase in atomarer Form, insbesondere
Edelgase, wie z.B. Argon, sowie molekulare Gase, insbesondere Sauerstoff, Stickstoff, Halogene,
Schwefelhexafluorid, oder andere zwei- oder dreiatomige flüchtige Gase eingesetzt werden. Ebenso ist es möglich, dass Gase aus der Gruppe der beschichtenden
Gase eingesetzt werden. Hierzu zählen beispielsweise Kohlenwasserstoffe, FluorkohlenwasserStoffe ,
siliciumorganische Verbindungen, insbesondere
Alkylsilane, Alkyldisilane, Siloxane, Silazane und Kieselsäureester. Weiterhin sind hier funktionelle sauerstoffhaltige organische Verbindungen, insbesondere Ether, Aldehyde, Ketone und Carbonsäuren, sowie funktionelle stickstoffhaltige organische Verbindungen, insbesondere Amine und Nitrile, sowie Heterozyk- len zu nennen. Ebenso ist es möglich, dass auch Mischungen aus den oben aufgezählten Gasen eingesetzt werden .
Eine weitere bevorzugte Variante sieht vor, dass das erste Gas und das mindestens eine weitere Gas unterschiedliche Zündspannungen für die Plasmaentladung aufweisen. Auf diese Weise wird es ermöglicht, dass bei Anlegen des elektrischen Wechselfeldes nur die Entladung eines Gases gezündet wird, während das oder die weiteren Gase aufgrund einer höheren Zündspannung zu keiner Plasmaentladung führen.
Eine weitere Variante sieht vor, dass das erste Gas und/oder das mindestens ein weiteres Gas mindestens einen Precursor enthält. Für diesen Fall können Trä- gergase eingesetzt werden, denen Precursoren zugesetzt werden, die erst bei Ausbildung des Plasmas die Verbindungen bilden, die dann auf den Oberflächen abgeschieden werden. Je nachdem, welche Schicht abgeschieden werden soll, können unterschiedliche
Precursoren eingesetzt werden. Bei Verwendung oxidie- render Gase innerhalb des Hohlkörpers lassen sich aus silicium- oder metallhaltigen Precursoren
Siliciumoxid bzw. Metalloxide abscheiden. Mit reduzierenden oder inerten Gasen, wie Edelgasen, Stick- Stoff und Mischungen hiervon mit Wasserstoff als Gas innerhalb des Hohlkörpers können bei Verwendung der folgenden Precursoren folgende Schichten erhalten werden : · Kohlenwasserstoffe: amorphe Kohlenwasserstoffschichten (a-C:H),
• Fluorkohlenstoffe und Fluorkohlenwasserstoffe:
fluorierte Kohlenstoffe bzw. Kohlenwasserstoffe (a-C: F und a-C: F: H) ,
· siliciumhaltige Precursoren, wie beispielsweise
Tetramethylsilan (TMS), Hexamethyldisilan (HMDS), Hexamethyldisiloxan (HMDSO) , oder Hexamethyldila- zan (HMDSN) : Si-haltige Plasmapolymere,
• Methacrylsäure-, Acrylsäure-, Allyl-, Vinyl- und andere radikalisch polymerisierbare Precursoren mit geeigneten funktionellen Gruppen (Hydroxy, Amino, Epoxy, Carboxyl, Oligo-ethylenoxid) : Plasmapolymere mit den genannten funktionellen Gruppen, insbesondere bei gepulstem Betrieb der Entla¬ dung .
Es ist weiterhin bevorzugt, dass in den Bereichen, in denen im Hohlkörper eine Plasmaentladung erfolgt, laminare Gasströmungen des ersten und der weiteren Gase vorliegen .
Vorzugsweise handelt es sich bei der Plasmaentladung um eine Hohlraumteilentladung im Inneren des Hohlkörpers. Diese kann homogen oder filamentiert sein. Erfindungsgemäß wird ebenso ein Fluid-Separator bereitgestellt, der einen Hohlkörper mit mindestens einer kanalförmigen Verzweigung enthält. Die Innenfläche des Hohlkörpers weist hierbei einen ersten Bereich sowie mindestens einen weiteren Bereich auf. Die einzelnen Bereiche unterscheiden sich dabei bezüglich ihrer Oberflächeneigenschaften. Mindestens einer der Bereiche der Innenfläche des Hohlkörpers weist eine Beschichtung auf, die mittels eines Plasma-Prozesses erzeugt wurde.
Durch diese unterschiedlichen Oberflächeneigenschaften der Innenfläche des Hohlkörpers lassen sich flüssige Zwei-Phasen-Systeme, wie sie z.B. in tropfenbasierten Systemen in der Mikrofluidik verwendet wer- den, trennen. Weist der Hohlkörper einen hydrophoben und einen hydrophilen Bereich der Innenfläche auf, so benetzt die hydrophile Phase den hydrophilen Bereich der Innenfläche und das Zwei-Phasen-System beginnt sich zu entmischen und kann durch den sich in einen hydrophilen und einen hydrophoben Bereich aufspaltenden Hohlkörper getrennt werden. Insbesondere bieten sich hier V-förmige Verzweigungen von Kanälen an. Besonderer Vorteil des vorliegenden Fluid-Separators ist es, dass hier bereits im Hohlkörper die Oberflä¬ cheneigenschaften entsprechend variiert werden können und nicht erst nach der Verzweigung in verschiedene
Kanäle. Dies erlaubt eine deutlich bessere Trennungseffizienz .
Im Vergleich zu Mikrofluidik-Systemen zur Trennung, die auf nasschemischen Beschichtungen der Innenfläche beruhen, ist der erfindungsgemäße Separator deutlich einfacher herzustellen. Weiterhin lassen sich erfindungsgemäß deutlich dünnere Schichten auf den Innenflächen des Hohlkörpers realisieren, was größere Ka- naldurchmesser im Mikrofluidiksystem erlaubt.
Verwendung finden die erfindungsgemäßen Fluid-Sepa- ratoren insbesondere im Bereich der Medizintechnik und der Analytik, und hier insbesondere der biochemi- sehen Analytik.
Beispiel
Beschichtet wird ein Fluid-Separator mit einer Dicke von 2,8 mm, in dem sich ein Kanal K0 mit einem Querschnitt von 300 pm x 300 m befindet, der sich V- förmig in zwei Kanäle VI und V2 mit dem Querschnitt 250 μιτι x 250 μπ\ aufspaltet. In dem Kanal VI wird Argon mit 1 Vol.-% Octafluorcyclobutan (C4F8) mit einem Gesamtgasdruck von 1,05 mbar eingespeist. Der Kanal
V2 wird gleichzeitig mit 0,01 1/min
Schweielhexafluorid (SF6) gespült. Die Gasströme der Kanäle VI und V2 bewegen sich in Richtung Kanal V0 und bilden am Übergang zu Kanal V0 eine laminare Gas- Strömung. An dem Separator werden zwei metallische
Elektroden im Bereich der Verzweigung angelegt. Bei einer Elektrodenspannung (Spitze-Spitze) von 25 kVSs zündet in dem vom Argongasgemisch durchströmten Be¬ reich im Kanal VO und im Kanal VI eine Entladung, so dass der Kanal VI insgesamt und der Kanal VO im Bereich der Verzweigung einseitig beschichtet wird. Die andere Seite des Kanals VO und der Kanal V2 werden durch das Löschgas SF6 geschützt, welches eine höhere Zündspannung als das Argongemisch hat. Die Behandlungszeit beträgt 60 s. Nach der Beschichtung sind der Kanal VI und die angrenzende Seite des Kanals VO nahe der Verzweigung hydrophob beschichtet. Die hyd¬ rophilen Kanaloberflächen des Kanals V2 und die entsprechende Seite des Kanals VO nahe der Verzweigung wurden nicht beschichtet und sind nach der Behandlung weiterhin hydrophil. Wird der Separator mit einem segmentierten Fluss aus Wasser und Hexadecan betrieben, wird der Fluss vom Eingang in Kanal VO an der Verzweigung zu Vi und V2 getrennt, wobei das
Hexadecan in den Kanal VI und das Wasser in den Kanal V2 strömt.

Claims

Patentansprüche
Verfahren zur plasmagestützten Behandlung von Innenflächen eines Hohlkörpers, bei dem ein erster Gasstrom und mindestens ein weiterer
Gasstrom in den Hohlkörper eingeleitet wird, wobei die Gase im Hohlkörper nicht vollständig durchmischt sind, so dass ein erster Bereich der Innenfläche im Wesentlichen von dem ersten
Gasstrom und mindestens ein weiterer Bereich der Innenfläche im Wesentlichen von dem mindestens einen weiteren Gasstrom umgeben ist und durch Anlegen eines elektrischen Wechselfeldes mindestens eine Plasmaentladung des ersten Gases ge¬ zündet wird, so dass im ersten Bereich der Innenfläche eine Oberflächenbehandlung erfolgt, so dass sich dort die Oberflächenbeschaffenheit von derjenigen auf den anderen Bereichen der Innenfläche unterscheidet.
Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass der Gasdruck im Hohlkörper im Bereich von 0,8 bis 3 bar, insbesondere von 1,0 bis 1,5 bar liegt.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche ,
dadurch gekennzeichnet, dass die Frequenzen des elektrischen Wechselfeldes im Bereich von 10 Hz bis 5,8 GHz, insbesondere von 1 kHz bis 100 kHz liegen .
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Plasmaentladung eine dielektrische Barrierenentladung ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Oberflächenbehandlung eine Oberflächenmodifizierung, insbesondere eine Oxidation, eine Aktivierung, eine chemische Funktionalisierung und/oder eine Ätzung, oder eine Beschichtung ist.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Gase unabhängig voneinander ausgewählt sind aus der Gruppe der nicht-beschichtenden atomaren Gase bestehend aus Edelgasen, insbesondere Argon, sowie aus der Gruppe der nicht-beschichtenden molekularen Gase, insbesondere Sauerstoff, Stickstoff, Halogene und Schwefelhexafluorid .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die Gase unabhängig voneinander ausgewählt sind aus der Gruppe der beschichtenden Gase, bestehend aus Kohlenwasserstoffen, Fluorkohlenwasserstoffen,
siliciumorganischen Verbindungen, insbesondere Alkylsilanen, Alkyldisilanen, Siloxanen, Silazanen und Kieselsäureestern, funktionellen sauerstoffhaltigen organischen Verbindungen, insbesondere Ethern, Aldehyden, Ketonen und Carbonsäuren, funktionellen stickstoffhaltigen organischen Verbindungen, insbesondere Aminen und Nitrilen, Heterozyklen sowie Mischungen hiervon .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche ,
dadurch gekennzeichnet, dass das erste Gas und das mindestens eine weitere Gas unterschiedliche Zündspannungen für die Plasmaentladung aufweisen .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass das erste Gas und/oder das mindestens eine weitere Gas mindestens einen Precursor, insbesondere ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Fluorkohlenwasserstoffen und siliciumhaltigen Precursoren aufweist .
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass in den Bereichen der mindestens einen Plasmaentladung laminare Gasströmungen vorliegen.
Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Plasmaentladung eine Hohlraumteilentladung im Inneren des Hohlkörpers ist, die homogen oder filamentiert betrieben wird.
12. Fluid-Separator enthaltend einen Hohlkörper mit mindestens einer kanalförmigen Verzweigung, wobei die Innenfläche des Hohlkörpers einen ersten Bereich sowie mindestens einen weiteren Bereich aufweist und sich die Oberflächeneigenschaften der Bereiche unterscheiden und zumindest ein Be¬ reich eine Oberflächenbehandlung mittels eines Plasma-CVD-Prozesses aufweist.
13. Fluid-Separator nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Bereich der Innenfläche im Wesentlichen hydrophobe Eigenschaften und mindestens ein Bereich der Innenfläche im Wesentlichen hydrophile Eigenschaften aufweist.
14. Fluid-Separator nach Anspruch 9 oder 10,
dadurch gekennzeichnet, dass der Hohlkörper ka- nalförmig ist und mindestens eine Verzweigung aufweist .
15. Fluid-Separator nach Anspruch 9 bis 11 und herstellbar nach einem der Ansprüche 1 bis 8.
16. Verwendung des Fluid-Separators nach einem der Ansprüche 9 bis 12 in der Medizintechnik und der Analytik, insbesondere der biochemischen
Analytik .
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